JP7724207B2 - Sealant, cured product, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing organic electroluminescent display device - Google Patents
Sealant, cured product, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing organic electroluminescent display deviceInfo
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Description
本発明は、封止剤、硬化体、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a sealant, a cured product, an organic electroluminescent display device, and a method for manufacturing an organic electroluminescent display device.
近年、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示素子や有機薄膜太陽電池素子等の有機薄膜素子を用いた有機光デバイスの研究が進められている。有機薄膜素子は真空蒸着や溶液塗布等により簡便に作製できるため、生産性に優れる。In recent years, research has been progressing on organic optical devices using organic thin-film elements, such as organic electroluminescence (organic EL) display elements and organic thin-film solar cell elements. Organic thin-film elements are easy to fabricate using methods such as vacuum deposition and solution coating, making them highly productive.
有機EL表示素子は、互いに対向する一対の電極間に有機発光材料層が挟持された薄膜構造体である。この有機発光材料層に一方の電極から電子が注入されるとともに他方の電極から正孔が注入されることにより有機発光材料層内で電子と正孔とが結合して自己発光を行う。バックライトを必要とする液晶表示素子等と比較して視認性がよく、より薄型化が可能であり、かつ、直流低電圧駆動が可能であるという利点を有する。 Organic EL display elements are thin-film structures in which an organic light-emitting material layer is sandwiched between a pair of opposing electrodes. Electrons are injected into this organic light-emitting material layer from one electrode, and holes are injected from the other electrode, causing the electrons and holes to combine within the organic light-emitting material layer, resulting in self-luminescence. Compared to liquid crystal display elements and other devices that require backlighting, organic EL display elements have the advantages of better visibility, thinner construction, and low DC voltage operation.
ところが、このような有機EL表示素子は、有機発光材料層や電極が外気に曝されるとその発光特性が急激に劣化し寿命が短くなるという問題があった。従って、有機EL表示素子の安定性及び耐久性を高めることを目的として、有機EL表示素子においては、有機発光材料層や電極を大気中の水分や酸素から遮断する封止技術が不可欠となっている。However, such organic EL display elements have the problem that their light-emitting characteristics rapidly deteriorate and their lifespan shortens when the organic light-emitting material layer or electrodes are exposed to the outside air. Therefore, in order to improve the stability and durability of organic EL display elements, sealing technology that isolates the organic light-emitting material layer and electrodes from moisture and oxygen in the air is essential.
例えば、特許文献1には、上面発光型有機EL表示素子等において、有機EL表示素子基板の間に光硬化性の封止剤を満たし、光を照射して封止する方法が開示されている。また、特許文献2~4には、有機EL表示素子を封止し、水分による劣化を防止する技術が開示されている。For example, Patent Document 1 discloses a method for sealing top-emitting organic EL display elements by filling the gap between organic EL display element substrates with a photocurable sealant and irradiating it with light. Patent Documents 2 to 4 also disclose techniques for sealing organic EL display elements to prevent deterioration due to moisture.
一方、特許文献5には、(A)エポキシ化合物と(B)エポキシ樹脂と(C)光カチオン重合開始剤を含有し、かつ、水分量が1000ppm以下であり、塩素量が1000ppm以下である樹脂組成物が開示されている。しかしながら、特許文献5は、重合性化合物の比重に関する記載はない。 On the other hand, Patent Document 5 discloses a resin composition containing (A) an epoxy compound, (B) an epoxy resin, and (C) a photocationic polymerization initiator, and having a moisture content of 1,000 ppm or less and a chlorine content of 1,000 ppm or less. However, Patent Document 5 does not disclose the specific gravity of the polymerizable compound.
特許文献6には、カチオン重合性化合物、光カチオン重合開始剤、及び、特定形状の板状の微粒子無機フィラーを含有した光硬化型樹脂組成物が開示されている。しかしながら、特許文献6に記載の組成物では、十分な透湿性が得られず、有機エレクトロルミネッセンス表示素子への適用は困難であった。また、特許文献6には、重合性化合物の比重に関する記載はない。 Patent Document 6 discloses a photocurable resin composition containing a cationically polymerizable compound, a photocationic polymerization initiator, and a plate-like inorganic filler particle of a specific shape. However, the composition described in Patent Document 6 does not provide sufficient moisture permeability, making it difficult to apply to organic electroluminescent display elements. Furthermore, Patent Document 6 does not disclose the specific gravity of the polymerizable compound.
特許文献7には、多官能カチオン重合性化合物と、有機化層状珪酸塩と、硬化剤とを含有し、前記有機化層状珪酸塩は、前記多官能カチオン重合性化合物中に分散し、前記有機化層状珪酸塩の含有量が、前記多官能カチオン重合性化合物100重量部に対して、20~250重量部であることを特徴とする透明性及びバリア性に優れる有機エレクトロルミネッセンス表示素子封止用硬化性樹脂組成物が開示されている。しかしながら、特許文献7に記載の樹脂組成物では、十分な透湿性が得られない場合があった。また、特許文献7には、重合性化合物の比重に関する記載がない。 Patent Document 7 discloses a curable resin composition for encapsulating organic electroluminescent display elements, which has excellent transparency and barrier properties and is characterized by containing a polyfunctional cationically polymerizable compound, an organo-modified layered silicate, and a curing agent, the organo-modified layered silicate being dispersed in the polyfunctional cationically polymerizable compound, and the content of the organo-modified layered silicate being 20 to 250 parts by weight per 100 parts by weight of the polyfunctional cationically polymerizable compound. However, the resin composition described in Patent Document 7 sometimes fails to provide sufficient moisture permeability. Furthermore, Patent Document 7 does not disclose the specific gravity of the polymerizable compound.
特許文献8には、特定の比率で(a)エポキシ化合物及び(b)前記エポキシ化合物と反応性の架橋性基を2個以上有する化合物を含有し、屈折率が1.6以上である透明性かつ低透湿性のエポキシ樹脂組成物が開示されている。しかしながら、特許文献8に記載の樹脂組成物では、十分な透湿性が得られない場合があった。また、特許文献8には、重合性化合物の比重に関する記載はない。 Patent Document 8 discloses a transparent, low-moisture permeability epoxy resin composition having a refractive index of 1.6 or higher, which contains a specific ratio of (a) an epoxy compound and (b) a compound having two or more crosslinkable groups reactive with the epoxy compound. However, the resin composition described in Patent Document 8 sometimes fails to achieve sufficient moisture permeability. Furthermore, Patent Document 8 does not disclose the specific gravity of the polymerizable compound.
特許文献9には、特定の反応性ケイ素基を有する有機重合体(A)と特定の反応性ケイ素基を有するポリオキシアルキレン系重合体(B)を含む硬化性組成物であって、当該硬化性組成物の比重が0.9以上1.3以下であることを特徴とする硬化性組成物が開示されている。しかしながら、特許文献9には、重合性化合物の比重を調整することにより、透湿度を低くすることについて記載はない。 Patent Document 9 discloses a curable composition containing an organic polymer (A) having a specific reactive silicon group and a polyoxyalkylene polymer (B) having a specific reactive silicon group, characterized in that the specific gravity of the curable composition is 0.9 or more and 1.3 or less. However, Patent Document 9 does not disclose reducing moisture permeability by adjusting the specific gravity of the polymerizable compound.
特許文献10には、特定構造の臭素付加型ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートを10~70重量%を含む組成物を光重合することにより得られる共重合体からなり、屈折率1.58以上、比重1.5以下、アッベ数30以上である光硬化性樹脂製レンズが開示されている。しかしながら、特許文献10には、重合性化合物の比重を調整することにより透湿度を低くすることについて記載はないし、有機EL表示素子の封止に関する記載もない。 Patent Document 10 discloses a photocurable resin lens composed of a copolymer obtained by photopolymerizing a composition containing 10 to 70% by weight of a bromine-added bisphenol A epoxy (meth)acrylate with a specific structure, and having a refractive index of 1.58 or greater, a specific gravity of 1.5 or less, and an Abbe number of 30 or greater. However, Patent Document 10 does not mention lowering moisture permeability by adjusting the specific gravity of the polymerizable compound, nor does it mention sealing of organic EL display elements.
特許文献11には、光重合し、官能性アクリル基を有する特定のポリシロキサン共重合体であって、約1.0より大きい比重と、自然の結晶質レンズの屈折能を復元するに適した屈折率を有するポリシロキサン共重合体が開示されている。しかしながら、特許文献11には、重合性化合物の比重を調整することにより、透湿度を低くすることについて記載はないし、有機EL表示素子の封止に関する記載もない。 Patent Document 11 discloses a specific photopolymerizable polysiloxane copolymer having functional acrylic groups, which has a specific gravity greater than approximately 1.0 and a refractive index suitable for restoring the refractive power of natural crystalline lenses. However, Patent Document 11 does not disclose reducing moisture permeability by adjusting the specific gravity of the polymerizable compound, nor does it disclose sealing of organic EL display elements.
特許文献12には、1分子中に1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する活性エネルギー線硬化性化合物(A)、光ラジカル重合開始剤(C)及び(又は)光カチオン重合開始剤(D)よりなり、樹脂組成物の比重が1.4(25℃)以上、粘度が1,000ポイズ(25℃)以下であるモータ類回転子のバランス用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が開示されている。しかしながら、特許文献12には、重合性化合物の比重を調整することにより、透湿度を低くすることについて記載はないし、有機EL表示素子の封止に関する記載もない。 Patent Document 12 discloses an active energy ray-curable resin composition for balancing rotors of motors, which comprises an active energy ray-curable compound (A) having one or more ethylenically unsaturated double bonds per molecule, a photoradical polymerization initiator (C), and/or a photocationic polymerization initiator (D), and the resin composition has a specific gravity of 1.4 (25°C) or more and a viscosity of 1,000 poise (25°C) or less. However, Patent Document 12 does not mention lowering moisture permeability by adjusting the specific gravity of the polymerizable compound, nor does it mention sealing of organic EL display elements.
近年、電子デバイスの要求特性が高まり、例えば、有機EL表示素子に対するより高い信頼性及び耐久性を実現可能な封止材が求められている。 In recent years, the required characteristics of electronic devices have increased, and there is a demand for encapsulating materials that can achieve higher reliability and durability for organic EL display elements, for example.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、防湿性、及び、ガラス基板等との接着性に優れた封止材を形成可能な、封止剤を提供することを目的とする。また、本発明は、当該封止剤の硬化体、当該封止剤を用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、及び、当該封止剤から形成された封止材を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを目的とする。The present invention was made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a sealant capable of forming a sealant with excellent moisture resistance and adhesion to glass substrates, etc. The present invention also aims to provide a cured product of the sealant, a method for manufacturing an organic electroluminescent display device using the sealant, and an organic electroluminescent display device having a sealant formed from the sealant.
すなわち、本発明は以下のとおりである。
<1>
重合性化合物、重合開始剤及び無機充填材を含み、前記重合性化合物が、比重が1.3~4.0の化合物を含有する、封止剤。
<2>
前記封止剤を硬化して、前記重合性化合物の重合体及び前記無機充填材を含有する硬化体としたとき、前記硬化体の比重が1.35~19.0となる、<1>に記載の封止剤。
<3>
前記封止剤を硬化して、前記重合性化合物の重合体及び前記無機充填材を含有する硬化体としたとき、前記重合体のガラス転移温度が85℃以上となる、<1>又は<2>に記載の封止剤。
<4>
前記封止剤を硬化して、前記重合性化合物の重合体及び前記無機充填材を含有する硬化体としたとき、前記硬化体の架橋密度が1.5×10-3mol/cm3以上となる、<1>~<3>のいずれかに記載の封止剤。
<5>
前記重合性化合物が、原子番号9以上の元素を有する重合性化合物(X)を含有する、<1>~<4>のいずれかに記載の封止剤。
<6>
前記重合性化合物(X)が、ハロゲン族元素を有する、<5>に記載の封止剤。
<7>
前記重合性化合物(X)が、フッ素元素及び臭素元素からなる群より選択される少なくとも一種のハロゲン族元素を有する、<6>に記載の封止剤。
<8>
前記重合性化合物(X)中のハロゲン族元素の含有量が、前記重合性化合物の総元素量に対して、10~50質量%である、<6>又は<7>に記載の封止剤。
<9>
前記重合性化合物が、重合性官能基を2個以上有する架橋性化合物(Y)を含有する、<1>~<8>のいずれかに記載の封止剤。
<10>
前記重合性化合物が、グリシジルエーテル化合物、脂環式エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物及びオキセタン化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含有する、<1>~<9>のいずれかに記載の封止剤。
<11>
前記重合性化合物が、ラジカル重合性官能基を有する、<1>~<10>のいずれかに記載の封止剤。
<12>
前記重合開始剤が、光重合開始剤である、<1>~<11>のいずれかに記載の封止剤。
<13>
前記重合開始剤が、オニウム塩を含有する、<1>~<12>のいずれかに記載の封止剤。
<14>
前記重合開始剤が、ラジカル重合開始剤である、<1>~<12>のいずれか一項に記載の封止剤。
<15>
前記無機充填材の真比重が、1.5~5.0である、<1>~<14>のいずれかに記載の封止剤。
<16>
前記無機充填材が、シリカ、マイカ、カオリン、タルク及び酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも1種を含む、<1>~<15>のいずれかに記載の封止剤。
<17>
前記無機充填材が、タルクを含む、<1>~<16>のいずれかに記載の封止剤。
<18>
前記無機充填材が、平均粒子径が0.01~30μmの無機粒子を含む、<1>~<17>のいずれかに記載の封止剤。
<19>
樹脂粒子を更に含む、<1>~<18>のいずれかに記載の封止剤。
<20>
前記樹脂粒子が、架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子、及び、架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチルポリスチレン共重合体粒子からなる群より選択される少なくとも一種を含有する、<19>に記載の封止剤。
<21>
前記樹脂粒子の平均粒子径が1μm~100μmである、<19>又は<20>に記載の封止剤。
<22>
前記樹脂粒子の粒径(μm)を対数で表示したときの粒径に対する粒子体積分布の標準偏差が、0.25以下である、<19>~<21>のいずれかに記載の封止剤。
<23>
前記樹脂粒子の含有量が、前記重合性化合物100質量部に対して、0.01~5質量部である、<19>~<22>のいずれかに記載の封止剤。
<24>
前記重合開始剤の含有量が、前記重合性化合物100質量部に対して、0.01~5質量部である、<1>~<23>のいずれかに記載の封止剤。
<25>
前記無機充填材の含有量が、前記重合性化合物100質量部に対して、5~500質量部である、<1>~<24>のいずれかに記載の封止剤。
<26>
前記重合性化合物の全量混合物の80℃における粘度が、500~30000mPa・sである、<1>~<25>のいずれかに記載の封止剤。
<27>
25℃における粘度が、50000~1000000mPa・sである、<1>~<26>のいずれかに記載の封止剤。
<28>
25℃、1rpmにおける粘度η1に対する、25℃、0.1rpmにおける粘度η2の比(η2/η1)が、1.1~10.0である、<1>~<27>のいずれかに記載の封止剤。
<29>
前記封止剤を硬化して、前記重合性化合物の重合体及び前記無機充填材を含有する硬化体としたとき、前記硬化体の平均自由体積が1nm3以下となる、<1>~<28>のいずれかに記載の封止剤。
<30>
前記封止剤を硬化して、前記重合性化合物の重合体及び前記無機充填材を含有する硬化体としたとき、前記硬化体の空孔率が20%未満となる、<1>~<29>のいずれかに記載の封止剤。
<31>
前記封止剤を硬化して、前記重合性化合物の重合体及び前記無機充填材を含有する硬化体としたとき、前記硬化体の、JIS Z0208に準拠して、温度85℃、相対湿度85%の条件下で測定される透湿度が、50(g/m2・24h/100μm)以下となる、<1>~<30>のいずれかに記載の封止剤。
<32>
有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤である、<1>~<31>のいずれかに記載の封止剤。
<33>
ダム形成用封止剤である、<1>~<32>のいずれかに記載の封止剤。
<34>
<1>~<33>のいずれかに記載の封止剤を硬化してなる、硬化体。
<35>
<1>~<33>のいずれかに記載の封止剤を塗布及び硬化して、ダムを形成する工程を含む、ダム・フィル封止構造を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
<36>
ダム及びフィル剤を備えるダム・フィル封止構造を有し、前記ダムが、<1>~<33>のいずれかに記載の封止剤の硬化体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
That is, the present invention is as follows.
<1>
A sealant comprising a polymerizable compound, a polymerization initiator, and an inorganic filler, wherein the polymerizable compound contains a compound having a specific gravity of 1.3 to 4.0.
<2>
The sealant according to <1>, wherein when the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler, the cured body has a specific gravity of 1.35 to 19.0.
<3>
<1> or <2>, wherein when the sealant is cured to form a cured product containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler, the glass transition temperature of the polymer is 85°C or higher.
<4>
The sealant according to any one of <1> to <3>, wherein when the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler, the cured body has a crosslink density of 1.5 × 10 -3 mol/cm 3 or more.
<5>
The sealant according to any one of <1> to <4>, wherein the polymerizable compound contains a polymerizable compound (X) having an element with an atomic number of 9 or more.
<6>
The sealant according to <5>, wherein the polymerizable compound (X) contains a halogen element.
<7>
The sealant according to <6>, wherein the polymerizable compound (X) contains at least one halogen element selected from the group consisting of a fluorine element and a bromine element.
<8>
<6> or <7>, wherein the content of the halogen element in the polymerizable compound (X) is 10 to 50 mass% with respect to the total element amount of the polymerizable compound.
<9>
<9> The sealant according to any one of <1> to <8>, wherein the polymerizable compound contains a crosslinkable compound (Y) having two or more polymerizable functional groups.
<10>
<9> The sealant according to any one of <1> to <9>, wherein the polymerizable compound contains at least one compound selected from the group consisting of a glycidyl ether compound, an alicyclic epoxy compound, a vinyl ether compound, and an oxetane compound.
<11>
<10> The sealant according to any one of <1> to <10>, wherein the polymerizable compound has a radically polymerizable functional group.
<12>
<12> The sealant according to any one of <1> to <11>, wherein the polymerization initiator is a photopolymerization initiator.
<13>
<13> The sealant according to any one of <1> to <12>, wherein the polymerization initiator contains an onium salt.
<14>
<13> The sealant according to any one of <1> to <12>, wherein the polymerization initiator is a radical polymerization initiator.
<15>
<15> The sealant according to any one of <1> to <14>, wherein the inorganic filler has a true specific gravity of 1.5 to 5.0.
<16>
<16> The sealant according to any one of <1> to <15>, wherein the inorganic filler includes at least one selected from the group consisting of silica, mica, kaolin, talc, and aluminum oxide.
<17>
<17> The sealant according to any one of <1> to <16>, wherein the inorganic filler contains talc.
<18>
<18> The sealant according to any one of <1> to <17>, wherein the inorganic filler contains inorganic particles having an average particle size of 0.01 to 30 μm.
<19>
<19> The sealant according to any one of <1> to <18>, further comprising resin particles.
<20>
The sealant according to <19>, wherein the resin particles contain at least one selected from the group consisting of crosslinked polymethyl (meth)acrylate particles, crosslinked polystyrene particles, and crosslinked polymethyl (meth)acrylate polystyrene copolymer particles.
<21>
<19> or <20>, wherein the resin particles have an average particle size of 1 μm to 100 μm.
<22>
<22> The sealant according to any one of <19> to <21>, wherein a standard deviation of particle volume distribution with respect to particle diameters when the particle diameters (μm) of the resin particles are expressed in logarithm is 0.25 or less.
<23>
<22> The sealant according to any one of <19> to <22>, wherein the content of the resin particles is 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
<24>
<24> The sealant according to any one of <1> to <23>, wherein the content of the polymerization initiator is 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
<25>
<25> The sealant according to any one of <1> to <24>, wherein the content of the inorganic filler is 5 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
<26>
<26> The sealant according to any one of <1> to <25>, wherein the viscosity of the total mixture of the polymerizable compounds at 80°C is 500 to 30,000 mPa·s.
<27>
<26> The sealant according to any one of <1> to <26>, which has a viscosity at 25°C of 50,000 to 1,000,000 mPa·s.
<28>
The sealant according to any one of <1> to <27>, wherein the ratio (η 2 /η 1 ) of the viscosity η 2 at 25° C. and 0.1 rpm to the viscosity η 1 at 25° C. and 1 rpm is 1.1 to 10.0.
<29>
<29> The sealant according to any one of <1> to <28>, wherein when the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler, the cured body has an average free volume of 1 nm3 or less.
<30>
<29> The sealant according to any one of <1> to <29>, wherein when the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler, the cured body has a porosity of less than 20%.
<31>
The sealant according to any one of <1> to <30>, wherein when the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler, the cured body has a moisture permeability of 50 (g/ m2 ·24 h/100 μm) or less, as measured in accordance with JIS Z0208 at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85%.
<32>
The sealant according to any one of <1> to <31>, which is a sealant for an organic electroluminescence display element.
<33>
The sealant according to any one of <1> to <32>, which is a sealant for forming a dam.
<34>
<33> A cured product obtained by curing the sealant according to any one of <1> to <33>.
<35>
<33> A method for manufacturing an organic electroluminescence display device having a dam-fill sealing structure, the method comprising the steps of applying and curing the sealant according to any one of <1> to <33> to form a dam.
