JP7743352B2 - Fluorine-containing ether compound, fluorine-containing ether composition, coating liquid, article, and method for producing the same - Google Patents
Fluorine-containing ether compound, fluorine-containing ether composition, coating liquid, article, and method for producing the sameInfo
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Description
本発明は、含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a fluorinated ether compound, a fluorinated ether composition, a coating liquid, an article, and a method for producing the same.
ポリ(オキシペルフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能(耐摩擦性)および拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能(指紋汚れ除去性)が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材、メガネレンズ、ウェアラブル端末のディスプレイの表面処理剤として用いられる。 Fluorinated ether compounds having poly(oxyperfluoroalkylene) chains are suitable for use in surface treatment agents because they can form a surface layer on the surface of a substrate that exhibits high lubricity, water and oil repellency, etc. Surface treatment agents containing fluorinated ether compounds are used in applications where the surface layer must maintain its water and oil repellency (abrasion resistance) even when repeatedly rubbed with fingers, and the surface layer must be easily wiped clean (fingerprint removability) for a long period of time, such as surface treatment agents for components that make up the surfaces of touch panels that are touched by fingers, eyeglass lenses, and displays of wearable devices.
耐摩擦性および指紋汚れ除去性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、下記のものが提案されている。
下式Iで表される化合物等(特許文献1)。
CF3O-(CF2O)p1-(C2F4O)q1-CF2-C(OH)[-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2 式I
ただし、p1:p2=47:53、p1+q1≒43である。
The following compounds have been proposed as fluorine-containing ether compounds capable of forming a surface layer on the surface of a substrate that is excellent in abrasion resistance and fingerprint removability.
Compounds represented by the following formula I (Patent Document 1).
CF 3 O-(CF 2 O) p1 -(C 2 F 4 O) q1 -CF 2 -C(OH) [-CH 2 CH 2 CH 2 -Si(OCH 3 ) 3 ] 2 Formula I
However, p1:p2=47:53, and p1+q1≈43.
下式IIで表される化合物等(特許文献2)。
CF3O-(CF2O)p1-(C2F4O)q1-CF2-C[-O-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3][-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2 式II
ただし、p1は5~100の整数であり、q1は5~100の整数であり、p1+q1は10~105の整数である。
Compounds represented by the following formula II, etc. (Patent Document 2).
CF 3 O-(CF 2 O) p1 -(C 2 F 4 O) q1 -CF 2 -C[-O-CH 2 CH 2 CH 2 -Si(OCH 3 ) 3 ][-CH 2 CH 2 CH 2 -Si(OCH 3 ) 3 ] 2 Formula II
Here, p1 is an integer of 5 to 100, q1 is an integer of 5 to 100, and p1+q1 is an integer of 10 to 105.
下式IIIで表される化合物等(特許文献3)。
CF3O-(CF2O)p1-(C2F4O)q1-CF2-C[-O-Si(OCH3)3][-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2 式III
ただし、p1は5~100の整数であり、q1は5~100の整数であり、p1+q1は10~105の整数である。
Compounds represented by the following formula III (Patent Document 3).
CF 3 O-(CF 2 O) p1 -(C 2 F 4 O) q1 -CF 2 -C[-O-Si(OCH 3 ) 3 ][-CH 2 CH 2 CH 2 -Si(OCH 3 ) 3 ] 2 Formula III
Here, p1 is an integer of 5 to 100, q1 is an integer of 5 to 100, and p1+q1 is an integer of 10 to 105.
下式IVで表される化合物等(特許文献4)。
CF3O-(CF2O)p1-(C2F4O)q1-CF2-C[-OC(O)-CH3][-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2 式IV
ただし、p1は5~100の整数であり、q1は5~100の整数であり、p1+q1は10~105の整数である。
Compounds represented by the following formula IV (Patent Document 4).
CF 3 O-(CF 2 O) p1 -(C 2 F 4 O) q1 -CF 2 -C[-OC(O)-CH 3 ][-CH 2 CH 2 CH 2 -Si(OCH 3 ) 3 ] 2 Formula IV
Here, p1 is an integer of 5 to 100, q1 is an integer of 5 to 100, and p1+q1 is an integer of 10 to 105.
特許文献1に記載の化合物は、反応性が高い水酸基を有するため、副反応によって副生物が生じ、保存安定性に劣る(特許文献3の段落[0008]、特許文献4の段落[0008]参照)。また、残存する水酸基によって、特許文献1に記載の化合物からなる表面層の撥水撥油性、耐薬品性等が低下する。
特許文献2~4に記載の化合物は、特許文献1に記載の化合物の水酸基を他の基で保護した誘導体である。しかし、特許文献2~4に記載の化合物は、特許文献1に記載の化合物の水酸基に由来するエーテル結合、C-O-Si結合またはエステル結合を有する。エーテル結合、C-O-Si結合、エステル結合は、光、薬品等によって切断されやすいため、特許文献2~4に記載の化合物からなる表面層は、耐光性および耐薬品性に劣る。
The compound described in Patent Document 1 has a highly reactive hydroxyl group, which generates by-products through side reactions and results in poor storage stability (see paragraph [0008] of Patent Document 3 and paragraph [0008] of Patent Document 4). Furthermore, the remaining hydroxyl groups reduce the water and oil repellency, chemical resistance, and other properties of the surface layer made of the compound described in Patent Document 1.
The compounds described in Patent Documents 2 to 4 are derivatives in which the hydroxyl group of the compound described in Patent Document 1 is protected with another group. However, the compounds described in Patent Documents 2 to 4 have an ether bond, a C—O—Si bond, or an ester bond derived from the hydroxyl group of the compound described in Patent Document 1. Since the ether bond, the C—O—Si bond, and the ester bond are easily cleaved by light, chemicals, etc., the surface layers made of the compounds described in Patent Documents 2 to 4 have poor light resistance and chemical resistance.
本発明は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物;含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液;初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品およびその製造方法の提供を目的とする。
また、本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。
The present invention aims to provide a fluorine-containing ether compound capable of forming a surface layer excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light fastness and chemical resistance; a fluorine-containing ether composition and coating liquid containing the fluorine-containing ether compound; an article having a surface layer excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light fastness and chemical resistance, and a method for producing the same.
Another object of the present invention is to provide a fluorine-containing ether compound that is useful as an intermediate for a fluorine-containing ether compound that is suitably used in a surface treatment agent.
本発明は、下記[1]~[8]の構成を有する含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、含フッ素エーテル化合物の他の態様を提供する。 The present invention provides a fluorinated ether compound, a fluorinated ether composition, a coating liquid, an article, a method for producing an article, and other aspects of the fluorinated ether compound, each having the following structures [1] to [8].
[1]下式1で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
A1-O-(Rf1O)m-A2 式1
ただし、A1は、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基または下式g1で表される基であり、A2は、下式g1で表される基であり、Rf1は、フルオロアルキレン基であり、mは、2~500の整数であり、(Rf1O)mは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよい。
-Rf2-Q1-C(X)[-Q2-SiRnL3-n]2 式g1
ただし、Rf2は、フルオロアルキレン基(ただし、Q1側の末端の炭素原子には少なくとも1個のフッ素原子が結合する。)であり、Q1は、単結合またはアルキレン基であり、Xは、フッ素原子、水素原子、アルキル基またはフルオロアルキル基であり、Q2は、アルキレン基であり、Rは、1価の炭化水素基であり、Lは、加水分解性基であり、nは、0~2の整数であり、2個の[-Q2-SiRnL3-n]は、同一であっても異なっていてもよい。
[2]前記[1]の含フッ素エーテル化合物の1種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含むことを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
[3]前記[1]の含フッ素エーテル化合物または[2]の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
[4]前記[1]の含フッ素エーテル化合物または[2]の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有することを特徴とする物品。
[5]タッチパネルの指で触れる面を構成する部材の表面に前記表面層を有する、[4]の物品。
[6]前記[1]の含フッ素エーテル化合物または[2]の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
[7]ウェットコーティング法によって[3]のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
[8]下式2で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
A1a-O-(Rf1O)m-A2a 式2
ただし、A1aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基または下式g2で表される基であり、A2aは、下式g2で表される基であり、Rf1は、フルオロアルキレン基であり、mは、2~500の整数であり、(Rf1O)mは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよい。
-Rf2-Q1-C(X)[-Q2a-CH=CH2]2 式g2
ただし、Rf2は、フルオロアルキレン基(ただし、Q1側の末端の炭素原子には少なくとも1個のフッ素原子が結合する。)であり、Q1は、単結合またはアルキレン基であり、Xは、フッ素原子、水素原子、アルキル基またはフルオロアルキル基であり、Q2aは、単結合またはアルキレン基であり、2個の[-Q2a-CH=CH2]は、同一であっても異なっていてもよい。
[1] A fluorine-containing ether compound represented by the following formula 1:
A 1 -O-(R f1 O) m -A 2 Formula 1
Here, A 1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a group represented by the following formula g1, A 2 is a group represented by the following formula g1, R f1 is a fluoroalkylene group, m is an integer of 2 to 500, and (R f1 O) m may be composed of two or more types of R f1 O having different numbers of carbon atoms.
-R f2 -Q 1 -C(X) [-Q 2 -SiR n L 3-n ] 2 formula g1
wherein R f2 is a fluoroalkylene group (at least one fluorine atom is bonded to the terminal carbon atom on the Q 1 side), Q 1 is a single bond or an alkylene group, X is a fluorine atom, a hydrogen atom, an alkyl group or a fluoroalkyl group, Q 2 is an alkylene group, R is a monovalent hydrocarbon group, L is a hydrolyzable group, n is an integer of 0 to 2, and the two [-Q 2 -SiR n L 3-n ] may be the same or different.
[2] A fluorinated ether composition comprising at least one fluorinated ether compound according to [1] above and another fluorinated ether compound.
[3] A coating liquid comprising the fluorinated ether compound of [1] or the fluorinated ether composition of [2], and a liquid medium.
[4] An article having a surface layer formed from the fluorinated ether compound of [1] or the fluorinated ether composition of [2] on the surface of a substrate.
[5] The article according to [4], having the surface layer on the surface of a member that constitutes the surface of a touch panel that is touched by a finger.
[6] A method for producing an article, comprising treating the surface of a substrate by a dry coating method using the fluorinated ether compound of [1] above or the fluorinated ether composition of [2] above, and forming a surface layer formed from the fluorinated ether compound or the fluorinated ether composition on the surface of the substrate.
[7] A method for producing an article, comprising applying the coating liquid of [3] to a surface of a substrate by a wet coating method, followed by drying to form a surface layer formed from the fluorinated ether compound or the fluorinated ether composition on the surface of the substrate.
[8] A fluorine-containing ether compound represented by the following formula 2:
A 1a -O-(R f1 O) m -A 2a Formula 2
Here, A 1a is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a group represented by the following formula g2, A 2a is a group represented by the following formula g2, R f1 is a fluoroalkylene group, m is an integer of 2 to 500, and (R f1 O) m may be composed of two or more types of R f1 O having different numbers of carbon atoms.
