JP7724069B2 - Support sheet, composite sheet for forming protective film, and method for manufacturing the device - Google Patents
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Description
本発明は、支持シート、保護膜形成用複合シートおよび装置の製造方法に関する。特に、半導体ウエハ等のワークを加工する際にワークを固定するために使用される支持シート、当該支持シートと、半導体ウエハ等のワークまたはワークを加工して得られる半導体チップ等の加工物を保護するために好適に使用される保護膜形成フィルムと、を有する保護膜形成用複合シート、および、半導体チップ等の装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a support sheet, a composite sheet for forming a protective film, and a method for manufacturing a device. In particular, it relates to a support sheet used to secure a workpiece such as a semiconductor wafer during processing, a composite sheet for forming a protective film having the support sheet and a protective film-forming film that is suitable for protecting a workpiece such as a semiconductor wafer or a processed product such as a semiconductor chip obtained by processing the workpiece, and a method for manufacturing a device such as a semiconductor chip.
近年、いわゆるフェイスダウン(face down)方式と呼ばれる実装法を用いた半導体装置の製造が行われている。フェイスダウン方式においては、回路面上にバンプ等の電極を有する半導体チップが用いられ、電極と基板とが接合される。このため、半導体チップの回路面とは反対側の裏面は剥き出しとなることがある。 In recent years, semiconductor devices have been manufactured using a mounting method known as the face-down method. In the face-down method, a semiconductor chip with electrodes such as bumps on its circuit surface is used, and the electrodes are bonded to a substrate. As a result, the back surface of the semiconductor chip, opposite the circuit surface, may be exposed.
この剥き出しとなった半導体チップの裏面には、有機材料からなる樹脂膜が保護膜として形成され、このような保護膜付き半導体チップが、半導体装置に取り込まれることがある。保護膜は、ダイシング工程以降の工程において、半導体チップにおいて割れや欠け等のチッピングを防止するために利用される。 A resin film made of an organic material is formed as a protective film on the backside of this exposed semiconductor chip, and such semiconductor chips with a protective film are sometimes incorporated into semiconductor devices. The protective film is used to prevent chipping, such as cracking or chipping, in the semiconductor chip during processes after the dicing process.
このような保護膜の形成には、支持シート上に保護膜形成フィルム(保護膜形成層)を備えてなる保護膜形成用複合シートが用いられる。支持シートとしては、例えば、樹脂製の基材上に粘着剤層等が積層されてなる積層シートが用いられる。また、支持シートは支持シート単独でも半導体ウエハ等のダイシングシートとして機能可能である。保護膜形成用複合シートは、保護膜形成フィルムが保護膜形成能を有しているのに加え、支持シートがダイシングシートとして機能可能なので、保護膜形成フィルムとダイシングシートとが一体化されたシートということができる。 To form such a protective film, a composite sheet for forming a protective film is used, which comprises a protective film-forming film (protective film-forming layer) on a support sheet. For example, a laminated sheet in which an adhesive layer or the like is laminated on a resin substrate is used as the support sheet. Furthermore, the support sheet alone can function as a dicing sheet for semiconductor wafers, etc. Since the protective film-forming film has protective film-forming ability and the support sheet can function as a dicing sheet, the composite sheet for forming a protective film can be said to be a sheet in which the protective film-forming film and dicing sheet are integrated.
支持シートに用いられる基材において、通常、他の部材と接触する面は凹凸形状を有している。これは、このような凹凸形状を有していないと、支持シートが巻き取られたロールから支持シートを繰り出す際に、基材と粘着剤層上に形成された剥離フィルムとが貼り付いてブロッキングしてしまい、ロールから支持シートを繰り出すことが困難になるためである。したがって、基材において、他の部材と接触する面が凹凸形状を有していれば、接触面の面積が小さくなるために、ブロッキングが抑制される。 The surface of the substrate used in the support sheet that comes into contact with other members typically has an uneven shape. This is because, if the surface does not have such an uneven shape, the substrate and the release film formed on the adhesive layer will stick together and cause blocking when the support sheet is unwound from the roll, making it difficult to unwind the support sheet from the roll. Therefore, if the surface of the substrate that comes into contact with other members has an uneven shape, the area of the contact surface is reduced, thereby suppressing blocking.
また、支持シートの粘着剤層上に保護膜形成フィルムが形成されている保護膜形成用複合シートについても同様である。すなわち、保護膜形成用複合シートが巻き取られたロールから保護膜形成用複合シートを繰り出す際に、基材と保護膜形成フィルム上に形成された剥離フィルムとが貼り付いてブロッキングするので、基材において、剥離フィルムと接触する面は凹凸形状を有している。 The same applies to a composite sheet for forming a protective film, in which a protective film-forming film is formed on the adhesive layer of a support sheet. That is, when the composite sheet for forming a protective film is unwound from the roll on which it is wound, the substrate and the release film formed on the protective film-forming film stick together and cause blocking, so the surface of the substrate that comes into contact with the release film has an uneven shape.
一方、半導体ウエハまたは保護膜形成フィルムの表面には、半導体ウエハまたは半導体チップを識別するために、たとえば、レーザーマーキングによりマークや文字等がマーキングされる。このようなレーザーマーキングは、支持シートが備える基材の粘着剤層が形成されていない面側からレーザー光を入射させて行われる。したがって、粘着剤層が形成されていない面が凹凸形状を有していると、当該面においてレーザー光が散乱あるいは乱反射するため、マーキングが不鮮明になることがある。 On the other hand, in order to identify the semiconductor wafer or semiconductor chip, marks, letters, etc. are marked on the surface of the semiconductor wafer or protective film-forming film, for example, by laser marking. Such laser marking is performed by irradiating laser light from the side of the substrate of the support sheet on which the adhesive layer is not formed. Therefore, if the side on which the adhesive layer is not formed has an uneven shape, the laser light will be scattered or diffused on that surface, which may result in an unclear marking.
特許文献1には、基材と、基材上に積層された粘着剤層と、を備える支持シート、あるいは、支持シートの粘着剤層上に保護膜形成フィルムを備える保護膜形成用複合シートにおいて、粘着剤層を備えている側の表面における表面粗さ(Ra)が0.4μm以下であり、基材の、粘着剤層を備えている側とは反対側の表面における表面粗さ(Ra)が、粘着剤層を備えている側の表面における表面粗さよりも大きく、かつ0.053~0.48μmであることが記載されている。この支持シートあるいは保護膜形成用複合シートによれば、レーザーマーキングの認識性を良好にしつつ、ブロッキングを抑制できることができることが記載されている。 Patent Document 1 describes a support sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on the substrate, or a composite sheet for forming a protective film comprising a protective film-forming film on the adhesive layer of the support sheet, in which the surface on the side on which the adhesive layer is formed has a surface roughness (Ra) of 0.4 μm or less, and the surface roughness (Ra) of the substrate surface opposite the side on which the adhesive layer is formed is greater than the surface roughness on the side on which the adhesive layer is formed, and is 0.053 to 0.48 μm. It also describes that this support sheet or composite sheet for forming a protective film can suppress blocking while improving the recognizability of laser marking.
しかしながら、特許文献1に記載の支持シートまたは保護膜形成用複合シートであっても、ブロッキングに起因するシートの繰り出し不良と、基材越しに観察した場合のレーザーマーキングの認識性と、をより安定的に両立することは困難であるという問題があった。 However, even with the support sheet or composite sheet for forming a protective film described in Patent Document 1, there was a problem in that it was difficult to reliably achieve both poor sheet feeding caused by blocking and the visibility of the laser marking when viewed through the substrate.
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、シートの繰り出し不良と、基材越しに観察した場合のレーザーマーキングの認識性と、を両立できる支持シート、当該支持シートと保護膜形成フィルムとを備える保護膜形成用複合シート、並びに、半導体装置等の装置の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to provide a support sheet that can eliminate sheet feeding problems while ensuring that laser markings are easily visible when viewed through the substrate, a composite sheet for forming a protective film that includes the support sheet and a protective film-forming film, and a method for manufacturing devices such as semiconductor devices.
本発明の態様は、以下の通りである。
[1]基材と、基材の一方の主面上に形成された粘着剤層と、を有し、
基材において、粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域の算術平均高さSa1が0.50μmより大きく、
粘着剤層が形成されていない主面の入射角60°でのグロス値が20以上である支持シートである。
[2]粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域が、0.36mm×0.27mmの四角形領域である狭域を300個合成して得られる広域であり、
各狭域の算術平均高さのうち、最小から20番目までの算術平均高さの平均をSa2とした時に、Sa2が0.43μm以下である[1]に記載の支持シートである。
[3]Sa2に対するSa1の比であるSa1/Sa2が1.40以上である[1]または[2]に記載の支持シートである。
[4]粘着剤層が形成されていない主面上に他の層が形成されていない[1]から[3]のいずれかに記載の支持シートである。
[5][1]から[4]のいずれかに記載の支持シートと、支持シートの粘着剤層上に形成されている保護膜形成フィルムと、を有する保護膜形成用複合シートである。
[6][1]から[4]のいずれかに記載の支持シートと、支持シートの粘着剤層の表面に貼付されるための保護膜形成フィルムとを有するキットである。
[7]ロール状に巻かれた[1]から[4]のいずれかに記載の支持シートを巻き解いて繰り出す工程と、
繰り出された支持シートをワークに貼付する工程と、
ワークに、レーザーマーキングを行う工程と、
ワークを加工して、ワークの加工物を得る工程と、を有する装置の製造方法である。
[8]ロール状に巻かれた[5]に記載の保護膜形成用複合シートを巻き解いて繰り出す工程と、
繰り出された保護膜形成用複合シートの保護膜形成フィルムを、ワーク裏面に貼付する工程と、
貼付された保護膜形成フィルムを保護膜化する工程と、
保護膜または保護膜形成フィルムに、レーザーマーキングを行う工程と、
裏面に保護膜または保護膜形成フィルムを有するワークを個片化して、複数の保護膜または保護膜形成フィルム付きワークの加工物を得る工程と、を有する装置の製造方法である。
The aspects of the present invention are as follows.
[1] A film having a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer formed on one main surface of the substrate,
In the substrate, the arithmetic mean height Sa1 of a 4.91 mm × 4.90 mm square region on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed is greater than 0.50 μm,
The support sheet has a gloss value of 20 or more at an incident angle of 60° on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed.
[2] A 4.91 mm × 4.90 mm square region on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed is a wide region obtained by combining 300 narrow regions, each of which is a 0.36 mm × 0.27 mm square region,
The support sheet according to [1], wherein Sa2 is 0.43 μm or less when the average of the 20 smallest arithmetic mean heights of the narrow regions is Sa2.
[3] The support sheet according to [1] or [2], wherein the ratio of Sa1 to Sa2, Sa1/Sa2, is 1.40 or more.
[4] The support sheet according to any one of [1] to [3], wherein no other layer is formed on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed.
[5] A composite sheet for forming a protective film, comprising the support sheet according to any one of [1] to [4] and a protective film-forming film formed on the pressure-sensitive adhesive layer of the support sheet.
[6] A kit comprising the support sheet according to any one of [1] to [4] and a protective film-forming film to be attached to the surface of the adhesive layer of the support sheet.
[7] A step of unwinding and unrolling the support sheet according to any one of [1] to [4] wound in a roll;
A step of attaching the unwound support sheet to a workpiece;
A step of laser marking a workpiece;
and a step of processing the workpiece to obtain a processed product of the workpiece.
[8] A step of unwinding and unwinding the composite sheet for forming a protective film according to [5] wound in a roll;
A step of attaching the protective film-forming film of the unwound protective film-forming composite sheet to the back surface of the workpiece;
A step of converting the attached protective film-forming film into a protective film;
A step of laser marking the protective film or the protective film-forming film;
The method for manufacturing the device includes a step of dividing a workpiece having a protective film or a protective film-forming film on its back surface into individual pieces to obtain a plurality of workpieces having a protective film or a protective film-forming film.
本発明によれば、シートの繰り出し不良と、基材越しに観察した場合のレーザーマーキングの認識性と、を両立できる支持シート、当該支持シートと保護膜形成フィルムとを備える保護膜形成用複合シート、並びに、半導体装置等の装置の製造方法を提供することができる。 The present invention provides a support sheet that can eliminate sheet feeding problems while ensuring that laser markings are easily visible when viewed through the substrate, a composite sheet for forming a protective film that includes the support sheet and a protective film-forming film, and a method for manufacturing devices such as semiconductor devices.
以下、本発明を、具体的な実施形態に基づき、図面を用いて詳細に説明する。まず、本明細書で使用する主な用語を説明する。 The present invention will now be described in detail based on specific embodiments and with reference to the accompanying drawings. First, the main terms used in this specification will be explained.
ワークは、本実施形態に係る支持シートまたは保護膜形成用複合シートが貼付されて加工される板状体である。ワークとしては、たとえば、ウエハ、パネルが挙げられる。具体的には、半導体ウエハ、半導体パネルが挙げられる。ワークの加工物としては、たとえば、ウエハを個片化して得られるチップが挙げられる。具体的には、半導体ウエハを個片化して得られる半導体チップが例示される。この場合、保護膜は、ウエハおよびチップの裏面側に形成される。 The workpiece is a plate-like body to which the support sheet or composite sheet for forming a protective film according to this embodiment is attached and processed. Examples of the workpiece include wafers and panels. Specifically, examples include semiconductor wafers and semiconductor panels. Examples of processed workpieces include chips obtained by dicing a wafer. Specifically, examples include semiconductor chips obtained by dicing a semiconductor wafer. In this case, the protective film is formed on the backside of the wafer and chip.
ウエハ等のワークの「表面」とは回路、バンプ等の凸状電極等が形成された面を指し、「裏面」は回路、電極(たとえばバンプ等の凸状電極)等が形成されていない面を指す。 The "front surface" of a workpiece such as a wafer refers to the surface on which circuits, bumps, and other convex electrodes are formed, while the "back surface" refers to the surface on which circuits, electrodes (for example, bumps and other convex electrodes) are not formed.
ウエハの個片化は、ウエハを回路毎に分割しチップを得ることを言う。 Wafer singulation refers to dividing the wafer into individual circuits to obtain chips.
本明細書において、例えば「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタクリレート」の双方を示す語として用いており、他の類似用語についても同様である。 In this specification, for example, "(meth)acrylate" is used to refer to both "acrylate" and "methacrylate," and the same applies to other similar terms.
「エネルギー線」は、紫外線、電子線等を指し、好ましくは紫外線である。 "Energy rays" refers to ultraviolet rays, electron beams, etc., with ultraviolet rays being preferred.
剥離フィルムは、粘着剤層または保護膜形成フィルムを剥離可能に支持するフィルムである。フィルムとは、厚みを限定するものではなく、シートを含む概念で用いる。 A release film is a film that supports the adhesive layer or protective film-forming film in a releasable manner. The term "film" is not limited to a specific thickness and is used to refer to sheets as well.
保護膜形成フィルム用組成物等の組成物に関する説明における質量比は、有効成分(固形分)に基づいており、特段の説明が無い限り、溶媒は算入しない。 The mass ratios in descriptions of compositions such as protective film-forming compositions are based on the active ingredient (solid content), and do not include the solvent unless otherwise specified.
(1.支持シート)
本実施形態に係る支持シートは、ワークを加工する際に、ワークを固定するために用いられる。たとえば、このようなシートは、ワークを切断して、複数のワークの加工物を得る際に、ワークに貼付するために用いられる。したがって、本実施形態に係る支持シートはダイシングシートとして用いることができる。また、後述する保護膜形成用複合シートのように、支持シート上に、ワークまたはワークの加工物に所定の性能を付与する機能層が形成されていてもよい。
(1. Support Sheet)
The support sheet according to this embodiment is used to fix a workpiece when processing the workpiece. For example, such a sheet is used to attach to a workpiece when cutting the workpiece to obtain multiple processed workpieces. Therefore, the support sheet according to this embodiment can be used as a dicing sheet. Furthermore, like the composite sheet for forming a protective film described below, a functional layer that imparts predetermined performance to the workpiece or a processed product of the workpiece may be formed on the support sheet.
本実施形態に係る支持シート1は、図1に示すように、基材2と、基材の一方の主面2a上に形成された粘着剤層3と、を有している。本実施形態では、基材2の粘着剤層が形成されていない主面2b上には、他の層は形成されていないことが好ましい。すなわち、基材2の粘着剤層が形成されていない主面2bは外部に露出している露出面であることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the support sheet 1 according to this embodiment has a substrate 2 and an adhesive layer 3 formed on one main surface 2a of the substrate. In this embodiment, it is preferable that no other layer be formed on the main surface 2b of the substrate 2 on which the adhesive layer is not formed. In other words, it is preferable that the main surface 2b of the substrate 2 on which the adhesive layer is not formed is an exposed surface that is exposed to the outside.
本実施形態に係る支持シートは、短手方向の長さに対する長手方向の長さが非常に長い長尺シートの形態であってもよい。また、このような長尺シートが巻き取られたシートロールの形態であってもよい。 The support sheet according to this embodiment may be in the form of a long sheet whose longitudinal length is significantly longer than its lateral length. It may also be in the form of a sheet roll in which such a long sheet is wound up.
支持シートが巻き取られる場合、粘着剤層3の表面3aには、剥離フィルムが形成されていることが好ましい。粘着剤層の表面に剥離フィルムが形成されていることにより、支持シートが巻かれてシートロールとなった場合であっても、基材と粘着剤層の表面3aと基材の粘着剤層が形成されていない主面2bとの貼り付きを防ぐことができる。 When the support sheet is rolled up, it is preferable that a release film be formed on the surface 3a of the adhesive layer 3. By forming a release film on the surface of the adhesive layer, even when the support sheet is rolled up into a sheet roll, it is possible to prevent the substrate, the surface 3a of the adhesive layer, and the main surface 2b of the substrate on which the adhesive layer is not formed from sticking together.
