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JP7724066B2 - Method for evaluating and manufacturing quartz glass crucibles - Google Patents
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JP7724066B2 - Method for evaluating and manufacturing quartz glass crucibles - Google Patents

Method for evaluating and manufacturing quartz glass crucibles

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JP7724066B2 JP2021035428A JP2021035428A JP7724066B2 JP 7724066 B2 JP7724066 B2 JP 7724066B2 JP 2021035428 A JP2021035428 A JP 2021035428A JP 2021035428 A JP2021035428 A JP 2021035428A JP 7724066 B2 JP7724066 B2 JP 7724066B2
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Description

本発明は、石英ガラスるつぼの評価方法及び製造方法に関する。 The present invention relates to a method for evaluating and manufacturing a quartz glass crucible.

シリコン単結晶(シリコン単結晶インゴット)の製造においては、いわゆるチョクラルスキー法(CZ法)が広く用いられている。このCZ法は、石英ガラスるつぼ内にシリコン融液を収容し、該シリコン融液の表面に種結晶を接触させ、石英ガラスるつぼを回転させるとともに、種結晶を反対方向に回転させながら上方へ引上げることにより、種結晶の下端にシリコン単結晶インゴットを育成していくものである。 The so-called Czochralski method (CZ method) is widely used in the production of silicon single crystals (silicon single crystal ingots). In this method, silicon melt is placed in a quartz glass crucible, a seed crystal is brought into contact with the surface of the silicon melt, and while the quartz glass crucible is rotated, the seed crystal is pulled upward while rotating in the opposite direction, growing a silicon single crystal ingot at the bottom end of the seed crystal.

この石英ガラスるつぼは、以下のようなアーク回転溶融法と呼ばれる方法で製造されることが一般的である。まず、回転するモールド内に原料粉として二酸化珪素粉(シリカ粉、石英粉)を供給して、遠心力によりるつぼ形状の成型体に成型する。その後、アーク火炎により該成型体を内側から加熱溶融して半透明石英ガラス製るつぼ基体(外層)を形成する(基体形成工程)。さらに、該るつぼ基体の形成中又は形成後に、該るつぼ基体内の加熱雰囲気内に新たに二酸化珪素粉を供給し、るつぼ基体内面側に透明石英ガラス製内層を形成する(内層形成工程)。透明石英ガラスからなる内層を石英粉を散布しながら加熱することにより形成する方法は散布法とも呼ばれる。 These quartz glass crucibles are generally manufactured using a method known as the arc rotary melting method. First, silicon dioxide powder (silica powder, quartz powder) is supplied as raw material powder into a rotating mold and centrifugal force forms a crucible-shaped molded body. The molded body is then heated and melted from the inside using an arc flame to form a translucent quartz glass crucible base (outer layer) (base formation process). Furthermore, during or after the formation of the crucible base, additional silicon dioxide powder is supplied into the heated atmosphere within the crucible base, forming a transparent quartz glass inner layer on the inner surface of the crucible base (inner layer formation process). The method of forming an inner layer made of transparent quartz glass by heating while spraying quartz powder is also known as the spraying method.

また、石英ガラスるつぼの外層は天然の二酸化珪素粉を用いて形成され、内層は合成された二酸化珪素粉を用いて形成されることが多い。 Furthermore, the outer layer of a quartz glass crucible is often made using natural silicon dioxide powder, while the inner layer is made using synthetic silicon dioxide powder.

このような石英ガラスるつぼの製造において、石英ガラスるつぼの内層に水素をドープすることが知られている。このような水素ドープにより、気泡の発生を抑制する効果がある。例えば、特許文献1には、石英原料粉をモールド内に供給してるつぼ形状を有するシリカ粉成型体を形成し、このシリカ粉成型体をアーク放電により加熱溶融してシリカガラスるつぼを得る製造方法において、アーク放電による加熱溶融の際に、シリカ粉成型体の内表面に水素ガスを供給することが記載されている。また、特許文献2には、アーク回転溶融法で製造された石英ガラスるつぼを、水素又は水素含有雰囲気中で、加熱保持することが記載されている。 In the manufacture of such quartz glass crucibles, it is known to dope the inner layer of the quartz glass crucible with hydrogen. This hydrogen doping has the effect of suppressing the generation of bubbles. For example, Patent Document 1 describes a manufacturing method in which quartz raw material powder is supplied into a mold to form a silica powder molded body having a crucible shape, and this silica powder molded body is heated and melted by arc discharge to obtain a silica glass crucible, in which hydrogen gas is supplied to the inner surface of the silica powder molded body during heating and melting by arc discharge. Furthermore, Patent Document 2 describes heating and holding a quartz glass crucible manufactured by the arc rotation melting method in a hydrogen or hydrogen-containing atmosphere.

また、石英ガラスるつぼへの水素ドープの方法として、原料粉に水素をドープすることにより行うことも知られている(特許文献3、4)。このような水素ドープシリカ粉(合成石英粉であることが多い)は、上記の散布法を用いて、石英ガラスるつぼの内層である透明シリカガラス層の形成に用いられる。 It is also known that a method of hydrogen doping a silica glass crucible involves doping the raw material powder with hydrogen (Patent Documents 3 and 4). This hydrogen-doped silica powder (often synthetic silica powder) is used to form a transparent silica glass layer, which is the inner layer of the silica glass crucible, using the above-mentioned scattering method.

また、石英ガラスるつぼの製造においては、石英ガラスるつぼに水蒸気を導入することも知られている(特許文献5)。特許文献5には、このような水蒸気の導入によっても、石英ガラスるつぼ内表面近傍の泡膨張を抑制できることが記載されている。 It is also known that in the manufacture of quartz glass crucibles, water vapor is introduced into the quartz glass crucible (Patent Document 5). Patent Document 5 states that the introduction of water vapor in this manner can also suppress bubble expansion near the inner surface of the quartz glass crucible.

特開2014-65622号公報JP 2014-65622 A 特開平05-208838号公報Japanese Patent Application Publication No. 05-208838 特開2003-335513号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-335513 特開2017-031007号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-031007 特開2001-348240号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-348240 特開2018-35029号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-35029 特開2006-89301号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-89301

上記のように、特許文献3、4に記載されたような水素ドープシリカ粉は、散布法を用いて透明シリカガラス層の形成に使用される。ただし、散布法により形成された透明シリカガラス層では、内層において水素ドープが十分に意図した箇所にされていない場合があった。特に、位置により水素ドープの状態にばらつきがあることがあった。また、水素ドープが十分にされていない場合、気泡膨張抑制効果が十分得られないことがあった。そのような箇所の判別のためには、従来、切り出し加工による熱処理評価を行う必要があった。例えば、石英ガラスるつぼからサンプルを切り出した後、VBT(真空焼成試験)によって気泡を膨張・顕在化させ、その発生状況に基づいて評価を行っていた。この場合、例えば、真空度2×10-2Pa以下で、1650℃、2時間10分保持する必要がある。この検査は破壊検査であり、かつ、時間がかかるという問題があった。 As described above, hydrogen-doped silica powders such as those described in Patent Documents 3 and 4 are used to form transparent silica glass layers using a spraying method. However, in transparent silica glass layers formed using the spraying method, hydrogen doping may not be sufficiently achieved at intended locations in the inner layer. In particular, the state of hydrogen doping may vary depending on the location. Furthermore, insufficient hydrogen doping may result in insufficient bubble expansion suppression. To identify such locations, heat treatment evaluation using cutting processing has traditionally been required. For example, after cutting a sample from a quartz glass crucible, bubbles are expanded and manifested by VBT (vacuum baking test), and evaluation is performed based on the bubble expansion status. In this case, for example, the sample must be held at 1650°C for 2 hours and 10 minutes at a vacuum of 2×10 −2 Pa or less. This test is destructive and time-consuming.

本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、水素ドープや水蒸気の導入等を行って石英ガラスるつぼの外層に生じた酸素欠乏欠陥の状態を評価することを、非破壊で簡便に行うことができる石英ガラスるつぼの評価方法を提供することを目的とする。 The present invention was made to solve the above-mentioned problems, and aims to provide a method for evaluating quartz glass crucibles that can easily and non-destructively evaluate the state of oxygen deficiency defects that occur in the outer layer of a quartz glass crucible through hydrogen doping, water vapor introduction, etc.

