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JP7729360B2 - adhesive composition - Google Patents
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JP7729360B2 - adhesive composition - Google Patents

adhesive composition

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JP7729360B2 JP2023101582A JP2023101582A JP7729360B2 JP 7729360 B2 JP7729360 B2 JP 7729360B2 JP 2023101582 A JP2023101582 A JP 2023101582A JP 2023101582 A JP2023101582 A JP 2023101582A JP 7729360 B2 JP7729360 B2 JP 7729360B2
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Description

本発明は、接着剤組成物及びフィルム状接着剤組成物に関する。 The present invention relates to an adhesive composition and a film-like adhesive composition.

近年、半導体、液晶ディスプレイ等の分野において、電子部品の固定、回路の接続等のために各種接着剤が使用されている。これらの用途では、ますます高密度化及び高精細化が進み、接着剤にも高い接着力及び信頼性が求められている。 In recent years, various adhesives have been used in fields such as semiconductors and liquid crystal displays to secure electronic components and connect circuits. These applications have become increasingly dense and precise, requiring adhesives with high adhesive strength and reliability.

特に、液晶ディスプレイとTCP(Tape Carrier Package)との接続、FPC(Flexible Printed Circuit)とTCPとの接続、又は、FPCとプリント配線板との接続には、接着剤中に導電性粒子を分散させた異方導電性接着剤が回路接続材料として使用されている。また、最近では、半導体シリコンチップを基板に実装する場合でも、従来のワイヤーボンドではなく、半導体シリコンチップを基板に直接実装する、いわゆるCOG(Chip On Glass)が行われており、ここでも異方導電性接着剤が使用されている。 In particular, anisotropic conductive adhesives, which have conductive particles dispersed in the adhesive, are used as circuit connection materials for connecting liquid crystal displays and TCPs (Tape Carrier Packages), FPCs (Flexible Printed Circuits) and TCPs, or FPCs and printed wiring boards. Furthermore, recently, even when mounting semiconductor silicon chips to substrates, rather than using the conventional wire bonding method, a method known as COG (Chip On Glass) is being used in which the semiconductor silicon chip is directly mounted to the substrate, and anisotropic conductive adhesives are also used here.

また、近年、精密電子機器の分野では、回路の高密度化が進んでおり、電極幅及び電極間隔が極めて狭くなっている。このため、従来のエポキシ樹脂を用いた回路接続用接着剤の接続条件では、回路(配線)の脱落、剥離、位置ずれ等が生じるという問題があり、COGでは、チップと基板との熱膨張差に起因する反りが発生するという問題がある。さらに、低コスト化のためにはスループットを向上させる必要があり、比較的低温(例えば150~170℃)かつ短時間(例えば10秒以内)で硬化可能な接着剤(低温速硬化可能な接着剤)が要求されている。 Furthermore, in recent years, the field of precision electronic devices has seen an increase in circuit density, resulting in extremely narrow electrode widths and electrode spacing. For this reason, the connection conditions for conventional circuit connection adhesives using epoxy resins can lead to problems such as circuit (wiring) falling off, peeling, and misalignment, while COG can cause warping due to differences in thermal expansion between the chip and the substrate. Furthermore, improving throughput is necessary to reduce costs, and there is a demand for adhesives that can be cured at relatively low temperatures (e.g., 150-170°C) and in a short time (e.g., within 10 seconds) (low-temperature, fast-curing adhesives).

このような要求に対して、例えば、所定の構造を有するスルホニウムカチオンを含むオニウム塩を重合開始剤として接着剤に用いることが知られている(下記特許文献1及び2参照)。 To meet these demands, it is known to use, for example, onium salts containing sulfonium cations with specific structures as polymerization initiators in adhesives (see Patent Documents 1 and 2 below).

特許第2706833号公報Patent No. 2706833 特開平6-345726号公報Japanese Patent Application Publication No. 6-345726

しかしながら、特許文献1及び2に記載の重合開始剤を用いた場合、40~60℃程度の温度でも重合が開始することがあり、保存中に接着剤の硬化が進行するおそれがある。一方、特許文献1及び2に記載の重合開始剤より反応性の低い重合開始剤(例えばヨードニウム塩化合物)を用いた場合、保存安定性は確保されるものの、比較的低温(例えば150~170℃)かつ短時間(例えば10秒以内)で接着剤を硬化させることは困難である。 However, when the polymerization initiators described in Patent Documents 1 and 2 are used, polymerization may begin even at temperatures of around 40 to 60°C, which could lead to the adhesive curing progressing during storage. On the other hand, when a polymerization initiator with lower reactivity than the polymerization initiators described in Patent Documents 1 and 2 (such as an iodonium salt compound) is used, storage stability is ensured, but it is difficult to cure the adhesive at a relatively low temperature (e.g., 150 to 170°C) in a short time (e.g., within 10 seconds).

そこで、本発明は、保存安定性に優れ、比較的低温(例えば150~170℃)かつ短時間(例えば10秒以内)で硬化可能な接着剤組成物及びフィルム状接着剤組成物を提供することを目的とする。 The present invention therefore aims to provide an adhesive composition and a film-like adhesive composition that have excellent storage stability and can be cured at relatively low temperatures (e.g., 150 to 170°C) in a short time (e.g., within 10 seconds).

上記目的を達成するために本発明者らは種々検討する中で、所定の窒素オニウムカチオン及び対アニオンを含むオニウム塩を用いることで、保存安定性と、比較的低温かつ短時間における硬化性とを両立できることを見出し、本発明を完成させた。 In order to achieve the above objective, the inventors conducted extensive research and discovered that by using an onium salt containing a specific nitrogen onium cation and counter anion, it is possible to achieve both storage stability and curing ability at relatively low temperatures in a short period of time, thereby completing the present invention.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表されるオニウム塩と、カチオン重合性物質と、を含有する、接着剤組成物を提供する。

[式(1)中、R、R、R及びRは、各々独立に、水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアルケニル基、置換若しくは未置換の複素環基、置換若しくは未置換のアルコキシル基、置換若しくは未置換のアリールオキシ基、又は、置換若しくは未置換の複素環オキシ基を表し、R、R、R及びRは、互いに結合して環構造を形成していてもよく、Xは、SbF 、PF 、B(C 、Ga(C 、Ga(C 、Ga(C)F 又はC(CFSO を表す。]
That is, the present invention provides an adhesive composition containing an onium salt represented by the following general formula (1) and a cationically polymerizable substance.

[In formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group; R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring structure; and X represents SbF 6 , PF 6 , B(C 6 F 5 ) 4 , Ga(C 6 F 5 ) 4 , Ga(C 6 F 5 ) 2 F 2 , Ga(C 6 F 5 )F 3 or C(CF 3 SO 2 ) 3 .] ]

本発明に係る接着剤組成物は、保存安定性に優れ、比較的低温(例えば150~170℃)かつ短時間(例えば10秒以内)で硬化可能である。このような接着剤組成物は、回路接続用接着剤組成物として好適に用いることができる。 The adhesive composition of the present invention has excellent storage stability and can be cured at relatively low temperatures (e.g., 150 to 170°C) in a short time (e.g., within 10 seconds). Such an adhesive composition can be suitably used as an adhesive composition for connecting circuits.

前記オニウム塩は、アニリニウム塩及びピリジニウム塩からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。 The onium salt is preferably at least one selected from the group consisting of anilinium salts and pyridinium salts.

一般式(1)におけるR、R、R及びRのいずれか一つは、置換若しくは未置換のベンジル基、置換若しくは未置換のナフチルメチル基、又は、置換若しくは未置換のシンナミル基であることが好ましい。 In general formula (1), any one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is preferably a substituted or unsubstituted benzyl group, a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, or a substituted or unsubstituted cinnamyl group.

前記カチオン重合性物質は、エポキシ化合物、オキセタン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される少なくとも一種であってもよい。 The cationically polymerizable substance may be at least one selected from the group consisting of epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl ether compounds.

前記接着剤組成物は、フィルム性付与ポリマーを更に含有していてもよい。前記接着剤組成物は、導電性粒子を更に含有していてもよい。 The adhesive composition may further contain a film-forming polymer. The adhesive composition may further contain conductive particles.

前記接着剤組成物は、異方導電性を有していてもよい。前記接着剤組成物は、回路接続用であってもよい。 The adhesive composition may have anisotropic conductivity. The adhesive composition may be for circuit connection.

また、本発明は、前記接着剤組成物をフィルム状にしてなる、フィルム状接着剤組成物を提供する。 The present invention also provides a film-like adhesive composition obtained by forming the adhesive composition into a film.

本発明によれば、保存安定性に優れ、比較的低温(例えば150~170℃)かつ短時間(例えば10秒以内)で硬化可能な接着剤組成物及びフィルム状接着剤組成物を提供することができる。 The present invention provides an adhesive composition and a film-like adhesive composition that have excellent storage stability and can be cured at relatively low temperatures (e.g., 150 to 170°C) in a short time (e.g., within 10 seconds).

異方導電性を有するフィルム状接着剤組成物の一実施形態を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a film-like adhesive composition having anisotropic conductivity. 構造体の一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a structure. 図2の構造体の製造方法を示す模式断面図である。3A to 3C are schematic cross-sectional views showing a method for manufacturing the structure of FIG. 2.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。 Embodiments of the present invention are described in detail below. In this specification, when the composition contains multiple substances corresponding to each component, the content of each component in the composition refers to the total amount of those multiple substances present in the composition, unless otherwise specified.

本実施形態に係る接着剤組成物は、(A)下記一般式(1)で表されるオニウム塩(オニウム塩化合物。以下「(A)成分」ともいう)と、(B)カチオン重合性物質(以下「(B)成分」ともいう)と、を含有する。 The adhesive composition according to this embodiment contains (A) an onium salt (onium salt compound; hereinafter also referred to as "component (A)") represented by the following general formula (1), and (B) a cationically polymerizable substance (hereinafter also referred to as "component (B)").


[式(1)中、R、R、R及びRは、各々独立に、水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアルケニル基、置換若しくは未置換の複素環基、置換若しくは未置換のアルコキシル基、置換若しくは未置換のアリールオキシ基、又は、置換若しくは未置換の複素環オキシ基を表し、R、R、R及びRは、互いに結合して環構造を形成していてもよく、Xは、SbF 、PF 、B(C 、Ga(C 、Ga(C 、Ga(C)F 又はC(CFSO を表す。]

[In formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group; R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring structure; and X represents SbF 6 , PF 6 , B(C 6 F 5 ) 4 , Ga(C 6 F 5 ) 4 , Ga(C 6 F 5 ) 2 F 2 , Ga(C 6 F 5 )F 3 or C(CF 3 SO 2 ) 3 .] ]

上記のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、アラルキル基等が挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、シンナミル基等が挙げられる。これらのアルキル基は、置換基を有していてもよい。 Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, and aralkyl groups. Examples of aralkyl groups include benzyl, naphthylmethyl, and cinnamyl groups. These alkyl groups may have a substituent.

上記のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらのアリール基は、置換基を有していてもよい。 Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. These aryl groups may have a substituent.

