JP7720174B2 - Method for manufacturing a smart card, smart card, and conductive particle-containing hot melt adhesive sheet - Google Patents
Method for manufacturing a smart card, smart card, and conductive particle-containing hot melt adhesive sheetInfo
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Description
本技術は、導電粒子含有ホットメルト接着シートを用いたスマートカードの製造方法及びスマートカードに関する。 This technology relates to a method for manufacturing a smart card using a hot-melt adhesive sheet containing conductive particles, and to the smart card itself.
近年、ICチップを搭載したスマートカードが普及している。スマートカードにICチップを搭載する方法の一例として、結晶性樹脂を含むバインダーに導電粒子を配合した異方性導電フィルムを用いることが知られている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1に挙げられているように、ICチップを搭載したスマートカードには異方性導電フィルム(ACF)、異方性導電ペースト(ACP)などの接続材料が用いられることもある(例えば、特許文献2参照)。 In recent years, smart cards equipped with IC chips have become widespread. One known method for mounting IC chips on smart cards is to use an anisotropic conductive film, which is made by blending conductive particles with a binder containing a crystalline resin (see, for example, Patent Document 1). As noted in Patent Document 1, smart cards equipped with IC chips sometimes use connecting materials such as anisotropic conductive film (ACF) and anisotropic conductive paste (ACP) (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、これらの技術は、導電粒子の接触により導通を得ているため、スマートカードを高温高湿などの信頼性試験に投入した際、樹脂の膨張により導通がとれなくなることがあった。 However, because these technologies rely on contact between conductive particles to achieve conductivity, when smart cards are subjected to reliability tests under high temperature and humidity, the resin can expand, causing a loss of conductivity.
本技術は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができるスマートカードの製造方法、スマートカード、及び導電粒子含有ホットメルト接着シートを提供する。 This technology was proposed in light of these existing circumstances, and provides a method for manufacturing a smart card that can achieve excellent connection reliability and bending resistance, as well as a smart card and a hot-melt adhesive sheet containing conductive particles.
本技術に係るスマートカードの製造方法は、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有する導電粒子含有ホットメルト接着シートを、カード部材とICチップとの間に介在させ、熱圧着させる。 The method for manufacturing a smart card according to this technology involves placing a conductive particle-containing hot-melt adhesive sheet, which contains solder particles that are a non-eutectic alloy in a binder containing a crystalline polyamide with carboxyl groups, between the card member and the IC chip, and then thermocompression bonding them together.
本技術に係るスマートカードは、カード部材と、ICチップと、前記カード部材と前記ICチップと接着する接着層とを備え、接着層が、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有する。 The smart card according to the present technology comprises a card member, an IC chip, and an adhesive layer that bonds the card member and the IC chip, and the adhesive layer contains solder particles that are a non-eutectic alloy in a binder that includes a crystalline polyamide having a carboxyl group.
本技術に係る導電粒子含有ホットメルト接着シートは、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有する。 The conductive particle-containing hot melt adhesive sheet of this technology contains solder particles, which are a non-eutectic alloy, in a binder containing a crystalline polyamide having carboxyl groups.
本技術によれば、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドにより、非共晶合金のはんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができる。 This technology uses crystalline polyamide with carboxyl groups to improve the solder wettability of non-eutectic alloys, resulting in excellent connection reliability and bending resistance.
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照しながら下記順序にて詳細に説明する。
1.スマートカード
2.スマートカードの製造方法
3.導電粒子含有ホットメルト接着シート
4.第1の実施例
5.第2の実施例
Hereinafter, embodiments of the present technology will be described in detail in the following order with reference to the drawings.
1. Smart Card 2. Smart Card Manufacturing Method 3. Conductive Particle-Containing Hot Melt Adhesive Sheet 4. First Example 5. Second Example
<1.スマートカード>
本実施の形態に係るスマートカードは、カード部材と、ICチップと、カード部材とICチップと接着する接着層とを備え、接着層が、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有するものである。接着層が、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有することにより、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができる。
1. Smart Card
The smart card according to the present embodiment includes a card member, an IC chip, and an adhesive layer that bonds the card member and the IC chip, and the adhesive layer contains solder particles that are a non-eutectic alloy in a binder that includes a crystalline polyamide having carboxyl groups. By containing the solder particles that are a non-eutectic alloy in the binder that includes a crystalline polyamide having carboxyl groups, the adhesive layer improves solder wettability and provides excellent connection reliability and bending resistance.
本明細書において、スマートカード(Smart card)は、情報(データ)の記録や演算をするために集積回路(IC:Integrated circuit)を組み込んだカードであり、「ICカード(Integrated circuit card)」、「チップカード(Chip card)」とも呼ばれる。また、スマートカードは、1つのICチップで、接触型、非接触型の2つのインターフェースを持つデュアルインターフェイスカードであってもよく、接触型ICチップと非接触型ICチップとが搭載されたハイブリッドカードであってもよい。他にも指紋認証素子を搭載した指紋認証カードや、バッテリー素子やディスプレイ素子を組み込んだワンタイムパスワード機能などを持ったカードであっても良い。これらのICチップや素子は、パッドを備え、カード部材側の電極になる部分と電気的に接合される。 In this specification, a smart card is a card incorporating an integrated circuit (IC) for recording and calculating information (data), and is also called an "IC card (integrated circuit card)" or "chip card." A smart card may also be a dual-interface card with two interfaces, contact and contactless, on a single IC chip, or a hybrid card equipped with a contact IC chip and a contactless IC chip. Other examples include fingerprint authentication cards equipped with a fingerprint authentication element, and cards with a one-time password function that incorporate a battery element and a display element. These IC chips and elements have pads that are electrically connected to the electrode portions on the card member.
図1は、スマートカードの一例を示す概略斜視図であり、図2は、カード部材のICチップ領域の一例を示す上面図である。スマートカードは、カード部材10と、ICチップ20とを備える。カード部材10は、第1の基材と、アンテナを備える第2基材と、第3の基材とがこの順番に積層された積層体である。ICチップ20は、表面に複数の接触端子21を有し、裏面に例えば全面に電極を有する。 Figure 1 is a schematic perspective view showing an example of a smart card, and Figure 2 is a top view showing an example of an IC chip area of a card member. The smart card comprises a card member 10 and an IC chip 20. The card member 10 is a laminate formed by stacking a first substrate, a second substrate with an antenna, and a third substrate in this order. The IC chip 20 has multiple contact terminals 21 on its front surface and electrodes on its back surface, for example, covering the entire surface.
第1の基材、第2の基材、及び第3の基材は、例えば、樹脂からなる複数の層が積層されて構成される。各層を構成する樹脂としては、例えば、リサイクル品を含むPVC(ポリ塩化ビニル)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PET-G、PC(ポリカーボネート)、環境に配慮された生分解性プラスチック(一例としてPLA(ポリ乳酸))、Ocean plasticと呼ばれる海に流入する前に回収されたプラスチック廃棄物で作られた基材などが挙げられる。基材を、複数の層から構成することにより、1つの層から構成する場合に比べて、剛性が必要以上に高くなるのを防ぐことができる。 The first substrate, second substrate, and third substrate are each formed, for example, by laminating multiple layers made of resin. Examples of resins that can be used to form each layer include recycled PVC (polyvinyl chloride), PET (polyethylene terephthalate), PET-G, PC (polycarbonate), environmentally friendly biodegradable plastics (one example is PLA (polylactic acid)), and ocean plastics, substrates made from plastic waste collected before it ends up in the ocean. By forming the substrate from multiple layers, it is possible to prevent the rigidity from becoming unnecessarily high compared to a substrate made from a single layer.
第1の基材は、ICチップ20の形状に対応する開口11を有し、開口11は、第2の基材を露出させ、ICチップ領域を形成する。第2の基材は、第1の基材と第3の基材との間に配され、例えば樹脂からなる層の内部に、外周部を複数周回するアンテナパターン12を有する。また、第2の基材は、開口11に面するICチップ領域において、例えば埋設されたアンテナパターンの一部が露出するようにICチップ20の裏面に対応して削られ、凹部を形成する。すなわち、第2の基材の凹部は、開口11の形状に対応しており、ICチップ領域には、アンテナパターン12の第1の露出部12a及び第2の露出部12bが形成されている。アンテナパターン12の金属ワイヤーとしては、例えば銅線などが挙げられる。 The first substrate has an opening 11 corresponding to the shape of the IC chip 20, and the opening 11 exposes the second substrate, forming an IC chip area. The second substrate is disposed between the first substrate and the third substrate, and has an antenna pattern 12 that wraps around its outer periphery multiple times within a layer made of, for example, resin. Furthermore, the second substrate is cut away in the IC chip area facing the opening 11 to correspond to the back surface of the IC chip 20, for example, so that a portion of the embedded antenna pattern is exposed, forming a recess. That is, the recess in the second substrate corresponds to the shape of the opening 11, and a first exposed portion 12a and a second exposed portion 12b of the antenna pattern 12 are formed in the IC chip area. The metal wire of the antenna pattern 12 can be, for example, a copper wire.
