JP7724826B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本明細書が開示する技術は、表示装置に関する。

従来、ディスプレイ入力装置（表示装置）の一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。特許文献１に記載のディスプレイ入力装置は、透光性基板の上にマグネトロンスパッタ法により形成した透光性を有するＩｎと、Ｚｎと、Ｓｎと、Ｏとを含む帯電防止膜を備える。この帯電防止膜は、Ｉｎ含有量を２１．２原子％とし、Ｚｎ含有量を５～５５原子％とし、Ｓｎ含有量を８～４０原子％としている。

特開２０１７－１７９５９９号公報

上記した特許文献１に記載のディスプレイ入力装置は、ＴＦＴが設けられた第１の透明基板と、タッチセンサが設けられた第２の透明基板と、を備えており、帯電防止膜は、第２の透明基板における外側の面上に設けられている。この帯電防止膜は、ＩＺＴＯ（Indium Zinc Tin Oxide）からなるため、ガラス材料からなる第２の透明基板に比べると、高い屈折率となっている。このため、帯電防止膜と第２の透明基板との界面において外光が反射され易くなっており、反射光に起因して表示画像に係るコントラスト性能が低下し易い、という問題があった。

本明細書に記載の技術は、上記のような事情に基づいて完成されたものであって、表示品位の向上を図ることを目的とする。

（１）本明細書に記載の技術に関わる表示装置は、一方の主面が表示面とされる第１基板と、前記第１基板のうち前記表示面とは反対側の他方の主面と対向して配される第２基板と、前記第１基板における前記他方の主面に設けられる導電膜と、を備え、前記第１基板は、前記表示面が、画像が表示される表示領域と、前記画像が非表示とされる非表示領域と、に区分され、前記導電膜は、少なくとも前記表示領域に対して重畳して配されていて、透光性を有する合成樹脂材料を含む。

（２）また、上記表示装置は、上記（１）に加え、前記導電膜は、シート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲とされてもよい。

（３）また、上記表示装置は、上記（２）に加え、前記第２基板には、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成する位置検出電極と、前記位置検出電極に接続されて位置検出信号を伝送する位置検出配線と、が設けられてもよい。

（４）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（３）のいずれかに加え、前記第１基板は、ガラス材料からなり、前記導電膜は、屈折率が１．５～１．８の範囲とされてもよい。

（５）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（４）のいずれかに加え、前記第１基板と前記第２基板との外周端部間に設けられる枠状のシール部と、前記第２基板において前記シール部の内側に位置して設けられていてグランド電位とされる電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられていて前記シール部の内側に位置していて前記導電膜と前記電極とに接続される接続部と、を備え、前記導電膜は、前記シール部の内側に位置して設けられてもよい。

（６）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（５）のいずれかに加え、前記導電膜は、前記合成樹脂材料として絶縁性樹脂材料を有し、前記絶縁性樹脂材料に導電剤を含有させてなってもよい。

（７）また、上記表示装置は、上記（６）に加え、前記導電膜は、前記導電剤としてカーボンナノチューブを有してもよい。

（８）また、上記表示装置は、上記（６）に加え、前記導電膜は、前記導電剤としてＩｎ（インジウム）を含む透明電極材料を有してもよい。

（９）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（５）のいずれかに加え、前記導電膜は、前記合成樹脂材料として導電性高分子材料を有してもよい。

（１０）本明細書に記載の技術に関わる表示装置は、一方の主面が表示面とされる第１基板と、前記第１基板のうち前記表示面とは反対側の他方の主面と対向して配される第２基板と、前記第１基板における前記一方の主面と前記他方の主面とのうちの少なくとも一方に設けられる導電膜と、を備え、前記第１基板は、前記表示面が、画像が表示される表示領域と、前記画像が非表示とされる非表示領域と、に区分され、前記第１基板は、ガラス材料からなり、前記導電膜は、少なくとも前記表示領域に対して重畳して配されていて、透光性を有し、シート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲とされ、屈折率が１．５～１．８の範囲とされる。

本明細書に記載の技術によれば、表示品位の向上を図ることができる。

実施形態１に係る実施形態１に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル、ドライバ及びフレキシブル基板などを示す平面図 実施形態１に係る液晶パネル、ドライバ及びフレキシブル基板などを示す概略的な断面図 実施形態１に係る液晶パネルを構成するアレイ基板の電気的構成を示す回路図 実施形態１に係る液晶パネルにおける図１のiv-iv線断面図 実施形態１に係る液晶パネルにおける図１のv-v線断面図 実施形態１に係るアレイ基板の平面構成を示す液晶パネルの平断面図 実施形態１に係る対向基板に備わっていてカーボンナノチューブを含有する導電膜の断面図 実施形態１に係る対向基板に備わっていて透明電極材料を含有する導電膜の断面図 実施形態１に係る比較実験１の実験結果を示すグラフ 実施形態１に係る実証実験１の実験結果を示すグラフ 実施形態１に係る実証実験２の実験結果を示すグラフ 実施形態１に係る比較実験２の実験結果を示す表 実施形態１に係る比較実験２の実験結果を示すグラフ 実施形態２に係る液晶パネルにおける図４と同じ断面構成を示す断面図 実施形態３に係る対向基板に備わっていて導電性高分子からなる導電膜の断面図 実施形態４に係る液晶パネル、フレキシブル基板及び導電膜などを示す概略的な断面図

＜実施形態１＞
実施形態１を図１から図１３によって説明する。本実施形態では、表示機能及びタッチパネル機能（位置入力機能）を備える液晶表示装置１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図２，図４及び図５の上側を表側とし、同図下側を裏側とする。

液晶表示装置１０は、図１に示すように、横長の方形状をなしていて画像を表示可能な液晶パネル（表示装置、表示パネル）１１と、液晶パネル１１に対して表示に利用するための光を照射する外部光源であるバックライト装置（照明装置）と、を少なくとも備える。バックライト装置は、液晶パネル１１に対して裏側（背面側）に配置され、白色の光（白色光）を発する光源（例えばＬＥＤなど）や光源からの光に光学作用を付与することで面状の光に変換する光学部材などを有する。液晶パネル１１は、表側を向いた主面が表示面１１ＤＳとされている。表示面１１ＤＳは、中央側部分が、画像が表示される表示領域ＡＡとされ、表示領域ＡＡを取り囲む額縁状の外周側部分が、画像が表示されない非表示領域ＮＡＡとされるよう区分されている。

液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡには、図１に示すように、回路部（ゲート回路部、周辺回路部）１４が設けられている。回路部１４は、表示領域ＡＡをＸ軸方向について両側から挟み込む形で一対が配されている。回路部１４は、Ｙ軸方向に沿って延在する帯状の範囲に設けられている。回路部１４は、後述するゲート配線２６に走査信号を供給するためのものであり、後述するアレイ基板２１にモノリシックに設けられている。回路部１４は、ＧＤＭ（Gate Driver Monolithic）回路である。回路部１４は、走査信号を所定のタイミングで出力するシフトレジスタ回路や走査信号を増幅するためのバッファ回路等を含む。

液晶パネル１１に関して図１に加えて図２を参照して詳しく説明する。液晶パネル１１は、図１及び図２に示すように、一対の基板２０，２１を貼り合わせてなる。一対の基板２０，２１のうち表側（正面側）が対向基板（第１基板、ＣＦ基板）２０とされ、裏側（背面側）がアレイ基板（第２基板）２１とされる。対向基板２０及びアレイ基板２１は、いずれもガラス材料からなるガラス基板（基板）２０ＧＳ，２１ＧＳの内面側に各種の膜が積層形成されてなる。各ガラス基板２０ＧＳ，２１ＧＳに用いられるガラス材料としては、例えば無アルカリガラス等が用いられる。対向基板２０における表裏一対の主面２０Ａ，２０Ｂのうち、外側（表側）の第１主面（一方の主面）２０Ａが、上記した表示面１１ＤＳを構成している。対向基板２０における表裏一対の主面２０Ａ，２０Ｂのうち、内側（裏側）の第２主面（他方の主面）２０Ｂが、アレイ基板２１における内側（表側）の主面と対向する。対向基板２０の内側の第２主面２０Ｂと、アレイ基板２１の内側の主面と、の間には、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（媒質層）２２が介在して配される。一対の基板２０，２１の外周端部間には、液晶層２２をシールするシール部２３が介在して設けられている。シール部２３は、光硬化性樹脂材料や熱硬化性樹脂材料等からなり、液晶層２２を取り囲むよう方形の枠状（無端環状）に形成されている。シール部２３は、非表示領域ＮＡＡのうちの外周側部分と重畳して配されている。なお、両基板２０，２１の外面側には、それぞれ偏光板１５が貼り付けられている。