上記のアルケニル基としては、プロペニル基、2-ブテニル基、2-ペンタニル基、2-ヘキサニル基等が挙げられる。上記の複素環基としては、ピリジニル基等が挙げられる。上記のアルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。上記のアリールオキシ基としては、4-フェニルメトキシ基、4-フェニルエトキシ基、4-フェニルオキシカルボニルメチル基等が挙げられる。上記の複素環オキシ基としては、4-シクロヘキサンオキシド基等が挙げられる。これらの基は、置換基を有していてもよい。 Examples of the alkenyl group include propenyl, 2-butenyl, 2-pentanyl, and 2-hexanyl groups. Examples of the heterocyclic group include pyridinyl groups. Examples of the alkoxyl group include methoxy, ethoxy, propoxy, and butoxy groups. Examples of the aryloxy group include 4-phenylmethoxy, 4-phenylethoxy, and 4-phenyloxycarbonylmethyl groups. Examples of the heterocyclic oxy group include 4-cyclohexaneoxide. These groups may have a substituent.

上記のアルキル基、アリール基等の各基における置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、デシルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基等のアルコキシカルボニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンゾイルオキシ基等のエステル基;フェニルチオ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;シアノ基;ニトロ基;ヒドロキシ基などが挙げられる。これらの置換基の置換位置は、特に限定されるものではなく、いずれの位置であってもよい。 Substituents for the above alkyl, aryl, and other groups include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, and hexyl; aryl groups such as phenyl and naphthyl; alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, and butoxy; alkoxycarbonyl groups such as acetoxy, propionyloxy, decylcarbonyloxy, and dodecylcarbonyloxy; ester groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, and benzoyloxy; phenylthio; halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, and iodine; cyano; nitro; and hydroxy. The substitution positions of these substituents are not particularly limited and may be any position.

式(1)のXは、窒素オニウムカチオンの対アニオンを表す。Xとしては、例えば、SbF 、PF 、B(C 、Ga(C 、Ga(C 、Ga(C)F 及びC(CFSO が挙げられる。アニオンの求核性が低い場合に更に良好な硬化性を得られるため、SbF 、(C、(CFSOが好ましい。 X- in formula (1) represents a counter anion of the nitrogen onium cation. Examples of X- include SbF6- , PF6- , B( C6F5 ) 4- , Ga ( C6F5 ) 4- , Ga(C6F5)2F2- , Ga ( C6F5 )F3- , and C ( CF3SO2 ) 3- . SbF6- , ( C6F5 ) 4B- , and ( CF3SO2 ) 3C- are preferred because better curability can be obtained when the nucleophilicity of the anion is low.

、R、R及びRのいずれか一つ(R、R、R及びRのうちの一つのみ)は、開始剤の分解温度を低くし、硬化性を更に向上させる観点から、置換若しくは未置換のベンジル基、置換若しくは未置換のナフチルメチル基、又は、置換若しくは未置換のシンナミル基であることが好ましい。 From the viewpoint of lowering the decomposition temperature of the initiator and further improving the curability, it is preferable that any one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 (only one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 ) is a substituted or unsubstituted benzyl group, a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, or a substituted or unsubstituted cinnamyl group.

、R、R及びRは、互いに結合して環構造を形成していてもよく、例えば、R、R、R及びRのうち隣接する基同士が互いに結合して環構造を形成する。環構造を有する窒素オニウムカチオンとしては、例えば、下記一般式(2)で表されるカチオンが挙げられる。環構造Qとしては、複素環、芳香環、複素芳香環(ピリジニウム環等)、脂環などが挙げられる。また、環構造Qは、例えば、四員環、五員環、六員環、七員環等の多員環である。環構造Qは、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基等の各基について上述した置換基が挙げられる。mは1又は2を表す。Rは、R、R、R及びRと同等の基である。 R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring structure, for example, adjacent groups among R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are bonded to each other to form a ring structure. Examples of nitrogen onium cations having a ring structure include cations represented by the following general formula (2). Examples of the ring structure Q include heterocycles, aromatic rings, heteroaromatic rings (pyridinium rings, etc.), alicyclic rings, etc. Furthermore, the ring structure Q is, for example, a multi-membered ring such as a four-membered ring, a five-membered ring, a six-membered ring, or a seven-membered ring. The ring structure Q may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the substituents described above for each group such as an alkyl group or an aryl group. m represents 1 or 2. R 5 is a group equivalent to R 1 , R 2 , R 3 and R 4 .

(A)成分としては、保存安定性に更に優れる観点から、80~250℃の温度で活性を示す化合物が好ましく、具体的には、アニリニウム塩(アニリニウム塩化合物)及びピリジニウム塩(ピリジニウム塩化合物)からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましい。 From the perspective of achieving even better storage stability, component (A) is preferably a compound that exhibits activity at temperatures between 80 and 250°C, and more specifically, at least one selected from the group consisting of anilinium salts (anilinium salt compounds) and pyridinium salts (pyridinium salt compounds) is more preferred.

アニリニウム塩としては、分解温度を低くし、硬化性を更に向上させる観点から、N-アルキルアニリニウム塩、N,N-ジアルキルアニリニウム塩、N,N,N-トリアルキルアニリニウム塩が好ましい。アニリニウム塩の具体例としては、N-ベンジル-N,N-ジメチルアニリニウム六フッ化アンチモン、N-(4-ニトロベンジル)-N,N-ジメチルアニリニウム六フッ化アンチモン、N-(4-メトキシベンジル)-N,N-ジメチルアニリニウム六フッ化アンチモン、N-(α-フェニルベンジル)-N,N-ジメチルアニリニウム六フッ化アンチモン、N-(α-メチルベンジル)-N,N-ジメチルアニリニウム六フッ化アンチモン、N-(1-ナフチルメチル)-N,N-ジメチルアニリニウム六フッ化アンチモン、N-シンナミル-N,N-ジメチルアニリニウム六フッ化アンチモン、置換ベンジルアニリニウムカチオンを有するオニウム塩(例えば、K-PURE CXC-1612(KING Industries社製、対アニオン:SbF)、K-PURE CXC-1738(KING Industries社製、対アニオン:PF)、K-PURE CXC-1740(KING Industries社製、対アニオン:SbF)、K-PURE CXC-1741(KING Industries社製、対アニオン:SbF)、K-PURE CXC-1821(KING Industries社製、対アニオン:B(C))等が挙げられる。これらの化合物において窒素原子に結合する芳香環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。芳香環が置換基を有するアニリニウム塩としては、N-(1-ナフチルメチル)-N,N-ジメチル(4-ブロモフェニル)アニリニウム六フッ化アンチモン等が挙げられる。 As the anilinium salt, from the viewpoint of lowering the decomposition temperature and further improving the curability, N-alkylanilinium salts, N,N-dialkylanilinium salts and N,N,N-trialkylanilinium salts are preferred. Specific examples of the anilinium salt include N-benzyl-N,N-dimethylanilinium antimony hexafluoride, N-(4-nitrobenzyl)-N,N-dimethylanilinium antimony hexafluoride, N-(4-methoxybenzyl)-N,N-dimethylanilinium antimony hexafluoride, N-(α-phenylbenzyl)-N,N-dimethylanilinium antimony hexafluoride, N-(α-methylbenzyl)-N,N-dimethylanilinium antimony hexafluoride, N-(1-naphthylmethyl)-N,N-dimethylanilinium antimony hexafluoride, N-cinnamyl-N,N-dimethylanilinium antimony hexafluoride, onium salts having a substituted benzylanilinium cation (e.g., K-PURE CXC-1612 (manufactured by KING Industries, counter anion: SbF 6 ), K-PURE Examples of anilinium salts include CXC-1738 (manufactured by KING Industries, counter anion: PF 6 ), K-PURE CXC-1740 (manufactured by KING Industries, counter anion: SbF 6 ), K-PURE CXC-1741 (manufactured by KING Industries, counter anion: SbF 6 ), and K-PURE CXC-1821 (manufactured by KING Industries, counter anion: B(C 6 F 5 ) 4 ). In these compounds, the aromatic ring bonded to the nitrogen atom may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of anilinium salts in which the aromatic ring has a substituent include N-(1-naphthylmethyl)-N,N-dimethyl(4-bromophenyl)anilinium antimony hexafluoride.

アニリニウム塩としては、分解温度を低くし、硬化性を更に向上させる観点から、N-ベンジル-N,N-ジアルキルアニリニウム塩、N-ナフチルメチル-N,N-ジアルキルアニリニウム塩が好ましく、N-ベンジル-N,N-ジメチルアニリニウム塩、N-ナフチルメチル-N,N-ジメチルアニリニウム塩がより好ましい。これらのアニリニウム塩の対アニオンとしては、カチオン重合反応の反応速度を向上させ、硬化性を更に向上させる観点から、SbF が好ましい。 As the anilinium salt, from the viewpoints of lowering the decomposition temperature and further improving the curability, N-benzyl-N,N-dialkylanilinium salt and N-naphthylmethyl-N,N-dialkylanilinium salt are preferred, and N-benzyl-N,N-dimethylanilinium salt and N-naphthylmethyl-N,N-dimethylanilinium salt are more preferred. As the counter anion of these anilinium salts, SbF 6 - is preferred from the viewpoints of increasing the reaction rate of the cationic polymerization reaction and further improving the curability.

ピリジニウム塩としては、分解温度を低くし、硬化性を更に向上させる観点から、N-ベンジルピリジニウム塩、N-ナフチルメチルピリジニウム塩、N-シンナミルピリジニウム塩が好ましい。これらのピリジニウム塩の対アニオンとしては、カチオン重合反応の反応速度を向上させ、硬化性を更に向上させる観点から、SbF が好ましい。ピリジニウム塩の具体例としては、N-ベンジルピリジニウム六フッ化アンチモン、N-(4-ニトロベンジル)ピリジニウム六フッ化アンチモン、N-(4-メトキシベンジル)ピリジニウム六フッ化アンチモン、N-(α-フェニルベンジル)ピリジニウム六フッ化アンチモン、N-(α-メチルベンジル)ピリジニウム六フッ化アンチモン、N-(1-ナフチルメチル)ピリジニウム六フッ化アンチモン、N-シンナミルピリジニウム六フッ化アンチモン等が挙げられる。これらの化合物におけるピリジニウム環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。ピリジニウム環が置換基を有するピリジニウム塩としては、N-(α-フェニルベンジル)-4-シアノピリジニウム六フッ化アンチモン、ナフチルメチル-2-シアノピリジニウム六フッ化アンチモン、シンナミル-2-シアノピリジニウム六フッ化アンチモン等が挙げられる。 As the pyridinium salt, from the viewpoint of lowering the decomposition temperature and further improving the curability, N-benzylpyridinium salt, N-naphthylmethylpyridinium salt, and N-cinnamylpyridinium salt are preferred. As the counter anion of these pyridinium salts, SbF 6 - is preferred from the viewpoint of improving the reaction rate of the cationic polymerization reaction and further improving the curability. Specific examples of pyridinium salts include N-benzylpyridinium antimony hexafluoride, N-(4-nitrobenzyl)pyridinium antimony hexafluoride, N-(4-methoxybenzyl)pyridinium antimony hexafluoride, N-(α-phenylbenzyl)pyridinium antimony hexafluoride, N-(α-methylbenzyl)pyridinium antimony hexafluoride, N-(1-naphthylmethyl)pyridinium antimony hexafluoride, and N-cinnamylpyridinium antimony hexafluoride. The pyridinium ring in these compounds may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of pyridinium salts having a substituted pyridinium ring include N-(α-phenylbenzyl)-4-cyanopyridinium antimony hexafluoride, naphthylmethyl-2-cyanopyridinium antimony hexafluoride, and cinnamyl-2-cyanopyridinium antimony hexafluoride.