(2.保護膜形成用複合シート)
本実施形態に係る保護膜形成用複合シートは、保護膜形成フィルムをワークに貼付し、保護膜形成フィルムを保護膜化して、ワークまたはワークの加工物を保護するために用いられる。
(2. Composite sheet for forming protective film)
The composite sheet for forming a protective film according to this embodiment is used to protect the workpiece or a processed product of the workpiece by attaching the protective film-forming film to the workpiece and turning the protective film-forming film into a protective film.
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート10は、図2に示すように、保護膜形成フィルム4と、保護膜形成フィルム4を支持する支持シート1と、保護膜形成用複合シート10をリングフレーム等の治具に接着するための治具用粘着剤層5と、を有する。支持シート1は、(1)で説明した支持シートと同じであり、基材2と、基材2の一方の主面2a上に形成された粘着剤層3と、を有している。保護膜形成フィルム4は粘着剤層3の表面3a上に形成されている。治具用粘着剤層5は、保護膜形成フィルム4の主面4aの周縁部に形成されている。 As shown in FIG. 2, the composite sheet 10 for forming a protective film according to this embodiment comprises a protective film-forming film 4, a support sheet 1 that supports the protective film-forming film 4, and a jig adhesive layer 5 for adhering the composite sheet 10 for forming a protective film to a jig such as a ring frame. The support sheet 1 is the same as the support sheet described in (1), and comprises a substrate 2 and an adhesive layer 3 formed on one main surface 2a of the substrate 2. The protective film-forming film 4 is formed on the surface 3a of the adhesive layer 3. The jig adhesive layer 5 is formed on the peripheral portion of the main surface 4a of the protective film-forming film 4.
(1)と同様に、本実施形態では、基材2の粘着剤層が形成されていない主面2b上には、他の層は形成されていないことが好ましい。すなわち、基材2の粘着剤層が形成されていない主面2bは外部に露出している露出面であることが好ましい。 Similar to (1), in this embodiment, it is preferable that no other layers are formed on the main surface 2b of the substrate 2 on which the adhesive layer is not formed. In other words, it is preferable that the main surface 2b of the substrate 2 on which the adhesive layer is not formed is an exposed surface that is exposed to the outside.
また、(1)と同様に、本実施形態に係る保護膜形成用複合シートは、短手方向の長さに対する長手方向の長さが非常に長い長尺シートの形態であってもよい。また、このような長尺シートが巻き取られたシートロールの形態であってもよい。 Furthermore, as with (1), the composite sheet for forming a protective film according to this embodiment may be in the form of a long sheet in which the length in the longitudinal direction is very long relative to the length in the lateral direction. It may also be in the form of a sheet roll in which such a long sheet is wound up.
保護膜形成用複合シートが巻き取られる場合、保護膜形成フィルム4の表面4aおよび治具用粘着剤層5の表面には、剥離フィルムが形成されていることが好ましい。粘着剤層の表面に剥離フィルムが形成されていることにより、保護膜形成用複合シートが巻かれてシートロールとなった場合であっても、保護膜形成フィルム4の表面4aおよび治具用粘着剤層5の表面と基材の粘着剤層が形成されていない主面2bとの貼り付きを防ぐことができる。 When the composite sheet for forming a protective film is wound up, it is preferable that a release film be formed on the surface 4a of the protective film-forming film 4 and the surface of the jig adhesive layer 5. By forming a release film on the surface of the adhesive layer, even when the composite sheet for forming a protective film is wound into a sheet roll, it is possible to prevent the surface 4a of the protective film-forming film 4 and the surface of the jig adhesive layer 5 from sticking to the main surface 2b of the substrate on which the adhesive layer is not formed.
しかしながら、ロール状の剥離フィルム付き保護膜形成用複合シートを巻き解いて、ワークに貼付するために繰り出す場合、保護膜形成フィルムの表面に形成されている剥離フィルムに、当該剥離フィルムの半径方向直下に位置している保護膜形成用複合シートが貼り付き、保護膜形成用複合シートを繰り出すことができない場合がある。同様に、ロール状の剥離フィルム付き支持シートを巻き解いて、ワークに貼付するために繰り出す場合、粘着剤層の表面に形成されている剥離フィルムに、当該剥離フィルムの半径方向直下に位置している支持シートが貼り付き、支持シートを繰り出すことができない場合がある。 However, when a roll of a composite sheet for forming a protective film with a release film is unwound and unwound to be applied to a workpiece, the composite sheet for forming a protective film located directly radially below the release film may stick to the release film formed on the surface of the protective film-forming film, making it impossible to unwind the composite sheet for forming a protective film. Similarly, when a roll of a support sheet with a release film is unwound and unwound to be applied to a workpiece, the support sheet located directly radially below the release film may stick to the release film formed on the surface of the adhesive layer, making it impossible to unwind the support sheet.
このような繰り出し不良を防止するために、支持シートおよび保護膜形成用複合シートが備える基材の粘着剤層が形成されていない主面2bには微少な凹凸が形成されていることが好ましい。このような凹凸が形成されていることにより、基材の主面2bと剥離フィルムとの接触面積が減り、剥離フィルムへの支持シートまたは保護膜形成用複合シートの貼り付きが低減される。 To prevent such unwinding problems, it is preferable that the main surface 2b of the substrate of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film, where the adhesive layer is not formed, be slightly uneven. The formation of such unevenness reduces the contact area between the main surface 2b of the substrate and the release film, reducing adhesion of the support sheet or composite sheet for forming a protective film to the release film.
ところで、ワークとしてのウエハまたはウエハが個片化されたチップには、識別性向上のために、ウエハまたはチップにマーキングされることがある。この場合、ウエハまたはチップに直接マーキングされる場合と、ウエハまたはチップに貼付された保護膜にマーキングされる場合とがある。どちらの場合であっても、通常、レーザー光の照射によりマーキングされる(レーザーマーキング)。 By the way, to improve identification, markings are sometimes applied to wafers or chips cut into individual wafers as workpieces. In this case, the markings may be applied directly to the wafer or chip, or to a protective film attached to the wafer or chip. In either case, the markings are usually applied by irradiating them with laser light (laser marking).
レーザーマーキングを行う際には、ウエハまたはチップは、図1に示す粘着剤層の表面3a上、または、図2に示す保護膜形成フィルムの主面4a上に位置しているため、レーザー光は、基材の主面2b側から入射し、支持シート1を透過して、ウエハまたはチップに到達する。このとき、基材の主面2bに凹凸が形成されていると、レーザー光が散乱あるいは乱反射してマーキングが不鮮明になることがある。 When laser marking is performed, the wafer or chip is positioned on the surface 3a of the adhesive layer shown in Figure 1 or on the main surface 4a of the protective film-forming film shown in Figure 2, so the laser light enters from the main surface 2b of the substrate, passes through the support sheet 1, and reaches the wafer or chip. If the main surface 2b of the substrate is uneven, the laser light may be scattered or diffused, resulting in unclear marking.
また、ウエハまたはチップに施されたマーキングを確認するために、マーキングを、支持シートを剥離してから観察する場合と、支持シート越しに観察する場合とがある。マーキングを支持シート越しに観察する場合、基材の主面2b側から顕微鏡等によりマーキングを観察するので、観察光が散乱あるいは乱反射すると、マーキングを鮮明に認識できないことがある。 In addition, to check the markings applied to the wafer or chip, the markings can be observed either after peeling off the support sheet or through the support sheet. When observing the markings through the support sheet, the markings are observed using a microscope or the like from the main surface 2b side of the substrate, so if the observation light is scattered or diffusely reflected, the markings may not be clearly discernible.
したがって、支持シートの基材における粘着剤層が形成されていない面の表面状態は、支持シートまたは保護膜形成用複合シートの繰り出し性と、レーザーマーキングの認識性とに影響を与え、これらは相反する特性である。すなわち、これらを両立することは非常に難しい。 Therefore, the surface condition of the side of the support sheet substrate on which the adhesive layer is not formed affects the payout ability of the support sheet or composite sheet for forming a protective film and the recognizability of the laser marking, which are contradictory properties. In other words, it is very difficult to achieve both.
そこで、本実施形態では、支持シートの基材の表面性状を以下のように制御することにより、繰り出し性とレーザーマーキングの認識性とを両立させている。以下、本実施形態に係る支持シートおよび保護膜形成用複合シートの構成要素について詳細に説明する。 In this embodiment, therefore, the surface properties of the support sheet substrate are controlled as follows to achieve both payout ease and laser marking visibility. The components of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film according to this embodiment are described in detail below.
(3.基材)
支持シートの基材は、ワークの加工時に、粘着剤層を介してワークを支持する。基材は、1つの樹脂フィルムからなる単層フィルムから構成されていてもよいし、複数の樹脂フィルムが積層された複層フィルムから構成されていてもよい。
(3. Base material)
The substrate of the support sheet supports the workpiece via the adhesive layer during processing of the workpiece. The substrate may be made of a single-layer film made of one resin film, or may be made of a multi-layer film in which multiple resin films are laminated.
ただし、基材の粘着剤層が形成されている主面とは反対側の主面(粘着剤層が形成されていない主面)には他の層が形成されていないことが好ましい。したがって、基材の粘着剤層が形成されていない主面は外部に露出している露出面であることが好ましい。 However, it is preferable that no other layers be formed on the main surface of the substrate opposite the main surface on which the adhesive layer is formed (the main surface on which the adhesive layer is not formed). Therefore, it is preferable that the main surface of the substrate on which the adhesive layer is not formed is an exposed surface that is exposed to the outside.
このような他の層の形成にはコストが掛かるという問題がある。また、他の層が接した面に対して、他の層に含まれる成分が移行して付着するというリスクもある。特に、支持シートまたは保護膜形成用複合シートがシートロールの形態である場合には、他の層は、剥離フィルムの背面と接触することになるので、上記のリスクが顕在化する可能性が高い。 The formation of such other layers is costly. There is also the risk that components contained in the other layers will migrate and adhere to the surface that the other layers are in contact with. In particular, when the support sheet or composite sheet for forming a protective film is in the form of a sheet roll, the other layers will come into contact with the back surface of the release film, making the above risks highly likely to become apparent.
基材の厚さは、保護膜形成用複合シートが使用される各工程において適切に機能できる限り、特に限定されない。好ましくは20~200μm、より好ましくは40~170μm、特に好ましくは50~140μmの範囲である。 The thickness of the substrate is not particularly limited, as long as it can function properly in each process in which the composite sheet for forming a protective film is used. It is preferably in the range of 20 to 200 μm, more preferably 40 to 170 μm, and especially preferably 50 to 140 μm.
(3.1 基材の光沢性)
本実施形態では、基材の粘着剤層が形成されている主面とは反対側の主面(図1および2では、主面2b)の入射角60°でのグロス値が20以上である。
(3.1 Gloss of the substrate)
In this embodiment, the gloss value at an incident angle of 60° on the main surface of the substrate opposite to the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed (main surface 2b in Figs. 1 and 2) is 20 or more.
入射角60°でのグロス値が上記の範囲内であることにより、支持シート越しにマーキングの観察を行っても、観察光の散乱あるいは乱反射が抑制されているので、マーキングを鮮明に認識できる。 By keeping the gloss value at an incident angle of 60° within the above range, scattering or diffuse reflection of the observation light is suppressed, allowing the marking to be clearly recognized even when observed through the support sheet.
入射角60°でのグロス値は25以上であることが好ましく、35以上であることがより好ましく、45以上であることがさらに好ましい。一方、当該グロス値の上限値は特に制限されないが、たとえば、140以下であることが好ましく、110以下であることがより好ましく、80以下であることがさらに好ましい。 The gloss value at an incident angle of 60° is preferably 25 or greater, more preferably 35 or greater, and even more preferably 45 or greater. On the other hand, there is no particular upper limit to the gloss value, but it is preferably 140 or less, more preferably 110 or less, and even more preferably 80 or less.
入射角60°でのグロス値は、JIS Z 8741に準じて測定される。すなわち、JIS Z 8741に規定されている測定方法と同様に測定するが、測定条件が異なっていてもよい。具体的な測定方法は実施例において説明する。 The gloss value at an incident angle of 60° is measured in accordance with JIS Z 8741. That is, it is measured in the same manner as the measurement method specified in JIS Z 8741, but the measurement conditions may be different. The specific measurement method is explained in the examples.
(3.2 基材の表面性状)
本実施形態では、基材の粘着剤層が形成されている主面(一方の主面)とは反対側の主面(粘着剤層が形成されていない主面:図1および2では、主面2b)の表面性状が所定の形状に制御されている。
(3.2 Surface properties of substrate)
In this embodiment, the surface properties of the main surface (main surface on which the adhesive layer is not formed: main surface 2b in Figures 1 and 2) opposite to the main surface (one main surface) on which the adhesive layer of the substrate is formed are controlled to a predetermined shape.
具体的には、基材の粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域の算術平均高さをSa1とすると、Sa1は0.50μmより大きい。算術平均高さ(Arithmetical mean height of the surface)は、ISO25178において規定される面粗さパラメータの1つであり、測定面における山高さおよび谷深さの絶対値の平均値である。Sa1は、局所的な凹凸の影響が抑えられた測定面全体における平均的な面粗さを示している。 Specifically, if the arithmetic mean height of a 4.91 mm x 4.90 mm square region on the main surface of the substrate where the adhesive layer is not formed is defined as Sa1, Sa1 is greater than 0.50 μm. Arithmetic mean height of the surface is one of the surface roughness parameters defined in ISO 25178, and is the average of the absolute values of the peak heights and valley depths on the measured surface. Sa1 indicates the average surface roughness over the entire measured surface, with the effects of localized irregularities minimized.
Sa1が上記の範囲内であることにより、基材の粘着剤層が形成されていない主面の面粗さが主面全体として見ると比較的に粗くなっている。その結果、剥離フィルムとの接触面積を少なくできるので、繰り出し不良が抑制される。 By ensuring that Sa1 is within the above range, the surface roughness of the main surface of the substrate on which the adhesive layer is not formed is relatively rough when viewed as a whole. As a result, the contact area with the release film can be reduced, thereby suppressing unwinding problems.
Sa1は、0.55μm以上であることが好ましく、0.60μm以上であることがより好ましく、0.65μm以上であることがさらに好ましい。一方、Sa1の上限値は、上述したグロス値が上述した範囲内である限りにおいて制限されないが、1.2μm以下であることが好ましい。 Sa1 is preferably 0.55 μm or more, more preferably 0.60 μm or more, and even more preferably 0.65 μm or more. On the other hand, the upper limit of Sa1 is not limited as long as the gloss value is within the above-mentioned range, but it is preferably 1.2 μm or less.
Sa1は、4.91mm×4.90mmの四角形領域を測定面として得られる面粗さである。 Sa1 is the surface roughness obtained by measuring a rectangular area of 4.91 mm x 4.90 mm.
また、本実施形態では、上記のSa1に加えて、上記のSa1が測定される領域において、当該領域を細分化した狭い領域における面粗さを制御することが好ましい。 In addition to the above Sa1, in this embodiment, it is preferable to control the surface roughness in a smaller area obtained by subdividing the area where the above Sa1 is measured.
具体的には、まず、粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域が、0.36mm×0.27mmの四角形領域を合成して得られる領域とする。したがって、4.91mm×4.90mmの四角形領域は広域であり、0.36mm×0.27mmの四角形領域は狭域となる。 Specifically, first, a 4.91 mm x 4.90 mm square area on the main surface where the adhesive layer is not formed is defined as the area obtained by combining 0.36 mm x 0.27 mm square areas. Therefore, the 4.91 mm x 4.90 mm square area is a wide area, and the 0.36 mm x 0.27 mm square area is a narrow area.
図3に示すように、4.91mm×4.90mmの四角形領域50は、0.36mm×0.27mmの四角形領域60をX軸方向に15列、Y軸方向に20行、すなわち300個合成して得られる領域である。したがって、広域50は、300個の狭域60から構成されている。 As shown in Figure 3, the 4.91 mm x 4.90 mm rectangular region 50 is obtained by combining 300 0.36 mm x 0.27 mm rectangular regions 60, arranged in 15 columns in the X-axis direction and 20 rows in the Y-axis direction. Therefore, the wide region 50 is made up of 300 narrow regions 60.
本実施形態では、0.36mm×0.27mmの四角形領域60のそれぞれにおいて算術平均高さを算出する。すなわち、各狭域60において算術平均高さを測定し、300個の算術平均高さを得る。300個の算術平均高さについて最小から20番目の算術平均高さを選択する。すなわち、広域50を細分化した300個の狭域60において、平滑な(表面粗さの小さい)狭域を20個選択する。選択した20個の狭域の算術平均高さを平均して、Sa2とする。本実施形態では、Sa2は0.43μm以下である。 In this embodiment, the arithmetic mean height is calculated for each 0.36 mm x 0.27 mm rectangular region 60. That is, the arithmetic mean height is measured for each narrow region 60, and 300 arithmetic mean heights are obtained. Of the 300 arithmetic mean heights, the 20 smallest arithmetic mean height is selected. That is, of the 300 narrow regions 60 obtained by subdividing the wide region 50, 20 smooth narrow regions (with low surface roughness) are selected. The arithmetic mean heights of the selected 20 narrow regions are averaged to obtain Sa2. In this embodiment, Sa2 is 0.43 μm or less.
Sa1は、上述したように、広域50全体を測定面として得られる面粗さであるのに対し、Sa2は、広域50において、局所的に平滑な領域の面粗さである。通常、表面の凹凸はほぼ均一に存在しており、狭域が上記のサイズである場合には、各狭域に凹凸がほぼ均一に存在している。その結果、各狭域の面粗さにはそれほど差はなく、狭域が合成されて得られる領域である広域の面粗さに近くなる。 As mentioned above, Sa1 is the surface roughness obtained by measuring the entire wide area 50, while Sa2 is the surface roughness of locally smooth areas in the wide area 50. Normally, surface irregularities are present almost uniformly, and when the narrow areas are the above-mentioned size, the irregularities are present almost uniformly in each narrow area. As a result, there is not much difference in the surface roughness of each narrow area, and it is close to the surface roughness of the wide area, which is the area obtained by combining the narrow areas.