対向基板２０は、図１及び図２に示すように、短辺寸法がアレイ基板２１の短辺寸法よりも短い。対向基板２０は、アレイ基板２１に対して短辺方向（Ｙ軸方向）についての一方の端部が揃う形で貼り合わせられている。従って、アレイ基板２１のうち、短辺方向についての他方の端部は、対向基板２０に対して側方に突き出して露出する露出部２１Ａとされる。この露出部２１Ａは、全域が非表示領域ＮＡＡであり、次述する表示機能やタッチパネル機能に係る各種信号を供給するためのドライバ（信号供給部）１２及びフレキシブル基板１３が実装されている。

図１及び図２に示されるドライバ１２は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなる。ドライバ１２は、アレイ基板２１の露出部２１Ａに対してＣＯＧ（Chip On Glass）実装されている。ドライバ１２は、フレキシブル基板１３によって伝送される各種信号を処理する。ドライバ１２は、表示領域ＡＡの配線（具体的には後述するソース配線２７及びタッチ配線３０）に対して各種信号（例えば画像信号、タッチ信号など）を供給するものである。フレキシブル基板１３は、絶縁性及び可撓性を有する合成樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂等）からなる基材上に多数本の配線パターンを形成した構成とされる。フレキシブル基板１３は、図１及び図２に示すように、その一端側がアレイ基板２１の露出部２１Ａに、他端側が外部の回路基板（コントロール基板など）に、それぞれ接続されている。フレキシブル基板１３は、露出部２１Ａのうち、ドライバ１２に対してＹ軸方向について表示領域ＡＡ側とは反対側の端部に接続されている。

本実施形態に係る液晶パネル１１は、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出するタッチパネル機能と、を併有している。液晶パネル１１には、タッチパネル機能を発揮するためのタッチパネルパターンが一体化（インセル化）されている。このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされる。タッチパネルパターンは、図１に示すように、液晶パネル１１の板面内においてマトリクス状に並んで配される複数のタッチ電極（位置検出電極）２９から構成されている。タッチ電極２９は、液晶パネル１１の表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１の表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域（位置入力領域）とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域（非位置入力領域）とほぼ一致している。そして、使用者が視認する液晶パネル１１の表示領域ＡＡの画像に基づいて位置入力をしようとして液晶パネル１１の表面（表示面１１ＤＳ）に導電体である指（位置入力体）を近づけると、その指とタッチ電極２９との間で静電容量が形成されることになる。これにより、指の近くにあるタッチ電極２９にて検出される静電容量には指が近づくのに伴って変化が生じ、指から遠くにあるタッチ電極２９とは異なるものとなるので、それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。なお、図１での図示以外にも、タッチ電極２９の具体的な設置数は、適宜に変更可能である。タッチ電極２９は、平面に視て略方形状をなしており、一辺の寸法が数ｍｍ程度とされる。従って、タッチ電極２９は、平面に視た大きさが後述する画素よりも遙かに大きく、Ｘ軸方向及びＹ軸方向について複数ずつの画素に跨る範囲に配置されている。

次に、アレイ基板２１における表示領域ＡＡの構成について図３を用いて説明する。アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図３に示すように、ＴＦＴ（トランジスタ、スイッチング素子）２４及び画素電極２５が少なくとも設けられている。ＴＦＴ２４及び画素電極２５は、複数ずつＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って間隔を空けて並んでマトリクス状（行列状）に設けられている。これらＴＦＴ２４及び画素電極２５の周りには、互いに直交（交差）するゲート配線（走査配線）２６及びソース配線（画像配線、信号配線）２７が配設されている。ゲート配線２６は、Ｘ軸方向に沿って延在する。ソース配線２７は、Ｙ軸方向に沿って延在する。ＴＦＴ２４は、ゲート配線２６に接続されるゲート電極２４Ａと、ソース配線２７に接続されるソース電極２４Ｂと、画素電極２５に接続されるドレイン電極２４Ｃと、ソース電極２４Ｂ及びドレイン電極２４Ｃに接続される半導体部２４Ｄと、を有する。そして、ＴＦＴ２４は、ゲート配線２６によってゲート電極２４Ａに供給される走査信号に基づいて駆動される。すると、ドライバ１２からソース配線２７によってソース電極２４Ｂに供給される画像信号（データ信号）に係る電位が、半導体部２４Ｄを介してドレイン電極２４Ｃに供給される。その結果、画素電極２５は、画像信号に係る電位に充電される。画素電極２５は、ゲート配線２６とソース配線２７とに取り囲まれた領域に配されており、平面形状が例えば略長方形をなしている。

アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図３に示すように、全ての画素電極２５と重畳する形で共通電極（電極）２８が形成されている。共通電極２８は、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって延在している。この共通電極２８は、既述したタッチ電極２９を構成している。共通電極２８は、隣り合うタッチ電極２９の間を仕切る仕切スリットを有する。この仕切スリットによって共通電極２８は、碁盤目状に分割されて相互が電気的に独立した複数のタッチ電極２９からなる。

アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図３に示すように、複数のタッチ電極２９に対して接続される複数のタッチ配線（位置検出配線）３０が設けられている。タッチ配線３０は、Ｙ軸方向に沿って延在し、ソース配線２７に並行している。複数のタッチ配線３０は、複数のタッチ電極２９に対して個別に接続されている。タッチ配線３０には、ドライバ１２から表示機能に係る共通信号（基準電位信号）と、タッチ機能に係るタッチ信号（位置検出信号）と、が異なるタイミングでもって（時分割して）供給されるようになっている。ドライバ１２からタッチ配線３０に共通信号が供給されるタイミングが表示期間であり、ドライバ１２からタッチ配線３０にタッチ信号が供給されるタイミングがセンシング期間（位置検出期間）である。表示期間では、共通信号が全てのタッチ配線３０に対して供給されるので、全てのタッチ電極２９が基準電位となって共通電極２８として機能する。

アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図４に示すように、画素回路部３１及び配向膜等が設けられている。なお、配向膜に関しては図示を省略している。画素回路部３１は、上記したＴＦＴ２４、ゲート配線２６及びソース配線２７等からなり、複数の画素電極２５に所定のタイミングで所定の電位を供給する等の機能を有する。共通電極２８は、画素電極２５よりも下層側に位置する。このように、本実施形態に係るアレイ基板２１では、画素電極２５と共通電極２８とのうちの上層側に位置する電極である「上層電極」が画素電極２５であり、下層側に位置する電極である「下層電極」が共通電極２８である。画素電極２５と共通電極２８との間には、絶縁膜３２が介在して設けられている。複数の画素電極２５には、複数のスリット２５Ａがそれぞれ開口形成されている。共通電極２８には、画素回路部３１によって共通電位（基準電位）とされる共通電位信号が供給されている。ゲート配線２６によって伝送される走査信号に基づいてＴＦＴ２４が駆動されるのに伴って画素電極２５がソース配線２７に伝送される画像信号に基づく電位に充電されると、画素電極２５と共通電極２８との間には電位差が生じる。すると、画素電極２５におけるスリット２５Ａの開口縁と共通電極２８との間には、アレイ基板２１の主面に沿う成分に加えて、アレイ基板２１の主面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が生じる。従って、このフリンジ電界を利用することで液晶層２２に含まれる液晶分子の配向状態を制御することができ、この液晶分子の配向状態に基づいて所定の表示がなされる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。

対向基板２０の内面側における表示領域ＡＡには、図４に示すように、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）及び赤色（Ｒ）を呈する３色のカラーフィルタ３３が設けられている。互いに異なる色を呈する複数のカラーフィルタ３３は、ゲート配線２６の延在方向（Ｘ軸方向）に隣り合うよう並んで配される。互いに異なる色を呈する複数のカラーフィルタ３３は、ソース配線２７の延在方向（概ねＹ軸方向）に沿って延在している。このように、互いに異なる色を呈する複数のカラーフィルタ３３は、全体としてストライプ状に配列されている。これらのカラーフィルタ３３は、アレイ基板２１側の各画素電極２５と平面に視て重畳する配置とされており、画素電極２５と共に表示単位である画素を構成している。互いに異なる色を呈する複数のカラーフィルタ３３は、その境界（色境界）がソース配線２７と重畳する配置とされる。対向基板２０における内面側には、カラーフィルタ３３の下層側に位置する遮光部（画素間遮光部、ブラックマトリクス）３４が設けられている。遮光部３４は、優れた遮光性を有する遮光性材料からなる。遮光部３４は、バックライト装置などから照射される光を遮ることができる。表示領域ＡＡにおいて遮光部３４は、平面形状が略格子状をなしており、隣り合う画素電極２５（画素）の間を仕切っている。表示領域ＡＡにおいて遮光部３４は、アレイ基板２１側の少なくともゲート配線２６及びソース配線２７と平面に視て重畳する配置とされる。非表示領域ＮＡＡにおいて遮光部３４は、概ねベタ状に配されている。なお、両基板２０，２１のうち、液晶層２２に接する最内面（最上層）には、液晶層２２に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜がそれぞれ形成されている。

