JP7730830B2 - 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、金属張積層シート及びキャパシタ素子 - Google Patents
樹脂組成物、樹脂付き金属箔、金属張積層シート及びキャパシタ素子Info
- Publication number
- JP7730830B2 JP7730830B2 JP2022553782A JP2022553782A JP7730830B2 JP 7730830 B2 JP7730830 B2 JP 7730830B2 JP 2022553782 A JP2022553782 A JP 2022553782A JP 2022553782 A JP2022553782 A JP 2022553782A JP 7730830 B2 JP7730830 B2 JP 7730830B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- particles
- metal
- resin
- metal foil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/30—Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/02—Ingredients treated with inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/20—Dielectrics using combinations of dielectrics from more than one of groups H01G4/02 - H01G4/06
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/33—Thin- or thick-film capacitors (thin- or thick-film circuits; capacitors without a potential-jump or surface barrier specially adapted for integrated circuits, details thereof, multistep manufacturing processes therefor)
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/02—2 layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/06—Coating on the layer surface on metal layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/26—Polymeric coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/10—Inorganic particles
- B32B2264/102—Oxide or hydroxide
- B32B2264/1022—Titania
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/10—Inorganic particles
- B32B2264/104—Oxysalt, e.g. carbonate, sulfate, phosphate or nitrate particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/30—Particles characterised by physical dimension
- B32B2264/302—Average diameter in the range from 100 nm to 1000 nm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/30—Particles characterised by physical dimension
- B32B2264/303—Average diameter greater than 1µm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/30—Particles characterised by physical dimension
- B32B2264/305—Particle size distribution, e.g. unimodal size distribution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/40—Pretreated particles
- B32B2264/403—Pretreated particles coated or encapsulated
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/206—Insulating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/748—Releasability
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2311/00—Metals, their alloys or their compounds
- B32B2311/12—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/16—Capacitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/30—Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
- C08K2003/3045—Sulfates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
この構造を有するキャパシタ素子の高静電容量化のためには、例えば樹脂層を薄くすることが考えられる。しかし、樹脂層を薄くすると絶縁破壊電圧が低くなるという不都合が生じるおそれがある。