(A)成分の含有量は、接着剤組成物が充分に硬化し易い傾向にある観点から、(B)成分100質量部に対して、0.05質量部以上が好ましく、0.1質量部以上がより好ましい。(A)成分の含有量は、相溶性が向上する傾向にある観点から、(B)成分100質量部に対して、30質量部以下が好ましく、15質量部以下がより好ましい。 The content of component (A) is preferably 0.05 parts by mass or more, and more preferably 0.1 parts by mass or more, per 100 parts by mass of component (B), from the viewpoint that the adhesive composition tends to cure sufficiently easily. The content of component (A) is preferably 30 parts by mass or less, and more preferably 15 parts by mass or less, per 100 parts by mass of component (B), from the viewpoint that compatibility tends to be improved.

(A)成分は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。また、(A)成分のカチオン発生効率及び(B)成分の反応率を高めるために、(A)成分及び(B)成分に加えて連鎖移動剤を適宜使用することもできる。連鎖移動剤としては、プロトン性化合物であれば特に制限されるものではなく、公知の化合物を使用することができる。連鎖移動剤としては、例えば、シクロヘキセンジオール、2,3-ブタンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等のアルコール及びこれらの誘導体を用いることができる。 Component (A) may be used alone or in combination with multiple types. Furthermore, to increase the cation generation efficiency of component (A) and the reaction rate of component (B), a chain transfer agent may be used as appropriate in addition to components (A) and (B). There are no particular restrictions on the chain transfer agent as long as it is a protic compound, and known compounds can be used. Examples of chain transfer agents that can be used include alcohols such as cyclohexene diol, 2,3-butane diol, ethylene glycol, diethylene glycol, and triethylene glycol, as well as derivatives of these.

(B)カチオン重合性物質は、カチオン重合性置換基を有する物質である。カチオン重合性置換基としては、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基、等が挙げられる。(B)成分としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。エポキシ化合物としては、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物等が挙げられる。(B)成分は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。 The (B) cationically polymerizable substance is a substance having a cationically polymerizable substituent. Examples of the cationically polymerizable substituent include an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. Examples of the (B) component include an epoxy compound, an oxetane compound, and a vinyl ether compound. Examples of the epoxy compound include a glycidyl ether epoxy compound and an alicyclic epoxy compound. The (B) component may be used alone or in combination.

(B)成分であるグリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、分子中にグリシジルエーテル基を有する化合物であって、硬化剤の存在下又は非存在下で活性光線の照射又は加熱によって硬化するものであればよく、公知のものを使用できる。中でも、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するグリシジルエーテル型エポキシ化合物は、硬化させた際の架橋密度が高くなるので好ましい。グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、例えば、エピクロルヒドリンとビスフェノール化合物(ビスフェノールA、ビスフェノールF等)とから誘導されるビスフェノール型エポキシ樹脂;ポリグリシジルエーテル;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ化合物;ビフェニルジグリシジルエーテル、グリシジルアルキルイソシアヌレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジルメタクリレートとこれと共重合可能なビニル単量体との共重合体等が挙げられる。グリシジルエーテル型エポキシ化合物は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。 The glycidyl ether-type epoxy compound, component (B), is a compound containing a glycidyl ether group in the molecule that cures upon exposure to actinic rays or heating in the presence or absence of a curing agent, and any known compound can be used. Among these, glycidyl ether-type epoxy compounds containing two or more epoxy groups per molecule are preferred because they increase crosslink density upon curing. Examples of glycidyl ether-type epoxy compounds include bisphenol-type epoxy resins derived from epichlorohydrin and bisphenol compounds (such as bisphenol A and bisphenol F); polyglycidyl ethers; novolac-type epoxy compounds such as cresol novolac-type epoxy resins and phenol novolac-type epoxy resins; biphenyl diglycidyl ether, glycidyl alkyl isocyanurate, polyglycidyl methacrylate, and copolymers of glycidyl methacrylate and a vinyl monomer copolymerizable therewith. Glycidyl ether-type epoxy compounds may be used alone or in combination.

(B)成分である脂環式エポキシ化合物としては、分子中にエポキシ基を有する化合物であって、硬化剤の存在下又は非存在下で活性光線の照射又は加熱によって硬化するものであればよく、公知のものを使用できる。中でも、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物は、硬化させた際の架橋密度が高くなるので好ましい。脂環式エポキシ化合物としては、例えば、シクロヘキセン環含有化合物又はシクロペンテン環含有化合物を酸化して得られるシクロヘキセンオキシド又はシクロペンテンオキシド含有化合物が用いられる。脂環式エポキシ化合物としては、例えば、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシ)シクロヘキサン-メタジオキサン、3,4-エポキシ-1-メチルシクロヘキシル-3,4-エポキシ-1-メチルヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-3-メチルシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシ-3-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-5-メチルシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシ-5-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロエキシルカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、6-メチル-3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-6-メチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、エチレンビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ジシクロペンタジエンジエポキシド、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、メチレンビス(3,4-エポキシシクロヘキサン)が挙げられる。脂環式エポキシ化合物は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。 The alicyclic epoxy compound (B), component (B), is a compound that contains an epoxy group in the molecule and that cures upon exposure to actinic rays or heating in the presence or absence of a curing agent, and any known compound can be used. Alicyclic epoxy compounds containing two or more epoxy groups per molecule are preferred because they increase the crosslink density upon curing. Examples of alicyclic epoxy compounds that can be used include cyclohexene oxide- or cyclopentene oxide-containing compounds obtained by oxidizing a cyclohexene ring-containing compound or a cyclopentene ring-containing compound. Examples of the alicyclic epoxy compounds include 2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane-metadioxane, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 3, Examples of alicyclic epoxy compounds include 4-epoxy-6-methylcyclohexylcarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, ethylene bis(3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dicyclopentadiene diepoxide, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate, and methylene bis(3,4-epoxycyclohexane). Alicyclic epoxy compounds can be used alone or in combination.

(B)成分であるオキセタン化合物としては、分子中にオキセタニル基を有しているオキセタン化合物であって、硬化剤の存在下又は非存在下で活性光線の照射又は加熱によって硬化するものであればよい。中でも、オキセタニル基を2個以上有するオキセタン化合物は、硬化させた際の架橋密度が高くなるので好ましい。硬化性に更に優れる観点から、分子中にオキセタニル基を2~6個有しかつ水酸基を1~6個有する脂肪族系化合物又は脂環系化合物が特に好ましい。オキセタン化合物は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。 The oxetane compound of component (B) may be any oxetane compound having an oxetanyl group in the molecule that can be cured by exposure to actinic rays or heating in the presence or absence of a curing agent. Among these, oxetane compounds having two or more oxetanyl groups are preferred because they increase the crosslink density when cured. From the perspective of achieving even better curability, aliphatic or alicyclic compounds having 2 to 6 oxetanyl groups and 1 to 6 hydroxyl groups in the molecule are particularly preferred. One type of oxetane compound may be used alone, or multiple types can be used in combination.

オキセタン化合物の具体例としては、下記一般式(3)で表される化合物等が挙げられる。
Specific examples of the oxetane compound include compounds represented by the following general formula (3).

式(3)中、R11は水素原子、フッ素原子又は1価の炭化水素基を表し、R12は水素原子又はn価の炭化水素基を表し、nは1以上の整数を表す。R12が1価の炭化水素基を表す場合、当該炭化水素基としては、アルキル基、アリール基等が挙げられる。R12が水素原子であるとき、nは1である。nが2以上の整数であるとき、R12に結合する複数の酸素原子は、互いにR12の同一炭素原子に結合していてもよく、R12の異なる炭素原子に結合していてもよい。なお、nは、例えば4以下の整数である。 In formula (3), R11 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a monovalent hydrocarbon group, R12 represents a hydrogen atom or an n-valent hydrocarbon group, and n represents an integer of 1 or more. When R12 represents a monovalent hydrocarbon group, examples of the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group. When R12 is a hydrogen atom, n is 1. When n is an integer of 2 or more, multiple oxygen atoms bonded to R12 may be bonded to the same carbon atom of R12 or may be bonded to different carbon atoms of R12 . Note that n is, for example, an integer of 4 or less.

オキセタン化合物としては、1,4-ジ[(3-オキセタニル-n-ブトキシ)メチル]ベンゼン、4,4’-ビス[(3-オキセタニル-n-ブトキシ)メチル]ビフェニル、3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、2-エチルヘキシルオキセタン等が挙げられる。 Examples of oxetane compounds include 1,4-di[(3-oxetanyl-n-butoxy)methyl]benzene, 4,4'-bis[(3-oxetanyl-n-butoxy)methyl]biphenyl, 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, and 2-ethylhexyloxetane.

(B)成分であるビニルエーテル化合物としては、分子中にビニルエーテル基を有する化合物であって、硬化剤の存在下又は非存在下で活性光線の照射又は加熱によって硬化するものであればよい。中でも、1分子中に2個以上のビニルエーテル基を有するビニルエーテル化合物は、硬化させた際の架橋密度が高くなるので好ましい。ビニルエーテル化合物は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。 The vinyl ether compound of component (B) is a compound that has a vinyl ether group in its molecule and that cures upon exposure to actinic rays or heating in the presence or absence of a curing agent. Vinyl ether compounds that have two or more vinyl ether groups in one molecule are preferred because they increase the crosslink density upon curing. Vinyl ether compounds may be used alone or in combination.

ビニルエーテル化合物の具体例としては、下記一般式(4)で表される化合物等が挙げられる。
Specific examples of the vinyl ether compound include compounds represented by the following general formula (4).

式(4)中、R13はp価の炭化水素基を表し、pは1以上の整数を表す。R13が1価の炭化水素基を表す場合、当該炭化水素基としては、アルキル基、アリール基等が挙げられる。pが2以上の整数であるとき、R13に結合する複数の酸素原子は、互いにR13の同一炭素原子に結合していてもよく、R13の異なる炭素原子に結合していてもよい。なお、pは、例えば4以下の整数である。 In formula (4), R13 represents a p-valent hydrocarbon group, where p is an integer of 1 or greater. When R13 represents a monovalent hydrocarbon group, examples of the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group. When p is an integer of 2 or greater, multiple oxygen atoms bonded to R13 may be bonded to the same carbon atom of R13 or may be bonded to different carbon atoms of R13 . Note that p is, for example, an integer of 4 or less.

ビニルエーテル化合物としては、1,4-ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。 Examples of vinyl ether compounds include 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, and triethylene glycol divinyl ether.

(B)成分のカチオン重合性置換基当量は、43~1000g/molが好ましく、50~800g/molがより好ましく、73~600g/molが更に好ましい。カチオン重合性置換基当量が43g/mol以上又は1000g/mol以下であると、後に説明する電極の接続時等において充分な接着強度を確保できる。 The cationically polymerizable substituent equivalent of component (B) is preferably 43 to 1,000 g/mol, more preferably 50 to 800 g/mol, and even more preferably 73 to 600 g/mol. A cationically polymerizable substituent equivalent of 43 g/mol or more or 1,000 g/mol or less ensures sufficient adhesive strength when connecting electrodes, as described below.

(B)成分としては、不純物イオン(Na、Cl等)、加水分解性塩素等を300ppm以下に低減した高純度品を用いることが、腐食防止の観点から好ましい。 From the viewpoint of corrosion prevention, it is preferable to use a high-purity product as component (B) in which impurity ions (Na + , Cl , etc.), hydrolyzable chlorine, etc. have been reduced to 300 ppm or less.

