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JP7724101B2 - Processed film manufacturing method - Google Patents
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JP7724101B2 - Processed film manufacturing method - Google Patents

Processed film manufacturing method

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JP7724101B2
JP7724101B2 JP2021129615A JP2021129615A JP7724101B2 JP 7724101 B2 JP7724101 B2 JP 7724101B2 JP 2021129615 A JP2021129615 A JP 2021129615A JP 2021129615 A JP2021129615 A JP 2021129615A JP 7724101 B2 JP7724101 B2 JP 7724101B2
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Description

本発明は、ショットブラスト処理を利用した加工フィルムの製造方法に関し、更に詳しくは、投入する研磨材から粗大粒子を除去することにより、残砂が大幅に低減された加工フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing processed film using shot blasting, and more specifically, to a method for producing processed film in which residual sand is significantly reduced by removing coarse particles from the abrasive material added.

高分子フィルムに対して、反射の抑制、貼り合わせ性・剥離性等の接着力制御の向上、印刷適性の向上、等を目的として、表面に微細な凹凸を形成する粗面化加工が行われている。
かかる粗面化加工の手法として、ショットブラストが挙げられる。ショットブラストは、高速で回転するローターに設けられたブレードから噴射される研磨材を加工対象物に送り込むことで、加工対象物の表面に微細な凹凸を形成する方法であり、様々な目的でフィルムの加工に利用されている。
BACKGROUND ART Polymer films are subjected to surface roughening treatment to form minute irregularities on their surfaces for the purposes of suppressing reflection, improving adhesive strength control such as lamination and peeling properties, and improving printability.
One such roughening method is shot blasting, which creates fine irregularities on the surface of an object by spraying abrasive material from blades attached to a rotor rotating at high speed onto the object. Shot blasting is used to process films for a variety of purposes.

例えば、特許文献1には、フィルム表面に対してショットブラストした後、フィルムの幅方向全幅にエアーブラストを行う加工方法が開示され、非マット面にアルミ蒸着したフィルムに適用可能であるとされている。 For example, Patent Document 1 discloses a processing method in which the film surface is shot blasted and then air blasted across the entire width of the film, which is said to be applicable to films with aluminum vapor-deposited on a non-matte surface.

特許文献2には、可視的識別情報の存在する領域が、サンドブラスト加工により粗面化加工され、特定範囲の平均粗さの粗面を有する合成樹脂フィルムに覆われて被着してなる識別シートが開示されている。 Patent Document 2 discloses an identification sheet in which the area containing visible identification information is roughened by sandblasting and then covered with a synthetic resin film having a roughened surface with an average roughness within a specific range.

特許文献3には、ヘアライン加工を行う前のフィルムに対して、前処理として微細な凹凸を施すことにより、そのようにしない場合と比較して、ヘアライン加工後に削りカスで構成されるヒゲと呼ばれる不良部分の発生を抑制することができると記載されている。特許文献3の実施例では、フィルムに微細な凹凸を施す方法として、ショットブラストが適用されている。 Patent Document 3 describes how applying fine irregularities to a film before hairline processing as a pre-treatment can reduce the occurrence of defects called whiskers, which are made up of shavings, after hairline processing, compared to when this pre-treatment is not performed. In the examples of Patent Document 3, shot blasting is used as a method for applying fine irregularities to the film.

ショットブラストでは、研磨材を循環して再利用することが行われており、研磨材の循環装置・方法について、種々提案されている(特許文献4~6)。 In shot blasting, abrasives are recycled and reused, and various abrasive recycling devices and methods have been proposed (Patent Documents 4 to 6).

循環利用される研磨材は、研磨材同士の衝突や、ローターや装置壁面との衝突により、割れたり角が取れたりして、徐々に粒径が減少していく。粒径の減少した研磨材では、十分な凹凸を形成することができないため、加工後のフィルムの品質を保つべく、ある程度まで粒径が小さくなった研磨材は、回収・除去され、その分、新たな研磨材が投入される。回収・除去のための方法としては、特許文献4等に記載のように、エアー(空気)を利用した方法が挙げられる。 The particle size of recycled abrasives gradually decreases as they break and become rounded due to collisions with each other, the rotor, and the equipment walls. Abrasives with reduced particle size are unable to form sufficient irregularities, so to maintain the quality of the processed film, abrasives that have reached a certain particle size are collected and removed, and new abrasives are added to replace them. One method for collection and removal is to use air, as described in Patent Document 4, etc.

一方、衝突により割れた研磨材は、エッジが鋭くなり、フィルムとの衝突により、フィルムに突き刺さってしまうことがある。このような「フィルムに突き刺さった研磨材」(以下、「残砂」という場合がある。)は、例えば、凹凸を形成した後のフィルムに別の素材をコーティングした際の歩留まりが低下する原因となる。 On the other hand, abrasives that break upon impact have sharp edges and can pierce the film upon impact with it. Such "abrasives that have pierced the film" (hereinafter sometimes referred to as "residual sand") can cause a decrease in yield when coating another material on the film after the texture has been formed.

上記のような事情から、コーティング加工まで含めた一連のプロセスにおいて、歩留まりを改善し、生産性を向上させることのできる技術の開発が望まれている。 For these reasons, there is a need to develop technology that can improve yield and productivity throughout the entire process, including coating.

特開2004-243497号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-243497 特開昭62-279992号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-279992 特開2014-144539号公報JP 2014-144539 A 特開2016-168657号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-168657 特開平8-267361号公報Japanese Patent Application Publication No. 8-267361 特開2002-210658号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-210658

本発明は上記背景技術に鑑みてなされたものであり、その課題は、ショットブラスト処理によるフィルムの粗面化加工において、加工後のフィルムに残砂の問題が発生しにくい方法を提供することにある。 The present invention was made in consideration of the above-mentioned background art, and its objective is to provide a method for roughening a film surface by shot blasting that is less likely to result in the problem of residual sand remaining on the film after processing.