<36>
An organic electroluminescence display device having a dam-fill sealing structure including a dam and a fill agent, wherein the dam contains a cured product of the sealant according to any one of <1> to <33>.
本発明によれば、防湿性、及び、ガラス基板等との接着性に優れた封止材を形成可能な、封止剤が提供される。また、本発明によれば、当該封止剤の硬化体、当該封止剤を用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、及び、当該封止剤から形成された封止材を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置が提供される。 The present invention provides a sealant capable of forming a sealant with excellent moisture resistance and adhesion to glass substrates, etc. The present invention also provides a cured product of the sealant, a method for manufacturing an organic electroluminescent display device using the sealant, and an organic electroluminescent display device having a sealant formed from the sealant.
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。 The following describes in detail a preferred embodiment of the present invention.
本実施形態の組成物は、重合性化合物、重合開始剤及び無機充填材を含む。本実施形態において、重合性化合物は、比重が1.3~4.0の高比重化合物を含有する。 The composition of this embodiment contains a polymerizable compound, a polymerization initiator, and an inorganic filler. In this embodiment, the polymerizable compound contains a high-specific-gravity compound having a specific gravity of 1.3 to 4.0.
本実施形態の組成物によれば、防湿性、及び、ガラス基板等との接着性に優れた封止材を形成することができる。このため本実施形態の組成物は、封止剤(好ましくは有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤)として好適に用いることができる。また、本実施形態の組成物は、ダム・フィル封止構造を形成するための、ダム形成用封止剤として特に好適に用いることができる。 The composition of this embodiment can form a sealant that has excellent moisture resistance and adhesion to glass substrates, etc. Therefore, the composition of this embodiment can be suitably used as a sealant (preferably a sealant for organic electroluminescent display elements). Furthermore, the composition of this embodiment can be particularly suitably used as a dam-forming sealant for forming a dam-fill sealing structure.
本実施形態において、重合性化合物は、重合性官能基を有する化合物ということができる。重合性化合物は、1種を単独で用いてよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。In this embodiment, the polymerizable compound can be said to be a compound having a polymerizable functional group. One type of polymerizable compound may be used alone, or two or more types may be used in combination.
重合性化合物は、カチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基からなる群より選択される少なくとも一種を有することが好ましい。カチオン重合性官能基を有する重合性化合物としては、エポキシ化合物(例えば、グリシジルエーテル化合物、脂環式エポキシ化合物等)、カチオン重合性ビニル化合物(例えば、ビニルエーテル化合物等)及びオキセタン化合物からなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。ラジカル重合性官能基を有する重合性化合物としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基からなる群より選択される少なくとも一種のラジカル重合性官能基を有する化合物が挙げられ、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリルアミドからなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。The polymerizable compound preferably has at least one selected from the group consisting of a cationically polymerizable functional group and a radically polymerizable functional group. The polymerizable compound having a cationically polymerizable functional group is preferably at least one selected from the group consisting of epoxy compounds (e.g., glycidyl ether compounds, alicyclic epoxy compounds, etc.), cationically polymerizable vinyl compounds (e.g., vinyl ether compounds, etc.), and oxetane compounds. The polymerizable compound having a radically polymerizable functional group includes a compound having at least one radically polymerizable functional group selected from the group consisting of a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an allyl group, a vinyl ether group, and a vinyl ester group, with a compound having a (meth)acryloyl group being preferred. The compound having a (meth)acryloyl group is preferably at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates and (meth)acrylamides.
高比重化合物は、重合性官能基を有し、比重が1.3~4.0の化合物ということができる。高比重化合物の比重は、好ましくは1.4以上であり、より好ましくは1.5以上である。また、高比重化合物の比重は、好ましくは3.0以下であり、より好ましくは2.5以下であり、更に好ましくは2.0以下である。すなわち、高比重化合物の比重は、例えば1.3~4.0、1.3~3.0、1.3~2.5、1.3~2.0、1.4~4.0、1.4~3.0、1.4~2.5、1.4~2.0、1.5~4.0、1.5~3.0、1.5~2.5又は1.5~2.0であってよい。なお、高比重化合物の比重は、ハーバート形比重瓶を用い、JIS K0061に準拠して測定される値を示す。 A high-specific gravity compound can be defined as a compound having a polymerizable functional group and a specific gravity of 1.3 to 4.0. The specific gravity of a high-specific gravity compound is preferably 1.4 or higher, more preferably 1.5 or higher. The specific gravity of a high-specific gravity compound is preferably 3.0 or lower, more preferably 2.5 or lower, and even more preferably 2.0 or lower. That is, the specific gravity of a high-specific gravity compound may be, for example, 1.3 to 4.0, 1.3 to 3.0, 1.3 to 2.5, 1.3 to 2.0, 1.4 to 4.0, 1.4 to 3.0, 1.4 to 2.5, 1.4 to 2.0, 1.5 to 4.0, 1.5 to 3.0, 1.5 to 2.5, or 1.5 to 2.0. The specific gravity of a high-specific gravity compound is the value measured using a Herbert-type pycnometer in accordance with JIS K0061.
本実施形態において、重合性化合物は、比重が1.3未満の低比重化合物を更に含有していてもよい。低比重化合物は、重合性官能基を有し、比重が1.3未満の化合物ということができる。低比重化合物の比重は、好ましくは0.7以上であり、より好ましくは0.8以上であり、0.9以上、1.0以上又は1.1以上であってもよい。すなわち、低比重化合物の比重は、例えば0.7以上1.3未満、0.8以上1.3未満、0.9以上1.3未満、1.0以上1.3未満、又は1.1以上1.3未満であってよい。なお、低比重化合物の比重は、ハーバート形比重瓶を用い、JIS K0061に準拠して測定される値を示す。In this embodiment, the polymerizable compound may further contain a low-gravity compound having a specific gravity of less than 1.3. The low-gravity compound can be defined as a compound having a polymerizable functional group and a specific gravity of less than 1.3. The specific gravity of the low-gravity compound is preferably 0.7 or greater, more preferably 0.8 or greater, and may be 0.9 or greater, 1.0 or greater, or 1.1 or greater. That is, the specific gravity of the low-gravity compound may be, for example, 0.7 or greater but less than 1.3, 0.8 or greater but less than 1.3, 0.9 or greater but less than 1.3, 1.0 or greater but less than 1.3, or 1.1 or greater but less than 1.3. The specific gravity of the low-gravity compound is a value measured using a Herbert-type pycnometer in accordance with JIS K0061.
重合性化合物に占める高比重化合物の割合は、例えば30質量%以上であってよく、好ましくは40質量%以上、より好ましくは45質量%以上、更に好ましくは50質量%以上、一層好ましくは55質量%以上である。これにより上述の効果がより顕著に奏される。また、重合性化合物に占める高比重化合物の割合は、例えば100質量%であってよく、好ましくは90質量%以下、より好ましくは85質量%以下、更に好ましくは80質量%以下、一層好ましくは75質量%以下、より一層好ましくは70質量%以下、特に好ましくは65質量%以下である。すなわち、重合性化合物に占める高比重化合物の割合は、例えば30~100質量%、30~90質量%、30~85質量%、30~80質量%、30~75質量%、30~70質量%、30~65質量%、40~100質量%、40~90質量%、40~85質量%、40~80質量%、40~75質量%、40~70質量%、40~65質量%、45~100質量%、45~90質量%、45~85質量%、45~80質量%、45~75質量%、45~70質量%、45~65質量%、50~100質量%、50~90質量%、50~85質量%、50~80質量%、50~75質量%、50~70質量%、50~65質量%、55~100質量%、55~90質量%、55~85質量%、55~80質量%、55~75質量%、55~70質量%又は55~65質量%であってよい。The proportion of high-specific-gravity compounds in the polymerizable compounds may be, for example, 30% by mass or more, preferably 40% by mass or more, more preferably 45% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, and even more preferably 55% by mass or more. This more significantly enhances the above-mentioned effects. Furthermore, the proportion of high-specific-gravity compounds in the polymerizable compounds may be, for example, 100% by mass, but is preferably 90% by mass or less, more preferably 85% by mass or less, even more preferably 80% by mass or less, even more preferably 75% by mass or less, even more preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 65% by mass or less. That is, the ratio of the high specific gravity compound in the polymerizable compound is, for example, 30 to 100 mass%, 30 to 90 mass%, 30 to 85 mass%, 30 to 80 mass%, 30 to 75 mass%, 30 to 70 mass%, 30 to 65 mass%, 40 to 100 mass%, 40 to 90 mass%, 40 to 85 mass%, 40 to 80 mass%, 40 to 75 mass%, 40 to 70 mass%, 40 to 65 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 90 mass%, 45 ...100 mass%, 45 to 90 mass%, 45 to 65 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 100 mass%, ~85% by mass, 45-80% by mass, 45-75% by mass, 45-70% by mass, 45-65% by mass, 50-100% by mass, 50-90% by mass, 50-85% by mass, 50-80% by mass, 50-75% by mass, It may be 50-70% by weight, 50-65% by weight, 55-100% by weight, 55-90% by weight, 55-85% by weight, 55-80% by weight, 55-75% by weight, 55-70% by weight or 55-65% by weight.
重合性化合物に占める低比重化合物の割合は、例えば0質量%であってよく、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上、更に好ましくは20質量%以上、一層好ましくは25質量%以上、より一層好ましくは30質量%以上、特に好ましくは35質量%以上である。また、重合性化合物に占める低比重化合物の割合は、例えば70質量%以下であってよく、好ましくは60質量%以下、より好ましくは55質量%以下、更に好ましくは50質量%以下、一層好ましくは45質量%以下である。これにより、上述の効果がより顕著に奏される。
すなわち、重合性化合物に占める低比重化合物の割合は、例えば0~70質量%、0~60質量%、0~55質量%、0~50質量%、0~45質量%、10~70質量%、10~60質量%、10~55質量%、10~50質量%、10~45質量%、15~70質量%、15~60質量%、15~55質量%、15~50質量%、15~45質量%、20~70質量%、20~60質量%、20~55質量%、20~50質量%、20~45質量%、25~70質量%、25~60質量%、25~55質量%、25~50質量%、25~45質量%、30~70質量%、30~60質量%、30~55質量%、30~50質量%、30~45質量%、35~70質量%、35~60質量%、35~55質量%、35~50質量%又は35~45質量%であってよい。
The proportion of the low-specific-gravity compound in the polymerizable compound may be, for example, 0% by mass, and is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, even more preferably 20% by mass or more, even more preferably 25% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more, and particularly preferably 35% by mass or more. The proportion of the low-specific-gravity compound in the polymerizable compound may be, for example, 70% by mass or less, and is preferably 60% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, even more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 45% by mass or less. This more significantly enhances the above-mentioned effects.
That is, the ratio of the low specific gravity compound in the polymerizable compound is, for example, 0 to 70 mass%, 0 to 60 mass%, 0 to 55 mass%, 0 to 50 mass%, 0 to 45 mass%, 10 to 70 mass%, 10 to 60 mass%, 10 to 55 mass%, 10 to 50 mass%, 10 to 45 mass%, 15 to 70 mass%, 15 to 60 mass%, 15 to 55 mass%, 15 to 50 mass%, 15 to 45 mass%, 20 to 70 mass%, 20 to 60 mass%, 20 to 60 mass%, 20 to 70 mass%, 20 to 60 mass%, 20 to 55 mass%, 20 to 50 mass%, 20 to 45 ...45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, 20 to 45 mass%, Mass%, 20-55 mass%, 20-50 mass%, 20-45 mass%, 25-70 mass%, 25-60 mass%, 25-55 mass%, 25-50 mass%, 25-45 mass%, 30-70 mass%, 3 It may be 0-60% by weight, 30-55% by weight, 30-50% by weight, 30-45% by weight, 35-70% by weight, 35-60% by weight, 35-55% by weight, 35-50% by weight or 35-45% by weight.
本実施形態において、重合性化合物は、原子番号9以上の元素を有する重合性化合物(X)を含有することが好ましい。重合性化合物(X)は、高比重化合物であっても低比重化合物であってもよく、高比重化合物であることが好ましい。In this embodiment, the polymerizable compound preferably contains a polymerizable compound (X) having an element with an atomic number of 9 or greater. The polymerizable compound (X) may be a high-specific-gravity compound or a low-specific-gravity compound, and is preferably a high-specific-gravity compound.
重合性化合物(X)は、ハロゲン族元素を有することが好ましく、フッ素元素及び臭素元素からなる群より選択される少なくとも一種を有することがより好ましい。 The polymerizable compound (X) preferably contains a halogen element, and more preferably contains at least one element selected from the group consisting of fluorine and bromine.
重合性化合物(X)が1分子中に有するハロゲン族元素の数は、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、3以上が更に好ましい。重合性化合物(X)が1分子中に有するハロゲン族元素の数は、上限に特に限定はなく、例えば40以下であってよく、好ましくは30以下である。すなわち、重合性化合物(X)が1分子中に有するハロゲン族元素の数は、例えば1~40、1~30、2~40又は2~30であってよい。The number of halogen group elements contained in one molecule of polymerizable compound (X) is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and even more preferably 3 or more. There is no particular upper limit to the number of halogen group elements contained in one molecule of polymerizable compound (X), and it may be, for example, 40 or less, preferably 30 or less. That is, the number of halogen group elements contained in one molecule of polymerizable compound (X) may be, for example, 1 to 40, 1 to 30, 2 to 40, or 2 to 30.
重合性化合物(X)は、カチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基からなる群より選択される少なくとも一種を有することが好ましい。カチオン重合性官能基を有する重合性化合物(X)としては、エポキシ化合物(例えば、グリシジルエーテル化合物、脂環式エポキシ化合物等)、カチオン重合性ビニル化合物(例えば、ビニルエーテル化合物等)及びオキセタン化合物からなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。ラジカル重合性官能基を有する重合性化合物(X)としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基からなる群より選択される少なくとも一種のラジカル重合性官能基を有する化合物が挙げられ、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリルアミドからなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。The polymerizable compound (X) preferably has at least one selected from the group consisting of a cationically polymerizable functional group and a radically polymerizable functional group. The polymerizable compound (X) having a cationically polymerizable functional group is preferably at least one selected from the group consisting of epoxy compounds (e.g., glycidyl ether compounds, alicyclic epoxy compounds, etc.), cationically polymerizable vinyl compounds (e.g., vinyl ether compounds, etc.), and oxetane compounds. The polymerizable compound (X) having a radically polymerizable functional group includes compounds having at least one radically polymerizable functional group selected from the group consisting of vinyl groups, (meth)acryloyl groups, allyl groups, vinyl ether groups, and vinyl ester groups, with compounds having a (meth)acryloyl group being preferred. The compound having a (meth)acryloyl group is preferably at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates and (meth)acrylamides.
重合性化合物(X)の具体例の一つである、カチオン重合性官能基を有する重合性化合物(X)としては、ブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル等のハロフェニルグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールF型ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Specific examples of polymerizable compounds (X) having a cationically polymerizable functional group include halophenyl glycidyl ethers such as bromophenyl glycidyl ether and dibromophenyl glycidyl ether, brominated bisphenol A epoxy resins, brominated bisphenol F novolac epoxy resins, and brominated phenol novolac epoxy resins.
重合性化合物(X)の具体例の一つである、ラジカル重合性化合物を有する重合性化合物(X)としては、フルオロフェニル(メタ)アクリレート、トリフルオロフェニル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロフェニル(メタ)アクリレート、クロロフェニル(メタ)アクリレート、トリクロロフェニル(メタ)アクリレート、ペンタクロロフェニル(メタ)アクリレート、ブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、ペンタブロモロフェニル(メタ)アクリレート等のハロフェニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of the polymerizable compound (X), namely, the polymerizable compound (X) having a radical polymerizable compound, include halophenyl (meth)acrylates such as fluorophenyl (meth)acrylate, trifluorophenyl (meth)acrylate, pentafluorophenyl (meth)acrylate, chlorophenyl (meth)acrylate, trichlorophenyl (meth)acrylate, pentachlorophenyl (meth)acrylate, bromophenyl (meth)acrylate, tribromophenyl (meth)acrylate, and pentabromophenyl (meth)acrylate.
重合性化合物(X)中のハロゲン族元素の含有量は、重合性化合物の総元素量に対して、10~50質量%が好ましい。10質量%以上であると、硬化体の防湿性がより向上する傾向があり、50質量%以下であると、組成物の硬化性がより向上する傾向がある。The content of the halogen group element in the polymerizable compound (X) is preferably 10 to 50 mass% based on the total element amount of the polymerizable compound. If it is 10 mass% or more, the moisture resistance of the cured product tends to be further improved, and if it is 50 mass% or less, the curability of the composition tends to be further improved.
重合性化合物に占める重合性化合物(X)の割合は、例えば30質量%以上であってよく、好ましくは40質量%以上、より好ましくは45質量%以上、更に好ましくは50質量%以上、一層好ましくは55質量%以上である。これにより、硬化体の防湿性がより向上する傾向がある。また、重合性化合物に占める重合性化合物(X)の割合は、例えば100質量%であってよく、好ましくは90質量%以下、より好ましくは85質量%以下、更に好ましくは80質量%以下、一層好ましくは75質量%以下、より一層好ましくは70質量%以下、特に好ましくは65質量%以下である。これにより、ガラス基板等に対する接着性がより向上、封止材の信頼性がより向上する傾向がある。すなわち、重合性化合物に占める重合性化合物(X)の割合は、例えば30~100質量%、30~90質量%、30~85質量%、30~80質量%、30~75質量%、30~70質量%、30~65質量%、40~100質量%、40~90質量%、40~85質量%、40~80質量%、40~75質量%、40~70質量%、40~65質量%、45~100質量%、45~90質量%、45~85質量%、45~80質量%、45~75質量%、45~70質量%、45~65質量%、50~100質量%、50~90質量%、50~85質量%、50~80質量%、50~75質量%、50~70質量%、50~65質量%、55~100質量%、55~90質量%、55~85質量%、55~80質量%、55~75質量%、55~70質量%又は55~65質量%であってよい。The proportion of polymerizable compound (X) in the polymerizable compound may be, for example, 30% by mass or more, preferably 40% by mass or more, more preferably 45% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, and even more preferably 55% by mass or more. This tends to further improve the moisture resistance of the cured product. Furthermore, the proportion of polymerizable compound (X) in the polymerizable compound may be, for example, 100% by mass, but is preferably 90% by mass or less, more preferably 85% by mass or less, even more preferably 80% by mass or less, even more preferably 75% by mass or less, even more preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 65% by mass or less. This tends to further improve adhesion to glass substrates and the like, and further improve the reliability of the encapsulant. That is, the proportion of the polymerizable compound (X) in the polymerizable compounds is, for example, 30 to 100 mass%, 30 to 90 mass%, 30 to 85 mass%, 30 to 80 mass%, 30 to 75 mass%, 30 to 70 mass%, 30 to 65 mass%, 40 to 100 mass%, 40 to 90 mass%, 40 to 85 mass%, 40 to 80 mass%, 40 to 75 mass%, 40 to 70 mass%, 40 to 65 mass%, 45 to 100 mass%, 45 to 90 mass%, 45-85% by mass, 45-80% by mass, 45-75% by mass, 45-70% by mass, 45-65% by mass, 50-100% by mass, 50-90% by mass, 50-85% by mass, 50-80% by mass, 50-75% by mass , 50-70% by weight, 50-65% by weight, 55-100% by weight, 55-90% by weight, 55-85% by weight, 55-80% by weight, 55-75% by weight, 55-70% by weight or 55-65% by weight.
本実施形態において、重合性化合物は、重合性化合物(X)以外の重合性化合物(すなわち、原子番号9以上の元素を有しない重合性化合物)(以下、重合性化合物(X’)ともいう。)を更に含有していてもよい。 In this embodiment, the polymerizable compound may further contain a polymerizable compound other than polymerizable compound (X) (i.e., a polymerizable compound that does not have an element with an atomic number of 9 or higher) (hereinafter also referred to as polymerizable compound (X')).
重合性化合物(X’)は、例えば、重合性化合物(X)が有する重合性官能基と共重合可能な重合性官能基を有する化合物であってよい。重合性化合物(X’)は、高比重化合物であっても低比重化合物であってもよい。The polymerizable compound (X') may be, for example, a compound having a polymerizable functional group that is copolymerizable with the polymerizable functional group of the polymerizable compound (X). The polymerizable compound (X') may be a high-specific gravity compound or a low-specific gravity compound.
重合性化合物(X’)は、カチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基からなる群より選択される少なくとも一種を有することが好ましい。カチオン重合性官能基を有する重合性化合物(X’)としては、エポキシ化合物(例えば、グリシジルエーテル化合物、脂環式エポキシ化合物等)、カチオン重合性ビニル化合物(例えば、ビニルエーテル化合物等)及びオキセタン化合物からなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。ラジカル重合性官能基を有する重合性化合物(X’)としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基からなる群より選択される少なくとも一種のラジカル重合性官能基を有する化合物が挙げられ、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリルアミドからなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。The polymerizable compound (X') preferably has at least one selected from the group consisting of a cationically polymerizable functional group and a radically polymerizable functional group. The polymerizable compound (X') having a cationically polymerizable functional group is preferably at least one selected from the group consisting of epoxy compounds (e.g., glycidyl ether compounds, alicyclic epoxy compounds, etc.), cationically polymerizable vinyl compounds (e.g., vinyl ether compounds, etc.), and oxetane compounds. The polymerizable compound (X') having a radically polymerizable functional group includes compounds having at least one radically polymerizable functional group selected from the group consisting of vinyl groups, (meth)acryloyl groups, allyl groups, vinyl ether groups, and vinyl ester groups, with compounds having a (meth)acryloyl group being preferred. The compound having a (meth)acryloyl group is preferably at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates and (meth)acrylamides.