(B)成分の含有量は、接着剤組成物の硬化物の更に優れた物性(ガラス転移温度、弾性率等)が得られる観点から、接着剤組成物全量に対して、10質量%以上が好ましく、25質量%以上がより好ましい。(B)成分の含有量は、硬化時の接着剤組成物の収縮を抑制でき、接着力を維持できる観点から、接着剤組成物全量に対して、90質量%以下が好ましく、75質量%以下がより好ましい。 The content of component (B) is preferably 10% by mass or more, and more preferably 25% by mass or more, based on the total amount of the adhesive composition, from the viewpoint of obtaining even better physical properties (glass transition temperature, elastic modulus, etc.) of the cured product of the adhesive composition. The content of component (B) is preferably 90% by mass or less, and more preferably 75% by mass or less, based on the total amount of the adhesive composition, from the viewpoint of suppressing shrinkage of the adhesive composition during curing and maintaining adhesive strength.

本実施形態に係る接着剤組成物は、増粘化又はフィルム形成性の向上を目的として、(A)成分及び(B)成分と異なる成分として、(C)フィルム性付与ポリマー(以下「(C)成分」ともいう)を更に含有してもよい。(C)成分としては、(B)成分の硬化を阻害しないものであれば、制限なく公知のポリマーを使用することができる。このようなポリマーとしては、ポリイミド、ポリアミド、フェノキシ樹脂、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエステルウレタン、ポリビニルブチラール、SBS(スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体)及びそのエポキシ変性体、SEBS(スチレン-エチレン-ブチレン-スチレン共重合体)及びその変性体、NBR(アクリロニトリル-ブタジエン共重合体)及びその水素化体等を用いることができる。(C)成分は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。これらのポリマーは、シロキサン結合又はフッ素置換基を有していていもよい。このようなポリマーは、混合する樹脂同士が完全に相溶する状態、又は、ミクロ相分離が生じて白濁する状態であれば接着剤組成物として好適に用いることができる。 The adhesive composition according to this embodiment may further contain a film-forming polymer (C) (hereinafter also referred to as "component (C)"), which is a component different from components (A) and (B) for the purpose of thickening or improving film-forming properties. Any known polymer may be used as component (C) as long as it does not inhibit the curing of component (B). Examples of such polymers include polyimide, polyamide, phenoxy resin, polymethacrylate, polyacrylate, polyurethane, polyester, polyesterurethane, polyvinyl butyral, SBS (styrene-butadiene-styrene copolymer) and its epoxy-modified derivatives, SEBS (styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer) and its modified derivatives, and NBR (acrylonitrile-butadiene copolymer) and its hydrogenated derivatives. Component (C) may be used alone or in combination. These polymers may contain siloxane bonds or fluorine substituents. Such polymers can be suitably used as adhesive compositions if the resins to be mixed are completely compatible with each other, or if microphase separation occurs and the mixture becomes cloudy.

(C)成分の重量平均分子量は、特に制限されないが、下記の範囲であることが好ましい。(C)成分の重量平均分子量は、フィルム形成性が容易に向上する観点、及び、接着剤組成物の流動性に影響する溶融粘度を広範囲に設定できる観点から、5000以上が好ましく、10000以上がより好ましい。(C)成分の重量平均分子量は、(C)成分と他の成分との相溶性を充分に確保できる観点から、150000以下が好ましく、80000以下がより好ましい。(C)成分の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算することにより算出することができる。測定条件としては、例えば下記の条件を用いることができる。
(測定条件)
装置:東ソー株式会社製 GPC-8020
検出器:東ソー株式会社製 RI-8020
カラム:日立化成株式会社製 Gelpack GL-A-160-S+GL-A150
試料濃度:120mg/3ml
溶媒:テトラヒドロフラン
注入量:60μl
圧力:30kgf/cm
流量:1.00ml/min
The weight-average molecular weight of component (C) is not particularly limited, but is preferably in the following range. From the viewpoint of easily improving film-forming properties and enabling the melt viscosity, which affects the fluidity of the adhesive composition, to be set over a wide range, the weight-average molecular weight of component (C) is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more. From the viewpoint of ensuring sufficient compatibility between component (C) and other components, the weight-average molecular weight of component (C) is preferably 150,000 or less, more preferably 80,000 or less. The weight-average molecular weight of component (C) can be calculated using gel permeation chromatography (GPC) by conversion from a calibration curve using standard polystyrene. Measurement conditions that can be used include, for example, the following conditions.
(Measurement conditions)
Apparatus: GPC-8020 manufactured by Tosoh Corporation
Detector: Tosoh Corporation RI-8020
Column: Gelpack GL-A-160-S + GL-A150 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
Sample concentration: 120mg/3ml
Solvent: tetrahydrofuran Injection volume: 60 μl
Pressure: 30 kgf/ cm2
Flow rate: 1.00ml/min

(C)成分の含有量は、(B)成分100質量部に対して、20~320質量部が好ましい。含有量がこの範囲内である場合、接着剤組成物の流動性及び接着性を充分に確保できる傾向にある。 The content of component (C) is preferably 20 to 320 parts by mass per 100 parts by mass of component (B). A content within this range tends to ensure sufficient fluidity and adhesiveness of the adhesive composition.

本実施形態に係る接着剤組成物は、(D)導電性粒子を更に含有してもよい。(D)導電性粒子としては、例えば、Au、Ag、Ni、Cu、はんだ等の金属、カーボンなどの粒子が挙げられる。(D)導電性粒子は、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等の核に上記の金属又はカーボンを被覆した粒子であってもよい。導電性粒子が、プラスチックの核に上記の金属若しくはカーボンを被覆した粒子、又は、熱溶融金属粒子である場合、この導電性粒子は加熱及び加圧により変形するので、接続時に導電性粒子と電極との接触面積が増加し、接続信頼性が向上するので好ましい。(D)導電性粒子は、上記の導電性粒子の表面が高分子樹脂等で更に被覆された被覆粒子であってもよい。被覆粒子は、粒子の配合量が増加した場合の粒子同士の接触による短絡を抑制し、電極回路間の絶縁性を向上させることができる。被覆粒子は、単独で用いてもよく、高分子樹脂等で被覆されていない導電性粒子と混合して用いてもよい。(D)導電性粒子は、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。 The adhesive composition according to this embodiment may further contain (D) conductive particles. Examples of (D) conductive particles include particles of metals such as Au, Ag, Ni, Cu, solder, and carbon. The (D) conductive particles may be particles in which a non-conductive core of glass, ceramic, plastic, or the like is coated with the above metal or carbon. Conductive particles in which a plastic core is coated with the above metal or carbon, or heat-fusible metal particles, are preferred because they deform when heated and pressurized, increasing the contact area between the conductive particles and the electrodes during connection and improving connection reliability. The (D) conductive particles may also be coated particles in which the surfaces of the above conductive particles are further coated with a polymer resin or the like. The coated particles can suppress short circuits caused by contact between particles when the particle content is increased and improve insulation between electrode circuits. The coated particles may be used alone or in combination with conductive particles that are not coated with a polymer resin or the like. The (D) conductive particles may be used alone or in combination.

(D)導電性粒子の平均粒径は、分散性及び導電性に優れる観点から、1~18μmであることが好ましい。(D)導電性粒子の含有量は、特に制限されないが、接着剤組成物全量に対して、0.1~30体積%が好ましく、0.1~10体積%がより好ましい。含有量が0.1体積%以上の場合、導電性が向上する傾向にあり、含有量が30体積%以下の場合、回路の短絡を充分に抑制できる傾向にある。なお、上記の含有量(体積%)は、硬化前の接着剤組成物の23℃における各成分の体積をもとに決定される。各成分の体積は、比重を利用して質量から体積に換算することができる。各成分の体積は、当該成分を溶解又は膨潤させずによく濡らす溶媒(水、アルコール等)が入れられたメスシリンダー等に、当該成分を投入したときの体積の増加分として求めることもできる。 The average particle size of the (D) conductive particles is preferably 1 to 18 μm from the viewpoint of excellent dispersibility and conductivity. The content of the (D) conductive particles is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 30 vol%, and more preferably 0.1 to 10 vol%, of the total amount of the adhesive composition. A content of 0.1 vol% or more tends to improve conductivity, while a content of 30 vol% or less tends to sufficiently suppress short circuits. The above content (vol%) is determined based on the volume of each component of the adhesive composition at 23°C before curing. The volume of each component can be converted from mass to volume using specific gravity. The volume of each component can also be determined as the increase in volume when the component is placed in a measuring cylinder or the like containing a solvent (water, alcohol, etc.) that thoroughly wets the component without dissolving or swelling it.

本実施形態に係る接着剤組成物は、被着体の腐食を防止することを目的として、金属水酸化物及び金属酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を更に含有することができる。金属水酸化物としては、具体的には、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム及び水酸化カルシウムからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。金属酸化物としては、具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化マンガン及び酸化ジルコニウムからなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。これらの金属水酸化物又は金属酸化物は、接着剤組成物への分散性、被着体への接着強度、被着体の腐食防止能に優れる観点から、粒径が10μm以下の粒子状であることが好ましい。 The adhesive composition according to this embodiment may further contain at least one metal hydroxide or metal oxide for the purpose of preventing corrosion of the adherend. Specifically, the metal hydroxide is preferably at least one metal selected from the group consisting of aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and calcium hydroxide. Specifically, the metal oxide is preferably at least one metal selected from the group consisting of silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, manganese oxide, and zirconium oxide. From the viewpoints of excellent dispersibility in the adhesive composition, adhesive strength to the adherend, and corrosion prevention ability for the adherend, these metal hydroxides or metal oxides are preferably in the form of particles with a particle size of 10 μm or less.

金属水酸化物及び金属酸化物の合計の含有量は、(B)成分100質量部に対して、0.1~60質量部が好ましく、1~30質量部がより好ましい。含有量が0.1質量部以上の場合、充分な腐食防止効果が得られ、含有量が60質量部以下の場合、接着剤組成物への充分な分散性を確保できる。 The total content of the metal hydroxide and metal oxide is preferably 0.1 to 60 parts by mass, and more preferably 1 to 30 parts by mass, per 100 parts by mass of component (B). A content of 0.1 part by mass or more provides sufficient corrosion prevention, while a content of 60 parts by mass or less ensures sufficient dispersibility in the adhesive composition.