ショットブラストにおいて、研磨材を循環利用する際には、粒径が小さくなり回収・除去され、新たな研磨材が投入される。新たに投入する研磨材は、粒径は一定でなく、粒径分布がある。 When abrasives are recycled during shot blasting, they become smaller in particle size and are collected and removed, and new abrasives are added. The particle size of the newly added abrasives is not uniform, but has a particle size distribution.

本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ショットブラスト処理後のフィルムに突き刺さる残砂は、数十~数百μm程の大きさであり、このような残砂は、研磨材を新たに投入した直後に発生する傾向があることを見出した。このことから、本発明者は、新たに投入された研磨材、言い換えれば使用開始直後の研磨材が、粗面化加工の際に残砂が生じる主要因となっていると推測した。
そして、本発明者は、新たに投入された研磨材の平均粒径が大きいと、研磨材の粒子が割れやすくなると考え、新たに投入する研磨材から、粗大粒子(粒径の大きな粒子)を予め分級や破砕等で除去しておくことにより、粗面化加工後のフィルムに生じる残砂を劇的に減少させることができることを見出して、本発明を完成するに至った。
As a result of intensive research to solve the above problems, the inventors have found that the residual sand stuck in the film after shot blasting is about several tens to several hundreds of μm in size, and that such residual sand tends to be generated immediately after new abrasives are added. From this, the inventors have speculated that the newly added abrasives, in other words, the abrasives immediately after starting use, are the main cause of the residual sand generated during the roughening process.
The inventors then considered that if the average particle size of the newly added abrasive is large, the particles of the abrasive will be more likely to crack, and discovered that by removing coarse particles (particles with large particle sizes) from the newly added abrasive in advance by classification, crushing, etc., it is possible to dramatically reduce the amount of residual sand remaining on the film after roughening processing, which led to the completion of the present invention.

すなわち、本発明は、研磨材を循環して使用するショットブラスト処理であって、循環により粒径の小さくなった研磨材を回収することにより装置内から除去し、除去される研磨材よりも体積平均粒径の大きい新たな研磨材を装置内に投入するショットブラスト処理によりフィルムを粗面化加工する加工フィルムの製造方法において、
新たに投入される研磨材が、粗大粒子が除去されたものであることを特徴とする加工フィルムの製造方法を提供するものである。
That is, the present invention relates to a method for producing a processed film in which a film is roughened by a shot blasting process in which an abrasive is circulated and used, and the abrasive whose particle size has become smaller through the circulation is removed from the device by collecting it, and new abrasive having a volume average particle size larger than that of the removed abrasive is introduced into the device,
The present invention provides a method for producing a processed film, characterized in that the newly added abrasive is one from which coarse particles have been removed.

本発明によれば、ショットブラスト処理によるフィルムの粗面化加工において、加工後のフィルムに残砂の問題が発生しにくい方法を提供することができる。 The present invention provides a method for roughening a film surface by shot blasting that is less likely to result in residual sand remaining on the film after processing.

ショットブラストにおいては、研磨材の平均粒径が大きい方が表面粗さ(Ra)を大きくしやすく、加工スピードも上げることができ、工業的に粗面化フィルムを生産する場合に有利である。しかし、粒径の大きい研磨材の粒子は割れやすく、フィルムに突き刺さり残砂の発生の要因になりやすい。
本発明においては、平均粒径の大きい研磨材を使用した場合であっても、粗大粒子を予め除去しておくことにより、残砂の発生を劇的に減少させることができる。
In shot blasting, a larger average particle size of abrasive material makes it easier to increase the surface roughness (Ra) and the processing speed, which is advantageous for industrial production of roughened films. However, large particle size abrasive particles tend to break and become stuck in the film, causing residual sand.
In the present invention, even when an abrasive having a large average particle size is used, the generation of residual sand can be dramatically reduced by removing the coarse particles in advance.

粗面化後のフィルムに残砂があった場合、粗面化加工後にコーティング加工等の加工をされたフィルム(最終製品)の歩留まりが低下する。
本発明の方法では、平均粒径の大きい研磨材を使用した場合であっても、粗面化加工後のフィルムにおける残砂が非常に少ないので、コーティング加工等の加工をされたフィルムの歩留まりが向上する。
本発明の方法により粗面化加工した場合、粗大粒子の除去にかかるコストを考慮したとしても、粗面化加工の生産性を向上でき、最終製品の歩留まりも向上することから、一連のプロセスにおけるコストを抑制することができる。
If sand remains on the film after roughening, the yield of the film (final product) that is subjected to coating or other processing after roughening will decrease.
In the method of the present invention, even when an abrasive having a large average particle size is used, the amount of sand remaining on the film after the surface roughening process is very small, thereby improving the yield of films that have been processed, such as coated films.
When roughening is performed using the method of the present invention, even when the cost of removing coarse particles is taken into consideration, the productivity of the roughening process can be improved and the yield of the final product can also be improved, thereby reducing the costs of the entire process.

本発明のショットブラスト処理の概念図を示す。1 shows a conceptual diagram of the shot blasting process of the present invention. 比較例3で使用した研磨材Cの粒度分布を示す。1 shows the particle size distribution of abrasive C used in Comparative Example 3. 実施例2で使用した研磨材Eの粒度分布を示す。1 shows the particle size distribution of abrasive E used in Example 2.

以下、本発明について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、任意に変形して実施することができる。 The present invention will be described below, but it is not limited to the following embodiments and can be implemented in any desired manner.