また、第2の基材は、ICチップの領域に非貫通孔である溝や複数の孔を有することが好ましい。これにより、接着層の樹脂が溝や孔に流入し、接着層との密着力を向上させることができる。また、溝や孔の開口部の最短長さは、はんだ粒子の平均粒子径よりも小さいことが好ましい。具体的な溝や孔の開口部の最短長さの下限は、はんだ粒子の平均粒子径の20%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、40%以上であることが特に好ましい。また、具体的な孔の開口部の最短長さの上限は、はんだ粒子の平均粒子径の80%以下であることが好ましく、70%以下であることがより好ましく、60%以下であることが特に好ましい。これにより、溝や孔にはんだ粒子が嵌まりやすくなり、はんだ粒子の捕捉性が向上し、ICチップとの優れた電気的接続を得ることができる。 The second substrate preferably has blind grooves or multiple holes in the IC chip area. This allows the resin of the adhesive layer to flow into the grooves and holes, improving adhesion to the adhesive layer. The minimum length of the opening of the grooves and holes is preferably smaller than the average particle diameter of the solder particles. The minimum length of the opening of the grooves and holes is preferably 20% or more of the average particle diameter of the solder particles, more preferably 30% or more, and particularly preferably 40% or more. The maximum length of the opening of the holes is preferably 80% or less of the average particle diameter of the solder particles, more preferably 70% or less, and particularly preferably 60% or less. This makes it easier for the solder particles to fit into the grooves and holes, improving the solder particle capture and achieving excellent electrical connection with the IC chip.
接着層は、開口11のICチップ領域とICチップ20との間に介在し、ICチップ20とアンテナパターン12の第1の露出部12a及び第2の露出部12bとを電気的に接続する。 The adhesive layer is interposed between the IC chip area of the opening 11 and the IC chip 20, electrically connecting the IC chip 20 to the first exposed portion 12a and the second exposed portion 12b of the antenna pattern 12.
本実施の形態に係るスマートカードは、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有する接着層を備えるため、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性を得ることができる。これは、結晶性ポリアミドに存在するカルボキシル基によるフラックス効果であると考えられ、結果として、フラックス化合物の添加による接着層の弾性率の低下を防ぎ、優れた耐曲げ性を得ることができる。また、非共晶合金のはんだ粒子は、共晶合金のはんだ粒子に比べ、熱圧着時の半溶融状態の時間が長いため、樹脂を十分に排除することができ、優れた接続信頼性を得ることができる。また、本実施の形態に係るスマートカードは、ICチップの回路(導通部)とアンテナパターンの回路(導通部)とが、はんだ粒子の溶融により金属結合しているため、湿熱試験におけるバインダーの吸湿による膨潤伸びを抑えることができ、優れた接続信頼性を得ることができる。なお、本技術は、一般的な異方性接合体に適用することもできる。また、本技術の適用範囲は、接合体の製造方法についても、略同様である。 The smart card according to this embodiment includes an adhesive layer containing solder particles of a non-eutectic alloy in a binder containing a crystalline polyamide having carboxyl groups, thereby improving solder wettability and achieving excellent connection reliability. This is believed to be due to the flux effect of the carboxyl groups present in the crystalline polyamide. As a result, the adhesive layer's elastic modulus is prevented from decreasing due to the addition of a flux compound, resulting in excellent bending resistance. Furthermore, non-eutectic alloy solder particles remain in a semi-molten state for a longer period during thermocompression bonding than eutectic alloy solder particles, allowing for sufficient removal of resin and achieving excellent connection reliability. Furthermore, the smart card according to this embodiment forms a metal bond between the IC chip circuit (conductive portion) and the antenna pattern circuit (conductive portion) through melting of the solder particles. This reduces swelling and elongation due to moisture absorption by the binder during a wet heat test, resulting in excellent connection reliability. This technology can also be applied to general anisotropic joined bodies. The scope of application of this technology is also substantially similar to that of joined body manufacturing methods.
<2.スマートカードの製造方法>
本実施の形態に係るスマートカードの製造方法は、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有する導電粒子含有ホットメルト接着シートを、カード部材とICチップとの間に介在させ、熱圧着するものである。これにより、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができる。
2. Smart card manufacturing method
The method for manufacturing a smart card according to this embodiment involves interposing a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet, which contains solder particles that are a non-eutectic alloy in a binder containing a crystalline polyamide having carboxyl groups, between a card member and an IC chip, and then thermocompression bonding the two together, thereby improving solder wettability and achieving excellent connection reliability and bending resistance.
以下、図1及び図2を参照して、ICチップの接続面に導電粒子含有ホットメルト接着シートを貼り付ける貼付工程(A)、カード部材のICチップ領域にICチップを載置する載置工程(B)、及び、ICチップとカード部材とを熱圧着する圧着工程(C)について説明する。 The following describes, with reference to Figures 1 and 2, the application process (A) of applying a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet to the connection surface of the IC chip, the placement process (B) of placing the IC chip in the IC chip area of the card member, and the pressure-bonding process (C) of thermocompression-bonding the IC chip and card member.
[貼付工程(A)]
貼付工程(A)では、ICチップ20の接続面(裏面)に、導電粒子含有ホットメルト接着シートを貼り付ける。貼付工程(A)は、導電粒子含有ホットメルト接着シートをICチップ20の接続面にラミネートするラミネート工程であってもよく、ICチップ20の接続面に導電粒子含有ホットメルト接着シートを低温で貼着する仮貼り工程であってもよい。
[Attachment step (A)]
In the attachment step (A), a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is attached to the connection surface (back surface) of the IC chip 20. The attachment step (A) may be a lamination step in which the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is laminated onto the connection surface of the IC chip 20, or may be a temporary attachment step in which the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is attached to the connection surface of the IC chip 20 at a low temperature.
貼付工程(A)がラミネート工程である場合、加圧式ラミネータを用いても、真空加圧式ラミネータを用いてもよい。貼付工程(A)がラミネート工程であることにより、仮貼り工程に比べ、比較的広い面積を一括で搭載できる。また、貼付工程(A)が仮貼り工程である場合、従前の装置からツールの設置や変更といった最低限の変更だけですむため、経済的なメリットを得ることができる。 When the attachment process (A) is a lamination process, either a pressure laminator or a vacuum pressure laminator may be used. When the attachment process (A) is a lamination process, a relatively large area can be mounted at once compared to a temporary attachment process. Furthermore, when the attachment process (A) is a temporary attachment process, only minimal changes, such as the installation or modification of tools, are required from the previous equipment, resulting in economic benefits.
貼付工程(A)において、導電粒子含有ホットメルト接着シートに到達する温度は、バインダーが流動する温度以上、はんだが溶融する温度未満であることが好ましい。ここで、バインダーが流動する温度は、導電粒子含有ホットメルト接着シートの溶融粘度が100~1000000Pa・sとなる温度であってもよく、好ましくは1000~100000Pa・sとなる温度である。これにより、はんだ粒子の形状を維持した状態で導電粒子含有ホットメルト接着シートをICチップ20の接続面に貼付することができる。なお、導電粒子含有ホットメルト接着シートの溶融粘度は、例えば、回転式レオメーター(TAinstrument社製)を用い、測定圧力5g、温度範囲30~200℃、昇温速度10℃/分、測定周波数10Hz、測定プレート直径8mm、測定プレートに対する荷重変動5gの条件で測定することができる。 In the application step (A), the temperature reached by the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is preferably equal to or higher than the temperature at which the binder flows, but lower than the temperature at which the solder melts. The temperature at which the binder flows may be a temperature at which the melt viscosity of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is 100 to 1,000,000 Pa·s, preferably 1,000 to 100,000 Pa·s. This allows the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet to be applied to the connection surface of the IC chip 20 while maintaining the shape of the solder particles. The melt viscosity of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet can be measured, for example, using a rotational rheometer (manufactured by TA Instrument) under the following conditions: measurement pressure of 5 g, temperature range of 30 to 200°C, heating rate of 10°C/min, measurement frequency of 10 Hz, measurement plate diameter of 8 mm, and load fluctuation on the measurement plate of 5 g.
