JP7729362B2 - Multilayer ceramic capacitors - Google Patents
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Description
この発明は、積層セラミックコンデンサに関する。 This invention relates to a multilayer ceramic capacitor.
近年、大容量かつ小型の積層セラミックコンデンサが求められている。このような積層セラミックコンデンサは、例えば、内部電極が印刷される内層用誘電体層と内部電極とが交互に積層され、さらに、その上面と下面に外層用セラミック層が積層され、直方体状に形成された積層体を有する。そしてその積層体の両端面に形成された外部電極を有する。このような積層セラミックコンデンサには、積層体の側面において内部電極が外部電極に接続してしまうことを防止するため、側面上にサイドマージン部と言われる誘電体層が形成されたものがある。 In recent years, there has been a demand for small, high-capacity multilayer ceramic capacitors. Such multilayer ceramic capacitors have a rectangular parallelepiped-shaped laminate, in which, for example, inner dielectric layers on which the internal electrodes are printed and the internal electrodes are alternately laminated, with outer ceramic layers laminated on the top and bottom surfaces of the laminate. External electrodes are also formed on both end surfaces of the laminate. Some such multilayer ceramic capacitors have dielectric layers called side margins formed on the side surfaces of the laminate to prevent the internal electrodes from connecting to the external electrodes on the side surfaces of the laminate.
特許文献1には、前述したようなサイドマージン部を有する積層セラミックコンデンサの製造方法が開示されている。特許文献1に記載の積層セラミックコンデンサの製造方法ではまず、内部電極となる導電膜を表面に形成されたセラミックグリーンシートが積層される。次にマザー積層体が形成され、そのマザー積層体を切断するにあたり、外部電極が形成されない側面において導電膜が露出するように切断される。その結果、積層体チップが得られる。そして、切断された積層体チップの両側に露出した内部電極に対してサイドマージン部となるセラミックスラリーが塗布される。これにより、積層体チップの全幅にわたって内部電極を形成することが可能となるため、静電容量の取得効率を高めるとともに静電容量のばらつきを少なくすることができる。 Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor having the side margins described above. In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor described in Patent Document 1, ceramic green sheets are first stacked, each having a conductive film formed on its surface that will become the internal electrodes. Next, a mother laminate is formed, and the mother laminate is cut so that the conductive film is exposed on the sides where no external electrodes are formed. This results in a laminate chip. Then, ceramic slurry that will become the side margins is applied to the internal electrodes exposed on both sides of the cut laminate chip. This makes it possible to form internal electrodes across the entire width of the laminate chip, thereby improving the efficiency of capacitance acquisition and reducing capacitance variation.
しかしながら、特許文献1の積層セラミックコンデンサは、例えば、より小さい積層セラミックコンデンサのサイズで、より大きな静電容量を得ることを目的としてサイドマージン部の厚み、すなわち、積層体の幅方向に沿った寸法を小さくすると、サイドマージン部の十分な強度が得られない。これにより、特許文献1の積層セラミックコンデンサは、十分な抗折強度が得られないという問題があった。さらに、サイドマージン部に亀裂や欠けが生じ易くなり、その亀裂や欠けから水分が侵入してしまう。これにより、特許文献1の積層セラミックコンデンサの絶縁性が低下してしまうという問題があった。 However, with the multilayer ceramic capacitor of Patent Document 1, for example, if the thickness of the side margins, i.e., the dimension along the width direction of the laminate, is reduced in order to achieve a larger capacitance with a smaller multilayer ceramic capacitor size, the side margins do not have sufficient strength. As a result, the multilayer ceramic capacitor of Patent Document 1 has the problem of not being able to achieve sufficient flexural strength. Furthermore, cracks and chips are likely to occur in the side margins, allowing moisture to penetrate through these cracks and chips. This poses the problem of a decrease in the insulation properties of the multilayer ceramic capacitor of Patent Document 1.
この発明の主たる目的は、サイドマージン部の幅方向の寸法が小さくても、サイドマージン部の強度の向上を図れ、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサを提供することである。 The primary objective of this invention is to provide a multilayer ceramic capacitor with improved reliability by improving the strength of the side margins even when the width of the side margins is small.
この発明に係る積層セラミックコンデンサは、積層方向に積層された誘電体層及び内部電極を含む積層体と、内部電極に接続された外部電極とを備える積層セラミックコンデンサであって、積層体は、積層方向において相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向と交差する幅方向において相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向及び幅方向と交差する長さ方向において相対する第1の端面および第2の端面とを含む形状に形成され、誘電体層と内部電極とを積層方向に積層して構成された内層部と、内層部を積層方向から挟むよう配置された外層部と、内層部及び外層部を幅方向から挟むよう配置されたサイドセラミック層とを有し、内部電極は、第1の端面に露出する第1の内部電極と、第2の端面に露出する第2の内部電極とを有し、外部電極は、第1の端面上に設けられて第1の内部電極に接続された第1の外部電極と、第2の端面上に設けられて第2の内部電極に接続された第2の外部電極とを有し、サイドセラミック層は、内層部側に位置する内側層と、第1の側面側及び第2の側面側に位置する外側層とを有し、外側層のSi含有量が内側層のSi含有量より多く、外側層のSiのmol数/Tiのmol数が3.0以上7.0以下であり、内側層のSiのmol数/Tiのmol数が1.0以上4.0以下である、積層セラミックコンデンサである。
また、この発明に係る積層セラミックコンデンサでは、積層体は、第1の側面および第2の側面における第1の内部電極および第2の内部電極の露出面が、第1の内部電極および第2の内部電極の中央部よりもSiを多く含むことが好ましい。
さらに、この発明に係る積層セラミックコンデンサでは、サイドセラミック層のSiのmol数/Tiのmol数は、1.0以上7.0以下であることが好ましい。
またさらに、サイドセラミック層の幅方向に沿った寸法は、5μm以上40μm以下であることが好ましい。
この発明に係る積層セラミックコンデンサは、積層方向に積層された誘電体層及び内部電極を含む積層体と、内部電極に接続された外部電極とを備える積層セラミックコンデンサであって、積層体は、積層方向において相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向と交差する幅方向において相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向及び幅方向と交差する長さ方向において相対する第1の端面および第2の端面とを含む形状に形成され、誘電体層と内部電極とを積層方向に積層して構成された内層部と、内層部を積層方向から挟むよう配置された外層部と、内層部及び外層部を幅方向から挟むよう配置された空隙部を含むサイドセラミック層とを有し、内部電極は、第1の端面に露出する第1の内部電極と、第2の端面に露出する第2の内部電極とを含み、外部電極は、第1の端面上に形成されて第1の内部電極に接続された第1の外部電極と、第2の端面上に形成されて第2の内部電極に接続された第2の外部電極とを含み、サイドセラミック層は、内層部側に位置する内側層と、第1の側面側及び第2の側面側に位置する外側層とを有し、外側層の空隙部が内側層の空隙部より少ない、積層セラミックコンデンサである。
A multilayer ceramic capacitor according to the present invention is a multilayer ceramic capacitor comprising a laminate including dielectric layers and internal electrodes stacked in a stacking direction, and external electrodes connected to the internal electrodes, wherein the laminate is formed in a shape including a first main surface and a second main surface opposing each other in the stacking direction, a first side surface and a second side surface opposing each other in a width direction intersecting the stacking direction, and a first end face and a second end face opposing each other in a length direction intersecting the stacking direction and the width direction, and the laminate comprises an inner layer portion formed by stacking the dielectric layers and the internal electrodes in the stacking direction, outer layer portions arranged to sandwich the inner layer portion in the stacking direction, and side ceramic layers arranged to sandwich the inner layer portion and the outer layer portion in the width direction. the internal electrodes include a first internal electrode exposed at the first end face and a second internal electrode exposed at the second end face; the external electrodes include a first external electrode provided on the first end face and connected to the first internal electrode, and a second external electrode provided on the second end face and connected to the second internal electrode; the side ceramic layers include an inner layer located on the inner layer portion side and outer layers located on the first side surface side and the second side surface side; the Si content of the outer layer is higher than the Si content of the inner layer; the ratio of moles of Si to moles of Ti of the outer layer is 3.0 or more and 7.0 or less; and the ratio of moles of Si to moles of Ti of the inner layer is 1.0 or more and 4.0 or less .
In addition, in the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, it is preferable that the exposed surfaces of the first internal electrode and the second internal electrode on the first side surface and the second side surface of the laminate contain more Si than the central portions of the first internal electrode and the second internal electrode.
Furthermore, in the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, the ratio of the number of moles of Si to the number of moles of Ti in the side ceramic layers is preferably 1.0 or more and 7.0 or less.
Furthermore, the dimension of the side ceramic layer along the width direction is preferably 5 μm or more and 40 μm or less.
A multilayer ceramic capacitor according to the present invention is a multilayer ceramic capacitor comprising a laminate including dielectric layers and internal electrodes stacked in a stacking direction, and external electrodes connected to the internal electrodes, wherein the laminate is formed in a shape including a first main surface and a second main surface opposing each other in the stacking direction, a first side surface and a second side surface opposing each other in a width direction intersecting the stacking direction, and a first end face and a second end face opposing each other in a length direction intersecting the stacking direction and the width direction, and the laminate comprises an inner layer portion formed by stacking the dielectric layers and the internal electrodes in the stacking direction, and outer layer portions arranged to sandwich the inner layer portion in the stacking direction. and side ceramic layers including voids arranged to sandwich the inner layer portion and the outer layer portion in the width direction, the internal electrodes including a first internal electrode exposed at the first end face and a second internal electrode exposed at the second end face, the external electrodes including a first external electrode formed on the first end face and connected to the first internal electrode, and a second external electrode formed on the second end face and connected to the second internal electrode, the side ceramic layers having an inner layer located on the inner layer portion side and outer layers located on the first side face side and the second side face side, the voids in the outer layers being smaller than the voids in the inner layers.