本発明は、ショットブラスト処理によりフィルムを粗面化加工する、加工フィルムの製造方法である。 This invention is a method for producing processed film, in which the film is roughened by shot blasting.

図1に本発明のショットブラスト処理の概念図を示す。本発明のショットブラスト処理では、研磨材は、循環して使用される。
本発明において、ショットブラスト装置(以下、単に「装置」という場合がある。)としては、研磨材を循環利用できる公知のショットブラスト装置を適宜使用することができる。
A conceptual diagram of the shot blasting treatment of the present invention is shown in Figure 1. In the shot blasting treatment of the present invention, the abrasive is recycled for use.
In the present invention, as the shot blasting machine (hereinafter sometimes simply referred to as "machine"), any known shot blasting machine capable of recycling abrasives can be used as appropriate.

本発明において使用される研磨材に特に限定はなく、例えば、珪砂、アルミナ、カーボランダム、セラミックビーズ、ガラスビーズ等が例示できる。
この中でも、粒径分布がブロードであり、粗大粒子を含む場合の多い珪砂が、本発明の適用対象として最適である。以下、本明細書においては、主に研磨材が砂(珪砂)である場合を例にして説明するが、本発明において、研磨材は必ずしも砂(珪砂)に限られるわけではない。
There is no particular limitation on the abrasive material used in the present invention, and examples thereof include silica sand, alumina, carborundum, ceramic beads, and glass beads.
Among these, silica sand, which has a broad particle size distribution and often contains coarse particles, is the most suitable for application of the present invention. In the following description, the case where the abrasive is sand (silica sand) will be mainly described as an example, but the abrasive in the present invention is not necessarily limited to sand (silica sand).

本発明において、新たに投入される研磨材(以下、「新砂」という。)1は、ショットブラスト装置10のタンク11より装置内に投入される。投入された研磨材はローター12に送り込まれ、ローター12から噴射され、走行するフィルムFの表面に衝突し、フィルムFの表面が粗面化される。 In the present invention, newly added abrasive material (hereinafter referred to as "new sand") 1 is introduced into the shot blasting device 10 from the tank 11. The introduced abrasive material is sent to the rotor 12, where it is ejected from the rotor 12 and collides with the surface of the traveling film F, roughening the surface of the film F.

フィルムFの表面に衝突した研磨材は、衝突により割れることにより、粒径が小さくなっていく。ローター12から噴射された研磨材は、装置10内の循環路13を経由し、再びタンク11に回収され、再びローター12に送り込まれ、ローター12から噴射され、フィルムFの表面に衝突する。装置10内を循環する研磨材を、以下、「循環砂2」という場合がある。 The abrasive that collides with the surface of the film F breaks upon impact, reducing its particle size. The abrasive sprayed from the rotor 12 passes through the circulation path 13 within the device 10, is collected back into the tank 11, is sent back to the rotor 12, is sprayed from the rotor 12, and collides with the surface of the film F. Hereinafter, the abrasive circulating within the device 10 may be referred to as "circulating sand 2."

研磨材の粒径が小さくなり過ぎると、フィルムを粗面化加工する能力を十分に果たすことができなくなる。このため、循環により粒径の小さくなった研磨材は、例えば、エアー(空気)により回収され、回収路14を経由し、装置10の内部から除去される。回収路14より除去される研磨材を、以下、「回収砂3」という場合がある。 If the particle size of the abrasive becomes too small, it will no longer be able to fully roughen the film. For this reason, the abrasive, whose particle size has been reduced through circulation, is collected, for example, by air and removed from the inside of the device 10 via the recovery path 14. Hereinafter, the abrasive removed from the recovery path 14 may be referred to as "recovered sand 3."

回収砂3が除去されることで、装置10内を循環する研磨材の量が減少するので、その分、新たな研磨材(新砂)1をタンク11より投入する。新たな研磨材(新砂)1は、除去される研磨材(回収砂)3よりも体積平均粒径が大きい。
研磨材は、循環使用により、粒径が減少するところ、粒径の小さくなった回収砂3を除去し、その分、粒径が大きい新砂1を投入することにより、研磨材の粗面化加工の能力(フィルムの表面粗さを下げる能力)を保持している。
As the amount of abrasive circulating within the device 10 decreases due to the removal of the recovered sand 3, new abrasive (new sand) 1 is added to replace the reduced amount from the tank 11. The new abrasive (new sand) 1 has a larger volume average particle size than the abrasive (recovered sand) 3 being removed.
The particle size of the abrasive decreases as it is recycled, but by removing the recovered sand 3 with a smaller particle size and adding new sand 1 with a larger particle size instead, the abrasive's ability to roughen the surface (ability to reduce the surface roughness of the film) is maintained.

研磨材同士の衝突やローターや装置壁面との衝突により、割れた研磨材は、フィルムと衝突した際に、フィルムに突き刺さり、フィルムに残砂が発生する。フィルム中の残砂は、粗面化加工後のフィルムに、コーティング加工等を施した際に不具合を生じ、歩留まり低下の原因となる。研磨材が割れる現象は、新砂の投入直後に発生しやすく、研磨材の循環を進めていくと発生しにくくなる。 When abrasives collide with each other or with the rotor or equipment walls, the broken abrasives pierce the film when they collide, leaving sand residue on the film. The remaining sand in the film can cause problems when coating processes are applied to the roughened film, resulting in reduced yields. Abrasives are likely to break immediately after new sand is added, but become less likely to occur as the abrasives are circulated.

