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JP7742233B2 - 感光性樹脂およびそれを用いた感光性樹脂組成物、並びにその硬化物およびカラーフィルター - Google Patents
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JP7742233B2 - 感光性樹脂およびそれを用いた感光性樹脂組成物、並びにその硬化物およびカラーフィルター - Google Patents

感光性樹脂およびそれを用いた感光性樹脂組成物、並びにその硬化物およびカラーフィルター

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Description

本発明は、紫外線や電子線等の光を照射することで硬化し、アルカリ現像処理を施すことでパターン形成が可能な感光性樹脂、並びにこの樹脂を用いた感光性樹脂組成物、さらにはその感光性樹脂組成物を使用した硬化物及び硬化物を使用したカラーフィルターに関する。
近年、テレビやモニター、スマートフォンなど、ほとんどのディスプレイにカラー液晶表示装置(LCD)や有機EL表示装置(OLED)などが用いられており、それらのLCDやOLED、タッチパネルやイメージセンサーなどには、感光性樹脂組成物を用いて形成したパターンで構成された部材が多く使用されている。その部材の中で、例えば、カラーフィルターは、ほぼ全てのLCDに使用され、また、OLEDにおいても大型テレビを中心に使用されており、視認性を左右する重要な部材の一つである。カラーフィルターの製造方法は、通常、ガラスやプラスチックシート等の透明基板の表面に黒色のマトリックス(ブラックマトリックス)を形成し、次いで、赤、緑、青(RGB)の異なる色相を順次、ストライプ状あるいはモザイク状等の色パターンで形成する方法が用いられている。パターンサイズはカラーフィルターの用途やそれぞれの色により異なるが、RGBの画素は100μmから50μm以下へ、ブラックマトリックスは20μmから10μm以下へ、それぞれ細線化されている。従って、カラーフィルターを得るための感光性樹脂組成物には高い寸法精度によるパターン形成が求められている。また、感光性樹脂組成物の表面硬化性と深部硬化性のバランスが崩れている場合、カラーフィルターの焼成工程において、マトリックス表面に皺が発生してしまう。カラーフィルターの用途によっては、フィルター表面がガタついてしまうことでLCD等のディスプレイの視認性にも影響が及んでしまうため、表面硬化性と深部硬化性のバランスも重要な特性の一つである。
また、LCDの製造にあたって、カラーフィルターの表面には、保護膜として透明な硬化膜(以下、保護膜)が形成されており、これはカラーフィルター表面の凹凸の平坦化や、後工程の熱処理や薬品処理に対するカラーフィルターの耐久性向上、さらにはLCDの信頼性向上を目的として形成され、カラーフィルターの保護膜には、透明性、耐薬品性、密着性、硬度、平坦性、耐熱性および電気的信頼性などに優れていることが求められている。
保護膜の形成方法には、熱硬化による方法とフォトリソグラフィーによる方法があり、カラーフィルターのパネル設計および加工工程の設計の中で、保護膜が持つべき特性(前述した保護膜に求められる特性)とパターニングの要否により選択される。フォトリソグラフィーによる方法で保護膜を形成する際、適正なパターンを形成するために、感光性樹脂組成物には先述した特性に加えて、LCDの色表示に影響しない短波長の紫外光の吸収能(高感度)を要求されることも増えている。
一般に、このような用途における感光性樹脂組成物や、半導体などにも使用される樹脂組成物には、重合性やアルカリ可溶性、あるいはその両方の特性を兼ね備えた樹脂(モノマーやオリゴマーも含む)や光重合開始剤等を含んだものが多く用いられている。
例えば、特開2017-219838号公報(特許文献1)には、フルオレン化合物とテトラカルボン酸二無水物との反応物にエポキシ基含有(メタ)アクリレートを付加した感光性樹脂(共重合体)およびそれを使用した感光性樹脂組成物について開示されている。この文献では、感光性樹脂組成物としての特性は有用ではあるが、重合性を付与する反応とアルカリ可溶性を付与する反応とを切り離せない製造方法になっており、それぞれの特性を変更する場合、別の特性への影響も避けられず、改善の余地があると考えられる。
また、特開2008-156613号公報(特許文献2)および特開2008-268854号公報(特許文献3)では、重合性不飽和基を含有するジオール化合物とテトラカルボン酸又はその酸二無水物とを反応させて得られるカルボキシ基含有共重合体に、重合性不飽和結合基を含有するエポキシ化合物を反応させ、更にジカルボン酸又はその酸一無水物を反応させることで感光性樹脂が得られ、この樹脂を使用した高感度で現像密着マージンの広い感光性樹脂組成物について開示されている。しかしながらこの文献では、表面硬化性と深部硬化性のバランスについてまでは触れられていない。これらの文献に記載の発明ではアクリル基(アクリレート)が多く高感度ゆえにパターン表面と深部の硬化性のバランスが崩れ、表面に皺が発生したり、線太りしたりなどの欠点がある。
つまり、高感度にするためには重合性不飽和基の濃度(アクリレート濃度)を大きくすることが考えられるが、単純にアクリレート濃度を大きくすると、組成物の表面付近で光硬化反応が起こりやすく、パターンを形成する際にマスクパターン通りにしようとすると、深部の光硬化が不十分になりやすく、現像時に深部が溶解して、パターンが細くなってしまう(所謂アンダーカットの状態)。この場合、露光量を多くすればアンダーカットはなくせるものの、マスクパターンより太いパターンしか形成できなくなる恐れが生じる。それゆえ、高感度にするにしても単純にアクリレート濃度を高くすればよいというものではなく、このような現象は、比較的光透過率の小さなブラックレジストを形成する場合により顕著に表れることになる。従って、感光性樹脂組成物において、その表面硬化性と深部硬化性とのバランスを取ることは、マスクパターンに合致した適正なパターンを形成するために非常に重要な技術であるが、従来技術においてそれを解決できる方法は提案されていなかった。
なお、表面硬化性と深部硬化性とのバランスが良い感光性樹脂組成物を得るに際しては、別の試みとして、重合性不飽和基を有しないアルカリ可溶性樹脂と光重合性モノマーとを用いて配合設計する方法もあるが、その場合、樹脂成分を一定以上配合しないと、特にガラス等の基材との接触面積の小さいパターンを形成することが難しくなるといった別の問題もあり、例えば現像時にはがれてしまったり、信頼性試験をした際に十分な密着性が得られなかったりすることが懸念され、こちらの現象もブラックレジストのように樹脂成分の含有量が少ない場合に顕著に表れることが問題となる。
特開2017-219838号公報 特開2008-156613号公報 特開2008-268854号公報
そこで、このような従来技術の存在の状況において、感度とアルカリ現像性のバランスを兼ね備えた感光性樹脂組成物の開発について本願の発明者らが鋭意検討した結果、とくに、後述する所定の(C)成分を使用したアクリル基導入反応を行うこと、及び所定の(D)成分を使用した末端構造の封鎖を行うようにして酸価の調整と感度の調整とを別々できるよう工夫することにより、達成できることが判明した。
