JP7744667B2 - Compound usable as a RAFT agent and method for producing polymer using the same - Google Patents
Compound usable as a RAFT agent and method for producing polymer using the sameInfo
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Description
本開示は、RAFT剤として使用可能な化合物及びそれを用いたポリマーの製造方法に関する。 This disclosure relates to compounds that can be used as RAFT agents and methods for producing polymers using the same.
分子量が制御されたポリマー及びコポリマーを得るための方法として、リビングラジカル重合(「制御ラジカル重合」ともいう。)が知られている。リビングラジカル重合の一例として、可逆的付加-開裂連鎖移動(Reversible Addition/Fragmentation Chain Transfer、以下「RAFT」ともいう。)重合が挙げられる。RAFT重合では、重合中の成長反応を制御するために、連鎖移動剤(「RAFT剤」ともいう。)を介した可逆的な連鎖移動反応を利用する。これにより、分子量分布の狭いポリマー及びブロックコポリマーを生成することができる。RAFT重合は、多くのラジカル重合性モノマーに適用することができ、モノマー及び溶媒の官能基に対する許容性が高いため、水又はプロトン性溶媒中で多様なポリマー及びブロックコポリマーを合成することができる。また、RAFT重合では、RAFT剤のフラグメントがポリマー鎖の末端に結合した状態でポリマーが得られるため、RAFT剤の有する官能基によりポリマーに機能性を付与することができる。 Living radical polymerization (also known as "controlled radical polymerization") is a known method for obtaining polymers and copolymers with controlled molecular weights. One example of living radical polymerization is reversible addition/fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization. RAFT polymerization utilizes a reversible chain transfer reaction mediated by a chain transfer agent (also known as a "RAFT agent") to control the propagation reaction during polymerization. This allows for the production of polymers and block copolymers with narrow molecular weight distributions. RAFT polymerization can be applied to many radically polymerizable monomers, and because it has high tolerance for functional groups in monomers and solvents, it can synthesize a variety of polymers and block copolymers in water or protic solvents. Furthermore, RAFT polymerization produces polymers with RAFT agent fragments attached to the ends of the polymer chains, allowing the functional groups of the RAFT agent to impart functionality to the polymer.
特許文献1(国際公開第2011/093401号)には、界面活性能と重合制御能を兼ね備えたRAFT剤として、下記一般式(1)で表される化合物において、R1がグリフィン法で求めた疎水-親水バランス(HLB)値が3以上である有機基である化合物が記載されている。
非特許文献1(Macromolecules 2001, 34, 7269-7275)には、ベンジル(ジエトキシホスホリル)ジチオホルメート、及びベンジル(ジエトキシチオホスホリル)ジチオホルメートをRAFT剤として使用して、スチレンをRAFT重合したことが記載されている。 Non-Patent Document 1 (Macromolecules 2001, 34, 7269-7275) describes the RAFT polymerization of styrene using benzyl (diethoxyphosphoryl) dithioformate and benzyl (diethoxythiophosphoryl) dithioformate as RAFT agents.
非特許文献2(Polymer 48 (2007) 5850-5858)には、RAFT重合によりTiO2/ポリアクリル酸(PAA)ナノコンポジットを形成したことが記載されている。RAFT剤としては、2-(((ブチルスルファニル)カルボノチオイル)スルファニル)プロパン酸、及び2-(エトキシチオカルボニル)-2-メチルマロネートが使用されている。 Non-Patent Document 2 (Polymer 48 (2007) 5850-5858) describes the formation of a TiO 2 /polyacrylic acid (PAA) nanocomposite by RAFT polymerization. 2-(((butylsulfanyl)carbonothioyl)sulfanyl)propanoic acid and 2-(ethoxythiocarbonyl)-2-methylmalonate were used as RAFT agents.
非特許文献3(Polymer 51 (2010) 5345-5351)には、4-シアノ-4-(ドデシルスルファニルチオカルボニルスルファニル)ペンタン酸をナノチタニア(n-TiO2)表面に配位させたものをRAFT剤として使用して、メチルメタクリレートをRAFT重合することにより、n-TiO2/ポリメチルメタクリレート(PMMA)ナノコンポジットを形成したことが記載されている。 Non-Patent Document 3 (Polymer 51 (2010) 5345-5351) describes the formation of an n-TiO 2 /polymethyl methacrylate (PMMA) nanocomposite by RAFT polymerization of methyl methacrylate using 4-cyano-4-(dodecylsulfanylthiocarbonylsulfanyl)pentanoic acid coordinated to the surface of nanotitania (n-TiO 2 ) as a RAFT agent.
非特許文献4(J. Mater. Chem. C, 2013, 1, 484-492)には、2-(((ドデシルチオ)カルボノチオイル)チオ)-2-メチルプロパン酸をルチル型TiO2ナノ粒子に配位させたものをRAFT剤として使用して、スチレンをRAFT重合することにより、ルチル型TiO2-ポリスチレンコンポジットを形成したことが記載されている。 Non-Patent Document 4 (J. Mater. Chem. C, 2013, 1, 484-492) describes the formation of a rutile TiO 2 -polystyrene composite by RAFT polymerization of styrene using 2-(((dodecylthio)carbonothioyl)thio)-2-methylpropanoic acid coordinated to rutile TiO 2 nanoparticles as a RAFT agent.
本開示は、水などの極性の高い溶媒中でのRAFT重合のRAFT剤として用いることができ、金属酸化物などの多様な基材の表面修飾に応用することができる、新規化合物を提供することを目的とする。 The present disclosure aims to provide novel compounds that can be used as RAFT agents for RAFT polymerization in highly polar solvents such as water, and that can be applied to the surface modification of a variety of substrates, such as metal oxides.
本発明者らは、特定のリン含有基を有するチオカルボニルチオ基含有化合物が、水などの極性の高い溶媒中でRAFT重合を効果的に進行させること、及びそのリン含有基を介して当該化合物で、又は当該化合物を用いたRAFT重合により得られるポリマーで、金属酸化物などの基材の表面を修飾できることを見出した。 The inventors have discovered that thiocarbonylthio group-containing compounds with specific phosphorus-containing groups effectively promote RAFT polymerization in highly polar solvents such as water, and that the surfaces of substrates such as metal oxides can be modified with the compounds via the phosphorus-containing groups, or with polymers obtained by RAFT polymerization using the compounds.
本発明は以下の態様を包含する。 The present invention includes the following aspects:
[態様1]
式(1)
R1は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、
R2は、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、及びホスホン酸エステル基からなる群より選ばれるリン含有基を含む1価の有機基であり、
Xは、単結合、S、O、及びNR3からなる群より選ばれ、
R3は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R1と結合して複素環構造を形成してもよい。)
で表される化合物。
[態様2]
式(1)中、Xが単結合又はSである、態様1に記載の化合物。
[態様3]
式(1)中、R2が、式(2)
R4は、水素原子、シアノ基、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基、カルボキシ基、炭素原子数2~20の置換又は非置換のアルコキシカルボニル基、及び炭素原子数7~20の置換又は非置換のアリールオキシカルボニル基からなる群より選ばれ、
R5は、水素原子、及び炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基からなる群より選ばれ、
R6は、炭素原子数1~30の2価の有機基であり、
R7は、水素原子、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、及び炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基からなる群より選ばれ、
Yは、単結合、及びOからなる群より選ばれ、
*は、硫黄原子との結合部位を表す。)
で表される、態様1又は2のいずれかに記載の化合物。
[態様4]
式(2)中、YがOであり、R7が水素原子である、態様3に記載の化合物。
[態様5]
式(2)中、R6がアミド結合又はエーテル結合を含む、態様3又は4のいずれかに記載の化合物。
[態様6]
前記化合物が、式(3)
[態様7]
態様1~6のいずれかに記載の化合物を用いてRAFT重合を行うことを含む、ポリマーの製造方法。
[態様8]
前記RAFT重合が水性溶媒中で行われる、態様7に記載のポリマーの製造方法。
[態様9]
式(4)
R1は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、
R2は、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、及びホスホン酸エステル基からなる群より選ばれるリン含有基を含む1価の有機基であり、
Xは、単結合、S、O、及びNR3からなる群より選ばれ、
R3は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R1と結合して複素環構造を形成してもよく、
Polyは、ポリマー鎖を表す。)
で表されるポリマー。
[態様10]
式(4)中、Polyが両性イオン構造を有する構造単位を少なくとも1つ含む、態様9に記載のポリマー。
[態様11]
酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びヒドロキシアパタイトからなる群より選ばれる無機基材と、態様9又は10のいずれかに記載のポリマーとを含む複合材料であって、前記ポリマーの前記リン含有基を介して前記無機基材の表面が前記ポリマーで修飾されている、複合材料。
[態様12]
酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びヒドロキシアパタイトからなる群より選ばれる無機基材と、態様9又は10のいずれかに記載のポリマーとを、pH7以上の水性溶媒中で接触させることを含む、ポリマーで表面が修飾された複合材料の製造方法。
[態様13]
酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びヒドロキシアパタイトからなる群より選ばれる無機基材と、態様1~6のいずれかに記載の化合物とを含む固相RAFT剤であって、前記化合物の前記リン含有基を介して前記無機基材の表面が前記化合物で修飾されている、固相RAFT剤。
[態様14]
態様13に記載の固相RAFT剤を用いてRAFT重合を行うことを含む、ポリマーの製造方法。
[態様15]
前記RAFT重合が水性溶媒中で行われる、態様14に記載のポリマーの製造方法。
[Aspect 1]
Formula (1)
R1 is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted aryl groups, and substituted or unsubstituted heteroaryl groups;
R2 is a monovalent organic group containing a phosphorus-containing group selected from the group consisting of a phosphate group, a phosphonate group, a phosphate ester group, and a phosphonate ester group;
X is selected from the group consisting of a single bond, S, O, and NR3 ;
R3 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and may combine with R1 to form a heterocyclic structure.