この発明に係る積層セラミックコンデンサでは、誘電体層と内部電極とを積層方向に積層して構成された内層部と、内層部を積層方向から挟むよう配置された外層部と、内層部及び外層部を幅方向から挟むよう配置されたサイドセラミック層とを有し、内部電極は、第1の端面に露出する第1の内部電極と、第2の端面に露出する第2の内部電極とを有し、外部電極は、第1の端面上に設けられて第1の内部電極に接続された第1の外部電極と、第2の端面上に設けられて第2の内部電極に接続された第2の外部電極とを有し、サイドセラミック層は、内層部側に位置する内側層と、第1の側面側及び第2の側面側に位置する外側層とを有し、外側層のSi含有量が内側層のSi含有量より多いので、サイドマージン部の強度を向上させることができるため、積層セラミックコンデンサの抗折強度が向上する。また、サイドマージン部の亀裂や欠けが生じ難くなり、水分の進入を防止することができることから、積層セラミックコンデンサの絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサを提供することができる。 The multilayer ceramic capacitor according to the present invention comprises an inner layer portion formed by stacking dielectric layers and internal electrodes in the stacking direction, outer layer portions arranged to sandwich the inner layer portion in the stacking direction, and side ceramic layers arranged to sandwich the inner layer portion and outer layer portion in the width direction. The internal electrodes include a first internal electrode exposed at the first end face and a second internal electrode exposed at the second end face. The external electrodes include a first external electrode provided on the first end face and connected to the first internal electrode, and a second external electrode provided on the second end face and connected to the second internal electrode. The side ceramic layers include an inner layer located on the inner layer portion side and outer layers located on the first side face and the second side face. Since the Si content of the outer layer is higher than that of the inner layer, the strength of the side margin portion can be improved, thereby improving the flexural strength of the multilayer ceramic capacitor. Furthermore, cracks and chips are less likely to occur in the side margin portion, preventing moisture intrusion and ensuring the insulation of the multilayer ceramic capacitor. As a result, a multilayer ceramic capacitor with improved reliability can be provided.
この発明によれば、サイドマージン部の幅方向の寸法が小さくても、サイドマージン部の強度の向上を図れ、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサを提供することができる。 This invention makes it possible to improve the strength of the side margins even when the width dimension of the side margins is small, thereby providing a multilayer ceramic capacitor with improved reliability.
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明を実施するための形態の説明から一層明らかとなろう。 The above and other objects, features, and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the invention, which proceeds with reference to the drawings.
1.積層セラミックコンデンサ
この発明に係る積層セラミックコンデンサの一実施例について、図1~4を参照して説明する。図1は、実施の形態の積層セラミックコンデンサを示す外観斜視図である。図2は、実施の形態の積層セラミックコンデンサを示す図1のA-A断面図である。図3は、実施の形態の積層セラミックコンデンサを示す図1のB-B断面図である。図4は、実施の形態の積層セラミックコンデンサを示す図3のC部拡大図である。
1. Multilayer Ceramic Capacitor One embodiment of the multilayer ceramic capacitor according to the present invention will be described with reference to Figures 1 to 4. Figure 1 is an external perspective view showing the multilayer ceramic capacitor according to the embodiment. Figure 2 is a cross-sectional view taken along line A-A in Figure 1 showing the multilayer ceramic capacitor according to the embodiment. Figure 3 is a cross-sectional view taken along line B-B in Figure 1 showing the multilayer ceramic capacitor according to the embodiment. Figure 4 is an enlarged view of part C in Figure 3 showing the multilayer ceramic capacitor according to the embodiment.
図1に示されるように、この実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、概略、積層体12と、積層体12の両端面にそれぞれ形成された第1および第2の外部電極40、42とから構成される。 As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor 10 of this embodiment is generally composed of a laminate 12 and first and second external electrodes 40, 42 formed on both end surfaces of the laminate 12, respectively.
本発明に係る積層セラミックコンデンサ10の大きさは“長さ(L)方向の寸法×幅(W)方向の寸法×積層(T)方向の寸法”として記載すると例えば、“1.6mm×0.8mm×0.8mm”、“1.0mm×0.5mm×0.5mm”、“0.6mm×0.3mm×0.3mm”、“0.4mm×0.2mm×0.2mm”、“0.2mm×0.1mm×0.1mm”といった大きさとなることが通常想定される。 The size of the multilayer ceramic capacitor 10 according to the present invention, when expressed as "length (L) direction dimension x width (W) direction dimension x stacking (T) direction dimension," is typically expected to be, for example, "1.6 mm x 0.8 mm x 0.8 mm," "1.0 mm x 0.5 mm x 0.5 mm," "0.6 mm x 0.3 mm x 0.3 mm," "0.4 mm x 0.2 mm x 0.2 mm," or "0.2 mm x 0.1 mm x 0.1 mm."
図1に示されるように積層体12は、略直方体状に形成される。この積層体12は幅(W)方向および積層(T)方向に沿って延びる第1の端面13および第2の端面14と、長さ(L)方向および積層(T)方向に沿って延びる第1の側面15および第2の側面16と、長さ(L)方向および幅(W)方向に沿って延びる第1の主面17および第2の主面18とを有する。第1の端面13および第2の端面14は互いに対向し、第1の側面15および第2の側面16は互いに対向し、そして第1の主面17および第2の主面18は互いに対向する。また、第1の側面15および第2の側面16は、第1の端面13および第2の端面14に直交し、第1の主面17および第2の主面18は、第1の端面13および第1の側面15に直交する。なお、積層体12は、略直方体の形状を有していれば、角部および稜部には、丸み等が形成されていることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the laminate 12 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. The laminate 12 has a first end face 13 and a second end face 14 extending along the width (W) direction and the stacking (T) direction, a first side face 15 and a second side face 16 extending along the length (L) direction and the stacking (T) direction, and a first main face 17 and a second main face 18 extending along the length (L) direction and the width (W) direction. The first end face 13 and the second end face 14 face each other, the first side face 15 and the second side face 16 face each other, and the first main face 17 and the second main face 18 face each other. The first side face 15 and the second side face 16 are perpendicular to the first end face 13 and the second end face 14, and the first main face 17 and the second main face 18 are perpendicular to the first end face 13 and the first side face 15. Furthermore, if the laminate 12 has a substantially rectangular parallelepiped shape, it is preferable that the corners and edges are rounded.
図2に示されるように、積層体12は、内層用セラミック層20同士の界面に、第1の内部電極22が配設され、第1の内部電極22と対向するように内層用セラミック層20を挟んで第2の内部電極24が配設されている。このような内層用セラミック層20、第1の内部電極22および第2の内部電極24の組み合わせを複数積層することで内層部26を構成する。この内層部26を積層(T)方向から挟むように外層部28及び外層部30が設けられる。外層部28は、複数の外層用セラミック層46を有し、外層部30は、複数の外層部セラミック層48を有する。内層部26および外層部28、30を幅(W)方向から挟むようにサイドマージン部32及び34が設けられる。これらサイドマージン部32及び34は、複数のサイドマージン用セラミック層により構成される。換言すると、内層部26は、積層(T)方向に沿って、第1の主面17に最も近い第1の内部電極22bと、第2の主面18に最も近い第2の内部電極24bに挟まれた領域である。また、サイドマージン部32、34は、積層体12を積層(T)方向からみた断面において、第1の内部電極22および第2の内部電極24が存在しない領域である。 As shown in FIG. 2 , the laminate 12 has a first internal electrode 22 disposed at the interface between the inner layer ceramic layers 20, and a second internal electrode 24 disposed opposite the first internal electrode 22, sandwiching the inner layer ceramic layer 20. The inner layer portion 26 is formed by stacking multiple combinations of such inner layer ceramic layers 20, first internal electrodes 22, and second internal electrodes 24. The outer layer portion 28 and the outer layer portion 30 are provided to sandwich the inner layer portion 26 in the stacking (T) direction. The outer layer portion 28 has multiple outer layer ceramic layers 46, and the outer layer portion 30 has multiple outer layer ceramic layers 48. Side margin portions 32 and 34 are provided to sandwich the inner layer portion 26 and the outer layer portions 28 and 30 in the width (W) direction. These side margin portions 32 and 34 are composed of multiple side margin ceramic layers. In other words, the inner layer portion 26 is the region sandwiched along the stacking (T) direction between the first internal electrode 22b closest to the first main surface 17 and the second internal electrode 24b closest to the second main surface 18. Furthermore, the side margin portions 32, 34 are regions where the first internal electrode 22 and the second internal electrode 24 are not present in a cross section of the laminate 12 viewed from the stacking (T) direction.
複数の内層用セラミック層20それぞれは、第1の内部電極22と、第2の内部電極24との間に挟まれるように形成される。内層用セラミック層20は、例えば、Ba、Tiを含有するペロブスカイト型化合物を主成分とし、ペロブスカイト構造を備える誘電体セラミック粒子からなる。また、これらの主成分に、Si、MgおよびBaのうちの少なくとも一種が添加剤として加えられてもよい。添加剤は、セラミック粒子間に存在する。焼成後の内層用セラミック層20の厚みは、0.2μm以上10μm以下となる。 Each of the multiple inner ceramic layers 20 is formed so as to be sandwiched between a first internal electrode 22 and a second internal electrode 24. The inner ceramic layers 20 are composed of dielectric ceramic particles with a perovskite structure, primarily composed of a perovskite-type compound containing, for example, Ba and Ti. At least one of Si, Mg, and Ba may also be added as an additive to these primary components. The additive is present between the ceramic particles. The thickness of the inner ceramic layers 20 after firing is 0.2 μm or more and 10 μm or less.
積層体12では、上下に配設された外層部28、30を構成する外層用セラミック層46、48は、内層用セラミック層20と同じ誘電体セラミック材料から形成される。なお、外層用セラミック層46、48は、内層用セラミック層20と異なる材料で形成されてもよい。また、外層用セラミック層46、48がそれぞれ複層構造である場合、最も第1および第2の内部電極22b、24bの側に位置する外層用セラミック層46、48のSiの偏析部分よりも、その他の外層用セラミック層46、48の偏析部分のほうが多いことが好ましい。これにより、積層セラミックコンデンサ10の積層(T)方向側からの抗折強度を向上させることができる。なお、焼成後の外層部28、30の厚みは、15μm以上40μm以下となる。なお、外層用セラミック層46、48それぞれは、複数ではなく単層構造であってもよい。 In the laminate 12, the outer ceramic layers 46, 48 constituting the upper and lower outer layer portions 28, 30 are formed from the same dielectric ceramic material as the inner ceramic layers 20. The outer ceramic layers 46, 48 may be formed from a different material than the inner ceramic layers 20. When the outer ceramic layers 46, 48 each have a multi-layer structure, it is preferable that the Si segregation portion of the outer ceramic layers 46, 48 closest to the first and second internal electrodes 22b, 24b be greater than the Si segregation portion of the other outer ceramic layers 46, 48. This improves the flexural strength of the multilayer ceramic capacitor 10 from the stacking (T) direction. The thickness of the outer layer portions 28, 30 after firing is 15 μm or more and 40 μm or less. Each of the outer ceramic layers 46, 48 may have a single-layer structure rather than a multiple-layer structure.