したがって、表面の凹凸がほぼ均一に存在している場合、300個の狭域60において、面粗さの小さい狭域を20個選択したとしても、面粗さの平均Sa2は、広域の面粗さSa1に近くなる。 Therefore, if the surface irregularities are approximately uniform, even if 20 narrow areas with low surface roughness are selected from 300 narrow areas 60, the average surface roughness Sa2 will be close to the wide-area surface roughness Sa1.
これに対して、本実施形態では、Sa1が0.50μmより大きいにもかかわらず、Sa2は0.43μm以下である。したがって、Sa1およびSa2が同時に上記の範囲内であることは、粘着剤層が形成されていない主面では、広域50全体の面粗さが上記の範囲内になるほどの大きな凹凸が存在しつつも、表面粗さが小さい領域も多く存在していることを示している。換言すれば、粘着剤層が形成されていない主面では、比較的に平滑な面において比較的に大きな凹凸が疎に分布していることを示している。 In contrast, in this embodiment, although Sa1 is greater than 0.50 μm, Sa2 is 0.43 μm or less. Therefore, the fact that Sa1 and Sa2 are both within the above ranges indicates that, on the main surface on which the adhesive layer is not formed, there are large irregularities such that the surface roughness of the entire wide area 50 falls within the above range, but there are also many areas with low surface roughness. In other words, on the main surface on which the adhesive layer is not formed, relatively large irregularities are sparsely distributed on a relatively smooth surface.
したがって、比較的に大きな凹凸により、剥離フィルムとの接触面積を小さくするとともに、平滑な領域によりレーザー光の散乱あるいは乱反射を抑制してマーキングを鮮明にすることができ(すなわち、レーザーマーキング性を良好にすることができ)、さらに、グロス値を大きくすることがより容易となる。すなわち、粘着剤層が形成されていない主面が、表面の凹凸がほぼ均一に存在している面とは異なる表面性状を有していることにより、相反する特性である繰り出し性とレーザーマーキング性とを両立することができる。 Therefore, the relatively large irregularities reduce the contact area with the release film, while the smooth areas suppress scattering or diffuse reflection of laser light, resulting in clearer markings (i.e., improved laser marking properties), and it also makes it easier to increase the gloss value. In other words, the main surface on which the adhesive layer is not formed has a different surface texture from the surface on which the irregularities are almost uniformly distributed, making it possible to achieve both payout ability and laser marking ability, which are contradictory properties.
Sa2は、0.35μm以下であることが好ましく、0.30μm以下であることがより好ましい。一方、Sa2の下限値は、上述したグロス値が上述した範囲内である限りにおいて制限されないが、0.10μm以上であることが好ましい。 Sa2 is preferably 0.35 μm or less, and more preferably 0.30 μm or less. On the other hand, the lower limit of Sa2 is not limited as long as the gloss value is within the above-mentioned range, but it is preferably 0.10 μm or more.
また、本実施形態では、Sa2に対するSa1の比(Sa1/Sa2)が1.40以上であることが好ましい。Sa1/Sa2が上記の範囲内であることにより、繰り出し性とレーザーマーキング性とを高いレベルで両立することができる。 In addition, in this embodiment, it is preferable that the ratio of Sa1 to Sa2 (Sa1/Sa2) be 1.40 or greater. By having Sa1/Sa2 within the above range, it is possible to achieve high levels of both payout performance and laser marking performance.
Sa1/Sa2は、1.70以上であることがより好ましく、2.0以上であることがさらに好ましく、2.3以上であることが特に好ましい。 Sa1/Sa2 is more preferably 1.70 or greater, even more preferably 2.0 or greater, and particularly preferably 2.3 or greater.
基材の粘着剤層が形成されていない主面の表面性状は、以下のようにして測定することができる。粘着剤層が形成されていない主面を、互いに直交するX軸およびY軸を用いてXY平面として表した場合、粘着剤層が形成されていない主面の表面性状はXY平面に垂直なZ軸方向の変位として表すことができる。すなわち、粘着剤層が形成されていない主面の面粗さは、3次元(X,Y,Z)形状として表される。 The surface texture of the main surface of the substrate on which the adhesive layer is not formed can be measured as follows. If the main surface on which the adhesive layer is not formed is represented as an XY plane using mutually perpendicular X and Y axes, the surface texture of the main surface on which the adhesive layer is not formed can be represented as a displacement in the Z axis direction, which is perpendicular to the XY plane. In other words, the surface roughness of the main surface on which the adhesive layer is not formed is represented as a three-dimensional (X, Y, Z) shape.
したがって、面粗さパラメータである算術平均高さは、測定領域におけるZ軸方向の変位の測定結果から算出される。本実施形態では、表面性状の測定は、非接触式の白色干渉顕微鏡を用いることが好ましい。 Therefore, the arithmetic mean height, which is a surface roughness parameter, is calculated from the measurement results of the displacement in the Z-axis direction in the measurement area. In this embodiment, it is preferable to use a non-contact white light interference microscope to measure the surface texture.
白色干渉顕微鏡では、白色光源から照射された光の光路が2つに分けられ、一方をリファレンスのミラー、もう一方を試料表面に照射し、双方から反射された光をカメラに結像する。得られた画像において、試料表面の凹凸に起因する光路差により生じる干渉縞の情報を高さ情報に変換することにより、試料表面の3次元形状が得られる。 In a white light interference microscope, the optical path of light emitted from a white light source is split into two, one directed onto a reference mirror and the other onto the sample surface, and the light reflected from both is imaged on a camera. In the resulting image, the interference fringes generated by the difference in optical path due to the unevenness of the sample surface are converted into height information, thereby obtaining the three-dimensional shape of the sample surface.
3次元形状データとして得られる測定面の表面性状の測定結果には、測定面の形状に起因する因子と、測定面の表面粗さに起因する因子と、測定面のうねりに起因する因子と、が主に含まれている。したがって、測定面の表面性状の測定結果は、これらの因子が合成されて得られる輪郭曲面である。これらの因子は、周期(波長)の長さにより区別され、表面粗さに起因する因子は周期が短く(波長が短く)、形状に起因する因子は周期が長く(波長が長く)、うねりに起因する因子はそれらの中間の周期を有している。 The measurement results of the surface texture of a measurement surface, obtained as three-dimensional shape data, mainly include factors caused by the shape of the measurement surface, factors caused by the surface roughness of the measurement surface, and factors caused by the waviness of the measurement surface. Therefore, the measurement results of the surface texture of a measurement surface are a contour curved surface obtained by combining these factors. These factors are distinguished by the length of their period (wavelength), with factors caused by surface roughness having a short period (short wavelength), factors caused by shape having a long period (long wavelength), and factors caused by waviness having a period intermediate between these.
得られる測定結果から、形状に起因する因子とうねりに起因する因子とを除去して、表面粗さに起因する因子から構成される表面粗さ曲面を得る操作を行う。得られる表面粗さ曲面に基づき、ISO25178に規定する方法に準じて、算術平均高さが算出される。すなわち、ISO25178に規定する方法と同様の方法により測定することができるが、ISO25178に記載の条件とは異なる条件で測定してもよい。 From the measurement results obtained, factors due to shape and factors due to waviness are removed to obtain a surface roughness surface composed of factors due to surface roughness. Based on the obtained surface roughness surface, the arithmetic mean height is calculated in accordance with the method specified in ISO 25178. In other words, measurement can be performed using a method similar to that specified in ISO 25178, but measurement can also be performed under conditions different from those specified in ISO 25178.
測定結果から表面粗さ曲面を得る操作は、公知のフィルタ処理、平坦化処理等により行うことができる。たとえば、白色干渉顕微鏡に付属の解析ソフトウェアあるいは市販の解析ソフトウェアを用いることができる。 The surface roughness curve can be obtained from the measurement results using known filtering, flattening, etc. For example, analysis software included with the white light interference microscope or commercially available analysis software can be used.
主面の表面性状を測定する際には、白色干渉顕微鏡の倍率は20~110倍とすることが好ましく、50倍とすることがより好ましい。 When measuring the surface properties of the main surface, the magnification of the white light interference microscope should preferably be 20 to 110 times, with 50 times being more preferable.
なお、広域50は、300個の狭域60を合成して得られるが、このとき、図4に示すように、各狭域は周縁部が重複した状態で合成される。すなわち、広域50を構成する狭域の1つ(60a)に着目すると、狭域60aの周縁部は、狭域60aと接している狭域60b~60iのそれぞれの周縁部と重複している。このような重複領域OAを設けることにより、互いに接している狭域の境界部分における表面粗さの連続性を担保することができる。重複領域OAが設けられずに狭域60を合成すると、実際の表面性状に存在しない凹凸がノイズとして含まれる可能性がある。 The wide area 50 is obtained by combining 300 narrow areas 60, and as shown in Figure 4, the narrow areas are combined with their peripheral edges overlapping. That is, when focusing on one of the narrow areas (60a) that make up the wide area 50, the peripheral edge of narrow area 60a overlaps with the peripheral edges of each of the narrow areas 60b to 60i that are adjacent to narrow area 60a. By providing such overlapping areas OA, it is possible to ensure continuity of surface roughness at the boundaries between adjacent narrow areas. If the narrow areas 60 were combined without providing overlapping areas OA, irregularities that do not exist in the actual surface texture may be included as noise.
(3.3 基材の材質)
基材の材質としては、ワークの加工時に、粘着剤層を介してワークを支持できる材料であり、レーザーマーキングに用いるレーザー光を透過しやすい材料であれば特に制限されない。通常は、基材は樹脂系の材料を主材とするフィルム(以下「樹脂フィルム」という)から構成される。レーザーマーキングに用いるレーザー光の波長としては、1064nm、532nm、355nmおよび266nmが好ましく、マーキングの鮮明さや汎用性の観点から、532nmがより好ましい。
(3.3 Substrate material)
The material of the substrate is not particularly limited as long as it can support the workpiece via the adhesive layer during processing and is a material that easily transmits the laser light used for laser marking. Typically, the substrate is made of a film mainly made of a resin-based material (hereinafter referred to as a "resin film"). The wavelength of the laser light used for laser marking is preferably 1064 nm, 532 nm, 355 nm, or 266 nm, and 532 nm is more preferred from the viewpoints of marking clarity and versatility.
樹脂フィルムの具体例として、低密度ポリエチレン(LDPE)フィルム、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム、高密度ポリエチレン(HDPE)フィルム等のポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、エチレン-ノルボルネン共重合体フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等のポリオレフィン系フィルム;エチレン-酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム等のエチレン系共重合フィルム;ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルム;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム等のポリエステル系フィルム;ポリウレタンフィルム;ポリイミドフィルム;ポリスチレンフィルム;ポリカーボネートフィルム;フッ素樹脂フィルムなどが挙げられる。またこれらの架橋フィルム、アイオノマーフィルムのような変性フィルムも用いられる。基材はこれらの1種からなるフィルムでもよいし、さらにこれらを2種類以上組み合わせた積層フィルムであってもよい。 Specific examples of resin films include polyethylene films such as low-density polyethylene (LDPE) film, linear low-density polyethylene (LLDPE) film, and high-density polyethylene (HDPE) film; polyolefin films such as polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, ethylene-norbornene copolymer film, and norbornene resin film; ethylene copolymer films such as ethylene-vinyl acetate copolymer film, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer film, and ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer film; polyvinyl chloride films such as polyvinyl chloride film and vinyl chloride copolymer film; polyester films such as polyethylene terephthalate film and polybutylene terephthalate film; polyurethane film; polyimide film; polystyrene film; polycarbonate film; and fluororesin films. Modified films such as crosslinked films and ionomer films can also be used. The substrate may be a film made of one of these materials, or a laminate film combining two or more of these materials.
上記の中でも、本発明の繰り出し性の効果が得られ易く、またダイシング工程等に用い易いという観点から、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルムが好ましく、その中でも耐熱性に優れるポリプロピレンフィルムが好ましい。 Of the above, polyethylene film, polypropylene film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer film, polyvinyl chloride film, and polybutylene terephthalate film are preferred from the viewpoints of the ease of obtaining the payout effect of the present invention and ease of use in dicing processes, etc., and among these, polypropylene film, which has excellent heat resistance, is particularly preferred.
(4.粘着剤層)
支持シートの粘着剤層は、非エネルギー線硬化性粘着剤から構成されてもよいし、エネルギー線硬化性粘着剤から構成されてもよい。ただし、粘着剤層は、レーザーマーキングに用いるレーザー光を透過しやすい材料で構成されることが好ましい。
(4. Pressure-sensitive adhesive layer)
The adhesive layer of the support sheet may be made of a non-energy ray curable adhesive or an energy ray curable adhesive, but is preferably made of a material that easily transmits the laser light used for laser marking.
非エネルギー線硬化性粘着剤としては、所望の粘着力および再剥離性を有するものが好ましく、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等を使用できる。 Preferably, the non-energy ray-curable adhesive has the desired adhesive strength and removability. For example, acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, polyester adhesives, polyvinyl ether adhesives, etc. can be used.
これらの中でも、保護膜形成フィルムとの密着性が高く、ダイシング工程等にてワークまたはワークの加工物の脱落を効果的に抑制することのできるアクリル系粘着剤が好ましい。また、保護膜付きのワークの加工物のピックアップ適性を制御しやすい観点からも、アクリル系粘着剤が好ましい。 Among these, acrylic adhesives are preferred because they have high adhesion to the protective film-forming film and can effectively prevent the workpiece or processed product from falling off during dicing processes, etc. Acrylic adhesives are also preferred from the perspective of making it easier to control the pick-up suitability of the processed product of the workpiece with the protective film.
非エネルギー線硬化性粘着剤は、主成分(たとえば、アクリルポリマー)を架橋するために、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤等の架橋剤を含むことが好ましい。 The non-energy ray curable adhesive preferably contains a crosslinking agent such as an isocyanate-based crosslinking agent or an epoxy-based crosslinking agent to crosslink the main component (e.g., acrylic polymer).
一方、エネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線照射により粘着力が低下するため、ワークまたはワークの加工物と支持シートとを分離させたいときに、エネルギー線照射することにより、容易に分離させることができる。 On the other hand, the adhesive strength of energy ray-curable adhesives decreases when irradiated with energy rays, so when it is desired to separate the workpiece or processed workpiece from the support sheet, they can be easily separated by irradiating them with energy rays.
粘着剤層を構成するエネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とするものであってもよいし、エネルギー線硬化性を有しないポリマーとエネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物を主成分とするものであってもよい。 The energy ray-curable adhesive constituting the adhesive layer may be primarily composed of an energy ray-curable polymer, or may be primarily composed of a mixture of a non-energy ray-curable polymer and an energy ray-curable monomer and/or oligomer.
エネルギー線硬化性を有するポリマーとしては、たとえば、エネルギー線硬化性基が導入された(メタ)アクリル酸エステル(共)重合体等が例示される。エネルギー線硬化性のモノマーおよび/またはオリゴマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステルが例示される。また、エネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線硬化性を有する成分以外に、光重合開始剤、架橋剤等の添加剤を含んでいてもよい。 Examples of energy ray-curable polymers include (meth)acrylic acid ester (co)polymers into which energy ray-curable groups have been introduced. Examples of energy ray-curable monomers and/or oligomers include esters of polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid. Furthermore, energy ray-curable adhesives may contain additives such as photopolymerization initiators and crosslinking agents in addition to the energy ray-curable components.
粘着剤層の厚さは、保護膜形成用複合シートが使用される各工程において適切に機能できる限り、特に限定されない。具体的には、粘着剤層の厚みは、好ましくは、1~50μm、2~30μm、2~20μm、3~10μm、3~8μmである。 The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, as long as it functions properly in each process in which the composite sheet for forming a protective film is used. Specifically, the thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 50 μm, 2 to 30 μm, 2 to 20 μm, 3 to 10 μm, or 3 to 8 μm.
(5.保護膜形成フィルム)
保護膜形成用複合シートの保護膜形成フィルムは、ワークに貼付され、保護膜化することにより、ワークまたはワークの加工物を保護するための保護膜を形成する。
(5. Protective Film-Forming Film)
The protective film-forming film of the composite sheet for forming a protective film is attached to a workpiece to form a protective film for protecting the workpiece or a processed product of the workpiece.
「保護膜化する」とは、保護膜形成フィルムを、ワークまたはワークの加工物を保護するのに十分な特性を有する状態にすることである。具体的には、保護膜形成フィルムが硬化性である場合には、「保護膜化する」とは、未硬化の保護膜形成フィルムを硬化物にすることをいう。換言すれば、保護膜化された保護膜形成フィルムは、保護膜形成フィルムの硬化物であり、保護膜形成フィルムとは異なる。 "Protecting" refers to making the protective film-forming film into a state in which it has sufficient properties to protect the workpiece or a processed product of the workpiece. Specifically, when the protective film-forming film is curable, "protecting" refers to turning the uncured protective film-forming film into a cured product. In other words, a protective film-forming film that has been protective film-formed is a cured product of the protective film-forming film, and is different from the original protective film-forming film.
硬化性保護膜形成フィルムにワークを重ね合わせた後、保護膜形成フィルムを硬化させることにより、保護膜をワークに強固に接着でき、耐久性を有する保護膜を形成できる。 After placing the workpiece on the curable protective film-forming film, the protective film can be firmly adhered to the workpiece by curing the protective film-forming film, forming a durable protective film.
一方、保護膜形成フィルムが硬化性成分を含有せず非硬化の状態で使用される場合には、保護膜形成フィルムがワークに貼付された時点で、当該保護膜形成フィルムは保護膜化される。換言すれば、保護膜化された保護膜形成フィルムは、保護膜形成フィルムと同じである。 On the other hand, if the protective film-forming film does not contain a curable component and is used in an uncured state, the protective film-forming film becomes a protective film when it is attached to the workpiece. In other words, the protective film-forming film that has become a protective film is the same as the protective film-forming film.