重合性化合物(X)がカチオン重合性官能基を有するとき、重合性化合物(X’)はカチオン重合性官能基を有することが好ましい。カチオン重合性官能基を有する重合性化合物(X’)としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及び、カチオン重合性ビニル化合物からなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。When the polymerizable compound (X) has a cationically polymerizable functional group, the polymerizable compound (X') preferably has a cationically polymerizable functional group. The polymerizable compound (X') having a cationically polymerizable functional group is preferably at least one selected from the group consisting of epoxy compounds, oxetane compounds, and cationically polymerizable vinyl compounds.
エポキシ化合物としては、エポキシ基を有する脂環式化合物(脂環式エポキシ化合物)、エポキシ基を有する芳香族化合物(芳香族エポキシ化合物)、グリシジルエーテル化合物等が挙げられる。 Examples of epoxy compounds include alicyclic compounds having epoxy groups (alicyclic epoxy compounds), aromatic compounds having epoxy groups (aromatic epoxy compounds), and glycidyl ether compounds.
脂環式エポキシ化合物としては、例えば、少なくとも1個のシクロアルケン環(例えば、シクロへキセン環、シクロペンテン環、ピネン環等)を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる化合物又はその誘導体が挙げられる。また、脂環式エポキシ化合物としては、例えば、芳香族エポキシ化合物(例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物等)を水素化して得られる水素化エポキシ化合物も挙げられる。Examples of alicyclic epoxy compounds include compounds or derivatives thereof obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkene ring (e.g., a cyclohexene ring, a cyclopentene ring, a pinene ring, etc.) with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or a peracid. Alicyclic epoxy compounds also include hydrogenated epoxy compounds obtained by hydrogenating aromatic epoxy compounds (e.g., bisphenol A epoxy compounds, bisphenol F epoxy compounds, etc.).
脂環式エポキシ化合物としては、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルアルキル(メタ)アクリレート(例えば、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等)、(3、3’、4、4’-ジエポキシ)ビシクロヘキシル、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of alicyclic epoxy compounds include 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylalkyl(meth)acrylate (e.g., 3,4-epoxycyclohexylmethyl(meth)acrylate), (3,3',4,4'-diepoxy)bicyclohexyl, hydrogenated bisphenol A epoxy resin, and hydrogenated bisphenol F epoxy resin.
脂環式エポキシ化合物の中では、1,2-エポキシシクロヘキサン構造を有する脂環式エポキシ化合物が好ましい。1,2-エポキシシクロヘキサン構造を有する脂環式エポキシ化合物の中では、下記式(A1-1)で表される化合物が好ましい。Among alicyclic epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds having a 1,2-epoxycyclohexane structure are preferred. Among alicyclic epoxy compounds having a 1,2-epoxycyclohexane structure, compounds represented by the following formula (A1-1) are preferred.
式(A1-1)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する2価の基)を示す。 In formula (A1-1), X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms).
連結基は、2価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド結合、又は、これらが複数個連結した基であることが好ましい。 The linking group is preferably a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide bond, or a group in which multiple of these are linked together.
Xは、連結基が好ましい。連結基としては、エステル結合を有する基が好ましい。連結基としてエステル結合を有する基を有する化合物としては、例えば、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが挙げられる。 X is preferably a linking group. The linking group is preferably a group having an ester bond. An example of a compound having a group having an ester bond as a linking group is 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate.
脂環式エポキシ化合物の分子量は、硬化体の防湿性がより向上する点及び組成物の保存安定性がより向上する点で、450以下が好ましく、400以下がより好ましく、300以下が更に好ましく、100~280が一層好ましい。すなわち、脂環式エポキシ化合物の分子量は、例えば100~450、100~400、100~300又は100~280であってよい。 The molecular weight of the alicyclic epoxy compound is preferably 450 or less, more preferably 400 or less, even more preferably 300 or less, and even more preferably 100 to 280, in order to further improve the moisture resistance of the cured product and the storage stability of the composition. That is, the molecular weight of the alicyclic epoxy compound may be, for example, 100 to 450, 100 to 400, 100 to 300, or 100 to 280.
脂環式エポキシ化合物が分子量分布を有する場合は、脂環式エポキシ化合物の数平均分子量が上記範囲であることが好ましい。なお、本明細書中、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により下記測定条件で測定される、ポリスチレン換算の値を示す。
・溶媒(移動相):THF
・脱気装置:ERMA社製ERC-3310
・ポンプ:日本分光社製PU-980
・流速:1.0ml/min
・オートサンプラ:東ソー社製AS-8020
・カラムオーブン:日立製作所製L-5030
・設定温度:40℃
・カラム構成:東ソー社製TSKguardcolumnMP(×L)6.0mmID×4.0cm 2本、及び東ソー社製TSK-GELMULTIPORE HXL-M 7.8mmID×30.0cm 2本、計4本
・検出器:RI 日立製作所製L-3350
・データ処理:SIC480データステーション
When the alicyclic epoxy compound has a molecular weight distribution, the number average molecular weight of the alicyclic epoxy compound is preferably within the above range. In this specification, the number average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following measurement conditions, expressed in terms of polystyrene.
Solvent (mobile phase): THF
Degassing device: ERMA ERC-3310
Pump: JASCO PU-980
・Flow rate: 1.0ml/min
Autosampler: Tosoh AS-8020
Column oven: Hitachi L-5030
・Set temperature: 40℃
Column configuration: Two TSKguard column MP (xL) 6.0 mm ID x 4.0 cm columns manufactured by Tosoh Corporation, and two TSK-GELMULTIPORE HXL-M 7.8 mm ID x 30.0 cm columns manufactured by Tosoh Corporation, for a total of four columns. Detector: RI L-3350 manufactured by Hitachi, Ltd.
Data processing: SIC480 data station
芳香族エポキシ化合物としては、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれも使用可能であり、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、ノボラックフェノール型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、及びこれらの変性物等が挙げられる。 Aromatic epoxy compounds can be used in the form of monomers, oligomers, or polymers, and examples include bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, bisphenol S epoxy resins, biphenyl epoxy resins, naphthalene epoxy resins, fluorene epoxy resins, novolac phenol epoxy resins, cresol novolac epoxy resins, and modified versions of these.
芳香族エポキシ化合物としては、ビスフェノール構造を有する芳香族エポキシ化合物が好ましい。ビスフェノール構造を有する芳香族エポキシ化合物の中では、下記式(A2-1)で表される化合物が好ましい。 Aromatic epoxy compounds having a bisphenol structure are preferred. Among aromatic epoxy compounds having a bisphenol structure, compounds represented by the following formula (A2-1) are preferred.
式(A2-1)中、nは0~30を示し、R21、R22、R23及びR24は、それぞれ独立に水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数1~5のアルキル基を表す。nは0.1以上でもよい。 In formula (A2-1), n represents an integer of 0 to 30, and R 21 , R 22 , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. n may be 0.1 or greater.
R21、R22、R23及びR24は、好ましくは水素原子又はメチル基である。R21、R22、R23及びR24は、それぞれ同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。 R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different, but are preferably the same.
ビスフェノール構造を有する芳香族エポキシ化合物は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂及びビスフェノールF型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。 It is preferable that the aromatic epoxy compound having a bisphenol structure is at least one selected from the group consisting of bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins.
芳香族エポキシ化合物の分子量は、硬化体の防湿性がより向上する点で、100~5000が好ましく、150~1000がより好ましく、200~450が更に好ましい。すなわち、芳香族エポキシ化合物の分子量は、例えば100~5000、100~1000、100~450、150~5000、150~1000、150~450、200~5000、200~1000又は200~450であってよい。 The molecular weight of the aromatic epoxy compound is preferably 100 to 5,000, more preferably 150 to 1,000, and even more preferably 200 to 450, in order to further improve the moisture resistance of the cured product. That is, the molecular weight of the aromatic epoxy compound may be, for example, 100 to 5,000, 100 to 1,000, 100 to 450, 150 to 5,000, 150 to 1,000, 150 to 450, 200 to 5,000, 200 to 1,000, or 200 to 450.
芳香族エポキシ化合物が分子量分布を有する場合は、芳香族エポキシ化合物の数平均分子量が上記範囲であることが好ましい。なお、本明細書中、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により上述した測定条件で測定される、ポリスチレン換算の値を示す。When the aromatic epoxy compound has a molecular weight distribution, it is preferable that the number average molecular weight of the aromatic epoxy compound be within the above range. Note that, in this specification, the number average molecular weight refers to the polystyrene-equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC) under the above-mentioned measurement conditions.
グリシジルエーテル化合物としては、ポリグリシジルエーテル化合物が好ましい。ポリグリシジルエーテル化合物としては、特に限定されないが、アルキレングリコールのジグリシジルエーテル(例えば、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等)、多価アルコールのポリグリシジルエーテル(例えば、グリセリン又はそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等)、ポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル(例えば、ポリエチレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール又はそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等)が挙げられる。ここで、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等が挙げられる。 Preferred glycidyl ether compounds are polyglycidyl ether compounds. Examples of polyglycidyl ether compounds include, but are not limited to, diglycidyl ethers of alkylene glycols (e.g., diglycidyl ethers of ethylene glycol, diglycidyl ethers of propylene glycol, diglycidyl ethers of 1,6-hexanediol, etc.), polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols (e.g., di- or triglycidyl ethers of glycerin or its alkylene oxide adducts, etc.), and diglycidyl ethers of polyalkylene glycols (e.g., diglycidyl ethers of polyethylene glycol or its alkylene oxide adducts, diglycidyl ethers of polypropylene glycol or its alkylene oxide adducts, etc.). Examples of alkylene oxides include ethylene oxide and propylene oxide.
カチオン重合性ビニル化合物は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれも使用できる。カチオン重合性ビニル化合物としては、ビニルエーテル化合物、ビニルアミン化合物、スチレン等が挙げられる。 Cationically polymerizable vinyl compounds can be used as monomers, oligomers, or polymers. Examples of cationically polymerizable vinyl compounds include vinyl ether compounds, vinylamine compounds, and styrene.
ビニルエーテル化合物としては、特に限定されないが、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n-プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテルo-プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。 Vinyl ether compounds include, but are not limited to, di- or trivinyl ether compounds such as ethylene glycol divinyl ether, ethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, hydroxyethyl monovinyl ether, hydroxynonyl monovinyl ether, and trimethylolpropane trivinyl ether; and monovinyl ether compounds such as ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexanedimethanol monovinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether o-propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.
オキセタン化合物としては、特に限定されないが、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成(株)製商品名アロンオキセタンOXT-101等)、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン(同OXT-121等)、3-エチル-3-(フェノキシメチル)オキセタン(同OXT-211等)、ジ(1-エチル-(3-オキセタニル))メチルエーテル(同OXT-221等)、3-エチル-3-(2-エチルヘキシロキシメチル)オキセタン(同OXT-212等)等が挙げられる。オキセタン化合物とは、分子内に1個以上のオキセタン環を有する化合物をいう。 Examples of oxetane compounds include, but are not limited to, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (such as Aron Oxetane OXT-101, a trade name of Toagosei Co., Ltd.), 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methoxymethyl]benzene (such as OXT-121), 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane (such as OXT-211), di(1-ethyl-(3-oxetanyl))methyl ether (such as OXT-221), and 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane (such as OXT-212). An oxetane compound is a compound containing one or more oxetane rings in its molecule.
重合性化合物(X)がラジカル重合性官能基を有するとき、重合性化合物(X’)はラジカル重合性官能基を有することが好ましい。ラジカル重合性官能基を有する重合性化合物(X’)としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基からなる群より選択される少なくとも一種のラジカル重合性官能基を有する化合物が好ましく、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリルアミドからなる群より選択される少なくとも一種がより好ましい。When the polymerizable compound (X) has a radically polymerizable functional group, the polymerizable compound (X') preferably has a radically polymerizable functional group. The polymerizable compound (X') having a radically polymerizable functional group is preferably a compound having at least one radically polymerizable functional group selected from the group consisting of a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an allyl group, a vinyl ether group, and a vinyl ester group, and more preferably a compound having a (meth)acryloyl group. The compound having a (meth)acryloyl group is more preferably at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates and (meth)acrylamides.
(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エトキシ化-o-フェニルフェノールアクリレート等の単官能(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,12-ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of (meth)acrylates include monofunctional (meth)acrylates such as ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, and ethoxylated-o-phenylphenol acrylate, and multifunctional (meth)acrylates such as 1,6-hexanediol di(meth)acrylate and 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate.
重合性化合物は、重合性官能基を2個以上有する架橋性化合物(Y)を含有することが好ましい。架橋性化合物(Y)は、高比重化合物であっても低比重化合物であってもよい。また、架橋性化合物(Y)は、重合性化合物(X)であっても重合性化合物(X’)であってもよい。The polymerizable compound preferably contains a crosslinkable compound (Y) having two or more polymerizable functional groups. The crosslinkable compound (Y) may be a high-specific gravity compound or a low-specific gravity compound. The crosslinkable compound (Y) may also be a polymerizable compound (X) or a polymerizable compound (X').
架橋性化合物(Y)としては、上述した重合性化合物の中で、重合性官能基を2個以上有するものが挙げられる。 Examples of the crosslinkable compound (Y) include the polymerizable compounds described above that have two or more polymerizable functional groups.
重合性化合物に占める架橋性化合物(Y)の割合は、30質量%以上が好ましく、35質量%以上がより好ましく、40質量%以上が更に好ましい。これにより、組成物の硬化性がより向上し、より強度の高い硬化体が得られやすくなる傾向がある。また、重合性化合物に占める架橋性化合物(Y)の割合は、90質量%以下が好ましく、85質量%以下がより好ましく、80質量%以下が更に好ましい。これにより、ガラス基板等への接着性がより向上し、より信頼性に優れた封止材を形成できる。すなわち、重合性化合物に占める架橋性化合物(Y)の割合は、例えば30~90質量%、30~85質量%、30~80質量%、35~90質量%、35~85質量%、35~80質量%、40~90質量%、40~85質量%又は40~80質量%であってよい。The proportion of the crosslinkable compound (Y) in the polymerizable compound is preferably 30% by mass or more, more preferably 35% by mass or more, and even more preferably 40% by mass or more. This improves the curability of the composition and tends to make it easier to obtain a cured product with higher strength. Furthermore, the proportion of the crosslinkable compound (Y) in the polymerizable compound is preferably 90% by mass or less, more preferably 85% by mass or less, and even more preferably 80% by mass or less. This improves adhesion to glass substrates and the like, allowing for the formation of a more reliable encapsulant. That is, the proportion of the crosslinkable compound (Y) in the polymerizable compound may be, for example, 30 to 90% by mass, 30 to 85% by mass, 30 to 80% by mass, 35 to 90% by mass, 35 to 85% by mass, 35 to 80% by mass, 40 to 90% by mass, 40 to 85% by mass, or 40 to 80% by mass.
本実施形態の組成物の塗工性が向上し、硬化体の成形性に優れる観点からは、重合性化合物の全量混合物の80℃における粘度が、500mPa・s以上が好ましく、700mPa・s以上がより好ましく、1000mPa・s以上が更に好ましい。また、本実施形態の組成物の塗工時の吐出性が向上し、成形方法の選択の幅が広がる観点からは、重合性化合物の全量混合物の80℃における粘度が、30000mPa・s以下が好ましく、25000mPa・s以下がより好ましく、20000mPa・s以下が更に好ましい。すなわち、重合性化合物の全量混合物の80℃における粘度は、例えば、500~30000mPa・s、500~25000mPa・s、500~20000mPa・s、700~30000mPa・s、700~25000mPa・s、700~20000mPa・s、1000~30000mPa・s、1000~25000mPa・s又は1000~20000mPa・sであってよい。 From the viewpoint of improving the coatability of the composition of this embodiment and achieving excellent moldability of the cured product, the viscosity of the total mixture of polymerizable compounds at 80°C is preferably 500 mPa·s or more, more preferably 700 mPa·s or more, and even more preferably 1000 mPa·s or more. Furthermore, from the viewpoint of improving the dischargeability of the composition of this embodiment during coating and expanding the range of molding methods available, the viscosity of the total mixture of polymerizable compounds at 80°C is preferably 30,000 mPa·s or less, more preferably 25,000 mPa·s or less, and even more preferably 20,000 mPa·s or less. That is, the viscosity of the total mixture of polymerizable compounds at 80°C may be, for example, 500 to 30,000 mPa·s, 500 to 25,000 mPa·s, 500 to 20,000 mPa·s, 700 to 30,000 mPa·s, 700 to 25,000 mPa·s, 700 to 20,000 mPa·s, 1,000 to 30,000 mPa·s, 1,000 to 25,000 mPa·s, or 1,000 to 20,000 mPa·s.
本実施形態では、重合性化合物の全量混合物の粘度が上記範囲となるように、上述の重合性化合物の複数を組み合わせてよい。 In this embodiment, multiple polymerizable compounds described above may be combined so that the viscosity of the total mixture of polymerizable compounds is within the above range.
なお、本明細書中、重合性化合物の全量混合物の80℃における粘度は、コーンローター式粘度計により測定される値を示す。 In this specification, the viscosity of the total mixture of polymerizable compounds at 80°C indicates the value measured using a cone rotor viscometer.
重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤を用いることで、本実施形態の組成物が、紫外線等のエネルギー線の照射により硬化可能となる。 A photopolymerization initiator is preferred as the polymerization initiator. By using a photopolymerization initiator, the composition of this embodiment can be cured by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays.
重合開始剤は、カチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤からなる群より選択される少なくとも一種であってよく、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。カチオン重合開始剤を用いることで、カチオン重合性官能基を有する重合性化合物の重合が可能となり、ラジカル重合開始剤を用いることで、ラジカル重合性官能基を有する重合性化合物の重合が可能となる。The polymerization initiator may be at least one selected from the group consisting of cationic polymerization initiators and radical polymerization initiators, and is preferably at least one selected from the group consisting of photocationic polymerization initiators and photoradical polymerization initiators. The use of a cationic polymerization initiator enables the polymerization of polymerizable compounds having cationic polymerizable functional groups, while the use of a radical polymerization initiator enables the polymerization of polymerizable compounds having radical polymerizable functional groups.
光カチオン重合開始剤は特に限定されず、例えば、アリールスルホニウム塩誘導体(例えば、ダウケミカル社製のサイラキュアUVI-6990、サイラキュアUVI-6974、旭電化工業社製のアデカオプトマーSP-150、アデカオプトマーSP-152、アデカオプトマーSP-170、アデカオプトマーSP-172、サンアプロ社製のCPI-100P、CPI-101A、CPI-200K、CPI-210S、LW-S1、ダブルボンド社製のチバキュアー1190等)、アリールヨードニウム塩誘導体(例えば、チバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュア250、ローディア・ジャパン社製のRP-2074)、アレン-イオン錯体誘導体、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤等が挙げられる。 The photocationic polymerization initiator is not particularly limited, and examples include arylsulfonium salt derivatives (e.g., Cyracure UVI-6990 and Cyracure UVI-6974 manufactured by The Dow Chemical Company; Adekaoptomer SP-150, Adekaoptomer SP-152, Adekaoptomer SP-170, and Adekaoptomer SP-172 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.; CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K, CPI-210S, and LW-S1 manufactured by San-Apro; and Cibacur 1190 manufactured by Double Bond Corporation), aryl iodonium salt derivatives (e.g., Irgacure 250 manufactured by Ciba Specialty Chemicals; and RP-2074 manufactured by Rhodia Japan), allene-ion complex derivatives, diazonium salt derivatives, triazine initiators, and acid generators such as other halides.
光カチオン重合開始剤としては、例えば、式(B-1)で表されるオニウム塩が挙げられる。
AはVIA族~VIIA族の原子価mの元素を示し、
mは1~2を示し、
pは0~3を示し、
RはAに結合している有機基を示し、
Dは下記式(B-1-1):
X-はオニウムの対イオンである。)
Examples of the photocationic polymerization initiator include onium salts represented by formula (B-1).
A represents an element of group VIA to group VIIA with a valence of m,
m represents 1 or 2,
p represents 0 to 3;
R represents an organic group bonded to A;
D is the following formula (B-1-1):
X - is the counter ion of the onium.