第1の内部電極22と第2の内部電極24とは、積層(T)方向において、内層用セラミック層20を介して対向している。この第1の内部電極22と第2の内部電極24とが、内層用セラミック層20を介して対向している部分により静電容量が発生する。 The first internal electrode 22 and the second internal electrode 24 face each other in the stacking (T) direction, with the inner layer ceramic layer 20 interposed between them. Electrostatic capacitance is generated by the portion where the first internal electrode 22 and the second internal electrode 24 face each other, with the inner layer ceramic layer 20 interposed between them.
内層用セラミック層20は、幅(W)方向および長さ(L)方向に沿って延びており、複数の第1の内部電極22それぞれは、内層用セラミック層20に沿って平板状に延びる。複数の第1の内部電極22それぞれは、積層体12の第1の端面13に引き出され、第1の外部電極40に電気的に接続される。また、複数の第2の内部電極24それぞれは、第1の内部電極22と内層用セラミック層20を介して対向するように平板状に延びる。複数の第2の内部電極24それぞれは、積層体12の第2の端面14に引き出され、第2の外部電極42に電気的に接続される。 The inner layer ceramic layers 20 extend in the width (W) and length (L) directions, and each of the multiple first internal electrodes 22 extends in a flat plate shape along the inner layer ceramic layers 20. Each of the multiple first internal electrodes 22 is extended to the first end surface 13 of the laminate 12 and electrically connected to the first external electrode 40. Each of the multiple second internal electrodes 24 extends in a flat plate shape so as to face the first internal electrode 22 across the inner layer ceramic layer 20. Each of the multiple second internal electrodes 24 is extended to the second end surface 14 of the laminate 12 and electrically connected to the second external electrode 42.
第1および第2の内部電極22、24それぞれの厚みは、例えば0.3μm以上2.0μm以下である。第1および第2の内部電極22、24は、Niを含むことが好ましい。なお、Ni以外に、例えば、Cu、Ag、Pd、Ag-Pd合金、Auなどの金属を含むことができる。なお、第1および第2の内部電極22、24は、内層用セラミック層20と同じ誘電体粒子を含んでもよい。 The thickness of each of the first and second internal electrodes 22, 24 is, for example, 0.3 μm or more and 2.0 μm or less. The first and second internal electrodes 22, 24 preferably contain Ni. In addition to Ni, they may contain metals such as Cu, Ag, Pd, Ag-Pd alloy, and Au. The first and second internal electrodes 22, 24 may contain the same dielectric particles as the inner ceramic layer 20.
図4に示されるように、第1および第2の内部電極22、24の最もサイドマージン部32、34側に露出している面を含む部位には、Siが偏析している。Siはサイドマージン部から幅(W)方向の中央部に向かって、少なくとも0.5μm以下の範囲内には内部電極に偏析領域を有しており、偏析部22a、24aを形成している。換言すると、偏析部22aは、第1の内部電極22のサイドマージン部32、34側に形成されており、偏析部24aは、第2の内部電極24のサイドマージン部32、34側に形成されている。この偏析部22a、24aにより、積層セラミックコンデンサ10の抗折強度が向上する。 As shown in FIG. 4, Si segregates in the portions of the first and second internal electrodes 22, 24 that include the surfaces closest to the side margins 32, 34. Si has segregated regions in the internal electrodes within a range of at least 0.5 μm from the side margins toward the center in the width (W) direction, forming segregation portions 22a, 24a. In other words, segregation portion 22a is formed on the side margins 32, 34 side of the first internal electrode 22, and segregation portion 24a is formed on the side margins 32, 34 side of the second internal electrode 24. These segregation portions 22a, 24a improve the flexural strength of the multilayer ceramic capacitor 10.
積層体12を積層(T)方向からの断面としてみて、第1の内部電極22と第2の内部電極24が存在しない領域をサイドマージン部32、34とすると、サイドマージン部32、34が、複数のサイドマージン層を有し、最も内部電極22、24側のサイドマージン層より、それ以外のサイドマージン層のSiの含有量が多いので、サイドマージン部32、34の強度を上げることができる。これにより、積層セラミックコンデンサ10の抗折強度を向上させることができる。さらに、サイドマージン部32、34に亀裂や欠けが生じ難くなり、水分の浸入を防止できる。これにより、積層セラミックコンデンサ10の絶縁性を確保することができる。その結果、十分に信頼性のある積層セラミックコンデンサ10を得ることができる。 When the laminate 12 is viewed as a cross section in the lamination (T) direction, and the regions where the first internal electrode 22 and the second internal electrode 24 are not present are defined as the side margins 32, 34, the side margins 32, 34 have multiple side margin layers. The Si content of the other side margin layers is higher than that of the side margin layer closest to the internal electrodes 22, 24, which increases the strength of the side margins 32, 34. This improves the flexural strength of the multilayer ceramic capacitor 10. Furthermore, cracks and chips are less likely to occur in the side margins 32, 34, preventing moisture penetration. This ensures the insulation of the multilayer ceramic capacitor 10. As a result, a sufficiently reliable multilayer ceramic capacitor 10 can be obtained.
また、積層体12が、第1の内部電極22および第2の内部電極24はサイドマージン部32、34側に偏析部22a、24aを含んでおり、偏析部22a、24aは、Siを含む場合、積層セラミックコンデンサの抗折強度をさらに向上させることができる。サイドマージン部32、34それぞれは、積層体12の第1および第2の側面15、16側に位置するアウター層32a、34aと、第1および第2の内部電極22、24側に位置するインナー層32b、34bとを含む複層構造である。なお、サイドマージン部32、34が複層構造であることは、アウター層32a、34aとインナー層32b、34bにおける焼結性の違いにより、光学顕微鏡を用いて観察することで容易に確認することができる。 In addition, when the first internal electrode 22 and the second internal electrode 24 of the laminate 12 include segregation portions 22a and 24a on the side margin portions 32 and 34 side, and the segregation portions 22a and 24a contain Si, the flexural strength of the multilayer ceramic capacitor can be further improved. The side margin portions 32 and 34 each have a multilayer structure including outer layers 32a and 34a located on the first and second side surfaces 15 and 16 side of the laminate 12, and inner layers 32b and 34b located on the first and second internal electrodes 22 and 24 side. The fact that the side margin portions 32 and 34 have a multilayer structure can be easily confirmed by observation with an optical microscope due to the difference in sinterability between the outer layers 32a and 34a and the inner layers 32b and 34b.
焼成後のサイドマージン部32、34の幅(W)方向の寸法は、例えば5μm以上40μm以下とする。より好ましくは、20μm以下である。また、アウター層32a、34aの幅(W)方向の寸法は、インナー層32b、34bの幅(W)方向の寸法よりも大きい。具体的には、アウター層32a、34aの幅(W)方向の寸法は、5μm以上20μm以下である。インナー層32b、34bの幅(W)方向の寸法は、0.1μm以上20μm以下である。 The width (W) dimension of the side margin portions 32, 34 after firing is, for example, 5 μm or more and 40 μm or less. More preferably, it is 20 μm or less. Furthermore, the width (W) dimension of the outer layers 32a, 34a is larger than the width (W) dimension of the inner layers 32b, 34b. Specifically, the width (W) dimension of the outer layers 32a, 34a is 5 μm or more and 20 μm or less. The width (W) dimension of the inner layers 32b, 34b is 0.1 μm or more and 20 μm or less.
なお、この発明におけるサイドマージン部32、34の幅(W)方向の寸法とは、積層(T)方向に沿って、サイドマージン部32、34の寸法を複数箇所で測定し、測定結果により算出された平均寸法を意味する。測定方法は次の通りである。まず、積層セラミックコンデンサ10の幅(W)方向と積層(T)方向を含む面(以下、「WT断面」という)を露出させる。次に、WT断面の第1および第2の内部電極22、24の幅(W)方向の端部とサイドマージン部32、34のうちいずれか一方のサイドマージン部が同一視野に収まるように光学顕微鏡により撮像する。撮像箇所は積層(T)方向において、上部、中央部および下部の3箇所をそれぞれ撮像する。そして、上部、中央部および下部において、第1および第2の内部電極22、24の幅(W)方向の端部から第1および第2の側面15、16に向かって幅(W)方向に平行な複数の線分をそれぞれ引き、それぞれの線分の長さを測定する。このように測定した線分の長さについて、上部、中央部および下部それぞれの平均値を算出する。また、それぞれの平均値をさらに平均化することでサイドマージン部32、34の厚み寸法が得られる。 In this invention, the width (W) direction dimension of the side margins 32, 34 refers to the average dimension calculated from the measurement results of measuring the dimensions of the side margins 32, 34 at multiple locations along the stacking (T) direction. The measurement method is as follows: First, a surface including the width (W) direction and the stacking (T) direction of the multilayer ceramic capacitor 10 (hereinafter referred to as the "WT cross section") is exposed. Next, an optical microscope is used to image the WT cross section so that the width (W) direction ends of the first and second internal electrodes 22, 24 and one of the side margins 32, 34 are within the same field of view. Images are taken at three locations in the stacking (T) direction: the top, center, and bottom. Then, at the top, center, and bottom, multiple line segments parallel to the width (W) direction are drawn from the width (W) direction ends of the first and second internal electrodes 22, 24 toward the first and second side surfaces 15, 16, and the length of each line segment is measured. The average length of the line segments measured in this way is calculated for each of the top, center, and bottom portions. The thickness dimensions of the side margins 32, 34 are then obtained by further averaging these average values.