そして、対向基板２０における第２主面２０Ｂには、図４から図６に示すように、導電膜（帯電防止膜）３５が設けられている。なお、図６では、導電膜３５の平面に視た形成範囲を網掛け状にして図示し、表示領域ＡＡの外形を一点鎖線にて図示している。導電膜３５は、カラーフィルタ３３及び遮光部３４に対して下層側（ガラス基板２０ＧＳ側）に位置して配されている。つまり、導電膜３５は、対向基板２０における第２主面２０Ｂ上に直接接して配されている。導電膜３５は、対向基板２０における第２主面２０Ｂにおいて、表示面１１ＤＳのうちの表示領域ＡＡの全域に加えて、非表示領域ＮＡＡのうちの内周側部分（表示領域ＡＡ側の部分）に対して重畳して配されている。つまり、導電膜３５は、平面に視た形成範囲が、表示領域ＡＡよりも一回り大きく、非表示領域ＮＡＡの外形よりも一回り小さい。導電膜３５は、シール部２３の内側に位置していてシール部２３とは非重畳となるよう配されており、第２主面２０Ｂにおいてシール部２３よりも内周側の領域においてベタ状に設けられている。なお、アレイ基板２１に備わる共通電極２８は、平面に視た大きさが、導電膜３５よりも一回り小さくされている。つまり、共通電極２８は、表示面１１ＤＳのうちの表示領域ＡＡの全域に対して重畳するものの、非表示領域ＮＡＡとは概ね非重畳となるよう配されている。対向基板２０の第２主面２０Ｂに導電膜３５を設けるに際しては、例えば第２主面２０Ｂ上にベタ状に成膜した導電膜３５をいわゆるフォトリソフラフィ法を用いてパターニングしたり、第２主面２０Ｂを選択的にマスキングしつつスリットコーター塗布を行ったり、インクジェット印刷やグラビア印刷等の印刷法を用いて印刷したりすることが可能である。

このように、対向基板２０に導電膜３５が設けられることで、使用者による位置入力（タッチ操作）が行われる表示面１１ＤＳを有する対向基板２０において帯電が生じ難くなる。その上で、導電膜３５は、対向基板２０における第２主面２０Ｂに設けられているので、従来のように第１主面２０Ａに設けた場合に比べると、使用する材料等に係る自由度が高くなっている。詳しくは、仮に、従来のように導電膜が第１主面２０Ａに設けられていると、導電膜が表示面１１ＤＳ上に露出した状態とされるため、耐湿性、化学的安定性及び硬度に関していずれも高い性能の材料を導電膜に用いる必要があった。その点、本実施形態に係る導電膜３５は、第１主面２０Ａとは反対側の第２主面２０Ｂに設けられているので、耐湿性、化学的安定性及び硬度に関して要求性能が低くなり、結果として導電膜３５に用いる材料等の選択の自由度が高くなる。

本実施形態では、図４及び図５に示すように、対向基板２０における第２主面２０Ｂに導電膜３５を設けることで、導電膜３５に用いる材料等の選択の自由度が高くなることに着目し、導電膜３５に透光性を有する合成樹脂材料を含ませるようにした。本実施形態では、導電膜３５には、図７及び図８に示すように、合成樹脂材料として絶縁性樹脂材料３５Ａを用いている。具体的には、導電膜３５には、絶縁性樹脂材料３５Ａとして、オレフィン系樹脂材料（例えばポリエチレン樹脂材料やポリプロピレン樹脂材料等）やポリエステル樹脂材料等が用いられる。絶縁性樹脂材料３５Ａとしてポリエチレン樹脂材料を用いた場合、その屈折率は１．５４程度とされる。絶縁性樹脂材料３５Ａとしてポリプロピレン樹脂材料を用いた場合、その屈折率は１．４８程度とされる。絶縁性樹脂材料３５Ａとしてポリエステル樹脂材料を用いた場合、その屈折率は１．６程度とされる。

このように、導電膜３５は、透光性を有する合成樹脂材料である絶縁性樹脂材料３５Ａを含んでいるので、従来のように、透明電極材料のみを用いた透明電極膜に比べると、絶縁性樹脂材料３５Ａの種類を選択することで屈折率を容易に低くすることができる。具体的には、従来の透明電極膜では、屈折率が２～２．１程度であるのに対し、本実施形態に係る導電膜３５は、絶縁性樹脂材料３５Ａの屈折率が１．４８～１．６程度と従来よりも低くなっている。これに対し、対向基板２０を構成するガラス基板２０ＧＳは、ガラス材料からなり、その屈折率が１．５２程度とされる。このように、導電膜３５の絶縁性樹脂材料３５Ａが従来よりも低屈折率化されることで、導電膜３５と対向基板２０との間の屈折率の差を緩和することができる。従って、導電膜３５と対向基板２０との間の界面での反射光の発生を抑制することができる。これにより、導電膜３５に対して重畳する関係の表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位（コントラスト性能等）の向上を図ることができる。

本実施形態では、導電膜３５は、絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤を含有させた構成とされる。導電膜３５には、図７及び図８に示すように、導電剤として、カーボンナノチューブ３５Ｂや透明電極材料３５Ｃが用いられる。導電膜３５において導電剤として用いられるカーボンナノチューブ３５Ｂは、図７に示すように、炭素によって作られる六員環ネットワーク（グラフェンシート）が単層あるいは多層の同軸管状になった物質であり、優れた導電性及び熱伝導性等を有する。カーボンナノチューブ３５Ｂは、巨視的には線状（細長い形状）をなしており、絶縁性樹脂材料３５Ａ中に多数が分散配合されることで、相互に交差しつつ接触した状態で配されている。ここで、絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤を含有させると、導電剤の含有量が多くなるほど、導電膜３５の屈折率が高くなる傾向にある。その点、カーボンナノチューブ３５Ｂは、透明電極材料３５Ｃに比べると、含有量を増しても導電膜３５の屈折率が高くなり難いという特性を有する。従って、導電剤としてカーボンナノチューブ３５Ｂを用いることで、導電膜３５の屈折率をより低く保ちつつ、導電膜３５のシート抵抗を十分に低下させることができる。一方、導電膜３５において導電剤として用いられる透明電極材料３５Ｃは、図８に示すように、巨視的には粒子状をなしており、絶縁性樹脂材料３５Ａ中に多数が分散配合される。透明電極材料３５Ｃは、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＩＴＳＯ（Indium Tin Silicon Oxide）等とされる。このように、透明電極材料３５Ｃには、少なくともＩｎ（インジウム）が含まれている。透明電極材料３５Ｃは、カーボンナノチューブ３５Ｂに比べると、透光性が高い。

このように、導電膜３５は、絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤を含有させることで、導電性を有しており、それにより帯電防止機能を適切に発揮することができる。絶縁性樹脂材料３５Ａに含ませる導電剤の種類及び含有量を選択することで、導電膜３５の導電性能、つまりシート抵抗を調整することができる。具体的には、導電膜３５におけるシート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲となるよう、絶縁性樹脂材料３５Ａへの導電剤の含有量が設定されている。導電剤としてカーボンナノチューブ３５Ｂが用いられた場合、導電膜３５のシート抵抗を上記した数値範囲とするには、カーボンナノチューブ３５Ｂの含有量を、例えば３ｗｔ％（重量パーセント）程度とする。導電剤として透明電極材料３５Ｃが用いられた場合、導電膜３５のシート抵抗を上記した数値範囲とするには、透明電極材料３５Ｃの含有量を、例えば１０ｗｔ％程度とする。このように、カーボンナノチューブ３５Ｂの含有量は、透明電極材料３５Ｃの含有量よりも少なく済む。一般的に、導電剤の含有量が多くなるほど、導電膜３５の光透過率が低くなる傾向にある。従って、導電剤としてカーボンナノチューブ３５Ｂを用いることで、導電剤の添加に起因する導電膜３５の光透過率の低下を抑制することができる。一方、透明電極材料３５Ｃの含有量は、カーボンナノチューブ３５Ｂの含有量よりも多い。しかしながら、透明電極材料３５Ｃは、カーボンナノチューブ３５Ｂよりも高い光透過性を有していることから、透明電極材料３５Ｃの含有量が多くなっても、導電膜３５の光透過率が低下し難くなっている。従って、導電剤として透明電極材料３５Ｃを用いることで、導電剤の添加に起因する導電膜３５の光透過率の低下を十分に抑制することができる。