樹脂層の比誘電率を高くすることによってもキャパシタ素子の高静電容量化を達成することも考えられる。樹脂層の比誘電率を高めるためには、樹脂層に含まれる誘電体の粒子の充填率を高めることが簡便である。しかし誘電体の粒子の充填率を高めると、漏れ電流による絶縁不良が発生するおそれがある。
特許文献2に記載の技術では、誘電体の粒子の表面をアルミニウムの水和酸化物で被覆している。しかし同文献においては、凝集粒子状の水和酸化物が生成し、このことに起因して、樹脂組成物の漏れ電流の増加、及び樹脂中における該粒子の分散性や該樹脂の結着性の低下を招くおそれがある。
したがって本発明の課題は、キャパシタ素子の誘電体層として好適に用いられる樹脂組成物の改良にあり、更に詳しくは漏れ電流が抑制され、また十分な結着性を有する樹脂組成物を提供することにある。
前記金属酸化物は、MxOy(MはBa、Ti、Sr、Pb、Zr、La、Ta、Ca及びBiからなる群から選択される少なくとも1種の元素を表す。x及びyは、金属元素Mの価数に応じて化学量論比から決定される数を表す。)で表されるものであり、
前記樹脂組成物に含まれる粒子をXPS分析したときに原子比Al/(M+Al)が0.05以上0.7以下である、樹脂組成物を提供することによって前記の課題を解決したものである。
前記樹脂組成物層が、前記の樹脂組成物の硬化体からなる、金属張積層シートを提供するものである。
一方、MxOyで表される金属酸化物において、Mで表される金属元素を2種以上用いる場合、当該金属元素としては例えば二価の金属元素と四価の金属元素との組み合わせが挙げられる。具体的には、TiとBaの組み合わせ、TiとSrとの組み合わせ、TiとCaとの組み合わせ、TiとMgとの組み合わせ、TiとBiとの組み合わせ、ZrとBaとの組み合わせ、ZrとSrとの組み合わせ、ZrとCaとの組み合わせ、ZrとPbとの組み合わせなどが挙げられる。これらの元素の組み合わせを採用することで、比誘電率の高い金属酸化物を得ることができる。
金属酸化物の比誘電率を一層高くする観点から、M元素は、Ba及びSrのうちの少なくとも1種と、Tiとを少なくとも含むことが特に好ましい。
コア部の表面に、アルミニウムの水和酸化物を含む膜状部位が存在しているか否かは、被覆粒子を対象とした透過型電子顕微鏡観察や元素マッピングによって判定可能である。
被覆層は、アルミニウムの元素マッピングを行った際、コア部の輪郭が分かる程度にコア部の表面に膜状に存在している限り、コア部の表面の全域にわたって連続して存在していてもよく、あるいはコア部の表面が一部露出するように不連続に存在していてもよい。被覆層の厚みは均一であることが望ましいが、膜状の状態でコア部の表面を被覆している限りにおいて不均一であってもよい。
被覆層の平均厚みは、好ましくは1nm以上40nm以下であり、更に好ましくは1nm以上20nm以下であり、一層好ましくは1nm以上5nm以下である。被覆層の平均厚みは、透過型電子顕微鏡(TEM)により被覆層を有する粒子の端部を立てて(すなわち観察面と垂直にして)元素マッピングを行い、膜状に観察されるAl部分から無作為に複数の場所を選定して(例えば10箇所)厚みを計測し、平均値を算出することにより測定できる。なお、元素マッピングに際し、必要に応じてFIB(Focused IonBeam)等を用いて断面加工を行ってもよい。
漏れ電流の一層の抑制や、樹脂への分散性の一層の向上の観点から、被覆層は、コア部の表面を直接に被覆していることが好ましい。被覆層がアルミニウムの水和酸化物を含んでいるか否かは、H-NMR、Al-NMR、AES及びXPSによる測定、更には放射光XRDによる測定で判定可能である。
樹脂組成物に含まれるすべて粒子の質量に対するアルミニウム元素の占める割合は、ICP発光分光分析法によって測定できる。
分散液にアルカリ性物質を添加する前に、分散液の温度を高くすることが好ましい。加熱温度は30℃以上65℃以下とすることが好ましく、50℃以上65℃以下とすることが更に好ましく、50℃以上60℃以下とすることが一層好ましい。この範囲の温和な温度条件とすることで、後述する工程においてアルミニウムの水和酸化物を含む膜状部位を首尾よく形成することができる。
アルカリ性となった分散液にアルミン酸ナトリウムなどのアルカリ性アルミニウム源化合物を添加する。アルミニウム源化合物の添加は徐々に行うことが、アルミニウムの水和酸化物を含む膜状部位を首尾よく形成し得る点から好ましい。次いで、分散液に酸性物質を添加して該分散液のpHを中性域ないし弱酸性域(例えばpH=4.5以上7以下)まで低下させる。これによって、アルミニウムの水和酸化物をコア粒子の表面に生成させて、目的とする被覆粒子を得る。その後、必要に応じてエージングを行い、更に洗浄、乾燥を行う。酸性物質としては各種の鉱酸、例えば硫酸や塩酸を用いることができる。この方法を「A法」ともいう。上述した温度範囲での分散液の加熱はエージングの完了まで継続することが好ましい。
分散液に酸性物質を添加する前に、分散液の温度を高くすることが好ましい。加熱温度は30℃以上65℃以下とすることが好ましく、50℃以上65℃以下とすることが更に好ましく、50℃以上60℃以下とすることが一層好ましい。この範囲の温和な温度条件とすることで、後述する工程においてアルミニウムの水和酸化物を含む膜状部位を首尾よく形成することができる。
酸性となった分散液に硝酸アルミニウムなどの酸性アルミニウム源化合物を添加する。アルミニウム源化合物の添加は徐々に行うことが、アルミニウムの水和酸化物を含む膜状部位を首尾よく形成し得る点から好ましい。次いで、分散液にアルカリ性物質を添加して該分散液のpHを中性域ないし弱酸性域まで上昇させる。これによって、アルミニウムの水和酸化物をコア粒子の表面に生成させて、目的とする被覆粒子を得る。その後、必要に応じてエージングを行い、更に洗浄、乾燥を行う。アルカリ性物質としては水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物や、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属の水酸化物を用いることができる。この方法を「B法」ともいう。上述した温度範囲での分散液の加熱はエージングの完了まで継続することが好ましい。