高い保護性能が求められない場合には、保護膜形成フィルムを硬化させる必要がないので、保護膜形成フィルムの使用が容易である。 When high protective performance is not required, the protective film-forming film does not need to be cured, making it easy to use.
本実施形態では、保護膜形成フィルムは、硬化性であることが好ましい。したがって、保護膜は硬化物であることが好ましい。硬化物としては、たとえば、熱硬化物、エネルギー線硬化物が例示される。本実施形態では、保護膜は熱硬化物であることがより好ましい。 In this embodiment, the protective film-forming film is preferably curable. Therefore, it is preferable that the protective film is a cured product. Examples of cured products include thermosetting products and energy ray-cured products. In this embodiment, it is more preferable that the protective film is a thermosetting product.
また、保護膜形成フィルムは、常温(23℃)で粘着性を有するか、加熱により粘着性を発揮することが好ましい。これにより、保護膜形成フィルムにワークを重ね合わせるときに両者を貼合できる。したがって、保護膜形成フィルムを硬化させる前に位置決めを確実に行うことができる。 It is also preferable that the protective film-forming film be adhesive at room temperature (23°C) or become adhesive when heated. This allows the workpiece to be laminated to the protective film-forming film when it is placed on top of it. This allows for reliable positioning before the protective film-forming film is cured.
保護膜形成フィルムは1層(単層)から構成されていてもよいし、2層以上の複数層から構成されていてもよい。保護膜形成フィルムが複数層を有する場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよく、これら複数層を構成する層の組み合わせは特に制限されない。 The protective film-forming film may be composed of one layer (single layer), or may be composed of two or more layers. When the protective film-forming film has multiple layers, these multiple layers may be the same or different, and there are no particular restrictions on the combination of layers that make up these multiple layers.
本実施形態では、保護膜形成フィルムは1層(単層)であることが好ましい。1層の保護膜形成フィルムは厚みに関して高い精度が得られるため生産が容易である。また、保護膜形成フィルムが複数層から構成されると、層間の密着性および各層の伸縮性を考慮する必要があり、これらに起因して被着体からの剥離が発生するリスクがある。保護膜形成フィルムが1層である場合には、上記のリスクを低減でき、設計の自由度も高まる。また、温度変化が発生する工程(リフロー処理時や装置の使用時)で、層間の熱伸縮性の違いから層間剥離が発生するリスクも低減できる。 In this embodiment, the protective film-forming film is preferably one layer (single layer). A single-layer protective film-forming film is easy to produce because it can achieve high precision in terms of thickness. Furthermore, if the protective film-forming film is composed of multiple layers, it is necessary to consider the adhesion between the layers and the elasticity of each layer, which can lead to the risk of peeling from the adherend. If the protective film-forming film is one layer, the above risks can be reduced and design freedom is increased. Furthermore, the risk of peeling between layers due to differences in thermal elasticity between layers can be reduced in processes where temperature changes occur (during reflow processing or when using the equipment).
保護膜形成フィルムの厚みは、特に制限されないが、好ましくは100μm以下、70μm以下、45μm以下、30μm以下である。また、保護膜形成フィルムの厚みは、好ましくは5μm以上、10μm以上、15μm以上である。保護膜形成フィルムの厚みが上記範囲にあると、得られる保護膜の保護性能が良好になる。 The thickness of the protective film-forming film is not particularly limited, but is preferably 100 μm or less, 70 μm or less, 45 μm or less, or 30 μm or less. Furthermore, the thickness of the protective film-forming film is preferably 5 μm or more, 10 μm or more, or 15 μm or more. When the thickness of the protective film-forming film is within the above range, the protective performance of the resulting protective film will be good.
なお、保護膜形成フィルムの厚みは、保護膜形成フィルム全体の厚みを意味する。たとえば、複数層から構成される保護膜形成フィルムの厚みは、保護膜形成フィルムを構成するすべての層の合計の厚みを意味する。 The thickness of the protective film-forming film refers to the thickness of the entire protective film-forming film. For example, the thickness of a protective film-forming film composed of multiple layers refers to the total thickness of all layers that make up the protective film-forming film.
以下では、ワークの加工物としてのチップに形成される保護膜を説明する。具体的には、図5に示す保護膜付きチップ70を用いて、保護膜形成フィルムが保護膜化されて形成される保護膜を説明する。 The following describes the protective film formed on the tip, which is the workpiece. Specifically, we will use the protective film-equipped tip 70 shown in Figure 5 to describe the protective film formed by converting the protective film-forming film into a protective film.
図5に示すように、保護膜付きチップ70は、チップ6aの裏面側(図5では上方側)に保護膜40が形成され、チップ6aの表面側(図5では下方側)に凸状電極6bが形成されている。 As shown in Figure 5, the chip 70 with a protective film has a protective film 40 formed on the back side (upper side in Figure 5) of the chip 6a, and a convex electrode 6b formed on the front side (lower side in Figure 5) of the chip 6a.
チップ6aの表面側には回路が形成されており、凸状電極6bは回路と電気的に接続するように形成されている。凸状電極6bとしては、バンプ、ピラー電極等が例示される。 A circuit is formed on the surface side of the chip 6a, and the convex electrode 6b is formed to be electrically connected to the circuit. Examples of the convex electrode 6b include a bump and a pillar electrode.
本実施形態では、保護膜付きチップ70は、凸状電極6bが形成されている面がチップ搭載用基板と対向するように、チップ搭載用基板上に配置される。所定の加熱処理(たとえば、リフロー処理)により、凸状電極6bと当該基板とが電気的および機械的に接合され、保護膜付きチップ70が当該基板に実装される。 In this embodiment, the protective film-coated chip 70 is placed on the chip-mounting substrate so that the surface on which the convex electrode 6b is formed faces the chip-mounting substrate. A predetermined heating process (e.g., reflow process) electrically and mechanically bonds the convex electrode 6b to the substrate, and the protective film-coated chip 70 is mounted on the substrate.
(5.1 保護膜形成フィルム用組成物)
保護膜が上記の物性を有していれば、保護膜形成フィルムの組成は特に限定されない。本実施形態では、保護膜形成フィルムを構成する組成物(保護膜形成フィルム用組成物)は、少なくとも、重合体成分(A)と硬化性成分(B)と充填材(E)とを含有する樹脂組成物であることが好ましい。重合体成分は、重合性化合物が重合反応して形成されたとみなせる成分である。また、硬化性成分は、硬化(重合)反応し得る成分である。なお、本発明において重合反応には、重縮合反応も含まれる。
(5.1 Protective Film-Forming Film Composition)
As long as the protective film has the above-mentioned physical properties, the composition of the protective film-forming film is not particularly limited. In this embodiment, the composition constituting the protective film-forming film (composition for protective film-forming film) is preferably a resin composition containing at least a polymer component (A), a curable component (B), and a filler (E). The polymer component is a component that can be considered to be formed by a polymerization reaction of a polymerizable compound. Furthermore, the curable component is a component that can undergo a curing (polymerization) reaction. In the present invention, the polymerization reaction also includes a polycondensation reaction.
また、重合体成分に含まれる成分は、硬化性成分にも該当する場合がある。本実施形態では、保護膜形成フィルム用組成物が、このような重合体成分及び硬化性成分の両方に該当する成分を含有する場合、保護膜形成フィルム用組成物は、重合体成分及び硬化性成分を両方含有するとみなす。 Furthermore, components contained in the polymer component may also fall under the category of curable components. In this embodiment, when the composition for the protective film-forming film contains components that fall under both the polymer component and the curable component, the composition for the protective film-forming film is considered to contain both the polymer component and the curable component.
(5.1.1 重合体成分)
重合体成分(A)は、保護膜形成フィルムに、フィルム形成性(造膜性)を持たせつつ、適度なタックを与え、ワークへの保護膜形成フィルムの均一な貼り付けを確実にする。重合体成分の重量平均分子量は、通常は5万~200万、好ましくは10万~150万、特に好ましくは20万~100万の範囲にある。このような重合体成分としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、飽和ポリエステル樹脂等が用いられ、特にアクリル樹脂が好ましく用いられる。
5.1.1 Polymer Component
The polymer component (A) provides the protective film-forming film with film-forming properties (film-forming properties) while imparting appropriate tack, ensuring uniform application of the protective film-forming film to the workpiece. The weight-average molecular weight of the polymer component is usually in the range of 50,000 to 2,000,000, preferably 100,000 to 1,500,000, and particularly preferably 200,000 to 1,000,000. Examples of such polymer components include acrylic resins, urethane resins, phenoxy resins, silicone resins, and saturated polyester resins, with acrylic resins being particularly preferred.
なお、本明細書において、「重量平均分子量」とは、特に断りのない限り、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)法により測定されるポリスチレン換算値である。このような方法による測定は、たとえば、東ソー社製の高速GPC装置「HLC-8120GPC」に、高速カラム「TSK guard column HXL-H」、「TSK Gel GMHXL」、「TSK Gel G2000 HXL」(以上、全て東ソー社製)をこの順序で連結したものを用い、カラム温度:40℃、送液速度:1.0mL/分の条件で、検出器を示差屈折率計として行われる。 In this specification, unless otherwise specified, the "weight average molecular weight" refers to a polystyrene-equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC). Measurements by this method are carried out, for example, using a high-speed GPC apparatus "HLC-8120GPC" manufactured by Tosoh Corporation, connected in this order to high-speed columns "TSK guard column H XL -H,""TSK Gel GMH XL ," and "TSK Gel G2000 H XL " (all manufactured by Tosoh Corporation), under conditions of a column temperature of 40°C, a liquid flow rate of 1.0 mL/min, and a differential refractometer as a detector.
アクリル樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステルモノマーと(メタ)アクリル酸誘導体から導かれる構成単位とからなる(メタ)アクリル酸エステル共重合体が挙げられる。ここで(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、好ましくはアルキル基の炭素数が1~18である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げられ、具体的には(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル等が挙げられる。また、(メタ)アクリル酸誘導体としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル等が挙げられる。 Examples of acrylic resins include (meth)acrylic acid ester copolymers composed of structural units derived from (meth)acrylic acid ester monomers and (meth)acrylic acid derivatives. The (meth)acrylic acid ester monomers are preferably (meth)acrylic acid alkyl esters in which the alkyl group has 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, and butyl (meth)acrylate. Furthermore, examples of (meth)acrylic acid derivatives include (meth)acrylic acid, glycidyl (meth)acrylate, and hydroxyethyl (meth)acrylate.
本実施形態では、メタクリル酸グリシジル等を用いてアクリル樹脂にグリシジル基を導入することが好ましい。グリシジル基を導入したアクリル樹脂と、後述する熱硬化性成分としてのエポキシ樹脂との相溶性が向上し、安定した性能を有する保護膜形成フィルムが得られやすい傾向がある。また、本実施形態では、ワークへの接着性や粘着物性をコントロールするために、アクリル酸ヒドロキシエチル等を用いてアクリル樹脂に水酸基を導入することが好ましい。 In this embodiment, it is preferable to introduce glycidyl groups into the acrylic resin using glycidyl methacrylate or the like. This improves the compatibility of the acrylic resin into which glycidyl groups have been introduced with the epoxy resin serving as the thermosetting component described below, making it easier to obtain a protective film-forming film with stable performance. In addition, in this embodiment, it is preferable to introduce hydroxyl groups into the acrylic resin using hydroxyethyl acrylate or the like in order to control the adhesion to the workpiece and adhesive properties.
アクリル樹脂のガラス転移温度は好ましくは-70℃~40℃、-35℃~35℃、-20℃~30℃、-10℃~25℃、-5℃~20℃である。アクリル樹脂のガラス転移温度を上記の範囲とすることにより、保護膜形成フィルムのタックを適度に高くすると共に、保護膜形成フィルムのワークとの粘着力を向上し、保護膜のワークとの接着力が適度に向上する。 The glass transition temperature of the acrylic resin is preferably -70°C to 40°C, -35°C to 35°C, -20°C to 30°C, -10°C to 25°C, or -5°C to 20°C. By setting the glass transition temperature of the acrylic resin within the above range, the tack of the protective film-forming film is appropriately increased, the adhesive strength of the protective film-forming film to the workpiece is improved, and the adhesive strength of the protective film to the workpiece is appropriately improved.
アクリル樹脂がm種(mは2以上の整数である。)の構成単位を有している場合、当該アクリル樹脂のガラス転移温度は以下のようにして算出することができる。すなわち、アクリル樹脂中の構成単位を誘導するm種のモノマーに対して、それぞれ1からmまでのいずれかの重複しない番号を順次割り当てて、「モノマーm」と名付けた場合、アクリル樹脂のガラス転移温度(Tg)は、以下に示すFoxの式を用いて算出できる。
(式中、Tgはアクリル樹脂のガラス転移温度であり;mは2以上の整数であり;Tgkはモノマーmのホモポリマーのガラス転移温度であり;Wkはアクリル樹脂における、モノマーmから誘導された構成単位mの質量分率であり、ただし、Wkは下記式を満たす。)
(式中、m及びWkは、前記と同じである。)
When an acrylic resin has m types of structural units (m is an integer of 2 or more), the glass transition temperature of the acrylic resin can be calculated as follows: That is, when m types of monomers from which structural units in the acrylic resin are derived are each sequentially assigned a unique number from 1 to m and named "monomer m," the glass transition temperature (Tg) of the acrylic resin can be calculated using the Fox formula shown below.
(In the formula, Tg is the glass transition temperature of the acrylic resin; m is an integer of 2 or greater; Tgk is the glass transition temperature of a homopolymer of monomer m; and Wk is the mass fraction of structural unit m derived from monomer m in the acrylic resin, with the proviso that Wk satisfies the following formula.)
(In the formula, m and Wk are the same as above.)
Tgkとしては、高分子データ・ハンドブック、粘着ハンドブック又はPolymer Handbook等に記載されている値を使用できる。例えば、メチルアクリレートのホモポリマーのTgkは10℃、n-ブチルアクリレートのホモポリマーのTgkは-54℃、メチルメタクリレートのホモポリマーのTgkは105℃、2-ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーのTgkは-15℃、グリシジルメタクリレートのホモポリマーのTgkは41℃、2-エチルヘキシルアクリレートのTgkは-70℃である。 For Tgk, values listed in the Polymer Data Handbook, Adhesive Handbook, or Polymer Handbook can be used. For example, the Tgk of a homopolymer of methyl acrylate is 10°C, the Tgk of a homopolymer of n-butyl acrylate is -54°C, the Tgk of a homopolymer of methyl methacrylate is 105°C, the Tgk of a homopolymer of 2-hydroxyethyl acrylate is -15°C, the Tgk of a homopolymer of glycidyl methacrylate is 41°C, and the Tgk of 2-ethylhexyl acrylate is -70°C.
保護膜形成フィルム用組成物の総重量を100質量部とした時の重合体成分の含有量は、好ましくは5~80質量部、8~70質量部、10~60質量部、12~55質量部、14~50質量部、15~45質量部である。重合体成分の含有量を上記の範囲内とすることにより、保護膜形成フィルムのタックの制御が容易となる。 When the total weight of the composition for the protective film-forming film is taken as 100 parts by mass, the content of the polymer component is preferably 5 to 80 parts by mass, 8 to 70 parts by mass, 10 to 60 parts by mass, 12 to 55 parts by mass, 14 to 50 parts by mass, or 15 to 45 parts by mass. By keeping the content of the polymer component within the above range, it becomes easier to control the tack of the protective film-forming film.
(5.1.2 熱硬化性成分)
硬化性成分(B)は、保護膜形成フィルムを硬化させて、硬質の保護膜を形成する。硬化性成分としては、熱硬化性成分、エネルギー線硬化性成分、またはこれらの混合物を用いることができる。エネルギー線の照射によって硬化させる場合、本実施形態に係る保護膜形成フィルムは、後述する充填材および着色剤等を含有するため光線透過率が低下する。そのため、例えば保護膜形成フィルムの厚さが厚くなった場合、エネルギー線硬化が不十分になりやすい。
(5.1.2 Thermosetting component)
The curable component (B) cures the protective film-forming film to form a hard protective film. As the curable component, a thermosetting component, an energy ray-curable component, or a mixture thereof can be used. When cured by irradiation with energy rays, the protective film-forming film according to this embodiment contains a filler and a colorant, etc., which will be described later, and therefore the light transmittance is reduced. Therefore, for example, when the thickness of the protective film-forming film is increased, the energy ray curing is likely to be insufficient.
一方、熱硬化性の保護膜形成フィルムは、その厚さが厚くなっても、加熱によって十分に硬化するため、保護性能が高い保護膜を形成できる。また、加熱オーブン等の通常の加熱手段を用いることによって、多数の保護膜形成フィルムを一括して加熱し、熱硬化させることができる。 On the other hand, thermosetting protective film-forming films can be sufficiently cured by heating, even when they are thick, allowing for the formation of protective films with high protective performance. Furthermore, by using conventional heating means such as a heating oven, multiple protective film-forming films can be heated and thermally cured all at once.
したがって、本実施形態では、硬化性成分は熱硬化性であることが望ましい。すなわち、本実施形態に係る保護膜形成フィルムは、熱硬化性であることが好ましい。 Therefore, in this embodiment, it is desirable that the curable component be thermosetting. In other words, it is preferable that the protective film-forming film in this embodiment be thermosetting.
保護膜形成フィルムが熱硬化性であるか否かは以下のようにして判断することができる。まず、常温(23℃)の保護膜形成フィルムを、常温を超える温度になるまで加熱し、次いで常温になるまで冷却することにより、加熱・冷却後の保護膜形成フィルムとする。次に、加熱・冷却後の保護膜形成フィルムの硬さと、加熱前の保護膜形成フィルムの硬さとを同じ温度で比較したとき、加熱・冷却後の保護膜形成フィルムの方が硬い場合には、この保護膜形成フィルムは、熱硬化性であると判断する。 Whether a protective film-forming film is thermosetting can be determined as follows. First, a protective film-forming film at room temperature (23°C) is heated to a temperature above room temperature, and then cooled to room temperature to obtain a protective film-forming film after heating and cooling. Next, when the hardness of the protective film-forming film after heating and cooling is compared with the hardness of the protective film-forming film before heating at the same temperature, if the protective film-forming film after heating and cooling is harder, the protective film-forming film is determined to be thermosetting.
