JP7728877B2 - 製造システムコントローラの更新プロセス中の入出力(io)ハンドリング - Google Patents
製造システムコントローラの更新プロセス中の入出力(io)ハンドリングInfo
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Description
Claims (20)
- システムコントローラの入出力(IO)ドライバによって、プロセスチャンバの1つ以上の構成要素と前記システムコントローラの基板プロセスIOハンドラとの間で、通知の第1のセットを送信することであって、通知の前記第1のセットのうちの1つ以上の通知により、前記基板プロセスIOハンドラが、前記プロセスチャンバにおける基板プロセス中に、プロセスレシピに対応する基板プロセス制御命令のセットを実行する、通知の第1のセットを送信することと、
基板プロセス制御命令の前記セットが更新されることになったと判定することと、
前記基板プロセスが前記プロセスチャンバにおいて終了したことを検出することと、
前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記システムコントローラのシステム更新IOハンドラとの間で、通知の第2のセットを送信することであって、通知の前記第2のセットのうちの少なくとも第1の通知により、前記システム更新IOハンドラが、基板プロセス制御命令の前記セットが更新される間、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素に、前記プロセスチャンバの環境を目標状態に維持させるように構成されたコマンドを含むシステム更新制御命令のセットを実行し、通知の前記第2のセットのうちの少なくとも第2の通知は、基板プロセス制御命令の前記セットが更新される間、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素によって生成されたセンサデータを含む、通知の第2のセットを送信することと、
を含む方法。 - 前記基板プロセス制御命令の前記更新が完了したと判定することと、
前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記基板プロセスIOハンドラとの間で、基板プロセス制御命令の前記セットに関連付けられた1つ以上の操作に対応する通知の第3のセットを送信することと、
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記基板プロセスが前記プロセスチャンバにおいて終了したことを検出することに応答して、前記基板プロセス制御命令の前記更新の開始前の前記プロセスチャンバの第1の状態を取得することと、
前記基板プロセス制御命令の前記更新が完了したと判定することに応答して、前記基板プロセス制御命令の前記更新の完了後の前記プロセスチャンバの第2の状態を取得することと、
をさらに含み、
前記プロセスチャンバの前記第2の状態が前記プロセスチャンバの前記第1の状態を考慮して状態基準を満たしているという判定に応答して、通知の前記第3のセットが、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記基板プロセスIOハンドラとの間で送信される、請求項2に記載の方法。 - 前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記システム更新IOハンドラとの間で通知の前記第2のセットを送信することが、
前記システム更新IOハンドラから、通知の前記第2のセットのうちの前記第1の通知を受信することであって、前記第1の通知は、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素のうちの第1の構成要素に前記プロセスチャンバの前記環境を前記目標状態に維持させることに関連付けられたコマンドを含む、第1の通知を受信することと、
前記システムコントローラのIOデバイスを介して、前記第1の通知を前記第1の構成要素に送信することと、
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記プロセスチャンバの1つ以上の構成要素のうちの第2の構成要素から、前記システムコントローラの前記IOデバイスを介して、通知の前記第2のセットのうちの前記第2の通知を受信することであって、前記第2の通知は、前記第2の構成要素によって生成されたセンサデータを含み、前記センサデータは、前記プロセスチャンバの前記環境に関連付けられている、第2の通知を受信することと、
前記第2の通知の前記センサデータを前記システムコントローラの前記システム更新IOハンドラに送信することと、
を含む、請求項4に記載の方法。 - システム更新制御命令の前記セットは、基板プロセス制御命令の前記セットのサブセットである、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素は、温度制御構成要素、圧力制御構成要素、湿度制御構成要素のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載の方法。
- メモリと、
前記メモリに結合された処理デバイスと、
を備えるシステムであって、前記処理デバイスは、
システムコントローラの入出力(IO)ドライバによって、プロセスチャンバの1つ以上の構成要素と前記システムコントローラの基板プロセスIOハンドラとの間で、通知の第1のセットを送信することであって、通知の前記第1のセットのうちの1つ以上の通知により、前記基板プロセスIOハンドラが、前記プロセスチャンバにおける基板プロセス中に、プロセスレシピに対応する基板プロセス制御命令のセットを実行する、通知の第1のセットを送信することと、
基板プロセス制御命令の前記セットが更新されることになったと判定することと、
前記基板プロセスが前記プロセスチャンバにおいて終了したことを検出することと、
前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記システムコントローラのシステム更新IOハンドラとの間で、通知の第2のセットを送信することであって、通知の前記第2のセットのうちの少なくとも第1の通知により、前記システム更新IOハンドラが、基板プロセス制御命令の前記セットが更新される間、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素に、前記プロセスチャンバの環境を目標状態に維持させるように構成されたコマンドを含むシステム更新制御命令のセットを実行し、通知の前記第2のセットの少なくとも第2の通知は、基板プロセス制御命令の前記セットが更新される間、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素によって生成されたセンサデータを含む、通知の第2のセットを送信することと、
を含む操作を実行するためのものである、システム。 - 前記操作は、
前記基板プロセス制御命令の前記更新が完了したと判定することと、