研磨材が割れる現象は、研磨材の粒径が大きいほど発生しやすいと考えられることから、残砂の発生を抑制するためには、新たな研磨材(新砂)の平均粒径を抑える、というアプローチが考えられる。
しかし、そのようにした場合、研磨材の粗面化加工の能力(フィルムの表面粗さを下げる能力)が低下するため、研磨材の使用量が増加したり、加工スピード(フィルムの走行スピード)を落とさざるを得なくなったりするため、生産性の低下につながり、環境面でも経済的にも好ましくない。
Since it is thought that the phenomenon of abrasive cracking is more likely to occur the larger the particle size of the abrasive, one approach to suppress the generation of residual sand is to reduce the average particle size of new abrasive (new sand).
However, doing so reduces the abrasive's ability to roughen the surface (its ability to reduce the surface roughness of the film), which increases the amount of abrasive used or makes it necessary to slow down the processing speed (the running speed of the film), leading to reduced productivity and being undesirable from both an environmental and economic perspective.

本発明においては、タンク11より新たに投入される研磨材(新砂)は、粗大粒子が除去されたものである。
研磨材の粒径は、一定ではなく、粒径分布がある。フィルム中の残砂の問題は、新砂(循環砂よりも平均粒径が大きい)の中でも、特に粒径の大きな粗大粒子によって引き起こされており、かかる粗大粒子を予め除去しておくことにより、粗大粒子が割れることによって生じる残砂を劇的に減少させることができることを、本発明者らは見出した。本発明では、新砂から粗大粒子を除去することにより、粗面化加工後のフィルムに生じる残砂を劇的に減少させることができる。
In the present invention, the abrasive (new sand) newly charged from the tank 11 has had coarse particles removed.
The particle size of the abrasive is not uniform, but has a particle size distribution. The problem of residual sand in the film is caused by coarse particles, especially large particles, among the new sand (which has an average particle size larger than the recycled sand). The inventors have discovered that by removing such coarse particles in advance, the amount of residual sand caused by the cracking of the coarse particles can be dramatically reduced. In this invention, by removing the coarse particles from the new sand, the amount of residual sand generated in the film after surface roughening can be dramatically reduced.

粗大粒子を除去する方法には、特に限定はないが、メッシュによる篩分け、遠心分離機による分級、粉砕機置等による粗粒の破砕等が例示できる。 There are no particular limitations on the method for removing coarse particles, but examples include sieving through a mesh, classifying using a centrifuge, and crushing coarse particles using a grinder, etc.

研磨材の種類にもよるが、新たに投入される研磨材粒子は、球形に近い形状でない場合も多い。特に、研磨材が珪砂の場合、形状が様々な場合が多く、粒子の長辺の長さ(L)を短辺の長さ(S)で割った値(L/S)は、1~3程度となっていることが多い。 Depending on the type of abrasive, newly added abrasive particles are often not nearly spherical. In particular, when the abrasive is silica sand, the shapes often vary, and the value (L/S) obtained by dividing the particle's long side length (L) by its short side length (S) is often around 1 to 3.

本発明においては、新たに投入される研磨材(新砂)は、粗大粒子が除去されたものであるところ、「粗大粒子」とは、粒子の長辺の長さ(L)と短辺の長さ(S)の平均値(L+S)/2が、例えば、300μm以上、310μm以上、330μm以上、350μm以上、370μm以上、400μm以上、450μm以上、500μm以上、等である粒子のことをいう。 In the present invention, newly added abrasive (new sand) has had coarse particles removed, and "coarse particles" refers to particles whose average value (L+S)/2 of the long side length (L) and short side length (S) of the particle is, for example, 300 μm or more, 310 μm or more, 330 μm or more, 350 μm or more, 370 μm or more, 400 μm or more, 450 μm or more, 500 μm or more, etc.

このような大きさの粗大粒子は、研磨材(新砂)の中にわずかな量であっても含まれていると、残砂の発生の原因となる。すなわち、粗大粒子が割れる現象が発生していると考えられる。研磨材の循環を進めていくと(新砂の投入から時間が十分に経過すると)残砂が発生しにくくなるのは、粗大粒子が割れたり、角が取れて細かく(粒径が小さく)なったりしたためと推察される。 Even small amounts of coarse particles of this size contained in the abrasive (new sand) can cause residual sand to be generated. In other words, it is thought that the coarse particles are breaking. As the abrasive circulation progresses (sufficient time has passed since the new sand was added), residual sand is less likely to be generated, which is presumably because the coarse particles have broken or become rounded and become finer (smaller particle size).

新たに投入される研磨材(新砂)において、体積平均粒径(Mv)と個数平均粒径(Mn)で除した値(Mv/Mn)は、2.0以下であることが好ましく、1.8以下であることがより好ましく、1.6以下であることが特に好ましく、1.5以下であることが最も好ましい。
Mv/Mnが上記上限以下であると、粗大粒子が十分に除去されており、粗大粒子の割れによる研磨材の突き刺さり(ひいてはそれに起因するフィルム中の残砂)を十分に抑制することができる。
For newly added abrasive (new sand), the value obtained by dividing the volume average particle diameter (Mv) by the number average particle diameter (Mn) (Mv/Mn) is preferably 2.0 or less, more preferably 1.8 or less, particularly preferably 1.6 or less, and most preferably 1.5 or less.
When Mv/Mn is equal to or less than the upper limit, coarse particles are sufficiently removed, and the abrasive material can be prevented from piercing the film due to cracking of the coarse particles (and thus the resulting residual sand in the film).