本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、気泡を含有する不透明石英ガラスからなる外層と、透明石英ガラスからなる内層とを有する石英ガラスるつぼを評価する方法であって、評価対象の石英ガラスるつぼを準備する工程と、該評価対象の石英ガラスるつぼに紫外線を励起光として照射する工程と、前記紫外線を照射した石英ガラスるつぼから発する青色蛍光の検出を行う工程と、前記青色蛍光の有無によって、前記石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を評価する工程とを有することを特徴とする石英ガラスるつぼの評価方法を提供する。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and provides a method for evaluating a quartz glass crucible having an outer layer made of opaque quartz glass containing bubbles and an inner layer made of transparent quartz glass, comprising the steps of: preparing a quartz glass crucible to be evaluated; irradiating the quartz glass crucible to be evaluated with ultraviolet light as excitation light; detecting blue fluorescence emitted from the quartz glass crucible irradiated with the ultraviolet light; and evaluating the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the quartz glass crucible based on the presence or absence of the blue fluorescence.

このような石英ガラスるつぼの評価方法であれば、青色蛍光の有無によって、石英ガラスるつぼの不透明石英ガラスからなる外層における酸素欠乏欠陥の状態を非破壊で容易に評価可能である。外層における酸素欠乏欠陥は内層における水素ドープや水蒸気の導入の状態を反映しているため、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法であれば、内層における水素ドープや水蒸気の導入の状態を非破壊で容易に評価可能となる。 This method for evaluating a silica glass crucible makes it possible to easily and non-destructively evaluate the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the silica glass crucible, which is made of opaque silica glass, based on the presence or absence of blue fluorescence. Since oxygen deficiency defects in the outer layer reflect the state of hydrogen doping and water vapor introduction in the inner layer, the method for evaluating a silica glass crucible of the present invention makes it possible to easily and non-destructively evaluate the state of hydrogen doping and water vapor introduction in the inner layer.

この場合、前記石英ガラスるつぼの外層における前記青色蛍光の分布に基づいて、前記石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の分布を評価することができる。 In this case, the distribution of oxygen deficiency defects in the outer layer of the quartz glass crucible can be evaluated based on the distribution of the blue fluorescence in the outer layer of the quartz glass crucible.

このように、本発明においては、青色蛍光の分布に基づいて、石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の分布を簡便に非破壊で評価することができる。 In this way, the present invention makes it possible to easily and non-destructively evaluate the distribution of oxygen deficiency defects in the outer layer of a quartz glass crucible based on the distribution of blue fluorescence.

また、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法では、前記青色蛍光を波長395nm付近にピークを有する蛍光とすることができる。 Furthermore, in the method for evaluating a quartz glass crucible of the present invention, the blue fluorescence can be fluorescence having a peak wavelength around 395 nm.

また、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法では、前記照射する紫外線を波長254nm付近にピークを有する紫外線とすることができる。 Furthermore, in the method for evaluating a quartz glass crucible of the present invention, the ultraviolet light irradiated can be ultraviolet light having a peak wavelength around 254 nm.

このように、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法では、波長254nm付近にピークを有する紫外線によって、波長395nm付近にピークを有する蛍光として生じる青色蛍光を検出することで、不透明石英ガラスからなる外層における酸素欠乏欠陥の状態を容易に評価することができる。 In this way, the silica glass crucible evaluation method of the present invention can easily evaluate the state of oxygen deficiency defects in the outer layer made of opaque silica glass by detecting blue fluorescence that is generated as fluorescence with a peak wavelength of around 395 nm when exposed to ultraviolet light with a peak wavelength of around 254 nm.

また、前記青色蛍光の検出を、前記青色蛍光のピーク強度Aと、前記紫外線を照射した結果生じるレイリー散乱光のピーク強度Bを測定し、前記AとBが、下記式(1)を満たす場合に前記青色蛍光が検出されたと定義して行うことが好ましい。
(A/B)×1000≧20 ・・・式(1)
Furthermore, it is preferable to detect the blue fluorescence by measuring a peak intensity A of the blue fluorescence and a peak intensity B of Rayleigh scattered light generated as a result of irradiation with ultraviolet light, and defining that the blue fluorescence has been detected when A and B satisfy the following formula (1):
(A/B)×1000≧20...Formula (1)

このように、入射光のレイリー散乱光を基準とした青色蛍光の強度によって青色蛍光の検出・非検出を定義することによって、不透明石英ガラスからなる外層における酸素欠乏欠陥の状態をより客観的に評価することができる。 In this way, by defining whether blue fluorescence is detected or not based on the intensity of blue fluorescence relative to the Rayleigh scattered light of the incident light, it is possible to more objectively evaluate the state of oxygen deficiency defects in the outer layer made of opaque quartz glass.

また、前記紫外線の照射角度を、前記石英ガラスるつぼの内表面に対して垂直方向からずらした角度とするとともに、前記青色蛍光の検出を、前記紫外線の正反射光からずらした角度で行うことが好ましい。 It is also preferable that the irradiation angle of the ultraviolet light be offset from the perpendicular direction to the inner surface of the quartz glass crucible, and that the blue fluorescence be detected at an angle offset from the specular reflection of the ultraviolet light.

このような照射光の照射角度及び青色蛍光の検出角度とすることによって、照射光の正反射光の影響を除外して、レイリー散乱光及び青色蛍光の検出を行うことができる。 By using these illumination angles for the irradiated light and detection angles for the blue fluorescence, it is possible to eliminate the influence of specular reflection of the irradiated light and detect Rayleigh scattered light and blue fluorescence.

また、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法では、前記石英ガラスるつぼを破壊することなく評価を行うことが好ましい。 Furthermore, in the method for evaluating a quartz glass crucible of the present invention, it is preferable to perform the evaluation without destroying the quartz glass crucible.

本発明では非破壊で簡便に石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を評価することが可能である。そのため、石英ガラスるつぼを破壊することなく評価を行うことにより、迅速に評価結果を得ることができるとともに、石英ガラスるつぼの全数評価もできる。 This invention makes it possible to easily and non-destructively evaluate the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of a quartz glass crucible. Therefore, by performing the evaluation without destroying the quartz glass crucible, evaluation results can be obtained quickly and all quartz glass crucibles can be evaluated.

また、前記評価対象の石英ガラスるつぼを、水素がドープされた原料シリカ粉を用いて前記内層が形成されたもの、又は、前記内層に水分が追加導入されたものとすることが好ましい。 It is also preferable that the quartz glass crucible to be evaluated has an inner layer formed using raw silica powder doped with hydrogen, or that moisture be additionally introduced into the inner layer.

このように、内層形成用に水素ドープされた原料シリカ粉を用いた石英ガラスるつぼや、内層に水分が導入された石英ガラスるつぼの評価に、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法は特に適しており、これらの石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態の評価を簡便に行うことができる。 As such, the silica glass crucible evaluation method of the present invention is particularly suitable for evaluating silica glass crucibles that use raw silica powder doped with hydrogen to form the inner layer, or silica glass crucibles in which moisture has been introduced into the inner layer, and allows for easy evaluation of the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of these silica glass crucibles.

また、本発明は、石英ガラスるつぼの製造方法であって、気泡を含有する不透明石英ガラスからなる外層と、透明石英ガラスからなる内層とを有する石英ガラスるつぼを製造する段階と、該製造した石英ガラスるつぼを前記評価対象の石英ガラスるつぼとして、上記のいずれかの石英ガラスるつぼの評価方法によって評価する段階と、前記製造した石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を評価した結果に基づいて、新たに石英ガラスるつぼを製造する際の製造条件を設定する段階と、該設定した製造条件で新たに石英ガラスるつぼを製造する段階とを有することを特徴とする石英ガラスるつぼの製造方法を提供する。 The present invention also provides a method for manufacturing a quartz glass crucible, comprising the steps of: manufacturing a quartz glass crucible having an outer layer made of opaque quartz glass containing bubbles and an inner layer made of transparent quartz glass; evaluating the manufactured quartz glass crucible as the quartz glass crucible to be evaluated using one of the above-mentioned methods for evaluating a quartz glass crucible; setting manufacturing conditions for manufacturing a new quartz glass crucible based on the results of evaluating the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the manufactured quartz glass crucible; and manufacturing a new quartz glass crucible under the set manufacturing conditions.