本実施形態に係る接着剤組成物は、(B)成分の硬化挙動を制御する目的で、(A)~(C)成分と異なる成分として、鎖状エーテル化合物及び環状エーテル化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を更に含有することができる。鎖状エーテル化合物又は環状エーテル化合物としては、1分子中に2個以上のエーテル基を有するものであれば特に制限はなく、公知のものを使用できる。鎖状エーテル化合物としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のポリエチレングリコール;これらのポリエチレングリコールの末端水酸基をエーテル結合又はエステル結合で官能化した誘導体;エチレンオキシド、プロピレンオキシド、シクロヘキセンオキシド等の単官能エポキシの重合体;多官能エポキシの架橋体;単官能又は多官能のオキセタンの重合体;単官能又は多官能のテトラヒドロフランの重合体などが挙げられる。環状エーテル化合物としては、例えば、12-クラウン-4-エーテル、14-クラウン-4-エーテル、15-クラウン-5-エーテル、18-クラウン-6-エーテル、21-クラウン-7-エーテル、24-クラウン-8-エーテル、30-クラウン-7-エーテル、ベンゾ-18-クラウン-6-エーテル、ジベンゾ-18-クラウン-6-エーテル、トリベンゾ-18-クラウン-6-エーテル等の環状エーテル化合物;ポリエチレングリコールの環化物;エチレンオキシド、プロピレンオキシド、シクロヘキセンオキシド等の単官能エポキシの重合体の環化物などが挙げられる。鎖状エーテル化合物及び環状エーテル化合物のそれぞれは、1種単独で用いてもよく、複数種を併用することもできる。 The adhesive composition according to this embodiment may further contain at least one compound selected from the group consisting of linear ether compounds and cyclic ether compounds as a component different from components (A) to (C) for the purpose of controlling the curing behavior of component (B). There are no particular restrictions on the linear ether compound or cyclic ether compound, as long as it has two or more ether groups per molecule, and known compounds can be used. Examples of linear ether compounds include polyethylene glycols such as diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol; derivatives of these polyethylene glycols in which the terminal hydroxyl groups are functionalized with ether or ester bonds; monofunctional epoxy polymers such as ethylene oxide, propylene oxide, and cyclohexene oxide; crosslinked polyfunctional epoxies; monofunctional or polyfunctional oxetane polymers; and monofunctional or polyfunctional tetrahydrofuran polymers. Examples of cyclic ether compounds include cyclic ether compounds such as 12-crown-4-ether, 14-crown-4-ether, 15-crown-5-ether, 18-crown-6-ether, 21-crown-7-ether, 24-crown-8-ether, 30-crown-7-ether, benzo-18-crown-6-ether, dibenzo-18-crown-6-ether, and tribenzo-18-crown-6-ether; cyclized polyethylene glycol; and cyclized monofunctional epoxy polymers such as ethylene oxide, propylene oxide, and cyclohexene oxide. The chain ether compounds and cyclic ether compounds may be used alone or in combination.

鎖状エーテル化合物及び環状エーテル化合物の中でも、反応調節能に優れる観点から、環状エーテル化合物が好ましく、12-クラウン-4-エーテル、14-クラウン-4-エーテル、15-クラウン-5-エーテル、18-クラウン-6-エーテル、21-クラウン-7-エーテル、24-クラウン-8-エーテル、30-クラウン-7-エーテル、ベンゾ-18-クラウン-6-エーテル、ジベンゾ-18-クラウン-6-エーテル及びトリベンゾ-18-クラウン-6-エーテルがより好ましい。 Of the chain ether compounds and cyclic ether compounds, cyclic ether compounds are preferred from the viewpoint of excellent reaction control ability, and 12-crown-4-ether, 14-crown-4-ether, 15-crown-5-ether, 18-crown-6-ether, 21-crown-7-ether, 24-crown-8-ether, 30-crown-7-ether, benzo-18-crown-6-ether, dibenzo-18-crown-6-ether, and tribenzo-18-crown-6-ether are more preferred.

鎖状エーテル化合物及び環状エーテル化合物の合計の含有量は、(A)成分に対して、0.05~20化学当量であることが好ましく、0.1~10化学当量であることがより好ましい。含有量が0.05化学当量以上の場合、高い接着強度が得られ易くなり、含有量が20化学当量以下の場合、硬化が好適になされ易く、結果として高い架橋密度が得られ易くなる。 The total content of the chain ether compound and cyclic ether compound relative to component (A) is preferably 0.05 to 20 chemical equivalents, and more preferably 0.1 to 10 chemical equivalents. A content of 0.05 chemical equivalents or more makes it easier to achieve high adhesive strength, while a content of 20 chemical equivalents or less makes it easier to achieve favorable curing, resulting in a high crosslink density.

本実施形態に係る接着剤組成物は、発明の効果を損なわない範囲内であれば、公知の各種添加剤を更に含有してもよい。添加剤としては、例えば、無機充填剤;強化剤;着色剤;安定剤(熱安定剤、耐候性改良剤等);増量剤;粘度調節剤;テルペンフェノール共重合体、テルペン樹脂、ロジン誘導体、脂環族系炭化水素樹脂等に代表される粘着付与剤;難燃剤;紫外線吸収剤;酸化防止剤;変色防止剤;抗菌剤;防黴剤;老化防止剤;帯電防止剤;可塑剤;滑剤;発泡剤;離型剤などが挙げられる。 The adhesive composition according to this embodiment may further contain various known additives, provided that the effects of the invention are not impaired. Examples of additives include inorganic fillers; reinforcing agents; colorants; stabilizers (thermal stabilizers, weather resistance improvers, etc.); extenders; viscosity modifiers; tackifiers such as terpene-phenol copolymers, terpene resins, rosin derivatives, and alicyclic hydrocarbon resins; flame retardants; ultraviolet absorbers; antioxidants; discoloration inhibitors; antibacterial agents; antifungal agents; antioxidants; antistatic agents; plasticizers; lubricants; foaming agents; and mold release agents.

着色剤としては、直接染料、酸性染料、塩基性染料、金属錯塩染料等の染料;カーボンブラック、マイカ等の無機顔料;カップリングアゾ系、縮合アゾ系、アンスラキノン系、チオインジゴ系、ジオキサゾン系、フタロシアニン系等の有機顔料などが挙げられる。安定剤としては、ヒンダードフェノール系、ヒドラジン系、リン系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、オキザリックアシッドアニリド系等の化合物などが挙げられる。無機充填剤としては、ガラス繊維、アスベスト繊維、炭素繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化珪素繊維、塩基性硫酸マグネシウム繊維、ホウ素繊維、ステンレス鋼繊維、アルミニウム繊維、チタン繊維、銅繊維、真鍮繊維、マグネシウム繊維等の無機繊維;銅、鉄、ニッケル、亜鉛、錫、鉛、ステンレス鋼、アルミニウム、金、銀等の金属粉末;木粉;珪酸アルミニウム、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、ホウ珪酸塩、アルミノ珪酸塩、チタン酸塩等の塩;塩基性硫酸塩、塩基性炭酸塩等の塩基性塩;ガラス中空球、ガラスフレーク等のガラス材料;炭化珪素;窒化アルミニウム;タルク、クレイ、ムライト、コージェライト等の鉱物などが挙げられる。 Colorants include dyes such as direct dyes, acid dyes, basic dyes, and metal complex dyes; inorganic pigments such as carbon black and mica; and organic pigments such as coupling azo, condensed azo, anthraquinone, thioindigo, dioxazone, and phthalocyanine. Stabilizers include compounds such as hindered phenols, hydrazines, phosphorus, benzophenones, benzotriazoles, and oxalic acid anilides. Examples of inorganic fillers include inorganic fibers such as glass fiber, asbestos fiber, carbon fiber, silica fiber, alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber, basic magnesium sulfate fiber, boron fiber, stainless steel fiber, aluminum fiber, titanium fiber, copper fiber, brass fiber, and magnesium fiber; metal powders such as copper, iron, nickel, zinc, tin, lead, stainless steel, aluminum, gold, and silver; wood flour; salts such as aluminum silicate, carbonates, sulfates, phosphates, borates, borosilicates, aluminosilicates, and titanates; basic salts such as basic sulfates and basic carbonates; glass materials such as hollow glass spheres and glass flakes; silicon carbide; aluminum nitride; and minerals such as talc, clay, mullite, and cordierite.

本実施形態に係る接着剤組成物は、室温(25℃。以下同じ)で液状である場合には、ペースト状で使用することができる。本実施形態に係る接着剤組成物は、室温で固体である場合には、加熱又は溶剤によりペースト状にして使用してもよい。溶剤としては、接着剤組成物との反応性がなくかつ充分な溶解性を示すものであれば、特に制限はないが、常圧での沸点が50~150℃である溶剤が好ましい。沸点が50℃以上の場合、室温で揮発することを抑制できるため、開放系での使用に好適である。沸点が150℃以下の場合、容易に溶剤を揮発させることができるため、接着後の信頼性を充分に確保できる。 If the adhesive composition according to this embodiment is liquid at room temperature (25°C; the same applies below), it can be used in a paste form. If the adhesive composition according to this embodiment is solid at room temperature, it may be used in a paste form by heating or using a solvent. There are no particular restrictions on the solvent, as long as it is non-reactive with the adhesive composition and exhibits sufficient solubility, but solvents with a boiling point of 50 to 150°C at atmospheric pressure are preferred. If the boiling point is 50°C or higher, evaporation at room temperature can be suppressed, making them suitable for use in open systems. If the boiling point is 150°C or lower, the solvent can be easily evaporated, ensuring sufficient reliability after bonding.

本実施形態に係る接着剤組成物は、フィルム状接着剤組成物として好適に用いることができる。フィルム状接着剤組成物は、本実施形態に係る接着剤組成物をフィルム状にしてなる。フィルム状接着剤組成物は、例えば、ペースト状の接着剤組成物をPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム等の樹脂フィルム上に塗布し、乾燥することによって得られる。 The adhesive composition according to this embodiment can be suitably used as a film-like adhesive composition. The film-like adhesive composition is obtained by forming the adhesive composition according to this embodiment into a film. The film-like adhesive composition can be obtained, for example, by applying a paste-like adhesive composition onto a resin film such as a PET (polyethylene terephthalate) film and drying it.

本実施形態に係る接着剤組成物は、例えば、加熱処理を行うことにより硬化可能である。加熱温度は、40℃~250℃が好ましく、40℃~180℃がより好ましく、50℃~150℃が更に好ましい。加熱温度が40℃以上であると、硬化速度を充分に確保し易く、加熱温度が250℃以下であると、望まない副反応を抑制できる。加熱時間は、0.1秒~10時間が好ましく、1秒~1時間がより好ましい。加熱時間が0.1秒以上であると、硬化反応を好適に進行させることができ、10時間以下であると、硬化物の生産性を向上させることができると共に、望まない副反応を抑制できる。 The adhesive composition according to this embodiment can be cured, for example, by heat treatment. The heating temperature is preferably 40°C to 250°C, more preferably 40°C to 180°C, and even more preferably 50°C to 150°C. A heating temperature of 40°C or higher makes it easier to ensure a sufficient curing rate, while a heating temperature of 250°C or lower can suppress undesired side reactions. The heating time is preferably 0.1 seconds to 10 hours, and more preferably 1 second to 1 hour. A heating time of 0.1 seconds or longer allows the curing reaction to proceed smoothly, while a heating time of 10 hours or less can improve the productivity of the cured product and suppress undesired side reactions.

本実施形態に係る接着剤組成物は、加熱及び加圧を併用して被着体に接着させることができる。加熱温度は、特に制限されないが、50~190℃が好ましい。圧力は、被着体に損傷を与えない範囲であれば特に制限されないが、一般的には0.1~30MPaが好ましい。これらの加熱及び加圧は、0.5秒~120秒間の範囲で行うことが好ましい。 The adhesive composition according to this embodiment can be bonded to an adherend by applying heat and pressure in combination. The heating temperature is not particularly limited, but a temperature of 50 to 190°C is preferred. The pressure is not particularly limited as long as it does not damage the adherend, but a pressure of 0.1 to 30 MPa is generally preferred. The heating and pressure are preferably applied for a period of 0.5 to 120 seconds.

本実施形態に係る接着剤組成物は、同種の被着体同士を接着させる接着剤として使用することが可能であり、また、異種の被着体(例えば、熱膨張係数の異なる被着体)同士を接着させる接着剤として使用することもできる。具体的には、本実施形態に係る接着剤組成物は、異方導電性接着剤;銀ペースト、銀フィルム等に代表される回路接続用接着剤、CSP用エラストマー、CSP用アンダーフィル材、LOCテープなどに代表される半導体素子用接着剤として使用することができる。 The adhesive composition according to this embodiment can be used as an adhesive for bonding adherends of the same type together, and can also be used as an adhesive for bonding adherends of different types (for example, adherends with different thermal expansion coefficients) together. Specifically, the adhesive composition according to this embodiment can be used as an anisotropic conductive adhesive; an adhesive for circuit connection, typified by silver paste and silver film; an elastomer for CSP, an underfill material for CSP, an adhesive for semiconductor elements, typified by LOC tape, etc.

本実施形態に係る接着剤組成物は、異方導電性を有していてもよい。異方導電性を有する接着剤組成物(異方導電性接着剤)は、例えば、(D)導電性粒子を含有している。異方導電性を有する接着剤組成物は、異方導電性接着剤フィルム(異方導電性を有するフィルム状接着剤組成物)であってもよい。 The adhesive composition according to this embodiment may have anisotropic conductivity. An adhesive composition having anisotropic conductivity (anisotropically conductive adhesive) contains, for example, (D) conductive particles. An adhesive composition having anisotropic conductivity may be an anisotropically conductive adhesive film (a film-like adhesive composition having anisotropic conductivity).

図1は、異方導電性接着剤フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図1に示すように、異方導電性接着剤フィルム1は、フィルム状の接着剤成分2と、接着剤成分2中に配置された複数の導電性粒子3とを備えている。 Figure 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of an anisotropically conductive adhesive film. As shown in Figure 1, the anisotropically conductive adhesive film 1 comprises a film-like adhesive component 2 and a plurality of conductive particles 3 disposed within the adhesive component 2.

異方導電性接着剤フィルム1の厚さは、10~50μmであることが好ましい。異方導電性接着剤フィルム1の厚さが10μm以上であると、回路接続材料として用いられた際、回路接続材料が回路電極間に充分に充填される。異方導電性接着剤フィルム1の厚さが50μm以下であると、回路接続材料として用いられた際、回路接続材料が回路電極間から流出することを抑制できる。 The thickness of the anisotropically conductive adhesive film 1 is preferably 10 to 50 μm. If the thickness of the anisotropically conductive adhesive film 1 is 10 μm or more, when used as a circuit connecting material, the circuit connecting material will be sufficiently filled between the circuit electrodes. If the thickness of the anisotropically conductive adhesive film 1 is 50 μm or less, when used as a circuit connecting material, the circuit connecting material can be prevented from leaking out from between the circuit electrodes.

本実施形態に係る接着剤組成物は、回路接続用(回路接続材料)として好適に用いられる。以下、導電性粒子3を含有する異方導電性接着剤フィルム1を用いた構造体(接続体、回路接続構造体等)、及び、当該構造体の製造方法の一例について説明する。 The adhesive composition according to this embodiment is suitable for use in circuit connections (circuit connection materials). Below, we will explain an example of a structure (connector, circuit connection structure, etc.) using an anisotropic conductive adhesive film 1 containing conductive particles 3, and a method for manufacturing such a structure.

図2は、構造体の一実施形態を示す模式断面図である。図2に示すように、構造体10は、相互に対向する第一の回路部材4及び第二の回路部材5と、第一の回路部材4及び第二の回路部材5の間において第一の回路部材4及び第二の回路部材5を接続する回路接続部材6と、を備えている。 Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a structure. As shown in Figure 2, the structure 10 includes a first circuit member 4 and a second circuit member 5 facing each other, and a circuit connecting member 6 that connects the first circuit member 4 and the second circuit member 5 between the first circuit member 4 and the second circuit member 5.

第一の回路部材4は、第一の回路基板41と、第一の回路基板41の主面41a上に形成された第一の回路電極42とを備えている。なお、第一の回路基板41の主面41a上には、場合により絶縁層(図示せず)が形成されていてもよい。 The first circuit member 4 comprises a first circuit board 41 and a first circuit electrode 42 formed on the main surface 41a of the first circuit board 41. In some cases, an insulating layer (not shown) may be formed on the main surface 41a of the first circuit board 41.

第二の回路部材5は、第二の回路基板51と、第二の回路基板51の主面51a上に形成された第二の回路電極52とを備えている。また、第二の回路基板51の主面51a上には、場合により絶縁層(図示せず)が形成されていてもよい。 The second circuit member 5 includes a second circuit board 51 and a second circuit electrode 52 formed on the main surface 51a of the second circuit board 51. In addition, an insulating layer (not shown) may optionally be formed on the main surface 51a of the second circuit board 51.

第一の回路部材4及び第二の回路部材5としては、電気的接続を必要とする電極が形成された部材であれば特に制限はない。電極が形成された部材(回路部材等)としては、半導体、ガラス、セラミック等の無機基板;TCP、FPC、COF等に代表されるポリイミド基板;ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルスルホン等のフィルム上に電極を形成した基板;プリント配線板などが用いられ、これらのうちの複数の組み合わせも用いられる。 There are no particular restrictions on the first circuit member 4 and the second circuit member 5, as long as they are members on which electrodes that require electrical connection are formed. Examples of members on which electrodes are formed (circuit members, etc.) include inorganic substrates such as semiconductors, glass, and ceramics; polyimide substrates such as TCP, FPC, and COF; substrates on which electrodes are formed on films such as polycarbonate, polyester, and polyethersulfone; printed wiring boards, and combinations of these may also be used.

回路接続部材6は、異方導電性接着剤フィルム1の硬化物により形成され、接着剤成分2の硬化物である絶縁性物質7と、導電性粒子3とを含有している。導電性粒子3は、対向する第一の回路電極42と第二の回路電極52との間のみならず、第一の回路基板41の主面41aと第二の回路基板51の主面51aとの間に配置されていてもよい。構造体10においては、第一の回路電極42及び第二の回路電極52が、導電性粒子3を介して電気的に接続されている。すなわち、導電性粒子3が第一の回路電極42及び第二の回路電極52の双方に接触している。 The circuit connection member 6 is formed from the cured product of the anisotropic conductive adhesive film 1 and contains an insulating material 7, which is the cured product of the adhesive component 2, and conductive particles 3. The conductive particles 3 may be disposed not only between the opposing first circuit electrode 42 and second circuit electrode 52, but also between the main surface 41a of the first circuit board 41 and the main surface 51a of the second circuit board 51. In the structure 10, the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52 are electrically connected via the conductive particles 3. That is, the conductive particles 3 are in contact with both the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52.

構造体10においては、上述したように、対向する第一の回路電極42と第二の回路電極52とが導電性粒子3を介して電気的に接続されている。このため、第一の回路電極42及び第二の回路電極52間の接続抵抗が充分に低減される。したがって、第一の回路電極42及び第二の回路電極52間の電流の流れを円滑にすることが可能であり、第一の回路部材4及び第二の回路部材5が有する機能を充分に発揮させることができる。 As described above, in the structure 10, the opposing first circuit electrode 42 and second circuit electrode 52 are electrically connected via the conductive particles 3. This sufficiently reduces the connection resistance between the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52. This allows for smooth current flow between the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52, allowing the functions of the first circuit member 4 and the second circuit member 5 to be fully realized.

本実施形態に係る構造体の製造方法は、例えば、電極が形成された二つの基板の前記電極同士を相対向させる工程と、二つの基板の相対向する電極間に異方導電性接着剤フィルムを配置した状態で加熱加圧する圧着工程と、を備える。圧着工程では、異方導電性接着剤フィルムと電極とを接続することにより、異方導電性接着剤フィルムの導電性粒子を介して電極同士を電気的に接続すると共に、異方導電性接着剤フィルムにより基板同士を接着する。 A method for manufacturing a structure according to this embodiment includes, for example, a step of placing the electrodes of two substrates, each having an electrode formed thereon, opposite each other, and a compression step of applying heat and pressure to an anisotropically conductive adhesive film disposed between the opposing electrodes of the two substrates. In the compression step, the anisotropically conductive adhesive film is connected to the electrodes, thereby electrically connecting the electrodes via the conductive particles in the anisotropically conductive adhesive film and bonding the substrates together via the anisotropically conductive adhesive film.

次に、図3を用いて構造体の製造方法について具体的に説明する。図3は、構造体の製造方法の一実施形態を示す模式断面図である。 Next, the method for manufacturing the structure will be described in detail using Figure 3. Figure 3 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the method for manufacturing the structure.

まず、第一の回路部材4と、異方導電性接着剤フィルム1とを用意する(図3(a)参照)。 First, prepare the first circuit member 4 and the anisotropic conductive adhesive film 1 (see Figure 3(a)).

次に、異方導電性接着剤フィルム1を第一の回路部材4の主面41a上に配置する。異方導電性接着剤フィルム1が支持体(図示せず)上に積層されている場合には、当該積層体の異方導電性接着剤フィルム1側を第一の回路部材4に向けるようにして、積層体を第一の回路部材4上に配置する。 Next, the anisotropically conductive adhesive film 1 is placed on the main surface 41a of the first circuit member 4. If the anisotropically conductive adhesive film 1 is laminated on a support (not shown), the laminate is placed on the first circuit member 4 with the anisotropically conductive adhesive film 1 side of the laminate facing the first circuit member 4.

そして、異方導電性接着剤フィルム1を、図3(a)の矢印A及びB方向に加圧し、異方導電性接着剤フィルム1を第一の回路部材4に仮接続する(図3(b)参照)。このとき、加圧と共に加熱を行ってもよい。 Then, the anisotropically conductive adhesive film 1 is pressed in the directions of arrows A and B in Figure 3(a) to temporarily connect the anisotropically conductive adhesive film 1 to the first circuit member 4 (see Figure 3(b)). At this time, heating may be performed in addition to the pressure application.

続いて、図3(c)に示すように、第一の回路部材4上に配置された異方導電性接着剤フィルム1上に、第二の回路電極52側を第一の回路部材4に向けるようにして(すなわち、第一の回路電極42と第二の回路電極52とが対向配置される状態にして)第二の回路部材5を更に配置する。異方導電性接着剤フィルム1が支持体(図示せず)上に積層されている場合には、支持体を剥離してから第二の回路部材5を異方導電性接着剤フィルム1上に配置する。 Next, as shown in FIG. 3(c), a second circuit member 5 is further placed on the anisotropically conductive adhesive film 1 placed on the first circuit member 4, with the second circuit electrode 52 facing the first circuit member 4 (i.e., with the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52 facing each other). If the anisotropically conductive adhesive film 1 is laminated on a support (not shown), the support is peeled off and then the second circuit member 5 is placed on the anisotropically conductive adhesive film 1.

そして、異方導電性接着剤フィルム1を加熱しながら、図3(c)の矢印A及びB方向に加圧する。これにより、異方導電性接着剤フィルム1が硬化され、本接続が行われる。その結果、図2に示すような構造体10が得られる。 Then, while heating the anisotropically conductive adhesive film 1, it is pressed in the directions of arrows A and B in Figure 3(c). This hardens the anisotropically conductive adhesive film 1, completing the permanent connection. As a result, a structure 10 like the one shown in Figure 2 is obtained.

上記のようにして得られる構造体10においては、対向する第一の回路電極42及び第二の回路電極52の双方に導電性粒子3を接触させることが可能であり、第一の回路電極42及び第二の回路電極52間の接続抵抗を充分に低減することができる。 In the structure 10 obtained as described above, it is possible to bring the conductive particles 3 into contact with both the opposing first circuit electrode 42 and second circuit electrode 52, thereby sufficiently reducing the connection resistance between the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52.