C法では、酸性物質又はアルカリ性物質の添加量は、分散液のpHが中性域ないし弱酸性域となるような量とすることが好ましい。その後、必要に応じてエージングを行い、更に洗浄、乾燥を行う。
C法では、アルミニウム源化合物の添加及び酸性物質又はアルカリ性物質の添加は徐々に行うことが、アルミニウムの水和酸化物を含む膜状部位を首尾よく形成し得る点から好ましい。アルミニウム源化合物及び酸性物質又はアルカリ性物質を一括添加すると、アルミニウムの水和酸化物は生成するものの、凝集粒子状の水和酸化物が生成する傾向が高くなり、膜状部位が形成されづらくなる。
C法では、エージングと洗浄との間に、アルカリ性物質の添加工程を行い、分散液のpHを若干上昇させてもよい。この工程の目的は、スラリーの沈降を速くし洗浄工程時間を短縮することにある。アルカリ性物質の添加は分散液のpHが7以上7.5以下の範囲内になるようにすることが好ましい。
またC法では、コア粒子の分散媒中への分散工程を、メディアミルを用いて行わなくてもよい。つまり、コア粒子を分散媒中へ添加して軽く混合させた状態で、分散液中にアルミニウム源化合物と酸性物質を同時に添加してもよい。
C法においても、A法やB法で採用した温度範囲での分散液の加熱を、エージングの完了まで継続することが好ましい。
また、被覆粒子と非被覆粒子とは、その形状や粒径が同じであってもよく、あるいは異なっていてもよい。
同様の観点から、被覆粒子、非被覆粒子及び硫酸バリウムの粒子の合計100質量部に対する硫酸バリウムの粒子の割合は、0.2質量部以上4.0質量部以下であることが好ましく、3.5質量部以下であることが更に好ましく、3.0質量部以下であることが一層好ましい。
樹脂組成物層は、金属箔の少なくとも一面に設けることができ、樹脂付き金属箔の用途によっては金属箔の各面に設けることもできる。
また金属張積層シートにおける第1の金属箔と第2の金属箔とは、それらの厚みが同じであってもよく、あるいは異なっていてもよい。金属箔の厚みは、上述した樹脂付き金属箔と同様とすることができる。
また、上述した樹脂付き金属箔における金属箔においては、樹脂組成物層と対向していない側の面に、剥離層を介してキャリア箔を配置してもよい。
粒径D50が0.1μmであり且つペロブスカイト型結晶構造を有する球状のチタン酸バリウム粒子80kgと、700kgの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
この分散液を60℃に加熱した。この分散液に水酸化ナトリウム水溶液を加え、分散液のpHを約12とした。次いで3050gのアルミン酸ナトリウムを溶解させた水溶液を分散液に徐々に加えた。
次いで分散液に硫酸水溶液を加え、分散液のpHを約5まで低下させて、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。
エージングを30分間行った後に、水相の電気伝導度が100μS/cm以下になるまで粒子の水洗を行い、その後、150℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。また、副産物として、走査型電子顕微鏡観察による平均粒径が0.8μmの硫酸バリウムを得た。得られた被覆粒子に対して、H-NMR、Al-NMR、AES及びXPSの評価を組み合わせることによって、アルミニウムの水和酸化物の生成の確認を行った(以降の製造例についても同じ。)。
粒径D50が0.1μmであり且つペロブスカイト型結晶構造を有する球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
この分散液を60℃に加熱した。この分散液に塩酸水溶液及びアルミン酸ナトリウム水溶液を同時に且つ徐々に加え、分散液のpHを約5とし、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。アルミン酸ナトリウムの添加量は、27gとした。
エージングを30分間行った後に、水相の電気伝導度が100μS/cm以下になるまで粒子の水洗を行い、その後、150℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。
粒径D50が0.1μmである球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
この分散液を60℃に加熱した。この分散液に塩酸水溶液及びアルミン酸ナトリウム水溶液を同時に且つ徐々に加え、分散液のpHを約5とし、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。アルミン酸ナトリウムの添加量は、27gとした。
エージングを30分間行った後に、水酸化ナトリウム水溶液を分散液に加えて分散液のpHを約7まで上昇させた。次いで水相の電気伝導度が100μS/cm以下になるまで粒子の水洗を行い、その後、150℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。
粒径D50が0.1μmである球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合して分散液を得た。ビーズミルによる分散は行わなかったこと以外は、製造例2と同様にして目的とする被覆粒子を得た。
粒径D50が0.1μmである球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を湿式解砕するとともに水中に分散させて分散液を得た。
アルミン酸ナトリウムの添加量を19gとしたこと以外は、製造例2と同様にして目的とする被覆粒子を得た。
粒径D50が0.1μmである球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
アルミン酸ナトリウムの添加量を68gとしたこと以外は、製造例2と同様にして目的とする被覆粒子を得た。
粒径D50が0.1μmである球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
この分散液を60℃に加熱した。この分散液に水酸化ナトリウム水溶液を加え、分散液のpHを約12とした。次いでアルミン酸ナトリウム水溶液を分散液に且つ徐々に加えた。アルミン酸ナトリウムの添加量は、27gとした。