このように、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法を用いて、石英ガラスるつぼの製造において評価結果をフィードバックすることができる。本発明の石英ガラスるつぼの評価方法は非破壊で簡便に行うことができるので、迅速に石英ガラスるつぼの製造にフィードバックができるため、生産性及び品質も向上する。 In this way, the silica glass crucible evaluation method of the present invention can be used to feed back evaluation results into the manufacture of silica glass crucibles. Because the silica glass crucible evaluation method of the present invention can be performed non-destructively and easily, feedback can be quickly provided to the manufacture of silica glass crucibles, thereby improving productivity and quality.

本発明の石英ガラスるつぼの評価方法は、青色蛍光の有無によって、水素ドープや水蒸気の導入の状態を反映した、石英ガラスるつぼ外層における酸素欠乏欠陥の状態を、非破壊で容易に評価可能である。これにより石英ガラスるつぼの内層の評価を迅速に行うことができるので生産性が向上するとともに、製品となる石英ガラスるつぼを破壊する必要もない。また、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法を用いて、石英ガラスるつぼの製造において評価結果をフィードバックすることができる。本発明の石英ガラスるつぼの評価方法は非破壊で簡便に行うことができるので、迅速に石英ガラスるつぼの製造にフィードバックすることができる。 The silica glass crucible evaluation method of the present invention allows for easy, non-destructive evaluation of the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of a silica glass crucible, which reflects the state of hydrogen doping or water vapor introduction, based on the presence or absence of blue fluorescence. This allows for rapid evaluation of the inner layer of a silica glass crucible, improving productivity and eliminating the need to destroy the quartz glass crucible that will become the product. Furthermore, the silica glass crucible evaluation method of the present invention can be used to feed back evaluation results into the manufacture of quartz glass crucibles. Because the silica glass crucible evaluation method of the present invention can be performed non-destructively and easily, it allows for rapid feedback into the manufacture of quartz glass crucibles.

本発明の石英ガラスるつぼの評価方法の概略を示すフローチャートである。1 is a flowchart showing an outline of a method for evaluating a quartz glass crucible of the present invention. 実験例1-1~1-8における、青色蛍光強度と、VBT後の内表面露出気泡密度の関係を示すグラフである。10 is a graph showing the relationship between blue fluorescence intensity and the density of bubbles exposed on the inner surface after VBT in Experimental Examples 1-1 to 1-8. 実験例2-1~2-2における、石英ガラスるつぼの各箇所の青色蛍光の発生状況と、VBT後気泡発生状況を示す写真である。10 is a photograph showing the state of blue fluorescence generation at each location of the quartz glass crucible and the state of bubble generation after VBT in Experimental Examples 2-1 and 2-2. 実施例1において、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法に従って、石英ガラスるつぼに紫外線を照射し、青色蛍光の発光を観察した写真である。1 is a photograph of the quartz glass crucible in Example 1, irradiated with ultraviolet light and observed for blue fluorescent light emission, according to the method for evaluating a quartz glass crucible of the present invention. 一般的な石英ガラスるつぼの部位を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing parts of a typical quartz glass crucible.

上記のように、従来、石英ガラスるつぼの内層において、水素ドープが十分にされていない場合、気泡膨張抑制効果が十分得られないことがあった。そのような箇所の判別のためには、切り出し加工による熱処理評価を行う必要があり、簡便で短時間で行える方法ではなかった。 As mentioned above, in the past, if the inner layer of a quartz glass crucible was not sufficiently doped with hydrogen, the bubble expansion suppression effect was not sufficient. In order to identify such areas, it was necessary to perform a heat treatment evaluation by cutting, which was not a simple and quick method.

本発明者らの調査によると、水素ドープが十分にされていない箇所は以下のメカニズムにより生じると考えられる。散布法を用いて、原料粉として水素ドープシリカ粉を散布し、石英ガラスるつぼ基体に付着させた場合、直接原料粉が付着して形成された部分と、溶融中の慣性により形成された部分(例えば、原料粉が付着した後にガラス状態で移動したりした部分)が存在する。この慣性により形成された部分は水素濃度が低下しており、十分な泡抑制効果が得られない。そのことを判別するには、従来、上記のように切り出し加工による熱処理評価を行う必要があった。この従来の方法では、水素ドープの状態のばらつきを、石英ガラスるつぼからサンプルを切り出し、該サンプルを実際に加熱して気泡を発生させて検査していた。これは破壊検査であり、かつ、時間が掛かる評価方法であった。例えば、石英ガラスるつぼの破壊・マーキングに1時間、サンプルカットに1時間、前処理に30分、VBT(真空焼成試験)に暖気を含めて5時間、冷却に3時間、評価に30分、合計10時間程度要する。この場合、評価に時間がかかり、フィードバックを行おうにも評価の間製造を止める必要があり、生産性が悪化していた。 According to the inventors' research, the following mechanism is believed to be responsible for insufficient hydrogen doping. When hydrogen-doped silica powder is dispersed as raw material powder using the dispersion method and attached to a quartz glass crucible substrate, some areas are formed by direct deposition of the raw material powder, while others are formed by inertia during melting (e.g., areas where the raw material powder adheres and then moves in a glassy state). These inertial areas have a reduced hydrogen concentration, resulting in insufficient bubble suppression. To determine this, a heat treatment evaluation using the cutting process described above was previously required. This conventional method involves examining variations in the hydrogen doping state by cutting a sample from the quartz glass crucible and heating it to generate bubbles. This is a destructive and time-consuming evaluation method. For example, it takes approximately 10 hours in total: 1 hour for destruction and marking of the quartz glass crucible, 1 hour for sample cutting, 30 minutes for pretreatment, 5 hours for VBT (vacuum bake test) including warming, 3 hours for cooling, and 30 minutes for evaluation. In this case, evaluation took time, and even if feedback was to be provided, production had to be stopped during the evaluation, resulting in a decline in productivity.

この問題を解決するため、本発明者らは、石英ガラスるつぼ製造の原料粉として水素ドープシリカ粉を用いた場合に、石英ガラスるつぼ外層に発生する酸素欠乏欠陥に着目した。水素ドープシリカ粉を用いることで、水素が石英ガラスるつぼ内層(透明シリカガラス層)から外層(不透明シリカガラス層)に拡散し、外層中の泡の主要因であるシリカ中および溶融雰囲気から取り込まれる酸素と水素が結び付く事による酸素欠乏欠陥が生じる。その酸素欠乏欠陥の存在により紫外線を照射することで蛍光(青色蛍光)が生じ、石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を把握でき、ひいては、水素ドープの状態を把握できる。なお、ここで、青色蛍光が生じる、つまり、酸素欠乏欠陥が生じる部位は、内層と外層の境界部分のうち、外層側の浅い部分である。必ずしも外層の厚さ方向全体において青色蛍光が生じるわけではない。これらの知見から、本発明者らは、本発明に想到した。 To solve this problem, the inventors focused on oxygen deficiency defects that occur in the outer layer of a quartz glass crucible when hydrogen-doped silica powder is used as the raw material powder for manufacturing the crucible. By using hydrogen-doped silica powder, hydrogen diffuses from the inner layer (transparent silica glass layer) of the quartz glass crucible to the outer layer (opaque silica glass layer). This causes oxygen deficiency defects to form when oxygen absorbed from the silica, the main cause of bubbles in the outer layer, and from the molten atmosphere combines with hydrogen. The presence of these oxygen deficiency defects produces fluorescence (blue fluorescence) when irradiated with ultraviolet light, allowing the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the quartz glass crucible to be ascertained, and ultimately the state of hydrogen doping. Note that the blue fluorescence occurs in the shallow portion of the boundary between the inner and outer layers, closer to the outer layer. Blue fluorescence does not necessarily occur throughout the entire thickness of the outer layer. These findings led the inventors to arrive at the present invention.

以下、本発明をより具体的に説明する。本発明の石英ガラスるつぼの評価方法は、気泡を含有する不透明石英ガラスからなる外層と、透明石英ガラスからなる内層とを有する石英ガラスるつぼを評価する方法であって、評価対象の石英ガラスるつぼを準備する工程と、該評価対象の石英ガラスるつぼに紫外線を励起光として照射する工程と、前記紫外線を照射した石英ガラスるつぼから発する青色蛍光の検出を行う工程と、前記青色蛍光の有無によって、前記石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を評価する工程とを有することを特徴とする石英ガラスるつぼの評価方法である。 The present invention will be described in more detail below. The method for evaluating a quartz glass crucible of the present invention is a method for evaluating a quartz glass crucible having an outer layer made of opaque quartz glass containing bubbles and an inner layer made of transparent quartz glass, and is characterized by comprising the steps of: preparing a quartz glass crucible to be evaluated; irradiating the quartz glass crucible to be evaluated with ultraviolet light as excitation light; detecting blue fluorescence emitted from the quartz glass crucible irradiated with the ultraviolet light; and evaluating the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the quartz glass crucible based on the presence or absence of the blue fluorescence.