[載置工程(B)]
載置工程(B)では、例えば吸着機構を備えるツールを用いてICチップ20をピックアップし、カード部材10のICチップ領域とICチップ20とを位置合わせし、導電粒子含有ホットメルト接着シートを介してICチップ20を載置する。
[Placement step (B)]
In the placement process (B), the IC chip 20 is picked up using, for example, a tool equipped with an adsorption mechanism, the IC chip area of the card member 10 is aligned with the IC chip 20, and the IC chip 20 is placed via a hot melt adhesive sheet containing conductive particles.
[圧着工程(C)]
圧着工程(C)では、圧着装置を用いて、ICチップ20とカード部材10とを熱圧着する。圧着工程(C)において、熱圧着の回数は、接続対象物に応じて設定すればよく、1回であってもよいが、複数回することが好ましい。これにより、導電粒子含有ホットメルト接着シートのバインダーを十分に排除させ、ICチップ20とアンテナパターン12の第1の露出部12a及び第2の露出部12bとを、はんだ粒子の溶融により金属結合させることができる。
[Compression bonding step (C)]
In the pressure-bonding step (C), a pressure-bonding device is used to thermocompress the IC chip 20 and the card member 10. The number of thermocompression bonding steps in the pressure-bonding step (C) can be set according to the objects to be connected, and may be one, but preferably multiple. This allows the binder in the conductive particle-containing hot-melt adhesive sheet to be sufficiently removed, and the IC chip 20 and the first exposed portion 12a and the second exposed portion 12b of the antenna pattern 12 can be metallically bonded by melting the solder particles.
圧着工程(C)における熱圧着温度は、導電粒子含有ホットメルト接着シートに到達する温度がはんだ粒子の融点以上であることが好ましい。ここで、融点は、固相線温度のことをいう。すなわち、圧着工程(C)における熱圧着温度は、導電粒子含有ホットメルト接着シートに到達する温度がはんだ粒子の固相線温度以上であることが好ましい。ここで、固相線は、固相と平衡にある液相の温度(融点)と固相の組成との関係を示す曲線である。具体的な導電粒子含有ホットメルト接着シートに到達する温度は、好ましくは120~160℃、より好ましくは120~155℃、さらに好ましくは120~150℃である。これにより、カード部材10やICチップ20の熱衝撃を抑制し、カード部材10の変形を防ぐことができる。 The thermocompression bonding temperature in the compression bonding step (C) is preferably such that the temperature reached by the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is equal to or higher than the melting point of the solder particles. Here, melting point refers to the solidus temperature. In other words, the thermocompression bonding temperature in the compression bonding step (C) is preferably such that the temperature reached by the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is equal to or higher than the solidus temperature of the solder particles. Here, the solidus is a curve that shows the relationship between the temperature (melting point) of the liquid phase in equilibrium with the solid phase and the composition of the solid phase. Specifically, the temperature reached by the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is preferably 120 to 160°C, more preferably 120 to 155°C, and even more preferably 120 to 150°C. This suppresses thermal shock to the card member 10 and IC chip 20, and prevents deformation of the card member 10.
本実施の形態に係るスマートカードの製造方法は、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有する導電粒子含有ホットメルト接着シートを用いているため、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性を得ることができる。これは、結晶性ポリアミドに存在するカルボキシル基によるフラックス効果であると考えられ、結果として、フラックス化合物の添加による接着層の弾性率の低下を防ぎ、優れた耐曲げ性を得ることができる。また、非共晶合金のはんだ粒子は、共晶合金のはんだ粒子に比べ、熱圧着時の半溶融状態の時間が長いため、樹脂を十分に排除することができ、優れた接続信頼性を得ることができる。また、本実施の形態に係るスマートカードの製造方法は、ICチップの導通部とアンテナパターンの導通部とを、はんだ粒子の溶融により金属結合させるため、湿熱試験におけるバインダーの吸湿による膨潤伸びを抑えることができ、優れた接続信頼性を得ることができる。 The smart card manufacturing method according to this embodiment uses a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet containing solder particles that are a non-eutectic alloy in a binder containing a crystalline polyamide with carboxyl groups, thereby improving solder wettability and achieving excellent connection reliability. This is thought to be due to the flux effect of the carboxyl groups present in the crystalline polyamide, which prevents a decrease in the adhesive layer's elastic modulus due to the addition of a flux compound and achieves excellent bending resistance. Furthermore, non-eutectic alloy solder particles remain in a semi-molten state for a longer period during thermocompression bonding than eutectic alloy solder particles, allowing for sufficient removal of resin and achieving excellent connection reliability. Furthermore, the smart card manufacturing method according to this embodiment forms a metal bond between the conductive portions of the IC chip and the conductive portions of the antenna pattern by melting the solder particles. This reduces swelling and elongation due to moisture absorption by the binder during a moist heat test, resulting in excellent connection reliability.
<3.導電粒子含有ホットメルト接着シート>
本施の形態に係る導電粒子含有ホットメルト接着シートは、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有するものである。これにより、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができる。
<3. Hot melt adhesive sheet containing conductive particles>
The conductive particle-containing hot melt adhesive sheet according to the present embodiment contains solder particles, which are a non-eutectic alloy, in a binder containing a carboxyl-containing crystalline polyamide, thereby improving solder wettability and providing excellent connection reliability and bending resistance.
導電粒子含有ホットメルト接着シートの厚みの下限は、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、より好ましくは30μm以上である。また、導電粒子含有ホットメルト接着シートの厚みの上限は、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、さらに好ましくは60μm以下である。これにより、カード部材にICチップを熱圧着させるスマートカードの製造に好適に用いることができる。 The lower limit of the thickness of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, and even more preferably 30 μm or more. The upper limit of the thickness of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and even more preferably 60 μm or less. This makes it suitable for use in the manufacture of smart cards in which an IC chip is thermocompression bonded to a card member.
[バインダー]
バインダーは、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを少なくとも含む。なお、結晶性樹脂は、例えば、示差走査熱量測定において、昇温過程で吸熱ピークを観察することにより確認することができる。
[binder]
The binder contains at least a crystalline polyamide having a carboxyl group. The crystalline resin can be confirmed by, for example, observing an endothermic peak during the temperature rise process in differential scanning calorimetry.
結晶性ポリアミドの末端カルボキシル基濃度は、0.5mgKOH/g以上であることが好ましく、1.0mgKOH/g以上であることがより好ましく、2.0mgKOH/g以上であることがさらに好ましい。また、結晶性ポリアミドの末端カルボキシル基濃度は、50mgKOH/g以下であっても、30mgKOH/g以下であっても、10mgKOH/g以下であってもよい。結晶性ポリアミドの末端カルボキシル基濃度は、例えばJISK 0070-1992やISO2114に準じて評価を行うことができる。カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの市販品の具体例としては、例えば、アルケマ株式会社製の「HX2519」、「M1276」などが挙げられる。 The terminal carboxyl group concentration of the crystalline polyamide is preferably 0.5 mgKOH/g or more, more preferably 1.0 mgKOH/g or more, and even more preferably 2.0 mgKOH/g or more. The terminal carboxyl group concentration of the crystalline polyamide may be 50 mgKOH/g or less, 30 mgKOH/g or less, or 10 mgKOH/g or less. The terminal carboxyl group concentration of the crystalline polyamide can be evaluated, for example, in accordance with JIS K 0070-1992 or ISO 2114. Specific examples of commercially available crystalline polyamides having carboxyl groups include "HX2519" and "M1276" manufactured by Arkema Inc.
カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドは、モノマーとして、ラウリルラクタム(PA12:ポリアミド12又はナイロン21)又は11-アミノウンデカン酸(PA11:ポリアミド11)をベースとした共重合体であることが好ましい。このような共重合体は、ダイマー酸をベースとしたポリアミドに比して、結晶性が高く、溶融粘度が高く、剛性が高いため、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができる。 The carboxyl-containing crystalline polyamide is preferably a copolymer based on lauryllactam (PA12: polyamide 12 or nylon 21) or 11-aminoundecanoic acid (PA11: polyamide 11) as a monomer. Compared to polyamides based on dimer acid, such copolymers have higher crystallinity, higher melt viscosity, and higher rigidity, resulting in excellent connection reliability and bending resistance.
カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの融点の下限は、好ましくは70℃以上、より好ましくは80℃以上、さらに好ましくは90℃以上である。また、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの融点の上限は、好ましくは150℃以下、より好ましくは140℃以下、さらに好ましくは130℃以下である。カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの融点が高過ぎると、バインダーの粘度が十分に下がらないため、樹脂の排除が不十分となり、導電特性が悪化する傾向にある。また、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの融点が低過ぎると、プレスアウト時の硬度が不十分となる傾向にある。融点は、例えば、示差走査熱量分析(DSC)により測定することができる。 The lower limit of the melting point of the carboxyl-containing crystalline polyamide is preferably 70°C or higher, more preferably 80°C or higher, and even more preferably 90°C or higher. The upper limit of the melting point of the carboxyl-containing crystalline polyamide is preferably 150°C or lower, more preferably 140°C or lower, and even more preferably 130°C or lower. If the melting point of the carboxyl-containing crystalline polyamide is too high, the viscosity of the binder will not decrease sufficiently, resulting in insufficient resin removal and poor conductive properties. If the melting point of the carboxyl-containing crystalline polyamide is too low, the hardness during press-out will tend to be insufficient. The melting point can be measured, for example, by differential scanning calorimetry (DSC).
カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの重量平均分子量の下限は、好ましくは5000以上、より好ましくは、8000以上、さらに好ましくは10000以上、最も好ましくは10000超である。また、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの重量平均分子量の上限は、好ましくは100000以下、より好ましくは50000以下、さらに好ましくは30000以下である。カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの重量平均分子量が小さ過ぎると、バインダーの硬化が不十分となり、曲げ試験で抵抗が上昇するなどの不都合が生じる場合がある。重量平均分子量Mwは、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定される、標準ポリスチレン分子量換算の値とすることができる。 The lower limit of the weight-average molecular weight of the crystalline polyamide having carboxyl groups is preferably 5,000 or more, more preferably 8,000 or more, even more preferably 10,000 or more, and most preferably more than 10,000. The upper limit of the weight-average molecular weight of the crystalline polyamide having carboxyl groups is preferably 100,000 or less, more preferably 50,000 or less, and even more preferably 30,000 or less. If the weight-average molecular weight of the crystalline polyamide having carboxyl groups is too small, the binder may not cure sufficiently, resulting in problems such as increased resistance in bending tests. The weight-average molecular weight Mw can be measured, for example, by gel permeation chromatography (GPC) and expressed as a value converted into the molecular weight of standard polystyrene.
また、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドは、温度160℃、荷重2.16kgの条件で測定されたメルトボリュームフローレイト(MVR)が、好ましくは2~50cm3/10min、より好ましくは3~30cm3/10min、さらに好ましくは5~10cm3/10minである。メルトボリュームフローレイトが大き過ぎると、プレスアウト時の硬度が不十分となり、曲げ特性が低下する傾向にある。メルトボリュームフローレイトは、JIS K7210:1999にて熱可塑性プラスチックのメルトフローレートの求め方の規定に準じて測定することができる。 Furthermore, the carboxyl group-containing crystalline polyamide preferably has a melt volume flow rate (MVR) of 2 to 50 cm 3 /10 min, more preferably 3 to 30 cm 3 /10 min, and even more preferably 5 to 10 cm 3 /10 min, measured at a temperature of 160°C and a load of 2.16 kg. If the melt volume flow rate is too high, the hardness at press-out tends to be insufficient, and bending properties tend to deteriorate. The melt volume flow rate can be measured in accordance with the provisions of JIS K7210:1999, "Method for determining the melt flow rate of thermoplastic plastics."
バインダーがカルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを少なくとも含むことにより、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性を得ることができる。これは、結晶性ポリアミドに存在するカルボキシル基によるフラックス効果であると考えられ、結果として、フラックス化合物の添加による接着層の弾性率の低下を防ぎ、優れた耐曲げ性を得ることができる。 By including at least a crystalline polyamide with carboxyl groups in the binder, solder wettability is improved, resulting in excellent connection reliability. This is thought to be due to the flux effect of the carboxyl groups present in the crystalline polyamide, and as a result, the decrease in elastic modulus of the adhesive layer due to the addition of flux compounds is prevented, resulting in excellent bending resistance.
また、バインダーは、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、結晶性樹脂、非晶性樹脂など、目的に応じて適宜選択することができる。結晶性樹脂としては、結晶領域を有する樹脂であれば、特に制限はなく、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂などが挙げられ、ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブチレン樹脂などが挙げられる。また、非晶性樹脂としては、結晶性樹脂の説明において例示したものと同様のものが挙げられる。これらの中でも、低温かつ短時間での接着の観点から、その他の成分として結晶性ポリエステル樹脂を含むことが好ましい。 The binder may also contain other components as needed. These other components can be selected appropriately depending on the purpose, such as crystalline resins or amorphous resins. There are no particular restrictions on crystalline resins, as long as they have crystalline regions, and examples include polyester resins, polyolefin resins, and polyurethane resins. Examples of polyester resins include polyethylene terephthalate resins and polybutylene terephthalate resins, while examples of polyolefin resins include polyethylene resins, polypropylene resins, and polybutylene resins. Examples of amorphous resins include those exemplified in the description of crystalline resins. Among these, it is preferable to include a crystalline polyester resin as an additional component, from the viewpoint of adhesion at low temperatures and in a short time.
また、バインダーに占めるカルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの割合は、10~100wt%であることが好ましく、30~100wt%であることがより好ましく、50~100wt%であることがさらに好ましい。これにより、160℃以下の低温圧着であっても、フラックス効果を発揮することができ、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性を得ることができる。なお、カード用途など低温短時間での圧着の場合、バインダーに占めるカルボキシル基を有する結晶性ポリアミドの割合が10wt%以下の場合、十分なフラックス効果を得るのが困難となる。 The proportion of crystalline polyamide having carboxyl groups in the binder is preferably 10 to 100 wt%, more preferably 30 to 100 wt%, and even more preferably 50 to 100 wt%. This allows the flux effect to be achieved even with low-temperature compression bonding at 160°C or less, improving solder wettability and achieving excellent connection reliability. However, in the case of low-temperature, short-time compression bonding, such as for card applications, if the proportion of crystalline polyamide having carboxyl groups in the binder is 10 wt% or less, it becomes difficult to achieve a sufficient flux effect.
また、バインダーは、温度160℃、荷重2.16kgの条件で測定されたメルトボリュームフローレイト(MVR)が、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドと同様であることが好ましい。すなわち、メルトボリュームフローレイト(MVR)は、好ましくは2~50cm3/10min、より好ましくは3~30cm3/10min、さらに好ましくは5~10cm3/10minである。メルトボリュームフローレイトが大き過ぎると、プレスアウト時の硬度が不十分となり、曲げ特性が低下する傾向にある。 Furthermore, the binder preferably has a melt volume flow rate (MVR) measured at a temperature of 160°C under a load of 2.16 kg that is similar to that of the carboxyl-containing crystalline polyamide. That is, the melt volume flow rate (MVR) is preferably 2 to 50 cm 3 /10 min, more preferably 3 to 30 cm 3 /10 min, and even more preferably 5 to 10 cm 3 /10 min. If the melt volume flow rate is too high, the hardness during press-out tends to be insufficient, and the bending properties tend to deteriorate.