次いで分散液に塩酸水溶液を加え、分散液のpHを約5まで低下させて、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。
エージングを30分間行った後に、水相の電気伝導度が100μS/cm以下になるまで粒子の水洗を行い、その後、150℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。
粒径D50が0.1μmである球状のチタン酸バリウム粒子200gと、2000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
この分散液を60℃に加熱した。この分散液に水酸化ナトリウム水溶液及び硝酸アルミニウム水溶液を同時に且つ徐々に加え、分散液のpHを約5とし、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。硝酸アルミニウムの添加量は、30gとした。
エージングを30分間行った後に、水相の電気伝導度が100μS/cm以下になるまで粒子の水洗を行い、その後、150℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。
本製造例では乾式法によって被覆粒子を製造した。
チタン酸バリウム粒子100gをミキサー(大阪ケミカル製のフォースミル)によって解砕して粒径D50が0.15μmである球状の粒子とした。
解砕後のチタン酸バリウム粒子と、アルミナゾル(川研ファインケミカル製のアルミナゾル-10A)と、2-プロパノールとをミキサー(大阪ケミカル製のフォースミル)によって充填率40%、湿度40%RHの条件の下で混合して、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。アルミナゾルの使用量は、20gとした。2-プロパノールの使用量は、2gとした。
その後、110℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。
本製造例は、特許文献2(特開2020-57667号公報)の実施例に相当するものである。
ペロブスカイト型結晶構造を有する球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
この分散液を70℃に加熱した。このときの分散液のpHは約9であった。この分散液にアルミン酸ナトリウム水溶液を分散液に加えた。添加量は、106gとした。この時点で、アルミニウムを含む水不溶性化合物の析出が観察された。このときの分散液のpHは約10であった。次いで分散液に水酸化ナトリウム水溶液を加え、分散液のpHを約11とした。
次いで分散液に塩酸水溶液を加え、分散液のpHを約7まで低下させて、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。
エージングを30分間行った後に、水相の電気伝導度が100μS/cm以下になるまで粒子の水洗を行い、その後、150℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。
本製造例は、被覆層の付着量を製造例1よりも大幅に増やした例である。
ペロブスカイト型結晶構造を有する球状のチタン酸バリウム粒子700gと、7000gの水とを混合し、ビーズミルによってチタン酸バリウム粒子を水中に分散させて分散液を得た。
この分散液を60℃に加熱した。この分散液に水酸化ナトリウム水溶液を加え、分散液のpHを約12とした。次いでアルミン酸ナトリウム水溶液を分散液に加えた。アルミン酸ナトリウムの添加量は、106gとした。
次いで分散液に塩酸水溶液を加え、分散液のpHを約7まで低下させて、チタン酸バリウム粒子の表面にアルミニウムの水和酸化物の被覆層を形成した。
エージングを30分間行った後に、水相の電気伝導度が100μS/cm以下になるまで粒子の水洗を行い、その後、150℃で粒子を乾燥させて、目的とする被覆粒子を得た。
粒径D50が0.2μmである球状のチタン酸バリウム粒子を用いたこと以外は、製造例7と同様にして目的とする被覆粒子を得た。
アルミン酸ナトリウムの添加量を20gとしたこと以外は、製造例12と同様にして目的とする被覆粒子を得た。
アルミン酸ナトリウムの添加量を13gとしたこと以外は、製造例12と同様にして目的とする被覆粒子を得た。
アルミン酸ナトリウムの添加量を7gとしたこと以外は、製造例12と同様にして目的とする被覆粒子を得た。
製造例1ないし15で得られた被覆粒子(製造例1については硫酸バリウムも含む)及び分散剤成分をシクロペンタノン溶剤に混合し、分散機でスラリー化した。
スラリー化が確認できた後、以下の表1に示す配合例1の樹脂成分のワニスを混練して、塗布液を調製した。塗布液における被覆粒子、他の粒子及び樹脂成分との質量比は表2に示すとおりとした。
得られた塗布液を、銅箔(三井金属鉱業株式会社製、厚さ18μm、表面粗さRzjis=0.5μm)に乾燥後の樹脂組成物層の厚さが1.5μm程度となるようにバーコーターを用いて塗工し、その後160℃に加熱したオーブンにて3分間乾燥させ、樹脂組成物を半硬化状態とした。こうして樹脂付き銅箔を得た。
2枚の樹脂付き銅箔を、該銅箔における樹脂面が互いに向かい合うように積層し、圧力40kgf/cm2、200℃で90分間の真空プレスを行い、樹脂組成物を硬化状態とした。こうして硬化された樹脂組成物を誘電体層として含む銅張積層シートを得た。得られた銅張積層シートにおける樹脂組成物層の厚みを測定した結果を表2に示す。
製造例1で得られた被覆粒子と、ペロブスカイト型結晶構造を有し被覆層を有さない球状のチタン酸バリウム粒子(D50:0.3μm)及び分散剤成分をシクロペンタノン溶剤に混合し、分散機でスラリー化した。
スラリー化が確認できた後、表1に示す配合例1の樹脂成分のワニスを混練して、塗布液を調製した。塗布液における被覆粒子と、他の粒子と、樹脂成分との質量比は表2に示すとおりとした。
これ以外は実施例1と同様にして銅張積層シートを得た。得られた銅張積層シートにおける樹脂組成物層の厚みを表2に示す。
製造例1で得られた被覆粒子と、ペロブスカイト型結晶構造を有し被覆層を有さない球状のチタン酸バリウム粒子(D50:0.2μm)及び分散剤成分をシクロペンタノン溶剤に混合し、分散機でスラリー化した。