熱硬化性成分としては、例えば、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂およびこれらの混合物が好ましく用いられる。なお、熱硬化性ポリイミド樹脂とは、熱硬化することによってポリイミド樹脂を形成する、低分子量、低粘性のモノマーまたは前駆体ポリマーの総称である。熱硬化性ポリイミド樹脂の非制限的な具体例は、たとえば繊維学会誌「繊維と工業」, Vol.50, No.3 (1994), P106-P118に記載されている。 Preferably used thermosetting components include, for example, epoxy resins, thermosetting polyimide resins, unsaturated polyester resins, and mixtures thereof. Thermosetting polyimide resin is a general term for low-molecular-weight, low-viscosity monomers or precursor polymers that form polyimide resins upon thermal curing. Non-limiting examples of thermosetting polyimide resins are described, for example, in the Sen'i Gakkaishi Journal, "Sen'i to Kogyo," Vol. 50, No. 3 (1994), pp. 106-118.
熱硬化性成分としてのエポキシ樹脂は、加熱を受けると三次元網状化し、強固な被膜を形成する性質を有する。このようなエポキシ樹脂としては、公知の種々のエポキシ樹脂が用いられる。本実施形態では、エポキシ樹脂の分子量(式量)は、好ましくは、300以上50000未満、300以上10000未満、300以上5000未満、300以上3000未満である。また、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、50~5000g/eqであることが好ましく、100~2000g/eqであることがより好ましく、150~1000g/eqであることがさらに好ましい。 Epoxy resins, which are thermosetting components, have the property of forming a three-dimensional network structure and a strong coating when heated. Various known epoxy resins can be used as such epoxy resins. In this embodiment, the molecular weight (formula weight) of the epoxy resin is preferably 300 or more and less than 50,000, 300 or more and less than 10,000, 300 or more and less than 5,000, or 300 or more and less than 3,000. The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 50 to 5,000 g/eq, more preferably 100 to 2,000 g/eq, and even more preferably 150 to 1,000 g/eq.
このようなエポキシ樹脂としては、具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシノール、フェニルノボラック、クレゾールノボラック等のフェノール類のグリシジルエーテル;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテル;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等のカルボン酸のグリシジルエーテル;アニリンイソシアヌレート等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したグリシジル型もしくはアルキルグリシジル型のエポキシ樹脂;ビニルシクロヘキサンジエポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-ジシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン等のように、分子内の炭素-炭素二重結合を例えば酸化することによりエポキシが導入された、いわゆる脂環型エポキシドを挙げることができる。その他、ビフェニル骨格、ジシクロヘキサジエン骨格、ナフタレン骨格等を有するエポキシ樹脂を用いることもできる。 Specific examples of such epoxy resins include glycidyl ethers of phenols such as bisphenol A, bisphenol F, resorcinol, phenyl novolac, and cresol novolac; glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; glycidyl ethers of carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, and tetrahydrophthalic acid; glycidyl or alkylglycidyl epoxy resins in which the active hydrogen bonded to the nitrogen atom is substituted with a glycidyl group, such as aniline isocyanurate; and so-called alicyclic epoxides in which epoxy groups are introduced by, for example, oxidizing the carbon-carbon double bonds within the molecule, such as vinylcyclohexane diepoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-dicyclohexanecarboxylate, and 2-(3,4-epoxy)cyclohexyl-5,5-spiro(3,4-epoxy)cyclohexane-m-dioxane. Other epoxy resins that can be used include those with a biphenyl skeleton, dicyclohexadiene skeleton, or naphthalene skeleton.
硬化性成分(B)として、熱硬化性成分を用いる場合には、助剤として、硬化剤(C)を併用することが好ましい。エポキシ樹脂に対する硬化剤としては、熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤が好ましい。「熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤」とは、常温(23℃)ではエポキシ樹脂と反応しづらく、ある温度以上の加熱により活性化し、エポキシ樹脂と反応するタイプの硬化剤である。熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤の活性化方法には、加熱による化学反応で活性種(アニオン、カチオン)を生成する方法;常温付近ではエポキシ樹脂中に安定に分散しており高温でエポキシ樹脂と相溶・溶解し、硬化反応を開始する方法;モレキュラーシーブ封入タイプの硬化剤で高温で溶出して硬化反応を開始する方法;マイクロカプセルによる方法等が存在する。 When a thermosetting component is used as the curing component (B), it is preferable to use a curing agent (C) in combination as an auxiliary. A heat-activated latent epoxy resin curing agent is preferred as a curing agent for epoxy resins. A "heat-activated latent epoxy resin curing agent" is a type of curing agent that does not react well with epoxy resins at room temperature (23°C) but becomes activated and reacts with epoxy resins when heated above a certain temperature. Methods for activating heat-activated latent epoxy resin curing agents include generating active species (anions, cations) through a chemical reaction caused by heating; stably dispersing the curing agent in the epoxy resin at room temperature and becoming compatible and dissolved with the epoxy resin at high temperatures to initiate the curing reaction; using a molecular sieve-encapsulated curing agent that dissolves at high temperatures to initiate the curing reaction; and using microcapsules.
例示した方法のうち、常温付近ではエポキシ樹脂中に安定に分散しており高温でエポキシ樹脂と相溶・溶解し、硬化反応を開始する方法が好ましい。 Of the methods listed above, the preferred method is one in which the compound is stably dispersed in the epoxy resin at room temperature, and becomes compatible and soluble with the epoxy resin at high temperatures, initiating the curing reaction.
熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤の具体例としては、各種オニウム塩や、二塩基酸ジヒドラジド化合物、ジシアンジアミド、アミンアダクト硬化剤、イミダゾール化合物等の高融点活性水素化合物等を挙げることができる。これら熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。本実施形態では、ジシアンジアミドが特に好ましい。 Specific examples of heat-activated latent epoxy resin curing agents include various onium salts, dibasic acid dihydrazide compounds, dicyandiamide, amine adduct curing agents, and high-melting point active hydrogen compounds such as imidazole compounds. These heat-activated latent epoxy resin curing agents can be used alone or in combination of two or more. In this embodiment, dicyandiamide is particularly preferred.
また、エポキシ樹脂に対する硬化剤としては、フェノール樹脂も好ましい。フェノール樹脂としては、アルキルフェノール、多価フェノール、ナフトール等のフェノール類とアルデヒド類との縮合物等が特に制限されることなく用いられる。具体的には、フェノールノボラック樹脂、o-クレゾールノボラック樹脂、p-クレゾールノボラック樹脂、t-ブチルフェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンクレゾール樹脂、ポリパラビニルフェノール樹脂、ビスフェノールA型ノボラック樹脂、あるいはこれらの変性物等が用いられる。 Phenolic resins are also preferred as curing agents for epoxy resins. Phenolic resins include, without limitation, condensates of phenols such as alkylphenols, polyphenols, and naphthol with aldehydes. Specific examples include phenol novolac resin, o-cresol novolac resin, p-cresol novolac resin, t-butylphenol novolac resin, dicyclopentadiene cresol resin, polyparavinylphenol resin, bisphenol A novolac resin, and modified versions of these.
これらのフェノール樹脂に含まれるフェノール性水酸基は、上記エポキシ樹脂のエポキシ基と加熱により容易に付加反応して、耐衝撃性の高い硬化物を形成することができる。 The phenolic hydroxyl groups contained in these phenolic resins easily undergo addition reaction with the epoxy groups of the above-mentioned epoxy resins when heated, forming a cured product with high impact resistance.
硬化剤(C)の含有量は、エポキシ樹脂100質量部に対して、好ましくは0.01~30質量部、0.1~20質量部、0.2~15質量部、0.3~10質量部である。硬化剤(C)の含有量を上記の範囲とすることにより、保護膜の網状構造が密になるので、保護膜として、ワークを保護する性能が得られやすい。 The content of curing agent (C) is preferably 0.01 to 30 parts by mass, 0.1 to 20 parts by mass, 0.2 to 15 parts by mass, or 0.3 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of epoxy resin. By keeping the content of curing agent (C) within the above range, the network structure of the protective film becomes denser, making it easier for the protective film to provide protection for the workpiece.
硬化剤(C)として、ジシアンジアミドを用いる場合には、硬化促進剤(D)をさらに併用することが好ましい。硬化促進剤としては、たとえば、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール類(1個以上の水素原子が水素原子以外の基で置換されたイミダゾール)が好ましい。これらの中でも、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾールが特に好ましい。 When dicyandiamide is used as the curing agent (C), it is preferable to use a curing accelerator (D) in addition. Preferred curing accelerators include imidazoles (imidazoles in which one or more hydrogen atoms have been replaced with groups other than hydrogen atoms), such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole. Of these, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole is particularly preferred.
硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂100質量部に対して、好ましくは0.01~30質量部、0.1~20質量部、0.2~15質量部、0.3~10質量部である。硬化促進剤(D)の含有量を上記の範囲とすることにより、保護膜の網状構造が密になるので、保護膜として、ワークを保護する性能が得られやすい。 The content of the curing accelerator is preferably 0.01 to 30 parts by mass, 0.1 to 20 parts by mass, 0.2 to 15 parts by mass, or 0.3 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the epoxy resin. By keeping the content of the curing accelerator (D) within the above range, the network structure of the protective film becomes denser, making it easier for the protective film to provide protection for the workpiece.
保護膜形成フィルム用組成物の総重量を100質量部とした時の熱硬化性成分および硬化剤の合計含有量は、好ましくは、3~80質量部、5~60質量部、7~50質量部、9~40質量部、10~30質量部である。このような割合で熱硬化性成分と硬化剤とを配合すると、硬化前には適度なタックを示し、貼付作業を安定して行うことができる。また、硬化後には、保護膜として、ワークを保護する性能が得られやすい。 When the total weight of the composition for protective film-forming films is taken as 100 parts by mass, the total content of the thermosetting component and curing agent is preferably 3 to 80 parts by mass, 5 to 60 parts by mass, 7 to 50 parts by mass, 9 to 40 parts by mass, or 10 to 30 parts by mass. Blending the thermosetting component and curing agent in these proportions results in a moderate amount of tack before curing, allowing for stable application. Furthermore, after curing, the composition is more likely to function as a protective film, protecting the workpiece.
(5.1.3 エネルギー線硬化性成分)
硬化性成分(B)がエネルギー線硬化性成分である場合、エネルギー線硬化性成分は、未硬化であることが好ましく、粘着性を有することが好ましく、未硬化かつ粘着性を有することがより好ましい。
(5.1.3 Energy ray-curable component)
When the curable component (B) is an energy ray-curable component, the energy ray-curable component is preferably uncured and has adhesive properties, and more preferably uncured and has adhesive properties.
エネルギー線硬化性成分は、エネルギー線の照射によって硬化する成分であり、保護膜形成フィルムに造膜性や、可撓性等を付与するための成分でもある。 The energy ray-curable component is a component that hardens when irradiated with energy rays, and is also a component that imparts film-forming properties, flexibility, etc. to the protective film-forming film.
エネルギー線硬化性成分としては、たとえば、エネルギー線硬化性基を有する化合物が好ましい。このような化合物としては、公知のものが挙げられる。 As the energy ray-curable component, for example, a compound having an energy ray-curable group is preferred. Examples of such compounds include known compounds.
(5.1.4 充填材)
保護膜形成フィルムが充填材(E)を含有することにより、保護膜形成フィルムを保護膜化して得られる保護膜は、熱膨張係数の調整が容易となり、この熱膨張係数をワークの熱膨張係数に近づけることで、保護膜形成フィルムを用いて得られた保護膜付きチップの接着信頼性がより向上する。また、保護膜形成フィルムが充填材(E)を含有することにより、硬質な保護膜が得られ、さらに保護膜の吸湿率を低減でき、保護膜付きチップの接着信頼性がさらに向上する。
(5.1.4 Filler)
By containing the filler (E) in the protective film-forming film, the protective film obtained by converting the protective film-forming film into a protective film can easily adjust the thermal expansion coefficient, and by making this thermal expansion coefficient closer to the thermal expansion coefficient of the workpiece, the adhesive reliability of the protective film-equipped chip obtained using the protective film-forming film is further improved. Also, by containing the filler (E) in the protective film-forming film, a hard protective film can be obtained, and the moisture absorption rate of the protective film can be reduced, further improving the adhesive reliability of the protective film-equipped chip.
充填材(E)は、有機充填材及び無機充填材のいずれでもよいが、高温での形状安定性の観点から無機充填材であることが好ましい。 The filler (E) may be either an organic filler or an inorganic filler, but from the standpoint of shape stability at high temperatures, an inorganic filler is preferred.
好ましい無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、ベンガラ、炭化ケイ素、窒化ホウ素等の粉末;これら無機充填材を球形化したビーズ;これら無機充填材の表面改質品;これら無機充填材の単結晶繊維;ガラス繊維等が挙げられる。これらの中でも、シリカおよび表面改質されたシリカが好ましい。表面改質されたシリカは、カップリング剤により表面改質されていることが好ましく、シランカップリング剤により表面改質されていることがより好ましい。 Preferred inorganic fillers include, for example, powders of silica, alumina, talc, calcium carbonate, red iron oxide, silicon carbide, boron nitride, etc.; beads made by spheronizing these inorganic fillers; surface-modified products of these inorganic fillers; single-crystal fibers of these inorganic fillers; and glass fibers. Of these, silica and surface-modified silica are preferred. Surface-modified silica is preferably surface-modified with a coupling agent, and more preferably surface-modified with a silane coupling agent.
充填材の平均粒径は、好ましくは、0.02~10μm、0.05~5μm、0.10~3μmである。 The average particle size of the filler is preferably 0.02 to 10 μm, 0.05 to 5 μm, or 0.10 to 3 μm.
充填材の平均粒径の範囲を上記の範囲とすることにより、保護膜形成フィルム用組成物の取り扱い性が良好になる。その結果、保護膜形成フィルム用組成物および保護膜形成フィルムの品質が安定しやすい。 By setting the average particle size of the filler within the above range, the composition for a protective film-forming film is easier to handle. As a result, the quality of the composition for a protective film-forming film and the protective film-forming film tends to be more stable.
なお、本明細書において「平均粒径」とは、特に断りのない限り、レーザー回折散乱法によって求められた粒度分布曲線における、積算値50%での粒子径(D50)の値を意味する。 In this specification, unless otherwise specified, "average particle size" refers to the particle size (D50) at 50% of the integrated value on the particle size distribution curve obtained by laser diffraction scattering.
保護膜形成フィルム用組成物の総重量を100質量部とした時の充填材の含有量は、好ましくは15~80質量部、30~75質量部、40~70質量部、45~65質量部である。 When the total weight of the composition for the protective film-forming film is taken as 100 parts by mass, the content of the filler is preferably 15 to 80 parts by mass, 30 to 75 parts by mass, 40 to 70 parts by mass, or 45 to 65 parts by mass.
充填材の含有量の下限値を上記の値とすることにより、保護膜形成フィルムを用いて得られた保護膜付きチップの接着信頼性がより向上する。また、充填材の含有量の上限値を上記の値とすることにより、保護膜形成フィルムのワークとの粘着力を向上し、保護膜のワークとの接着力が適度に向上する。 By setting the lower limit of the filler content to the above value, the adhesive reliability of the protective film-equipped chip obtained using the protective film-forming film is further improved. Furthermore, by setting the upper limit of the filler content to the above value, the adhesive strength of the protective film-forming film to the workpiece is improved, and the adhesive strength of the protective film to the workpiece is appropriately improved.
(5.1.5 カップリング剤)
保護膜形成フィルムは、カップリング剤(F)を含有することが好ましい。カップリング剤を含有することにより、保護膜形成フィルムの硬化後において、保護膜の耐熱性を損なわずに、保護膜とワークとの接着性を向上させることができるとともに、耐水性(耐湿熱性)を向上させることができる。カップリング剤としては、その汎用性とコストメリットの観点から、シランカップリング剤が好ましい。
5.1.5 Coupling Agents
The protective film-forming film preferably contains a coupling agent (F). By containing the coupling agent, after the protective film-forming film is cured, the adhesion between the protective film and the workpiece can be improved without impairing the heat resistance of the protective film, and the water resistance (moist heat resistance) can be improved. As the coupling agent, a silane coupling agent is preferred from the viewpoint of its versatility and cost benefits.
シランカップリング剤としては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-6-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-6-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシランなどが挙げられる。これらは1種を単独で、または2種以上混合して使用できる。 Examples of silane coupling agents include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-(methacryloxypropyl)trimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis(3-triethoxysilylpropyl)tetrasulfane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and imidazolesilane. These may be used alone or in combination.
保護膜形成フィルム用組成物の総重量を100質量部とした時のカップリング剤の含有量は、好ましくは、0.01~20質量部、0.1~10質量部、0.2~5質量部、0.3~3質量部である。 When the total weight of the composition for the protective film-forming film is taken as 100 parts by mass, the content of the coupling agent is preferably 0.01 to 20 parts by mass, 0.1 to 10 parts by mass, 0.2 to 5 parts by mass, or 0.3 to 3 parts by mass.
(5.1.6 着色剤)
保護膜形成フィルムは、着色剤(G)を含有することが好ましい。これにより、チップ等のワークの加工物の裏面が隠蔽されるため、電子機器内で発生する種々の電磁波を遮断し、チップ等のワークの加工物の誤作動を低減できる。また、レーザーマーキングの認識性がより向上する。
5.1.6 Colorants
The protective film-forming film preferably contains a colorant (G). This conceals the back surface of the workpiece, such as a chip, thereby blocking various electromagnetic waves generated in electronic devices and reducing malfunction of the workpiece, such as a chip. In addition, the recognizability of laser marking is further improved.