サイドマージン部32、34は、例えば、BaTiO3などの主成分からなるペロブスカイト構造を備える誘電体セラミック材料からなる。これらの主成分にSiが添加剤として加えられ、セラミック粒子間にそれらの添加剤が偏析している部分が存在する。Siの偏析部分が存在することにより、サイドマージン部32、34の抗折強度が向上する。Siは、アウター層32a、34aでは、Siのmol数/Tiのmol数が3.0以上7.0以下添加され、インナー層32b、34bでは、Siのmol数/Tiのmol数が1.0以上4.0以下添加される。特に、アウター層32a、34aのSiの偏析部分は、インナー層32b、34bのSiの偏析部分よりも多く存在している。 The side margin portions 32, 34 are made of a dielectric ceramic material with a perovskite structure, primarily composed of BaTiO3 , for example. Si is added as an additive to these primary components, and portions where the additive segregates exist between ceramic particles. The presence of the segregated Si portions improves the flexural strength of the side margin portions 32, 34. Si is added to the outer layers 32a, 34a in a ratio of 3.0 to 7.0 moles of Si/Ti moles, and to the inner layers 32b, 34b in a ratio of 1.0 to 4.0 moles of Si/Ti moles. In particular, the segregated Si portions in the outer layers 32a, 34a are greater than the segregated Si portions in the inner layers 32b, 34b.
図5は、積層セラミックコンデンサ10が備えるサイドマージン部のSiの偏析部分を波長分散型X線分析装置(以後、WDXと呼ぶ)により撮像した図である。サイドマージン部32、34のSiの偏析部分は、積層体12の長さ(L)方向の略中央において、WT断面を露出させた後、WDXを用いて観察することで確認することができる。さらに、第1および第2の内部電極22、24の最もサイドマージン部32、34側には、Siの偏析部22a、24aが形成されていることを確認することができる。なお、SiだけでなくMgの偏析も確認されている。図6~8は、積層セラミックコンデンサ10の同じ箇所(サイドマージン部表面近傍)をWDSにより撮像した図であり、図6がMgの偏析部分を撮像した図、図7がNiの偏析部分を撮像した図、図8がSiの偏析部分を撮像した図である。 Figure 5 shows images of Si segregation in the side margins of the multilayer ceramic capacitor 10 taken with a wavelength-dispersive X-ray analyzer (hereinafter referred to as WDX). The Si segregation in the side margins 32, 34 can be confirmed by exposing a WT cross section at approximately the center of the laminate 12 in the length (L) direction and then observing it with WDX. Furthermore, it can be seen that Si segregation 22a, 24a is formed on the first and second internal electrodes 22, 24 closest to the side margins 32, 34. Segregation of not only Si but also Mg was also confirmed. Figures 6 to 8 show images of the same location (near the surface of the side margins) of the multilayer ceramic capacitor 10 taken with WDS. Figure 6 shows an image of the Mg segregation, Figure 7 shows an image of the Ni segregation, and Figure 8 shows an image of the Si segregation.
内層用セラミック層20、アウター層32a、34aおよびインナー層32b、34bそれぞれのセラミック粒子間における添加剤であるBaの量は、
内層用セラミック層20<アウター層32a、34a<インナー層32b、34b、
である。
このように、内層用セラミック層20、アウター層32a、34aおよびインナー層32b、34bそれぞれのセラミック粒子間におけるBaの含有量が異なる。なお、Baの含有量の違いは、TEM分析により見出すことができる。
The amount of Ba, which is an additive, between the ceramic particles of the inner ceramic layer 20, the outer layers 32a and 34a, and the inner layers 32b and 34b is as follows:
Inner ceramic layer 20<outer layers 32a, 34a<inner layers 32b, 34b,
is.
Thus, the Ba content differs between the ceramic particles of the inner ceramic layer 20, the outer layers 32a, 34a, and the inner layers 32b, 34b. The difference in Ba content can be detected by TEM analysis.
また、内層部26、サイドマージン部32、34のアウター層32a、34aおよびインナー層32b、34bにおけるBaの含有量は、Tiが1molに対するmol比が、センター値で、
アウター層32a、34aは、1.01より大きく1.020以下、
インナー層32b、34bは、1.020より大きく1.040未満、
内層部26は、0.99より大きく1.01未満、
であるように調合される。
The content of Ba in the outer layers 32 a, 34 a and the inner layers 32 b, 34 b of the inner layer portion 26 and the side margin portions 32, 34 is such that the molar ratio of Ba to 1 mol of Ti is, at the center value,
The outer layers 32a and 34a are greater than 1.01 and less than or equal to 1.020.
The inner layers 32b and 34b are greater than 1.020 and less than 1.040.
The inner layer portion 26 is greater than 0.99 and less than 1.01.
It is formulated so that
なお、上記したmol比を確認する方法は、次の通りである。まず、サイドマージン部32、34側から積層体12のサイドマージン部32、34におけるアウター層32a、34aおよびインナー層32b、34bを研磨する。次に、研磨することにより得られたアウター層32a、34aおよびインナー層32b、34bの粉それぞれを酸により溶解する。そして、ICP発光分光分析を行うことにより、アウター層32a、34aおよびインナー層32b、34bそれぞれが上記mol比であるかの確認をすることができる。 The above-mentioned molar ratios can be confirmed as follows. First, the outer layers 32a, 34a and inner layers 32b, 34b in the side margins 32, 34 of the laminate 12 are polished from the side margins 32, 34 side. Next, the powders of the outer layers 32a, 34a and inner layers 32b, 34b obtained by polishing are dissolved in acid. Then, ICP emission spectroscopy can be performed to confirm whether the outer layers 32a, 34a and inner layers 32b, 34b each have the above-mentioned molar ratio.
アウター層32a、34aのセラミック粒子間のBaの含有量に対して、インナー層32b、34bのセラミック粒子間のBaの含有量が100%を超えて140%未満の範囲で多く添加される。 The Ba content between the ceramic particles of the inner layers 32b and 34b is increased by more than 100% and less than 140% compared to the Ba content between the ceramic particles of the outer layers 32a and 34a.
また、サイドマージン部32、34は、内部電極側から側面側に向かって空隙部が減少するように形成される。すなわち、アウター層32a、34aにおける空隙部は、インナー層32b、34bにおける空隙部よりも少ない。これにより、サイドマージン部32、34から積層体12の内側への水分の侵入が抑制されるため、積層セラミックコンデンサ10の耐湿性を向上させることができる。さらに、積層セラミックコンデンサ10の絶縁性を確保することができる。 The side margins 32, 34 are also formed so that the voids decrease from the internal electrode side toward the side surfaces. That is, the voids in the outer layers 32a, 34a are smaller than the voids in the inner layers 32b, 34b. This prevents moisture from penetrating into the inside of the laminate 12 from the side margins 32, 34, thereby improving the moisture resistance of the multilayer ceramic capacitor 10. Furthermore, the insulation properties of the multilayer ceramic capacitor 10 can be ensured.
(第1および第2の外部電極40、42)
第1の外部電極40は、積層体12の第1の端面13を覆うように形成され、且つ積層体12の第1の端面13に引き出された第1の内部電極22と電気的に接続される。また、第2の外部電極42は、積層体12の第2の端面14を覆うように形成され、且つ積層体12の第2の端面14に引き出された第2の内部電極24と電気的に接続される。
(First and second external electrodes 40, 42)
The first external electrode 40 is formed so as to cover the first end face 13 of the laminate 12, and is electrically connected to the first internal electrode 22 extended to the first end face 13 of the laminate 12. The second external electrode 42 is formed so as to cover the second end face 14 of the laminate 12, and is electrically connected to the second internal electrode 24 extended to the second end face 14 of the laminate 12.
図1及び図2に示されるように、第1の外部電極40は、ベース電極層40a、そのベース電極層40aの表面に形成された下層めっき40b、及びその下層めっき40bの表面に形成された上層めっき40cとを含む3層構造である。ベース電極層40aは、積層体12の第1の端面13の全体を覆うように設けられるとともに、その端面13を覆う部分から、第1の側面15および第2の側面16それぞれの一部並びに第1の主面17および第2の主面18それぞれの一部を覆うように設けられる。 As shown in Figures 1 and 2, the first external electrode 40 has a three-layer structure including a base electrode layer 40a, an underlayer plating 40b formed on the surface of the base electrode layer 40a, and an upper layer plating 40c formed on the surface of the underlayer plating 40b. The base electrode layer 40a is provided to cover the entire first end face 13 of the laminate 12, and is also provided to cover from the portion covering the end face 13 to portions of each of the first side face 15 and second side face 16 and each of the first main face 17 and second main face 18.
図1及び図2に示されるように、第2の外部電極42は、ベース電極層42aと、そのベース電極層42aの表面に形成された下層めっき42bと、その下層めっき42bの表面に形成された上層めっき42cとを含む3層構造である。ベース電極層42aは、積層体12の第2の端面14の全体を覆うように設けられるとともに、その端面14を覆う部分から、第1の側面15および第2の側面16それぞれの一部並びに第1の主面17および第2の主面18それぞれの一部を覆うように設けられる。 As shown in Figures 1 and 2, the second external electrode 42 has a three-layer structure including a base electrode layer 42a, an underlayer plating 42b formed on the surface of the base electrode layer 42a, and an upper layer plating 42c formed on the surface of the underlayer plating 42b. The base electrode layer 42a is provided to cover the entire second end face 14 of the laminate 12, and is provided to cover from the portion covering the end face 14 to portions of each of the first side face 15 and the second side face 16, and each of the first main face 17 and the second main face 18.
ベース電極層40a、42aは、焼付けにより形成されたCuを含むことが好ましい。なお、Cu以外に、例えば、Ni、Ag、Pd、Ag-Pd合金、またはAuなどを含むことができる。また、ベース電極層40a、42aは、複数層であってもよい。なお、ベース電極層40a、42aは、第1の内部電極22および第2の内部電極24と同時焼成した、いわゆるコファイアにより形成されてもよいし、導電性ペーストを塗布して焼き付けた、いわゆるポストファイアにより形成されてもよい。また、ベース電極層40a、42aは、直接めっきにより形成されていてもよいし、導電性粒子と熱硬化性樹脂を含む樹脂層を硬化させることにより形成されてもよい。 The base electrode layers 40a, 42a preferably contain Cu formed by baking. In addition to Cu, they may contain, for example, Ni, Ag, Pd, an Ag-Pd alloy, or Au. The base electrode layers 40a, 42a may also be multi-layered. The base electrode layers 40a, 42a may be formed by co-firing with the first internal electrode 22 and the second internal electrode 24, or by post-firing, in which a conductive paste is applied and baked. The base electrode layers 40a, 42a may also be formed by direct plating, or by curing a resin layer containing conductive particles and a thermosetting resin.