まず、図5を参照して、一般的な石英ガラスるつぼの部位を説明する。図5の石英ガラスるつぼ10は、気泡を含有する不透明石英ガラスからなる外層21と、透明石英ガラスからなる内層22とを有する。また、図5に示したように、石英ガラスるつぼ10のるつぼ形状は、典型的には、底部12、湾曲部13、直胴部14からなる。底部12の中心には底中心11があり、底部12は大R部、湾曲部13は小R部とも呼ばれる。 First, the components of a typical quartz glass crucible will be described with reference to Figure 5. The quartz glass crucible 10 in Figure 5 has an outer layer 21 made of opaque quartz glass containing bubbles, and an inner layer 22 made of transparent quartz glass. As shown in Figure 5, the crucible shape of the quartz glass crucible 10 typically consists of a bottom 12, a curved portion 13, and a straight body portion 14. The bottom center 11 is located at the center of the bottom 12, and the bottom 12 is also called the large R portion, and the curved portion 13 is also called the small R portion.

本発明の石英ガラスるつぼの評価方法の概略を図1に示した。まず、工程S1に示したように、評価対象の石英ガラスるつぼを準備する。ここで準備する石英ガラスるつぼは、一般の石英ガラスるつぼでも適用可能だが、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法は、酸素欠乏欠陥の状態を評価するため、水素がドープされた原料シリカ粉を用いて内層22が形成されたもの、又は、内層22に水分が追加導入されたものを評価対象とすることに適している。なお、内層22の全ての部位に水素や水分がドープされた石英ガラスるつぼ以外にも、一部のみ水素や水分がドープされた石英ガラスるつぼであっても、本発明を問題無く適用することができる。 An outline of the silica glass crucible evaluation method of the present invention is shown in Figure 1. First, as shown in step S1, the silica glass crucible to be evaluated is prepared. The silica glass crucible prepared here can be a regular silica glass crucible, but the silica glass crucible evaluation method of the present invention is suitable for evaluating those in which the inner layer 22 is formed using hydrogen-doped raw silica powder, or those in which moisture has been added to the inner layer 22, in order to evaluate the state of oxygen deficiency defects. Furthermore, in addition to silica glass crucibles in which the entire inner layer 22 is doped with hydrogen or moisture, the present invention can also be applied without problem to silica glass crucibles in which only a portion is doped with hydrogen or moisture.

次に、工程S2に示したように、評価対象の石英ガラスるつぼに紫外線を励起光として照射する。次に、工程S3に示したように、紫外線を照射した石英ガラスるつぼから発する青色蛍光の検出を行う。ここで照射する紫外線を波長254nm付近にピークを有する紫外線とすることが好ましい。また、その場合、検出する青色蛍光は波長395nm付近にピークを有する蛍光となる。波長254nm付近の紫外線は、水銀ランプから容易に得ることができる。このように、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法では、波長254nm付近にピークを有する紫外線によって、波長395nm付近にピークを有する蛍光として生じる青色蛍光を検出することで、不透明石英ガラスからなる外層における酸素欠乏欠陥の状態をより容易に評価することができる。なお、シリカガラスにおいて、波長395nm付近にピークを有する蛍光は、酸素欠乏欠陥(B2β)によることが知られている。また、波長395nm付近の蛍光とは、波長394~396nmにピークが存在することが多いが、測定装置によっても多少前後し、390nm~400nm付近にピークが存在することもある。 Next, as shown in step S2, ultraviolet light is irradiated onto the quartz glass crucible to be evaluated as excitation light. Next, as shown in step S3, blue fluorescence emitted from the quartz glass crucible irradiated with ultraviolet light is detected. It is preferable that the ultraviolet light irradiated here has a peak wavelength near 254 nm. In this case, the detected blue fluorescence has a peak wavelength near 395 nm. Ultraviolet light with a wavelength near 254 nm can be easily obtained from a mercury lamp. Thus, the quartz glass crucible evaluation method of the present invention detects blue fluorescence with a peak wavelength near 395 nm generated by ultraviolet light with a peak wavelength near 254 nm, making it easier to evaluate the state of oxygen deficiency defects in the outer layer made of opaque quartz glass. It is known that fluorescence with a peak wavelength near 395 nm in silica glass is due to oxygen deficiency defects (B2β). Furthermore, fluorescence with a wavelength of around 395 nm often has a peak at wavelengths between 394 and 396 nm, but this can vary slightly depending on the measuring device, and the peak may also be around 390 to 400 nm.

次に、工程S4に示したように、青色蛍光の有無によって、石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を評価する。工程S2、S3の操作によって青色蛍光が生じる場合、酸素欠乏欠陥が存在することを意味する。青色蛍光が生じない場合は酸素欠乏欠陥が存在しないかその密度が低いことを意味する。 Next, as shown in step S4, the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the quartz glass crucible is evaluated based on the presence or absence of blue fluorescence. If blue fluorescence is produced by the operations of steps S2 and S3, it means that oxygen deficiency defects are present. If blue fluorescence is not produced, it means that oxygen deficiency defects are not present or their density is low.

このような本発明の石英ガラスるつぼの評価方法であれば、青色蛍光の有無によって、石英ガラスるつぼの不透明石英ガラスからなる外層における酸素欠乏欠陥の状態を非破壊で容易に評価可能である。外層における酸素欠乏欠陥は内層における水素ドープや水蒸気の導入の状態を反映しているため、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法であれば、水素ドープや水蒸気の導入の状態を非破壊で容易に評価可能となる。なお、上記のように、青色蛍光が生じる、つまり、酸素欠乏欠陥が生じる部位は、内層と外層の境界部分のうち、外層側の浅い部分である。例えば、外層用の原料シリカ粉として天然石英粉を用い、内層用の原料シリカ粉として合成石英粉を用いた場合、外層は天然石英ガラス層となる。このとき、外層(天然石英ガラス層)の酸素と、水素ドープや水蒸気の導入によって導入された水素が結合することで、泡が少なく酸素欠乏欠陥を有する天然透明層が生じる。この天然透明層が青色蛍光を発生させることになる。必ずしも外層の厚さ方向全体において青色蛍光が生じるわけではない。 The silica glass crucible evaluation method of the present invention allows for easy, non-destructive evaluation of the state of oxygen deficiency defects in the opaque silica glass outer layer of a silica glass crucible based on the presence or absence of blue fluorescence. Because oxygen deficiency defects in the outer layer reflect the state of hydrogen doping or water vapor introduction in the inner layer, the silica glass crucible evaluation method of the present invention allows for easy, non-destructive evaluation of the state of hydrogen doping or water vapor introduction. As described above, the location where blue fluorescence occurs, i.e., where oxygen deficiency defects occur, is the shallower portion of the boundary between the inner and outer layers near the outer layer. For example, if natural silica powder is used as the raw silica powder for the outer layer and synthetic silica powder is used as the raw silica powder for the inner layer, the outer layer will be a natural silica glass layer. In this case, oxygen in the outer layer (natural silica glass layer) combines with hydrogen introduced by hydrogen doping or water vapor introduction to form a natural transparent layer with few bubbles and oxygen deficiency defects. This natural transparent layer generates blue fluorescence. Blue fluorescence does not necessarily occur throughout the entire thickness of the outer layer.

上記工程S1~S4により、石英ガラスるつぼの外層の全体又は部分の酸素欠乏欠陥の状態を評価することができる。そのため、水素がドープされた原料シリカ粉を用いて内層が形成された石英ガラスるつぼを評価する場合、散布法による内層の水素ドープの状態を知ることができ、即座に製造にフィードバックができる。内層に水分が追加導入された石英ガラスるつぼを評価する場合も、同様に、内層の追加水分の状態を知ることができ、即座に製造にフィードバックができる。 The above steps S1 to S4 make it possible to evaluate the state of oxygen deficiency defects in the entire or partial outer layer of a quartz glass crucible. Therefore, when evaluating a quartz glass crucible whose inner layer is formed using hydrogen-doped raw silica powder, the state of hydrogen doping in the inner layer by the diffusion method can be determined, allowing for immediate feedback to manufacturing. Similarly, when evaluating a quartz glass crucible whose inner layer has had additional moisture introduced, the state of the added moisture in the inner layer can be determined, allowing for immediate feedback to manufacturing.