式(B-1)のオニウムイオンは特に限定されず、例えば、4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、ビス[4-(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド、ビス〔4-{ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]スルホニオ}フェニル〕スルフィド、ビス{4-[ビス(4-フルオロフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、4-(4-ベンゾイル-2-クロロフェニルチオ)フェニルビス(4-フルオロフェニル)スルホニウム、4-(4-ベンゾイルフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、7-イソプロピル-9-オキソ-10-チア-9,10-ジヒドロアントラセン-2-イルジ-p-トリルスルホニウム、7-イソプロピル-9-オキソ-10-チア-9,10-ジヒドロアントラセン-2-イルジフェニルスルホニウム、2-[(ジ-p-トリル)スルホニオ]チオキサントン、2-[(ジフェニル)スルホニオ]チオキサントン、4-[4-(4-tert-ブチルベンゾイル)フェニルチオ]フェニルジ-p-トリルスルホニウム、4-(4-ベンゾイルフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、5-(4-メトキシフェニル)チアアンスレニウム、5-フェニルチアアンスレニウム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、4-ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、2-ナフチルメチル(1-エトキシカルボニル)エチルスルホニウム、4-ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、オクタデシルメチルフェナシルスルホニウム等が挙げられる。 The onium ion of formula (B-1) is not particularly limited, and examples thereof include 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide, bis[4-{bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonio}phenyl]sulfide, bis{4-[bis(4-fluorophenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, and 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium. -dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, 2-[(di-p-tolyl)sulfonio]thioxanthone, 2-[(diphenyl)sulfonio]thioxanthone, 4-[4-(4-tert-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 5-(4-methoxyphenyl)thiaanthrenenium, 5-phenylthiaanthrenenium, diphenylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethyl(1-ethoxycarbonyl)ethylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium, and octadecylmethylphenacylsulfonium.
RはAに結合している有機基である。Rは、例えば、炭素数6~30のアリール基、炭素数4~30の複素環基、炭素数1~30のアルキル基、炭素数2~30のアルケニル基又は炭素数2~30のアルキニル基を表し、これらは置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アシロキシ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキレンオキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、及びハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも1種が挙げられる。 R is an organic group bonded to A. R represents, for example, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, each of which may have a substituent. Examples of the substituent include at least one selected from the group consisting of alkyl groups, hydroxy groups, alkoxy groups, alkylcarbonyl groups, arylcarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, arylthiocarbonyl groups, acyloxy groups, arylthio groups, alkylthio groups, aryl groups, heterocyclic groups, aryloxy groups, alkylsulfinyl groups, arylsulfinyl groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkyleneoxy groups, amino groups, cyano groups, nitro groups, and halogens.
Rの個数はm+p(m-1)+1であり、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。また、2個以上のRは、互いに直接又は-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-NH-、-NR’-、-CO-、-COO-、-CONH-、炭素数1~3のアルキレン若しくはフェニレン基を介して結合して、元素Aを含む環構造を形成していてもよい。ここで、R’は炭素数1~5のアルキル基又は炭素数6~10のアリール基である。 The number of R is m+p(m-1)+1, and they may be the same or different. Two or more R may be bonded to each other directly or via -O-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -NH-, -NR'-, -CO-, -COO-, -CONH-, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, or a phenylene group to form a ring structure containing element A. Here, R' is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
炭素数6~30のアリール基としては、フェニル基等の単環式アリール基、並びに、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、ベンズアントラセニル基、アントラキノリル基、フルオレニル基、ナフトキノン基及びアントラキノン基等の縮合多環式アリール基が挙げられる。 Aryl groups having 6 to 30 carbon atoms include monocyclic aryl groups such as phenyl groups, and condensed polycyclic aryl groups such as naphthyl groups, anthracenyl groups, phenanthrenyl groups, pyrenyl groups, chrysenyl groups, naphthacenyl groups, benzanthracenyl groups, anthraquinolyl groups, fluorenyl groups, naphthoquinone groups, and anthraquinone groups.
炭素数6~30のアリール基、炭素数4~30の複素環基、炭素数1~30のアルキル基、炭素数2~30のアルケニル基又は炭素数2~30のアルキニル基は少なくとも1種の置換基を有してもよい。置換基の例としては、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクダデシル等の炭素数1~18の直鎖アルキル基;
イソプロピル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、イソヘキシル等の炭素数1~18の分岐アルキル基;
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の炭素数3~18のシクロアルキル基;
ヒドロキシ基;
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ヘキシルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ等の炭素数1~18の直鎖又は分岐のアルコキシ基;
アセチル、プロピオニル、ブタノイル、2-メチルプロピオニル、ヘプタノイル、2-メチルブタノイル、3-メチルブタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル等の炭素数2~18の直鎖又は分岐のアルキルカルボニル基;
ベンゾイル、ナフトイル等の炭素数7~11のアリールカルボニル基;
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec-ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル、オクチロキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、オクタデシロキシカルボニル等の炭素数2~19の直鎖又は分岐のアルコキシカルボニル基;
フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル等の炭素数7~11のアリールオキシカルボニル基;
フェニルチオカルボニル、ナフトキシチオカルボニル等の炭素数7~11のアリールチオカルボニル基;
アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、sec-ブチルカルボニルオキシ、tert-ブチルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、テトラデシルカルボニルオキシ、オクタデシルカルボニルオキシ等の炭素数2~19の直鎖又は分岐のアシロキシ基;
フェニルチオ、2-メチルフェニルチオ、3-メチルフェニルチオ、4-メチルフェニルチオ、2-クロロフェニルチオ、3-クロロフェニルチオ、4-クロロフェニルチオ、2-ブロモフェニルチオ、3-ブロモフェニルチオ、4-ブロモフェニルチオ、2-フルオロフェニルチオ、3-フルオロフェニルチオ、4-フルオロフェニルチオ、2-ヒドロキシフェニルチオ、4-ヒドロキシフェニルチオ、2-メトキシフェニルチオ、4-メトキシフェニルチオ、1-ナフチルチオ、2-ナフチルチオ、4-[4-(フェニルチオ)ベンゾイル]フェニルチオ、4-[4-(フェニルチオ)フェノキシ]フェニルチオ、4-[4-(フェニルチオ)フェニル]フェニルチオ、4-(フェニルチオ)フェニルチオ、4-ベンゾイルフェニルチオ、4-ベンゾイル-2-クロロフェニルチオ、4-ベンゾイル-3-クロロフェニルチオ、4-ベンゾイル-3-メチルチオフェニルチオ、4-ベンゾイル-2-メチルチオフェニルチオ、4-(4-メチルチオベンゾイル)フェニルチオ、4-(2-メチルチオベンゾイル)フェニルチオ、4-(p-メチルベンゾイル)フェニルチオ、4-(p-エチルベンゾイル)フェニルチオ4-(p-イソプロピルベンゾイル)フェニルチオ、4-(p-tert-ブチルベンゾイル)フェニルチオ等の炭素数6~20のアリールチオ基;
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec-ブチルチオ、tert-ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、tert-ペンチルチオ、オクチルチオ、デシルチオ、ドデシルチオ等の炭素数1~18の直鎖又は分岐のアルキルチオ基;
フェニル、トリル、ジメチルフェニル、ナフチル等の炭素数6~10のアリール基;
チエニル、フラニル、ピラニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、インドリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノチアジニル、フェナジニル、キサンテニル、チアントレニル、フェノキサジニル、フェノキサチイニル、クロマニル、イソクロマニル、ジベンゾチエニル、キサントニル、チオキサントニル、ジベンゾフラニル等の炭素数4~20の複素環基;
フェノキシ、ナフチルオキシ等の炭素数6~10のアリールオキシ基;メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、イソブチルスルフィニル、sec-ブチルスルフィニル、tert-ブチルスルフィニル、ペンチルスルフィニル、イソペンチルスルフィニル、ネオペンチルスルフィニル、tert-ペンチルスルフィニル、オクチルスルフィニル等の炭素数1~18の直鎖又は分岐のアルキルスルフィニル基;
フェニルスルフィニル、トリルスルフィニル、ナフチルスルフィニル等の炭素数6~10のアリールスルフィニル基;
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、sec-ブチルスルホニル、tert-ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、tert-ペンチルスルホニル、オクチルスルホニル等の炭素数1~18の直鎖又は分岐のアルキルスルホニル基;
フェニルスルホニル、トリルスルホニル(トシル基)、ナフチルスルホニル等の炭素数の6~10のアリールスルホニル基;
式(B-1-2):
非置換のアミノ基;
炭素数1~5のアルキル及び/又は炭素数6~10のアリールでモノ置換もしくはジ置換されているアミノ基;
シアノ基;
ニトロ基;
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン等が挙げられる。
The aryl group having 6 to 30 carbon atoms, the heterocyclic group having 4 to 30 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, the alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, or the alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms may have at least one substituent. Examples of the substituent include:
linear alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, octyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, and octadecyl;
branched alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms, such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, and isohexyl;
cycloalkyl groups having 3 to 18 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl;
hydroxy group;
linear or branched alkoxy groups having 1 to 18 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, hexyloxy, decyloxy, and dodecyloxy;
linear or branched alkylcarbonyl groups having 2 to 18 carbon atoms, such as acetyl, propionyl, butanoyl, 2-methylpropionyl, heptanoyl, 2-methylbutanoyl, 3-methylbutanoyl, octanoyl, decanoyl, dodecanoyl, and octadecanoyl;
Arylcarbonyl groups having 7 to 11 carbon atoms, such as benzoyl and naphthoyl;
linear or branched alkoxycarbonyl groups having 2 to 19 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, octyloxycarbonyl, tetradecyloxycarbonyl, and octadecyloxycarbonyl;
aryloxycarbonyl groups having 7 to 11 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl and naphthoxycarbonyl;
arylthiocarbonyl groups having 7 to 11 carbon atoms, such as phenylthiocarbonyl and naphthoxythiocarbonyl;
linear or branched acyloxy groups having 2 to 19 carbon atoms, such as acetoxy, ethylcarbonyloxy, propylcarbonyloxy, isopropylcarbonyloxy, butylcarbonyloxy, isobutylcarbonyloxy, sec-butylcarbonyloxy, tert-butylcarbonyloxy, octylcarbonyloxy, tetradecylcarbonyloxy, and octadecylcarbonyloxy;
Phenylthio, 2-methylphenylthio, 3-methylphenylthio, 4-methylphenylthio, 2-chlorophenylthio, 3-chlorophenylthio, 4-chlorophenylthio, 2-bromophenylthio, 3-bromophenylthio, 4-bromophenylthio, 2-fluorophenylthio, 3-fluorophenylthio, 4-fluorophenylthio, 2-hydroxyphenylthio, 4-hydroxyphenylthio, 2-methoxyphenylthio, 4-methoxyphenylthio, 1-naphthylthio, 2-naphthylthio, 4-[4-(phenylthio)benzoyl]phenylthio, 4-[4-(phenylthio)phenoxy]phenylthio, 4-[4-(phenoxy)phenylthio] arylthio groups having 6 to 20 carbon atoms, such as arylthio)phenyl]phenylthio, 4-(phenylthio)phenylthio, 4-benzoylphenylthio, 4-benzoyl-2-chlorophenylthio, 4-benzoyl-3-chlorophenylthio, 4-benzoyl-3-methylthiophenylthio, 4-benzoyl-2-methylthiophenylthio, 4-(4-methylthiobenzoyl)phenylthio, 4-(2-methylthiobenzoyl)phenylthio, 4-(p-methylbenzoyl)phenylthio, 4-(p-ethylbenzoyl)phenylthio, 4-(p-isopropylbenzoyl)phenylthio, and 4-(p-tert-butylbenzoyl)phenylthio;
linear or branched alkylthio groups having 1 to 18 carbon atoms, such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert-butylthio, pentylthio, isopentylthio, neopentylthio, tert-pentylthio, octylthio, decylthio, and dodecylthio;
aryl groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenyl, tolyl, dimethylphenyl, and naphthyl;
heterocyclic groups having 4 to 20 carbon atoms, such as thienyl, furanyl, pyranyl, pyrrolyl, oxazolyl, thiazolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, indolyl, benzofuranyl, benzothienyl, quinolyl, isoquinolyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, carbazolyl, acridinyl, phenothiazinyl, phenazinyl, xanthenyl, thianthrenyl, phenoxazinyl, phenoxathiinyl, chromanyl, isochromanyl, dibenzothienyl, xanthonyl, thioxanthonyl, and dibenzofuranyl;
aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenoxy and naphthyloxy; linear or branched alkylsulfinyl groups having 1 to 18 carbon atoms, such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, propylsulfinyl, isopropylsulfinyl, butylsulfinyl, isobutylsulfinyl, sec-butylsulfinyl, tert-butylsulfinyl, pentylsulfinyl, isopentylsulfinyl, neopentylsulfinyl, tert-pentylsulfinyl, and octylsulfinyl;
arylsulfinyl groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenylsulfinyl, tolylsulfinyl, and naphthylsulfinyl;
linear or branched alkylsulfonyl groups having 1 to 18 carbon atoms, such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, tert-butylsulfonyl, pentylsulfonyl, isopentylsulfonyl, neopentylsulfonyl, tert-pentylsulfonyl, and octylsulfonyl;
arylsulfonyl groups having 6 to 10 carbon atoms, such as phenylsulfonyl, tolylsulfonyl (tosyl group), and naphthylsulfonyl;
Formula (B-1-2):
an unsubstituted amino group;
an amino group mono- or di-substituted by alkyl having 1 to 5 carbon atoms and/or aryl having 6 to 10 carbon atoms;
cyano group;
nitro group;
Examples include halogens such as fluorine, chlorine, bromine, and iodine.
式(B-1)中のpは[D-A+Rm-1]結合の繰り返し単位数を表し、0~3の整数であることが好ましい。 In formula (B-1), p represents the number of repeating units of the [DA + R m-1 ] bond, and is preferably an integer of 0 to 3.
式(B-1)中のオニウムイオン[A+]として好ましいものはスルホニウム、ヨードニウム、セレニウムであるが、代表例としては以下のものが挙げられる。 The onium ion [A + ] in formula (B-1) is preferably sulfonium, iodonium, or selenium, and typical examples include the following.
スルホニウムイオンとしては、トリフェニルスルホニウム、トリ-p-トリルスルホニウム、トリ-o-トリルスルホニウム、トリス(4-メトキシフェニル)スルホニウム、1-ナフチルジフェニルスルホニウム、2-ナフチルジフェニルスルホニウム、トリス(4-フルオロフェニル)スルホニウム、トリ-1-ナフチルスルホニウム、トリ-2-ナフチルスルホニウム、トリス(4-ヒドロキシフェニル)スルホニウム、4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、4-(p-トリルチオ)フェニルジ-p-トリルスルホニウム、4-(4-メトキシフェニルチオ)フェニルビス(4-メトキシフェニル)スルホニウム、4-(フェニルチオ)フェニルビス(4-フルオロフェニル)スルホニウム、4-(フェニルチオ)フェニルビス(4-メトキシフェニル)スルホニウム、4-(フェニルチオ)フェニルジ-p-トリルスルホニウム、ビス[4-(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド、ビス〔4-{ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]スルホニオ}フェニル〕スルフィド、ビス{4-[ビス(4-フルオロフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、ビス{4-[ビス(4-メチルフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、ビス{4-[ビス(4-メトキシフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、4-(4-ベンゾイル-2-クロロフェニルチオ)フェニルビス(4-フルオロフェニル)スルホニウム、4-(4-ベンゾイル-2-クロロフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、4-(4-ベンゾイルフェニルチオ)フェニルビス(4-フルオロフェニル)スルホニウム、4-(4-ベンゾイルフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、7-イソプロピル-9-オキソ-10-チア-9,10-ジヒドロアントラセン-2-イルジ-p-トリルスルホニウム、7-イソプロピル-9-オキソ-10-チア-9,10-ジヒドロアントラセン-2-イルジフェニルスルホニウム、2-[(ジ-p-トリル)スルホニオ]チオキサントン、2-[(ジフェニル)スルホニオ]チオキサントン、4-[4-(4-tert-ブチルベンゾイル)フェニルチオ]フェニルジ-p-トリルスルホニウム、4-[4-(4-tert-ブチルベンゾイル)フェニルチオ]フェニルジフェニルスルホニウム、4-[4-(ベンゾイルフェニルチオ)]フェニルジ-p-トリルスルホニウム、4-[4-(ベンゾイルフェニルチオ)]フェニルジフェニルスルホニウム、5-(4-メトキシフェニル)チアアンスレニウム、5-フェニルチアアンスレニウム、5-トリルチアアンスレニウム、5-(4-エトキシフェニル)チアアンスレニウム、5-(2,4,6-トリメチルフェニル)チアアンスレニウム等のトリアリールスルホニウム;
ジフェニルフェナシルスルホニウム、ジフェニル4-ニトロフェナシルスルホニウム、ジフェニルベンジルスルホニウム、ジフェニルメチルスルホニウム等のジアリールスルホニウム;
フェニルメチルベンジルスルホニウム、4-ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、4-メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、4-アセトカルボニルオキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、2-ナフチルメチルベンジルスルホニウム、2-ナフチルメチル(1-エトキシカルボニル)エチルスルホニウム、フェニルメチルフェナシルスルホニウム、4-ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、4-メトキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、4-アセトカルボニルオキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、2-ナフチルメチルフェナシルスルホニウム、2-ナフチルオクタデシルフェナシルスルホニウム、9-アントラセニルメチルフェナシルスルホニウム等のモノアリールスルホニウム;
ジメチルフェナシルスルホニウム、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム、ジメチルベンジルスルホニウム、ベンジルテトラヒドロチオフェニウム、オクタデシルメチルフェナシルスルホニウム等のトリアルキルスルホニウム;等が挙げられる。
Examples of sulfonium ions include triphenylsulfonium, tri-p-tolylsulfonium, tri-o-tolylsulfonium, tris(4-methoxyphenyl)sulfonium, 1-naphthyldiphenylsulfonium, 2-naphthyldiphenylsulfonium, tris(4-fluorophenyl)sulfonium, tri-1-naphthylsulfonium, tri-2-naphthylsulfonium, tris(4-hydroxyphenyl)sulfonium, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 4-(p-tolylthio)phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-(4-methoxyphenylthio)phenylbis(4-methoxy ... bis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(phenylthio)phenylbis(4-methoxyphenyl)sulfonium, 4-(phenylthio)phenyldi-p-tolylsulfonium, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide, bis[4-{bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonio}phenyl]sulfide, bis{4-[bis(4-fluorophenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, bis{4-[bis(4-methylphenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, bis{4-[bis(4-methoxyphenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenyl)bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide, bis[4-{bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonio}phenyl]sulfide, bis{4-[bis(4-fluorophenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, 2-[(di-p-tolyl)sulfonio]thioxanthone, 2-[(diphenyl)sulfonio] triarylsulfoniums such as thioxanthone, 4-[4-(4-tert-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-[4-(4-tert-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldiphenylsulfonium, 4-[4-(benzoylphenylthio)]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-[4-(benzoylphenylthio)]phenyldiphenylsulfonium, 5-(4-methoxyphenyl)thiaanthrenenium, 5-phenylthiaanthrenenium, 5-tolylthiaanthrenenium, 5-(4-ethoxyphenyl)thiaanthrenenium, and 5-(2,4,6-trimethylphenyl)thiaanthrenenium;
diarylsulfonium such as diphenylphenacylsulfonium, diphenyl 4-nitrophenacylsulfonium, diphenylbenzylsulfonium, and diphenylmethylsulfonium;
Monoarylsulfonium compounds such as phenylmethylbenzylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 4-methoxyphenylmethylbenzylsulfonium, 4-acetocarbonyloxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethyl(1-ethoxycarbonyl)ethylsulfonium, phenylmethylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium, 4-methoxyphenylmethylphenacylsulfonium, 4-acetocarbonyloxyphenylmethylphenacylsulfonium, 2-naphthylmethylphenacylsulfonium, 2-naphthyloctadecylphenacylsulfonium, and 9-anthracenylmethylphenacylsulfonium;
trialkylsulfonium compounds such as dimethylphenacylsulfonium, phenacyltetrahydrothiophenium, dimethylbenzylsulfonium, benzyltetrahydrothiophenium, and octadecylmethylphenacylsulfonium; and the like.
これらのオニウムイオンの中では、スルホニウムイオンとヨードニウムイオンからなる1種以上が好ましく、スルホニウムイオンがより好ましい。スルホニウムイオンとしては、トリフェニルスルホニウム、トリ-p-トリルスルホニウム、4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、ビス[4-(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド、ビス〔4-{ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]スルホニオ}フェニル〕スルフィド、ビス{4-[ビス(4-フルオロフェニル)スルホニオ]フェニル}スルフィド、4-(4-ベンゾイル-2-クロロフェニルチオ)フェニルビス(4-フルオロフェニル)スルホニウム、4-(4-ベンゾイルフェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム、7-イソプロピル-9-オキソ-10-チア-9,10-ジヒドロアントラセン-2-イルジ-p-トリルスルホニウム、7-イソプロピル-9-オキソ-10-チア-9,10-ジヒドロアントラセン-2-イルジフェニルスルホニウム、2-[(ジ-p-トリル)スルホニオ]チオキサントン、2-[(ジフェニル)スルホニオ]チオキサントン、4-[4-(4-tert-ブチルベンゾイル)フェニルチオ]フェニルジ-p-トリルスルホニウム、4-[4-(ベンゾイルフェニルチオ)]フェニルジフェニルスルホニウム、5-(4-メトキシフェニル)チアアンスレニウム、5-フェニルチアアンスレニウム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、4-ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、2-ナフチルメチル(1-エトキシカルボニル)エチルスルホニウム、4-ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム及びオクタデシルメチルフェナシルスルホニウムからなる1種以上が好ましい。Among these onium ions, one or more of sulfonium ions and iodonium ions are preferred, with sulfonium ions being more preferred. Examples of sulfonium ions include triphenylsulfonium, tri-p-tolylsulfonium, 4-(phenylthio)phenyldiphenylsulfonium, bis[4-(diphenylsulfonio)phenyl]sulfide, bis[4-{bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]sulfonio}phenyl]sulfide, bis{4-[bis(4-fluorophenyl)sulfonio]phenyl}sulfide, 4-(4-benzoyl-2-chlorophenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium, 4-(4-benzoylphenylthio)phenyldiphenylsulfonium, 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9,10-dihydroanthracen-2-yldi-p-tolylsulfonium, and 7-isopropyl-9-oxo-10-thia-9 , 10-dihydroanthracen-2-yldiphenylsulfonium, 2-[(di-p-tolyl)sulfonio]thioxanthone, 2-[(diphenyl)sulfonio]thioxanthone, 4-[4-(4-tert-butylbenzoyl)phenylthio]phenyldi-p-tolylsulfonium, 4-[4-(benzoylphenylthio)]phenyldiphenylsulfonium, 5-(4-methoxyphenyl)thiaanthrenenium, 5-phenylthiaanthrenenium, diphenylphenacylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium, 2-naphthylmethyl(1-ethoxycarbonyl)ethylsulfonium, 4-hydroxyphenylmethylphenacylsulfonium and octadecylmethylphenacylsulfonium are preferred.
