Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7744006B2 - Acoustic Wave Devices - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7744006B2 - Acoustic Wave Devices - Google Patents

Acoustic Wave Devices

Info

Publication number
JP7744006B2
JP7744006B2 JP2021163446A JP2021163446A JP7744006B2 JP 7744006 B2 JP7744006 B2 JP 7744006B2 JP 2021163446 A JP2021163446 A JP 2021163446A JP 2021163446 A JP2021163446 A JP 2021163446A JP 7744006 B2 JP7744006 B2 JP 7744006B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring pattern
package substrate
acoustic wave
die
metal layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021163446A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023054533A (en
Inventor
兼央 金原
博文 中村
裕 門川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SANAN JAPAN TECHNOLOGY
Original Assignee
SANAN JAPAN TECHNOLOGY
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SANAN JAPAN TECHNOLOGY filed Critical SANAN JAPAN TECHNOLOGY
Priority to JP2021163446A priority Critical patent/JP7744006B2/en
Priority to CN202211198887.0A priority patent/CN115940865A/en
Publication of JP2023054533A publication Critical patent/JP2023054533A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7744006B2 publication Critical patent/JP7744006B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Description

本開示は、デバイスチップを有する弾性波デバイスに関連する。 This disclosure relates to an acoustic wave device having a device chip.

特許文献1は、弾性波デバイスチップを金属封止部で封止する弾性波デバイスを開示している。この弾性波デバイスは、金属封止部の接地が不十分となることを抑制するために、金属封止部を配線基板の金属パターンに接触させるものである。 Patent Document 1 discloses an acoustic wave device in which an acoustic wave device chip is sealed with a metal sealing portion. In this acoustic wave device, the metal sealing portion is brought into contact with the metal pattern of the wiring substrate to prevent insufficient grounding of the metal sealing portion.

特開2015-41680号公報JP 2015-41680 A

デバイスチップを金属層で覆うタイプの弾性波デバイスにおいては、さらなる品質向上が求められている。例えば、パッケージの小型化、気密性の向上、外部ノイズからのシールド効果の向上、放熱性の改善、グランド強化によるアイソレーション特性の向上などが求められている。 Further quality improvements are required for acoustic wave devices in which the device chip is covered with a metal layer. For example, there is a demand for smaller packages, improved airtightness, improved shielding from external noise, improved heat dissipation, and improved isolation characteristics through strengthened grounding.

本開示は、上述の課題を解決するためになされた。本開示の目的は、金属層を有する弾性波デバイスの品質を向上させることである。 The present disclosure has been made to solve the above-mentioned problems. The purpose of the present disclosure is to improve the quality of acoustic wave devices having metal layers.

本開示に係る弾性波デバイスは、
ダイアタッチ面配線パターンと、内部配線パターンを有するパッケージ基板と、
前記パッケージ基板と電気的に接続されたデバイスチップと、
前記デバイスチップを覆い、前記内部配線パターンと接合した金属層と、を備え、
前記金属層は前記ダイアタッチ面配線パターンと接合し、
前記金属層は前記パッケージ基板の側面に接し、かつ、前記内部配線パターンの側面と接合し、
断面視において、前記金属層と前記パッケージ基板の側面が接触する部分の長さは、前記パッケージ基板の厚みの半分以上である
The acoustic wave device according to the present disclosure includes:
a package substrate having a die-attach surface wiring pattern and an internal wiring pattern;
a device chip electrically connected to the package substrate;
a metal layer covering the device chip and bonded to the internal wiring pattern ;
the metal layer is bonded to the die-attach surface wiring pattern;
the metal layer contacts a side surface of the package substrate and is bonded to a side surface of the internal wiring pattern;
In a cross-sectional view, the length of the portion where the metal layer contacts the side surface of the package substrate is equal to or greater than half the thickness of the package substrate .

前記内部配線パターンは接地用パターンであることが本開示の一形態とされる。 One aspect of the present disclosure is that the internal wiring pattern is a grounding pattern.

前記デバイスチップと前記金属層の間に設けられた絶縁体層を備えることが本開示の一形態とされる。 One aspect of the present disclosure is to have an insulating layer disposed between the device chip and the metal layer.

前記絶縁体層は前記パッケージ基板のダイアタッチ面に接し、
前記金属層は、前記絶縁体層を介して前記ダイアタッチ面に接し、前記ダイアタッチ面配線パターンの側面と接合していることが本開示の一形態とされる。
the insulator layer contacts the die-attach surface of the package substrate;
In one aspect of the present disclosure, the metal layer is in contact with the die-attach surface via the insulator layer and is bonded to a side surface of the die-attach surface wiring pattern.

前記ダイアタッチ面配線パターンは、金又は金を含む合金からなり、前記内部配線パターンは、銅又は銅を含む合金からなることが本開示の一形態とされる。 In one aspect of the present disclosure, the die-attach surface wiring pattern is made of gold or an alloy containing gold, and the internal wiring pattern is made of copper or an alloy containing copper.