具体的には、石英ガラスるつぼの製造方法において、以下のようにフィードバックをすることができる。まず、通常の方法により、気泡を含有する不透明石英ガラスからなる外層21と、透明石英ガラスからなる内層22とを有する石英ガラスるつぼ10(図5参照)を製造する(段階A)。次に、ここで製造した石英ガラスるつぼを評価対象の石英ガラスるつぼとして上記の工程S1~S4に従って、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法によって評価する(段階B)。段階Bで、製造した石英ガラスるつぼ10の外層21における酸素欠乏欠陥の状態を評価した結果に基づいて、新たに石英ガラスるつぼを製造する際の製造条件を設定する(段階C)。次に、段階Cで設定した製造条件で新たに石英ガラスるつぼを製造する(段階D)。 Specifically, feedback can be provided in the manufacturing method of a silica glass crucible as follows. First, a silica glass crucible 10 (see Figure 5) having an outer layer 21 made of opaque silica glass containing bubbles and an inner layer 22 made of transparent silica glass is manufactured by a conventional method (Step A). Next, the manufactured silica glass crucible is used as the quartz glass crucible to be evaluated and evaluated using the silica glass crucible evaluation method of the present invention, following steps S1 to S4 above (Step B). Based on the results of evaluating the state of oxygen deficiency defects in the outer layer 21 of the manufactured silica glass crucible 10 in Step B, manufacturing conditions for manufacturing a new silica glass crucible are set (Step C). Next, a new silica glass crucible is manufactured using the manufacturing conditions set in Step C (Step D).

このように、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法を用いて、石英ガラスるつぼの製造において評価結果をフィードバックすることができる。本発明の石英ガラスるつぼの評価方法は非破壊で簡便に行うことができるので、迅速に石英ガラスるつぼの製造にフィードバックができるため、生産性も向上する。本発明の石英ガラスるつぼの評価方法であれば、溶融が終わって冷えた状態の石英ガラスるつぼの外層の蛍光状態を把握する事で、外層の酸素欠乏欠陥の状態、ひいては、内層の水素ドープの状態や水分の導入の状態を知ることができ、即座に製造にフィードバックができる。上記のように、従来は、溶融が終わって評価結果が出るまでに例えば10時間程度必要だったが、本発明であれば、1時間程度でフィードバックが可能である。また、本発明は、破壊評価が不要のため、全数評価が可能である。 In this way, the silica glass crucible evaluation method of the present invention can be used to feed back evaluation results into the manufacture of silica glass crucibles. Because the silica glass crucible evaluation method of the present invention can be performed non-destructively and easily, feedback can be quickly provided to the manufacture of silica glass crucibles, thereby improving productivity. With the silica glass crucible evaluation method of the present invention, by understanding the state of fluorescence in the outer layer of a silica glass crucible after it has melted and cooled, it is possible to determine the state of oxygen deficiency defects in the outer layer, and ultimately the state of hydrogen doping and moisture introduction in the inner layer, allowing for immediate feedback to the manufacture. As described above, while in the past it required, for example, about 10 hours after melting to obtain evaluation results, the present invention allows feedback in about 1 hour. Furthermore, because the present invention does not require destructive evaluation, 100% evaluation is possible.

本発明の石英ガラスるつぼの評価方法において、青色蛍光は目視で確認可能である。具体的には、暗室で石英ガラスるつぼに紫外線を照射し、青色蛍光の発生を確認することができる。また、石英ガラスるつぼ外層の青色蛍光の分布も目視で確認することができる。 In the silica glass crucible evaluation method of the present invention, blue fluorescence can be confirmed visually. Specifically, ultraviolet light is irradiated onto the silica glass crucible in a dark room, and the generation of blue fluorescence can be confirmed. The distribution of blue fluorescence on the outer layer of the silica glass crucible can also be confirmed visually.

また、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法においては、数値に基づいて定量的に青色蛍光が検出されたと定義して行うこともできる。具体的には、以下の通りである。紫外線を励起光として照射したとき発生する青色蛍光のピーク強度(ピーク高さ)をピーク強度Aとして測定する。また、紫外線を照射した結果生じるレイリー散乱光のピーク強度(ピーク高さ)をピーク強度Bとして測定する。ここで、上記のAとBが、下記式(1)を満たす場合に青色蛍光が検出されたと定義することができる。
(A/B)×1000≧20 ・・・式(1)
Furthermore, in the method for evaluating a quartz glass crucible of the present invention, the detection of blue fluorescence can be quantitatively defined based on numerical values. Specifically, the method is as follows. The peak intensity (peak height) of blue fluorescence generated when irradiated with ultraviolet light as excitation light is measured as peak intensity A. Furthermore, the peak intensity (peak height) of Rayleigh scattered light generated as a result of irradiating with ultraviolet light is measured as peak intensity B. Here, blue fluorescence can be defined as being detected when the above A and B satisfy the following formula (1):
(A/B)×1000≧20...Formula (1)

このようにして目視に頼らず青色蛍光の検出を行うこともできる。上記式(1)とした理由は以下の通りである。 In this way, blue fluorescence can be detected without relying on visual inspection. The reason for using the above formula (1) is as follows:

特許文献6、7には、石英ガラスるつぼの過剰酸素欠陥を検出するため、赤色蛍光を測定することが記載されている。赤色蛍光の場合、励起光として波長514nmのArレーザーを用いてラマン散乱光および蛍光を測定する。 Patent documents 6 and 7 describe measuring red fluorescence to detect excess oxygen defects in quartz glass crucibles. In the case of red fluorescence, Raman scattered light and fluorescence are measured using an Ar laser with a wavelength of 514 nm as excitation light.

青色蛍光の場合、励起光に254nmの紫外線を用い、その蛍光波長は395nmとなるため、赤色蛍光と同じ測定方法を取ることはできない。蛍光強度は励起光強度により左右されるため、これらの比を以て規格化することが好ましい。規格化するには励起光強度を知る必要があるが、励起光強度は装置によって異なったり、経年劣化を伴うため、一定ではない。そのため、励起光により生じる同じ波長であるレイリー散乱光を基準として採用する。なお、レイリー散乱光は原理的には入射光と同じ波長であるが、測定装置によっても多少前後し、253nm~256nm付近にピークが存在することが多い。 In the case of blue fluorescence, 254 nm ultraviolet light is used as excitation light, and the resulting fluorescence wavelength is 395 nm, so it cannot be measured in the same way as red fluorescence. Because fluorescence intensity is affected by the intensity of the excitation light, it is preferable to normalize using the ratio of these two. Normalization requires knowledge of the excitation light intensity, but excitation light intensity is not constant as it differs depending on the device and deteriorates over time. For this reason, Rayleigh scattered light, which has the same wavelength as the excitation light, is used as the standard. In principle, Rayleigh scattered light has the same wavelength as the incident light, but this varies slightly depending on the measurement device, and there is often a peak around 253 nm to 256 nm.

ただし、上記のように、レイリー散乱光を基準として採用しても、受光部には測定に不要な励起光の正反射光が混じってしまうことがある。そのため、紫外線の照射角度を、石英ガラスるつぼの内表面に対して垂直方向からずらした角度とするとともに、青色蛍光の検出を、紫外線の正反射光からずらした角度で行うことが好ましい。例えば、励起光の入射角が60度になるように石英ガラスるつぼの照射面を傾けて、分光蛍光強度計で測定を行うことができる。 However, even when Rayleigh scattered light is used as the standard as described above, specularly reflected excitation light that is unnecessary for measurement may be mixed into the light receiving unit. For this reason, it is preferable to set the irradiation angle of the ultraviolet light at an angle shifted from the perpendicular direction to the inner surface of the quartz glass crucible, and to detect the blue fluorescence at an angle shifted from the specularly reflected ultraviolet light. For example, the irradiation surface of the quartz glass crucible can be tilted so that the angle of incidence of the excitation light is 60 degrees, and measurements can be taken with a spectrofluorometer.

上記式(1)を導出した実験例を以下に示す。 The experimental example from which the above formula (1) was derived is shown below.

