JP7734061B2 - Chalkboard - Google Patents
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Description
本発明は、チョークボードに関する。 The present invention relates to a chalkboard.
表面に琺瑯層が形成された黒板(以下、「チョークボード」ともいう)が知られている。チョークボードは、表面にチョークによる筆記及びチョークにより筆記された文字等が消去可能に形成されているとともに、スライド、OHPなどの各種プロジェクタを利用して、予め、用意した資料を映写するスクリーンとしても使用される。優れた黒板機能及び優れたスクリーン機能を兼備する琺瑯製のチョークボードが広く流通している(例えば、特許文献1参照)。 Blackboards (hereinafter also referred to as "chalkboards") with an enamel layer formed on their surface are known. Chalkboards have a surface on which chalk writing and chalk-written letters can be erased, and they can also be used as screens for projecting prepared materials using various projectors such as slides and overhead projectors. Enameled chalkboards that combine excellent blackboard and screen functions are widely available (see, for example, Patent Document 1).
このようなチョークボードは、学校等の教育施設における授業や公共施設の集会や会議等において表示媒体として広く使用されている。そのため、チョークボードは、JIS S 6007に規定されているように、チョ-ク(白墨)によりボードへの筆記、描画等(以下、単に「板書」ともいう)し易くして、ボード上にチョークにより板書された線、文字、図形等(以下、単に「板書物」ともいう)を鮮明に残すために、表面を適正に粗くするようになっている。 Such chalkboards are widely used as display media in classes at schools and other educational facilities, as well as in assemblies and meetings at public facilities. For this reason, as specified in JIS S 6007, chalkboards have an appropriately rough surface to make it easy to write or draw on the board with chalk (hereinafter simply referred to as "chalkboard writing") and to ensure that lines, letters, figures, etc. written on the board with chalk (hereinafter simply referred to as "chalkboard writing") remain clearly visible.
ところで、チョークボードの最表面が所定の範囲の表面粗さを有していることにより、チョークボードの凹部にチョークの粉末が堆積することになる。チョークの粉末が凹部に堆積すると、イレーザによる板書物の消去性が低下してチョークボードの著しい汚染に繋がることになる。 However, because the outermost surface of a chalkboard has a surface roughness within a certain range, chalk powder accumulates in the recesses of the chalkboard. When chalk powder accumulates in the recesses, the ability of an eraser to erase writing on the board decreases, leading to significant contamination of the chalkboard.
そこで、本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、チョークによる板書物の高い視認性を維持しつつ、板書物の高い消去性を可能にする技術を提供することを目的とする。 The present invention was conceived in consideration of the above-mentioned problems, and aims to provide technology that enables chalk writing on a blackboard to be easily erased while maintaining high visibility.
上記課題を解決するために本発明に係るチョークボードは、金属基板上に、少なくとも一層の琺瑯層を有するチョークボードであって、前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が以下の条件1及び2のうち少なくとも1つの条件及び条件3を満たすことを特徴とする。
条件1:前記表面琺瑯層の界面の展開面積率(Sdr)が30%以下である。
条件2:前記表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均(Spc)が4000μm-1以下である。
条件3:前記表面琺瑯層の75度鏡面光沢度(Gs(75°))が17%以上である。
In order to solve the above problems, the chalkboard of the present invention is a chalkboard having at least one enamel layer on a metal substrate, and is characterized in that the outermost surface enamel layer of the enamel layers satisfies at least one of the following conditions 1 and 2, and condition 3:
Condition 1: The developed area ratio (Sdr) of the interface of the surface enamel layer is 30% or less.
Condition 2: The average principal curvature (Spc) of the peaks of the surface enamel layer is 4000 μm −1 or less.
Condition 3: The 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer is 17% or more.
本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記表面琺瑯層の界面の展開面積率(Sdr)が20%以下であることが好ましい。 In a chalkboard according to one aspect of the present invention, it is preferable that the developed surface area ratio (Sdr) of the interface of the surface enamel layer is 20% or less.
本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均(Spc)が3000μm-1以下であることが好ましい。 In the chalkboard according to one aspect of the present invention, it is preferable that the average principal curvature (Spc) of the peaks of the surface enamel layer is 3000 μm −1 or less.
本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記表面琺瑯層の75度鏡面光沢度(Gs(75°))が20%以上であることが好ましい。 In one aspect of the chalkboard of the present invention, it is preferable that the 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer be 20% or more.
本発明の一態様に係るチョークボードにおいて、前記条件1、前記条件2及び前記条件3を満たすことが好ましい。 It is preferable that the chalkboard according to one aspect of the present invention satisfies conditions 1, 2, and 3.
本発明により、チョークによる板書物の高い視認性が維持され、かつ板書物の高い消去性が可能になる。 This invention maintains high visibility of chalk writing on the board while also enabling high erasability of the writing.
本発明に係るチョークボードは、板書機能及びプロジェクタからの映像の映写機能を兼ね備える板書・映写兼用の黒板である。チョークボードは、金属基板上に、少なくとも一層の琺瑯層を有するチョークボードである。チョークボードは、琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が以下の条件1~3のうち少なくとも1つの条件を満たすことを特徴とする。
条件1:表面琺瑯層の界面の展開面積率率(Sdr)が30%以下である。
条件2:表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均(Spc)が4000μm-1以下である。
条件3:表面琺瑯層の75度鏡面光沢度(Gs(75°))が17%以上である。
以下に本発明に係るチョークボードについて具体的に説明する。
The chalkboard according to the present invention is a dual-purpose blackboard that combines the functions of writing on a board and projecting an image from a projector. The chalkboard has at least one enamel layer on a metal substrate. The chalkboard is characterized in that the outermost surface enamel layer of the enamel layers satisfies at least one of the following conditions 1 to 3:
Condition 1: The developed area ratio (Sdr) of the interface of the surface enamel layer is 30% or less.
Condition 2: The average principal curvature (Spc) of the peaks of the surface enamel layer is 4000 μm −1 or less.
Condition 3: The 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer is 17% or more.
The chalkboard according to the present invention will be specifically described below.
本発明に係るチョークボードは、金属基板上に少なくとも一層の琺瑯層を有する黒板である。本発明では、使用する金属基板の種類は、特に限定されるものではないが、冷延鋼板とすることが好ましい。金属基板として使用する冷延鋼板には、金属基板と釉薬との密着性を向上させるために、Niめっきを施すことが好ましい。なお、冷延鋼板としては低炭素鋼板、ステンレス鋼板等が例示される。低炭素鋼板のC含有量は、質量%において0.0200%以下とすることが好ましく、より好ましくは0.0100%以下、さらに好ましくは0.0050%以下である。 The chalkboard according to the present invention is a blackboard having at least one enamel layer on a metal substrate. In the present invention, the type of metal substrate used is not particularly limited, but a cold-rolled steel sheet is preferred. The cold-rolled steel sheet used as the metal substrate is preferably Ni-plated to improve adhesion between the metal substrate and the glaze. Examples of cold-rolled steel sheets include low-carbon steel sheets and stainless steel sheets. The C content of the low-carbon steel sheet is preferably 0.0200% or less, by mass, more preferably 0.0100% or less, and even more preferably 0.0050% or less.