前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記基板プロセスIOハンドラとの間で、基板プロセス制御命令の前記セットに関連付けられた1つ以上の操作に対応する通知の第3のセットを送信することと、
をさらに含む、請求項8に記載のシステム。 - 前記操作は、
前記基板プロセスが前記プロセスチャンバにおいて終了したことを検出することに応答して、前記基板プロセス制御命令の前記更新の開始前の前記プロセスチャンバの第1の状態を取得することと、
前記基板プロセス制御命令の前記更新が完了したと判定することに応答して、前記基板プロセス制御命令の前記更新の完了後の前記プロセスチャンバの第2の状態を取得することと、
をさらに含み、
前記プロセスチャンバの前記第2の状態が前記プロセスチャンバの前記第1の状態を考慮して状態基準を満たしているという判定に応答して、通知の前記第3のセットが、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記基板プロセスIOハンドラとの間で送信される、請求項9に記載のシステム。 - 前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記システム更新IOハンドラとの間で通知の前記第2のセットを送信するために、前記処理デバイスは、
前記システム更新IOハンドラから、通知の前記第2のセットのうちの前記第1の通知を受信することであって、前記第1の通知は、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素のうちの第1の構成要素に前記プロセスチャンバの前記環境を前記目標状態に維持させることに関連付けられたコマンドを含む、第1の通知を受信することと、
前記システムコントローラのIOデバイスを介して、前記第1の通知を前記第1の構成要素に送信することと、
を含む操作を実行するためのものである、請求項8に記載のシステム。 - 前記操作は、
前記プロセスチャンバの1つ以上の構成要素のうちの第2の構成要素から、前記システムコントローラの前記IOデバイスを介して、通知の前記第2のセットのうちの前記第2の通知を受信することであって、前記第2の通知は、前記第2の構成要素によって生成されたセンサデータを含み、前記センサデータは、前記プロセスチャンバの前記環境に関連付けられている、第2の通知を受信することと、
前記第2の通知の前記センサデータを前記システムコントローラの前記システム更新IOハンドラに送信することと、
を含む、請求項11に記載のシステム。 - システム更新制御命令の前記セットは、前記基板プロセス制御命令のサブセットである、請求項8に記載のシステム。
- 命令を備える非一時的なコンピュータ可読記憶媒体であって、前記命令は、処理デバイスによって実行されると、前記処理デバイスに、
システムコントローラの入出力(IO)ドライバによって、プロセスチャンバの1つ以上の構成要素と前記システムコントローラの基板プロセスIOハンドラとの間で、通知の第1のセットを送信することであって、通知の前記第1のセットのうちの1つ以上の通知により、前記基板プロセスIOハンドラが、前記プロセスチャンバにおける基板プロセス中に、プロセスレシピに対応する基板プロセス制御命令のセットを実行する、通知の第1のセットを送信することと、
基板プロセス制御命令の前記セットが更新されることになったと判定することと、
前記基板プロセスが前記プロセスチャンバにおいて終了したことを検出することと、
前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記システムコントローラのシステム更新IOハンドラとの間で、通知の第2のセットを送信することであって、通知の前記第2のセットのうちの少なくとも第1の通知により、前記システム更新IOハンドラが、基板プロセス制御命令の前記セットが更新される間、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素に、前記プロセスチャンバの環境を目標状態に維持させるように構成されたコマンドを含むシステム更新制御命令のセットを実行し、通知の前記第2のセットのうちの少なくとも第2の通知は、基板プロセス制御命令の前記セットが更新される間、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素のうちの少なくとも1つの構成要素によって生成されたセンサデータを含む、通知の第2のセットを送信することと、
を含む操作を実行させる、非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。 - 前記操作は、
前記基板プロセス制御命令の前記更新が完了したと判定することと、
前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記基板プロセスIOハンドラとの間で、基板プロセス制御命令の前記セットに関連付けられた1つ以上の操作に対応する通知の第3のセットを送信することと、
をさらに含む、請求項14に記載の非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。 - 前記操作は、
前記基板プロセスが前記プロセスチャンバにおいて終了したことを検出することに応答して、前記基板プロセス制御命令の前記更新の開始前の前記プロセスチャンバの第1の状態を取得することと、
前記基板プロセス制御命令の前記更新が完了したと判定することに応答して、前記基板プロセス制御命令の前記更新の完了後の前記プロセスチャンバの第2の状態を取得することと、
をさらに含み、
前記プロセスチャンバの前記第2の状態が前記プロセスチャンバの前記第1の状態を考慮して状態基準を満たしているという判定に応答して、通知の前記第3のセットが、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記基板プロセスIOハンドラとの間で送信される、請求項15に記載の非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。 - 前記操作は、
前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素と前記システム更新IOハンドラとの間で通知の前記第2のセットを送信するために、前記処理デバイスに、
前記システム更新IOハンドラから、通知の前記第2のセットのうちの前記第1の通知を受信することであって、前記第1の通知は、前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素のうちの第1の構成要素に前記プロセスチャンバの前記環境を前記目標状態に維持させることに関連付けられたコマンドを含む、第1の通知を受信することと、
前記システムコントローラのIOデバイスを介して、前記第1の通知を前記第1の構成要素に送信することと、
を含む操作を実行させるためのものである、請求項14に記載の非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。 - 前記操作は、