従って、本発明の目的は、感度とアルカリ現像性のバランスを兼ね備えた感光性樹脂を使用した、感光性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、表面硬化性と深部硬化性のバランスを兼ね備えた感光性樹脂を使用した、感光性樹脂組成物を提供することにある。
すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。
〔1〕下記一般式(1)で表されることを特徴とする樹脂。
ここで、R、R、R、及びRは、独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。また、Eは-CR-、-CO-、-SO-、-O-、-S-、-SS-、-SO-、-OCO-、-SiR-又は直結合を示し、R及びRは、水素、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数1~12の炭化水素基を示す。また、R及びRは、それぞれ結合して環を形成してもよい。Aは、4価のテトラカルボン酸残基を示す。また、Gは炭素数1以上のアルキレン基を示し、Dは水素原子か、重合性不飽和基を有する置換基か、又はカルボキシ基及び重合性不飽和基を有する置換基を示し、n及びnは、独立に0以上の整数を表す。また、Jは、水素原子又はカルボキシ基を有する置換基を示す。但し、一般式(1)中に複数あるDのうちの1か所以上は、カルボキシ基及び重合性不飽和基を有する置換基を示す。
〔2〕一般式(1)において、Dが水素原子又は下記一般式(2)で表される置換基を示し、さらにJが水素原子又は下記一般式(3)で表される置換基を示すことを特徴とする〔1〕に記載の樹脂。
ここで、Gは独立に単結合、又は炭素数1以上のアルキレン基を示し、Rは水素原子又はメチル基を示し、Qは炭素数2から8の3価の炭化水素基を示す。また、nは1以上の整数を表し、nが2以上の場合、式中の複数あるGは同一であっても異なっていてもよい。
ここで、Lは2又は3価のカルボン酸残基を示し、nは1又は2を表す。
〔3〕下記(i)~(ii)を含有する感光性樹脂組成物。
(i)〔1〕又は〔2〕に記載の樹脂
(ii)光重合開始剤
〔4〕さらに、(iii)少なくとも1個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーを含有する〔3〕に記載の感光性樹脂組成物。
〔5〕さらに、(iv)分散質を含有する〔3〕又は〔4〕に記載の感光性樹脂組成物。
〔6〕〔3〕~〔5〕のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を硬化させて得た硬化物。
〔7〕〔6〕に記載の硬化物を含むカラーフィルター。
本発明では、bis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物にテトラカルボン酸類又はその酸二無水物を反応させ、得られた反応物に重合性不飽和基を有するオキシラン化合物(エポキシ化合物)を反応させ、更にジカルボン酸類又はその酸一無水物を反応させることで、感光性樹脂組成物の材料として好適なカルボキシ基及び光重合性不飽和基含有共重合体(以下、感光性樹脂)が得られる。また、この感光性樹脂は、良好なアルカリ現像性を有しているため、直線性やパターン形状も良好で、さらに、表面硬化性と深部硬化性のバランスも良好なため、厚膜処方でカラーフィルターを製造したとしても、熱処理後に表面に皺がほぼ寄らない感光性樹脂組成物を得ることができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、前述のような目的を達成するために、一般式(1)で表される樹脂を用いることに特徴を有する。そして、本発明における感光性樹脂組成物は、そのような一般式(1)で表される樹脂及び光重合開始剤を必須成分とし、用途によっては、少なくとも1個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーや、分散質等を組み合わせることで機能を発揮する感光性樹脂組成物である。一般式(1)で表される樹脂は、光重合性不飽和基に由来したラジカル重合性を有するほか、封鎖剤として使用するジカルボン酸又はその酸一無水物に由来する酸性基を有するためにアルカリ可溶性を有する。
一般式(1)で表される樹脂は、初めにbis-フェノール化合物又は、bis-ヒドロキシアルコキシ基含有化合物(以下、bis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物と示す)にテトラカルボン酸類又はその酸二無水物を反応させる。ここで、bis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物は重合性不飽和基を含有していないため、後の反応である重合性不飽和基付与の反応のみで、樹脂全体の感度のコントロールが可能になる。また、テトラカルボン酸類又はその酸二無水物を使用することで、樹脂全体の重量平均分子量のコントロールが可能になる。次いで、得られた反応物に重合性不飽和基を有するオキシラン化合物(エポキシ化合物)を反応させ、その後、更にジカルボン酸類又はその酸一無水物を反応させることで、カルボキシ基及び光重合性不飽和基含有共重合体を得ることができる。これによって、重合性不飽和基付与とアルカリ可溶性基(カルボキシ基)付与を別々にコントロールできるため、感光性樹脂組成物としての特性を変更したいとき、それぞれのパラメータを独立して変更させることができる。本発明における樹脂は、重合性不飽和基とアルカリ可溶性基(カルボキシ基)を併せ持つため、優れた光硬化性、アルカリ現像液に対して良現像性、それにより優れたパターニング特性を感光性樹脂組成物に与え、半導体やディスプレイ分野で用いられるレジスト等で特性向上をもたらす。
本発明における一般式(1)で表される樹脂は、(A)成分:bis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物、(B)成分:テトラカルボン酸類又はその酸二無水物、(C)成分:重合性不飽和基を有するオキシラン化合物(エポキシ化合物)、(D)成分:ジカルボン酸類、トリカルボン酸類又はその酸一無水物の4成分を少なくとも用いて製造される、カルボキシ基及び光重合性不飽和基含有共重合体である。すなわち、(A)成分が持つ水酸基と(B)成分がもつ酸性基との反応から製造されるカルボキシ基含有化合物を化合物(AB)とし、化合物(AB)がもつ酸性基と(C)成分がもつエポキシ基との反応から製造される重合性不飽和基を有する化合物を化合物(ABC)とするとき、化合物(ABC)が持つ水酸基と(D)成分がもつ酸性基とが反応することで、目的とする共重合体である式(1)の樹脂を得ることができる。
化合物(AB)の合成方法については、特に限定はされないが、例えば反応温度が90℃~150℃、好ましくは100℃~140℃で反応させることができる。また、(A)成分と(B)成分のモル比(B/A)は50%以上100%未満となるよう定量的に反応させることが好ましい。このとき重量平均分子量は、(A)成分と(B)成分の原料種および配合比によるため限定されないが、1000~12000程度、好ましくは1200~8000程度である。
一般式(1)で表される感光性樹脂は、上記の化合物(AB)から得ることができ、当該化合物(AB)は前記一般式(1)におけるD及びJの部分が水素原子のままである構造を有するものであり、その構造式中のnの平均値は0~20の範囲が好ましく、更には0~8の範囲が好ましい。また、nは、独立に0以上であり、好ましくは0~3、より好ましくは1~2である。Gは炭素数1以上のアルキレン基を示し、好ましくは炭素数が2~6、より好ましくは炭素数が2~3である。