着色剤(G)としては、例えば、有機系顔料、有機系染料、無機系顔料など公知のものを使用できる。本実施形態では、無機系顔料が好ましい。 As the colorant (G), known agents such as organic pigments, organic dyes, and inorganic pigments can be used. In this embodiment, inorganic pigments are preferred.
無機系顔料としては、例えば、カーボンブラック、コバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、白金系色素、ITO(インジウムスズオキサイド)系色素、ATO(アンチモンスズオキサイド)系色素等が挙げられる。これらの中でも、特にカーボンブラックを使用することが好ましい。カーボンブラックによれば、広い波長範囲の電磁波を遮断できる。 Examples of inorganic pigments include carbon black, cobalt-based pigments, iron-based pigments, chromium-based pigments, titanium-based pigments, vanadium-based pigments, zirconium-based pigments, molybdenum-based pigments, ruthenium-based pigments, platinum-based pigments, ITO (indium tin oxide)-based pigments, and ATO (antimony tin oxide)-based pigments. Of these, carbon black is particularly preferred. Carbon black can block electromagnetic waves over a wide wavelength range.
保護膜形成フィルム中における着色剤(特にカーボンブラック)の配合量は、保護膜形成フィルムの厚さによっても異なるが、例えば保護膜形成フィルムの厚さが20μmの場合は、保護膜形成フィルム用組成物の総重量を100質量部とした時の着色剤の含有量は、好ましくは0.01~10質量部、0.03~7質量部、0.05~4質量部である。 The amount of colorant (especially carbon black) in the protective film-forming film varies depending on the thickness of the protective film-forming film. For example, if the thickness of the protective film-forming film is 20 μm, the content of the colorant is preferably 0.01 to 10 parts by mass, 0.03 to 7 parts by mass, or 0.05 to 4 parts by mass when the total weight of the protective film-forming composition is 100 parts by mass.
着色剤(特にカーボンブラック)の平均粒径は、好ましくは1~500nm、3~100nm、5~50nmである。着色剤の平均粒径が上記の範囲内にあると、光線透過率を所望の範囲に制御し易い。 The average particle size of the colorant (especially carbon black) is preferably 1 to 500 nm, 3 to 100 nm, or 5 to 50 nm. If the average particle size of the colorant is within the above range, it is easy to control the light transmittance within the desired range.
(5.1.7 その他の添加剤)
保護膜形成フィルム用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、その他の添加剤として、たとえば、光重合開始剤、架橋剤、可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、ゲッタリング剤、粘着付与剤、剥離剤等を含有していてもよい。
(5.1.7 Other Additives)
The composition for the protective film-forming film may contain other additives, such as a photopolymerization initiator, a crosslinking agent, a plasticizer, an antistatic agent, an antioxidant, a gettering agent, a tackifier, a release agent, etc., within the range that does not impair the effects of the present invention.
(6.治具用粘着剤層)
治具用粘着剤層を構成する粘着剤としては、所望の粘着力および再剥離性を有するものが好ましく、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等を使用できる。これらの中でも、リングフレーム等の治具との密着性が高く、ダイシング工程等にてリングフレーム等から保護膜形成用複合シートが剥がれることを効果的に抑制することのできるアクリル系粘着剤が好ましい。なお、治具用粘着剤層の厚さ方向の途中には、芯材としての基材が介在していてもよい。
(6. Pressure-sensitive adhesive layer for jig)
The adhesive constituting the jig adhesive layer is preferably one having the desired adhesive strength and removability, and examples thereof include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, polyester adhesives, and polyvinyl ether adhesives. Among these, acrylic adhesives are preferred because they have high adhesion to jigs such as ring frames and can effectively prevent the composite sheet for forming a protective film from peeling from the ring frame during dicing processes, etc. A substrate serving as a core material may be interposed in the thickness direction of the jig adhesive layer.
治具用粘着剤層の厚さは、リングフレーム等の治具に対する接着性の観点から、5~200μmであることが好ましく、特に10~100μmであることが好ましい。 From the viewpoint of adhesion to jigs such as ring frames, the thickness of the adhesive layer for jigs is preferably 5 to 200 μm, and more preferably 10 to 100 μm.
(7.剥離フィルム)
剥離フィルムは、支持シートの粘着剤層の表面、および、保護膜形成用複合シートの保護膜形成フィルムの表面に配置されていることが好ましい。剥離フィルムは1層(単層)または2層以上の基材から構成されていてもよいし、剥離性を制御する観点から、基材の表面が剥離処理されていてもよい。すなわち、基材の表面が改質されていてもよいし、基材の表面に基材に由来しない材料(剥離剤層)が形成されていてもよい。
(7. Release Film)
The release film is preferably disposed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the support sheet and on the surface of the protective film-forming film of the composite sheet for forming a protective film. The release film may be composed of one layer (single layer) or two or more layers of substrate, and the surface of the substrate may be subjected to a release treatment from the viewpoint of controlling releasability. That is, the surface of the substrate may be modified, or a material (release agent layer) not derived from the substrate may be formed on the surface of the substrate.
基材としては、保護膜形成フィルムがワークに貼付されるまで保護膜形成フィルムを支持できる材料であれば特に限定されず、通常は樹脂系の材料を主材とするフィルムから構成される。本実施形態では、環境安全性、コスト等の観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。基材は、着色剤、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、フィラー等の各種添加剤を含有してもよい。 The substrate is not particularly limited as long as it is a material that can support the protective film-forming film until it is attached to the workpiece, and is usually composed of a film primarily made of a resin-based material. In this embodiment, polyethylene terephthalate film is preferred from the standpoints of environmental safety, cost, etc. The substrate may also contain various additives such as colorants, flame retardants, plasticizers, antistatic agents, lubricants, and fillers.
剥離剤層は、基材の一方の面に、剥離剤層用組成物を含む塗布剤を塗布した後、その塗膜を乾燥および硬化させることにより得られる。剥離剤層用組成物は、基材に保護膜形成フィルムとの剥離性を付与できる材料であれば特に制限されない。本実施形態では、剥離剤層用組成物は、たとえば、アルキッド系離型剤、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、不飽和ポリエステル系離型剤、ポリオレフィン系離型剤、ワックス系離型剤が好ましく、その中でも、シリコーン系離型剤が好ましい。 The release agent layer is obtained by applying a coating agent containing a release agent layer composition to one surface of the substrate, and then drying and curing the coating. The release agent layer composition is not particularly limited as long as it is a material that can impart releasability to the substrate from the protective film-forming film. In this embodiment, the release agent layer composition is preferably, for example, an alkyd-based release agent, a silicone-based release agent, a fluorine-based release agent, an unsaturated polyester-based release agent, a polyolefin-based release agent, or a wax-based release agent, with silicone-based release agents being particularly preferred.
剥離フィルムの厚みは、特に制限されないが、好ましくは15~100μm、さらに好ましくは25~80μm、より好ましくは35~60μmである。 The thickness of the release film is not particularly limited, but is preferably 15 to 100 μm, more preferably 25 to 80 μm, and even more preferably 35 to 60 μm.
(8.支持シートおよび保護膜形成用複合シートの製造方法)
支持シートは、たとえば、以下のようにして製造される。まず、支持シートの基材を準備する。基材は、原料組成物を溶融混練して押出機によりシート状の基材を押し出す際に、基材が軟質な状態でシボ加工等の所定の凹凸処理されたロールに接触させて上述した表面性状を形成することにより得てもよい。また、原料となる基材を、シボ加工等の所定の凹凸処理されたロールと、凹凸処理されていないロールとの間を通過させ、ロールに形成されている凹凸を当該基材に転写して上述した表面性状を有する基材を得てもよい。
(8. Method for producing a composite sheet for forming a support sheet and a protective film)
The support sheet is manufactured, for example, as follows. First, a substrate for the support sheet is prepared. The substrate may be obtained by melt-kneading a raw material composition and extruding the sheet-like substrate using an extruder, and then contacting the substrate in a soft state with a roll that has been treated with a predetermined unevenness, such as a grained finish, to form the surface texture described above. Alternatively, the raw material substrate may be passed between a roll that has been treated with a predetermined unevenness, such as a grained finish, and a roll that has not been treated with an unevenness, and the unevenness formed on the roll is transferred to the substrate to obtain a substrate with the surface texture described above.
所定の凹凸処理としては、たとえば、砥石研削、液体ホーニング処理等のウェットブラスト処理、サンドブラスト処理等のドライブラスト処理が例示される。砥石研削は、ロールの表面を研削する処理であり、通常、ロールの表面を平滑化する処理である。ウェットブラスト処理およびドライブラスト処理は、ロールの表面に研磨材を吹き付けて、ロールの表面状態を変化させる処理であり、通常、ロールの表面に凹凸を形成する処理である。凹凸の大きさは、研磨材の材質や粒径等を変更することにより制御できる。 Examples of specified unevenness treatments include grinding with abrasive stones, wet blasting such as liquid honing, and dry blasting such as sand blasting. Grinding with abrasive stones is a process that grinds the surface of the roll and typically smooths the surface of the roll. Wet blasting and dry blasting are processes that spray an abrasive material onto the surface of the roll to change the surface condition of the roll and typically form unevenness on the roll surface. The size of the unevenness can be controlled by changing the material and particle size of the abrasive material.
したがって、表面を平滑化する処理と凹凸を形成する処理とを組み合わせることにより、表面が所定の凹凸処理されたロールを得ることができる。 Therefore, by combining the surface smoothing process with the process of forming irregularities, it is possible to obtain a roll with a surface that has been treated to have the desired irregularities.
次に、粘着剤層を構成する粘着剤組成物、または、当該粘着剤組成物を溶媒で希釈した組成物(前記2つの組成物を「塗布剤」と称する。)を調製する。得られる塗布剤を、ロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、エアナイフコーター、ダイコーター、バーコーター、グラビアコーター、カーテンコーター等の塗工機を用いて、第1剥離フィルムの剥離面に塗布して、必要に応じて乾燥させて、第1剥離フィルム上に粘着剤層を形成する。続いて、粘着剤層の露出面と、上記で準備した基材の上記の表面性状を有していない主面とを貼り合わせて、粘着剤層の表面に第1剥離フィルムを有する支持シートを作製する。 Next, a pressure-sensitive adhesive composition that will form the pressure-sensitive adhesive layer, or a composition obtained by diluting the pressure-sensitive adhesive composition with a solvent (these two compositions are collectively referred to as "coating agent"), is prepared. The resulting coating agent is applied to the release surface of the first release film using a coating machine such as a roll coater, knife coater, roll knife coater, air knife coater, die coater, bar coater, gravure coater, or curtain coater, and then dried as necessary to form a pressure-sensitive adhesive layer on the first release film. Next, the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer is bonded to the main surface of the substrate prepared above that does not have the above-mentioned surface texture, to produce a support sheet having the first release film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.
ここで、粘着剤層がエネルギー線硬化性粘着剤からなる場合には、この段階で粘着剤層に対してエネルギー線を照射して、粘着剤層を硬化させてもよいし、保護膜形成フィルムと積層した後に粘着剤層を硬化させてもよい。また、保護膜形成フィルムと積層した後に粘着剤層を硬化させる場合、ダイシング工程前に粘着剤層を硬化させてもよいし、ダイシング工程後に粘着剤層を硬化させてもよい。 Here, if the adhesive layer is made of an energy ray-curable adhesive, the adhesive layer may be cured by irradiating it with energy rays at this stage, or the adhesive layer may be cured after laminating it with the protective film-forming film. Furthermore, if the adhesive layer is cured after laminating it with the protective film-forming film, the adhesive layer may be cured before the dicing step, or the adhesive layer may be cured after the dicing step.
エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で50~1000mJ/cm2が好ましく、特に100~500mJ/cm2が好ましい。また、電子線の場合には、10~1000krad程度が好ましい。 As the energy beam, ultraviolet rays, electron beams, etc. are usually used. The irradiation dose of the energy beam varies depending on the type of energy beam, but for example, in the case of ultraviolet rays, the light dose is preferably 50 to 1000 mJ/ cm2 , and particularly preferably 100 to 500 mJ/ cm2 . In addition, in the case of electron beams, the dose is preferably about 10 to 1000 krad.
保護膜形成用複合シートは、たとえば、上記で作製した支持シートと、保護膜形成フィルムを含む積層体と、を別々に作製した後、支持シートおよび積層体を使用して、保護膜形成フィルムと支持シートとを積層することにより製造できる。 The composite sheet for forming a protective film can be produced, for example, by separately preparing the support sheet prepared above and a laminate including the protective film-forming film, and then laminating the protective film-forming film and support sheet using the support sheet and laminate.
まず、上述した保護膜形成フィルム用組成物、または、当該保護膜形成フィルム用組成物を溶媒により希釈して得られる組成物(前記2つの組成物を「塗布剤」と称する。)を調製する。続いて、第2剥離フィルムの剥離面に、塗布剤を塗布し、必要に応じて乾燥させ第2剥離フィルム上に保護膜形成フィルムを形成する。次に、保護膜形成フィルムの露出面に第3剥離フィルムの剥離面を貼り合わせて、積層体を得る。 First, the above-described composition for a protective film-forming film, or a composition obtained by diluting the composition for a protective film-forming film with a solvent (these two compositions are referred to as "coating agents"), is prepared. Next, the coating agent is applied to the release surface of a second release film and dried as necessary to form a protective film-forming film on the second release film. Next, the release surface of a third release film is bonded to the exposed surface of the protective film-forming film to obtain a laminate.
以上のようにして支持シートおよび積層体が得られたら、支持シートにおける第1剥離フィルムを剥離するとともに、積層体における第3剥離フィルムを剥離し、露出した支持シートの粘着剤層と、露出した保護膜形成フィルムと、を貼り合わせる。必要に応じて、第2剥離フィルムを剥離した後、露出した保護膜形成フィルムまたは粘着剤層の周縁部に、第4剥離フィルム上に形成された治具用粘着剤層を貼り合わせる。このようにして、図2に示す保護膜形成用複合シートが得られる。 Once the support sheet and laminate are obtained in this manner, the first release film on the support sheet is peeled off, and the third release film on the laminate is peeled off, and the exposed adhesive layer of the support sheet is bonded to the exposed protective film-forming film. If necessary, after peeling off the second release film, a jig adhesive layer formed on a fourth release film is bonded to the peripheral edge of the exposed protective film-forming film or adhesive layer. In this way, the composite sheet for forming a protective film shown in Figure 2 is obtained.
得られた支持シートおよび保護膜形成用複合シートは、貼付されることになるワークのサイズにあわせて幅方向の両側が裁断されて幅方向のサイズを調整しながら、巻き取り装置により所定の張力が印加されて巻き取られることにより、シートロールとなる。 The resulting support sheet and composite sheet for forming a protective film are cut on both sides of the width to fit the size of the workpiece to be attached, and then wound up into a sheet roll by a winding device while applying a predetermined tension.
(9.装置の製造方法)
本実施形態に係る支持シートおよび保護膜形成用複合シートを用いた装置の製造方法の一例として、保護膜形成フィルムが貼付されたウエハを加工して得られる保護膜付きチップを製造する方法について説明する。
(9. Device Manufacturing Method)
As an example of a method for manufacturing a device using the support sheet and protective film-forming composite sheet of this embodiment, a method for manufacturing a chip with a protective film obtained by processing a wafer to which a protective film-forming film is attached will be described.
本実施形態に係る装置の製造方法は、少なくとも以下の工程1から工程5を有する。
工程1:ロール状に巻かれた保護膜形成用複合シートを巻き解いて繰り出す工程
工程2:繰り出された保護膜形成用複合シートの保護膜形成フィルムを、ウエハ裏面に貼付する工程
工程3:貼付された保護膜形成フィルムを保護膜化する工程
工程4:保護膜または保護膜形成フィルムにレーザーマーキングを行う工程
工程5:裏面に保護膜または保護膜形成フィルムを有するウエハを個片化して、複数の保護膜または保護膜形成フィルム付きチップを得る工程
The method for manufacturing the device according to this embodiment includes at least the following steps 1 to 5.
Step 1: A step of unwinding and unwinding a rolled composite sheet for forming a protective film. Step 2: A step of attaching the protective film-forming film of the unwound composite sheet for forming a protective film to the back surface of a wafer. Step 3: A step of converting the attached protective film-forming film into a protective film. Step 4: A step of laser marking the protective film or protective film-forming film. Step 5: A step of singulating a wafer having a protective film or protective film-forming film on the back surface to obtain a plurality of chips with the protective film or protective film-forming film.
なお、上記からも明らかなように、工程3は、工程5の前に行ってもよいし、工程5の後に行ってもよい。 As is clear from the above, step 3 may be performed before or after step 5.
上記の工程1から工程5を有する装置の製造方法を図6を用いて説明する。 The manufacturing method for the device, which includes steps 1 to 5 above, is explained using Figure 6.
まず、ロール状に巻かれた保護膜形成用複合シートを巻き解いて保護膜形成用複合シートを繰り出す(工程1)。このとき、支持シートの基材において、粘着剤層が形成されていない主面の表面性状が上記のように制御されているので、基材と保護膜形成フィルム上に形成されている剥離フィルムとがブロッキングしない。その結果、保護膜形成用複合シートの繰り出し不良を抑制することができる。 First, the rolled composite sheet for forming a protective film is unwound and the composite sheet for forming a protective film is unwound (Step 1). At this time, because the surface properties of the main surface of the base material of the support sheet on which the adhesive layer is not formed are controlled as described above, there is no blocking between the base material and the release film formed on the protective film-forming film. As a result, poor unwinding of the composite sheet for forming a protective film can be suppressed.