スラリー化が確認できた後、表1に示す配合例1の樹脂成分のワニスを混練して、塗布液を調製した。塗布液における被覆粒子と、他の粒子と、樹脂成分との質量比は表2に示すとおりとした。
これ以外は実施例1と同様にして両面銅張積層シートを得た。得られた銅張積層シートにおける樹脂組成物層の厚みを表2に示す。
チタン酸バリウム粒子(D50:0.1μm)及び分散剤成分をシクロペンタノン溶剤に混合し、分散機でスラリー化した。
スラリー化が確認できた後、表1に示す配合例1の樹脂成分のワニスを混練して、塗布液を調製した。塗布液におけるチタン酸バリウム粒子と樹脂成分との質量比は表2に示すとおりとした。
これ以外は実施例1と同様にして両面銅張積層シートを得た。得られた銅張積層シートにおける樹脂組成物層の厚みを表2に示す。
製造例1で得られた被覆粒子及び分散剤成分をシクロペンタノン溶剤に混合し、分散機でスラリー化した。
スラリー化が確認できた後、表1に示す配合例1ないし配合例6の樹脂成分のワニスを混練して、塗布液を調製した。塗布液における被覆粒子と樹脂成分との質量比は表3に示すとおりとした。
これ以外は実施例1と同様にして両面銅張積層シートを得た。得られた銅張積層シートにおける樹脂組成物層の厚みを表3に示す。
実施例及び比較例で得られた銅張積層シート(すなわち、製造例1ないし製造例15で得られた粒子を用いて得られた銅張積層シート、並びに、実施例14及び実施例15で得られた銅張積層シート)について、樹脂組成物層に含まれる粒子の粒径D50をレーザー回折散乱式粒度分布測定装置によって求めた。その結果を以下の表4に示す。測定に際しては、各実施例及び比較例で用いたスラリーを使用した。
実施例及び比較例で得られた銅張積層シートについて、銅箔を剥離した後、樹脂組成物層に含まれる粒子に占めるアルミニウム元素の質量割合をICP発光分光分析法によって測定した。また、樹脂組成物層についてアルバック・ファイ株式会社製のPHIQuantesを用いてXPS測定を行い原子比Al/(M+Al)を測定した。それらの結果を表4に示す。XPS測定及び解析の詳細は以下のとおりである。
〔条件〕
・励起X線:単色化Al-Kα線(1486.7eV)
・出力:50W
・加速電圧:15kV
・X線照射径:200μmφ
・X線走査面積:1000μm×300μm
・検出角度:45°
・パスエネルギー:26.0eV
・エネルギーステップ:0.1eV/step
・測定元素:C:1s,O:1s,Al:2p,Ti:2p,Ba:3d 5/2
〔解析〕
データ解析ソフトウェア(アルバック・ファイ社製「マルチパックVer9.9」)を用いてXPSデータの解析を行った。バックグラウンドモードはShirleyを使用した。
実施例及び比較例で得られた銅張積層シートについて、以下の方法で成形性を評価した。
また、実施例及び比較例で得られた銅張積層シートについて、以下の方法で樹脂組成物層の厚み、耐電圧、漏れ電流、静電容量、及び銅箔と樹脂組成物層との剥離強度(回路密着性)を測定した。それらの結果を表2及び表3に示す。
銅張積層シートを幅8mm、長さ5mm程度のサイズに切り出した後、全自動万能型回転ミクロトーム(Leica Biosystems、RM2265)を用いて厚さ方向に切り出して断面を露出させた。その断面を光学顕微鏡(Leica Microsystems、Leica DM LM)で観察し、樹脂組成物層の貼り合わせ界面について、接着不良の有無を確認した。良否の判定は、以下の基準に従い評価した。結果を表2及び表3に示す。
・良好:樹脂組成物層の貼り合わせ界面に接着不良が発生していない。(成形性に問題なし)
・不良:樹脂組成物層の貼り合わせ界面に接着不良が発生している。(成形不良)
銅張積層シートの成形性の評価と同様の手順で露出させた断面を光学顕微鏡(Leica Microsystems、Leica DM LM)で観察し、樹脂組成物層の厚みを任意の5点で測定し、それらの平均値を算出した。結果を表2及び表3に示す。
銅張積層シートの片面にエッチングを施して直径0.5インチ(12.6mm)の円形の回路を作製し測定用サンプルを得た。この測定用サンプルを対象として、絶縁抵抗測定器(日置電機株式会社製、超絶縁計SM7110)によって昇圧速度167V/sec条件下での絶縁破壊電圧を測定した。この測定はIPC-TM-650 2.5.6.2aに準拠して行った。
前記で測定した絶縁破壊電圧を、測定対象の樹脂組成物層の厚みで割り、単位厚み当たりの耐電圧を算出した。結果を表2及び表3に示す。
銅張積層シートの片面にエッチングを施して直径0.5インチ(12.6mm)の円形の回路を作製し測定用サンプルを得た。この測定用サンプルを対象として、絶縁抵抗測定器(日置電機株式会社製、超絶縁計SM7110)によって印加電圧50Vにおける漏れ電流値を測定した。この測定はIPC-TM-650 2.5.6.2aに準拠して行った。結果を表2及び表3に示す。
両面銅張積層シートの片面にエッチングを施して直径0.5インチ(12.6mm)の円形の回路を作製し測定用サンプルを得た。この測定用サンプルを対象として、LCRメーター(日置電機株式会社製、LCRハイテスタ3532-50)によって周波数1kHzにおける静電容量を測定した。この測定はIPC-TM-650 2.5.2に準拠して行った。
前記で測定した静電容量を、測定対象の樹脂組成物層の厚みで割り、厚み3μm相当の静電容量を算出した。結果を表2及び表3に示す。
銅張積層シートの片面にエッチングを施して3mm幅の直線状の回路を作製し測定用サンプルを得た。この測定用サンプルを対象として、オートグラフによって引き剥がし速度50mm/分で回路を引き剥がし、その剥離強度を測定した。この測定はIPC-TM-650 2.4.8に準拠して行った。この測定値が0.3kN/m以上であれば、実用上問題なく使用できると判断した。結果を表2及び表3に示す。
製造例1及び製造例10で得られた被覆粒子について、透過型電子顕微鏡観察及び元素マッピングを行った。その結果を図1及び図2に示す。
製造例6及び製造例1で得られた被覆粒子について、XAFS(X線吸収微細構造解析)による分析を行った。結果を図3に示す。同図中、1は製造例6のスペクトルを示し、2は製造例1のスペクトルを示す。