[はんだ粒子]
はんだ粒子は、非共晶合金が用いられれば特に制限はなく、Sn、Bi、Ag、In、Cu、Sb、Pb、Znからなる群より選択される2種以上を含む合金であることが好ましい。はんだ粒子としては、例えば、JISZ 3282-2017(対応国際規格:ISO9453:2014)に規定されている、Sn-Pb系、Pb-Sn-Sb系、Sn-Sb系、Sn-Pb-Bi系、Bi-Sn系、Sn-Bi-Cu系、Sn-Cu系、Sn-Pb-Cu系、Sn-In系、Sn-Ag系、Sn-Pb-Ag系、Pb-Ag系などの中から、端子材料や接続条件などに応じて適宜選択することができる。非共晶合金のはんだ粒子は、共晶合金のはんだ粒子に比べ、熱圧着時の半溶融状態の時間が長いため、樹脂を十分に排除することができ、優れた接続信頼性を得ることができる。なお、本明細書において、「非共晶合金」とは、共晶点を有さない合金のことを呼ぶ。
[Solder particles]
The solder particles are not particularly limited as long as they are non-eutectic alloys, but are preferably alloys containing two or more elements selected from the group consisting of Sn, Bi, Ag, In, Cu, Sb, Pb, and Zn. Examples of solder particles include Sn-Pb, Pb-Sn-Sb, Sn-Sb, Sn-Pb-Bi, Bi-Sn, Sn-Bi-Cu, Sn-Cu, Sn-Pb-Cu, Sn-In, Sn-Ag, Sn-Pb-Ag, and Pb-Ag, as defined in JIS Z 3282-2017 (corresponding international standard: ISO 9453:2014). These solder particles can be appropriately selected depending on the terminal material and connection conditions. Non-eutectic alloy solder particles remain semi-molten for a longer period of time during thermocompression bonding compared to eutectic alloy solder particles, allowing for sufficient removal of resin and achieving excellent connection reliability. In this specification, the term "non-eutectic alloy" refers to an alloy that does not have a eutectic point.
はんだ粒子の固相線温度(融点)の下限は、好ましくは120℃以上、より好ましくは130℃以上、さらに好ましくは135℃以上である。はんだ粒子の液相線温度の上限は、210℃以下でもよく、好ましくは200℃以下、より好ましくは195℃以下、さらに好ましくは190℃以下である。ここで、液相線は、固相と平衡にある液相の温度(融点)と液相の組成との関係を示す曲線である。また、はんだ粒子の固相線温度の上限は、155℃以下でもよく、好ましくは150℃以下、より好ましくは145℃以下、さらに好ましくは140℃以下である。また、はんだ粒子は、表面を活性化させる目的でフラックス化合物が直接表面に結合されていても構わない。表面を活性化させることで金属ワイヤーや電極との金属結合を促進することができる。 The lower limit of the solidus temperature (melting point) of the solder particles is preferably 120°C or higher, more preferably 130°C or higher, and even more preferably 135°C or higher. The upper limit of the liquidus temperature of the solder particles may be 210°C or lower, preferably 200°C or lower, more preferably 195°C or lower, and even more preferably 190°C or lower. Here, the liquidus is a curve that shows the relationship between the temperature (melting point) of the liquid phase in equilibrium with the solid phase and the composition of the liquid phase. The upper limit of the solidus temperature of the solder particles may be 155°C or lower, preferably 150°C or lower, more preferably 145°C or lower, and even more preferably 140°C or lower. Furthermore, a flux compound may be directly bonded to the surface of the solder particles for the purpose of surface activation. Activating the surface can promote metallic bonding with metal wires and electrodes.
また、はんだ粒子は、固相線温度(融点)が155℃以下、好ましくは150℃以下であって、Sn-Bi-Cu合金、Sn-Bi-Ag合金、Sn-Bi合金、Sn-Pb-Bi合金、及びSn-In合金からなる群より選択される1種以上であることが好ましい。はんだ粒子の具体例としては、Sn30Bi0.5Cu、Sn30Bi、Sn40Bi、Sn50Bi、Sn58Bi、Sn40Bi0.1Cu、Sn43Pb14Bi、Sn20Inなどが挙げられる。これにより、優れた接続信頼性を得ることができる。 The solder particles preferably have a solidus temperature (melting point) of 155°C or less, preferably 150°C or less, and are one or more types selected from the group consisting of Sn-Bi-Cu alloy, Sn-Bi-Ag alloy, Sn-Bi alloy, Sn-Pb-Bi alloy, and Sn-In alloy. Specific examples of solder particles include Sn30Bi0.5Cu, Sn30Bi, Sn40Bi, Sn50Bi, Sn58Bi, Sn40Bi0.1Cu, Sn43Pb14Bi, and Sn20In. This allows for excellent connection reliability.
はんだ粒子の配合量の質量比範囲の下限は、バインダー100重量部に対して、好ましくは20質量部以上、より好ましくは40質量部以上、さらに好ましくは80質量部以上であり、はんだ粒子の配合量の質量比範囲の上限は、バインダー100重量部に対して、好ましくは500質量部以下、より好ましくは400質量部以下、さらに好ましくは300質量部以下である。 The lower limit of the mass ratio range of the amount of solder particles to be blended is preferably 20 parts by mass or more, more preferably 40 parts by mass or more, and even more preferably 80 parts by mass or more, per 100 parts by weight of binder. The upper limit of the mass ratio range of the amount of solder particles to be blended is preferably 500 parts by mass or less, more preferably 400 parts by mass or less, and even more preferably 300 parts by mass or less, per 100 parts by weight of binder.
はんだ粒子の配合量が少なすぎると優れた導通性が得られなくなり、配合量が多すぎると十分な接着力が得られず、またICチップ内の絶縁性が損なわれ易くなり、優れた導通信頼性が得られ難くなる。なお、はんだ粒子がバインダー中に存在する場合には、体積比を用いてもよく、導電粒子含有ホットメルト接着シートを製造する場合(はんだ粒子がバインダーに存在する前)には、質量比を用いてもよい。質量比は、配合物の比重や配合比などから体積比に変換することができる。 If the amount of solder particles is too small, excellent conductivity will not be achieved, while if the amount is too large, sufficient adhesive strength will not be achieved and the insulation within the IC chip will be easily impaired, making it difficult to achieve excellent conductivity reliability. When the solder particles are present in the binder, the volume ratio may be used, and when producing a hot melt adhesive sheet containing conductive particles (before the solder particles are present in the binder), the mass ratio may be used. The mass ratio can be converted to a volume ratio based on the specific gravity of the compound or the compounding ratio.
また、はんだ粒子は、導電粒子含有ホットメルト接着シートの樹脂中に混練りされて分散されていてもよく、離間した状態に配置されていてもよい。この配置は、一定の規則で配置されていてもよい。規則的配置の態様としては、正方格子、六方格子、斜方格子、長方格子等の格子配列を挙げることができる。また、はんだ粒子は、複数個が凝集した凝集体として配置されていてもよい。この場合、導電粒子含有ホットメルト接着シートの平面視における凝集体の配置は、前述のはんだ粒子の配置と同様に、規則的配置でもランダム配置でもよい。 The solder particles may be kneaded and dispersed in the resin of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet, or may be arranged in a spaced-apart state. This arrangement may be regular. Examples of regular arrangements include lattice arrangements such as square lattice, hexagonal lattice, oblique lattice, and rectangular lattice. The solder particles may also be arranged as aggregates in which multiple particles are aggregated. In this case, the arrangement of the aggregates in a planar view of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet may be regular or random, similar to the arrangement of the solder particles described above.
はんだ粒子の平均粒子径は、導電粒子含有ホットメルト接着シートの厚みの70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、95%以上であることがさらに好ましい。これにより、熱圧着時に容易にはんだ粒子をICチップの導通部とカード部材の導通部との間に挟持することができ、金属結合させることができる。 The average particle size of the solder particles is preferably 70% or more of the thickness of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet, more preferably 80% or more, and even more preferably 95% or more. This allows the solder particles to be easily sandwiched between the conductive parts of the IC chip and the conductive parts of the card member during thermocompression bonding, resulting in a metallic bond.
はんだ粒子の平均粒子径の下限は、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、さらに好ましくは20μm以上である。また、はんだ粒子の平均粒子径の上限は、好ましくは50μm以下、より好ましくは45μm以下、さらに好ましくは40μm以下である。また、はんだ粒子の最大径は、平均粒子径の200%以下、好ましくは平均粒子径の150%以下、より好ましくは平均粒子径の120%以下とすることができる。はんだ粒子の最大径が、上記範囲であることにより、はんだ粒子をICチップの導通部とカード部材の導通部との間に挟持させ、はんだ粒子の溶融により導通部間を金属結合させることができる。 The lower limit of the average particle diameter of the solder particles is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, and even more preferably 20 μm or more. The upper limit of the average particle diameter of the solder particles is preferably 50 μm or less, more preferably 45 μm or less, and even more preferably 40 μm or less. The maximum diameter of the solder particles can be 200% or less of the average particle diameter, preferably 150% or less of the average particle diameter, and more preferably 120% or less of the average particle diameter. By having the maximum diameter of the solder particles within the above range, the solder particles can be sandwiched between the conductive parts of the IC chip and the conductive parts of the card member, and a metallic bond can be formed between the conductive parts by melting the solder particles.