下層めっき40b、42bは、はんだ喰われを防止するためにNiを含むことが好ましい。また、上層めっき40c、42cは、実装性を高めるためにSnを含むことが好ましい。なお、下層めっき40b、42bはNi以外に、または上層めっき40c、42cとして、Sn以外に、例えば、Cu、Ag、Pd、Ag-Pd合金、又はAuなどを含むことができる。なお、ベース電極層40aと下層めっき40bとの間、およびベース電極層42aと下層めっき42bとの間に、応力緩和用の導電性樹脂層が形成されてもよい。また、積層体12に直接めっきすることで、めっきにより第1および第2の外部電極40、42が形成されてもよい。 The lower layer plating 40b, 42b preferably contains Ni to prevent solder leaching. The upper layer plating 40c, 42c preferably contains Sn to improve mountability. The lower layer plating 40b, 42b may contain, in addition to Ni, or the upper layer plating 40c, 42c may contain, in addition to Sn, for example, Cu, Ag, Pd, an Ag-Pd alloy, or Au. A conductive resin layer for stress relief may be formed between the base electrode layer 40a and the lower layer plating 40b, and between the base electrode layer 42a and the lower layer plating 42b. The first and second external electrodes 40, 42 may also be formed by plating directly onto the laminate 12.
なお、外部電極40、42として直接めっきする場合、第1および第2の内部電極22、24としてNiを用いる場合、下層めっき40b、42bとしてNiと接合性のよいCuを用いることが好ましい。さらに、上層めっき40c、42cは、下層めっき40b、42bの表面に形成された上層めっき第1層と、上層めっき第1層の表面に形成された上層めっき第2層とを含む2層構造であることが好ましい。上層めっき第1層は、はんだ喰われを防止する機能を有するNiを含むことが好ましい。上層めっき第2層は、はんだ濡れ性のよいSnやAuを含むことが好ましい。 When directly plating the external electrodes 40, 42, and when using Ni for the first and second internal electrodes 22, 24, it is preferable to use Cu, which has good bonding properties with Ni, for the underlayer plating 40b, 42b. Furthermore, it is preferable that the upper layer plating 40c, 42c have a two-layer structure including a first upper layer plating layer formed on the surface of the underlayer plating 40b, 42b, and a second upper layer plating layer formed on the surface of the first upper layer plating. The first upper layer plating preferably contains Ni, which has the function of preventing solder leaching. The second upper layer plating preferably contains Sn or Au, which have good solder wettability.
図3に示されるように、この実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、そのサイドマージン部32、34が、複数の層からなる。サイドマージン部32は、アウター層32aおよびインナー層32bを有する。インナー層32bは、第1および第2の内部電極22、24とアウター層32aの間に配置されている。最も第1および第2の内部電極22、24側に配置されているインナー層32bより、インナー層32b以外のサイドマージン層であるアウター層32aのSiの含有量が多い。サイドマージン部34は、アウター層34aおよびインナー層34bを有する。インナー層34bは、第1および第2の内部電極22、24とアウター層の間に配置されている。最も第1および第2の内部電極22、24側に配置されているインナー層34bより、インナー層34b以外のサイドマージン層であるアウター層34aのSiの含有量が多い。これにより、サイドマージン部32、34の強度の向上を図ることができるため、積層セラミックコンデンサ10の抗折強度が向上する。さらに、サイドマージン部32、34に亀裂や欠けが生じ難くなり、水分の浸入を防止することができるため、積層セラミックコンデンサ10の絶縁性を確保することができる。その結果、信頼性の向上した積層セラミックコンデンサ10を提供することができる。また、アウター層32a、34aとインナー層32b、34bとの間には界面が存在し、この界面により積層セラミックコンデンサ10にかかる応力を緩和することができる。 As shown in FIG. 3 , the side margin portions 32, 34 of the multilayer ceramic capacitor 10 of this embodiment are composed of multiple layers. The side margin portion 32 has an outer layer 32a and an inner layer 32b. The inner layer 32b is disposed between the first and second internal electrodes 22, 24 and the outer layer 32a. The outer layer 32a, which is a side margin layer other than the inner layer 32b, has a higher Si content than the inner layer 32b, which is disposed closest to the first and second internal electrodes 22, 24. The side margin portion 34 has an outer layer 34a and an inner layer 34b. The inner layer 34b is disposed between the first and second internal electrodes 22, 24 and the outer layer. The outer layer 34a, which is a side margin layer other than the inner layer 34b, has a higher Si content than the inner layer 34b, which is disposed closest to the first and second internal electrodes 22, 24. This improves the strength of the side margins 32, 34, thereby improving the flexural strength of the multilayer ceramic capacitor 10. Furthermore, cracks and chips are less likely to occur in the side margins 32, 34, and moisture penetration is prevented, ensuring the insulation of the multilayer ceramic capacitor 10. As a result, a multilayer ceramic capacitor 10 with improved reliability can be provided. In addition, an interface exists between the outer layers 32a, 34a and the inner layers 32b, 34b, and this interface helps to alleviate stress applied to the multilayer ceramic capacitor 10.
また、この実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、その第1および第2の内部電極22、24の中央部よりも最もサイドマージン部32、34側の表面にSiを多く含む。その結果、サイドマージン部32、34の強度をさらに向上させることができる。 In addition, the multilayer ceramic capacitor 10 of this embodiment contains more Si on the surfaces closest to the side margins 32, 34 than on the central portions of the first and second internal electrodes 22, 24. As a result, the strength of the side margins 32, 34 can be further improved.
さらに、この実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、そのサイドマージン部32、34のSiの含有量をSiのmol数/Tiのmol数で計算すると1.0以上7.0以下である。Siのmol数/Tiのmol数が1.0未満の場合、サイドマージン部32、34の焼結が不十分になり、ポーラスが増え、十分な抗折強度の向上が望めない。一方、Siのmol数/Tiのmol数が7.0を超える場合、Siが内部電極に過剰に拡散し、過焼結となり絶縁抵抗値などの信頼性が低下する。 Furthermore, in the multilayer ceramic capacitor 10 of this embodiment, the Si content in its side margin portions 32, 34, calculated as moles of Si/moles of Ti, is 1.0 or more and 7.0 or less. If the moles of Si/moles of Ti ratio is less than 1.0, the side margin portions 32, 34 will not be sintered sufficiently, resulting in increased porosity and insufficient improvement in flexural strength. On the other hand, if the moles of Si/moles of Ti ratio exceeds 7.0, excessive Si will diffuse into the internal electrodes, resulting in over-sintering and reduced reliability, such as reduced insulation resistance.
またさらに、この実施の形態の積層セラミックコンデンサ10は、積層体10の幅方向において、そのサイドマージン部32、34の寸法が、5μm以上40μm以下である。サイドマージン部32、34が40μmを超えると必要とする容量を確保できなくなる。5μm未満では、サイドマージン部32、34の焼結が十分に進まず、緻密なサイドマージン部32、34が得られない。サイドマージン部が緻密でないと外部からの水分侵入が容易になる。 Furthermore, in the multilayer ceramic capacitor 10 of this embodiment, the dimensions of the side margins 32, 34 in the width direction of the laminate 10 are 5 μm or more and 40 μm or less. If the side margins 32, 34 exceed 40 μm, the required capacitance cannot be secured. If they are less than 5 μm, the sintering of the side margins 32, 34 does not progress sufficiently, and dense side margins 32, 34 cannot be obtained. If the side margins are not dense, moisture can easily penetrate from the outside.
2.積層セラミックコンデンサの製造方法
つづいて、積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。図9は、この実施の形態の積層セラミックコンデンサの製造方法を説明するための図であり、(a)が導電膜の形成されたセラミックグリーンシートを示す概略図、(b)が導電膜の形成されたセラミックグリーンシートを積層する様子を示した模式図である。図10は、この実施の形態の積層セラミックコンデンサの製造方法において得られる積層体チップの外観の一例を示す斜視図である。
2. Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor Next, a manufacturing method of a multilayer ceramic capacitor will be described. Fig. 9 is a diagram for explaining the manufacturing method of a multilayer ceramic capacitor of this embodiment, where (a) is a schematic diagram showing ceramic green sheets on which conductive films are formed, and (b) is a schematic diagram showing how the ceramic green sheets on which conductive films are formed are stacked. Fig. 10 is a perspective view showing an example of the appearance of a laminate chip obtained by the manufacturing method of a multilayer ceramic capacitor of this embodiment.
(1)積層体チップの形成
まず、誘電体セラミック材料として、BaおよびTiを含むペロブスカイト型化合物が準備される。この誘電体セラミック材料から得られる誘電体粉末に、添加剤として、Si、MgおよびBaのうちの少なくとも一種、並びに有機バインダ、有機溶剤、可塑剤および分散剤を所定の割合で混合することにより、セラミックスラリーが作製される。セラミックスラリーは、複数枚の樹脂フィルム(図示せず)の表面にセラミックグリーンシート50aと50bが成形される。セラミックグリーンシート50bは、セラミックグリーンシート50aと交互に積層されるものであり、セラミックグリーンシート50a(50b)の成形は、例えば、ダイコータ、グラビアコータおよびマイクログラビアコータなどを用いて行われる。
(1) Formation of Laminated Chip First, a perovskite compound containing Ba and Ti is prepared as a dielectric ceramic material. A ceramic slurry is prepared by mixing a dielectric powder obtained from this dielectric ceramic material with additives, such as at least one of Si, Mg, and Ba, as well as an organic binder, an organic solvent, a plasticizer, and a dispersant, in predetermined proportions. The ceramic slurry is then molded into ceramic green sheets 50a and 50b on the surfaces of multiple resin films (not shown). The ceramic green sheets 50b are laminated alternately with the ceramic green sheets 50a. The ceramic green sheets 50a (50b) are molded using, for example, a die coater, a gravure coater, or a microgravure coater.