次に、図6に示すように、繰り出された保護膜形成用複合シート10の保護膜形成フィルム4をウエハ6の裏面に貼付する(工程2)。この際、保護膜形成フィルム4の外周部をリングフレーム7により固定してもよい。本実施形態では、図6に示すように、保護膜形成フィルム4の外周部に治具用粘着剤層5を設けているので、治具用粘着剤層5をリングフレーム7に貼付する。ウエハ6は、保護膜形成フィルム4における粘着剤層3との貼付面とは反対の面に貼付される。保護膜形成フィルム4をウエハ6に貼付するにあたり、所望により保護膜形成フィルム4を加熱して、粘着性を発揮させてもよい。 Next, as shown in FIG. 6, the protective film-forming film 4 of the unwound composite sheet 10 for forming a protective film is attached to the back surface of the wafer 6 (step 2). At this time, the outer periphery of the protective film-forming film 4 may be fixed by a ring frame 7. In this embodiment, as shown in FIG. 6, a jig adhesive layer 5 is provided on the outer periphery of the protective film-forming film 4, so the jig adhesive layer 5 is attached to the ring frame 7. The wafer 6 is attached to the surface of the protective film-forming film 4 opposite the surface attached to the adhesive layer 3. When attaching the protective film-forming film 4 to the wafer 6, the protective film-forming film 4 may be heated, if desired, to exhibit adhesive properties.
その後、貼付された保護膜形成フィルム4を保護膜化して保護膜を形成し(工程3)、保護膜付きウエハ6を得る。保護膜形成フィルム4が熱硬化性の場合には、保護膜形成フィルム4を所定温度で適切な時間加熱すればよい。また、保護膜形成フィルム4がエネルギー線硬化性である場合には、支持シート1からエネルギー線を入射すればよい。 Then, the attached protective film-forming film 4 is made into a protective film to form a protective film (step 3), thereby obtaining a wafer 6 with a protective film. If the protective film-forming film 4 is thermosetting, the protective film-forming film 4 can be heated at a predetermined temperature for an appropriate period of time. If the protective film-forming film 4 is energy ray-curable, energy rays can be applied through the support sheet 1.
なお、保護膜形成フィルム4の硬化は、ダイシング工程後に行ってもよく、粘着シートから保護膜形成フィルム付のチップをピックアップし、その後に保護膜形成フィルムを硬化してもよい。 The protective film-forming film 4 may be cured after the dicing process, or the chip with the protective film-forming film may be picked up from the adhesive sheet and then the protective film-forming film may be cured.
次に、保護膜にレーザーマーキングを行う(工程4)。なお、工程4は、工程3の後に行うことが好ましく、本実施形態では、工程4は、工程5の前に行うことがより好ましい。 Next, laser marking is performed on the protective film (Step 4). Note that Step 4 is preferably performed after Step 3, and in this embodiment, Step 4 is more preferably performed before Step 5.
レーザーマーキングでは、保護膜形成フィルムまたは保護膜の表面をレーザー照射で削り取ることによりマーキングを行ってもよいし、レーザー照射により保護膜形成フィルムまたは保護膜の体積を増加させて凸状部を形成するマーキングを行ってもよい。レーザーマーキングは、公知のレーザーマーキング装置を用いて行えばよい。 Laser marking may be performed by scraping off the surface of the protective film-forming film or protective film with laser irradiation, or by increasing the volume of the protective film-forming film or protective film with laser irradiation to form convex portions. Laser marking may be performed using a known laser marking device.
支持シートの基材において、粘着剤層が形成されていない主面のグロス値および表面性状が上記のように制御されているので、鮮明なマーキングを行うことができ、さらに、マーキングを観察する場合にも鮮明に認識できる。 Because the gloss value and surface properties of the main surface of the support sheet substrate on which the adhesive layer is not formed are controlled as described above, clear markings can be made and the markings can be clearly recognized when observed.
次いで、公知の方法により保護膜付きウエハ6をダイシングし、図5に示す保護膜40を有するチップ(保護膜付きチップ70)を得る(工程5)。すなわち、保護膜形成用複合シートの支持シートはダイシングシートとして機能することができる。 Then, the protective film-coated wafer 6 is diced using a known method to obtain chips (protective film-coated chips 70) having the protective film 40 shown in Figure 5 (Step 5). In other words, the support sheet of the composite sheet for forming a protective film can function as a dicing sheet.
(10.変形例)
上記の実施形態では、支持シートと、保護膜形成フィルムと、が一体化された保護膜形成用複合シートについて説明したが、支持シートと、保護膜形成フィルムと、が一体化されていなくてもよい。すなわち、上記の支持シートと、支持シートの粘着剤層の表面に貼付されるための保護膜形成フィルムと、から構成されるキットも本発明に含まれる。このキットは、まず、保護膜形成フィルムをワークに貼り合わせ、その後に、支持シートの粘着剤層と保護膜形成フィルムとを貼り合わせて使用することができる。
(10. Modifications)
In the above embodiment, a composite sheet for forming a protective film in which a support sheet and a protective film-forming film are integrated has been described, but the support sheet and the protective film-forming film do not have to be integrated. That is, a kit composed of the above support sheet and a protective film-forming film to be attached to the surface of the adhesive layer of the support sheet is also included in the present invention. This kit can be used by first attaching the protective film-forming film to a workpiece, and then attaching the adhesive layer of the support sheet and the protective film-forming film.
保護膜形成用複合シートは、図7に示す構成を有していてもよい。図7に示す保護膜形成用複合シート11は、基材2の一方の面に粘着剤層3が積層されてなる支持シート1と、支持シート1の粘着剤層3側に積層された保護膜形成フィルム4とを備えて構成される。保護膜形成フィルム4は、平面視にてワークとほぼ同じか、ワークよりも少し大きく形成されており、かつ支持シート1よりも小さく形成されている。保護膜形成フィルム4が積層されていない部分の粘着剤層3は、リングフレーム等の治具に貼付することが可能となっている。 The composite sheet for forming a protective film may have the configuration shown in Figure 7. The composite sheet for forming a protective film 11 shown in Figure 7 is composed of a support sheet 1 formed by laminating an adhesive layer 3 on one side of a substrate 2, and a protective film-forming film 4 laminated on the adhesive layer 3 side of the support sheet 1. The protective film-forming film 4 is formed to be approximately the same size as the workpiece or slightly larger than the workpiece in a plan view, and smaller than the support sheet 1. The adhesive layer 3 in the portion not laminated with the protective film-forming film 4 can be attached to a jig such as a ring frame.
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は上記の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の範囲内において種々の態様で改変しても良い。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments and may be modified in various ways within the scope of the present invention.
以下、実施例を用いて、発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail below using examples, but the present invention is not limited to these examples.
(実施例1)
(支持シートの作製)
まず、支持シートを構成する基材を以下のようにして作製した。
Example 1
(Preparation of support sheet)
First, the substrate constituting the support sheet was prepared as follows.
基材を構成する材質として、ポリプロピレンフィルム(引張弾性率がMD方向320MPa/CD方向290MPa、融点156℃)を混練機で溶融混練して、押出用原料を得た。 The base material was a polypropylene film (tensile modulus 320 MPa in the machine direction/290 MPa in the cross direction, melting point 156°C) that was melt-kneaded in a kneader to obtain the extrusion raw material.
得られた押出用原料を小型Tダイ押出機(東洋精機製作所社製、製品名「ラボプラストミル(登録商標)」)を用いて220℃で押出成形し、成形直後のシートをシボ加工(砥石研削、ウェットブラスト(液体ホーニング)処理、ドライブラスト(サンドブラスト)処理)を施した金属ロール(40℃)で冷却することにより、金属ロールに接触した面の表面粗さが調整された厚さ80μmの基材を得た。 The resulting extrusion raw material was extruded at 220°C using a small T-die extruder (manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, product name "Labo Plastomill (registered trademark)"), and the extrusion-molded sheet immediately after molding was cooled on a metal roll (40°C) that had been textured (grinding with a grindstone, wet blasting (liquid honing), and dry blasting (sandblasting)). This produced an 80μm-thick substrate with an adjusted surface roughness on the surface that came into contact with the metal roll.
次に、支持シートを構成する粘着剤層を以下のようにして作製した。 Next, the adhesive layer that constitutes the support sheet was prepared as follows.
2-エチルヘキシルアクリレート(2EHA)80質量部、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)20質量部を共重合して得られるアクリル系共重合体(重量平均分子量:80万)100質量部(固形分換算)に、3官能キシリレンジイソシアネート系架橋剤(三井武田ケミカル社製、商品名「タケネート110N」15質量部を添加し、固形分濃度が25質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して、粘着剤層用組成物を含む塗布剤を調製した。 A coating agent containing a pressure-sensitive adhesive layer composition was prepared by adding 15 parts by mass of a trifunctional xylylene diisocyanate crosslinking agent (manufactured by Mitsui Takeda Chemicals, Inc., trade name "Takenate 110N") to 100 parts by mass (solids content equivalent) of an acrylic copolymer (weight average molecular weight: 800,000) obtained by copolymerizing 80 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) and 20 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA), and diluting with methyl ethyl ketone to a solids concentration of 25% by mass.
上記の粘着剤層用組成物の塗布剤を、剥離フィルム(リンテック社製、商品名「SP-PET381031」、シリコーン剥離処理を行ったポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、厚さ:38μm)の剥離処理がされた面上に塗布し、乾燥させて、厚さ5μmの粘着剤層を有する、粘着剤層付き剥離フィルムを作製した。 The above-mentioned adhesive layer composition coating agent was applied to the release-treated surface of a release film (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381031", a polyethylene terephthalate (PET) film with a silicone release treatment, thickness: 38 μm) and dried to produce a release film with an adhesive layer having a thickness of 5 μm.
粘着剤層付き剥離フィルムの粘着剤層の表面と、基材の表面粗さが調整されていない面(金属ロールに接触していない面)とを貼り合わせて、支持シートを作製した。この支持シートは長尺であり、巻き取ってシートロールとした。 A support sheet was produced by bonding the surface of the adhesive layer of the release film with the adhesive layer to the side of the substrate whose surface roughness was not adjusted (the side not in contact with the metal roll). This support sheet was long and was wound up into a sheet roll.
(1)保護膜形成フィルムを含む第1の積層体の作製
次の(a)~(g)の成分を混合し、固形分濃度が50質量%となるようにメチルエチルケトンで希釈して、保護膜形成フィルム用塗布剤を調製した。
(a)バインダーポリマー:(メタ)アクリル酸エステル共重合体(n-ブチルアクリレート10質量部、メチルアクリレート70質量部、グリシジルメタクリレート5質量部、および2-ヒドロキシエチルアクリレート15質量部を共重合して得られるアクリル系共重合体、重量平均分子量:80万、ガラス転移温度:-1℃)150質量部(固形分換算、以下同じ)
(b-1)熱硬化性成分:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製、製品名「jER828」、エポキシ当量184~194g/eq)60質量部
(b-2)熱硬化性成分:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製、製品名「jER1055」、エポキシ当量800~900g/eq)10質量部
(b-3)熱硬化性成分:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製、製品名「エピクロンHP-7200HH」、エポキシ当量255~260g/eq)30質量部
(c)熱活性潜在性エポキシ樹脂硬化剤:ジシアンジアミド(株式会社ADEKA製:アデカハ-ドナーEH3636AS、活性水素量21g/eq)2質量部
(d)硬化促進剤:2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製、製品名「キュアゾール2PHZ」)2質量部
(e)フィラー:シリカフィラー(株式会社アドマテックス製、製品名「SC2050MA」平均粒径:0.5μm)320質量部
(f)着色剤:カーボンブラック(三菱化学株式会社製、製品名「#MA650」、平均粒径:28nm)1.2質量部
(g)シランカップリング剤:(信越化学工業株式会社製、製品名「KBM-403」)2質量部
(1) Preparation of a first laminate including a protective film-forming film The following components (a) to (g) were mixed and diluted with methyl ethyl ketone to a solid content of 50% by mass to prepare a coating agent for a protective film-forming film.
(a) Binder polymer: 150 parts by mass (solids equivalent, the same applies hereinafter) of (meth)acrylic acid ester copolymer (an acrylic copolymer obtained by copolymerizing 10 parts by mass of n-butyl acrylate, 70 parts by mass of methyl acrylate, 5 parts by mass of glycidyl methacrylate, and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, having a weight average molecular weight of 800,000 and a glass transition temperature of −1° C.)
(b-1) Thermosetting component: 60 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "jER828", epoxy equivalent 184 to 194 g/eq) (b-2) Thermosetting component: 10 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "jER1055", epoxy equivalent 800 to 900 g/eq) (b-3) Thermosetting component: 30 parts by mass of dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., product name "Epicron HP-7200HH", epoxy equivalent 255 to 260 g/eq)
(c) Heat-activated latent epoxy resin curing agent: dicyandiamide (manufactured by ADEKA Corporation: ADEKA HARDNER EH3636AS, active hydrogen content 21 g/eq) 2 parts by mass (d) Curing accelerator: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd., product name "Curesol 2PHZ") 2 parts by mass (e) Filler: Silica filler (manufactured by Admatechs Co., Ltd., product name "SC2050MA", average particle size: 0.5 μm) 320 parts by mass (f) Colorant: Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "#MA650", average particle size: 28 nm) 1.2 parts by mass (g) Silane coupling agent: (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KBM-403") 2 parts by mass
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第1の剥離フィルム(リンテック株式会社製、製品名「SP-PET381031」)と、厚さ38μmのPETフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第2の剥離フィルム(リンテック株式会社製、製品名「SP-PET381130」)とを用意した。 A first release film (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381031") was prepared, consisting of a 38 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film with a silicone-based release agent layer formed on one side, and a second release film (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381130") was prepared, consisting of a 38 μm-thick PET film with a silicone-based release agent layer formed on one side.
最初に、第1の剥離フィルムの剥離面上に、上記の保護膜形成フィルム用塗布剤を、ナイフコーターにて塗布し、乾燥させて、厚さが25μmの保護膜形成フィルムを形成した。その後、保護膜形成フィルムに第2の剥離フィルムの剥離面を重ねて両者を貼り合わせ、第1の剥離フィルムと、保護膜形成フィルム(厚さ:25μm)と、第2の剥離フィルムとからなる第1の積層体を得た。この積層体は長尺であり、巻き取ってシートロールとした。 First, the above-mentioned protective film-forming film coating agent was applied to the release surface of the first release film using a knife coater and dried to form a protective film-forming film with a thickness of 25 μm. The release surface of the second release film was then placed on top of the protective film-forming film and the two were bonded together to obtain a first laminate consisting of the first release film, the protective film-forming film (thickness: 25 μm), and the second release film. This laminate was long and was wound up into a sheet roll.
(2)治具用粘着剤層を含む第2の積層体の作製
次の(j)および(k)の成分を混合し、固形分濃度が15質量%となるようにトルエンで希釈して、治具用粘着剤層用塗布剤を調製した。
(j)粘着主剤:(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ブチルアクリレート69.5質量部、メチルアクリレート30質量部、2-ヒドロキシエチルアクリレート0.5質量部を共重合して得られた共重合体、重量平均分子量:50万)100質量部
(k)架橋剤:トリレンジイソシアネート系架橋剤(トーヨーケム株式会社製、製品名「BHS8515」)5質量部
(2) Preparation of a second laminate including a pressure-sensitive adhesive layer for a jig The following components (j) and (k) were mixed and diluted with toluene to a solids concentration of 15% by mass to prepare a coating agent for a pressure-sensitive adhesive layer for a jig.
(j) Adhesive base: 100 parts by mass of (meth)acrylic acid ester copolymer (a copolymer obtained by copolymerizing 69.5 parts by mass of butyl acrylate, 30 parts by mass of methyl acrylate, and 0.5 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, weight average molecular weight: 500,000) (k) Crosslinking agent: 5 parts by mass of tolylene diisocyanate crosslinking agent (manufactured by Toyochem Co., Ltd., product name "BHS8515")
厚さ38μmのPETフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第1および第2の剥離フィルム(リンテック株式会社製、製品名「SP-PET381031」)と、芯材としてポリ塩化ビニルフィルム(オカモト株式会社製、厚さ:50μm)とを用意した。 The first and second release films (manufactured by Lintec Corporation, product name "SP-PET381031") were made of a 38 μm-thick PET film with a silicone-based release agent layer formed on one side, and a polyvinyl chloride film (manufactured by Okamoto Corporation, thickness: 50 μm) was used as the core material.
最初に、第1の剥離フィルムの剥離面上に、上記の粘着剤層用塗布剤を、ナイフコーターにて塗布し、乾燥させて、厚さが5μmの第1の粘着剤層を形成した。その後、第1の粘着剤層に上記芯材を貼合し、芯材と、第1の粘着剤層と、第1の剥離フィルムとからなる積層体Aを得た。この積層体Aは長尺であり、巻き取ってシートロールとした。 First, the adhesive layer coating agent was applied to the release surface of the first release film using a knife coater and dried to form a 5 μm-thick first adhesive layer. The core material was then laminated to the first adhesive layer, yielding laminate A consisting of the core material, first adhesive layer, and first release film. This laminate A was long and was wound up into a sheet roll.
次に、第2の剥離フィルムの剥離面上に、上記の粘着剤層用塗布剤を、ナイフコーターにて塗布し、乾燥させて、厚さが5μmの第2の粘着剤層を形成した。その後、第2の粘着剤層に上記積層体Aにおける芯材の露出した面を貼合し、第1の剥離フィルム/第1の粘着剤層/芯材/第2の粘着剤層/第2の剥離フィルムからなる第2の積層体を得た。この積層体は長尺であり、巻き取ってシートロールとした。 Next, the adhesive layer coating agent was applied to the release surface of the second release film using a knife coater and dried to form a 5 μm-thick second adhesive layer. The exposed surface of the core material in the laminate A was then bonded to the second adhesive layer, yielding a second laminate consisting of first release film/first adhesive layer/core material/second adhesive layer/second release film. This laminate was long and was wound up into a sheet roll.