本発明では、前記した方法で粗大粒子を除去するが、粗大粒子を除去する操作により除去される粗大粒子の量は、該操作に供される研磨材粒子全体に対して、概ね、0.5質量%以上、大体は1.0質量%以上である。また、概ね、10.0質量%以下、大体は5.0質量%以下である。
すなわち、除去される粗大粒子はごく僅かにすぎないが、このごく僅かの粗大粒子が割れることで、フィルム加工後の残砂の原因となる。
In the present invention, the coarse particles are removed by the above-mentioned method, and the amount of the coarse particles removed by the operation of removing the coarse particles is generally 0.5% by mass or more, and generally 1.0% by mass or more, based on the total amount of the abrasive particles subjected to the operation, and is generally 10.0% by mass or less, and generally 5.0% by mass or less.
That is, although only a very small number of coarse particles are removed, these very small number of coarse particles break and cause sand residue after film processing.

本発明のショットブラスト処理においては、通常、加工対象物であるフィルムを、略一定速度で走行させながら、フィルムの走行経路上に設置されたローターから噴出される研磨材を、フィルム表面に衝突させる。 In the shot blasting process of the present invention, the workpiece, a film, is typically moved at a substantially constant speed while abrasive material is sprayed from a rotor installed along the film's path and collided with the film's surface.

本発明において、定常状態では、ショットブラスト装置の内部を略一定量の研磨材が循環する。
装置の内部を循環する研磨材の量は、50kg以上であることが好ましく、100kg以上であることがより好ましく、200kg以上であることが特に好ましい。また、5000kg以下であることが好ましく、3000kg以下であることがより好ましく、2000kg以下であることが特に好ましい。
上記下限以上であると、フィルムの表面粗さを十分に低下させることができる。また、上記上限以下であると、加工コストを十分に抑制できる。
In the present invention, in a steady state, a substantially constant amount of abrasive circulates inside the shot blasting device.
The amount of abrasive circulating inside the device is preferably 50 kg or more, more preferably 100 kg or more, and particularly preferably 200 kg or more, and is preferably 5000 kg or less, more preferably 3000 kg or less, and particularly preferably 2000 kg or less.
When the content is equal to or greater than the lower limit, the surface roughness of the film can be sufficiently reduced, and when the content is equal to or less than the upper limit, the processing costs can be sufficiently reduced.

本発明において、粒径が小さくなった研磨材は、エアー(空気)により回収される。回収される研磨材(回収砂)の粒径(長辺の長さと短辺の長さの平均)は、110μm以下とすることが好ましく、90μm以下とすることがより好ましく、75μm以下とすることが特に好ましい。
上記上限以下とすることで、フィルムの表面粗さと経済性を両立させることができる。
In the present invention, the abrasive particles having a reduced particle size are collected by air. The particle size (average of the long and short sides) of the collected abrasive particles (recovered sand) is preferably 110 μm or less, more preferably 90 μm or less, and particularly preferably 75 μm or less.
By adjusting the thickness to the above upper limit or less, both the surface roughness of the film and economic efficiency can be achieved.

回収砂として装置内から除去される分の量に相当する研磨材を、新たに装置内に投入する。新たに投入される研磨材(新砂)は、定期的にまとめて投入するようにしてもよいし常時投入するようにしてもよい。 New abrasive material equivalent to the amount removed from the device as recovered sand is added to the device. New abrasive material (new sand) can be added in batches on a regular basis, or it can be added all the time.

新砂を定期的にまとめて投入する場合、投入間隔は、4分以上であることが好ましく、10分以上であることがより好ましく、20分以上であることが特に好ましい。また、180分以下であることが好ましく、120分以下であることがより好ましく、60分以下であることが特に好ましい。 When new sand is added periodically in large quantities, the addition interval is preferably at least 4 minutes, more preferably at least 10 minutes, and particularly preferably at least 20 minutes. It is also preferable that the interval be no more than 180 minutes, more preferably no more than 120 minutes, and particularly preferably no more than 60 minutes.

この場合、1回あたりの投入量は、5kg以上であることが好ましく、10kg以上であることがより好ましく、20kg以上であることが特に好ましい。また、100kg以下であることが好ましく、80kg以下であることがより好ましく、60kg以下であることが特に好ましい。 In this case, the amount of material to be fed per load is preferably 5 kg or more, more preferably 10 kg or more, and particularly preferably 20 kg or more. It is also preferable that the amount be 100 kg or less, more preferably 80 kg or less, and particularly preferably 60 kg or less.

定期的にまとめて投入する場合も、常時投入する場合も、新砂の投入量は、5kg/分以上であることが好ましく、10kg/分以上であることがより好ましく、20kg/分以上であることが特に好ましい。また、100kg/分以下であることが好ましく、80kg/分以下であることがより好ましく、60kg/分以下であることが特に好ましい。 Whether adding new sand in batches periodically or continuously, the amount of new sand added is preferably 5 kg/min or more, more preferably 10 kg/min or more, and particularly preferably 20 kg/min or more. It is also preferably 100 kg/min or less, more preferably 80 kg/min or less, and particularly preferably 60 kg/min or less.

新砂の投入量・投入間隔が上記範囲内であると、フィルムの表面粗さを十分に低下させることができ、また、加工コストを十分に抑制できる。 When the amount and interval of new sand added are within the above ranges, the surface roughness of the film can be sufficiently reduced and processing costs can be kept to a minimum.

本発明において、加工対象物である(粗面化加工を施される)フィルムの材質に特に限定はなく、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)、無延伸ポリプロピレンフィルム(CPP)、延伸ポリプロピレンフィルム(OPP)、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリイミド(PI)、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド(PPS)等のフィルムが本発明に適用できる。 In the present invention, there are no particular limitations on the material of the film to be processed (the film to be roughened), and films such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate, polyarylate, polyethylene, polypropylene (PP), unstretched polypropylene film (CPP), oriented polypropylene film (OPP), diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), polyacrylate, polymethacrylate, polyimide (PI), polyamide, and polyphenylene sulfide (PPS) can be used in the present invention.