次に、図9(a)に示すように、セラミックグリーンシート50a(50b)の表面に、内部電極用導電性ペーストをX方向にストライプ状に印刷し、乾燥する。なお、以下内部電極用導電性ペーストがストライプ状に伸びる方向をX方向とする。また、導電膜52a、52bの幅方向をY方向とする。このようにして、第1の内部電極22(第2の内部電極24)となる導電膜52a(52b)が形成される。印刷方法は、スクリーン印刷、インクジェット印刷、グラビア印刷など各種の方法を用いることができる。導電膜52a、52bの厚みは、例えば1.5μm以下とする。 Next, as shown in Figure 9(a), the conductive paste for the internal electrodes is printed in stripes in the X direction on the surface of the ceramic green sheet 50a (50b) and dried. Hereinafter, the direction in which the conductive paste for the internal electrodes extends in stripes is referred to as the X direction. The width direction of the conductive films 52a, 52b is referred to as the Y direction. In this way, the conductive films 52a (52b) that will become the first internal electrode 22 (second internal electrode 24) are formed. Various printing methods can be used, including screen printing, inkjet printing, and gravure printing. The thickness of the conductive films 52a, 52b is, for example, 1.5 μm or less.
はじめに外層部28となる導電膜の形成されていないセラミックグリーンシートが所定枚数積み重ねられ、次に、図9(b)に示すように、導電膜52a、52bの印刷された複数枚のセラミックグリーンシート50a、50bが、Y方向にずらされ、積層され内層部26となる。さらに、内層部26上に外層部30となる導電膜の形成されていないセラミックグリーンシートが所定枚数積み重ねられ、マザー積層体が得られる。 First, a predetermined number of ceramic green sheets without a conductive film that will become the outer layer portion 28 are stacked. Next, as shown in Figure 9(b), multiple ceramic green sheets 50a, 50b with printed conductive films 52a, 52b are shifted in the Y direction and stacked to become the inner layer portion 26. Furthermore, a predetermined number of ceramic green sheets without a conductive film that will become the outer layer portion 30 are stacked on top of the inner layer portion 26, to obtain the mother laminate.
次に、得られたマザー積層体はプレスされる。マザー積層体をプレスする方法は、剛体プレス、静水圧プレスなどの方法を用いることができる。 The resulting mother laminate is then pressed. Methods for pressing the mother laminate include rigid pressing and isostatic pressing.
次に、プレスされたマザー積層体がチップ形状にカットされ、図10に示される積層体チップ60が得られる。マザー積層体をカットする方法は、押切り、ダイシング、レーザなどの各種方法を用いることができる。 The pressed mother laminate is then cut into a chip shape to obtain the laminate chip 60 shown in Figure 10. Various methods can be used to cut the mother laminate, including press cutting, dicing, and laser cutting.
図10に示されるように、以上の工程により得られた積層体チップ60の一方の端面には、セラミックグリーンシート50aの導電膜52aのみが露出する。また、他方の端面には、セラミックグリーンシート50bの導電膜52bのみが露出する。
また、積層体チップ60の両側面には、セラミックグリーンシート50aの導電膜52a、およびセラミックグリーンシート50bの導電膜52bのそれぞれが露出する。
10, only the conductive film 52a of the ceramic green sheet 50a is exposed on one end surface of the laminate chip 60 obtained by the above steps, and only the conductive film 52b of the ceramic green sheet 50b is exposed on the other end surface.
Furthermore, the conductive film 52 a of the ceramic green sheet 50 a and the conductive film 52 b of the ceramic green sheet 50 b are exposed on both side surfaces of the laminate chip 60 .
(2)サイドマージン部の形成
つづいて、サイドマージン部32、34となるサイドマージン用セラミックグリーンシートを作製する手順について説明する。
(2) Formation of Side Margins Next, a procedure for producing ceramic green sheets for the side margins 32 and 34 will be described.
まず、誘電体セラミック材料として、BaおよびTiを含むペロブスカイト型化合物が準備される。この誘電体セラミック材料から得られる誘電体粉末に、添加剤として、Si、MgおよびBaのうちの少なくとも一種、並びにバインダ樹脂、有機溶剤、可塑剤および分散剤を所定の割合で混合し、セラミックスラリーが作製される。 First, a perovskite-type compound containing Ba and Ti is prepared as the dielectric ceramic material. Dielectric powder obtained from this dielectric ceramic material is mixed with additives, such as at least one of Si, Mg, and Ba, as well as binder resin, organic solvent, plasticizer, and dispersant, in predetermined proportions to produce ceramic slurry.
ここで、サイドマージン部32のアウター層32a(およびサイドマージン部34のアウター層34a)となるセラミックスラリーにはSiが添加される。具体的には、Siは、Siのmol数/Tiのmol数が1.0以上7.0以下となるように添加される。また、サイドマージン部32のインナー層32b(およびサイドマージン部34のアウター層34b)となるセラミックスラリーにもSiが添加される。具体的には、Siは、Siのmol数/Tiのmol数が1.0以上4.0以下となるように添加される。 Si is added to the ceramic slurry that will form the outer layer 32a of the side margin portion 32 (and the outer layer 34a of the side margin portion 34). Specifically, Si is added so that the moles of Si/moles of Ti is 1.0 or greater and 7.0 or less. Si is also added to the ceramic slurry that will form the inner layer 32b of the side margin portion 32 (and the outer layer 34b of the side margin portion 34). Specifically, Si is added so that the moles of Si/moles of Ti is 1.0 or greater and 4.0 or less.
また、サイドマージン部32のアウター層32a(およびサイドマージン部34のアウター層34a)となるセラミックスラリーにはBaが添加される。具体的には、Baは、Baのmol数/Tiのmol数が0.00以上0.02未満となるように添加される。また、サイドマージン部32のインナー層32b(およびサイドマージン部34のアウター層34b)となるセラミックスラリーにもBaが添加される。具体的には、Baは、Baのmol数/Tiのmol数が0.02以上0.04未満となるように添加される。 Ba is also added to the ceramic slurry that will form the outer layer 32a of the side margin portion 32 (and the outer layer 34a of the side margin portion 34). Specifically, Ba is added so that the moles of Ba/moles of Ti is 0.00 or greater but less than 0.02. Ba is also added to the ceramic slurry that will form the inner layer 32b of the side margin portion 32 (and the outer layer 34b of the side margin portion 34). Specifically, Ba is added so that the moles of Ba/moles of Ti is 0.02 or greater but less than 0.04.
さらに、サイドマージン部32、34のアウター層32a、34aとなるセラミックスラリーに含まれるポリ塩化ビニルであるPVCの量は、サイドマージン部32、34のインナー部32b、34bとなるセラミックスラリーに含まれるポリ塩化ビニル(PVC)の量よりも多く含まれる。 Furthermore, the amount of polyvinyl chloride (PVC) contained in the ceramic slurry that forms the outer layers 32a, 34a of the side margin portions 32, 34 is greater than the amount of polyvinyl chloride (PVC) contained in the ceramic slurry that forms the inner layers 32b, 34b of the side margin portions 32, 34.
さらにまた、サイドマージン部32、34のインナー層32b、34bとなるセラミックスラリーに含まれる溶剤は、アウター層用セラミックグリーンシートに対する溶解を防止するため、適宜最適な溶剤が選択される。また、このインナー層用セラミックグリーンシートは、積層体チップ60と接着するための役割を有する。 Furthermore, the solvent contained in the ceramic slurry that forms the inner layers 32b, 34b of the side margin portions 32, 34 is appropriately selected to prevent dissolution of the outer layer ceramic green sheet. This inner layer ceramic green sheet also serves to adhere to the laminate chip 60.
そして、樹脂フィルムの表面に、作製されたアウター層32a、34aとなるセラミックスラリーを塗布し、乾燥することにより、アウター層用セラミックグリーンシートが得られる。 Then, the ceramic slurry that will form the outer layers 32a and 34a is applied to the surface of the resin film and dried to obtain ceramic green sheets for the outer layers.
次に、アウター層用セラミックグリーンシートの表面に、作製されたインナー層32b、34bとなるセラミックスラリーを塗布し、乾燥して、インナー層用セラミックグリーンシートが形成される。以上のようにして、2層構造を有するサイドマージン用セラミックグリーンシートが得られる。 Next, the ceramic slurry that will become the inner layers 32b and 34b is applied to the surface of the outer layer ceramic green sheet and dried to form the inner layer ceramic green sheet. In this way, a two-layer structure ceramic green sheet for the side margin is obtained.
ここで、インナー層用セラミックグリーンシートの幅方向に沿った寸法は、アウター層用セラミックグリーンシートの幅方向に沿った寸法よりも小さいことが好ましい。具体的には、例えば、焼成後の厚みについて、アウター層用セラミックグリーンシートが5μm以上20μm以下に形成され、インナー層用セラミックグリーンシートが0.1μm以上20μm以下に形成される。 Here, it is preferable that the widthwise dimension of the inner layer ceramic green sheets be smaller than the widthwise dimension of the outer layer ceramic green sheets. Specifically, for example, the thickness after firing of the outer layer ceramic green sheets is formed to be 5 μm or more and 20 μm or less, and the thickness of the inner layer ceramic green sheets is formed to be 0.1 μm or more and 20 μm or less.
なお、上記では、2層構造のサイドマージン用セラミックグリーンシートは、アウター層用セラミックグリーンシートの表面にインナー層用セラミックグリーンシートを塗布し乾燥することにより得られる場合について説明した。しかしながら、この場合に限られず、アウター層用セラミックグリーンシートとインナー層用セラミックグリーンシートのそれぞれが予め形成され、その後、それぞれを貼り合せることにより2層構造のサイドマージン用セラミックグリーンシートが得られるようにしてもよい。なお、サイドマージン用セラミックグリーンシートは、2層に限らず、3層以上の複数層も良い。 In the above, we have explained a case where a two-layer side margin ceramic green sheet is obtained by applying an inner layer ceramic green sheet to the surface of an outer layer ceramic green sheet and drying it. However, this is not limited to this case, and the outer layer ceramic green sheet and the inner layer ceramic green sheet may each be formed in advance, and then they may be bonded together to obtain a two-layer side margin ceramic green sheet. Note that the side margin ceramic green sheet is not limited to two layers, and may have three or more layers.
次に、樹脂フィルムから、サイドマージン用セラミックグリーンシートが剥離される。 Next, the side margin ceramic green sheets are peeled off from the resin film.