このように、導電膜３５は、シート抵抗が１×１０^７Ω／□以上とされているので、仮に、シート抵抗が１×１０^７Ω／□よりも低い場合に比べると、入力位置の検出に際してタッチ電極２９から発せられる電界が導電膜３５によって遮蔽され難くなる。これにより、タッチ配線３０によって伝送されるタッチ信号に係る信号強度が低下し難くなるので、タッチ感度（位置検出感度）が良好に保たれる。一方、導電膜３５は、シート抵抗が１×１０^９Ω／□以下とされているので、仮に、シート抵抗が１×１０^９Ω／□よりも高い場合に比べると、導電膜３５による帯電防止機能を十分に発揮することができる。

絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤（カーボンナノチューブ３５Ｂや透明電極材料３５Ｃ）を含有させてなる導電膜３５は、屈折率が１．５～１．８程度となる。具体的には、例えば、絶縁性樹脂材料３５Ａとしてオレフィン系樹脂材料を用い、導電剤としてカーボンナノチューブ３５Ｂを用いた場合は、導電膜３５の屈折率は、１．６程度となる。また、例えば、絶縁性樹脂材料３５Ａとしてポリエチレン樹脂材料を用い、導電剤として透明電極材料３５ＣであるＩＴＯを用いた場合は、導電膜３５の屈折率は、１．７程度となる。また、例えば、絶縁性樹脂材料３５Ａとしてポリエステル樹脂材料を用い、導電剤として透明電極材料３５ＣであるＩＴＯを用いた場合は、導電膜３５の屈折率は、１．８程度となる。従って、本実施形態に係る導電膜３５によれば、従来の透明電極膜（屈折率が２～２．１程度）に比べると、対向基板２０を構成するガラス基板２０ＧＳとの屈折率の差が十分に緩和されるので、導電膜３５と対向基板２０との間の界面での反射光の発生を抑制することができる。特に、導電膜３５の屈折率は、１．８以下とされているので、対向基板２０を構成するガラス基板２０ＧＳとの間に生じる屈折率の差が十分に緩和され、反射光量の低減を図る上で好適となる。これにより、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位の向上を図ることができる。また、導電膜３５の屈折率が１．５以上とされているので、導電膜３５に用いる絶縁性樹脂材料３５Ａの種類を選択する上で十分な自由度が得られる。

また、対向基板２０とアレイ基板２１との間には、図４及び図５に示すように、導電膜３５と共通電極２８とに接続される接続部３６が設けられている。接続部３６は、光硬化性樹脂材料や熱硬化性樹脂材料等からなる基材３６Ａと、基材３６Ａ内に分散配合された多数の導電性粒子３６Ｂと、により構成されている。接続部３６の基材３６Ａは、シール部２３と同一材料であってもよく、そのようにすれば、製造に際してシール部２３と接続部３６とを同一工程にて塗布及び硬化させることができて有用である。導電性粒子３６Ｂは、例えば、合成樹脂製の粒子の表面に金メッキなどの導電性メッキ処理を施してなる。導電性粒子３６Ｂの粒径は、液晶パネル１１のセルギャップに近似した値とされ、例えば４μｍ～８μｍの範囲程度とされる。基材３６Ａにおける導電性粒子３６Ｂの含有量は、例えば０．５ｗｔ％程度とされる。接続部３６における平面に視た形成範囲や導電性粒子３６Ｂの含有量は、接続部３６の接続抵抗が例えば１ＫΩ以下となるよう、それぞれ調整されている。

接続部３６は、図６に示すように、シール部２３の内側、つまり非表示領域ＮＡＡのうちの内周側部分に位置して配されている。接続部３６は、導電膜３５の外側端部及び後述するグランド電極３９に対してそれぞれ重畳して配されている。接続部３６は、シール部２３の周方向に沿って間隔を空けた位置に複数が配されている。具体的には、接続部３６は、液晶パネル１１におけるＸ軸方向についての両端部付近に２つずつ、Ｙ軸方向について間隔を空けた位置に配されている。これら４つの接続部３６は、平面形状が、Ｙ軸方向に沿って延在する細長い方形状をなしており、非表示領域ＮＡＡにおける四隅の角部付近に配されている。接続部３６は、液晶パネル１１におけるＹ軸方向についてのドライバ１２及びフレキシブル基板１３側とは反対側の端部付近に１つ、Ｘ軸方向についての中央付近に配されている。この接続部３６は、平面形状が、Ｘ軸方向に沿って延在する細長い方形状をなしている。このように、複数の接続部３６は、いずれもシール部２３の周方向に沿って延在している。グランド電極３９は、アレイ基板２１に設けられている。グランド電極３９は、全ての接続部３６に対して重畳するよう、シール部２３と共通電極２８との間に位置し、シール部２３の周方向に沿って延在して配されている。グランド電極３９は、平面に視て「コ」字型をなしており、共通電極２８（表示領域ＡＡ）におけるドライバ１２側の一辺部を除いた３つの辺部に対して間隔を空けて外側に配されている。グランド電極３９は、自身の延在方向についての両端部がそれぞれシール部２３の外側に引き出されていて、露出部２１Ａに配されている。グランド電極３９のうち、露出部２１Ａに配される部分には、フレキシブル基板１３に備わる端子が接続されている。グランド電極３９は、フレキシブル基板１３によってグランド電位に保たれるようになっている。

非表示領域ＮＡＡにおいて概ねベタ状をなす遮光部３４には、図４及び図５に示すように、接続部３６と重畳する位置に開口部３４Ａが設けられている。これにより、対向基板２０において遮光部３４に対して下層側に位置する導電膜３５のうち、開口部３４Ａと重畳する部分は、露出した状態となっている。導電膜３５は、開口部３４Ａを通して露出した部分が、接続部３６を構成する導電性粒子３６Ｂに接する。一方、アレイ基板２１に備わるグランド電極３９は、絶縁膜３２よりも下層側に位置する金属膜や透明電極膜からなる。具体的には、グランド電極３９は、例えば共通電極２８と同じ透明電極膜により構成されてもよい。そして、絶縁膜３２は、非表示領域ＮＡＡと重畳する部分（少なくとも接続部３６と重畳する部分）が切り欠かれている。これにより、アレイ基板２１において絶縁膜３２に対して下層側に位置するグランド電極３９は、露出した状態となっている。グランド電極３９は、絶縁膜３２により覆われずに露出した部分が、接続部３６を構成する導電性粒子３６Ｂに接する。このように、接続部３６が導電膜３５及びグランド電極３９に接続されることで、導電膜３５をグランド電極３９と同電位とすることができる。従って、導電膜３５を、常に除電に適したグランド電位とすることができる。そして、導電膜３５、接続部３６及びグランド電極３９がいずれも枠状のシール部２３の内側に配されているから、導電膜３５に対してシール部２３の外部に存在する水分が浸入し難くなる。

次に、本実施形態に係る液晶パネル１１の優位性を検証するため、以下の比較実験１を行った。比較実験１では、以下の実施例１、比較例１及び参考例に係る各液晶パネルに対して外光を照射したときの光反射率を求めた。実施例１は、本段落以前に説明した構成の液晶パネル１１であり、絶縁性樹脂材料３５Ａとしてオレフィン系樹脂材料を用い、導電剤としてカーボンナノチューブ３５Ｂを用いた導電膜３５を備える。実施例１に備わる導電膜３５は、膜厚が１００ｎｍ程度であり、カーボンナノチューブ３５Ｂの含有量が３ｗｔ％程度である。比較例１は、従来と同様に、透明電極膜を対向基板２０の第１主面２０Ａに設けた構成の液晶パネルである。比較例１に備わる透明電極膜は、透明電極材料としてＩＴＳＯを用い、その膜厚が２０ｎｍ程度である。参考例は、対向基板２０に導電膜３５や透明電極膜が設けられない点で実施例１及び比較例１とは構成が相違する。なお、実施例１、比較例１及び参考例に係る各液晶パネルにおける最も表側の主面には、光の反射を防止するための反射防止膜がそれぞれ設けられている。