次いで、化合物(ABC)の合成方法について、特に限定はされず、カルボン酸とオキシラン化合物の付加反応の一般的な反応条件を用いることができ、例えば反応温度が40~120℃の範囲が好ましく、より好ましくは50~100℃程度である。また、(C)成分と化合物(AB)のモル比[C/(AB)]は50%~250%が好ましく、より好ましくは100%~200%である。この時(C)成分は、重合性不飽和基を有するオキシラン化合物であるため、この(C)成分が化合物(AB)に少なくとも1つ反応することにより、このあとに更に後述の(D)成分が反応されることと相まって、一般式(1)においては少なくとも1か所のDがカルボキシ基及び重合性不飽和基を有する置換基となる。すなわち、反応させる(C)成分の配合比によって樹脂組成物の表面硬化性と深部硬化性のバランスを制御することができる。このとき重量平均分子量は、(C)成分の原料種および配合比によるため限定されないが、1000~15000程度、好ましくは1200~9000程度である。
次いで、化合物(ABC)に対して(D)成分を反応させる合成方法についても特に限定はされず、例えば反応温度は20~120℃の範囲が好ましく、より好ましくは40~100℃程度である。また、(D)成分と化合物(ABC)のモル比[D/(ABC)]は、10~500%が良く、より好ましくは、30~400%である。この(D)成分のモル比は一般式(1)で表される樹脂の酸価を調整する目的をもつため、任意に変更できる。このとき重量平均分子量は、(D)成分の原料種および配合比によるため限定されないが、1500~20000程度、好ましくは2500~10000程度である。また、(D)成分を反応させて得られた一般式(1)に係る樹脂の酸価(固形分酸価)は、(D)成分の原料種および配合比によるため限定されないが、20~200mgKOH/g程度、好ましくは20~150mgKOH/g程度である。
先ず、(A)成分から説明する。
(A)成分としては、一般式(1)におけるE及びR~Rの構造を持つビスフェノール化合物に、Gの構造に係るアルキレンオキサイドを付加させた構造を有するbis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物を用いる。ここで、Eの好ましい具体例としては、-CR-、-CO-、-SO-、-O-、-S-、-SS-、-SO-、-OCO-、-SiR-又は直結合等が挙げられる。より好ましくは、-CR-、-CO-、-SO-、-O-、-SiR-又は直結合が挙げられる。また、R~Rは、独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。R及びRの好ましい具体例としては、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数1~12の炭化水素基、又はそれらを組み合わせた置換基が挙げられ、より好ましい具体例としては、水素原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数1~6のアルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数3~9のシクロアルキル基、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数6~12のアリール基、又はそれらを組み合わせた置換基が挙げられる。また、R及びRは、それぞれ結合して環を形成してもよく、形成した環としてはフルオレンジイル基、アダマンタンジイル基、及びインダンジイル基等が挙げられる。
Eの好ましい具体例から考えられる、bis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物の好ましい具体例として、ビス(4-ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)ケトン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)ケトン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)スルホン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)スルホン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)ジメチルシラン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)ジメチルシラン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)ジメチルシラン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)メタン、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジブロモフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3-クロロフェニル)プロパン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)エーテル、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)エーテル、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3-ブロモフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3-フルオロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジクロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジブロモフェニル)フルオレン等の9,9-ビス(ヒドロキシ(ポリ)C2-4アルコキシフェニル)フルオレン、4,4‘-ビフェノール、3,3’-ビフェノール等が挙げられる。これらの中で、9,9-フルオレンジイル基を用いるものがより好ましく挙げられる。これらのbis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物は、1種又は2種以上を混合して使用することができる。
次に、上記のbis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物に反応させる(B)成分であるテトラカルボン酸類又はその酸二無水物としては、bis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物中の水酸基と反応し得るテトラカルボン酸又はその酸二無水物を使用するのがよい。好ましい具体例としては、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸等の飽和直鎖炭化水素テトラカルボン酸や、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロへプタンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸等の脂環式テトラカルボン酸や、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸等の芳香族テトラカルボン酸や、又はそれらの酸二無水物を挙げることができる。好ましくはビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物であり、さらに好ましくはビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物である。これらテトラカルボン酸類又はその酸二無水物は、1種又は2種以上を混合して使用することができる。一般式(1)におけるAについては、当該(B)成分に由来したテトラカルボン酸残基を示すものである。
続いて、上記の(A)成分と(B)成分との反応物〔化合物(AB)〕に反応させる(C)成分であるオキシラン化合物(エポキシ化合物)は、(C)成分が保有するエポキシ基と化合物(AB)が持つカルボキシ基と反応し得るもの、加えて重合性不飽和基を分子内に1つ以上含有するものが使用される。当該(C)成分は、化合物(AB)との反応後において一般式(2)(ただし、この段階においてはJの部分は水素原子である)に示される置換基となるものであって、反応後にQとなる部分にエポキシ基を持つものである。ここで、(C)成分及び一般式(1)おいては、Gは独立に単結合、又は炭素数1以上のアルキレン基を示し、好ましくは炭素数1~6のアルキレン基を示す。Rは水素原子又はメチル基を示す。nは1以上の整数を表し、好ましくは1~3を表す。nが2以上の場合、複数あるGは同一であっても異なっていてもよい。また、反応後におけるQは炭素数2から8の3価の炭化水素基を表し、好ましくはシクロアルカン基を表す。シクロアルカン基の具体例としては、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロへプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
このような(C)成分の好ましい具体例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメタクリレート、3,4-エポキシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらのオキシラン化合物は、1種又は2種以上を混合して使用することができる。
そして、(A)~(C)成分の反応物である化合物(ABC)にさらに反応させる(D)成分であるジカルボン酸類、トリカルボン酸類、又はその酸一無水物は、化合物(ABC)が持つ水酸基と(D)成分が持つ酸性基が反応し得るものが用いられる。(D)成分の好ましい具体例としては、コハク酸、アセチルコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸などの飽和直鎖炭化水素ジカルボン酸や、ヘキサヒドロフタル酸、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、ヘキサヒドロトリメリット酸などの飽和環状炭化水素ジカルボン酸や、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、トリメリット酸などの不飽和ジカルボン酸や、又はそれらの酸一無水物等を挙げることができる。好ましくは、コハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、フタル酸、トリメリット酸又はその無一水物であり、さらに好ましくはコハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸又はその酸一無水物であり、これらジカルボン酸類又はその酸一無水物も、1種又は2種以上を混合して使用することができる。一般式(1)のJについては、当該(D)成分に由来するものであり、それゆえ一般式(1)の骨格においては、Lは2又は3価のカルボン酸残基を示し、nは1又は2を表すこととなる。
本発明における、分子内にカルボキシ基及び重合性不飽和基を有することを特徴とする一般式(1)の樹脂の合成において、使用する溶媒に関しては特に制限はされないが、例えば水酸基を持たず、反応温度よりも高い沸点を有する溶媒を反応溶媒として用いるのが良く、このような溶媒の具体例として、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒や、ジグライム、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の高沸点のエーテル系若しくはエステル系の溶媒やシクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒等であるのがよい。
また、使用する触媒においても特に制限はされないが、例えばテトラエチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリス(2,6-ジメトキシフェニル)ホスフィン等のホスフィン類等の公知のものを使用することができる。
上記溶剤および触媒は1種又は2種以上を混合して使用することができる。
感光性樹脂組成物としての効果を発揮するには、成分(ii)光重合開始剤を必須成分としている。なお、本発明でいう光重合開始剤は増感剤を含む意味で使用される。光重合開始剤の具体例として例えば、アセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン化合物、ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、4,4‘-ビス(N,N-ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン-tert-ブチルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、2-メチル-1-[4-(メチルスルファニル)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-(N,N-ジメチルアミノ)-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン等のα-アミノアルキルフェノン化合物、チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等のチオキサントン化合物、アゾビスイソブチルニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物、2,2’-ビス(2-クロロフェニル)-4,4‘,5,5’-テトラフェニル-1,2-ビイミダゾール等のビイミダゾール化合物、2-トリクロロメチル-5-スチリル-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(p-シアノスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(p-メトキシスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、ビス(η5-シクロペンタジエニル)ビス[2,6-ジフルオロ-3-(1-ピロリル)フェニル]チタン等のチタノセン化合物、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン、2-[3,4-(メチレンジオキシ)フェニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3,5-トリアジン等のトリアジン化合物、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン等のイオウ化合物、2-エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類、(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド化合物、カンファーキノン等のキノン化合物、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、β-メルカプトプロピオン酸、2-エチルヘキシル-3-メルカプトプロピオネート、n-オクチル-3-メルカプトプロピオネート、メトキシブチル-3-メルカプトプロピオネート、ステアリル-3-メルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、3,3'-チオジプロピオン酸、ジチオジプロピオン酸、ラウリルチオプロピオン酸等のチオール化合物、トリエタノールアミン、トリエチルアミン等の第3級アミン、1-[4-(フェニルスルファニル)フェニル]オクタン-1,2-ジオン=2-O-ベンゾイルオキシム、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)カルバゾール-3-イル]エタノン,o-アセチルオキシム、(2-メチルフェニル)(7-ニトロ-9,9-ジプロピル-9H-フルオレン-2-イル)-アセチルオキシム、エタノン,1-[7-(2-メチルベンゾイル)-9,9-ジプロピル-9H-フルオレン-2-イル]-1-(o-アセチルオキシム)、エタノン,1-(-9,9-ジブチル-7-ニトロ-9H-フルオレン-2-イル)-1-o-アセチルオキシム等のオキシムエステル化合物等を特に制限なく、1種又は2種以上を混合して使用することができる。
成分(ii)光重合開始剤の使用量は、成分(i)である一般式(1)の樹脂、及び必要によって含有されるその他の樹脂成分としての後述のエポキシアクリレートやその酸付加した化合物と、さらに用途によっては添加する後述の成分(iii)少なくとも1個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーとの合計100重量部を基準として、1~50重量部であるのが好ましく、さらには3~30重量部であるのがよい。成分(ii)光重合開始剤の使用量が少ないと、光重合速度が低下し、感光性樹脂組成物としての感度も低下するおそれがある。その一方、使用量が多いと、感光性樹脂組成物としての感度が強くなりすぎてしまい、パターン線幅が狙いよりも太くなったり、パターンエッジがシャープにならなかったりという問題が生じるおそれがある。
また、用途によっては必要な成分(iii)少なくとも1個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマーや、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類、エチレン性二重結合を有する化合物として(メタ)アクリル基を有する樹枝状ポリマー、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールフルオレン型エポキシ(メタ)アクリレート、ジフェニルフルオレン型エポキシ(メタ)アクリレート、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、フェノールアラルキル型エポキシ(メタ)アクリレート等のカルドエポキシ(メタ)アクリレート又はその酸付加物等を挙げることができる。これらの化合物は、その1種又は2種以上を使用することができる。
これら成分(iii)は用途に応じて添加することができ、添加する場合には、前記(i)成分と、必要によって含有されるその他の樹脂成分としての後述のエポキシアクリレートやその酸付加した化合物とに対する配合割合を調整することが好ましく、これらの成分との配合割合[〔(i)+α〕/(iii)]については、20/80~100/0であるのがよく、好ましくは40/60~90/10であるのがよい。成分(iii)が多すぎる場合、光硬化後の硬化物が脆くなったり、また、未露光部において塗膜の酸価が低くなることに由来してアルカリ現像液溶解性が低下したり、パターンエッジがシャープにならなくなったりという問題が生じるおそれがあるため、(iii)を用いる場合には上記の範囲とすることが好ましい。なお、上記αは、その他の樹脂としての後述のエポキシアクリレート及びその酸付加した化合物を表す。
また、本発明における感光性樹脂組成物では、所望の用途や機能に応じて、必要であれば成分(iv)分散質を加えることができる。成分(iv)の分散質としては、特に限定されるものではなく、赤、青、緑、紫、黄色、シアン、マゼンタ、茶、黒、白等から選ばれる有機顔料、酸化チタン顔料、複合酸化物顔料等の無機顔料、アクリル系ポリマー粒子、ウレタン系ポリマー粒子等の有機フィラー、シリカ、タルク、マイカ、ガラス繊維、炭素繊維、ケイ酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の無機フィラー、金属または金属酸化物のナノ粒子等、染料、遮光材、体質顔料、充填材などを1種あるいは2種以上混合して用いることができる。特にブラックレジストなどのように遮光材を用いる場合には、カーボンブラック、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラック、アニリンブラック、ペリレンブラック、シアニンブラックなどを挙げることができるが、その中でもカーボンブラックは、遮光性、表面平滑性、分散安定性、樹脂との相溶性などが良好で好ましい。体質顔料又は充填材としては、グラスファイバー、シリカ、マイカ、アルミナ等を挙げることができる。
成分(iv)の分散質は、必要に応じて、分散剤と共に使用することができる。このような分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類等を挙げることができる。
成分(iv)の分散質を用いる場合には、成分(i)の一般式(1)で表される樹脂、後述のその他の樹脂成分及び任意の成分(iii)の総量100重量部に対して10~400重量部、好ましくは50~230重量部の範囲がよい。少なすぎると(iv)の添加で期待する機能が発揮され難い。一方で、多すぎると感光性樹脂組成物の分散安定性が低下し、現像特性を損なうとともに、膜形成能が損なわれるおそれがあるため、上記の範囲とすることが望ましい。
本発明における感光性樹脂組成物は、必要に応じて溶剤に溶解させたり、各種添加剤を配合して用いたりすることもできる。すなわち、前述の必須及び任意成分の他に溶剤を使用することができる。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α-若しくはβ-テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N-メチル-2-ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられ、これらは1種、若しくは2種以上組み合わせて使用することもある。
また、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じてその他の樹脂、硬化剤、硬化促進剤、界面活性剤、シランカップリング剤、粘度調整剤、消泡剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤、酸化防止剤、可塑剤等の公知の添加剤を配合することができる。
ここで、その他の樹脂成分としては、例えば、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂の例には、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、ジフェニルフルオレン型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールアラルキル型エポキシ化合物、ナフタレン骨格を含むフェノールノボラック化合物(例えば、NC-7000L:日本化薬株式会社製)、ナフトールアラルキル型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物(例えば、EPPN-501H:日本化薬株式会社製)、テトラキスフェノールエタン型エポキシ化合物、多価アルコールのグリシジルエーテル、多価カルボン酸のグリシジルエステル、メタクリル酸とメタクリル酸グリシジルの共重合体に代表される(メタ)アクリル酸グリシジルをユニットとして含む(メタ)アクリル基を有するモノマーの共重合体、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(例えば、セロキサイド2021P:株式会社ダイセル製)、ブタンテトラカルボン酸テトラ(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)修飾ε-カプロラクトン(例えば、エポリードGT401:株式会社ダイセル製)、エポキシシクロヘキシル基を有するエポキシ化合物(例えば、HiREM-1:四国化成工業株式会社製)、ジシクロペンタジエン骨格を有する多官能エポキシ化合物(例えば、HP7200シリーズ:DIC株式会社製)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物(例えば、EHPE3150:株式会社ダイセル製)、エポキシ化ポリブタジエン(例えば、NISSO-PB・JP-100:日本曹達株式会社製)、シリコーン骨格を有するエポキシ化合物等が含まれる。
また、これらのエポキシ化合物に重合性不飽和基を持つ化合物(例えば、アクリル酸やメタクリル酸など)を反応させてエポキシアクリレートにした化合物及びその酸付加した化合物を用いることもできる。
硬化剤の例には、エポキシ樹脂の硬化に寄与するアミン系化合物、多価カルボン酸系化合物、フェノール樹脂、アミノ樹脂、ジシアンジアミド、ルイス酸錯化合物等が含まれる。硬化促進剤の例には、三級アミン、四級アンモニウム塩、三級ホスフィン、四級ホスホニウム塩、ホウ酸エステル、ルイス酸、有機金属化合物、イミダゾール類、ジアザビシクロ系化合物等が含まれる。界面活性剤の例には、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などが含まれる。シランカップリング剤の例には、3-(グリシジルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が含まれる。消泡剤およびレベリング剤の例には、シリコーン系、フッ素系、アクリル系の化合物が含まれる。熱重合禁止剤および酸化防止剤の例には、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert-ブチルカテコール、フェノチアジン、ヒンダードフェノール系化合物等が含まれる。可塑剤の例には、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、リン酸トリクレジル等が含まれる。
本発明における感光性樹脂組成物は、溶剤を除いた固形分中に、必須成分(i)、(ii)(配合によっては(iii)、(iv)を含む)の固形分が合計で60重量%以上、好ましくは75重量%以上、さらに好ましくは90重量%以上含むことが好ましく、溶剤の量は、目的とする粘度によって変化するが、感光性樹脂組成物に対して10~90重量%が好ましい。
このような本発明の感光性樹脂及びそれを用いた感光性樹脂組成物によれば、良好なアルカリ現像性を有し、直線性やパターン形状も良好な硬化物(パターン)が得られ、しかも、表面硬化性と深部硬化性のバランスも良好であることから、後述の実施例において確認されるように、厚膜で処方した場合でも熱処理後の表面の皺の発生が極めて少ない。
本発明の塗膜(硬化物)は、例えば、上記感光性樹脂組成物の溶液を基板等に塗布した後に乾燥させ、光(紫外線や放射線等を含む)を照射させることで硬化し得られる。光が照射される部分(露光部)と照射されない部分(未露光部)とを設けて露光部のみ硬化させ、未露光部(硬化していない部分)をアルカリ溶液で溶解させれば、望むパターンを形成することができる。
次に、このパターンの製造方法について述べる。まず、基板表面上に感光性樹脂組成物を塗布した後、乾燥工程としてプレベークを行い、塗膜を形成させる。次いで、この塗膜にフォトマスクを被せて露光し、アルカリ現像液を用いて未露光部を溶解除去する。その後焼成工程としてポストベークを行い、望みの硬化物を用いたパターンを得ることができる。このパターンの製造方法は、カラーフィルターやタッチパネルの製造や、半導体実装に適用できる。
感光性樹脂組成物を基板に塗布する際、公知のスピンコーターやスリットコーター、ローラーコーターなどの他、溶液浸漬法、スプレー法などの何れの方法をも採用することができる。これらの方法にて望む厚さの塗膜にし、プレベークを施すことで塗膜が形成される。プレベークは、ホットプレートやオーブン、真空乾燥機又はこれらを組み合わせることにより行われる。プレベークにおける温度や時間は、使用される溶剤や感光性樹脂組成物の用途に応じて変化するが、60~120℃で1~10分で行われる。
硬化物形成時の光照射においては、たとえば可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用できるが、波長は250~450nmの範囲にある放射線が好ましい。また、アルカリ現像に適した現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、アルカリ金属の水酸化物の水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウムやジエタノールアミンなどの有機アルカリの水溶液などを挙げることができる。特に、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウムなどの0.01~1%含有するアルカリ性水溶液を用いて20~30℃の温度で10~120秒間現像するのが好ましく、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法などを用いて、微細なパターンを精密に形成することができる。
現像処理後のポストベークの条件は、感光性樹脂組成物の配合や用途によって変化するが、80~250℃で10~120分で行われる。このポストベークは、パターニングされた塗膜と基板との密着性を高めたり、パターンを熱フローさせて、直線性を向上させたり、表面粗度を低下させるなどの目的として施され、プレベーク同様、ホットプレートやオーブン、真空乾燥機又はこれらを組み合わせることにより行われる
パターンを形成する際に使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコンウェハー、樹脂フィルム(例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォンなど)などが挙げられる。また、これらの基板には、必要に応じて、透明電極層の形成、シランカップリング剤などによる薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などの前処理を適宜施しておくこともできる。
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をより詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例及び比較例によりその範囲を限定されるものではない。また、以下の実施例等における樹脂の評価は、断りの無い限り、以下のとおりに行った。
[固形分濃度]
実施例中(比較例等含む)で得られた樹脂溶液およそ1gを、アルミカップに入れたガラスフィルター〔W(g)〕に含侵させて秤量し〔W(g)〕、160℃にて2時間加熱した後の重量〔W(g)〕から次式により算出した。
固形分濃度(重量(%))=100×(W-W)/(W-W
[酸価]
樹脂溶液をテトラヒドロフランに溶解させ、電位差滴定装置「COM-A19」(平沼産業株式会社製)を用いて1/10N-KOH水溶液で滴定してサンプル(合成樹脂溶液)1g当たりの酸価を求めた。
[分子量]
ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)「HLC-8320GPC」(東ソー株式会社製、展開溶媒:THF、カラム:PL1110-6540(1本)+PL1110-6530(1本)+PL1110-6525(1本)+PL1110-6520(1本)、カラム温度:40℃、流速:1.0mL/min)にて測定し、標準ポリスチレン(株式会社 エスエイエス製、ポリスチレンキット)換算値として重量平均分子量(Mw)を求めた。
また、実施例で使用する略号は次のとおりである。
BPEF:9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン
BPDA:3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物
GMA:メタクリル酸グリシジル
ECHMMA:3,4-エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート
4HBAGE:4-ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル
THPA:1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
BHT:ジブチルヒドロキシトルエン
TPP:トリフェニルホスフィン
[実施例1]
還流冷却管付300mL三つ口フラスコ中にBPEF〔(A)成分〕を74.9g(170.1mmol)、BPDA〔(B)成分〕を25.1g(85.1mmol)、PGMEAを100g仕込み、125~130℃の加熱下で26時間攪拌し、反応生成物(AB-1)を得た。次いで、この反応生成物(AB-1)115.1gにGMA〔(C)成分〕を14.9g(104.6mmol)仕込み、更にBHTを0.02g(0.1mmol)及びTPPを0.011g(0.5mmol)加え、85~90℃の加熱下で18時間攪拌し、反応生成物(ABC-1)を得た。得られた(ABC-1)の固形分濃度は55.9%であった。次いで、この反応生成物(ABC-1)90.3gにTHPA〔(D)成分〕を19.6g(129.0mmol)仕込み、85~90℃の加熱下で8時間攪拌し、合成樹脂1を得た。
得られた樹脂の固形分濃度は55.7%、固形分酸価は129mgKOH/g、及びGPC分析による重量平均分子量(Mw)は3400であった。
尚、実施例1に係る(A)~(D)成分の成分名及び配合割合、並びに得られた合成樹脂1の酸価及び重量平均分子量はまとめて表1に示す(以下の実施例及び比較例についても同様)。
[実施例2]
還流冷却管付300mL三つ口フラスコ中にBPEF〔(A)成分〕を111.6g(254.6mmol)、BPDA〔(B)成分〕を37.5g(127.3mmol)、PGMEAを60.1g仕込み、135~140℃の加熱下で20時間攪拌し、反応生成物(AB-2)を得た。次いで、この反応生成物(AB-2)97.4gにECHMMA〔(C)成分〕を23.7g(121.0mmol)仕込み、更にBHTを0.02 g(0.1mmol)及びTPPを 0.22g(0.8mmol)加え、85~90℃の加熱下で16時間攪拌し、反応生成物(ABC-2)を得た。得られた(ABC-2)の固形分濃度は65.0%であった。次いで、この反応生成物(ABC-2)90.9gにTHPA〔(D)成分〕を16.9g(114.0mmol)仕込み、85~90℃の加熱下で8時間攪拌し、合成樹脂2を得た。
得られた樹脂の固形分濃度は58.0%、固形分酸価は106mgKOH/g、及びGPC分析による重量平均分子量(Mw)は3600であった。
[実施例3~10]
上記実施例2で用いた(A)~(D)成分、すなわち、BPEF,BPDA,ECHMMA及びTHPAに替えて、表1記載の原料及び配合比を用いた以外は、実施例2と同様にして反応を行い、合成樹脂3~10を得た。
[比較例1]
上記実施例2において得られた反応生成物(ABC-2)を樹脂11として使用した。尚、樹脂11の合成物の固形分濃度は65.5%、固形分酸価は19mgKOH/g、及びGPC分析による重量平均分子量(Mw)は2700であった。
[比較例2]
上記実施例2の反応生成物(ABC-2)において、ECHMMA〔(C)成分〕に替えて4HBAGEを使用したものを樹脂12として使用した。尚、樹脂12の合成物の固形分濃度は66.0%、固形分酸価は11mgKOH/g、及びGPC分析による重量平均分子量(Mw)は2900であった。
上記表1において、使用原料及び配合比を記載しているが、配合比中「B/A」は(A)成分に対する(B)成分のモル比を表しており、さらに「C/(AB)」は(A)成分および(B)成分から成る化合物(AB)に対する(C)成分のモル比、そして「D/(ABC)」は、化合物(AB)および(C)成分からなる化合物(ABC)に対する(D)成分のモル比を表している。
次に、上記で合成した実施例及び比較例に基づく樹脂(化合物)を用いて、感光性樹脂組成物を作製した。組成物に用いた成分は以下のとおりである。
成分1:上記実施例又は比較例で合成した樹脂(化合物)溶液
成分2:エステルオキシム型光重合開始剤
(Irgacure OXE02/BASFジャパン株式会社製)
成分3:光重合性モノマー(DPHA/日本化薬株式会社製)
成分4:カーボン分散体(顔料濃度20.0%、分散剤5.0%、総固形分25.0%、PGMEA75%)
成分5:その他添加剤
成分6:溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
成分7:溶剤(シクロヘキサノン)
ここで、成分5のその他添加剤とは、前記実施形態に例示した公知の添加剤であるが、本評価においてはシランカップリング剤および界面活性剤を添加し、その総重量(%)を表2に示す。
上記に示す成分1~7を、以下表2の配合比で混合させ、実施例1~10および比較例1~2のいずれかの樹脂(化合物)を使用した感光性樹脂組成物を調製した。
[実施例11~14、比較例3~4]
上記の実施例2,3,6,10および比較例1,2で得られた各樹脂を使用して、上記表2の配合比で調製した感光性樹脂組成物を、ポストベーク後の膜厚が1.1μm(厚膜皺評価では3.0μm以上)になるようスピンコーターでガラス基板(125mm×125mm)上に塗布した。プレベークは90℃で1分間実施した。その後、I線照度20mW/cmの超高圧水銀ランプで、パターンマスクを介して4秒間紫外線を照射(厚膜皺評価用基板に対しては10秒間紫外線を照射)し、光硬化反応を行った。次いでこの露光済み塗布基板を、0.05重量%水酸化カリウム水溶液(24℃)にて、狙いパターンが確認された秒数の1.5倍の時間で現像後水洗処理を施し、未露光部の除去を行った。その後のポストベークは、オーブンを使用して230℃で30分間実施し、試験用硬化膜パターンを得た。なお、厚膜皺評価用基板に対しての現像工程は実施しなかった。
上記の方法で得られた試験用硬化膜パターンにおいて、その現像時間の違いの他に露光感度、テーパー形状、ライン形状、厚膜皺を確認し、その確認方法は以下に記載する。
[露光感度]
露光工程において、線幅20μmのパターンを有するパターンマスクを基板上に置き、上記実施例の条件にて試験用硬化膜パターンを作製した。ポストベーク後に形成されたマスク開口20μmの部分の線幅を比較することで、露光感度を確認した。尚、この評価方法では、高感度であるほど線幅が太くなる。
×:剥がれ発生
-:現像時間180秒でも未露光部が溶解しない。
[テーパー形状]
試験用硬化膜パターンのマスク開口20μmのパターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)((株)KEYENCE製 商品名:VE-7800)により解析することで、パターンの断面形状(テーパー形状)を確認した。ガラス基板面から塗膜表面方向で先細りしている場合を順テーパーとし、以下のランクにより評価した。
○:順テーパー
△:逆テーパー
×:剥がれ発生
-:現像時間180秒でも未露光部が溶解しない。
[ライン形状]
試験用カラーフィルターのマスク開口20μmのパターンをSEMで解析した際、以下のランクにより評価した。
○:良好な直線性を確認できた。
△:多少がたつきはあるものの、フリンジ等は確認されなかった。
×:剥がれ発生
-:現像時間180秒でも未露光部が溶解しない。
[厚膜皺観察]
ポストベーク後の膜厚が3.0μm以上になるように作製した基板を用いて実施した。尚、本評価における基板に対して、現像工程は実施していない。作製した基板を顕微鏡にて200倍に拡大して露光部を観察し、結果を以下のランクにより評価した。
○:皺なし
△:皺あり(低程度)
×:皺あり(高程度)
上記、感光性樹脂組成物の実施例および評価方法より得られた結果を表3に示す。
上記結果より、感度とアルカリ現像性のバランスおよび、表面硬化性と深部硬化性のバランスを兼ね備えた感光性樹脂の合成方法を見出すことに成功した。
本発明における一般式(1)で表される樹脂は、重合性不飽和基付与とアルカリ可溶性基(カルボキシ基)付与を、前記の(C)成分と(D)成分とで別々に制御できるため、感光性樹脂組成物としての特性を変更したいとき、それぞれのパラメータを独立して変更させることができる。それにより、テーパー形状の調整や、パターン表面での皺発生を抑制することでカラーフィルター表面の平坦化が可能になる等、用途に応じて幅広く応用することができる。

Claims (7)

  1. 下記一般式(1)で表され、固形分酸価が20~200mgKOH/gであることを特徴とする樹脂。
    ここで、R、R、R、及びRは、独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。また、Eは-CR-、-CO-、-SO-、-O-、-S-、-SS-、-SO-、-OCO-、-SiR-又は直結合を示し、R及びRは、水素、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数1~12の炭化水素基を示す。また、R及びRは、それぞれ結合して環を形成してもよい。Aは、4価のテトラカルボン酸残基を示す。また、Gは炭素数1以上のアルキレン基を示し、Dは水素原子又は下記一般式(2)で表される置換基を示し、nの平均値は1~8の範囲であり、nは、独立に0以上の整数を表す。また、Jは、水素原子又は下記一般式(3)で表される置換基を示す。但し、一般式(1)中に複数あるDのうちの1か所以上は、下記一般式(2)で表される置換基を示し、DにおけるJのうちの1か所以上が下記一般式(3)で表される置換基を示す。
    ここで、Gは独立に単結合、又は炭素数1以上のアルキレン基を示し、Rは水素原子又はメチル基を示し、Qは炭素数2から8の3価の炭化水素基を示す。また、nは1以上の整数を表し、nが2以上の場合、式中の複数あるGは同一であっても異なっていてもよい。
    ここで、Lは2又は3価のカルボン酸残基を示し、nは1又は2を表す。
  2. 下記(i)~(ii)を含有する感光性樹脂組成物。
    (i)請求項1に記載の樹脂
    (ii)光重合開始剤
  3. さらに、(iii)少なくとも1個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーを含有する請求項2に記載の感光性樹脂組成物。
  4. さらに、(iv)分散質を含有する請求項2又は3に記載の感光性樹脂組成物。
  5. 請求項2~4のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を硬化させて得た硬化物。
  6. 請求項5に記載の硬化物を含むカラーフィルター。
  7. 請求項1に記載の樹脂を製造する方法であって、
    bis-ヒドロキシ(アルコキシ)基含有化合物(A)と、テトラカルボン酸類又はその酸二無水物(B)とを反応させて、カルボキシ基含有化合物(AB)を製造し、
    次いで、前記カルボキシ基含有化合物(AB)と、重合性不飽和基を有するオキシラン化合物(エポキシ化合物)(C)とを反応させて、重合性不飽和基を有する化合物(ABC)を製造し、
    次いで、前記重合性不飽和基を有する化合物(ABC)と、ジカルボン酸類、トリカルボン酸類又はその酸一無水物(D)とを反応させる方法において、
    前記(A)成分と、前記(B)成分とのモル比(B/A)は、50%以上100%未満であり、
    前記(C)成分と、前記化合物(AB)とのモル比[C/(AB)]は、50%~250%であって、前記(C)成分を前記化合物(AB)に少なくとも1つ反応させ、
    前記(D)成分と、前記化合物(ABC)とのモル比[D/(ABC)]は、10~500%であって、一般式(1)において少なくとも1か所のDがカルボキシ基及び重合性不飽和基を有する置換基となるようにする
    ことを特徴とする樹脂の製造方法。
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