A compound represented by the formula:
[Aspect 2]
The compound according to embodiment 1, wherein X in formula (1) is a single bond or S.
[Aspect 3]
In formula (1), R 2 is a group represented by formula (2):
R 4 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carboxy group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms;
R5 is selected from the group consisting of a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms;
R6 is a divalent organic group having 1 to 30 carbon atoms;
R7 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms;
Y is selected from the group consisting of a single bond and O;
* indicates the bonding site with the sulfur atom.)
3. The compound according to any one of aspects 1 or 2, represented by:
[Aspect 4]
A compound according to embodiment 3, wherein in formula (2), Y is O and R 7 is a hydrogen atom.
[Aspect 5]
A compound according to any one of Aspects 3 and 4, wherein in formula (2), R 6 contains an amide bond or an ether bond.
[Aspect 6]
The compound is represented by formula (3)
[Aspect 7]
A method for producing a polymer, comprising carrying out RAFT polymerization using a compound according to any one of aspects 1 to 6.
[Aspect 8]
8. The method of producing a polymer according to claim 7, wherein the RAFT polymerization is carried out in an aqueous solvent.
[Aspect 9]
Formula (4)
R1 is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted aryl groups, and substituted or unsubstituted heteroaryl groups;
R2 is a monovalent organic group containing a phosphorus-containing group selected from the group consisting of a phosphate group, a phosphonate group, a phosphate ester group, and a phosphonate ester group;
X is selected from the group consisting of a single bond, S, O, and NR3 ;
R3 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and may combine with R1 to form a heterocyclic structure;
Poly represents a polymer chain.
A polymer represented by the formula:
[Aspect 10]
A polymer according to aspect 9, wherein in formula (4), Poly contains at least one structural unit having a zwitterionic structure.
[Aspect 11]
11. A composite material comprising an inorganic substrate selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, and hydroxyapatite, and the polymer according to either of Aspects 9 or 10, wherein a surface of the inorganic substrate is modified with the polymer via the phosphorus-containing group of the polymer.
[Aspect 12]
A method for producing a composite material whose surface is modified with a polymer, the method comprising contacting an inorganic substrate selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, and hydroxyapatite with the polymer according to either of Aspects 9 or 10 in an aqueous solvent having a pH of 7 or higher.
[Aspect 13]
A solid-phase RAFT agent comprising an inorganic substrate selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, and hydroxyapatite, and the compound according to any one of Aspects 1 to 6, wherein the surface of the inorganic substrate is modified with the compound via the phosphorus-containing group of the compound.
[Aspect 14]
14. A method for producing a polymer, comprising carrying out RAFT polymerization using the solid-phase RAFT agent of aspect 13.
[Aspect 15]
15. The method for producing a polymer according to claim 14, wherein the RAFT polymerization is carried out in an aqueous solvent.
本発明の化合物は、水などの極性の高い溶媒中でのRAFT重合のRAFT剤として用いることができ、金属酸化物などの多様な基材の表面修飾にも応用することができる。 The compounds of the present invention can be used as RAFT agents for RAFT polymerization in highly polar solvents such as water, and can also be applied to the surface modification of a variety of substrates, such as metal oxides.
上述の記載は、本発明の全ての実施態様及び本発明に関する全ての利点を開示したものとみなしてはならない。 The above description should not be considered as a disclosure of all embodiments of the present invention or all advantages associated with the present invention.
以下、本発明の代表的な実施態様を例示する目的でより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施態様に限定されない。 The present invention will be described in more detail below for the purpose of illustrating representative embodiments, but the present invention is not limited to these embodiments.
本開示において「(メタ)アクリル」とはアクリル又はメタクリルを意味し、「(メタ)アクリレート」とはアクリレート又はメタクリレートを意味する。 In this disclosure, "(meth)acrylic" means acrylic or methacrylic, and "(meth)acrylate" means acrylate or methacrylate.
[化合物]
一実施態様の化合物は、式(1)
In one embodiment, the compound has the formula (1)
式(1)において、R1は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R2は、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、及びホスホン酸エステル基からなる群より選ばれるリン含有基を含む1価の有機基であり、Xは、単結合、S、O、及びNR3からなる群より選ばれ、R3は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R1と結合して複素環構造を形成してもよい。 In formula (1), R1 is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group; R2 is a monovalent organic group containing a phosphorus-containing group selected from the group consisting of a phosphate group, a phosphonate group, a phosphate ester group, and a phosphonate ester group; X is selected from the group consisting of a single bond, S, O, and NR3 ; R3 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and may combine with R1 to form a heterocyclic structure.
この実施態様の化合物は、特定のリン含有基を有することから、水などの高い極性溶媒への溶解性が高く、チオカルボニルチオ基(-(C=S)-S-)を有することからRAFT剤として機能する。そのため、この化合物を用いて水性溶媒中でRAFT重合を有利に行うことができる。更に、この化合物のリン含有基を介して、当該化合物で、又は当該化合物を用いてRAFT重合することにより得られるポリマーで、金属酸化物などの基材の表面を修飾することができる。 The compound of this embodiment has a specific phosphorus-containing group, making it highly soluble in highly polar solvents such as water, and it functions as a RAFT agent due to the thiocarbonylthio group (-(C=S)-S-). Therefore, RAFT polymerization can be advantageously carried out using this compound in an aqueous solvent. Furthermore, via the phosphorus-containing group of this compound, the surface of a substrate such as a metal oxide can be modified with this compound or with a polymer obtained by RAFT polymerization using this compound.
R1は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれる。 R 1 is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted aryl groups, and substituted or unsubstituted heteroaryl groups.
R1の非置換アルキル基は、好ましくは炭素原子数1~20のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数1~16のアルキル基である。炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-テトラデシル基、及びn-ヘキサデシル基が挙げられる。 The unsubstituted alkyl group for R1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms. Examples of alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, a 2-ethylhexyl group, an n-decyl group, an n-dodecyl group, an n-tetradecyl group, and an n-hexadecyl group.
R1の非置換アリール基は、好ましくは炭素原子数6~20のアリール基であり、より好ましくは炭素原子数6~14のアリール基である。炭素原子数6~20のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、アントリル基、及びフェナントレニル基が挙げられる。 The unsubstituted aryl group for R1 is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, a naphthyl group, a fluorenyl group, an anthryl group, and a phenanthrenyl group.
R1の非置換ヘテロアリール基は、好ましくは炭素原子数3~20のヘテロアリール基であり、より好ましくは炭素原子数4~14のヘテロアリール基である。炭素原子数3~20のヘテロアリール基としては、例えば、フラニル基、ピリジル基、チエニル基、キノリニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、及びインドリル基が挙げられる。 The unsubstituted heteroaryl group for R1 is preferably a heteroaryl group having 3 to 20 carbon atoms, more preferably a heteroaryl group having 4 to 14 carbon atoms. Examples of heteroaryl groups having 3 to 20 carbon atoms include a furanyl group, a pyridyl group, a thienyl group, a quinolinyl group, a pyrazinyl group, a triazinyl group, a benzofuranyl group, a benzothienyl group, and an indolyl group.