また、はんだ粒子は、複数個が凝集した凝集体であってもよい。複数のはんだ粒子が凝集した凝集体である場合、凝集体の大きさを前述のはんだ粒子の平均粒子径と同等にしてもよい。なお、凝集体の大きさは、電子顕微鏡や光学顕微鏡で観察して求めることができる。 The solder particles may also be in the form of agglomerates of multiple solder particles. In the case of agglomerates of multiple solder particles, the size of the agglomerates may be set to be equal to the average particle size of the solder particles described above. The size of the agglomerates can be determined by observation using an electron microscope or optical microscope.
ここで、平均粒子径は、金属顕微鏡、光学顕微鏡、SEM(Scanning Electron Microscope)等の電子顕微鏡などを用いた観察画像において、例えばN=20以上、好ましくはN=50以上、さらに好ましくはN=200以上で測定した粒子の長軸径の平均値であり、粒子が球形の場合は、粒子の直径の平均値である。また、観察画像を公知の画像解析ソフト(「WinROOF」:三谷商事(株)、「A像くん(登録商標)」:旭化成エンジニアリング株式会社など)を用いて計測された測定値、画像型粒度分布測定装置(例として、FPIA-3000(マルバーン社))を用いて測定した測定値(N=1000以上)であってもよい。観察画像や画像型粒度分布測定装置から求めた平均粒子径は、粒子の最大長の平均値とすることができる。なお、導電粒子含有ホットメルト接着シートを作製する際には、簡易的にレーザー回折・散乱法によって求めた粒度分布における頻度の累積が50%になる粒径(D50)、算術平均径(体積基準であることが好ましい)などのメーカー値を用いることができる。 Here, the average particle size refers to the average major axis diameter of particles measured, for example, with N=20 or more, preferably N=50 or more, and more preferably N=200 or more, in observation images using a metallurgical microscope, optical microscope, or electron microscope such as a scanning electron microscope (SEM). In the case of spherical particles, it refers to the average diameter of the particles. It may also be a measurement value obtained by measuring the observation image using known image analysis software (such as "WinROOF" from Mitani Shoji Co., Ltd. or "Azo-kun (registered trademark)" from Asahi Kasei Engineering Co., Ltd.), or a measurement value (N=1000 or more) using an image-based particle size analyzer (e.g., FPIA-3000 (Malvern Instruments)). The average particle size determined from the observation image or image-based particle size analyzer can be the average maximum length of the particles. When producing a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet, it is possible to use manufacturer values such as the particle size (D50) at which the cumulative frequency in the particle size distribution determined by a simple laser diffraction/scattering method is 50%, and the arithmetic mean diameter (preferably on a volume basis).
[他の添加剤]
導電粒子含有ホットメルト接着シートには、上述したバインダー及びはんだ粒子に加えて、本技術の効果を損なわない範囲で様々な添加剤を配合することができる。例えば、ガスバリア性及弾性率を向上させるため、ナノサイズ(1次粒子径が1nm以上1000nm未満)のシリカを分散させてもよい。また、圧着後の半田粒子の高さを一定に制御するため、スペーサー粒子として規定サイズの樹脂粒子、ゴム粒子、シリコーンゴム粒子、シリカ等を分散させてもよい。また、本技術の効果を損なわない範囲で熱硬化性樹脂や硬化剤を添加してもよい。
[Other additives]
In addition to the binder and solder particles described above, various additives can be blended into the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet as long as they do not impair the effects of the present technology. For example, nano-sized silica (primary particle diameter of 1 nm or more and less than 1000 nm) may be dispersed to improve gas barrier properties and elastic modulus. Furthermore, resin particles, rubber particles, silicone rubber particles, silica, etc. of a specified size may be dispersed as spacer particles to maintain a constant height of the solder particles after compression bonding. Furthermore, thermosetting resins and curing agents may be added as long as they do not impair the effects of the present technology.
本実施の形態に係る導電粒子含有ホットメルト接着シートは、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有するため、はんだ濡れ性を向上させ、優れた接続信頼性を得ることができる。これは、結晶性ポリアミドに存在するカルボキシル基によるフラックス効果であると考えられ、結果として、フラックス化合物の添加による接着層の弾性率の低下を防ぎ、優れた耐曲げ性を得ることができる。また、非共晶合金のはんだ粒子は、共晶合金のはんだ粒子に比べ、熱圧着時の半溶融状態の時間が長いため、樹脂を十分に排除することができ、優れた接続信頼性を得ることができる。また、本実施の形態に係る導電粒子含有ホットメルト接着シートは、ICチップの導通部とアンテナパターンの導通部とを、はんだ粒子の溶融により金属結合させるため、湿熱試験におけるバインダーの吸湿による膨潤伸びを抑えることができ、優れた接続信頼性を得ることができる。なお、スマートカード以外の用途に用いることもでき、異方性導電フィルムとして使用してもよい。 The conductive particle-containing hot melt adhesive sheet of this embodiment contains solder particles, which are a non-eutectic alloy, in a binder containing a crystalline polyamide with carboxyl groups, thereby improving solder wettability and achieving excellent connection reliability. This is thought to be due to the flux effect of the carboxyl groups present in the crystalline polyamide, which prevents a decrease in the adhesive layer's elastic modulus due to the addition of a flux compound and achieves excellent bending resistance. Furthermore, non-eutectic alloy solder particles remain in a semi-molten state for a longer period of time during thermocompression bonding than eutectic alloy solder particles, allowing for sufficient removal of resin and achieving excellent connection reliability. Furthermore, the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet of this embodiment forms a metal bond between the conductive portions of the IC chip and the conductive portions of the antenna pattern through the melting of the solder particles. This reduces swelling and elongation due to moisture absorption by the binder during a wet heat test, resulting in excellent connection reliability. The sheet can also be used for applications other than smart cards, such as an anisotropic conductive film.
[導電粒子含有ホットメルト接着シートの製造方法]
導電粒子含有ホットメルト接着シートの製造方法は、バインダーの各樹脂成分を溶剤に溶解しワニスを調製するワニス調製工程と、はんだ粒子を加えて導電粒子含有樹脂組成物を得る導電粒子含有樹脂組成物調製工程と、導電粒子含有樹脂組成物を剥離性基材上に所定厚みとなるように塗布し、乾燥させる乾燥工程とを有する。なお、導電粒子含有ホットメルト接着シート内のはんだ粒子を離間させて配置する場合や規則的に配置する場合は、はんだ粒子を加えずにシートを設け、別途公知の方法ではんだ粒子を配置させればよい。
[Method for producing a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet]
The method for producing a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet includes a varnish preparation step in which each resin component of the binder is dissolved in a solvent to prepare a varnish, a conductive particle-containing resin composition preparation step in which solder particles are added to obtain a conductive particle-containing resin composition, and a drying step in which the conductive particle-containing resin composition is applied to a release substrate to a predetermined thickness and dried. Note that when the solder particles in the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet are arranged at intervals or in a regular pattern, the sheet can be prepared without adding solder particles, and the solder particles can be arranged by a separate known method.
各樹脂成分に使用する溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチルエチルケトン:トルエン:シクロヘキサノンの50:40:10(質量比)の混合溶剤、トルエン:酢酸エチルの50:50(質量比)の混合溶剤などを用いることができる。 There are no particular restrictions on the solvents used for each resin component and they can be selected appropriately depending on the purpose. For example, a mixed solvent of methyl ethyl ketone: toluene: cyclohexanone in a 50:40:10 (mass ratio) or a mixed solvent of toluene: ethyl acetate in a 50:50 (mass ratio) can be used.
また、剥離性基材としては、例えば、水に対する接触角が80°以上であるものが挙げられ、剥離性基材の具体例としては、例えば、シリコーン系フィルム、フッ素系フィルム、シリコーン系フィルムや、フッ素系などの離型剤で離型処理されたPET、PEN、グラシン紙などが挙げられる。また。剥離性基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20μm~120μmであることが好ましい。 Releasable substrates include those with a contact angle with water of 80° or greater. Specific examples of releasable substrates include silicone-based films, fluorine-based films, silicone-based films, and PET, PEN, and glassine paper that have been treated with a release agent such as a fluorine-based release agent. There are no particular restrictions on the thickness of the releasable substrate, and it can be selected appropriately depending on the purpose, but a thickness of 20 μm to 120 μm is preferred.