式(B-1)においてX-は対イオンである。その個数は1分子当りp+1である。対イオンは、特に限定されないが、ホウ素化合物、リン化合物、アンチモン化合物、ヒ素化合物、アルキルスルホン酸化合物等のハロゲン化物、メチド化合物等が挙げられる。X-としては、例えば、F-、Cl-、Br-、I-等のハロゲンイオン;OH-;ClO4 -;FSO3 -、ClSO3 -、CH3SO3 -、C6H5SO3 -、CF3SO3 -等のスルホン酸イオン類;HSO4 -、SO4 2-等の硫酸イオン類;HCO3 -、CO3 2-等の炭酸イオン類;H2PO4 -、HPO4 2-、PO4 3-等のリン酸イオン類;PF6 -、PF5OH-、フッ素化アルキルフルオロリン酸イオン等のフルオロリン酸イオン類;BF4 -、B(C6F5)4 -、B(C6H4CF3)4 -等のホウ酸イオン類;AlCl4 -;BiF6 -等が挙げられる。その他にはSbF6 -、SbF5OH-等のフルオロアンチモン酸イオン類、AsF6 -、AsF5OH-等のフルオロヒ素酸イオン類等が挙げられる。 In formula (B-1), X − is a counter ion. The number of counter ions per molecule is p+1. The counter ion is not particularly limited, but examples thereof include halides such as boron compounds, phosphorus compounds, antimony compounds, arsenic compounds, and alkylsulfonic acid compounds, and methide compounds. Examples of X − include halogen ions such as F − , Cl − , Br − and I − ; OH − ; ClO 4 − ; sulfonate ions such as FSO 3 − , ClSO 3 − , CH 3 SO 3 − , C 6 H 5 SO 3 − and CF 3 SO 3 − ; sulfate ions such as HSO 4 − and SO 4 2− ; carbonate ions such as HCO 3 − and CO 3 2− ; phosphate ions such as H 2 PO 4 − , HPO 4 2− and PO 4 3− ; fluorophosphate ions such as PF 6 − , PF 5 OH − and fluorinated alkyl fluorophosphate ions; BF 4 − , B(C 6 F 5 ) 4 − and B(C 6 H 4 CF 3 ) 4 -, etc.; AlCl 4 - , BiF 6 -, etc. Other examples include fluoroantimonate ions such as SbF 6 - and SbF 5 OH - , and fluoroarsenate ions such as AsF 6 - and AsF 5 OH - .
フッ素化アルキルフルオロリン酸イオンとしては、式(B-1-3)等で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸イオン等が挙げられる。
[(Rf)bPF6-b]- (B-1-3)
Examples of the fluorinated alkylfluorophosphate ion include a fluorinated alkylfluorophosphate ion represented by formula (B-1-3) and the like.
[(Rf) b PF 6-b ] - (B-1-3)
式(B-1-3)において、Rfはフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Rfの個数bは、1~5であり、整数であることが好ましい。b個のRfはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Rfの個数bは、2~4がより好ましく、2~3が最も好ましい。すなわち、Rfの個数bは、例えば1~5、1~4、1~3、2~4又は2~3であってよい。 In formula (B-1-3), Rf represents an alkyl group substituted with a fluorine atom. The number b of Rf is 1 to 5 and is preferably an integer. The b Rfs may be the same or different. The number b of Rfs is more preferably 2 to 4, and most preferably 2 to 3. That is, the number b of Rfs may be, for example, 1 to 5, 1 to 4, 1 to 3, 2 to 4, or 2 to 3.
式(B-1-3)で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸イオンにおいて、Rfはフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、好ましい炭素数は1~8、更に好ましい炭素数は1~4である。アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル等の直鎖アルキル基;イソプロピル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル等の分岐アルキル基;更にシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基等が挙げられる。Rfの具体例としては、CF3、CF3CF2、(CF3)2CF、CF3CF2CF2、CF3CF2CF2CF2、(CF3)2CFCF2、CF3CF2(CF3)CF、(CF3)3C等が挙げられる。 In the fluorinated alkylfluorophosphate ion represented by formula (B-1-3), Rf represents an alkyl group substituted with a fluorine atom, preferably having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, and octyl; branched alkyl groups such as isopropyl, isobutyl, sec-butyl, and tert-butyl; and cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl , and cyclohexyl. Specific examples of Rf include CF3, CF3CF2, (CF3)2CF , CF3CF2CF2 , CF3CF2CF2CF2 , ( CF3 ) 2CFCF2 , CF3CF2 ( CF3 ) CF , and ( CF3 ) 3C .
好ましいフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンの具体例としては、[(CF3CF2)2PF4]-、[(CF3CF2)3PF3]-、[((CF3)2CF)2PF4]-、[((CF3)2CF)3PF3]-、[(CF3CF2CF2)2PF4]-、[(CF3CF2CF2)3PF3]-、[((CF3)2CFCF2)2PF4]-、[((CF3)2CFCF2)3PF3]-、[(CF3CF2CF2CF2)2PF4]-及び[(CF3CF2CF2CF2)3PF3]-等が挙げられる。 Specific examples of preferred fluorinated alkyl fluorophosphate anions include [(CF 3 CF 2 ) 2 PF 4 ] − , [(CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 ] − , [((CF 3 ) 2 CF) 2 PF 4 ] − , [((CF 3 ) 2 CF) 3 PF 3 ] − , [(CF 3 CF 2 CF 2 ) 2 PF 4 ] − , [(CF 3 ) 2 CFCF 2 ) 2 PF 4 ] − , [(CF 3 ) 2 CFCF 2 ) 3 PF 3 ] − , [(CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 ) 2 PF 4 ] - and [(CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 ] - .
光カチオン重合開始剤は、重合性化合物との混合を容易にするため、あらかじめ溶剤類に溶解したものを用いてもよい。溶剤類としては、例えば、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、1,2-ブチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート等のカーボネート類等が挙げられる。 The photocationic polymerization initiator may be dissolved in a solvent in advance to facilitate mixing with the polymerizable compound. Examples of solvents include carbonates such as propylene carbonate, ethylene carbonate, 1,2-butylene carbonate, dimethyl carbonate, and diethyl carbonate.
光カチオン重合開始剤としては、式(B-2)で表されるトリアリールスルホニウム塩ヘキサフルオロアンチモネート及び式(B-3)で表されるジフェニル4-チオフェノキシフェニルスルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェートからなる群より選択される少なくとも1種が好ましく、トリアリールスルホニウム塩ヘキサフルオロアンチモネートがより好ましい。 As the photocationic polymerization initiator, at least one selected from the group consisting of triarylsulfonium salt hexafluoroantimonate represented by formula (B-2) and diphenyl 4-thiophenoxyphenylsulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate represented by formula (B-3) is preferred, with triarylsulfonium salt hexafluoroantimonate being more preferred.
光ラジカル重合開始剤としては、特に限定されないが、
ベンゾフェノン及びその誘導体;
ベンジル及びその誘導体;
アントラキノン及びその誘導体;
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン型光重合開始剤;
ジエトキシアセトフェノン、4-tert-ブチルトリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン型光重合開始剤;
2-ジメチルアミノエチルベンゾエート;
p-ジメチルアミノエチルベンゾエート;
ジフェニルジスルフィド;
チオキサントン及びその誘導体;
カンファーキノン、7,7-ジメチル-2,3-ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン-1-カルボン酸、7,7-ジメチル-2,3-ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン-1-カルボキシ-2-ブロモエチルエステル、7,7-ジメチル-2,3-ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン-1-カルボキシ-2-メチルエステル、7,7-ジメチル-2,3-ジオキソビシクロ[2.2.1]ヘプタン-1-カルボン酸クロライド等のカンファーキノン型光重合開始剤;
2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1等のα-アミノアルキルフェノン型光重合開始剤;
ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジエトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6―トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤;
フェニル-グリオキシリックアシッド-メチルエステル;
オキシ-フェニル-アセチックアシッド2-[2-オキソ-2-フェニル-アセトキシ-エトキシ]-エチルエステル;
オキシ-フェニル-アセチックアシッド2-[2-ヒドロキシ-エトキシ]-エチルエステル;等が挙げられる。
The photoradical polymerization initiator is not particularly limited, but may be
Benzophenone and its derivatives;
Benzil and its derivatives;
Anthraquinone and its derivatives;
benzoin-type photopolymerization initiators such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzil dimethyl ketal;
Acetophenone-type photopolymerization initiators such as diethoxyacetophenone and 4-tert-butyltrichloroacetophenone;
2-dimethylaminoethyl benzoate;
p-dimethylaminoethyl benzoate;
Diphenyl disulfide;
Thioxanthone and its derivatives;
camphorquinone-type photopolymerization initiators such as camphorquinone, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxylic acid, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxy-2-bromoethyl ester, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxy-2-methyl ester, and 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxylic acid chloride;
α-aminoalkylphenone photopolymerization initiators such as 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1;
acylphosphine oxide-type photopolymerization initiators such as benzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, benzoyldiethoxyphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldimethoxyphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiethoxyphenylphosphine oxide, and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide;
Phenyl-glyoxylic acid-methyl ester;
Oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-oxo-2-phenyl-acetoxy-ethoxy]-ethyl ester;
Oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-hydroxy-ethoxy]-ethyl ester; and the like.
重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、0.01質量部以上が好ましく、0.1質量部以上がより好ましい。これにより硬化性がより向上する。また、重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、5質量部以下が好ましく、3質量部以下がより好ましい。これにより、ガラス基板等への接着性がより向上し、より信頼性に優れた封止材を形成できる。すなわち、重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば0.01~5質量部、0.01~3質量部、0.1~5質量部又は0.1~3質量部であってよい。 The content of the polymerization initiator is preferably 0.01 parts by mass or more, and more preferably 0.1 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. This further improves curability. Furthermore, the content of the polymerization initiator is preferably 5 parts by mass or less, and more preferably 3 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. This further improves adhesion to glass substrates and the like, allowing for the formation of a more reliable encapsulant. In other words, the content of the polymerization initiator may be, for example, 0.01 to 5 parts by mass, 0.01 to 3 parts by mass, 0.1 to 5 parts by mass, or 0.1 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable compound.
無機充填材としては、シリカ粒子、ガラスフィラー、球状アルミナ、破砕アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化チタン、ジルコニア、酸化亜鉛等の酸化物類、窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の窒化物類、炭化ケイ素等の炭化物類、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の水酸化物類、銅、銀、金、鉄、アルミニウム、ニッケル、チタン等の金属類及び合金類、ダイヤモンド、カーボン等の炭素系充填材、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、マイカ等が挙げられる。 Inorganic fillers include oxides such as silica particles, glass filler, spherical alumina, crushed alumina, magnesium oxide, beryllium oxide, titanium oxide, zirconia, and zinc oxide; nitrides such as boron nitride, silicon nitride, and aluminum nitride; carbides such as silicon carbide; hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide; metals and alloys such as copper, silver, gold, iron, aluminum, nickel, and titanium; carbon-based fillers such as diamond and carbon; calcium carbonate, barium sulfate, talc, and mica.
無機充填材は、脂肪酸、シリコーンカップリング剤、チタネート系カップリング剤等で表面処理が施されたものであってもよい。無機充填材は、必要に応じて1種又は2種以上を用いることができる。 The inorganic filler may be surface-treated with a fatty acid, a silicone coupling agent, a titanate coupling agent, etc. One or more inorganic fillers may be used as needed.
無機充填材の真比重は、例えば1.3以上であってよく、好ましくは1.4以上、より好ましくは1.5以上である。また、無機充填材の真比重は、例えば20.0以下であってよく、好ましくは8.0以下、より好ましくは5.0以下である。なお、無機充填材の真比重は、ASTM D2840により測定される値を示す。すなわち、無機充填材の真比重は、例えば1.3~20.0、1.3~8.0、1.3~5.0、1.4~20.0、1.4~8.0、1.4~5.0、1.5~20.0、1.5~8.0又は1.5~5.0であってよい。 The true specific gravity of the inorganic filler may be, for example, 1.3 or more, preferably 1.4 or more, and more preferably 1.5 or more. The true specific gravity of the inorganic filler may be, for example, 20.0 or less, preferably 8.0 or less, and more preferably 5.0 or less. The true specific gravity of the inorganic filler is the value measured according to ASTM D2840. That is, the true specific gravity of the inorganic filler may be, for example, 1.3 to 20.0, 1.3 to 8.0, 1.3 to 5.0, 1.4 to 20.0, 1.4 to 8.0, 1.4 to 5.0, 1.5 to 20.0, 1.5 to 8.0, or 1.5 to 5.0.
無機充填材は、好ましくは、シリカ、マイカ、カオリン、タルク及び酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも1種を含み、より好ましくはタルクを含む。 The inorganic filler preferably contains at least one selected from the group consisting of silica, mica, kaolin, talc, and aluminum oxide, and more preferably contains talc.
無機充填材は、平均粒子径(以下、単に粒子径や粒径ともいうことがある。)を有する無機粒子であってよい。無機粒子の平均粒子径は、0.005μm以上が好ましく、0.01μm以上がより好ましい。また、無機粒子の平均粒子径は、50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましい。すなわち、無機粒子の平均粒子径は、例えば0.005~50μm、0.005~30μm、0.01~50μm又は0.01~30μmであってよい。なお、無機粒子の平均粒子径は、マイクロトラック粒度分布装置を用い、レーザー回折・散乱法により測定される値を示す。 The inorganic filler may be inorganic particles having an average particle size (hereinafter sometimes simply referred to as particle size or particle diameter). The average particle size of the inorganic particles is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more. The average particle size of the inorganic particles is preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. That is, the average particle size of the inorganic particles may be, for example, 0.005 to 50 μm, 0.005 to 30 μm, 0.01 to 50 μm, or 0.01 to 30 μm. The average particle size of the inorganic particles is the value measured by laser diffraction/scattering using a Microtrac particle size distribution device.
無機充填材の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば5質量部以上であってよく、好ましくは10質量部以上、より好ましくは15質量部以上である。また、無機充填材の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば500質量部以下であってよく、350質量部以下であってもよく、好ましくは300質量部以下、より好ましくは200質量部以下、更に好ましくは100質量部以下、一層好ましくは50質量部以下である。すなわち、無機充填材の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば5~500質量部、5~350質量部、5~300質量部、5~200質量部、5~100質量部、5~50質量部、10~500質量部、10~350質量部、10~300質量部、10~200質量部、10~100質量部、10~50質量部、15~500質量部、15~350質量部、15~300質量部、15~200質量部、15~100質量部又は15~50質量部であってよい。The content of the inorganic filler may be, for example, 5 parts by mass or more, preferably 10 parts by mass or more, and more preferably 15 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. Furthermore, the content of the inorganic filler may be, for example, 500 parts by mass or less, or may be 350 parts by mass or less, preferably 300 parts by mass or less, more preferably 200 parts by mass or less, even more preferably 100 parts by mass or less, and even more preferably 50 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. That is, the content of the inorganic filler may be, for example, 5 to 500 parts by mass, 5 to 350 parts by mass, 5 to 300 parts by mass, 5 to 200 parts by mass, 5 to 100 parts by mass, 5 to 50 parts by mass, 10 to 500 parts by mass, 10 to 350 parts by mass, 10 to 300 parts by mass, 10 to 200 parts by mass, 10 to 100 parts by mass, 10 to 50 parts by mass, 15 to 500 parts by mass, 15 to 350 parts by mass, 15 to 300 parts by mass, 15 to 200 parts by mass, 15 to 100 parts by mass, or 15 to 50 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
本実施形態の組成物は、光増感剤を更に含んでいてもよい。光増感剤とは、エネルギー線を吸収して、重合開始剤から反応種(例えば、光カチオン重合開始剤から発生するカチオン、光ラジカル重合開始剤から発生するラジカル)を効率よく発生させることができる化合物を示す。The composition of this embodiment may further contain a photosensitizer. A photosensitizer is a compound that can absorb energy rays and efficiently generate reactive species from the polymerization initiator (e.g., cations generated from a photocationic polymerization initiator, or radicals generated from a photoradical polymerization initiator).
光増感剤は特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン誘導体、フェノチアジン誘導体、フェニルケトン誘導体、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン誘導体、ナフタセン誘導体、クリセン誘導体、ペリレン誘導体、ペンタセン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサンテン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、トリアリルメタン誘導体、フタロシアニン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、有機ルテニウム錯体等が挙げられる。これらの中では、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン等のフェニルケトン誘導体、9,10-ジブトキシアントラセン等のアントラセン誘導体が好ましく、アントラセン誘導体がより好ましい。アントラセン誘導体の中では、9,10-ジブトキシアントラセンが好ましい。光増感剤は、1種を単独で用いてよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。The photosensitizer is not particularly limited, and examples include benzophenone derivatives, phenothiazine derivatives, phenyl ketone derivatives, naphthalene derivatives, anthracene derivatives, phenanthrene derivatives, naphthacene derivatives, chrysene derivatives, perylene derivatives, pentacene derivatives, acridine derivatives, benzothiazole derivatives, benzoin derivatives, fluorene derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthene derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, cyanine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, oxazine derivatives, indoline derivatives, azulene derivatives, triallylmethane derivatives, phthalocyanine derivatives, spiropyran derivatives, spirooxazine derivatives, thiospiropyran derivatives, and organic ruthenium complexes. Among these, phenyl ketone derivatives such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one and anthracene derivatives such as 9,10-dibutoxyanthracene are preferred, with anthracene derivatives being more preferred. Among the anthracene derivatives, 9,10-dibutoxyanthracene is preferred. The photosensitizers may be used singly or in combination of two or more.
本実施形態の組成物が光増感剤を含む場合、光増感剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば0.01質量部以上であってよく、0.02質量部以上であってもよい。また、光増感剤の含有量は、貯蔵安定性の観点からは、重合性化合物100質量部に対して、例えば5質量部以下であってよく、3質量部以下が好ましい。すなわち、光増感剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば0.01~5質量部、0.01~3質量部、0.02~5質量部又は0.02~3質量部であってよい。 When the composition of this embodiment contains a photosensitizer, the content of the photosensitizer may be, for example, 0.01 parts by mass or more, or 0.02 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound. Furthermore, from the viewpoint of storage stability, the content of the photosensitizer may be, for example, 5 parts by mass or less, and preferably 3 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound. That is, the content of the photosensitizer may be, for example, 0.01 to 5 parts by mass, 0.01 to 3 parts by mass, 0.02 to 5 parts by mass, or 0.02 to 3 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
本実施形態の組成物は、シランカップリング剤を更に含んでいてもよい。シランカップリング剤の配合により、本実施形態の組成物の接着性及び接着耐久性がより向上する傾向がある。 The composition of this embodiment may further contain a silane coupling agent. The incorporation of a silane coupling agent tends to further improve the adhesiveness and adhesive durability of the composition of this embodiment.
シランカップリング剤としては、例えば、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン及びγ-ユレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中では、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシランからなる群から選択される1種以上が好ましく、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。シランカップリング剤は、1種を単独で用いてよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of silane coupling agents include γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris(β-methoxyethoxy)silane, γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-ureidopropyltriethoxysilane. Among these, one or more selected from the group consisting of β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, and γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane are preferred, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is more preferred. One type of silane coupling agent may be used alone, or two or more types may be used in combination.
本実施形態の組成物がシランカップリング剤を含む場合、シランカップリング剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば0.1質量部以上であってよく、0.2質量部以上が好ましい。また、シランカップリング剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば10質量部以下であってよく、5質量部以下が好ましい。すなわち、シランカップリング剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば0.1~10質量部、0.1~5質量部、0.2~10質量部又は0.2~5質量部であってよい。 When the composition of this embodiment contains a silane coupling agent, the content of the silane coupling agent may be, for example, 0.1 parts by mass or more, and preferably 0.2 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. Furthermore, the content of the silane coupling agent may be, for example, 10 parts by mass or less, and preferably 5 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. That is, the content of the silane coupling agent may be, for example, 0.1 to 10 parts by mass, 0.1 to 5 parts by mass, 0.2 to 10 parts by mass, or 0.2 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable compound.
本実施形態の組成物は、酸化防止剤を更に含んでいてもよい。 The composition of this embodiment may further contain an antioxidant.