本発明において、粗面化加工を施されるフィルムの加工前の平均厚さに特に限定はないが、4μm以上であることが好ましく、12μm以上であることがより好ましく、25μm以上であることが特に好ましい。また、2000μm以下であることが好ましく、1000μm以下であることがより好ましく、250μm以下であることが特に好ましい。
研磨材の突き刺さりに起因する残砂は、フィルムが薄くなるほど発生しやすく、残砂による影響(不具合)も、フィルムが薄くなるほど顕著になる。フィルムの平均厚さが上記上限以下だと、残砂を抑制する意義が大きくなり、本発明の恩恵を受けやすい。
In the present invention, the average thickness of the film to be roughened before processing is not particularly limited, but is preferably 4 μm or more, more preferably 12 μm or more, and particularly preferably 25 μm or more, and is preferably 2000 μm or less, more preferably 1000 μm or less, and particularly preferably 250 μm or less.
The thinner the film, the more likely it is that residual sand will be generated due to the abrasive penetrating the film, and the thinner the film, the more significant the effects (defects) caused by residual sand will be. If the average thickness of the film is below the upper limit, the significance of suppressing residual sand becomes greater, and the benefits of the present invention are more easily realized.

本発明のショットブラスト処理において、フィルムの走行速度は、1m/min以上であることが好ましく、3m/min以上であることがより好ましく、5m/min以上であることが特に好ましい。また、100m/min以下であることが好ましく、70m/minであることがより好ましく、50m/min以下であることが特に好ましい。
上記下限以上であると、生産性の面から好ましい。また、上記上限以下であると、好適にフィルム表面を粗面化することができる。
In the shot blasting treatment of the present invention, the running speed of the film is preferably 1 m/min or more, more preferably 3 m/min or more, and particularly preferably 5 m/min or more, and is preferably 100 m/min or less, more preferably 70 m/min or less, and particularly preferably 50 m/min or less.
A thickness equal to or greater than the lower limit is preferred from the viewpoint of productivity, whereas a thickness equal to or less than the upper limit allows the film surface to be suitably roughened.

走行させるフィルムの幅(走行方向に対して垂直方向の長さ)は、300mm以上であることが好ましく、400mm以上であることがより好ましく、500mm以上であることが特に好ましい。また、2000mm以下であることが好ましく、1500mmであることがより好ましく、1350mm以下であることが特に好ましい。 The width of the film being run (the length perpendicular to the running direction) is preferably 300 mm or more, more preferably 400 mm or more, and particularly preferably 500 mm or more. It is also preferably 2000 mm or less, more preferably 1500 mm or less, and particularly preferably 1350 mm or less.

ローターからフィルムに向けて噴射される研磨材の噴射量は、146kg/Hr以上であることが好ましく、188kg/Hr以上であることがより好ましく、230kg/Hr以上であることが特に好ましい。また、1800kg/Hr以下であることが好ましく、1500kg/Hrであることがより好ましく、1200kg/Hr以下であることが特に好ましい。
上記範囲内であると、十分にフィルム表面を粗面化することができ、また、コスト面からも好ましい。
The rate of abrasive sprayed from the rotor toward the film is preferably 146 kg/Hr or more, more preferably 188 kg/Hr or more, and particularly preferably 230 kg/Hr or more, and is preferably 1800 kg/Hr or less, more preferably 1500 kg/Hr or more, and particularly preferably 1200 kg/Hr or less.
Within the above range, the film surface can be sufficiently roughened, and this is also preferable from the standpoint of cost.

本発明において、ショットブラスト工程を行った後のフィルムの線の算術平均高さ(Ra)(JIS B 0601)は、0.1~2.0μm程度となるようにするのが好ましく、0.2~1.2μm程度となるようにするのが特に好ましい。
フィルムが均一に加工できている場合、面の算術平均高さ(Sa)は、Raと同様の値となる。
In the present invention, the arithmetic mean height (Ra) (JIS B 0601) of the film after the shot blasting step is preferably about 0.1 to 2.0 μm, and particularly preferably about 0.2 to 1.2 μm.
When the film is uniformly processed, the arithmetic mean height (Sa) of the surface is the same value as Ra.

本発明において、ショットブラスト工程を行った後のフィルムの面の最大高さ(Sz)は、1.0~40.0μm程度となるようにするのが好ましく、5.0~35.0μm程度となるようにするのが特に好ましい。 In the present invention, the maximum height (Sz) of the film surface after the shot blasting process is preferably approximately 1.0 to 40.0 μm, and particularly preferably approximately 5.0 to 35.0 μm.

粒径の小さくなった研磨材をエアーで回収する場合を例に説明したが、メッシュによる篩で分級し、回収することも可能である。この場合、エアーでは重さで、篩では大きさで分級することになる。 The example explained was of collecting small particle size abrasives using air, but it is also possible to separate and collect them using a mesh sieve. In this case, the air sorts the particles by weight, while the sieve sorts them by size.

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail below using examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples as long as it does not depart from the gist of the invention.

比較例1
市販の珪砂(以下、「研磨材A」という。)をそのまま(粗大粒子を除去する処置を施さずに)ショットブラスト処理に使用する新砂として使用した。レーザ回折・散乱式粒子径分布測定装置(マイクロトラックMT3000II、マイクロトラック・ベル株式会社製)によって測定したところ、研磨材Aの体積平均粒径(Mv)は188.38μm、個数平均粒径(Mn)は90.89μmだった。
Comparative Example 1
Commercially available silica sand (hereinafter referred to as "Abrasive A") was used as new sand for shot blasting without any treatment to remove coarse particles. Measurements using a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer (Microtrac MT3000II, manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd.) revealed that the volume mean particle size (Mv) of Abrasive A was 188.38 μm and the number mean particle size (Mn) was 90.89 μm.