前記デバイスチップの基板は、圧電基板と、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、水晶またはガラスからなる支持基板とが接合された基板であることが本開示の一形態とされる。 In one aspect of the present disclosure, the substrate of the device chip is a substrate in which a piezoelectric substrate is bonded to a support substrate made of sapphire, silicon, alumina, spinel, quartz, or glass.

前記パッケージ基板に実装された受動部品と、前記パッケージ基板に実装された集積回路と、を備えることが本開示の一形態とされる。 One aspect of the present disclosure is to have passive components mounted on the package substrate and an integrated circuit mounted on the package substrate.

本開示によれば品質を高めた弾性波デバイスを提供することができる。 This disclosure makes it possible to provide acoustic wave devices of improved quality.

実施の形態1に係る弾性波デバイスの断面図である。1 is a cross-sectional view of an acoustic wave device according to a first embodiment. 比較例に係る弾性波デバイスの断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of an acoustic wave device according to a comparative example. 実施の形態2に係る弾性波デバイスの断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of an acoustic wave device according to a second embodiment. デバイスサイズの比較図である。FIG. 1 is a comparison diagram of device sizes. 実施の形態3に係る弾性波デバイスの断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of an acoustic wave device according to a third embodiment.

実施の形態について添付の図面を参照して説明する。各図中、同一または対応する部分には同一の符号が付される。当該部分の重複説明は簡略化又は省略されることがある。 Embodiments will be described with reference to the accompanying drawings. In each drawing, identical or corresponding parts are designated by the same reference numerals. Duplicate descriptions of such parts may be simplified or omitted.

実施の形態1.
図1は実施の形態1に係る弾性波デバイス10の縦断面図である。弾性波デバイス10はパッケージ基板12を備えている。パッケージ基板12の上面は、ダイアタッチ面である。このダイアタッチ面にダイアタッチ面配線パターン12a、12f、12hが形成されている。ダイアタッチ面配線パターン12a、12f、12hは、パッケージ基板12の上面に露出する配線パターンである。一例によれば、ダイアタッチ面配線パターン12a、12f、12hは、金又は金を含む合金で形成することができる。
Embodiment 1.
1 is a longitudinal cross-sectional view of an acoustic wave device 10 according to a first embodiment. The acoustic wave device 10 includes a package substrate 12. The upper surface of the package substrate 12 is a die-attach surface. Die-attach surface wiring patterns 12a, 12f, and 12h are formed on this die-attach surface. The die-attach surface wiring patterns 12a, 12f, and 12h are wiring patterns exposed on the upper surface of the package substrate 12. According to one example, the die-attach surface wiring patterns 12a, 12f, and 12h can be formed of gold or an alloy containing gold.

パッケージ基板12は複数の配線構造を含むことができる。図1の例では、配線構造として、第1構造12A、第2構造12B、第3構造12Cを含む。第1構造12Aは、前述のダイアタッチ面配線パターン12aに接するビア12bを有する。このビア12bによって、ビア12bの上のダイアタッチ面配線パターン12aと、ビア12bの下の内部配線パターン12cが電気的に接続される。内部配線パターン12cは、パッケージ基板12の基材の内部に埋め込まれた配線パターンである。なお、基材の材料は例えばセラミック又は樹脂などの絶縁体である。 The package substrate 12 can include multiple wiring structures. In the example of Figure 1, the wiring structures include a first structure 12A, a second structure 12B, and a third structure 12C. The first structure 12A has a via 12b that contacts the die-attach surface wiring pattern 12a described above. This via 12b electrically connects the die-attach surface wiring pattern 12a above the via 12b to the internal wiring pattern 12c below the via 12b. The internal wiring pattern 12c is a wiring pattern embedded inside the base material of the package substrate 12. The base material is an insulator such as ceramic or resin.

第1構造12Aは、内部配線パターン12cに接するビア12dを備えている。このビア12dによって、ビア12dの上の内部配線パターン12cと、ビア12bの下の下面配線パターン12eが電気的に接続されている。下面配線パターン12eはパッケージ基板12の下面に露出する配線パターンである。 The first structure 12A has a via 12d that contacts the internal wiring pattern 12c. This via 12d electrically connects the internal wiring pattern 12c above the via 12d to the bottom wiring pattern 12e below the via 12b. The bottom wiring pattern 12e is a wiring pattern exposed on the bottom surface of the package substrate 12.

パッケージ基板12は、第1構造12Aの横に第2構造12Bを備える。第2構造12Bは、ダイアタッチ面配線パターン12fと、下面配線パターン12gと、これらを電気的に接続するビア及び内部配線パターンとを備えている。 The package substrate 12 has a second structure 12B next to the first structure 12A. The second structure 12B has a die-attach surface wiring pattern 12f, a bottom surface wiring pattern 12g, and vias and internal wiring patterns that electrically connect these.

パッケージ基板12は、第2構造12Bの横に第3構造12Cを備える。第3構造は、上から順に、ダイアタッチ面配線パターン12h、ビア12i、内部配線パターン12j、ビア12k、下面配線パターン12mを備える。一例によれば、第1-第3構造における、内部配線パターンを銅又は銅を含む合金とすることができる。一例によれば、ダイアタッチ面配線パターン12a、12f、12hは金メッキされたパターンであり、第1構造12A、第2構造12Bおよび第3構造12Cのダイアタッチ面配線パターン12a、12f、12h以外の部分を銅又は銅を含む合金とし得る。 The package substrate 12 includes a third structure 12C next to the second structure 12B. The third structure includes, from top to bottom, a die-attach surface wiring pattern 12h, a via 12i, an internal wiring pattern 12j, a via 12k, and a bottom wiring pattern 12m. According to one example, the internal wiring patterns in the first to third structures can be made of copper or a copper-containing alloy. According to one example, the die-attach surface wiring patterns 12a, 12f, and 12h are gold-plated patterns, and the portions of the first structure 12A, the second structure 12B, and the third structure 12C other than the die-attach surface wiring patterns 12a, 12f, and 12h can be made of copper or a copper-containing alloy.

別の例によれば、パッケージ基板12として異なる構成を有する多層配線基板又はPCBを採用することができる。例えば配線パターンの総数を変更したり、第1~第3構造として例示した配線構造の数を増減したりすることができる。 As another example, a multilayer wiring board or PCB having a different configuration can be used as the package substrate 12. For example, the total number of wiring patterns can be changed, or the number of wiring structures exemplified as the first to third structures can be increased or decreased.

このパッケージ基板12のダイアタッチ面に、デバイスチップ20がバンプ40、42によってフリップチップ実装されている。バンプ40、42の材料は例えばAuである。デバイスチップ20は例えば、圧電基板の一方の面に弾性波を励振する櫛型電極が設けられた弾性表面波(SAW:Surface Acoustic Wave)デバイスチップである。圧電基板として、例えばタンタル酸リチウム基板又はニオブ酸リチウム基板を採用することができる。別の例によれば、デバイスチップ20の基板は、圧電基板と、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、水晶またはガラスからなる支持基板とが接合された基板である。 The device chip 20 is flip-chip mounted on the die-attach surface of this package substrate 12 using bumps 40, 42. The bumps 40, 42 are made of, for example, Au. The device chip 20 is, for example, a surface acoustic wave (SAW) device chip in which a comb-shaped electrode that excites acoustic waves is provided on one surface of a piezoelectric substrate. The piezoelectric substrate may be, for example, a lithium tantalate substrate or a lithium niobate substrate. In another example, the substrate of the device chip 20 is a substrate in which a piezoelectric substrate is bonded to a support substrate made of sapphire, silicon, alumina, spinel, quartz, or glass.

一例によれば、バンプ40はデバイスチップ20の端子とダイアタッチ面配線パターン12aを接続する。バンプ42はデバイスチップ20の端子とダイアタッチ面配線パターン12hを接続する。第1構造12A、第2構造12B、第3構造12Cのうち任意の配線構造をグランド用配線とすることができる。例えば、第2構造12Bをグランド用配線とすることができる。この場合、第2構造12Bの内部配線パターンは接地用パターンとなる。別の例によれば、第1構造12Aをグランド用配線とすることができる。この場合、第1構造12Aの内部配線パターン12cは接地用パターンとなる。こうして、バンプ40、42によってデバイスチップ20をパッケージ基板12と電気的に接続することができる。 In one example, bump 40 connects the terminal of the device chip 20 to die-attach surface wiring pattern 12a. Bump 42 connects the terminal of the device chip 20 to die-attach surface wiring pattern 12h. Any of the first, second, and third structures 12A, 12B, and 12C can be used as ground wiring. For example, second structure 12B can be used as ground wiring. In this case, the internal wiring pattern of second structure 12B becomes a ground pattern. In another example, first structure 12A can be used as ground wiring. In this case, the internal wiring pattern 12c of first structure 12A becomes a ground pattern. In this way, bumps 40 and 42 can electrically connect the device chip 20 to the package substrate 12.

デバイスチップ20は、絶縁体層22と金属層24によって覆われている。図1の例では、絶縁体層22がデバイスチップ20に接し、金属層24は絶縁体層22を介してデバイスチップ20に接する。絶縁体層22と金属層24によってデバイスチップ20を覆うことで、デバイスチップ20とパッケージ基板12の間に気密空間が提供される。一例によれば、金属層24の材料はNi又はNiを含む合金である。 The device chip 20 is covered by an insulator layer 22 and a metal layer 24. In the example of FIG. 1, the insulator layer 22 contacts the device chip 20, and the metal layer 24 contacts the device chip 20 via the insulator layer 22. By covering the device chip 20 with the insulator layer 22 and the metal layer 24, an airtight space is provided between the device chip 20 and the package substrate 12. According to one example, the material of the metal layer 24 is Ni or an alloy containing Ni.

図1の例では、絶縁体層22はダイアタッチ面配線パターン12a、12hに直接接するので、絶縁体層22はパッケージ基板12のダイアタッチ面に接しているということができる。他方、金属層24はダイアタッチ面配線パターン12a、12hと接合していない。つまり、金属層24は、絶縁体層22を介してダイアタッチ面に接し、ダイアタッチ面配線パターンとは接合していない。金属層24は内部配線パターン12c、12jと接合している。パッケージ基板12に段差構造を設け、その段差部分に内部配線パターン12c、12jの上面を露出させることで、これらの上面に金属層24を接合させることができる。図1には、金属層24と内部配線パターン12cが接合した部分が接合部30として表現されている。さらに、金属層24と内部配線パターン12jが接合した部分が接合部32として表現されている。一例によれば、接合部30、32は金属層24と内部配線パターン23cの合金である。別の例によれば、接合部30、32は金属層24又は内部配線パターン12c、12jの一部である。 In the example of Figure 1, the insulator layer 22 is in direct contact with the die-attach surface wiring patterns 12a and 12h, so it can be said that the insulator layer 22 is in contact with the die-attach surface of the package substrate 12. On the other hand, the metal layer 24 is not bonded to the die-attach surface wiring patterns 12a and 12h. In other words, the metal layer 24 is in contact with the die-attach surface via the insulator layer 22 and is not bonded to the die-attach surface wiring patterns. The metal layer 24 is bonded to the internal wiring patterns 12c and 12j. By providing a stepped structure in the package substrate 12 and exposing the top surfaces of the internal wiring patterns 12c and 12j in the stepped portions, the metal layer 24 can be bonded to these top surfaces. In Figure 1, the bonded portion between the metal layer 24 and the internal wiring pattern 12c is represented as bond 30. Furthermore, the bonded portion between the metal layer 24 and the internal wiring pattern 12j is represented as bond 32. According to one example, the bonded portions 30 and 32 are an alloy between the metal layer 24 and the internal wiring pattern 23c. In another example, the joints 30, 32 are part of the metal layer 24 or the internal wiring patterns 12c, 12j.

図2は、比較例に係る弾性波デバイスの断面図である。比較例に係る弾性波デバイスが図1の弾性波デバイス10と相違する点は、金属層24とパッケージ基板12の接合方法である。比較例に係る弾性波デバイスでは、金属層24がダイアタッチ面配線パターン12a、12hと接合している。これらの接合部分が接合部38、39として図示されている。比較例の金属層24は内部配線パターン12c、12jと接合していない。 Figure 2 is a cross-sectional view of an acoustic wave device according to a comparative example. The acoustic wave device according to the comparative example differs from the acoustic wave device 10 of Figure 1 in the method of bonding the metal layer 24 to the package substrate 12. In the acoustic wave device according to the comparative example, the metal layer 24 is bonded to the die-attach surface wiring patterns 12a and 12h. These bonded portions are illustrated as bonding portions 38 and 39. The metal layer 24 of the comparative example is not bonded to the internal wiring patterns 12c and 12j.

一例によれば、図1、2の弾性波デバイスの絶縁体層22は以下の処理によって形成される。まず、デバイスチップ20の上に樹脂シートをのせる。樹脂シートは例えば液状のエポキシ樹脂をシート化したものである。別の例によれば、樹脂シートは、エポキシ樹脂とは異なるポリイミドなどの合成樹脂とすることができる。樹脂シートの上面にポリエチレンテレフタレート(PET)を材料とする保護フィルムを設けたり、樹脂シートの下面にポリエステルを材料とするベースフィルムを設けたりすることができる。デバイスチップ20の上に樹脂シートをのせることで、樹脂シートが1つ又は複数のデバイスチップに仮固定される。 In one example, the insulator layer 22 of the acoustic wave device of Figures 1 and 2 is formed by the following process. First, a resin sheet is placed on the device chip 20. The resin sheet is, for example, a sheet of liquid epoxy resin. In another example, the resin sheet can be made of a synthetic resin other than epoxy resin, such as polyimide. A protective film made of polyethylene terephthalate (PET) can be provided on the upper surface of the resin sheet, or a base film made of polyester can be provided on the lower surface of the resin sheet. By placing the resin sheet on the device chip 20, the resin sheet is temporarily fixed to one or more device chips.

次いで、真空ラミネートによって、樹脂をチップ側面にまで提供する。例えば、真空下で樹脂シートにパッケージ基板12方向への圧力をかけながら、樹脂をチップ側面の領域に提供していく。圧縮空気で膨らませたシリコンゴムで樹脂シートにパッケージ基板12方向への圧力をかけたり、ラバープレートで樹脂シートにパッケージ基板12方向への圧力をかけたりすることができる。複数チップがある場合にはチップ間に樹脂が提供される。 Next, resin is applied to the sides of the chip using vacuum lamination. For example, resin is applied to the areas on the sides of the chip while applying pressure to the resin sheet in the direction of the package substrate 12 under vacuum. Pressure can be applied to the resin sheet in the direction of the package substrate 12 using silicone rubber inflated with compressed air, or pressure can be applied to the resin sheet in the direction of the package substrate 12 using a rubber plate. If there are multiple chips, resin is applied between the chips.

真空ラミネートに代えて、別の方法でチップ側面又はチップ間に樹脂を提供してもよい。例えば、熱ローララミネート法と呼ばれる方法を採用してもよい。熱ローララミネート法では、少なくとも樹脂シートの軟化温度まで加熱した上ローラと下ローラの間にワークを通す。これにより、樹脂シートが、1つ又は複数のデバイスチップの上面に提供されるとともに、デバイスチップの側面とパッケージ基板12の上面に充填される。 Instead of vacuum lamination, resin may be provided on the sides of or between chips using other methods. For example, a method known as hot roller lamination may be used. In hot roller lamination, the workpiece is passed between upper and lower rollers that are heated to at least the softening temperature of the resin sheet. This provides the resin sheet to the top surfaces of one or more device chips, and fills the sides of the device chips and the top surface of the package substrate 12.

そして上述のとおり、樹脂でデバイスチップを覆った状態で、樹脂を熱硬化させることで、絶縁体層22を形成する。このとき、比較例のように樹脂がパッケージ基板12の上面にだけ接している状態で樹脂を熱硬化させると、ダイアタッチ面配線パターンの分布によっては、樹脂がデバイスチップ20とパッケージ基板12の間の領域にまで入り込んでしまう。これに対し、図1に示すようにパッケージ基板12に段差を設けておいて、その段差の側面にまで樹脂を到達させてから当該樹脂を熱硬化させると、デバイスチップ20の周囲における樹脂壁の形状を安定化させることができる。言いかえると、樹脂がデバイスチップ20とパッケージ基板12の間の領域にまで入り込んでしまうことを抑制できる。 As described above, the insulator layer 22 is formed by thermally curing the resin while it is still covering the device chip. If the resin is thermally cured while only in contact with the top surface of the package substrate 12, as in the comparative example, the resin may seep into the area between the device chip 20 and the package substrate 12, depending on the distribution of the die-attach surface wiring pattern. In contrast, by providing a step in the package substrate 12 as shown in FIG. 1 and allowing the resin to reach the side of the step before thermally curing the resin, the shape of the resin wall around the device chip 20 can be stabilized. In other words, the resin can be prevented from seeping into the area between the device chip 20 and the package substrate 12.

仮に、ダイアタッチ面配線パターンが金メッキされた場合、当該金メッキと樹脂の密着性が悪い。したがって比較例のように絶縁体層22が、パッケージ基板12のうち主としてダイアタッチ面配線パターンだけに接している場合には、絶縁体層22の密着性が悪い。しかしながら、図1に示すように、絶縁体層22をダイアタッチ面配線パターンだけでなく、パッケージ基板12の基材と、内部配線パターン12c、12jに接触させておけば、絶縁体層22をパッケージ基板12に密着させることができる。一例によれば、Cuを含む内部配線パターンに、Niを含む金属層24と、絶縁体層22とを接触させることは、これらの接続性を高める。 If the die-attach surface wiring pattern were gold-plated, the adhesion between the gold plating and the resin would be poor. Therefore, if the insulator layer 22 were primarily in contact with the die-attach surface wiring pattern of the package substrate 12, as in the comparative example, the adhesion of the insulator layer 22 would be poor. However, as shown in Figure 1, if the insulator layer 22 is in contact not only with the die-attach surface wiring pattern but also with the base material of the package substrate 12 and the internal wiring patterns 12c and 12j, the insulator layer 22 can be adhered to the package substrate 12. According to one example, contacting the insulator layer 22 with the internal wiring pattern containing Cu, the metal layer 24 containing Ni, and the insulator layer 22 improves their connectivity.

このように、絶縁体層22及び金属層24と、パッケージ基板12との接続を強固にすることで、弾性波デバイスの気密性が高まり、外部ノイズからのシールド効果が高まり、グランド接続が強化され(つまりアイソレーション特性が向上する)得る。 In this way, by strengthening the connection between the insulator layer 22 and metal layer 24 and the package substrate 12, the airtightness of the acoustic wave device is improved, the shielding effect from external noise is enhanced, and the ground connection is strengthened (i.e., isolation characteristics are improved).

実施の形態2.
図3は、実施の形態2に係る弾性波デバイスの断面図である。実施の形態2における金属層24は、ダイアタッチ面配線パターン12a、12hと、内部配線パターン12c、12jとの両方に接合している。図3の例では、金属層24は、ダイアタッチ面配線パターン12a、12hの側面と、内部配線パターン12c、12jの側面とに接合している。接合部50、52、54、56は、それぞれ、ダイアタッチ面配線パターン12aの側面、内部配線パターン12cの側面、ダイアタッチ面配線パターン12hの側面、内部配線パターン12jの側面にある。
Embodiment 2.
3 is a cross-sectional view of an acoustic wave device according to a second embodiment. The metal layer 24 in the second embodiment is bonded to both the die-attach surface wiring patterns 12a and 12h and the internal wiring patterns 12c and 12j. In the example of FIG. 3, the metal layer 24 is bonded to the side surfaces of the die-attach surface wiring patterns 12a and 12h and the internal wiring patterns 12c and 12j. Bonds 50, 52, 54, and 56 are located on the side surfaces of the die-attach surface wiring pattern 12a, the internal wiring pattern 12c, the die-attach surface wiring pattern 12h, and the internal wiring pattern 12j, respectively.

金属層24を、ダイアタッチ面配線パターン12a、12hと、内部配線パターン12c、12jとの両方に接合させることで、金属層24とパッケージ基板12の接続を強化することができる。 By bonding the metal layer 24 to both the die-attach surface wiring patterns 12a, 12h and the internal wiring patterns 12c, 12j, the connection between the metal layer 24 and the package substrate 12 can be strengthened.

一例によれば、断面視において、金属層24とパッケージ基板12の側面が接触する部分の長さを、パッケージ基板12の厚みの半分以上とすることができる。言いかえると、金属層24とパッケージ基板12とが接する部分の縦方向長さは、パッケージ基板12の厚みの半分以上である。このように、パッケージ基板12の側面と金属層24の接触長を十分に確保することで、両者の接続性を高めることができる。 According to one example, in a cross-sectional view, the length of the portion where the metal layer 24 and the side of the package substrate 12 contact can be made equal to or greater than half the thickness of the package substrate 12. In other words, the vertical length of the portion where the metal layer 24 and the package substrate 12 contact is equal to or greater than half the thickness of the package substrate 12. In this way, by ensuring a sufficient contact length between the side of the package substrate 12 and the metal layer 24, the connectivity between them can be improved.

さらに、パッケージ基板12に段差を設け、その段差部分にまで金属層24を到達させることで、金属層24の位置を安定させることができる。 Furthermore, by providing a step in the package substrate 12 and extending the metal layer 24 up to that step, the position of the metal layer 24 can be stabilized.

図4は、実施の形態2に係る弾性波デバイスと、比較例に係る弾性波デバイスのデバイスサイズの比較図である。上段に比較例の弾性波デバイスが示され、下段に実施形態2に係る弾性波デバイスが示されている。比較例では接合部38、39が横方向に形成されるのに対し、実施の形態2では接合部50、52、54、56が縦方向に形成される。よって、比較例に比べて、実施の形態2に係る弾性波デバイスは小型化に好適である。 Figure 4 is a diagram comparing the device sizes of an acoustic wave device according to embodiment 2 and an acoustic wave device according to a comparative example. The upper row shows the acoustic wave device according to the comparative example, and the lower row shows the acoustic wave device according to embodiment 2. In the comparative example, junctions 38 and 39 are formed horizontally, whereas in embodiment 2, junctions 50, 52, 54, and 56 are formed vertically. Therefore, compared to the comparative example, the acoustic wave device according to embodiment 2 is more suitable for miniaturization.

実施の形態3.
図5は、実施の形態3に係る弾性波デバイスの断面図である。この弾性波デバイスは、デバイスチップ20に加えて、パッケージ基板12に実装された受動部品60と、パッケージ基板12に実装された集積回路62と、を備える。一例によれば、受動部品60ははんだ61によってダイアタッチ面配線パターン12nに接合されている。集積回路62ははんだボール63によってダイアタッチ面配線パターン12nに電気的に接続されている。
Embodiment 3.
5 is a cross-sectional view of an acoustic wave device according to embodiment 3. In addition to the device chip 20, this acoustic wave device includes passive components 60 mounted on a package substrate 12 and an integrated circuit 62 mounted on the package substrate 12. According to one example, the passive components 60 are bonded to the die-attach surface wiring pattern 12n by solder 61. The integrated circuit 62 is electrically connected to the die-attach surface wiring pattern 12n by solder balls 63.

絶縁体層22と金属層24は、デバイスチップ20、受動部品60及び集積回路62を覆う。金属層24は多くの点でダイアタッチ面配線パターン12nに接合している。さらに、金属層24は、受動部品60と集積回路62の間では内部配線パターン12pに接合している。金属層24と内部配線パターンの接合位置は任意の位置とすることができる。また、そのような接合位置の数を複数とすることもできる。金属層24を内部配線パターンに接合させることで、上述の各効果を得ることができる。金属層24の上にはデバイスを保護したりハンドリング性を高めたりする目的で樹脂層70が設けられている。 The insulator layer 22 and metal layer 24 cover the device chip 20, passive components 60, and integrated circuit 62. The metal layer 24 is bonded to the die-attach surface wiring pattern 12n at many points. Furthermore, the metal layer 24 is bonded to the internal wiring pattern 12p between the passive components 60 and the integrated circuit 62. The bonding position between the metal layer 24 and the internal wiring pattern can be any position. There can also be multiple such bonding positions. By bonding the metal layer 24 to the internal wiring pattern, the above-mentioned effects can be achieved. A resin layer 70 is provided on the metal layer 24 for the purposes of protecting the device and improving handling.

このように、複数の部品が実装される弾性波デバイスにおいても、金属層を内部配線パターンと接合させることで弾性波デバイスの品質を高めることができる。 In this way, even in acoustic wave devices that incorporate multiple components, the quality of the acoustic wave device can be improved by joining the metal layer to the internal wiring pattern.

少なくとも一つの実施形態のいくつかの側面が説明されたが、様々な改変、修正および改善が当業者にとって容易に想起されることを理解されたい。かかる改変、修正および改善は、本開示の一部となることが意図され、かつ、本開示の範囲内にあることが意図される。 While several aspects of at least one embodiment have been described, it should be understood that various alterations, modifications, and improvements will readily occur to those skilled in the art. Such alterations, modifications, and improvements are intended to be part of this disclosure, and are intended to be within the scope of this disclosure.

理解するべきことだが、ここで述べられた方法および装置の実施形態は、上記説明に記載され又は添付図面に例示された構成要素の構造および配列の詳細への適用に限られない。方法および装置は、他の実施形態で実装し、様々な態様で実施又は実行することができる。 It should be understood that the embodiments of the methods and apparatus described herein are not limited in their application to the details of construction and arrangement of components set forth in the foregoing description or illustrated in the accompanying drawings. The methods and apparatus may be implemented in other embodiments and practiced or carried out in various ways.

特定の実装例は、例示のみを目的としてここに与えられ、限定されることを意図しない。 Specific implementation examples are provided here for illustrative purposes only and are not intended to be limiting.

本開示で使用される表現および用語は、説明目的であって、限定としてみなすべきではない。ここでの「含む」、「備える」、「有する」、「包含する」およびこれらの変形の使用は、以降に列挙される項目およびその均等物並びに付加項目の包括を意味する。 The phraseology and terminology used in this disclosure are for purposes of description and should not be regarded as limiting. The use herein of "including," "comprising," "having," "including," and variations thereof means the inclusion of the items listed thereafter and equivalents thereof and additional items.

「又は(若しくは)」の言及は、「又は(若しくは)」を使用して記載される任意の用語が、当該記載の用語の一つの、一つを超える、およびすべてのものを示すように解釈され得る。 References to "or" may be construed as meaning that any term described with "or" refers to one, more than one, and all of the described terms.

前後左右、頂底上下、横縦、表裏への言及は、いずれも、記載の便宜を意図する。当該言及は、本開示の構成要素がいずれか一つの位置的又は空間的配向に限られるものではない。したがって、上記説明および図面は、例示にすぎない。 All references to front, back, left, right, top, bottom, top, bottom, width, length, and front and back are intended for convenience of description. Such references do not limit the components of this disclosure to any one positional or spatial orientation. Accordingly, the above description and drawings are by way of example only.

10 弾性波デバイス、 12 パッケージ基板、 12a,12f,12h ダイアタッチ面配線パターン、 12c,12j 内部配線パターン、 22 絶縁体層、 24 金属層、 30,32,50,52,54,56 接合部

REFERENCE SIGNS LIST 10 Acoustic wave device 12 Package substrate 12a, 12f, 12h Die attach surface wiring pattern 12c, 12j Internal wiring pattern 22 Insulator layer 24 Metal layer 30, 32, 50, 52, 54, 56 Joint

Claims (7)

ダイアタッチ面配線パターンと、内部配線パターンを有するパッケージ基板と、
前記パッケージ基板と電気的に接続されたデバイスチップと、
前記デバイスチップを覆い、前記内部配線パターンと接合した金属層と、を備え、
前記金属層は前記ダイアタッチ面配線パターンと接合し、
前記金属層は前記パッケージ基板の側面に接し、かつ、前記内部配線パターンの側面と接合し、
断面視において、前記金属層と前記パッケージ基板の側面が接触する部分の長さは、前記パッケージ基板の厚みの半分以上である弾性波デバイス。
a package substrate having a die-attach surface wiring pattern and an internal wiring pattern;
a device chip electrically connected to the package substrate;
a metal layer covering the device chip and bonded to the internal wiring pattern ;
the metal layer is bonded to the die-attach surface wiring pattern;
the metal layer contacts a side surface of the package substrate and is bonded to a side surface of the internal wiring pattern;
An acoustic wave device in which, in a cross-sectional view, the length of a portion where the metal layer contacts the side surface of the package substrate is equal to or greater than half the thickness of the package substrate .
前記内部配線パターンは接地用パターンである請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device according to claim 1 , wherein the internal wiring pattern is a grounding pattern. 前記デバイスチップと前記金属層の間に設けられた絶縁体層を備える請求項1に記載の弾性波デバイス。 The acoustic wave device of claim 1, further comprising an insulating layer disposed between the device chip and the metal layer. 前記絶縁体層は前記パッケージ基板のダイアタッチ面に接し、
前記金属層は、前記絶縁体層を介して前記ダイアタッチ面に接し、前記ダイアタッチ面配線パターンの側面と接合している、請求項3に記載の弾性波デバイス。
the insulator layer contacts the die-attach surface of the package substrate;
The acoustic wave device according to claim 3 , wherein the metal layer is in contact with the die-attach surface via the insulator layer and is bonded to a side surface of the die-attach surface wiring pattern.
前記ダイアタッチ面配線パターンは金又は金を含む合金からなり、
前記内部配線パターンは銅又は銅を含む合金からなる、請求項1から4のいずれか1項に記載の弾性波デバイス。
the die-attach surface wiring pattern is made of gold or an alloy containing gold,
The acoustic wave device according to claim 1 , wherein the internal wiring pattern is made of copper or an alloy containing copper.
前記デバイスチップの基板は、圧電基板と、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、水晶またはガラスからなる支持基板とが接合された基板である請求項1から5のいずれか1項に記載の弾性波デバイス。 6. The acoustic wave device according to claim 1, wherein the substrate of the device chip is a substrate in which a piezoelectric substrate and a support substrate made of sapphire, silicon, alumina, spinel, quartz crystal, or glass are bonded together. 前記パッケージ基板に実装された受動部品と、
前記パッケージ基板に実装された集積回路と、を備える請求項1から6のいずれか1項に記載の弾性波デバイス。
a passive component mounted on the package substrate;
The acoustic wave device according to claim 1 , further comprising: an integrated circuit mounted on the package substrate.
JP2021163446A 2021-10-04 2021-10-04 Acoustic Wave Devices Active JP7744006B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021163446A JP7744006B2 (en) 2021-10-04 2021-10-04 Acoustic Wave Devices
CN202211198887.0A CN115940865A (en) 2021-10-04 2022-09-29 elastic wave device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021163446A JP7744006B2 (en) 2021-10-04 2021-10-04 Acoustic Wave Devices

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023054533A JP2023054533A (en) 2023-04-14
JP7744006B2 true JP7744006B2 (en) 2025-09-25

Family

ID=85834144

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021163446A Active JP7744006B2 (en) 2021-10-04 2021-10-04 Acoustic Wave Devices

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7744006B2 (en)
CN (1) CN115940865A (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004135193A (en) 2002-10-11 2004-04-30 Toyo Commun Equip Co Ltd Surface mount type SAW device and manufacturing method thereof
JP2007184690A (en) 2006-01-05 2007-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Antenna duplexer
JP2015204531A (en) 2014-04-14 2015-11-16 太陽誘電株式会社 Electronic device and manufacturing method thereof

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11121640A (en) * 1997-10-21 1999-04-30 Oki Electric Ind Co Ltd Element package and mounting structure thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004135193A (en) 2002-10-11 2004-04-30 Toyo Commun Equip Co Ltd Surface mount type SAW device and manufacturing method thereof
JP2007184690A (en) 2006-01-05 2007-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Antenna duplexer
JP2015204531A (en) 2014-04-14 2015-11-16 太陽誘電株式会社 Electronic device and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023054533A (en) 2023-04-14
CN115940865A (en) 2023-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6589817B1 (en) Semiconductor device, method for manufacturing the same, and method for mounting the same
US6582991B1 (en) Semiconductor device and method for fabricating the same
KR100533673B1 (en) Semiconductor device, method of manufacture thereof, circuit board, and electronic device
US6596561B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device using reinforcing patterns for ensuring mechanical strength during manufacture
JP2001520460A (en) Method and structure for improving heat dissipation characteristics of package for microelectronic device
US7679175B2 (en) Semiconductor device including substrate and upper plate having reduced warpage
WO2001059839A1 (en) Mounting structure for semiconductor chip, semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device
US7663254B2 (en) Semiconductor apparatus and method of manufacturing the same
US20080274588A1 (en) Semiconductor device and method of fabricating the same, circuit board, and electronic instrument
KR100608610B1 (en) Printed circuit board, manufacturing method thereof and semiconductor package using same
JP7744006B2 (en) Acoustic Wave Devices
US20050127484A1 (en) Die extender for protecting an integrated circuit die on a flip chip package
JP3867796B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof, circuit board, and electronic apparatus
US8878070B2 (en) Wiring board and method of manufacturing a semiconductor device
JP3703960B2 (en) Semiconductor device
JP2001094228A (en) Semiconductor device mounting structure
JP2004288815A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP2004047897A (en) Electronic component and method of manufacturing electronic component
JP4310631B2 (en) Semiconductor device, circuit board and electronic equipment
JP2504465B2 (en) Semiconductor device
JPH04302209A (en) Hollow element structure
US20030205793A1 (en) Wire-bonded chip on board package
JP2004281899A (en) Semiconductor device and its manufacturing method, circuit board, and electronic equipment
JP4117480B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof, circuit board, and electronic apparatus
JP2001077226A (en) Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240928

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20250609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250617

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250814

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250902

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250904

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7744006

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150