本実施形態の組成物は、樹脂粒子を更に含んでいてもよい。樹脂粒子の配合により、厚みのある硬化体の形成がより容易となる。このため、樹脂粒子を配合した組成物は、ダム形成用封止剤としてより好適である。 The composition of this embodiment may further contain resin particles. The inclusion of resin particles makes it easier to form a thick cured body. For this reason, compositions containing resin particles are more suitable as sealants for forming dams.
樹脂粒子としては、組成物中で溶解せずに形状を保持できるものを特に制限無く使用でき、例えば、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチルポリスチレン共重合体粒子等が挙げられる。樹脂粒子は、架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子及び架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチルポリスチレン共重合体粒子からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましく、架橋ポリ(メタ)アクリル酸メチル粒子及び架橋ポリスチレン粒子からなる群より選択される少なくとも一種であることがより好ましい。Any resin particles that do not dissolve in the composition and can maintain their shape can be used without any particular restrictions. Examples include polyethylene particles, polypropylene particles, cross-linked polymethyl(meth)acrylate particles, cross-linked polystyrene particles, and cross-linked polymethyl(meth)acrylate polystyrene copolymer particles. The resin particles are preferably at least one type selected from the group consisting of cross-linked polymethyl(meth)acrylate particles, cross-linked polystyrene particles, and cross-linked polymethyl(meth)acrylate polystyrene copolymer particles, and more preferably at least one type selected from the group consisting of cross-linked polymethyl(meth)acrylate particles and cross-linked polystyrene particles.
樹脂粒子の平均粒子径は、例えば0.1μm以上であってよく、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上である。また、樹脂粒子の平均粒子径は、例えば200μm以下であってよく、好ましくは100μm以下である。すなわち、樹脂粒子の平均粒子径は、例えば0.1~200μm、0.1~100μm、1~200μm、1~100μm、5~200μm又は5~100μmであってよい。なお、本明細書中、樹脂粒子の平均粒子径は、島津製作所製「レーザー回折式粒度分布測定装置SALD-2200」により測定される体積基準の平均粒子径を示す。 The average particle size of the resin particles may be, for example, 0.1 μm or more, preferably 1 μm or more, and more preferably 5 μm or more. The average particle size of the resin particles may be, for example, 200 μm or less, preferably 100 μm or less. That is, the average particle size of the resin particles may be, for example, 0.1 to 200 μm, 0.1 to 100 μm, 1 to 200 μm, 1 to 100 μm, 5 to 200 μm, or 5 to 100 μm. In this specification, the average particle size of the resin particles refers to the volume-based average particle size measured using a Shimadzu SALD-2200 laser diffraction particle size analyzer.
樹脂粒子は、粒径(μm)を対数で表示したときの粒径に対する粒子体積分布の標準偏差が、0.25以下であることが好ましい。これにより、樹脂粒子の粒径のばらつきに起因する硬化体の厚みのばらつきが抑制され、硬化体の寸法をより高精度で制御することができる。当該標準偏差は、0.2以下がより好ましく、0.1以下が更に好ましい。また、当該標準偏差は、例えば0.001以上であってよく、0.005以上であってもよい。すなわち、当該標準偏差は、例えば0.001~0.25、0.001~0.2、0.001~0.1、0.005~0.25、0.005~0.2又は0.05~0.1であってよい。 The resin particles preferably have a standard deviation of 0.25 or less in particle volume distribution relative to particle size (μm) expressed logarithmically. This reduces variations in the thickness of the cured body due to variations in the particle size of the resin particles, allowing for more precise control of the dimensions of the cured body. The standard deviation is more preferably 0.2 or less, and even more preferably 0.1 or less. The standard deviation may be, for example, 0.001 or more, or 0.005 or more. That is, the standard deviation may be, for example, 0.001 to 0.25, 0.001 to 0.2, 0.001 to 0.1, 0.005 to 0.25, 0.005 to 0.2, or 0.05 to 0.1.
本実施形態の組成物が樹脂粒子を含む場合、樹脂粒子の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば0.01質量部以上であってよく、好ましくは0.02質量部以上、より好ましくは0.1質量部以上である。また、樹脂粒子の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば10質量部以下であってよく、好ましくは5質量部以下、より好ましくは4質量部以下、更に好ましくは3質量部以下である。すなわち、樹脂粒子の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、例えば0~10質量部、0~5質量部、0~4質量部、0~3質量部、0.01~10質量部、0.01~5質量部、0.01~4質量部、0.01~3質量部、0.02~10質量部、0.02~5質量部、0.02~4質量部、0.02~3質量部、0.1~10質量部、0.1~5質量部、0.1~4質量部又は0.1~3質量部であってよい。When the composition of this embodiment contains resin particles, the content of the resin particles may be, for example, 0.01 parts by mass or more, preferably 0.02 parts by mass or more, and more preferably 0.1 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. Furthermore, the content of the resin particles may be, for example, 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or less, and even more preferably 3 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the polymerizable compound. That is, the content of the resin particles may be, for example, 0 to 10 parts by mass, 0 to 5 parts by mass, 0 to 4 parts by mass, 0 to 3 parts by mass, 0.01 to 10 parts by mass, 0.01 to 5 parts by mass, 0.01 to 4 parts by mass, 0.01 to 3 parts by mass, 0.02 to 10 parts by mass, 0.02 to 5 parts by mass, 0.02 to 4 parts by mass, 0.02 to 3 parts by mass, 0.1 to 10 parts by mass, 0.1 to 5 parts by mass, 0.1 to 4 parts by mass, or 0.1 to 3 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
本実施形態の組成物は、上記以外の他の成分を更に含有していてもよい。他の成分としては、封止剤分野で用いられる公知の添加剤を特に制限なく使用できる。他の成分としては、例えば、金属不活性化剤、填料、安定剤、中和剤、滑剤、抗菌剤等が挙げられる。The composition of this embodiment may further contain other components in addition to those described above. Known additives used in the sealant field can be used without particular limitation as other components. Examples of other components include metal deactivators, fillers, stabilizers, neutralizers, lubricants, antibacterial agents, etc.
本実施形態の組成物の25℃における粘度は、組成物の塗工性が向上し、硬化体の成形性に優れる観点からは、例えば50000mPa・s以上であってよく、好ましくは70000mPa・s以上、より好ましくは80000mPa・s以上、更に好ましくは100000mPa・s以上である。また、本実施形態の組成物の25℃における粘度は、組成物の塗工時の吐出性が向上し、成形方法の選択に幅が広がる観点からは、例えば1000000mPa・s以下であってよく、好ましくは950000mPa・s以下、より好ましくは900000mPa・s以下、更に好ましくは850000mPa・s以下である。すなわち、本実施形態の組成物の25℃における粘度は、例えば50000~1000000mPa・s、50000~950000mPa・s、50000~900000mPa・s、50000~850000mPa・s、70000~1000000mPa・s、70000~950000mPa・s、70000~900000mPa・s、70000~850000mPa・s、80000~1000000mPa・s、80000~950000mPa・s、80000~900000mPa・s、80000~850000mPa・s、100000~1000000mPa・s、100000~950000mPa・s、100000~900000mPa・s又は100000~850000mPa・sであってよい。なお、組成物の25℃における粘度は、コーンローター式粘度計により測定される値を示す。The viscosity of the composition of this embodiment at 25°C may be, for example, 50,000 mPa·s or more, preferably 70,000 mPa·s or more, more preferably 80,000 mPa·s or more, and even more preferably 100,000 mPa·s or more, from the viewpoints of improving the coatability of the composition and providing excellent moldability of the cured product. Furthermore, the viscosity of the composition of this embodiment at 25°C may be, for example, 1,000,000 mPa·s or less, preferably 950,000 mPa·s or less, more preferably 900,000 mPa·s or less, and even more preferably 850,000 mPa·s or less, from the viewpoints of improving the dischargeability of the composition when applied and providing a wider range of molding methods. That is, the viscosity of the composition of this embodiment at 25°C is, for example, 50,000 to 1,000,000 mPa·s, 50,000 to 950,000 mPa·s, 50,000 to 900,000 mPa·s, 50,000 to 850,000 mPa·s, 70,000 to 1,000,000 mPa·s, 70,000 to 950,000 mPa·s, 70,000 to 900,000 mPa·s, 70,000 to 850 The viscosity of the composition at 25°C may be 80,000 to 1,000,000 mPa·s, 80,000 to 950,000 mPa·s, 80,000 to 900,000 mPa·s, 80,000 to 850,000 mPa·s, 100,000 to 1,000,000 mPa·s, 100,000 to 950,000 mPa·s, 100,000 to 900,000 mPa·s, or 100,000 to 850,000 mPa·s. The viscosity of the composition at 25°C is a value measured using a cone rotor viscometer.
本実施形態の組成物は、25℃における粘度が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 The type and content of each component of the composition of this embodiment may be appropriately adjusted so that the viscosity at 25°C falls within the above range.
本実施形態の組成物は、25℃、1rpmにおける粘度η1に対する、25℃、0.1rpmにおける粘度η2の比(η2/η1)が1.1~10.0であることが好ましい。比(η2/η1)が1.1以上であると、組成物の塗工性がより向上し、硬化体の成形性により優れる傾向がある。この傾向がより顕著となる観点から、比(η2/η1)は1.15以上が好ましく、1.2以上がより好ましい。また、比(η2/η1)が10.0以下であると、組成物の塗工時の吐出性がより向上する傾向があり、この傾向がより顕著となる観点から、比(η2/η1)は9.5以下が好ましく、9.0以下がより好ましい。すなわち、比(η2/η1)は、例えば1.1~10.0、1.1~9.5、1.1~9.0、1.15~10.0、1.15~9.5、1.15~9.0、1.2~10.0、1.2~9.5又は1.2~9.0であってよい。なお、組成物の25℃、1rpmにおける粘度η1及び25℃、0.1rpmにおける粘度η2は、コーンローター式粘度計により測定される値を示す。 The composition of this embodiment preferably has a ratio (η 2 /η 1 ) of the viscosity η 2 at 25°C and 0.1 rpm to the viscosity η 1 at 25°C and 1 rpm of 1.1 to 10.0. When the ratio (η 2 /η 1 ) is 1.1 or more, the coatability of the composition is further improved, and the moldability of the cured product tends to be more excellent. From the viewpoint of making this tendency more pronounced, the ratio (η 2 /η 1 ) is preferably 1.15 or more, and more preferably 1.2 or more. Furthermore, when the ratio (η 2 /η 1 ) is 10.0 or less, the dischargeability of the composition during coating tends to be further improved, and from the viewpoint of making this tendency more pronounced, the ratio (η 2 /η 1 ) is preferably 9.5 or less, and more preferably 9.0 or less. That is, the ratio (η 2 /η 1 ) may be, for example, 1.1 to 10.0, 1.1 to 9.5, 1.1 to 9.0, 1.15 to 10.0, 1.15 to 9.5, 1.15 to 9.0, 1.2 to 10.0, 1.2 to 9.5, or 1.2 to 9.0. The viscosity η 1 of the composition at 25°C and 1 rpm and the viscosity η 2 of the composition at 25°C and 0.1 rpm are values measured using a cone rotor viscometer.
本実施形態の組成物は、比(η2/η1)が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 In the composition of this embodiment, the type and content of each component may be adjusted as appropriate so that the ratio (η 2 /η 1 ) falls within the above range.
本実施形態の組成物の液比重は、1.3~4.0が好ましい。組成物の液比重は、好ましくは1.4以上であり、より好ましくは1.5以上である。また、組成物の液比重は、好ましくは3.0以下であり、より好ましくは2.5以下であり、更に好ましくは2.0以下である。すなわち、組成物の液比重は、例えば、1.3~4.0、1.3~3.0、1.3~2.5、1.3~2.0、1.4~4.0、1.4~3.0、1.4~2.5、1.4~2.0、1.5~4.0、1.5~3.0、1.5~2.5又は1.5~2.0であってよい。なお、組成物の液比重は、5mLゲーリュサック型比重瓶を用い、JIS-K-0061の8.2.2に準拠して測定される値を示す。The liquid density of the composition of this embodiment is preferably 1.3 to 4.0. The liquid density of the composition is preferably 1.4 or higher, more preferably 1.5 or higher. The liquid density of the composition is preferably 3.0 or lower, more preferably 2.5 or lower, and even more preferably 2.0 or lower. That is, the liquid density of the composition may be, for example, 1.3 to 4.0, 1.3 to 3.0, 1.3 to 2.5, 1.3 to 2.0, 1.4 to 4.0, 1.4 to 3.0, 1.4 to 2.5, 1.4 to 2.0, 1.5 to 4.0, 1.5 to 3.0, 1.5 to 2.5, or 1.5 to 2.0. The liquid density of the composition is the value measured using a 5 mL Gay-Lussac pycnometer in accordance with JIS-K-0061, 8.2.2.
本実施形態の組成物は、液比重が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 The type and content of each component of the composition of this embodiment may be adjusted appropriately so that the liquid density falls within the above range.
本実施形態の組成物の製造方法は、特に限定されず、上述の各成分が十分に混合される方法であればよい。混合方法としては、例えば、プロペラの回転に伴う撹拌力を利用する撹拌方法、自転公転による遊星式撹拌機等の通常の分散機を利用する方法等が挙げられる。これらの混合方法は、低コストで、安定した混合を行える点で、好ましい。The method for producing the composition of this embodiment is not particularly limited, and any method that thoroughly mixes the above-mentioned components may be used. Examples of mixing methods include a stirring method that utilizes the stirring force associated with propeller rotation, and a method that uses a conventional disperser such as a planetary mixer that revolves around its axis. These mixing methods are preferred because they are low-cost and allow for stable mixing.
本実施形態の組成物を硬化することで、重合性化合物の重合体及び無機充填材を含む硬化体を得ることができる。当該硬化体は、透湿性が低く、封止材(特に、有機EL表示素子用封止材)として好適に用いることができる。 By curing the composition of this embodiment, a cured product containing a polymer of the polymerizable compound and an inorganic filler can be obtained. This cured product has low moisture permeability and is suitable for use as a sealant (particularly a sealant for organic EL display elements).
本実施形態の組成物は、例えばエネルギー線の照射により硬化することができる。本実施形態の組成物の硬化に用いられる光源としては、特に限定されないが、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ(インジウム等を含有する)、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、キセノンエキシマランプ、キセノンフラッシュランプ、ライトエミッティングダイオード(以下、LEDという)等が挙げられる。これらの光源は、それぞれの光重合開始剤の反応波長に対応するエネルギー線の照射を効率よく行える点で、好ましい。The composition of this embodiment can be cured, for example, by irradiation with energy rays. Light sources used to cure the composition of this embodiment include, but are not limited to, halogen lamps, metal halide lamps, high-power metal halide lamps (containing indium, etc.), low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, xenon excimer lamps, xenon flash lamps, and light-emitting diodes (hereinafter referred to as LEDs). These light sources are preferred because they can efficiently irradiate energy rays corresponding to the reaction wavelength of each photopolymerization initiator.
上記光源は、各々放射波長やエネルギー分布が異なる。そのため、上記光源は重合開始剤の反応波長等により適宜選択される。また、自然光(太陽光)も反応開始光源になり得る。 The above light sources each have different radiation wavelengths and energy distributions. Therefore, the light source should be selected appropriately based on the reaction wavelength of the polymerization initiator. Natural light (sunlight) can also be used as a reaction initiation light source.
上記光源による照射は、直接照射であってもよく、反射鏡、ファイバー等による集光照射であってもよい。また、低波長カットフィルター、熱線カットフィルター、コールドミラー等を用いた照射であってもよい。Irradiation from the above light source may be direct irradiation or focused irradiation using a reflecting mirror, fiber, etc. Irradiation may also be using a low wavelength cut filter, a heat ray cut filter, a cold mirror, etc.
本実施形態の組成物の硬化に際しては、光照射後、硬化促進のために後加熱処理をしてもよい。後加熱の温度は、有機EL表示素子への影響を避ける観点から150℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましい。後加熱の温度は、40℃以上が好ましい。When curing the composition of this embodiment, a post-heating treatment may be performed after light irradiation to accelerate curing. The post-heating temperature is preferably 150°C or less, and more preferably 100°C or less, to avoid any adverse effects on the organic EL display element. The post-heating temperature is preferably 40°C or more.
本実施形態の組成物は、接着剤として用いることもできる。本実施形態の組成物は、例えば、有機EL表示素子等のパッケージ等の接着に好適に用いることができる。 The composition of this embodiment can also be used as an adhesive. For example, the composition of this embodiment can be suitably used for bonding packages for organic EL display elements and the like.
本実施形態の組成物を用いて2つの部材を接着する方法としては、例えば、組成物を第一の部材の全面又は一部に塗布する工程と、第一の部材上に塗布された組成物に光を照射する工程と、光を照射された組成物が硬化するまでの間に、組成物を介して第一の部材と第二の部材とを接着させる工程と、を含む方法が挙げられる。このような方法によれば、第二の部材を光及び熱に晒すことなく、第一の部材上に接着することができる。このため、上記方法は、背面板と有機EL表示素子との接着に好適に用いることができる。 A method for bonding two components using the composition of this embodiment includes, for example, the steps of applying the composition to the entire surface or a portion of a first component, irradiating the composition applied to the first component with light, and bonding the first component and the second component via the composition until the irradiated composition cures. This method allows the second component to be bonded to the first component without exposing it to light or heat. Therefore, the method is suitable for use in bonding a back panel to an organic EL display element.
本実施形態の組成物を用いて有機EL表示装置を製造する方法としては、例えば、背面板上に組成物を塗布する工程と、背面板上に塗布された組成物に光を照射する工程と、光を遮断して、組成物を介して、背面板と有機EL表示素子を形成した基板とを接着させる工程と、を含む製造方法が挙げられる。このような方法によれば、有機EL表示素子を光及び熱に晒すことなく封止できる。 A method for manufacturing an organic EL display device using the composition of this embodiment includes, for example, the steps of applying the composition to a rear panel, irradiating the composition applied to the rear panel with light, and bonding the rear panel and a substrate on which an organic EL display element is formed via the composition while blocking the light. This method allows the organic EL display element to be sealed without being exposed to light or heat.
また、本実施形態の組成物を用いて有機EL表示装置を製造する方法としては、例えば、一方の基板に組成物を塗布する工程と、組成物を介して一方の基板と他方の基板とを接着させる工程と、基板間の組成物に光を照射して組成物を硬化させる工程と、を含む製造方法も挙げられる。 In addition, a method for manufacturing an organic EL display device using the composition of this embodiment may include, for example, a manufacturing method including the steps of applying the composition to one substrate, bonding the one substrate to the other substrate via the composition, and irradiating the composition between the substrates with light to harden the composition.
本実施形態の組成物の硬化体(以下、単に本実施形態の硬化体ともいう。)の比重は、例えば1.35以上である。また、本実施形態の硬化体の比重は、例えば19.0以下である。なお、硬化体の比重は、JIS K7112 B法に準拠し、浸せき液として23℃の水を使用して測定される値を示す。The specific gravity of the cured product of the composition of this embodiment (hereinafter simply referred to as the cured product of this embodiment) is, for example, 1.35 or more. The specific gravity of the cured product of this embodiment is, for example, 19.0 or less. The specific gravity of the cured product is measured in accordance with JIS K7112 Method B using water at 23°C as the immersion liquid.
本実施形態の組成物は、硬化体の比重が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 The composition of this embodiment may have the type and content of each component appropriately adjusted so that the specific gravity of the hardened body falls within the above range.
本実施形態の硬化体において、重合性化合物の重合体のガラス転移温度は、例えば60℃以上であってよく、好ましくは70℃以上、より好ましくは80℃以上、更に好ましくは85℃以上である。 In the cured product of this embodiment, the glass transition temperature of the polymer of the polymerizable compound may be, for example, 60°C or higher, preferably 70°C or higher, more preferably 80°C or higher, and even more preferably 85°C or higher.
なお、本明細書中、重合体のガラス転移温度(Tg)は、動的粘弾性スペクトルから求められる値を示す。動的粘弾性スペクトルでは、重合体に昇温速度一定で応力及び歪みを加え、損失正接(以下、tanδと略す)のピークトップを示す温度をガラス転移温度とすることができる。なお、-150℃程度の十分に低い温度からある温度(Ta℃)まで昇温してもtanδのピークが現れない場合、ガラス転移温度としては、-150℃以下又はある温度(Ta℃)以上と考えられるが、ガラス転移温度が-150℃以下である硬化体は考えられないため、ある温度(Ta℃)以上と判断することができる。 In this specification, the glass transition temperature (Tg) of a polymer refers to a value determined from a dynamic viscoelasticity spectrum. In a dynamic viscoelasticity spectrum, stress and strain are applied to a polymer at a constant heating rate, and the temperature at which the loss tangent (hereinafter abbreviated as tan δ) peaks can be determined to be the glass transition temperature. If no tan δ peak appears when the polymer is heated from a sufficiently low temperature, such as -150°C, to a certain temperature (Ta°C), the glass transition temperature is considered to be below -150°C or above a certain temperature (Ta°C). However, since a cured product with a glass transition temperature below -150°C is not possible, it can be determined to be above a certain temperature (Ta°C).
本実施形態の組成物は、重合体のガラス転移温度が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 The composition of this embodiment may have the type and content of each component appropriately adjusted so that the glass transition temperature of the polymer falls within the above range.