平均厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(幅1350mm)に対して、ローターの数が12個のショットブラスト装置を使用し、新砂として、36kgの研磨材Aを、15分毎にショットブラスト装置のタンクに投入し、循環使用により粒径の小さくなった研磨材(回収砂)が同じペースで装置内から除去されるようにし、定常状態において400kg前後の研磨材が装置内を循環するように設定した。 A 12-rotor shot blasting machine was used to blast a polyethylene terephthalate (PET) film (1,350 mm wide) with an average thickness of 25 μm. 36 kg of abrasive A was added to the tank of the shot blasting machine every 15 minutes as new sand. The machine was set up so that the abrasive (recycled sand), whose particle size had become smaller through recycling, was removed from the machine at the same rate, and the machine was set up so that around 400 kg of abrasive was circulating within it at steady state.

定常状態において、フィルムの走行速度15m/minで粗面化加工を実施し、粗面化加工完了後のフィルムを水で洗浄し、次いで乾燥した。乾燥後のフィルムを、レーザー顕微鏡によって観察し、100mあたりに存在する突き刺さった研磨材(残砂)の数を算出した。 In a steady state, the film was roughened at a running speed of 15 m/min. After roughening, the film was washed with water and then dried. The dried film was observed using a laser microscope, and the number of abrasive particles (residual sand) that had penetrated the film per 100 m was calculated.

比較例2
研磨材Aに代えて、別の市販の珪砂(以下、「研磨材B」という。)を新砂として使用した以外は、比較例1と同様にしてPETフィルムにショットブラストによる粗面化加工を実施し、洗浄・乾燥後のフィルムの残砂の数を算出した。研磨材Bには、粗大粒子を除去する処置を施しておらず、研磨材Bの体積平均粒径(Mv)は166.12μm、個数平均粒径(Mn)は78.95μmだった。
Comparative Example 2
A PET film was roughened by shot blasting in the same manner as in Comparative Example 1, except that another commercially available silica sand (hereinafter referred to as "Abrasive B") was used as new sand instead of Abrasive A, and the number of sand particles remaining on the film after washing and drying was calculated. Abrasive B was not treated to remove coarse particles, and the volume average particle size (Mv) of Abrasive B was 166.12 μm and the number average particle size (Mn) of Abrasive B was 78.95 μm.

比較例3
研磨材Aに代えて、別の市販の珪砂(以下、「研磨材C」という。)を新砂として使用した以外は、比較例1と同様にしてPETフィルムにショットブラストによる粗面化加工を実施し、洗浄・乾燥後のフィルムの残砂の数を算出した。研磨材Bには、粗大粒子を除去する処置を施しておらず、研磨材Bの体積平均粒径(Mv)は141.82μm、個数平均粒径(Mn)は78.64μmだった。
Comparative Example 3
A PET film was roughened by shot blasting in the same manner as in Comparative Example 1, except that another commercially available silica sand (hereinafter referred to as "Abrasive C") was used as new sand instead of Abrasive A, and the number of sand particles remaining on the film after washing and drying was calculated. Abrasive B was not treated to remove coarse particles, and the volume average particle size (Mv) of Abrasive B was 141.82 μm and the number average particle size (Mn) was 78.64 μm.

実施例1
比較例2において、研磨材Bから#70のメッシュを使用したインラインによる分級により粗大粒子を除去した研磨材(以下、「研磨材D」という。)を新砂として使用した以外は、比較例2と同様にしてPETフィルムにショットブラストによる粗面化加工を実施し、洗浄・乾燥後のフィルムの残砂の数を算出した。研磨材Dの体積平均粒径(Mv)は134.94μm、個数平均粒径(Mn)は89.10μmだった。
Example 1
In Comparative Example 2, a PET film was roughened by shot blasting in the same manner as in Comparative Example 2, except that a new abrasive (hereinafter referred to as "abrasive D") obtained by removing coarse particles from abrasive B by in-line classification using a #70 mesh was used as new sand, and the number of sand particles remaining on the film after washing and drying was calculated. The volume average particle size (Mv) of abrasive D was 134.94 μm, and the number average particle size (Mn) was 89.10 μm.

実施例2
比較例3において、研磨材Cから#70のメッシュを使用したインラインによる分級により粗大粒子を除去した研磨材(以下、「研磨材E」という。)を新砂として使用した以外は、比較例3と同様にしてPETフィルムにショットブラストによる粗面化加工を実施し、洗浄・乾燥後のフィルムの残砂の数を算出した。研磨材Eの体積平均粒径(Mv)は131.00μm、個数平均粒径(Mn)は86.85μmだった。
Example 2
In Comparative Example 3, a PET film was roughened by shot blasting in the same manner as in Comparative Example 3, except that a new abrasive (hereinafter referred to as "abrasive E") obtained by removing coarse particles from abrasive C by in-line classification using a #70 mesh was used as the new sand, and the number of sand particles remaining on the film after washing and drying was calculated. The volume average particle size (Mv) of abrasive E was 131.00 μm, and the number average particle size (Mn) was 86.85 μm.

