JP7744863B2 - Display and optical semiconductor element encapsulation sheets - Google Patents
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Description
本発明は表示体および光半導体素子封止用シートに関する。より詳細には、本発明は、例えば自発光型表示装置の光半導体素子を封止した表示体、および光半導体素子の封止に用いるのに適するシートに関する。 The present invention relates to a display body and a sheet for encapsulating optical semiconductor elements. More specifically, the present invention relates to a display body in which an optical semiconductor element, for example, of a self-luminous display device, is encapsulated, and a sheet suitable for use in encapsulating an optical semiconductor element.
近年、次世代型の表示装置として、ミニ/マイクロLED表示装置(Mini/Micro Light Emitting Diode Display)に代表される自発光型表示装置が考案されている。ミニ/マイクロLED表示装置は、基本構成として、多数の微小な光半導体素子(LEDチップ)が高密度に配列された基板が表示パネルとして使用され、当該光半導体素子は封止材で封止され、最表層に樹脂フィルムやガラス板などのカバー部材が積層されるものである。 In recent years, self-emitting display devices, such as mini/micro LED (Mini/Micro Light-Emitting Diode) displays, have been devised as next-generation display devices. Mini/micro LED displays basically use a substrate on which numerous tiny optical semiconductor elements (LED chips) are densely arranged as a display panel. The optical semiconductor elements are encapsulated with an encapsulant, and a cover member such as a resin film or glass plate is laminated on the outermost surface.
ミニ/マイクロLED表示装置等の自発光型表示装置を備える表示体では、表示パネルの基板上に金属やITOなどの金属酸化物の配線(金属配線)が配置されている。このような表示装置は、例えば消灯時において上記金属配線等により光が反射し画面の見栄えが悪く意匠性に劣るという問題があった。このため、光半導体素子を封止する封止材として、金属配線による反射を防止するための反射防止層を用いる技術が採用されている。 Display units equipped with self-luminous display devices such as mini/micro LED display devices have wiring (metal wiring) made of metal or metal oxides such as ITO arranged on the display panel substrate. Such display devices have the problem that, for example, when the lights are off, the metal wiring reflects light, making the screen look unattractive and reducing design appeal. For this reason, technology is being adopted that uses an anti-reflection layer to prevent reflections from the metal wiring as an encapsulant for sealing optical semiconductor elements.
また、自発光型表示装置を用いたディスプレイでは、光半導体素子の光源に起因して明るさにムラ(輝度ムラ)が生じるという問題があった。輝度ムラが生じると、ディスプレイの正面から見た場合と斜め視野から見た場合とで色味が変化する「カラーシフト」という現象が生じる。 In addition, displays using self-luminous display devices have the problem of uneven brightness (luminance unevenness) caused by the light source of the optical semiconductor element. When uneven brightness occurs, a phenomenon known as "color shift" occurs, in which the color changes when viewed from the front of the display and when viewed from an angle.
特許文献1には、輝度ムラを抑制することができる粘着シートとして、着色粘着剤層と無色粘着剤層との積層体であり、無色粘着剤層が光半導体素子と接触するように位置している粘着シートが開示されている。上記粘着シートによれば、基板と当該基板に設置された光半導体素子とで形成される凹凸形状に接触させて追従させた場合、無色粘着剤層が凹凸に接触することになり、無色粘着剤層によって凹凸がある程度吸収されるため、着色粘着剤層が圧縮されたり変形したりすることが抑制され、これにより粘着剤層における透過率のムラを抑制し、輝度ムラを抑制することができると記載されている。 Patent Document 1 discloses an adhesive sheet capable of suppressing brightness unevenness, which is a laminate of a colored adhesive layer and a colorless adhesive layer, with the colorless adhesive layer positioned so as to come into contact with an optical semiconductor element. When this adhesive sheet is brought into contact with and conforms to the uneven shape formed by a substrate and an optical semiconductor element mounted on the substrate, the colorless adhesive layer comes into contact with the unevenness, and the unevenness is absorbed to some extent by the colorless adhesive layer, preventing compression or deformation of the colored adhesive layer. It is described as thereby suppressing unevenness in transmittance in the adhesive layer and suppressing brightness unevenness.
しかしながら、着色粘着剤層を備える粘着シートは、光半導体素子を封止した際に金属配線による反射を防止したり、輝度ムラを抑制する効果が期待されるものの、光半導体素子が発する光の透過性が低下し、その結果、表示体の正面輝度が低下するという問題があった。正面輝度が低下すると、輝度を上げるために消費電力が増加する。また、特許文献1の粘着シートは、光半導体素子の側面から発せられる光を充分に着色粘着剤層が吸収することができず、隣り合う光半導体素子が発する光同士の干渉が強く、カラーシフトが発生しやすいという問題があった。このため、カラーシフトが起こりにくく、輝度が高い表示体が求められている。 However, while adhesive sheets with colored adhesive layers are expected to prevent reflections from metal wiring and reduce brightness unevenness when encapsulating optical semiconductor elements, they have the problem of reducing the transmittance of light emitted by the optical semiconductor elements, resulting in reduced front brightness of the display. Reduced front brightness increases power consumption in order to increase brightness. Furthermore, the adhesive sheet in Patent Document 1 has the problem that the colored adhesive layer is unable to sufficiently absorb light emitted from the side of the optical semiconductor elements, resulting in strong interference between the light emitted by adjacent optical semiconductor elements and making it prone to color shift. For this reason, there is a demand for displays that are less prone to color shift and have high brightness.
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、その目的は、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を作製可能な光半導体素子封止用シートを提供することにある。 The present invention was conceived in light of these circumstances, and its purpose is to provide a display that is less likely to undergo color shift and has high brightness. Another purpose of the present invention is to provide a sheet for encapsulating optical semiconductor elements that can be used to encapsulate optical semiconductor elements, thereby producing a display that is less likely to undergo color shift and has high brightness.
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、光半導体素子側から着色層および非着色層を含む封止樹脂層により基板上に配置された複数の光半導体素子を封止した状態において、ピクセルの末端の光半導体素子の、隣り合う他のピクセル側の、特定の角度における着色層の距離と、光半導体素子正面側の着色層の距離とが特定の関係性を有し、且つ、光半導体素子の高さとピクセル間の着色層の厚さとが特定の関係性を有する表示体によれば、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高いことを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of extensive research to achieve the above-mentioned objective, the inventors discovered that when multiple optical semiconductor elements arranged on a substrate are encapsulated with an encapsulating resin layer including a colored layer and a non-colored layer from the optical semiconductor element side, a display device in which the distance between the colored layers at a specific angle on the side of the optical semiconductor element at the end of a pixel adjacent to another pixel has a specific relationship with the distance between the colored layers on the front side of the optical semiconductor element, and in which the height of the optical semiconductor element and the thickness of the colored layer between pixels have a specific relationship, results in less color shift and higher brightness. The present invention was completed based on these findings.
すなわち、本発明は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを備える表示体であり、
上記複数の光半導体素子は複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置しており、
上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、着色層および非着色層をこの順に有し、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、上記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、上記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、
上記基板表面をベースライン、
上記ベースラインに平行であり、上記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
上記ライン2と上記着色層とが重なる距離D1、および、上記ライン3と上記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし、
上記基板表面からの上記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心との中点における上記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たす、表示体を提供する。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
That is, the present invention provides a display comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
the plurality of optical semiconductor elements are arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements,
the encapsulating resin layer has a colored layer and a non-colored layer in this order from the optical semiconductor element side,
In a vertical cross section with respect to the surface of the substrate, the cross section passes through the center of gravity of a first optical semiconductor element located at an end of a first pixel and the center of gravity of a second optical semiconductor element located at an end of a second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element,
The substrate surface is the baseline,
A straight line parallel to the baseline and passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is called Line 1.
A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and pointing in the front direction at an angle of 15° from the line 1 is called a line 2;
When a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and in a front direction at an angle of 90° from the line 1 is defined as line 3,
The distance D1 at which the line 2 overlaps with the colored layer and the distance D2 at which the line 3 overlaps with the colored layer satisfy the following formula (1):
A display device is provided in which the distance D3 from the surface of the substrate to the front end of the first optical semiconductor element and the thickness D4 of the colored layer at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element satisfy the following formula (2):
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記着色層を含むことにより、基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。距離D1は、光半導体素子の正面方向に対して75°斜め方向の着色層の厚さに相当し、距離D2は、光半導体素子の正面方向に位置する着色層の厚さに相当する。距離D1が距離D2より大きいということは、光半導体素子が発する、隣り合うピクセル側の75°斜め方向の光の透過率よりも、正面方向の光の透過率が高いことを意味する。また、距離D3は、基板に設置された光半導体素子の高さに相当し、距離D4はピクセル間における着色層の厚さに相当する。距離D3が厚さD4より大きいということは、ピクセル間の光半導体素子が発する光同士の干渉を抑制しつつも、光半導体素子が発する正面斜め方向の光を適度に透過させることができ、正面輝度が高くなる。このため、D1>D2およびD3>D4を満たす表示体は、光半導体素子が発する光が、正面方向(例えば150°視野)の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、表示体はカラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 In the display device, the encapsulating resin layer that encapsulates the optical semiconductor element includes the colored layer, thereby preventing light reflection from metal wiring and the like provided on the substrate. Distance D1 corresponds to the thickness of the colored layer at a 75° angle relative to the front direction of the optical semiconductor element, and distance D2 corresponds to the thickness of the colored layer located in front of the optical semiconductor element. Distance D1 being greater than distance D2 means that the transmittance of light emitted by the optical semiconductor element in the front direction is higher than the transmittance of light emitted by the optical semiconductor element in a 75° angle toward adjacent pixels. Distance D3 corresponds to the height of the optical semiconductor element mounted on the substrate, and distance D4 corresponds to the thickness of the colored layer between pixels. Distance D3 being greater than thickness D4 means that light emitted by the optical semiconductor element in a front oblique direction can be adequately transmitted while suppressing interference between light emitted by the optical semiconductor element between pixels, thereby increasing front brightness. For this reason, a display that satisfies D1>D2 and D3>D4 has light emitted from the optical semiconductor element that is highly transparent in the front direction (e.g., 150° field of view) while maintaining low transparency in the lateral direction, making the display less susceptible to color shift and having high front brightness.
上記封止樹脂層は、上記着色層の光半導体素子側に拡散機能層を備えることが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が側面方向に発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができる。 The encapsulating resin layer preferably includes a diffusion layer on the optical semiconductor element side of the colored layer. This configuration allows light emitted laterally by the optical semiconductor element to be diffused within the diffusion layer, further increasing front brightness.
上記表示体は自発光型表示装置を備えることが好ましい。 It is preferable that the display be a self-luminous display device.
上記表示体は画像表示装置であることが好ましい。 The display is preferably an image display device.
また、本発明は、基板上に、複数の光半導体素子を含むピクセルごとに配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートであって、
上記シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を備え、
上記封止用樹脂層により上記着色層側が上記光半導体素子側となるように上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、上記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、上記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、
上記基板表面をベースライン、
上記ベースラインに平行であり、上記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
上記ライン2と上記着色層とが重なる距離D1、および、上記ライン3と上記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし得、
上記基板表面からの上記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心との中点における上記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たし得る、光半導体素子封止用シートを提供する。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
The present invention also provides a sheet for encapsulating a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate for pixels each including a plurality of optical semiconductor elements, the sheet comprising:
the sheet includes a sealing resin layer including a colored layer and a non-colored layer;
When the plurality of optical semiconductor elements are encapsulated with the encapsulating resin layer so that the colored layer side faces the optical semiconductor elements, an encapsulating resin layer is formed,
In a vertical cross section with respect to the surface of the substrate, the cross section passes through the center of gravity of a first optical semiconductor element located at an end of a first pixel and the center of gravity of a second optical semiconductor element located at an end of a second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element,
The substrate surface is the baseline,
A straight line parallel to the baseline and passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is called Line 1.
A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and pointing in the front direction at an angle of 15° from the line 1 is called a line 2;
When a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and in a front direction at an angle of 90° from the line 1 is defined as line 3,
A distance D1 at which the line 2 and the colored layer overlap, and a distance D2 at which the line 3 and the colored layer overlap, may satisfy the following formula (1):
The present invention provides a sheet for encapsulating optical semiconductor elements, in which a distance D3 from the surface of the substrate to the front end of the first optical semiconductor element and a thickness D4 of the colored layer at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element satisfy the following formula (2):
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
上記封止用樹脂層は、上記着色層の上記非着色層とは反対側に拡散機能層を備えることが好ましい。 The sealing resin layer preferably has a diffusion function layer on the side of the colored layer opposite the non-colored layer.
本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光によるカラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い。このため、上記表示体は、広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、上記表示体は消費電力を高くしなくても明るく見栄えが良い。また、本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を提供することができる。 The display of the present invention is less likely to undergo color shift due to light emitted by the optical semiconductor element, and has high brightness. Therefore, the display can be viewed with the same color from a wide field of view. Furthermore, the display is bright and looks good without increasing power consumption. Furthermore, the sheet for encapsulating optical semiconductor elements of the present invention can encapsulate optical semiconductor elements, thereby providing a display that is less likely to undergo color shift and has high brightness.
[表示体]
本発明の表示体は、基板と、上記基板上に配置された複数の光半導体素子と、上記複数の光半導体素子を封止する封止樹脂層とを少なくとも備える。上記表示体は、光半導体素子が発する光により情報を表示するための装置である。
[Display]
The display of the present invention includes at least a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and an encapsulating resin layer encapsulating the plurality of optical semiconductor elements. The display is a device for displaying information using light emitted by the optical semiconductor elements.
上記光半導体素子としては、例えば、青色発光ダイオード、緑色発光ダイオード、赤色発光ダイオード、紫外線発光ダイオード等の発光ダイオード(LED)が挙げられる。 Examples of the optical semiconductor elements include light-emitting diodes (LEDs), such as blue light-emitting diodes, green light-emitting diodes, red light-emitting diodes, and ultraviolet light-emitting diodes.