-R f2 -Q 1 -C(X) [-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 formula g2
Here, R f2 is a fluoroalkylene group (provided that at least one fluorine atom is bonded to the terminal carbon atom on the Q 1 side), Q 1 is a single bond or an alkylene group, X is a fluorine atom, a hydrogen atom, an alkyl group or a fluoroalkyl group, Q 2a is a single bond or an alkylene group, and the two [-Q 2a -CH═CH 2 ]s may be the same or different.
本発明の含フッ素エーテル化合物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の含フッ素エーテル組成物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明のコーティング液によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の物品は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する。
本発明の物品の製造方法によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品を製造できる。
本発明の含フッ素エーテル化合物の他の態様は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
The fluorine-containing ether compound of the present invention can form a surface layer that is excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light resistance and chemical resistance.
The fluorine-containing ether composition of the present invention can form a surface layer that is excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light resistance and chemical resistance.
The coating liquid of the present invention can form a surface layer that is excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance.
The article of the present invention has a surface layer that is excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light resistance and chemical resistance.
According to the method for producing an article of the present invention, an article can be produced having a surface layer that is excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance.
Another embodiment of the fluorine-containing ether compound of the present invention is useful as an intermediate for fluorine-containing ether compounds that are suitably used in surface treatment agents.
本明細書において、式1で表される化合物を化合物1と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
また、式g1で表される基を基g1と記す。他の式で表される基も同様に記す。
オキシフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基(Si-OH)を形成し得る基を意味し、式g1中のSiRnL3-nである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、1H-NMRおよび19F-NMRによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数(平均値)を求めて算出される。末端基は、たとえば式1中のA1または式g1中のSiRnL3-nである。
数値範囲を示す「~」は、その前後に記載された数値を下限値および上限値として含むことを意味する。
In this specification, the compound represented by formula 1 will be referred to as compound 1. Compounds represented by other formulas will also be referred to in the same manner.
In addition, a group represented by formula g1 will be referred to as group g1. Groups represented by other formulas will be similarly referred to.
The chemical formula of an oxyfluoroalkylene unit shall be represented by writing the oxygen atom to the right of the fluoroalkylene group.
As used herein, the following terms have the following meanings:
The term "hydrolyzable silyl group" refers to a group that can form a silanol group (Si-OH) by hydrolysis, and is represented by SiR n L 3-n in formula g1.
The term "surface layer" refers to a layer formed on the surface of a substrate.
The "number average molecular weight" of a fluorinated ether compound is calculated by determining the number (average value) of oxyperfluoroalkylene groups based on the number of terminal groups by 1H -NMR and 19F -NMR. The terminal groups are, for example, A1 in Formula 1 or SiRnL3 -n in Formula g1.
The use of "to" to indicate a range of values means that the values before and after it are included as the lower and upper limits.
[含フッ素エーテル化合物]
本発明の含フッ素エーテル化合物は、化合物1である。
A1-O-(Rf1O)m-A2 式1
ただし、A1は、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基または基g1であり、A2は、基g1であり、Rf1は、フルオロアルキレン基であり、mは、2~500の整数であり、(Rf1O)mは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよい。
-Rf2-Q1-C(X)[-Q2-SiRnL3-n]2 式g1
ただし、Rf2は、フルオロアルキレン基(ただし、Q1側の末端の炭素原子には少なくとも1個のフッ素原子が結合する。)であり、Q1は、単結合またはアルキレン基であり、Xは、フッ素原子、水素原子、アルキル基またはフルオロアルキル基であり、Q2は、アルキレン基であり、Rは、1価の炭化水素基であり、Lは、加水分解性基であり、nは、0~2の整数であり、2個の[-Q2-SiRnL3-n]は、同一であっても異なっていてもよい。
[Fluorine-containing ether compound]
The fluorine-containing ether compound of the present invention is Compound 1.
A 1 -O-(R f1 O) m -A 2 Formula 1
Here, A 1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or group g1, A 2 is group g1, R f1 is a fluoroalkylene group, m is an integer of 2 to 500, and (R f1 O) m may be composed of two or more types of R f1 O having different numbers of carbon atoms.
-R f2 -Q 1 -C(X) [-Q 2 -SiR n L 3-n ] 2 formula g1
wherein R f2 is a fluoroalkylene group (at least one fluorine atom is bonded to the terminal carbon atom on the Q 1 side), Q 1 is a single bond or an alkylene group, X is a fluorine atom, a hydrogen atom, an alkyl group or a fluoroalkyl group, Q 2 is an alkylene group, R is a monovalent hydrocarbon group, L is a hydrolyzable group, n is an integer of 0 to 2, and the two [-Q 2 -SiR n L 3-n ] may be the same or different.
A1としては、表面層の潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる点から、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基が好ましい。A1がペルフルオロアルキル基である化合物1は、A1が末端にCF3-を有するため、化合物1の一方の末端がCF3-となり、他方の末端が加水分解性シリル基となる。一方の末端がCF3-であり、他方の末端が加水分解性シリル基である化合物1によれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、表面層の潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる。一方、A1が基g1である化合物1は、両末端に加水分解性シリル基を有するため、表面層の潤滑性および耐摩擦性がやや不充分である。
A1のペルフルオロアルキル基の炭素数は、化合物1によって形成される表面層の潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる点から、1~10が好ましく、1~6がより好ましく、1~3が特に好ましい。
A 1 is preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, since the lubricity and abrasion resistance of the surface layer are even more excellent. In compound 1 where A 1 is a perfluoroalkyl group, A 1 has a CF 3 - at its terminal, so one terminal of compound 1 is CF 3 - and the other terminal is a hydrolyzable silyl group. Compound 1 where one terminal is CF 3 - and the other terminal is a hydrolyzable silyl group can form a surface layer with low surface energy, so the lubricity and abrasion resistance of the surface layer are even more excellent. On the other hand, compound 1 where A 1 is group g1 has hydrolyzable silyl groups at both terminals, so the lubricity and abrasion resistance of the surface layer are somewhat insufficient.
The number of carbon atoms in the perfluoroalkyl group of A1 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 3, in order to further improve the lubricity and abrasion resistance of the surface layer formed by compound 1.
Rf1の炭素数は、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、1~6が好ましい。
Rf1としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、直鎖のフルオロアルキレン基が好ましい。
Rf1としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
全Rf1のうちのペルフルオロアルキレン基の割合は、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、60モル%以上が好ましく、80モル%以上がより好ましく、100モル%が特に好ましい。
The number of carbon atoms in R f1 is preferably 1 to 6, since this provides the surface layer with even better abrasion resistance and fingerprint removability.
R f1 is preferably a linear fluoroalkylene group, as this provides the surface layer with even better abrasion resistance and lubricity.
Rf1 is preferably a perfluoroalkylene group, as this provides the surface layer with even better abrasion resistance and lubricity.
The proportion of perfluoroalkylene groups in all R f1 is preferably 60 mol % or more, more preferably 80 mol % or more, and particularly preferably 100 mol %, in order to provide a surface layer with even better abrasion resistance and lubricity.
mは、2~200の整数が好ましく、5~150の整数がより好ましく、10~100の整数が特に好ましい。mが前記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性がさらに優れる。mが前記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性がさらに優れる。すなわち、化合物1の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、表面層の耐摩擦性が低下する。 m is preferably an integer between 2 and 200, more preferably an integer between 5 and 150, and particularly preferably an integer between 10 and 100. When m is equal to or greater than the lower limit of the above range, the water and oil repellency of the surface layer is even better. When m is equal to or less than the upper limit of the above range, the abrasion resistance of the surface layer is even better. In other words, if the number average molecular weight of compound 1 is too large, the number of hydrolyzable silyl groups present per unit molecular weight decreases, and the abrasion resistance of the surface layer decreases.
(Rf1O)mにおいて、2種以上のRf1Oが存在する場合、各Rf1Oの結合順序は限定されない。たとえば、CF2OとCF2CF2Oが存在する場合、CF2OとCF2CF2Oがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
2種以上のRf1Oが存在するとは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oが存在すること、水素原子数が異なる2種以上のRf1Oが存在すること、および水素原子の位置が異なる2種以上のRf1Oが存在すること、および、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類(側鎖の数や側鎖の炭素数等)が異なる2種以上のRf1Oが存在することをいう。
2種以上のRf1Oの配置については、たとえば、{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2}で表される構造は、m1個の(CF2O)とm2個の(CF2CF2O)とがランダムに配置されていることを表す。また、(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m5で表される構造は、m5個の(CF2CF2O)とm5個の(CF2CF2CF2CF2O)とが交互に配置されていることを表す。
When two or more types of R f1 O are present in (R f1 O) m , the bonding order of each R f1 O is not limited. For example, when CF 2 O and CF 2 CF 2 O are present , CF 2 O and CF 2 CF 2 O may be arranged randomly, alternately, or in blocks.
The presence of two or more types of R f1 O means that there are two or more types of R f1 O with different numbers of carbon atoms, that there are two or more types of R f1 O with different numbers of hydrogen atoms, that there are two or more types of R f1 O with different positions of hydrogen atoms, and that there are two or more types of R f1 O with the same number of carbon atoms but different in the presence or absence of side chains or the type of side chain (the number of side chains, the number of carbon atoms in the side chain, etc.).
Regarding the arrangement of two or more types of R f1 O, for example, a structure represented by {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 } means that m1 (CF 2 O)s and m2 (CF 2 CF 2 O)s are randomly arranged, and a structure represented by (CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m5 means that m5 (CF 2 CF 2 O)s and m5 (CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O)s are alternately arranged.
(Rf1O)mとしては、(Rf1O)mの少なくとも一部に下記の構造を有するものが好ましい。
{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2}、
(CF2CF2O)m3、
(CF2CF2CF2O)m4、
(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m5、
(CF2CF2CF2CF2CF2O)m6(CF2O)m7、
(CF2CF2CF2CF2CF2O)m6(CF2CF2O)m7、
(CF2CF2CF2CF2CF2CF2O)m6(CF2O)m7、
(CF2CF2CF2CF2CF2CF2O)m6(CF2CF2O)m7、
(CF2CF2CF2CF2CF2O-CF2O)m8、
(CF2CF2CF2CF2CF2O-CF2CF2O)m8、
(CF2CF2CF2CF2CF2CF2O-CF2O)m8、
(CF2CF2CF2CF2CF2CF2O-CF2CF2O)m8、
(CF2O-CF2CF2CF2CF2CF2O)m8、
(CF2O-CF2CF2CF2CF2CF2CF2O)m8、
(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2CF2O)m8、
(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2CF2CF2O)m8。
ただし、m1は1以上の整数であり、m2は1以上の整数であり、m1+m2は2~500の整数であり、m3およびm4は、それぞれ、2~500の整数であり、m5は、1~250の整数であり、m6およびm7は、それぞれ1以上の整数であり、m6+m7は、2~500の整数であり、m8は、1~250の整数である。
As (R f1 O) m , those having the following structure in at least a part of (R f1 O) m are preferred.
{(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 },
(CF 2 CF 2 O) m3 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 O) m4 ,
(CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m5 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m6 (CF 2 O) m7 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m6 (CF 2 CF 2 O) m7 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m6 (CF 2 O) m7 ,
( CF2CF2CF2CF2CF2CF2O ) m6 ( CF2CF2O ) m7 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O-CF 2 O) m8 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 O) m8 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O-CF 2 O) m8 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 O) m8 ,
(CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m8 ,
(CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m8 ,
(CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m8 ,
(CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m8 .
Here, m1 is an integer of 1 or more, m2 is an integer of 1 or more, m1+m2 is an integer of 2 to 500, m3 and m4 are each an integer of 2 to 500, m5 is an integer of 1 to 250, m6 and m7 are each an integer of 1 or more, m6+m7 is an integer of 2 to 500, and m8 is an integer of 1 to 250.
(Rf1O)mとしては、化合物1を製造しやすい点から、下記のものが好ましい。
{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2}、
(CF2CF2CF2O)m4、
(CF2CF2O)2{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2-2}、
(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m5-1CF2CF2O、
(CF2CF2CF2CF2CF2O-CF2O)m8、
(CF2CF2CF2CF2CF2CF2O-CF2O)m8、
(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2CF2O)m8-1CF2CF2O、
(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2CF2CF2O)m8-1CF2CF2O。
ただし、m2-2、m5-1およびm8-1については1以上の整数となるように、m2、m5およびm8の数は選択される。
As (R f1 O) m , the following are preferred in terms of ease of production of Compound 1.
{(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2 },
(CF 2 CF 2 CF 2 O) m4 ,
(CF 2 CF 2 O) 2 {(CF 2 O) m1 (CF 2 CF 2 O) m2-2 },
(CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m5-1 CF 2 CF 2 O,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O-CF 2 O) m8 ,
(CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O-CF 2 O) m8 ,
(CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) m8-1 CF 2 CF 2 O,
( CF2CF2O - CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2O ) m8-1 CF2CF2O .
However, the numbers m2, m5 and m8 are selected so that m2-2, m5-1 and m8-1 are integers of 1 or greater.
Rf2の炭素数としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、1~8が好ましく、1~6がより好ましく、1~5が特に好ましい。
Rf2としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、直鎖のフルオロアルキレン基が好ましい。
Rf2としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
Rf2の構造は、化合物1を製造する際の原料および合成方法に依存する。
The number of carbon atoms in R f2 is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 5, in order to provide a surface layer with even better abrasion resistance and fingerprint removability.
Rf2 is preferably a linear fluoroalkylene group, as this provides the surface layer with even better abrasion resistance and lubricity.
Rf2 is preferably a perfluoroalkylene group, as this provides the surface layer with even better abrasion resistance and lubricity.
The structure of R f2 depends on the raw material and synthesis method used to produce compound 1.
Q1のアルキレン基の炭素数は、1~6が好ましい。
Q1としては、化合物1を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、単結合が好ましい。
The alkylene group of Q1 preferably has 1 to 6 carbon atoms.
Q1 is preferably a single bond, since compound 1 can be easily produced and the surface layer has better abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance.
Xは、たとえば、後述する化合物4の水酸基をフッ素原子、水素原子、アルキル基またはフルオロアルキル基に置換した基である。Xがフルオロアルキル基の場合、Xとしては、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキル基が好ましい。
Xのアルキル基またはフルオロアルキル基の炭素数は、1~6が好ましい。
Xとしては、化合物1を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、フッ素原子が好ましい。
X is, for example, a group in which a hydroxyl group of Compound 4 described below is substituted with a fluorine atom, a hydrogen atom, an alkyl group, or a fluoroalkyl group. When X is a fluoroalkyl group, X is preferably a perfluoroalkyl group, since the surface layer will have even better abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance.
The alkyl group or fluoroalkyl group of X preferably has 1 to 6 carbon atoms.
X is preferably a fluorine atom, since compound 1 can be easily produced and the surface layer has better abrasion resistance, light resistance and chemical resistance.
Q2の炭素数は、化合物1を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、1~10が好ましく、2~6がより好ましく、2~4が特に好ましい。 The number of carbon atoms in Q2 is preferably 1 to 10, more preferably 2 to 6, and particularly preferably 2 to 4, from the viewpoints of ease of production of compound 1 and further superior abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance of the surface layer.
SiRnL3-nは、加水分解性シリル基である。
化合物1は、少なくとも片側の末端に加水分解性シリル基を2個有する。末端に加水分解性シリル基を2個以上有する化合物1は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、化合物1は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有することが好ましい。一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する化合物1は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
SiR n L 3-n is a hydrolyzable silyl group.
Compound 1 has two hydrolyzable silyl groups at at least one end. Compound 1 having two or more hydrolyzable silyl groups at its ends forms a strong chemical bond with the substrate, resulting in a surface layer with excellent abrasion resistance.
It is also preferable that Compound 1 has a hydrolyzable silyl group at only one end. Compound 1 having a hydrolyzable silyl group at only one end is less likely to aggregate, and therefore the surface layer has an excellent appearance.
Lは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、化合物1の末端のSi-Lは、加水分解反応によってシラノール基(Si-OH)となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してSi-O-Si結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基(基材-OH)と脱水縮合反応して、化学結合(基材-O-Si)を形成する。 L is a hydrolyzable group. A hydrolyzable group is a group that becomes a hydroxyl group through a hydrolysis reaction. That is, Si-L at the end of compound 1 becomes a silanol group (Si-OH) through a hydrolysis reaction. The silanol group further reacts with other molecules to form an Si-O-Si bond. The silanol group also undergoes a dehydration condensation reaction with hydroxyl groups (substrate-OH) on the surface of the substrate to form a chemical bond (substrate-O-Si).
Lとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。
Lとしては、化合物1の製造をしやすい点から、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Lとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物1の保存安定性に優れる点から、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、化合物1の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Examples of L include an alkoxy group, a halogen atom, an acyl group, and an isocyanate group. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. The halogen atom is particularly preferably a chlorine atom.
L is preferably an alkoxy group or a halogen atom from the viewpoint of ease of production of Compound 1. L is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms from the viewpoint of less outgassing during coating and excellent storage stability of Compound 1, an ethoxy group is particularly preferred when long-term storage stability of Compound 1 is required, and a methoxy group is particularly preferred when the reaction time after coating is to be short.
Rは、1価の炭化水素基である。1価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられる。
Rとしては、1価の飽和炭化水素基が特に好ましい。1価の飽和炭化水素基の炭素数は、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。Rの炭素数がこの範囲であると、化合物1を製造しやすい。
R is a monovalent hydrocarbon group. Examples of the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, and an allyl group.
R is particularly preferably a monovalent saturated hydrocarbon group. The number of carbon atoms in the monovalent saturated hydrocarbon group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2. When the number of carbon atoms in R is within this range, compound 1 can be easily produced.
nは、0または1が好ましく、0が特に好ましい。1個の加水分解性シリル基にLが複数存在することによって、基材との密着性がより強固になる。 n is preferably 0 or 1, and particularly preferably 0. The presence of multiple Ls in one hydrolyzable silyl group strengthens adhesion to the substrate.
SiRnL3-nとしては、Si(OCH3)3、SiCH3(OCH3)2、Si(OCH2CH3)3、SiCl3、Si(OCOCH3)3、Si(NCO)3が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、Si(OCH3)3が特に好ましい。
化合物1中の2個のSiRnL3-nは、同一であっても異なっていてもよい。化合物1を製造しやすい点から、同一の基であることが好ましい。
Preferred examples of SiR n L 3-n include Si(OCH 3 ) 3 , SiCH 3 (OCH 3 ) 2 , Si(OCH 2 CH 3 ) 3 , SiCl 3 , Si(OCOCH 3 ) 3 , and Si(NCO) 3. From the viewpoint of ease of handling in industrial production, Si(OCH 3 ) 3 is particularly preferred.
The two SiR n L 3-n in the compound 1 may be the same or different, but are preferably the same group in terms of ease of production of the compound 1.
化合物1としては、たとえば、化合物1-1~1-7が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から好ましい。 Examples of Compound 1 include Compounds 1-1 to 1-7. The compounds of the formula below are preferred because they are easy to produce industrially, easy to handle, and provide a surface layer with even better water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint stain removability, lubricity, chemical resistance, light resistance, and chemical resistance.
ただし、Gはポリフルオロポリエーテル鎖、すなわち化合物1の一方の末端に加水分解性シリル基を有する場合はA-O-(Rf1O)m-Rf2-(ただし、Aは炭素数1~20のペルフルオロアルキル基である。)であり、化合物1の両末端に加水分解性シリル基を有する場合は-Rf2-O-(Rf1O)m-Rf2-である。Gの好ましい形態は、上述した好ましいA1、(Rf1O)mおよびRf2を組み合わせたものとなる。 However, G is a polyfluoropolyether chain, i.e., A-O-(R f1 O) m -R f2 - (where A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms) when compound 1 has a hydrolyzable silyl group at one end, and -R f2 -O-(R f1 O) m -R f2 - when compound 1 has hydrolyzable silyl groups at both ends. A preferred form of G is a combination of the above-mentioned preferred A 1 , (R f1 O) m and R f2 .
(化合物1の製造方法)
化合物1は、化合物2とHSiRnL3-nとをヒドロシリル化反応させる方法によって製造できる。
A1a-O-(Rf1O)m-A2a 式2
ただし、A1aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基または基g2であり、A2aは、基g2である。
-Rf2-Q1-C(X)[-Q2a-CH=CH2]2 式g2
ただし、Q2aは、単結合またはアルキレン基であり、2個の[-Q2a-CH=CH2]は、同一であっても異なっていてもよい。
(Rf1O)m、Rf2、Q1およびXは、化合物1で説明した(Rf1O)m、Rf2、Q1およびXと同じであり、好ましい形態も同様である。
(Method for producing compound 1)
Compound 1 can be produced by a method of subjecting compound 2 to a hydrosilylation reaction with HSiR n L 3-n .
A 1a -O-(R f1 O) m -A 2a Formula 2
Here, A 1a is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or group g2, and A 2a is group g2.
-R f2 -Q 1 -C(X) [-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 formula g2
Here, Q 2a is a single bond or an alkylene group, and the two [-Q 2a -CH═CH 2 ] groups may be the same or different.
(R f1 O) m , R f2 , Q 1 and X are the same as (R f1 O) m , R f2 , Q 1 and X described in Compound 1, and preferred forms are also the same.
A1aとしては、表面層の潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる点から、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基が好ましい。
A1aのペルフルオロアルキル基の炭素数は、表面層の潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる点から、1~10が好ましく、1~6がより好ましく、1~3が特に好ましい。
A 1a is preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, as this provides a surface layer with even better lubricity and abrasion resistance.
The number of carbon atoms in the perfluoroalkyl group for A 1a is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 3, in terms of further improving the lubricity and abrasion resistance of the surface layer.
Q2aとしては、化合物2を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、単結合または炭素数1~4のアルキレン基が好ましく、単結合または炭素数1~2のアルキレン基が特に好ましい。
Q2a-CH=CH2は、ヒドロシリル化後に基g1におけるQ2となる。
Q 2a is preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms, from the viewpoints of ease of production of compound 2 and of further improving the abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance of the surface layer.
Q 2a -CH═CH 2 becomes Q 2 in group g1 after hydrosilylation.
(化合物2の製造方法)
化合物1において式g1中のXがフッ素原子の場合、化合物2は、たとえば、下記のようにして製造できる。
化合物3(ただし、Aは炭素数1~20のペルフルオロアルキル基である。)とグリニャール試薬(CH2=CH-Q2a-MgBrまたはCH2=CH-Q2a-MgCl)とを反応させて化合物4を得る。
A-O-(Rf1O)m-Rf2-Q1-C(O)Z 式3
A-O-(Rf1O)m-Rf2-Q1-C(OH)[-Q2a-CH=CH2]2 式4
(Method for producing compound 2)
When X in formula g1 of compound 1 is a fluorine atom, compound 2 can be produced, for example, as follows.
Compound 4 is obtained by reacting compound 3 (wherein A is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms) with a Grignard reagent (CH 2 ═CH —Q 2a -MgBr or CH 2 ═CH—Q 2a -MgCl).
A-O-(R f1 O) m -R f2 -Q 1 -C(O)Z Formula 3
A-O-(R f1 O) m -R f2 -Q 1 -C(OH) [-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 Formula 4
化合物4と求核的フッ素化剤とを反応させて化合物2aを得る。
A-O-(Rf1O)m-Rf2-Q1-CF[-Q2a-CH=CH2]2 式2a
ただし、Zは、フッ素原子、塩素原子、アシルオキシ基、アルコキシ基、水酸基またはジアルキルアミノ基である。
(Rf1O)m、Rf2、Q1およびQ2aは、化合物1および2で説明した(Rf1O)m、Rf2、Q1およびQ2aと同じであり、好ましい形態も同様である。
Compound 4 is reacted with a nucleophilic fluorinating agent to give compound 2a.
A-O-(R f1 O) m -R f2 -Q 1 -CF[-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 Formula 2a
Here, Z is a fluorine atom, a chlorine atom, an acyloxy group, an alkoxy group, a hydroxyl group, or a dialkylamino group.
(R f1 O) m , R f2 , Q 1 and Q 2a are the same as (R f1 O) m , R f2 , Q 1 and Q 2a described in Compounds 1 and 2, and preferred forms are also the same.
化合物3は、国際公開第2009/008380号、国際公開第2013/121984号、国際公開第2013/121986号、国際公開第2015/087902号、国際公開第2017/038830号、国際公開第2017/038832号等に記載の方法によって製造できる。 Compound 3 can be produced by methods described in International Publication Nos. WO 2009/008380, WO 2013/121984, WO 2013/121986, WO 2015/087902, WO 2017/038830, WO 2017/038832, etc.
求核的フッ素化剤としては、4-tert-ブチル-2,6-ジメチルフェニルサルファートリフルオリド、ピリジニウムポリ(ヒドロゲンフルオリド)、ジエチルアミノサルファートリフルオリド、ビス(2-メトキシエチル)アミノサルファートリフルオリド、1,1,2,2-テトラフルオロエチル-N,N-ジメチルアミン、(ジエチルアミノ)ジフルオロスルホニウムテトラフルオロボラート、ジフルオロ(モルホリノ)スルホニウムテトラフルオロボラート、1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)-2,2-ジフルオロ-4-イミダゾリン等が挙げられる。 Nucleophilic fluorinating agents include 4-tert-butyl-2,6-dimethylphenylsulfur trifluoride, pyridinium poly(hydrogen fluoride), diethylaminosulfur trifluoride, bis(2-methoxyethyl)aminosulfur trifluoride, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-N,N-dimethylamine, (diethylamino)difluorosulfonium tetrafluoroborate, difluoro(morpholino)sulfonium tetrafluoroborate, and 1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)-2,2-difluoro-4-imidazoline.
化合物1において式g1中のXが水素原子の場合、化合物2は、たとえば、下記のようにして製造できる。
化合物4とハロゲン化剤またはスルホン酸エステル化剤とを反応させて化合物5を得る。
A-O-(Rf1O)m-Rf2-Q1-CT[-Q2a-CH=CH2]2 式5
ただし、Tは、塩素、臭素、ヨウ素、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸基またはトリフルオロメタンスルホン酸基である。
When X in formula g1 of compound 1 is a hydrogen atom, compound 2 can be produced, for example, as follows.
Compound 4 is reacted with a halogenating agent or a sulfonate esterifying agent to obtain compound 5.
A-O-(R f1 O) m -R f2 -Q 1 -CT[-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 Formula 5
where T is chlorine, bromine, iodine, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, or trifluoromethanesulfonic acid.
ハロゲン化剤としては、塩化水素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、リン酸トリクロリド、塩化オキサリル、四塩化炭素-トリフェニルホスフィン、臭化水素、三臭化リン、五臭化リン、四臭化炭素-トリフェニルホスフィン、ヨウ化水素、ヨウ素-トリフェニルホスフィン等が挙げられる。
スルホン酸エステル化剤としては、メタンスルホニルクロリド、p-トルエンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物等が挙げられる。
Examples of the halogenating agent include hydrogen chloride, thionyl chloride, sulfuryl chloride, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphoric trichloride, oxalyl chloride, carbon tetrachloride-triphenylphosphine, hydrogen bromide, phosphorus tribromide, phosphorus pentabromide, carbon tetrabromide-triphenylphosphine, hydrogen iodide, and iodine-triphenylphosphine.
Examples of the sulfonating agent include methanesulfonyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, and trifluoromethanesulfonic anhydride.
次いで、化合物5とヒドリド還元剤とを反応させて化合物2bを得る。
A-O-(Rf1O)m-Rf2-Q1-CH[-Q2a-CH=CH2]2 式2b
ヒドリド還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム等が挙げられる。
Compound 5 is then reacted with a hydride reducing agent to give compound 2b.
A-O-(R f1 O) m -R f2 -Q 1 -CH [-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 Formula 2b
Examples of the hydride reducing agent include sodium borohydride, sodium cyanoborohydride, lithium triethylborohydride, lithium aluminum hydride, and sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride.
化合物1において式g1中のXがアルキル基またはフルオロアルキル基の場合、化合物2は、たとえば、下記のようにして製造できる。
化合物5とアルキル化剤またはフルオロアルキル化剤とを反応させて化合物2cを得る。
A-O-(Rf1O)m-Rf2-Q1-CR1[-Q2a-CH=CH2]2 式2c
ただし、R1は、アルキル基またはフルオロアルキル基である。
When X in formula g1 of compound 1 is an alkyl group or a fluoroalkyl group, compound 2 can be produced, for example, as follows.
Compound 5 is reacted with an alkylating agent or a fluoroalkylating agent to give compound 2c.
A-O-(R f1 O) m -R f2 -Q 1 -CR 1 [-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 Formula 2c
Here, R 1 is an alkyl group or a fluoroalkyl group.
アルキル化剤としては、アルキルリチウム(たとえばメチルリチウム、エチルリチウム)等の有機リチウム試薬、アルキルマグネシウムブロミド(たとえばメチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムブロミド)等のグリニャール試薬、ジアルキル亜鉛(たとえばジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛)等の有機亜鉛試薬が挙げられる。
フルオロアルキル化剤としては、フルオロアルキルリチウム(たとえば3,3,3-トリフルオロプロピルリチウム、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチルリチウム、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシルリチウム)等の有機リチウム試薬、フルオロアルキルマグネシウムブロミド(たとえば3,3,3-トリフルオロプロピルマグネシウムブロミド、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチルマグネシウムブロミド、3,3,4,4,5,5,6,6,6-ノナフルオロヘキシルマグネシウムブロミド)等のグリニヤール試薬、Ruppert-Prakash試薬((トリフルオロメチル)トリメチルシラン)等のトリフルオロメチル化試薬が挙げられる。
Examples of the alkylating agent include organolithium reagents such as alkyllithium (e.g., methyllithium, ethyllithium), Grignard reagents such as alkylmagnesium bromides (e.g., methylmagnesium bromide, ethylmagnesium bromide), and organozinc reagents such as dialkylzinc (e.g., dimethylzinc, diethylzinc).
Examples of the fluoroalkylating agent include organolithium reagents such as fluoroalkyllithium (for example, 3,3,3-trifluoropropyllithium, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyllithium, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyllithium), Grignard reagents such as fluoroalkylmagnesium bromide (for example, 3,3,3-trifluoropropylmagnesium bromide, 3,3,4,4,4-pentafluorobutylmagnesium bromide, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexylmagnesium bromide), and trifluoromethylating reagents such as Ruppert-Prakash reagent ((trifluoromethyl)trimethylsilane).
以上説明した化合物1にあっては、下記の理由から、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
化合物1は、(Rf1O)mを有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、化合物1は、初期撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。
化合物1は、水酸基を有しないため、撥水撥油性、耐薬品性に優れる表面層を形成できる。また、化合物1は、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間にエーテル結合、C-O-Si結合およびエステル結合を有しないため、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間の結合が光、薬品等によって切断されにくい。そのため、化合物1は、耐光性、耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
Compound 1 described above can form a surface layer that is excellent in initial water and oil repellency, fingerprint stain removability, abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance for the following reasons.
Compound 1 has (R f1 O) m and therefore contains a large amount of fluorine atoms, and therefore can form a surface layer that is excellent in initial water and oil repellency, abrasion resistance, and fingerprint removability.
Compound 1 does not have a hydroxyl group, and therefore can form a surface layer that is excellent in water and oil repellency and chemical resistance. Furthermore, Compound 1 does not have an ether bond, a C—O—Si bond, or an ester bond between the polyfluoropolyether chain and the hydrolyzable silyl group, and therefore the bond between the polyfluoropolyether chain and the hydrolyzable silyl group is not easily cleaved by light, chemicals, etc. Therefore, Compound 1 can form a surface layer that is excellent in light resistance and chemical resistance.
[含フッ素エーテル組成物]
本発明の含フッ素エーテル組成物(以下、「本組成物」とも記す。)は、化合物1の1種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む。
[Fluorine-containing ether composition]
The fluorinated ether composition of the present invention (hereinafter also referred to as "the composition") contains one or more compounds 1 and other fluorinated ether compounds.
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物1の製造工程で副生する含フッ素エーテル化合物(以下、「副生含フッ素エーテル化合物」とも記す。)、化合物1と同様の用途に用いられる公知の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物1の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
Examples of other fluorine-containing ether compounds include fluorine-containing ether compounds produced as a by-product in the production process of Compound 1 (hereinafter also referred to as "by-product fluorine-containing ether compounds"), known fluorine-containing ether compounds used for the same purposes as Compound 1, and the like.
As the other fluorine-containing ether compound, a compound which is unlikely to deteriorate the properties of Compound 1 is preferred.
副生含フッ素エーテル化合物としては、未反応の化合物2、化合物3、化合物4、他;化合物1の製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基の一部がインナーオレフィンに異性化した含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
公知の含フッ素エーテル化合物としては、市販の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。本組成物が公知の含フッ素エーテル化合物を含む場合、化合物1の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。
Examples of by-product fluorine-containing ether compounds include unreacted Compound 2, Compound 3, Compound 4, and the like; and fluorine-containing ether compounds in which part of the allyl group is isomerized to an inner olefin during hydrosilylation in the production of Compound 1.
Examples of known fluorine-containing ether compounds include commercially available fluorine-containing ether compounds, etc. When the present composition contains a known fluorine-containing ether compound, new effects such as compensating for the properties of Compound 1 may be exhibited.
化合物1の含有量は、本組成物のうち、60質量%以上100質量%未満が好ましく、70質量%以上100質量%未満がより好ましく、80質量%以上100質量%未満が特に好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物のうち、0質量%超40質量%以下が好ましく、0質量%超30質量%以下がより好ましく、0質量%超20質量%以下が特に好ましい。
化合物1の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量の合計は、本組成物のうち、80~100質量%が好ましく、85~100質量%が特に好ましい。
化合物1の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
The content of Compound 1 in the composition is preferably 60% by mass or more and less than 100% by mass, more preferably 70% by mass or more and less than 100% by mass, and particularly preferably 80% by mass or more and less than 100% by mass.
The content of the other fluorinated ether compounds in the present composition is preferably more than 0 mass % and not more than 40 mass %, more preferably more than 0 mass % and not more than 30 mass %, particularly preferably more than 0 mass % and not more than 20 mass %.
The total content of Compound 1 and the other fluorine-containing ether compounds is preferably from 80 to 100% by mass, particularly preferably from 85 to 100% by mass, of the present composition.
When the content of Compound 1 and the content of the other fluorinated ether compound are within the above ranges, the initial water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint stain removability, light resistance and chemical resistance of the surface layer are even more excellent.
本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、化合物1および他の含フッ素エーテル化合物以外の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、化合物1や公知の含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物(ただし、副生含フッ素エーテル化合物を除く。)、未反応の原料等の製造上不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
他の成分の含有量は、本組成物のうち、0~9.999質量%が好ましく、0~0.99質量%が特に好ましい。
The present composition may contain components other than Compound 1 and other fluorinated ether compounds, as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of other components include compounds unavoidable in the production process, such as Compound 1 and by-products (excluding by-product fluorine-containing ether compounds) produced in the production process of known fluorine-containing ether compounds, and unreacted raw materials.
In addition, additives such as acid catalysts and basic catalysts that promote the hydrolysis and condensation reaction of hydrolyzable silyl groups can be used. Examples of acid catalysts include hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, methanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid. Examples of basic catalysts include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and ammonia.
The content of the other components in the composition is preferably 0 to 9.999 mass %, particularly preferably 0 to 0.99 mass %.
[コーティング液]
本発明のコーティング液(以下、「本コーティング液」とも記す。)は、化合物1または本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、溶液であっても分散液であってもよい。
[Coating liquid]
The coating liquid of the present invention (hereinafter also referred to as "the present coating liquid") contains Compound 1 or the present composition and a liquid medium. The present coating liquid may be a solution or a dispersion.
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、含フッ素有機溶媒でも非フッ素有機溶媒でもよく、両溶媒を含んでもよい。
含フッ素有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数4~8の化合物が好ましい。市販品としては、C6F13H(旭硝子社製、アサヒクリン(登録商標)AC-2000)、C6F13C2H5(旭硝子社製、アサヒクリン(登録商標)AC-6000)、C2F5CHFCHFCF3(ケマーズ社製、バートレル(登録商標)XF)等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数4~12の化合物が好ましい。市販品としては、CF3CH2OCF2CF2H(旭硝子社製、アサヒクリン(登録商標)AE-3000)、C4F9OCH3(3M社製、ノベック(登録商標)7100)、C4F9OC2H5(3M社製、ノベック(登録商標)7200)、C2F5CF(OCH3)C3F7(3M社製、ノベック(登録商標)7300)等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
非フッ素有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素、アルコール、ケトン、エーテル、エステルが挙げられる。
液状媒体は、2種以上を混合した混合媒体であってもよい。
The liquid medium is preferably an organic solvent. The organic solvent may be a fluorine-containing organic solvent or a non-fluorine-containing organic solvent, or may contain both solvents.
Examples of the fluorine-containing organic solvent include fluorinated alkanes, fluorinated aromatic compounds, fluoroalkyl ethers, fluorinated alkylamines, and fluoroalcohols.
The fluorinated alkane is preferably a compound having 4 to 8 carbon atoms. Commercially available products include C 6 F 13 H (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Asahiklin (registered trademark) AC-2000), C 6 F 13 C 2 H 5 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Asahiklin (registered trademark) AC-6000), and C 2 F 5 CHFCHFCF 3 (manufactured by Chemours, Vertrel (registered trademark) XF).
Examples of the fluorinated aromatic compound include hexafluorobenzene, trifluoromethylbenzene, perfluorotoluene, and bis(trifluoromethyl)benzene.
The fluoroalkyl ether is preferably a compound having 4 to 12 carbon atoms. Commercially available products include CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Asahiklin (registered trademark) AE-3000), C 4 F 9 OCH 3 (manufactured by 3M, Novec (registered trademark) 7100), C 4 F 9 OC 2 H 5 (manufactured by 3M, Novec (registered trademark) 7200), and C 2 F 5 CF(OCH 3 )C 3 F 7 (manufactured by 3M, Novec (registered trademark) 7300).
Examples of fluorinated alkylamines include perfluorotripropylamine and perfluorotributylamine.
Examples of fluoroalcohols include 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, and hexafluoroisopropanol.
The non-fluorine-containing organic solvent is preferably a compound consisting of only hydrogen atoms and carbon atoms, or a compound consisting of only hydrogen atoms, carbon atoms, and oxygen atoms, and examples thereof include hydrocarbons, alcohols, ketones, ethers, and esters.
The liquid medium may be a mixed medium of two or more kinds.
化合物1または本組成物の含有量は、本コーティング液のうち、0.001~10質量%が好ましく、0.01~1質量%が特に好ましい。
液状媒体の含有量は、本コーティング液のうち、90~99.999質量%が好ましく、99~99.99質量%が特に好ましい。
The content of Compound 1 or the present composition in the present coating liquid is preferably 0.001 to 10 mass %, particularly preferably 0.01 to 1 mass %.
The content of the liquid medium in the coating liquid is preferably 90 to 99.999 mass %, and particularly preferably 99 to 99.99 mass %.
[物品]
本発明の物品(以下、「本物品」とも記す。)は、化合物1または本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。
表面層は、化合物1を、化合物1の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応し、かつ脱水縮合反応した状態で含む。
[Goods]
The article of the present invention (hereinafter also referred to as "the article") has a surface layer formed from Compound 1 or the composition on the surface of a substrate.
The surface layer contains Compound 1 in a state where some or all of the hydrolyzable silyl groups of Compound 1 have undergone hydrolysis and dehydration condensation.
表面層の厚さは、1~100nmが好ましく、1~50nmが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面層の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。表面層の厚さは、薄膜解析用X線回折計(RIGAKU社製、ATX-G)を用いて、X線反射率法によって反射X線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。 The thickness of the surface layer is preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 50 nm. If the thickness of the surface layer is equal to or greater than the lower limit of the above range, the effects of the surface treatment are likely to be fully achieved. If the thickness of the surface layer is equal to or less than the upper limit of the above range, utilization efficiency is high. The thickness of the surface layer can be calculated from the oscillation period of the interference pattern obtained by X-ray reflectivity analysis using a thin film analysis X-ray diffractometer (RIGAKU Corporation, ATX-G).
基材としては、撥水撥油性の付与が求められている基材が挙げられる。基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはSiO2膜等の下地膜が形成されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
The substrate may be a substrate that is required to be water- and oil-repellent. The substrate material may be metal, resin, glass, sapphire, ceramic, stone, or a composite material thereof. The glass may be chemically strengthened. A base film such as a SiO2 film may be formed on the surface of the substrate.
The substrate is preferably a substrate for a touch panel, a substrate for a display, or a lens for glasses, and is particularly preferably a substrate for a touch panel.The material of the substrate for a touch panel is preferably glass or a transparent resin.
[物品の製造方法]
本物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物1または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、化合物1または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、化合物1または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
[Production method for articles]
The present article can be produced, for example, by the following method.
A method in which the surface of a substrate is treated by a dry coating method using Compound 1 or the present composition to form a surface layer made of Compound 1 or the present composition on the surface of the substrate.
A method in which the coating liquid is applied to the surface of a substrate by a wet coating method, and then dried to form a surface layer made of Compound 1 or the composition on the surface of the substrate.
ドライコーティング法としては、真空蒸着、CVD、スパッタリング等の手法が挙げられる。化合物1の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄、鋼等の金属多孔体に化合物1または本組成物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。本コーティング液を鉄、鋼等の金属多孔体に含浸させ、液状媒体を乾燥させて、化合物1または本組成物が含浸したペレット状物質を用いてもよい。 Dry coating methods include vacuum deposition, CVD, sputtering, and other techniques. Vacuum deposition is preferred from the standpoint of suppressing decomposition of Compound 1 and simplifying the equipment. For vacuum deposition, a pellet-like material may be used in which a porous metal such as iron or steel is impregnated with Compound 1 or the present composition. The coating liquid may be impregnated into a porous metal such as iron or steel, the liquid medium may be dried, and the pellet-like material impregnated with Compound 1 or the present composition may be used.
ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。 Wet coating methods include spin coating, wipe coating, spray coating, squeegee coating, dip coating, die coating, inkjet coating, flow coating, roll coating, casting, Langmuir-Blodgett coating, and gravure coating.
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「%」は特に断りのない限り「質量%」である。なお、例1、2、4、5は実施例であり、例3、6は比較例である。 The present invention will be described in more detail below using examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following, "%" means "% by mass" unless otherwise specified. Examples 1, 2, 4, and 5 are working examples, and Examples 3 and 6 are comparative examples.
[例1]
(例1-1)
国際公開第2013/121984号の実施例の例2-3に記載の方法にしたがって化合物3-1を得た。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)xCF2CF2O-CF2CF2CF2-C(O)OCH3 式3-1
単位数xの平均値:13、化合物3-1の数平均分子量:4,730。
[Example 1]
(Example 1-1)
Compound 3-1 was obtained according to the method described in Example 2-3 of the Examples of WO 2013/121984.
CF 3 -O-(CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O) x CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 -C(O)OCH 3 Formula 3-1
Average value of number of units x: 13, number average molecular weight of compound 3-1: 4,730.
(例1-2)
50mLの3つ口ナスフラスコに、テトラヒドロフランの5.0g、1,3-ビストリフルオロメチルベンゼンの10g、1Mのアリルマグネシウムブロミドの4.0mLを入れた。例1-1で得た化合物3-1の10gを滴下した後、60℃で4時間加熱した。25℃まで冷却し、1.2Mの塩酸水溶液中へ溶液を滴下した。分液操作によって有機層を回収し、水で1回洗浄して有機層を回収した。回収した有機層をエバポレータで濃縮し、化合物4-1の7.1gを得た。
(Example 1-2)
A 50 mL three-necked recovery flask was charged with 5.0 g of tetrahydrofuran, 10 g of 1,3-bistrifluoromethylbenzene, and 4.0 mL of 1 M allyl magnesium bromide. 10 g of compound 3-1 obtained in Example 1-1 was added dropwise, and the mixture was heated at 60°C for 4 hours. The mixture was cooled to 25°C, and the solution was added dropwise to a 1.2 M aqueous hydrochloric acid solution. The organic layer was recovered by a separation operation and washed once with water. The recovered organic layer was concentrated using an evaporator to obtain 7.1 g of compound 4-1.
化合物4-1のNMRスペクトル;
1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):2.4~2.6(4H)、5.2~5.3(4H)、5.9~6.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-55(3F)、-82(54F)、-88(54F)、-90(2F)、-116(2F)、-121(2F)、-125(52F)。
単位数xの平均値:13、化合物4-1の数平均分子量:4,780。
NMR spectrum of compound 4-1;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 2.4-2.6 (4H), 5.2-5.3 (4H), 5.9-6.0 (2H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): -55 (3F), -82 (54F), -88 (54F), -90 (2F), -116 (2F), -121 (2F), -125 (52F).
Average value of number of units x: 13, number average molecular weight of compound 4-1: 4,780.
(例1-3)
50mLの3つ口フラスコに、4-tert-ブチル-2,6-ジメチルフェニルサルファートリフルオリド(宇部興産社製、FLUOLEAD(登録商標))の1.0g、AC-2000の14gを入れ、氷浴で冷却した。ピリジニウムポリ(ヒドロゲンフルオリド)の0.26mLを加え、例1-2で得た化合物4-1の7.0gを滴下した。25℃で10時間撹拌し、再度氷浴で冷却した。エタノールの2mLを加えた後、25℃で1時間撹拌した。炭酸カリウム水溶液で中和した後、水で1回洗浄して有機層を回収した。回収した有機層をエバポレータで濃縮し、粗生成物の7.1gを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して、化合物2-1の6.3g(収率90%)を分取した。なお、化合物2-1の単位数xの平均値は13、化合物2-1の数平均分子量は4,780である。
(Example 1-3)
A 50 mL three-neck flask was charged with 1.0 g of 4-tert-butyl-2,6-dimethylphenylsulfur trifluoride (FLUOLEAD (registered trademark) manufactured by Ube Industries, Ltd.) and 14 g of AC-2000, and cooled in an ice bath. 0.26 mL of pyridinium poly(hydrogen fluoride) was added, and 7.0 g of compound 4-1 obtained in Example 1-2 was added dropwise. The mixture was stirred at 25°C for 10 hours and cooled again in an ice bath. 2 mL of ethanol was added, and the mixture was stirred at 25°C for 1 hour. The mixture was neutralized with an aqueous potassium carbonate solution and washed once with water to recover the organic layer. The recovered organic layer was concentrated using an evaporator to obtain 7.1 g of a crude product. The crude product was applied to silica gel column chromatography, and 6.3 g of compound 2-1 (yield 90%) was isolated. The average number of units x of Compound 2-1 is 13, and the number average molecular weight of Compound 2-1 is 4,780.
(例1-4)
10mLのテトラフルオロエチレン-ペルフルオロ(アルコキシビニルエーテル)共重合体(PFA)製ナスフラスコに、例1-3で得た化合物2-1の5.0g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2質量%)の0.03g、トリメトキシシランの0.36g、アニリンの0.01gおよび1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンの2.0gを入れ、25℃で8時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径0.5μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物1-1aの5.2g(純度99%以上、収率99%)を得た。なお、化合物1-1aの単位数xの平均値は13、化合物1-1aの数平均分子量は5,020である。
(Example 1-4)
Into a 10 mL recovery flask made of tetrafluoroethylene-perfluoro(alkoxy vinyl ether) copolymer (PFA), 5.0 g of compound 2-1 obtained in Example 1-3, 0.03 g of a xylene solution of platinum/1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content: 2% by mass), 0.36 g of trimethoxysilane, 0.01 g of aniline, and 2.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene were placed, and the mixture was stirred at 25°C for 8 hours. The solvent and the like were distilled off under reduced pressure, and the mixture was filtered through a membrane filter with a pore size of 0.5 µm, yielding 5.2 g of compound 1-1a (purity of 99% or more, yield 99%). The average number of units x of compound 1-1a was 13, and the number average molecular weight of compound 1-1a was 5,020.
[例2]
(例2-1)
国際公開第2014/163004号の例4-1~4-3に記載の方法にしたがって化合物3-2を得た。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-C(O)OCH3 式3-2
単位数x1の平均値:21、単位数x2の平均値:20、化合物3-2の数平均分子量:4,230。
[Example 2]
(Example 2-1)
Compound 3-2 was obtained according to the method described in Examples 4-1 to 4-3 of WO 2014/163004.
CF 3 CF 2 CF 2 -O-(CF 2 CF 2 O) (CF 2 CF 2 O) {(CF 2 O) x1 (CF 2 CF 2 O) x2 }-CF 2 -C(O)OCH 3 Formula 3-2
Average value of number of units x1: 21, average value of number of units x2: 20, number average molecular weight of compound 3-2: 4,230.
(例2-2)
50mLの3つ口ナスフラスコに、例2-1で得た化合物3-2の10g、AC-2000の15gを入れ、0℃に冷却した。5Mのナトリウムメトキシドのメタノール溶液の2gを加えて撹拌した後、5-ヘキセン-2-オンの1gを入れ、さらに撹拌した。室温に昇温した後、1Mの塩酸水溶液中へ溶液を滴下した。分液操作によって有機層を回収し、水で1回洗浄して有機層を回収した。回収した有機層をエバポレータで濃縮し、化合物3-3の9gを得た。
(Example 2-2)
10 g of compound 3-2 obtained in Example 2-1 and 15 g of AC-2000 were placed in a 50 mL three-necked recovery flask and cooled to 0°C. 2 g of a 5 M methanol solution of sodium methoxide was added and stirred, and then 1 g of 5-hexen-2-one was added and further stirred. After raising the temperature to room temperature, the solution was added dropwise to a 1 M aqueous hydrochloric acid solution. The organic layer was recovered by a separation operation and washed once with water. The recovered organic layer was concentrated using an evaporator to obtain 9 g of compound 3-3.
化合物3-3のNMRスペクトル;
1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):5.8(1H)、5.0(2H)、2.5(2H)、2.0(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-52.4~-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4~-91.1(92F)、-130.5(2F)。
単位数x1の平均値:21、単位数x2の平均値:20、化合物3-3の数平均分子量:4,250。
NMR spectrum of compound 3-3;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 5.8 (1H), 5.0 (2H), 2.5 (2H), 2.0 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): -52.4 to -55.8 (42F), -82.2 (3F), -89.4 to -91.1 (92F), -130.5 (2F).
Average value of number of units x1: 21, average value of number of units x2: 20, number average molecular weight of compound 3-3: 4,250.
(例2-3)
100mLの3つ口ナスフラスコに、1,3-ビストリフルオロメチルベンゼンの30g、1Mのアリルマグネシウムクロリドの8.0mLを入れた。例2-2で得た化合物3-3の9gを滴下した後、室温で撹拌した。1Mの塩酸水溶液中へ溶液を滴下した。分液操作によって有機層を回収し、水で1回洗浄して有機層を回収した。回収した有機層をエバポレータで濃縮し、化合物4-2の3gを得た。
(Example 2-3)
30 g of 1,3-bistrifluoromethylbenzene and 8.0 mL of 1 M allyl magnesium chloride were placed in a 100 mL three-necked recovery flask. 9 g of compound 3-3 obtained in Example 2-2 was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature. The solution was added dropwise to a 1 M aqueous hydrochloric acid solution. The organic layer was recovered by a separation operation and washed once with water. The recovered organic layer was concentrated using an evaporator to obtain 3 g of compound 4-2.
化合物4-2のNMRスペクトル;
1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):5.8(2H)、5.0(4H)、2.5(4H)、2.0(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-52.4~-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4~-91.1(92F)、-130.5(2F)。
単位数x1の平均値:21、単位数x2の平均値:20、化合物4-2の数平均分子量:4,300。
NMR spectrum of compound 4-2;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 5.8 (2H), 5.0 (4H), 2.5 (4H), 2.0 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): -52.4 to -55.8 (42F), -82.2 (3F), -89.4 to -91.1 (92F), -130.5 (2F).
Average value of number of units x1: 21, average value of number of units x2: 20, number average molecular weight of compound 4-2: 4,300.
(例2-4)
50mLの3つ口フラスコに、4-tert-ブチル-2,6-ジメチルフェニルサルファートリフルオリド(宇部興産社製、FLUOLEAD(登録商標))の1.0g、AC-2000の15gを入れ、氷浴で冷却した。ピリジニウムポリ(ヒドロゲンフルオリド)の0.3mLを加え、例2-3で得た化合物4-2の3gを滴下した。25℃で撹拌し、再度氷浴で冷却した。エタノールの2mLを加えた後、25℃で撹拌した。炭酸カリウム水溶液で中和した後、水で1回洗浄して有機層を回収した。回収した有機層をエバポレータで濃縮し、粗生成物の3gを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して、化合物2-2の2gを分取した。
(Example 2-4)
A 50 mL three-neck flask was charged with 1.0 g of 4-tert-butyl-2,6-dimethylphenylsulfur trifluoride (FLUOLEAD (registered trademark), manufactured by Ube Industries, Ltd.) and 15 g of AC-2000, and cooled in an ice bath. 0.3 mL of pyridinium poly(hydrogen fluoride) was added, and 3 g of compound 4-2 obtained in Example 2-3 was added dropwise. The mixture was stirred at 25°C and cooled again in an ice bath. 2 mL of ethanol was added, and the mixture was stirred at 25°C. After neutralization with an aqueous potassium carbonate solution, the mixture was washed once with water and the organic layer was recovered. The recovered organic layer was concentrated using an evaporator to obtain 3 g of a crude product. The crude product was developed using silica gel column chromatography, and 2 g of compound 2-2 was separated.
化合物2-2のNMRスペクトル;
1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):5.8(2H)、5.0(4H)、2.5(4H)、1.9(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-52.4~-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4~-91.1(92F)、-120(2F)、-130.5(2F)、-160(1F)。
単位数x1の平均値:21、単位数x2の平均値:20、化合物2-2の数平均分子量:4,300。
NMR spectrum of compound 2-2;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 5.8 (2H), 5.0 (4H), 2.5 (4H), 1.9 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): -52.4 to -55.8 (42F), -82.2 (3F), -89.4 to -91.1 (92F), -120 (2F), -130.5 (2F), -160 (1F).
Average value of number of units x1: 21, average value of number of units x2: 20, number average molecular weight of compound 2-2: 4,300.
(例2-5)
10mLのPFA製ナスフラスコに、例2-4で得た化合物2-2の2.0g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2質量%)の0.03g、トリメトキシシランの0.36g、アニリンの0.01gおよび1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンの2.0gを入れ、25℃で撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径0.5μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物1-7aの2gを得た。
(Example 2-5)
A 10 mL PFA recovery flask was charged with 2.0 g of compound 2-2 obtained in Example 2-4, 0.03 g of a xylene solution of platinum/1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content: 2% by mass), 0.36 g of trimethoxysilane, 0.01 g of aniline, and 2.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and the mixture was stirred at 25° C. The solvent and other components were distilled off under reduced pressure, and the mixture was filtered through a membrane filter with a pore size of 0.5 μm, yielding 2 g of compound 1-7a.
化合物1-7aのNMRスペクトル;
1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):3.4-3.8(18H)、1.2-1.9(12H)、0.7(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-52.4~-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4~-91.1(92F)、-120(2F)、-130.5(2F)、-160(1F)。
単位数x1の平均値:21、単位数x2の平均値:20、化合物1-7aの数平均分子量:4,400。
NMR spectrum of compound 1-7a;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 3.4-3.8 (18H), 1.2-1.9 (12H), 0.7 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): -52.4 to -55.8 (42F), -82.2 (3F), -89.4 to -91.1 (92F), -120 (2F), -130.5 (2F), -160 (1F).
Average value of number of units x1: 21, average value of number of units x2: 20, number average molecular weight of compound 1-7a: 4,400.
[例3]
10mLのPFA製ナスフラスコに、例1-2で得た化合物4-1の5.0g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2質量%)の0.03g、トリメトキシシランの0.36g、アニリンの0.01gおよび1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンの2.0gを入れ、25℃で8時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径0.5μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物10-1の5.2g(純度99%以上、収率99%)を得た。
[Example 3]
A 10 mL PFA recovery flask was charged with 5.0 g of compound 4-1 obtained in Example 1-2, 0.03 g of a xylene solution of platinum/1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex (platinum content: 2% by mass), 0.36 g of trimethoxysilane, 0.01 g of aniline, and 2.0 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and the mixture was stirred for 8 hours at 25° C. The solvent and other components were distilled off under reduced pressure, and the mixture was filtered through a membrane filter with a pore size of 0.5 μm, yielding 5.2 g of compound 10-1 (purity of 99% or more, yield 99%).
化合物10-1のNMRスペクトル;
1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):0.6~0.8(4H)、1.6~1.8(4H)、1.9~2.0(4H)、3.6(27H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-55(3F)、-82(54F)、-88(54F)、-90(2F)、-116(2F)、-121(2F)、-125(52F)。
単位数xの平均値:13、化合物10-1の数平均分子量:5,020。
NMR spectrum of compound 10-1;
1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: TMS) δ (ppm): 0.6-0.8 (4H), 1.6-1.8 (4H), 1.9-2.0 (4H), 3.6 (27H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , standard: CFCl 3 ) δ (ppm): -55 (3F), -82 (54F), -88 (54F), -90 (2F), -116 (2F), -121 (2F), -125 (52F).
Average value of number of units x: 13, number average molecular weight of compound 10-1: 5,020.
[例4~6:物品の製造および評価]
例1~3で得た各化合物を用いて基材を表面処理し、例4~6の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法を用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表1に示す。
[Examples 4 to 6: Production and evaluation of articles]
Substrates were surface-treated using each of the compounds obtained in Examples 1 to 3, to obtain articles in Examples 4 to 6. The surface treatment method used in each example was the dry coating method described below. Chemically strengthened glass was used as the substrate. The obtained articles were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1.
(ドライコーティング法)
ドライコーティングは、真空蒸着装置(ULVAC社製、VTR350M)を用いて行った(真空蒸着法)。例1~2で得た各化合物の0.5gを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を1×10-3Pa以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度10℃/分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が1nm/秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。膜厚が約50nmとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、200℃で30分間加熱処理し、ジクロロペンタフルオロプロパン(旭硝子社製、AK-225)にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
(Dry coating method)
Dry coating was performed using a vacuum deposition apparatus (ULVAC, VTR350M) (vacuum deposition method). 0.5 g of each compound obtained in Examples 1 and 2 was loaded into a molybdenum boat in the vacuum deposition apparatus, and the vacuum deposition apparatus was evacuated to 1 × 10 -3 Pa or less. The boat containing the compound was heated at a temperature increase rate of 10 °C/min or less, and when the deposition rate measured by a quartz crystal oscillator film thickness meter exceeded 1 nm/sec, the shutter was opened to initiate film formation on the surface of the substrate. When the film thickness reached approximately 50 nm, the shutter was closed to terminate film formation on the surface of the substrate. The substrate on which the compound had been deposited was heat-treated at 200 °C for 30 minutes and washed with dichloropentafluoropropane (Asahi Glass Co., Ltd., AK-225) to obtain an article having a surface layer on the surface of the substrate.
(評価方法)
<接触角の測定方法>
表面層の表面に置いた、約2μLの蒸留水またはn-ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置(協和界面科学社製、DM-500)を用いて測定した。表面層の表面における異なる5箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には2θ法を用いた。
(Evaluation method)
<Method for measuring contact angle>
The contact angle of approximately 2 μL of distilled water or n-hexadecane placed on the surface of the surface layer was measured using a contact angle measuring device (DM-500, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Measurements were taken at five different points on the surface of the surface layer, and the average value was calculated. The 2θ method was used to calculate the contact angle.
<初期接触角>
表面層について、初期水接触角および初期n-ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
初期水接触角:
◎(優) :115度以上。
○(良) :110度以上115度未満。
△(可) :100度以上110度未満。
×(不可):100度未満。
初期n-ヘキサデカン接触角:
◎(優) :66度以上。
○(良) :65度以上66度未満。
△(可) :63度以上65度未満。
×(不可):63度未満。
<Initial contact angle>
The surface layer was measured for the initial water contact angle and the initial n-hexadecane contact angle by the above-mentioned measuring method. The evaluation criteria were as follows:
Initial water contact angle:
◎ (Excellent): Over 115 degrees.
○ (Good): 110 degrees or more and less than 115 degrees.
△ (Acceptable): 100 degrees or more but less than 110 degrees.
× (unacceptable): Less than 100 degrees.
Initial n-hexadecane contact angle:
◎ (Excellent): Over 66 degrees.
○ (Good): 65 degrees or more but less than 66 degrees.
△ (Acceptable): Between 63 and 65 degrees.
× (unacceptable): Less than 63 degrees.
<耐摩擦性(スチールウール)>
表面層について、JIS L0849:2013(ISO 105-X12:2001)に準拠して往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)を用い、スチールウールボンスター(♯0000)を圧力:98.07kPa、速度:320cm/分で1万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性(水接触角)の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(優) :1万回往復後の水接触角の変化が2度以下。
○(良) :1万回往復後の水接触角の変化が2度超5度以下。
△(可) :1万回往復後の水接触角の変化が5度超10度以下。
×(不可):1万回往復後の水接触角の変化が10度超。
<Abrasion resistance (steel wool)>
For the surface layer, a reciprocating traverse tester (manufactured by KNT Corporation) was used in accordance with JIS L0849:2013 (ISO 105-X12:2001) to measure the water contact angle after 10,000 reciprocating strokes of steel wool Bonstar (#0000) at a pressure of 98.07 kPa and a speed of 320 cm/min. The smaller the decrease in water repellency (water contact angle) after friction, the smaller the decrease in performance due to friction, and the more excellent the friction resistance. The evaluation criteria are as follows.
◎ (Excellent): The change in water contact angle after 10,000 reciprocating strokes is 2 degrees or less.
○ (Good): The change in the water contact angle after 10,000 reciprocating strokes is more than 2 degrees and not more than 5 degrees.
△ (Acceptable): The change in water contact angle after 10,000 reciprocating strokes is more than 5 degrees and 10 degrees or less.
× (unacceptable): The change in water contact angle after 10,000 reciprocating cycles exceeds 10 degrees.
<耐摩擦性(消しゴム)>
表面層について、JIS L0849:2013(ISO 105-X12:2001)に準拠して往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)を用い、Rubber Eraser(Minoan社製)を荷重:4.9N、速度:60rpmで3万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性(水接触角)の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(優) :1万回往復後の水接触角の変化が2度以下。
○(良) :1万回往復後の水接触角の変化が2度超5度以下。
△(可) :1万回往復後の水接触角の変化が5度超10度以下。
×(不可):1万回往復後の水接触角の変化が10度超。
<Abrasion resistance (eraser)>
For the surface layer, a reciprocating traverse tester (manufactured by KNT Corporation) was used in accordance with JIS L0849:2013 (ISO 105-X12:2001), and a Rubber Eraser (manufactured by Minoan Co., Ltd.) was reciprocated 30,000 times at a load of 4.9 N and a speed of 60 rpm, after which the water contact angle was measured. The smaller the decrease in water repellency (water contact angle) after friction, the smaller the decrease in performance due to friction, and the more excellent the friction resistance. The evaluation criteria are as follows.
◎ (Excellent): The change in water contact angle after 10,000 reciprocating strokes is 2 degrees or less.
○ (Good): The change in the water contact angle after 10,000 reciprocating strokes is more than 2 degrees and not more than 5 degrees.
△ (Acceptable): The change in water contact angle after 10,000 reciprocating strokes is more than 5 degrees and 10 degrees or less.
× (unacceptable): The change in water contact angle after 10,000 reciprocating cycles exceeds 10 degrees.
<指紋汚れ除去性>
人工指紋液(オレイン酸とスクアレンとからなる液)を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布(旭化成社製、ベンコット(登録商標)M-3)にて拭き取って、指紋のスタンプを準備した。指紋スタンプを表面層上に乗せ、荷重:9.8Nにて10秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパーを取り付けた往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)を用い、荷重:4.9Nにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から10%以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋汚れ拭き取り性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(優) :拭き取り回数が3回以下。
○(良) :拭き取り回数が4~5回。
△(可) :拭き取り回数が6~8回。
×(不可):拭き取り回数が9回以上。
<Fingerprint removal>
An artificial fingerprint liquid (a liquid consisting of oleic acid and squalene) was applied to the flat surface of a silicone rubber stopper, and then excess oil was wiped off with a nonwoven fabric (Bencotto (registered trademark) M-3, manufactured by Asahi Kasei Corporation) to prepare a fingerprint stamp. The fingerprint stamp was placed on the surface layer and pressed with a load of 9.8 N for 10 seconds. The haze of the area where the fingerprint was attached was measured with a haze meter and recorded as the initial value. The area where the fingerprint was attached was wiped with a load of 4.9 N using a reciprocating traverse tester (manufactured by KNT Corporation) equipped with tissue paper. The haze value was measured for each wiping stroke, and the number of wiping strokes until the haze was 10% or less of the initial value was counted. The fewer the wiping strokes, the easier it was to remove fingerprint stains, and the better the fingerprint stain wiping ability. The evaluation criteria are as follows.
◎ (Excellent): Wiping required 3 times or less.
○ (Good): Wiping was performed 4 to 5 times.
△ (Acceptable): Wiping was performed 6 to 8 times.
× (unacceptable): Wiping is performed 9 or more times.
<耐光性>
表面層に対し、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機(東洋精機社製、SUNTEST XLS+)を用いて、ブラックパネル温度:63℃にて、光線(650W/m2、300~700nm)を1,000時間照射した後、水接触角を測定した。促進耐光試験後の水接触角の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(優) :促進耐光試験後の水接触角の変化が2度以下。
○(良) :促進耐光試験後の水接触角の変化が2度超5度以下。
△(可) :促進耐光試験後の水接触角の変化が5度超10度以下。
×(不可):促進耐光試験後の水接触角の変化が10度超。
<Light resistance>
The surface layer was irradiated with light (650 W/m 2 , 300-700 nm) for 1,000 hours at a black panel temperature of 63°C using a desktop xenon arc lamp accelerated light resistance tester (SUNTEST XLS+, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho), and then the water contact angle was measured. The smaller the decrease in water contact angle after the accelerated light resistance test, the smaller the deterioration in performance due to light and the more excellent the light resistance. The evaluation criteria are as follows:
◎ (Excellent): The change in water contact angle after the accelerated light resistance test is 2 degrees or less.
○ (Good): The change in water contact angle after the accelerated light resistance test was more than 2 degrees and not more than 5 degrees.
△ (Acceptable): The change in water contact angle after the accelerated light resistance test was more than 5 degrees and 10 degrees or less.
× (unacceptable): The change in water contact angle after the accelerated light resistance test is more than 10 degrees.
<耐光性+耐摩擦性(スチールウール)>
前記耐光性の試験後に、前記耐摩擦性(スチールウール)の試験を行い、耐摩擦性(スチールウール)の評価基準にて評価した。
<Lightfastness + Rub resistance (steel wool)>
After the light resistance test, the abrasion resistance (steel wool) test was carried out and evaluated according to the evaluation criteria for abrasion resistance (steel wool).
<耐薬品性(耐アルカリ性)>
物品を、1規定の水酸化ナトリウム水溶液(pH=14)に5時間浸漬した後、水洗、風乾し、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほどアルカリによる性能の低下が小さく、耐アルカリ性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(優) :耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が2度以下。
〇(良) :耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が2度超5度以下。
△(可) :耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が5度超10度以下。
×(不可):耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が10度超。
<Chemical resistance (alkali resistance)>
The article was immersed in a 1N sodium hydroxide aqueous solution (pH = 14) for 5 hours, then rinsed with water, air-dried, and the water contact angle was measured. The smaller the decrease in water contact angle after the test, the smaller the deterioration in performance due to alkali and the more excellent the alkali resistance. The evaluation criteria are as follows.
◎ (Excellent): The change in water contact angle after the alkali resistance test is 2 degrees or less.
◯ (Good): The change in water contact angle after the alkali resistance test was more than 2 degrees and not more than 5 degrees.
△ (Acceptable): The change in water contact angle after the alkali resistance test was more than 5 degrees and 10 degrees or less.
× (unacceptable): The change in the water contact angle after the alkali resistance test was more than 10 degrees.
<耐薬品性(耐塩水性)>
JIS H8502に準拠して塩水噴霧試験を行った。すなわち、物品を、塩水噴霧試験機(スガ試験機社製)内で300時間塩水雰囲気に暴露した後、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほど塩水による性能の低下が小さく、耐塩水性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(優) :塩水噴霧試験後の水接触角の変化が2度以下。
○(良) :塩水噴霧試験後の水接触角の変化が2度超5度以下。
△(可) :塩水噴霧試験後の水接触角の変化が5度超10度以下。
×(不可):塩水噴霧試験後の水接触角の変化が10度超。
<Chemical resistance (saltwater resistance)>
A salt spray test was conducted in accordance with JIS H8502. Specifically, the article was exposed to a saltwater atmosphere for 300 hours in a salt spray tester (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and then the water contact angle was measured. The smaller the decrease in water contact angle after the test, the smaller the deterioration in performance due to saltwater, and the more excellent the saltwater resistance. The evaluation criteria are as follows.
◎ (Excellent): The change in water contact angle after the salt spray test is 2 degrees or less.
○ (Good): The change in water contact angle after the salt spray test was more than 2 degrees and not more than 5 degrees.
△ (Acceptable): The change in water contact angle after the salt spray test was more than 5 degrees and 10 degrees or less.
× (unacceptable): The change in water contact angle after the salt spray test is more than 10 degrees.
<潤滑性>
人工皮膚(出光テクノファイン社製、PBZ13001)に対する表面層の動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システム(新東科学社製、HHS2000)を用い、接触面積:3cm×3cm、荷重:0.98Nの条件で測定した。動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎(優) :動摩擦係数が0.2以下。
○(良) :動摩擦係数が0.2超0.3以下。
△(可) :動摩擦係数が0.3超0.4以下。
×(不可):動摩擦係数が0.4超。
<Lubricity>
The dynamic friction coefficient of the surface layer against artificial skin (PBZ13001, manufactured by Idemitsu Technofine Co., Ltd.) was measured using a variable load friction and wear testing system (HHS2000, manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd.) under conditions of a contact area of 3 cm x 3 cm and a load of 0.98 N. The smaller the dynamic friction coefficient, the better the lubricity. The evaluation criteria are as follows:
◎ (Excellent): Coefficient of dynamic friction is 0.2 or less.
○ (Good): Coefficient of dynamic friction is greater than 0.2 and equal to or less than 0.3.
△ (Acceptable): Coefficient of dynamic friction is greater than 0.3 and equal to or less than 0.4.
× (unacceptable): Coefficient of dynamic friction exceeds 0.4.
化合物1を用いた例4~5は、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性に優れていることを確認した。
従来の含フッ素エーテル化合物を用いた例6は、耐光性および耐薬品性に劣っていた。
It was confirmed that Examples 4 and 5, which used Compound 1, were excellent in initial water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint stain removability, light resistance and chemical resistance.
Example 6, in which a conventional fluorine-containing ether compound was used, was poor in light resistance and chemical resistance.
本発明の含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置;透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート;電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート;導通しながら撥液が必要な部材へのコート;熱交換機の撥水・防水・滑水コート;振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水コーティング熱交換機の撥水・防水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コートが挙げられる。 The fluorine-containing ether compounds of the present invention can be used in a variety of applications requiring lubricity or water and oil repellency. For example, they can be used in display and input devices such as touch panels; surface protective coatings for transparent glass or transparent plastic components; anti-fouling coatings for kitchens; water-repellent, moisture-proof, and anti-fouling coatings for electronic devices, heat exchangers, batteries, etc.; and anti-fouling coatings for toiletries; coatings for components that require electrical conductivity and liquid repellency; water-repellent, waterproof, and water-slip coatings for heat exchangers; and low-friction surface coatings for the inside of vibrating sieves and cylinders, etc. More specific examples of use include front protective plates for displays, anti-reflection plates, polarizing plates, anti-glare plates, or plates with anti-reflection coatings applied to their surfaces; various devices with display input devices that allow operations on the screen with fingers or palms, such as touch panel sheets and touch panel displays for devices such as mobile phones and personal digital assistants; decorative building materials for wet areas such as toilets, bathrooms, washrooms, and kitchens; waterproof coatings for wiring boards; water-repellent and waterproof coatings for heat exchangers; water-repellent coatings for solar cells; waterproof and water-repellent coatings for printed wiring boards; waterproof and water-repellent coatings for electronic device housings and electronic components; coatings to improve the insulation of power transmission lines; waterproof and water-repellent coatings for various filters; waterproof coatings for radio wave absorbers and sound-absorbing materials; anti-fouling coatings for baths, kitchen equipment, and toiletries; water-repellent, waterproof, and water-slip coatings for heat exchangers; low-friction surface coatings for vibrating sieves and the inside of cylinders; and surface protective coatings for machine parts, vacuum equipment parts, bearing parts, automotive parts, tools, etc.
Claims (8)
A1-O-(Rf1O)m-A2 式1
ただし、
A1は、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基または下式g1で表される基であり、
A2は、下式g1で表される基であり、
Rf1は、フルオロアルキレン基であり、
mは、2~500の整数であり、
(Rf1O)mは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよい。
-Rf2-Q1-C(X)[-Q2-SiRnL3-n]2 式g1
ただし、
Rf2は、フルオロアルキレン基(ただし、Q1側の末端の炭素原子には少なくとも1個のフッ素原子が結合する。)であり、
Q1は、単結合またはアルキレン基であり、
Xは、アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Q2は、アルキレン基であり、
Rは、1価の炭化水素基であり、
Lは、加水分解性基であり、
nは、0~2の整数であり、
2個の[-Q2-SiRnL3-n]は、同一であっても異なっていてもよい。 A fluorine-containing ether compound which is a compound represented by the following formula 1:
A 1 -O-(R f1 O) m -A 2 Formula 1
however,
A1 is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a group represented by the following formula g1:
A2 is a group represented by the following formula g1:
R f1 is a fluoroalkylene group;
m is an integer from 2 to 500,
(R f1 O) m may consist of two or more types of R f1 O having different numbers of carbon atoms.
-R f2 -Q 1 -C(X) [-Q 2 -SiR n L 3-n ] 2 formula g1
however,
R f2 is a fluoroalkylene group (provided that at least one fluorine atom is bonded to the terminal carbon atom on the Q1 side),
Q1 is a single bond or an alkylene group;
X is an alkyl group or a fluoroalkyl group;
Q2 is an alkylene group;
R is a monovalent hydrocarbon group;
L is a hydrolyzable group;
n is an integer from 0 to 2,
The two [-Q 2 -SiR n L 3-n ] may be the same or different.
液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。 The fluorinated ether compound according to claim 1 or the fluorinated ether composition according to claim 2;
A coating liquid comprising a liquid medium.
A1a-O-(Rf1O)m-A2a 式2
ただし、
A1aは、炭素数1~20のペルフルオロアルキル基または下式g2で表される基であり、
A2aは、下式g2で表される基であり、
Rf1は、フルオロアルキレン基であり、
mは、2~500の整数であり、
(Rf1O)mは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよい。
-Rf2-Q1-C(X)[-Q2a-CH=CH2]2 式g2
ただし、
Rf2は、フルオロアルキレン基(ただし、Q1側の末端の炭素原子には少なくとも1個のフッ素原子が結合する。)であり、
Q1は、単結合またはアルキレン基であり、
Xは、アルキル基またはフルオロアルキル基であり、
Q2aは、単結合またはアルキレン基であり、
2個の[-Q2a-CH=CH2]は、同一であっても異なっていてもよい。 A fluorine-containing ether compound which is a compound represented by the following formula 2:
A 1a -O-(R f1 O) m -A 2a Formula 2
however,
A 1a is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a group represented by the following formula g2:
A 2a is a group represented by the following formula g2:
R f1 is a fluoroalkylene group;
m is an integer from 2 to 500,
(R f1 O) m may consist of two or more types of R f1 O having different numbers of carbon atoms.
-R f2 -Q 1 -C(X) [-Q 2a -CH=CH 2 ] 2 formula g2
however,
R f2 is a fluoroalkylene group (provided that at least one fluorine atom is bonded to the terminal carbon atom on the Q1 side),
Q1 is a single bond or an alkylene group;
X is an alkyl group or a fluoroalkyl group;
Q2a is a single bond or an alkylene group;
The two [-Q 2a -CH═CH 2 ] groups may be the same or different.
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