JP7740913B2 - Copper powder with coating layer and method for producing same - Google Patents
Copper powder with coating layer and method for producing sameInfo
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Description
本発明は、コーティング層を有する銅粉及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to copper powder having a coating layer and a method for producing the same.
銅粉の酸化は、銅粉の製造直後から開始し、銅粉の形態で保管している間に進行するため、銅粉の酸化を防止する技術が開発されている。例えば、特許文献1には、酸化による変色が起こりにくい銅粉として、表面の明度L*が46.3以上である銅粉が提案されており、銅粉がトリアゾール化合物を含む防錆剤を有することが記載されている。 Since oxidation of copper powder begins immediately after its production and progresses while it is stored in powder form, technologies have been developed to prevent this oxidation. For example, Patent Document 1 proposes copper powder with a surface lightness L* of 46.3 or higher that is resistant to discoloration due to oxidation, and describes that the copper powder contains a rust inhibitor containing a triazole compound.
本発明の目的は、優れた耐酸化性を有する銅粉及びその製造方法を提供することにある。 The object of the present invention is to provide copper powder with excellent oxidation resistance and a method for producing the same.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、所定のコーティング層を銅粉に形成させたところ、耐酸化性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of extensive research into solving the above problems, the inventors discovered that forming a specific coating layer on copper powder resulted in excellent oxidation resistance, leading to the completion of the present invention.
すなわち、本発明は、
[1]
含窒素ヘテロ芳香族化合物と分子量が150,000以下のポリオールとを含むコーティング層を有する銅粉;
[2]
銅粉と、含窒素ヘテロ芳香族化合物と分子量が150,000以下のポリオールとを含むコーティング組成物とを混合する混合工程を含む、コーティング層を有する銅粉の製造方法;
等である。
That is, the present invention provides:
[1]
Copper powder having a coating layer containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a polyol having a molecular weight of 150,000 or less;
[2]
A method for producing copper powder having a coating layer, comprising a mixing step of mixing copper powder with a coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a polyol having a molecular weight of 150,000 or less;
etc.
本発明によれば、優れた耐酸化性を有する銅粉及びその製造方法を提供することができる。 The present invention provides copper powder with excellent oxidation resistance and a method for producing the same.
以下、本実施の形態に係る銅粉及びその製造方法について説明する。
本発明の一実施形態は、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング層を有する銅粉である。
The copper powder and the method for producing the same according to this embodiment will be described below.
One embodiment of the present invention is a copper powder having a coating layer containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a specific polyol.
<コーティング層を有する銅粉>
本発明の銅粉は、コーティング層を有する。コーティング層は、特に限定するものではないが、例えば、10~100mg/m2の量で銅粉上に形成することができる。また、銅粉は、銅表面とコーティング層の間に、1又は複数の他の層を有していてもよく、有していなくてもよい。また、コーティング層の表面に1又は複数の他の層を有していてもよく、有していなくてもよい。他の層としては、酸化銅被膜層、銀やニッケル等の銅とは異なる金属層、後述する表面処理工程で形成される表面処理層等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。他の層が存在する場合、他の層は、その下層である銅表面又はコーティング層の一部を被覆していてもよく、全部を被覆していてもよい。
<Copper powder with coating layer>
The copper powder of the present invention has a coating layer. The coating layer is not particularly limited, but may be formed on the copper powder in an amount of, for example, 10 to 100 mg/ m² . The copper powder may or may not have one or more other layers between the copper surface and the coating layer. The copper powder may or may not have one or more other layers on the surface of the coating layer. Examples of other layers include, but are not limited to, a copper oxide coating layer, a metal layer other than copper, such as silver or nickel, and a surface treatment layer formed in the surface treatment step described below. When other layers are present, the other layers may cover part or all of the underlying copper surface or coating layer.
<銅粉>
銅粉としては、銅を主成分とする金属粉であれば特に制限されるものではなく、例えば、純銅粉及び銅合金粉(特にCu含有量が80質量%以上の銅合金粉)を挙げることができる。銅粉は、市販のもの又は公知の手段で調製したものを使用することができる。銅粉として、湿式銅粉、電解銅粉、アトマイズ銅粉、気相還元銅粉、機械的粉砕により得られる銅粉等を用いることができる。銅粉の形状は、球状、略球状、フレーク状、葉状、樹枝状、プレート状、針状、ブドウ状等のいずれであってもよい。また、銅粉は、異なる形状の2種類以上の銅粉を混合したものであってもよい。このような銅粉は、金属粉体を取り扱うメーカーから、容易に入手可能である。さらに、上記した形状の銅粉に物理的な力を加えて、さらに形状を変形する加工をしていてもよい。銅粉のD50、すなわちレーザー回折散乱式粒度分布測定装置によって測定される体積累積粒径D50は、特に限定するものではないが、例えば0.01μm~100.0μmであってよい。
<Copper powder>
The copper powder is not particularly limited as long as it is a metal powder containing copper as a primary component, and examples thereof include pure copper powder and copper alloy powder (particularly copper alloy powder having a Cu content of 80% by mass or more). Commercially available copper powders or those prepared by known means can be used. Examples of copper powders that can be used include wet copper powder, electrolytic copper powder, atomized copper powder, vapor-phase reduced copper powder, and copper powder obtained by mechanical pulverization. The shape of the copper powder may be spherical, approximately spherical, flake-like, leaf-like, dendritic, plate-like, needle-like, or grape-like. The copper powder may also be a mixture of two or more types of copper powders with different shapes. Such copper powders are readily available from manufacturers of metal powders. Furthermore, the copper powders of the above shapes may be further deformed by applying physical force. The D50 of the copper powder, i.e., the volume-cumulative particle size D50 measured by a laser diffraction/scattering particle size distribution analyzer, is not particularly limited, but may be, for example, 0.01 μm to 100.0 μm.