[実験例1-1~1-8]
図5に示した通常の石英ガラスるつぼ10を、内層22用の原料粉として水素ドープした合成石英粉を用いて製造した。同様の石英ガラスるつぼ10を、製造条件を変化させつつ8個作製した(実験例1-1~1-8)。
[Experimental Examples 1-1 to 1-8]
The ordinary quartz glass crucible 10 shown in Fig. 5 was manufactured using hydrogen-doped synthetic quartz powder as the raw material powder for the inner layer 22. Eight similar quartz glass crucibles 10 were manufactured while varying the manufacturing conditions (Experimental Examples 1-1 to 1-8).

(サンプル作製)
実験例1-1~1-8で作製したそれぞれの石英ガラスるつぼ10について、直胴部14に位置する内層22から測定用サンプルを切り出した。
(Sample preparation)
For each of the quartz glass crucibles 10 produced in Experimental Examples 1-1 to 1-8, a measurement sample was cut out from the inner layer 22 located in the body portion 14 .

(青色蛍光の測定)
各サンプルに対して波長254nm付近にピークを有する紫外線を照射し、波長395nm付近にピークを有する青色蛍光の検出を行った。測定装置として日本分光株式会社の分光蛍光強度計FP-8500を用いた。このとき、励起光の入射角が60度になるように石英ガラスるつぼの照射面を傾けて測定を行った。また、レイリー散乱光のピーク強度が測定できる感度となるように測定条件を設定した。なお、レイリー散乱光強度は入射光の波長に依存し、254nmでは入射光強度の約0.1%である。蛍光強度比として、青色蛍光のピーク強度Aとレイリー散乱光のピーク強度Bに基づき、上記式(1)によって規格化したピーク強度比を用いた。
(Measurement of blue fluorescence)
Each sample was irradiated with ultraviolet light having a peak at a wavelength of approximately 254 nm, and blue fluorescence having a peak at a wavelength of approximately 395 nm was detected. The measurement device used was a JASCO FP-8500 spectrofluorometer. The measurement was performed by tilting the irradiation surface of the quartz glass crucible so that the angle of incidence of the excitation light was 60 degrees. The measurement conditions were set to achieve a sensitivity that allowed the peak intensity of Rayleigh scattered light to be measured. The intensity of Rayleigh scattered light depends on the wavelength of the incident light, and at 254 nm, it is approximately 0.1% of the incident light intensity. The peak intensity ratio, normalized by the above formula (1) based on the peak intensity A of the blue fluorescence and the peak intensity B of the Rayleigh scattered light, was used as the fluorescence intensity ratio.

(気泡密度の測定)
上記の青色蛍光の測定を行った後、実験例1-1~1-8の石英ガラスるつぼ10の各サンプルについて、従来の評価法である、VBT後の気泡密度を測定した。各サンプルに対して、真空度2×10-2Pa以下とし、1650℃で2時間10分保持することにより気泡を発生させた。その後、各サンプルの表面に露出した気泡の密度を目視で確認した。
(Measurement of bubble density)
After measuring the blue fluorescence, the bubble density after VBT, which is a conventional evaluation method, was measured for each sample of the quartz glass crucible 10 of Experimental Examples 1-1 to 1-8. Bubbles were generated in each sample by maintaining the sample at a vacuum of 2×10 −2 Pa or less and at 1650° C. for 2 hours and 10 minutes. The density of bubbles exposed on the surface of each sample was then visually confirmed.

実験例1-1~1-8の結果を表1、図2に示す。 The results of Experimental Examples 1-1 to 1-8 are shown in Table 1 and Figure 2.

表1、図2からわかるように、蛍光強度比(A/B)×1000が20以上の場合、VBT後の気泡密度が大幅に抑制されていることがわかる。このことから、式(1)を満たす場合、酸素欠乏欠陥が十分に存在していると判断することができることがわかる。 As can be seen from Table 1 and Figure 2, when the fluorescence intensity ratio (A/B) x 1000 is 20 or greater, the bubble density after VBT is significantly suppressed. This indicates that when formula (1) is satisfied, it can be determined that sufficient oxygen deficiency defects are present.

なお、石英ガラスるつぼを破壊することなく蛍光強度測定を行うことが難しい場合、実際に石英ガラスるつぼの蛍光を確認する際には、式(1)の蛍光強度が20以上の標準サンプルを用い、それぞれを比較することで、石英るつぼの内層の品質の状態(外層における酸素欠乏欠陥の状況)を把握することが可能である。 If it is difficult to measure the fluorescence intensity without destroying the quartz glass crucible, when actually checking the fluorescence of the quartz glass crucible, it is possible to grasp the quality of the inner layer of the quartz crucible (the state of oxygen deficiency defects in the outer layer) by using a standard sample with a fluorescence intensity of 20 or more as calculated by equation (1) and comparing them.

標準サンプルを用いて、次に製造する石英ガラスるつぼの製造条件にフィードバックする際には、例えば以下のようなフィードバックを行うことができる。 When using a standard sample to provide feedback to the manufacturing conditions of the next quartz glass crucible to be produced, the following feedback can be used, for example:

まず、標準サンプルと比較して蛍光が同じ、または強い場合は、製造した石英ガラスるつぼを合格品として次工程へと払い出す。 First, if the fluorescence is the same or stronger than that of a standard sample, the manufactured quartz glass crucible is deemed an acceptable product and sent on to the next process.

一方、標準サンプルと比べて蛍光が弱い場合は次に製造する石英るつぼの製造条件にフィードバックする。例えば、蛍光が弱い箇所に水素ドープ原料粉が直接付着するように設定するなどである。 On the other hand, if the fluorescence is weaker than the standard sample, this can be fed back into the manufacturing conditions for the next quartz crucible. For example, the conditions can be set so that the hydrogen-doped raw material powder adheres directly to areas with weak fluorescence.

また、蛍光が弱い石英ガラスるつぼは製品に使用しないこともできる。これは、実際に気泡抑制効果を確認するには破壊する他無いためである。 Furthermore, quartz glass crucibles with weak fluorescence can be avoided from being used in products, as the only way to actually confirm the bubble suppression effect is to destroy them.

本発明の石英ガラスるつぼの青色蛍光を用いた評価方法により、石英ガラスるつぼ全体の状態を把握する事ができ、また、即座に次の製造にフィードバックできるようになった。 The evaluation method of the present invention, which uses the blue fluorescence of a quartz glass crucible, makes it possible to grasp the overall condition of the quartz glass crucible and provide immediate feedback for the next production run.

次に、本発明の石英ガラスるつぼの評価方法において、青色蛍光の目視観察とVBT後気泡発生状況に相関関係があることを、以下の実験例2-1、2-2を参照して示す。 Next, we will demonstrate, with reference to Experimental Examples 2-1 and 2-2 below, that there is a correlation between visual observation of blue fluorescence and the bubble generation status after VBT in the evaluation method for quartz glass crucibles of the present invention.

[実験例2-1]
実験例1-1~1-8と同様の方法で、ただし製造条件をわずかに変更して、図5に示した通常の石英ガラスるつぼ10を、内層22用の原料粉として水素ドープした合成石英粉を用いて製造した(実験例2-1)。
[Experimental Example 2-1]
In a similar manner to Experimental Examples 1-1 to 1-8, but with slight changes to the manufacturing conditions, the ordinary quartz glass crucible 10 shown in FIG. 5 was manufactured using hydrogen-doped synthetic quartz powder as the raw material powder for the inner layer 22 (Experimental Example 2-1).

(サンプル作製)
作製したそれぞれの石英ガラスるつぼ10について、底中心11から直胴部14にかけて100mmごとに約4cm×約8cmのサンプルを切り出した。このうち、底中心11からの距離0mm(底中心)は底中心11を含む部位である。底中心11からの距離が100mm、200mm、300mmは底部12(すなわち、大R部)に位置する。底中心11からの距離が400mmは湾曲部13(すなわち、小R部)に位置する。底中心11からの距離が500mm、600mm、700mmは直胴部14に位置する。そのうち、底中心11からの距離が500mmは直胴部14の下部付近に位置する。
(Sample preparation)
For each of the produced quartz glass crucibles 10, samples of approximately 4 cm x approximately 8 cm were cut out every 100 mm from the bottom center 11 to the straight body portion 14. Of these, the portion at a distance of 0 mm (bottom center) from the bottom center 11 is the portion that includes the bottom center 11. The portions at distances of 100 mm, 200 mm, and 300 mm from the bottom center 11 are located in the bottom portion 12 (i.e., the large R portion). The portion at a distance of 400 mm from the bottom center 11 is located in the curved portion 13 (i.e., the small R portion). The portions at distances of 500 mm, 600 mm, and 700 mm from the bottom center 11 are located in the straight body portion 14. Of these, the portion at a distance of 500 mm from the bottom center 11 is located near the bottom of the straight body portion 14.

(青色蛍光の測定)
各サンプルに対して波長254nm付近にピークを有する紫外線を照射し、波長395nm付近にピークを有する青色蛍光の発生の有無を目視で確認した。紫外線照射した状態で撮影した写真を図3中の「蛍光発生状況」の列に示した。青色蛍光は図3の各サンプルの左側に明るい部分として現れている。底中心11からの距離が300mmの部位である底部12(すなわち、大R部)、及び、500mm、600mm、700mmの直胴部14に相当する部位は青色蛍光が観察できなかった。
(Measurement of blue fluorescence)
Each sample was irradiated with ultraviolet light having a peak wavelength of approximately 254 nm, and the presence or absence of blue fluorescence having a peak wavelength of approximately 395 nm was visually confirmed. Photographs taken under ultraviolet light irradiation are shown in the "Fluorescence Generation Status" column in Figure 3. Blue fluorescence appears as a bright area on the left side of each sample in Figure 3. No blue fluorescence was observed in the bottom portion 12 (i.e., the large R portion), which is 300 mm away from the bottom center 11, or in areas corresponding to the straight body portion 14 at 500 mm, 600 mm, and 700 mm.

(気泡密度の測定)
上記の青色蛍光の測定を行った後、実験例2-1の石英ガラスるつぼ10の各サンプルについて、従来の評価法である、VBT後の気泡密度を測定した。各サンプルに対して、真空度2×10-2Pa以下とし、1650℃で2時間10分保持することにより気泡を発生させた。その後、各サンプルの表面に露出した気泡の密度を目視で確認した。気泡の位置にマーキングを行ったサンプルを図3中に示した(「VBT後気泡発生状況」の列)。その結果、青色蛍光が観察できなかった部位(底中心11からの距離が300mm、500mm、600mm、700mm)では、露出気泡数がその他の部位よりも多かった。これは、これらの部位では水素ドープが不十分であり、気泡発生抑制効果が十分ではなかったことを意味する。
(Measurement of bubble density)
After measuring the blue fluorescence, the bubble density after VBT, a conventional evaluation method, was measured for each sample of the quartz glass crucible 10 of Experimental Example 2-1. Bubbles were generated in each sample by maintaining the sample at a vacuum of 2×10 −2 Pa or less and at 1650°C for 2 hours and 10 minutes. The density of bubbles exposed on the surface of each sample was then visually confirmed. Samples with markings on the bubble locations are shown in FIG. 3 (the "Bubble Generation Status After VBT" column). As a result, the number of exposed bubbles was greater in areas where blue fluorescence was not observed (distances from the bottom center 11 of 300 mm, 500 mm, 600 mm, and 700 mm) than in other areas. This means that hydrogen doping was insufficient in these areas, and the bubble generation suppression effect was insufficient.

[実験例2-2]
実験例1-1~1-8、実験例2-1と同様の方法で、ただし製造条件をわずかに変更して、図5に示した通常の石英ガラスるつぼ10を、内層22用の原料粉として水素ドープした合成石英粉を用いて作製した(実験例2-2)。
[Experimental Example 2-2]
In a manner similar to that of Experimental Examples 1-1 to 1-8 and Experimental Example 2-1, but with slight changes to the manufacturing conditions, the normal quartz glass crucible 10 shown in FIG. 5 was manufactured using hydrogen-doped synthetic quartz powder as the raw material powder for the inner layer 22 (Experimental Example 2-2).

実験例2-2で作製した石英ガラスるつぼ10に対して、サンプル作製、青色蛍光の測定、気泡密度の測定を実験例2-1と同様に行った。その結果を図3中に示す。実験例2-2では、全てのサンプルで青色蛍光が観察できた。また、VBT後気泡発生試験では、全てのサンプルにおいて気泡が抑制されていた。 For the quartz glass crucible 10 produced in Experimental Example 2-2, sample preparation, blue fluorescence measurement, and bubble density measurement were performed in the same manner as in Experimental Example 2-1. The results are shown in Figure 3. In Experimental Example 2-2, blue fluorescence was observed in all samples. Furthermore, in the bubble generation test after VBT, bubbles were suppressed in all samples.

実験例2-1、2-2の結果から、青色蛍光の目視観察とVBT後気泡発生状況に相関関係があることがわかる。 The results of Experimental Examples 2-1 and 2-2 show that there is a correlation between visual observation of blue fluorescence and the bubble generation status after VBT.

以下に、本発明の実施例をあげてさらに具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail below using examples, but the present invention is not limited to these examples.

[実施例1-1]
図5に示した通常の石英ガラスるつぼ10を、内層22用の原料粉として水素ドープした合成石英粉を用いて製造した(実施例1-1)。
[Example 1-1]
The ordinary quartz glass crucible 10 shown in FIG. 5 was manufactured using hydrogen-doped synthetic quartz powder as the raw material powder for the inner layer 22 (Example 1-1).

実施例1-1で製造した石英ガラスるつぼ10に対して内表面側から波長254nmの紫外線を励起光として照射した。その結果、図4に示したように、青色蛍光の発生に分布が見られた。図4に示したように、図4中の湾曲部13(小R部)には青色蛍光が見られたが、底中心11から底部12、及び、直胴部14には青色蛍光が観察できないか、弱かった。このことから、製造した石英ガラスるつぼ10の湾曲部13には水素ドープが十分にされており、気泡抑制効果が得られているが、その他の部位では不十分であることがわかる。 The quartz glass crucible 10 manufactured in Example 1-1 was irradiated from the inner surface with ultraviolet light having a wavelength of 254 nm as excitation light. As a result, a distribution of blue fluorescence was observed, as shown in Figure 4. As shown in Figure 4, blue fluorescence was observed in the curved portion 13 (small R portion) in Figure 4, but blue fluorescence was not observed or was weak from the bottom center 11 to the bottom portion 12 and the straight body portion 14. This indicates that the curved portion 13 of the manufactured quartz glass crucible 10 was sufficiently hydrogen-doped, resulting in a bubble-suppressing effect, but that this was insufficient in other areas.

[実施例2-1~2-8]
図5に示した通常の石英ガラスるつぼ10を、実施例1-1と同様の方法により、ただし製造条件をわずかに変更しながら、内層22用の原料粉として水素ドープした合成石英粉を用いて製造した(実施例2-1~2-8)。
[Examples 2-1 to 2-8]
The conventional quartz glass crucible 10 shown in FIG. 5 was manufactured using hydrogen-doped synthetic quartz powder as the raw material powder for the inner layer 22 in the same manner as in Example 1-1, except that the manufacturing conditions were slightly changed (Examples 2-1 to 2-8).

(標準サンプルの作製)
様々な製造条件により石英ガラスるつぼを製造し、石英ガラスるつぼから測定用サンプルを切り出した。そのサンプルの中から、上記式(1)において、蛍光強度(A/B)×1000が20以上25未満を満たす標準サンプルを準備した。
(Preparation of standard samples)
Quartz glass crucibles were manufactured under various manufacturing conditions, and measurement samples were cut out from the quartz glass crucibles. From these samples, standard samples were prepared, which satisfied the above formula (1) of the fluorescence intensity (A/B)×1000 being 20 or more and less than 25.

実施例2-1~2-8で製造した石英ガラスるつぼ10について、非破壊で内表面側から波長254nmの紫外線を励起光として照射した。ここでは、各実施例の石英ガラスるつぼ10の直胴部14について目視で青色蛍光の発生の様子を観察した。その結果、表2に示したように、実施例2-1~2-4では、標準サンプルと比べて同じか強い青色蛍光が観察された。一方、実施例2-5~2-8では、標準サンプルと比べて弱い青色蛍光が観察された。このことは、実施例2-1~2-4では、上記式(1)において、蛍光強度(A/B)×1000が20以上であること(すなわち、水素ドープの量が多く、酸素欠乏欠陥が多いこと)を意味しており、実施例2-5~2-8では、上記式(1)において、蛍光強度(A/B)×1000が20未満であること(すなわち、水素ドープの量が少なく、酸素欠乏欠陥が少ないこと)を意味している。 The quartz glass crucibles 10 manufactured in Examples 2-1 to 2-8 were non-destructively irradiated from the inner surface with ultraviolet light having a wavelength of 254 nm as excitation light. The straight body portion 14 of the quartz glass crucibles 10 of each Example was visually observed for the generation of blue fluorescence. As a result, as shown in Table 2, blue fluorescence observed in Examples 2-1 to 2-4 was either the same or stronger than that of the standard sample. On the other hand, blue fluorescence observed in Examples 2-5 to 2-8 was weaker than that of the standard sample. This means that in Examples 2-1 to 2-4, the fluorescence intensity (A/B) x 1000 in the above formula (1) was 20 or greater (i.e., the amount of hydrogen doping was high and there were many oxygen deficiency defects). In Examples 2-5 to 2-8, the fluorescence intensity (A/B) x 1000 in the above formula (1) was less than 20 (i.e., the amount of hydrogen doping was low and there were few oxygen deficiency defects).

さらに、上記結果の確認のため、実施例2-1~2-8で製造した石英ガラスるつぼ10について気泡発生が実際にどのようになるかを調査した。実施例2-1~2-8の石英ガラスるつぼ10から測定用サンプルを切り出し、VBT後の気泡密度を測定した。各サンプルに対して、真空度2×10-2Pa以下とし、1650℃で2時間10分保持することにより気泡を発生させた。その後、各サンプルの表面に露出した気泡の密度を目視で確認した。この結果を表2中に合わせて示す。 Furthermore, to confirm the above results, the actual bubble generation was investigated for the quartz glass crucibles 10 manufactured in Examples 2-1 to 2-8. Measurement samples were cut out from the quartz glass crucibles 10 of Examples 2-1 to 2-8, and the bubble density after VBT was measured. For each sample, bubbles were generated by maintaining the sample at a vacuum of 2×10 −2 Pa or less and 1650°C for 2 hours and 10 minutes. The density of bubbles exposed on the surface of each sample was then visually confirmed. The results are also shown in Table 2.

表2からわかるように、実施例2-1~2-8で製造した石英ガラスるつぼ10が非破壊の状態で評価された酸素欠乏欠陥の多寡は、VBT後の気泡密度を反映する。すなわち、蛍光強度が高いもの(実施例2-1~2-4)は露出気泡密度が低く、蛍光強度が低いもの(実施例2-5~2-8)は露出気泡密度が高い。 As can be seen from Table 2, the amount of oxygen deficiency defects evaluated in the non-destructive quartz glass crucibles 10 manufactured in Examples 2-1 to 2-8 reflects the bubble density after VBT. That is, those with high fluorescence intensity (Examples 2-1 to 2-4) have a low exposed bubble density, while those with low fluorescence intensity (Examples 2-5 to 2-8) have a high exposed bubble density.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は単なる例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above-described embodiments. The above-described embodiments are merely examples, and anything that has substantially the same configuration as the technical concept described in the claims of the present invention and exhibits similar effects is included within the technical scope of the present invention.

10…石英ガラスるつぼ、
11…底中心、 12…底部、 13…湾曲部、 14…直胴部、
21…外層、 22…内層。
10...quartz glass crucible,
11... bottom center, 12... bottom portion, 13... curved portion, 14... straight body portion,
21...outer layer, 22...inner layer.

Claims (9)

気泡を含有する不透明石英ガラスからなる外層と、透明石英ガラスからなる内層とを有する石英ガラスるつぼを評価する方法であって、
評価対象の石英ガラスるつぼを準備する工程と、
該評価対象の石英ガラスるつぼに紫外線を励起光として照射する工程と、
前記紫外線を照射した石英ガラスるつぼから発する青色蛍光の検出を行う工程と、
前記青色蛍光の有無によって、前記石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を評価する工程と
を有することを特徴とする石英ガラスるつぼの評価方法。
A method for evaluating a quartz glass crucible having an outer layer made of opaque quartz glass containing bubbles and an inner layer made of transparent quartz glass, comprising:
A step of preparing a quartz glass crucible to be evaluated;
a step of irradiating the quartz glass crucible to be evaluated with ultraviolet light as excitation light;
detecting blue fluorescence emitted from the quartz glass crucible irradiated with ultraviolet light;
and evaluating the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the quartz glass crucible based on the presence or absence of the blue fluorescence.
前記石英ガラスるつぼの外層における前記青色蛍光の分布に基づいて、前記石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の分布を評価することを特徴とする請求項1に記載の石英ガラスるつぼの評価方法。 The method for evaluating a silica glass crucible described in claim 1, characterized in that the distribution of oxygen deficiency defects in the outer layer of the silica glass crucible is evaluated based on the distribution of the blue fluorescence in the outer layer of the silica glass crucible. 前記青色蛍光が波長395nm付近にピークを有する蛍光であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の石英ガラスるつぼの評価方法。 The method for evaluating a quartz glass crucible according to claim 1 or 2, characterized in that the blue fluorescence has a peak wavelength around 395 nm. 前記照射する紫外線を波長254nm付近にピークを有する紫外線とすることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の石英ガラスるつぼの評価方法。 A method for evaluating a quartz glass crucible according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the ultraviolet light irradiated has a peak wavelength around 254 nm. 前記青色蛍光の検出を、
前記青色蛍光のピーク強度Aと、前記紫外線を照射した結果生じるレイリー散乱光のピーク強度Bを測定し、
前記AとBが、下記式(1)を満たす場合に前記青色蛍光が検出されたと定義して行うことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の石英ガラスるつぼの評価方法。
(A/B)×1000≧20 ・・・式(1)
detecting the blue fluorescence
measuring a peak intensity A of the blue fluorescence and a peak intensity B of the Rayleigh scattered light generated as a result of irradiating the ultraviolet light;
The method for evaluating a quartz glass crucible according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the blue fluorescence is defined as being detected when A and B satisfy the following formula (1):
(A/B)×1000≧20...Formula (1)
前記紫外線の照射角度を、前記石英ガラスるつぼの内表面に対して垂直方向からずらした角度とするとともに、
前記青色蛍光の検出を、前記紫外線の正反射光からずらした角度で行う
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の石英ガラスるつぼの評価方法。
The irradiation angle of the ultraviolet light is set to an angle shifted from a direction perpendicular to the inner surface of the quartz glass crucible,
The method for evaluating a quartz glass crucible according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the detection of the blue fluorescence is performed at an angle shifted from the specularly reflected light of the ultraviolet light.
前記石英ガラスるつぼを破壊することなく評価を行うことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の石英ガラスるつぼの評価方法。 A method for evaluating a quartz glass crucible according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the evaluation is performed without destroying the quartz glass crucible. 前記評価対象の石英ガラスるつぼを、水素がドープされた原料シリカ粉を用いて前記内層が形成されたもの、又は、前記内層に水分が追加導入されたものとすることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の石英ガラスるつぼの評価方法。 A method for evaluating a quartz glass crucible according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the quartz glass crucible to be evaluated has an inner layer formed using raw silica powder doped with hydrogen, or has moisture additionally introduced into the inner layer. 石英ガラスるつぼの製造方法であって、
気泡を含有する不透明石英ガラスからなる外層と、透明石英ガラスからなる内層とを有する石英ガラスるつぼを製造する段階と、
該製造した石英ガラスるつぼを前記評価対象の石英ガラスるつぼとして、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の石英ガラスるつぼの評価方法によって評価する段階と、
前記製造した石英ガラスるつぼの外層における酸素欠乏欠陥の状態を評価した結果に基づいて、新たに石英ガラスるつぼを製造する際の製造条件を設定する段階と、
該設定した製造条件で新たに石英ガラスるつぼを製造する段階と
を有することを特徴とする石英ガラスるつぼの製造方法。
A method for manufacturing a quartz glass crucible, comprising:
A step of manufacturing a quartz glass crucible having an outer layer made of opaque quartz glass containing bubbles and an inner layer made of transparent quartz glass;
A step of evaluating the manufactured quartz glass crucible as the quartz glass crucible to be evaluated by the method for evaluating a quartz glass crucible according to any one of claims 1 to 8;
A step of setting manufacturing conditions for manufacturing a new quartz glass crucible based on the results of evaluating the state of oxygen deficiency defects in the outer layer of the manufactured quartz glass crucible;
and a step of manufacturing a new quartz glass crucible under the set manufacturing conditions.
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