条件の詳細は以下のとおりである。
〔条件〕
・測定施設:あいちシンクロトロン光センター
・ビームライン:BL1N2
・試料保持方法:インジウム膜上に塗り付け
・測定エネルギー:1500~2000 eV
・測定時間:51分
・検出方法:部分蛍光収量法
・検出器と試料の配置:試料面垂直方向から22.5°でX線を入射し、X線は90°で検出
・バックグラウンド除外範囲:1500~2000 eV
一方、図2示す結果から明らかなとおり、製造例10で得られた被覆粒子においては、チタン酸バリウムからなるコア部の表面に、凝集粒子が付着していることが確認される。この理由は、アルミン酸ナトリウムを分散液に添加するときの分散液のpHが十分に高くなかったこと、及び分散液の加熱温度が高かったことに起因していると考えられる。また、前記膜状部位の分析と同様の手法を用いて、前記凝集粒子はアルミニウムの水和酸化物を含むことが確認された。
なお図に示していないが、製造例2ないし9及び製造例12ないし15で得られた被覆粒子についても、チタン酸バリウムからなるコア部の表面にアルミニウムの水和酸化物を含む膜状部位が形成されていることを本発明者は確認している。
また、図3に示す結果から明らかなとおり、製造例6及び製造例1で得られた被覆粒子のXAFSのスペクトルにおいて1567eV~1577eVの間に2つのピーク(すなわちピークAとB)が観察された。これをアルミ二ウム化合物に関するリファレンスJ. Synchrotron Rad. (1999) 6. 621-623等と照合すると、6配位構造のスペクトルと類似していることから、膜状部位のアルミ二ウム化合物は6配位構造を有していると推測される。
Claims (16)
- 金属酸化物を含むコア部と、該コア部の表面に配置されたアルミニウムの水和酸化物を含む被覆層とを有する被覆粒子、及び樹脂を含有する樹脂組成物であって、
前記金属酸化物は、MxOy(MはBa、Ti、Sr、Pb、Zr、La、Ta、Ca及びBiからなる群から選択される少なくとも1種の元素を表す。x及びyは、金属元素Mの価数に応じて化学量論比から決定される数を表す。)で表されるものであり、
前記樹脂組成物に含まれる粒子をXPS分析したときに原子比Al/(M+Al)が0.05以上0.7以下であり、
前記樹脂組成物に含まれるすべて粒子の質量に対するアルミニウム元素の占める割合が0.2質量%以上3.0質量%以下である、樹脂組成物。 - 前記被覆粒子は、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積50容量%における体積累積粒径D50が0.01μm以上3.0μm以下である、請求項1に記載の樹脂組成物。
- M元素が、Ba及びSrのうちの少なくとも1種と、Tiとを少なくとも含む、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- 前記金属酸化物がペロブスカイト型結晶構造を有する化合物からなる、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 前記被覆層が、前記コア部の表面の全域にわたって連続して膜状部位を形成するように存在している、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 前記樹脂組成物の固形分100質量部に対して、前記被覆粒子を30質量部以上90質量部以下含む、請求項1ないし5のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 前記樹脂が、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、活性エステル樹脂、フェノール樹脂、及びジアミン化合物からなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 更に硫酸バリウムの粒子を含む、請求項1ないし7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- フィルム状の形態を有し、厚みが15μm以下である、請求項1ないし8のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 金属箔と、該金属箔の少なくとも一面に設けられた請求項1ないし9のいずれか一項に記載の樹脂組成物からなる層とを備えた樹脂付き金属箔。
- 前記金属箔が銅箔である、請求項10に記載の樹脂付き金属箔。
- 第1の金属箔と、第2の金属箔と、これら2枚の金属箔に挟持されてなる樹脂組成物層とからなり、
前記樹脂組成物層が、請求項1ないし9のいずれか一項に記載の樹脂組成物の硬化体からなる、金属張積層シート。 - 2枚の前記金属箔間に直流電圧を印加したときの樹脂組成物層の単位厚み当たりの耐電圧が50V/μm以上である、請求項12に記載の金属張積層シート。
- 2枚の前記金属箔間に50Vの直流電圧を印加したときの漏れ電流が150μA/cm2以下である、請求項12又は13に記載の金属張積層シート。
- 前記金属箔と前記樹脂組成物層との剥離強度が0.3kN/m以上である、請求項12ないし14のいずれか一項に記載の金属張積層シート。
- 請求項12ないし15のいずれか一項に記載の金属張積層シートを有するキャパシタ素子。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020164175 | 2020-09-29 | ||
| JP2020164175 | 2020-09-29 | ||
| JP2020208499 | 2020-12-16 | ||
| JP2020208499 | 2020-12-16 | ||
| PCT/JP2021/033756 WO2022070889A1 (ja) | 2020-09-29 | 2021-09-14 | 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、金属張積層シート及びキャパシタ素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2022070889A1 JPWO2022070889A1 (ja) | 2022-04-07 |