(3)第3の積層体の作製
上記(1)で得られた第1の積層体から第2の剥離フィルムを剥離し、保護膜形成フィルムを露出させた。一方、上記で得られた支持シートから剥離フィルムを剥離して、粘着剤層を露出させた。その粘着剤層に、上記保護膜形成フィルムが接触するように、第1の積層体と支持シートとを貼り合わせ、基材および粘着剤層からなる支持シートと、保護膜形成フィルムと、第1剥離フィルムとが積層されてなる第3の積層体を得た。
(3) Preparation of a third laminate The second release film was peeled off from the first laminate obtained in (1) above to expose the protective film-forming film. Meanwhile, the release film was peeled off from the support sheet obtained above to expose the pressure-sensitive adhesive layer. The first laminate and the support sheet were bonded together so that the protective film-forming film was in contact with the pressure-sensitive adhesive layer, thereby obtaining a third laminate in which the support sheet consisting of the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer, the protective film-forming film, and the first release film were laminated.
(4)保護膜形成用複合シートの作製
上記(2)で得られた第2の積層体から第2剥離フィルムを剥離し、第1剥離フィルムを残して、治具用粘着剤層の内周縁をハーフカットし、内側の円形部分を除去した。このとき、治具用粘着剤層の内周縁の直径は220mmとした。
(4) Preparation of a composite sheet for forming a protective film: The second release film was peeled off from the second laminate obtained in (2) above, leaving the first release film, and the inner peripheral edge of the pressure-sensitive adhesive layer for the jig was half-cut to remove the inner circular portion, so that the diameter of the inner peripheral edge of the pressure-sensitive adhesive layer for the jig was 220 mm.
上記(3)で得られた第3の積層体から第1剥離フィルムを剥離し、露出した保護膜形成フィルムと、第2の積層体において露出している治具用粘着剤層とを重ね合わせて圧着した。その後、第2の積層体における第1の剥離フィルムを残して、保護膜形成用複合シートの外周縁をハーフカットし、外側の部分を除去した。このとき、保護膜形成用複合シートの外周縁の直径は270mmとした。 The first release film was peeled off from the third laminate obtained in (3) above, and the exposed protective film-forming film was superimposed on the exposed jig adhesive layer in the second laminate and pressed together. Then, leaving the first release film in the second laminate, the outer edge of the composite sheet for forming a protective film was half-cut to remove the outer portion. At this time, the diameter of the outer edge of the composite sheet for forming a protective film was 270 mm.
このようにして、基材の上に粘着剤層(厚さ:5μm)が積層されてなる支持シートと、支持シートの粘着剤層側に積層された保護膜形成フィルムと、保護膜形成フィルムにおける支持シートとは反対側の周縁部に積層された環状の治具用粘着剤層と、治具用粘着剤層における保護膜形成フィルムとは反対側に積層された剥離フィルムとからなる保護膜形成用複合シートを得た。この保護膜形成用複合シートは長尺であり、巻き取ってシートロールとした。 In this way, a composite sheet for forming a protective film was obtained, consisting of a support sheet in which an adhesive layer (thickness: 5 μm) was laminated on a substrate, a protective film-forming film laminated on the adhesive layer side of the support sheet, a ring-shaped jig adhesive layer laminated on the peripheral portion of the protective film-forming film on the side opposite the support sheet, and a release film laminated on the jig adhesive layer on the side opposite the protective film-forming film. This composite sheet for forming a protective film was long and was wound up into a sheet roll.
(実施例2~4および比較例1~3)
実施例1の基材の作製に用いた金属ロールから、砥石研削、ウェットブラスト処理、ドライブラスト処理を組み合わせて、比較的大きい凹凸と平滑な面との存在状態を変化させて、所定のシボ形状を有する金属ロールに変更することにより、金属ロールに接触した面の表面粗さを変更した以外は実施例1と同じ方法により保護膜形成用複合シートを作製した。
(Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 3)
A composite sheet for forming a protective film was produced by the same method as in Example 1, except that the metal roll used to produce the substrate in Example 1 was changed to a metal roll with a predetermined grain shape by combining grinding wheel grinding, wet blasting, and dry blasting to change the state of existence of relatively large irregularities and a smooth surface, thereby changing the surface roughness of the surface in contact with the metal roll.
実施例1~4および比較例1~3で得られた支持シートまたは保護膜形成用複合シートを用いて、下記の測定および評価を行った。 The following measurements and evaluations were carried out using the support sheets or composite sheets for forming protective films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3.
(基材の露出表面の光沢性)
各実施例および比較例の支持シートから剥離フィルムを剥離して無色透明のソーダライムガラスに貼り付けて測定用試料とした。測定用試料に対して、光沢計(日本電色社製グロスメーター「VG 2000」)を用いて、JIS Z 8741に準じて、基材の粘着剤層が形成されていない面側から光を入射して、基材の粘着剤層が形成されていない側の表面(露出表面)の60°鏡面光沢度を測定し、その測定値を基材の表面のグロス値とした。結果を表1に示す。
(Glossiness of exposed surface of substrate)
The release film was peeled from the support sheet of each Example and Comparative Example and attached to a colorless, transparent soda-lime glass to prepare a measurement sample. A gloss meter (Nippon Denshoku Corporation's gloss meter "VG 2000") was used to measure the 60° specular gloss of the surface (exposed surface) of the substrate on which the adhesive layer was not formed, in accordance with JIS Z 8741, by irradiating the measurement sample from the side on which the adhesive layer was not formed. The measured value was used as the gloss value of the substrate surface. The results are shown in Table 1.
(基材の露出表面の表面粗さSa1およびSa2)
各実施例および比較例の支持シートの基材の露出表面を、株式会社日立ハイテクサイエンス製の走査型白色干渉顕微鏡VS-1550を用いて観察し、以下のようにして、Sa1およびSa2を算出した。
(Surface roughness Sa1 and Sa2 of exposed surface of substrate)
The exposed surface of the substrate of the support sheet of each example and comparative example was observed using a scanning white light interference microscope VS-1550 manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation, and Sa1 and Sa2 were calculated as follows.
観察倍率は50倍とし、複数視野モードで観察した。観察視野において、X軸方向の長さ0.36mm×Y軸方向の長さ0.27mmの領域を設定し、X軸方向に15列分、Y軸方向に20行分、観察して合計300セルを観察した。 The observation magnification was 50x, and observation was performed in multi-field mode. An area measuring 0.36 mm in the X-axis direction and 0.27 mm in the Y-axis direction was set in the observation field, and 15 columns in the X-axis direction and 20 rows in the Y-axis direction were observed, for a total of 300 cells.
300セル分を画像合成し、4.91mm×4.90mmの1枚の画像にした。合成した画像1枚全域についてSaを測定し、Sa1とした。結果を表1に示す。 Images from 300 cells were combined to create a single image measuring 4.91 mm x 4.90 mm. Sa was measured for the entire combined image, and this was taken as Sa1. The results are shown in Table 1.
次に、300セル分を画像合成せず、各セルにおいてSaを測定し、300個のSaデータを得た。300個のSaのデータの内、最小値から20番目までのSaのデータを抽出した。抽出した20個のSaのデータの平均をSa2とした。結果を表1に示す。 Next, Sa was measured for each of the 300 cells without combining the images, obtaining 300 Sa data points. Of the 300 Sa data points, the 20 smallest Sa data points were extracted. The average of the 20 extracted Sa data points was taken as Sa2. The results are shown in Table 1.
(レーザーマーキングの認識性)
各実施例および比較例の保護膜形成用複合シートから剥離フィルムを取り除き、厚さ350μm、外径8インチのシリコンウエハに貼付装置(リンテック製「RAD-2700F/12」)を用いて、温度70℃で保護膜形成用複合シートおよびリングフレームを貼付した。その後、130℃、2時間の条件で保護膜形成フィルムを加熱硬化して保護膜を形成した。次いで、印字装置(EO社製、CSM300M、波長532nm)を用い、支持シートを介して保護膜にレーザーを照射して、以下の2つのパターン(パターン1およびパターン2)でマーキングを行った。
パターン1…文字サイズ0.5mm×0.5mm、文字間隔0.05mm、文字数20文字
パターン2…文字サイズ0.15mm×0.25mm、文字間隔:0.05mm、文字数20文字
(Laser marking recognition)
The release film was removed from the composite sheet for forming a protective film of each example and comparative example, and the composite sheet for forming a protective film and a ring frame were attached to a silicon wafer having a thickness of 350 μm and an outer diameter of 8 inches at a temperature of 70°C using an attachment device ("RAD-2700F/12" manufactured by Lintec). The protective film-forming film was then heat-cured at 130°C for 2 hours to form a protective film. Next, a printing device (manufactured by EO, CSM300M, wavelength 532 nm) was used to irradiate the protective film with a laser through the support sheet, thereby marking the following two patterns (pattern 1 and pattern 2).
Pattern 1: Character size 0.5mm x 0.5mm, character spacing 0.05mm, number of characters 20 Pattern 2: Character size 0.15mm x 0.25mm, character spacing: 0.05mm, number of characters 20
上記のレーザーマーキングで保護膜に形成された文字について、支持シートを介して 観察した場合と、支持シートを介さずに観察した場合(支持シートを除去して観察した場合)との両方について以下に示す基準に準じて評価した。結果を表1に示す。
A:パターン1および2の全ての文字を問題なく読むことができた。
B:パターン2では不鮮明な部分があるが、パターン1では全ての文字を問題なく読むことができた。
C:パターン1および2共に不鮮明な部分があった。
The characters formed on the protective film by the above laser marking were observed both through the support sheet and without the support sheet (after removing the support sheet) and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: I was able to read all the characters in patterns 1 and 2 without any problems.
B: There are some unclear parts in pattern 2, but all the characters can be read without any problems in pattern 1.
C: Both patterns 1 and 2 had unclear areas.
(保護膜形成用複合シートのマウント繰り出し性)
各実施例および比較例の保護膜形成用複合シートを巻き取りシートロールとした。シートロールを室温(23℃)で3日間保管した。保管後のシートロールから保護膜形成用複合シートを繰り出し、剥離フィルムを剥離してから、貼付装置(リンテック社製、RAD-2700)を使用して、繰り出した保護膜形成用複合シートをシリコンウエハ(厚さ350μm、外径8インチ)およびリングフレームへ貼付する時の繰り出し不良に関する作業性を以下の3段階で評価した。繰り出し不良は、保護膜形成用複合シートを繰り出すときに、粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの間に一部剥離が生じて、支持シートが剥離フィルムに転写される場合、または、保護膜形成用複合シートの繰り出し自体を行うことができなかった場合とした。結果を表1に示す。
A:50枚貼付して、繰り出し不良が1枚以下
B:50枚貼付して、繰り出し不良が2枚以上5枚以下
C:50枚貼付して、繰り出し不良が6枚以上
(Mount payout property of composite sheet for forming protective film)
The composite sheet for forming a protective film of each example and comparative example was wound into a sheet roll. The sheet roll was stored at room temperature (23°C) for 3 days. After storage, the composite sheet for forming a protective film was unwound from the sheet roll, the release film was peeled off, and the unwound composite sheet for forming a protective film was attached to a silicon wafer (thickness 350 μm, outer diameter 8 inches) and a ring frame using an attachment device (RAD-2700, manufactured by Lintec Corporation). The operability regarding unwinding failures during attachment was evaluated using the following three-point scale. Unwinding failures were defined as when partial peeling occurred between the adhesive layer and the film for forming a protective film when unwinding the composite sheet for forming a protective film, resulting in the support sheet being transferred to the release film, or when the composite sheet for forming a protective film could not be unwound at all. The results are shown in Table 1.
A: 50 sheets were attached, and there was one or less sheet with a feeding defect. B: 50 sheets were attached, and there were two to five sheet with a feeding defect. C: 50 sheets were attached, and there were six or more sheet with a feeding defect.
表1より、支持シートの基材において、粘着剤層が形成されていない主面のグロス値と表面性状とが上述したように制御されている場合には、繰り出し性とレーザーマーキングの認識性とを両立できることが確認できた。 Table 1 confirms that when the gloss value and surface texture of the main surface of the support sheet substrate on which the adhesive layer is not formed are controlled as described above, it is possible to achieve both payout performance and laser marking visibility.
1…支持シート
2…基材
3…粘着剤層
10…保護膜形成用複合シート
4…保護膜形成フィルム
5…治具用粘着剤層
70…保護膜付きチップ
40…保護膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Support sheet 2... Base material 3... Adhesive layer 10... Composite sheet for forming protective film 4... Protective film-forming film 5... Adhesive layer for jig 70... Chip with protective film 40... Protective film
Claims (7)
前記基材において、前記粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域の算術平均高さSa1が0.50μmより大きく、
前記粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域が、0.36mm×0.27mmの四角形領域である狭域を300個合成して得られる広域であり、
各狭域の算術平均高さのうち、最小から20番目までの算術平均高さの平均をSa2とした時に、Sa2が0.43μm以下であり、
前記粘着剤層が形成されていない主面の入射角60°でのグロス値が20以上である支持シート。 A substrate and a pressure-sensitive adhesive layer formed on one main surface of the substrate,
In the base material, the arithmetic mean height Sa1 of a 4.91 mm × 4.90 mm square region on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed is greater than 0.50 μm,
the 4.91 mm × 4.90 mm square region on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed is a wide region obtained by combining 300 narrow regions, each of which is a 0.36 mm × 0.27 mm square region;
When the average of the arithmetic mean heights of the 20 smallest of the arithmetic mean heights of each narrow region is defined as Sa2, Sa2 is 0.43 μm or less,
A support sheet having a gloss value of 20 or more at an incident angle of 60° on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed.
前記基材において、前記粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域の算術平均高さSa1が0.50μmより大きく、
前記粘着剤層が形成されていない主面上の4.91mm×4.90mmの四角形領域が、0.36mm×0.27mmの四角形領域である狭域を300個合成して得られる広域であり、
各狭域の算術平均高さのうち、最小から20番目までの算術平均高さの平均をSa2とした時に、Sa2に対するSa1の比であるSa1/Sa2が1.40以上であり、
前記粘着剤層が形成されていない主面の入射角60°でのグロス値が20以上である支持シート。 A substrate and a pressure-sensitive adhesive layer formed on one main surface of the substrate,
In the base material, the arithmetic mean height Sa1 of a 4.91 mm × 4.90 mm square region on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed is greater than 0.50 μm,
the 4.91 mm × 4.90 mm square region on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed is a wide region obtained by combining 300 narrow regions, each of which is a 0.36 mm × 0.27 mm square region;
When the average of the 20 smallest arithmetic mean heights of the respective narrow regions is defined as Sa2, the ratio of Sa1 to Sa2, Sa1/Sa2, is 1.40 or more,
A support sheet having a gloss value of 20 or more at an incident angle of 60° on the main surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is not formed.
繰り出された支持シートをワークに貼付する工程と、
前記ワークに、レーザーマーキングを行う工程と、
前記ワークを加工して、前記ワークの加工物を得る工程と、を有する装置の製造方法。 a step of unwinding and unwinding the support sheet according to any one of claims 1 to 3 wound in a roll;
A step of attaching the unwound support sheet to a workpiece;
A step of laser marking the workpiece;
and processing the workpiece to obtain a processed product of the workpiece.
繰り出された保護膜形成用複合シートの保護膜形成フィルムを、ワーク裏面に貼付する工程と、
貼付された保護膜形成フィルムを保護膜化する工程と、
前記保護膜または前記保護膜形成フィルムに、レーザーマーキングを行う工程と、
裏面に保護膜または保護膜形成フィルムを有する前記ワークを個片化して、複数の保護膜または保護膜形成フィルム付きワークの加工物を得る工程と、を有する装置の製造方法。
a step of unwinding and unwinding the composite sheet for forming a protective film according to claim 4 wound in a roll;
A step of attaching the protective film-forming film of the unwound protective film-forming composite sheet to the back surface of the workpiece;
A step of converting the attached protective film-forming film into a protective film;
A step of performing laser marking on the protective film or the protective film-forming film;
A method for manufacturing an apparatus, comprising: a step of dividing the workpiece having a protective film or protective film-forming film on the back surface into individual pieces to obtain a plurality of workpieces with protective films or protective film-forming films.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021043959A JP7724069B2 (en) | 2021-03-17 | 2021-03-17 | Support sheet, composite sheet for forming protective film, and method for manufacturing the device |
| CN202210114420.7A CN115109531A (en) | 2021-03-17 | 2022-01-30 | Support sheet, composite sheet for forming protective film, and method for manufacturing device |
| KR1020220023806A KR20220130007A (en) | 2021-03-17 | 2022-02-23 | Supporting sheet, composite sheet for protective film formation and device manufacturing method |
| TW111108503A TWI906486B (en) | 2021-03-17 | 2022-03-09 | Manufacturing method of composite sheet and device for forming support sheet and protective film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021043959A JP7724069B2 (en) | 2021-03-17 | 2021-03-17 | Support sheet, composite sheet for forming protective film, and method for manufacturing the device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022143454A JP2022143454A (en) | 2022-10-03 |
| JP7724069B2 true JP7724069B2 (en) | 2025-08-15 |
Family
ID=83325263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021043959A Active JP7724069B2 (en) | 2021-03-17 | 2021-03-17 | Support sheet, composite sheet for forming protective film, and method for manufacturing the device |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7724069B2 (en) |
| KR (1) | KR20220130007A (en) |
| CN (1) | CN115109531A (en) |
| TW (1) | TWI906486B (en) |
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- 2022-02-23 KR KR1020220023806A patent/KR20220130007A/en active Pending
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| WO2018062397A1 (en) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | ユニチカ株式会社 | Polyester film |
| WO2018179475A1 (en) | 2017-03-30 | 2018-10-04 | リンテック株式会社 | Protection film-forming composite sheet |
| JP2020088140A (en) | 2018-11-26 | 2020-06-04 | 信越ポリマー株式会社 | Carrier film and manufacturing method thereof, electromagnetic wave shielding film and manufacturing method thereof |
| WO2020218468A1 (en) | 2019-04-25 | 2020-10-29 | リケンテクノス株式会社 | Substrate film for dicing film, dicing film, and production method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202238699A (en) | 2022-10-01 |
| CN115109531A (en) | 2022-09-27 |
| JP2022143454A (en) | 2022-10-03 |
| TWI906486B (en) | 2025-12-01 |
| KR20220130007A (en) | 2022-09-26 |
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| Date | Code | Title | Description |
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