<コーティング層>
コーティング層は、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含む。コーティング層に含まれる含窒素ヘテロ芳香族化合物とポリオールとの質量比は、本発明の効果が得られる範囲内であれば特に制限されるものではないが、例えば、5:40~40:5の範囲内である。
<Coating layer>
The coating layer contains a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a predetermined polyol. The mass ratio of the nitrogen-containing heteroaromatic compound to the polyol contained in the coating layer is not particularly limited as long as the effects of the present invention are achieved, but is, for example, in the range of 5:40 to 40:5.
<含窒素ヘテロ芳香族化合物>
含窒素ヘテロ芳香族化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾールとその誘導体、トリアゾールとその誘導体、テトラゾールとその誘導体、チアゾールとその誘導体、ベンゾチアゾールとその誘導体、イミダゾールとその誘導体、およびベンズイミダゾールとその誘導体が挙げられる。
本願発明において、ベンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イミダゾール、およびベンズイミダゾールの誘導体とは、これらの化合物の1又は複数の水素原子が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等を有する置換基で置換された化合物を意味する。
本願発明において、含窒素ヘテロ芳香族化合物は、後述するポリオールのヒドロキシ基と反応可能な官能基、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等を有してよい。
<Nitrogen-containing heteroaromatic compound>
Examples of nitrogen-containing heteroaromatic compounds include benzotriazole and its derivatives, triazole and its derivatives, tetrazole and its derivatives, thiazole and its derivatives, benzothiazole and its derivatives, imidazole and its derivatives, and benzimidazole and its derivatives.
In the present invention, derivatives of benzotriazole, triazole, tetrazole, thiazole, benzothiazole, imidazole, and benzimidazole refer to compounds in which one or more hydrogen atoms of these compounds have been substituted with a substituent having a hydroxy group, a carboxy group, a sulfo group, or the like.
In the present invention, the nitrogen-containing heteroaromatic compound may have a functional group capable of reacting with a hydroxy group of the polyol described below, such as a hydroxy group, a carboxy group, or a sulfo group.
ベンゾトリアゾールとその誘導体としては、1,2,3-ベンゾトリアゾール及びそのナトリウム塩、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、4-カルボキシベンゾトリアゾール、5-カルボキシベンゾトリアゾール、6-カルボキシベンゾトリアゾール、7-カルボキシベンゾトリアゾール、5,6-ジカルボキシベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2-2'-[[(メチル-1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、2-(5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3,5-ジ-t-ブチル-2-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3,5-ジ-t-アミル-2-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールが挙げられる。トリアゾールとその誘導体としては、1,2,3-トリアゾール、1,2,4-トリアゾールが挙げられる。テトラゾールとその誘導体としては、5-アミノ-1H-テトラゾール、1-フェニル-5-メルカプト-1H-テトラゾールが挙げられる。チアゾールとその誘導体としては、2-(メチルチオ)-2-チアゾリンが挙げられる。ベンゾチアゾールとその誘導体としては、ベンゾチアゾール、2-メチルベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾールが挙げられる。イミダゾールとその誘導体としては、2-メルカプト-1-メチルイミダゾールが挙げられる。ベンズイミダゾールとその誘導体としては、2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプト-5-メトキシベンズイミダゾール、2-メルカプト-5-カルボキシベンズイミダゾール、1,3-ジヒドロ-1-フェニル-2H-ベンズイミダゾール-2-チオン、2-ヒドロキシベンズイミダゾール、2-ブロモベンズイミダゾール、2-メルカプトベンズイミダゾール-5-スルホン酸ナトリウム二水和物、1-イソプロペニルベンズイミダゾール-2-オン、1-(2-プロペニル)ベンズイミダゾール-2-オン、2-メチルベンズイミダゾール、2-メルカプト-5-ニトロベンズイミダゾール、2-メルカプト-5-アミノベンズイミダゾールが挙げられる。 Benzotriazole and its derivatives include 1,2,3-benzotriazole and its sodium salt, tolyltriazole, carboxybenzotriazole, 4-carboxybenzotriazole, 5-carboxybenzotriazole, 6-carboxybenzotriazole, 7-carboxybenzotriazole, 5,6-dicarboxybenzotriazole, hydroxybenzotriazole, 1-[N,N-bis(2-ethylhexyl)aminomethyl]benzotriazole, 1-[N,N-bis(2-ethylhexyl)aminomethyl]methylbenzotriazole, 2-2'-[[(methyl-1H-benzotriazol-1-yl)methyl]imino]bisethanol, 2-(5-methyl-2-hydroxyphenyl)benzotriazole, 2-(3,5-di-t-butyl-2-hydroxyphenyl)benzotriazole, and 2-(3,5-di-t-amyl-2-hydroxyphenyl)benzotriazole. Triazole and its derivatives include 1,2,3-triazole and 1,2,4-triazole. Examples of tetrazole and its derivatives include 5-amino-1H-tetrazole and 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole. Examples of thiazole and its derivatives include 2-(methylthio)-2-thiazoline. Examples of benzothiazole and its derivatives include benzothiazole, 2-methylbenzothiazole, and 2-mercaptobenzothiazole. Examples of imidazole and its derivatives include 2-mercapto-1-methylimidazole. Benzimidazole and its derivatives include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-5-methoxybenzimidazole, 2-mercapto-5-carboxybenzimidazole, 1,3-dihydro-1-phenyl-2H-benzimidazole-2-thione, 2-hydroxybenzimidazole, 2-bromobenzimidazole, 2-mercaptobenzimidazole-5-sodium sulfonate dihydrate, 1-isopropenylbenzimidazole-2-one, 1-(2-propenyl)benzimidazole-2-one, 2-methylbenzimidazole, 2-mercapto-5-nitrobenzimidazole, and 2-mercapto-5-aminobenzimidazole.