本実施形態の硬化体は、その架橋密度が、1.0×10-3mol/cm3以上であることが好ましく、2.0×10-3mol/cm3以上であることがより好ましい。これにより、硬化体中に結合点が多いことでミクロブラウン運動が抑制され、透湿度がより低下すると考えられる。また、硬化体の架橋密度は、例えば1.0mol/cm3以下であってよい。これにより、硬化体の脆さに起因する信頼性低下がより抑制される。すなわち、硬化体の架橋密度は、例えば1.0×10-3~1.0mol/cm3、又は2.0×10-3~1.0mol/cm3であってよい。 The cured body of this embodiment preferably has a crosslink density of 1.0×10 −3 mol/cm 3 or more, and more preferably 2.0×10 −3 mol/cm 3 or more. This is thought to result in a large number of bonding points in the cured body, which in turn suppresses micro-Brownian motion and further reduces moisture permeability. The crosslink density of the cured body may be, for example, 1.0 mol/cm 3 or less. This further suppresses a decrease in reliability due to the brittleness of the cured body. That is, the crosslink density of the cured body may be, for example, 1.0×10 −3 to 1.0 mol/cm 3 , or 2.0×10 −3 to 1.0 mol/cm 3 .
なお、本明細書中、硬化体の架橋密度は、動的粘弾性スペクトルから求められる値を示す。具体的には、厚み100μmの硬化体を幅5mm×長さ25mmに切り出し、試験片とする。この試験片について、温度範囲-50℃~200℃、昇温速度2℃/min、引っ張りモードの条件で、動的粘弾性測定を行い、温度と貯蔵弾性率(G’)との関係を求める。架橋密度は、Tg+40℃の温度をT(K)、T(K)における貯蔵弾性率(G’)をG’T+40、気体定数をR、フロント係数をφ(=1)として、以下の式で算出される。
架橋密度(ρ)=G’T+40/φRT
In this specification, the crosslink density of a cured body refers to a value determined from a dynamic viscoelasticity spectrum. Specifically, a 100 μm thick cured body is cut into a 5 mm wide x 25 mm long test piece. This test piece is subjected to dynamic viscoelasticity measurement under the conditions of a temperature range of -50°C to 200°C, a heating rate of 2°C/min, and tensile mode, and the relationship between temperature and storage modulus (G') is determined. The crosslink density is calculated using the following formula, where T(K) is the temperature at Tg+40°C, G'T +40 is the storage modulus (G') at T(K), R is the gas constant, and φ(=1) is the frontal modulus.
Crosslink density (ρ)=G'T +40 /φRT
本実施形態の組成物は、硬化体の架橋密度が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 The composition of this embodiment may have the type and content of each component appropriately adjusted so that the crosslink density of the cured product falls within the above range.
本実施形態の硬化体は、硬化体の平均自由体積が1nm3以下であることが好ましく、1nm3未満であることが好ましく、0.5nm3以下であることがより好ましく、0.3nm3以下であることが更に好ましく、0.1nm3以下であることが一層好ましく、0.1nm3未満であることがより一層好ましい。 The cured product of this embodiment preferably has an average free volume of 1 nm3 or less, preferably less than 1 nm3, more preferably 0.5 nm3 or less, even more preferably 0.3 nm3 or less, even more preferably 0.1 nm3 or less, and even more preferably less than 0.1 nm3 .
高分子の自由体積を求める手法として、陽電子消滅法が知られている(高分子 42巻12月号(1993)参照)。一般に、高分子に陽電子(e+)を入射させると、陽電子は電子(e-)と結合してポジトロニウム(Ps)を生成する。陽電子消滅法とは、このポジトロニウム(Ps)の3/4を占めるオルトポジトロニウム(o-Ps、半径0.1nm、以下、「o-Ps」ともいう)が、高分子の空孔に入り込んだ際のo-Psの寿命(τ3)を測定することで、高分子の自由体積を求める手法である。o-Psの寿命(τ3)は、高分子中に存在する空孔の壁と衝突したときに、o-Psの陽電子(e+)と空孔の壁の中の電子(e-)が重なる確率で決まり、高分子の空孔が大きいほど、o-Psの寿命(τ3)が長くなる。空孔を無限高さの球状井戸型ポテンシャルと考え、空孔の壁面に厚さΔRの電子層があると仮定して、この電子層とo-Psの波動関数との重なりを計算することによって得られる陽電子(e+)消滅の速度を求めるモデルが、実際に実験を行った場合のデータと良く合う。そのため、高分子の空孔径Rが0.16~0.8nm程度までであれば、o-Psの寿命τ3と空孔径Rとの間で下記式(1)の関係が成り立つ。
すなわち、陽電子消滅法を用いて、オルトポジトロニウム(o-Ps)の寿命(τ3)を求めることにより、上記式(1)における高分子の空孔径Rが求められる。さらに、空孔体積(平均自由体積)=4/3πR3であるため、求めた高分子の空孔径Rの値から、高分子の平均自由体積を算出することができる。 That is, by determining the lifetime (τ 3 ) of ortho-positronium (o-Ps) using positron annihilation, the pore diameter R of the polymer in the above formula (1) can be determined. Furthermore, since the pore volume (average free volume) = 4/3πR 3 , the average free volume of the polymer can be calculated from the determined value of the pore diameter R of the polymer.
本実施形態の組成物は、硬化体の平均自由体積が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 The composition of this embodiment may have the type and content of each component appropriately adjusted so that the average free volume of the hardened body falls within the above range.
本実施形態の硬化体は、硬化体の空孔径が20%未満であることが好ましい。 In the hardened body of this embodiment, it is preferable that the pore size of the hardened body is less than 20%.
陽電子消滅法により解析される自由体積は、多孔性基材や電解質を形成する分子鎖に占有されない領域を示しており、基材及び電解質を形成する分子鎖が変化した際に、その分子鎖近傍に生ずる体積を反映する。具体的には、陽電子を試料に入射してから消滅するまでの時間を測定し、その消滅寿命から原子空孔や自由体積の大きさ、数密度などに関する情報を非破壊的に観察する手法により自由体積を求めることが可能である。 The free volume analyzed by positron annihilation spectroscopy represents the region not occupied by the molecular chains that make up the porous substrate or electrolyte, and reflects the volume that arises near those molecular chains when the molecular chains that make up the substrate or electrolyte change. Specifically, the time from when a positron is incident on a sample until it annihilates is measured, and the free volume can be determined by non-destructively observing information about the size and number density of atomic vacancies and free volume from its annihilation lifetime.
陽電子は電子の反粒子であり、電子と同じ質量を有するが、反対符号の電荷をもつ素粒子である。高分子のようなアモルファス固体中では、陽電子が電子と対を形成することがあり、ポジトロニウムと呼ばれる。ポジトロニウムが消滅する際に、消滅γ線が二方向に放出される。この消滅γ線強度の時間変化を測定することにより陽電子の寿命が測定される。 A positron is the antiparticle of an electron; it is an elementary particle with the same mass as an electron but an opposite charge. In amorphous solids such as polymers, a positron can pair with an electron, forming a pair called a positronium. When a positronium annihilates, annihilation gamma rays are emitted in two directions. The lifetime of a positron can be measured by measuring the change in the intensity of these annihilation gamma rays over time.
ポジトロニウムにはパラポジトロニウムとオルトポジトロニウムがあり、オルトポジトロニウムの平均寿命は140ns程度であるが、物質中の他の電子を奪い取るピックオフ過程を経る場合には1ns~5nsにまで短縮化する。固体内の自由体積空間内にオルトポジトロニウムが存在する際には、その空間の大きさとオルトポジトロニウムの寿命は正の相関関係にあり、オルトポジトロニウムのピックオフ消滅による寿命を測定することにより、空孔サイズの情報を得ることができる。 Positronium exists in two types: parapositronium and orthopositronium. The average lifetime of orthopositronium is approximately 140 ns, but this is shortened to 1 ns to 5 ns when it undergoes a pick-off process in which it steals electrons from other electrons in the material. When orthopositronium exists in free volume space within a solid, there is a positive correlation between the size of that space and the lifetime of the orthopositronium, and information about the size of the vacancy can be obtained by measuring the lifetime due to orthopositronium pick-off annihilation.
具体的には、陽電子の寿命を非線形最小二乗法により3成分解析して、消滅寿命の小さいものから、τ1、τ2、τ3とし、それに応じた強度をI1、I2,I3(I1+I2+I3=100%)とする。重合体の空孔率は、上記I1、I2、I3を用いて次の式により定義される。
空孔率(%)=I1/(I1+I2+I3)
Specifically, the positron lifetime is analyzed into three components using the nonlinear least squares method, and the annihilation lifetimes are designated τ1 , τ2 , and τ3 in ascending order, and the corresponding intensities are designated I1 , I2 , and I3 ( I1 + I2 + I3 = 100%). The porosity of the polymer is defined by the following formula using the above I1 , I2 , and I3 .
Porosity (%) = I 1 / (I 1 + I 2 + I 3 )
本実施形態の組成物は、重合体の空孔率が上記範囲となるように各成分の種類及び含有量が適宜調整されていてよい。 The composition of this embodiment may have the type and content of each component appropriately adjusted so that the porosity of the polymer falls within the above range.
本実施形態の硬化体は、JIS Z0208に準拠して、温度85℃、相対湿度85%の条件下で測定される透湿度が、60(g/m2・24h/100μm)以下であることが好ましく、55(g/m2・24h/100μm)以下であることがより好ましく、50(g/m2・24h/100μm)以下であることが更に好ましい。透湿度が低いことで、有機EL表示素子用封止材として用いた場合に、有機発光材料層への水分の到達によるダークスポットの発生を顕著に抑制できる。なお、上記透湿度は、JIS Z 0208:1976に準拠して、85℃、85%RHの環境下に24時間暴露して測定した100μm厚での透湿度(g/m2)ということもできる。上記透湿度は、例えば0.01(g/m2・24h/100μm)以上であってよく、0.1(g/m2・24h/100μm)以上であってもよく、1(g/m2・24h/100μm)以上であってもよく、10(g/m2・24h/100μm)以上であってもよい。すなわち、上記透湿度は、例えば0.01~60(g/m2・24h/100μm)、0.01~55(g/m2・24h/100μm)、0.01~50(g/m2・24h/100μm)、0.1~60(g/m2・24h/100μm)、0.1~55(g/m2・24h/100μm)、0.1~50(g/m2・24h/100μm)、1~60(g/m2・24h/100μm)、1~55(g/m2・24h/100μm)、1~50(g/m2・24h/100μm)、10~60(g/m2・24h/100μm)、10~55(g/m2・24h/100μm)、又は10~50(g/m2・24h/100μm)であってよい。 The cured product of this embodiment preferably has a moisture permeability of 60 (g/m2·24h/100μm) or less, more preferably 55 (g/ m2 ·24h/100μm) or less, and even more preferably 50 (g/ m2 ·24h/100μm) or less, as measured in accordance with JIS Z 0208 at a temperature of 85 °C and a relative humidity of 85%. The low moisture permeability significantly prevents the occurrence of dark spots due to moisture reaching the organic light-emitting material layer when used as a sealant for an organic EL display device. The moisture permeability can also be expressed as the moisture permeability (g/m2) at a thickness of 100μm, measured after exposure to an environment of 85°C and 85% RH for 24 hours in accordance with JIS Z 0208: 1976 . The moisture permeability may be, for example, 0.01 (g/ m2 ·24h/100μm) or more, 0.1 (g/ m2 ·24h/100μm) or more, 1 (g/ m2 ·24h/100μm) or more, or 10 (g/ m2 ·24h/100μm) or more. That is, the moisture permeability is, for example, 0.01 to 60 (g/m 2 ·24h/100μm), 0.01 to 55 (g/m 2 ·24h/100μm), 0.01 to 50 (g/m 2 ·24h/100μm), 0.1 to 60 (g/m 2 ·24h/100μm), 0.1 to 55 (g/m 2 ·24h/100μm), 0.1 to 50 (g/m 2 ·24h/100μm), 1 to 60 (g/m 2 ·24h/100μm), 1 to 55 (g/m 2 ·24h/100μm), 1 to 50 (g/m 2 ·24h/100μm), 10 to 60 (g/m 2 ·24h/100μm), 10 to 55 (g/m 2 ·24h/100μm), or 10 to 50 (g/m 2 ·24h/100μm).
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。 The above describes a preferred embodiment of the present invention, but the present invention is not limited to the above embodiment.
例えば、本発明は、上述の組成物を塗布及び硬化して、ダムを形成する工程を含む、ダム・フィル封止構造を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法に関するものであってよい。For example, the present invention may relate to a method for manufacturing an organic electroluminescent display device having a dam-fill sealing structure, which includes a step of applying and curing the above-mentioned composition to form a dam.
また、本発明は、ダム及びフィル剤を備えるダム・フィル封止構造を有する有機EL表示装置に関するものであってよく、このとき、ダムは上述の組成物の硬化体を含んでいてよい。 The present invention may also relate to an organic EL display device having a dam-fill sealing structure comprising a dam and a fill agent, in which case the dam may contain a cured product of the above-mentioned composition.
なお、ダム・フィル封止構造は公知のダム・フィル封止構造であってよく、フィル剤は公知のフィル剤であってよい。また、有機EL表示装置のダム・フィル封止構造以外の構成は、公知の有機EL表示装置と同様の構成であってよい。本発明は、例えば、特許文献5より十分な透湿性が得られる。 The dam-fill sealing structure may be a known dam-fill sealing structure, and the filler may be a known filler. Furthermore, the configuration of the organic EL display device other than the dam-fill sealing structure may be the same as that of known organic EL display devices. The present invention achieves sufficient moisture permeability compared to, for example, Patent Document 5.
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例は、特記しない限り、23℃、相対湿度50質量%で試験した。The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, the examples were tested at 23°C and a relative humidity of 50% by weight.
実施例及び比較例では、以下の化合物を使用した。 The following compounds were used in the examples and comparative examples.
(A)重合性化合物-高比重化合物(比重1.3~4.0の重合性化合物)
(A-1)ジブロモフェニルグリシジルエーテル(日本化薬社製「BR-250」、臭素元素の含有量:51質量%)(最大原子番号:35、比重:1.8、1分子中の重合性官能基数:1、分子量308、臭素元素の含有量:50質量%)
(A-2)臭素化クレジルグリシジルエーテル(日本化薬社製「BROC」)(最大原子番号:35、比重:1.8、1分子中の重合性官能基数:1、臭素元素の含有量:50質量%)
(A-3)TBBPAエポキシ樹脂(DIC社「エピクロン152」)(最大原子番号:35、比重:1.7、1分子中の重合性官能基数:2、分子量972、臭素元素の含有量:48質量%)
(A-4)臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(阪本薬品社「SR-T1000」、平均分子量2000)(最大原子番号:35、比重:1.7、1分子中の重合性官能基数:2)
(A-5)2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-トリデカフルオロヘプチルオキシラン(ダイキン工業社「C6エポキシ」)(最大原子番号:8、比重:1.5、1分子中の重合性官能基数:1、分子量376)
(A-6)ペンタフルオロフェニルアクリレート(東京化成工業社製「ペンタフルオロフェニルアクリレート」)(最大原子番号:9、比重:1.5、1分子中の重合性官能基数:1)
(A-7)アクリル酸2,4,6-トリブロモフェニル(東京化成工業社製「トリブロモフェニルアクリレート」)(最大原子番号:35、比重:2.1、1分子中の重合性官能基数:1)
(A) Polymerizable Compound—High Specific Gravity Compound (Polymerizable Compound with Specific Gravity of 1.3 to 4.0)
(A-1) Dibromophenyl glycidyl ether ("BR-250" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., bromine content: 51% by mass) (maximum atomic number: 35, specific gravity: 1.8, number of polymerizable functional groups per molecule: 1, molecular weight: 308, bromine content: 50% by mass)
(A-2) Brominated cresyl glycidyl ether ("BROC" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (maximum atomic number: 35, specific gravity: 1.8, number of polymerizable functional groups per molecule: 1, bromine element content: 50% by mass)
(A-3) TBBPA epoxy resin (DIC Corporation "Epicron 152") (maximum atomic number: 35, specific gravity: 1.7, number of polymerizable functional groups per molecule: 2, molecular weight: 972, bromine element content: 48% by mass)
(A-4) Brominated bisphenol A epoxy resin ("SR-T1000" by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd., average molecular weight 2000) (maximum atomic number: 35, specific gravity: 1.7, number of polymerizable functional groups per molecule: 2)
(A-5) 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptyloxirane (Daikin Industries, Ltd. "C6 Epoxy") (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.5, number of polymerizable functional groups per molecule: 1, molecular weight: 376)
(A-6) Pentafluorophenyl acrylate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., "Pentafluorophenyl acrylate") (maximum atomic number: 9, specific gravity: 1.5, number of polymerizable functional groups per molecule: 1)
(A-7) 2,4,6-tribromophenyl acrylate ("Tribromophenyl acrylate" manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (maximum atomic number: 35, specific gravity: 2.1, number of polymerizable functional groups per molecule: 1)
(B)重合性化合物-低比重化合物(比重1.3未満の重合性化合物)
(B-1)3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル化学社製「セロキサイド2021P」)(最大原子番号:8、比重:1.2、1分子中の重合性官能基数:2、分子量252)
(B-2)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製「jER828」、分子量360~390)(最大原子番号:8、比重:1.2、1分子中の重合性官能基数:2)
(B-3)フェノ-ルノボラック型エポキシ樹脂(DIC製「EPICLON N-775」)(最大原子番号:8、比重:1.2、1分子中の重合性官能基数:2以上、数平均分子量800)
(B-4)シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル(日本カーバイド社製「CHDVE」)(最大原子番号:8、比重:0.9、1分子中の重合性官能基数:1、分子量196)
(B-5)ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル(ナガセケムテックス社製「EX-946L」)(最大原子番号:8、比重:1.06、1分子中の重合性官能基数:2)
(B-6)ラウリルアクリレート(大阪有機社製「LA」)(最大原子番号:8、比重:1.1、1分子中の重合性官能基数:1)
(B-7)1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート(新中村化学社製「HD-N」)(最大原子番号:8、比重:1.0、1分子中の重合性官能基数:2)
(B-8)トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート(新中村化学社製「DCP」)(最大原子番号:8、比重:1.1、1分子中の重合性官能基数:2)
(B-9)1,2-ポリブタジエン末端ウレタン(メタ)アクリレートの水素添加物(日本曹達社製「TEAI-1000」)(最大原子番号:8、比重:1.0、1分子中の重合性官能基数:2)
(B) Polymerizable Compound - Low Specific Gravity Compound (Polymerizable Compound with Specific Gravity of Less than 1.3)
(B-1) 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate ("Celloxide 2021P" manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.2, number of polymerizable functional groups per molecule: 2, molecular weight: 252)
(B-2) Bisphenol A epoxy resin ("jER828" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, molecular weight 360 to 390) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.2, number of polymerizable functional groups per molecule: 2)
(B-3) Phenolic novolac epoxy resin (DIC's "EPICLON N-775") (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.2, number of polymerizable functional groups per molecule: 2 or more, number average molecular weight: 800)
(B-4) Cyclohexanedimethanol divinyl ether ("CHDVE" manufactured by Nippon Carbide Corporation) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 0.9, number of polymerizable functional groups per molecule: 1, molecular weight: 196)
(B-5) Polypropylene glycol diglycidyl ether ("EX-946L" manufactured by Nagase ChemteX Corporation) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.06, number of polymerizable functional groups per molecule: 2)
(B-6) Lauryl acrylate ("LA" manufactured by Osaka Organic Chemicals) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.1, number of polymerizable functional groups per molecule: 1)
(B-7) 1,6-hexanediol dimethacrylate ("HD-N" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.0, number of polymerizable functional groups per molecule: 2)
(B-8) Tricyclodecane dimethanol dimethacrylate ("DCP" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.1, number of polymerizable functional groups per molecule: 2)
(B-9) Hydrogenated 1,2-polybutadiene terminated with urethane (meth)acrylate ("TEAI-1000" manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) (maximum atomic number: 8, specific gravity: 1.0, number of polymerizable functional groups per molecule: 2)
(C)重合開始剤として下記を用いた。
(C-1)トリアリールスルホニウム塩ヘキサフルオロアンチモネート(ADEKA社製「アデカオプトマーSP-170」、アニオン種はヘキサフルオロアンチモネート)
(C-2)トリアリールスルホニウム塩(ジフェニル4-チオフェノキシフェニルスルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、サンアプロ社製「CPI-200K」、アニオン種はリン化合物)
(C-3)2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド(BASFジャパン社製「TPO」)
(C-4)1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、BASFジャパン社製「I-184」)
(C) The following was used as the polymerization initiator.
(C-1) Triarylsulfonium salt hexafluoroantimonate (ADEKA Corporation's "ADEKA Optomer SP-170", anion species is hexafluoroantimonate)
(C-2) Triarylsulfonium salt (diphenyl 4-thiophenoxyphenylsulfonium tris(pentafluoroethyl)trifluorophosphate, "CPI-200K" manufactured by San-Apro Co., Ltd., anion species is a phosphorus compound)
(C-3) 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide ("TPO" manufactured by BASF Japan Ltd.)
(C-4) 1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, "I-184" manufactured by BASF Japan Ltd.
(D)光増感剤として下記を用いた。
(D-1)9,10-ジブトキシアントラセン(川崎化成工業社製「ANTHRACURE UVS-1331」)
(D) The following was used as a photosensitizer.