比較実験１では、実施例１、比較例１及び参考例に係る各液晶パネルに対して外光を照射して生じた反射光の光量を測定し、測定された反射光量を、照射した外光量にて除した比率の百分率を光反射率として算出した。比較実験１では、実施例１、比較例１及び参考例について、光を反射する主体毎に光反射率を算出した。光を反射する主体には、遮光部と、反射防止膜と、導電膜３５または透明電極膜と、が含まれる。比較実験１の実験結果は、図９に示される通りである。図９は、縦軸を光反射率（単位は「％」）とした棒グラフであり、実施例１、比較例１及び参考例の光反射率がそれぞれ示されている。図９には、遮光部の光反射率と、反射防止膜の光反射率と、導電膜３５または透明電極膜の光反射率と、がそれぞれ異なる網掛け状にして図示されている。

比較実験１の実験結果について説明する。図９によれば、実施例１、比較例１及び参考例のいずれにおいても、遮光部の光反射率は、０．５％であり、反射防止膜の光反射率は、０．１５％であった。これに対し、比較例１においては、透明電極膜の光反射率が０．５５％であり、実施例１においては、導電膜３５の光反射率が０．０２％であった。なお、参考例は、導電膜３５及び透明電極膜をいずれも有さないため、導電膜３５または透明電極膜の光反射率が０％である。そして、比較例１は、全体の光反射率が１．２％であるのに対し、実施例１は、全体の光反射率が０．６７％であった。また、参考例は、全体の光反射率が０．６５％であった。このように、実施例１は、比較例１よりも光反射率が半分程度にまで低く、参考例に近似する値であることが分かった。実施例１では、対向基板２０の第２主面２０Ａに導電膜３５を設ける構成を採ることで、液晶パネル１１における外光の反射を好適に抑制することができている、と言える。

次に、導電膜３５のシート抵抗と、タッチ信号に係る信号強度と、の関係に関して知見を得るための実証実験１を行った。実証実験１では、上記した比較実験１にて説明した実施例１に関し、導電剤であるカーボンナノチューブ３５Ｂの含有量を調整することで、シート抵抗が、１×１０^５Ω／□，１×１０^６Ω／□，３×１０^６Ω／□，７×１０^６Ω／□，１×１０^７Ω／□，３×１０^７Ω／□，１×１０^８Ω／□，１×１０^９Ω／□，１×１０^１０Ω／□，１×１０^１１Ω／□，１×１０^１２Ω／□，１×１０^１３Ω／□となる導電膜３５をそれぞれ製造した。実証実験１では、上記した各シート抵抗となる導電膜３５を備える液晶パネル１１をそれぞれ用意し、各液晶パネル１１において検出されるタッチ信号に係る信号強度を測定した。実証実験１の実験結果は、図１０に示される通りである。図１０は、横軸を導電膜３５のシート抵抗（単位は「Ω／□」）とし、縦軸をタッチ信号に係る信号強度（無単位）としたグラフであり、上記した各シート抵抗での信号強度がプロットされている。この信号強度は、検出されるタッチ信号の信号強度の最大値を基準（１．０）とした相対値である。

実証実験１の実験結果について説明する。図１０によれば、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^７Ω／□を下回ると急激に信号強度が低下する傾向にあることが分かった。特に、導電膜３５のシート抵抗が、７×１０^６Ω／□を下回ると、信号強度の変化率がより高くなり、３×１０^６Ω／□以下においては信号強度が０．２以下となってしまう。このように信号強度が低下すると、タッチ感度が芳しくないため、入力位置を適切に検出するのが難しくなる、という問題が生じる。このように信号強度が低下するのは、導電膜３５の導電性が高いため、タッチ検出に際してタッチ電極２９から発生する電界が導電膜３５によって遮蔽されることが原因である、と推考される。一方、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^７Ω／□以上であれば、信号強度が０．９以上となり、十分なタッチ感度が得られる、と言える。さらには、導電膜３５のシート抵抗が、３×１０^７Ω／□以上であれば、信号強度が概ね１．０で安定し、より高いタッチ感度を得ることができる。このように、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^７Ω／□以上であれば、導電膜３５の導電性が高くなり過ぎることがないので、タッチ検出に際してタッチ電極２９から発生する電界が導電膜３５によって遮蔽され難くなり、結果としてタッチ信号に係る信号強度が０．９以上と高くなる、と推考される。これにより、十分に高いタッチ感度が得られるので、入力位置を適切に検出することができる。

続いて、導電膜３５のシート抵抗と、帯電に伴って生じるムラの消失時間と、の関係に関して知見を得るための実証実験２を行った。実証実験２では、上記した比較実験１にて説明した実施例１に関し、導電剤であるカーボンナノチューブ３５Ｂの含有量を調整することで、シート抵抗が、１×１０^５Ω／□，１×１０^６Ω／□，１×１０^７Ω／□，１×１０^８Ω／□，１×１０^９Ω／□，１×１０^１０Ω／□，１×１０^１１Ω／□，１×１０^１２Ω／□，１×１０^１３Ω／□となる導電膜３５をそれぞれ製造した。実証実験２では、上記した各シート抵抗となる導電膜３５を備える液晶パネル１１をそれぞれ用意し、各液晶パネル１１において全画面に黒色表示を行った状態で表示面１１ＤＳ上の所定位置に静電気試験器（放電ガン）を用いて放電（チャージ）を行った。実証実験２では、静電気試験器として株式会社ノイズ研究所製の「ESS-S3011」を用い、放電に際しては出力電圧を±２０ＫＶとした。実証実験２では、放電を行ってから、表示領域ＡＡのうちの放電箇所に生じる白色の「帯電ムラ」が消失するまでの時間を「消失時間」として測定した。実証実験２の実験結果は、図１１に示される通りである。図１１は、横軸を導電膜３５のシート抵抗（単位は「Ω／□」）とし、縦軸を帯電ムラの消失に要する消失時間（単位は「ｓ（秒）」）としたグラフであり、上記した各シート抵抗での消失時間がプロットされている。

実証実験２の実験結果について説明する。図１１によれば、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^９Ω／□を上回ると次第に消失時間が長くなる傾向にあることが分かった。特に、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^１１Ω／□を上回ると、消失時間の変化率が急激に高くなり、１×１０^１１Ω／□以上では消失時間が２０ｓ以上となり、１×１０^１２Ω／□以上では消失時間が４０ｓ以上となってしまう。消失時間が２０ｓ以上になると、帯電ムラの残存時間が長くなり過ぎるため、表示品位が低下する、という問題が生じる。このように消失時間が長大化するのは、導電膜３５のシート抵抗が過度に高いため、導電膜３５による帯電防止機能が損なわれていることが原因である、と推考される。一方、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^１１Ω／□以下であれば、消失時間が２０ｓよりも短くなり、帯電ムラの残存に起因する表示品位の悪化が抑制される。導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^１１Ω／□以下であれば、消失時間の変化率が低下するとともに、消失時間が次第に短くなっていき、１×１０^１０Ω／□以下になると、消失時間が１ｓに近い値となる。そして、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^９Ω／□以下になると、消失時間が１ｓ未満となって安定することから、導電膜３５による帯電防止機能が十分に発揮される、と言える。つまり、導電膜３５のシート抵抗が、１×１０^９Ω／□以下になるようにすれば、帯電ムラが生じても導電膜３５によって瞬時に消失させることができるので、優れた表示品位を得ることができる。

次に、比較実験１にて説明した実施例１、比較例１及び参考例に加え、実施例１及び比較例１に備わる導電膜３５や透明電極膜の構成を変更した実施例２，３及び比較例２を用意し、それぞれの導電膜３５や透明電極膜等の屈折率を求めるとともに、各液晶パネルに対して外光を照射したときの光反射率を求めた。実施例２は、絶縁性樹脂材料３５Ａとしてポリエチレン樹脂材料を用い、導電剤として透明電極材料３５ＣであるＩＴＯを用いた導電膜３５を備える点を除いては、実施例１と同様である。実施例２に備わる導電膜３５は、膜厚が６００ｎｍ程度であり、透明電極材料３５ＣであるＩＴＯの含有量が１０ｗｔ％程度である。実施例３は、絶縁性樹脂材料３５Ａとしてポリエステル樹脂材料を用い、導電剤として透明電極材料３５ＣであるＩＴＯを用いた導電膜３５を備える点を除いては、実施例１と同様である。実施例３に備わる導電膜３５は、膜厚が６００ｎｍ程度であり、透明電極材料３５ＣであるＩＴＯの含有量が１０ｗｔ％程度である。比較例２は、比較例１と同様に、透明電極膜を対向基板２０の第１主面２０Ａに設けた構成の液晶パネルである。比較例２に備わる透明電極膜は、透明電極材料としてＩＴＯを用い、その膜厚が２０ｎｍ程度である。なお、実施例１～３、比較例１，２及び参考例に係る各液晶パネルにおける最も表側の主面には、光の反射を防止するための反射防止膜がそれぞれ設けられている。