<ポリオール>
ポリオールは、分子中にアルコール性ヒドロキシ基を2個以上有する有機化合物である。ポリオールとしては、ジオール(例えば、メチレングリコール、エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、へキシレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、ポリアルキレングリコール等)、トリオール(例えばグリセリン等)、ジグリセリン、ポリグリセリン、糖類及びその誘導体(例えば、グルコース、フルクトース、マンノース、ガラクトース、リボース等の単糖類、キシロビオース、トレハロース、マルトース、サッカロース等の二糖類、デキストリン、デンプン、グリコーゲン、セルロース等の多糖類等)、アルドン酸及びその塩(例えば、グルコン酸、グルコヘプトン酸、マンノン酸、マンノヘプトン酸、ガラクトン酸、ガラクトヘプトン酸、及びこれらのナトリウム塩、カリウム塩、アミン塩、アンモニウム塩等)、糖アルコール(例えば、エリトリトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール等)、等が挙げられる。また、ポリアルキレングリコールとしては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。また、ポリオールは、グルコース等のように、還元性を示す構造(アルデヒド基等)を有していてよい。
<Polyol>
A polyol is an organic compound having two or more alcoholic hydroxy groups in the molecule. Examples of polyols include diols (e.g., methylene glycol, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, hexylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, polyalkylene glycols, etc.), triols (e.g., glycerin, etc.), diglycerin, polyglycerin, sugars and derivatives thereof (e.g., monosaccharides such as glucose, fructose, mannose, galactose, ribose, etc.; disaccharides such as xylobiose, trehalose, maltose, saccharose, etc.; polysaccharides such as dextrin, starch, glycogen, cellulose, etc.), aldonic acids and salts thereof (e.g., gluconic acid, glucoheptonic acid, mannonic acid, mannoheptonic acid, galactonic acid, galactoheptonic acid, and sodium salts, potassium salts, amine salts, ammonium salts thereof), and sugar alcohols (e.g., erythritol, xylitol, sorbitol, mannitol, etc.). Examples of polyalkylene glycols include diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, etc. The polyol may have a structure (aldehyde group, etc.) that exhibits reducing properties, such as glucose.
本発明の一実施形態において、ポリオールの分子量は、150,000以下である。ポリオールの分子量は、例えば、100,000以下、50,000以下であってよい。なお、ここで分子量とは、ポリオールがグルコースなど単一の分子から構成され分子量分布がない場合は、分子を構成する元素の原子量の合計を意味し、ポリオールが、ポリエチレングリコールなどの合成重合物やアラビアガムなどの天然高分子のように、様々な分子量を有する分子の集合体である場合、すなわち分子量分布がある場合は、数平均分子量を意味する。ここで、数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定した値を指す。GPCの条件は以下のとおりである。
(GPC条件)
・カラム:セミミクロカラム;東ソー(株)製;2本を接続して使用
・標準試料:PStQuick B;東ソー(株)製
・移動相:N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)
・検出機器:RI
In one embodiment of the present invention, the molecular weight of the polyol is 150,000 or less. The molecular weight of the polyol may be, for example, 100,000 or less, or 50,000 or less. Here, molecular weight refers to the sum of the atomic weights of the elements constituting the molecule when the polyol is composed of a single molecule such as glucose and has no molecular weight distribution. However, when the polyol is an aggregate of molecules with various molecular weights, such as synthetic polymers such as polyethylene glycol or natural polymers such as gum arabic, i.e., when the polyol has a molecular weight distribution, it refers to the number average molecular weight. Here, the number average molecular weight refers to a value measured by gel permeation chromatography (GPC). The GPC conditions are as follows:
(GPC conditions)
Column: Semi-micro column (manufactured by Tosoh Corporation); two columns were used in series. Standard sample: PStQuick B (manufactured by Tosoh Corporation). Mobile phase: N,N-dimethylformamide (DMF).
・Detection equipment: RI
<他の成分>
コーティング層は、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオール以外に、膠、ゼラチン、カップリング剤及び/又はその縮合物、脂肪酸、脂肪族アミン等の、他の成分を含んでもよく、含まなくてもよい。また、コーティング層は、銀化合物及び/又は銀、ニッケル化合物及び/又はニッケル等の、金属化合物及び/又は金属を含んでもよく、含まなくてもよい。
カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤、及びジルコネートカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、1-アミノプロピルトリメトキシシラン、2-アミノプロピルトリメトキシシラン、1,2-ジアミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノ-1-プロぺニルトリメトキシシラン、3-アミノ-1-プロピニルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-(N-フェニル)アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノシラン、トリス-(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3-ウレイドプロピルトリアルコキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物が挙げられる。チタネートカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリステアロイルチタネート、イソプロピルトリカプロイルチタネート、イソプロピルトリラウロイルチタネート、イソプロピルトリパルミトイルチタネート、ジイソプロピルジイソステアロイルチタネート、ジイソプロピルジラウロイルチタネート、ジイソプロピルジパルミトイルチタネート、オクタン酸トリイソプロポキシチタン、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトライソプロピルビス(ジステアリルホスファイト)チタネート、テトライソプロピルビス(ジラウリルホスファイト)チタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリス(ジラウリルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリス(ジミリスチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリス(ジステアリルパイロホスフェート)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、ジイソプロピルビス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、ジイソプロピルビス(ジステアリルパイロホスフェート)チタネート、オクチルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、ジオクチルビス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、ビス(ジオクチルホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリス(ジステアリルホスフェート)チタネート、ブチルトリス(ジオクチルホスフェート)チタネート、トリス(ジオクチルリン酸)オクチルオキシチタン、イソプロピルトリス(ドデシルベンゼンスルフォニル)チタネート、ジイソプロピルビス(ドデシルベンゼンスルフォニル)チタネートが挙げられる。
脂肪酸としては、例えば、安息香酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、オレイン酸、ステアリン酸が挙げられる。脂肪族アミンとしては、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、オレイルアミン、ステアリルアミンが挙げられる。
<Other ingredients>
In addition to the nitrogen-containing heteroaromatic compound and a predetermined polyol, the coating layer may or may not contain other components such as glue, gelatin, a coupling agent and/or its condensate, a fatty acid, an aliphatic amine, etc. Furthermore, the coating layer may or may not contain a metal compound and/or metal such as a silver compound and/or silver, a nickel compound and/or nickel, etc.
Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminate coupling agents, and zirconate coupling agents. Examples of the silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryl ... Methoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 1-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 1,2-diaminopropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, Amino-1-propenyltrimethoxysilane, 3-amino-1-propynyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethylbutylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyl Examples of the titanate coupling agent include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tristearoyl titanate, isopropyl tricaproyl titanate, isopropyl trilauroyl titanate, isopropyl tripalmitoyl titanate, diisopropyl diisostearoyl titanate, diisopropyl dilauroyl titanate, diisopropyl dipalmitoyl titanate, triisopropoxy titanium octanoate, tetraoctyl bis(isopropylmethylsilane), tetraisopropoxy titanium octanoate, ... (ditridecyl phosphite) titanate, tetraisopropyl bis(dioctyl phosphite) titanate, tetraisopropyl bis(distearyl phosphite) titanate, tetraisopropyl bis(dilauryl phosphite) titanate, isopropyl tris(dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tris(dilauryl pyrophosphate) titanate, isopropyl tris(dimyristyl pyrophosphate) titanate, Diisopropyl tris(distearyl pyrophosphate) titanate, bis(dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis(dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate, diisopropyl bis(dioctyl pyrophosphate) titanate, diisopropyl bis(distearyl pyrophosphate) titanate, octyl tris(dioctyl pyrophosphate) titanate, dioctyl bis(dioctyl pyrophosphate) ) titanate, bis(dioctyl phosphate)ethylene titanate, isopropyl tris(dioctyl phosphate)titanate, isopropyl tris(distearyl phosphate)titanate, butyl tris(dioctyl phosphate)titanate, tris(dioctyl phosphate)octyloxytitanium, isopropyl tris(dodecylbenzenesulfonyl)titanate, diisopropyl bis(dodecylbenzenesulfonyl)titanate.
Examples of fatty acids include benzoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, lauric acid, palmitic acid, oleic acid, and stearic acid. Examples of aliphatic amines include pentylamine, hexylamine, octylamine, decylamine, laurylamine, oleylamine, and stearylamine.
(コーティング層を有する銅粉の製造方法)
本実施形態の銅粉は、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング層を有する。本実施形態の銅粉の製造方法は、銅粉にコーティング層を形成できる方法であれば特段限定されないが、銅粉と、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング組成物とを混合する混合工程を含む。なお、本実施形態に係る製造方法において、混合工程の前に銅粉の脱脂、酸洗等の前処理を行ってもよいし、行わなくてもよい。また、前処理を行う場合には、その後に、水洗、固液分離、乾燥等の処理を単独又は適宜組み合わせて行ってもよいし、行わなくてもよい。さらに、混合工程の後に、水洗、固液分離、乾燥を行ってもよいし、行わなくてもよい。必要に応じて、混合工程の前、最中、又は後に、カップリング剤、脂肪酸、脂肪族アミン等の成分による表面処理工程を行ってもよく、行わなくてもよい。また、必要に応じて、混合工程の前、最中、又は後に、銀で銅粉を被覆する銀被覆工程を行ってもよく、行わなくてもよい。
(Method for producing copper powder having a coating layer)
The copper powder of this embodiment has a coating layer containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a predetermined polyol. The method for producing the copper powder of this embodiment is not particularly limited as long as it can form a coating layer on the copper powder, and includes a mixing step of mixing copper powder with a coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a predetermined polyol. In the production method of this embodiment, pretreatment such as degreasing or pickling of the copper powder may or may not be performed before the mixing step. If pretreatment is performed, subsequent treatments such as water washing, solid-liquid separation, and drying may or may not be performed, either alone or in combination as appropriate. Furthermore, water washing, solid-liquid separation, and drying may or may not be performed after the mixing step. If necessary, a surface treatment step using a component such as a coupling agent, fatty acid, or aliphatic amine may or may not be performed before, during, or after the mixing step. If necessary, a silver coating step in which the copper powder is coated with silver may or may not be performed before, during, or after the mixing step.
<銅粉の前処理>
脱脂方法としては、金属材料の表面に付着している油脂類や汚れを除去することができればいかなる方法であってもよく、例えば、溶剤脱脂、アルカリ系又は酸系の脱脂剤等を用いた公知の方法を挙げることができる。酸洗方法としては、ギ酸、酢酸、脂肪酸等の有機酸や、硫酸、塩酸等の無機酸を使用した銅粉の酸洗浄が挙げられる。脱脂の前後及び酸洗の前後に水洗及び固液分離を行ってもよいし、行わなくてもよい。必要に応じ脱脂、酸洗及び水洗を行った銅粉は、固液分離し、コーティング組成物との混合前に乾燥してもよいし、しなくてもよい。また、銅粉を湿式法等で製造し、製造工程において銅粉が溶媒を含むスラリーの状態で得られた場合は、溶媒を完全に蒸発させることなく使用してもよい。
<Pretreatment of copper powder>
The degreasing method may be any method capable of removing grease and dirt adhering to the surface of the metal material, and examples thereof include known methods using solvent degreasing and alkaline or acidic degreasing agents. Examples of pickling methods include pickling of copper powder using organic acids such as formic acid, acetic acid, and fatty acids, or inorganic acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid. Water washing and solid-liquid separation may or may not be performed before or after degreasing or before or after pickling. If necessary, copper powder that has been degreased, pickled, and washed may or may not be solid-liquid separated and dried before mixing with the coating composition. Furthermore, if copper powder is produced by a wet method or the like and obtained in the form of a solvent-containing slurry during the production process, it may be used without completely evaporating the solvent.
<含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング組成物の製造方法>
含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング組成物は、例えば、溶媒に、上記含窒素ヘテロ芳香族化合物及び上記ポリオール、必要に応じて上記他の成分を混合することにより製造することができる。なお、混合順序は特に限定されないが、使用する成分によって適宜調整することができる。
溶媒としては、含窒素ヘテロ芳香族化合物とポリオールが溶解又は分散するものであればいかなる溶媒も使用することができ、水性媒体、有機溶媒を制限なく使用することができる。
水性媒体としては、水を50質量%以上含むものであれば特に制限されるものではなく、水のみからなるものであっても、水と水混和性有機溶媒とを含む混合液であってもよい。水混和性有機溶媒としては、水と混和するものであれば特に限定されるものではなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;N,N’-ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノへキシルエーテル等のエーテル系溶媒;1-メチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン等のピロリドン系溶媒等が挙げられる。これらの水混和性有機溶媒は1種を水と混合させてもよいし、2種以上を水と混合させてもよい。
<Method for producing a coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a predetermined polyol>
The coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a predetermined polyol can be produced, for example, by mixing the nitrogen-containing heteroaromatic compound, the polyol, and, if necessary, the other components in a solvent. The mixing order is not particularly limited, and can be appropriately adjusted depending on the components used.
As the solvent, any solvent can be used as long as it can dissolve or disperse the nitrogen-containing heteroaromatic compound and the polyol, and aqueous media and organic solvents can be used without any restrictions.
The aqueous medium is not particularly limited as long as it contains 50% by mass or more of water, and may be composed of water alone or a mixture containing water and a water-miscible organic solvent. The water-miscible organic solvent is not particularly limited as long as it is miscible with water, and examples thereof include ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; amide solvents such as N,N'-dimethylformamide and dimethylacetamide; alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol; ether solvents such as ethylene glycol monobutyl ether and ethylene glycol monohexyl ether; and pyrrolidone solvents such as 1-methyl-2-pyrrolidone and 1-ethyl-2-pyrrolidone. One of these water-miscible organic solvents may be mixed with water, or two or more may be mixed with water.
<混合工程>
混合方法としては、銅粉と、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング組成物とを混合し、銅粉に組成物を接触させ、銅粉にコーティング層を形成することができればいかなる方法であってもよく、例えば、組成物中に銅粉を添加して適宜攪拌する方法を挙げることができるが、これに限定されるものではない。混合温度や混合時間は、組成物の組成や濃度によって適宜設定される。混合温度や混合時間は、通常、混合温度は40℃~90℃の範囲内であり、混合時間は1分間~30分間の範囲内であるが、これらに限定されるものではない。また、混合工程における銅粉とコーティング組成物の割合や、銅粉とコーティング組成物中の成分との割合は、銅粉の形状や比表面積によって適宜設定することができる。このように混合することにより得られる、コーティング組成物及び銅粉の混合物は、粉体ペーストとして使用することができ、抵抗器;インダクタ;キャパシタ;セラミックス基板、プリント基板、太陽電池、タッチパネルなどの配線や電極;等に有用である。
<Mixing process>
The mixing method may be any method that can mix copper powder with a coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a predetermined polyol, bring the composition into contact with the copper powder, and form a coating layer on the copper powder. For example, a method of adding copper powder to the composition and appropriately stirring the mixture can be used, but is not limited to this. The mixing temperature and mixing time are appropriately set depending on the composition and concentration of the composition. The mixing temperature and mixing time are typically within the range of 40°C to 90°C, and the mixing time is within the range of 1 minute to 30 minutes, but are not limited thereto. Furthermore, the ratio of copper powder to coating composition in the mixing process, and the ratio of copper powder to the components in the coating composition, can be appropriately set depending on the shape and specific surface area of the copper powder. The mixture of the coating composition and copper powder obtained by mixing in this manner can be used as a powder paste and is useful for resistors, inductors, capacitors, wiring and electrodes for ceramic substrates, printed circuit boards, solar cells, touch panels, etc.
<表面処理工程>
混合工程の前、最中、又は後に、カップリング剤、脂肪酸、脂肪族アミン等の表面処理成分による表面処理工程を行ってもよい。表面処理工程は、表面処理成分を銅粉に接触させることにより行うことができ、典型的には、表面処理成分と銅粉を水性媒体中で混合することにより行うことができる。前記混合工程の最中に表面処理を行う場合は、コーティング組成物と表面処理成分とを同時に混合物中に存在させることにより行うことができる。表面処理工程により、表面処理層が銅粉に形成される。
<Surface treatment process>
A surface treatment step using a surface treatment component such as a coupling agent, a fatty acid, or an aliphatic amine may be carried out before, during, or after the mixing step. The surface treatment step can be carried out by contacting the surface treatment component with the copper powder, and typically by mixing the surface treatment component with the copper powder in an aqueous medium. When the surface treatment is carried out during the mixing step, the coating composition and the surface treatment component can be simultaneously present in the mixture. The surface treatment step forms a surface treatment layer on the copper powder.
<表面処理成分>
表面処理成分としては、例えば、上記<他の成分>において例示列挙した膠、ゼラチン、カップリング剤、脂肪酸、脂肪族アミン等が挙げられる。
<Surface treatment ingredients>
Examples of surface treatment components include glue, gelatin, coupling agents, fatty acids, and aliphatic amines, which are listed above under <Other Components>.
<銀被覆工程>
混合工程の前、最中、又は後に、銀で銅粉を被覆する銀被覆工程を行ってもよい。銀で銅粉を被覆する方法としては、銀で被覆した銅粉を得ることができればいかなる方法であってもよく、例えば銅と銀の置換反応を利用した還元法や、還元剤を用いる還元法により、銅粉の表面に銀または銀化合物を析出させる方法や、微細な銀粒子を銅粉の表面に付着させる方法などを使用することができるが、これらに限定されない。析出させる方法としては例えば、溶媒中に銅粉と銀または銀化合物を含む溶液を攪拌しながら銅粉の表面に銀または銀化合物を析出させる方法や、溶媒中に銅粉および有機物を含む溶液と溶媒中に銀または銀化合物および有機物を含む溶液とを混合して攪拌しながら銅粉の表面に銀または銀化合物を析出させる方法などを使用することができる。前記混合工程の最中に銀被覆を行う場合は、コーティング組成物と銀または銀化合物とを同時に混合物中に存在させることにより行うことができる。銀被覆工程により、銀含有層が銅粉に形成される。
<Silver coating process>
A silver coating step in which the copper powder is coated with silver may be performed before, during, or after the mixing step. The method for coating the copper powder with silver may be any method capable of producing silver-coated copper powder. Examples of methods that can be used include, but are not limited to, a reduction method utilizing a substitution reaction between copper and silver, a reduction method using a reducing agent to precipitate silver or a silver compound on the surface of the copper powder, or a method in which fine silver particles are attached to the surface of the copper powder. Precipitation methods include, for example, a method in which a solution containing copper powder and silver or a silver compound in a solvent is stirred to precipitate silver or a silver compound on the surface of the copper powder, or a method in which a solution containing copper powder and an organic substance in a solvent is mixed with a solution containing silver or a silver compound and an organic substance in a solvent and stirred to precipitate silver or a silver compound on the surface of the copper powder. Silver coating during the mixing step can be performed by simultaneously adding the coating composition and silver or a silver compound to the mixture. A silver-containing layer is formed on the copper powder by the silver coating step.
表面処理工程により銅粉に表面処理層を形成させ、次に銅粉と、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング組成物とを混合し、銅粉に組成物を接触させ、銅粉にコーティング層を形成することができる。銀被覆工程により銅粉に銀含有層を形成させ、次に銅粉と、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング組成物とを混合し、銅粉に組成物を接触させ、銅粉にコーティング層を形成することができる。銀被覆工程により銅粉に銀含有層を形成させ、次に表面処理工程により銅粉に表面処理層を形成させ、次に銅粉と、含窒素ヘテロ芳香族化合物と所定のポリオールとを含むコーティング組成物とを混合し、銅粉に組成物を接触させ、銅粉にコーティング層を形成することができる。 A surface treatment layer can be formed on the copper powder in a surface treatment process, and then the copper powder is mixed with a coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a specified polyol, and the copper powder is brought into contact with the composition to form a coating layer on the copper powder. A silver-containing layer can be formed on the copper powder in a silver coating process, and then the copper powder is mixed with a coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a specified polyol, and the copper powder is brought into contact with the composition to form a coating layer on the copper powder. A silver-containing layer can be formed on the copper powder in a silver coating process, and then a surface treatment layer can be formed on the copper powder in a surface treatment process, and then the copper powder is mixed with a coating composition containing a nitrogen-containing heteroaromatic compound and a specified polyol, and the copper powder is brought into contact with the composition to form a coating layer on the copper powder.
混合工程を経てコーティング層が形成された銅粉は、水洗、固液分離、乾燥を行ってもよいし、行わなくてもよい。例えば、本実施形態の銅粉を導電性ペーストの原料(フィラー)として使用する場合は、混合工程の後、適宜水洗と固液分離を行い、銅粉と溶媒とを含むスラリーの状態で使用してもよく、銅粉を単離し乾燥した上で使用してもよい。 The copper powder on which the coating layer is formed after the mixing process may or may not be washed with water, subjected to solid-liquid separation, and dried. For example, when the copper powder of this embodiment is used as a raw material (filler) for a conductive paste, after the mixing process, washing with water and solid-liquid separation may be performed as appropriate, and the powder may be used in the form of a slurry containing copper powder and a solvent, or the copper powder may be isolated and dried before use.
銅粉がコーティング層を有することは、例えば、銅粉に対してXPS(X線光電子分光法)のsurvey測定を行い、含窒素ヘテロ芳香族化合物又はポリオールが有する元素が検出されることにより確認できる。XPSのsurvey測定について具体的に説明する。まず、直径0.5mmの円筒状の容器に銅粉0.5gをそれぞれ充填して、底面が隙間なく覆われるように敷きつめる。円筒容器に敷きつめられた銅粉の上面をXPS survey測定(銅粉の上半分の表面に付着した元素の半定量分析)を、以下の装置と条件で行い、銅粉表面に存在する元素を特定する。
装置:アルバックファイ社製5600MC
到達真空度:5.7×10-9Torr
励起源:単色化AlKα
出力:210W
検出面積:800μmφ
入射角、取出角:45°
中和銃使用
The presence of a coating layer on copper powder can be confirmed, for example, by subjecting the copper powder to XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) survey measurement and detecting elements contained in the nitrogen-containing heteroaromatic compound or polyol. The XPS survey measurement will now be described in detail. First, 0.5 g of copper powder is filled into cylindrical containers with a diameter of 0.5 mm, and the powder is spread so that the bottom surface is completely covered. The upper surface of the copper powder spread in the cylindrical container is subjected to XPS survey measurement (semi-quantitative analysis of elements attached to the surface of the upper half of the copper powder) using the following equipment and conditions to identify the elements present on the copper powder surface.
Apparatus: ULVAC-PHI 5600MC
Ultimate vacuum: 5.7×10 -9 Torr
Excitation source: monochromated AlKα
Output: 210W
Detection area: 800 μmφ
Incidence angle, extraction angle: 45°
Use Neutralization Gun
<銅粉の用途>
本発明に係る銅粉は、耐酸化性が高く導電性が維持できるため、導電性ペーストなどに含有される導電フィラーとして好適に用いることができる。導電性ペーストは、樹脂系バインダと溶媒からなるビヒクル中に導電フィラーを分散させた流動性組成物であり、電気回路の形成や、セラミックコンデンサの外部電極の形成、各種導電性フィルムの形成などに広く用いられている。
<Applications of copper powder>
The copper powder according to the present invention has high oxidation resistance and can maintain its conductivity, and therefore can be suitably used as a conductive filler contained in conductive pastes, etc. Conductive pastes are flowable compositions in which a conductive filler is dispersed in a vehicle consisting of a resin binder and a solvent, and are widely used for forming electrical circuits, external electrodes of ceramic capacitors, various conductive films, etc.
本発明を実施例及び比較例を用いて更に詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail using examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
(コーティング組成物の調製)
表1に示す含窒素ヘテロ芳香族化合物(化合物B)とエタノールとを混合した後、当該混合物と表1に示すポリオール(化合物A)を脱イオン水に混合して、表1に示す濃度のコーティング組成物No. 1~12を調製した。
(Preparation of Coating Composition)
A nitrogen-containing heteroaromatic compound (compound B) shown in Table 1 was mixed with ethanol, and then the mixture and a polyol (compound A) shown in Table 1 were mixed with deionized water to prepare coating compositions No. 1 to 12 having the concentrations shown in Table 1.
表1中、化合物A及び化合物Bの欄における各番号の詳細は以下のとおりである。 In Table 1, the details of each number in the Compound A and Compound B columns are as follows:
(コーティング層を有する銅粉サンプルの作製)
銅粉(DOWAエレクトロニクス株式会社製、D50=1.0μm)250gと各コーティング組成物(No. 1~12)1Lとを、80℃で5分間攪拌し混合した。混合物を吸引ろ過により固液分離した後、フィルター上に残った銅粉の上から水を加え吸引して、銅粉の水洗及び固液分離を行った。固液分離された銅粉を解砕し、60℃で1時間熱風乾燥した。その後乳鉢で細かく粉砕したものを銅粉サンプル(実施例1~11及び比較例2)とした。また、未処理の銅粉サンプルを比較例1とした。
(Preparation of copper powder samples with coating layers)
250 g of copper powder (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., D50 = 1.0 μm) and 1 L of each coating composition (Nos. 1 to 12) were mixed and stirred at 80°C for 5 minutes. The mixture was subjected to solid-liquid separation by suction filtration, and then water was added over the copper powder remaining on the filter and sucked, resulting in washing and solid-liquid separation of the copper powder. The copper powder after solid-liquid separation was crushed and dried with hot air at 60°C for 1 hour. The copper powder was then finely crushed in a mortar and used as copper powder samples (Examples 1 to 11 and Comparative Example 2). An untreated copper powder sample was used as Comparative Example 1.
(高温高湿下での保管試験)
銅粉サンプル(実施例1~11及び比較例1~2)を、温度85℃、相対湿度(RH)85%に設定した恒温恒湿器LHL-114(エスペック社製)中に120時間保管し、デシケーター中で室温まで放冷した。
(Storage test under high temperature and humidity conditions)
The copper powder samples (Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2) were stored for 120 hours in a thermo-hygrostat LHL-114 (manufactured by Espec Corporation) set at a temperature of 85°C and a relative humidity (RH) of 85%, and then allowed to cool to room temperature in a desiccator.
(銅粉サンプルの耐酸化性の評価)
銅粉サンプルの耐酸化性を評価するため、高温高湿下での保管試験前後の銅粉サンプル(実施例1~11及び比較例1~2)の導電性の評価を実施した。具体的には、粉体抵抗率測定システム(三菱化学アナリテック製)のプローブユニットに銅粉サンプル5.0gを入れ、20MPaの圧力を加えた際の体積抵抗率を測定した。体積抵抗率/Ωcmの値を以下の基準でランク付けし、銅粉サンプルの導電性を評価した。結果を表4に示す。なお、導電性の評価結果が◎、〇、△のものを合格、×のものを不合格とした。
(Evaluation of oxidation resistance of copper powder samples)
To evaluate the oxidation resistance of the copper powder samples, the electrical conductivity of the copper powder samples (Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2) was evaluated before and after a storage test under high temperature and high humidity. Specifically, 5.0 g of the copper powder sample was placed in the probe unit of a powder resistivity measurement system (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech), and the volume resistivity was measured when a pressure of 20 MPa was applied. The volume resistivity/Ωcm values were ranked according to the following criteria to evaluate the electrical conductivity of the copper powder samples. The results are shown in Table 4. Conductivity evaluation results of ◎, ◯, and △ were considered to be pass, and × was considered to be fail.
<評価基準>
◎:体積抵抗率が2.00×101 Ωcm未満
〇:体積抵抗率が2.00×101 Ωcm以上5.00×103 Ωcm未満
△:体積抵抗率が5.00×103 Ωcm以上1.00×105 Ωcm未満
×:体積抵抗率が1.00×105 Ωcm以上
<Evaluation criteria>
◎: Volume resistivity is less than 2.00×10 1 Ωcm ○: Volume resistivity is 2.00×10 1 Ωcm or more and less than 5.00×10 3 Ωcm △: Volume resistivity is 5.00×10 3 Ωcm or more and less than 1.00×10 5 Ωcm ×: Volume resistivity is 1.00×10 5 Ωcm or more
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