R1の置換アルキル基、置換アリール基、及び置換ヘテロアリール基は、それぞれ、上記非置換アルキル基、非置換アリール基、及び非置換ヘテロアリール基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されたものである。置換基としては、例えば、アルキル基(置換アルキル基の場合を除く)、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシアルキル基(置換アルキル基の場合を除く)、アルコキシアルキル基(置換アルキル基の場合を除く)、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、イソシアナト基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、エポキシ基、及びシリル基が挙げられる。置換基の炭素原子数の合計は、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~18である。 The substituted alkyl group, substituted aryl group, and substituted heteroaryl group for R1 are the unsubstituted alkyl group, unsubstituted aryl group, and unsubstituted heteroaryl group, respectively, in which one or more hydrogen atoms have been substituted with a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (excluding substituted alkyl groups), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a hydroxyalkyl group (excluding substituted alkyl groups), an alkoxyalkyl group (excluding substituted alkyl groups), a halogen group, a cyano group, a nitro group, an isocyanato group, an acyl group, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, an epoxy group, and a silyl group. The total number of carbon atoms in the substituent is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 18.
R1は、好ましくは、置換基を有してもよい炭素原子数1~16のアルキル基、置換基を有してもよい炭素原子数6~14のアリール基、又は置換基を有してもよい炭素原子数4~14のヘテロアリール基であり、より好ましくは、置換基を有してもよい炭素原子数1~16のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素原子数6~14のアリール基である。 R1 is preferably an alkyl group of 1 to 16 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group of 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent, or a heteroaryl group of 4 to 14 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably an alkyl group of 1 to 16 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group of 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
R1が置換基を有する実施態様において、置換基は、好ましくは、炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシ基、シアノ基、又はシリル基である。 In embodiments in which R 1 has a substituent, the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a silyl group.
R2は、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、及びホスホン酸エステル基からなる群より選ばれるリン含有基を含む1価の有機基である。式(1)で表される化合物をRAFT剤としてRAFT重合に使用するとき又はRAFT重合を行った後に、リン含有基であるリン酸エステル基又はホスホン酸エステル基を加水分解して、リン酸基又はホスホン酸基に変換してもよい。 R2 is a monovalent organic group containing a phosphorus-containing group selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a phosphoric ester group, and a phosphonic acid ester group. When the compound represented by formula (1) is used as a RAFT agent for RAFT polymerization or after RAFT polymerization, the phosphorus-containing group, that is, the phosphoric ester group or the phosphonic acid ester group, may be hydrolyzed to convert it to a phosphoric acid group or a phosphonic acid group.
R2のリン含有基は、好ましくはリン酸基又はホスホン酸基であり、より好ましくはリン酸基である。リン酸基及びホスホン酸基は、水などの高い極性溶媒に対する式(1)で表される化合物の溶解性をより高めることができる。 The phosphorus-containing group of R2 is preferably a phosphate group or a phosphonate group, more preferably a phosphate group. The phosphate group and the phosphonate group can further increase the solubility of the compound represented by formula (1) in highly polar solvents such as water.
R2の炭素原子数は、好ましくは1~60であり、より好ましくは1~40であり、更に好ましくは1~30である。R2の炭素原子数を1~60とすることにより、水などの高い極性溶媒に対する式(1)で表される化合物の溶解性を高めることができる。 The number of carbon atoms in R2 is preferably 1 to 60, more preferably 1 to 40, and even more preferably 1 to 30. By making the number of carbon atoms in R2 1 to 60, the solubility of the compound represented by formula (1) in highly polar solvents such as water can be increased.
一実施態様では、R2は、式(2)
式(2)において、R4は、水素原子、シアノ基、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基、カルボキシ基、炭素原子数2~20の置換又は非置換のアルコキシカルボニル基、及び炭素原子数7~20の置換又は非置換のアリールオキシカルボニル基からなる群より選ばれ、R5は、水素原子、及び炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基からなる群より選ばれ、R6は、炭素原子数1~30の2価の有機基であり、R7は、水素原子、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、及び炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基からなる群より選ばれ、Yは、単結合、及びOからなる群より選ばれ、*は、硫黄原子との結合部位を表す。 In formula (2), R4 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carboxy group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms; R5 is selected from the group consisting of a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; R6 is a divalent organic group having 1 to 30 carbon atoms; R7 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms; Y is selected from the group consisting of a single bond and O; and * represents a bonding site with the sulfur atom.
R4は、水素原子、シアノ基、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基、カルボキシ基、炭素原子数2~20の置換又は非置換のアルコキシカルボニル基、及び炭素原子数7~20の置換又は非置換のアリールオキシカルボニル基からなる群より選ばれる。 R4 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carboxy group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms.
R4の炭素原子数1~20の非置換アルキル基、及びR4の炭素原子数6~20の非置換アリール基は、R1について説明したものと同じである。 The unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms for R 4 and the unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms for R 4 are the same as those described for R 1 .
R4の炭素原子数2~20の非置換アルコキシカルボニル基としては、例えば、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec-ブトキシカルボニル基、及びtert-ブトキシカルボニル基が挙げられる。非置換アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、好ましくは2~13である。 Examples of the unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms for R4 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, an n-butoxycarbonyl group, an isobutoxycarbonyl group, a sec-butoxycarbonyl group, and a tert-butoxycarbonyl group. The number of carbon atoms in the unsubstituted alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 13.
R4の炭素原子数7~20の非置換アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、アントリルオキシカルボニル基、及びフルオレニルオキシカルボニル基が挙げられる。 Examples of the unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms for R 4 include a phenyloxycarbonyl group, a naphthyloxycarbonyl group, an anthryloxycarbonyl group, and a fluorenyloxycarbonyl group.
R4の置換アルキル基、置換アリール基、置換アルコキシカルボニル基、及び置換アリールオキシカルボニル基は、それぞれ、非置換アルキル基、非置換アリール基、非置換アルコキシカルボニル基、及び非置換アリールオキシカルボニル基の1つ以上の水素原子が置換基で置換されたものである。置換基としては、例えば、アルキル基(置換アルキル基及び置換アルコキシカルボニル基の場合を除く)、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシアルキル基(置換アルキル基及び置換アルコキシカルボニル基の場合を除く)、アルコキシアルキル基(置換アルキル基及び置換アルコキシカルボニル基の場合を除く)、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、イソシアナト基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、エポキシ基、及びシリル基が挙げられる。置換基の炭素原子数の合計は、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~18である。 The substituted alkyl group, substituted aryl group, substituted alkoxycarbonyl group, and substituted aryloxycarbonyl group of R4 are, respectively, unsubstituted alkyl groups, unsubstituted aryl groups, unsubstituted alkoxycarbonyl groups, and unsubstituted aryloxycarbonyl groups in which one or more hydrogen atoms have been substituted with a substituent. Examples of the substituent include alkyl groups (excluding substituted alkyl groups and substituted alkoxycarbonyl groups), hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, hydroxyalkyl groups (excluding substituted alkyl groups and substituted alkoxycarbonyl groups), alkoxyalkyl groups (excluding substituted alkyl groups and substituted alkoxycarbonyl groups), halogen groups, cyano groups, nitro groups, isocyanato groups, acyl groups, carboxy groups, alkoxycarbonyl groups, epoxy groups, and silyl groups. The total number of carbon atoms in the substituents is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 18.
R5は、水素原子、及び炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基からなる群より選ばれる。R5の炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基は、R4について説明したものと同じである。 R5 is selected from the group consisting of a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. The substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R5 is the same as that described for R4 .
R2とチオカルボニルチオ基を構成する硫黄原子(S)との間の結合(S-R2)は、RAFT重合の際にホモリティックに開裂し、フリーラジカルとして脱離したR2・は、重合開始種となって重合を再開始する。そのため、式(2)において、チオカルボニルチオ基を構成する硫黄原子(S)の結合炭素原子上の置換基であるR4及びR5は、重合させるモノマーの種類、具体的にはモノマーの重合活性に応じて適宜選択される。 The bond (S-R 2 ) between R 2 and the sulfur atom (S) constituting the thiocarbonylthio group is homolytically cleaved during RAFT polymerization, and R 2 ·, which is eliminated as a free radical, becomes a polymerization initiation species and restarts the polymerization. Therefore, in formula (2), R 4 and R 5 , which are substituents on the bonded carbon atom of the sulfur atom (S) constituting the thiocarbonylthio group, are appropriately selected depending on the type of monomer to be polymerized, specifically, the polymerization activity of the monomer.
例えば、メチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレンなどの高活性モノマーのRAFT重合においては、R4は、シアノ基、炭素原子数6~20の置換若しくは非置換のアリール基、カルボキシ基、炭素原子数2~20の置換若しくは非置換のアルコキシカルボニル基、又は炭素原子数7~20の置換若しくは非置換のアリールオキシカルボニル基であることが好ましく、シアノ基、又は炭素原子数6~20の置換若しくは非置換のアリール基であることがより好ましい。この実施態様において、R5は、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基であることが好ましい。 For example, in the RAFT polymerization of highly active monomers such as methyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid, (meth)acrylamide, acrylonitrile, and styrene, R4 is preferably a cyano group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carboxy group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, and more preferably a cyano group or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. In this embodiment, R5 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
一方で、酢酸ビニル、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾールなどの低活性モノマーのRAFT重合においては、R4及びR5の少なくとも一方が水素原子であるか、あるいはR4及びR5が炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基であることが好ましい。 On the other hand, in the RAFT polymerization of low activity monomers such as vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcarbazole, it is preferred that at least one of R4 and R5 is a hydrogen atom, or that R4 and R5 are a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
一実施態様では、R4は、シアノ基であり、R5は、炭素原子数1~20の非置換アルキル基である。 In one embodiment, R 4 is a cyano group and R 5 is an unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
R6は、炭素原子数1~30の2価の有機基である。 R6 is a divalent organic group having 1 to 30 carbon atoms.
R6としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基などの炭素原子数1~20の直鎖状アルカンジイル基;シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、ノルボルナンジイル基、アダマンタンジイル基などの炭素原子数5~20の飽和環状炭化水素基;及びフェニレン基、ナフチレン基などの炭素原子数6~30の不飽和環状炭化水素基が挙げられる。これらの基の水素原子の一部又は全てが、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基、又は酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ハロゲン原子などのヘテロ原子を含有する基で置換されていてもよい。R6を構成する炭素原子の間に、酸素原子、窒素原子、硫黄原子などのヘテロ原子が介在していてもよい。 Examples of R6 include linear alkanediyl groups having 1 to 20 carbon atoms, such as methylene, ethylene, propane-1,3-diyl, butane-1,4-diyl, hexane-1,6-diyl, octane-1,8-diyl, decane-1,10-diyl, and dodecane-1,12-diyl; saturated cyclic hydrocarbon groups having 5 to 20 carbon atoms, such as cyclopentanediyl, cyclohexanediyl, norbornanediyl, and adamantanediyl; and unsaturated cyclic hydrocarbon groups having 6 to 30 carbon atoms, such as phenylene and naphthylene. Some or all of the hydrogen atoms in these groups may be substituted with alkyl groups, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, and tert-butyl, or with groups containing heteroatoms, such as oxygen, sulfur, nitrogen, and halogen atoms. A heteroatom such as an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom may be present between the carbon atoms constituting R6 .
R6は、アミド結合又はエーテル結合を含むことが好ましく、アミド結合を含むことがより好ましい。アミド結合及びエーテル結合は、水などの高い極性溶媒に対する式(1)で表される化合物の溶解性を高めることができる。エーテル結合を含むR6としては、例えば、ポリエチレンオキシド(PEO)、ポリプロピレンオキシド(PPO)などのポリアルキレンオキシド部位を含む基が挙げられる。 R6 preferably contains an amide bond or an ether bond, more preferably an amide bond. The amide bond and the ether bond can increase the solubility of the compound represented by formula (1) in highly polar solvents such as water. Examples of R6 containing an ether bond include groups containing a polyalkylene oxide moiety such as polyethylene oxide (PEO) and polypropylene oxide (PPO).
R7は、水素原子、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、及び炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基からなる群より選ばれる。R7の炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、及び炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基は、R4について説明したものと同じである。 R7 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. The substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms of R7 are the same as those described for R4 .
R7は、好ましくは水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1~16のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素原子数6~14のアリール基であり、より好ましくは水素原子である。 R7 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent, and more preferably a hydrogen atom.
Yは、単結合、及びOからなる群より選ばれる。Yが単結合である場合、リン含有基はホスホン酸基又はホスホン酸エステル基である。YがOである場合、リン含有基はリン酸基又はリン酸エステル基である。 Y is selected from the group consisting of a single bond and O. When Y is a single bond, the phosphorus-containing group is a phosphonic acid group or a phosphonic acid ester group. When Y is O, the phosphorus-containing group is a phosphate group or a phosphate ester group.
一実施態様では、YはOであり、R7は水素原子である。 In one embodiment, Y is O and R 7 is a hydrogen atom.
Xは、単結合、S、O、及びNR3からなる群より選ばれる。XはR1と一緒になって、RAFT重合の際の付加-開裂反応の速度に影響する。 X is selected from the group consisting of a single bond, S, O, and NR3 . X together with R1 influences the rate of addition-fragmentation reactions during RAFT polymerization.
例えば、メチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレンなどの高活性モノマーのRAFT重合においては、Xは、単結合又はSであることが好ましい。Xが単結合である実施態様では、R1は、置換基を有してもよい炭素原子数6~14のアリール基であることが好ましい。XがSである実施態様では、R1は、置換基を有してもよい炭素原子数1~16のアルキル基であることが好ましい。 For example, in the RAFT polymerization of highly active monomers such as methyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid, (meth)acrylamide, acrylonitrile, and styrene, X is preferably a single bond or S. In embodiments where X is a single bond, R1 is preferably an optionally substituted aryl group having 6 to 14 carbon atoms. In embodiments where X is S, R1 is preferably an optionally substituted alkyl group having 1 to 16 carbon atoms.
一方で、酢酸ビニル、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾールなどの低活性モノマーのRAFT重合においては、Xは、O又はNR3であることが好ましい。XがOである実施態様では、R1は、置換基を有してもよい炭素原子数1~16のアルキル基であることが好ましい。XがNR3である実施態様では、R1は、置換基を有してもよい炭素原子数1~16のアルキル基であることが好ましい。 On the other hand, in RAFT polymerization of low activity monomers such as vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcarbazole, X is preferably O or NR3 . In an embodiment where X is O, R1 is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may have a substituent. In an embodiment where X is NR3 , R1 is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may have a substituent.
R3は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれる。R3の置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基は、及び置換又は非置換のヘテロアリール基は、R1について説明したものと同じである。 R3 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group. The substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl group, and substituted or unsubstituted heteroaryl group of R3 are the same as those described for R1 .
R3は、好ましくは、置換基を有してもよい炭素原子数1~16のアルキル基、又は置換基を有してもよい炭素原子数6~14のアリール基である。 R3 is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may have a substituent.
R3は、R1と結合して複素環構造を形成してもよい。複素環構造としては、例えば、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環などの飽和複素環、及びピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環などの不飽和複素環が挙げられる。複素環構造を構成する炭素原子上又はヘテロ原子上の水素原子の一部又は全てが、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などのアルキル基;又はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子で置換されていてもよい。 R3 may bond with R1 to form a heterocyclic structure. Examples of heterocyclic structures include saturated heterocyclic rings such as a pyrrolidine ring, an imidazolidine ring, a pyrazolidine ring, and a piperidine ring, and unsaturated heterocyclic rings such as a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, and a pyridine ring. Some or all of the hydrogen atoms on the carbon atoms or heteroatoms constituting the heterocyclic structure may be substituted with an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group; or a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine, or iodine.
一実施態様では、Xは単結合又はSである。 In one embodiment, X is a single bond or S.
一実施態様の化合物は、式(3)
[化合物の製造方法]
式(1)で表される化合物は、公知の方法で合成することができる。例えば、チオカルボニルチオ基とカルボキシ基とを有する化合物又はその誘導体と、リン含有基と水酸基又はアミノ基とを有する化合物との間で、エステル結合又はアミド結合を形成することにより、当該化合物を合成することができる。
[Method of producing the compound]
The compound represented by formula (1) can be synthesized by a known method, for example, by forming an ester bond or an amide bond between a compound having a thiocarbonylthio group and a carboxy group or a derivative thereof and a compound having a phosphorus-containing group and a hydroxyl group or an amino group.
エステル結合又はアミド結合の形成の際に、カルボキシ基を公知の活性化試薬を用いて活性化することができる。活性化試薬としては、例えば、N-ヒドロキシスクシンイミド(NHS)、塩化チオニル(SOCl2)、及び三臭化リン(PBr3)が挙げられる。N-ヒドロキシスクシンイミドは、活性化中間体としてN-スクシンイミジルエステルを形成する。塩化チオニル及び三臭化リンは、活性化中間体として酸ハロゲン化物を形成する。 For the formation of ester or amide bonds, carboxy groups can be activated using known activating reagents, such as N-hydroxysuccinimide (NHS), thionyl chloride (SOCl 2 ), and phosphorus tribromide (PBr 3 ). N-hydroxysuccinimide forms an N-succinimidyl ester as an activated intermediate. Thionyl chloride and phosphorus tribromide form an acid halide as an activated intermediate.
一例として、式(3)で表される化合物は、次にようにして得ることができる。チオカルボニルチオ基及びカルボキシ基を有する化合物として、4-シアノ-4-(フェニルカルボノチオイルチオ)ペンタン酸を、N-ヒドロキシスクシンイミドと反応させることにより、活性エステルであるN-スクシンイミジル4-シアノ-4-(フェニルカルボノチオイルチオ)ペンタノエート(RAFT-NHS)を合成する。次に、RAFT-NHSとO-ホスホリルエタノールアミンとを反応させることによりアミド結合を形成して、式(3)で表される化合物を合成する。 As an example, the compound represented by formula (3) can be obtained as follows. 4-cyano-4-(phenylcarbonothioylthio)pentanoic acid, a compound having a thiocarbonylthio group and a carboxy group, is reacted with N-hydroxysuccinimide to synthesize the activated ester N-succinimidyl 4-cyano-4-(phenylcarbonothioylthio)pentanoate (RAFT-NHS). Next, RAFT-NHS is reacted with O-phosphorylethanolamine to form an amide bond, synthesizing the compound represented by formula (3).
公知の縮合剤を用いてエステル結合又はアミド結合の形成を促進することもできる。縮合剤としては、例えば、N,N’-ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’-ジイソプロピルカルボジイミド、塩酸1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドなどのカルボジイミド系縮合剤;N,N’-カルボニルジイミダゾールなどのイミダゾール系縮合剤;及び4-(4,6-ジメトキシ-1,3,5-トリアジン-2-イル)-4-メチルモルホリニウムクロリド・n水和物(DMT-MM)などのトリアジン系縮合剤が挙げられる。 The formation of ester or amide bonds can also be promoted using known condensing agents. Examples of condensing agents include carbodiimide-based condensing agents such as N,N'-dicyclohexylcarbodiimide, N,N'-diisopropylcarbodiimide, and 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride; imidazole-based condensing agents such as N,N'-carbonyldiimidazole; and triazine-based condensing agents such as 4-(4,6-dimethoxy-1,3,5-triazin-2-yl)-4-methylmorpholinium chloride n-hydrate (DMT-MM).
別の実施態様では、式(1)で表される化合物は、チオカルボニルチオ基及び水酸基を有する化合物の水酸基を、モルホリノホスホロジクロリデートなどのリン酸化剤(ホスホリル化剤)を用いてリン酸化(ホスホリル化)することによって合成することもできる。チオカルボニルチオ基及び水酸基を有する化合物は、ポリエチレンオキシド(PEO)、ポリプロピレンオキシド(PPO)などのポリアルキレンオキシド部位を含んでもよい。チオカルボニルチオ基及び水酸基を有する化合物は、チオカルボニルチオ基及びカルボキシ基を有する化合物と、エタノールアミンなどのアルカノールアミンとの間でアミド結合を形成することによって得ることもできる。このアミド結合の形成には、上記の活性化試薬又は縮合剤を用いることもできる。 In another embodiment, the compound represented by formula (1) can be synthesized by phosphorylating the hydroxyl group of a compound having a thiocarbonylthio group and a hydroxyl group using a phosphating agent such as morpholinophosphorodichloridate. The compound having a thiocarbonylthio group and a hydroxyl group may contain a polyalkylene oxide moiety such as polyethylene oxide (PEO) or polypropylene oxide (PPO). The compound having a thiocarbonylthio group and a hydroxyl group can also be obtained by forming an amide bond between a compound having a thiocarbonylthio group and a carboxyl group and an alkanolamine such as ethanolamine. The activating reagent or condensing agent described above can also be used to form this amide bond.
[RAFT重合によるポリマーの製造方法]
式(1)で表される化合物を用いてRAFT重合を行うことによりポリマーを製造することができる。RAFT重合は、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、又は塊状重合であってよい。RAFT重合は、バッチ式又は連続式であってよい。
[Method for producing polymers by RAFT polymerization]
The compound of formula (1) can be used to produce a polymer by RAFT polymerization. The RAFT polymerization can be solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, or bulk polymerization. The RAFT polymerization can be batch or continuous.
〈モノマー〉
式(1)で表される化合物を用いたRAFT重合に適用されるモノマーとしては、RAFT重合が可能であるものであれば特に限定されず、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン、クロロスチレン、p-メトキシスチレン、p-ブトキシスチレン、スチレンスルホン酸及びその塩、酢酸ビニル、塩化ビニル、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾールなどのビニル化合物;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド;(メタ)アクリル酸;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどの不飽和ニトリル;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランなどのケイ素含有不飽和モノマー;マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸エステル、フマル酸、フマル酸エステルなどの不飽和カルボン酸並びにその酸無水物及びエステル;並びにマレイミド、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-プロピルマレイミド、N-ブチルマレイミド、N-ヘキシルマレイミド、N-オクチルマレイミド、N-ドデシルマレイミド、N-ステアリルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミドが挙げられる。これらのモノマーは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子で置換されていてもよい。これらのモノマーは、水酸基、カルボキシ基、エポキシ基、アミノ基、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、ホスホン酸エステル基、スルホニル基、スルホ基、アンモニウム基などの官能基を更に有してもよい。モノマーは、酸性基と塩基性基の両方を含む両性イオン構造を有してもよい。
<monomer>
The monomer to be applied to the RAFT polymerization using the compound represented by formula (1) is not particularly limited as long as it is capable of RAFT polymerization, and examples thereof include vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, chlorostyrene, p-methoxystyrene, p-butoxystyrene, styrenesulfonic acid and its salts, vinyl acetate, vinyl chloride, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcarbazole; alkyl(meth)acrylates such as methyl(meth)acrylate, ethyl(meth)acrylate, n-butyl(meth)acrylate, isobutyl(meth)acrylate, n-hexyl(meth)acrylate, n-octyl(meth)acrylate, isooctyl(meth)acrylate, 2-ethylhexyl(meth)acrylate, cyclohexyl(meth)acrylate, and isobornyl(meth)acrylate; acrylates; (meth)acrylamides such as (meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, and N-isopropyl(meth)acrylamide; (meth)acrylic acid; unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; silicon-containing unsaturated monomers such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; unsaturated carboxylic acids and acid anhydrides and esters thereof such as maleic acid, maleic anhydride, maleic acid esters, fumaric acid, and fumaric acid esters; and maleimides such as maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-butylmaleimide, N-hexylmaleimide, N-octylmaleimide, N-dodecylmaleimide, N-stearylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide. These monomers may be substituted with a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine, or iodine. These monomers may further have functional groups such as hydroxyl groups, carboxyl groups, epoxy groups, amino groups, phosphate groups, phosphonic acid groups, phosphate ester groups, phosphonate ester groups, sulfonyl groups, sulfo groups, ammonium groups, etc. The monomers may have zwitterionic structures containing both acidic and basic groups.
モノマーとして多官能モノマーを使用することもできる。多官能モノマーとしては、例えば、アリル(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの2官能(メタ)アクリレート;グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどの3官能(メタ)アクリレート;及びジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートなどの4つ以上の官能基を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。 Multifunctional monomers can also be used as monomers. Examples of multifunctional monomers include bifunctional (meth)acrylates such as allyl (meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, cyclohexanedimethanol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, and polyethylene glycol di(meth)acrylate; trifunctional (meth)acrylates such as glycerol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate; and (meth)acrylates with four or more functional groups such as ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and pentaerythritol tetra(meth)acrylate.
上記モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The above monomers may be used alone or in combination of two or more.
モノマーの使用量は、モノマーとRAFT剤として使用する式(1)で表される化合物とのモル比(モノマーのモル数/式(1)で表される化合物のモル数)と、モノマーの分子量との積が、目標とするポリマーの分子量となるように決定することができる。 The amount of monomer used can be determined so that the product of the molar ratio of the monomer to the compound represented by formula (1) used as the RAFT agent (number of moles of monomer/number of moles of compound represented by formula (1)) and the molecular weight of the monomer equals the target molecular weight of the polymer.
〈ラジカル重合開始剤〉
RAFT重合は、式(1)で表される化合物の存在下、公知のラジカル重合開始剤を用いて行うことができる。
<Radical Polymerization Initiator>
RAFT polymerization can be carried out using a known radical polymerization initiator in the presence of the compound represented by formula (1).
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシドなどの有機過酸化物;1,1’-アゾビス(シクロヘキサンカルボノニトリル)、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩、4,4’-アゾビス(4-シアノ吉草酸)、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)などのアゾ化合物;及びレドックス開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of radical polymerization initiators include organic peroxides such as benzoyl peroxide, cumene peroxide, and di-t-butyl peroxide; azo compounds such as 1,1'-azobis(cyclohexanecarbononitrile), 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile); and redox initiators. Radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
ラジカル重合開始剤の使用量は、RAFT剤として使用する式(1)で表される化合物とラジカル開始剤とのモル比(式(1)で表される化合物のモル数/ラジカル重合開始剤のモル数)が、一般に1以上、又は10以上、10,000以下、又は5,000以下となるように決定される。 The amount of radical polymerization initiator used is determined so that the molar ratio of the compound represented by formula (1) used as the RAFT agent to the radical initiator (number of moles of the compound represented by formula (1) / number of moles of the radical polymerization initiator) is generally 1 or more, or 10 or more, and 10,000 or less, or 5,000 or less.
〈溶媒〉
RAFT重合の溶媒として、有機溶媒又は水性溶媒を用いることができる。
<solvent>
As the solvent for RAFT polymerization, an organic solvent or an aqueous solvent can be used.
有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)などのケトン;メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)などのアルコール;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2-エトキシエチルアセテートなどのエステル;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド;及びジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミドが挙げられる。有機溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of organic solvents include ketones such as acetone and methyl ethyl ketone (MEK); alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol (IPA); ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 2-ethoxyethyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; and amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide. These organic solvents may be used alone or in combination.
水性溶媒としては、例えば、水、及び水と水溶性有機溶媒との混合物が挙げられる。水溶性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)などのアルコール;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド;及びジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミドが挙げられる。水溶性有機溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。水性溶媒中の水の含有量は、1質量%以上、2質量%以上、又は5質量%以上、100質量%以下、90質量%以下、又は80質量%以下とすることができる。 Examples of aqueous solvents include water and mixtures of water and water-soluble organic solvents. Examples of water-soluble organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol (IPA); ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; and amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide. Water-soluble organic solvents may be used alone or in combination. The water content in the aqueous solvent may be 1% by mass or more, 2% by mass or more, or 5% by mass or more, and 100% by mass or less, 90% by mass or less, or 80% by mass or less.
一実施態様では、RAFT重合は水性溶媒中で行われる。 In one embodiment, the RAFT polymerization is carried out in an aqueous solvent.
〈重合温度〉
重合温度は、一般に-20~200℃であり、40~160℃であることが好ましい。重合時間は、モノマーの重合活性、及びRAFT剤として使用する式(1)で表される化合物の種類に応じて適宜決定することができ、例えば、10分~120時間とすることができる。
<Polymerization temperature>
The polymerization temperature is generally −20 to 200° C., and preferably 40 to 160° C. The polymerization time can be appropriately determined depending on the polymerization activity of the monomer and the type of the compound represented by formula (1) used as the RAFT agent, and can be, for example, 10 minutes to 120 hours.
〈コポリマー〉
式(1)で表される化合物を用いてRAFT重合の特徴の一つであるブロックコポリマーを合成することもできる。例えば、第1のモノマーを重合させた後に、第2のモノマーを添加して重合させることにより、ジブロックコポリマーを合成することができる。その後、第3のモノマー、第4のモノマーなどを逐次重合させることによりマルチブロックコポリマーを合成することができる。別の実施態様では、コポリマーは、グラジエントコポリマー、ランダムコポリマー、又は統計コポリマーである。例えば、各モノマーを所定の比率で反応溶液に含ませる、又は重合の進行に伴い比率を変化させながら反応溶液に添加する、又はそれらの両方を行うことにより、グラジエントコポリマー、ランダムコポリマー、又は統計コポリマーを合成することができる。
<Copolymer>
The compound represented by formula (1) can also be used to synthesize a block copolymer, which is one of the characteristics of RAFT polymerization. For example, a diblock copolymer can be synthesized by polymerizing a first monomer followed by adding and polymerizing a second monomer. A multiblock copolymer can then be synthesized by sequentially polymerizing a third monomer, a fourth monomer, and so on. In another embodiment, the copolymer is a gradient copolymer, a random copolymer, or a statistical copolymer. For example, a gradient copolymer, a random copolymer, or a statistical copolymer can be synthesized by adding each monomer to the reaction solution in a predetermined ratio, or by adding the monomers to the reaction solution in a ratio that changes as the polymerization progresses, or by both.
[ポリマー]
一実施態様のポリマーは、
式(4)
In one embodiment the polymer is
Formula (4)
式(4)中、R1は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R2は、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、及びホスホン酸エステル基からなる群より選ばれるリン含有基を含む1価の有機基であり、Xは、単結合、S、O、及びNR3からなる群より選ばれ、R3は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R1と結合して複素環構造を形成してもよく、Polyは、ポリマー鎖を表す。 In formula (4), R1 is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group; R2 is a monovalent organic group containing a phosphorus-containing group selected from the group consisting of a phosphate group, a phosphonate group, a phosphate ester group, and a phosphonate ester group; X is selected from the group consisting of a single bond, S, O, and NR3 ; R3 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and may bond with R1 to form a heterocyclic structure; and Poly represents a polymer chain.
式(4)のR1、R2、及びXは、式(1)で表される化合物について説明したものと同じである。すなわち、式(4)で表されるポリマーは、式(1)で表される化合物のS-R2結合が開裂して生成したフラグメントがそれぞれポリマー鎖の末端に付加したものである。 R 1 , R 2 , and X in formula (4) are the same as those described for the compound represented by formula (1). That is, the polymer represented by formula (4) is a polymer in which the fragments generated by cleavage of the S-R 2 bond in the compound represented by formula (1) are added to the ends of the polymer chain.
式(4)のPolyは、上記モノマーに由来するポリマー鎖である。そのようなポリマー鎖としては、例えば、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ(N-ビニルピロリドン)、ポリ(メタ)アクリレート、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリアクリロニトリル、ポリマレイミドなどのホモポリマー、並びにこれらのブロックコポリマーが挙げられる。 Poly in formula (4) is a polymer chain derived from the above-mentioned monomer. Examples of such polymer chains include homopolymers such as polystyrene, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, poly(N-vinylpyrrolidone), poly(meth)acrylate, poly(meth)acrylic acid, polyacrylonitrile, and polymaleimide, as well as block copolymers thereof.
一実施態様では、式(4)中、Polyは両性イオン構造を有する構造単位を少なくとも1つ含む。両性イオン構造を有する構造単位を形成するモノマーとしては、例えば、2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンなどのラジカル重合性基を有するホスホリルコリンが挙げられる。 In one embodiment, in formula (4), Poly contains at least one structural unit having a zwitterionic structure. Examples of monomers that form structural units having a zwitterionic structure include phosphorylcholines having a radically polymerizable group, such as 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine.
ポリマーの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、モノマーとRAFT剤として使用する式(1)で表される化合物とのモル比(モノマーのモル数/式(1)で表される化合物のモル数)により制御することができる。ポリマーの多分散度(Mw/Mn)は、一般に、1以上、1.5以下、1.3以下、又は1.1以下である。本開示において「数平均分子量」及び「重量平均分子量」とは、それぞれ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により、測定対象であるポリマーについて一般に使用される標準物質で換算した分子量を意味する。 The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) of the polymer can be controlled by the molar ratio of the monomer to the compound represented by formula (1) used as the RAFT agent (number of moles of monomer/number of moles of compound represented by formula (1)). The polydispersity index (Mw/Mn) of the polymer is generally 1 or more, 1.5 or less, 1.3 or less, or 1.1 or less. In this disclosure, "number average molecular weight" and "weight average molecular weight" respectively refer to the molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using a standard substance commonly used for the polymer being measured.
[複合材料]
一実施態様の複合材料は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びヒドロキシアパタイトからなる群より選ばれる無機基材と、上記ポリマーとを含み、当該ポリマーのリン含有基を介して無機基材の表面が当該ポリマーで修飾されている。
[Composite material]
In one embodiment, the composite material comprises an inorganic substrate selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, and hydroxyapatite, and the above-described polymer, and the surface of the inorganic substrate is modified with the polymer via the phosphorus-containing group of the polymer.
一実施態様では、無機基材は酸化チタンを含む。 In one embodiment, the inorganic substrate comprises titanium oxide.
無機基材の形状及び大きさは特に限定されない。無機基材としては、例えば、粒子状、平板状、円盤状、球状、棒状、及びその他の不定形が挙げられる。 The shape and size of the inorganic substrate are not particularly limited. Examples of inorganic substrates include particles, plates, discs, spheres, rods, and other irregular shapes.
無機基材はナノ粒子であってもよい。ナノ粒子の平均一次粒子径は、一般に1~150nmである。ナノ粒子の平均一次粒子径は以下の手順で決定される。透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(SEM)を用いてナノ粒子を撮影して得られる電子顕微鏡写真において、100個のナノ粒子を無作為に選択する。各ナノ粒子の最大横断長をナノ粒子の直径と定義する。この直径を球換算した体積を計算し、100個のナノ粒子の累積体積分布における50%径(メジアン径、D50)をナノ粒子の平均一次粒子径とする。一実施態様では、ナノ粒子は酸化チタンナノ粒子である。 The inorganic substrate may be nanoparticles. The average primary particle diameter of the nanoparticles is generally 1 to 150 nm. The average primary particle diameter of the nanoparticles is determined by the following procedure: 100 nanoparticles are randomly selected from an electron micrograph obtained by photographing nanoparticles using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM). The maximum cross-sectional length of each nanoparticle is defined as the diameter of the nanoparticle. The volume of this diameter converted into a sphere is calculated, and the 50% diameter (median diameter, D 50 ) in the cumulative volume distribution of the 100 nanoparticles is defined as the average primary particle diameter of the nanoparticles. In one embodiment, the nanoparticles are titanium oxide nanoparticles.
[複合材料の製造方法]
一実施態様の複合材料の製造方法は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びヒドロキシアパタイトからなる群より選ばれる無機基材と、上記ポリマーとを、pH7以上の水性溶媒中で接触させることを含む。複合材料の表面は、当該ポリマーのリン含有基を介して当該ポリマーで修飾されている。
[Method of manufacturing composite material]
In one embodiment, a method for producing a composite material includes contacting an inorganic substrate selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, and hydroxyapatite with the polymer in an aqueous solvent having a pH of 7 or higher. The surface of the composite material is modified with the polymer via the phosphorus-containing groups of the polymer.
水性溶媒としては、RAFT重合に使用される溶媒として説明したものが挙げられる。 Aqueous solvents include those described above as solvents used in RAFT polymerization.
水性溶媒のpHは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物などのアルカリ化合物を用いて調整することができる。水性溶媒のpHをバッファー剤を用いて調整してもよい。水性溶媒のpHは、8以上、又は9以上であってよく、一般に11以下、又は10以下である。 The pH of the aqueous solvent can be adjusted using alkaline compounds such as alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide. The pH of the aqueous solvent may also be adjusted using a buffering agent. The pH of the aqueous solvent may be 8 or higher, or 9 or higher, and is generally 11 or lower, or 10 or lower.
接触温度は、0~60℃であることが好ましく、10~40℃であることがより好ましい。 The contact temperature is preferably 0 to 60°C, and more preferably 10 to 40°C.
[固相RAFT剤]
一実施態様の固相RAFT剤は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びヒドロキシアパタイトからなる群より選ばれる無機基材と、式(1)で表される化合物とを含み、当該化合物のリン含有基を介して無機基材の表面が当該化合物で修飾されている。
Solid-phase RAFT agents
In one embodiment, the solid-phase RAFT agent comprises an inorganic substrate selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, and hydroxyapatite, and a compound represented by formula (1), and the surface of the inorganic substrate is modified with the compound via a phosphorus-containing group of the compound.
固相RAFT剤の無機基材は、複合材料について説明したものと同じである。 The inorganic substrate of the solid-phase RAFT agent is the same as that described for the composite material.
固相RAFT剤は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びヒドロキシアパタイトからなる群より選ばれる無機基材と、式(1)で表される化合物とを、pH7以上の水性溶媒中で接触させることにより製造することができる。水性媒体及びそのpH、並びに接触温度については、複合材料の製造方法について説明したものと同じである。 The solid-phase RAFT agent can be produced by contacting an inorganic substrate selected from the group consisting of titanium oxide, zirconium oxide, and hydroxyapatite with a compound represented by formula (1) in an aqueous solvent having a pH of 7 or higher. The aqueous medium, its pH, and the contact temperature are the same as those described for the method for producing a composite material.
[固相RAFT剤を用いたRAFT重合によるポリマーの製造方法]
上記固相RAFT剤を用いてRAFT重合を行うことによりポリマーを製造することができる。このポリマーは、ポリマー鎖の末端に固相RAFT剤のフラグメントが結合した複合材料の形態であってもよい。この実施態様のRAFT重合に使用するモノマー、ラジカル重合開始剤、溶媒、及び重合温度については、式(1)で表される化合物を用いたRAFT重合によるポリマーの製造方法について説明したものと同じである。
[Method for producing polymers by RAFT polymerization using solid-phase RAFT agents]
A polymer can be produced by RAFT polymerization using the solid-phase RAFT agent. This polymer may be in the form of a composite material in which fragments of the solid-phase RAFT agent are bound to the ends of the polymer chain. The monomers, radical polymerization initiator, solvent, and polymerization temperature used in the RAFT polymerization of this embodiment are the same as those described for the method for producing a polymer by RAFT polymerization using the compound represented by formula (1).
一実施態様では、固相RAFT剤を用いたRAFT重合は水性溶媒中で行われる。 In one embodiment, RAFT polymerization using a solid-phase RAFT agent is carried out in an aqueous solvent.
本開示の化合物、ポリマー、複合材料、及び固相RAFT剤は、超音波増感剤、光触媒、機能性細胞シート、薬物輸送キャリア、メカノケミカル材料、温度センサー、分離膜、保水剤などの水系で使用することができる機能性材料の製造に好適に使用することができる。 The compounds, polymers, composite materials, and solid-phase RAFT agents disclosed herein can be suitably used in the production of functional materials that can be used in aqueous systems, such as ultrasound sensitizers, photocatalysts, functional cell sheets, drug transport carriers, mechanochemical materials, temperature sensors, separation membranes, and water retention agents.
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail below based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
例1 RAFT剤の合成
O-ホスホリルエタノールアミン(O-PEA、0.388g、2.7mmol)を炭酸ナトリウムバッファー(pH9、25mL)に溶解させた。N-スクシンイミジル4-シアノ-4-(フェニルカルボノチオイルチオ)ペンタノエート(RAFT-NHS、0.94g、2.5mmol)を50mLのDMSOに溶解させた。得られた二つの溶液をナスフラスコ中で混合し、遮光しながら一晩室温で撹拌して反応させた。反応後、逆相クロマトグラフィーを用いた精製を行った。具体的には、最初に100%の水を用いて、反応溶液中のDMSO、塩類、及び未反応のO-PEAを除去し、次にメタノール:水=1:1(体積比)の混合溶媒を用いて、生成物と未反応のRAFT-NHSを分離回収した。エバポレーターを用いて生成物を含む回収物からメタノールを減圧留去し、残存した水を凍結乾燥により除去して、例1のRAFT剤を収率61%で得た。反応式を以下に示す。
Example 1: Synthesis of RAFT Agent O-phosphorylethanolamine (O-PEA, 0.388 g, 2.7 mmol) was dissolved in sodium carbonate buffer (pH 9, 25 mL). N-succinimidyl 4-cyano-4-(phenylcarbonothioylthio)pentanoate (RAFT-NHS, 0.94 g, 2.5 mmol) was dissolved in 50 mL of DMSO. The two resulting solutions were mixed in a recovery flask and reacted overnight at room temperature while being protected from light. After the reaction, the reaction solution was purified using reverse-phase chromatography. Specifically, DMSO, salts, and unreacted O-PEA were first removed using 100% water. Then, the product and unreacted RAFT-NHS were separated and recovered using a 1:1 (volume ratio) mixed solvent of methanol and water. Methanol was removed under reduced pressure from the recovered product using an evaporator, and the remaining water was removed by freeze-drying to obtain the RAFT agent of Example 1 in a yield of 61%. The reaction scheme is shown below.
例1のRAFT剤の1H-NMR(400MHz、D2O)チャートを図1に示す。
1H-NMR(400MHz、D2O):δ=7.90(d,2H,benzene),7.66(t,1H,benzene),7.47(t,2H,benzene),3.92(d,2H,-CH
2-O-),3.42(t,2H,-NH-CH
2-),2.62-2.50(m,4H,-CH
2-CH
2-C(=O)-),1.92(s,3H,CH
3).
The 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) chart of the RAFT agent of Example 1 is shown in FIG.
1 H-NMR (400 MHz, D 2 O): δ = 7.90 (d, 2H, benzene), 7.66 (t, 1H, benzene), 7.47 (t, 2H, benzene), 3.92 (d, 2H, -C H 2 -O-), 3.42 (t, 2H, -NH-C H 2 -), 2.62-2.50 (m, 4H, -C H 2 -C H 2 -C(=O)-), 1.92 (s, 3H, C H 3 ).
例1のRAFT剤のUV-Visスペクトルを図2Aに示す。原料として使用したRAFT-NHSのUV-Visスペクトルを図2Bに示す。これらのUV-Visスペクトルは、試料濃度10mmol/LのDMSO溶液を用いて測定した。例1のRAFT剤において、ジチオベンゾエート基由来の極大吸収波長(λmax=514nm)は、原料として使用したRAFT-NHSのジチオベンゾエート基由来の極大吸収波長(λmax=513nm)から殆どシフトしておらず、モル吸光係数も同等であることから、例1のRAFT剤においてもRAFT構造が保持されていることが分かった。 Figure 2A shows the UV-Vis spectrum of the RAFT agent of Example 1. Figure 2B shows the UV-Vis spectrum of RAFT-NHS used as the starting material. These UV-Vis spectra were measured using a DMSO solution with a sample concentration of 10 mmol/L. In the RAFT agent of Example 1, the maximum absorption wavelength (λmax = 514 nm) derived from the dithiobenzoate group hardly shifts from the maximum absorption wavelength (λmax = 513 nm) derived from the dithiobenzoate group of RAFT-NHS used as the starting material, and the molar extinction coefficients are also equivalent, indicating that the RAFT structure is maintained in the RAFT agent of Example 1.
例2 RAFT重合
例1のRAFT剤(4.06mg、10μmol)、2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(MPC)(0.3g、1.0mmol、MPCとRAFT剤のモル比(MPC/RAFT剤)=100)、及び水溶性アゾ重合開始剤V-501(4,4’-アゾビス(4-シアノ吉草酸)、0.56mg、2.0μmol)を秤量し、3mLの水に溶解させた。得られた溶液をシュレンク管に入れ、シュレンク管内を窒素雰囲気下にした後、70℃のオイルバスで15時間遮光しながらRAFT重合反応を行って、以下の構造のポリ(2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン)(PMPC)を得た。重合率は1H-NMR(400MHz、D2O)により、内部標準として用いたDMSOとMPCの二重結合の積分比の変化により求めたところ、99%であった。
Example 2 RAFT Polymerization The RAFT agent of Example 1 (4.06 mg, 10 μmol), 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine (MPC) (0.3 g, 1.0 mmol, molar ratio of MPC to RAFT agent (MPC/RAFT agent) = 100), and water-soluble azo polymerization initiator V-501 (4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid), 0.56 mg, 2.0 μmol) were weighed and dissolved in 3 mL of water. The resulting solution was placed in a Schlenk flask, and after purging the Schlenk flask with a nitrogen atmosphere, a RAFT polymerization reaction was carried out in an oil bath at 70°C for 15 hours while shielded from light, yielding poly(2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine) (PMPC) with the following structure. The polymerization rate was determined by 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) from the change in the integral ratio of the double bond between DMSO used as an internal standard and MPC, and was found to be 99%.
例2のPMPCの1H-NMR(400MHz、D2O)チャートを図3に示す。
1H-NMR(400MHz、D2O):δ=8.00(d,2H,benzene),7.73(t,1H,benzene),7.57(t,2H,benzene),4.33-4.13(br,594H,-O-CH
2-CH
2-O-P(=O)(-O-)-O-CH
2-),3.72(t,891H,-N+(CH
3)3),1.95(br,198H,-CH
2-C(CH3)-C(=O)-),1.13-0.96(br,277H,-CH2-C(CH
3)-C(=O)-).
The 1 H-NMR (400 MHz, D 2 O) chart of PMPC of Example 2 is shown in FIG.
1H -NMR (400MHz, D 2 O): δ = 8.00 (d, 2H, benzene), 7.73 (t, 1H, benzene), 7.57 (t, 2H, benzene), 4.33-4.13 (br, 594H, -O-C H 2 -C H 2 -O-P (=O) (-O - ) -O-C H 2 -), 3.72 (t, 891H, -N + (C H 3 ) 3 ), 1.95 (br, 198H, -C H 2 -C (CH 3 )-C(=O)-), 1.13-0.96 (br, 277H, -CH 2 -C(C H 3 )-C(=O)-).
PMPCの数平均分子量及び分子量分布は、溶離液としてpH7のリン酸バッファー(0.2M)を用いたゲル浸透クロマトグラフィーにより測定した。PMPC(2mg)をリン酸バッファー(1mL)に溶解させて測定試料を調製した。分子量の校正曲線は、既知分子量のポリエチレングリコールを用いて作成した。PMPCの理論分子量は30000であるところ、数平均分子量Mnは32600、重量平均分子量Mwは33900、分散度Mw/Mnは1.04であった。 The number-average molecular weight and molecular weight distribution of PMPC were measured by gel permeation chromatography using pH 7 phosphate buffer (0.2 M) as the eluent. The measurement sample was prepared by dissolving 2 mg of PMPC in 1 mL of phosphate buffer. A molecular weight calibration curve was created using polyethylene glycol of known molecular weight. While the theoretical molecular weight of PMPC is 30,000, the number-average molecular weight Mn was 32,600, the weight-average molecular weight Mw was 33,900, and the dispersity Mw/Mn was 1.04.
本開示の化合物、ポリマー、複合材料、及び固相RAFT剤は、超音波増感剤、光触媒、機能性細胞シート、薬物輸送キャリア、メカノケミカル材料、温度センサー、分離膜、保水剤などの水系で使用することができる機能性材料の製造に好適に使用することができる。 The compounds, polymers, composite materials, and solid-phase RAFT agents disclosed herein can be suitably used in the production of functional materials that can be used in aqueous systems, such as ultrasound sensitizers, photocatalysts, functional cell sheets, drug transport carriers, mechanochemical materials, temperature sensors, separation membranes, and water retention agents.
Claims (15)
R1は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、
R2は、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、及びホスホン酸エステル基からなる群より選ばれるリン含有基を含む1価の有機基であり、
Xは、単結合、S、O、及びNR3からなる群より選ばれ、
R3は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R1と結合して複素環構造を形成してもよい。)
で表される化合物であって、
式(1)中、Xが単結合又はSであり、
式(1)中、R 2 が、式(2)
R 4 は、シアノ基、炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基、カルボキシ基、炭素原子数2~20の置換又は非置換のアルコキシカルボニル基、及び炭素原子数7~20の置換又は非置換のアリールオキシカルボニル基からなる群より選ばれ、
R 5 は、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基からなる群より選ばれ、
R 6 は、炭素原子数1~30の2価の有機基であり、
R 7 は、水素原子、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、及び炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基からなる群より選ばれ、
Yは、単結合、及びOからなる群より選ばれ、
*は、硫黄原子との結合部位を表す。)
で表される化合物。 Formula (1)
R1 is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted aryl groups, and substituted or unsubstituted heteroaryl groups;
R2 is a monovalent organic group containing a phosphorus-containing group selected from the group consisting of a phosphate group, a phosphonate group, a phosphate ester group, and a phosphonate ester group;
X is selected from the group consisting of a single bond, S, O, and NR3 ;
R3 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and may combine with R1 to form a heterocyclic structure.
A compound represented by the formula:
In formula (1), X is a single bond or S;
In formula (1), R 2 is a group represented by formula (2):
R4 is selected from the group consisting of a cyano group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carboxy group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms;
R5 is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms ;
R6 is a divalent organic group having 1 to 30 carbon atoms ;
R7 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms ;
Y is selected from the group consisting of a single bond and O;
* indicates the bonding site with the sulfur atom.)
A compound represented by the formula:
R1は、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、
R2は、リン酸基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、及びホスホン酸エステル基からなる群より選ばれるリン含有基を含む1価の有機基であり、
Xは、単結合、S、O、及びNR3からなる群より選ばれ、
R3は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、及び置換又は非置換のヘテロアリール基からなる群より選ばれ、R1と結合して複素環構造を形成してもよく、
Polyは、ポリマー鎖を表す。)
で表されるポリマーであって、
式(4)中、Xが単結合又はSであり、
式(4)中、R 2 が、式(2)
R 4 は、シアノ基、炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基、カルボキシ基、炭素原子数2~20の置換又は非置換のアルコキシカルボニル基、及び炭素原子数7~20の置換又は非置換のアリールオキシカルボニル基からなる群より選ばれ、
R 5 は、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基からなる群より選ばれ、
R 6 は、炭素原子数1~30の2価の有機基であり、
R 7 は、水素原子、炭素原子数1~20の置換又は非置換のアルキル基、及び炭素原子数6~20の置換又は非置換のアリール基からなる群より選ばれ、
Yは、単結合、及びOからなる群より選ばれ、
*は、硫黄原子との結合部位を表す。)
で表されるポリマー。 Formula (4)
R1 is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted aryl groups, and substituted or unsubstituted heteroaryl groups;
R2 is a monovalent organic group containing a phosphorus-containing group selected from the group consisting of a phosphate group, a phosphonate group, a phosphate ester group, and a phosphonate ester group;
X is selected from the group consisting of a single bond, S, O, and NR3 ;
R3 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted heteroaryl group, and may combine with R1 to form a heterocyclic structure;
Poly represents a polymer chain.
A polymer represented by the formula:
In formula (4), X is a single bond or S;
In formula (4), R 2 is a group represented by formula (2)
R4 is selected from the group consisting of a cyano group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carboxy group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms;
R5 is selected from the group consisting of substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms ;
R6 is a divalent organic group having 1 to 30 carbon atoms ;
R7 is selected from the group consisting of a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms ;
Y is selected from the group consisting of a single bond and O;
* indicates the bonding site with the sulfur atom.)
A polymer represented by the formula :
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2023007764A JP2023007764A (en) | 2023-01-19 |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7744667B2 (en) |
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|---|---|
| JP2023007764A (en) | 2023-01-19 |
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