比較実験２では、実施例１～３及び比較例１，２に備わる導電膜３５や透明電極膜の屈折率を測定するとともに、参考例に備わる対向基板２０のガラス基板２０ＧＳの屈折率を測定した。比較実験２では、比較実験１と同様に、実施例１～３、比較例１，２及び参考例に係る各液晶パネルに対して外光を照射して生じた反射光の光量を測定し、測定された反射光量を、照射した外光量にて除した比率の百分率を光反射率として算出した。さらに、比較実験２では、実施例１～３、比較例１，２及び参考例の各光反射率から、参考例の光反射率（０．６５％）を差分することで、光反射率の差分値を算出した。光反射率の差分値は、導電膜３５や透明電極膜を設けることに起因する光反射率の増加分である、と言える。比較実験２の実験結果は、図１２及び図１３に示される通りである。図１２は、実施例１～３、比較例１，２及び参考例における屈折率、光反射率及び差分値がそれぞれ示された表である。図１３では、参考例は、ガラス基板２０ＧＳの屈折率であることから、その数値（１．５２）を括弧書きしている。図１３は、横軸を屈折率とし、縦軸を光反射率の差分値（単位は「％」）としたグラフであり、実施例１～３、比較例１，２及び参考例がそれぞれプロットされている。

比較実験２の実験結果について説明する。図１２によれば、実施例１に備わる導電膜３５の屈折率が「１．６」であり、実施例２に備わる導電膜３５の屈折率が「１．７」であり、実施例３に備わる導電膜３５の屈折率が「１．８」であり、比較例１に備わる透明電極膜の屈折率が「１．９８」であり、比較例２に備わる透明電極膜の屈折率が「２．０８」であった。実施例１と参考例（ガラス基板２０ＧＳ）との屈折率の差は、「０．０８」であり、実施例２と参考例との屈折率の差は、「０．１８」であり、実施例３と参考例との屈折率の差は、「０．２８」であり、比較例１と参考例との屈折率の差は、「０．４６」であり、比較例２と参考例との屈折率の差は、「０．５６」である。このように、参考例との屈折率の差は、実施例１が最小であり、比較例２が最大となった。一方、実施例１に備わる導電膜３５の光反射率が「０．６７％」であり、実施例２に備わる導電膜３５の光反射率が「０．７３％」であり、実施例３に備わる導電膜３５の光反射率が「０．８９％」であり、比較例１に備わる透明電極膜の光反射率が「１．２％」であり、比較例２に備わる透明電極膜の光反射率が「１．５７％」であった。参考例に対する実施例１の光反射率の差分値は、「０．０２％」であり、参考例に対する実施例２の光反射率の差分値は、「０．０８％」であり、参考例に対する実施例３の光反射率の差分値は、「０．２４％」であり、参考例に対する比較例１の光反射率の差分値は、「０．５５％」であり、参考例に対する比較例２の光反射率の差分値は、「０．９２％」である。このように、参考例との光反射率の差は、実施例１が最小であり、比較例２が最大となった。

図１３によれば、屈折率が参考例の「１．５２」よりも高くなるほど光反射率の差分値が高くなるとともに、参考例との屈折率の差が大きくなるほど光反射率の差分値の変化率が高くなる傾向にあることが分かる。特に、屈折率が１．８を超えると、光反射率の差分値の変化率が急激に高くなる傾向にあり、比較例１は、光反射率の差分値が実施例３の２倍以上となり、比較例２は、光反射率の差分値が実施例３の４倍弱となった。言い換えると、実施例３は、光反射率の差分値が比較例１の半分よりも低くなり、外光の反射を好適に抑制することができている、と言える。実施例１，２は、実施例３よりもさらに光反射率の差分値が低く、０．１％よりも低い値となっている。従って、導電膜３５の屈折率が１．５～１．８の範囲（ガラス基板２０ＧＳとの屈折率の差が－０．０２～０．２８の範囲）とされることで、光反射率の差分値を、比較例１の半分よりも低く抑えることができて、外光の反射する上で好ましい、と言える。さらには、導電膜３５の屈折率が１．５～１．７の範囲（ガラス基板２０ＧＳとの屈折率の差が－０．０２～０．１８の範囲）とされることで、光反射率の差分値を０．１％よりも低く抑えることができて、外光の反射する上でより好ましい、と言える。

ここまで説明した比較実験１，２及び実証実験１，２の各実験結果によれば、導電膜３５は、シート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲とされ、屈折率が１．５～１．８の範囲（より好ましくは１．５～１．７の範囲）とされるのが好ましい、と言える。導電膜３５のシート抵抗が１×１０^７Ω／□以上とされることで、導電膜３５によってタッチ電極２９からの電界が遮蔽され難くすることができて、タッチパネル機能が損なわれる事態を生じ難くすることができる。導電膜３５のシート抵抗が１×１０^９Ω／□以下とされることで、導電膜３５による帯電防止機能が適切に発揮され、帯電ムラが長時間残存することに起因する表示不良を生じ難くすることができる。導電膜３５の屈折率が１．８以下とされることで、対向基板２０のガラス基板２０ＧＳとの間に生じる屈折率の差が十分に緩和され、反射光量の低減を図る上で好適となる。導電膜３５の屈折率が１．５以上とされることで、導電膜３５に用いる絶縁樹脂材料３５Ａの種類を選択する上で十分な自由度が得られる。

以上説明したように本実施形態の液晶パネル（表示装置）１１は、第１主面（一方の主面）２０Ａが表示面１１ＤＳとされる対向基板（第１基板）２０と、対向基板２０のうち表示面１１ＤＳとは反対側の第２主面（他方の主面）２０Ｂと対向して配されるアレイ基板（第２基板）２１と、対向基板２０における第２主面２０Ｂに設けられる導電膜３５と、を備え、対向基板２０は、表示面１１ＤＳが、画像が表示される表示領域ＡＡと、画像が非表示とされる非表示領域ＮＡＡと、に区分され、導電膜３５は、少なくとも表示領域ＡＡに対して重畳して配されていて、透光性を有する合成樹脂材料を含む。

対向基板２０に導電膜３５が設けられることで、第１主面２０Ａが表示面１１ＤＳとされる対向基板２０に帯電を生じ難くすることができる。導電膜３５は、対向基板２０における第２主面２０Ｂに設けられているので、仮に第１主面２０Ａに設けた場合に比べると、使用する材料等に係る自由度が高くなっている。そして、導電膜３５は、透光性を有する合成樹脂材料を含んでいるので、ＩＺＴＯ（Indium Zinc Tin Oxide）のような透明電極材料のみを用いた場合に比べると、屈折率を容易に低くすることが可能となっている。従って、導電膜３５と対向基板２０との間の屈折率の差を緩和することができ、導電膜３５と対向基板２０との間の界面での反射光の発生を抑制することができる。これにより、導電膜３５に対して重畳する関係の表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位の向上を図ることができる。

また、導電膜３５は、シート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲とされる。導電膜３５のシート抵抗が１×１０^７Ω／□以上とされているので、導電膜３５による電界遮蔽を抑制することができる。これにより、当該液晶パネル１１において電界遮蔽に起因する機能低下が生じ難くなる。導電膜３５のシート抵抗が１×１０^９Ω／□以下とされているので、導電膜３５による帯電防止機能を十分に発揮することができる。

また、アレイ基板２１には、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成するタッチ電極（位置検出電極）２９と、タッチ電極２９に接続されて位置検出信号を伝送するタッチ配線（位置検出配線）３０と、が設けられている。導電膜３５のシート抵抗が１０^７Ω／□以上とされているので、入力位置の検出に際してタッチ電極２９から生じる電界が導電膜３５によって遮蔽され難くなっている。これにより、タッチ配線３０によって伝送される位置検出信号に係る信号強度が低下し難くなるので、位置検出感度が良好に保たれる。

また、対向基板２０は、ガラス材料からなり、導電膜３５は、屈折率が１．５～１．８の範囲とされる。ガラス材料からなる対向基板２０の屈折率は、概ね１．５程度となる。これに対し、導電膜３５の屈折率が１．８以下とされているので、対向基板２０との間に生じる屈折率の差が十分に緩和され、反射光量の低減を図る上で好適となる。また、導電膜３５の屈折率が１．５以上とされているので、導電膜３５に用いる合成樹脂材料の種類を選択する上で十分な自由度が得られる。

また、対向基板２０とアレイ基板２１との外周端部間に設けられる枠状のシール部２３と、アレイ基板２１においてシール部２３の内側に位置して設けられていてグランド電位とされるグランド電極（電極）３９と、対向基板２０とアレイ基板２１との間に設けられていてシール部２３の内側に位置していて導電膜３５とグランド電極３９とに接続される接続部３６と、を備え、導電膜３５は、シール部２３の内側に位置して設けられる。導電膜３５は、接続部３６を介してグランド電極３９に接続されることで、グランド電位に保たれる。導電膜３５、接続部３６及びグランド電極３９がいずれも枠状のシール部２３の内側に配されているから、導電膜３５に対してシール部２３の外部に存在する水分が浸入し難くなる。

また、導電膜３５は、合成樹脂材料として絶縁性樹脂材料３５Ａを有し、絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤を含有させてなる。絶縁性樹脂材料３５Ａの種類を選択することで、導電膜３５の屈折率を調整することができるので、導電膜３５と対向基板２０との間の屈折率の差を緩和する上で好適となる。導電剤の種類や含有量を選択することで、導電膜３５のシート抵抗を調整することができるので、導電膜３５による電界遮蔽に起因する機能低下を生じ難くしたり、帯電防止機能を発揮させたりする上で好適となる。

また、導電膜３５は、導電剤としてカーボンナノチューブ３５Ｂを有する。導電剤としてカーボンナノチューブ３５Ｂを絶縁性樹脂材料３５Ａに含有させているので、カーボンナノチューブ３５Ｂの含有に起因して導電膜３５の屈折率が高くなり難い。これにより、導電膜３５の屈折率を低く保ちつつ、導電膜３５のシート抵抗を十分に低下させることができる。

また、導電膜３５は、導電剤としてＩｎ（インジウム）を含む透明電極材料３５Ｃを有する。導電剤としてＩｎを含む透明電極材料３５Ｃを絶縁性樹脂材料３５Ａに含有させているので、導電膜３５の光透過率を高く保つことができる。

＜実施形態２＞
実施形態２を図１４によって説明する。この実施形態２では、導電膜１３５の配置を変更した場合を示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係る導電膜１３５は、図１４に示すように、対向基板１２０の第２主面１２０Ｂ上において、カラーフィルタ１３３の上層側に位置して配されている。導電膜１３５は、遮光部１３４に対しても上層側に位置する。本実施形態では、導電膜１３５と接続部１３６との間に遮光部１３４が介在しない位置関係となるため、遮光部１３４のうち、接続部１３６と重畳する位置には、実施形態１にて説明したような開口部３４Ａ（図４を参照）が非形成とされる。これにより、非表示領域ＮＡＡにおいて遮光部１３４による遮光性能が十分に発揮され、表示品位の向上を図る上でより好適となる。

＜実施形態３＞
実施形態３を図１５によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１から導電膜２３５の構成を変更した場合を示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係る導電膜２３５は、図１５に示すように、合成樹脂材料として導電性高分子材料２３５Ｄを有する。導電性高分子材料２３５Ｄは、導電剤を含有しなくても導電性を発現する特性を有する。導電性高分子材料２３５Ｄとしては、例えばポリアセチレン系樹脂材料、ポリチオフェン系樹脂材料等を用いることができる。本実施形態によれば、実施形態１のように導電膜３５が絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤を含有させてなる場合（図７及び図８を参照）に比べると、導電膜２３５に導電剤を含有させる必要がない。従って、導電膜２３５の屈折率を低く保つことができるとともに、導電膜２３５の光透過率を高く保つことができる。

以上説明したように本実施形態によれば、導電膜２３５は、合成樹脂材料として導電性高分子材料２３５Ｄを有する。このようにすれば、仮に、導電膜３５が絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤を含有させてなる場合（図７及び図８を参照）に比べると、導電膜２３５に導電剤を含有させる必要がないので、導電膜２３５の屈折率を低く保つことができるとともに、導電膜２３５の光透過率を高く保つことができる。

＜実施形態４＞
実施形態４を図１６によって説明する。この実施形態４では、上記した実施形態１から導電膜３３５の配置等を変更した場合を示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係る導電膜３３５は、図１６に示すように、対向基板３２０における第１主面３２０（表示面３１１ＤＳ）に設けられている。導電膜３３５は、対向基板３２０の第１主面３２０と表側の偏光板３１５との間に介在する配置とされる。導電膜３３５は、表示面３１１ＤＳのうちの表示領域ＡＡの全域に加えて、非表示領域ＮＡＡのうちの内周側部分に対して重畳して配されている。アレイ基板３２１の露出部３２１Ａには、グランド電位に保たれる接続電極３７が設けられている。接続電極３７は、ゲート配線２６やソース配線２７を構成する金属膜からなる。接続電極３７には、ドライバ１２またはフレキシブル基板３１３のグランド電位と接続されている。接続電極３７は、露出部３２１ＡにおいてＹ軸方向についてフレキシブル基板３１３よりも対向基板３２０に近い位置に配されている。対向基板３２０及びアレイ基板３２１の露出部３２１Ａには、両者３２０，３２１Ａに跨がる形で導電ペースト部（接続部材）３８が設けられている。導電ペースト部３８は、対向基板３２０の第１主面３２０上に配されて導電膜３３５に接続される部分（第１接続部）と、アレイ基板３２１の露出部３２１Ａ上に配されて接続電極３７に接続される部分（第２接続部）と、を有する。導電ペースト部３８は、銀ペーストなどの金属材料を含む導電ペーストからなり、形成時における形状自由度が高くなっている。従って、導電ペースト部３８は、導電膜３３５と接続電極３７との間に存在する対向基板３２０の厚み分の段差を容易に超えることができ、接続信頼性が優れたものとなっている。

導電膜３３５は、実施形態１と同様に、絶縁性樹脂材料３５Ａに導電剤を含有させた構成とされる（図７及び図８を参照）。導電膜３３５には、絶縁性樹脂材料３５Ａとしてオレフィン系樹脂材料やポリエステル樹脂材料等が用いられる。オレフィン系樹脂材料やポリエステル樹脂材料の屈折率は、実施形態１にて説明した通りである。導電膜３３５には、導電剤として、カーボンナノチューブ３５Ｂや透明電極材料３５Ｃが用いられる。カーボンナノチューブ３５Ｂや透明電極材料３５Ｃは、実施形態１にて説明した通りである。

導電膜３３５は、実施形態１と同様に、シート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲とされ、屈折率が１．５～１．８の範囲（より好ましくは１．５～１．７の範囲）とされる。導電膜３３５のシート抵抗が１×１０^７Ω／□以上とされることで、導電膜３３５によってタッチ電極２９からの電界が遮蔽され難くすることができて、タッチパネル機能が損なわれる事態を生じ難くすることができる。導電膜３３５のシート抵抗が１×１０^９Ω／□以下とされることで、導電膜３３５による帯電防止機能が適切に発揮され、帯電ムラが長時間残存することに起因する表示不良を生じ難くすることができる。導電膜３３５の屈折率が１．８以下とされることで、対向基板３２０のガラス基板３２０ＧＳとの間に生じる屈折率の差が十分に緩和され、反射光量の低減を図る上で好適となる。導電膜３３５の屈折率が１．５以上とされることで、導電膜３３５に用いる絶縁樹脂材料３５Ａの種類を選択する上で十分な自由度が得られる。

以上説明したように本実施形態の液晶パネル３１１は、第１主面３２０Ａが表示面３１１ＤＳとされる対向基板３２０と、対向基板３２０のうち表示面３１１ＤＳとは反対側の第２主面３２０Ｂと対向して配されるアレイ基板３２１と、対向基板３２０における第１主面３２０Ａと第２主面３２０Ｂとのうちの少なくとも一方に設けられる導電膜３３５と、を備え、対向基板３２０は、表示面３１１ＤＳが、画像が表示される表示領域ＡＡと、画像が非表示とされる非表示領域ＮＡＡと、に区分され、対向基板３２０は、ガラス材料からなり、導電膜３３５は、少なくとも表示領域ＡＡに対して重畳して配されていて、透光性を有し、シート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲とされ、屈折率が１．５～１．８の範囲とされる。