| JP7730830B2 true JP7730830B2 (ja) | 2025-08-28 |
Family
ID=80951446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022553782A Active JP7730830B2 (ja) | 2020-09-29 | 2021-09-14 | 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、金属張積層シート及びキャパシタ素子 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12139592B2 (ja) |
| JP (1) | JP7730830B2 (ja) |
| KR (1) | KR20230079032A (ja) |
| CN (1) | CN116056891B (ja) |
| WO (1) | WO2022070889A1 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007246351A (ja) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Tayca Corp | 表面処理された酸化チタンゾルおよびその製造法 |
| JP2010150087A (ja) | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Sakai Chem Ind Co Ltd | 二酸化チタン顔料とその製造方法 |
| WO2013187408A1 (ja) | 2012-06-13 | 2013-12-19 | 堺化学工業株式会社 | グラビアインキ用複合白色顔料及びグラビアインキ |
| JP2015143297A (ja) | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 日揮触媒化成株式会社 | コアシェル型酸化物微粒子の分散液、その製造方法、およびその用途 |
| JP2019178307A (ja) | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および、電子部品 |
| JP2020057667A (ja) | 2018-09-28 | 2020-04-09 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および、電子部品 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69014027T2 (de) * | 1989-08-30 | 1995-06-01 | Nippon Electric Co | Dünnfilmkondensatoren und deren Herstellungsverfahren. |
| JP2002367856A (ja) | 2001-06-06 | 2002-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コンデンサおよびその製造方法 |
| JP2007180440A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
| JP6017675B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2016-11-02 | 日本軽金属株式会社 | 金属樹脂接合体及びその製造方法 |
| US9947964B2 (en) * | 2014-05-02 | 2018-04-17 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Battery, battery pack, electronic equipment, electric vehicle, power storage device, and power system |
-
2021
- 2021-09-14 CN CN202180062035.6A patent/CN116056891B/zh active Active
- 2021-09-14 US US18/025,831 patent/US12139592B2/en active Active
- 2021-09-14 KR KR1020237008734A patent/KR20230079032A/ko active Pending
- 2021-09-14 JP JP2022553782A patent/JP7730830B2/ja active Active
- 2021-09-14 WO PCT/JP2021/033756 patent/WO2022070889A1/ja not_active Ceased
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007246351A (ja) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Tayca Corp | 表面処理された酸化チタンゾルおよびその製造法 |
| JP2010150087A (ja) | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Sakai Chem Ind Co Ltd | 二酸化チタン顔料とその製造方法 |
| WO2013187408A1 (ja) | 2012-06-13 | 2013-12-19 | 堺化学工業株式会社 | グラビアインキ用複合白色顔料及びグラビアインキ |
| JP2015143297A (ja) | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 日揮触媒化成株式会社 | コアシェル型酸化物微粒子の分散液、その製造方法、およびその用途 |
| JP2019178307A (ja) | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および、電子部品 |