上記基板上に、上記複数の光半導体素子は1つのピクセル(画素)内に配置しており、上記ピクセルは複数配置している。すなわち、上記複数の光半導体素子は、複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置している。図1に、基板上に複数の光半導体素子がピクセルごとに配置された光学部材の部分上面図を示す。図1に示す光学部材11では、基板2上に、3つの光半導体素子3a~3cが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3a~3cで1ピクセル(ピクセル3)を形成している。また、基板2上に、3つの光半導体素子3d~3fが近接するように配置されており、3つの光半導体素子3d~3fで1ピクセル(ピクセル3’)を形成している。そして基板2上には、ピクセル3、ピクセル3’などと複数のピクセルが配置している。 The multiple optical semiconductor elements are arranged within one pixel (picture element) on the substrate, and multiple pixels are arranged. That is, the multiple optical semiconductor elements are arranged for each pixel, which includes multiple optical semiconductor elements. Figure 1 shows a partial top view of an optical element in which multiple optical semiconductor elements are arranged for each pixel on a substrate. In the optical element 11 shown in Figure 1, three optical semiconductor elements 3a-3c are arranged closely together on the substrate 2, and the three optical semiconductor elements 3a-3c form one pixel (pixel 3). Furthermore, three optical semiconductor elements 3d-3f are arranged closely together on the substrate 2, and the three optical semiconductor elements 3d-3f form one pixel (pixel 3'). Multiple pixels, such as pixel 3 and pixel 3', are arranged on the substrate 2.
本発明の表示体は、2つの光半導体素子間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板表面を凹部、光半導体素子を凸部とした、基板および光半導体素子により形成される凹凸形状を有する。 The display of the present invention has an uneven shape formed by the substrate and the optical semiconductor elements, with the substrate surface between two optical semiconductor elements in the area where no optical semiconductor elements are located forming a recess and the optical semiconductor elements forming a protrusion.
上記基板上の上記光半導体素子の高さ(基板表面から光半導体素子正面側の端部までの高さ)は500μm以下であることが好ましい。上記高さが500μm以下であると、上記凹凸形状に対する封止樹脂層の追従性により優れる。 The height of the optical semiconductor element on the substrate (the height from the substrate surface to the front edge of the optical semiconductor element) is preferably 500 μm or less. A height of 500 μm or less provides superior conformability of the encapsulating resin layer to the uneven shape.
上記封止樹脂層は、複数の光半導体素子に接触して上記凹凸形状に追従していることが好ましい。また、上記封止樹脂層は、上記複数の光半導体素子を一括して封止していることが好ましい。なお、本明細書において、「光半導体素子を封止する」とは、光半導体素子の少なくとも一部を封止樹脂層内に埋め込むこと、または、上記封止樹脂層により追従し被覆することをいう。 The encapsulating resin layer preferably contacts the multiple optical semiconductor elements and conforms to the uneven shape. It is also preferable that the encapsulating resin layer collectively encapsulates the multiple optical semiconductor elements. In this specification, "encapsulating the optical semiconductor elements" refers to embedding at least a portion of the optical semiconductor elements in the encapsulating resin layer, or conforming to and covering the optical semiconductor elements with the encapsulating resin layer.
上記封止樹脂層は、着色層および非着色層を少なくとも含み、上記光半導体素子側から、上記着色層および上記非着色層をこの順に有する。上記封止樹脂層において、上記着色層および上記非着色層は直接積層していてもよく、他の層を介して積層していてもよい。 The encapsulating resin layer includes at least a colored layer and a non-colored layer, with the colored layer and the non-colored layer being arranged in this order from the optical semiconductor element side. In the encapsulating resin layer, the colored layer and the non-colored layer may be laminated directly or via another layer.
上記基板上に設置された、第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、上記基板表面に対する垂直面断面において、上記基板表面をベースラインとする。上記ベースラインに平行であり、上記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1とする。上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2とする。上記第一の光半導体素子の重心を通り、上記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3とする。そして、上記ライン2と上記着色層とが重なる距離をD1、上記ライン3と上記着色層とが重なる距離をD2としたとき、本発明の表示体は、D1およびD2について下記式(1)を満たす。また、上記基板表面からの上記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離をD3、上記第一の光半導体素子の重心と上記第二の光半導体素子の重心との中点における上記着色層の厚さをD4としたとき、本発明の表示体は、D3およびD4について下記式(2)を満たす。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
In a cross section perpendicular to the substrate surface, the cross section passes through the center of gravity of a first optical semiconductor element located at an end of a first pixel disposed on the substrate and the center of gravity of a second optical semiconductor element located at an end of the first optical semiconductor element in a second pixel adjacent to the first pixel, and the substrate surface is defined as a baseline. A straight line parallel to the baseline and passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is defined as Line 1. A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending in a front direction at an angle of 15° from Line 1 is defined as Line 2. A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and extending in a front direction at an angle of 90° from Line 1 is defined as Line 3. When the distance over which Line 2 overlaps with the colored layer is defined as D1 and the distance over which Line 3 overlaps with the colored layer is defined as D2, the display of the present invention satisfies the following formula (1) for D1 and D2: Furthermore, when the distance from the substrate surface to the front end of the first optical semiconductor element is D3 and the thickness of the colored layer at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element is D4, the display of the present invention satisfies the following formula (2) for D3 and D4.
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
上記表示体において、上記光半導体素子を封止する上記封止樹脂層が上記着色層を含むことにより、基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。距離D1は、光半導体素子の正面方向に対して75°斜め方向の着色層の厚さに相当し、距離D2は、光半導体素子の正面方向に位置する着色層の厚さに相当する。距離D1が距離D2より大きいということは、光半導体素子が発する、隣り合うピクセル側の75°斜め方向の光の透過率よりも、正面方向の光の透過率が高いことを意味する。また、距離D3は、基板に設置された光半導体素子の高さに相当し、距離D4はピクセル間における着色層の厚さに相当する。距離D3が距離D4より大きいということは、ピクセル間の光半導体素子が発する光同士の干渉を抑制しつつも、光半導体素子が発する正面斜め方向の光を適度に透過させることができ、正面輝度が高くなる。このため、D1>D2およびD3>D4を満たす表示体は、光半導体素子が発する光が、正面方向(例えば150°視野)の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、表示体はカラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 In the display device, the encapsulating resin layer that encapsulates the optical semiconductor element includes the colored layer, thereby preventing light reflection from metal wiring and the like provided on the substrate. Distance D1 corresponds to the thickness of the colored layer at a 75° angle relative to the front direction of the optical semiconductor element, and distance D2 corresponds to the thickness of the colored layer located in front of the optical semiconductor element. Distance D1 being greater than distance D2 means that the transmittance of light emitted by the optical semiconductor element in the front direction is higher than the transmittance of light emitted by the optical semiconductor element in a 75° angle toward adjacent pixels. Distance D3 corresponds to the height of the optical semiconductor element mounted on the substrate, and distance D4 corresponds to the thickness of the colored layer between pixels. Distance D3 being greater than distance D4 means that light emitted by the optical semiconductor element in a front oblique direction can be adequately transmitted while suppressing interference between light emitted by the optical semiconductor element between pixels, resulting in high front brightness. For this reason, a display that satisfies D1>D2 and D3>D4 has light emitted from the optical semiconductor element that is highly transparent in the front direction (e.g., 150° field of view) while maintaining low transparency in the lateral direction, making the display less susceptible to color shift and having high front brightness.
なお、本明細書において「正面」とは、表示体を視認する側をいい、例えば後述の図2では上方向である。 In this specification, "front" refers to the side from which the display is viewed, and is, for example, the upward direction in Figure 2 described below.
本発明の表示体について、その一実施形態である図2に示す表示体を用いて説明する。図2に示す表示体1は、基板2と、基板2上に配置された複数の光半導体素子3b,3c,3d,および3eと、これら光半導体素子3b~3eを一括して封止する封止樹脂層4と、封止樹脂層4の光半導体素子3b~3e側とは反対側の表面に貼り合わせられた基材部5とを備える。図2は、光半導体素子3b~3eの重心を通る、基板2に対する垂直面断面の拡大図である。 The display of the present invention will be described using the display shown in Figure 2, which is one embodiment of the display. The display 1 shown in Figure 2 comprises a substrate 2, multiple optical semiconductor elements 3b, 3c, 3d, and 3e arranged on the substrate 2, an encapsulating resin layer 4 that encapsulates these optical semiconductor elements 3b-3e, and a base material 5 bonded to the surface of the encapsulating resin layer 4 opposite the optical semiconductor elements 3b-3e. Figure 2 is an enlarged view of a vertical cross section with respect to the substrate 2, passing through the center of gravity of the optical semiconductor elements 3b-3e.
光半導体素子3b~3eは、それぞれ、支持体31により一つの基板2上に固定されている。表示体1は、光半導体素子3b~3e間の、光半導体素子を配置されていない領域の基板2表面を凹部N、光半導体素子3b~3eを凸部Pとした、基板2および光半導体素子3b~3eにより形成される凹凸形状を有する。 Each of the optical semiconductor elements 3b-3e is fixed to one substrate 2 by a support 31. The display unit 1 has an uneven shape formed by the substrate 2 and the optical semiconductor elements 3b-3e, with the surface of the substrate 2 in areas between the optical semiconductor elements 3b-3e where no optical semiconductor elements are arranged being recessed portions N and the optical semiconductor elements 3b-3e being protruding portions P.
図2における光半導体素子3bおよび3cは図1に示す光半導体素子3bおよび3cであり、光半導体素子3a~3cは同一ピクセル3内に位置する。また、図2における光半導体素子3dおよび3eは図1に示す光半導体素子3dおよび3eであり、光半導体素子3d~3fは同一ピクセル3’内に位置する。ピクセル3およびピクセル3’は隣り合うピクセルであり、ピクセル3が第一のピクセルである場合、ピクセル3’は第二のピクセルである。そして、光半導体素子3cはピクセル3内の末端に位置する第一の光半導体素子であり、光半導体素子3dはピクセル3’内の末端に位置し、且つ光半導体素子3cに隣り合う第二の光半導体素子である。 Optical semiconductor elements 3b and 3c in Figure 2 are optical semiconductor elements 3b and 3c shown in Figure 1, and optical semiconductor elements 3a to 3c are located within the same pixel 3. Optical semiconductor elements 3d and 3e in Figure 2 are optical semiconductor elements 3d and 3e shown in Figure 1, and optical semiconductor elements 3d to 3f are located within the same pixel 3'. Pixel 3 and pixel 3' are adjacent pixels, and when pixel 3 is the first pixel, pixel 3' is the second pixel. Optical semiconductor element 3c is the first optical semiconductor element located at the end of pixel 3, and optical semiconductor element 3d is the second optical semiconductor element located at the end of pixel 3' and adjacent to optical semiconductor element 3c.
図2に示すように、封止樹脂層4は、複数の光半導体素子3b~3eに接触して上記凹凸形状に追従し、複数の光半導体素子3b~3eを一括して封止している。 As shown in Figure 2, the encapsulating resin layer 4 contacts the multiple optical semiconductor elements 3b-3e and conforms to the uneven shape, encapsulating the multiple optical semiconductor elements 3b-3e collectively.
封止樹脂層4は、非着色層41、着色層42、および非着色層43がこの順に、直接積層して構成されており、非着色層41側が光半導体素子3b~3e側となるように光半導体素子3b~3eを封止している。光半導体素子3b~3eに接触する非着色層41は上記凹凸形状に追従しており、表示体1において非着色層41および着色層42も凹凸形状を有する。一方、非着色層43は一方の面が着色層42の凹凸形状に追従することで着色層42の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。なお、非着色層41および非着色層43は、それぞれ独立して、後述の拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 The encapsulating resin layer 4 is constructed by directly laminating a non-colored layer 41, a colored layer 42, and a non-colored layer 43 in this order, and encapsulates the optical semiconductor elements 3b-3e so that the non-colored layer 41 faces the optical semiconductor elements 3b-3e. The non-colored layer 41, which comes into contact with the optical semiconductor elements 3b-3e, conforms to the above-mentioned uneven shape, and the non-colored layer 41 and the colored layer 42 in the display unit 1 also have uneven shapes. Meanwhile, one surface of the non-colored layer 43 conforms to the uneven shape of the colored layer 42, resulting in an uneven shape that is the opposite of the uneven shape of the colored layer 42, and the other surface is flat. Note that the non-colored layer 41 and the non-colored layer 43 may each independently be a diffusion functional layer, as described below, or a non-diffusion functional layer.
図3に、図2に示す表示体1の光半導体素子3cおよび3d間付近の拡大図を示す。図3に示す表示体1において、基板2表面をベースラインBとし、ベースラインBに平行であり、第一の光半導体素子3cの重心GCを通る直線はライン1L1である。第一の光半導体素子3cの重心GCを通り、ライン1L1から角度15°正面方向の直線はライン2L2である。第一の光半導体素子3cの重心GCを通り、ライン1L1から角度90°正面方向の直線はライン3L3である。ライン3L3は、重心GCを通る、ベースラインBに対する垂線である。すなわち、図3に示すθ1は15°であり、θ2は90°である。ライン2L2と着色層42とが重なる距離はD1であり、ライン3L3と着色層42とが重なる距離はD2である。また、光半導体素子3cの正面側端部はTAである。TAは光半導体素子3cの最も正面側に位置する部分である。光半導体素子3cの重心GCと光半導体素子3dの重心GDの中点はCである。基板2表面からTAまでの距離はD3であり、中点Cにおける着色層42の厚さはD4である。そして、表示体1において、D1およびD2はD1>D2を満たし、D3およびD4は、D3>D4を満たす。 FIG. 3 shows an enlarged view of the area between the optical semiconductor elements 3c and 3d of the display 1 shown in FIG. 2. In the display 1 shown in FIG. 3, the surface of the substrate 2 is defined as baseline B, and a line parallel to baseline B and passing through the center of gravity G of the first optical semiconductor element 3c is line 1L1. A line passing through the center of gravity G of the first optical semiconductor element 3c and extending forward at an angle of 15° from line 1L1 is line 2L2. A line passing through the center of gravity G of the first optical semiconductor element 3c and extending forward at an angle of 90° from line 1L1 is line 3L3. Line 3L3 is a perpendicular line to baseline B that passes through the center of gravity G. That is, θ1 in FIG. 3 is 15°, and θ2 is 90°. The distance at which line 2L2 and the colored layer 42 overlap is D1, and the distance at which line 3L3 and the colored layer 42 overlap is D2. The front end of the optical semiconductor element 3c is TA . T A is the portion of optical semiconductor element 3 c located closest to the front. The midpoint between the center of gravity G C of optical semiconductor element 3 c and the center of gravity G D of optical semiconductor element 3 d is C. The distance from the surface of substrate 2 to T A is D3, and the thickness of colored layer 42 at midpoint C is D4. In display 1, D1 and D2 satisfy D1 > D2, and D3 and D4 satisfy D3 > D4.
表示体1において、封止樹脂層4が着色層42を含むことにより、基板2上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することができる。そして、D1およびD2は、D1>D2を満たすことにより、光半導体素子3cが発する、隣り合うピクセル側の75°斜め方向の光の透過率よりも、正面方向の光の透過率が高い。また、D3およびD4は、D3>D4を満たすことにより、光半導体素子3cおよび3dが発する光同士の干渉を抑制しつつも、光半導体素子3cが発する正面斜め方向の光を適度に透過させることができ、正面輝度が高くなる。このため、光半導体素子が発する光は、正面方向の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、表示体はカラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 In the display unit 1, the sealing resin layer 4 includes a colored layer 42, which prevents light reflection from metal wiring and the like provided on the substrate 2. Furthermore, by satisfying the relationship D1 and D2, the transmittance of light in the front direction is higher than the transmittance of light emitted by the optical semiconductor element 3c in a 75° oblique direction toward adjacent pixels. Furthermore, by satisfying the relationship D3 and D4, which satisfy the relationship D3 > D4, interference between the lights emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d is suppressed while allowing a moderate amount of light emitted by the optical semiconductor element 3c in a front oblique direction to be transmitted, resulting in high front brightness. Therefore, the light emitted by the optical semiconductor element has excellent transmittance in the front direction while maintaining low transmittance in the lateral direction, making the display unit less susceptible to color shift and having high front brightness.
なお、図3では、ピクセルの端部にある光半導体素子3cが上記式(1)および(2)を満たす場合について説明したが、光半導体素子3cとともにまたは代えて、隣り合うピクセルの端部に位置する光半導体素子3dが上記式(1)および(2)を満たしてもよい。 Note that while Figure 3 illustrates a case in which the optical semiconductor element 3c located at the edge of a pixel satisfies the above formulas (1) and (2), the optical semiconductor element 3d located at the edge of an adjacent pixel may also satisfy the above formulas (1) and (2) together with or instead of the optical semiconductor element 3c.
具体的に説明すると、図4に示すように、光半導体素子3cが発する正面への光FAおよび光半導体素子3dが発する正面への光FBの透過性に優れ、正面輝度が高くなる。一方、光半導体素子3cが発する右方向への光RAおよび左方向への光LA、ならびに光半導体素子3dが発する右方向への光RBおよび左方向への光LBの透過は着色層42に妨げられることで、隣り合うピクセル内の光半導体素子3cおよび3dがそれぞれ発する光を互いに干渉しにくく、カラーシフトが抑制される。 4, the transmittance of light F A emitted by optical semiconductor element 3 c toward the front and light F B emitted by optical semiconductor element 3 d toward the front is excellent, resulting in high front brightness. On the other hand, the transmission of light R A toward the right and light L A toward the left emitted by optical semiconductor element 3 c, and light R B toward the right and light L B toward the left emitted by optical semiconductor element 3 d, is prevented by colored layer 42, which makes it difficult for the lights emitted by optical semiconductor elements 3 c and 3 d in adjacent pixels to interfere with each other, thereby suppressing color shift.
一方、図5に従来の表示体の一実施形態を示す。図5に示す表示体では、光半導体素子3cおよび3d間の着色層42の厚さは光半導体素子3cの高さに比べて高く、D3<D4となる。光半導体素子3cが発する右方向への光RAおよび左方向への光LA、ならびに光半導体素子3dが発する右方向への光RBおよび左方向への光LBの透過は着色層42に妨げられにくく、隣り合うピクセル内の光半導体素子3cおよび3dがそれぞれ発する光を互いに干渉するため、カラーシフトが発生しやすい。また、光半導体素子3cおよび3dが正面斜め方向に発する光は着色層42を透過しにくく、正面輝度が不充分となりやすい。なお、図5に示す態様において、着色層42の厚さを厚くすると光半導体素子3cおよび3dが発する光FAおよびFBの光量は低下する。また、着色層42の厚さを薄くすると正面斜め方向の光の透過率が高くなり、カラーシフトがより発生しやすくなる。これに対し、本発明の表示体であれば、正面輝度の高さ、カラーシフトの防止、および反射防止能の全てを優れたものとすることができる。 On the other hand, Figure 5 shows one embodiment of a conventional display. In the display shown in Figure 5, the thickness of the colored layer 42 between the optical semiconductor elements 3c and 3d is greater than the height of the optical semiconductor element 3c, such that D3 < D4. The transmission of light RA to the right and light LA to the left emitted by the optical semiconductor element 3c, and light RB to the right and light LB to the left emitted by the optical semiconductor element 3d , is not easily impeded by the colored layer 42. This causes interference between the light emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d in adjacent pixels, making color shifts more likely. Furthermore, light emitted from the optical semiconductor elements 3c and 3d in a front-to-front oblique direction is less likely to pass through the colored layer 42, resulting in insufficient front brightness. In the embodiment shown in Figure 5, increasing the thickness of the colored layer 42 reduces the amount of light FA and FB emitted by the optical semiconductor elements 3c and 3d. Furthermore, decreasing the thickness of the colored layer 42 increases the transmittance of light in a front-to-front oblique direction, making color shifts more likely to occur. In contrast, the display of the present invention can provide high front luminance, prevention of color shift, and excellent anti-reflection properties.
このように、本発明の表示体は、D1およびD2がD1>D2を満たし、D3およびD4がD3>D4を満たすことにより、光半導体素子が発する光は、正面方向の透過性に優れつつ、側面方向の透過性が低く抑えられており、カラーシフトが起こりにくく、且つ正面輝度が高い。 In this way, in the display of the present invention, D1 and D2 satisfy D1 > D2, and D3 and D4 satisfy D3 > D4, so that the light emitted by the optical semiconductor element has excellent transmittance in the front direction while keeping transmittance in the lateral direction low, making color shift less likely to occur and providing high front brightness.
光半導体素子の重心は光半導体素子の立体形状によって決定される。光半導体素子の立体形状は特に限定されず、立方体や直方体等の角柱、角錐台、円柱、円錐台、これらの上部をドーム型とした形状などが挙げられる。光半導体素子の立体形状が正角柱状である場合の重心は光半導体素子の中心である。 The center of gravity of an optical semiconductor element is determined by the three-dimensional shape of the optical semiconductor element. There are no particular limitations on the three-dimensional shape of the optical semiconductor element, and examples include rectangular prisms such as cubes and rectangular parallelepipeds, truncated pyramids, cylinders, truncated cones, and shapes with dome-shaped tops. When the three-dimensional shape of an optical semiconductor element is a regular prism, the center of gravity is the center of the optical semiconductor element.
なお、表示体1において、基材部5は備えていなくてもよい。また、1ピクセル内の光半導体素子の数は3個でなくてもよく特に限定されない。 The display unit 1 does not necessarily have to include the substrate 5. Furthermore, the number of optical semiconductor elements within one pixel does not have to be three, and is not particularly limited.
本発明の表示体の他の一実施形態を図6に示す。図6に示す表示体1は、非着色層41を備えないこと以外は図2に示す表示体1と同様である。具体的には、図6に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3b~3e側から、着色層42および非着色層43がこの順に、直接積層して構成されており、着色層42側が光半導体素子3b~3e側となるように光半導体素子3b~3eを封止している。光半導体素子3b~3eに接触する着色層42は上記凹凸形状に追従しており、非着色層43は一方の面が着色層42の凹凸形状に追従することで着色層42の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。図6に示す表示体1は上記式(1)および(2)を満たす。なお、非着色層43は、後述の拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。このように、本発明の表示体は、着色層よりも光半導体素子側に非着色層を備えなくてもよい。 Another embodiment of the display of the present invention is shown in Figure 6. The display 1 shown in Figure 6 is similar to the display 1 shown in Figure 2, except that it does not include the non-colored layer 41. Specifically, in the display 1 shown in Figure 6, the encapsulating resin layer 4 is configured by directly laminating a colored layer 42 and a non-colored layer 43, in this order, from the optical semiconductor elements 3b-3e side, sealing the optical semiconductor elements 3b-3e so that the colored layer 42 faces the optical semiconductor elements 3b-3e. The colored layer 42 in contact with the optical semiconductor elements 3b-3e conforms to the above-mentioned uneven shape, while one surface of the non-colored layer 43 conforms to the uneven shape of the colored layer 42, resulting in an uneven shape that is the opposite of the uneven shape of the colored layer 42, and the other surface is flat. The display 1 shown in Figure 6 satisfies the above formulas (1) and (2). The non-colored layer 43 may be a diffusion functional layer, as described below, or a non-diffusion functional layer. In this way, the display of the present invention does not need to have a non-colored layer on the optical semiconductor element side of the colored layer.
本発明の表示体のさらに他の一実施形態を図7に示す。図7に示す表示体1は、着色層42の正面側界面がフラットとなっていること以外は図2に示す表示体1と同様である。具体的には、図7に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3b~3e側から、非着色層41、着色層42、および非着色層43がこの順に、直接積層して構成されており、非着色層41側が光半導体素子3b~3e側となるように光半導体素子3b~3eを封止している。光半導体素子3b~3eに接触する非着色層41は上記凹凸形状に追従しており、表示体1において着色層42も凹凸形状を有する。一方、着色層42は一方の面が非着色層41の凹凸形状に追従することで非着色層41の凹凸形状とは逆の凹凸形状を有し、他方の面は平面(フラット)となっている。非着色層43は両面がフラットとなっている。図7に示す表示体1は上記式(1)および(2)を満たす。なお、非着色層41および非着色層43は、それぞれ独立して、後述の拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 Yet another embodiment of the display body of the present invention is shown in Figure 7. The display body 1 shown in Figure 7 is similar to the display body 1 shown in Figure 2, except that the front interface of the colored layer 42 is flat. Specifically, in the display body 1 shown in Figure 7, the encapsulating resin layer 4 is constructed by directly stacking a non-colored layer 41, a colored layer 42, and a non-colored layer 43 in this order from the optical semiconductor elements 3b-3e side, encapsulating the optical semiconductor elements 3b-3e so that the non-colored layer 41 side faces the optical semiconductor elements 3b-3e. The non-colored layer 41 in contact with the optical semiconductor elements 3b-3e conforms to the above-mentioned uneven shape, and the colored layer 42 in the display body 1 also has an uneven shape. Meanwhile, one surface of the colored layer 42 conforms to the uneven shape of the non-colored layer 41, thereby having an uneven shape that is the opposite of the uneven shape of the non-colored layer 41, and the other surface is flat. Both surfaces of the non-colored layer 43 are flat. The display element 1 shown in Figure 7 satisfies the above formulas (1) and (2). Note that the non-colored layer 41 and the non-colored layer 43 may each independently be a diffusion functional layer (described below) or a non-diffusion functional layer.
上記垂直面断面において、D3は、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の基板側界面までの距離よりも長いことが好ましい。この場合、上記着色層の基板側界面が光半導体素子の側面の基板に近い位置となりやすく、光半導体素子が発する側面方向の光は上記着色層により吸収され、透過性が低く抑えられ、カラーシフトがより起こりにくい。図2,6,および7に示す表示体1では、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の基板側界面までの距離よりも長い。 In the vertical cross section, D3 is preferably longer than the distance from the substrate surface to the substrate-side interface of the colored layer on a line perpendicular to the substrate surface that passes through the midpoints of the first and second optical semiconductor elements. In this case, the substrate-side interface of the colored layer is likely to be located close to the substrate on the side of the optical semiconductor element, and light emitted by the optical semiconductor element in the lateral direction is absorbed by the colored layer, reducing transmittance and making color shift less likely to occur. In the display 1 shown in Figures 2, 6, and 7, D3 is longer than the distance from the substrate surface to the substrate-side interface of the colored layer on a line perpendicular to the substrate surface that passes through the midpoints of the first and second optical semiconductor elements.
上記垂直面断面において、D3は、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の正面側界面までの距離よりも長いことが好ましい。この場合、光半導体素子が発する側面方向の光は上記着色層により吸収され、透過性が低く抑えられ、カラーシフトがより起こりにくい。図2および6に示す表示体1では、上記第一の光半導体素子および上記第二の光半導体素子の中点を通る基板表面に対する垂線において、基板表面から上記着色層の正面側界面までの距離よりも長い。 In the vertical cross section, D3 is preferably longer than the distance from the substrate surface to the front interface of the colored layer on a line perpendicular to the substrate surface that passes through the midpoints of the first and second optical semiconductor elements. In this case, the light emitted from the optical semiconductor elements in the lateral direction is absorbed by the colored layer, reducing transmittance and making color shift less likely to occur. In the display 1 shown in Figures 2 and 6, D3 is longer than the distance from the substrate surface to the front interface of the colored layer on a line perpendicular to the substrate surface that passes through the midpoints of the first and second optical semiconductor elements.
図2~7に示す表示体の断面図は、例えば、表示体を冷却した状態で、複数の光半導体素子の重心を通るように、基板面に対して垂直に切断することで断面を露出させて得ることができる。表示体を冷却することで、切断時に発生する熱により封止樹脂層に融解や変形が起こるのを抑制できる。切断は、レーザービーム照射やイオンビーム照射などの公知乃至慣用の切断装置を用いて行うことができる。また、切断後、露出した断面をミリングして、より変形度が低い断面を露出させてもよい。冷却時の温度は封止樹脂層の変形度合いや表示体の割れを抑制する範囲内で適宜設定される。 The cross-sectional views of the display body shown in Figures 2 to 7 can be obtained, for example, by exposing the cross section by cutting the display body in a cooled state perpendicular to the substrate surface so as to pass through the center of gravity of multiple optical semiconductor elements. Cooling the display body can prevent the encapsulating resin layer from melting or deforming due to the heat generated during cutting. Cutting can be performed using known or conventional cutting devices such as laser beam or ion beam irradiators. After cutting, the exposed cross section may be milled to expose a cross section with a lower degree of deformation. The cooling temperature is set appropriately within a range that prevents the degree of deformation of the encapsulating resin layer and cracking of the display body.
<封止樹脂層>
上記封止樹脂層は上記着色層および上記非着色層を少なくとも備える。上記封止樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ、上記封止樹脂層内において単層であってもよいし、同一または異なる組成を有する複層であってもよい。着色層や非着色層が複層含まれる場合、上記複層は接触して積層していてもよいし、隔離して積層(例えば2つの着色層が1つの非着色層を介して積層)していてもよい。上記封止樹脂層が着色層および非着色層の1以上を複層備える場合、少なくとも1つの着色層および非着色層の組み合わせについて、光半導体素子側から着色層および非着色層をこの順に有し、且つこれらの着色層および非着色層について、D1>D2およびD3>D4を満たせばよい。また、上記封止樹脂層を構成する層の総数は、上記着色層および上記非着色層を含む2以上であり、3以上であってもよい。上記層の総数は、表示体の厚さを薄くする観点から、例えば10以下であり、5以下または4以下であってもよい。
<Sealing resin layer>
The encapsulating resin layer includes at least the colored layer and the non-colored layer. Each layer (the colored layer and the non-colored layer) constituting the encapsulating resin layer may be a single layer within the encapsulating resin layer, or multiple layers having the same or different compositions. When multiple colored layers and non-colored layers are included, the multiple layers may be stacked in contact with each other or may be stacked separately (e.g., two colored layers stacked with one non-colored layer interposed therebetween). When the encapsulating resin layer includes one or more colored layers and non-colored layers, for at least one combination of colored layer and non-colored layer, the colored layer and non-colored layer must be in this order from the optical semiconductor element side, and these colored layers and non-colored layers must satisfy D1 > D2 and D3 > D4. Furthermore, the total number of layers constituting the encapsulating resin layer is two or more, including the colored layer and the non-colored layer, and may be three or more. From the viewpoint of reducing the thickness of the display, the total number of layers may be, for example, 10 or less, 5 or less, or 4 or less.
上記封止樹脂層は拡散機能層を含むことが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができる。上記拡散機能層は本明細書における非着色層に該当する層であることが好ましい。図2において、非着色層41は拡散機能層であることが好ましい。図2,6,および7において非着色層43は、拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 The encapsulating resin layer preferably includes a diffusion layer. This configuration allows light emitted by the optical semiconductor element to be diffused within the diffusion layer, further increasing the front brightness. The diffusion layer is preferably a layer that corresponds to the non-colored layer in this specification. In Figure 2, the non-colored layer 41 is preferably a diffusion layer. In Figures 2, 6, and 7, the non-colored layer 43 may be a diffusion layer or a non-diffusion layer.
上記封止樹脂層が上記拡散機能層を備える場合、上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、上記拡散機能層、上記着色層、および上記非着色層をこの順に備えることが好ましい。上記非着色層は、拡散機能層および非拡散機能層のいずれであってもよい。このような構成を有することで、正面輝度をより高くしつつ、消灯時および発光時の両方において表示体の見栄えをより向上させることができる。図2および7において、封止樹脂層4は、光半導体素子側から、拡散機能層である非着色層41、着色層42、および非着色層43をこの順に備える。非着色層43は、拡散機能層であってもよく、非拡散機能層であってもよい。 When the encapsulating resin layer includes the diffusion layer, it is preferable that the encapsulating resin layer include, in this order from the optical semiconductor element side, the diffusion layer, the colored layer, and the non-colored layer. The non-colored layer may be either a diffusion layer or a non-diffusion layer. This configuration can further increase the front brightness while improving the appearance of the display both when the light is off and when the light is on. In Figures 2 and 7, the encapsulating resin layer 4 includes, in this order from the optical semiconductor element side, the non-colored layer 41, which is a diffusion layer, the colored layer 42, and the non-colored layer 43. The non-colored layer 43 may be either a diffusion layer or a non-diffusion layer.
本発明の表示体において、上記着色層は、少なくとも一方の面(特に、光半導体素子側の面)が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有することが好ましい。この場合、本発明の表示体は上記式(1)および(2)を満たしやすくなる。また、上記着色層は、正面側の面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有していてもよい。図2および図6に示す表示体1において、着色層42は正面側および光半導体素子側の両面が凹凸形状を有する。図7に示す表示体1において、着色層42は正面側の面が凹凸形状を有する。 In the display of the present invention, it is preferable that at least one surface of the colored layer (particularly the surface facing the optical semiconductor element) has an uneven shape that follows the uneven shape. In this case, the display of the present invention is more likely to satisfy the above formulas (1) and (2). The colored layer may also have an uneven shape on the front surface that follows the uneven shape. In the display 1 shown in Figures 2 and 6, the colored layer 42 has an uneven shape on both the front surface and the optical semiconductor element side. In the display 1 shown in Figure 7, the colored layer 42 has an uneven shape on the front surface.
本発明の表示体において、上記着色層よりも正面側にある上記非着色層は、正面側が平面(フラット)となっていることが好ましい。この場合、上記封止樹脂層表面で外光の乱反射を起こりにくくし、消灯時および発光時の両方において表示体の見栄えが向上する。図2,6,および7に示す表示体1において、非着色層43の正面側がフラットとなっている。 In the display of the present invention, the non-colored layer located closer to the front than the colored layer preferably has a flat front surface. In this case, diffuse reflection of external light is less likely to occur on the surface of the sealing resin layer, improving the appearance of the display both when the light is off and when it is on. In the display 1 shown in Figures 2, 6, and 7, the non-colored layer 43 has a flat front surface.
本発明の表示体において、上記着色層よりも上記光半導体素子側に上記非着色層を備えていてもよい。すなわち、上記封止樹脂層は、上記光半導体素子側から、上記非着色層および上記着色層をこの順に備えていてもよい。また、上記着色層よりも上記光半導体素子側に上記非着色層を備える場合、上記非着色層は、両面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有することが好ましい。このような構成を有すると上記着色層が凹凸形状を有することとなりやすい。図2および図7に示す表示体1において、封止樹脂層4は、光半導体素子3b~3e側から、非着色層41および着色層42をこの順に備え、非着色層41は両面が上記凹凸形状に追従した凹凸形状を有する。 In the display member of the present invention, the non-colored layer may be provided on the optical semiconductor element side of the colored layer. That is, the encapsulating resin layer may include the non-colored layer and the colored layer in this order, starting from the optical semiconductor element side. Furthermore, when the non-colored layer is provided on the optical semiconductor element side of the colored layer, it is preferable that both surfaces of the non-colored layer have an uneven shape that follows the uneven shape. This configuration makes it easier for the colored layer to have an uneven shape. In the display member 1 shown in Figures 2 and 7, the encapsulating resin layer 4 includes the non-colored layer 41 and the colored layer 42, starting from the optical semiconductor element 3b-3e side, in this order, and the non-colored layer 41 has an uneven shape that follows the uneven shape on both surfaces.
上記着色層よりも上記光半導体素子側に備える上記非着色層は、拡散機能層であることが好ましい。このような構成を有することで、光半導体素子が側面方向に発する光を上記拡散機能層中で拡散させ、正面輝度をより高くすることができる。 The non-colored layer provided on the optical semiconductor element side of the colored layer is preferably a diffusion layer. This configuration allows light emitted from the optical semiconductor element in the lateral direction to be diffused within the diffusion layer, thereby increasing the front brightness.
上記封止樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ独立して、粘着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止樹脂層は光半導体素子を容易に封止することができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する層は粘着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。なお、光半導体素子に接触する層以外の層は粘着性を有しなくてもよい。この場合、タイリング状態において隣接する封止樹脂層同士の密着性が低く、隣接した小サイズの積層体(基板上に配置された光半導体素子を封止樹脂層が封止した積層体)同士を引き離す際、封止樹脂層の欠損や隣接する封止樹脂層の付着が起こりにくい。 Each layer (the colored layer and the non-colored layer) constituting the encapsulating resin layer may or may not independently have adhesive properties. Adhesive properties are preferred. This configuration allows the encapsulating resin layer to easily encapsulate the optical semiconductor element, and provides excellent adhesion between the layers, resulting in superior encapsulation of the optical semiconductor element. In particular, it is preferred that at least the layer in contact with the optical semiconductor element be adhesive. This configuration provides excellent conformability and embedding of the optical semiconductor element by the encapsulating resin layer. As a result, excellent design is achieved even when the step caused by the optical semiconductor element is high. Note that layers other than the layer in contact with the optical semiconductor element do not need to be adhesive. In this case, adhesion between adjacent encapsulating resin layers is low in a tiling state, and when adjacent small-sized stacks (stacks in which encapsulating resin layers encapsulate optical semiconductor elements arranged on a substrate) are separated from each other, damage to the encapsulating resin layer and adhesion of adjacent encapsulating resin layers are unlikely to occur.
(着色層)
本発明の表示体における着色層は、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的とする層である。上記着色層は着色剤を少なくとも含む。上記着色層は、樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記着色剤は、上記着色層に溶解または分散可能なものであれば、染料でも顔料でもよい。少量の添加でも低いヘイズが達成でき、顔料のように沈降性がなく均一に分布させやすいことから、染料が好ましい。また、少量の添加でも色発現性が高いことから、顔料も好ましい。着色剤として顔料を使用する場合は、導電性が低いか、ないものが好ましい。上記着色剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
(colored layer)
The colored layer in the display of the present invention is a layer intended to prevent light reflection from metal wiring or the like provided on the substrate of the display. The colored layer contains at least a colorant. The colored layer is preferably a resin layer composed of a resin. The colorant may be a dye or a pigment as long as it is soluble or dispersible in the colored layer. Dyes are preferred because they can achieve low haze even with a small amount of addition, do not tend to settle like pigments, and are easily distributed uniformly. Pigments are also preferred because they provide high color expression even with a small amount of addition. When a pigment is used as a colorant, it is preferable that it has low or no conductivity. One or more of the colorants may be used.
上記着色剤としては、黒系着色剤が好ましい。上記黒系着色剤としては、公知乃至慣用の黒色を呈するための着色剤(顔料、染料等)を用いることができ、例えば、カーボンブラック(ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ランプブラック、松煙等)、グラファイト、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、シアニンブラック、活性炭、フェライト(非磁性フェライト、磁性フェライト等)、マグネタイト、酸化クロム、酸化鉄、二硫化モリブデン、クロム錯体、アントラキノン系着色剤、窒化ジルコニウムなどが挙げられる。また、黒色以外の色を呈する着色剤を組み合わせて配合して黒系着色剤として機能する着色剤を用いてもよい。 The above-mentioned colorant is preferably a black colorant. Known or commonly used colorants (pigments, dyes, etc.) for producing black can be used as the black colorant. Examples include carbon black (furnace black, channel black, acetylene black, thermal black, lamp black, pine soot, etc.), graphite, copper oxide, manganese dioxide, aniline black, perylene black, titanium black, cyanine black, activated carbon, ferrite (non-magnetic ferrite, magnetic ferrite, etc.), magnetite, chromium oxide, iron oxide, molybdenum disulfide, chromium complexes, anthraquinone-based colorants, and zirconium nitride. It is also possible to use a colorant that functions as a black colorant by combining colorants that produce colors other than black.
上記着色層における着色剤の含有割合は、適切な反射防止能を表示体に付与する観点からは、着色層の総量100質量%に対して、0.2質量%以上が好ましく、より好ましくは0.4質量%以上である。また、上記着色剤の含有割合は、例えば10質量%以下であり、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下である。上記含有割合は、着色剤の種類や、表示体の色調および光透過率等に応じて適宜設定すればよい。着色剤は、適宜の溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液として、組成物に添加してもよい。 From the viewpoint of imparting appropriate anti-reflection properties to the display, the content of the colorant in the colored layer is preferably 0.2% by mass or more, and more preferably 0.4% by mass or more, relative to the total amount (100% by mass) of the colored layer. The content of the colorant is, for example, 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less. The content may be set appropriately depending on the type of colorant, the color tone and light transmittance of the display, etc. The colorant may be added to the composition as a solution or dispersion dissolved or dispersed in an appropriate solvent.
上記着色層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、正面輝度および表示体の視認性を確保する観点から、50%以下が好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは30%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層のヘイズ値は、表示体の輝度ムラを効率的に低減する観点から、1%以上が好ましく、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは5%以上、特に好ましくは8%以上であり、10%以上であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring front luminance and visibility of the display, it is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, even more preferably 30% or less, and particularly preferably 20% or less. Furthermore, from the viewpoint of efficiently reducing luminance unevenness in the display, the haze value of the colored layer is preferably 1% or more, more preferably 3% or more, even more preferably 5% or more, and particularly preferably 8% or more, and may even be 10% or more. The haze value is the value at the thickest part of the colored layer in the display.
上記着色層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体における金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは25%以下、特に好ましくは20%以下である。また、上記着色層の全光線透過率は、表示体の輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましく、より好ましくは1%以上、さらに好ましくは1.5%以上、特に好ましくは2%以上であり、2.5%以上、または3%以上であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記着色層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of further improving the anti-reflection function of metal wiring and the contrast of the display, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, even more preferably 25% or less, and particularly preferably 20% or less. Furthermore, from the viewpoint of ensuring the brightness of the display, the total light transmittance of the colored layer is preferably 0.5% or more, more preferably 1% or more, even more preferably 1.5% or more, and particularly preferably 2% or more, and may even be 2.5% or more, or 3% or more. The total light transmittance is the value at the thickest part of the colored layer in the display.
上記着色層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、種類や厚さ、着色剤の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the colored layer are each values for a single layer and can be measured using the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. They can be controlled by the type and thickness, the type and amount of colorant, etc.
(非着色層)
上記非着色層は、上記着色層とは異なる層であり、表示体において基板上に設けられた金属配線などによる光の反射を防止することを目的としない層である。上記非着色層は、無色層であってもよく、わずかに着色していてもよい。また、上記非着色層は、例えば光を拡散する機能を発揮することを目的とする拡散機能層であってもよく、光を拡散する機能を発揮することを目的としない非拡散機能層であってもよい。上記非着色層は、透明であってもよく、非透明であってもよい。上記非着色層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。
(Non-colored layer)
The non-colored layer is a layer different from the colored layer and is not intended to prevent light reflection by metal wiring or the like provided on a substrate in a display device. The non-colored layer may be a colorless layer or may be slightly colored. Furthermore, the non-colored layer may be, for example, a diffusion functional layer intended to perform the function of diffusing light, or a non-diffusion functional layer intended not to perform the function of diffusing light. The non-colored layer may be transparent or non-transparent. The non-colored layer is preferably a resin layer made of resin.
上記非着色層における着色剤の含有割合は、非着色層の総量100質量%に対して、0.2質量%未満が好ましく、より好ましくは0.1質量%未満、さらに好ましくは0.05質量%未満であり、0.01質量%未満または0.005質量%未満であってもよい。 The colorant content in the non-colored layer is preferably less than 0.2% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, and even more preferably less than 0.05% by mass, relative to 100% by mass of the total amount of the non-colored layer, and may be less than 0.01% by mass or less than 0.005% by mass.
上記非着色層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体の輝度を確保するという観点から、40%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。また、上記非着色層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記非着色層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the non-colored layer is not particularly limited, but from the viewpoint of ensuring the brightness of the display, it is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, even more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. Furthermore, the upper limit of the total light transmittance of the non-colored layer is not particularly limited, but it may be less than 100%, or may be 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest part of the non-colored layer in the display.
上記非着色層の全光線透過率は、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、非着色層の種類や厚さなどにより制御することができる。 The total light transmittance of the above-mentioned non-colored layer is a value for a single layer and can be measured using the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. It can be controlled by the type and thickness of the non-colored layer.
上記拡散機能層は、光を拡散することを目的とする層である。上記封止樹脂層が上記拡散機能層を有すると、光半導体素子から発せられる光が拡散機能層中で拡散し、例えば光半導体素子の側面から発せられる光が表示体の正面方向に放出され、表示体の正面輝度が向上する。上記拡散機能層は樹脂で構成される樹脂層であることが好ましい。上記拡散機能層は、限定されないが、光拡散性微粒子を含むことが好ましい。すなわち、上記拡散機能層は、樹脂層中に分散した光拡散性微粒子を含むことが好ましい。上記光拡散性微粒子は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The diffusion layer is a layer intended to diffuse light. When the encapsulating resin layer includes the diffusion layer, light emitted from the optical semiconductor element is diffused within the diffusion layer. For example, light emitted from the side of the optical semiconductor element is emitted toward the front of the display, improving the front brightness of the display. The diffusion layer is preferably a resin layer made of resin. The diffusion layer is not limited, but preferably contains light-diffusing fine particles. That is, the diffusion layer preferably contains light-diffusing fine particles dispersed in the resin layer. Only one type of light-diffusing fine particles may be used, or two or more types may be used.
上記光拡散性微粒子は、拡散機能層を構成する樹脂との適切な屈折率差を有し、拡散機能層に拡散性能を付与するものである。光拡散性微粒子としては、無機微粒子、高分子微粒子などが挙げられる。無機微粒子の材質としては、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレー、タルク、金属酸化物などが挙げられる。高分子微粒子の材質としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂(例えば、ポリメタクリル酸メチル等のポリメタクリレート樹脂を含む)、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。 The light-diffusing microparticles have an appropriate refractive index difference from the resin that makes up the diffusion layer, and impart diffusion properties to the diffusion layer. Examples of light-diffusing microparticles include inorganic microparticles and polymeric microparticles. Examples of inorganic microparticle materials include silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, clay, talc, and metal oxides. Examples of polymeric microparticle materials include silicone resins, acrylic resins (including polymethacrylate resins such as polymethyl methacrylate), polystyrene resins, polyurethane resins, melamine resins, polyethylene resins, and epoxy resins.
上記高分子微粒子としては、シリコーン樹脂で構成される微粒子が好ましい。また、上記無機微粒子としては、金属酸化物で構成される微粒子が好ましい。上記金属酸化物としては、酸化チタン、チタン酸バリウムが好ましく、より好ましくは酸化チタンである。このような構成を有することにより、上記拡散機能層の光拡散性により優れ、輝度ムラがより抑制される。 The polymeric fine particles are preferably fine particles made of silicone resin. Furthermore, the inorganic fine particles are preferably fine particles made of metal oxide. The metal oxide is preferably titanium oxide or barium titanate, more preferably titanium oxide. This configuration provides the diffusion functional layer with superior light diffusion properties and further reduces brightness unevenness.
上記光拡散性微粒子の形状は、特に限定されず、例えば、真球状、扁平状、不定形状であってもよい。 The shape of the light-diffusing microparticles is not particularly limited and may be, for example, spherical, flat, or irregular.
上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、適切な光拡散性能を付与する観点からは、0.1μm以上が好ましく、より好ましくは0.15μm以上、さらに好ましくは0.2μm以上、特に好ましくは0.25μm以上である。また、上記光拡散性微粒子の平均粒子径は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、12μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは8μm以下である。平均粒子径は、例えば、コールターカウンターを用いて測定することができる。 From the viewpoint of providing appropriate light diffusion performance, the average particle diameter of the light-diffusing microparticles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.15 μm or more, even more preferably 0.2 μm or more, and particularly preferably 0.25 μm or more. Furthermore, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying high-resolution images, the average particle diameter of the light-diffusing microparticles is preferably 12 μm or less, more preferably 10 μm or less, and even more preferably 8 μm or less. The average particle diameter can be measured, for example, using a Coulter counter.
上記光拡散性微粒子の屈折率は、1.2~5が好ましく、より好ましくは1.25~4.5、さらに好ましくは1.3~4、特に好ましくは1.35~3である。 The refractive index of the light-diffusing fine particles is preferably 1.2 to 5, more preferably 1.25 to 4.5, even more preferably 1.3 to 4, and particularly preferably 1.35 to 3.
上記光拡散性微粒子と拡散機能層を構成する樹脂(拡散機能層において光拡散性微粒子を除いた樹脂層)との屈折率差の絶対値は、表示体の輝度ムラをより効率的に低減する観点から、0.001以上が好ましく、より好ましくは0.01以上、さらに好ましくは0.02以上、特に好ましくは0.03以上であり、0.04以上、または0.05以上であってもよい。また、光拡散性微粒子と樹脂との屈折率差の絶対値は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、5以下が好ましく、より好ましくは4以下、さらに好ましくは3以下である。 The absolute value of the refractive index difference between the light-diffusing microparticles and the resin constituting the diffusion function layer (the resin layer in the diffusion function layer excluding the light-diffusing microparticles) is preferably 0.001 or more, more preferably 0.01 or more, even more preferably 0.02 or more, and particularly preferably 0.03 or more, and may be 0.04 or more, or even 0.05 or more, from the viewpoint of more efficiently reducing brightness unevenness in the display. Furthermore, the absolute value of the refractive index difference between the light-diffusing microparticles and the resin is preferably 5 or less, more preferably 4 or less, and even more preferably 3 or less, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying high-resolution images.
上記拡散機能層中の上記光拡散性微粒子の含有量は、適切な光拡散性能を封止樹脂層に付与する観点からは、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部以上が好ましく、より好ましくは0.05質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上、特に好ましくは0.15質量部以上である。また、光拡散性微粒子の含有量は、ヘイズ値が高くなり過ぎることを防止し、高精細な画像を表示する観点から、拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、80質量部以下が好ましく、より好ましくは70質量部以下である。 From the viewpoint of imparting appropriate light diffusion performance to the encapsulating resin layer, the content of the light-diffusing microparticles in the diffusion function layer is preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.05 parts by mass or more, even more preferably 0.1 parts by mass or more, and particularly preferably 0.15 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion function layer. Furthermore, from the viewpoint of preventing the haze value from becoming too high and displaying high-resolution images, the content of the light-diffusing microparticles is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 70 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the resin constituting the diffusion function layer.
上記拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラを効率的に低減する観点から、30%以上が好ましく、より好ましくは40%以上、さらに好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上であり、70%以上、80%以上、90%以上、95%以上、97%以上であってもよく、さらに99.9%付近のものが輝度ムラ改善効果により優れて好ましい。なお、上記拡散機能層のヘイズ値の上限は、特に限定されず、すなわち、100%であってもよい。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the diffusion functional layer is not particularly limited, but from the perspective of efficiently reducing brightness unevenness, it is preferably 30% or more, more preferably 40% or more, even more preferably 50% or more, and particularly preferably 60% or more. It may be 70% or more, 80% or more, 90% or more, 95% or more, or 97% or more, and a value around 99.9% is preferable as it has a superior effect of improving brightness unevenness. The upper limit of the haze value of the diffusion functional layer is not particularly limited, and may be 100%. The haze value is the value at the thickest part of the diffusion functional layer in the display.
上記拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、輝度を確保するという観点から、40%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上である。また、上記拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the diffusion function layer is not particularly limited, but from the perspective of ensuring brightness, it is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, even more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. Furthermore, the upper limit of the total light transmittance of the diffusion function layer is not particularly limited, but it may be less than 100%, or may be 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest part of the diffusion function layer in the display.
上記拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、拡散機能層の種類や厚さ、光拡散性微粒子の種類や配合量などにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the above-mentioned diffusion functional layer are each values for a single layer and can be measured using the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. They can be controlled by the type and thickness of the diffusion functional layer, the type and amount of light-diffusing microparticles, etc.
上記非拡散機能層のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、表示体の輝度を優れたものとする観点から、30%未満が好ましく、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%以下、特に好ましくは1%以下であり、0.5%以下であってもよい。なお、上記非拡散機能層のヘイズ値の下限は特に限定されない。上記ヘイズ値は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The haze value (initial haze value) of the non-diffusion functional layer is not particularly limited, but from the perspective of achieving excellent brightness in the display, it is preferably less than 30%, more preferably 10% or less, even more preferably 5% or less, and particularly preferably 1% or less, and may even be 0.5% or less. There is no particular limit to the lower limit of the haze value of the non-diffusion functional layer. The haze value is the value at the thickest part of the non-diffusion functional layer in the display.
上記非拡散機能層の全光線透過率は、特に限定されないが、表示体の輝度を確保するという観点から、60%以上が好ましく、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。また、上記非拡散機能層の全光線透過率の上限値は特に限定されないが、100%未満であってもよく、99.9%以下、または99%以下であってもよい。上記全光線透過率は、上記表示体中において上記非拡散機能層が最も厚い部分の値である。 The total light transmittance of the non-diffusion functional layer is not particularly limited, but from the perspective of ensuring the brightness of the display, it is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, even more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more. Furthermore, the upper limit of the total light transmittance of the non-diffusion functional layer is not particularly limited, but it may be less than 100%, or may be 99.9% or less, or 99% or less. The total light transmittance is the value at the thickest part of the non-diffusion functional layer in the display.
上記非拡散機能層のヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、単層の値であり、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、非拡散機能層の種類や厚さなどにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance of the non-diffusion functional layer are values for a single layer and can be measured using the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1. They can be controlled by the type and thickness of the non-diffusion functional layer.
上記非拡散機能層中の着色剤および/または光拡散性微粒子の含有量は、表示体の輝度を優れたものとする観点から、非拡散機能層を構成する樹脂100質量部に対して、0.01質量部未満が好ましく、より好ましくは0.005質量部未満である。 From the viewpoint of achieving excellent brightness of the display, the content of colorant and/or light-diffusing fine particles in the non-diffusion functional layer is preferably less than 0.01 parts by mass, and more preferably less than 0.005 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin constituting the non-diffusion functional layer.
(樹脂層)
上記着色層および上記非着色層が上記樹脂層である場合、上記樹脂層を構成する樹脂としては、公知乃至慣用の樹脂が挙げられ、例えば、アクリル系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、エポキシ系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、オキセタン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂(ポリビニルエーテル等)、ポリアミド系樹脂、フッ素系樹脂、酢酸ビニル/塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィンなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記封止樹脂層の各層を構成する樹脂は、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
(Resin layer)
When the colored layer and the non-colored layer are resin layers, the resin constituting the resin layer may be a known or commonly used resin, such as an acrylic resin, a urethane acrylate resin, a urethane resin, a rubber resin, an epoxy resin, an epoxy acrylate resin, an oxetane resin, a silicone resin, a silicone acrylic resin, a polyester resin, a polyether resin (such as polyvinyl ether), a polyamide resin, a fluorine-containing resin, a vinyl acetate/vinyl chloride copolymer, or a modified polyolefin. One or more of the resins may be used. The resins constituting each layer of the encapsulating resin layer may be the same or different.
上記樹脂層が粘着性を有する層(粘着層)である場合、上記樹脂として、公知乃至慣用の感圧型の粘着剤を用いることができる。上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤(天然ゴム系、合成ゴム系、これらの混合系等)、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、フッ素系粘着剤などが挙げられる。上記粘着剤は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 When the resin layer is an adhesive layer (adhesive layer), a known or commonly used pressure-sensitive adhesive can be used as the resin. Examples of such adhesives include acrylic adhesives, rubber adhesives (natural rubber, synthetic rubber, and mixtures thereof), silicone adhesives, polyester adhesives, urethane adhesives, polyether adhesives, polyamide adhesives, and fluorine adhesives. One or more of the above adhesives may be used.
上記樹脂層は、上記各層において本発明の効果を損なわない範囲で、上述の各成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、硬化剤、架橋促進剤、粘着付与樹脂(ロジン誘導体、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール等)、オリゴマー、老化防止剤、充填剤(金属粉、有機充填剤、無機充填剤等)、酸化防止剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤、表面潤滑剤、レベリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、粒状物、箔状物などが挙げられる。上記その他の成分は、それぞれ、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。 The resin layer may contain other components in addition to the components described above, as long as the effects of the present invention are not impaired in each layer. Examples of such other components include curing agents, crosslinking accelerators, tackifying resins (rosin derivatives, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenols, etc.), oligomers, antioxidants, fillers (metal powders, organic fillers, inorganic fillers, etc.), antioxidants, plasticizers, softeners, surfactants, antistatic agents, surface lubricants, leveling agents, light stabilizers, UV absorbers, polymerization inhibitors, granular materials, and foil-like materials. Only one of the above other components may be used, or two or more may be used.
上記封止樹脂層の積層構造としては、[着色層/拡散機能層]、[着色層/非拡散機能層]、[着色層/拡散機能層/非拡散機能層]、[着色層/非拡散機能層/拡散機能層]、[拡散機能層/着色層/非拡散機能層]、[非拡散機能層/着色層/拡散機能層]、[拡散機能層/着色層/拡散機能層]、[非拡散機能層/着色層/非拡散機能層](以上、光半導体素子側から順)などが挙げられる。 Examples of the laminate structure of the encapsulating resin layer include [colored layer/diffusion functional layer], [colored layer/non-diffusion functional layer], [colored layer/diffusion functional layer/non-diffusion functional layer], [colored layer/non-diffusion functional layer/diffusion functional layer], [diffusion functional layer/colored layer/non-diffusion functional layer], [non-diffusion functional layer/colored layer/diffusion functional layer], [diffusion functional layer/colored layer/diffusion functional layer], and [non-diffusion functional layer/colored layer/non-diffusion functional layer] (all in order from the optical semiconductor element side).
<基材部>
本発明の表示体は、基材部を備えていてもよく、備えていなくてもよい。上記基材部は、上記表示体において封止樹脂層の正面側に備えると、封止樹脂層表面をフラットにすることができ、これより光の乱反射を起こりにくくし、消灯時および発光時の両方において表示体の見栄えが向上する。また、上記基材部に後述のアンチグレア層や反射防止層を形成することで表示体にアンチグレア性や反射防止性を付与することができる。また、後述の光半導体素子封止用シートにおいて封止用樹脂層の支持体となり、上記基材部を備えることにより光半導体素子封止用シートの取り扱い性に優れる。
<Base material part>
The display of the present invention may or may not include a substrate. When the substrate is provided on the front side of the encapsulating resin layer in the display, the surface of the encapsulating resin layer can be made flat, thereby reducing the occurrence of diffused reflection of light and improving the appearance of the display both when the light is off and when the light is on. Furthermore, by forming an anti-glare layer or an anti-reflection layer described below on the substrate, the display can be imparted with anti-glare properties or anti-reflection properties. Furthermore, the substrate serves as a support for the encapsulating resin layer in the sheet for encapsulating optical semiconductor elements described below, and by providing the substrate, the sheet for encapsulating optical semiconductor elements has excellent handleability.
上記基材部は、単層であってもよいし、同一または組成や厚さ等が異なる複層であってもよい。上記基材部が複層である場合、各層は粘着剤層などの他の層により貼り合わせられていてもよい。なお、基材部に使用される基材層は、封止樹脂層とともに光半導体素子を備える基板に貼付される部分であり、光半導体素子封止用シートの使用時(貼付時)に剥離されるはく離ライナーや、基材部表面を保護するに過ぎない表面保護フィルムは「基材部」には含まない。 The substrate portion may be a single layer, or may be multiple layers that are the same or have different compositions, thicknesses, etc. When the substrate portion is multiple layers, each layer may be bonded to another layer such as an adhesive layer. Note that the substrate layer used in the substrate portion is the part that is attached to the substrate that includes the optical semiconductor element together with the encapsulating resin layer; the "substrate portion" does not include release liners that are peeled off when the optical semiconductor element encapsulation sheet is used (attached), or surface protection films that merely protect the surface of the substrate portion.
上記基材部を構成する基材層としては、例えば、ガラスやプラスチック基材(特に、プラスチックフィルム)などが挙げられる。上記プラスチック基材を構成する樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン、アイオノマー、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-プロピレン共重合体、環状オレフィン系ポリマー、エチレン-ブテン共重合体、エチレン-ヘキセン共重合体等のポリオレフィン樹脂;ポリウレタン;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリイミド系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルイミド;アラミド、全芳香族ポリアミド等のポリアミド;ポリフェニルスルフィド;フッ素樹脂;ポリ塩化ビニル;ポリ塩化ビニリデン;トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース樹脂;シリコーン樹脂;ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂;ポリサルフォン;ポリアリレート;ポリ酢酸ビニルなどが挙げられる。上記樹脂は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。上記基材層は、反射防止(AR)フィルム、偏光板、位相差板等の各種光学フィルムであってもよい。 Examples of the substrate layer constituting the substrate portion include glass and plastic substrates (particularly plastic films). Resins constituting the plastic substrate include, for example, low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, very low-density polyethylene, random copolymer polypropylene, block copolymer polypropylene, homopolypropylene, polybutene, polymethylpentene, ionomers, ethylene-(meth)acrylic acid copolymers, ethylene-(meth)acrylic acid ester (random, alternating) copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers (EVA), ethylene-propylene copolymers, cyclic olefin polymers, ethylene-butene copolymers, and ethylene-hexene copolymers. Examples of suitable resins include polyolefin resins, polyurethanes, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate (PBT); polycarbonates, polyimide resins, polyether ether ketones, polyetherimides, polyamides such as aramids and wholly aromatic polyamides, polyphenyl sulfides, fluororesins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC), silicone resins, acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polysulfones, polyarylates, and polyvinyl acetates. These resins may be used singly or in combination. The substrate layer may be an anti-reflection (AR) film, a polarizing plate, a retardation plate, or any of a variety of other optical films.
上記プラスチックフィルムの厚さは、20~300μmであることが好ましく、より好ましくは40~250μmである。上記厚さが20μm以上であると、光半導体素子封止用シートの支持性および取り扱い性がより向上する。上記厚さが300μm以下であると、表示体をより薄くすることができる。 The thickness of the plastic film is preferably 20 to 300 μm, and more preferably 40 to 250 μm. If the thickness is 20 μm or more, the supportability and handleability of the optical semiconductor element encapsulation sheet will be improved. If the thickness is 300 μm or less, the display body can be made thinner.
上記基材部の上記封止樹脂層を備える側の表面は、封止樹脂層との密着性、保持性等を高める目的で、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、サンドマット加工処理、オゾン暴露処理、火炎暴露処理、高圧電撃暴露処理、イオン化放射線処理等の物理的処理;クロム酸処理等の化学的処理;コーティング剤(下塗り剤)による易接着処理等の表面処理が施されていてもよい。密着性を高めるための表面処理は、基材部における封止樹脂層側の表面全体に施されていることが好ましい。 The surface of the substrate on the side bearing the encapsulating resin layer may be subjected to surface treatments such as physical treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, sand matting treatment, ozone exposure treatment, flame exposure treatment, high-voltage shock exposure treatment, and ionizing radiation treatment; chemical treatments such as chromate treatment; and adhesion-enhancing treatments using a coating agent (primer) in order to improve adhesion and retention with the encapsulating resin layer. Surface treatments to improve adhesion are preferably applied to the entire surface of the substrate on the side facing the encapsulating resin layer.
上記基材部の厚さは、支持体としての機能および表面の耐擦傷性に優れる観点から、5μm以上が好ましく、より好ましくは10μm以上である。上記基材部の厚さは、透明性により優れる観点から、300μm以下が好ましく、より好ましくは250μm以下である。 The thickness of the substrate is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, from the viewpoint of excellent support function and surface scratch resistance. The thickness of the substrate is preferably 300 μm or less, more preferably 250 μm or less, from the viewpoint of excellent transparency.
<表示体>
上記表示体は、アンチグレア性および/または反射防止性を有する層を備えていてもよい。このような構成を有することにより、上記表示体の光沢や光の反射を抑制し、見栄えをより良くすることができる。上記アンチグレア性を有する層としてはアンチグレア処理層が挙げられる。上記反射防止性を有する層としては反射防止処理層が挙げられる。アンチグレア処理および反射防止処理は、それぞれ、公知乃至慣用の方法で実施することができる。上記アンチグレア性を有する層および上記反射防止性を有する層は、同一層であってもよいし、互いに異なる層であってもよい。上記アンチグレア性および/または反射防止性を有する層は、一層のみ有していてもよいし、二層以上を有していてもよい。
<Display body>
The display may include a layer having antiglare and/or antireflection properties. Such a configuration can suppress the gloss and light reflection of the display, improving its appearance. An example of the layer having antiglare properties is an antiglare-treated layer. An example of the layer having antireflection properties is an antireflection-treated layer. The antiglare treatment and the antireflection treatment can be performed by known or conventional methods. The antiglare layer and the antireflection layer may be the same layer or different layers. The display may have only one layer having antiglare and/or antireflection properties, or two or more layers.
上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体のヘイズ値(初期ヘイズ値)は、特に限定されないが、輝度ムラの抑制効果と意匠性とがより優れたものとする観点から、80%以上が好ましく、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上である。なお、上記ヘイズ値の上限は特に限定されない。 The haze value (initial haze value) of the encapsulating resin layer or of the laminate having the encapsulating resin layer and the substrate portion as both end faces is not particularly limited, but from the perspective of achieving a superior effect in suppressing brightness unevenness and designability, it is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, even more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more. There is no particular upper limit to the haze value.
上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の全光線透過率は、特に限定されないが、金属配線などの反射防止機能、コントラストをより向上させるという観点から、40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下である。また、上記全光線透過率は、輝度を確保するという観点から、0.5%以上であることが好ましい。 The total light transmittance of the encapsulating resin layer or the laminate having the encapsulating resin layer and the substrate portion as both end faces is not particularly limited, but from the viewpoint of further improving the anti-reflection function of metal wiring and the like and contrast, it is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 20% or less. Furthermore, from the viewpoint of ensuring brightness, the total light transmittance is preferably 0.5% or more.
上記ヘイズ値および全光線透過率は、それぞれ、JIS K7136、JIS K7361-1で定める方法により測定できるものであり、上記封止樹脂層および上記基材部を構成する各層の積層順や種類、厚さなどにより制御することができる。 The haze value and total light transmittance can be measured by the methods specified in JIS K7136 and JIS K7361-1, respectively, and can be controlled by the stacking order, type, and thickness of the layers that make up the encapsulating resin layer and the base material.
上記封止樹脂層、または、上記封止樹脂層および上記基材部を両端面とする積層体の厚さは、金属配線などの反射防止機能、コントラストを向上させつつ、カラーシフトをより効率的に低減する観点から、10~600μmであることが好ましく、より好ましくは20~550μm、さらに好ましくは30~500μm、さらに好ましくは40~450μm、特に好ましくは50~400μmである。なお、はく離ライナーは上記厚さには含まれないものとする。 The thickness of the encapsulating resin layer, or the laminate having the encapsulating resin layer and the substrate as both end faces, is preferably 10 to 600 μm, more preferably 20 to 550 μm, even more preferably 30 to 500 μm, even more preferably 40 to 450 μm, and particularly preferably 50 to 400 μm, from the perspective of improving the anti-reflection function and contrast of metal wiring and the like while more efficiently reducing color shift. Note that the release liner is not included in the above thickness.
また、本発明の表示体は、自発光型表示装置を備えることが好ましい。また、上記自発光型表示装置と、必要に応じて表示パネルとを組み合わせることで画像表示装置である表示体とすることができる。この場合の光半導体素子はLED素子である。上記自発光型表示装置としては、LEDディスプレイやバックライト、あるいは有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。上記バックライトは特に全面直下型のバックライトであることが好ましい。上記バックライトは例えば上記基板と当該基板上に配置された複数の光半導体素子とを備える積層体を構成部材の少なくとも一部として含む。例えば、上記自発光型表示装置において、上記基板上には、各LED素子に発光制御信号を送るための金属配線層が積層されている。赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色の光を発する各LED素子は、基板上に金属配線層を介して交互に配列されている。金属配線層は、銅などの金属によって形成されており、各LED素子の発光度合いを調整して各色を表示させる。 The display of the present invention preferably includes a self-luminous display device. The self-luminous display device can be combined with a display panel, if necessary, to form an image display device. In this case, the optical semiconductor elements are LED elements. Examples of the self-luminous display device include LED displays, backlights, and organic electroluminescence (organic EL) display devices. The backlight is preferably a full-surface direct backlight. The backlight includes, as at least a portion of its components, a laminate comprising the substrate and multiple optical semiconductor elements arranged on the substrate. For example, in the self-luminous display device, a metal wiring layer is laminated on the substrate for sending light-emission control signals to each LED element. The LED elements emitting red (R), green (G), and blue (B) light are alternately arranged on the substrate via the metal wiring layer. The metal wiring layer is made of a metal such as copper, and adjusts the light emission intensity of each LED element to display each color.
本発明の表示体は、折り曲げて使用される表示体、例えば、折り曲げ可能な画像表示装置(フレキシブルディスプレイ)(特に、折り畳み可能な画像表示装置(フォルダブルディスプレイ))であってもよい。具体的には、折り畳み可能なバックライトを備える表示体、折り畳み可能な自発光型表示装置を備える表示体などが挙げられる。 The display of the present invention may be a display that is used by folding, such as a foldable image display device (flexible display) (particularly a foldable image display device (foldable display)). Specific examples include displays equipped with a foldable backlight and displays equipped with a foldable self-luminous display device.
本発明の表示体において、上記封止樹脂層は光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れるため、上記光半導体素子はミニLED素子やマイクロLED素子であってもよい。 In the display of the present invention, the encapsulating resin layer has excellent conformability and embeddability for optical semiconductor elements, so the optical semiconductor elements may be mini LED elements or micro LED elements.
本発明の表示体によれば、光半導体素子が発する光によるカラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い。このため、上記表示体は、広い視野から同じ色味で表示体を視認することができる。また、上記表示体は消費電力を高くしなくても明るく見栄えが良い。さらに、本発明の表示体によれば、基板上の金属配線などによる光の反射が抑制され、光半導体素子の非点灯時において見栄えが良い。 The display of the present invention is less susceptible to color shift due to the light emitted by the optical semiconductor element and has high brightness. Therefore, the display can be viewed with the same color from a wide field of view. The display also has a bright and attractive appearance without increasing power consumption. Furthermore, the display of the present invention suppresses light reflection from metal wiring on the substrate, resulting in a beautiful appearance even when the optical semiconductor element is not lit.
[表示体の製造方法]
本発明の表示体は、封止用樹脂層を備える光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止することで製造することができる。
[Display body manufacturing method]
The display member of the present invention can be produced by laminating a sheet for encapsulating an optical semiconductor element, which includes an encapsulating resin layer, to a substrate on which an optical semiconductor element is arranged, and encapsulating the optical semiconductor element with the encapsulating resin layer.
(光半導体素子封止用シート)
上記光半導体素子封止用シートは、基板上に配置された複数の光半導体素子を封止するためのシートである。上記光半導体素子封止用シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を少なくとも備える。上記光半導体素子封止用シートは、上記封止用樹脂層により上記着色層側が上記光半導体素子側となるように上記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際において、上記式(1)および(2)を満たし得るシートである。本発明の光半導体素子封止用シートによれば、光半導体素子を封止することにより、カラーシフトが起こりにくく、且つ輝度が高い表示体を提供することができる。
(Optical semiconductor element encapsulation sheet)
The optical semiconductor element encapsulation sheet is a sheet for encapsulating a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate. The optical semiconductor element encapsulation sheet includes at least an encapsulating resin layer including a colored layer and a non-colored layer. The optical semiconductor element encapsulation sheet is a sheet that can satisfy the above formulas (1) and (2) when the encapsulating resin layer is formed by encapsulating the plurality of optical semiconductor elements with the encapsulating resin layer so that the colored layer side faces the optical semiconductor elements. The optical semiconductor element encapsulation sheet of the present invention can provide a display that is less likely to undergo color shift and has high brightness by encapsulating optical semiconductor elements.
上記光半導体素子封止用シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を少なくとも備える。上記封止用樹脂層は本発明の表示体における上記封止樹脂層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記着色層は本発明の表示体における上記着色層を形成し得る層であり、上記封止用樹脂層中の上記非着色層は本発明の表示体における上記非着色層を形成し得る層である。具体的には、上記封止用樹脂層中の上記着色層は、本発明の表示体における上記着色層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記着色層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層中の上記非着色層は、本発明の表示体における上記非着色層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記非着色層となる層であってもよい。 The optical semiconductor element encapsulation sheet includes at least an encapsulating resin layer including a colored layer and a non-colored layer. The encapsulating resin layer is a layer that can form the encapsulating resin layer in the display of the present invention. Specifically, the colored layer in the encapsulating resin layer is a layer that can form the colored layer in the display of the present invention, and the non-colored layer in the encapsulating resin layer is a layer that can form the non-colored layer in the display of the present invention. Specifically, the colored layer in the encapsulating resin layer may be a layer that has the same composition (components and their blending ratios) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) as the colored layer in the display of the present invention, or may be a layer that becomes the colored layer in the display of the present invention upon curing. Furthermore, the non-colored layer in the encapsulating resin layer may be a layer that has the same composition (components and their blending ratios) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) as the non-colored layer in the display of the present invention, or may be a layer that becomes the non-colored layer in the display of the present invention upon curing.
上記封止用樹脂層は、本発明の表示体における封止樹脂層の構造に応じて適宜設計される。例えば、本発明の表示体が上記拡散機能層を含む場合、上記光半導体素子封止用シートにおける上記封止用樹脂層は拡散機能層を含む。上記封止用樹脂層中の上記拡散機能層は、本発明の表示体における上記拡散機能層と組成(構成成分およびそれらの配合割合)や物性(ヘイズ、全光線透過率など)が同一の層であってもよいし、硬化により本発明の表示体における上記拡散機能層となる層であってもよい。また、上記封止用樹脂層は、上記拡散機能層、上記着色層、および上記非着色層をこの順に備えることが好ましい。なお、拡散機能層は、上記着色層および上記非着色層の一方に該当する層である。 The encapsulating resin layer is designed appropriately depending on the structure of the encapsulating resin layer in the display of the present invention. For example, if the display of the present invention includes the diffusion layer, the encapsulating resin layer in the optical semiconductor element encapsulation sheet also includes a diffusion layer. The diffusion layer in the encapsulating resin layer may be a layer having the same composition (constituent components and their blending ratio) and physical properties (haze, total light transmittance, etc.) as the diffusion layer in the display of the present invention, or it may be a layer that becomes the diffusion layer in the display of the present invention upon curing. Furthermore, the encapsulating resin layer preferably comprises the diffusion layer, the colored layer, and the non-colored layer in this order. The diffusion layer is a layer that corresponds to either the colored layer or the non-colored layer.
上記封止用樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ独立して、粘着性および/または接着性を有していてもよく、有していなくてもよい。中でも、粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、上記封止用樹脂層は基板および光半導体素子に容易に貼り合わせることができ、また、各層間の密着性に優れ、光半導体素子の封止性により優れる。特に、少なくとも光半導体素子に接触する層は粘着性および/または接着性を有することが好ましい。このような構成を有することにより、封止用樹脂層による光半導体素子の追従性および埋め込み性に優れる。その結果、光半導体素子による段差が高い場合であっても意匠性に優れる。 Each layer (the colored layer and the non-colored layer) constituting the encapsulating resin layer may or may not independently have tackiness and/or adhesiveness. Among these, tackiness and/or adhesiveness are preferred. This configuration allows the encapsulating resin layer to be easily attached to the substrate and the optical semiconductor element, and provides excellent adhesion between the layers, resulting in superior encapsulation of the optical semiconductor element. In particular, it is preferred that at least the layer in contact with the optical semiconductor element has tackiness and/or adhesiveness. This configuration provides excellent conformability and embedding of the optical semiconductor element by the encapsulating resin layer. As a result, excellent design is achieved even when the step caused by the optical semiconductor element is high.
上記封止用樹脂層を構成する各層(上記着色層および上記非着色層)は、それぞれ独立して、放射線照射により硬化する性質を有する樹脂層(放射線硬化性樹脂層)であってもよく、放射線照射により硬化する性質を有しない樹脂層(放射線非硬化性樹脂層)であってもよい。上記放射線としては、例えば、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、またはX線などが挙げられる。上記着色層が放射線硬化性樹脂層である場合、上記着色層に含まれ得る上記着色剤は、可視光を吸収し、かつ上記放射線硬化性樹脂層が硬化し得る波長の光の透過性を有するものが好ましい。 Each layer constituting the encapsulating resin layer (the colored layer and the non-colored layer) may independently be a resin layer that has the property of being cured by irradiation with radiation (a radiation-curable resin layer), or a resin layer that does not have the property of being cured by irradiation with radiation (a non-radiation-curable resin layer). Examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, alpha rays, beta rays, gamma rays, and X-rays. When the colored layer is a radiation-curable resin layer, the colorant contained in the colored layer preferably absorbs visible light and is transparent to light of a wavelength that can cure the radiation-curable resin layer.
上記光半導体素子封止用シートは上記基材部を備えていてもよい。上記基材部を備える場合、上記封止用樹脂層は、基材部の少なくとも一方の面に備えられていてもよい。上記封止用樹脂層の上記基材部と接触する面は、上記封止用樹脂層が光半導体素子と接する側とは反対側の面である。上記光半導体素子封止用シートが上記基材部を備える場合、上記光半導体素子封止用シートは上記基材部と共に光半導体素子および基板に貼り合わせられ、上記光半導体素子封止用シートにおける基材部は本発明の表示体における基材部となる。 The optical semiconductor element encapsulation sheet may include the substrate portion. When the substrate portion is included, the encapsulating resin layer may be provided on at least one surface of the substrate portion. The surface of the encapsulating resin layer that comes into contact with the substrate portion is the surface opposite to the side of the encapsulating resin layer that comes into contact with the optical semiconductor element. When the optical semiconductor element encapsulation sheet includes the substrate portion, the optical semiconductor element encapsulation sheet, together with the substrate portion, is attached to the optical semiconductor element and the substrate, and the substrate portion of the optical semiconductor element encapsulation sheet becomes the substrate portion of the display of the present invention.
また、上記封止用樹脂層は、はく離ライナー上のはく離処理面に形成されていてもよい。上記光半導体素子封止用シートが上記はく離ライナーに形成されている場合、上記はく離ライナーは上記封止用樹脂層の光半導体素子と接する側がはく離ライナーと接触する側となる。上記基材部を有しない場合は上記封止用樹脂層の両面がはく離ライナーと接触する側であってもよい。はく離ライナーは上記光半導体素子封止用シートの保護材として用いられ、光半導体素子を封止する際に剥がされる。なお、基材部およびはく離ライナーは必ずしも設けられなくてもよい。 The encapsulating resin layer may also be formed on a release-treated surface of a release liner. When the optical semiconductor element encapsulation sheet is formed on the release liner, the side of the encapsulating resin layer that contacts the optical semiconductor element becomes the side that comes into contact with the release liner. When the substrate portion is not present, both sides of the encapsulating resin layer may come into contact with the release liner. The release liner is used as a protective material for the optical semiconductor element encapsulation sheet and is peeled off when the optical semiconductor element is encapsulated. The substrate portion and release liner are not necessarily provided.
上記はく離ライナーは、上記光半導体素子封止用シート表面を被覆して保護するための要素であり、光半導体素子が配置された基板に光半導体素子封止用シートを貼り合わせる際には当該シートから剥がされる。 The release liner is an element that covers and protects the surface of the optical semiconductor element encapsulation sheet, and is peeled off from the sheet when the optical semiconductor element encapsulation sheet is attached to a substrate on which an optical semiconductor element is disposed.
上記はく離ライナーとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、フッ素系剥離剤や長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチックフィルムや紙類などが挙げられる。 Examples of the release liner include polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene film, polypropylene film, and plastic films and papers whose surfaces are coated with release agents such as fluorine-based release agents and long-chain alkyl acrylate release agents.
上記はく離ライナーの厚さは、例えば10~200μm、好ましくは15~150μm、より好ましくは20~100μmである。上記厚さが10μm以上であると、はく離ライナーの加工時に切り込みにより破断しにくい。上記厚さが200μm以下であると、使用時に上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーをより剥離しやすい。 The thickness of the release liner is, for example, 10 to 200 μm, preferably 15 to 150 μm, and more preferably 20 to 100 μm. If the thickness is 10 μm or more, the release liner is less likely to break due to cuts during processing. If the thickness is 200 μm or less, the release liner is more easily peeled from the optical semiconductor element encapsulation sheet during use.
図8を用いて、上記光半導体素子封止用シートの一実施形態について説明する。図8は、図2に示す表示体を形成可能な上記光半導体素子封止用シートの断面図である。図8に示すように、光半導体素子封止用シート10は、基板上に配置された1以上の光半導体素子を封止するために使用することのできるものであり、基材部5と基材部5上に形成された封止用樹脂層7とを備える。封止用樹脂層7は、非着色層71、着色層72、および非着色層73の積層体から形成されている。非着色層71、着色層72、および非着色層73は粘着性を有し、互いに直接積層している。封止用樹脂層7の非着色層71表面にははく離ライナー6が貼付されており、非着色層73表面には基材部5が貼付されている。 One embodiment of the optical semiconductor element encapsulation sheet will be described using Figure 8. Figure 8 is a cross-sectional view of the optical semiconductor element encapsulation sheet capable of forming the display shown in Figure 2. As shown in Figure 8, the optical semiconductor element encapsulation sheet 10 can be used to encapsulate one or more optical semiconductor elements arranged on a substrate, and includes a substrate 5 and an encapsulating resin layer 7 formed on the substrate 5. The encapsulating resin layer 7 is formed from a laminate of a non-colored layer 71, a colored layer 72, and a non-colored layer 73. The non-colored layer 71, the colored layer 72, and the non-colored layer 73 are adhesive and directly laminated to one another. A release liner 6 is attached to the surface of the non-colored layer 71 of the encapsulating resin layer 7, and the substrate 5 is attached to the surface of the non-colored layer 73.
(封止工程)
上記光半導体素子封止用シートを用いて本発明の表示体を製造する方法において、上記光半導体素子封止用シートを、光半導体素子が配置された基板に貼り合わせ、封止用樹脂層により光半導体素子を封止する封止工程を有する。上記封止工程では、具体的には、まず、上記光半導体素子封止用シートからはく離ライナーを剥離して封止用樹脂層を露出させる。そして、基板と、上記基板上に配置された光半導体素子(好ましくは複数の光半導体素子)とを備える積層体(光学部材など)の、光半導体素子が配置された基板面に、上記光半導体素子封止用シートの露出面である封止用樹脂層面を貼り合わせ、上記積層体が複数の光半導体素子を備える場合はさらに複数の光半導体素子間の隙間を上記封止用樹脂層が充填するように配置し、複数の光半導体素子を一括して封止する。具体的には、図9に示すように、はく離ライナー6を剥離した光半導体素子封止用シート10の非着色層71を、基板2の光半導体素子3a~3fが配置された面に対向するように配置し、光半導体素子封止用シート10を基板2の光半導体素子3a~3fが配置された面に貼り合わせ、光半導体素子3a~3fを封止用樹脂層7に埋め込む。
(Sealing process)
The method for producing a display member of the present invention using the optical semiconductor element encapsulation sheet includes an encapsulation step of laminating the optical semiconductor element encapsulation sheet to a substrate on which optical semiconductor elements are arranged and encapsulating the optical semiconductor elements with an encapsulating resin layer. Specifically, the encapsulation step first involves peeling the release liner from the optical semiconductor element encapsulation sheet to expose the encapsulating resin layer. Then, of a laminate (such as an optical member) including a substrate and optical semiconductor elements (preferably multiple optical semiconductor elements) arranged on the substrate, the encapsulating resin layer surface, which is the exposed surface of the optical semiconductor element encapsulation sheet, is laminated to the substrate surface on which the optical semiconductor elements are arranged. If the laminate includes multiple optical semiconductor elements, the encapsulating resin layer is further arranged to fill gaps between the multiple optical semiconductor elements, thereby encapsulating the multiple optical semiconductor elements collectively. Specifically, as shown in FIG. 9 , the non-colored layer 71 of the sheet 10 for encapsulating optical semiconductor elements from which the release liner 6 has been peeled off is placed facing the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3f are arranged, and the sheet 10 for encapsulating optical semiconductor elements is attached to the surface of the substrate 2 on which the optical semiconductor elements 3a to 3f are arranged, thereby embedding the optical semiconductor elements 3a to 3f in the encapsulating resin layer 7.
上記貼り合わせの際の温度は、例えば室温から110℃の範囲内である。また、上記貼り合わせの際、減圧または加圧してもよい。減圧や加圧により封止用樹脂層と基板または光半導体素子との間に空隙が形成されるのを抑制することができる。また、上記封止工程では、減圧下で光半導体素子封止用シートを貼り合わせ、その後加圧することが好ましい。減圧する場合の圧力は例えば1~100Paであり、減圧時間は例えば5~600秒である。また、加圧する場合の圧力は例えば0.05~0.5MPaであり、加圧時間は例えば5~600秒である。 The temperature during the lamination is, for example, within a range from room temperature to 110°C. Furthermore, reduced pressure or pressure may be applied during the lamination. This reduces the formation of voids between the encapsulating resin layer and the substrate or optical semiconductor element. Furthermore, in the encapsulation step, it is preferable to laminate the optical semiconductor element encapsulation sheet under reduced pressure and then apply pressure. When reduced pressure is applied, the pressure is, for example, 1 to 100 Pa, and the depressurization time is, for example, 5 to 600 seconds. When pressurized, the pressure is, for example, 0.05 to 0.5 MPa, and the pressurization time is, for example, 5 to 600 seconds.
上記封止用樹脂層における着色層および非着色層の厚さや、貼り合わせの際の温度や圧力などを適宜設定することにより、得られる表示体における着色層および非着色層の光半導体素子への追従性や上記凹凸形状における凹部および凸部の各領域の着色層厚さおよび非着色層厚さを調整することができる。これにより、得られる表示体が上記式(1)および(2)を満たす形態とすることができる。 By appropriately setting the thicknesses of the colored and non-colored layers in the encapsulating resin layer, as well as the temperature and pressure during lamination, it is possible to adjust the conformability of the colored and non-colored layers to the optical semiconductor element in the resulting display, and the thicknesses of the colored and non-colored layers in each of the concave and convex regions in the uneven shape. This allows the resulting display to have a configuration that satisfies the above formulas (1) and (2).
(放射線照射工程)
上記封止用樹脂層が放射線硬化性樹脂層を備える場合、上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体に放射線を照射して上記放射線硬化性樹脂層を硬化させて硬化物層を形成する放射線照射工程を備えていてもよい。上記放射線としては上述のように、電子線、紫外線、α線、β線、γ線、X線などが挙げられる。中でも、紫外線が好ましい。放射線照射時の温度は、例えば室温から100℃の範囲内であり、照射時間は例えば1分~1時間である。
(Radiation irradiation process)
When the encapsulating resin layer comprises a radiation-curable resin layer, the manufacturing method may further comprise a radiation irradiation step of irradiating a laminate comprising the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element encapsulation sheet that encapsulates the optical semiconductor element with radiation to cure the radiation-curable resin layer and form a cured product layer. As described above, examples of the radiation include electron beams, ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, and X-rays. Among these, ultraviolet rays are preferred. The temperature during radiation irradiation is, for example, within a range from room temperature to 100°C, and the irradiation time is, for example, 1 minute to 1 hour.
(ダイシング工程)
上記製造方法は、さらに、上記基板と、上記基板上に配置された光半導体素子と、上記光半導体素子を封止する上記光半導体素子封止用シートと、を備える積層体をダイシングするダイシング工程を備えていてもよい。上記積層体は、上記放射線照射工程を経た積層体について行ってもよい。上記積層体が、上記放射線照射により放射線硬化性樹脂層が硬化した硬化物層を備える場合、上記ダイシング工程では、光半導体素子封止用シートの硬化物層および基板の側端部をダイシングして除去する。これにより、充分に硬化し粘着性が低く低減された硬化物層の面を側面に露出させることができる。上記ダイシングは、公知乃至慣用の方法により行うことができ、例えば、ダイシングブレードを用いた方法や、レーザー照射により行うことができる。
(Dicing process)
The manufacturing method may further include a dicing step of dicing a laminate including the substrate, an optical semiconductor element disposed on the substrate, and the optical semiconductor element encapsulation sheet that encapsulates the optical semiconductor element. The dicing may be performed on the laminate that has undergone the radiation irradiation step. When the laminate includes a cured product layer formed by curing a radiation-curable resin layer by the radiation irradiation, the dicing step involves dicing and removing the cured product layer of the optical semiconductor element encapsulation sheet and the side edges of the substrate. This allows the surface of the cured product layer, which has been sufficiently cured and has reduced adhesion, to be exposed on the side. The dicing can be performed by a known or conventional method, such as a method using a dicing blade or laser irradiation.
(タイリング工程)
上記製造方法は、さらに、上記ダイシング工程で得られた複数の表示体を平面方向に接触するように並べるタイリング工程を備えていてもよい。上記タイリング工程では、上記ダイシング工程で得られた複数の積層体を平面方向に接触するように並べてタイリングする。このようにして、1つの大きな表示体を製造することができる。
(Tiling process)
The manufacturing method may further include a tiling step of arranging the plurality of display bodies obtained in the dicing step so that they are in contact with each other in a planar direction. In the tiling step, the plurality of stacked bodies obtained in the dicing step are tiled so that they are in contact with each other in a planar direction. In this manner, a single large display body can be manufactured.
以上のようにして、本発明の表示体を製造することができる。光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有しない場合、封止用樹脂層7は表示体1における封止樹脂層4となる。一方、光半導体素子封止用シート10において封止用樹脂層7が放射線硬化性樹脂層を有する場合、例えば着色層72および非着色層73が放射線硬化性樹脂層である場合、着色層72および非着色層73を硬化させることで着色層42および非着色層43を形成し、封止樹脂層4となる。 The display member of the present invention can be manufactured in the above manner. When the encapsulating resin layer 7 in the sheet 10 for encapsulating optical semiconductor elements does not have a radiation-curable resin layer, the encapsulating resin layer 7 becomes the encapsulating resin layer 4 in the display member 1. On the other hand, when the encapsulating resin layer 7 in the sheet 10 for encapsulating optical semiconductor elements has a radiation-curable resin layer, for example, when the colored layer 72 and the non-colored layer 73 are radiation-curable resin layers, the colored layer 72 and the non-colored layer 73 are cured to form the colored layer 42 and the non-colored layer 43, which become the encapsulating resin layer 4.
1 表示体
2 基板
3a~3f 光半導体素子
31 支持体
3,3’ピクセル
4 封止樹脂層
41 非着色層
42 着色層
43 非着色層
5 基材部
6 はく離ライナー
7 封止用樹脂層
71 非着色層
72 着色層
73 非着色層
10 光半導体素子封止用シート
11 光学部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display body 2 Substrate 3a to 3f Optical semiconductor element 31 Support 3, 3' Pixel 4 Sealing resin layer 41 Non-colored layer 42 Colored layer 43 Non-colored layer 5 Base material portion 6 Release liner 7 Sealing resin layer 71 Non-colored layer 72 Colored layer 73 Non-colored layer 10 Optical semiconductor element sealing sheet 11 Optical member
Claims (6)
前記複数の光半導体素子は複数の光半導体素子を含むピクセルごとに複数配置しており、
前記封止樹脂層は、前記光半導体素子側から、着色層および非着色層をこの順に有し、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、前記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、前記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、前記基板表面に対する垂直面断面において、
前記基板表面をベースライン、
前記ベースラインに平行であり、前記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
前記ライン2と前記着色層とが重なる距離D1、および、前記ライン3と前記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし、
前記基板表面からの前記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、前記第一の光半導体素子の重心と前記第二の光半導体素子の重心との中点における前記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たす、表示体。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2) A display comprising a substrate, a plurality of optical semiconductor elements arranged on the substrate, and a sealing resin layer that seals the plurality of optical semiconductor elements,
the plurality of optical semiconductor elements are arranged for each pixel including a plurality of optical semiconductor elements,
the encapsulating resin layer has a colored layer and a non-colored layer in this order from the optical semiconductor element side,
In a vertical cross section with respect to the substrate surface, the cross section passes through the center of gravity of a first optical semiconductor element located at an end of a first pixel and the center of gravity of a second optical semiconductor element located at an end of a second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element,
The substrate surface is a baseline,
A straight line parallel to the baseline and passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is called Line 1.
A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and pointing in the front direction at an angle of 15° from the line 1 is called a line 2;
When a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and in a front direction at an angle of 90° from the line 1 is defined as line 3,
The distance D1 at which the line 2 overlaps with the colored layer and the distance D2 at which the line 3 overlaps with the colored layer satisfy the following formula (1):
A display body, wherein a distance D3 from the surface of the substrate to the front end of the first optical semiconductor element and a thickness D4 of the colored layer at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element satisfy the following formula (2):
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
前記シートは、着色層および非着色層を含む封止用樹脂層を備え、
前記封止用樹脂層により前記着色層側が前記光半導体素子側となるように前記複数の光半導体素子を封止して封止樹脂層を形成した際、
第一のピクセルにおける末端に位置する第一の光半導体素子の重心と、前記第一のピクセルに隣り合う第二のピクセルにおける、前記第一の光半導体素子側の末端に位置する第二の光半導体素子の重心とを通る、前記基板表面に対する垂直面断面において、
前記基板表面をベースライン、
前記ベースラインに平行であり、前記第一の光半導体素子の重心を通る直線をライン1、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度15°正面方向の直線をライン2、
前記第一の光半導体素子の重心を通り、前記ライン1から角度90°正面方向の直線をライン3としたとき、
前記ライン2と前記着色層とが重なる距離D1、および、前記ライン3と前記着色層とが重なる距離D2は、下記式(1)を満たし得、
前記基板表面からの前記第一の光半導体素子の正面側端部までの距離D3、および、前記第一の光半導体素子の重心と前記第二の光半導体素子の重心との中点における前記着色層の厚さD4は、下記式(2)を満たし得る、光半導体素子封止用シート。
D1>D2 (1)
D3>D4 (2) A sheet for sealing a plurality of optical semiconductor elements arranged on a substrate for each pixel including the plurality of optical semiconductor elements,
the sheet includes a sealing resin layer including a colored layer and a non-colored layer,
When the plurality of optical semiconductor elements are encapsulated with the encapsulating resin layer so that the colored layer side faces the optical semiconductor elements, an encapsulating resin layer is formed,
In a vertical cross section with respect to the substrate surface, the cross section passes through the center of gravity of a first optical semiconductor element located at an end of a first pixel and the center of gravity of a second optical semiconductor element located at an end of a second pixel adjacent to the first pixel on the side of the first optical semiconductor element,
The substrate surface is a baseline,
A straight line parallel to the baseline and passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element is called Line 1.
A straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and pointing in the front direction at an angle of 15° from the line 1 is called a line 2;
When a straight line passing through the center of gravity of the first optical semiconductor element and in a front direction at an angle of 90° from the line 1 is defined as line 3,
The distance D1 at which the line 2 overlaps with the colored layer and the distance D2 at which the line 3 overlaps with the colored layer may satisfy the following formula (1):
a distance D3 from the surface of the substrate to the front end of the first optical semiconductor element, and a thickness D4 of the colored layer at the midpoint between the center of gravity of the first optical semiconductor element and the center of gravity of the second optical semiconductor element, which satisfy the following formula (2):
D1>D2 (1)
D3>D4 (2)
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|---|---|---|---|---|
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016012734A (en) | 2015-09-18 | 2016-01-21 | 三菱電機株式会社 | Led package device |
| JP2019061954A (en) | 2017-09-25 | 2019-04-18 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | Lighting module and lighting apparatus having the same |
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