対向基板３２０に導電膜３３５が設けられることで、第１主面３２０Ａが表示面３１１ＤＳとされる対向基板３２０に帯電を生じ難くすることができる。ここで、ガラス材料からなる対向基板３２０の屈折率は、概ね１．５程度となる。これに対し、導電膜３３５の屈折率が１．８以下とされているので、対向基板３２０との間に生じる屈折率の差が十分に緩和される。これにより、導電膜３３５と対向基板３２０との間の界面での反射光の発生を抑制することができるので、導電膜３３５に対して重畳する関係の表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位の向上を図ることができる。また、導電膜３３５の屈折率が１．５以上とされているので、導電膜３３５に用いる材料を選択する上で十分な自由度が得られる。そして、導電膜３３５のシート抵抗が１×１０^７Ω／□以上とされているので、導電膜３３５による電界遮蔽を抑制することができる。これにより、当該液晶パネル３１１において電界遮蔽に起因する機能低下が生じ難くなる。導電膜３３５のシート抵抗が１×１０^９Ω／□以下とされているので、導電膜３３５による帯電防止機能を十分に発揮することができる。

＜他の実施形態＞
本明細書が開示する技術は、上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されず、例えば次のような実施形態も技術的範囲に含まれる。

（１）導電膜３５，１３５，２３５，３３５は、シート抵抗が１×１０^７Ω／□より低くてもよい。また、導電膜３５，１３５，２３５，３３５は、シート抵抗が１×１０^９Ω／□より高くてもよい。

（２）導電膜３５，１３５，２３５，３３５は、屈折率が１．５より低くてもよい。導電膜３５，１３５，２３５，３３５は、屈折率が１．８より高くてもよい。

（３）対向基板２０，１２０，３２０のガラス基板２０ＧＳ，３２０ＧＳにおけるガラス材料として、屈折率が１．５２以外の数値となるガラス材料を用いることも可能である。その場合、導電膜３５，１３５，２３５，３３５の屈折率における好ましい数値範囲を「１．５～１．８」以外に変更することが可能である。

（４）実施形態１～３に記載された構成において、導電膜３５，１３５，２３５は、遮光部３４の上層側でカラーフィルタ３３の下層側に位置するよう配されてもよい。

（５）実施形態１～３に記載された構成において、液晶パネル１１における接続部３６，１３６の設置数や平面配置や平面に視た形成範囲（平面形状）は、図示以外にも適宜に変更可能である。

（６）実施形態１～３に記載された構成において、接続部３６，１３６の基材３６Ａに用いる材料は、シール部２３の材料とは異なっていてもよい。

（７）実施形態１，２，４に記載された構成において、導電膜３５，１３５，３３５を構成する絶縁樹脂材料３５Ａの具体的な種類は、上記以外にも適宜に変更可能である。

（８）実施形態１，２，４に記載された構成において、導電膜３５，１３５，３３５に含ませる導電剤は、上記以外にも適宜に変更可能であり、例えばＺｎＯ結晶、粒状カーボン、金属粒子等でもよい。

（９）実施形態３に記載された構成において、導電膜２３５を構成する導電性高分子材料２３５Ｄの具体的な種類は、上記以外にも適宜に変更可能である。

（１０）実施形態４に記載された構成において、導電膜３３５は、表示面３１１ＤＳの全域にわたって配され、表示領域ＡＡの全域と非表示領域ＮＡＡの全域とに重畳して配されてもよい。

（１１）実施形態３に記載された構成（導電性高分子２３５Ｄからなる導電膜２３５）を、実施形態４に記載された構成に適用することも可能である。

（１２）対向基板２０，１２０，３２０には、平坦化のためのオーバーコート膜が設けられてもよい。オーバーコート膜は、例えばカラーフィルタ３３の上層側に位置して配することができる。実施形態１～３に記載された構成においては、導電膜３５，１３５，２３５は、オーバーコート膜とカラーフィルタ３３との間に配されてもよいが、オーバーコート膜の上層側に位置するよう配されてもよい。

（１３）アレイ基板２１，３２１が表側に位置し、対向基板２０，１２０，３２０が裏側（バックライト装置側）に位置する構成の液晶パネル１１，３１１でもよい。その場合、アレイ基板２１，３２１が表示面を有することになるので、アレイ基板２１，３２１に導電膜３５，１３５，２３５，３３５を設ければよい。

（１４）カラーフィルタ３３は、アレイ基板２１，３２１に設けられてもよい。つまり、液晶パネル１１，３１１は、ＣＯＡ（Color Filter On Array）構造であってもよい。

（１５）カラーフィルタ３３の色数は、４色以上でもよい。追加するカラーフィルタ３３は、黄色を呈する黄色カラーフィルタや全波長領域の光を透過する透明カラーフィルタ等であってもよい。

（１６）画素電極２５と共通電極２８とのうちの上層側に位置する電極である「上層電極」が共通電極２８となり、下層側に位置する電極である「下層電極」が画素電極２５となっていてもよい。この場合、「上層電極」である共通電極２８にスリットが設けられる。

（１７）タッチパネルパターンは、自己容量方式以外にも相互容量方式であってもよい。

（１８）タッチパネルパターン（タッチパネル機能）を有さない液晶パネル１１，３１１でもよい。この場合、共通電極２８が非分割構造とされ、タッチ電極２９が非形成となり、またタッチ配線３０が非形成とされる。

（１９）液晶パネル１１，３１１の表示モードは、ＦＦＳモード以外にもＶＡモード、ＩＰＳモード等でもよい。

（２０）液晶パネル１１，３１１は、透過型以外にも反射型や半透過型であってもよい。液晶パネル１１，３１１を反射型とした場合は、バックライト装置を省略できる。

（２１）液晶パネル１１，３１１以外の表示パネル（有機ＥＬ表示パネル等）でもよい。

１１，３１１…液晶パネル（表示装置）、１１ＤＳ，３１１ＤＳ…表示面、２０，１２０，３２０…対向基板（第１基板）、２０Ａ，３２０Ａ…第１主面（一方の主面）、２０Ｂ…第２主面（他方の主面）、２１，３２１…アレイ基板（第２基板）、２３…シール部、２９…タッチ電極（位置検出電極）、３０…タッチ配線（位置検出配線）３５，１３５，２３５，３３５…、導電膜、３５Ａ…絶縁性樹脂材料、３５Ｂ…カーボンナノチューブ、３５Ｃ…透明電極材料、３６，１３６…接続部、３９…グランド電極（電極）、２３５Ｄ…導電性高分子、ＡＡ…表示領域、ＮＡＡ…非表示領域

Claims (7)

1. 一方の主面が表示面とされる第１基板と、
   前記第１基板のうち前記表示面とは反対側の他方の主面と対向して配される第２基板と、
   前記第１基板における前記他方の主面に設けられる導電膜と、を備え、
   前記第１基板は、前記表示面が、画像が表示される表示領域と、前記画像が非表示とされる非表示領域と、に区分され、
   前記導電膜は、少なくとも前記表示領域に対して重畳して配されていて、透光性を有する合成樹脂材料を含み、
   前記導電膜は、シート抵抗が１×１０^７Ω／□～１×１０^９Ω／□の範囲とされ、
   前記第２基板には、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成する位置検出電極と、前記位置検出電極に接続されて位置検出信号を伝送する位置検出配線と、が設けられている表示装置。
2. 一方の主面が表示面とされる第１基板と、
   前記第１基板のうち前記表示面とは反対側の他方の主面と対向して配される第２基板と、
   前記第１基板における前記他方の主面に設けられる導電膜と、を備え、
   前記第１基板は、前記表示面が、画像が表示される表示領域と、前記画像が非表示とされる非表示領域と、に区分され、
   前記導電膜は、少なくとも前記表示領域に対して重畳して配されていて、透光性を有する合成樹脂材料を含み、
   前記第１基板と前記第２基板との外周端部間に設けられる枠状のシール部と、
   前記第２基板において前記シール部の内側に位置して設けられていてグランド電位とされる電極と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に設けられていて前記シール部の内側に位置していて前記導電膜と前記電極とに接続される接続部と、を備え、
   前記導電膜は、前記シール部の内側に位置して設けられる表示装置。
3. 前記第１基板は、ガラス材料からなり、
   前記導電膜は、屈折率が１．５～１．８の範囲とされる請求項１または請求項２に記載の表示装置。
4. 前記導電膜は、前記合成樹脂材料として絶縁性樹脂材料を有し、前記絶縁性樹脂材料に導電剤を含有させてなる請求項１または請求項２に記載の表示装置。
5. 前記導電膜は、前記導電剤としてカーボンナノチューブを有する請求項４記載の表示装置。
6. 前記導電膜は、前記導電剤としてＩｎ（インジウム）を含む透明電極材料を有する請求項４記載の表示装置。
7. 前記導電膜は、前記合成樹脂材料として導電性高分子材料を有する請求項１または請求項２に記載の表示装置。