金属基板は、アルミニウムめっき鋼板、又はZn-Al合金めっき鋼板であってよい。Zn-Al合金めっき鋼板としては、Al含有量が4~70質量%、残部Zn及び不可避的不純物からなるめっき層を有するめっき鋼板が例示できる。なお、めっき層には、めっき皮膜特性向上のための添加物質を含有してもよい。 The metal substrate may be an aluminum-plated steel sheet or a Zn-Al alloy-plated steel sheet. An example of a Zn-Al alloy-plated steel sheet is a plated steel sheet having a plating layer with an Al content of 4 to 70 mass%, the remainder being Zn and unavoidable impurities. The plating layer may also contain additives to improve the properties of the plating film.
上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるISO 25178に規定される界面の展開面積率(Sdr)の上限は、例えば、30%であり、好ましくは25%であり、より好ましくは20%であり、さらに好ましくは15%である。さらに、界面の展開面積率(Sdr)の下限は、例えば、2%であり、好ましくは5%であり、さらに好ましくは10%である。展開面積率(Sdr)は、金属基板を平面視した面積に対して、実際の界面の面積がどの程度大きくなっているかを示す指標である。 Of the enamel layers formed on the metal substrate, the upper limit of the developed interface area ratio (Sdr) specified in ISO 25178 for the outermost surface enamel layer is, for example, 30%, preferably 25%, more preferably 20%, and even more preferably 15%. Furthermore, the lower limit of the developed interface area ratio (Sdr) is, for example, 2%, preferably 5%, and even more preferably 10%. The developed interface area ratio (Sdr) is an index that indicates how much the actual interface area is larger than the area of the metal substrate when viewed in plan.
展開面積率(Sdr)は、微小な凹凸が多い場合や凹凸の傾斜が急な場合に大きくなる傾向がある。上記上限及び下限の範囲内に展開面積率(Sdr)を収めることにより、板書時にチョークがチョークボードの山頂点へ引っかかる抵抗を少なくすることができ、板書不良を抑制して板書物の視認性を高めるとともに、板書時にチョーク粉末が凹部に堆積することを抑制し、板書物の消去性を高めることができる。 The developed surface area ratio (Sdr) tends to be larger when there are many small irregularities or when the slope of the irregularities is steep. By keeping the developed surface area ratio (Sdr) within the above upper and lower limits, the resistance of the chalk to getting caught on the peaks of the chalkboard when writing can be reduced, preventing poor writing and improving the visibility of the writing, while also preventing chalk powder from accumulating in the recesses when writing, improving the erasability of the writing.
上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるISO 25178に規定される山頂点の主曲率の平均(Spc)の上限は、例えば、4000μm-1であり、好ましくは3500μm-1であり、さらに好ましくは3000μm-1である。さらに、表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均(Spc)の下限は、例えば、500μm-1であり、好ましくは1000μm-1であり、さらに好ましくは1500μm-1である。主曲率の平均(Spc)は、突起の頂点の曲率を表す指標である。主曲率の平均(Spc)の値が大きいほど頂点が尖っており、値が小さいほど頂点が滑らかであることを示す。 Of the enamel layers formed on the metal substrate, the upper limit of the mean principal curvature of the peaks (Spc) specified in ISO 25178 for the outermost surface enamel layer is, for example, 4000 μm −1 , preferably 3500 μm −1 , and more preferably 3000 μm −1 . Furthermore, the lower limit of the mean principal curvature of the peaks (Spc) of the surface enamel layer is, for example, 500 μm −1 , preferably 1000 μm −1 , and more preferably 1500 μm −1 . The mean principal curvature (Spc) is an index representing the curvature of the peaks of the protrusions. The larger the value of the mean principal curvature (Spc), the sharper the peaks, and the smaller the value, the smoother the peaks.
表面琺瑯層における山頂点の主曲率の平均(Spc)が、上記上限及び下限の範囲内にあれば、板書時にチョークがチョークボードの山頂点へ引っかかる抵抗を少なくすることができる。これにより、板書不良を抑制して板書物の視認性を高めるとともに、板書時にチョーク粉末が過度に山頂部に付着することを抑制し、板書物の消去性を高めることができる。 If the average principal curvature (Spc) of the peaks of the surface enamel layer is within the above upper and lower limits, the resistance of the chalk to the peaks of the chalkboard when writing can be reduced. This reduces writing defects and improves the visibility of writing, while also preventing excessive chalk powder from adhering to the peaks when writing, improving the erasability of writing.
なお、界面の展開面積率(Sdr)及び山頂点の主曲率の平均(Spc)は、粒度分布の目安として、乾燥残渣(後述する仕上げ用の琺瑯上釉薬100CCを325MESHの篩にかけて残渣を乾燥させたもの)の重量範囲が0.5g~2.5gとし、好ましくは0.8g~1.7g、より好ましくは1.0g~1.5gとなることにより、適正範囲に調整することができる。また、主曲率の平均(Spc)の算出の際、用いるソフトウエアにより負の値となることがあるが、上記の範囲は絶対値として当てはめればよい。 The developed surface area ratio (Sdr) of the interface and the average principal curvature of the peaks (Spc) can be adjusted to an appropriate range by setting the weight of the dried residue (100 cc of the finishing enamel overglaze described below, passed through a 325 MESH sieve and dried) to 0.5 g to 2.5 g, preferably 0.8 g to 1.7 g, and more preferably 1.0 g to 1.5 g, as a guideline for particle size distribution. Furthermore, when calculating the average principal curvature (Spc), negative values may be obtained depending on the software used, but the above ranges can be applied as absolute values.
上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるISO25178に規定される表面性状に関する、表面の平均面に対する各点の高さの差の絶対値の平均を表した算術平均高さ(Sa)の上限は、例えば、3.000μmであり、好ましくは2.500μmであり、さらに好ましくは2.350μmである。さらに、算術平均高さ(Sa)の下限は、例えば、1.000μmであり、好ましくは1.250μmであり、より好ましくは1.500μmである。 Of the enamel layers formed on the above-mentioned metal substrate, the upper limit of the arithmetic mean height (Sa), which represents the average of the absolute values of the differences in height at each point relative to the average plane of the surface, for the outermost surface enamel layer, regarding the surface texture as defined in ISO 25178, is, for example, 3.000 μm, preferably 2.500 μm, and more preferably 2.350 μm. Furthermore, the lower limit of the arithmetic mean height (Sa) is, for example, 1.000 μm, preferably 1.250 μm, and more preferably 1.500 μm.
表面琺瑯層における算術平均高さ(Sa)が、上記上限及び下限の範囲内にあれば、防塵性に優れる。 If the arithmetic mean height (Sa) of the surface enamel layer is within the above upper and lower limits, the dust-proofing properties will be excellent.
上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるISO25178に規定される最大高さ(Sz)の上限は、例えば、20.000であり、好ましくは19.700であり、さらに好ましくは19.500である。さらに、最大高さ(Sz)の下限は、例えば、13.000であり、好ましくは、13.250であり、より好ましくは13.500である。 Of the enamel layers formed on the metal substrate, the upper limit of the maximum height (Sz) of the outermost surface enamel layer as specified in ISO 25178 is, for example, 20,000, preferably 19,700, and more preferably 19,500. Furthermore, the lower limit of the maximum height (Sz) is, for example, 13,000, preferably 13,250, and more preferably 13,500.
上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるISO25178に規定される表面性状の等方性及び異方性に関するアスペクト比(Str)の上限は、例えば、0.700であり、好ましくは0.650である。さらに、アスペクト比(Str)の下限は、例えば、0.605であり、好ましくは0.610である。 Of the enamel layers formed on the metal substrate, the upper limit of the aspect ratio (Str) of the outermost surface enamel layer, which is specified in ISO 25178 as relating to the isotropy and anisotropy of the surface texture, is, for example, 0.700, preferably 0.650. Furthermore, the lower limit of the aspect ratio (Str) is, for example, 0.605, preferably 0.610.
上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるJIS Z 8721-1993に規定される明度Vは、例えば、3.0~7.0である。表面琺瑯層は、好ましくは黒色系、灰色系、緑色系、茶色系、紺色系のうちのいずれか、さらに好ましくは黒色系、緑色系、茶色系のいずれかの暗色系色調の琺瑯層である。明度Vが上記した範囲を下方に外れると、暗くなりすぎて映像を投影したときに映像認識性が低下し、一方、明度Vが上記した範囲を上方に外れると、明るくなりすぎてチョーク文字認識性が低下する。 Of the enamel layers formed on the metal substrate, the outermost surface enamel layer has a brightness V, as defined in JIS Z 8721-1993, of, for example, 3.0 to 7.0. The surface enamel layer is preferably an enamel layer of a dark color tone, such as black, gray, green, brown, or navy blue, and more preferably black, green, or brown. If the brightness V falls below the above range, the image will be too dark, reducing the recognizability of the projected image. On the other hand, if the brightness V falls above the above range, the image will be too bright, reducing the recognizability of the chalk characters.
なお、表面琺瑯層の色調、明度は、添加顔料の種類、添加量により調整することができる。明度Vを3.0~7.0に調整するには、顔料として、Co、Cr、Tiの金属又はそれらの酸化物を単独あるいは複合して添加することが好ましい。また、さらに好ましくは、明度Vは、4.0~6.0である。 The color tone and brightness of the surface enamel layer can be adjusted by the type and amount of pigment added. To adjust the brightness V to 3.0 to 7.0, it is preferable to add Co, Cr, or Ti metals or their oxides, either alone or in combination, as pigments. A brightness V of 4.0 to 6.0 is even more preferable.
なお、チョークボードにL
*
a
*
b
* 表色系により表示した場合、明度L
* は、例えば、40~60とすることが好ましい。さらに好ましくは、明度L
*
は40以上50未満である。
When displayed on a chalkboard in accordance with the L * a * b * color system, the lightness L * is preferably, for example, 40 to 60. More preferably, the lightness L * is 40 or more and less than 50.
また、本発明に係るチョークボードにおいては、さらにチョークによる板書性及び板書物の消去性を確保するために、表面琺瑯層の表面特性を、JIS B 0601-2001に規定される表面粗さRzが、例えば、5~25μmとなるように、好ましくは10~22μm、さらに好ましくは14~20μmになるように調整する。 In addition, in the chalkboard of the present invention, to further ensure the ease of writing on the board with chalk and erasing writing, the surface characteristics of the surface enamel layer are adjusted so that the surface roughness Rz specified in JIS B 0601-2001 is, for example, 5 to 25 μm, preferably 10 to 22 μm, and more preferably 14 to 20 μm.
表面琺瑯層の表面粗さRzが上記した範囲を外れ、平坦に近づくと、チョークがすべり、チョークによる板書性が低下するとともに、板書物の視認性が低下する。一方、上記した範囲を外れ凹凸が大きくなりすぎると、チョークによる板書物の消去性が低下するとともに、板書物の視認性が低下する。なお、上記した表面琺瑯層の表面特性は、後記するように、金属基板に塗布する釉薬の組成と、釉薬塗布後の焼成条件の組み合わせを適正範囲とすることにより達成できる。 If the surface roughness Rz of the surface enamel layer falls outside the above range and approaches flatness, the chalk will slip, reducing the ease of writing with chalk and the visibility of the writing on the board. On the other hand, if the surface falls outside the above range and becomes too uneven, the ease of erasing writing with chalk and the visibility of the writing on the board will decrease. The above-mentioned surface characteristics of the surface enamel layer can be achieved by adjusting the composition of the glaze applied to the metal substrate and the firing conditions after glaze application to the appropriate range, as described below.
本発明に係るチョークボードにおいては、表面琺瑯層が上記した表面特性及び色調を有し、板書物の優れた消去性及び板書物の視認性を維持するとともに、ピークゲインが、例えば、0.28以上で、好ましくはハーフゲインが13以上である反射特性を有する。 The chalkboard of the present invention has a surface enamel layer with the above-described surface characteristics and color tone, maintaining excellent erasability and visibility of writing on the board, while also exhibiting reflective characteristics with a peak gain of, for example, 0.28 or more, and preferably a half gain of 13 or more.
ピークゲインが0.28未満では、投影した映像が暗く、映像の視認性に劣ることになり、チョークボードが備える映写機能に対する要求を満足することができなくなる。そのため、本発明に係るチョークボードにおいては、例えば、0.28をピークゲインの下限値としている。なお、ピークゲインは、例えば、好ましくは0.35~1.0であり、より好ましくは0.35~0.60である。また、広い視野角を得るために、ハーフゲインを、例えば、13以上とすることが好ましい。このため、本発明においては、例えば、0.28以上のピークゲインと、好ましくは13以上のハーフゲインを有する反射特性の表面琺瑯層としている。 If the peak gain is less than 0.28, the projected image will be dark and the visibility of the image will be poor, failing to meet the requirements for the chalkboard's projection function. For this reason, in the chalkboard of the present invention, the lower limit of the peak gain is set to, for example, 0.28. The peak gain is preferably, for example, 0.35 to 1.0, and more preferably 0.35 to 0.60. Furthermore, to obtain a wide viewing angle, it is preferable to set the half gain to, for example, 13 or more. For this reason, the present invention uses a surface enamel layer with reflective properties that has, for example, a peak gain of 0.28 or more and a half gain of preferably 13 or more.
なお「ピークゲイン」とは、標準白板(完全拡散板:硫酸バリウムを焼き付けた純白板)に光を当てたときの反射輝度に対する、同一条件で測定した被測定黒板の反射輝度の比率をいう。この場合、通常、視野角5°での反射輝度を用いる。また、本発明における「ハーフゲイン」は、反射特性曲線における反射輝度がピークの1/2となった場合の視野角幅(度)をいう。 The term "peak gain" refers to the ratio of the reflective luminance of a blackboard measured under the same conditions to the reflective luminance of a standard whiteboard (a perfect diffuser: a pure whiteboard coated with barium sulfate) when light is shone on it. In this case, the reflective luminance at a viewing angle of 5° is usually used. In addition, "half gain" in this invention refers to the viewing angle width (degrees) when the reflective luminance on the reflection characteristic curve is half of its peak.
上記の金属基板上に形成される琺瑯層のうち、最外層の表面琺瑯層におけるJIS Z 8471-1997に規定される75度表面光沢度(Gs(75°))の下限は、例えば、17%であり、好ましくは17.5%であり、さらに好ましくは18%である。さらに、75度表面光沢度(Gs(75°))の上限は、例えば、25%であり、好ましくは24%であり、さらに好ましくは23.5%である。 Of the enamel layers formed on the metal substrate, the lower limit of the 75-degree surface gloss (Gs(75°)) specified in JIS Z 8471-1997 for the outermost surface enamel layer is, for example, 17%, preferably 17.5%, and more preferably 18%. Furthermore, the upper limit of the 75-degree surface gloss (Gs(75°)) is, for example, 25%, preferably 24%, and more preferably 23.5%.
75度鏡面光沢度(Gs(75°))が17%未満では、チョークによる板書物の消去性が低下するとともに、反射輝度が小さくなり、板書物及び映写された像が不鮮明となる。一方、75度鏡面光沢度(Gs(75°))が25%を超えると、チョークによる板書性が低下するとともに、ハレーションを起こし易く視野角が狭くなる。 If the 75-degree specular gloss (Gs(75°)) is less than 17%, the ability to erase chalk writing on the board will decrease, the reflected brightness will decrease, and the writing on the board and projected images will become unclear. On the other hand, if the 75-degree specular gloss (Gs(75°)) is more than 25%, the ability to write on the board with chalk will decrease, halation will occur more easily, and the viewing angle will become narrower.
75度鏡面光沢度(Gs(75°))は、後述するように、金属基板に塗布する釉薬に、適正粒径分布を有する酸化チタン被覆粒子、好ましくは酸化チタンを被覆した雲母粒子、を適正量添加し、焼成温度を適正範囲に調整することにより達成できる。 As described below, 75-degree specular gloss (Gs(75°)) can be achieved by adding an appropriate amount of titanium oxide-coated particles with an appropriate particle size distribution, preferably titanium oxide-coated mica particles, to the glaze applied to the metal substrate, and adjusting the firing temperature within the appropriate range.
表面琺瑯層は、使用する釉薬を、通常のチョークボード釉薬である透明マット釉薬に、少なくとも適正量の酸化チタン被覆粒子と、あるいはさらに酸化チタン釉薬を配合した釉薬とし、焼成条件を適正範囲に調整することにより生成されている。表面琺瑯層は、酸化チタン被覆粒子を含有しており、これにより、チョークボードにおける鮮映性が向上するとともに、表面に凹凸が形成され拡散反射性が向上し、ハレーションが抑制され、反射特性が向上する。 The surface enamel layer is produced by blending a transparent matte glaze, a typical chalkboard glaze, with at least an appropriate amount of titanium oxide-coated particles, or possibly even titanium oxide glaze, and adjusting the firing conditions to an appropriate range. The surface enamel layer contains titanium oxide-coated particles, which improves the clarity of the chalkboard, and also creates an uneven surface, improving diffuse reflectivity, suppressing halation, and improving reflective properties.
本発明では、表面琺瑯層には、酸化チタン被覆粒子を表面琺瑯層全量に対する質量%で2~40%、さらに好ましくは3~20%含有させることが好ましい。酸化チタン被覆粒子が2質量%未満では反射特性の向上効果が少ない。酸化チタン被覆粒子が40質量%を超えて含有させると、表面粗さRzが過剰に大きくなり、チョ-クによる板書物の消去性が悪化すると共に、明度が大きくなりすぎて、チョ-クによる板書の視認性が低下する。 In the present invention, the surface enamel layer preferably contains 2 to 40% by mass, and more preferably 3 to 20% by mass, of titanium oxide-coated particles relative to the total amount of the surface enamel layer. If the titanium oxide-coated particles are less than 2% by mass, the effect of improving reflectivity is minimal. If the titanium oxide-coated particles are contained in an amount exceeding 40% by mass, the surface roughness Rz becomes excessively large, which reduces the ability to erase chalk writing on the board, and the brightness becomes too high, reducing the visibility of chalk writing on the board.
また、酸化チタン被覆粒子は、例えば、100μm以下の平均粒径を有することが好ましい。さらに好ましくは、酸化チタン被覆粒子は、5~80μmである。酸化チタン被覆粒子の平均粒径が5μm未満では拡散反射性が低下し、一方、酸化チタン被覆粒子の平均粒径が100μmを超えると、表面琺瑯層の表面粗さが過剰に大きくなり、チョークによる板書物の消去性が低下する。なお、ここでいう粒子の平均粒径とは、レーザ回折式粒度分布測定装置を利用して測定した、50%累積粒子径とする。また、酸化チタン被覆粒子は、雲母粒子の表面に酸化チタンを被覆した粒子とすることが好ましく、雲母粒子は薄板状雲母粒子とすることがより好ましい。 Furthermore, it is preferable that the titanium oxide-coated particles have an average particle size of, for example, 100 μm or less. More preferably, the titanium oxide-coated particles have a size of 5 to 80 μm. If the average particle size of the titanium oxide-coated particles is less than 5 μm, the diffuse reflectivity decreases. On the other hand, if the average particle size of the titanium oxide-coated particles exceeds 100 μm, the surface roughness of the surface enamel layer increases excessively, reducing the ability to erase chalk on the board. Note that the average particle size here refers to the 50% cumulative particle size measured using a laser diffraction particle size analyzer. Furthermore, it is preferable that the titanium oxide-coated particles are mica particles whose surfaces are coated with titanium oxide, and it is more preferable that the mica particles are thin-plate mica particles.
上記特性を有する表面琺瑯層は、透明マット釉薬に、少なくとも酸化チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸化チタン釉薬を、あるいはさらには透明グロス釉薬を配合した琺瑯上釉薬を用いて形成された琺瑯層とすることが好ましい。なお、表面琺瑯層の厚さは、剥離性の観点から、例えば、200μm以下とすることが好ましく、より好ましくは150μm以下である。 A surface enamel layer having the above-mentioned properties is preferably formed using an enamel top glaze that combines a transparent matte glaze with at least titanium oxide-coated particles, or with a titanium oxide glaze, or with a transparent gloss glaze. From the standpoint of peelability, the thickness of the surface enamel layer is preferably, for example, 200 μm or less, and more preferably 150 μm or less.
上記琺瑯上釉薬を用いて形成された表面琺瑯層は、質量%で、酸化チタン被覆粒子の酸化チタンを含む酸化チタンの合計量をTiO2として、例えば、TiO2:0.5~15%、より好ましくは0.5~10%未満、さらに好ましくは2~5%を含み、さらに、SiO2:15~45%、Al2O3:5~30%、Na2O、K2O、Li2Oから選ばれた1種または2種以上を合計:2~20%、B2O3:2~20%を含む琺瑯層とすることが好ましい。なお、本発明では、黒板の表面琺瑯層には、所望の色を得るために、黒色系顔料、灰色系顔料、緑色系顔料、茶色顔料、黄色系顔料、紺色系顔料のうちから選ばれた顔料を合計で40質量%以下含んでいてもよい。 The surface enamel layer formed using the above-mentioned enamel overglaze preferably contains, by mass, 0.5 to 15% TiO2, more preferably 0.5 to less than 10%, and even more preferably 2 to 5% TiO2, where the total amount of titanium oxide, including titanium oxide of the titanium oxide-coated particles, is expressed as TiO2 , and further preferably contains 15 to 45% SiO2 , 5 to 30% Al2O3 , 2 to 20% total of one or more selected from Na2O , K2O , and Li2O , and 2 to 20% B2O3 . In the present invention, the surface enamel layer of the blackboard may contain up to 40% by mass of a pigment selected from black, gray, green, brown, yellow, and navy blue pigments in order to obtain a desired color.
次に、本発明に係るチョークボードの好ましい製造方法について説明する。本発明のチョークボードは、金属基板の表面に、琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成する。下地琺瑯層を形成した後又は下地琺瑯層を形成することなく、透明マット釉薬に少なくとも酸化チタン被覆粒子又はさらに酸化チタン釉薬又はさらに透明グロス釉薬を配合した琺瑯上釉薬を、金属基板の表面に塗布し、例えば、400~850℃において焼成し表面琺瑯層を形成する。なお、金属基板は、例えば、冷延鋼板、アルミめっき鋼板、Zn-Al合金めっき鋼板等とすることが好ましい。 Next, a preferred method for manufacturing the chalkboard of the present invention will be described. The chalkboard of the present invention is manufactured by applying an enamel underglaze to the surface of a metal substrate and firing it to form an enamel underlayer. After forming the enamel underlayer, or without forming the enamel underlayer, an enamel overglaze composed of a transparent matte glaze blended with at least titanium oxide-coated particles, or a titanium oxide glaze, or a transparent gloss glaze, is applied to the surface of the metal substrate, and fired at, for example, 400 to 850°C to form a surface enamel layer. The metal substrate is preferably, for example, a cold-rolled steel sheet, an aluminum-plated steel sheet, or a Zn-Al alloy-plated steel sheet.
例えば、金属基板として冷延鋼板を用いる場合、好ましくは冷延鋼板にNiめっきを施した後、冷延鋼板(金属基板)表面に琺瑯下釉薬を塗布し、焼成して下地琺瑯層を形成する。琺瑯下釉薬としては、特に限定されず、従来の琺瑯製黒板で使用される琺瑯下釉薬がいずれも好適である。琺瑯下釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。 For example, when a cold-rolled steel sheet is used as the metal substrate, the cold-rolled steel sheet is preferably Ni-plated, and then an enamel underglaze is applied to the surface of the cold-rolled steel sheet (metal substrate) and fired to form an enamel underlayer. There are no particular restrictions on the enamel underglaze, and any of the enamel underglazes used in conventional enamel blackboards are suitable. The enamel underglaze can be applied using any known application method, such as spraying or roll coating.
琺瑯下釉薬としては、とりわけ、例えば、固形分全量に対する質量%で、SiO2:20~80%含有し、残部として、TiO2:0~15%、ZrO2:0~20%、B2O3:0~25%、Al2O3:0~25%、Na2O:0~20%、Li2O:0~20%、K2O:0~20%、PbO:0~40%、ZnO:0~50%、BaO:0~15%、CaO:0~15%、CaF2:0~10%、CoO:0~20%、NiO:0~20%、MnO:0~20%などを含有するSiO2系釉薬とすることが好ましい。 As an enamel underglaze, it is particularly preferable to use a SiO2 -based glaze containing, in mass % relative to the total solid content, 20 to 80% SiO2 , with the remainder being 0 to 15 % TiO2 , 0 to 20% ZrO2 , 0 to 25% B2O3 , 0 to 25% Al2O3 , 0 to 25% Na2O , 0 to 20% Li2O , 0 to 20% K2O , 0 to 20% PbO, 0 to 40%, ZnO, 0 to 50%, BaO, 0 to 15%, CaO, 0 to 15%, CaF2 , 0 to 10%, CoO, 0 to 20 %, NiO, 0 to 20%, MnO, etc.
得られた下地琺瑯層の表面に琺瑯上釉薬を塗布し、その後、600~850℃で焼成し表面琺瑯層を形成する。琺瑯上釉薬の塗布は、スプレー、ロールコータ等の公知の塗布方法がいずれも適用できる。 An enamel overglaze is applied to the surface of the resulting base enamel layer, and then fired at 600-850°C to form a surface enamel layer. The enamel overglaze can be applied using any known application method, such as spraying or roll coating.
琺瑯上釉薬は、透明マット釉薬(フリット)に、あるいは、透明マット釉薬(フリット)100重量部に対し、酸化チタン釉薬(フリット)を100~20重量部、あるいはさらに透明グロス釉薬(フリット)20重量部以下を添加した釉薬に、適正量の酸化チタン被覆粒子を添加した釉薬とすることが好ましい。また、酸化チタン被覆粒子の添加量は、透明マット釉薬又は混合した釉薬(スリップ):100重量部(焼成後の重量換算)に対し、1~25重量部とすることが好ましい。 The enamel top glaze is preferably a glaze made by adding an appropriate amount of titanium oxide-coated particles to a transparent matte glaze (frit), or to a glaze made by adding 100 to 20 parts by weight of titanium oxide glaze (frit) or up to 20 parts by weight of transparent gloss glaze (frit) to 100 parts by weight of transparent matte glaze (frit). Furthermore, the amount of titanium oxide-coated particles added is preferably 1 to 25 parts by weight per 100 parts by weight (converted to weight after firing) of the transparent matte glaze or mixed glaze (slip).
琺瑯上釉薬は、透明マット釉薬のフリットと、あるいは、透明マット釉薬、酸化チタン釉薬、あるいはさらに透明グロス釉薬のフリットと、必要に応じて各種添加物及び顔料と、水との混合物の粉砕で得られた泥状物(スリップ)に、適正量の酸化チタン被覆粒子粉末を添加し、回転粉砕しながら混合して粘性のある液体として得られる。表面琺瑯層に使用される上記琺瑯上釉薬100CCを325MESHの篩にかけて乾燥させた場合、重量範囲が0.5~1.5gの乾燥残滓が得られるようになっている。 Enamel overglaze is obtained as a viscous liquid by adding an appropriate amount of titanium oxide-coated particle powder to a slip obtained by grinding a mixture of transparent matte glaze frit, or transparent matte glaze, titanium oxide glaze, or transparent gloss glaze frit, as needed, and water, and then mixing while rotating and grinding. When 100 cc of the above-mentioned enamel overglaze used for the surface enamel layer is sieved through a 325 MESH sieve and dried, a dried residue weighing 0.5 to 1.5 g is obtained.
琺瑯上釉薬から得られる乾燥残渣が上記重量範囲を外れると、琺瑯上釉薬を調製する際の材料同士の溶け具合が十分でなく、例えば、界面の展開面積率(Sdr)、山頂点の主曲率の平均(Spc)、75度鏡面光沢度(Gs(75°))等の表面性状が本発明の範囲から外れることになる。琺瑯上釉薬における乾燥残渣の重量範囲は、回転粉砕による工程時間により調整される。 If the dried residue obtained from the enamel overglaze falls outside the above weight range, the materials used to prepare the enamel overglaze will not dissolve sufficiently, and surface properties such as the developed surface area ratio of the interface (Sdr), the average principal curvature of the peaks (Spc), and the 75-degree specular gloss (Gs(75°)) will fall outside the ranges of the present invention. The weight range of the dried residue in the enamel overglaze is adjusted by the process time of rotary grinding.
なお、顔料として、チョークボードの所望の色調に合わせて、黒色系顔料、灰色系顔料、緑色系顔料、茶色系顔料、黄色系顔料、紺色系顔料のいずれか単独あるいは複合して添加する必要がある。顔料の添加量としては、スリップ:100重量部(焼成後の重量換算)に対し合計で20重量部以下とすることが好ましい。添加量が20重量部を超えて多くなると、スリップの流動性が低下する。 The pigment must be black, gray, green, brown, yellow, or navy blue, either alone or in combination, depending on the desired color tone of the chalkboard. The amount of pigment added should preferably be 20 parts by weight or less in total per 100 parts by weight of slip (weight after firing). Adding more than 20 parts by weight will reduce the fluidity of the slip.
なお、透明マット釉薬(フリット)としては、固形分全量に対する質量%で、SiO2:30~45%、Al2O3:20~35%、B2O2:5~15%、K2O:5~15%、Na2O:10~25%を含み、残部として、BaO:0~15%、CaO:0~15%、F2:0~10%、TiO2:0~10%などを含む釉薬とすることが好ましい。 It is preferable that the transparent matte glaze (frit) contains, in mass % relative to the total solid content, 30-45% SiO 2 , 20-35% Al 2 O 3 , 5-15% B 2 O 2 , 5-15% K 2 O, 10-25% Na 2 O, with the remainder being 0-15% BaO, 0-15% CaO, 0-10% F 2 , 0-10% TiO 2 , etc.
酸化チタン釉薬(フリット)としては、固形分全量に対する質量%で、TiO2を10~30%含有し、残部として、SiO2:0~80%、Al2O3:0~20%、B2O3:0~25%、Na2O:0~20%、K2O:0~20%、Li2O:0~20%、P2O5:0~10%、ZrO2:0~20%、BaO:0~15%、CaO:0~15%、MgO:0~5%、PbO:0~40%、ZnO:0~50%、CaF2:0~10%などを含む釉薬とすることが好ましい。なお、酸化チタン釉薬の顔料である酸化チタンに代えて、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛のうちの1種または2種以上の顔料としてもよい。 The titanium oxide glaze (frit) preferably contains, in mass % relative to the total solid content, 10 to 30% TiO2 , with the remainder being SiO2 : 0 to 80%, Al2O3 : 0 to 20 %, B2O3 : 0 to 25%, Na2O : 0 to 20%, K2O : 0 to 20%, Li2O : 0 to 20%, P2O5 : 0 to 10%, ZrO2 : 0 to 20%, BaO : 0 to 15%, CaO: 0 to 15%, MgO: 0 to 5%, PbO: 0 to 40%, ZnO: 0 to 50%, CaF2 : 0 to 10%, etc. Instead of titanium oxide, which is the pigment of the titanium oxide glaze, one or more pigments selected from the group consisting of zirconium oxide, antimony oxide, and zinc oxide may be used.
透明グロス釉薬(フリット)としては、固形分全量に対する質量%で、SiO2:40~65%を含み、残部として、B2O3:5~20%、Na2O、K2O、Li2Oのいずれか1種以上を合計で5~40%、F2:0~10%、Al2O3:0~10%、CaO:0~10%、TiO2:0~10%、ZnO:0~10%、MgO:0~5%などを含む釉薬とすることが好ましい。なお、酸化チタン釉薬の顔料である酸化チタンに代えて、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛のうちの1種または2種以上の顔料としてもよい。 A preferred transparent gloss glaze (frit) is one that contains, in mass % relative to the total solid content, 40 to 65% SiO 2 , with the remainder containing 5 to 20% B 2 O 3 , 5 to 40% in total of one or more of Na 2 O, K 2 O , and Li 2 O, 0 to 10% F 2 , 0 to 10% Al 2 O 3 , 0 to 10% CaO, 0 to 10% TiO 2 , 0 to 10% ZnO, 0 to 10% MgO, etc. Note that instead of titanium oxide, which is the pigment in titanium oxide glaze, one or more pigments selected from zirconium oxide, antimony oxide, and zinc oxide may be used.
焼成温度が、600℃未満では、表面粗さが粗くなりすぎて、反射特性が低下する。一方、850℃を超えると、表面が平滑になりすぎて、チョークによる板書の視認性、チョークによる板書性及び板書物の消去性が低下する。 If the firing temperature is below 600°C, the surface will become too rough and the reflectivity will decrease. On the other hand, if the firing temperature exceeds 850°C, the surface will become too smooth, reducing the visibility of chalk writing on the board, the ease of writing on the board with chalk, and the ease of erasing writing on the board.
また、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板またはZn-Al合金めっき鋼板を用いる場合には、金属基板表面に、琺瑯上釉薬を塗布し、例えば、400~600℃で焼成し表面琺瑯層を形成することが好ましい。 Furthermore, when an aluminum-plated steel sheet or a Zn-Al alloy-plated steel sheet is used as the metal substrate, it is preferable to apply an enamel overglaze to the surface of the metal substrate and then bake it at, for example, 400 to 600°C to form a surface enamel layer.
なお、この場合には、めっき層の溶融防止の観点から、低融点の琺瑯上釉薬を用いる必要がある。このため、上記した透明マット釉薬に代えてリン酸を配合した釉薬に、酸化チタン被覆粒子を、あるいはさらに酸化チタン釉薬を、配合してなる琺瑯上釉薬とすることが好ましい。リン酸を配合した釉薬中のリン酸の含有量は、例えば、40質量%以上であり、好ましくは80質量%以下であり、さらに好ましくは70質量%以下である。 In this case, it is necessary to use an enamel overglaze with a low melting point to prevent the plating layer from melting. For this reason, instead of the transparent matte glaze described above, it is preferable to use an enamel overglaze that is made by blending titanium oxide-coated particles with a glaze containing phosphoric acid, or by further blending a titanium oxide glaze with the glaze. The phosphoric acid content in the phosphoric acid-blended glaze is, for example, 40% by mass or more, preferably 80% by mass or less, and more preferably 70% by mass or less.
リン酸を配合した釉薬(フリット)としては、固形分全量に対する質量%で、P2O5:40~80%を含有し、残部として、SiO2:0~40%、Al2O3:0~50%、B2O3:0~25%、Na2O:0~20%、K2O:0~20%、Li2O:0~20%、TiO2:0~30%、Sb2O3:0~25%、ZnO:0~20%、BaO:0~15%、CaO:0~15%、MgO:0~5%、PbO:0~10%、SrO:0~20%などを含む釉薬とすることが好ましい。 A glaze (frit) containing phosphoric acid preferably contains, in mass % relative to the total solid content, 40-80% P2O5 , with the remainder being 0-40 % SiO2, 0-50% Al2O3 , 0-25% B2O3 , 0-20% Na2O , 0-20% K2O , 0-20% Li2O , 0-30 % TiO2 , 0-25 % Sb2O3 , 0-20% ZnO, 0-15% BaO, 0-15% CaO, 0-15% MgO, 0-5% PbO, 0-10% SrO, etc.
なお、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板またはZn-Al合金めっき鋼板を用いる場合には、めっき層の溶融防止の観点から、低融点の琺瑯上釉薬を用いるため、密着性が向上し、琺瑯下釉薬の塗布は必須ではない。また、金属基板としてアルミニウムめっき鋼板またはZn-Al合金めっき鋼板を用いる場合、焼成温度が、400℃未満では、琺瑯層の密着性が低下する。一方、600℃を超えると、めっき層が溶融するという問題が生じる。 When using an aluminum-plated steel sheet or a Zn-Al alloy-plated steel sheet as the metal substrate, a low-melting point enamel overglaze is used to prevent the plating layer from melting, improving adhesion and making it unnecessary to apply an underglaze. Furthermore, when using an aluminum-plated steel sheet or a Zn-Al alloy-plated steel sheet as the metal substrate, if the firing temperature is below 400°C, the adhesion of the enamel layer will decrease. On the other hand, if the firing temperature exceeds 600°C, the plating layer will melt, which can be a problem.
表面琺瑯層における展開面積率(Sdr)、主曲率の平均(Spc)及び75度鏡面光沢度(Gs(75°))がそれぞれ、上記の上限及び下限の範囲内にあるサンプル(実施例1,2)と、上記の上限及び下限の範囲外にあるサンプル(比較例1~3)を準備して、チョークボードのサンプルそれぞれの表面琺瑯層における展開面積率(Sdr)、主曲率の平均(Spc)及び75度鏡面光沢度(Gs(75°))と消去性との関係について調査した。実施例1,2は、上記実施の形態に記載した重量範囲における乾燥残渣が得られるように調製された琺瑯上釉薬を用いて製造されている。 Samples (Examples 1 and 2) were prepared in which the developed surface area ratio (Sdr), average principal curvature (Spc), and 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer were within the above upper and lower limits, and samples (Comparative Examples 1 to 3) were prepared in which the developed surface area ratio (Sdr), average principal curvature (Spc), and 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer were outside these limits. The relationship between the erasability and the developed surface area ratio (Sdr), average principal curvature (Spc), and 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of each chalkboard sample was investigated. Examples 1 and 2 were manufactured using an enamel overglaze prepared to obtain a dried residue within the weight range described in the above embodiment.
(1)展開面積率(Sdr)
各サンプルにおける展開面積率(Sdr)は、キーエンス社製の白色干渉計搭載レーザ顕微鏡(VK-X300)を用い、ISO 25178に準拠して求めた。
(1) Development area ratio (Sdr)
The developed area ratio (Sdr) of each sample was determined in accordance with ISO 25178 using a laser microscope equipped with a white light interferometer (VK-X300) manufactured by Keyence Corporation.
(2)主曲率の平均(Spc)
各サンプルにおける山頂点の主曲率の平均(Spc)は、キーエンス社製の白色干渉計搭載レーザ顕微鏡(VK-X300)を用い、ISO 25178に準拠して求めた。
(2) Mean principal curvature (Spc)
The average principal curvature (Spc) of the peaks of each sample was determined in accordance with ISO 25178 using a laser microscope (VK-X300) equipped with a white light interferometer manufactured by Keyence Corporation.
(3)75度表面光沢度(Gs(75°))
各サンプルにおける75度表面光沢度(Gs(75°))は、村上色彩技術研究所製の携帯用光沢度計GMX203を用い、JIS Z 8471-1997に準拠して求めた。
(3) 75° surface gloss (Gs(75°))
The 75-degree surface gloss (Gs(75°)) of each sample was determined in accordance with JIS Z 8471-1997 using a portable gloss meter GMX203 manufactured by Murakami Color Research Laboratory.
各サンプルの表面琺瑯層における展開面積率(Sdr)、主曲率の平均(Spc)及び75度鏡面光沢度(Gs(75°))並びに各サンプルの消去性に関する評価を下記表1に示す。 The developed area ratio (Sdr), average principal curvature (Spc), and 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer of each sample, as well as an evaluation of the erasability of each sample, are shown in Table 1 below.
各サンプルに、JIS B 6007の規定に準拠して、白、黄、赤の各チョークを横に寝かせて軽く各サンプルの表面をこすり3列の線を板書した。次いで、フェルト製のイレーザを備えた所定の機械により700gの荷重をかけて各チョークの線を交差するように3往復して擦って、消去性について判定した。一往復ごとに各チョークボードから1m離れた位置でチョークボードを見て、各サンプルにおけるチョークごとの線が完全に消えている場合を「3点」、線のエッジが視認できる場合を「2点」、線全体がうっすらと視認できる場合を「1点」、線が残っていることを視認できる場合を「0点」として、消去性を数値化した。 In accordance with JIS B 6007, three rows of lines were drawn on each sample by lightly rubbing a piece of white, yellow, or red chalk across the surface of each sample with a horizontal stroke. A 700g load was then applied using a specified machine equipped with a felt eraser, and the chalk lines were rubbed crosswise three times to assess their erasability. After each stroke, the chalkboard was viewed from a position 1m away from each chalkboard, and erasability was quantified as follows: if the chalk line for each sample had completely disappeared, a score of 3 was given; if the edge of the line was visible, a score of 2 was given; if the entire line was faintly visible, a score of 1 was given; and if the line was still visible, a score of 0 was given.
消去性の総得点が「20」を越えるサンプルを「○」とし、総得点が「15~19」であるサンプルを「△」とし、総得点が「14」以下であるサンプルは「×」と評価した。 Samples with a total erasability score of over 20 were rated as "○", samples with a total score of 15-19 were rated as "△", and samples with a total score of 14 or less were rated as "×".
表1から分かるように、本発明に係る実施例1,2については、消去性の総合点がいずれも「24点」であり「20点」を越え、評価としても「○」となり、板書によるチョークの線の消去性に関して優れていることが証明された。特に、実施例1,2は、それぞれ、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「2点」を獲得しており、二往復以降の評価は、いずれの線においても「3点」であった。つまり、実施例1,2においては、二往復目においてチョークの線が完全に消えていた、という評価であった。 As can be seen from Table 1, for Examples 1 and 2 of the present invention, the total erasability score was "24 points," exceeding "20 points," and the evaluation was "Good," proving that they are excellent at erasing chalk lines written on the blackboard. In particular, for Examples 1 and 2, after one stroke, they each received a rating of "2 points" for all white, yellow, and red chalk, and after two strokes and beyond, they received a rating of "3 points" for all lines. In other words, for Examples 1 and 2, the chalk lines had completely disappeared by the second stroke.
これに対して、比較例1においては、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「1点」、二往復後の評価は、いずれの線においても「2点」となり、三往復後の評価は、いずれの線においても「3点」となり、総合点は「18」であり、評価としては「△」であった。二往復までの消去性が実施例1,2と比べて劣っており、チョークごとの板線が完全に消えるまでに三往復を要した。 In contrast, in Comparative Example 1, after one stroke, the evaluation was "1 point" for all white, yellow, and red chalk lines, after two strokes the evaluation was "2 points" for all lines, and after three strokes the evaluation was "3 points" for all lines, for a total score of "18" and a rating of "△." The erasability up to two strokes was inferior to Examples 1 and 2, and it took three strokes for each chalk line to completely disappear.
また、比較例2においては、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「0点」、二往復後の評価は、いずれの線においても「2点」となり、三往復後の評価は、白線が「2点」、黄線及び赤線のいずれにおいても「3点」となり、総合点は「14点」であり、評価としては「×」であった。二往復までの消去性が実施例1,2と比べて劣っており、三往復目において黄線及び赤線は消えていたが、白線がうっすらと残っていた。 In addition, in Comparative Example 2, after one stroke, the evaluation was "0 points" for all white, yellow, and red chalk, after two strokes the evaluation was "2 points" for all lines, and after three strokes the evaluation was "2 points" for the white line and "3 points" for both the yellow and red lines, for a total score of "14 points" and a rating of "X". The erasability up to two strokes was inferior to Examples 1 and 2, and by the third stroke the yellow and red lines had disappeared, but a faint white line remained.
また、比較例3においては、一往復後の評価が白、黄、赤いずれのチョークにおいても「0点」、二往復後の評価は、いずれの線においても「1点」となり、三往復後の評価は、いずれの線においても「2点」となり、総合点は「9点」であり、評価としては「×」であった。二往復までの消去性が実施例1,2と比べて劣っており、三往復目においても全ての線がうっすらと残っており、実施例1,2の消去性に対して大きく劣っていた。 In addition, in Comparative Example 3, after one stroke, the evaluation was "0 points" for all white, yellow, and red chalk, after two strokes the evaluation was "1 point" for all lines, and after three strokes the evaluation was "2 points" for all lines, for a total score of "9 points" and a rating of "X." The erasability up to two strokes was inferior to Examples 1 and 2, and even after the third stroke all lines were faintly remaining, showing a significantly inferior erasability to Examples 1 and 2.
上述のように、展開面積率(Sdr)、主曲率の平均(Spc)及び光沢度(Gs(75°))が本発明の範囲内にある実施例1,2は、本発明の範囲を外れる比較例1~3に比して、板書物の消去性の点において優れていた。 As described above, Examples 1 and 2, whose developed surface area ratio (Sdr), average principal curvature (Spc), and gloss level (Gs (75°)) were within the ranges of the present invention, were superior in terms of erasability of blackboard writing compared to Comparative Examples 1 to 3, which were outside the ranges of the present invention.
<その他>
以上、本発明の好適な実施の形態等について説明したが、本発明は上記の実施の形態等に限定されるものではなく、本発明の概念及び特許請求の範囲に含まれるあらゆる態様を含む。また、上述した課題及び効果の少なくとも一部を奏するように、各構成を適宜選択的に組み合わせてもよい。また、例えば、上記実施の形態等における各構成要素の形状、材料、配置、サイズ等は、本発明の具体的使用態様によって適宜変更され得る。
<Others>
Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments and includes all aspects encompassed by the concept of the present invention and the scope of the claims. Furthermore, each configuration may be appropriately and selectively combined to achieve at least some of the above-described problems and effects. Furthermore, for example, the shape, material, arrangement, size, etc. of each component in the above embodiments may be appropriately modified depending on the specific use of the present invention.
例えば、上記実施の形態におけるチョークボードは、板書・映写兼用のチョークボードであったが、特に、表面琺瑯層における展開面積率(Sdr)、主曲率の平均(Spc)及び光沢度(Gs(75°))について本発明の範囲内にあれば板書専用のチョークボードであってもよい。 For example, while the chalkboard in the above embodiment is a chalkboard that can be used for both writing and projection, it may also be a chalkboard that is used exclusively for writing, as long as the developed area ratio (Sdr), average principal curvature (Spc), and gloss (Gs (75°)) of the surface enamel layer are within the scope of the present invention.
また、チョークボードにおいては、表面琺瑯層における展開面積率(Sdr)、主曲率の平均(Spc)及び光沢度(Gs(75°))の少なくとも1つが本発明の範囲内にある実施の形態であってもよい。 Furthermore, in the case of a chalkboard, at least one of the developed area ratio (Sdr), average principal curvature (Spc), and gloss (Gs (75°)) of the surface enamel layer may be within the scope of the present invention.
Claims (4)
前記琺瑯層のうち最外層の表面琺瑯層が以下の条件1、条件2及び条件3を満たすことを特徴とするチョークボード。
条件1:前記表面琺瑯層の上面の展開面積率(Sdr)が2%以上30%以下である。
条件2:前記表面琺瑯層の山頂点の主曲率の平均(Spc)が500μm -1 以上4000μm-1以下である。
条件3:前記表面琺瑯層の75度鏡面光沢度(Gs(75°))が17%以上である。 A chalkboard having at least one enamel layer on a metal substrate,
A chalkboard characterized in that the outermost surface enamel layer of the enamel layers satisfies the following conditions 1 , 2 and 3.
Condition 1: The developed area ratio (Sdr) of the upper surface of the surface enamel layer is 2% or more and 30% or less.
Condition 2: The average principal curvature (Spc) of the peaks of the surface enamel layer is 500 μm −1 or more and 4000 μm −1 or less.
Condition 3: The 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer is 17% or more.
4. The chalkboard according to claim 1, wherein the 75-degree specular gloss (Gs(75°)) of the surface enamel layer is 20% or more.
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