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JP7735754B2 - Nickel powder - Google Patents
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JP7735754B2 - Nickel powder - Google Patents

Nickel powder

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JP7735754B2 JP2021154559A JP2021154559A JP7735754B2 JP 7735754 B2 JP7735754 B2 JP 7735754B2 JP 2021154559 A JP2021154559 A JP 2021154559A JP 2021154559 A JP2021154559 A JP 2021154559A JP 7735754 B2 JP7735754 B2 JP 7735754B2
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Description

本発明は、積層セラミック部品の電極材として用いられる高性能なニッケル粉末に関する。 The present invention relates to high-performance nickel powder used as an electrode material for multilayer ceramic components.

ニッケル粉末は、電子回路のコンデンサの材料として、特に、積層セラミックコンデンサ(MLCC:multilayer ceramic capacitor)や多層セラミック基板等の積層セラミック部品の内部電極等を構成する厚膜導電体の材料として利用されている。 Nickel powder is used as a material for capacitors in electronic circuits, particularly as a thick-film conductor material for the internal electrodes of multilayer ceramic components such as multilayer ceramic capacitors (MLCCs) and multilayer ceramic substrates.

近年、積層セラミックコンデンサの大容量化が進み、積層セラミックコンデンサの内部電極の形成に用いられる内部電極ペーストの使用量も大幅に増加している。このため、厚膜導電体を構成する内部電極ペースト用の金属粉末として、高価な貴金属の使用に代替して、主としてニッケル等の安価な卑金属が使用されている。 In recent years, the capacity of multilayer ceramic capacitors has increased, and the amount of internal electrode paste used to form the internal electrodes of these capacitors has also increased significantly. For this reason, inexpensive base metals such as nickel are now being used as the metal powder for the internal electrode paste that makes up the thick-film conductor, instead of expensive precious metals.

積層セラミックコンデンサを製造する工程では、例えばニッケル粉末、エチルセルロース等のバインダー樹脂およびターピネオール等の有機溶剤を混練した内部電極ペーストを、誘電体グリーンシート上にスクリーン印刷する。そして、内部電極ペーストが印刷され、乾燥された誘電体グリーンシートは、内部電極ペースト印刷層と誘電体グリーンシートとが交互に重なるように積層され、さらに圧着されて、積層体が得られる。 In the process of manufacturing multilayer ceramic capacitors, an internal electrode paste made from a mixture of nickel powder, a binder resin such as ethyl cellulose, and an organic solvent such as terpineol is screen-printed onto a dielectric green sheet. The dielectric green sheets on which the internal electrode paste has been printed and dried are then laminated so that the internal electrode paste-printed layers and the dielectric green sheets are alternately stacked, and then pressed together to obtain a laminate.

この積層体を、所定の大きさにカットし、次に、バインダー樹脂を加熱処理により除去し(脱バインダー処理)、さらに、脱バインダー処理後の積層体を1300℃程度の高温で焼成することにより、セラミック成形体が得られる。 This laminate is cut to a specified size, the binder resin is then removed by heat treatment (binder removal process), and the laminate after binder removal is then fired at a high temperature of around 1300°C to obtain a ceramic molded body.

そして、得られたセラミック成形体に外部電極が取り付けられ、積層セラミックコンデンサが得られる。内部電極となる内部電極ペースト中の金属粉末として、ニッケル等の卑金属が使用されていることから、積層体の脱バインダー処理は、これらの卑金属が酸化しないように、不活性雰囲気等の酸素濃度がきわめて低い雰囲気下にて行われる。また、脱バインダー処理後の焼成は還元雰囲気下にて行われる。 External electrodes are then attached to the resulting ceramic compact to produce a multilayer ceramic capacitor. Because base metals such as nickel are used as the metal powder in the internal electrode paste that forms the internal electrodes, the binder removal process for the laminate is carried out in an atmosphere with an extremely low oxygen concentration, such as an inert atmosphere, to prevent the oxidation of these base metals. Furthermore, firing after binder removal is carried out in a reducing atmosphere.

積層セラミックコンデンサの小型化および大容量化に伴い、内部電極や誘電体はともに薄層化が進められている。これに伴って、内部電極ペーストに使用されるニッケル粉末の粒径も微細化が進行し、平均粒径0.4μm以下のニッケル粉末が必要とされ、特に平均粒径0.3μm以下のニッケル粉末の使用が主流となっている。 As multilayer ceramic capacitors become smaller and their capacitance increases, both the internal electrodes and dielectric layers are becoming thinner. This has led to the particle size of the nickel powder used in internal electrode paste becoming finer, with nickel powder with an average particle size of 0.4 μm or less being required, and the use of nickel powder with an average particle size of 0.3 μm or less becoming the norm.

このような微細なニッケル粉末は活性が高く、内部電極ペーストに含まれるバインダーの分解挙動や焼成時におけるニッケルの粒成長は制御し難くなる。例えば600℃付近からバインダーが急激に分解し、MLCC素体にクラック等の構造欠陥が生じたり、或いはニッケルの粒成長が異常に促進されることでニッケルが過焼結となり、内部電極膜の球状化(カバレッジの低下)を引き起こし、容量低下やHALT劣化などの問題が生じることがあった。 Such fine nickel powder is highly active, making it difficult to control the decomposition behavior of the binder contained in the internal electrode paste and the nickel grain growth during firing. For example, the binder decomposes rapidly at around 600°C, causing structural defects such as cracks in the MLCC body, or abnormally promoting nickel grain growth, causing the nickel to over-sinter, leading to spheroidization of the internal electrode film (reduced coverage), and problems such as reduced capacity and HALT degradation.

上記問題を解決するために、特許文献1には、表面に実質的にニッケル酸化物からなる薄い酸化層が存在するニッケル粉末が開示されている。この表面の酸化層は極めて強固であり、粉末の活性を効果的に低下させ焼結開始温度を上昇させるとされている。また、特許文献2には、表面に緻密で厚い酸化被膜が形成されたニッケル粉末であって、X線光電子分光法(XPS)におけるNi2p3/2スペクトルピークに関して、金属ニッケルに帰属されるピーク(以降、「Niピーク」とすることもある。)とニッケルと酸素の結合状態に帰属されるピーク(以降、「NiOピーク」とすることもある)とニッケルと水酸基の結合状態に帰属されるピーク(以降、「Ni(OH)ピーク」とすることもある。)の各面積比が、Niピークは5.0~15.0%であり、NiOピークは55.0~80.0%であり、Ni(OH)ピークは5.0~40.0%であることを開示している。このような酸化被膜によりニッケル粉末表面から内部への酸化の進行が抑制されるため、焼結開始温度が従来のニッケル粉末に比べてより高く、誘電体の焼結開始温度により近くなるとされている。さらに表面の組成はNiOを主としNi(OH)の比率が低いことから、積層セラミックコンデンサ製造の脱バインダー処理時において、Ni(OH)の熱分解により発生するガスが抑制され、クラックやデラミネーションの発生が低減されるとされている。 To solve the above problems, Patent Document 1 discloses a nickel powder having a thin oxide layer substantially composed of nickel oxide on the surface. This surface oxide layer is extremely strong and is said to effectively reduce the activity of the powder and increase the sintering initiation temperature. Patent Document 2 also discloses a nickel powder having a dense, thick oxide film formed on the surface. Regarding the Ni2p3/2 spectrum peak in X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), the area ratios of the peak attributable to metallic nickel (hereinafter sometimes referred to as the "Ni peak"), the peak attributable to the bonding state of nickel and oxygen (hereinafter sometimes referred to as the "NiO peak"), and the peak attributable to the bonding state of nickel and hydroxyl groups (hereinafter sometimes referred to as the "Ni(OH) 2 peak") are 5.0 to 15.0%, 55.0 to 80.0%, and 5.0 to 40.0%, respectively. This oxide film prevents oxidation from progressing from the surface to the interior of the nickel powder, resulting in a higher sintering temperature than conventional nickel powders, closer to the sintering temperature of the dielectric. Furthermore, the surface composition is primarily NiO with a low proportion of Ni(OH) 2 , which suppresses the generation of gas due to the thermal decomposition of Ni(OH) 2 during the binder removal process in the manufacture of multilayer ceramic capacitors, reducing the occurrence of cracks and delamination.

特開2008-223068号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-223068 国際公開WO2017/122689号パンフレットInternational Publication No. WO2017/122689 Pamphlet 国際公開WO2017/069067号パンフレットInternational Publication No. WO2017/069067 Pamphlet

しかしながら、微細なニッケル粉末になるほど比表面積が増大するため、このような表面に酸化被膜を有するニッケル粉末では、どうしても含有する酸素量が増大する傾向があった。ニッケル粉末の酸素含有率が増大すると、積層セラミックコンデンサ製造時の還元雰囲気下での焼成において、ニッケル酸化物の還元によるガス発生と体積変化が大きくなるため、緻密な電極膜が得られにくくなるとともに焼成時のクラックやデラミネーションを引き起こす原因となる。 However, because the finer the nickel powder, the greater its specific surface area, nickel powder with an oxide film on its surface inevitably tends to contain a higher amount of oxygen. When the oxygen content of nickel powder increases, gas generation and volume change due to reduction of nickel oxide increase during firing in a reducing atmosphere during the production of multilayer ceramic capacitors. This makes it difficult to obtain a dense electrode film and can lead to cracks and delamination during firing.

そこで本発明では、表面にNiOを主とする酸化被膜を有するニッケル粉末において、酸素などの不純物含有率を最適化したニッケル粉末を提供することを目的とする。 The objective of this invention is to provide nickel powder with an oxide coating mainly composed of NiO on the surface, in which the content of impurities such as oxygen is optimized.

本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、ニッケル粉末表面におけるNiとNiOとNi(OH)の成分組成が、特定の範囲となるように制御し、かつ硫黄含有率が0.3質量%以下、かつ酸素含有率が1.1質量%以下または、硫黄含有率が0.3質量%以下かつ酸素含有率が1.1質量%を超える場合での百分率での硫黄含有率と酸素含有率を乗じた値が0.15以下となる組成バランスを持つことで上記課題を解決できることを見出した。 As a result of extensive research, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by controlling the component composition of Ni, NiO, and Ni(OH) 2 on the surface of the nickel powder so that it falls within a specific range, and by achieving a compositional balance such that the sulfur content is 0.3% by mass or less and the oxygen content is 1.1% by mass or less, or when the sulfur content is 0.3% by mass or less and the oxygen content exceeds 1.1% by mass, the product of the sulfur content and the oxygen content as percentages is 0.15 or less.

上記の課題を解決するため、本発明のニッケル粉末は、表面にNiOを主とする酸化被膜を有するニッケル粉末であって、X線光電子分光法(XPS)を用いて測定された前記ニッケル粉末の表面の成分組成において、Ni、NiOおよびNi(OH)の合計に対するNiの物質量は13モル%以上35モル%以下であり、NiOの物質量は50モル%以上であり、Ni(OH)の物質量は0モル%を超えて30モル%以下であり、酸素含有率が1.1質量%以下の場合には、硫黄含有率が0.17質量%以下であり、酸素含有率が1.1質量%を超える場合には、硫黄含有率の百分率と酸素含有率の百分率を乗じた値が0.15以下である。 In order to achieve the above object, the nickel powder of the present invention is a nickel powder having an oxide film mainly composed of NiO on its surface, and in the component composition of the surface of the nickel powder measured using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), the amount of Ni relative to the total of Ni, NiO, and Ni(OH) 2 is 13 mol% or more and 35 mol% or less, the amount of NiO is 50 mol% or more, and the amount of Ni(OH) 2 is more than 0 mol% and 30 mol% or less, and when the oxygen content is 1.1 mass% or less, the sulfur content is 0.17 mass% or less, and when the oxygen content exceeds 1.1 mass%, the value obtained by multiplying the percentage of the sulfur content and the percentage of the oxygen content is 0.15 or less.

本発明のニッケル粉末は、平均粒径が0.03μm~0.4μmであってもよい。 The nickel powder of the present invention may have an average particle size of 0.03 μm to 0.4 μm.

本発明のニッケル粉末は、相対圧P/P=0.5における単位面積当たりのHO吸着量が0.10mg/m以上0.70mg/m以下であってもよい。 The nickel powder of the present invention may have an H 2 O adsorption amount per unit area of 0.10 mg/m 2 or more and 0.70 mg/m 2 or less at a relative pressure P/P 0 =0.5.

本発明に係るニッケル粉末は、その表面の組成がNiOを主成分としつつNiの比率も比較的高く制御されているため、酸素含有率が低く、積層セラミックコンデンサの製造時にクラックやデラミネーションの発生が抑制される。 The nickel powder of the present invention has a surface composition that is primarily composed of NiO, with the Ni ratio controlled to be relatively high. This results in a low oxygen content, which reduces the occurrence of cracks and delamination during the production of multilayer ceramic capacitors.

実施例1~4のニッケル粉末から得られるTG-DTA評価試料を熱重量示差熱分析した結果を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the results of thermogravimetric and differential thermal analysis of TG-DTA evaluation samples obtained from the nickel powders of Examples 1 to 4. 比較例1のニッケル粉末から得られるTG-DTA評価試料を熱重量示差熱分析した結果を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the results of thermogravimetric and differential thermal analysis of a TG-DTA evaluation sample obtained from the nickel powder of Comparative Example 1. 実施例5のニッケル粉末から得られるTG-DTA評価試料を熱重量示差熱分析した結果を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the results of thermogravimetric and differential thermal analysis of a TG-DTA evaluation sample obtained from the nickel powder of Example 5.

以下、本発明に係るニッケル粉末について説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、任意に変更可能である。 The nickel powder according to the present invention is described below. However, the present invention is not limited to this, and any modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

<1.ニッケル粉末>
本発明に係るニッケル粉末は、表面にNiOを主とする酸化被膜を有するニッケル粉末であって、X線光電子分光法(XPS)を用いて測定されたニッケル粉末の表面の成分組成において、Ni、NiOおよびNi(OH)の合計に対するNiの物質量は13モル%以上35モル%以下であり、NiOの物質量は50モル%以上であり、Ni(OH)の物質量は0モル%を超えて30モル%以下である。このように表面の成分組成がNiOを主成分とし、酸素含有率も低く抑えられているため、積層セラミックコンデンサの製造時にクラックやデラミネーションの発生が抑制され、積層セラミックコンデンサの内部電極の用途に好適である。
<1. Nickel powder>
The nickel powder according to the present invention is a nickel powder having an oxide coating mainly composed of NiO on its surface, and in the surface composition of the nickel powder measured using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), the amount of Ni relative to the total of Ni, NiO, and Ni(OH) 2 is 13 mol% or more and 35 mol% or less, the amount of NiO is 50 mol% or more, and the amount of Ni(OH) 2 is more than 0 mol% and 30 mol% or less. Because the surface composition is mainly composed of NiO and the oxygen content is kept low, the occurrence of cracks and delamination during the production of multilayer ceramic capacitors is suppressed, making the nickel powder suitable for use as internal electrodes of multilayer ceramic capacitors.

表面の成分組成についてさらに詳しく説明する。XPSによりニッケル粉末表面のNi2pスペクトルを解析すると、Niピーク、NiOピークおよびNi(OH)ピークが観察される。表面の成分組成としては、Niピークに対応するのがNiであり、NiOピークに対応するのがNiOであり、Ni(OH)ピークに対応するのがNi(OH)である。この3成分のピーク面積全量に対する各ピークの面積比から成分組成比が求められ、各成分組成の好ましい範囲は、Niは13モル%以上35モル%以下であり、NiOは50モル%以上であり、Ni(OH)は0モル%を超えて30モル%以下(Ni+NiO+Ni(OH)=100モル%)である。 The surface composition will be explained in more detail. When the Ni2p spectrum of the nickel powder surface is analyzed by XPS, a Ni peak, a NiO peak, and a Ni(OH) 2 peak are observed. Regarding the surface composition, the Ni peak corresponds to Ni, the NiO peak corresponds to NiO, and the Ni(OH) 2 peak corresponds to Ni(OH) 2 . The component composition ratios are determined from the area ratio of each peak to the total peak area of these three components. The preferred ranges for each component composition are: Ni is 13 mol% or more and 35 mol% or less, NiO is 50 mol% or more, and Ni(OH) 2 is more than 0 mol% and 30 mol% or less (Ni + NiO + Ni(OH) 2 = 100 mol%).

表面の成分組成のうち、Niの比率が13モル%未満になると、ニッケル粉末の酸素含有率が高くなり、積層セラミックコンデンサの製造時に還元雰囲気下の焼成においてクラックやデラミネーションが発生することがある。Niの比率が35モル%を超えると、表面の酸化被膜が不安定となり、耐酸化性が低下することがある。Niの比率のより好ましい範囲は20モル%を超えて30モル%以下である。 If the Ni ratio in the surface composition is less than 13 mol%, the oxygen content of the nickel powder becomes high, which may cause cracks or delamination during firing in a reducing atmosphere during the production of a multilayer ceramic capacitor. If the Ni ratio exceeds 35 mol%, the surface oxide film may become unstable, which may reduce oxidation resistance. A more preferable range of the Ni ratio is more than 20 mol% but not more than 30 mol%.

表面の成分組成のうち、NiOの比率が50モル%未満になると、Ni(OH)の比率が高くなることを意味するので、積層セラミックコンデンサの製造時に焼結開始温度が低下したり、脱バインダー処理においてクラックやデラミネーションが発生することがある。NiOの比率のより好ましい範囲は60モル%以上である。 If the ratio of NiO in the surface composition is less than 50 mol%, it means that the ratio of Ni(OH) 2 is high, which may result in a decrease in the sintering start temperature during the production of multilayer ceramic capacitors, or in the occurrence of cracks or delamination during the binder removal process. A more preferable range for the ratio of NiO is 60 mol% or more.

表面の成分組成のうち、Ni(OH)の物質量が30モル%を超えると、積層セラミックコンデンサの製造時に焼結開始温度が低下したり、脱バインダー処理においてクラックやデラミネーションが発生することがある。 If the amount of Ni(OH) 2 in the surface composition exceeds 30 mol%, the sintering start temperature may decrease during the production of a multilayer ceramic capacitor, and cracks or delamination may occur during the binder removal process.

本発明に係るニッケル粉末の酸素含有率は、ニッケル粉末全体に対して1.3質量%以下であることが好ましい。そして酸素含有率は、後述するように硫黄含有率とともに検討する必要がある。酸素含有率が1.3質量%を超えると、積層セラミックコンデンサの製造時に還元雰囲気下の焼成において、還元によるガス発生と体積変化によりクラックやデラミネーションが発生することがある。酸素含有率の下限については特に限定されない。上記表面の成分組成で説明したとおり、表面にNiOを主とする酸化被膜を有するニッケル粉末であるので、0.5質量%程度が実質的な下限となる。なお、酸素含有率は、例えば不活性ガス溶融法による酸素分析装置にて測定することができる。 The oxygen content of the nickel powder according to the present invention is preferably 1.3% by mass or less based on the total nickel powder. The oxygen content must be considered together with the sulfur content, as described below. If the oxygen content exceeds 1.3% by mass, cracks and delamination may occur due to gas generation and volume changes caused by reduction during firing in a reducing atmosphere during the manufacture of multilayer ceramic capacitors. There are no particular restrictions on the lower limit of the oxygen content. As explained above in the surface composition, this nickel powder has an oxide film primarily composed of NiO on the surface, so the effective lower limit is approximately 0.5% by mass. The oxygen content can be measured, for example, using an oxygen analyzer using the inert gas fusion method.

本発明に係るニッケル粉末の平均粒径は、近年の積層セラミックコンデンサの内部電極の薄層化に対応するという観点から、0.03μm~0.4μmとするのが好ましい。もちろん平均粒径が0.4μmを超えるニッケル粉末にも適用することを妨げるものではない。なお平均粒径は、ニッケル粉末を走査電子顕微鏡(SEM)で観察し、その写真像における全様が確認できる粒子の径を求め、その数平均の粒径である。 The average particle size of the nickel powder according to the present invention is preferably 0.03 μm to 0.4 μm, in order to accommodate the recent trend toward thinner internal electrodes in multilayer ceramic capacitors. Of course, this does not preclude the use of nickel powder with an average particle size of more than 0.4 μm. The average particle size is determined by observing the nickel powder with a scanning electron microscope (SEM) and determining the diameter of the particles that can be seen in full detail in the photograph, and then calculating the number average particle size.

本発明のニッケル粉末のように、積層セラミックコンデンサの内部電極に適用可能なニッケル粉末は、その触媒活性を抑制するため、通常、微量の硫黄を含有している場合がある。これは、ニッケル粒子の表面は触媒活性が高く、例えば硫黄等を含有させずにそのまま使用すると、積層セラミックコンデンサ製造時の脱バインダー処理において、ニッケル粉末が内部電極ペーストに含まれるエチルセルロース樹脂等のバインダー樹脂の熱分解を促進し、低温からバインダー樹脂が分解されて、積層体としての強度が大幅に低下すると同時に、分解ガスが多量に発生して積層体にクラックが発生しやすくなる場合があるためである。一方、ニッケル粉末に硫黄を含有させたとしても、ニッケル粉末の酸素含有率によっては、積層体にクラックが発生する場合もあり、後述するようにニッケル粉末の硫黄含有率と酸素含有率との組成バランスを考慮する必要がある。 Nickel powders suitable for use in the internal electrodes of multilayer ceramic capacitors, such as the nickel powder of the present invention, may typically contain trace amounts of sulfur to suppress their catalytic activity. This is because the surfaces of nickel particles have high catalytic activity. If used as is without adding sulfur, for example, the nickel powder promotes the thermal decomposition of binder resins, such as ethyl cellulose resin, contained in the internal electrode paste during the binder removal process in the manufacture of multilayer ceramic capacitors. This causes the binder resin to decompose at low temperatures, significantly reducing the strength of the laminate. At the same time, large amounts of decomposition gas are generated, which can make the laminate more susceptible to cracking. On the other hand, even if sulfur is added to the nickel powder, cracks may still occur in the laminate depending on the oxygen content of the nickel powder. Therefore, as described below, it is necessary to consider the compositional balance between the sulfur content and oxygen content of the nickel powder.

上記のように、ニッケル粉末に硫黄を含有させるには、ニッケル粒子の表面に硫黄を付着させる表面処理を行い、ニッケル粒子表面全体が、薄く、かつ均一に硫黄で修飾(コーティング)していることが、上記バインダー樹脂の分解抑制効果の発現や不純物としての硫黄の積層セラミックコンデンサ特性への影響低減の観点からすると、最も好ましい。ただし、上記バインダー樹脂の分解抑制の効果が発揮できれば、ニッケル粒子の一部を修飾(コーティング)している修飾(コーティング)状態であってもよい。本発明では、このようなニッケル粒子の全体の修飾(コーティング)、および一部の修飾(コーティング)を包括する概念として、“表面処理”を用いている。 As mentioned above, to incorporate sulfur into nickel powder, surface treatment is performed to adhere sulfur to the surfaces of the nickel particles, and the entire surface of the nickel particles is thinly and uniformly modified (coated) with sulfur. This is most preferable from the standpoint of demonstrating the binder resin decomposition inhibitory effect and reducing the impact of sulfur as an impurity on the properties of multilayer ceramic capacitors. However, as long as the binder resin decomposition inhibitory effect is achieved, the nickel particles may be partially modified (coated). In the present invention, the term "surface treatment" is used as a comprehensive concept to encompass both the entire modification (coating) of nickel particles and partial modification (coating) of nickel particles.

ニッケル粉末中の酸素含有率が1.1質量%以下の場合には、ニッケル粉末中の硫黄含有率は、0.3質量%以下である。硫黄含有率が0.3質量%を超えると硫黄に起因する内部電極欠陥が発生することがあり、好ましくは0.2質量%以下、より好ましくは0.17質量%以下がよい。硫黄含有率の下限は特に限定されることはない。 When the oxygen content in the nickel powder is 1.1% by mass or less, the sulfur content in the nickel powder is 0.3% by mass or less. If the sulfur content exceeds 0.3% by mass, internal electrode defects due to sulfur may occur, so it is preferably 0.2% by mass or less, and more preferably 0.17% by mass or less. There is no particular lower limit for the sulfur content.

ここで、積層セラミックコンデンサを製造する工程の脱バインダー処理から1300℃程度の高温で焼成での内部電極ペーストに含まれるニッケル粉末の表面のNiOやNi(OH)の挙動を考察する。ニッケル粉末の表面のNi(OH)は、昇温の過程の200℃付近の温度で水を失いNiOとなり、ニッケル粉末の表面に存在する。 Here, we consider the behavior of NiO and Ni(OH) 2 on the surface of nickel powder contained in the internal electrode paste during the binder removal process in the manufacturing process of a multilayer ceramic capacitor and firing at a high temperature of about 1300°C. Ni(OH) 2 on the surface of the nickel powder loses water at a temperature of around 200°C during the temperature rise process and becomes NiO, which exists on the surface of the nickel powder.

ニッケル表面には酸化膜(NiO)が被覆している。この酸化膜(NiO)は200~600℃(弱還元性雰囲気中での残留炭素が分解される温度帯)で還元され、酸素を放出する(NiO→Ni+1/2O)。放出された酸素は、電極内部に残留する炭素を燃焼しガス発生し、このガス圧力でクラック等の構造欠陥が生じる。酸化膜より放出(離脱)される酸素が適量であれば、電極内部に残留する炭素(バインダー)を安定に燃焼させるが、過剰な酸素が放出されるとバインダーを急激に燃焼させる。一方で酸素の放出され易さは、OとSの結合に関係があり、SはOを放出され難くする役割も担っている。そのため、ニッケル粉末の硫黄含有率、酸素含有率の組成バランスは、残炭の分解性に対して重要なファクターと言える。 The nickel surface is coated with an oxide film (NiO). This oxide film (NiO) is reduced at 200-600°C (the temperature range in which residual carbon decomposes in a weakly reducing atmosphere) and releases oxygen (NiO → Ni + 1/2O 2 ). The released oxygen burns the carbon remaining inside the electrode, generating gas, and the pressure of this gas causes structural defects such as cracks. If the amount of oxygen released (desorbed) from the oxide film is appropriate, it will stably burn the carbon (binder) remaining inside the electrode, but if excessive oxygen is released, it will rapidly burn the binder. On the other hand, the ease of oxygen release is related to the bond between oxygen and sulfur, and sulfur also plays a role in making it difficult for oxygen to be released. Therefore, the compositional balance of the sulfur and oxygen contents of the nickel powder can be said to be an important factor in determining the decomposition ability of residual carbon.

ニッケル粉末からの酸素などの不純物の各温度での放出は、不純物が微量であるため熱重量示差熱分析(TG-DTA)の時間ごとの重量減少の変化率のΔTGで推定することができる。 The release of impurities such as oxygen from nickel powder at each temperature can be estimated by the rate of change in weight loss over time, ΔTG, measured by thermogravimetric differential thermal analysis (TG-DTA), since the impurities are present in trace amounts.

図1は、実施例1~4のニッケル粉末から得られるTG-DTA評価試料を熱重量示差熱分析した結果を示す図である。図2は、比較例1のニッケル粉末から得られるTG-DTA評価試料を熱重量示差熱分析した結果を示す図である。図3は、実施例5のニッケル粉末から得られるTG-DTA評価試料を熱重量示差熱分析した結果を示す図である。 Figure 1 shows the results of thermogravimetric differential thermal analysis of TG-DTA evaluation samples obtained from the nickel powders of Examples 1 to 4. Figure 2 shows the results of thermogravimetric differential thermal analysis of TG-DTA evaluation samples obtained from the nickel powder of Comparative Example 1. Figure 3 shows the results of thermogravimetric differential thermal analysis of TG-DTA evaluation samples obtained from the nickel powder of Example 5.

ここで、TG-DTA評価試料の構成は、内部電極ペーストに使用される、ニッケル粉末、バインダー樹脂、チタン酸バリウムなどの共材である。この構成は、内部電極ペーストを誘電体グリーンシート上に印刷し、乾燥して得られる内部電極ペーストの乾燥膜の構成とほぼ同じであり、焼成される際の内部電極ペーストの乾燥膜とほぼ同じなのである。このような構成のTG-TDA評価試料で評価することで、脱バインダー処理でのニッケル粉末がバインダー樹脂に及ぼす影響を知ることができ、積層セラミックコンデンサの焼成時の際のクラック等の不具合を予測することができる。TG-DTA評価試料は、内部電極ペーストを作製し、得られた内部電極ペーストを樹脂フィルムなどに塗布し、内部電極ペーストに含まれるターピネオールなどの有機溶剤を蒸発させて除去して得られる乾燥体を粉砕することで得られる。また、内部電極ペーストは、三本ロールなどの公知の混錬装置を用いて作製できる。 The TG-DTA evaluation sample is composed of the same materials used in the internal electrode paste, such as nickel powder, binder resin, and barium titanate. This composition is nearly identical to the composition of the dried film of internal electrode paste obtained by printing the internal electrode paste on a dielectric green sheet and drying it, and is therefore nearly identical to the dried film of internal electrode paste obtained during firing. By evaluating a TG-DTA evaluation sample with this composition, we can determine the effect of nickel powder on the binder resin during the debindering process and predict defects such as cracks that may occur during firing of multilayer ceramic capacitors. The TG-DTA evaluation sample is obtained by preparing an internal electrode paste, applying the resulting internal electrode paste to a resin film, etc., and pulverizing the resulting dried product by evaporating and removing the organic solvents, such as terpineol, contained in the internal electrode paste. The internal electrode paste can also be prepared using a known kneading device, such as a three-roll mill.

例えば、図1に示すように、ニッケル粉末の硫黄含有率が、0.1質量%や0.11質量%の場合は、酸素含有率が0.91質量%から1.2質量%の範囲であっても、ニッケル粉末の熱重量示差熱分析(TG-DTA)の時間ごとの重量減少の変化率のΔTGにおいて、450℃付近をピークとする減少と、500℃付近をピークとする減少と、650℃付近をピークとする減少が確認される。一方、図2(比較例1)に示すようにニッケル粉末の酸素含有率が1.1質量%を超えて、ニッケル粉末の硫黄含有率が、0.13質量%の場合には、ニッケル粉末の熱重量示差熱分析(TG-DTA)の時間ごとの重量減少の変化率のΔTGにおいて350℃付近をピークとする減少と450℃付近をピークとする減少と650℃付近をピークとする減少が発生している。 For example, as shown in Figure 1, when the sulfur content of the nickel powder is 0.1% by mass or 0.11% by mass, even when the oxygen content is in the range of 0.91% by mass to 1.2% by mass, the ΔTG, which is the rate of change in weight loss over time in thermogravimetric differential thermal analysis (TG-DTA) of the nickel powder, shows peaks around 450°C, 500°C, and 650°C. On the other hand, as shown in Figure 2 (Comparative Example 1), when the oxygen content of the nickel powder exceeds 1.1% by mass and the sulfur content of the nickel powder is 0.13% by mass, the ΔTG, which is the rate of change in weight loss over time in thermogravimetric differential thermal analysis (TG-DTA) of the nickel powder, shows peaks around 350°C, 450°C, and 650°C.

さらに、図3(実施例5)に示すように、ニッケル粉末の硫黄含有率が0.17質量%であっても酸素含有率が1質量%であれば、図2(比較例1)のような、370℃付近のΔTGのピークは出現しない。 Furthermore, as shown in Figure 3 (Example 5), even if the sulfur content of the nickel powder is 0.17% by mass, if the oxygen content is 1% by mass, the ΔTG peak near 370°C as shown in Figure 2 (Comparative Example 1) does not appear.

図1と図2の相違点は、図1のΔTGのピークは450℃付近と500℃付近と650℃付近に出現するのに対し、図2の酸素含有率が1.2質量%で硫黄含有率が、0.13質量%のニッケル粉末では、ΔTGのピークは370℃付近に出現することである。 The difference between Figure 1 and Figure 2 is that the ΔTG peaks in Figure 1 appear around 450°C, 500°C, and 650°C, whereas in Figure 2, for nickel powder with an oxygen content of 1.2% by mass and a sulfur content of 0.13% by mass, the ΔTG peak appears around 370°C.

図3(実施例5)のニッケル粉末は、395℃にΔTGのピークが出願するが、MLCCの焼成時のクラック発生の懸念はない。つまり、ニッケル粉末の硫黄含有率と酸素含有率の範囲によって内部電極ペーストのバインダー樹脂の熱分解挙動が異なり、脱バインダーが低温から起こると、燃焼ガスによるクラック等の構造欠陥が発生し易くなる。具体的にはΔTGの減少のピークが390℃以下に発現しているときは、ニッケル粉末から発生するOに起因し、脱バインダーが低温から発生する。 The nickel powder in Figure 3 (Example 5) has a ΔTG peak at 395°C, but there is no concern about cracking during firing of the MLCC. In other words, the thermal decomposition behavior of the binder resin in the internal electrode paste varies depending on the sulfur and oxygen content ranges of the nickel powder, and if debinding occurs at low temperatures, structural defects such as cracks caused by combustion gases are more likely to occur. Specifically, when the peak of the ΔTG decrease appears below 390°C, debinding occurs at low temperatures due to O generated from the nickel powder.

硫黄含有率は、含有量の分析で用いられる分析機器、例えば燃焼法による硫黄分析装置で検出限界以下でもよい。 The sulfur content may be below the detection limit of analytical equipment used to analyze the content, such as a sulfur analyzer using the combustion method.

すなわち、ニッケル粉末中の酸素含有率が1.1質量%以下の場合には、ニッケル粉末中の硫黄含有率が0.3質量%以下であることで、ΔTGの減少のピークが390℃以下に発現しないため、脱バインダーが低温から起こらず、燃焼ガスによるクラック等の構造欠陥が発生しない。 In other words, when the oxygen content in the nickel powder is 1.1% by mass or less, and the sulfur content in the nickel powder is 0.3% by mass or less, the peak of the decrease in ΔTG does not appear below 390°C, so debinding does not occur at low temperatures and structural defects such as cracks caused by combustion gases do not occur.

また、ニッケル粉末中の酸素含有率が1.1質量%を超える場合には、ニッケル粉末中の硫黄含有率の百分率と酸素含有率の百分率を乗じた値が0.15以下であることで、ΔTGの減少のピークが390℃以下に発現しないため、脱バインダーが低温から起こらず、燃焼ガスによるクラック等の構造欠陥が発生しない。 Furthermore, when the oxygen content in the nickel powder exceeds 1.1% by mass, the value obtained by multiplying the percentage of sulfur content in the nickel powder by the percentage of oxygen content is 0.15 or less, so the peak of the decrease in ΔTG does not appear below 390°C, debinding does not occur at low temperatures, and structural defects such as cracks caused by combustion gases do not occur.

また、本実施形態のニッケル粉末は、相対圧P/P=0.5における単位面積当たりのHO吸着量が0.10mg/m以上0.70mg/m以下であることが望ましく、0.11mg/m以上0.6mg/mがさらに望ましい。ここで、相対圧とは、一定の吸着温度で吸着平衡状態の圧力である吸着平衡圧と飽和蒸気圧の比を言う。 Furthermore, the nickel powder of this embodiment preferably has an H 2 O adsorption amount per unit area at a relative pressure P/P 0 = 0.5 of 0.10 mg/m 2 or more and 0.70 mg/m 2 or less, and more preferably 0.11 mg/m 2 or more and 0.6 mg/m 2. Here, the relative pressure refers to the ratio of the adsorption equilibrium pressure, which is the pressure at which the adsorption equilibrium state occurs at a constant adsorption temperature, to the saturated vapor pressure.

使用するニッケル粉末表面の親水性・疎水性の強さによって、溶媒やビヒクルとの濡れ性が変化し、特に微細化の進む微粉の凝集体の解砕や分散性に大きく影響する。ニッケル粉末のHO吸着量が0.10mg/(m/g)未満であると、疎水性が強すぎてバインダーや溶剤との濡れが低下するため好ましくなく、また、ニッケル粉末のHO吸着量が0.70mg/(m/g)を超えると親水性が強くなり過ぎてバインダーとの親和性が低下するため好ましくない。 The wettability of the nickel powder with solvents and vehicles changes depending on the strength of the hydrophilicity/hydrophobicity of the surface, which significantly affects the disintegration and dispersibility of fine powder agglomerates, particularly as they become increasingly finer. If the H2O adsorption amount of the nickel powder is less than 0.10 mg/( m2 /g), the hydrophobicity becomes too strong, which is undesirable, and the wettability with binders and solvents decreases. On the other hand, if the H2O adsorption amount of the nickel powder exceeds 0.70 mg/( m2 /g), the hydrophilicity becomes too strong, which is undesirable, and the affinity with the binder decreases.

ニッケル粉末表面への界面活性剤の吸着がし難くなると、溶媒やビヒクルとの濡れ性が悪化する場合もあり、凝集体の解砕や、再凝集の抑制が不十分となり、導電性ペーストの粘度安定性が低下したり、乾燥膜の表面平滑性に劣ったりするため好ましくない。 If it becomes difficult for the surfactant to adsorb to the nickel powder surface, wettability with the solvent or vehicle may deteriorate, resulting in insufficient disintegration of agglomerates and insufficient prevention of re-agglomeration, which can lead to reduced viscosity stability of the conductive paste and poor surface smoothness of the dried film, which is undesirable.

導電性粉末にニッケル粉末を用いる場合、その表面組成として、NiOの物質量が50モル%以上であることが好ましい。NiOの物質量が50モル%未満では、分散剤およびバインダー樹脂の吸着状態が適正でないことから、その結果、粘度安定性が低下するため好ましくない。 When using nickel powder as the conductive powder, it is preferable that the surface composition contain 50 mol% or more of NiO. If the amount of NiO is less than 50 mol%, the dispersant and binder resin will not be properly adsorbed, resulting in reduced viscosity stability, which is undesirable.

<2.ニッケル粉末の製造方法>
本発明に係るニッケル粉末は、例えば湿式法にて水溶液中で還元反応により晶析させたニッケル粒子等、スラリー状態のニッケル粒子をろ過し、低酸素分圧下で乾燥させることで製造される。
<2. Nickel powder manufacturing method>
The nickel powder according to the present invention is produced by filtering nickel particles in a slurry state, such as nickel particles crystallized by a reduction reaction in an aqueous solution using a wet method, and drying the filtered particles under a low oxygen partial pressure.

ここで用いられるニッケル粒子は、表面に水酸化ニッケル等は存在するものの、粒子生成後、大気に暴露されていない状態であることが好ましく、ろ過する前の湿式法で生成されたニッケル粒子が好適である。もちろん気相還元法やプラズマ法等の乾式法や噴霧熱分解法により生成されたニッケル粒子を洗浄でスラリー状態として、以下に説明する方法を適用することもできるが、乾式法等これらの方法で生成されたニッケル粒子は大気に暴露されて、表面はある程度酸化している。従って、ニッケル粒子を含むスラリー(以降、「ニッケルスラリー」とすることもある)にニッケル酸化物を溶解することができる酸や錯化剤を添加して、表面の酸化物を除去することが好ましい。 The nickel particles used here preferably have nickel hydroxide and the like on their surface, but are not exposed to the atmosphere after particle generation; nickel particles generated by a wet method before filtration are preferred. Of course, nickel particles generated by dry methods such as gas-phase reduction or plasma methods, or spray pyrolysis methods, can also be washed into a slurry state and the method described below can be applied, but nickel particles generated by these methods, such as dry methods, are exposed to the atmosphere and have a certain degree of surface oxidation. Therefore, it is preferable to remove the surface oxides by adding an acid or complexing agent capable of dissolving nickel oxides to a slurry containing nickel particles (hereinafter sometimes referred to as "nickel slurry").

ニッケルスラリーは、ニッケル粒子や溶媒に含まれる不純物成分を除去するために、洗浄液や溶媒を追加して洗浄を行ってもよい。洗浄方法は公知の方法を用いることができるが、スラリー中のニッケル粒子が大気に暴露されることがない方法を用いればよく、例えば、洗浄液や溶媒の追加とデカンテーションを繰り返す等が好適である。 The nickel slurry may be washed by adding a cleaning solution or solvent to remove impurities contained in the nickel particles or solvent. Any known cleaning method can be used, as long as the nickel particles in the slurry are not exposed to the atmosphere. For example, repeatedly adding and decanting the cleaning solution or solvent is preferable.

ニッケルスラリーは、ろ過してニッケルケーキとし、これを乾燥処理してニッケル粉末を得ることができる。ろ過の方法は特に限定されることはなく公知の方法を用いることができるが、ニッケル粒子が直接大気に暴露しないように、湿潤状態のニッケルケーキが乾燥処理に供されることが好ましい。 The nickel slurry can be filtered to produce a nickel cake, which can then be dried to obtain nickel powder. There are no particular restrictions on the filtration method, and any known method can be used, but it is preferable to subject the wet nickel cake to the drying process so that the nickel particles are not directly exposed to the atmosphere.

乾燥処理としては、公知の雰囲気を調整可能な加熱乾燥や減圧下での加熱乾燥を用いることができるが、条件として少なくとも酸素分圧を0.3kPa~5kPa、好ましくは0.5kPa~3kPaに制御された低酸素雰囲気下で加熱乾燥させることが好ましい。具体的には、大気を減圧すればよい。このような低酸素雰囲気下で加熱乾燥されることで、酸化の進行が遅くなり、表面の成分組成としてNiの物質量が13モル%以上35モル%以下のニッケル粉末を得ることができる。 The drying process can be performed by known heat drying methods capable of adjusting the atmosphere or heat drying under reduced pressure, but it is preferable to heat dry in a low-oxygen atmosphere in which the oxygen partial pressure is controlled to at least 0.3 kPa to 5 kPa, preferably 0.5 kPa to 3 kPa. Specifically, the atmospheric pressure can be reduced. Heat drying in such a low-oxygen atmosphere slows down the progress of oxidation, and nickel powder can be obtained in which the amount of Ni in the surface composition is 13 mol % to 35 mol %.

また、乾燥処理の乾燥温度は60℃~160℃とすればよい。乾燥温度を60℃未満としてもよいが、乾燥時間が長くなり生産性が低下してしまうおそれがある。乾燥温度が高くなるほど表面の成分組成のうちNi(OH)が加熱分解されてNiOに転換されるので好ましく、特に乾燥温度を100℃以上とするのがより好ましい。しかしながら、乾燥温度を高くするほど乾燥凝集が激しく、ニッケル粒子同士の固着も強固となり、後述する解砕処理を行っても凝集したニッケル粒子が解きほぐれないことがある。乾燥凝集については乾燥温度だけでなく、乾燥時間や雰囲気条件も影響するが、乾燥温度としては160℃以下が好ましく、155℃以下とするのがさらに好ましい。 The drying temperature for the drying treatment may be 60°C to 160°C. The drying temperature may be lower than 60°C, but this may result in a longer drying time and reduced productivity. A higher drying temperature is preferable because the Ni(OH) 2 in the surface component composition is thermally decomposed and converted to NiO, and a drying temperature of 100°C or higher is particularly preferable. However, the higher the drying temperature, the more severe the drying agglomeration becomes, and the stronger the adhesion between nickel particles becomes. Even with the crushing treatment described below, the agglomerated nickel particles may not be disintegrated. Drying agglomeration is affected not only by the drying temperature but also by the drying time and atmospheric conditions, but a drying temperature of 160°C or lower is preferable, and 155°C or lower is even more preferable.

乾燥処理の乾燥時間については、特に限定されることはないが、20分~24時間とするのが好ましい。これらの乾燥処理条件を調整することで、XPSを用いて測定された表面の成分組成が、Niの物質量は13モル%以上35モル%以下であり、NiOの物質量は50モル%以上であり、Ni(OH)の物質量は0モル%を超えて30モル%以下となる酸化被膜がニッケル粉末に形成される。 The drying time for the drying treatment is not particularly limited, but is preferably 20 minutes to 24 hours. By adjusting these drying treatment conditions, an oxide coating is formed on the nickel powder, whose surface composition, as measured by XPS, is such that the amount of Ni is 13 mol % to 35 mol %, the amount of NiO is 50 mol % or more, and the amount of Ni(OH) 2 is more than 0 mol % to 30 mol %.

乾燥処理を経たニッケル粉末は、乾燥凝集により粒子同士が結合していることもあるので、解砕処理を行って凝集したニッケル粒子を解きほぐすのが好ましい。解砕処理では、スパイラルジェット解砕処理、カウンタージェットミル解砕処理等の乾式解砕方法や、高圧流体衝突解砕処理等の湿式解砕方法、その他の汎用の解砕方法を適用することが可能である。 Since nickel powder that has undergone drying may have particles bonded together due to dry agglomeration, it is preferable to carry out a crushing process to loosen the agglomerated nickel particles. For crushing, dry crushing methods such as spiral jet crushing and counter jet mill crushing, wet crushing methods such as high-pressure fluid collision crushing, and other general-purpose crushing methods can be used.

上記説明したニッケル粉末を製造するに当たって好適な、湿式法にて水溶液中で還元反応により晶析させたニッケル粒子の一例として、以下、特許文献3に記載されたニッケル粒子の晶析方法を説明する。 As an example of nickel particles crystallized by a reduction reaction in an aqueous solution using a wet method, which is suitable for producing the nickel powder described above, the crystallization method for nickel particles described in Patent Document 3 will be described below.

このニッケル粒子を湿式法で析出させる方法では、少なくとも水溶性のニッケル塩、ニッケルよりも貴な金属の塩、還元剤であるヒドラジン、及び水酸化アルカリと水とを混合した反応液に、アミン化合物を添加して、ニッケル塩をヒドラジンで還元することでニッケル粒子を晶析させる。さらにスルフィド化合物も反応液に添加してもよい。 In this wet method for precipitating nickel particles, an amine compound is added to a reaction solution containing at least a water-soluble nickel salt, a salt of a metal nobler than nickel, hydrazine as a reducing agent, and a mixture of alkali hydroxide and water, and the nickel salt is reduced with hydrazine to crystallize the nickel particles. A sulfide compound may also be added to the reaction solution.

ニッケル塩は、水に易溶であるニッケル塩であれば特に限定されることはなく、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、硝酸ニッケルから選ばれる1種以上を用いることができる。 The nickel salt is not particularly limited as long as it is readily soluble in water, and one or more selected from nickel chloride, nickel sulfate, and nickel nitrate can be used.

ニッケルよりも貴な金属をニッケル塩溶液に含有させることで、ニッケルを還元晶析させる際に、ニッケルよりも貴な金属が先に還元されて初期核となる核剤として作用しており、この初期核から粒子成長することで微細なニッケル粒子を作製することができる。ニッケルよりも貴な金属の金属塩としては、水溶性の銅塩や、金塩、銀塩、プラチナ塩、パラジウム塩、ロジウム塩、イリジウム塩等の水溶性の貴金属塩を用いることができ、特にパラジウム塩が好ましい。パラジウム塩を用いた場合の、パラジウム塩とニッケルの割合[モルppm](パラジウム塩のモル数/ニッケルのモル数×106)は、0.2モルppm~100モルppmの範囲とするのが好ましい。 By including a metal more noble than nickel in the nickel salt solution, the metal more noble than nickel is reduced first during reduction crystallization of nickel, acting as a nucleating agent to form initial nuclei. Particle growth from these initial nuclei produces fine nickel particles. Examples of metal salts more noble than nickel include water-soluble copper salts, gold salts, silver salts, platinum salts, palladium salts, rhodium salts, and iridium salts, with palladium salts being particularly preferred. When using palladium salts, the ratio of palladium salt to nickel [moles per million] (moles of palladium salt / moles of nickel × 106) is preferably in the range of 0.2 mol ppm to 100 mol ppm.

還元剤はヒドラジンを用いるのが好ましく、無水のヒドラジンの他にヒドラジン水和物である包水ヒドラジンを用いてもかまわない。 Hydrazine is preferably used as the reducing agent, and in addition to anhydrous hydrazine, hydrazine hydrate, which is a hydrazine hydrate, may also be used.

水酸化アルカリは、ヒドラジンの還元力は反応液のpHが高いほど大きくなるため、アルカリ性を高めるpH調整剤として用いられる。水酸化アルカリとしては、アルカリ金属の水酸化物を用いるのが好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムから選ばれる1種以上とするのがより好ましい。水酸化アルカリの配合量は、反応液のpHを9.5以上、好ましくは10以上となるようにするのがよい。 Since the reducing power of hydrazine increases as the pH of the reaction solution increases, alkali hydroxide is used as a pH adjuster to increase alkalinity. The alkali hydroxide is preferably an alkali metal hydroxide, and more preferably one or more selected from sodium hydroxide and potassium hydroxide. The amount of alkali hydroxide added should be such that the pH of the reaction solution is 9.5 or higher, preferably 10 or higher.

アミン化合物は、錯化剤としての還元反応促進効果がよく知られているが、特定のアミン化合物を用いると、ヒドラジンの自己分解抑制やニッケル粒子同士の連結抑制の効果を有しているので、反応液に配合させるのが好ましい。このようなヒドラジンの自己分解抑制効果等をもつアミン化合物は、分子内に第1級アミノ基(-NH)または第2級アミノ基(-NH-)のいずれかを合わせて2個以上含有する化合物である。具体的には、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、プロピレンジアミン等を用いるのが好ましい。アミン化合物の配合量は、アミン化合物のモル数の割合[モル%](アミン化合物のモル数/ニッケルのモル数×100)として、0.01モル%~5モル%の範囲、より好ましくは0.03モル%~2モル%の範囲とする。 Amine compounds are well known for their ability to accelerate reduction reactions as complexing agents. However, specific amine compounds are preferably incorporated into the reaction solution because they have the effect of inhibiting the self-decomposition of hydrazine and inhibiting the bonding of nickel particles together. Amine compounds that inhibit the self-decomposition of hydrazine are compounds that contain two or more primary amino groups (-NH 2 ) or secondary amino groups (-NH-) in their molecules. Specifically, ethylenediamine, diethylenetriamine, propylenediamine, etc. are preferred. The amount of amine compound incorporated is in the range of 0.01 mol % to 5 mol %, more preferably 0.03 mol % to 2 mol %, in terms of the ratio of moles of amine compound [mol %] (moles of amine compound / moles of nickel × 100).

スルフィド化合物は、分子内にスルフィド基(-S-)を1個以上含有する化合物であるが、上記特定のアミン化合物と併用すると、ヒドラジンの自己分解抑制作用が大幅に強化され、かつニッケル粒子同士の連結抑制の効果も有している。スルフィド化合物の中で、これらの効果が顕著な化合物は、分子内にさらにカルボキシル基(-COOH)または水酸基(-OH)を少なくとも1個以上含有する化合物であり、具体的には、L-メチオニン、L-エチオニン、チオジグリコール酸等を用いるのが好ましい。スルフィド化合物の配合量は、スルフィド化合物のモル数の割合[モル%](スルフィド化合物のモル数/ニッケルのモル数×100)として、0.01モル%~5モル%の範囲、より好ましくは0.03モル%~2モル%の範囲とする。 Sulfide compounds are compounds containing one or more sulfide groups (-S-) within their molecules. When used in combination with the specific amine compounds mentioned above, they significantly enhance the ability to inhibit the self-decomposition of hydrazine and also inhibit the bonding of nickel particles together. Among sulfide compounds, compounds that exhibit these effects most prominently are those that also contain at least one carboxyl group (-COOH) or hydroxyl group (-OH) within their molecules. Specifically, L-methionine, L-ethionine, thiodiglycolic acid, etc. are preferred. The amount of sulfide compound blended should be in the range of 0.01 mol% to 5 mol%, more preferably 0.03 mol% to 2 mol%, as the molar ratio of sulfide compound [mol %] (moles of sulfide compound / moles of nickel x 100).

晶析の手順としては、水溶性のニッケル塩、ニッケルよりも貴な金属の塩、ヒドラジン、及び水酸化アルカリの各水溶液がすべて配合されて反応液が調合された時点で還元反応が開始される。反応液を調合するまでの各水溶液の配合の順番は特に限定されることはなく、どの順番で配合してもよい。アミン化合物やスルフィド化合物は、還元反応が開始される前、つまり上記各水溶液の少なくとも1つに添加しておくか調合途中で添加する、または還元反応開始後の反応液に添加する、のいずれでもかまわない。 The crystallization procedure involves mixing aqueous solutions of a water-soluble nickel salt, a salt of a metal nobler than nickel, hydrazine, and an alkali hydroxide, and the reduction reaction begins when the reaction solution is prepared. The order in which the aqueous solutions are mixed before the reaction solution is prepared is not particularly limited, and they can be mixed in any order. The amine compound or sulfide compound can be added to at least one of the aqueous solutions before the reduction reaction begins, or during the preparation process, or added to the reaction solution after the reduction reaction has begun.

晶析時の温度は、反応液が調合された時点、つまり還元反応が開始する時点の反応液の温度を40℃~90℃の範囲、より好ましくは50℃~80℃とする。 The temperature during crystallization, at the time the reaction solution is prepared, i.e., at the time the reduction reaction begins, should be in the range of 40°C to 90°C, more preferably 50°C to 80°C.

以下、本発明について、実施例を用いてさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではない。なお、ニッケル粉末の特性として、平均粒径、表面の成分組成、酸素含有率、硫黄含有率、HO吸着量を、以下の通り評価している。 The present invention will be described in more detail below using examples, but the present invention is not limited to the following examples. The properties of the nickel powder, such as average particle size, surface composition, oxygen content, sulfur content, and H 2 O adsorption, were evaluated as follows.

(平均粒径)
ニッケル粉末の走査電子顕微鏡(SEM、JEOL Ltd.製、JSM-7100F)を用いた観察像(SEM像)で観察し、その写真像から画像解析により全様が確認できる粒子の径を求め、その数平均の粒径を平均粒径とした。
(Average particle size)
The nickel powder was observed using a scanning electron microscope (SEM, manufactured by JEOL Ltd., JSM-7100F) to take an image (SEM image), and the diameter of particles whose entire shape could be confirmed was determined from the photographic image by image analysis, and the number average particle size was taken as the average particle size.

(表面の成分組成)
ニッケル粉末の表面組成は、XPS(アルバック・ファイ社製、Versa ProbeII)を用い、ニッケルのNi2pスペクトルからピークフィッティング法による波形分離を行うことで、Niピークの面積、NiOピークの面積、Ni(OH)の面積を算出し、それらの面積比からNi、NiO、Ni(OH)のモル%を求めた。
(Surface composition)
The surface composition of the nickel powder was determined by using XPS (Versa Probe II, manufactured by ULVAC-PHI, Inc.) to perform waveform separation from the Ni2p spectrum of nickel by peak fitting to calculate the areas of the Ni peak, NiO peak, and Ni(OH) 2 , and then determining the mole percentages of Ni, NiO, and Ni(OH) 2 from the area ratios of these peaks.

(酸素含有率)
不活性ガス溶融法による酸素分析装置(LECO Corporation製、TC436)を用いて、測定した。
(Oxygen content)
The measurement was carried out using an oxygen analyzer (TC436, manufactured by LECO Corporation) using an inert gas fusion method.

(硫黄含有率)
燃焼法による硫黄分析装置(LECO Corporation社製、CS600)を用いて、測定した。
(Sulfur content)
The measurement was carried out using a sulfur analyzer (CS600, manufactured by LECO Corporation) based on a combustion method.

(HO吸着量)
ニッケル粉末を25℃、8時間真空脱気した後、ニッケル粉末の比表面積を吸着質に窒素を用いて比表面積・細孔分布測定装置(マイクロトラックベル社製、BELSORP-miniX)で測定した。また、ニッケル粉末を25℃、8時間真空脱気した後、ニッケル粉末の25℃でのHO吸着量を高精度蒸気吸着量測定装置(マクイロトラックベル社製 BELSORP-AQUA 3)で吸着脱離等温線を測定した。ニッケル粉末の吸着脱離等温線の相対圧(P/P)が0.5のHO吸着量を求めた。得られた相対圧(P/P)が0.5のHO吸着量を比表面積で割り、単位面積当たりのHO吸着量を算出した。
( H2O adsorption amount)
The nickel powder was degassed under vacuum at 25°C for 8 hours, and then the specific surface area of the nickel powder was measured using nitrogen as the adsorbate with a specific surface area/pore distribution measuring device (Microtrackbell, BELSORP-miniX). Furthermore, the nickel powder was degassed under vacuum at 25°C for 8 hours, and then the adsorption/desorption isotherm of the H2O adsorption amount of the nickel powder at 25°C was measured using a high-precision vapor adsorption measuring device (Microtrackbell, BELSORP-AQUA 3 ). The H2O adsorption amount at a relative pressure (P/ P0 ) of 0.5 in the adsorption/desorption isotherm of the nickel powder was determined. The obtained H2O adsorption amount at a relative pressure (P/P0) of 0.5 was divided by the specific surface area to calculate the H2O adsorption amount per unit area.

(実施例)
[晶析工程]
特許文献3に記載の方法を用いて、還元反応によりニッケル粒子を晶析させた。具体的には、純水100Lにニッケル質量で5kgの塩化ニッケル6水和物を溶解させ、ニッケル塩溶液を作製した。このニッケル塩溶液にニッケルに対して0.5モル%のL-メチオニン水溶液、ニッケルに対して0.5質量ppmの塩化パラジウム(II)アンモニウム水溶液、60%抱水ヒドラジン、25質量%の水酸化ナトリウム水溶液の順に添加して反応液を調合し、還元反応による晶析を開始した。その後反応液にニッケルに対して1.0モル%のエチレンジアミン水溶液を添加し、ニッケル粒子を晶析させた。液中のニッケル成分はすべて金属ニッケルに還元されていることを確認した。
(Example)
[Crystallization process]
Using the method described in Patent Document 3, nickel particles were crystallized by a reduction reaction. Specifically, 5 kg of nickel chloride hexahydrate (based on nickel mass) was dissolved in 100 L of pure water to prepare a nickel salt solution. A 0.5 mol % L-methionine aqueous solution (based on nickel), a 0.5 ppm palladium (II) chloride ammonium aqueous solution (based on nickel mass), 60% hydrazine hydrate, and a 25% sodium hydroxide aqueous solution were added in this order to prepare a reaction solution, and crystallization by reduction reaction was initiated. Subsequently, a 1.0 mol % ethylenediamine aqueous solution (based on nickel mass) was added to the reaction solution, and nickel particles were crystallized. It was confirmed that all of the nickel components in the solution had been reduced to metallic nickel.

[洗浄・ろ過工程]
晶析工程により得たスラリー状のニッケルスラリーを、まず静置してニッケル粒子を沈降させ、デカンテーションで上澄み液を除去し、純水と硫酸水溶液を除去した上澄み液と同量程度添加して、pH8.3のニッケルスラリーとした。このニッケルスラリーにチオグリコール酸を添加し、ニッケル粒子の表面処理を施した後、静置してニッケル粒子を沈降させデカンテーションで上澄み液を除去した。なお、デカンテーション時にはニッケル粒子が大気に暴露されない程度に液を残した。
[Cleaning and filtration process]
The nickel slurry obtained by the crystallization step was first left to settle, the supernatant was removed by decantation, and the same amount of the supernatant as that from which the pure water and sulfuric acid aqueous solution had been removed was added to obtain a nickel slurry with a pH of 8.3. Thioglycolic acid was added to this nickel slurry to perform surface treatment of the nickel particles, and then the nickel slurry was left to settle, and the supernatant was removed by decantation. During decantation, enough liquid was left to prevent the nickel particles from being exposed to the atmosphere.

その後、タナベウィルテック製遠心分離機(型式CO-24)にニッケルスラリーを移送し、常にニッケル粒子が大気に暴露されないように純水流量を調整してろ過洗浄し、固液分離して湿潤状態のニッケルケーキを得た。 The nickel slurry was then transferred to a Tanabe Willtec centrifuge (model CO-24), where it was filtered and washed with purified water while adjusting the flow rate to ensure that the nickel particles were not exposed to the air at all times, and solid-liquid separation was carried out to obtain a wet nickel cake.

[乾燥工程]
湿潤状態のニッケルケーキを、EYELA製定置式真空乾燥機(型式VOS-451SD)を用いて乾燥を行った。条件としては、乾燥温度を表1の温度とし、昇温開始から乾燥温度に到達しその後30℃まで降温されるまで減圧し6kPaの圧力となるように空気を導入した。乾燥雰囲気の酸素分圧は1.2kPaであった。また、乾燥温度が100℃以上に保持される時間を45分以上とした。乾燥温度が30℃まで降温したら空気導入量を徐々に増加させて大気圧に戻して乾燥を終え、ニッケル粉末を得た。
[Drying process]
The wet nickel cake was dried using an EYELA stationary vacuum dryer (model VOS-451SD). The drying conditions were as shown in Table 1, and the pressure was reduced from the start of temperature increase until the drying temperature was reached and the temperature was then lowered to 30°C, with air being introduced to a pressure of 6 kPa. The oxygen partial pressure in the drying atmosphere was 1.2 kPa. The drying temperature was maintained at 100°C or higher for 45 minutes or longer. Once the drying temperature had lowered to 30°C, the amount of air introduced was gradually increased to return to atmospheric pressure, and drying was completed, yielding nickel powder.

[ペースト化とTG-DTA評価試料の作製]
得られたニッケル粉末を用いて内部電極ペーストを作製した。内部電極ペーストは、ニッケル粉末100質量部に対し、エチルセルロース4質量部、ポリビニルブチラール樹脂2質量部、チタン酸バリウム粉末10質量部となるように配合した。また、エチルセルロースとポリビニルブチラール樹脂は、予めターピネオールに溶解したビヒクルを作製し、内部電極ペースト作製の際に加えた。得られた内部電極ペーストをPETフィルム上に塗布し、120℃の乾燥炉でターピネオールを蒸発させて除去して乾燥膜を得た。得られた乾燥膜を乳鉢で砕きTG-DTA評価試料とした。TG-DTA試料はニッケル粉末のほか、エチルセルロース、ポリビニルブチラール樹脂、チタン酸バリウム粉末から構成されている。この構成は、内部電極ペーストが誘電体グリーンシートに印刷され、その後乾燥された乾燥膜の構成、すなわち、焼成される際の内部電極ペーストの乾燥膜とほぼ同じ構成となっている。
[Paste formation and preparation of TG-DTA evaluation sample]
An internal electrode paste was prepared using the obtained nickel powder. The internal electrode paste was formulated so that 100 parts by mass of nickel powder contained 4 parts by mass of ethyl cellulose, 2 parts by mass of polyvinyl butyral resin, and 10 parts by mass of barium titanate powder. Furthermore, the ethyl cellulose and polyvinyl butyral resin were dissolved in terpineol in advance to prepare a vehicle, which was then added during the preparation of the internal electrode paste. The obtained internal electrode paste was applied to a PET film, and the terpineol was evaporated and removed in a drying oven at 120°C to obtain a dried film. The obtained dried film was crushed in a mortar to prepare a TG-DTA evaluation sample. The TG-DTA sample contained nickel powder, ethyl cellulose, polyvinyl butyral resin, and barium titanate powder. This composition was approximately the same as the composition of a dried film obtained by printing the internal electrode paste on a dielectric green sheet and then drying it, i.e., the dried film of the internal electrode paste when fired.

[評価]
得られた実施例1~5および比較例1のニッケル粉末の平均粒径、表面の成分組成、硫黄と酸素の含有率を測定した。結果を表1にまとめて示す。
[evaluation]
The average particle size, surface composition, and sulfur and oxygen contents of the obtained nickel powders of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were measured. The results are summarized in Table 1.

また、得られた実施例1~5および比較例1のニッケル粉末から得られたTG-DTA評価試料について熱重量示差熱分析(TG-DTA)測定し、時間ごとの重量減少の変化率のΔTGを求めた。また、表1にΔTGの低温側のピーク温度を示す。TG-DTAの昇温条件は室温から310℃まで5℃/分で昇温し、310℃で3時間保持しその後、室温まで冷却する第一次脱バインダー処理過程と、さらに室温から5℃/分で800℃まで昇温させその後、室温まで冷却する第二次脱バインダー処理過程の温度プリファイルとした。また、第一次脱バインダー処理過程の雰囲気はNガスとし、第二次脱バインダー処理過程の雰囲気は、2%HとNの混合ガスとした。表1において、表面の組成の単位はモル%、SとOの含有率の単位は質量%である。 In addition, TG-DTA evaluation samples obtained from the nickel powders of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were subjected to thermogravimetric differential thermal analysis (TG-DTA) to determine the rate of change in weight loss over time, ΔTG. Table 1 also shows the low-temperature peak temperatures of ΔTG. The TG-DTA heating conditions were a first debinding process in which the temperature was increased from room temperature to 310°C at 5°C/min, held at 310°C for 3 hours, and then cooled to room temperature. The second debinding process was a temperature profile in which the temperature was increased from room temperature to 800°C at 5°C/min and then cooled to room temperature. The atmosphere in the first debinding process was N2 gas, and the atmosphere in the second debinding process was a mixed gas of 2% H2 and N2 . In Table 1, the surface composition is expressed in mol%, and the S and O contents are expressed in mass%.

さらに、得られた実施例1~5および比較例1のニッケル粉末について単位面積当たりのHO吸着量を算出した。結果を表2に示す。表2において、HO吸着量の単位はmg/mである。 Furthermore, the amount of H 2 O adsorption per unit area was calculated for the obtained nickel powders of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1. The results are shown in Table 2. In Table 2, the unit of the amount of H 2 O adsorption is mg/m 2 .

表1に示されるように、所定の硫黄含有率、酸素含有率である実施例1~5は、390℃付近より高い温度にΔTGのピークが見られる。一方、本実施形態の範囲外の硫黄含有率、酸素含有率の比較例1は、390℃付近より低い温度にΔTGのピークが見られる。比較例1に係るニッケル粉末を用いた内部電極ペーストで積層セラミックコンデンサを製造すると、クラック等の不具合が発生する恐れがある。 As shown in Table 1, Examples 1 to 5, which have specified sulfur and oxygen contents, show ΔTG peaks at temperatures higher than approximately 390°C. On the other hand, Comparative Example 1, which has sulfur and oxygen contents outside the range of this embodiment, shows ΔTG peaks at temperatures lower than approximately 390°C. When a multilayer ceramic capacitor is manufactured using an internal electrode paste containing the nickel powder of Comparative Example 1, defects such as cracks may occur.

以上、本発明であれば、積層セラミックコンデンサの製造時にクラックやデラミネーションの発生を抑制できるニッケル粉末を提供することができる。
また、単位面積当たりのHO吸着量は、比較例1が最も低いことが分かった。
As described above, the present invention can provide a nickel powder that can suppress the occurrence of cracks and delamination during the production of multilayer ceramic capacitors.
It was also found that the amount of H 2 O adsorbed per unit area was the lowest in Comparative Example 1.

Claims (3)

表面にNiOを主とする酸化被膜を有するニッケル粉末であって、
X線光電子分光法(XPS)を用いて測定された前記ニッケル粉末の表面の成分組成において、Ni、NiOおよびNi(OH)の合計に対するNiの物質量は13モル%以上35モル%以下であり、NiOの物質量は50モル%以上であり、Ni(OH)の物質量は0モル%を超えて30モル%以下であり、
酸素含有率が1.1質量%以下の場合には、硫黄含有率が0.17質量%以下であり、
酸素含有率が1.1質量%を超える場合には、硫黄含有率の百分率と酸素含有率の百分率を乗じた値が0.15以下である、ニッケル粉末。
A nickel powder having an oxide coating mainly composed of NiO on its surface,
In the component composition of the surface of the nickel powder measured using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), the amount of Ni relative to the total of Ni, NiO, and Ni(OH) 2 is 13 mol% or more and 35 mol% or less, the amount of NiO is 50 mol% or more, and the amount of Ni(OH) 2 is more than 0 mol% and 30 mol% or less;
When the oxygen content is 1.1% by mass or less, the sulfur content is 0.17 % by mass or less,
A nickel powder in which, when the oxygen content exceeds 1.1 mass %, the value obtained by multiplying the percentage of the sulfur content by the percentage of the oxygen content is 0.15 or less.
平均粒径が0.03μm~0.4μmである請求項1に記載のニッケル粉末。 The nickel powder according to claim 1, having an average particle size of 0.03 μm to 0.4 μm. 相対圧P/P=0.5における単位面積当たりのHO吸着量が0.10mg/m以上0.70mg/m以下である請求項1あるいは請求項2に記載のニッケル粉末。 3. The nickel powder according to claim 1, wherein the amount of H 2 O adsorbed per unit area at a relative pressure P/P 0 =0.5 is 0.10 mg/m 2 or more and 0.70 mg/m 2 or less.
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