また、導電粒子含有ホットメルト接着シートは、テープ状に成型され、巻芯に巻装されたフィルム巻装体として供給されてもよい。巻芯の直径は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、50~1000mmであることが好ましい。フィルム長についても特に制限はないが、5m以上であれば製造装置による試作検討ができ、1000m以下であれば作業性や取り扱い性の負担が重くなりすぎない。 The conductive particle-containing hot melt adhesive sheet may also be molded into a tape and supplied as a film roll wound around a core. There are no particular restrictions on the diameter of the core and it can be selected appropriately depending on the purpose, but a diameter of 50 to 1000 mm is preferable. There are also no particular restrictions on the film length, but a length of 5 m or more allows for trial production using manufacturing equipment, and a length of 1000 m or less does not impose too great a burden on workability and handling.
<4.第1の実施例>
本実施例では、はんだ粒子を含有する導電粒子含有ホットメルト接着シートを作製し、これを用いてスマートカードを作成した。そして、スマートカードのはんだ濡れ性の評価、曲げ試験の評価、及び接続信頼性の評価を行った。なお、本実施例は、これらに限定されるものではない。
4. First Example
In this example, a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet containing solder particles was prepared, and a smart card was produced using this sheet. The smart card was then evaluated for solder wettability, bending test, and connection reliability. However, this example is not limited to these.
[はんだ粒子の作製]
金属材料を所定の配合比で加熱中の容器に入れて溶融後に冷却し、はんだ合金を得た。そのはんだ合金から、アトマイズ法にて粉末を作製し、粒子径が20~38μmの範囲となるように分級して、以下の組成のはんだ粒子を得た。
・Type 4 Sn-40Bi (非共晶、固相線温度:139℃、液相線温度:167℃)
・Type 4 Sn-58Bi (共晶、固相線温度・液相線温度:138℃)
[Preparation of solder particles]
The metal materials were placed in a heated container in a predetermined compounding ratio, melted, and then cooled to obtain a solder alloy. Powder was produced from the solder alloy by atomization, and the powder was classified to have a particle size in the range of 20 to 38 μm, obtaining solder particles with the following composition.
・Type 4 Sn-40Bi (non-eutectic, solidus temperature: 139°C, liquidus temperature: 167°C)
・Type 4 Sn-58Bi (eutectic, solidus temperature/liquidus temperature: 138℃)
[導電粒子含有ホットメルト接着シートの作製]
下記樹脂を準備した。
・PES111EE(東亜合成社製、結晶性ポリエステル)→固形分/シクロヘキサノン=25/75にて溶液化
・HX2519(アルケマ株式会社製、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミド、末端カルボキシル基濃度6.56mgKOH/g、融点109℃、MVR8cm3/10min、重量平均分子量12000)
・UE3500(ユニチカ株式会社製、非晶性ポリエステル樹脂)
・N-5196(日本ポリウレタン工業製、ポリカーボネート骨格のポリウレタン系エラストマー)
[Preparation of conductive particle-containing hot melt adhesive sheet]
The following resins were prepared:
PES111EE (crystalline polyester, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) -> dissolved at a solid content/cyclohexanone ratio of 25/75; HX2519 (crystalline polyamide having carboxyl groups, manufactured by Arkema Inc., terminal carboxyl group concentration 6.56 mgKOH/g, melting point 109°C, MVR 8 cm 3 /10 min, weight average molecular weight 12,000);
UE3500 (amorphous polyester resin, manufactured by Unitika Ltd.)
N-5196 (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., a polyurethane elastomer with a polycarbonate backbone)
表1に示すように、上記樹脂を固形分で所定の配合量(質量部)になるように混合及び撹拌し、混合ワニスを得た。続いて、得られた混合ワニスに、導電粒子を、混合ワニスの固形分100質量部に対し45質量部加え、導電粒子含有樹脂組成物を得た。得られた導電粒子含有樹脂組成物を、50μm厚みのPETフィルム上に、乾燥後の平均厚みが40μmとなる様に塗布し、70℃にて5分間、続けて120℃にて5分間乾燥させ、導電粒子含有ホットメルト接着シートを作製した。 As shown in Table 1, the above resins were mixed and stirred to the specified solid content (parts by mass) to obtain a mixed varnish. Next, 45 parts by mass of conductive particles per 100 parts by mass of the mixed varnish solids were added to the resulting mixed varnish to obtain a conductive particle-containing resin composition. The resulting conductive particle-containing resin composition was applied to a 50 μm-thick PET film so that the average thickness after drying would be 40 μm, and the film was dried at 70°C for 5 minutes and then at 120°C for 5 minutes to produce a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet.
[スマートカードの作製]
カード部材として、第1の基材と、アンテナを備える第2基材と、第3の基材とが積層された積層体を準備した。このカード部材のICチップ領域には、基材であるPVCからCuワイヤーが露出している。また、ICチップとして、テスト用のチップモジュール(12mm×13mm、金メッキ)を準備した。
[Smart card creation]
A laminate consisting of a first substrate, a second substrate with an antenna, and a third substrate was prepared as a card member. In the IC chip area of this card member, a Cu wire was exposed from the PVC substrate. A test chip module (12 mm x 13 mm, gold-plated) was also prepared as an IC chip.
導電粒子含有ホットメルト接着シートを、チップモジュールの接続面に3barの条件でラミネートした。そして、導電粒子含有ホットメルト接着シートが貼り付けられたチップモジュールを、カード部材のICチップ領域に載置し、215~230℃、1.0sec、2.5barの条件で3回熱圧着し、スマートカードを作製した。なお、上記熱圧着条件で導電粒子含有ホットメルト接着シートに到達する温度は約150~165℃であった。 A conductive particle-containing hot melt adhesive sheet was laminated to the connection surface of the chip module at 3 bar. The chip module with the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet attached was then placed on the IC chip area of the card member and thermocompressed three times at 215-230°C for 1.0 seconds at 2.5 bar to produce a smart card. Note that under these thermocompression conditions, the temperature reached by the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet was approximately 150-165°C.
[はんだ濡れ性の評価]
チップモジュールをスマートカードから剥がし、アセトンでチップモジュール及びCuワイヤーに付着した樹脂を除去した。そして、チップモジュールの金メッキ上、及びCuワイヤー上にはんだが付着しているか否かを観察した。はんだが付着している場合の評価を「OK」とし、はんだが付着していない場合の評価を「NG」とした。
[Evaluation of solder wettability]
The chip module was removed from the smart card, and the resin adhering to the chip module and Cu wire was removed with acetone. The gold plating of the chip module and the Cu wire were then inspected for solder adhesion. A rating of "OK" was given when solder was present, and a rating of "NG" was given when solder was not present.
[曲げ試験の評価]
ISO 10373-1 5.8に準拠し、スマートカードに対して、規定の強さ及び方向で周期的に曲げ力を加えた。そして、4000周期の曲げ試験後のスマートカードについて、共振周波数チェッカーMP300CL3(micropross社製)でQ値を測定した。Q値が50%以上低下した場合の評価を「NG」とし、それ以外の評価を「OK」とした。
[Bending test evaluation]
In accordance with ISO 10373-1 5.8, a bending force was applied periodically to the smart card with a specified strength and direction. After 4,000 cycles of bending, the Q value of the smart card was measured using a resonance frequency checker MP300CL3 (manufactured by Micropross). A decrease in the Q value of 50% or more was evaluated as "NG," and any other evaluation was evaluated as "OK."
[接続信頼性の評価]
ISO 24789-2に準拠した高温高湿試験(50℃93%RH環境下で72時間放置)後のスマートカードについて、共振周波数チェッカーMP300CL3(micropross社製)でQ値を測定した。Q値が50%以上低下した場合の評価を「NG」とし、それ以外の評価を「OK」とした。
[Evaluation of connection reliability]
After the high temperature and high humidity test (left for 72 hours in an environment of 50°C and 93% RH) conforming to ISO 24789-2, the Q value of the smart card was measured using a resonance frequency checker MP300CL3 (manufactured by Micropross). A decrease in the Q value of 50% or more was evaluated as "NG", and any other evaluation was evaluated as "OK".
表1に、実施例1~2、比較例1~3の導電粒子含有ホットメルト接着シートの配合、スマートカードのはんだ濡れ性の評価、曲げ試験の評価、及び接続信頼性の評価を示す。 Table 1 shows the formulation of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheets for Examples 1-2 and Comparative Examples 1-3, as well as the evaluation of the solder wettability of the smart card, the bending test results, and the connection reliability evaluation.
比較例1は、共晶合金のはんだ粒子を用いているため、優れた接続信頼性が得られなかった。これは、熱圧着時にはんだ粒子が共晶点に達して液化してしまい、樹脂を十分に排除することができないためだと考えられる。比較例2は、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを用いずにフラックス化合物を用いているため、接着層の弾性率が低下し、優れた耐曲げ性が得られなかった。比較例3は、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドもフラックス化合物も用いていないため、はんだ濡れ性が悪く、また、優れた耐曲げ性も得られなかった。 Comparative Example 1 did not achieve excellent connection reliability because it used eutectic alloy solder particles. This is thought to be because the solder particles reached the eutectic point and liquefied during thermocompression bonding, preventing the resin from being fully removed. Comparative Example 2 used a flux compound without a crystalline polyamide having carboxyl groups, which reduced the elastic modulus of the adhesive layer and prevented excellent bending resistance. Comparative Example 3 did not use a crystalline polyamide having carboxyl groups or a flux compound, resulting in poor solder wettability and poor bending resistance.
一方、実施例1及び実施例2は、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミド及び非共晶合金のはんだ粒子を用いているため、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができた。これは、結晶性ポリアミドに存在するカルボキシル基によるフラックス効果であると考えられ、結果として、フラックス化合物の添加による接着層の弾性率の低下を防ぎ、優れた耐曲げ性を得ることができた。 On the other hand, Examples 1 and 2 used crystalline polyamide with carboxyl groups and non-eutectic alloy solder particles, resulting in excellent connection reliability and bending resistance. This is thought to be due to the flux effect of the carboxyl groups present in the crystalline polyamide. As a result, the decrease in the elastic modulus of the adhesive layer due to the addition of flux compounds was prevented, and excellent bending resistance was achieved.
<5.第2の実施例>
前述の実施例と同様に、はんだ粒子を含有する導電粒子含有ホットメルト接着シートを作製し、これを用いてスマートカードを作成した。そして、スマートカードのはんだ濡れ性の評価、曲げ試験の評価、及び接続信頼性の評価を行った。
5. Second Example
As in the previous examples, a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet containing solder particles was prepared, and a smart card was produced using this sheet. The smart card was then evaluated for solder wettability, bending test, and connection reliability.
はんだ粒子は、前述の実施例と同様に作製し、以下の組成のはんだ粒子を得た。また、導電粒子含有ホットメルト接着シートの作製、スマートカードの作製、はんだ濡れ性の評価、曲げ試験の評価、及び、接続信頼性の評価を、前述の実施例と同様に行った。
・Type 4 Sn-17Bi (非共晶、固相線温度:157℃、液相線温度:205℃)
・Type 4 Sn-30Bi (非共晶、固相線温度:139℃、液相線温度:183℃)
The solder particles were prepared in the same manner as in the previous examples, and solder particles with the following composition were obtained. The preparation of a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet, the preparation of a smart card, the evaluation of solder wettability, the evaluation of a bending test, and the evaluation of connection reliability were also carried out in the same manner as in the previous examples.
・Type 4 Sn-17Bi (non-eutectic, solidus temperature: 157°C, liquidus temperature: 205°C)
・Type 4 Sn-30Bi (non-eutectic, solidus temperature: 139°C, liquidus temperature: 183°C)
表2に、実施例1~3、比較例1~5、参考例1の導電粒子含有ホットメルト接着シートの配合、スマートカードのはんだ濡れ性の評価、曲げ試験の評価、及び接続信頼性の評価を示す。参考例1では、導電粒子含有ホットメルト接着シートが貼り付けられたチップモジュールを、カード部材のICチップ領域に載置し、リフロー炉を用いてスマートカードを作製した。リフロー温度プロファイルは、導電粒子含有ホットメルト接着シートに到達する温度が約150℃となるようにピーク温度を設定した。 Table 2 shows the formulations of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheets for Examples 1-3, Comparative Examples 1-5, and Reference Example 1, as well as the evaluation of the solder wettability of the smart cards, the evaluation of the bending test, and the evaluation of the connection reliability. In Reference Example 1, a chip module with a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet attached was placed on the IC chip area of the card member, and a smart card was produced using a reflow oven. The peak temperature of the reflow temperature profile was set so that the temperature reached by the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet would be approximately 150°C.
比較例4は、固相線温度未満の熱圧着温度であったため、はんだ粒子が溶融しなかったためと考えられる。比較例5は、熱圧着温度が高すぎたために、導電粒子含有ホットメルト接着シートに接しているカード表面を溶融させ、埋め込まれているCuワイヤーの位置を下げてしまった。このため、はんだ接続されたはんだ粒子が下方向に引き伸ばされて割れが生じ、優れた曲げ耐性を得る事ができなかったと考えられる。 In Comparative Example 4, the thermocompression temperature was below the solidus temperature, which is thought to be why the solder particles did not melt. In Comparative Example 5, the thermocompression temperature was too high, which caused the card surface in contact with the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet to melt, lowering the position of the embedded Cu wire. As a result, the solder-connected solder particles were stretched downward, causing cracks, and it is thought that excellent bending resistance could not be achieved.
参考例1は、バインダーのメルトボリュームフローレイト(MVR)が比較的低いため、リフロー炉を用いた無加重による接続では、はんだ粒子による導通がとれず、はんだ濡れ性の評価、曲げ試験の評価、及び接続信頼性の評価が全て「NG」であった。 In Reference Example 1, the binder's melt volume flow rate (MVR) was relatively low, so when connecting using a reflow oven without applying any weight, the solder particles were unable to provide electrical continuity, and the solder wettability evaluation, bending test evaluation, and connection reliability evaluation all received an "NG" rating.
実施例3は、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミド及び非共晶合金のはんだ粒子を用いているため、優れた接続信頼性及び耐曲げ性を得ることができた。これは、結晶性ポリアミドに存在するカルボキシル基によるフラックス効果であると考えられ、結果として、フラックス化合物の添加による接着層の弾性率の低下を防ぎ、優れた耐曲げ性を得ることができた。 In Example 3, excellent connection reliability and bending resistance were achieved by using crystalline polyamide with carboxyl groups and non-eutectic alloy solder particles. This is thought to be due to the flux effect of the carboxyl groups present in the crystalline polyamide. As a result, a decrease in the elastic modulus of the adhesive layer due to the addition of flux compounds was prevented, and excellent bending resistance was achieved.
10 カード部材、11 開口、12 アンテナパターン、12a 第1の露出部、12b 第2の露出部、20 ICチップ、21 接触端子
10 Card member, 11 Opening, 12 Antenna pattern, 12a First exposed portion, 12b Second exposed portion, 20 IC chip, 21 Contact terminal
Claims (16)
前記結晶性ポリアミドが、ラウリルラクタム又は11-アミノウンデカン酸をベースとした共重合体であるスマートカードの製造方法。 a conductive particle-containing hot melt adhesive sheet containing solder particles that are a non-eutectic alloy in a binder containing a crystalline polyamide having a carboxyl group is interposed between the card member and the IC chip, and the card member and the IC chip are thermally and pressure-bonded ;
A method for producing a smart card, wherein the crystalline polyamide is a copolymer based on lauryllactam or 11-aminoundecanoic acid .
前記接着層が、カルボキシル基を有する結晶性ポリアミドを含むバインダー中に非共晶合金であるはんだ粒子を含有し、
前記結晶性ポリアミドが、ラウリルラクタム又は11-アミノウンデカン酸をベースとした共重合体であるスマートカード。 a card member, an IC chip, and an adhesive layer that adheres the card member and the IC chip together;
the adhesive layer contains solder particles that are a non-eutectic alloy in a binder that contains a crystalline polyamide having a carboxyl group,
A smart card in which the crystalline polyamide is a copolymer based on lauryllactam or 11-aminoundecanoic acid .
前記結晶性ポリアミドが、ラウリルラクタム又は11-アミノウンデカン酸をベースとした共重合体である導電粒子含有ホットメルト接着シート。 The solder particles are a non-eutectic alloy and are contained in a binder containing a crystalline polyamide having a carboxyl group .
The conductive particle-containing hot melt adhesive sheet, wherein the crystalline polyamide is a copolymer based on lauryllactam or 11-aminoundecanoic acid .
16. The conductive particle-containing hot melt adhesive sheet according to claim 10, wherein the average particle diameter of the solder particles is 70% or more of the thickness of the conductive particle-containing hot melt adhesive sheet.
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