| JP2020057667A (ja) | 2018-09-28 | 2020-04-09 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および、電子部品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2022070889A1 (ja) | 2022-04-07 |
| TW202219995A (zh) | 2022-05-16 |
| JPWO2022070889A1 (ja) | 2022-04-07 |
| CN116056891A (zh) | 2023-05-02 |
| US20230365784A1 (en) | 2023-11-16 |
| CN116056891B (zh) | 2025-05-30 |
| KR20230079032A (ko) | 2023-06-05 |
| US12139592B2 (en) | 2024-11-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100357496C (zh) | 金属材料表面形成聚酰亚胺覆盖膜的方法和电容器层形成用包铜层压板的制法及用该法制得的铜压板 | |
| TWI274770B (en) | Dielectric filler-contained resin for forming built-in capacitor layer for printed wiring board, double-sided copper clad laminate forming an dielectric layer by use of the dielectric filler-contained resin and method for manufacturing the double-sided.. | |
| Khodaparast et al. | Influence of dispersion states on the performance of polymer-based nanocomposites | |
| JP5636224B2 (ja) | フィラー含有樹脂層付金属箔及びフィラー含有樹脂層付金属箔の製造方法 | |
| JP6517012B2 (ja) | 誘電体セラミックス粒子の製造方法および誘電体セラミックス | |
| TWI286331B (en) | Method production of peeling layer paste and method of production of a multilayer type electronic device | |
| JP2017066269A (ja) | 導電膜形成用塗料および導電膜の製造方法 | |
| JP7730830B2 (ja) | 樹脂組成物、樹脂付き金属箔、金属張積層シート及びキャパシタ素子 | |
| JP2018172242A (ja) | チタン酸アルカリ土類金属粒子を含むゾルとその製造方法、及び、これを含むペースト | |
| JP6151017B2 (ja) | ニッケル超微粉、導電ペーストおよびニッケル超微粉の製造方法 | |
| TWI914411B (zh) | 樹脂組合物、附有樹脂之金屬箔、金屬箔積層片以及電容元件 | |
| TW200422160A (en) | Roll of laminate for capacitor layer for withstand voltage inspection and method of withstand voltage measurement using this roll of laminate for capacitor layer for withstand voltage inspection | |
| WO2016147509A1 (ja) | 導電膜およびその製造方法 | |
| JP2005216634A (ja) | 複合導電性粒子粉末、該複合導電性粒子粉末を含む導電性塗料並びに積層セラミックコンデンサ | |
| TWI734769B (zh) | 導體形成用糊及積層陶瓷電容器 | |
| JP4930149B2 (ja) | 積層型電子部品の製造方法 | |
| JP5114882B2 (ja) | 樹脂セラミック複合材料およびその製造方法、ならびに複合材料シート、フィルムコンデンサおよび積層コンデンサ | |
| JP5184333B2 (ja) | 誘電体セラミックス材料の製造方法 | |
| JP2007204315A (ja) | セラミック粉末の製造方法、セラミック粉末、および積層セラミック電子部品 | |
| JP7010580B2 (ja) | 誘電体複合材料及びその製造方法 | |
| JP4780272B2 (ja) | 複合導電性粒子粉末、該複合導電性粒子粉末を含む導電性塗料並びに積層セラミックコンデンサ | |
| JP2018195405A (ja) | 内部電極用導電性ペーストの製造方法および電子部品の製造方法 | |
| KR20050016638A (ko) | 금속재 표면에의 유전체 필러 함유 폴리이미드 피막의형성방법과 프린트 배선판용의 캐패시터층 형성용의 구리클래드 적층판의 제조방법 및 그 제조방법으로 얻어진구리 클래드 적층판 | |
| JP2010155916A (ja) | プリプレグ及びその製造方法、積層板、プリント配線板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240611 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250422 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250612 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250805 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250818 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7730830 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |