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JP7730760B2 - Dispersion composition, dispersant, anisotropic film and its manufacturing method, and anisotropic film forming device - Google Patents
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JP7730760B2 - Dispersion composition, dispersant, anisotropic film and its manufacturing method, and anisotropic film forming device - Google Patents

Dispersion composition, dispersant, anisotropic film and its manufacturing method, and anisotropic film forming device

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JP7730760B2 JP2021540682A JP2021540682A JP7730760B2 JP 7730760 B2 JP7730760 B2 JP 7730760B2 JP 2021540682 A JP2021540682 A JP 2021540682A JP 2021540682 A JP2021540682 A JP 2021540682A JP 7730760 B2 JP7730760 B2 JP 7730760B2
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Description

関連出願の相互参照CROSS-REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS

本出願は、2019年8月19日に出願された日本特許出願番号2019-149938号に基づくもので、ここにその記載内容を援用する。 This application is based on Japanese Patent Application No. 2019-149938, filed on August 19, 2019, the contents of which are incorporated herein by reference.

本開示は、分散組成物、分散剤、異方性膜及びその製造方法、並びに異方性膜形成装置に関する。 The present disclosure relates to a dispersion composition, a dispersant, an anisotropic film and a method for producing the same, and an anisotropic film forming apparatus.

ナノカーボンや金属ナノ粒子等といったナノオーダーの大きさの物質は、電気特性や機械的特性、熱安定性等において優れた性質をもち、ナノマテリアルとして種々の分野への応用や実用化が検討されている。これらの粒子は一般に、分散媒に分散されてその機能が利用される。粒子がもつ特性を十分に発現させるためには、粒子を分散媒に均一に分散させることが望ましい。そこで、粒子の凝集を抑制して粒子の分散性を高めるべく、粒子と共に分散剤を含有させた分散組成物が種々提案されている(例えば、特許文献1や特許文献2参照)。Nano-sized materials such as nanocarbons and metal nanoparticles have excellent electrical, mechanical, and thermal stability properties, and their application and practical use in various fields as nanomaterials is being considered. These particles are generally dispersed in a dispersion medium to utilize their functions. To fully utilize the properties of the particles, it is desirable to disperse the particles uniformly in the dispersion medium. Therefore, various dispersion compositions have been proposed that contain dispersants along with the particles to suppress particle aggregation and increase particle dispersibility (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

特許文献1には、側鎖にアリール基が導入されたポリアルキレンオキサイドを、ナノカーボン、金属ナノ粒子、無機繊維及び有機繊維を分散させるための分散剤として用いた分散組成物が開示されている。また、特許文献2には、カーボンナノチューブを分散させるための分散剤として、ベンゾオキサゾール骨格を有するポリアミック酸を用いた分散組成物が開示されている。 Patent Document 1 discloses a dispersion composition that uses a polyalkylene oxide with an aryl group introduced into the side chain as a dispersant for dispersing nanocarbons, metal nanoparticles, inorganic fibers, and organic fibers. Furthermore, Patent Document 2 discloses a dispersion composition that uses a polyamic acid with a benzoxazole skeleton as a dispersant for dispersing carbon nanotubes.

国際公開第2016/039218号International Publication No. 2016/039218 特開2013-154337号公報JP 2013-154337 A

ナノカーボンや金属ナノ粒子等の被分散体が水系及び有機溶媒系の両方の溶媒に対して良好な分散性を示せば、被分散体の用途を更に拡大したり機能を更に高めたりすることが可能である。 If dispersed substances such as nanocarbons and metal nanoparticles exhibit good dispersibility in both aqueous and organic solvents, it will be possible to further expand the uses of the dispersed substances and further enhance their functionality.

被分散体が分散媒に分散された分散組成物を基材に塗布した後、その塗布液から分散媒を除去することにより、被分散体を含む膜や配線等を基材上に形成可能である。また、被分散体を含む膜や配線等を備えるデバイスは、例えば電子機器や表示装置等の各種用途に利用されている。被分散体により形成された部材の外力耐性が低い場合、デバイスの性能低下を招くおそれがある。そのため、当該部材には外力耐性が高いことが求められている。 A dispersion composition in which a dispersed substance is dispersed in a dispersion medium is applied to a substrate, and then the dispersion medium is removed from the coating solution, allowing films, wiring, etc. containing the dispersed substance to be formed on the substrate. Devices equipped with films, wiring, etc. containing the dispersed substance are used in a variety of applications, including electronic devices and display devices. If the external force resistance of a component formed from the dispersed substance is low, this may lead to a decrease in the performance of the device. Therefore, such components are required to have high external force resistance.

本開示は上記課題に鑑みなされたものであり、水系及び有機溶媒系のいずれの分散媒を用いた場合にも被分散体の分散性が良好であり、かつ外力耐性が良好な部材を形成することができる分散組成物、及び当該分散組成物を得るための分散剤を提供することを一つの目的とする。 The present disclosure has been made in consideration of the above-mentioned problems, and one of its objectives is to provide a dispersion composition that exhibits good dispersibility of the dispersed substance regardless of whether an aqueous or organic solvent-based dispersion medium is used, and that can form a component with good resistance to external forces, as well as a dispersant for obtaining the dispersion composition.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討し、イオン性官能基を有するジアミンと、イオン性官能基を有さないジアミンとを併用することによって得られたポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドを高分子分散剤として用いることにより上記課題を解決できることを見出した。すなわち、本開示によれば以下の手段が提供される。The inventors conducted extensive research to solve the above-mentioned problems and discovered that the problems can be solved by using polyamic acids, polyamic acid esters, and polyimides obtained by combining diamines with ionic functional groups with diamines without ionic functional groups as polymer dispersants. Specifically, the present disclosure provides the following means:

<1> 被分散体と、分散媒と、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種であって、かつ下記式(1)で表されるジアミン化合物[D1]に由来する構造単位U1と、前記ジアミン化合物[D1]とは異なるジアミン化合物[D2]に由来する構造単位U2とを有する重合体[P]と、を含有する、分散組成物。
(式(1)中、nは0又は1である。nが0の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。nが1の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。)
<2> 上記重合体[P]を含有する、分散剤。
<1> A dispersion composition comprising a substance to be dispersed, a dispersion medium, and a polymer [P] which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide, and which has a structural unit U1 derived from a diamine compound [D1] represented by the following formula (1) and a structural unit U2 derived from a diamine compound [D2] different from the diamine compound [D1]:
(In formula (1), n is 0 or 1. When n is 0, at least one of R 1 to R 4 is a monovalent group having an ionic functional group, and the remaining groups are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. When n is 1, at least one of R 1 to R 8 is a monovalent group having an ionic functional group, and the remaining groups are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group.)
<2> A dispersant containing the polymer [P].

<3> 被分散体と分散媒とリオトロピック液晶性を示す化合物とを含有する分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる工程と、前記保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写する工程と、を含む、異方性膜の製造方法。
<4> 上記<3>の製造方法により得られた異方性膜。
<5> 被分散体と分散媒とリオトロピック液晶性を示す化合物とを含有する分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる保持部と、前記保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写させる転写部と、を備える、異方性膜形成装置。
<3> A method for producing an anisotropic film, comprising: a step of holding a dispersion composition containing a substance to be dispersed, a dispersion medium, and a compound exhibiting lyotropic liquid crystallinity on a surface of a support while applying shear stress; and a step of transferring the dispersion composition held on the surface of the support onto a substrate.
<4> An anisotropic film obtained by the production method of <3> above.
<5> An anisotropic film forming apparatus comprising: a holding unit that holds a dispersion composition containing a substance to be dispersed, a dispersion medium, and a compound exhibiting lyotropic liquid crystallinity on a surface of a holder while applying shear stress; and a transfer unit that transfers the dispersion composition held on the surface of the holder onto a substrate.

本開示によれば、水系及び有機溶媒系のいずれを分散媒として用いた場合にも被分散体の分散性が良好な分散組成物を得ることができる。また、当該分散組成物を用いることにより、外力耐性が良好な部材を形成することができる。 According to the present disclosure, a dispersion composition with good dispersibility of the dispersed substance can be obtained regardless of whether an aqueous or organic solvent is used as the dispersion medium. Furthermore, by using this dispersion composition, a component with good resistance to external forces can be formed.

図1は、印刷方式のせん断塗布装置の一例を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a printing-type shear coating device. 図2は、ディスペンサ方式のせん断塗布装置の一例を示す概略構成図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a dispenser type shear coating device.

≪第1実施形態≫
本開示の分散組成物は、(A)被分散体と、(B)分散媒と、(C)分散剤と、を含有する。以下に、本開示の分散組成物に含まれる各成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。
First Embodiment
The dispersion composition of the present disclosure contains (A) a substance to be dispersed, (B) a dispersion medium, and (C) a dispersant. Below, each component contained in the dispersion composition of the present disclosure and other components that may be optionally blended as needed will be described.

なお、本明細書において「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。「鎖状炭化水素基」とは、主鎖に環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。「有機基」とは、炭化水素基を有する基を意味し、構造中にヘテロ原子を含んでいてもよい。In this specification, the term "hydrocarbon group" includes chain hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. A "chain hydrocarbon group" refers to a linear hydrocarbon group or a branched hydrocarbon group that does not contain a cyclic structure in the main chain and is composed solely of a chain structure. However, it may be saturated or unsaturated. An "alicyclic hydrocarbon group" refers to a hydrocarbon group that contains only an alicyclic hydrocarbon structure as a ring structure and does not contain an aromatic ring structure. However, it does not necessarily have to be composed solely of an alicyclic hydrocarbon structure, and it may also contain a chain structure as part of it. An "aromatic hydrocarbon group" refers to a hydrocarbon group that contains an aromatic ring structure as a ring structure. However, it does not necessarily have to be composed solely of an aromatic ring structure, and it may contain a chain structure or an alicyclic hydrocarbon structure as part of it. An "organic group" refers to a group that contains a hydrocarbon group, and may contain heteroatoms within the structure.

<(A)被分散体>
被分散体は、特に限定されないが、無機物粒子及び有機物粒子よりなる群から選択される少なくとも1種を用いることができる。また、被分散体の形状についても特に限定されず、例えば球状、棒状、繊維状、平板状、円板状等が挙げられる。被分散体の一次粒子径は、好ましくは10μm以下、より好ましくは1μm以下、更に好ましくは200nm以下である。また、被分散体の一次粒子径は、好ましくは1nm以上、より好ましくは2nm以上、更に好ましくは5nm以上である。なお、ここでいう「被分散体の一次粒子径」は、レーザー回折・散乱法によりd50値を測定することにより求めた値である。
<(A) Dispersed element>
The dispersed substance is not particularly limited, but at least one selected from the group consisting of inorganic particles and organic particles can be used. The shape of the dispersed substance is also not particularly limited, and examples include spherical, rod-like, fibrous, flat, and disc-like shapes. The primary particle diameter of the dispersed substance is preferably 10 μm or less, more preferably 1 μm or less, and even more preferably 200 nm or less. The primary particle diameter of the dispersed substance is preferably 1 nm or more, more preferably 2 nm or more, and even more preferably 5 nm or more. The "primary particle diameter of the dispersed substance" referred to here is a value determined by measuring the d50 value using a laser diffraction/scattering method.

本開示の分散組成物に含有される無機物粒子としては、例えばカーボン、金属粒子、半金属粒子、シリカ、無機塩、量子ドット等が挙げられる。これらの具体例としては、カーボンとして、例えばカーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、グラファイト、フラーレン、カーボンナノホーン等を;金属粒子として、例えば金属単体、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物等を;半金属粒子として、例えば半金属酸化物、半金属炭化物、半金属窒化物等を;シリカとして、例えば湿式シリカ(含水ケイ酸)、乾式シリカ(無水ケイ酸)、コロイダルシリカ、沈降シリカ、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、表面修飾処理が施された変性シリカ等を;無機塩として、例えば硫酸塩(硫酸カルシウム、硫酸バリウム等)、炭酸塩(炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム等)、リン酸塩(リン酸カルシウム等)等を;量子ドットとして、例えばペロブスカイト量子ドット、炭素系量子ドット、硫化鉛量子ドット等を、それぞれ挙げることができる。 Inorganic particles contained in the dispersion composition of the present disclosure include, for example, carbon, metal particles, semi-metal particles, silica, inorganic salts, quantum dots, etc. Specific examples of these include carbon such as carbon black, carbon fiber, carbon nanotubes, graphite, fullerenes, and carbon nanohorns; metal particles such as elemental metals, metal oxides, metal carbides, and metal nitrides; semi-metal particles such as semi-metal oxides, semi-metal carbides, and semi-metal nitrides; silica such as wet silica (hydrated silicic acid), dry silica (anhydrous silicic acid), colloidal silica, precipitated silica, calcium silicate, aluminum silicate, and surface-modified silica; inorganic salts such as sulfates (calcium sulfate, barium sulfate, etc.), carbonates (calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, etc.), and phosphates (calcium phosphate, etc.); and quantum dots such as perovskite quantum dots, carbon-based quantum dots, and lead sulfide quantum dots.

なお、カーボンファイバーはカーボンナノファイバーを含む。カーボンナノチューブは、シングルウォールカーボンナノチューブ、ダブルウォールカーボンナノチューブ、及びマルチウォールカーボンナノチューブを含む。また、カーボンナノチューブは、炭素のみからなるものであってもよく、構造の一部他の元素で置換又は化学修飾されたものであってもよく、金属(例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、コバルト、チタン、白金等)との複合体であってもよい。 Carbon fibers include carbon nanofibers. Carbon nanotubes include single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, and multi-walled carbon nanotubes. Carbon nanotubes may be composed of only carbon, or may have a portion of their structure substituted or chemically modified with other elements, or may be composites with metals (e.g., gold, silver, copper, aluminum, nickel, cobalt, titanium, platinum, etc.).

金属粒子について更に詳しくは、金、銀、銅、亜鉛、アルミニウム、スズ、ニッケル、パラジウム、白金、コバルト、鉄、マンガン、クロム、モリブデン、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、イットリウム、セリウム等の金属元素を含む粒子が挙げられる。これらの具体例としては、当該金属元素からなる金属単体;酸化銅、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化ビスマス、酸化セリウム、酸化クロム、酸化コバルト、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化スズ、酸化インジウム-酸化ガリウム-酸化亜鉛、酸化インジウム-酸化亜鉛、酸化インジウムスズ等の金属酸化物;炭化チタン等の金属炭化物;窒化チタン、酸窒化チタン(チタンブラック)、窒化アルミニウム等の金属窒化物、等が挙げられる。金属粒子としては、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 More specifically, metal particles include particles containing metal elements such as gold, silver, copper, zinc, aluminum, tin, nickel, palladium, platinum, cobalt, iron, manganese, chromium, molybdenum, titanium, zirconium, hafnium, yttrium, and cerium. Specific examples of these include metals consisting of the metal elements; metal oxides such as copper oxide, aluminum oxide, zinc oxide, iron oxide, titanium oxide, barium titanate, bismuth oxide, cerium oxide, chromium oxide, cobalt oxide, indium oxide, indium tin oxide, zirconium oxide, yttrium oxide, tin oxide, indium oxide-gallium oxide-zinc oxide, indium oxide-zinc oxide, and indium tin oxide; metal carbides such as titanium carbide; metal nitrides such as titanium nitride, titanium oxynitride (titanium black), and aluminum nitride. Metal particles can be used singly or in combination of two or more.

半金属粒子としては、ホウ素、ケイ素等の半金属元素を含む粒子が挙げられる。これらの具体例としては、当該半金属元素からなる半金属単体;二酸化ケイ素等の金属酸化物;炭化ホウ素、炭化ケイ素等の金属炭化物;窒化ホウ素、窒化ケイ素等の金属窒化物、等が挙げられる。半金属粒子としては、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。本開示の分散組成物において1つの実施形態では、被分散体として、金属粒子及び半金属粒子よりなる群から選択される少なくとも1種を好ましく使用できる。 Semi-metallic particles include particles containing semi-metallic elements such as boron and silicon. Specific examples of these include simple metalloids consisting of the metalloid elements; metal oxides such as silicon dioxide; metal carbides such as boron carbide and silicon carbide; and metal nitrides such as boron nitride and silicon nitride. Semi-metallic particles can be used alone or in combination of two or more types. In one embodiment of the dispersion composition of the present disclosure, at least one type selected from the group consisting of metal particles and semi-metallic particles can be preferably used as the dispersed substance.

有機物粒子としては、例えば有機顔料、二色性色素、色素会合体、タンパク質、核酸、ウィルス等が挙げられる。これらの具体例としては、有機顔料として、例えばアントラキノン顔料、モノアゾ顔料、ジアゾ顔料、ベンズイミダゾロン顔料、キナクリドン顔料、キノフタロン顔料、ジオキサジン顔料、フタロシアニン顔料、フラバントロン顔料、インダントロン顔料、インドリノン顔料、チオインジゴ顔料、金属錯体顔料、ペリノン顔料、ペリレン顔料等を;二色性色素として、例えばジスアゾ化合物、トリスアゾ化合物、テトラキスアゾ化合物、アントラキノン化合物、ジオキサジン化合物等を;色素会合体として、ポルフィリン色素やシアニン色素、ピロロピロール色素、アセン色素、スクアリリウム色素等のJ会合体、オキサゾールイエロー色素、チアゾールオレンジ色素、シアニン色素、アゾ色素等のH会合体等を、それぞれ挙げることができる。Examples of organic particles include organic pigments, dichroic dyes, dye aggregates, proteins, nucleic acids, and viruses. Specific examples of these include organic pigments such as anthraquinone pigments, monoazo pigments, diazo pigments, benzimidazolone pigments, quinacridone pigments, quinophthalone pigments, dioxazine pigments, phthalocyanine pigments, flavanthrone pigments, indanthrone pigments, indolinone pigments, thioindigo pigments, metal complex pigments, perinone pigments, and perylene pigments; dichroic dyes such as disazo compounds, trisazo compounds, tetrakisazo compounds, anthraquinone compounds, and dioxazine compounds; and dye aggregates such as J-aggregates of porphyrin dyes, cyanine dyes, pyrrolopyrrole dyes, acene dyes, and squarylium dyes; and H-aggregates of oxazole yellow dyes, thiazole orange dyes, cyanine dyes, and azo dyes.

被分散体としては、上記のうち無機物粒子を好ましく使用することができ、カーボンナノチューブ(CNT)及び金属粒子を特に好ましく使用することができる。
また、被分散体としては、棒状ナノ構造体及び棒状分子よりなる群から選択される少なくとも1種を好ましく使用することができる。棒状分子としては、例えば二色性色素等が挙げられ、棒状ナノ構造体としては、例えば色素会合体、量子ロッド、金属ナノロッド、カーボンナノチューブ、タンパク質、核酸、ウィルス等が挙げられる。被分散体が、棒状ナノ構造体及び棒状分子よりなる群から選択される少なくとも1種である場合、当該被分散体としては、無機物粒子を好ましく使用でき、カーボンナノチューブ及び金属ナノロッドを特に好ましく使用することができる。
Of the above, inorganic particles can be preferably used as the dispersed material, and carbon nanotubes (CNTs) and metal particles can be particularly preferably used.
Furthermore, the dispersed substance can preferably be at least one selected from the group consisting of rod-shaped nanostructures and rod-shaped molecules. Examples of rod-shaped molecules include dichroic dyes, and examples of rod-shaped nanostructures include dye aggregates, quantum rods, metal nanorods, carbon nanotubes, proteins, nucleic acids, viruses, etc. When the dispersed substance is at least one selected from the group consisting of rod-shaped nanostructures and rod-shaped molecules, inorganic particles can preferably be used as the dispersed substance, and carbon nanotubes and metal nanorods can be particularly preferably used.

分散組成物における被分散体の含有割合は、被分散体の種類に応じて適宜設定され得る。被分散体の含有割合は、分散組成物の全量に対し、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.02質量%以上、更に好ましくは0.03質量%以上である。また、被分散体の含有割合は、分散組成物の全量に対し、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、更に好ましくは30質量%以下である。なお、被分散体としては、上記のうちの1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。The content of the dispersed substance in the dispersion composition can be set appropriately depending on the type of dispersed substance. The content of the dispersed substance is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.02% by mass or more, and even more preferably 0.03% by mass or more, relative to the total amount of the dispersion composition. The content of the dispersed substance is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less, relative to the total amount of the dispersion composition. The dispersed substance may be one of the above substances alone or two or more of them may be used in combination.

具体的には、分散組成物における被分散体の含有割合は、被分散体が金属粒子又は半金属粒子である場合、分散組成物の全量に対し、好ましくは0.05質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、更に好ましくは0.5質量%以上である。また、被分散体の含有割合は、分散組成物の全量に対し、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、更に好ましくは30質量%以下である。
被分散体がカーボンナノチューブである場合、分散組成物における被分散体の含有割合は、分散組成物の全量に対し、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.02質量%以上、更に好ましくは0.03質量%以上である。また、被分散体の含有割合は、分散組成物の全量に対し、好ましくは30質量%以下、より好ましくは25質量%以下、更に好ましくは20質量%以下である。
Specifically, when the dispersed substance is a metal particle or a semi-metal particle, the content of the dispersed substance in the dispersion composition is preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and even more preferably 0.5% by mass or more, relative to the total amount of the dispersion composition, and is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less, relative to the total amount of the dispersion composition.
When the dispersed substance is carbon nanotubes, the content of the dispersed substance in the dispersion composition is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.02% by mass or more, and even more preferably 0.03% by mass or more, relative to the total amount of the dispersion composition, and is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or less, relative to the total amount of the dispersion composition.

<(B)分散媒>
本開示の分散組成物は、(A)被分散体が(B)分散媒に分散された組成物である。分散媒は液状であり、水、有機溶媒、及び水と有機溶媒との混合溶剤が挙げられる。(B)分散媒として使用される有機溶媒は特に限定されず、例えばアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。
<(B) Dispersion medium>
The dispersion composition of the present disclosure is a composition in which (A) a substance to be dispersed is dispersed in (B) a dispersion medium. The dispersion medium is liquid, and examples thereof include water, an organic solvent, and a mixed solvent of water and an organic solvent. The organic solvent used as (B) the dispersion medium is not particularly limited, and examples thereof include alcohol-based solvents, ketone-based solvents, ether-based solvents, ester-based solvents, aprotic polar solvents, halogenated hydrocarbon-based solvents, and hydrocarbon-based solvents.

これらの具体例としては、アルコール系溶剤として、例えばメタノール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、n-ブタノール、i-ブタノール、t-ブタノール、1-ペンタノール、3-メチル-1-ブタノール、1-ヘキサノール、2-ヘキサノール、ヘプタノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、プロパン-1,2-ジオール、エチレングリコール等を;
ケトン系溶剤として、例えばシクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル-n-プロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、ジエチルケトン、ジ-n-ブチルケトン、メチル-i-ブチルケトン、メチル-n-ペンチルケトン、エチル-n-ブチルケトン、メチル-n-ヘキシルケトン、ジイソブチルケトン、トリメチルノナノン等を;
エーテル系溶剤として、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、ジエチレングリコールジエチルエーテル(DEDG)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、3-メトキシ-1-ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール-n-プロピルエーテル、エチレングリコール-i-プロピルエーテル、エチレングリコール-n-ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、1-ブトキシ-2-プロパノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等の多価アルコールの部分エーテル;ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールの部分エステル;テトラヒドロフラン等の環状エーテル等を;
エステル系溶剤として、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸t-ブチル、酢酸3-メトキシブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等を;
非プロトン性極性溶媒として、例えばN-メチル-2-ピロリドン、N-エチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-1-イミダゾリジノン、γ-ブチロラクトン、γ-ブチロラクタム、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、N,N,2-トリメチルプロパンアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド等を;
ハロゲン化炭化水素系溶剤として、例えばジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,4-ジクロロブタン、トリクロロエタン等を;
炭化水素系溶剤として、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等を、それぞれ挙げることができる。なお、これらの有機溶媒は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
Specific examples of these include alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, n-butanol, i-butanol, t-butanol, 1-pentanol, 3-methyl-1-butanol, 1-hexanol, 2-hexanol, heptanol, cyclohexanol, methylcyclohexanol, diacetone alcohol, propane-1,2-diol, and ethylene glycol;
Examples of ketone solvents include cyclobutanone, cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, acetone, methyl ethyl ketone, methyl n-propyl ketone, methyl n-butyl ketone, diethyl ketone, di-n-butyl ketone, methyl i-butyl ketone, methyl n-pentyl ketone, ethyl n-butyl ketone, methyl n-hexyl ketone, diisobutyl ketone, and trimethylnonanone;
Examples of ether solvents include partial ethers of polyhydric alcohols such as propylene glycol monomethyl ether (PGME), diethylene glycol diethyl ether (DEDG), diethylene glycol ethyl methyl ether, 3-methoxy-1-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), 1-butoxy-2-propanol, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether; partial esters of polyhydric alcohols such as diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), and propylene glycol monoethyl ether acetate; and cyclic ethers such as tetrahydrofuran;
Examples of ester solvents include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, sec-butyl acetate, t-butyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl propionate, butyl propionate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, ethylene carbonate, and propylene carbonate;
Examples of aprotic polar solvents include N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-1-imidazolidinone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, N,N,2-trimethylpropanamide, acetonitrile, and dimethyl sulfoxide;
Halogenated hydrocarbon solvents include, for example, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane, and trichloroethane;
Examples of hydrocarbon solvents include hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene, etc. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

(B)分散媒は、有機溶媒系であってもよいし、水系であってもよい。水系は低環境負荷である等の理由から好ましく使用される。水系の分散媒を用いる場合、水の使用割合は、分散組成物に含有される(B)分散媒の全量に対して、50質量%以上であることが好ましく、75質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。The (B) dispersion medium may be either an organic solvent or an aqueous solution. Aqueous solutions are preferred because of their low environmental impact. When an aqueous dispersion medium is used, the proportion of water used is preferably 50% by mass or more, more preferably 75% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more, of the total amount of the (B) dispersion medium contained in the dispersion composition.

分散媒として、水と有機溶媒との混合溶剤を使用する場合、使用する有機溶媒は、水に溶解可能な有機溶媒であれば特に限定されないが、好ましくは、水よりも沸点が低い有機溶媒であり、より好ましくは、メタノール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、アセトン及びテトラヒドロフランよりなる群から選ばれる少なくとも一種である。(B)分散媒が水と有機溶媒との混合溶剤である場合、分散組成物中における有機溶媒の含有割合は、水と有機溶媒との混合溶剤の全量に対して、50質量%以下であることが好ましく、25質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることが更に好ましい。 When a mixed solvent of water and an organic solvent is used as the dispersion medium, the organic solvent used is not particularly limited as long as it is an organic solvent that is soluble in water, but is preferably an organic solvent with a boiling point lower than that of water, and more preferably at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, acetone, and tetrahydrofuran. (B) When the dispersion medium is a mixed solvent of water and an organic solvent, the content of the organic solvent in the dispersion composition is preferably 50% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or less, based on the total amount of the mixed solvent of water and an organic solvent.

<(C)分散剤>
[重合体[P]]
本開示の分散組成物は、分散剤として重合体[P]を含有する。重合体[P]は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種であって、かつ下記式(1)で表されるジアミン化合物[D1]に由来する構造単位U1と、ジアミン化合物[D1]とは異なるジアミン化合物[D2]に由来する構造単位U2とを有する重合体である。
(式(1)中、nは0又は1である。nが0の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。nが1の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。)
<(C) Dispersant>
[Polymer [P]]
The dispersion composition of the present disclosure contains a polymer [P] as a dispersant. The polymer [P] is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide, and is a polymer having a structural unit U1 derived from a diamine compound [D1] represented by the following formula (1) and a structural unit U2 derived from a diamine compound [D2] different from the diamine compound [D1]:
(In formula (1), n is 0 or 1. When n is 0, at least one of R 1 to R 4 is a monovalent group having an ionic functional group, and the remaining groups are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. When n is 1, at least one of R 1 to R 8 is a monovalent group having an ionic functional group, and the remaining groups are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group.)

(構造単位U1)
構造単位U1は、ジアミン化合物[D1]が有する2個の1級アミノ基のそれぞれから1個の水素原子を取り除いた構造単位である。上記式(1)中のR~Rについて、イオン性官能基を有する1価の基は、「*-L-X」(ただし、Lは単結合又は2価の連結基であり、Xはイオン性官能基である。「*」はベンゼン環に結合する結合手であることを表す。)で表すことができる。ここで、Lが2価の連結基である場合、Lの具体例としては、炭素数1~5のアルカンジイル基、当該アルカンジイル基の炭素-炭素結合間に-O-を含む基、-O-R13-**(ただし、R13は2価の炭化水素基であり、「**」はXに結合する結合手であることを表す。)等が挙げられる。R13は、炭素数1~5のアルカンジイル基であることが好ましい。
(Structural unit U1)
The structural unit U1 is a structural unit obtained by removing one hydrogen atom from each of two primary amino groups in the diamine compound [D1]. Regarding R 1 to R 8 in the above formula (1), the monovalent group having an ionic functional group can be represented by "*-L 1 -X 1 " (where L 1 is a single bond or a divalent linking group, and X 1 is an ionic functional group. "*" represents a bond bonded to a benzene ring). When L 1 is a divalent linking group, specific examples of L 1 include an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms, a group containing -O- between the carbon-carbon bonds of the alkanediyl group, and -O-R 13 -** (where R 13 is a divalent hydrocarbon group, and "**" represents a bond bonded to X 1 ). R 13 is preferably an alkanediyl group having 1 to 5 carbon atoms.

イオン性官能基は、水中で陽イオン又は陰イオンを形成する官能基である。イオン性官能基は、特に限定されないが、水を含む溶剤に対する重合体[P]の溶解性をより高くできる点で、スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基、アンモニウム基、ピリジニウム基、イミダゾリウム基若しくはグアニジニウム基、又はそれらの塩であることが好ましい。また、イオン性官能基は、酸性官能基及び塩基性官能基のいずれでもよいが、酸性官能基であることが好ましい。イオン性官能基としては、これらの中でも、スルホン酸基、ホスホン酸基若しくはカルボン酸基、又はそれらの塩であることが好ましく、特にスルホン酸基又はその塩であることが好ましい。 The ionic functional group is a functional group that forms a cation or anion in water. The ionic functional group is not particularly limited, but is preferably a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a carboxylic acid group, an ammonium group, a pyridinium group, an imidazolium group, a guanidinium group, or a salt thereof, as this can increase the solubility of the polymer [P] in solvents including water. The ionic functional group may be either an acidic functional group or a basic functional group, but is preferably an acidic functional group. Among these, the ionic functional group is preferably a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a carboxylic acid group, or a salt thereof, with a sulfonic acid group or a salt thereof being particularly preferred.

イオン性官能基が、酸性官能基又は塩基性官能基の塩である場合、酸性官能基(スルホン酸基、ホスホン酸基、カルボン酸基等)の対イオンとしては、例えばLi、Na、K、Cs、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Zn2+、Pb2+、Al3+、La3+、Ce3+、Y3+、Yb3+、Gd3+、NH4-t (ただし、Qは炭素数1~20の炭化水素基を表し、tは0~4の整数を表す。tが2~4の場合、複数のQは同一の基又は異なる基である。以下同じ。)等が挙げられる。また、塩基性官能基(アンモニウム基、ピリジニウム基、イミダゾリウム基、グアニジニウム基等)の対イオンとしては、例えばCl、Br、I、R14COO(ただし、R14は炭素数1~20の炭化水素基を表す。)等が挙げられる。イオン性官能基がカルボン酸基である場合は、カルボン酸の酸解離定数が低く、酸性条件でプロトンが解離しにくくイオン性が低下するため、強塩基と塩を形成していることが好ましい。 When the ionic functional group is a salt of an acidic functional group or a basic functional group, examples of the counter ion of the acidic functional group (sulfonic acid group, phosphonic acid group, carboxylic acid group, etc.) include Li + , Na + , K + , Cs + , Mg 2+ , Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ , Zn 2+ , Pb 2+ , Al 3+ , La 3+ , Ce 3+ , Y 3+ , Yb 3+ , Gd 3+ , NH 4-t Q t + (wherein Q represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and t represents an integer of 0 to 4. When t is 2 to 4, multiple Qs are the same or different groups. The same applies hereinafter.) Furthermore, examples of counter ions of basic functional groups (ammonium group, pyridinium group, imidazolium group, guanidinium group, etc.) include Cl , Br , I , R 14 COO (wherein R 14 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms), etc. When the ionic functional group is a carboxylic acid group, it is preferable that the ionic functional group forms a salt with a strong base, because the acid dissociation constant of carboxylic acid is low and protons are difficult to dissociate under acidic conditions, reducing ionicity.

イオン性官能基を有する1価の基において、Lは、イオン性官能基の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、イオン官能性基がスルホン酸基、ホスホン酸基若しくはカルボン酸基、又はそれらの塩である場合、Lは、好ましくは単結合である。また、イオン官能性基がアンモニウム基、ピリジニウム基、イミダゾリウム基若しくはグアニジニウム基、又はそれらの塩である場合、Lは、好ましくは2価の連結基であり、より好ましくは炭素数1~3のアルカンジイル基である。 In the monovalent group having an ionic functional group, L1 can be appropriately selected depending on the type of ionic functional group. For example, when the ionic functional group is a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a carboxylic acid group, or a salt thereof, L1 is preferably a single bond. Furthermore, when the ionic functional group is an ammonium group, a pyridinium group, an imidazolium group, a guanidinium group, or a salt thereof, L1 is preferably a divalent linking group, more preferably an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.

上記式(1)中のイオン性官能基の個数は特に限定されない。上記式(1)中のイオン性官能基の個数(すなわち、n=0の場合には、R~Rのうちイオン性官能基を有する1価の基の数、n=1の場合には、R~Rのうちイオン性官能基を有する1価の基の数)は、好ましくは1~4個であり、1個又は2個であることがより好ましい。
~Rにおいて、1価の有機基は、炭化水素基が好ましく、炭素数1~5のアルキル基がより好ましい。ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、ホウ素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
The number of ionic functional groups in the above formula (1) is not particularly limited. The number of ionic functional groups in the above formula (1) (i.e., when n=0, the number of monovalent groups having an ionic functional group among R 1 to R 4 , and when n=1, the number of monovalent groups having an ionic functional group among R 1 to R 8 ) is preferably 1 to 4, and more preferably 1 or 2.
In R 1 to R 8 , the monovalent organic group is preferably a hydrocarbon group, more preferably an alkyl group having a carbon number of 1 to 5. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a boron atom, and an iodine atom.

ジアミン化合物[D1]の具体例としては、下記式(d-1)~(d-16)のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。
Specific examples of the diamine compound [D1] include compounds represented by the following formulas (d-1) to (d-16).

重合体[P]における構造単位U1の含有割合は、被分散体の分散性(特に、水系の分散媒への分散性)を十分に確保することができる点で、重合体[P]が有するジアミン化合物に由来する構造単位の全量に対し、5モル%以上であることが好ましく、10モル%以上であることがより好ましく、20モル%以上であることが更に好ましく、50モル%以上であることが特に好ましい。また、構造単位U1の含有割合は、被分散体の分散性(特に、有機溶媒系の分散媒への分散性)をより良好にできる点、及び被分散体としてCNTを用いた場合にCNT膜の体積抵抗率を十分に低くできる点で、重合体[P]が有するジアミン化合物に由来する構造単位の全量に対し、99.5モル%以下であることが好ましく、99モル%以下であることがより好ましく、98モル%以下であることが更に好好ましく、85モル%以下であることが特に好ましい。なお、重合体[P]の合成に際し、ジアミン化合物[D1]としては、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。The content of the structural unit U1 in polymer [P] is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, even more preferably 20 mol% or more, and particularly preferably 50 mol% or more, relative to the total amount of structural units derived from the diamine compound contained in polymer [P], in order to ensure sufficient dispersibility of the dispersed substance (especially dispersibility in an aqueous dispersion medium). Furthermore, the content of the structural unit U1 is preferably 99.5 mol% or less, more preferably 99 mol% or less, even more preferably 98 mol% or less, and particularly preferably 85 mol% or less, relative to the total amount of structural units derived from the diamine compound contained in polymer [P], in order to improve the dispersibility of the dispersed substance (especially dispersibility in an organic solvent dispersion medium) and to sufficiently reduce the volume resistivity of the CNT film when CNTs are used as the dispersed substance. When synthesizing polymer [P], diamine compound [D1] can be used alone or in combination of two or more.

(構造単位U2)
構造単位U2は、ジアミン化合物[D1]とは異なるジアミン化合物[D2]に由来する構造単位であればよく、特に限定されない。ジアミン化合物[D2]としては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。これらのうち、重合体[P]の分子鎖を剛直かつ一軸直線性の高い構造とするとともに、分子間のスタッキング相互作用により重合体[P]を面内配向しやすくし、これにより被分散体の分散性をより高くする観点から、ジアミン化合物[D2]は芳香族ジアミンであることが好ましい。
(Structural unit U2)
The structural unit U2 is not particularly limited as long as it is a structural unit derived from a diamine compound [D2] different from the diamine compound [D1]. Examples of the diamine compound [D2] include aliphatic diamines, alicyclic diamines, aromatic diamines, and diaminoorganosiloxanes. Among these, it is preferable that the diamine compound [D2] be an aromatic diamine, from the viewpoint of imparting a rigid and highly uniaxially linear structure to the molecular chain of the polymer [P] and facilitating in-plane orientation of the polymer [P] through intermolecular stacking interactions, thereby further enhancing the dispersibility of the dispersed substance.

ジアミン化合物[D2]の具体例としては、脂肪族ジアミンとして、例えばメタキシリレンジアミン、1,3-プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどを;脂環式ジアミンとして、例えば1,4-ジアミノシクロヘキサン、4,4’-メチレンビス(シクロヘキシルアミン)などを; Specific examples of diamine compound [D2] include aliphatic diamines such as metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, and 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane; alicyclic diamines such as 1,4-diaminocyclohexane and 4,4'-methylenebis(cyclohexylamine);

芳香族ジアミンとして、例えばパラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4-アミノフェニル-4’-アミノベンゾエート、4,4’-ジアミノアゾベンゼン、1,5-ビス(4-アミノフェノキシ)ペンタン、1,7-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘプタン、ビス[2-(4-アミノフェニル)エチル]ヘキサン二酸、N,N-ビス(4-アミノフェニル)メチルアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル、2,7-ジアミノフルオレン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’-(p-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’-(m-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル等の主鎖型ジアミン;ジアミノフェニル構造に炭素数6以上の側鎖構造が結合した側鎖型ジアミンなどを;
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば、1,3-ビス(3-アミノプロピル)-テトラメチルジシロキサンなどを;それぞれ挙げることができるほか、特開2010-97188号公報に記載のジアミンを用いることができる。
Examples of aromatic diamines include paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate, 4,4'-diaminoazobenzene, 1,5-bis(4-aminophenoxy)pentane, 1,7-bis(4-aminophenoxy)heptane, bis[2-(4-aminophenyl)ethyl]hexanedioic acid, N,N-bis(4-aminophenyl)methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl, and 2,7-diaminofluorobenzoates. Main-chain diamines such as olefin, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]hexafluoropropane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane, 4,4'-(p-phenylenediisopropylidene)bisaniline, 4,4'-(m-phenylenediisopropylidene)bisaniline, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, and 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl; side-chain diamines in which a side-chain structure having 6 or more carbon atoms is bonded to a diaminophenyl structure;
Examples of diaminoorganosiloxanes include 1,3-bis(3-aminopropyl)-tetramethyldisiloxane, and the like. In addition, diamines described in JP-A-2010-97188 can also be used.

ジアミン化合物[D]は、側鎖型ジアミンであることが好ましい。具体的には、ジアミン化合物[D]は、下記式(2)で表される部分構造を有することが好ましく、下記式(2)で表される部分構造を有する芳香族ジアミンであることがより好ましい。
*-L -R -R -R -R …(2)
(式(2)中、L は、単結合、-O-、-CO-、-COO-*、-OCO-*、-NR -、-NR -CO-*、-CO-NR -*、炭素数1~6のアルカンジイル基、-O-R -*、又は-R -O-*(ただし、R は水素原子又は炭素数1~10の1価の炭化水素基であり、R は炭素数1~3のアルカンジイル基である。「*」は、R との結合手であることを示す。)である。R 及びR は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは無置換のフェニレン基、又は置換若しくは無置換のシクロアルキレン基であり、R は、単結合、置換若しくは無置換のフェニレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、又は-R -B-R -(ただし、R 及びR は、それぞれ独立に、置換又は無置換のフェニレン基又はシクロアルキレン基であり、Bは単結合、-O-、-COO-*、-OCO-*、-OCH-*、-CHO-*、又は炭素数1~3のアルカンジイル基である。「*」は、R との結合手であることを示す。)である。R は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、CHCOO-*(「*」は、R との結合手であることを示す。)、炭素数1~18のアルキル基、炭素数1~18のフルオロアルキル基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のフルオロアルコキシ基、ステロイド骨格を有する炭素数17~51の炭化水素基、又は、炭素数1~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。ただし、R 、R 及びR の全部が単結合である場合、R は、炭素数6~18のアルキル基、炭素数6~18のフルオロアルキル基、炭素数6~18のアルコキシ基、炭素数6~18のフルオロアルコキシ基、ステロイド骨格を有する炭素数17~51の炭化水素基、又は、炭素数6~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。R 、R 及びR が有する置換又は無置換のフェニレン基と置換又は無置換のシクロアルキレン基との合計数が1個である場合、R は、炭素数4~18のアルキル基、炭素数4~18のフルオロアルキル基、炭素数4~18のアルコキシ基、炭素数4~18のフルオロアルコキシ基、又は、炭素数4~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。「*」は結合手であることを示す。)
The diamine compound [D] is preferably a side chain diamine. Specifically, the diamine compound [D] preferably has a partial structure represented by the following formula (2), and more preferably is an aromatic diamine having a partial structure represented by the following formula (2):
*-L 2 1 -R 2 1 -R 2 2 -R 2 3 -R 2 4 ...(2)
In formula (2), L 2 1 is a single bond, —O—, —CO—, —COO-* 1 , —OCO-* 1 , —NR 2 5 —, —NR 2 5 -CO-* 1 , —CO-NR 2 5 -* 1 , an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, —O-R 2 6 -* 1 , or —R 2 6 -O-* 1 (wherein R 2 5 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 6 is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. * 1 indicates a bond to R 2 1 ). R 2 1 and R 2 3 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted phenylene group, or a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, and R 2 2 is a single bond, a substituted or unsubstituted phenylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, or -R 2 7 -B 1 -R 2 8 - (wherein R 2 7 and R 2 8 are each independently a substituted or unsubstituted phenylene group or cycloalkylene group, and B 1 is a single bond, -O-, -COO-* 2 , -OCO-* 2 , -OCH 2 -* 2 , -CH 2 O-* 2 , or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. "* 2 " indicates a bond to R 2 8 ). R 2 4 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, CH 3 COO-* 3 (wherein "* 3 " indicates a bond to R 2 and R 21 , R 22, and R 23 are all single bonds, R 24 is an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms and a steroid skeleton, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group. However, when all of R 21 , R 22 , and R 23 are single bonds, R 24 is an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 6 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 6 to 18 carbon atoms, a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms and a steroid skeleton, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group. When the total number of substituted or unsubstituted phenylene groups and substituted or unsubstituted cycloalkylene groups that R 24 has is 1, R 24 is an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 4 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 4 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 4 to 18 carbon atoms, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group. "*" indicates a bond.)

上記式(2)において、置換フェニレン基及び置換シクロアルキレン基の環に結合する置換基は、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基が好ましい。置換フェニレン基及び置換シクロアルキレン基のそれぞれが有する置換基の数は、好ましくは1個又は2個であり、より好ましくは1個である。
が炭素数1~18のアルキル基、炭素数1~18のフルオロアルキル基、炭素数1~18のアルコキシ基又は炭素数1~18のフルオロアルコキシ基である場合、R は直鎖状であることが好ましく、炭素数は、好ましくは2以上、より好ましくは3以上、更に好ましくは5以上である。
重合体[P]の配合量がより少ない量でも優れた分散性を発現する点で、上記式(2)で表される基は、R 、R 及びR のうち少なくとも1個が環構造を有しているか、又はR がステロイド骨格を有していることが好ましく、R 、R 及びR の合計の環構造が2個以上であるか、又はR がステロイド骨格を有していることがより好ましく、ステロイド骨格を有していることが更に好ましい。
In the above formula (2), the substituents bonded to the rings of the substituted phenylene group and the substituted cycloalkylene group are preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine atom, or a cyano group. The number of substituents possessed by each of the substituted phenylene group and the substituted cycloalkylene group is preferably one or two, and more preferably one.
When R 2 4 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, or a fluoroalkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, R 2 4 is preferably linear and has preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and even more preferably 5 or more carbon atoms.
In order to achieve excellent dispersibility even when the amount of polymer [P] blended is small, it is preferable that in the group represented by the above formula (2), at least one of R 21 , R 22 and R 23 has a ring structure or R 24 has a steroid skeleton, more preferably that the total number of ring structures of R 21 , R 22 and R 23 is two or more or that R 24 has a steroid skeleton, and even more preferably that it has a steroid skeleton.

重合体[P]の面内配向をより高くでき、被分散体の分散性をより高くできる点で、ジアミン化合物[D2]は、上記のうち、上記式(2)で表される基がジアミノフェニル基に結合した芳香族ジアミン(すなわち、下記式(3)で表される化合物)であることが特に好ましい。この場合、2つの1級アミノ基の結合位置は特に限定されず、上記式(2)で表される基に対して、例えば2,4-位、2,5-位、3,5-位である。
(式(3)中、L 、R 、R 、R 及びR は、上記式(2)と同義である。)
Among the above diamine compounds, the diamine compound [D2] is particularly preferably an aromatic diamine in which a group represented by the above formula (2) is bonded to a diaminophenyl group (i.e., a compound represented by the following formula (3)), from the viewpoint of being able to further increase the in-plane orientation of the polymer [P] and further increase the dispersibility of the dispersed substance. In this case, the bonding positions of the two primary amino groups are not particularly limited and may be, for example, the 2,4-positions, 2,5-positions, or 3,5-positions relative to the group represented by the above formula (2).
(In formula (3), L 2 1 , R 2 1 , R 2 2 , R 2 3 and R 2 4 have the same meanings as in formula (2) above.)

ジアミン化合物[D2]の具体例としては、例えばヘキサノキシ-3,5-ジアミノベンゼン、ヘプタノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ドデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ-2,4-ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ-2,5-ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ-3,5-ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ-3,5-ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ-2,4-ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ-2,4-ジアミノベンゼン、3,5-ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5-ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5-ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6-ビス(4-アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6-ビス(4-アミノフェノキシ)コレスタン、2,4-ジアミノ-N,N-ジアリルアニリン、4-(4’-トリフルオロメトキシベンゾイロキシ)シクロヘキシル-3,5-ジアミノベンゾエート、1,1-ビス(4-((アミノフェニル)メチル)フェニル)-4-ブチルシクロヘキサン、3,5-ジアミノ安息香酸=5ξ-コレスタン-3-イル、下記式(E-1)
(式(E-1)中、XI及びXIIは、それぞれ独立に、単結合、-O-、*-COO-又は*-OCO-(ただし、「*」はXとの結合手を示す。)であり、Rは炭素数1~3のアルカンジイル基であり、RIIは単結合又は炭素数1~3のアルカンジイル基であり、R6は水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のフルオロアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基又は炭素数1~20のフルオロアルコキシ基であり、aは0~2の整数であり、bは0~2の整数であり、dは0又は1である。但し、a及びbが同時に0になることはない。)
で表される化合物等を挙げることができる。
Specific examples of the diamine compound [D2] include hexanoxy-3,5-diaminobenzene, heptanoxy-2,4-diaminobenzene, dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,4-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,5 ... oxy-2,4-diaminobenzene, cholestanyl 3,5-diaminobenzoate, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, lanostannyl 3,5-diaminobenzoate, 3,6-bis(4-aminobenzoyloxy)cholestane, 3,6-bis(4-aminophenoxy)cholestane, 2,4-diamino-N,N-diallylaniline, 4-(4'-trifluoromethoxybenzoyloxy)cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 1,1-bis(4-((aminophenyl)methyl)phenyl)-4-butylcyclohexane, 3,5-diaminobenzoic acid=5ξ-cholestan-3-yl, compounds of the following formula (E-1):
(In formula (E-1), X I and X II each independently represent a single bond, —O—, *-COO—, or *-OCO— (wherein “*” represents a bond to X I ), R I represents an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, R II represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, R6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a fluoroalkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a represents an integer of 0 to 2, b represents an integer of 0 to 2, and d represents 0 or 1, provided that a and b cannot simultaneously be 0.)
Examples of the compound include compounds represented by the following formula:

上記式(E-1)で表される化合物の具体例としては、例えば下記式(E-1-1)~式(E-1-11)のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。
(式(E-1-1)~式(E-1-11)中、Xは、-O-、-OCH-、-CHO-、-COO-CH-又は-CH-OCO-であり、Rは上記式(E-1)と同義である。)
Specific examples of the compound represented by formula (E-1) above include compounds represented by the following formulas (E-1-1) to (E-1-11).
(In formulas (E-1-1) to (E-1-11), X 1 represents —O—, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —COO—CH 2 — or —CH 2 —OCO—, and R 6 has the same meaning as in formula (E-1).)

重合体[P]における構造単位U2の含有割合は、被分散体の分散性(特に、有機溶媒系の分散媒への分散性)を十分に確保することができる点で、重合体[P]が有するジアミン化合物に由来する構造単位の全量(すなわち、構造単位U1と構造単位U2との合計量)に対し、0.5モル%以上であることが好ましく、1モル%以上であることがより好ましく、2モル%以上であることが更に好ましく、15モル%以上であることが特に好ましい。また、構造単位U2の含有割合は、被分散体の分散性(特に、水系の分散媒への分散性)をより良好にできる点で、重合体[P]が有するジアミン化合物に由来する構造単位の全量に対し、95モル%以下であることが好ましく、90モル%以下であることがより好ましく、80モル%以下であることが更に好ましく、50モル%以下であることが特に好ましい。なお、重合体[P]の合成に際し、ジアミン化合物[D2]としては、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。The content of the structural unit U2 in polymer [P] is preferably 0.5 mol% or more, more preferably 1 mol% or more, even more preferably 2 mol% or more, and particularly preferably 15 mol% or more, of the total amount of structural units derived from the diamine compound contained in polymer [P] (i.e., the total amount of structural units U1 and U2), in order to ensure sufficient dispersibility of the dispersed substance (especially dispersibility in organic solvent-based dispersion media). Furthermore, the content of the structural unit U2 is preferably 95 mol% or less, more preferably 90 mol% or less, even more preferably 80 mol% or less, and particularly preferably 50 mol% or less, of the total amount of structural units derived from the diamine compound contained in polymer [P], in order to improve the dispersibility of the dispersed substance (especially dispersibility in aqueous dispersion media). Note that when synthesizing polymer [P], one type of diamine compound [D2] can be used alone, or two or more types can be used in combination.

重合体[P]は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である。重合体[P]は、例えば、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジエステル及びテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物よりなる群から選ばれる少なくとも一種のテトラカルボン酸誘導体と、ジアミン化合物とを原料組成に用いた重合により得ることができる。 Polymer [P] is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide. Polymer [P] can be obtained, for example, by polymerization using as raw material components at least one tetracarboxylic acid derivative selected from the group consisting of tetracarboxylic acid dianhydrides, tetracarboxylic acid diesters, and tetracarboxylic acid diester dihalides, and a diamine compound.

[ポリアミック酸]
重合体[P]がポリアミック酸である場合、当該ポリアミック酸(以下「ポリアミック酸[P]」ともいう。)は、例えばテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得ることができる。
[Polyamic acid]
When the polymer [P] is a polyamic acid, the polyamic acid (hereinafter also referred to as "polyamic acid [P]") can be obtained, for example, by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diamine compound.

(テトラカルボン酸二無水物)
重合体[P]の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物は、特に限定されないが、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物などを;
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-3a,4,5,9b-テトラヒドロナフト[1,2-c]フラン-1,3-ジオン、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-8-メチル-3a,4,5,9b-テトラヒドロナフト[1,2-c]フラン-1,3-ジオン、3-オキサビシクロ[3.2.1]オクタン-2,4-ジオン-6-スピロ-3’-(テトラヒドロフラン-2’,5’-ジオン)、5-(2,5-ジオキソテトラヒドロ-3-フラニル)-3-メチル-3-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸無水物、3,5,6-トリカルボキシ-2-カルボキシメチルノルボルナン-2:3,5:6-二無水物、ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4,6,8-テトラカルボン酸2:4,6:8-二無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3,5,6-テトラカルボン酸2:3,5:6-二無水物、4,9-ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン-3,5,8,10-テトラオン、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、1,3-プロピレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)などを;
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物、4,4’-ビフタル酸二無水物、4,4’-カルボニルジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,6-テトラカルボン酸二無水物などを;
それぞれ挙げることができるほか、特開2010-97188号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
(Tetracarboxylic acid dianhydride)
The tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polymer [P] is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic acid dianhydrides, aromatic tetracarboxylic acid dianhydrides, etc. Specific examples of these include butanetetracarboxylic acid dianhydride as an aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride;
Examples of alicyclic tetracarboxylic dianhydrides include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-3a,4,5,9b-tetrahydronaphtho[1,2-c]furan-1,3-dione, 5-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-8-methyl-3a,4,5,9b-tetrahydronaphtho[1,2-c]furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo[3.2.1]octane-2,4-dione- 6-spiro-3'-(tetrahydrofuran-2',5'-dione), 5-(2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane-2:3,5:6-dianhydride, bicyclo[3.3.0]octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2:4,6:8-dianhydride, bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic acid 2:3,5:6-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo[5.3.1.0]octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2:3,5:6-dianhydride 2,6 ]undecane-3,5,8,10-tetraone, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, ethylenediaminetetraacetic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, ethylene glycol bis(anhydrotrimellitate), 1,3-propylene glycol bis(anhydrotrimellitate), and the like;
Examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, 4,4'-biphthalic dianhydride, 4,4'-carbonyldiphthalic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, and naphthalene-1,4,5,6-tetracarboxylic dianhydride;
In addition to the above, the tetracarboxylic dianhydrides described in JP-A-2010-97188 can also be used.

重合体[P]の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物は、重合体[P]の分子鎖を剛直かつ一軸直線性の高い構造とし、重合体[P]を面内配向しやすくする観点から、上記のうち、下記式(t-1)~式(t-21)のそれぞれで表される部分構造を有する化合物(以下「特定テトラカルボン酸二無水物」ともいう。)であることが好ましい。
(式(t-1)~(t-21)中、「*」は、酸無水物基(-CO-O-CO-)が有するカルボニル基に結合する結合手であることを表す。)
The tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis of the polymer [P] is preferably a compound having a partial structure represented by each of the following formulas (t-1) to (t-21) (hereinafter also referred to as a "specific tetracarboxylic acid dianhydride") from the viewpoint of making the molecular chain of the polymer [P] have a rigid and highly uniaxially linear structure and facilitating in-plane orientation of the polymer [P].
(In formulas (t-1) to (t-21), "*" represents a bond bonding to a carbonyl group possessed by an acid anhydride group (-CO-O-CO-).)

重合体[P]において、特定テトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の含有割合は、被分散体の分散性をより高くする観点から、重合体[P]が有するテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の全量に対して、20モル%以上とすることが好ましく、30モル%以上とすることがより好ましく、50モル%以上とすることが更に好ましい。また、特定テトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の含有割合は、重合体[P]が有するテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位の全量に対して、100モル%以下とすることができる。なお、テトラカルボン酸二無水物としては、これらの1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。In order to further improve the dispersibility of the dispersed substance, the content of structural units derived from the specific tetracarboxylic dianhydride in polymer [P] is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, and even more preferably 50 mol% or more, based on the total amount of structural units derived from tetracarboxylic dianhydride contained in polymer [P]. Furthermore, the content of structural units derived from the specific tetracarboxylic dianhydride can be 100 mol% or less, based on the total amount of structural units derived from tetracarboxylic dianhydride contained in polymer [P]. These tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or in combination of two or more.

重合体[P]の合成に使用するテトラカルボン酸誘導体は、重合体[P]の分子鎖を剛直かつ一軸直線性の高い構造とし、重合体[P]を面内配向しやすくする(リオトロピック液晶性を示す)とともに、被分散体の分散性をより高めることができる点で、芳香族テトラカルボン酸誘導体を含むことが好ましく、上記式(t-1)~式(t-6)のそれぞれで表される部分構造を有する芳香族テトラカルボン酸誘導体を含むことが特に好ましい。重合体[P]における、芳香族テトラカルボン酸誘導体に由来する構造単位の含有割合は、重合体[P]が有するテトラカルボン酸誘導体に由来する構造単位の全量に対して、20モル%以上であることが好ましく、30モル%以上であることがより好ましく、50モル%以上であることが更に好ましい。なお、重合体[P]の合成に際し、芳香族テトラカルボン酸誘導体は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。The tetracarboxylic acid derivative used in the synthesis of polymer [P] preferably contains an aromatic tetracarboxylic acid derivative, as this provides the polymer [P] with a rigid, uniaxially linear molecular chain structure, facilitating in-plane orientation of the polymer [P] (exhibiting lyotropic liquid crystallinity), and further enhancing the dispersibility of the dispersed substance. It is particularly preferred that the tetracarboxylic acid derivative contain an aromatic tetracarboxylic acid derivative having a partial structure represented by each of the above formulas (t-1) to (t-6). The content of structural units derived from aromatic tetracarboxylic acid derivatives in polymer [P] is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, and even more preferably 50 mol% or more, based on the total amount of structural units derived from tetracarboxylic acid derivatives contained in polymer [P]. In addition, when synthesizing polymer [P], aromatic tetracarboxylic acid derivatives can be used alone or in combination of two or more.

(ポリアミック酸[P]の合成)
ポリアミック酸[P]は、上記のようなテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、必要に応じて分子量調整剤とともに反応させることによって得ることができる。ポリアミック酸[P]の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物のアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が、0.2~2当量となる割合が好ましく、0.3~1.2当量となる割合がより好ましい。
(Synthesis of polyamic acid [P])
The polyamic acid [P] can be obtained by reacting the above-mentioned tetracarboxylic dianhydride with a diamine compound, optionally together with a molecular weight modifier. The ratio of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine compound used in the synthesis reaction of the polyamic acid [P] is preferably such that 0.2 to 2 equivalents, and more preferably 0.3 to 1.2 equivalents, of the acid anhydride groups of the tetracarboxylic dianhydride are used per equivalent of the amino groups of the diamine compound.

ジアミン化合物が酸性官能基を有する場合、塩基を加えて中和させた後に上記反応を行ってもよい。塩基としては、第三級アミンが好ましく、トリエチルアミンが特に好ましい。塩基の使用割合は、酸性官能基に対して0.5~5当量となる割合が好ましく、1~2当量となる割合がさらに好ましい。同様に、ジアミン化合物が塩基性官能基を有する場合、酸を加えて中和させた後に上記反応を行ってもよい。酸としては、カルボン酸が好ましい。酸の使用割合は、塩基性官能基に対して0.5~5当量となる割合が好ましく、1~2当量となる割合がさらに好ましい。 If the diamine compound has an acidic functional group, the above reaction may be carried out after neutralizing it by adding a base. A tertiary amine is preferred as the base, with triethylamine being particularly preferred. The base is preferably used in an amount of 0.5 to 5 equivalents relative to the acidic functional group, and more preferably 1 to 2 equivalents. Similarly, if the diamine compound has a basic functional group, the above reaction may be carried out after neutralizing it by adding an acid. A carboxylic acid is preferred as the acid. The acid is preferably used in an amount of 0.5 to 5 equivalents relative to the basic functional group, and more preferably 1 to 2 equivalents.

分子量調整剤としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸などの酸一無水物、アニリン、シクロヘキシルアミン、n-ブチルアミンなどのモノアミン化合物、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどのモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。分子量調整剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計100質量部に対して、20質量部以下とすることが好ましく、10質量部以下とすることがより好ましい。 Examples of molecular weight modifiers include acid monoanhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride, and itaconic anhydride; monoamine compounds such as aniline, cyclohexylamine, and n-butylamine; and monoisocyanate compounds such as phenyl isocyanate and naphthyl isocyanate. The proportion of molecular weight modifier used is preferably 20 parts by weight or less, and more preferably 10 parts by weight or less, per 100 parts by weight of the total of the tetracarboxylic dianhydride and diamine used.

ポリアミック酸[P]の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は、-20℃~150℃が好ましく、0~100℃がより好ましい。また、反応時間は、0.1~24時間が好ましく、0.5~12時間がより好ましい。The synthesis reaction of polyamic acid [P] is preferably carried out in an organic solvent. The reaction temperature is preferably -20°C to 150°C, more preferably 0°C to 100°C. The reaction time is preferably 0.1 to 24 hours, more preferably 0.5 to 12 hours.

反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを挙げることができる。これらの有機溶媒のうち、非プロトン性極性溶媒及びフェノール系溶媒よりなる群(第1群の有機溶媒)から選択される1種以上、又は、第1群の有機溶媒から選択される1種以上と、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素及び炭化水素よりなる群(第2群の有機溶媒)から選択される1種以上との混合物を使用することが好ましい。後者の場合、第2群の有機溶媒の使用割合は、第1群の有機溶媒及び第2群の有機溶媒の合計量に対して、好ましくは50質量%以下であり、より好ましくは40質量%以下であり、更に好ましくは30質量%以下である。Examples of organic solvents used in the reaction include aprotic polar solvents, phenolic solvents, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, and hydrocarbons. Among these organic solvents, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aprotic polar solvents and phenolic solvents (Group 1 organic solvents), or a mixture of one or more selected from Group 1 organic solvents with one or more selected from the group consisting of alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, and hydrocarbons (Group 2 organic solvents). In the latter case, the proportion of Group 2 organic solvent used is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less, based on the total amount of Group 1 organic solvents and Group 2 organic solvents.

特に好ましい有機溶媒は、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、m-クレゾール、キシレノール及びハロゲン化フェノールよりなる群から選択される1種以上を溶媒として使用するか、あるいはこれらの1種以上と他の有機溶媒との混合物を、上記割合の範囲で使用することが好ましい。有機溶媒の使用量(a)は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量(b)が、反応溶液の全量(a+b)に対して、0.1~50質量%になる量とすることが好ましい。Particularly preferred organic solvents are one or more selected from the group consisting of N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide, m-cresol, xylenol, and halogenated phenols, or a mixture of one or more of these with other organic solvents in the above-mentioned proportions. The amount of organic solvent (a) used is preferably an amount such that the total amount (b) of tetracarboxylic dianhydride and diamine is 0.1 to 50% by mass relative to the total amount (a + b) of the reaction solution.

[ポリアミック酸エステル]
重合体[P]がポリアミック酸エステルである場合、当該ポリアミック酸エステル(以下、「ポリアミック酸エステル[P]」ともいう。)は、例えば、[I]上記重合反応により得られたポリアミック酸[P]とエステル化剤とを反応させる方法、[II]テトラカルボン酸ジエステルとジアミンとを反応させる方法、[III]テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミンとを反応させる方法、などによって得ることができる。ポリアミック酸エステル[P]は、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存していてもよい。
[Polyamic acid ester]
When the polymer [P] is a polyamic acid ester, the polyamic acid ester (hereinafter also referred to as "polyamic acid ester [P]") can be obtained, for example, by [I] a method of reacting the polyamic acid [P] obtained by the above polymerization reaction with an esterifying agent, [II] a method of reacting a tetracarboxylic acid diester with a diamine, or [III] a method of reacting a tetracarboxylic acid diester dihalide with a diamine. The polyamic acid ester [P] may have only an amic acid ester structure, or may have both an amic acid structure and an amic acid ester structure.

[ポリイミド]
重合体[P]がポリイミドである場合、当該ポリイミド(以下、「ポリイミド[P]」ともいう。)は、上記の如くして合成されたポリアミック酸[P]又はポリアミック酸エステル[P]を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミド[P]は、その前駆体であるポリアミック酸[P]又はポリアミック酸エステル[P]が有していたアミック酸構造又はアミック酸エステル構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造及びアミック酸エステル構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造又はアミック酸エステル構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。ポリイミド[P]は、被分散体の分散性を十分に高くするために、そのイミド化率が50%以上であることが好ましく、75%以上であることがより好ましく、85%以上であることが更に好ましく、90%以上であることが特に好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造及びアミック酸エステル構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。
[Polyimide]
When the polymer [P] is a polyimide, the polyimide (hereinafter also referred to as "polyimide [P]") can be obtained by imidizing the polyamic acid [P] or polyamic acid ester [P] synthesized as described above through dehydration and cyclization. The polyimide [P] may be a fully imidized product in which all of the amic acid structures or amic acid ester structures contained in its precursor, the polyamic acid [P] or polyamic acid ester [P], have been dehydrated and cyclized, or a partially imidized product in which only a portion of the amic acid structures and amic acid ester structures have been dehydrated and cyclized, resulting in both the amic acid structure or amic acid ester structure and an imide ring structure. In order to sufficiently enhance the dispersibility of the dispersed substance, the polyimide [P] preferably has an imidization rate of 50% or more, more preferably 75% or more, even more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. The imidization ratio is the ratio, expressed as a percentage, of the number of imide ring structures to the total number of amic acid structures and amic acid ester structures and the number of imide ring structures in the polyimide.

ポリイミド[P]を得るための脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸を加熱する方法により、又はポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒の少なくともいずれかを添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。The dehydration ring-closure to obtain polyimide [P] is preferably carried out by heating the polyamic acid, or by dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding at least one of a dehydrating agent and a dehydration ring-closure catalyst to the solution, and heating as necessary.

ポリアミック酸の溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸のアミック酸構造の1モルに対して0.01~20モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、1-メチルピペリジン等の塩基触媒、メタンスルホン酸、安息香酸等の酸触媒を用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01~10モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸[P]の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは0~200℃であり、より好ましくは10~150℃である。反応時間は、好ましくは1.0~120時間であり、より好ましくは2.0~30時間である。In the method of adding a dehydrating agent and a dehydration ring-closing catalyst to a polyamic acid solution, the dehydrating agent can be, for example, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or trifluoroacetic anhydride. The amount of dehydrating agent used is preferably 0.01 to 20 moles per mole of the amic acid structure of the polyamic acid. The dehydration ring-closing catalyst can be, for example, a base catalyst such as pyridine, triethylamine, or 1-methylpiperidine, or an acid catalyst such as methanesulfonic acid or benzoic acid. The amount of dehydration ring-closing catalyst used is preferably 0.01 to 10 moles per mole of the dehydrating agent used. Examples of organic solvents used in the dehydration ring-closing reaction include the organic solvents exemplified for use in the synthesis of polyamic acid [P]. The reaction temperature for the dehydration ring-closing reaction is preferably 0 to 200°C, more preferably 10 to 150°C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.

なお、重合体[P]を含有する反応溶液は、そのまま分散組成物の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれる重合体[P]を単離したうえで分散組成物の調製に供してもよく、又は単離した重合体[P]を精製したうえで分散組成物の調製に供してもよい。重合体[P]の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。 The reaction solution containing polymer [P] may be used directly to prepare the dispersion composition, or the polymer [P] contained in the reaction solution may be isolated and then used to prepare the dispersion composition, or the isolated polymer [P] may be purified and then used to prepare the dispersion composition. Isolation and purification of polymer [P] can be carried out according to known methods.

以上のようにして得られる重合体[P]は、これを濃度10質量%の溶液としたときに、10~2000mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、20~1000mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、上記重合体の溶液粘度(mPa・s)は、当該重合体の良溶媒(例えば水など)を用いて調製した濃度10質量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。The polymer [P] obtained in this manner preferably has a solution viscosity of 10 to 2,000 mPa·s, and more preferably 20 to 1,000 mPa·s, when prepared into a 10% by mass solution. The solution viscosity (mPa·s) of the polymer is measured at 25°C using an E-type rotational viscometer for a 10% by mass polymer solution prepared using a good solvent for the polymer (e.g., water).

重合体[P]のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは1,000~500,000であり、より好ましくは2,000~300,000である。また、Mwと、GPCにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)との比で表される分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは15以下であり、より好ましくは10以下である。The polystyrene-equivalent weight-average molecular weight (Mw) of polymer [P] measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 1,000 to 500,000, and more preferably 2,000 to 300,000. Furthermore, the molecular weight distribution (Mw/Mn), expressed as the ratio of Mw to the polystyrene-equivalent number-average molecular weight (Mn) measured by GPC, is preferably 15 or less, and more preferably 10 or less.

ここで、被分散体の一つであるカーボンナノチューブは、導電性や耐熱性、強靭性、軽量化等において優れた性質をもつ。しかしながら、カーボンナノチューブは凝集性が高く、水系及び有機溶媒系のいずれの分散媒に対しても均一に分散されにくい。また、カーボンナノチューブの分散状態が良好でないと、その分散組成物を用いて得られた膜や配線において、カーボンナノチューブのもつ各種特性が十分に発現されないことが懸念される。この点、本開示の分散組成物は、分散剤として重合体[P]を含むことにより、カーボンナノチューブの分散性が水系及び有機溶媒系のいずれにおいても高く優れている。また、カーボンナノチューブと重合体[P]とを含有する分散組成物を用いることにより、導電性に優れた膜及び配線を形成することができる。 Here, carbon nanotubes, which are one of the dispersed substances, have excellent properties such as electrical conductivity, heat resistance, toughness, and lightweight. However, carbon nanotubes have a high tendency to aggregate, making them difficult to disperse uniformly in either aqueous or organic solvent-based dispersion media. Furthermore, if the carbon nanotubes are not well dispersed, there is a concern that the various properties of the carbon nanotubes may not be fully expressed in films or wiring obtained using the dispersion composition. In this regard, the dispersion composition of the present disclosure contains polymer [P] as a dispersant, thereby achieving high and excellent dispersibility of carbon nanotubes in both aqueous and organic solvent systems. Furthermore, by using a dispersion composition containing carbon nanotubes and polymer [P], films and wiring with excellent electrical conductivity can be formed.

分散組成物における重合体[P]の含有割合は、被分散体の分散性を十分に確保する観点から、被分散体と重合体[P]との合計質量に対し、2質量%以上であることが好ましく、5質量%以上であることがより好ましく、10質量%以上であることが更に好ましい。また、重合体[P]の含有割合は、被分散体の機能を十分に得る観点から、被分散体と重合体[P]との合計質量に対し、99.5質量%以下であることが好ましく、99質量%以下であることがより好ましい。 From the viewpoint of ensuring sufficient dispersibility of the dispersed substance, the content of polymer [P] in the dispersion composition is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more, based on the total mass of the dispersed substance and polymer [P]. Furthermore, from the viewpoint of obtaining sufficient functionality of the dispersed substance, the content of polymer [P] is preferably 99.5% by mass or less, more preferably 99% by mass or less, based on the total mass of the dispersed substance and polymer [P].

分散組成物における重合体[P]の含有割合は、分散媒と重合体[P]との合計量に対して0.05~30質量%であることが好ましい。重合体[P]によれば、比較的低い重合体濃度において被分散体の高い分散性を示す点で好ましい。また、分散組成物の粘度を低くできることから、基材上に塗膜を形成する際の塗布性が良好であり、0.1μm程度の薄膜を作成でき、工業的生産性に優れている。重合体[P]の含有割合は、分散媒と重合体[P]との合計質量に対して、より好ましくは0.1~25質量%であり、さらに好ましくは0.2~20質量%である。The content of polymer [P] in the dispersion composition is preferably 0.05 to 30% by mass relative to the total amount of the dispersion medium and polymer [P]. Polymer [P] is preferred because it exhibits high dispersibility of the dispersed substance even at a relatively low polymer concentration. Furthermore, since the viscosity of the dispersion composition can be reduced, it has good coatability when forming a coating film on a substrate, making it possible to create a thin film of approximately 0.1 μm, and is therefore excellent in industrial productivity. The content of polymer [P] is more preferably 0.1 to 25% by mass, and even more preferably 0.2 to 20% by mass, relative to the total mass of the dispersion medium and polymer [P].

分散組成物の固形分濃度(すなわち、分散組成物の分散媒以外の成分の合計質量が分散組成物の全質量に占める割合)は、粘性や分散媒の揮発性等を考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1~70質量%の範囲であり、より好ましくは3~50質量%の範囲であり、更に好ましくは5~40質量%の範囲である。本開示の分散組成物は、基材表面に塗布され、好ましくは分散媒が除去されることにより塗膜を形成する形態で用いられることがある。このとき、固形分濃度が1質量%以上であると、塗膜の膜厚が薄くなりすぎず、被分散体を含む塗膜を形成しやすくなる。一方、固形分濃度が70質量%以下であると、塗膜の膜厚が過大となりすぎず、良質な塗膜を形成しやすくなる。また、分散組成物の粘性が高くなりすぎず、塗布性の低下を抑制することができる。The solids concentration of the dispersion composition (i.e., the proportion of the total mass of the dispersion composition's components other than the dispersion medium) is appropriately selected taking into consideration factors such as viscosity and the volatility of the dispersion medium, but is preferably in the range of 1 to 70% by mass, more preferably 3 to 50% by mass, and even more preferably 5 to 40% by mass. The dispersion composition of the present disclosure may be used in a form in which it is applied to a substrate surface, and a coating film is formed, preferably by removing the dispersion medium. In this case, if the solids concentration is 1% by mass or more, the coating film thickness will not be too thin, making it easier to form a coating film containing the dispersed substance. On the other hand, if the solids concentration is 70% by mass or less, the coating film thickness will not be too large, making it easier to form a high-quality coating film. Furthermore, the viscosity of the dispersion composition will not be too high, preventing a decrease in coatability.

本開示の分散組成物は、本開示の目的及び効果を妨げない範囲内において、分散剤として重合体[P]とは異なる分散剤(以下、「その他の分散剤」ともいう。)を含有していてもよい。その他の分散剤の含有割合は、分散組成物に含有される分散剤の全量に対して、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましく、1質量%以下であることが更に好ましい。 The dispersion composition of the present disclosure may contain a dispersant other than polymer [P] (hereinafter also referred to as "other dispersant") as long as it does not interfere with the objectives and effects of the present disclosure. The content of the other dispersant is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or less, of the total amount of dispersant contained in the dispersion composition.

<その他の成分>
本開示の分散組成物は、本開示の目的及び効果を妨げない範囲内において、(A)被分散体、(B)分散媒、及び(C)分散剤以外のその他の成分を含有していてもよい。その他の成分としては、例えば界面活性剤、充填剤、顔料、消泡剤、増感剤、酸化防止剤、密着助剤、帯電防止剤、レベリング剤、抗菌剤等が挙げられる。その他の成分の含有割合は、配合する各化合物に応じて、本開示の効果を妨げない範囲で適宜設定することができる。
<Other ingredients>
The dispersion composition of the present disclosure may contain other components in addition to (A) the dispersed substance, (B) the dispersion medium, and (C) the dispersant, as long as the purpose and effects of the present disclosure are not impaired. Examples of other components include surfactants, fillers, pigments, antifoaming agents, sensitizers, antioxidants, adhesion aids, antistatic agents, leveling agents, and antibacterial agents. The content ratio of other components can be appropriately set depending on each compound to be blended, as long as the effects of the present disclosure are not impaired.

分散組成物の調製方法は特に限定されず、公知の方法に従って行うことができる。例えば、被分散体と分散媒と分散剤とを混合し、必要に応じて加熱、撹拌等を行うことにより調製することができる。分散組成物を調製する際の温度は、好ましくは5~90℃であり、より好ましくは10~65℃である。被分散体と分散媒と分散剤とを混合する処理は、例えばホモジナイザーやビーズミル等を用いて行ってもよい。 The method for preparing the dispersion composition is not particularly limited and can be carried out according to known methods. For example, the dispersion composition can be prepared by mixing the substance to be dispersed, the dispersion medium, and the dispersant, and then heating, stirring, etc. as necessary. The temperature when preparing the dispersion composition is preferably 5 to 90°C, more preferably 10 to 65°C. The process of mixing the substance to be dispersed, the dispersion medium, and the dispersant may be carried out using, for example, a homogenizer or a bead mill.

本開示の分散組成物は、高分子分散剤として重合体[P]を用いることにより被分散体の凝集を抑制し、これにより被分散体が安定に分散媒に分散されている。本開示の分散組成物を基材上に塗布し、好ましくは加熱して分散媒を除去することにより、基材上に被分散体を含む塗膜を形成することができる。また、本開示の分散組成物をそのまま又は他の分散液と混合して液状で用いることも可能である。The dispersion composition of the present disclosure uses polymer [P] as a polymer dispersant to suppress aggregation of the dispersed substance, thereby stably dispersing the dispersed substance in the dispersion medium. A coating film containing the dispersed substance can be formed on the substrate by applying the dispersion composition of the present disclosure to a substrate and then removing the dispersion medium, preferably by heating. The dispersion composition of the present disclosure can also be used in liquid form, either as is or by mixing it with other dispersions.

本開示の分散組成物は、被分散体の種類に応じて種々の用途に使用することができる。具体的には、透明導電膜、帯電防止膜、絶縁膜、保護膜、反射防止膜、着色膜、電界効果トランジスタ(FET)、タッチパネル、導電性インク、塗料、印刷用インキ、インクジェット塗布用インキ等に使用することができる。The dispersion composition of the present disclosure can be used for a variety of applications depending on the type of dispersed material. Specifically, it can be used in transparent conductive films, antistatic films, insulating films, protective films, antireflective films, colored films, field effect transistors (FETs), touch panels, conductive inks, paints, printing inks, inkjet coating inks, etc.

≪第2実施形態≫
次に、本開示の異方性膜の製造方法について説明する。本製造方法は、被分散体と分散媒とリオトロピック液晶性を示す化合物とを含有する分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる保持工程と、保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写する転写工程とを含む。以下、本製造方法の詳細について説明する。
Second Embodiment
Next, a method for producing an anisotropic film according to the present disclosure will be described. This method includes a holding step in which a dispersion composition containing a substance to be dispersed, a dispersion medium, and a compound exhibiting lyotropic liquid crystallinity is held on a support surface while applying shear stress, and a transfer step in which the dispersion composition held on the support surface is transferred onto a substrate. Details of this method will be described below.

(保持工程)
分散組成物に含有される被分散体及び分散媒については、上記第1実施形態の(A)被分散体、(B)分散媒の説明をそれぞれ援用することができる。
リオトロピック液晶性を示す化合物(以下、「化合物(L)」ともいう)は、リオトロピック液晶性を示す化合物であれば特に限定されないが、重合体であることが好ましく、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種の重合体であることが好ましい。また、これらの中でも、化合物(L)は、下記式(1)で表されるジアミン化合物[D1]に由来する構造単位U1を有する重合体であることが特に好ましい。ジアミン化合物[D1]の説明については、上記第1実施形態のジアミン化合物[D1]の説明を適用することができる。
(式(1)中、nは0又は1である。nが0の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。nが1の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。)
(holding process)
The descriptions of (A) the substance to be dispersed and (B) the dispersion medium in the first embodiment can be applied to the substance to be dispersed and the dispersion medium contained in the dispersion composition.
The compound exhibiting lyotropic liquid crystallinity (hereinafter also referred to as "compound (L)") is not particularly limited as long as it is a compound exhibiting lyotropic liquid crystallinity, but is preferably a polymer, and more preferably at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide. Among these, compound (L) is particularly preferably a polymer having a structural unit U1 derived from diamine compound [D1] represented by the following formula (1). The description of diamine compound [D1] in the first embodiment can be applied to the description of diamine compound [D1] in the first embodiment.
(In formula (1), n is 0 or 1. When n is 0, at least one of R 1 to R 4 is a monovalent group having an ionic functional group, and the remaining groups are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. When n is 1, at least one of R 1 to R 8 is a monovalent group having an ionic functional group, and the remaining groups are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group.)

化合物(L)は、化合物(L)を構成する全構造単位が構造単位U1である重合体であってもよく、構造単位U1とは異なる構造単位U2)を更に有する重合体[P]であってもよい。化合物(L)が構造単位U2を更に有する場合、構造単位U2及び重合体[P]の説明については、上記第1実施形態の説明を適用することができる。その他、化合物(L)の合成に用いるテトラカルボン酸に無水物や重合方法等の説明についても、上記第1実施形態の説明を適用することができる。Compound (L) may be a polymer in which all structural units constituting compound (L) are structural units U1, or may be a polymer [P] that further includes a structural unit U2 different from structural unit U1. When compound (L) further includes structural unit U2, the explanation of the structural unit U2 and polymer [P] can be applied to the explanation of the first embodiment above. In addition, the explanation of the first embodiment above can be applied to the explanation of the tetracarboxylic acid anhydride used in the synthesis of compound (L), the polymerization method, etc.

分散組成物を保持させる保持体としては特に限定されないが、例えば、樹脂製、ゴム製、金属製等の回転体;平板等が挙げられる。保持体は、好ましくは回転体である。本工程では、せん断応力をかけながら分散組成物を保持体に供給することにより、分散組成物に保持体を保持させる。好ましい具体例では、保持体の表面に対向する位置に応力発生体を配置し、回転体と応力発生体との間を分散組成物が通過するように分散組成物を供給することによって行う。このとき、保持体表面の移動速度と応力発生体の表面の移動速度とを異ならせることにより、分散組成物にせん断応力が付与される。応力発生体の表面は、保持体表面の移動方向(保持体が回転体の場合には回転方向)と同じ方向に移動してもよく、保持体表面の移動方向とは逆方向に移動してもよい。また、応力発生体は、例えばハウジングやブレードであり、その位置が固定された部材であってもよい。The holder for holding the dispersion composition is not particularly limited, but examples include rotating bodies made of resin, rubber, metal, etc.; flat plates, etc. The holder is preferably a rotating body. In this process, the dispersion composition is supplied to the holder while applying shear stress, thereby causing the holder to hold the dispersion composition. In a preferred example, a stress generator is placed opposite the surface of the holder, and the dispersion composition is supplied so that it passes between the rotating body and the stress generator. By varying the movement speed of the holder surface and the movement speed of the stress generator surface, shear stress is applied to the dispersion composition. The surface of the stress generator may move in the same direction as the movement direction of the holder surface (the rotation direction if the holder is a rotating body), or in the opposite direction to the movement direction of the holder surface. The stress generator may also be a fixed component, such as a housing or blade.

保持体表面に保持させる分散組成物の量は、保持体表面と応力発生体の表面との隙間の大きさに応じて適宜調整することができる。隙間は、例えば0.01~5μmである。応力発生体は、保持体表面に保持される分散組成物の量を調整する保持量調整部としても機能することが好ましい。 The amount of dispersion composition retained on the support surface can be adjusted appropriately depending on the size of the gap between the support surface and the surface of the stress generator. The gap is, for example, 0.01 to 5 μm. It is preferable that the stress generator also functions as a retention amount adjustment unit that adjusts the amount of dispersion composition retained on the support surface.

あるいは、バーコート法やスリットコート法等を用いて、保持体としての平板に対して、せん断応力を付与しながら分散組成物を塗布し、塗膜を形成することにより、保持体に分散組成物を保持させてもよい。 Alternatively, the dispersion composition can be held on the support by applying shear stress to a flat plate serving as a support using a bar coating method, slit coating method, etc., to form a coating film.

(転写工程)
本工程では、保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写する。基材としては、例えば、フロートガラス、ソーダガラス等のガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ(脂環式オレフィン)等のプラスチックからなる透明基材が挙げられる。保持体表面の分散組成物と基材とを接触させながら、好ましくは保持体に対して基材を相対的に移動させることにより、分散組成物を基材に転写することができる。分散組成物を基材に転写する際には、保持体に対向する位置において、基材を挟んで保持体とは反対側から保持体を加圧することにより転写を行ってもよい。
(Transfer process)
In this step, the dispersion composition held on the support surface is transferred onto a substrate. Examples of the substrate include glass such as float glass and soda glass; and transparent substrates made of plastics such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, and poly(alicyclic olefin). The dispersion composition can be transferred to the substrate by contacting the dispersion composition on the support surface with the substrate, preferably by moving the substrate relative to the support. When transferring the dispersion composition to the substrate, the transfer may be performed by pressing the support from the opposite side of the support, sandwiching the substrate between them, at a position facing the support.

基材に転写した塗膜を、好ましくは加熱することにより、基材上に異方性膜を形成することができる。このときの加熱温度は、例えば30~180℃であり、より好ましくは40~150℃である。加熱時間は、例えば1~30分である。形成される異方性膜の膜厚は、好ましくは0.05~5μmである。 The coating film transferred to the substrate can be preferably heated to form an anisotropic film on the substrate. The heating temperature is, for example, 30 to 180°C, more preferably 40 to 150°C. The heating time is, for example, 1 to 30 minutes. The thickness of the anisotropic film formed is preferably 0.05 to 5 μm.

次に、本製造方法を利用して基材上に異方性膜を形成する異方性膜形成装置について説明する。本開示の異方性膜形成装置は、被分散体と分散媒とリオトロピック液晶性を示す化合物とを含有する分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる保持部と、保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写させる転写部と、を備える。Next, we will explain an anisotropic film forming apparatus that forms an anisotropic film on a substrate using this manufacturing method. The anisotropic film forming apparatus of the present disclosure includes a holding unit that holds a dispersion composition containing a dispersed substance, a dispersion medium, and a compound exhibiting lyotropic liquid crystallinity on the surface of a holder while applying shear stress, and a transfer unit that transfers the dispersion composition held on the surface of the holder onto the substrate.

本開示の異方性膜形成装置を印刷方式のせん断塗布装置に具体化した実施形態について、図1を用いて説明する。 An embodiment in which the anisotropic film forming device disclosed herein is embodied as a printing-type shear coating device is described using Figure 1.

図1に示すように、せん断塗布装置10は、ロールコータ方式であり、コーティングロール11と、ドクターロール12と、バックアップロール13とを備えている。コーティングロール11は、表層部分が例えばゴム層からなる回転体であり、その表面に分散組成物20が塗布される。 As shown in Figure 1, the shear coating device 10 is a roll coater type and includes a coating roll 11, a doctor roll 12, and a backup roll 13. The coating roll 11 is a rotating body whose surface layer is made of, for example, a rubber layer, and the dispersion composition 20 is applied to its surface.

ドクターロール12は、例えば金属製の回転体であり、コーティングロール11に対向する位置に配置されている。せん断塗布装置10においては、コーティングロール11とドクターロール12との隙間に分散組成物20が供給されることにより、コーティングロール11の表面に分散組成物20が塗布され、塗膜が形成される。ドクターロール12は、コーティングロール表面における余剰の分散組成物を掻き落とすことにより、コーティングロール11の表面の塗布量(すなわち膜厚)を調整する。なお、塗布量は、コーティングロール11とドクターロール12との隙間の大きさや、ドクターロール12の回転速度のほか、分散組成物20の粘度等によって調整可能である。 The doctor roll 12 is a rotating body made of, for example, metal, and is positioned opposite the coating roll 11. In the shear coating device 10, the dispersion composition 20 is supplied into the gap between the coating roll 11 and the doctor roll 12, whereby the dispersion composition 20 is applied to the surface of the coating roll 11 to form a coating film. The doctor roll 12 adjusts the amount of dispersion composition applied to the surface of the coating roll 11 (i.e., the film thickness) by scraping off excess dispersion composition from the surface of the coating roll. The amount of application can be adjusted by the size of the gap between the coating roll 11 and the doctor roll 12, the rotation speed of the doctor roll 12, the viscosity of the dispersion composition 20, etc.

コーティングロール11及びドクターロール12の回転方向は、互いに同一方向でもよく、逆方向でもよい。本実施形態では、コーティングロール11の回転方向と、ドクターロール12の回転方向とが同一の方向になっている。また、コーティングロール11の回転速度V1とドクターロール12の回転速度V2とは異なり、例えば回転速度V1よりも回転速度V2の方が速くなっている。なお、コーティングロール11及びドクターロール12のうち少なくともいずれかが正逆回転可能であってもよい。コーティングロール11が「保持体」に相当し、ドクターロール12が「応力発生体」に相当する。 The rotation directions of the coating roll 11 and the doctor roll 12 may be the same or opposite to each other. In this embodiment, the rotation direction of the coating roll 11 and the rotation direction of the doctor roll 12 are the same. Furthermore, the rotation speed V1 of the coating roll 11 and the rotation speed V2 of the doctor roll 12 are different; for example, the rotation speed V2 is faster than the rotation speed V1. Note that at least one of the coating roll 11 and the doctor roll 12 may be capable of rotating forward and backward. The coating roll 11 corresponds to the "holding body," and the doctor roll 12 corresponds to the "stress generating body."

バックアップロール13は、基材30の搬送経路に対しコーティングロール11とは反対側に、コーティングロール11に対向する位置に配置されている。なお、図1中の矢印は、基材30の移動方向を示している。バックアップロール13は、基材30における塗布面とは反対側の面から基材30を押圧する。これにより、コーティングロール11に対して基材30が相対的に移動することに伴い、コーティングロール11と基材30との接触部19において、コーティングロール11の表面の塗膜が基材30の表面に転写され、基材30の表面上に異方性膜21が形成される。 The backup roll 13 is positioned opposite the coating roll 11 along the transport path of the substrate 30. The arrow in Figure 1 indicates the direction of movement of the substrate 30. The backup roll 13 presses the substrate 30 from the side opposite the coating surface of the substrate 30. As a result, as the substrate 30 moves relative to the coating roll 11, the coating film on the surface of the coating roll 11 is transferred to the surface of the substrate 30 at the contact point 19 between the coating roll 11 and the substrate 30, forming an anisotropic film 21 on the surface of the substrate 30.

ここで、コーティングロール11の回転に伴い、コーティングロール11の表面には、分散組成物20からなる塗膜が形成される。その際、分散組成物20の層を介してコーティングロール11とドクターロール12とが接触する接触部18では、ドクターロール12の回転により分散組成物20にせん断応力が付与されて、コーティングロール11の表面における余剰の分散組成物20が掻き落とされる。このせん断応力によって、分散組成物20からなる塗膜では、塗膜中の化合物(L)が一軸配向するとともに、化合物(L)の分子鎖に沿って被分散体が配列する。分散組成物20からなる塗膜に対し、せん断応力を十分に付与できる点で、コーティングロール11及びドクターロール12の回転方向は互いに同一方向であることが好ましい。その後、コーティングロール11の表面に形成された塗膜が、コーティングロール11における基材30との接触部19で転写されることにより、基材30上に異方性膜21が形成される。As the coating roll 11 rotates, a coating film composed of the dispersion composition 20 is formed on the surface of the coating roll 11. At the contact point 18 where the coating roll 11 and the doctor roll 12 come into contact with each other through the layer of dispersion composition 20, shear stress is applied to the dispersion composition 20 by the rotation of the doctor roll 12, scraping off excess dispersion composition 20 from the surface of the coating roll 11. This shear stress causes the compound (L) in the coating film composed of the dispersion composition 20 to be uniaxially oriented, and the dispersed substance is aligned along the molecular chains of compound (L). The rotation directions of the coating roll 11 and the doctor roll 12 are preferably the same, so that sufficient shear stress can be applied to the coating film composed of the dispersion composition 20. The coating film formed on the surface of the coating roll 11 is then transferred at the contact point 19 between the coating roll 11 and the substrate 30, forming an anisotropic film 21 on the substrate 30.

上述したせん断塗布装置10では、分散剤として化合物(L)を含む分散組成物を、せん断応力を付与しながらコーティングロール11上に塗布して塗膜を形成した後、その塗膜を基材30上に転写することにより基材30上に異方性膜を形成する構成とした。この構成によれば、保持体としてのコーティングロール11上に仮形成した塗膜を基材30に転写する工程を含むことにより、異方性膜を直接基材上に形成した場合に比べて、導電異方性、偏光吸収特性、伝熱異方性、デガス耐性等といった各種特性に優れた異方性膜を得ることができる。特に、保持体として回転体であるコーティングロール11を用いることにより、各種特性の向上効果を高くできる点で好適である。In the shear coating device 10 described above, a dispersion composition containing compound (L) as a dispersant is applied to a coating roll 11 while applying shear stress to form a coating film, and the coating film is then transferred to a substrate 30 to form an anisotropic film on the substrate 30. This configuration includes a step of transferring a coating film temporarily formed on the coating roll 11 as a support to the substrate 30, thereby producing an anisotropic film with superior properties, such as electrical conductivity anisotropy, polarization absorption characteristics, heat transfer anisotropy, and degassing resistance, compared to when an anisotropic film is formed directly on a substrate. Using the rotating coating roll 11 as a support is particularly advantageous in that it significantly enhances the effectiveness of improving various properties.

なお、分散組成物20の層を介してコーティングロール11とドクターロール12とが接触する接触部18が、「分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる保持部」に相当し、コーティングロール11における基材30との接触部19が、「保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写させる転写部」に相当する。 The contact portion 18 where the coating roll 11 and doctor roll 12 come into contact with each other via the layer of dispersion composition 20 corresponds to the "holding portion that holds the dispersion composition on the support surface while applying shear stress," and the contact portion 19 of the coating roll 11 with the substrate 30 corresponds to the "transfer portion that transfers the dispersion composition held on the support surface onto the substrate."

次に、本開示の異方性膜形成装置をディスペンサ方式のせん断塗布装置に具体化した実施形態について、図2を用いて説明する。 Next, an embodiment in which the anisotropic film forming device of the present disclosure is embodied as a dispenser-type shear coating device will be described using Figure 2.

図2において、せん断塗布装置100は、ボールペン型の塗布装置であり、本体部101と、ボール102とを備えている。本体部101は細長の筒状体であり、その内部に、分散組成物200を収容する収容部103が形成されている。また、本体部101における軸線方向の先端部には、ボール102を回転可能に保持するボール保持部104が設けられている。このボール保持部104とボール102の円周面との間には僅かな隙間が形成されており、その隙間に、収容部103に充填された分散組成物200が入り込み可能になっている。 In Figure 2, the shear application device 100 is a ballpoint pen-type application device, and includes a main body 101 and a ball 102. The main body 101 is an elongated cylindrical body, and a storage section 103 for storing a dispersion composition 200 is formed inside it. In addition, a ball holding section 104 for rotatably holding the ball 102 is provided at the axial tip of the main body 101. A small gap is formed between this ball holding section 104 and the circumferential surface of the ball 102, allowing the dispersion composition 200 filled in the storage section 103 to enter into this gap.

せん断塗布装置100を用いて基材30の表面上に異方性膜を形成するには、せん断塗布装置100のボール102と基材30とを接触させ、基材30に対してせん断塗布装置100を相対的に移動させることにより行う(例えば、図2中のA方向)。これにより、ボール102が回転し、その回転に伴い、収容部103に充填された分散組成物200がボール102の表面に付着する。その際、分散組成物20の層を介してボール102とボール保持部104とが接触する接触する接触部105では、ボール102の回転により、ボール収容部104から分散組成物20にせん断応力が付与される。このせん断応力によって、ボール102の表面に形成される塗膜では、分散組成物中の化合物(L)が一軸配向するとともに、化合物(L)の分子鎖に沿って被分散体が配列する。その後、ボール102の表面に形成された塗膜が、基材30との接触部106で転写されることにより、基材30上に異方性膜201が形成される。なお、図2中、矢印Bは、せん断塗布装置100により基材30の表面上に異方性膜201を形成している状態において、収容部103内の分散組成物200が移動する方向を表す。To form an anisotropic film on the surface of a substrate 30 using the shear coater 100, the ball 102 of the shear coater 100 is brought into contact with the substrate 30 and the shear coater 100 is moved relative to the substrate 30 (e.g., in the direction A in Figure 2). This causes the ball 102 to rotate, and as the ball 102 rotates, the dispersion composition 200 filled in the container 103 adheres to the surface of the ball 102. At this time, at the contact area 105 where the ball 102 and the ball holder 104 come into contact with each other through a layer of dispersion composition 20, shear stress is applied to the dispersion composition 20 from the ball container 104 due to the rotation of the ball 102. This shear stress causes the compound (L) in the dispersion composition to be uniaxially oriented in the coating film formed on the surface of the ball 102, and the dispersed substance is aligned along the molecular chains of the compound (L). Thereafter, the coating film formed on the surface of ball 102 is transferred at contact portion 106 with substrate 30, thereby forming an anisotropic film 201 on substrate 30. In Fig. 2, arrow B indicates the direction in which dispersion composition 200 in storage portion 103 moves when an anisotropic film 201 is being formed on the surface of substrate 30 by shear coating device 100.

以上説明したせん断塗布装置100によれば、各種特性に優れた異方性膜を基材30に対し簡易に形成することができる。また、配線のように幅の狭い異方性膜を形成する場合にも、ボール102を基材30に接触させながらせん断塗布装置100を基材30に対して移動させるという簡便な操作によって、基材30上に異方性膜201を形成することができる点で優れている。なお、分散組成物20の層を介してボール102とボール保持部104とが接触する接触部105が、「分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる保持部」に相当し、ボール102における基材30との接触部106が、「保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写させる転写部」に相当する。ボール102が「保持体」に相当し、ボール収容部104が「応力発生体」に相当する。The shear coater 100 described above makes it possible to easily form an anisotropic film with various excellent properties on the substrate 30. Furthermore, even when forming a narrow anisotropic film such as a wiring, the shear coater 100 has the advantage of being able to form an anisotropic film 201 on the substrate 30 simply by moving the shear coater 100 relative to the substrate 30 while the ball 102 is in contact with the substrate 30. The contact portion 105, where the ball 102 and the ball holder 104 come into contact via the layer of dispersion composition 20, corresponds to the "holding portion that holds the dispersion composition on the holder surface while applying shear stress," and the contact portion 106 of the ball 102 with the substrate 30 corresponds to the "transfer portion that transfers the dispersion composition held on the holder surface to the substrate." The ball 102 corresponds to the "holding portion," and the ball holder 104 corresponds to the "stress generator."

ここで、リオトロピック液晶性を示す材料は、スリットコート法やバーコート法等を用いて、せん断応力を付与しながら基材に塗布することによって、リオトロピック液晶性を示す材料が一軸配向した塗膜を得ることができる。しかしながら、スリットコート法やバーコート法によって基材上に塗膜を形成する場合、例えば、空気との接触面側において疎水性の高い空気から受ける影響によって疎水性基が極角に配向するなど、空気との接触面側において配向が乱れやすく、異方性が低下することによって所望の特性を十分に得ることができないことが考えられる。また、塗布性についても、スリットコート法やバーコート法では、濡れ性が十分でない基材に対して塗膜の形成が困難であったり、異形基材や曲面基材に対して塗布が困難であったりすることがある。 Lyotropic liquid crystalline materials can be applied to a substrate while applying shear stress using methods such as slit coating or bar coating to produce a coating film in which the lyotropic liquid crystalline material is uniaxially aligned. However, when forming a coating film on a substrate using slit coating or bar coating, the orientation on the air-contact side is likely to be disrupted, for example, due to the influence of highly hydrophobic air on the air-contact side, causing hydrophobic groups to orient at a polar angle. This can result in reduced anisotropy and make it difficult to fully achieve the desired properties. Furthermore, with regard to coatability, slit coating and bar coating can be difficult to form a coating film on substrates with insufficient wettability, or to apply to irregularly shaped or curved substrates.

これに対し、本開示の異方性膜の製造方法及び異方性膜形成装置によれば、せん断塗布方式と転写方式とを組み合わせることにより、導電異方性、偏光吸収特性、伝熱異方性、デガス耐性等といった各種特性に優れた異方性膜を得ることができる。したがって、本開示の異方性膜の製造方法及び異方性膜形成装置により得られる異方性膜は、例えば、偏光フィルムや位相差フィルム、圧電フィルム、異方性導電フィルム、異方性熱伝導性フィルム、異方性磁気フィルム等の各種の異方性膜として用いることができる。In contrast, the anisotropic film manufacturing method and anisotropic film forming apparatus disclosed herein combine shear coating and transfer methods to produce an anisotropic film with excellent properties such as conductive anisotropy, polarization absorption characteristics, thermal conduction anisotropy, and degassing resistance. Therefore, the anisotropic film obtained by the anisotropic film manufacturing method and anisotropic film forming apparatus disclosed herein can be used as various anisotropic films, such as polarizing films, retardation films, piezoelectric films, anisotropic conductive films, anisotropic thermally conductive films, and anisotropic magnetic films.

なお、転写工程を含む製造方法によれば、導電異方性等の各種特性が向上された異方性膜を得ることができた理由は定かではないが、1つの理由として、転写によって化合物(L)の一軸配向性が向上し、これにより被分散体の分散性及び配向性が向上したことが考えられる。特に、保持体として回転体を用いた場合、一軸配向性が更に向上し、各種特性を更に向上できたものと考えられる。While it is unclear why a manufacturing method including a transfer step can produce an anisotropic film with improved properties, such as conductive anisotropy, one possible reason is that the transfer improves the uniaxial orientation of compound (L), thereby improving the dispersibility and orientation of the dispersed substance. In particular, when a rotating body is used as the holder, the uniaxial orientation is further improved, and various properties are thought to have been further improved.

以下、実施例により更に具体的に説明するが、本開示の内容はこれらの実施例に限定されるものではない。 The following provides further details using examples, but the contents of this disclosure are not limited to these examples.

以下の例において、重合体の重量平均分子量Mw及びイミド化率は、以下の方法により測定した。以下の例で用いた原料化合物及び重合体の必要量は、下記の合成例に示す合成スケールでの合成を必要に応じて繰り返すことにより確保した。In the following examples, the weight-average molecular weight Mw and imidization rate of the polymer were measured by the following methods. The required amounts of the raw material compounds and polymers used in the following examples were obtained by repeating the synthesis on the synthesis scale shown in the synthesis examples below as necessary.

[重合体の重量平均分子量Mw]
重量平均分子量Mwは、以下の条件におけるGPCにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶剤:リチウムブロミド及びリン酸含有のN,N-ジメチルホルムアミド溶液
温度:40℃
圧力:68kgf/cm
[重合体のイミド化率]
ポリイミドを含有する溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温でH-NMRを測定した。得られたH-NMRスペクトルから、下記数式(EX-1)を用いてイミド化率を求めた。
イミド化率(%)=(((1-E)/E)×α)×100
…(EX-1)
(数式(EX-1)中、Eは化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、Eはその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。)
なお、以下では、式(X)で表される化合物を単に「化合物(X)」と略すことがある。
[Weight average molecular weight Mw of polymer]
The weight average molecular weight Mw is a polystyrene equivalent value measured by GPC under the following conditions.
Column: TSKgel GRCXLII, manufactured by Tosoh Corporation
Solvent: N,N-dimethylformamide solution containing lithium bromide and phosphoric acid Temperature: 40°C
Pressure: 68 kgf/ cm2
[Imidization rate of polymer]
The polyimide solution was poured into pure water, and the resulting precipitate was thoroughly dried under reduced pressure at room temperature. The precipitate was then dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide and subjected to 1H -NMR measurement at room temperature using tetramethylsilane as a reference material. The imidization ratio was calculated from the obtained 1H -NMR spectrum using the following mathematical formula (EX-1).
Imidization rate (%)=(((1−E 1 )/E 2 )×α)×100
… (EX-1)
(In formula (EX-1), E1 is the peak area derived from the proton of the NH group appearing at a chemical shift of around 10 ppm, E2 is the peak area derived from other protons, and α is the ratio of the number of other protons to one proton of the NH group in the polymer precursor (polyamic acid).)
In the following, the compound represented by formula (X) may be simply abbreviated as "compound (X)."

[第1実施例]
1.重合体の合成
[合成例1:ポリアミック酸の合成]
ピロメリット酸二無水物36.77g(95モル部)、2,5-ジアミノベンゼンスルホン酸6.68g(20モル部)、及び2,4-ジアミノ-ヘプチルオキシベンゼン31.56g(80モル部)をN-メチル-2-ピロリドン(NMP)425gに溶解し、室温で6時間反応を行った。反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この沈殿物をメタノールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥することにより、ポリアミック酸(以下、重合体(PAA-1)とする。)を68g得た。
[First Example]
1. Polymer Synthesis [Synthesis Example 1: Synthesis of Polyamic Acid]
36.77 g (95 parts by mole) of pyromellitic dianhydride, 6.68 g (20 parts by mole) of 2,5-diaminobenzenesulfonic acid, and 31.56 g (80 parts by mole) of 2,4-diamino-heptyloxybenzene were dissolved in 425 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and the mixture was allowed to react at room temperature for 6 hours. The reaction mixture was poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. This precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 40°C for 15 hours, yielding 68 g of polyamic acid (hereinafter referred to as polymer (PAA-1)).

[合成例2:ポリイミドの合成]
2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物26.32g(95モル部)、2,5-ジアミノベンゼンスルホン酸23.03g(99モル部)、及び3,5-ジアミノ安息香酸コレスタニル0.65g(1モル部)をN-メチル-2-ピロリドン(NMP)200gに溶解し、室温で6時間反応を行った。重合体濃度が20質量%のポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液にNMPを250g加えた後、ピリジン46.4g及び無水酢酸36.0gを加え、110℃で4時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。回収した沈殿物をメタノールで洗浄した後、減圧下100℃で乾燥することにより、ポリイミド(以下、重合体(PI-1)とする。)を45g得た。得られた重合体(PI-1)のイミド化率は99%であった。
[Synthesis Example 2: Synthesis of Polyimide]
26.32 g (95 mol parts) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 23.03 g (99 mol parts) of 2,5-diaminobenzenesulfonic acid, and 0.65 g (1 mol part) of cholestanyl 3,5-diaminobenzoate were dissolved in 200 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and reacted at room temperature for 6 hours. A polyamic acid solution with a polymer concentration of 20% by mass was obtained. 250 g of NMP was added to the resulting polyamic acid solution, followed by addition of 46.4 g of pyridine and 36.0 g of acetic anhydride, and the reaction was carried out at 110°C for 4 hours. The reaction mixture was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The recovered precipitate was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 100°C to obtain 45 g of polyimide (hereinafter referred to as polymer (PI-1)). The imidization rate of the resulting polymer (PI-1) was 99%.

[合成例3~9]
反応に使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を下記表1の通り変更した以外は合成例2と同様にしてポリイミド(重合体(PI-2)~(PI-6)、(pi-1)、(pi-2))を得た。各ポリイミドのイミド化率を下記表1に併せて示した。
[合成例10]
反応に使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を下記表1の通り変更した以外は合成例1と同様にしてポリアミック酸(重合体(paa-1))を得た。
[Synthesis Examples 3 to 9]
Polyimides (polymers (PI-2) to (PI-6), (PI-1), and (PI-2)) were obtained in the same manner as in Synthesis Example 2, except that the types and amounts of the tetracarboxylic dianhydrides and diamine compounds used in the reaction were changed as shown in Table 1 below. The imidization ratios of the respective polyimides are also shown in Table 1 below.
[Synthesis Example 10]
Polyamic acid (polymer (paa-1)) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the types and amounts of tetracarboxylic dianhydride and diamine compound used in the reaction were changed as shown in Table 1 below.

表1中の数値は、テトラカルボン酸二無水物については、反応に使用したテトラカルボン酸二無水物の合計量に対する使用割合(モル%)を示し、ジアミン化合物については、反応に使用したジアミン化合物の合計量に対する使用割合(モル%)を示す。表1中のテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の略称は以下の通りである。
(テトラカルボン酸二無水物)
AN-1; 2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
AN-2; ピロメリット酸二無水物
AN-3; 1,3-プロピレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)
(ジアミン化合物)
DA-1; 2,5-ジアミノベンゼンスルホン酸
DA-2; 2,5-ジアミノ安息香酸
DA-3; 3,5-ジアミノ安息香酸コレスタニル
DA-4; コレスタニルオキシ-2,4-ジアミノベンゼン
DA-5; 下記式(DA-5)で表される化合物
DA-6; 2,4-ジアミノ-ヘプチルオキシベンゼン
DA-7; パラフェニレンジアミン
The numerical values in Table 1 indicate the proportion (mol %) of tetracarboxylic dianhydrides used relative to the total amount of tetracarboxylic dianhydrides used in the reaction, and the numerical values in Table 1 indicate the proportion (mol %) of diamine compounds used relative to the total amount of diamine compounds used in the reaction. The abbreviations for tetracarboxylic dianhydrides and diamine compounds in Table 1 are as follows:
(Tetracarboxylic acid dianhydride)
AN-1: 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride AN-2: Pyromellitic dianhydride AN-3: 1,3-propylene glycol bis(anhydrotrimellitate)
(Diamine compound)
DA-1; 2,5-diaminobenzenesulfonic acid DA-2; 2,5-diaminobenzoic acid DA-3; 3,5-diaminobenzoic acid cholestanyl DA-4; cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene DA-5; DA-6, a compound represented by the following formula (DA-5); 2,4-diamino-heptyloxybenzene DA-7; paraphenylenediamine

2.CNT含有分散組成物の作製及び評価
[実施例1]
(1)分散組成物の調製
マルチウォールカーボンナノチューブ(MWNT)5質量部、及び合成例2で得た重合体(PI-1)95質量部が入った容器に、溶媒として蒸留水400質量部を加えた。次いで、10分間、超音波分散を行い、分散組成物(S-1)を調製した。
2. Preparation and Evaluation of CNT-Containing Dispersion Composition [Example 1]
(1) Preparation of Dispersion Composition 400 parts by mass of distilled water was added as a solvent to a container containing 5 parts by mass of multi-walled carbon nanotubes (MWNT) and 95 parts by mass of the polymer (PI-1) obtained in Synthesis Example 2. Next, ultrasonic dispersion was carried out for 10 minutes to prepare a dispersion composition (S-1).

(2)CNT分散性の評価(水系)
上記(1)で得た分散組成物(S-1)を平坦な場所に1日静置させた。評価は、初期の分散状態を保っていれば「良好(○)」、沈降や凝集が見られた場合は「不良(×)」とした。その結果、この分散組成物(S-1)のCNT分散性は「良好(○)」であった。
(3)CNT分散性の評価(有機溶媒系)
上記(1)で溶媒として用いた蒸留水の代わりにシクロペンタノンを用いた以外は上記(1)と同様にして分散組成物を調製した。得られた分散組成物を平坦な場所に静置し、時間経過に伴う分散状態を観察した。評価は、1週間後に初期の分散状態を保っていれば「最優良(◎◎)」、3日後まで初期の分散状態を保っていれば「優良(◎)」、1日後まで初期の分散状態を保っていれば「良好(○)」、3時間後まで初期の分散状態を保っていれば「可(△)」、3時間後に沈降や凝集が見られた場合は「不良(×)」とした。その結果、この分散組成物のCNT分散性(有機溶媒系)は「可(△)」であった。
(2) Evaluation of CNT dispersibility (aqueous system)
The dispersion composition (S-1) obtained in (1) above was left to stand on a flat surface for one day. The evaluation was "good (◯)" if the initial dispersion state was maintained, and "poor (×)" if sedimentation or aggregation was observed. As a result, the CNT dispersibility of this dispersion composition (S-1) was "good (◯)".
(3) Evaluation of CNT dispersibility (organic solvent system)
A dispersion composition was prepared in the same manner as in (1) above, except that cyclopentanone was used instead of the distilled water used as the solvent in (1). The obtained dispersion composition was left standing on a flat surface, and the dispersion state was observed over time. The evaluation was as follows: if the initial dispersion state was maintained after one week, it was rated "best (◎◎)"; if the initial dispersion state was maintained after three days, it was rated "excellent (◎)"; if the initial dispersion state was maintained after one day, it was rated "good (○)"; if the initial dispersion state was maintained after three hours, it was rated "fair (△)"; and if sedimentation or aggregation was observed after three hours, it was rated "poor (×)". As a result, the CNT dispersibility (organic solvent system) of this dispersion composition was "fair (△)".

(4)CNT塗布性の評価
上記(1)で得た分散組成物(S-1)をガラス基板上にブレードを用いて塗布し、80℃のホットプレートで10分間乾燥することにより、平均膜厚1μmの塗膜を形成した。この塗膜を倍率50倍の顕微鏡で観察し、塗膜の膜厚ムラ及びピンホールの有無を調べた。評価は、膜厚ムラ及びピンホールの双方とも観察されなかった場合を塗布性「良好(○)」、膜厚ムラ及びピンホールの少なくとも一方が明確に観察された場合を塗布性「不良(×)」とした。その結果、膜厚ムラ及びピンホールの双方とも観察されず、塗布性は「良好(○)」であった。
(4) Evaluation of CNT Coatability The dispersion composition (S-1) obtained in (1) above was applied to a glass substrate using a blade and dried on a hot plate at 80 ° C. for 10 minutes to form a coating film with an average thickness of 1 μm. This coating film was observed under a microscope at 50x magnification to check for unevenness in thickness and the presence or absence of pinholes in the coating film. The evaluation was as follows: when neither unevenness in thickness nor pinholes were observed, the coating property was rated as "good (○)", and when at least one of unevenness in thickness and pinholes was clearly observed, the coating property was rated as "poor (×)". As a result, neither unevenness in thickness nor pinholes were observed, and the coating property was rated as "good (○)".

(5)体積抵抗率の評価
ブレードのギャップを変えた以外は上記(4)と同様にしてガラス基板上に分散組成物(S-1)を塗布及び乾燥し、フィルム状(厚み:約20μm)の試験片を得た。次に、得られた試験片の体積抵抗率を4端子法により測定した。体積抵抗率は、表面抵抗率及び膜厚から下記数式(5)を用いて算出した。また、測定にあたって、測定箇所を変えながら5回測定し、その平均値を体積抵抗率として評価した。
体積抵抗率(μΩ・m)=表面抵抗率(Ω)×膜厚(μm) …(5)
その結果、この分散組成物(S-1)を用いて得られたフィルムの体積抵抗率は1000μΩ・m(0.1Ω・cm)であった。なお、体積抵抗率が低いほど導電性が高いと言える。
(5) Evaluation of Volume Resistivity The dispersion composition (S-1) was applied to a glass substrate and dried in the same manner as in (4) above, except that the blade gap was changed, to obtain a film-like test piece (thickness: approximately 20 μm). Next, the volume resistivity of the obtained test piece was measured by a four-terminal method. The volume resistivity was calculated from the surface resistivity and film thickness using the following formula (5). In addition, the measurement was performed five times while changing the measurement location, and the average value was evaluated as the volume resistivity.
Volume resistivity (μΩ・m) = surface resistivity (Ω) × film thickness (μm)…(5)
As a result, the volume resistivity of the film obtained using this dispersion composition (S-1) was 1000 μΩ·m (0.1 Ω·cm). Note that it can be said that the lower the volume resistivity, the higher the conductivity.

(6)指押し試験
上記(1)で得た分散組成物(S-1)をガラス基板上にブレードを用いて塗布し、80℃のホットプレートで10分間乾燥することにより、平均膜厚10μmの塗膜を形成した。得られた塗膜を指で押し付けることにより、ひび割れの発生しにくさ(外力耐性)を確認した。評価は、顕微鏡観察(倍率:10倍)にてひび割れが観察されなければ「良好(○)」、目視ではひび割れが観察されないが、顕微鏡によりひび割れが観察されれば「可(△)」、目視でひび割れが観察されたものは「不良」とした。その結果、この分散組成物(S-1)を用いて形成した塗膜の外力耐性は、目視ではひび割れが観察されなかったが、顕微鏡によりひび割れが観察されたため「可(△)」と判断された。
(6) Finger Press Test The dispersion composition (S-1) obtained in (1) above was applied to a glass substrate using a blade and dried on a hot plate at 80 ° C. for 10 minutes to form a coating film with an average film thickness of 10 μm. The resulting coating film was pressed with a finger to confirm its resistance to cracking (external force resistance). The evaluation was performed under a microscope (magnification: 10x) and rated as "good (○)" if no cracks were observed; "fair (△)" if no cracks were observed visually but were observed under a microscope; and "poor" if cracks were observed visually. As a result, the external force resistance of the coating film formed using this dispersion composition (S-1) was judged to be "fair (△)" because no cracks were observed visually, but cracks were observed under a microscope.

(7)基板密着性の評価
分散組成物をスプレー塗布により行った以外は上記(4)と同様にしてガラス基板上に分散組成物(S-1)を塗布及び乾燥し、厚さ0.5μmの塗膜をガラス基板上に形成することによりカーボンナノチューブ付き基板を作製した。次いで、蒸留水/イソプロピルアルコール/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート=5/25/70(質量比)となるように調製した溶剤をカーボンナノチューブ付き基板にかけ流し、その後、基板を80℃のホットプレートで10分間乾燥させた。得られた基板(以下「密着性評価用試験片」という。)を顕微鏡(倍率:10倍)により観察するとともに、体積抵抗率を評価することで基板密着性の評価を行った。評価は、下記の基準1、基準2及び基準3の全てを満たす場合を「最優良(◎◎)」、基準1及び基準2を満たすが、基準3を満たさない場合を「優良(◎)」、基準1を満たすが、基準2を満たさない場合を「良好(○)」、基準2を満たすが、基準1を満たさない場合を「可(△)」、基準1及び基準2の両方を満たさない場合を「不良(×)」とした。
基準1:密着性評価用試験片を顕微鏡観察したときにひび割れが観察されない。
基準2:密着性評価用試験片の体積抵抗率を上記(5)の方法に従い求めた値が0.05Ω・cm以下(500μΩ・m以下)である。
基準3:密着性評価用試験片の体積抵抗率を上記(5)の方法に従い求めた値が、上記(5)の体積抵抗率の値以下である。
その結果、この分散組成物(S-1)の基板密着性は「可(△)」であった。
(7) Evaluation of Substrate Adhesion The dispersion composition (S-1) was applied to a glass substrate in the same manner as in (4) above, except that the dispersion composition was applied by spray coating, followed by drying to form a 0.5 μm thick coating film on the glass substrate, thereby preparing a substrate with carbon nanotubes. Next, a solvent prepared so that the mixture was distilled water/isopropyl alcohol/propylene glycol monomethyl ether acetate = 5/25/70 (mass ratio) was poured onto the substrate with carbon nanotubes, and the substrate was then dried on a hot plate at 80 ° C. for 10 minutes. The obtained substrate (hereinafter referred to as "adhesion evaluation test piece") was observed under a microscope (magnification: 10x), and the volume resistivity was evaluated to evaluate the substrate adhesion. The evaluation was as follows: if all of the following criteria 1, 2, and 3 were met, it was rated as "best quality (◎◎)"; if criteria 1 and 2 were met but criterion 3 was not met, it was rated as "excellent (◎)"; if criteria 1 was met but criterion 2 was not met, it was rated as "good (○)"; if criteria 2 was met but criterion 1 was not met, it was rated as "fair (△)"; and if neither criteria 1 nor 2 were met, it was rated as "poor (×)".
Criterion 1: No cracks are observed when the test piece for adhesion evaluation is observed under a microscope.
Criterion 2: The volume resistivity of the test piece for adhesiveness evaluation, determined according to the method in (5) above, is 0.05 Ω·cm or less (500 μΩ·m or less).
Criterion 3: The volume resistivity of the test piece for adhesiveness evaluation, determined according to the method in (5) above, is equal to or less than the volume resistivity value in (5) above.
As a result, the substrate adhesion of this dispersion composition (S-1) was rated as "fair (Δ)".

[実施例2~7、比較例1~3]
分散組成物の組成を下記表2に記載の通りに変更した以外は、実施例1の分散組成物(S-1)と同様にして分散組成物(S-2)~(S-7)及び(sr-1)~(sr-3)を調製した。また、分散組成物(S-1)に代えて分散組成物(S-2)~(S-7)及び(sr-1)~(sr-3)をそれぞれ用いた点以外は、実施例1と同様にして各種評価を行った。なお、CNT分散性(有機溶媒系)の評価は、実施例1の上記(3)と同様に、溶媒として蒸留水の代わりにシクロペンタノンを用いて調製した分散組成物により行った。実施例1~7及び比較例1~3の各種評価結果を下記表2にまとめた。
[Examples 2 to 7, Comparative Examples 1 to 3]
Except for changing the composition of the dispersion composition as shown in Table 2 below, dispersion compositions (S-2) to (S-7) and (sr-1) to (sr-3) were prepared in the same manner as the dispersion composition (S-1) of Example 1. Furthermore, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1, except that dispersion compositions (S-2) to (S-7) and (sr-1) to (sr-3) were used instead of dispersion composition (S-1). The evaluation of CNT dispersibility (organic solvent system) was performed using a dispersion composition prepared using cyclopentanone instead of distilled water as the solvent, as in (3) above in Example 1. The evaluation results of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 are summarized in Table 2 below.

表2中、「配合量」の数値は質量部を示す。化合物の略号は以下の通りである。
<CNT>
MWNT; マルチウォールカーボンナノチューブ
DWNT; ダブルウォールカーボンナノチューブ
SWNT; シングルウォールカーボンナノチューブ
In Table 2, the numerical values for "amount blended" indicate parts by mass. The abbreviations for the compounds are as follows:
<CNT>
MWNT: Multi-walled carbon nanotubes DWNT: Double-walled carbon nanotubes SWNT: Single-walled carbon nanotubes

表2の結果から、実施例1~7は、比較例1~3と対比して、水系及び有機溶媒系のいずれにおいてもカーボンナノチューブの分散性が良好であった。また、実施例1~7は、比較例1~3と対比して、外力耐性、導電性、及び基板に対する密着性に優れていた。これらの結果は、重合体[P]が作るリオトロピック液晶場(ホスト)に対してCNT(ゲスト)を導入することにより、重合体[P]の分子鎖に沿ってCNTが配向し、CNTの分散性を高くできたものと考えられる。 The results in Table 2 show that, compared to Comparative Examples 1 to 3, Examples 1 to 7 had better dispersibility of carbon nanotubes in both aqueous and organic solvent systems. Furthermore, compared to Comparative Examples 1 to 3, Examples 1 to 7 also had superior resistance to external forces, conductivity, and adhesion to the substrate. These results are thought to be due to the fact that, by introducing CNTs (guests) into the lyotropic liquid crystal field (host) created by the polymer [P], the CNTs were aligned along the molecular chains of the polymer [P], thereby improving the dispersibility of the CNTs.

3.金属粒子含有分散組成物の作製及び評価
[実施例8]
(1)分散組成物の調製
金属粒子として酸化チタン45質量部、及び合成例2で得た重合体(PI-1)2質量部が入った容器に、溶媒として蒸留水53質量部を加えた。次いで、ペイントシェーカー(振とう器)にて10分間振とうし、分散組成物(S-8)を調製した。
3. Preparation and Evaluation of Metal Particle-Containing Dispersion Composition [Example 8]
(1) Preparation of Dispersion Composition 53 parts by mass of distilled water as a solvent was added to a container containing 45 parts by mass of titanium oxide as metal particles and 2 parts by mass of the polymer (PI-1) obtained in Synthesis Example 2. The mixture was then shaken for 10 minutes using a paint shaker to prepare a dispersion composition (S-8).

(2)分散性の評価(水系)
上記(1)で得た分散組成物(S-8)を平坦な場所に1日静置し、実施例1の(2)と同様にして分散性を評価した。その結果、分散組成物(S-8)の粒子分散性は「良好(〇)」であった。
(3)粒子分散性の評価(有機溶媒系)
上記(1)で溶媒として用いた蒸留水の代わりにシクロペンタノンを用いた以外は上記(1)と同様にして分散組成物を調製した。得られた分散組成物を平坦な場所に静置し、時間経過に伴う分散状態を観察し、実施例1の(3)と同様にして粒子分散性を評価した。その結果、この実施例の分散組成物の粒子分散性(有機溶媒系)は「可(△)」であった。
(2) Evaluation of dispersibility (aqueous system)
The dispersion composition (S-8) obtained in (1) above was allowed to stand on a flat surface for 1 day, and the dispersibility was evaluated in the same manner as in (2) of Example 1. As a result, the particle dispersibility of the dispersion composition (S-8) was "good (◯)".
(3) Evaluation of particle dispersibility (organic solvent system)
A dispersion composition was prepared in the same manner as in (1) above, except that cyclopentanone was used instead of distilled water used as the solvent in (1). The obtained dispersion composition was left standing on a flat surface, and the dispersion state was observed over time. The particle dispersibility was evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. As a result, the particle dispersibility (organic solvent system) of the dispersion composition of this example was "fair (Δ)".

(4)粒子塗布性の評価
上記(1)で得た分散組成物(S-8)を用いた点以外は実施例1の(4)と同様にして塗布性を評価した。その結果、膜厚ムラ及びピンホールの双方とも観察されず、塗布性は「良好(○)」であった。
(5)指押し試験
上記(1)で得た分散組成物(S-8)を用いた点以外は実施例1の(6)と同様にして指押し試験を行い、ひび割れの発生にしくさ(外力耐性、指押し耐性ともいう)を確認した。その結果、この分散組成物(S-8)を用いて形成した塗膜は、目視ではひび割れが観察されなかったが、顕微鏡によりひび割れが観察されたため、指押し耐性は「可(△)」と判断された。
(4) Evaluation of particle coatability Coatability was evaluated in the same manner as in (4) of Example 1, except that the dispersion composition (S-8) obtained in (1) above was used. As a result, neither unevenness in film thickness nor pinholes were observed, and the coatability was evaluated as "good (◯)".
(5) Finger Press Test A finger press test was carried out in the same manner as in (6) of Example 1, except that the dispersion composition (S-8) obtained in (1) above was used, to confirm the resistance to cracking (also referred to as external force resistance or finger press resistance). As a result, in the coating film formed using this dispersion composition (S-8), no cracks were observed visually, but cracks were observed under a microscope, and therefore the finger press resistance was judged to be "fair (△)".

[実施例9~19、比較例4]
分散組成物の組成を下記表3に記載の通りに変更した以外は、実施例8の分散組成物(S-8)と同様にして分散組成物(S-9)~(S-19)及び(sr-4)を調製した。また、分散組成物(S-8)に代えて分散組成物(S-9)~(S-19)及び(sr-4)をそれぞれ用いた点以外は、実施例8と同様にして各種評価を行った。なお、粒子分散性(有機溶媒系)の評価は、実施例8の上記(3)と同様に、溶媒として蒸留水の代わりにシクロペンタノンを用いて調製した分散組成物により行った。実施例9~19及び比較例4の各種評価結果を下記表3にまとめた。
[Examples 9 to 19, Comparative Example 4]
Except for changing the composition of the dispersion composition as shown in Table 3 below, dispersion compositions (S-9) to (S-19) and (sr-4) were prepared in the same manner as the dispersion composition (S-8) of Example 8. In addition, various evaluations were performed in the same manner as in Example 8, except that dispersion compositions (S-9) to (S-19) and (sr-4) were used instead of dispersion composition (S-8). Note that the evaluation of particle dispersibility (organic solvent system) was performed using a dispersion composition prepared using cyclopentanone instead of distilled water as the solvent, as in (3) above of Example 8. The various evaluation results of Examples 9 to 19 and Comparative Example 4 are summarized in Table 3 below.

表3中、「配合量」の数値は質量部を示す。化合物の略号は以下の通りである。
<分散剤>
BYK180; BYK-Chemie社製 DISPERBYK-180(ポリアクリル分散剤)
In Table 3, the numerical values for "amount blended" indicate parts by mass. The abbreviations for the compounds are as follows:
<Dispersant>
BYK180: BYK-Chemie DISPERBYK-180 (polyacrylic dispersant)

表3の結果から、実施例8~19は、比較例4と対比して、金属粒子の分散性が有機溶媒系においても良好であった。また、実施例8~19は、比較例4と対比して外力耐性に優れていた。 The results in Table 3 show that Examples 8 to 19 had better dispersibility of metal particles even in organic solvent systems than Comparative Example 4. Furthermore, Examples 8 to 19 had better resistance to external forces than Comparative Example 4.

[第2実施例]
1.重合体の合成
[合成例11:ポリアミック酸の合成]
還流管、温度計及び窒素導入管を備えた3つ口フラスコに、2,5-ジアミノベンゼンスルホン酸85.5モル部、パラフェニレンジアミン9.5モル部、m-クレゾールに溶解させ、トリエチルアミン218モル部を入れ、窒素下で撹拌した。ジアミン溶解後、ピロメリット酸二無水物100モル部を加えて80℃で3時間撹拌した。なお、反応濃度は、固形分が30%となるように行った。反応終了後、反応溶液を固形分濃度15%までm-クレゾールで希釈し、アセトン中に滴下して凝固させた。得られた凝固物をろ過し、アセトン中で洗浄し、120℃で真空乾燥させることにより、ポリアミック酸(以下「重合体(PAA-2)」とする)を得た。得られた重合体(PAA-2)の重量平均分子量は151,000であった。
[Second Example]
1. Polymer Synthesis [Synthesis Example 11: Synthesis of Polyamic Acid]
A three-neck flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a nitrogen inlet tube was charged with 85.5 mol parts of 2,5-diaminobenzenesulfonic acid, 9.5 mol parts of paraphenylenediamine, dissolved in m-cresol, and 218 mol parts of triethylamine, followed by stirring under nitrogen. After dissolving the diamine, 100 mol parts of pyromellitic dianhydride was added and stirred at 80°C for 3 hours. The reaction concentration was adjusted to a solids content of 30%. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with m-cresol to a solids concentration of 15% and added dropwise to acetone to coagulate. The resulting coagulated material was filtered, washed in acetone, and vacuum dried at 120°C to obtain a polyamic acid (hereinafter referred to as "polymer (PAA-2)"). The weight-average molecular weight of the resulting polymer (PAA-2) was 151,000.

[合成例12:ポリイミドの合成]
2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物95モル部、3,5-ジアミノ安息香酸コレスタニル20モル部、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル60モル部、及び2,5-ジアミノベンゼンスルホン酸20モル部をN-メチル-2-ピロリドン(NMP)に溶解させ、重合体濃度が15質量%のポリアミック酸溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液にNMPを加え、重合体濃度が10質量%となるように希釈した後、所定量のピリジン及び無水酢酸を加え、110℃で4時間反応させた。次いで、得られた反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。回収した沈殿物をメタノールで洗浄した後、減圧下100℃で乾燥することにより、ポリイミド(以下「重合体(PI-7)」とする)を得た。得られた重合体(PI-7)の重量平均分子量は202,000であり、イミド化率は99%であった。
Synthesis Example 12: Synthesis of polyimide
95 mol parts of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride, 20 mol parts of cholestanyl 3,5-diaminobenzoate, 60 mol parts of 4,4'-diaminodiphenyl ether, and 20 mol parts of 2,5-diaminobenzenesulfonic acid were dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) to obtain a polyamic acid solution with a polymer concentration of 15% by mass. NMP was added to the obtained polyamic acid solution to dilute it to a polymer concentration of 10% by mass, and then a predetermined amount of pyridine and acetic anhydride were added and the mixture was reacted at 110°C for 4 hours. The resulting reaction mixture was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The recovered precipitate was washed with methanol and then dried at 100°C under reduced pressure to obtain a polyimide (hereinafter referred to as "Polymer (PI-7)"). The weight-average molecular weight of the obtained Polymer (PI-7) was 202,000, and the imidization rate was 99%.

[合成例13:ポリイミドの合成]
反応に使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を下記表4の通り変更するとともに、触媒量を変更した以外は合成例1と同様にして、ポリイミドである重合体(PI-8)を得た。各ポリイミドのイミド化率を下記表4に併せて示した。
Synthesis Example 13: Synthesis of polyimide
A polyimide polymer (PI-8) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the types and amounts of the tetracarboxylic dianhydride and diamine compound used in the reaction were changed as shown in Table 4 below, and the amount of catalyst was also changed. The imidization ratio of each polyimide is also shown in Table 4 below.

表4中の数値は、テトラカルボン酸二無水物については、反応に使用したテトラカルボン酸二無水物の合計量に対する使用割合(モル%)を示し、ジアミン化合物については、反応に使用したジアミン化合物の合計量に対する使用割合(モル%)を示す。表4中のテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の略称は以下の通りである。
(テトラカルボン酸二無水物)
AN-1; 2,3,5-トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物
AN-2; ピロメリット酸二無水物
AN-4; ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4,6,8-テトラカルボン酸2:4,6:8-二無水物
(ジアミン化合物)
DA-1; 2,5-ジアミノベンゼンスルホン酸
DA-3; 3,5-ジアミノ安息香酸コレスタニル
DA-7; パラフェニレンジアミン
DA-8; 4,4’-ジアミノジフェニルエーテル
The numerical values in Table 4 show the proportion (mol %) of tetracarboxylic dianhydrides used relative to the total amount of tetracarboxylic dianhydrides used in the reaction, and the numerical values in Table 4 show the proportion (mol %) of diamine compounds used relative to the total amount of diamine compounds used in the reaction. The abbreviations for tetracarboxylic dianhydrides and diamine compounds in Table 4 are as follows:
(Tetracarboxylic acid dianhydride)
AN-1: 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride AN-2: Pyromellitic dianhydride AN-4: Bicyclo[3.3.0]octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid 2:4,6:8-dianhydride (diamine compound)
DA-1; 2,5-diaminobenzenesulfonic acid DA-3; 3,5-diaminobenzoic acid cholestanyl DA-7; paraphenylenediamine DA-8; 4,4'-diaminodiphenyl ether

2.CNT含有分散組成物の調製
[調製例1]
シングルウォールカーボンナノチューブ(SWNT)5質量部、及び合成例11で得た重合体(PAA-2)25質量部が入った容器に、溶媒として蒸留水10000質量部を加えた。次いで、60分間、超音波分散を行い、分散組成物(S-20)を調製した。
[調製例2~5]
分散組成物の組成を下記表5に記載の通りに変更した以外は、調製例1と同様にして各分散組成物を調製した。
2. Preparation of CNT-containing dispersion composition [Preparation Example 1]
10,000 parts by mass of distilled water was added as a solvent to a container containing 5 parts by mass of single-walled carbon nanotubes (SWNTs) and 25 parts by mass of the polymer (PAA-2) obtained in Synthesis Example 11. Next, ultrasonic dispersion was carried out for 60 minutes to prepare a dispersion composition (S-20).
[Preparation Examples 2 to 5]
Each dispersion composition was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the formulation of the dispersion composition was changed as shown in Table 5 below.

表5中、「配合量」の数値は質量部を示す。CNTの略称は以下の通りである。
<CNT>
MWNT; マルチウォールカーボンナノチューブ
DWNT; ダブルウォールカーボンナノチューブ
SWNT; シングルウォールカーボンナノチューブ
SWNT-D; 欠陥の多いシングルウォールカーボンナノチューブ
<分散剤>
SDBS; ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
In Table 5, the numerical values for "blended amount" indicate parts by mass. The abbreviations for CNT are as follows:
<CNT>
MWNT; Multi-wall carbon nanotubes DWNT; Double-wall carbon nanotubes SWNT; Single-wall carbon nanotubes SWNT-D; Single-wall carbon nanotubes with many defects <Dispersant>
SDBS: Sodium dodecylbenzenesulfonate

3.CNT含有分散組成物の評価
[実施例20]
(1)ガラス基板に対する塗布性評価
コーティングロールとドクターロールを備えるせん断塗布装置(図1参照)を用いて、ガラス基板に対する塗布性を評価した。まず、コーティングロール及びドクターロールを同じ方向に回転(順回転)させ、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)を150mm×150mmのガラス基板上に転写することで塗膜を作製した。なお、コーティングロールとドクターロールを順回転させる塗布方式は、通常の印刷方式(オフセット印刷方式等、ロールを逆回転させて塗布する方式)とは異なる。その後、80℃のホットプレートで10分間乾燥することにより、0.5μmの膜厚の塗膜を形成した。評価は、目視によりピンホール及びハジキがなければ「良好(○)」、ピンホール又はハジキがあれば「不良(×)」と判断した。その結果、ガラス基板上の塗膜にはピンホール及びハジキは観察されず、ガラス基板に対する塗布性は「良好(○)」であった。
3. Evaluation of CNT-containing dispersion composition [Example 20]
(1) Evaluation of Coatability on Glass Substrates Coatability on glass substrates was evaluated using a shear coater (see FIG. 1) equipped with a coating roll and a doctor roll. First, the coating roll and the doctor roll were rotated in the same direction (forward rotation), and the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was transferred onto a 150 mm x 150 mm glass substrate to prepare a coating film. Note that the coating method in which the coating roll and the doctor roll are rotated forward differs from ordinary printing methods (such as offset printing, in which the rolls are rotated in reverse to apply the coating). The coating was then dried on a hot plate at 80°C for 10 minutes to form a coating film with a thickness of 0.5 μm. The evaluation was performed by visually observing whether there were any pinholes or repelling and judging it as "good (○)," and whether there were any pinholes or repelling and judging it as "poor (×)." As a result, no pinholes or repelling were observed in the coating film on the glass substrate, and the coatability on the glass substrate was evaluated as "good (○)."

(2)耐摩擦摩耗性の評価
上記(1)と同様にせん断塗布装置を用いて、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)をガラス基板上にせん断転写塗布し、塗膜を80℃で10分間乾燥し、基板中央部の平均膜厚が0.5μmの塗膜を形成した。この塗膜に対し、押し込み長さ0.3mmにしてラビング処理を行い、ラビング処理の前後の膜厚の変化を測定することで耐摩擦摩耗性の評価を行った。評価は、膜厚の変化が未満20nmの場合を耐摩擦摩耗性「良好(○)」、膜厚の変化が20nm以上35nm未満の場合を耐摩擦摩耗性「可(△)」、膜厚の変化が35nm以上の場合を耐摩擦摩耗性「不良(×)」とした。この実施例では、ラビングによる膜厚の変化が5nmであったため、耐摩擦摩耗性は「良好(○)」であった。
(2) Evaluation of Friction and Abrasion Resistance Using a shear coating device similar to that described in (1) above, the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was shear-transfer coated onto a glass substrate, and the coating film was dried at 80 ° C. for 10 minutes to form a coating film with an average film thickness of 0.5 μm at the center of the substrate. This coating film was subjected to a rubbing treatment with an indentation length of 0.3 mm, and the friction and abrasion resistance was evaluated by measuring the change in film thickness before and after the rubbing treatment. The evaluation was as follows: when the change in film thickness was less than 20 nm, the friction and abrasion resistance was "good (○)", when the change in film thickness was 20 nm or more but less than 35 nm, the friction and abrasion resistance was "fair (△)", and when the change in film thickness was 35 nm or more, the friction and abrasion resistance was "poor (×)". In this example, the change in film thickness due to rubbing was 5 nm, so the friction and abrasion resistance was "good (○)".

(3)導電異方性の評価
上記(1)と同様にせん断塗布装置を用いて、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)をガラス基板上にせん断転写塗布し、塗膜を80℃で10分間乾燥し、試験片を得た。なお、必要に応じて、複数回塗布することで、膜厚が約20μmとなるように塗布回数を調整した。得られた試験片の体積抵抗率(μΩ・m)は2端子法により測定した。試験片の導電異方性は、せん断塗布方向に対する2端子の配置変更により測定した。測定は、せん断塗布方向に対し2端子を平行に配置した場合を平行体積抵抗率、せん断塗布方向に対し2端子を垂直に配置した場合を垂直体積抵抗率とした。体積抵抗率は、表面抵抗率及び膜厚から下記数式(EX-2)を用いて算出した。また、測定にあたって、測定箇所を変えながら5回測定し、それらの平均値を体積抵抗率として見積った。
体積抵抗率(μΩ・m)=表面抵抗率(Ω)×膜厚(μm)
…(EX-2)
評価は、平行体積抵抗率と垂直体積抵抗率の比(平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率)が100以上である場合を導電異方性「良好(○)」、平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率が10以上100未満の場合を導電異方性「可(△)」、平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率が10未満の場合を導電異方性「不良(×)」とした。
その結果、分散組成物(S-20)を、せん断転写塗布して得られた試験片の平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率は508であり、「良好(○)」と判断された。なお、平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率の値が大きいほど、導電異方性が大きいといえる。
(3) Evaluation of Conductivity Anisotropy Using a shear coater similar to (1) above, the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was shear-transfer coated onto a glass substrate, and the coating film was dried at 80 °C for 10 minutes to obtain a test piece. If necessary, the number of coatings was adjusted by multiple coatings so that the film thickness would be approximately 20 μm. The volume resistivity (μΩ m) of the obtained test piece was measured using a two-terminal method. The conductivity anisotropy of the test piece was measured by changing the arrangement of the two terminals with respect to the shear coating direction. The measurement was performed by arranging the two terminals parallel to the shear coating direction as parallel volume resistivity, and by arranging the two terminals perpendicular to the shear coating direction as perpendicular volume resistivity. The volume resistivity was calculated from the surface resistivity and film thickness using the following formula (EX-2). Furthermore, five measurements were performed at different measurement locations, and the average value was estimated as the volume resistivity.
Volume resistivity (μΩ・m) = surface resistivity (Ω) x film thickness (μm)
… (EX-2)
The evaluation was as follows: when the ratio of parallel volume resistivity to perpendicular volume resistivity (parallel volume resistivity/perpendicular volume resistivity) was 100 or more, the conductive anisotropy was rated as "good (◯)"; when the parallel volume resistivity/perpendicular volume resistivity was 10 or more and less than 100, the conductive anisotropy was rated as "fair (△)"; and when the parallel volume resistivity/perpendicular volume resistivity was less than 10, the conductive anisotropy was rated as "poor (×)".
As a result, the parallel volume resistivity/normal volume resistivity ratio of the test piece obtained by shear transfer coating of the dispersion composition (S-20) was 508, and was judged to be "good (◯)." Note that it can be said that the larger the value of the parallel volume resistivity/normal volume resistivity ratio, the greater the conductive anisotropy.

(4)洗浄後の導電異方性の評価
上記(1)と同様のせん断塗布装置を用いて、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)をガラス基板上に塗布し、80℃10分間乾燥し、フィルム状の試験片を得た。なお、必要に応じて、複数回塗布することで、膜厚が約20μmとなるように塗布回数を調整した。
次に、蒸留水への30秒間浸漬(ディップ)することにより塗膜の洗浄を行った。得られた試験片の体積抵抗率(μΩ・m)を上記(3)と同様にして測定した。評価は、平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率が100以上である場合を、洗浄後の導電異方性「良好(○)」、平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率が10以上100未満の場合を、洗浄後の導電異方性「可(△)」、平行体積抵抗率/垂直体積抵抗率が10未満の場合を、洗浄後の導電異方性「不良(×)」とした。その結果、分散組成物(S-20)をせん断転写塗布して得られた試験片の平行体積抵抗率と垂直体積抵抗率の比率は1818であり、「良好(○)」と判断された。
(4) Evaluation of Conductivity Anisotropy After Washing Using the same shear coating device as in (1) above, the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was coated on a glass substrate and dried at 80 ° C. for 10 minutes to obtain a film-like test piece. If necessary, the number of coatings was adjusted so that the film thickness was about 20 μm by coating multiple times.
Next, the coating film was washed by immersion (dipping) in distilled water for 30 seconds. The volume resistivity (μΩ·m) of the obtained test piece was measured in the same manner as in (3) above. The evaluation was as follows: when the parallel volume resistivity/perpendicular volume resistivity was 100 or more, the conductive anisotropy after washing was "good (○)", when the parallel volume resistivity/perpendicular volume resistivity was 10 or more but less than 100, the conductive anisotropy after washing was "fair (△)", and when the parallel volume resistivity/perpendicular volume resistivity was less than 10, the conductive anisotropy after washing was "poor (×)". As a result, the ratio of the parallel volume resistivity to the perpendicular volume resistivity of the test piece obtained by shear transfer coating with the dispersion composition (S-20) was 1818, and was judged to be "good (○)".

(5)偏光吸収特性
上記(1)と同様のせん断塗布装置を用いて、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)をガラス基板上に塗布し、80℃で10分間乾燥し、平均膜厚10μmの塗膜を形成した。単ニコルの偏光軸(偏光透過軸)と塗膜のせん断塗布方向が平行配置と直交配置(略90°配置)になるように配置し、全方位光を入射した際の水平配置と直交配置の透過率差を測定することで、偏光吸収特性の評価を行った。評価は、水平配置と直交配置の透過率の差が40%以上である場合を「良好(○)」、25%以上40%未満である場合を「可(△)」、25%未満である場合を「不良(×)」とした。その結果、当該基板の水平配置と直交配置の透過率差は48%であり、偏光吸収特性は「良好(○)」と判断された。
(5) Polarized Light Absorption Properties Using the same shear coating device as in (1) above, the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was applied to a glass substrate and dried at 80°C for 10 minutes to form a coating film with an average thickness of 10 μm. The substrates were arranged so that the polarization axis (polarized light transmission axis) of a single Nicol and the shear coating direction of the coating film were parallel and orthogonal (approximately 90°) to each other, and the polarized light absorption properties were evaluated by measuring the difference in transmittance between horizontal and orthogonal arrangements when omnidirectional light was incident. The evaluation was as follows: a difference in transmittance between horizontal and orthogonal arrangements of 40% or more was rated "good (○)", a difference of 25% or more but less than 40% was rated "fair (△)", and a difference of less than 25% was rated "poor (×)". As a result, the difference in transmittance between horizontal and orthogonal arrangements of the substrate was 48%, and the polarized light absorption properties were judged to be "good (○)".

(6)伝熱異方性の評価
上記(1)と同様のせん断塗布装置を用いて、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)をガラス基板上に塗布し、80℃で10分間乾燥し、120mm×120mmのガラス基板上に厚さ10μmの塗膜を形成した。測定は、基板の中心部をレーザーにより加熱し、サーモグラフィーにより熱伝搬時間を測定することで行った。評価は、中心からx軸方向に50mmの地点と、中心からy軸方向に50mmの地点とが中心部と同じ温度になるまでに要する時間(昇温時間)を測定し、その時間差に基づき行った。昇温時間の時間差が3秒以上の場合を「良好(○)」、1秒以上3秒未満の場合を「可(△)」、1秒未満の場合を「不良(×)」とした。その結果、この実施例の昇温時間差は3.4秒であり、「良好(○)」と判断された。なお、昇温時間差が大きいほど、電熱異方性が大きいといえる。
(6) Evaluation of Heat Transfer Anisotropy Using the same shear coating device as in (1) above, the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was applied to a glass substrate and dried at 80°C for 10 minutes to form a 10 μm thick coating film on a 120 mm x 120 mm glass substrate. Measurement was performed by heating the center of the substrate with a laser and measuring the heat propagation time using thermography. Evaluation was performed based on the time required for a point 50 mm from the center in the x-axis direction and a point 50 mm from the center in the y-axis direction to reach the same temperature as the center (heat-up time) measured. A time difference in heat-up time of 3 seconds or more was rated "good (○)", a time difference of 1 second or more but less than 3 seconds was rated "fair (△)", and a time difference of less than 1 second was rated "poor (×)". As a result, the heat-up time difference in this example was 3.4 seconds and was judged to be "good (○)". It can be said that the larger the heat-up time difference, the greater the electrothermal anisotropy.

(7)洗浄後の伝熱異方性の評価
上記(1)と同様のせん断塗布装置を用いて、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)をガラス基板上に塗布し、80℃で10分間乾燥し、120mm×120mmのガラス基板上に厚さ10μmの塗膜を形成した。次に、塗膜が形成された基板を蒸留水に30秒間浸漬(ディップ)することにより塗膜の洗浄を行った。得られた試験片の伝熱異方性を上記(6)と同様にして測定した。評価は、中心からx軸方向に50mmの地点と、中心からy軸方向に50mmの地点とが中心部と同じ温度になるまでに要する時間(昇温時間)を測定し、その時間差に基づき行った。昇温時間の時間差が3秒以上の場合を「良好」、1秒以上3秒未満の場合を「可」、1秒未満の場合を「不良」とした。その結果、この実施例の昇温時間差は3.2秒であり、「良好」と判断された。
(7) Evaluation of heat transfer anisotropy after cleaning Using the same shear coating device as in (1) above, the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was applied to a glass substrate and dried at 80 ° C for 10 minutes to form a 10 μm thick coating film on a 120 mm × 120 mm glass substrate. Next, the substrate on which the coating film was formed was immersed (dipped) in distilled water for 30 seconds to clean the coating film. The heat transfer anisotropy of the obtained test piece was measured in the same manner as in (6) above. Evaluation was based on the time required for a point 50 mm from the center in the x-axis direction and a point 50 mm from the center in the y-axis direction to reach the same temperature as the center (heat-up time) measured. A time difference in the heat-up time of 3 seconds or more was rated "good," a time difference of 1 second or more but less than 3 seconds was rated "fair," and a time difference of less than 1 second was rated "poor." As a result, the heat-up time difference in this example was 3.2 seconds, which was judged to be "good."

(8)デガス耐性の評価
上記(1)と同様のせん断塗布装置を用いて、上記調製例1で得た分散組成物(S-20)を8インチのシリコン基板上に塗布し、80℃で10分間乾燥し、シリコン基板上に厚さ10μmの塗膜を形成した。シリコン基板を1cm×5cm片に切断し、切断したシリコン基板4枚について、シリコンウエハーアナライザー装置(日本分析工業社の「加熱脱着装置JTD-505」、島津製作所社の「ガスクロマトグラフ質量分析計 GCMS-QP2010Plus」)を用いて、昇温速度10℃/分で230℃に上げ、同温度で15分保持した際のアウトガス量(ng/cm)を求めた。評価は、アウトガス量が200ng/cm未満であった場合を「良好(○)」、200ng/cm以上600ng/cm未満であった場合を「可(△)」、600ng/cm2以上であった場合を「不良(×)」とした。その結果、この実施例の昇温時間差は150ng/cmであり、「良好」と判断された。
(8) Evaluation of degassing resistance Using the same shear coating device as in (1) above, the dispersion composition (S-20) obtained in Preparation Example 1 above was applied to an 8-inch silicon substrate and dried at 80°C for 10 minutes to form a 10 μm thick coating film on the silicon substrate. The silicon substrate was cut into 1 cm x 5 cm pieces, and four of the cut silicon substrates were heated to 230°C at a heating rate of 10°C/min using a silicon wafer analyzer (Japan Analytical Industry Co., Ltd.'s "Thermal Desorption Apparatus JTD-505", Shimadzu Corporation's "Gas Chromatograph Mass Spectrometer GCMS-QP2010Plus"), and the outgassing amount (ng/cm 2 ) was determined when the temperature was maintained at 230°C for 15 minutes. The evaluation was as follows: if the outgassing amount was less than 200 ng/ cm² , it was rated as "good (◯)", if it was 200 ng/ cm² or more but less than 600 ng/ cm² , it was rated as "fair (△)", and if it was 600 ng/cm² or more, it was rated as "poor (×)". As a result, the temperature rise time difference in this example was 150 ng/ cm² , and it was judged to be "good".

[実施例21~23、25、26、比較例5~7]
分散組成物の種類及び基板への塗布方法を下記表6に記載の通りに変更した以外は実施例20と同様にして各種評価を行った。評価結果を下記表6に示す。
[実施例24]
ボール径1.2mmのボールペンのインクをインク収容部からシリンジで吸い出し、インク収容部にアセトンを注入して洗浄・乾燥を行った後、空となったインク収容部に分散組成物(S-20)を注入し、描画することによってガラス基板にせん断転写塗布を行い(図2参照)、ガラス基板への塗布性及び偏光吸収特性を評価した。ガラス基板への塗布性については、描画した線を実施例20と同様にして目視によりピンホール及びハジキの有無を観察して評価した。偏光吸収特性については、描画した線を偏光板を通して目視した際に、偏光板の回転により黒転を確認できた場合に偏光吸収特性「良好(○)」、黒転を確認できなかった場合に偏光吸収特性「不良(×)」と評価した。評価結果を下記表6に示す。
[Examples 21 to 23, 25, and 26, and Comparative Examples 5 to 7]
Various evaluations were carried out in the same manner as in Example 20, except that the type of dispersion composition and the method of applying it to the substrate were changed as shown in Table 6 below. The evaluation results are shown in Table 6 below.
[Example 24]
The ink of a ballpoint pen with a ball diameter of 1.2 mm was sucked out of the ink reservoir with a syringe, and acetone was poured into the ink reservoir to wash and dry it. The dispersion composition (S-20) was then poured into the empty ink reservoir, and a drawing was performed to shear-transfer coat the glass substrate (see FIG. 2 ), and the coatability to the glass substrate and the polarized light absorption properties were evaluated. The coatability to the glass substrate was evaluated by visually observing the drawn line for pinholes and repelling in the same manner as in Example 20. Regarding the polarized light absorption properties, when the drawn line was visually observed through a polarizing plate, if blackening could be confirmed by rotation of the polarizing plate, the polarized light absorption properties were evaluated as "good (○)," and if blackening could not be confirmed, the polarized light absorption properties were evaluated as "poor (×)." The evaluation results are shown in Table 6 below.

表6中、塗布方法の詳細は以下の通りである。
転写塗布A:せん断塗布装置により、コーティングロールとドクターロールを順回転させてせん断塗布を行った。
転写塗布B:ボールペン型方式によりせん断塗布を行った。
転写塗布C:せん断塗布装置により、コーティングロールとドクターロールを逆回転させてせん断塗布を行った以外は転写塗布Aと同様にして行った。
転写塗布D:コーティングロール及びドクターロールを備えるせん断塗布装置に代えて、分散組成物をガラス基板上にバーコートによりせん断塗布し、得られた塗膜を別の基板に転写することにより塗膜を得た。
In Table 6, the details of the coating method are as follows.
Transfer coating A: Shear coating was performed by rotating a coating roll and a doctor roll in the same direction using a shear coating device.
Transfer coating B: Shear coating was carried out using a ballpoint pen type method.
Transfer coating C: Transfer coating was carried out in the same manner as in transfer coating A, except that shear coating was carried out by rotating the coating roll and doctor roll in reverse using a shear coating device.
Transfer coating D: Instead of using a shear coating device equipped with a coating roll and a doctor roll, the dispersion composition was shear coated onto a glass substrate using a bar coater, and the resulting coating film was transferred to another substrate to obtain a coating film.

表6に示すように、リオトロピック液晶性を示す化合物を含む分散組成物を用いて、せん断転写塗布により異方性膜を形成することにより、導電異方性、偏光吸収特性、伝熱異方性及びデガス耐性の各種特性に優れた異方性膜を得ることができた(実施例20~26)。また、実施例20~26の異方性膜は、ガラス基板に対する塗布性、耐摩擦摩耗性についても優れていた。特に、回転体によりせん断転写塗布を行った実施例20~25は、全ての評価で「○」又は「△」であり、これらの中でも実施例20~22は、全ての評価で「○」であった。As shown in Table 6, by forming an anisotropic film by shear transfer coating using a dispersion composition containing a compound exhibiting lyotropic liquid crystallinity, an anisotropic film with excellent properties, including electrical conductivity anisotropy, polarized light absorption characteristics, heat transfer anisotropy, and degassing resistance, was obtained (Examples 20-26). The anisotropic films of Examples 20-26 also had excellent coatability to glass substrates and friction and abrasion resistance. In particular, Examples 20-25, which were subjected to shear transfer coating using a rotating body, received a "Good" or "Good" rating in all evaluations, and among these, Examples 20-22 received a "Good" rating in all evaluations.

Claims (6)

被分散体と、
分散媒と、
ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種であって、かつ下記式(1)で表されるジアミン化合物[D1]に由来する構造単位U1と、下記式(1)で表されるジアミン化合物とは異なるジアミン化合物[D2]に由来する構造単位U2とを有する重合体[P]と、
を含有し、
前記被分散体は、カーボンナノチューブ及び金属単体粒子よりなる群から選択される少なくとも一種であり、
前記ジアミン化合物[D2]は、下記式(3)で表される、分散組成物。
(式(1)中、nは0又は1である。nが0の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の炭化水素基である。nが1の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の炭化水素基である。)
(式(3)中、L21は、単結合、-O-、-CO-、-COO-*、-OCO-*、-NR25-、-NR25-CO-*、-CO-NR25-*、炭素数1~6のアルカンジイル基、-O-R26-*、又は-R26-O-*(ただし、R25は水素原子又は炭素数1~10の1価の炭化水素基であり、R26は炭素数1~3のアルカンジイル基である。「*」は、R21との結合手であることを示す。)である。R21及びR23は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは無置換のフェニレン基、又は置換若しくは無置換のシクロアルキレン基であり、R22は、単結合、置換若しくは無置換のフェニレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、又は-R27-B-R28-(ただし、R27及びR28は、それぞれ独立に、置換又は無置換のフェニレン基又はシクロアルキレン基であり、Bは単結合、-O-、-COO-*、-OCO-*、-OCH-*、-CHO-*、又は炭素数1~3のアルカンジイル基である。「*」は、R28との結合手であることを示す。)である。R21、R22、R23における置換フェニレン基、置換シクロアルキレン基が有する置換基は、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基である。R24は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、CHCOO-*(「*」は、R23との結合手であることを示す。)、炭素数1~18のアルキル基、炭素数1~18のフルオロアルキル基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のフルオロアルコキシ基、ステロイド骨格を有する炭素数17~51の炭化水素基、又は、炭素数1~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。ただし、R21、R22及びR23の全部が単結合である場合、R24は、炭素数6~18のアルキル基、炭素数6~18のフルオロアルキル基、炭素数6~18のアルコキシ基、炭素数6~18のフルオロアルコキシ基、ステロイド骨格を有する炭素数17~51の炭化水素基、又は、炭素数6~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。R21、R22及びR23が有する置換又は無置換のフェニレン基と置換又は無置換のシクロアルキレン基との合計数が1個である場合、R24は、炭素数4~18のアルキル基、炭素数4~18のフルオロアルキル基、炭素数4~18のアルコキシ基、炭素数4~18のフルオロアルコキシ基、又は、炭素数4~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。)
A dispersed material;
A dispersion medium;
a polymer [P] which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide, and which has a structural unit U1 derived from a diamine compound [D1] represented by the following formula (1) and a structural unit U2 derived from a diamine compound [D2] different from the diamine compound represented by the following formula (1);
Contains
the dispersed substance is at least one selected from the group consisting of carbon nanotubes and simple metal particles,
The diamine compound [D2] is a dispersion composition represented by the following formula (3):
(In formula (1), n is 0 or 1. When n is 0, at least one of R 1 to R 4 is a monovalent group having an ionic functional group, and the rest are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group. When n is 1, at least one of R 1 to R 8 is a monovalent group having an ionic functional group, and the rest are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group.)
(In formula (3), L 21 is a single bond, —O—, —CO—, —COO-* 1 , —OCO-* 1 , —NR 25 —, —NR 25 -CO-* 1 , —CO-NR 25 -* 1 , an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, —O-R 26 -* 1 , or —R 26 -O-* 1 (wherein R 25 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 26 is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. “* 1 ” indicates a bond to R 21 ). R 21 and R 23 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted phenylene group, or a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, and R 22 is a single bond, a substituted or unsubstituted phenylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, or -R 27 -B 1 -R 28 - (wherein R 27 and R 28 are each independently a substituted or unsubstituted phenylene group or cycloalkylene group, and B 1 is a single bond, -O-, -COO-* 2 , -OCO-* 2 , -OCH 2 -* 2 , -CH 2 O-* 2 , or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. "* 2 " indicates a bond to R 28 ). The substituents on the substituted phenylene group and substituted cycloalkylene group in R 21 , R 22 , and R 23 are an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine atom, or a cyano group. R 24 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, CH 3 COO-* 3 (where * 3 represents a bond to R 23 ), an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a hydrocarbon group having a steroid skeleton and having 17 to 51 carbon atoms, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group. However, when all of R 21 , R 22 and R 23 are single bonds, R 24 is an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 6 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 6 to 18 carbon atoms, a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms and a steroid skeleton, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group. When the total number of substituted or unsubstituted phenylene groups and substituted or unsubstituted cycloalkylene groups possessed by R 21 , R 22 and R 23 is 1, R 24 is an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 4 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 4 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 4 to 18 carbon atoms, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group.
前記重合体[P]における前記構造単位U2の含有割合が、前記構造単位U1と前記構造単位U2との合計量に対して、1モル%以上80モル%以下である、請求項1に記載の分散組成物。 The dispersion composition according to claim 1, wherein the content of the structural unit U2 in the polymer [P] is 1 mol % or more and 80 mol % or less relative to the total amount of the structural unit U1 and the structural unit U2. 前記重合体[P]は、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジエステル化合物及びテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物よりなる群から選択される少なくとも一種のテトラカルボン酸誘導体と、ジアミン化合物との反応生成物であり、
前記テトラカルボン酸誘導体は、芳香族テトラカルボン酸誘導体である、請求項1又は2に記載の分散組成物。
the polymer [P] is a reaction product of at least one tetracarboxylic acid derivative selected from the group consisting of tetracarboxylic acid dianhydrides, tetracarboxylic acid diester compounds, and tetracarboxylic acid diester dihalides, with a diamine compound;
The dispersion composition according to claim 1 or 2, wherein the tetracarboxylic acid derivative is an aromatic tetracarboxylic acid derivative.
カーボンナノチューブ及び金属単体粒子よりなる群から選択される少なくとも1種の被分散体を分散媒に分散させるための分散剤であって、
ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種であって、かつ下記式(1)で表されるジアミン化合物[D1]に由来する構造単位U1と、下記式(1)で表されるジアミン化合物とは異なるジアミン化合物[D2]に由来する構造単位U2とを有する重合体[P]を含有し、
前記ジアミン化合物[D2]は、下記式(3)で表される、分散剤。
(式(1)中、nは0又は1である。nが0の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の炭化水素基である。nが1の場合、R~Rのうち少なくとも一つは、イオン性官能基を有する1価の基であり、残りは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は1価の炭化水素基である。)
(式(3)中、L21は、単結合、-O-、-CO-、-COO-*、-OCO-*、-NR25-、-NR25-CO-*、-CO-NR25-*、炭素数1~6のアルカンジイル基、-O-R26-*、又は-R26-O-*(ただし、R25は水素原子又は炭素数1~10の1価の炭化水素基であり、R26は炭素数1~3のアルカンジイル基である。「*」は、R21との結合手であることを示す。)である。R21及びR23は、それぞれ独立して、単結合、置換若しくは無置換のフェニレン基、又は置換若しくは無置換のシクロアルキレン基であり、R22は、単結合、置換若しくは無置換のフェニレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、又は-R27-B-R28-(ただし、R27及びR28は、それぞれ独立に、置換又は無置換のフェニレン基又はシクロアルキレン基であり、Bは単結合、-O-、-COO-*、-OCO-*、-OCH-*、-CHO-*、又は炭素数1~3のアルカンジイル基である。「*」は、R28との結合手であることを示す。)である。R21、R22、R23における置換フェニレン基、置換シクロアルキレン基が有する置換基は、炭素数1~3のアルキル基、炭素数1~3のアルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基である。R24は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、CHCOO-*(「*」は、R23との結合手であることを示す。)、炭素数1~18のアルキル基、炭素数1~18のフルオロアルキル基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のフルオロアルコキシ基、ステロイド骨格を有する炭素数17~51の炭化水素基、又は、炭素数1~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。ただし、R21、R22及びR23の全部が単結合である場合、R24は、炭素数6~18のアルキル基、炭素数6~18のフルオロアルキル基、炭素数6~18のアルコキシ基、炭素数6~18のフルオロアルコキシ基、ステロイド骨格を有する炭素数17~51の炭化水素基、又は、炭素数6~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。R21、R22及びR23が有する置換又は無置換のフェニレン基と置換又は無置換のシクロアルキレン基との合計数が1個である場合、R24は、炭素数4~18のアルキル基、炭素数4~18のフルオロアルキル基、炭素数4~18のアルコキシ基、炭素数4~18のフルオロアルコキシ基、又は、炭素数4~18のアルキル基が有する少なくとも1個の水素原子がシアノ基で置換された1価の基である。)
A dispersant for dispersing at least one substance to be dispersed selected from the group consisting of carbon nanotubes and simple metal particles in a dispersion medium,
The polymer [P] contains at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, and polyimide, and has a structural unit U1 derived from a diamine compound [D1] represented by the following formula (1) and a structural unit U2 derived from a diamine compound [D2] different from the diamine compound represented by the following formula (1):
The diamine compound [D2] is a dispersant represented by the following formula (3):
(In formula (1), n is 0 or 1. When n is 0, at least one of R 1 to R 4 is a monovalent group having an ionic functional group, and the rest are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group. When n is 1, at least one of R 1 to R 8 is a monovalent group having an ionic functional group, and the rest are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group.)
(In formula (3), L 21 is a single bond, —O—, —CO—, —COO-* 1 , —OCO-* 1 , —NR 25 —, —NR 25 -CO-* 1 , —CO-NR 25 -* 1 , an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, —O-R 26 -* 1 , or —R 26 -O-* 1 (wherein R 25 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 26 is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. “* 1 ” indicates a bond to R 21 ). R 21 and R 23 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted phenylene group, or a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, and R 22 is a single bond, a substituted or unsubstituted phenylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, or -R 27 -B 1 -R 28 - (wherein R 27 and R 28 are each independently a substituted or unsubstituted phenylene group or cycloalkylene group, and B 1 is a single bond, -O-, -COO-* 2 , -OCO-* 2 , -OCH 2 -* 2 , -CH 2 O-* 2 , or an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. "* 2 " indicates a bond to R 28 ). The substituents on the substituted phenylene group and substituted cycloalkylene group in R 21 , R 22 , and R 23 are an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a fluorine atom, or a cyano group. R 24 is a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, CH 3 COO-* 3 (where * 3 represents a bond to R 23 ), an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a hydrocarbon group having a steroid skeleton and having 17 to 51 carbon atoms, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group. However, when all of R 21 , R 22 and R 23 are single bonds, R 24 is an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 6 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 6 to 18 carbon atoms, a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms and a steroid skeleton, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group. When the total number of substituted or unsubstituted phenylene groups and substituted or unsubstituted cycloalkylene groups possessed by R 21 , R 22 and R 23 is 1, R 24 is an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 4 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 4 to 18 carbon atoms, a fluoroalkoxy group having 4 to 18 carbon atoms, or a monovalent group in which at least one hydrogen atom of an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms has been substituted with a cyano group.
請求項1~3のいずれか一項に記載の分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる工程と、
前記保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写する工程と、
を含む、異方性膜の製造方法。
A step of retaining the dispersion composition according to any one of claims 1 to 3 on a support surface while applying shear stress;
transferring the dispersion composition held on the surface of the support onto a substrate;
A method for producing an anisotropic film, comprising:
請求項1~3のいずれか一項に記載の分散組成物を、せん断応力をかけながら保持体表面に保持させる保持部と、
前記保持体表面に保持された分散組成物を基材上に転写させる転写部と、
を備える、異方性膜形成装置。
A holding part that holds the dispersion composition according to any one of claims 1 to 3 on a support surface while applying shear stress;
a transfer unit that transfers the dispersion composition held on the surface of the support onto a substrate;
An anisotropic film forming apparatus comprising:
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