つづいて、剥離されたサイドマージン用セラミックグリーンシートにおけるインナー層用セラミックグリーンシートと積層体チップ60の導電膜52a、52bが露出する側面を対向させ、押し付けて打ち抜くことにより、サイドマージン部32となる層が形成される。さらに、積層体チップ60のサイドマージン部32となる層が形成されていない側面についても、積層体チップ60の導電膜52a、52bが露出する側面とインナー層用セラミックグリーンシートを対向させ、押し付けて打ち抜くことにより、サイドマージン部34となる層が形成される。このとき、積層体チップ60の側面には、予め、接着剤となる有機溶剤を塗布しておくことが好ましい。 Next, the inner layer ceramic green sheet of the peeled side margin ceramic green sheet is placed opposite the side of the laminate chip 60 where the conductive films 52a, 52b are exposed, and the sheets are pressed together and punched out to form a layer that will become the side margin 32. Furthermore, for the side of the laminate chip 60 where the layer that will become the side margin 32 is not formed, the inner layer ceramic green sheet is placed opposite the side of the laminate chip 60 where the conductive films 52a, 52b are exposed, and the sheets are pressed together and punched out to form a layer that will become the side margin 34. At this time, it is preferable to apply an organic solvent that will serve as an adhesive to the side of the laminate chip 60 in advance.
次に、サイドマージン部32、34となる層が形成された積層体チップ60は、窒素雰囲気中、所定の条件で脱脂処理された後、窒素-水素-水蒸気混合雰囲気中で、所定の温度で焼成され、焼結した積層体12が得られる。 Next, the laminate chip 60, on which the layers that will become the side margins 32 and 34 are formed, is degreased under specified conditions in a nitrogen atmosphere, and then sintered at a specified temperature in a nitrogen-hydrogen-water vapor mixed atmosphere to obtain the sintered laminate 12.
次に、焼結した積層体12の二つの端面それぞれに、Cuを主成分とする外部電極ペーストを塗布して焼き付けし、第1の内部電極22に接続されたベース電極40aと、第2の内部電極に接続されたベース電極42aを形成する。さらに、ベース電極層40a、42aの表面に、Niめっきによる下層めっき40b、42bが形成され、下層めっき40b、42bの表面にSnめっきによる上層めっき40c、42cが形成され、第1および第2の外部電極40、42が形成される。 Next, an external electrode paste primarily composed of Cu is applied to each of the two end faces of the sintered laminate 12 and baked to form a base electrode 40a connected to the first internal electrode 22 and a base electrode 42a connected to the second internal electrode. Furthermore, Ni-plated underlayers 40b and 42b are formed on the surfaces of the base electrode layers 40a and 42a, and Sn-plated upperlayers 40c and 42c are formed on the surfaces of the underlayers 40b and 42b, thereby forming the first and second external electrodes 40 and 42.
以上のようにして、図1に示す積層セラミックコンデンサ10が製造される。 In this manner, the multilayer ceramic capacitor 10 shown in Figure 1 is manufactured.
なお、サイドマージン部32、34の形成は、積層体チップ60の導電膜52a、52bが露出している両側面に、サイドマージン用のセラミックスラリーを塗布することによって形成してもよい。 The side margins 32, 34 may also be formed by applying a ceramic slurry for the side margins to both sides of the laminated chip 60 where the conductive films 52a, 52b are exposed.
すなわち、積層体チップ60の導電膜52a、52bが露出している両側面に、インナー層32b、34bとなるセラミックスラリーがそれぞれ塗布され、乾燥される。さらに、インナー層32b、34bの表面に、アウター層32a、34aとなるセラミックスラリーが塗布される。 That is, ceramic slurry that will become the inner layers 32b and 34b is applied to both sides of the laminate chip 60 where the conductive films 52a and 52b are exposed, and then dried. Furthermore, ceramic slurry that will become the outer layers 32a and 34a is applied to the surfaces of the inner layers 32b and 34b.
この場合、アウター層32a、34aおよびインナー層32b、34bとなるセラミックスラリーそれぞれの厚みは、それぞれのセラミックスラリーに含まれる樹脂の量を変えることにより調整することができる。 In this case, the thickness of each ceramic slurry that will form the outer layers 32a, 34a and the inner layers 32b, 34b can be adjusted by changing the amount of resin contained in each ceramic slurry.
また、サイドマージン部32、34の形成は、積層体チップ60の両端面を樹脂などでマスクした上で、この積層体チップ60を丸ごとインナー層32b、34bとなるセラミックスラリー内にディッピングし、乾燥させ、さらに、アウター層32a、34aとなるセラミックスラリー内にディッピングすることで形成してもよい。この場合、外層部28、30上にインナー層およびアウター層が形成され、3層構造に形成される。 The side margins 32, 34 may also be formed by masking both end surfaces of the laminate chip 60 with resin or the like, dipping the entire laminate chip 60 into a ceramic slurry that will form the inner layers 32b, 34b, drying it, and then dipping it again into a ceramic slurry that will form the outer layers 32a, 34a. In this case, the inner and outer layers are formed on the outer layer portions 28, 30, forming a three-layer structure.
3.実験例
以下、この発明の効果を確認するために発明者らが行った実験例について説明する。実験例では、以下に示す実施例および比較例の積層セラミックコンデンサの各試料が製造され、積層セラミックコンデンサのサイドマージン部表面の硬度がビッカース硬度計で計測されることにより評価した。
3. Experimental Examples The following describes experimental examples conducted by the inventors to confirm the effects of the present invention. In the experimental examples, samples of multilayer ceramic capacitors according to the following examples and comparative examples were manufactured, and the hardness of the surfaces of the side margins of the multilayer ceramic capacitors was measured and evaluated using a Vickers hardness tester.
(実施例)
まず、実施例では、上述の方法で、図1に示された積層セラミックコンデンサの試料を製造した。この場合、積層セラミックコンデンサの外形寸法を長さ1.0mm、幅0.5mm、高さ0.5mmとした。実施例では、Tiに対してSiをSiのmol数/Tiのmol数が3.5となるに含有するインナー層と、Tiに対してSiをSiのmol数/Tiのmol数が5となるように含有するアウター層とからなる2層構造のサイドマージン部を備える積層セラミックコンデンサが準備された。また、サイドマージン部の厚みは、20μmとした。なお、実施例のサイドマージン部について、アウター層の厚みを16μmとし、インナー層の厚みを4μmとした。
(Example)
First, in the example, a sample of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 1 was manufactured using the above-described method. In this example, the outer dimensions of the multilayer ceramic capacitor were 1.0 mm in length, 0.5 mm in width, and 0.5 mm in height. In the example, a multilayer ceramic capacitor was prepared having a two-layer side margin portion consisting of an inner layer containing Si relative to Ti such that the molar ratio of Si to Ti was 3.5, and an outer layer containing Si relative to Ti such that the molar ratio of Si to Ti was 5. The thickness of the side margin portion was 20 μm. In the example, the thickness of the outer layer was 16 μm, and the thickness of the inner layer was 4 μm.
(比較例)
比較例では、インナー層およびアウター層の2層からなるサイドマージン部を設けずにTiに対してSiをSiのmol数/Tiのmol数が3.5となるように含有する1層構造のサイドマージン部とした以外は、実施例と同じ条件で積層セラミックコンデンサを製造した。
(Comparative Example)
In the comparative example, a multilayer ceramic capacitor was manufactured under the same conditions as in the example, except that a side margin portion consisting of two layers, an inner layer and an outer layer, was not provided, and instead a side margin portion with a single-layer structure was used in which Si was contained relative to Ti such that the molar number of Si/the molar number of Ti was 3.5.
(評価方法)
上記した実施例および比較例の積層セラミックコンデンサの各試料をそれぞれ5個ずつ準備し、積層セラミックコンデンサの両側面のサイドマージン部表面の硬度をビッカース硬度計で測定した。ビッカース硬度の測定条件は、測定加重:200gf、下死点保持時間:10sとした。また、実施例および比較例の積層セラミックコンデンサの各試料のサイドマージン部表面近傍のポア面積率が算出された。このポア面積率は、サイドマージン部を含む面を露出させ、SEMにより撮像する。撮像した画像に画像処理を施しポアの面積を測定する。このポアの面積を撮像した画像に写っている積層セラミックコンデンサの面積で割ったものをポア面積率として算出している。
(Evaluation method)
Five samples of each of the multilayer ceramic capacitors of the examples and comparative examples were prepared, and the hardness of the side margin surface on both sides of the multilayer ceramic capacitor was measured using a Vickers hardness tester. The Vickers hardness measurement conditions were a measurement load of 200 gf and a bottom dead center holding time of 10 s. The pore area ratio near the side margin surface of each sample of the multilayer ceramic capacitor of the examples and comparative examples was also calculated. This pore area ratio was determined by exposing the surface including the side margin and imaging it with an SEM. The image was then processed to measure the pore area. The pore area ratio was calculated by dividing the pore area by the area of the multilayer ceramic capacitor shown in the image.
図11は、サイドマージン部表面近傍のポア面積率とサイドマージン部表面のビッカース硬度との関係を示す図である。
実験の結果、図11に示すように、実施例の積層セラミックコンデンサでは、サイドマージン部表面付近のポア面積率0.3%であり、サイドマージン部表面のビッカース硬度は1470MPa以上1680MPa以下であった。
一方、図11に示すように、比較例の積層セラミックコンデンサでは、サイドマージン部表面付近のポア面積率は1.9%であり、サイドマージン部表面のビッカース硬さは1140MPa以上1270MPa以下であった。
以上より、実施例の積層セラミックコンデンサの方が比較例の積層セラミックコンデンサよりも抗折強度が向上していることが明らかとなった。
FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the pore area ratio in the vicinity of the surface of the side margin and the Vickers hardness of the surface of the side margin.
As a result of the experiment, as shown in FIG. 11, in the multilayer ceramic capacitor of the example, the pore area ratio near the surface of the side margin portion was 0.3%, and the Vickers hardness of the surface of the side margin portion was 1470 MPa or more and 1680 MPa or less.
On the other hand, as shown in FIG. 11, in the comparative multilayer ceramic capacitor, the pore area ratio near the surface of the side margin portion was 1.9%, and the Vickers hardness of the surface of the side margin portion was 1140 MPa or more and 1270 MPa or less.
From the above, it is clear that the multilayer ceramic capacitor of the example has improved bending strength compared to the multilayer ceramic capacitor of the comparative example.
なお、この発明は、前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変形される。 Note that this invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications may be made within the scope of its essence.
10 積層セラミックコンデンサ
12 積層体
13 第1の端面
14 第2の端面
15 第1の側面
16 第2の側面
17 第1の主面
18 第2の主面
20 内層用セラミック層
22 第1の内部電極
22a、24a 偏析部
22b 第1の主面に最も近い第1の内部電極
24 第2の内部電極
24b 第2の主面に最も近い第2の内部電極
26 内層部
28、30 外層部
32、34 サイドマージン部
32a、34a アウター層
32b、34b インナー層
40 第1の外部電極
42 第2の外部電極
40a、42a ベース電極層
40b、42b 下層めっき
40c、42c 上層めっき
46、48 外層用セラミック層
50a、50b セラミックグリーンシート
52a、52b 導電膜
60 積層体チップ
REFERENCE SIGNS LIST 10 Multilayer ceramic capacitor 12 Laminate 13 First end face 14 Second end face 15 First side face 16 Second side face 17 First main face 18 Second main face 20 Inner layer ceramic layer 22 First internal electrode 22a, 24a Segregation portion 22b First internal electrode closest to first main face 24 Second internal electrode 24b Second internal electrode closest to second main face 26 Inner layer portion 28, 30 Outer layer portion 32, 34 Side margin portion 32a, 34a Outer layer 32b, 34b Inner layer 40 First external electrode 42 Second external electrode 40a, 42a Base electrode layer 40b, 42b Underlayer plating 40c, 42c Upper layer plating 46, 48 Outer layer ceramic layer 50a, 50b Ceramic green sheet 52a, 52b: Conductive film 60: Stacked chip
Claims (4)
前記積層体は、
積層方向において相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向と交差する幅方向において相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向及び幅方向と交差する長さ方向において相対する第1の端面および第2の端面とを含む形状に形成され、
前記誘電体層と前記内部電極とを前記積層方向に積層して構成された内層部と、前記内層部を前記積層方向から挟むよう配置された外層部と、前記内層部及び前記外層部を前記幅方向から挟むよう配置されたサイドセラミック層とを有し、
前記内部電極は、前記第1の端面に露出する第1の内部電極と、前記第2の端面に露出する第2の内部電極とを有し、
前記外部電極は、前記第1の端面上に設けられて前記第1の内部電極に接続された第1の外部電極と、前記第2の端面上に設けられて前記第2の内部電極に接続された第2の外部電極とを有し、
前記サイドセラミック層は、前記内層部側に位置する内側層と、前記第1の側面側及び第2の側面側に位置する外側層とを有し、前記外側層のSi含有量が前記内側層のSi含有量より多く、
前記外側層のSiのmol数/Tiのmol数が3.0以上7.0以下であり、
前記内側層のSiのmol数/Tiのmol数が1.0以上4.0以下である、
積層セラミックコンデンサ。
A multilayer ceramic capacitor comprising a laminate including dielectric layers and internal electrodes stacked in a stacking direction, and external electrodes connected to the internal electrodes,
The laminate is
the laminate is formed in a shape including a first main surface and a second main surface that face each other in a stacking direction, a first side surface and a second side surface that face each other in a width direction that intersects with the stacking direction, and a first end surface and a second end surface that face each other in a length direction that intersects with the stacking direction and the width direction;
an inner layer portion formed by laminating the dielectric layers and the internal electrodes in the lamination direction; outer layer portions arranged to sandwich the inner layer portion in the lamination direction; and side ceramic layers arranged to sandwich the inner layer portion and the outer layer portion in the width direction,
the internal electrodes include a first internal electrode exposed at the first end surface and a second internal electrode exposed at the second end surface,
the external electrodes include a first external electrode provided on the first end face and connected to the first internal electrode, and a second external electrode provided on the second end face and connected to the second internal electrode,
the side ceramic layer has an inner layer located on the inner layer portion side and outer layers located on the first side surface side and the second side surface side, and the Si content of the outer layer is higher than the Si content of the inner layer;
the mole number of Si/mol number of Ti in the outer layer is 3.0 or more and 7.0 or less,
the molar ratio of Si to Ti in the inner layer is 1.0 or more and 4.0 or less;
Multilayer ceramic capacitor.
請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。
the exposed surfaces of the first internal electrodes and the second internal electrodes on the first side surface and the second side surface of the laminate contain more Si than central portions of the first internal electrodes and the second internal electrodes;
The multilayer ceramic capacitor according to claim 1 .
請求項1または請求項2に記載の積層セラミックコンデンサ。
the ratio of the mole number of Si to the mole number of Ti in the side ceramic layer is 1.0 or more and 7.0 or less;
3. The multilayer ceramic capacitor according to claim 1.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023115421A JP7729362B2 (en) | 2019-12-02 | 2023-07-13 | Multilayer ceramic capacitors |
| JP2025068515A JP2025100774A (en) | 2019-12-02 | 2025-04-18 | Multilayer Ceramic Capacitors |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019217719A JP7237806B2 (en) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | Multilayer ceramic capacitor |
| JP2021191554A JP7314983B2 (en) | 2019-12-02 | 2021-11-25 | Multilayer ceramic capacitor |
| JP2023115421A JP7729362B2 (en) | 2019-12-02 | 2023-07-13 | Multilayer ceramic capacitors |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021191554A Division JP7314983B2 (en) | 2019-12-02 | 2021-11-25 | Multilayer ceramic capacitor |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025068515A Division JP2025100774A (en) | 2019-12-02 | 2025-04-18 | Multilayer Ceramic Capacitors |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023130486A JP2023130486A (en) | 2023-09-20 |
| JP7729362B2 true JP7729362B2 (en) | 2025-08-26 |
Family
ID=69624384
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019217719A Active JP7237806B2 (en) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | Multilayer ceramic capacitor |
| JP2021191554A Active JP7314983B2 (en) | 2019-12-02 | 2021-11-25 | Multilayer ceramic capacitor |
| JP2023115421A Active JP7729362B2 (en) | 2019-12-02 | 2023-07-13 | Multilayer ceramic capacitors |
| JP2025068515A Pending JP2025100774A (en) | 2019-12-02 | 2025-04-18 | Multilayer Ceramic Capacitors |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019217719A Active JP7237806B2 (en) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | Multilayer ceramic capacitor |
| JP2021191554A Active JP7314983B2 (en) | 2019-12-02 | 2021-11-25 | Multilayer ceramic capacitor |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025068515A Pending JP2025100774A (en) | 2019-12-02 | 2025-04-18 | Multilayer Ceramic Capacitors |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (4) | JP7237806B2 (en) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021174867A (en) * | 2020-04-24 | 2021-11-01 | 株式会社村田製作所 | Multilayer ceramic capacitor |
| JP7655713B2 (en) * | 2020-09-30 | 2025-04-02 | 株式会社村田製作所 | Multilayer Ceramic Capacitors |
| JP7380619B2 (en) * | 2021-03-12 | 2023-11-15 | 株式会社村田製作所 | multilayer ceramic capacitor |
| JP2023163437A (en) | 2022-04-28 | 2023-11-10 | 太陽誘電株式会社 | Multilayer ceramic electronic component and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component |
| KR20240133158A (en) | 2023-02-28 | 2024-09-04 | 삼성전기주식회사 | Multilayer electronic component |
| CN121729750A (en) * | 2023-08-31 | 2026-03-24 | 株式会社村田制作所 | Multilayer ceramic capacitors |
| WO2025069626A1 (en) * | 2023-09-29 | 2025-04-03 | 株式会社村田製作所 | Multilayer ceramic capacitor |
| WO2025069627A1 (en) * | 2023-09-29 | 2025-04-03 | 株式会社村田製作所 | Multilayer ceramic capacitor |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006041268A (en) | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Kyocera Corp | Manufacturing method of multilayer electronic component and multilayer electronic component |
| JP2009016796A (en) | 2007-06-08 | 2009-01-22 | Murata Mfg Co Ltd | Multi-layered ceramic electronic component |
| JP2009032833A (en) | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Taiyo Yuden Co Ltd | Manufacturing method of multilayer ceramic capacitor and multilayer ceramic capacitor |
| JP2010050263A (en) | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Murata Mfg Co Ltd | Multilayer ceramic electronic component |
| JP2017011172A (en) | 2015-06-24 | 2017-01-12 | 太陽誘電株式会社 | Multilayer ceramic capacitor and manufacturing method therefor |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3179313B2 (en) * | 1995-05-31 | 2001-06-25 | 松下電器産業株式会社 | Electronic component manufacturing method |
-
2019
- 2019-12-02 JP JP2019217719A patent/JP7237806B2/en active Active
-
2021
- 2021-11-25 JP JP2021191554A patent/JP7314983B2/en active Active
-
2023
- 2023-07-13 JP JP2023115421A patent/JP7729362B2/en active Active
-
2025
- 2025-04-18 JP JP2025068515A patent/JP2025100774A/en active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006041268A (en) | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Kyocera Corp | Manufacturing method of multilayer electronic component and multilayer electronic component |
| JP2009016796A (en) | 2007-06-08 | 2009-01-22 | Murata Mfg Co Ltd | Multi-layered ceramic electronic component |
| JP2009032833A (en) | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Taiyo Yuden Co Ltd | Manufacturing method of multilayer ceramic capacitor and multilayer ceramic capacitor |
| JP2010050263A (en) | 2008-08-21 | 2010-03-04 | Murata Mfg Co Ltd | Multilayer ceramic electronic component |
| JP2017011172A (en) | 2015-06-24 | 2017-01-12 | 太陽誘電株式会社 | Multilayer ceramic capacitor and manufacturing method therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023130486A (en) | 2023-09-20 |
| JP7314983B2 (en) | 2023-07-26 |
| JP2025100774A (en) | 2025-07-03 |
| JP2022016637A (en) | 2022-01-21 |
| JP7237806B2 (en) | 2023-03-13 |
| JP2020031242A (en) | 2020-02-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230713 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240724 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240827 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20241008 |
|
| A02 | Decision of refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7729362 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |