JP7743303B2 - 保持テーブル、それを備える加工装置、及び、加工方法 - Google Patents
保持テーブル、それを備える加工装置、及び、加工方法Info
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Description
保持テーブル40は、ベース41と、ベース41の上部に設置されて保持面42を露出させるプレート43と、を有して構成される。
まず、図3(B)に示すように、制御弁53を開き、エアー供給源54から空圧室41kにエアーを供給し、弾性部材55の付勢力に抗して複数の支持ピン44を保持面42から突出させる。
次いで、図4に示すように、複数の支持ピン44の先端にインゴット3を載置して、保持面42の上方で支持ピン44によりインゴット3を支持する。支持ピン44の先端は保持面42から突出しているので、インゴット3を保持面42に接触させることなく、支持ピン44にて支持することができる。これにより、インゴット3が保持面42に衝突するなどして保持面42を損傷させてしまう不具合発生を防止できる。
次に、図5に示すように、制御弁53を閉じてエアー供給源54から空圧室41kへのエアーの供給を停止するとともに、制御弁51を開いてエアー吸引源52により空圧室41kの減圧を行う。これにより、各支持ピン44の先端が緩やかに挿入孔46へと引き込まれるとともに、インゴット3の下面3bが保持面42に載置される。
次に、図7に示すように、レーザビームLをインゴット3の所定の高さ位置に集光させるとともに、保持テーブル40をレーザビームLに対してXY方向に相対的に水平移動させる。これにより、インゴット3内の所定の高さ位置に分離層Bを形成する。
次いで、図7に示すように、吸着保持パット72を有する分離装置70にて分離層Bの上側の部分をウェーハ2として分離し、搬出する。ウェーハ2を分離して残されたインゴット3は、その上面が研削や研磨されることにより平坦化される。なお、この平坦化は、インゴット3を保持している保持テーブル40にて実施してもよいし、保持テーブル40の吸引保持を解除するとともにインゴット3を別の研削装置等に搬送して平坦化することとしてもよい。平坦化後は、再び、レーザビームLを照射して分離層Bを形成する。
即ち、インゴット3が搬入される際には、インゴット3を保持面42で保持する前に、保持面42から突出する複数の支持ピン44の先端にインゴット3を載置し、保持面42の上方で支持ピンによりインゴット3を支持し、その後、支持ピン44の先端を保持面42に埋設する退避位置に緩やかに位置づけることで、インゴット3が保持面42にて保持される。これにより、保持テーブル40でインゴット3を保持するまでの過程において、インゴット3で保持テーブル40の保持面42を損傷することを防ぐことができる。
2 ウェーハ
3 インゴット
3b 下面
10 保持テーブル
11 基台
12 移動機構
13 立壁部
14 アーム部
18 軸移動機構
20 レーザビーム照射機構
22 加工ヘッド
24 撮像カメラ
40 保持テーブル
41 ベース
41a 流路
41b バネ室
41k 空圧室
41s シリンダー部
42 保持面
43 プレート
44 支持ピン
44s ピストン部
45 細孔
46 挿入孔
51 制御弁
52 エアー吸引源
53 制御弁
54 エアー供給源
55 弾性部材
70 分離装置
71 吸着保持パット
B 分離層
L レーザビーム
Claims (4)
- インゴットを吸引保持する保持面を有する保持テーブルであって、
該保持面には、該インゴットを支持する3以上の支持ピンが進退可能に設けられ、
該保持面には該インゴットを吸引する複数の細孔と、該支持ピンがそれぞれ挿入される挿入孔と、が形成され、
該保持テーブルには、
一端側が複数の該細孔と該支持ピンの後端側の空圧室にそれぞれ連通するとともに、
他端側がエアー吸引源又はエアー供給源に対し切り替え自在に接続される流路が形成され、
該流路を該エアー供給源に接続して該空圧室にエアーを供給することで、該支持ピンは先端が該保持面から突出支持位置に位置づけられ、該支持ピンの先端で該インゴットを支持可能とし、
該流路を該エアー吸引源に接続して該空圧室を減圧することで、該支持ピンは先端が該挿入孔に埋設する退避位置に緩やかに位置づけられ、該インゴットが該保持面で支持されるとともに、該インゴットが複数の該細孔に作用する負圧によって該保持面で吸引保持される、保持テーブル。 - 該支持ピンは、弾性部材により退避位置に移動する向きに付勢され、
該空圧室にエアーが供給されない際に、該支持ピンが該退避位置に位置付けられる、
ことを特徴とする請求項1に記載の保持テーブル。 - 請求項1又は請求項2に記載の保持テーブルを備える加工装置。
- インゴットからウェーハを分離する加工方法であって、
3以上の複数の支持ピンを保持テーブルの保持面から突出させる支持ピン突出ステップと、
該支持ピンの先端にインゴットを載置して、該保持面の上方で該支持ピンによりインゴットを支持するステップと、
該支持ピンを該保持面に埋没させるように緩やかに移動させるとともに、該インゴットを該保持面に載置して該保持面にて該インゴットを吸引保持する保持ステップと、
レーザビームを該インゴットの所定の高さ位置に集光させるとともに、該保持テーブルを該レーザビームに対して相対的に水平移動させ、該インゴット内に分離層を形成するレーザ照射ステップと、
を有する加工方法。
Priority Applications (3)
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| JP2021213601A JP7743303B2 (ja) | 2021-12-28 | 2021-12-28 | 保持テーブル、それを備える加工装置、及び、加工方法 |
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Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3777050B2 (ja) | 1998-04-30 | 2006-05-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システム |
| JP2016111093A (ja) | 2014-12-03 | 2016-06-20 | サムコ株式会社 | 基板保持装置 |
| JP2016209981A (ja) | 2015-05-13 | 2016-12-15 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
| JP2019186276A (ja) | 2018-04-03 | 2019-10-24 | 株式会社ディスコ | ウエーハの生成方法 |
| KR102122042B1 (ko) | 2019-02-19 | 2020-06-26 | 세메스 주식회사 | 칩 본더 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
| JP2021072450A (ja) | 2019-10-31 | 2021-05-06 | セメス カンパニー,リミテッド | 支持ユニット、これを含む基板処理装置、及びこれを利用する基板処理方法 |
| WO2023100821A1 (ja) | 2021-11-30 | 2023-06-08 | 京セラ株式会社 | 高さ調節部材、熱処理装置および静電チャック装置 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11309409A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理システム |
| JPH11309408A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理システム |
| JP6180223B2 (ja) | 2013-08-06 | 2017-08-16 | 株式会社ディスコ | ウェーハの製造方法 |
| JP2015223589A (ja) | 2014-05-26 | 2015-12-14 | 株式会社ディスコ | SiC板状ワーク製造方法 |
| KR102293733B1 (ko) * | 2015-12-30 | 2021-08-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 정렬 장치 및 그것을 이용한 기판 정렬 방법 |
| JP6792363B2 (ja) * | 2016-07-22 | 2020-11-25 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
| JP2018156973A (ja) * | 2017-03-15 | 2018-10-04 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
| JP6974979B2 (ja) * | 2017-08-22 | 2021-12-01 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
| JP6951152B2 (ja) * | 2017-08-22 | 2021-10-20 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
| JP7106298B2 (ja) * | 2018-03-05 | 2022-07-26 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル、切削装置、及び、切削装置のチャックテーブル修正方法 |
| JP7032217B2 (ja) * | 2018-04-05 | 2022-03-08 | 株式会社ディスコ | 研磨装置 |
| JP7143021B2 (ja) * | 2018-07-09 | 2022-09-28 | 株式会社ディスコ | ポーラスチャックテーブル、ポーラスチャックテーブルの製造方法、及び、加工装置 |
| JP7271063B2 (ja) * | 2019-05-21 | 2023-05-11 | 株式会社ディスコ | 測定装置 |
-
2021
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-
2022
- 2022-12-20 US US18/068,669 patent/US12479053B2/en active Active
- 2022-12-21 DE DE102022214183.0A patent/DE102022214183A1/de active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3777050B2 (ja) | 1998-04-30 | 2006-05-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理システム |
| JP2016111093A (ja) | 2014-12-03 | 2016-06-20 | サムコ株式会社 | 基板保持装置 |
| JP2016209981A (ja) | 2015-05-13 | 2016-12-15 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
| JP2019186276A (ja) | 2018-04-03 | 2019-10-24 | 株式会社ディスコ | ウエーハの生成方法 |
| KR102122042B1 (ko) | 2019-02-19 | 2020-06-26 | 세메스 주식회사 | 칩 본더 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
| JP2021072450A (ja) | 2019-10-31 | 2021-05-06 | セメス カンパニー,リミテッド | 支持ユニット、これを含む基板処理装置、及びこれを利用する基板処理方法 |
| WO2023100821A1 (ja) | 2021-11-30 | 2023-06-08 | 京セラ株式会社 | 高さ調節部材、熱処理装置および静電チャック装置 |
Also Published As
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| US12479053B2 (en) | 2025-11-25 |
| US20230201977A1 (en) | 2023-06-29 |
| DE102022214183A1 (de) | 2023-06-29 |
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