前記プロセスチャンバの1つ以上の構成要素のうちの第2の構成要素から、前記システムコントローラの前記IOデバイスを介して、通知の前記第2のセットのうちの前記第2の通知を受信することであって、前記第2の通知は、前記第2の構成要素によって生成されたセンサデータを含み、前記センサデータは、前記プロセスチャンバの前記環境に関連付けられている、第2の通知を受信することと、
前記第2の通知の前記センサデータを前記システムコントローラの前記システム更新IOハンドラに送信することと、
を含む、請求項17に記載の非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。 - システム更新制御命令の前記セットは、基板プロセス制御命令の前記セットのサブセットである、請求項14に記載の非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。
- 前記プロセスチャンバの前記1つ以上の構成要素は、温度制御構成要素、圧力制御構成要素、湿度制御構成要素のうちの少なくとも1つを含む、請求項14に記載の非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。
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|---|---|---|---|---|
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006269842A (ja) | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体製造設備の制御装置および制御方法 |
| JP2008078630A (ja) | 2006-08-24 | 2008-04-03 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理システム |
| JP2009158626A (ja) | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Tokyo Electron Ltd | 処理システム、処理システムの制御方法およびソフトウェアのバージョンアップ方法 |
| US20120101761A1 (en) | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Test method and apparatus for a device under test |
| JP2020053506A (ja) | 2018-09-26 | 2020-04-02 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体。 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7672747B2 (en) * | 2000-03-30 | 2010-03-02 | Lam Research Corporation | Recipe-and-component control module and methods thereof |
| WO2005054968A1 (en) | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Tokyo Electron Limited | Intelligent system for detection of process status, process fault and preventive maintenance |
| US20080051930A1 (en) * | 2006-07-10 | 2008-02-28 | Oh Hilario L | Scheduling method for processing equipment |
| KR20080017811A (ko) | 2006-08-22 | 2008-02-27 | (주)제모스코리아 | 반도체 경화공정 관리장치 및 방법 |
| US10269601B2 (en) * | 2015-10-20 | 2019-04-23 | Applied Materials, Inc. | Chamber leak and gas contaimination detection |
| US20180074813A1 (en) * | 2016-09-14 | 2018-03-15 | General Motors Llc | Installing vehicle updates |
| JP7114872B2 (ja) * | 2017-10-10 | 2022-08-09 | ブラザー工業株式会社 | 液体排出装置 |
| US10861722B2 (en) * | 2018-11-13 | 2020-12-08 | Applied Materials, Inc. | Integrated semiconductor processing |
| JP6973956B2 (ja) | 2019-07-04 | 2021-12-01 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラムおよび記録媒体 |
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| JP7482052B2 (ja) * | 2021-01-19 | 2024-05-13 | 株式会社日立産機システム | 気体圧縮機システムのプログラム更新方法 |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006269842A (ja) | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体製造設備の制御装置および制御方法 |
| JP2008078630A (ja) | 2006-08-24 | 2008-04-03 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理システム |
| JP2009158626A (ja) | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Tokyo Electron Ltd | 処理システム、処理システムの制御方法およびソフトウェアのバージョンアップ方法 |
| US20120101761A1 (en) | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Test method and apparatus for a device under test |
| JP2020053506A (ja) | 2018-09-26 | 2020-04-02 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体。 |
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