また、異方導電性接着剤フィルム1を加熱しながら加圧することにより、第一の回路電極42及び第二の回路電極52間の距離を充分に小さくした状態で接着剤成分2が硬化して絶縁性物質7となり、第一の回路部材4と第二の回路部材5とが回路接続部材6を介して強固に接続される。すなわち、構造体10においては、回路接続部材6は、上記接着剤組成物である回路接続材料の硬化物により構成されていることから、第一の回路部材4及び第二の回路部材5に対する回路接続部材6の接着強度が充分に高くなり、特に高温高湿条件下において充分に接着強度が高くなる。また、構造体10では、接着強度が充分に高い状態が長期間にわたって持続される。したがって、構造体10では、第一の回路電極42及び第二の回路電極52間の距離の経時的変化が充分に抑制され、第一の回路電極42及び第二の回路電極52間の電気特性の長期信頼性に優れる。 Furthermore, by applying pressure to the anisotropically conductive adhesive film 1 while heating, the adhesive component 2 hardens to form the insulating material 7 while the distance between the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52 is sufficiently reduced, firmly connecting the first circuit member 4 and the second circuit member 5 via the circuit connecting member 6. In other words, in the structure 10, the circuit connecting member 6 is composed of a cured product of the circuit connecting material, which is the adhesive composition, and therefore the adhesive strength of the circuit connecting member 6 to the first circuit member 4 and the second circuit member 5 is sufficiently high, particularly under high-temperature and high-humidity conditions. Furthermore, in the structure 10, the sufficiently high adhesive strength is maintained for an extended period of time. Therefore, in the structure 10, changes in the distance between the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52 over time are sufficiently suppressed, resulting in excellent long-term reliability of the electrical properties between the first circuit electrode 42 and the second circuit electrode 52.

上記実施形態では、取り扱いが容易である異方導電性接着剤フィルム1を用いて構造体10を製造している。このため、第一の回路部材4と第二の回路部材5との間に異方導電性接着剤フィルム1を容易に介在させることが可能であり、第一の回路部材4と第二の回路部材5との接続を容易に行うことができる。但し、異方導電性接着剤フィルム1に代えて、フィルム状ではない接着剤組成物を用いてもよい。この場合でも、接着剤組成物を溶媒に溶解させて得られる溶液を第一の回路部材4及び第二の回路部材5のいずれか一方に塗布し乾燥させることにより、第一の回路部材4及び第二の回路部材5間に接着剤組成物を介在させることができる。 In the above embodiment, the structure 10 is manufactured using an anisotropically conductive adhesive film 1, which is easy to handle. Therefore, the anisotropically conductive adhesive film 1 can be easily interposed between the first circuit member 4 and the second circuit member 5, facilitating connection between the first circuit member 4 and the second circuit member 5. However, an adhesive composition that is not in film form may be used instead of the anisotropically conductive adhesive film 1. Even in this case, the adhesive composition can be interposed between the first circuit member 4 and the second circuit member 5 by applying a solution obtained by dissolving the adhesive composition in a solvent to either the first circuit member 4 or the second circuit member 5 and drying it.

本実施形態によれば、回路接続への接着剤組成物の応用が提供される。本実施形態によれば、回路接続用接着剤の製造のための接着剤組成物の応用が提供される。本実施形態によれば、構造体の製造のための接着剤組成物の応用が提供される。 This embodiment provides the application of the adhesive composition to circuit connection. This embodiment provides the application of the adhesive composition for the manufacture of an adhesive for circuit connection. This embodiment provides the application of the adhesive composition for the manufacture of a structure.

以下、実施例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は実施例に制限されるものではない。 The present invention will be explained in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

[フィルム状接着剤組成物の作製]
(実施例1)
(A)成分としてN-(α-フェニルベンジル)-4-シアノピリジニウム六フッ化アンチモン、(B)成分として脂環式エポキシ化合物(製品名GT401、株式会社ダイセル製)、(C)成分としてフェノキシ樹脂(製品名YP-70、東都化成株式会社製)を混合した。各成分の混合比を表1に示した。また、導電性粒子を8体積%配合分散させて接着剤組成物を得た。導電性粒子としては、ポリスチレンを核とする粒子の表面に厚み0.2μmのニッケル層を設け且つこのニッケル層の外側に厚み0.02μmの金属を設けた平均粒径3μm、比重2.5の導電性粒子を用いた。さらに、塗工装置を用いて厚み40μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに接着剤組成物を塗布し、70℃、5分の熱風乾燥によって接着剤層の厚みが20μmのフィルム状接着剤組成物を得た。
[Preparation of film-like adhesive composition]
Example 1
N-(α-phenylbenzyl)-4-cyanopyridinium antimony hexafluoride was mixed as component (A), an alicyclic epoxy compound (product name GT401, manufactured by Daicel Corporation) as component (B), and a phenoxy resin (product name YP-70, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) as component (C). The mixing ratios of the components are shown in Table 1. Furthermore, conductive particles were dispersed at 8 volume % to obtain an adhesive composition. The conductive particles used were polystyrene-based particles with an average particle size of 3 μm and a specific gravity of 2.5, each having a 0.2 μm-thick nickel layer on the surface and a 0.02 μm-thick metal layer on the outer surface of the nickel layer. The adhesive composition was then applied to a 40 μm-thick PET (polyethylene terephthalate) film using a coating device, and the resulting film-like adhesive composition had an adhesive layer thickness of 20 μm after hot air drying at 70°C for 5 minutes.

(実施例2)
(A)成分としてナフチルメチル-2-シアノピリジニウム六フッ化アンチモンを用いた以外は実施例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表1に示した。
Example 2
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that naphthylmethyl-2-cyanopyridinium antimony hexafluoride was used as component (A). The mixing ratios of the components are shown in Table 1.

(実施例3)
(A)成分としてシンナミル-2-シアノピリジニウム六フッ化アンチモンを用いた以外は実施例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表1に示した。
Example 3
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that cinnamyl-2-cyanopyridinium hexafluoride was used as component (A). The mixing ratios of the components are shown in Table 1.

(実施例4)
(A)成分としてナフチルメチルジメチル(4-ブロモフェニル)アニリニウム六フッ化アンチモンを用いた以外は実施例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表1に示した。
Example 4
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that naphthylmethyldimethyl(4-bromophenyl)anilinium antimony hexafluoride was used as component (A). The mixing ratios of the components are shown in Table 1.

(実施例5)
(A)成分として、下記の方法に従って合成したベンジルジメチルフェニルアンモニウム六フッ化アンチモンを用いた以外は、実施例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表1に示した。
<ベンジルジメチルフェニルアンモニウム六フッ化アンチモンの合成>
ベンジルジメチルフェニルアンモニウムクロライド(6.19g(25mmol)、東京化成工業株式会社製)及びヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム(7.11g(27.5mmol)、和光純薬工業株式会社製)の10%水溶液を混合し、1時間攪拌した。減圧下で溶剤を除去し、沈殿物を得た。その沈殿物に少量の水を加えて減圧濾過をし、回収した濾取物を乾燥して固体を得た。得られた固体がベンジルジメチルフェニルアンモニウム六フッ化アンチモンであることを、H-NMRスペクトル及び19F-NMRスペクトルにより確認した。
Example 5
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that benzyldimethylphenylammonium antimony hexafluoride synthesized according to the method described below was used as component (A). The mixing ratios of the components are shown in Table 1.
<Synthesis of benzyldimethylphenylammonium antimony hexafluoride>
A 10% aqueous solution of benzyldimethylphenylammonium chloride (6.19 g (25 mmol), manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and sodium hexafluoroantimonate (7.11 g (27.5 mmol), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was mixed and stirred for 1 hour. The solvent was removed under reduced pressure to obtain a precipitate. A small amount of water was added to the precipitate, and the mixture was filtered under reduced pressure. The collected filter cake was dried to obtain a solid. The obtained solid was confirmed to be benzyldimethylphenylammonium antimony hexafluoride by 1 H-NMR spectrum and 19 F-NMR spectrum.

(実施例6)
(A)成分として、下記の方法に従って合成したベンジルジメチルフェニルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(BABF)を用いた以外は、実施例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表1に示した。
<ベンジルジメチルフェニルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(BABF)の合成>
ベンジルジメチルフェニルアンモニウムクロライド(6.19g(25mmol)、東京化成工業株式会社製)及びテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートナトリウム10%水溶液(193.19g(27.5mmol)、株式会社日本触媒製)を混合し、1時間攪拌した。減圧下で溶剤を除去し、沈殿物を得た。その沈殿物に少量の水を加えて減圧濾過をし、回収した濾取物を乾燥して固体を得た。得られた固体がベンジルジメチルフェニルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(BABF)であることを、H-NMRスペクトル及び19F-NMRスペクトルにより確認した。
Example 6
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that benzyldimethylphenylammonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate (BABF), synthesized according to the method described below, was used as component (A). The mixing ratios of each component are shown in Table 1.
<Synthesis of benzyldimethylphenylammonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate (BABF)>
Benzyldimethylphenylammonium chloride (6.19 g (25 mmol), manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and a 10% aqueous solution of sodium tetrakis(pentafluorophenyl)borate (193.19 g (27.5 mmol), manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) were mixed and stirred for 1 hour. The solvent was removed under reduced pressure to obtain a precipitate. A small amount of water was added to the precipitate, which was then filtered under reduced pressure. The collected residue was dried to obtain a solid. The resulting solid was confirmed to be benzyldimethylphenylammonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate (BABF) by 1 H-NMR and 19 F-NMR spectroscopy.

(実施例7)
(B)成分としてオキセタン化合物(製品名OXT-121、東亞合成株式会社製)を用いた以外は実施例6と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表1に示した。
Example 7
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 6, except that an oxetane compound (product name OXT-121, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used as component (B). The mixing ratios of the components are shown in Table 1.

(実施例8)
(B)成分として脂環式エポキシ化合物(製品名GT401、株式会社ダイセル製)及びオキセタン化合物(製品名OXT-121、東亞合成株式会社製)を用いた以外は実施例6と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表1に示した。
(Example 8)
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 6, except that an alicyclic epoxy compound (product name GT401, manufactured by Daicel Corporation) and an oxetane compound (product name OXT-121, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) were used as component (B). The mixing ratios of the components are shown in Table 1.

(比較例1)
(A’)成分としてスルホニム塩化合物(製品名サンエイドSI-60、三新化学工業株式会社製)を用いた以外は実施例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表2に示した。
(Comparative Example 1)
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that a sulfonium salt compound (product name: San-Aid SI-60, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) was used as component (A'). The mixing ratios of each component are shown in Table 2.

(比較例2)
(B)成分としてオキセタン化合物(製品名OXT-121、東亞合成株式会社製)を用いた以外は比較例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表2に示した。
(Comparative Example 2)
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that an oxetane compound (product name OXT-121, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used as component (B). The mixing ratios of the components are shown in Table 2.

(比較例3)
(B)成分として脂環式エポキシ化合物(製品名GT401、株式会社ダイセル製)及びオキセタン化合物(製品名OXT-121、東亞合成株式会社製)を用いた以外は比較例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表2に示した。
(Comparative Example 3)
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that an alicyclic epoxy compound (product name GT401, manufactured by Daicel Corporation) and an oxetane compound (product name OXT-121, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) were used as component (B). The mixing ratios of the components are shown in Table 2.

(比較例4)
(A’)成分としてスルホニム塩化合物(製品名サンエイドSI-80、三新化学工業株式会社製)を用いた以外は比較例1と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表2に示した。
(Comparative Example 4)
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that a sulfonium salt compound (product name: San-Aid SI-80, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) was used as component (A'). The mixing ratios of each component are shown in Table 2.

(比較例5)
(A’)成分としてスルホニム塩化合物(製品名サンエイドSI-80、三新化学工業株式会社製)を用いた以外は比較例2と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表2に示した。
(Comparative Example 5)
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Comparative Example 2, except that a sulfonium salt compound (product name: San-Aid SI-80, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) was used as component (A'). The mixing ratios of each component are shown in Table 2.

(比較例6)
(A’)成分としてスルホニム塩化合物(製品名サンエイドSI-80、三新化学工業株式会社製)を用いた以外は比較例3と同様の方法でフィルム状接着剤組成物を得た。各成分の混合比を表2に示した。
(Comparative Example 6)
A film-like adhesive composition was obtained in the same manner as in Comparative Example 3, except that a sulfonium salt compound (product name: San-Aid SI-80, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) was used as component (A'). The mixing ratios of each component are shown in Table 2.

[DSCの測定]
電子天秤(製品名HR202、株式会社エー・アンド・デイ製)を用いて、各実施例及び比較例で得られたフィルム状接着剤組成物3.0±0.2mgを秤量し、測定試料とした。示差走査熱量測定(DSC)装置(製品名DSC7、PERKIN ELMER社製)を使用し、窒素気流下、測定温度範囲30℃~250℃、昇温速度10℃/分で測定を行い、発熱ピーク温度(硬化温度)を算出した。結果を表1及び2に示した。
[DSC Measurement]
Using an electronic balance (product name HR202, manufactured by A&D Co., Ltd.), 3.0±0.2 mg of the film-like adhesive composition obtained in each Example and Comparative Example was weighed out and used as a measurement sample. Using a differential scanning calorimetry (DSC) device (product name DSC7, manufactured by Perkin Elmer), measurements were carried out under a nitrogen gas flow at a measurement temperature range of 30°C to 250°C and a heating rate of 10°C/min, and the exothermic peak temperature (curing temperature) was calculated. The results are shown in Tables 1 and 2.

以上のDSC測定の結果から、実施例1~8及び比較例1~6のいずれの場合にも、発熱ピークが150℃以下であり、接着剤組成物が比較的低温で硬化することがわかる。特に、(A)成分としてCXC-1612又はCXC1821を用いると共に、(B)成分として脂環式エポキシ化合物GT401を用いた実施例5,6,8では、発熱ピークが約100℃であることから比較的低温で硬化することがわかる。また、実施例5,6,8の発熱ピークが、(A’)成分としてスルホニウム塩化合物を用いると共に、(B)成分として脂環式エポキシ化合物GT401を用いた比較例1,3,4,6と同等であることがわかる。 The above DSC measurement results show that in all cases of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6, the exothermic peak was 150°C or less, indicating that the adhesive composition cures at a relatively low temperature. In particular, in Examples 5, 6, and 8, which used CXC-1612 or CXC1821 as component (A) and the alicyclic epoxy compound GT401 as component (B), the exothermic peak was approximately 100°C, indicating that the adhesive composition cures at a relatively low temperature. It is also clear that the exothermic peaks of Examples 5, 6, and 8 are equivalent to those of Comparative Examples 1, 3, 4, and 6, which used a sulfonium salt compound as component (A') and the alicyclic epoxy compound GT401 as component (B).

[保存安定性の評価]
各実施例及び比較例で得られたフィルム状接着剤組成物の赤外線吸収スペクトルを測定し、(B)成分の官能基(エポキシ基(789cm-1)及びオキセタニル基(979cm-1))由来のピーク面積の合計値と、芳香族基(1610cm-1)由来のピーク面積の合計値との比R0((B)成分の官能基/芳香族基)を算出した。また、各実施例及び比較例で得られたフィルム状接着剤組成物を40℃の恒温装置に1日間放置した。40℃で放置した後のこれらのフィルム状接着剤組成物について、上記と同様に、赤外線吸収スペクトルにおけるピーク面積比Rx((B)成分の官能基/芳香族基)を算出した。下記式(I)によりフィルム状接着剤組成物の硬化率を算出した。結果を表1及び2に示した。
硬化率(%)=(1-Rx/R0)×100 …(I)
[Evaluation of storage stability]
The infrared absorption spectrum of the film-like adhesive composition obtained in each Example and Comparative Example was measured, and the ratio R0 (functional group of component (B)/aromatic group) of the total peak area derived from the functional groups of component (B) (epoxy group (789 cm -1 ) and oxetanyl group (979 cm -1 )) to the total peak area derived from the aromatic group (1610 cm -1 ) was calculated. In addition, the film-like adhesive compositions obtained in each Example and Comparative Example were left in a thermostatic chamber at 40°C for 1 day. For these film-like adhesive compositions after leaving them at 40°C, the peak area ratio Rx (functional group of component (B)/aromatic group) in the infrared absorption spectrum was calculated in the same manner as above. The cure rate of the film-like adhesive composition was calculated using the following formula (I). The results are shown in Tables 1 and 2.
Curing rate (%) = (1-Rx/R0) x 100...(I)

以上の保存安定性の評価から、(A)成分を用いた実施例1~8では殆ど硬化が進行せずに、保存安定性が良好であることがわかる。一方、比較例1~6のようにスルホニウム塩化合物としてSI-60又はSI-80を用いた場合には、硬化が迅速に進行し、いずれの場合にも保存安定性が不良であることがわかる。 The above evaluation of storage stability shows that in Examples 1 to 8, which used component (A), curing hardly progressed, and storage stability was good. On the other hand, when SI-60 or SI-80 was used as the sulfonium salt compound, as in Comparative Examples 1 to 6, curing progressed rapidly, and storage stability was poor in all cases.

[接続体の作製]
ガラス基板(コーニング#1737、外形38mm×28mm、厚さ0.5mm、表面にITO(酸化インジウム錫)配線パターン(パターン幅50μm、ピッチ50μm)を有するもの)に対して、各実施例及び比較例で得られたフィルム状接着剤組成物を2×20mmの大きさでPETフィルムから転写した。表3及び4に示す実装条件(温度及び時間)において荷重80MPa(バンプ面積換算)をかけて加熱加圧し、ICチップ(外形1.7mm×17.2mm、厚さ0.55mm、バンプの大きさ50μm×50μm、バンプのピッチ50μm)を実装した。また、保存安定性の評価後のフィルム状接着剤組成物を用いて同様に実装した。
[Production of connector]
The film-like adhesive compositions obtained in each Example and Comparative Example were transferred from a PET film to a glass substrate (Corning #1737, outer dimensions 38 mm x 28 mm, thickness 0.5 mm, having an ITO (indium tin oxide) wiring pattern (pattern width 50 μm, pitch 50 μm) on the surface) in a size of 2 × 20 mm. Under the mounting conditions (temperature and time) shown in Tables 3 and 4, a load of 80 MPa (equivalent to the bump area) was applied and heat and pressure were applied, and an IC chip (outer dimensions 1.7 mm x 17.2 mm, thickness 0.55 mm, bump size 50 μm x 50 μm, bump pitch 50 μm) was mounted. Furthermore, similar mounting was performed using the film-like adhesive compositions after evaluation of storage stability.

[接続抵抗の測定]
得られた接続体の隣接回路間の抵抗値(14端子測定した中の最大値)を測定した。結果を表3及び4に示した。
[Connection Resistance Measurement]
The resistance between adjacent circuits of the resulting connection body (the maximum value among the 14 terminals measured) was measured. The results are shown in Tables 3 and 4.

実施例1~8のいずれについても、150℃5秒接続での接続抵抗の測定において、保存安定性評価前後で共に10Ω以下と良好な値を示した。また、実施例5,6,8については、130℃5秒接続での接続抵抗の測定においても、保存安定性評価前後で共に10Ω以下と良好な値を示した。一方、スルホニウム塩化合物を用いた比較例1~6では、いずれも保存安定性評価後に接続できなかった。 For all of Examples 1 to 8, when the connection resistance was measured after connection at 150°C for 5 seconds, good values of 10 Ω or less were observed both before and after the storage stability evaluation. Furthermore, for Examples 5, 6, and 8, when the connection resistance was measured after connection at 130°C for 5 seconds, good values of 10 Ω or less were observed both before and after the storage stability evaluation. On the other hand, for Comparative Examples 1 to 6, which used sulfonium salt compounds, no connection could be made after the storage stability evaluation.

1…異方導電性接着剤フィルム、2…接着剤成分、3…導電性粒子、4…第一の回路部材、5…第二の回路部材、6…回路接続部材、7…絶縁性物質、10…構造体、41…第一の回路基板、42…第一の回路電極、51…第二の回路基板、52…第二の回路電極。

1...anisotropic conductive adhesive film, 2...adhesive component, 3...conductive particles, 4...first circuit member, 5...second circuit member, 6...circuit connecting member, 7...insulating material, 10...structure, 41...first circuit board, 42...first circuit electrode, 51...second circuit board, 52...second circuit electrode.

Claims (11)

下記一般式(1)で表されるオニウム塩と、カチオン重合性物質と、を含有し、
前記カチオン重合性物質が脂環式エポキシ化合物を含み、
前記カチオン重合性物質が、オキセタン化合物を含まない、接着剤組成物。

[式(1)中、R、R、R及びRは、各々独立に、水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは未置換のアルケニル基、置換若しくは未置換の複素環基、置換若しくは未置換のアルコキシル基、置換若しくは未置換のアリールオキシ基、又は、置換若しくは未置換の複素環オキシ基を表し、R、R、R及びRは、互いに結合して環構造を形成せず、Xは、PF 、B(C 、Ga(C 、Ga(C 、Ga(C)F 又はC(CFSO を表す。]
The composition contains an onium salt represented by the following general formula (1) and a cationically polymerizable substance,
the cationically polymerizable material comprises an alicyclic epoxy compound;
The adhesive composition, wherein the cationically polymerizable substance does not contain an oxetane compound.

[In formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group; R 1 , R 2 , R 3 and R 4 do not bond to each other to form a ring structure; and X represents PF 6 , B(C 6 F 5 ) 4 , Ga(C 6 F 5 ) 4 , Ga(C 6 F 5 ) 2 F 2 , Ga(C 6 F 5 )F 3 or C(CF 3 SO 2 ) 3 .]
前記オニウム塩が、アニリニウム塩である、請求項1に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition of claim 1, wherein the onium salt is an anilinium salt. 一般式(1)におけるR、R、R及びRのいずれか一つが、置換若しくは未置換のベンジル基、置換若しくは未置換のナフチルメチル基、又は、置換若しくは未置換のシンナミル基である、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。 3. The adhesive composition according to claim 1, wherein any one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in general formula (1) is a substituted or unsubstituted benzyl group, a substituted or unsubstituted naphthylmethyl group, or a substituted or unsubstituted cinnamyl group. フィルム性付与ポリマーを更に含有する、請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3 , further comprising a film-forming polymer. 導電性粒子を更に含有する、請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 4 , further comprising conductive particles. 異方導電性を有する、請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 , which has anisotropic conductivity. 回路接続用である、請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 6 , which is used for connecting circuits. 半導体素子用接着剤として用いられる、請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 6 , which is used as an adhesive for semiconductor elements. ペースト状である、請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to any one of claims 1 to 8 , which is in the form of a paste. 請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物をフィルム状にしてなる、フィルム状接着剤組成物。 A film-like adhesive composition obtained by forming the adhesive composition according to any one of claims 1 to 9 into a film. 請求項1~のいずれか一項に記載の接着剤組成物、又は、請求項10に記載のフィルム状接着剤組成物により被着体同士を接着する、方法。
A method for bonding adherends together using the adhesive composition according to any one of claims 1 to 9 or the film-like adhesive composition according to claim 10 .
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