実施例3
比較例3において、研磨材Cから#90のメッシュを使用したインラインによる分級により粗大粒子を除去した研磨材(以下、「研磨材F」という。)を新砂として使用した以外は、比較例3と同様にしてPETフィルムにショットブラストによる粗面化加工を実施し、洗浄・乾燥後のフィルムの残砂の数を算出した。研磨材Fの体積平均粒径(Mv)は131.39μm、個数平均粒径(Mn)は89.91μmだった。
Example 3
In Comparative Example 3, a PET film was roughened by shot blasting in the same manner as in Comparative Example 3, except that a new abrasive (hereinafter referred to as "abrasive F") obtained by removing coarse particles from abrasive C by in-line classification using a #90 mesh was used as the new sand, and the number of sand particles remaining on the film after washing and drying was calculated. The volume average particle size (Mv) of abrasive F was 131.39 μm, and the number average particle size (Mn) was 89.91 μm.

各実施例・比較例における結果を表1に示す。 The results for each example and comparative example are shown in Table 1.

上記表1の結果から明らかなように、実施例1~3においては、粗大粒子を除去した研磨材を使用してショットブラスト処理を行うことによって、粗面化加工後のフィルムに残存する残砂を劇的に減少することができた。
比較例1~3においては、残砂の量が多かった。残砂は、新砂を投入した直後のタイミングで発生する傾向があった。
As is clear from the results in Table 1 above, in Examples 1 to 3, by performing shot blasting using an abrasive from which coarse particles had been removed, it was possible to dramatically reduce the amount of residual sand remaining on the film after the roughening process.
In Comparative Examples 1 to 3, the amount of residual sand was large. The residual sand tended to occur immediately after new sand was added.

比較例3で使用した研磨材Cと実施例2で使用した研磨材Eの粒度分布を、それぞれ図2及び図3に示す。研磨材Cには、長辺と短辺の長さを合計して2で割った値が、310μmを超える粗大粒子が確認できるが(図2)、研磨材Eには、該値が310μmを超える粗大粒子は確認できない(図3)。また、該値が310μm未満の粒子の粒度分布は、研磨材Cと研磨材Eとでほとんど変わらない。
このことから、わずかに存在する粗大粒子が、フィルムに発生する残砂の原因となっていることがわかる。
The particle size distributions of Abrasive C used in Comparative Example 3 and Abrasive E used in Example 2 are shown in Figures 2 and 3, respectively. In Abrasive C, coarse particles with a value obtained by dividing the sum of the long and short sides by 2 exceeding 310 μm can be seen (Figure 2), but in Abrasive E, no coarse particles with this value exceeding 310 μm can be seen (Figure 3). Furthermore, the particle size distribution of particles with this value less than 310 μm is almost the same between Abrasive C and Abrasive E.
This indicates that the small amount of coarse particles present is the cause of residual sand remaining on the film.

本発明の加工フィルムの製造方法は、粗面加工後のフィルムに残砂の問題が発生しにくいので、電子機器用、半導体製造用、等の用途に使用される、基材フィルムや工程用フィルムの製造に広く利用されるものである。 The process for producing processed films of the present invention is less likely to result in residual sand remaining on the film after roughening, and is therefore widely applicable to the production of base films and process films used in applications such as electronic devices and semiconductor manufacturing.

1 新砂
2 循環砂
3 回収砂
10 装置(ショットブラスト装置)
11 タンク
12 ローター
13 循環路
14 回収路
F フィルム
1 New sand 2 Circulating sand 3 Reclaimed sand 10 Equipment (shot blasting equipment)
11 Tank 12 Rotor 13 Circulation path 14 Recovery path F Film

Claims (6)

研磨材を循環して使用するショットブラスト処理であって、循環により粒径の小さくなった研磨材を回収することにより装置内から除去し、除去される研磨材よりも体積平均粒径の大きい新たな研磨材を装置内に投入するショットブラスト処理によりフィルムを粗面化加工する加工フィルムの製造方法において、
新たに投入される研磨材が、長辺と短辺の長さの平均値が300μm以上の粗大粒子が除去されたものであることを特徴とする加工フィルムの製造方法。
In a method for producing a processed film, a film is roughened by a shot blasting process in which an abrasive is circulated and used, and the abrasive whose particle size has become smaller through the circulation is removed from the device by collecting it, and new abrasive having a volume average particle size larger than that of the removed abrasive is introduced into the device.
A method for producing a processed film, characterized in that the newly added abrasive has had coarse particles with an average length of 300 μm or more on its long and short sides removed.
新たに投入される研磨材において、体積平均粒径を個数平均粒径で除した値が2.0以下である請求項1に記載の加工フィルムの製造方法。 The method for manufacturing processed film according to claim 1, wherein the volume average particle diameter divided by the number average particle diameter of the newly added abrasive is 2.0 or less. 前記研磨材が珪砂である請求項1又は請求項2に記載の加工フィルムの製造方法。3. The method for producing a processed film according to claim 1, wherein the abrasive is silica sand. メッシュによる篩分けにより前記粗大粒子を除去する請求項1ないし請求項3の何れかの請求項に記載の加工フィルムの製造方法。 A method for producing a processed film according to any one of claims 1 to 3, wherein the coarse particles are removed by sieving through a mesh. 回収される研磨材の長辺と短辺の長さの平均値が、110μm以下である請求項1ないし請求項4の何れかの請求項に記載の加工フィルムの製造方法。 A method for manufacturing a processed film according to any one of claims 1 to 4, wherein the average length of the long and short sides of the recovered abrasive material is 110 μm or less. 前記装置内に投入する研磨材の投入量が、5kg/分以上100kg/分以下である請求項1ないし請求項5の何れかの請求項に記載の加工フィルムの製造方法。 A method for manufacturing processed film according to any one of claims 1 to 5, wherein the rate of abrasive material fed into the device is 5 kg/min or more and 100 kg/min or less.
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Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000094327A (en) 1998-09-25 2000-04-04 Nobutaka Ono Weight reduction machining method by blasting for sheetlike object and device thereof
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