(D-1) 9,10-dibutoxyanthracene ("ANTHRACURE UVS-1331" manufactured by Kawasaki Chemical Industries, Ltd.)
(E)シランカップリング剤として下記を用いた。
(E-1)γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製「KBM-403」)
(E) The following was used as a silane coupling agent.
(E-1) γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane ("KBM-403" manufactured by Shin-Etsu Silicones Co., Ltd.)
(F)無機充填材として下記を用いた。
(F-1)微粒子タルク、粒子径(d50):4.5μm、真比重:2.7(松村産業社製「#5000PJ」)
(F-2)微粒子タルク、粒子径(d50):15μm、真比重:2.7(松村産業社製「SC」)
(F-3)微粒子マイカ、粒子径(d50):3.0μm、真比重:2.9(松尾産業社製「A-11」)
(F-4)微粒子カオリン、粒子径(d50):1.6μm、真比重:2.6(林化成社製「Kaopolite 1147」)
(F-5)微粒子シリカ、粒子径(d50):4.2μm、真比重:1.9(デンカ社製「FB-5SDX)
(F-6)微粒子酸化アルミ、粒子径(d50):4.0μm、真比重:4.0(デンカ社製「DAW-03」)
(F-7)微粒子金、粒子径(d50):4.0μm、真比重:19.5(徳力本店社製「TAU-200」)
(F) The following was used as the inorganic filler.
(F-1) Fine particle talc, particle size (d50): 4.5 μm, true specific gravity: 2.7 ("#5000PJ" manufactured by Matsumura Sangyo Co., Ltd.)
(F-2) Fine particle talc, particle size (d50): 15 μm, true specific gravity: 2.7 ("SC" manufactured by Matsumura Sangyo Co., Ltd.)
(F-3) Fine particle mica, particle size (d50): 3.0 μm, true specific gravity: 2.9 ("A-11" manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd.)
(F-4) Fine particle kaolin, particle size (d50): 1.6 μm, true specific gravity: 2.6 ("Kaopolite 1147" manufactured by Hayashi Kasei Co., Ltd.)
(F-5) Fine particle silica, particle size (d50): 4.2 μm, true specific gravity: 1.9 ("FB-5SDX" manufactured by Denka Co., Ltd.)
(F-6) Fine particle aluminum oxide, particle size (d50): 4.0 μm, true specific gravity: 4.0 ("DAW-03" manufactured by Denka Co., Ltd.)
(F-7) Fine particle gold, particle size (d50): 4.0 μm, true specific gravity: 19.5 (Tokuriki Honten Co., Ltd. "TAU-200")
(G)樹脂粒子として下記を用いた。
(G-1)GS-210:球状架橋ポリスチレン粒子(ガンツ化成社製「GS-210」)(平均粒子径:20.0μm、標準偏差:0.06μm)
The following was used as the (G) resin particles.
(G-1) GS-210: Spherical cross-linked polystyrene particles ("GS-210" manufactured by Ganz Chemical Co., Ltd.) (average particle size: 20.0 μm, standard deviation: 0.06 μm)
表1~表3に示す種類の原材料を、表1~表3に示す組成割合で混合し、実施例及び比較例の封止剤を調製した。組成割合の単位は質量部である。 The sealants of the examples and comparative examples were prepared by mixing the raw materials shown in Tables 1 to 3 in the composition ratios shown in Tables 1 to 3. The composition ratios are in parts by mass.
実施例及び比較例の封止剤について、下記の各測定を行った。その結果を表1~表3に示した。The sealants of the examples and comparative examples were subjected to the following measurements. The results are shown in Tables 1 to 3.
〔重合性化合物の比重〕
ハーバート形比重瓶を用い、JIS K0061に準拠して、測定を行った。
[Specific Gravity of Polymerizable Compound]
Measurements were carried out using a Herbert type pycnometer in accordance with JIS K0061.
〔液比重〕
5mLゲーリュサック型比重瓶を用い、JIS-K-0061の8.2.2に準拠して測定した。
[Liquid specific gravity]
Measurement was carried out using a 5 mL Gay-Lussac type pycnometer in accordance with 8.2.2 of JIS-K-0061.
〔光硬化条件〕
封止剤の硬化物性及び接着性の評価に際し、下記光照射条件により、封止剤を硬化させた。無電極放電メタルハライドランプ搭載UV硬化装置(フュージョン社製)により、365nmの波長の積算光量4,000mJ/cm2の条件にて、封止剤を光硬化させた後、100℃のオーブン中で、60分間の後加熱処理を実施し、硬化体を得た。
[Light curing conditions]
To evaluate the curing properties and adhesiveness of the sealant, the sealant was cured under the following light irradiation conditions: The sealant was photocured using a UV curing device equipped with an electrodeless discharge metal halide lamp (manufactured by Fusion) at a wavelength of 365 nm with an integrated light dose of 4,000 mJ/ cm2 , and then post-heated in an oven at 100°C for 60 minutes to obtain a cured product.
〔硬化体の比重〕
厚さ0.1mmのシート状の硬化体を前記光硬化条件にて作製し、JIS K7112 B法に準拠して測定した。浸せき液として、温度は23℃の水を使用した。
[Specific gravity of hardened body]
A 0.1 mm thick sheet-like cured product was prepared under the above photocuring conditions, and the measurement was performed in accordance with JIS K7112 Method B. Water at a temperature of 23°C was used as the immersion liquid.
〔Tg〕
厚さ0.1mmのシート状の硬化体を前記光硬化条件にて作製し、厚み100μmの硬化体を幅5mm×長さ25mmに切り出し、試験片とした。この試験片について、温度範囲-50℃~200℃、昇温速度2℃/min、引っ張りモードの条件で、動的粘弾性測定を行った。上記動的粘弾性測定で測定されたtanδ(損失正接)のピークトップの温度を硬化物のガラス転移温度(Tg)とした。
[Tg]
A 0.1 mm thick sheet-like cured product was prepared under the above photocuring conditions, and a 100 μm thick cured product was cut into a 5 mm wide x 25 mm long test piece. Dynamic viscoelasticity measurements were performed on these test pieces at a temperature range of −50°C to 200°C, a heating rate of 2°C/min, and in tensile mode. The peak top temperature of tan δ (loss tangent) measured in the dynamic viscoelasticity measurement was taken as the glass transition temperature (Tg) of the cured product.
〔架橋密度〕
厚さ0.1mmのシート状の硬化体を前記光硬化条件にて作製し、厚み100μmの硬化体を幅5mm×長さ25mmに切り出し、試験片とした。この試験片について、温度範囲-50℃~200℃、昇温速度2℃/min、引っ張りモードの条件で、動的粘弾性測定を行った。架橋密度は、Tg+40℃の温度をT(K)、T(K)における貯蔵弾性率(G’)(表の「弾性率」)をG’T+40、気体定数をR、フロント係数をφ(=1)として、以下の式で算出した。
架橋密度(ρ)=G’T+40/φRT
[Crosslink density]
A 0.1 mm thick sheet-like cured product was prepared under the above photocuring conditions, and a 100 μm thick cured product was cut into a 5 mm wide x 25 mm long test piece. This test piece was subjected to dynamic viscoelasticity measurements at a temperature range of -50°C to 200°C, a heating rate of 2°C/min, and tensile mode. The crosslink density was calculated using the following formula, where T(K) is the temperature at Tg+40°C, G'("ElasticModulus" in the table) is G' T+40 , the gas constant is R, and the frontal modulus is φ (=1).
Crosslink density (ρ)=G'T +40 /φRT
〔平均粒径、標準偏差〕
無機充填材、樹脂粒子の平均粒子径(平均粒径又は粒径という場合もある)、及び、粒径(μm)を対数で表示したときの粒径に対する粒子体積分布の標準偏差(上述の「標準偏差」)は、レーザー回折式粒度分布測定装置(島津製作所製「SALD-2200」)により測定した。
[Average particle size, standard deviation]
The average particle diameters (sometimes referred to as average particle diameters or particle diameters) of the inorganic filler and resin particles, and the standard deviations of the particle volume distributions relative to the particle diameters when the particle diameters (μm) are expressed in logarithmic terms (the above-mentioned "standard deviations") were measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer ("SALD-2200" manufactured by Shimadzu Corporation).
〔透湿度〕
厚さ0.1mmのシート状の硬化体を前記光硬化条件にて作製し、JIS Z0208「防湿包装材料の透湿度試験方法(カップ法)」に準じ、吸湿剤として塩化カルシウム(無水)を用い、雰囲気温度85℃、相対湿度85%の条件で測定した。透湿度は50g/(m2・24hr)以下が好ましい。
[Moisture permeability]
A 0.1 mm thick sheet of cured material was prepared under the above photocuring conditions, and the moisture permeability was measured in accordance with JIS Z0208 "Test method for moisture permeability of moisture-proof packaging materials (cup method)" using calcium chloride (anhydrous) as a moisture absorbent at an ambient temperature of 85°C and a relative humidity of 85%. The moisture permeability is preferably 50 g/(m²·24 hr) or less.
〔平均自由体積及び空孔率〕
厚さ0.1mmのシート状の硬化体を前記光硬化条件にて作製し、厚み0.1mmの硬化体を幅10mm×長さ10mmに切り出し、10枚重ねて固定したものを試験サンプルとした。
線源を22NaClとして、下記の条件にて陽電子消滅寿命と相対強度を測定した。
陽電子線源:22NaCl(強度0.6MBq)
ガンマ線検出器:フッ化バリウムシンチレーター及び光電子倍増管
装置分解能:250ps
測定温度:25℃
カウント数:1,000,000
試料:陽電子線源を両側から挟み込んで測定
上記測定条件に沿って測定された陽電子消滅寿命から、平均自由体積及び空孔率を算出した。
[Average free volume and porosity]
A 0.1 mm thick sheet-like cured product was prepared under the above photocuring conditions, and the 0.1 mm thick cured product was cut into a 10 mm wide x 10 mm long piece. Ten of these pieces were stacked and fixed together to form a test sample.
The radiation source was 22 NaCl, and the positron annihilation lifetime and relative intensity were measured under the following conditions.
Positron source: 22 NaCl (intensity 0.6MBq)
Gamma ray detector: barium fluoride scintillator and photomultiplier tube Instrument resolution: 250 ps
Measurement temperature: 25℃
Count: 1,000,000
Sample: Measurement was performed by sandwiching the positron source from both sides. The average free volume and porosity were calculated from the positron annihilation lifetime measured under the above measurement conditions.
〔引張せん断接着強さ〕
ホウ珪酸ガラス試験片(縦25mm×横25mm×厚2.0mm、テンパックス(登録商標)ガラス)を2枚用い、接着面積0.5cm2、接着厚み10μmとなるように、封止剤を介してホウ珪酸ガラス試験片を接着し、前記光硬化条件にて封止剤を硬化させた。硬化後、封止剤で接合した試験片を用い、引張剪断接着強さ(単位:MPa)を、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、引張速度10mm/分で測定した。
[Tensile shear adhesive strength]
Two borosilicate glass test pieces (25 mm long x 25 mm wide x 2.0 mm thick, Tempax (registered trademark) glass) were bonded to each other with a sealant to a bonding area of 0.5 cm 2 and a bonding thickness of 10 μm, and the sealant was cured under the above-mentioned photocuring conditions. After curing, the tensile shear bond strength (unit: MPa) of the test pieces bonded with the sealant was measured at a temperature of 23°C and a relative humidity of 50% at a pulling rate of 10 mm/min.
〔有機EL素子基板の作製〕
ITO電極付きガラス基板(縦25mm×横25mm)をアセトン及びイソプロパノールを用いて洗浄した。その後、真空蒸着法にて以下の化合物を薄膜となるように順次蒸着し、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極からなる有機EL素子基板を得た。各層の構成は以下の通りである。
・陽極:ITO、陽極の膜厚250nm
・正孔注入層:銅フタロシアニン 厚さ30nm
・正孔輸送層:N,N’-ジフェニル-N,N’-ジナフチルベンジジン(α-NPD) 厚さ20nm
・発光層:トリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(金属錯体系材料)、発光層の膜厚1000Å
・電子注入層:フッ化リチウム 厚さ1nm
・陰極:アルミニウム、陰極の膜厚250nm
[Fabrication of Organic EL Element Substrate]
A glass substrate (25 mm long x 25 mm wide) with an ITO electrode was washed with acetone and isopropanol. The following compounds were then sequentially deposited by vacuum deposition to form thin films, yielding an organic EL device substrate consisting of an anode, a hole injection layer, a hole transport layer, an emitting layer, an electron injection layer, and a cathode. The composition of each layer is as follows:
Anode: ITO, anode film thickness 250 nm
Hole injection layer: copper phthalocyanine, thickness 30 nm
Hole transport layer: N,N'-diphenyl-N,N'-dinaphthylbenzidine (α-NPD) thickness 20 nm
Light-emitting layer: tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum (metal complex material), light-emitting layer thickness 1000 Å
Electron injection layer: lithium fluoride, thickness 1 nm
Cathode: Aluminum, cathode film thickness 250 nm
〔有機EL素子の作製〕
窒素雰囲気下にて塗工装置にてガラス基板に、封止剤を四角状(辺長20mm、塗布幅0.6mm、塗布高さ0.1mm)に塗布し、接着厚み10μmとなるように、封止剤を介してガラス基板と有機EL素子基板とを貼り合わせ、前記光硬化条件にて封止剤を硬化させ、有機EL素子を作製した。
[Fabrication of Organic EL Device]
The sealant was applied to a glass substrate in a rectangular shape (side length 20 mm, application width 0.6 mm, application height 0.1 mm) using a coating device under a nitrogen atmosphere, and the glass substrate and the organic EL element substrate were bonded together via the sealant so that the adhesive thickness was 10 μm. The sealant was then cured under the photocuring conditions described above, thereby producing an organic EL element.
〔有機EL評価〕
〔初期〕
作製した直後の有機EL素子に6Vの電圧を印加し、有機EL素子の発光状態を目視と顕微鏡で観察し、ダークスポットの直径を測定した。
[Evaluation of Organic EL]
〔initial〕
A voltage of 6 V was applied to the organic EL element immediately after fabrication, and the light-emitting state of the organic EL element was observed visually and under a microscope, and the diameter of the dark spot was measured.
〔高温高湿試験後〕
作製した直後の有機EL素子を、85℃、相対湿度85質量%の条件下に300時間暴露した後、6Vの電圧を印加し、有機EL素子の発光状態を目視と顕微鏡で観察し、ダークスポットの直径を測定した。
[After high temperature and humidity test]
The organic EL element immediately after fabrication was exposed to conditions of 85°C and a relative humidity of 85% by mass for 300 hours, and then a voltage of 6 V was applied thereto, and the light-emitting state of the organic EL element was observed visually and with a microscope, and the diameter of the dark spot was measured.
なお、ダークスポットの直径は、60μm以下が好ましく、40μm以下がより好ましく、ダークスポットはないことが最も好ましい。 The diameter of the dark spots is preferably 60 μm or less, more preferably 40 μm or less, and most preferably there are no dark spots.
次に、表4~表6に示す種類の原材料を、表4~表6に示す組成割合で混合し、実施例及び比較例の封止剤を調製した。組成割合の単位は質量部である。Next, the types of raw materials shown in Tables 4 to 6 were mixed in the composition ratios shown in Tables 4 to 6 to prepare the sealants of the examples and comparative examples. The composition ratios are in parts by mass.
実施例及び比較例の封止剤について、上記の各測定及び下記の各測定を行った。その結果を表4~表6に示した。The sealants of the examples and comparative examples were subjected to the above and following measurements. The results are shown in Tables 4 to 6.
〔組成物の粘度とチキソ性〕
コーンローター式粘度計(東機産業社製、「TV-22型」)により、25℃、1rpmの条件における粘度を測定した。また、チキソ性の評価として、25℃、1rpmにおける粘度η1に対する、25℃、0.1rpmにおける粘度η2の比(η2/η1)を測定した。
[Viscosity and thixotropy of the composition]
The viscosity was measured at 25°C and 1 rpm using a cone rotor viscometer (TV-22 model, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) and the ratio (η 2 /η 1 ) of the viscosity η 2 at 25°C and 0.1 rpm to the viscosity η 1 at 25°C and 1 rpm was measured to evaluate the thixotropy.
〔塗布直進性〕
30mLの遮光性シリンジ(商品名「UVブロックシリンジ」、武蔵エンジニアリング(株)製)に組成物を充填し、ディスペンサー(商品名「SHOT mini 1000」、武蔵エンジニアリング(株)製)を用いて、無アルカリガラスに塗布長さ30mm±2mm、塗布幅0.6mm±0.2mm、塗布高さ0.1mm±0.05mmになるように組成物を塗布した。組成物を365nmの波長の積算光量2,000mJ/cm2の条件にて、光照射した後に、100℃のオーブン中で60分間の後加熱処理を実施し、硬化体を得た。塗布直進性は、下記基準で評価した。
評価基準
AA:硬化体の塗布幅が0.4mm以上であり、塗布幅の平均標準偏差が0.040mm未満である。
A:硬化体の塗布幅が0.4mm以上であり、塗布幅の平均標準偏差が0.040mm~0.100mmである。
C:硬化体の塗布幅が0.4mm以上であり、塗布幅の平均標準偏差が0.100mm以上である。
[Straight application]
The composition was filled into a 30 mL light-blocking syringe (trade name "UV Block Syringe," manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.), and applied to alkali-free glass using a dispenser (trade name "SHOT mini 1000," manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.) to a coating length of 30 mm ± 2 mm, a coating width of 0.6 mm ± 0.2 mm, and a coating height of 0.1 mm ± 0.05 mm. The composition was irradiated with light at a wavelength of 365 nm with an integrated light dose of 2,000 mJ/ cm2 , and then post-heated in an oven at 100°C for 60 minutes to obtain a cured product. The coating straightness was evaluated according to the following criteria.
Evaluation criteria AA: The coating width of the cured product is 0.4 mm or more, and the average standard deviation of the coating width is less than 0.040 mm.
A: The coating width of the cured product is 0.4 mm or more, and the average standard deviation of the coating width is 0.040 mm to 0.100 mm.
C: The coating width of the cured product is 0.4 mm or more, and the average standard deviation of the coating width is 0.100 mm or more.
〔重合性化合物の比重〕
ハーバート形比重瓶を用い、JIS K0061に準拠して、測定を行った。
[Specific Gravity of Polymerizable Compound]
Measurements were carried out using a Herbert type pycnometer in accordance with JIS K0061.
〔硬化体の比重〕
厚さ0.1mmのシート状の硬化体を前記光硬化条件にて作製し、JIS K7112 B法に準拠して測定した。浸せき液として、温度は23℃の水を使用した。
[Specific gravity of hardened body]
A 0.1 mm thick sheet-like cured product was prepared under the above photocuring conditions, and the measurement was performed in accordance with JIS K7112 Method B. Water at a temperature of 23°C was used as the immersion liquid.
Claims (33)
前記重合性化合物の30質量%以上90質量%以下が、比重が1.3~4.0であり、且つ、臭素元素を有する重合性化合物(X)であり、
液比重が1.3~4.0である、封止剤。 The polymerizable compound includes a polymerization initiator and an inorganic filler.
30% by mass or more and 90% by mass or less of the polymerizable compound is a polymerizable compound (X) having a specific gravity of 1.3 to 4.0 and containing a bromine element,
A sealant having a liquid specific gravity of 1.3 to 4.0 .
前記硬化体の比重が1.35~19.0となる、請求項1に記載の封止剤。 When the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler,
The sealant according to claim 1, wherein the specific gravity of the cured product is 1.35 to 19.0.
前記重合体のガラス転移温度が85℃以上となる、請求項1又は2に記載の封止剤。 When the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler,
The sealant according to claim 1 or 2, wherein the polymer has a glass transition temperature of 85°C or higher.
前記硬化体の架橋密度が1.5×10-3mol/cm3以上となる、請求項1~3のいずれか一項に記載の封止剤。 When the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler,
The sealant according to any one of claims 1 to 3, wherein the cured product has a crosslink density of 1.5 x 10 -3 mol/cm 3 or more.
前記硬化体の平均自由体積が1nm3以下となる、請求項1~25のいずれか一項に記載の封止剤。 When the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler,
The sealant according to any one of claims 1 to 25, wherein the cured product has an average free volume of 1 nm3 or less.
前記硬化体の空孔率が20%未満となる、請求項1~26のいずれか一項に記載の封止剤。 When the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler,
The sealant according to any one of claims 1 to 26, wherein the cured product has a porosity of less than 20%.
前記硬化体の、JIS Z0208に準拠して、温度85℃、相対湿度85%の条件下で測定される透湿度が、50(g/m2・24h/100μm)以下となる、請求項1~27のいずれか一項に記載の封止剤。 When the sealant is cured to form a cured body containing a polymer of the polymerizable compound and the inorganic filler,
The sealant according to any one of claims 1 to 27, wherein the moisture permeability of the cured product measured in accordance with JIS Z0208 at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% is 50 (g/ m2 ·24h/100μm) or less.
ダム・フィル封止構造を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 Applying and curing the sealant according to any one of claims 1 to 30 to form a dam.
A method for manufacturing an organic electroluminescent display device having a dam-fill sealing structure.
前記ダムが、請求項1~30のいずれか一項に記載の封止剤の硬化体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
a dam-fill sealing structure including a dam and a fill agent;
An organic electroluminescence display device, wherein the dam comprises a cured product of the sealant according to any one of claims 1 to 30.
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