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JP7746121B2 - 3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造方法 - Google Patents
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JP7746121B2 - 3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造方法 - Google Patents

3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造方法

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Description

本発明は、3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の新規な製造方法に関し、特にルイス酸およびヒドリド還元剤を用いたホルミル-ハロインドール誘導体の新規な還元方法を含む製造方法に関する。
3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体は、医薬あるいはその製造原料として有用であり、腫瘍の治療に有用であることが知られている(特許文献1)。
特許文献1において、種々の3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体およびその製造方法が開示されている。当該文献に開示されている3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体製造方法は、例えば、3-ホルミル-4-ブロモ-7-フルオロインドールを原料として用い、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムによる還元反応を用いて3-メチルインドール誘導体を得るものである(特許文献1、参考例E-14)。
しかし、当該方法の収率は中程度であること、また、後処理時に水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム由来のハルツ等が発生し取り扱いが困難であること、および試薬が高価であること等の問題があった。
WO2016/052697
本発明は、3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造方法であって、ホルミル-ハロインドール誘導体の新規な還元方法を含む工業的に有用で新規な製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造において、ルイス酸とヒドリド還元剤を用い、ホルミル基を還元することによって、前記誘導体を高収率にて得られ、または、当該誘導体の脱メチル化もしくは脱ハロゲン化が抑制され、後処理が容易となることを見出した、さらにその方法を用いて製造した中間体を用いて、モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶多型を製造できることも明らかにし、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、次の(1)~(17)に関する。
(1)式(I):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、Liイオン、Mgイオン、Caイオン、Scイオン、Biイオン、Tiイオン、Feイオン、Cuイオン、Ceイオン、Laイオン、およびYbイオンから選ばれる1種の金属イオンを有するルイス酸、ならびにヒドリド還元剤を用いて還元する工程を包含する、
式(II):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩の製造方法。
[Xは、ハロゲン原子を示す。]
(2)Xが、臭素原子である(1)に記載の製造方法。
(3)ルイス酸が、Mgイオン、Scイオン、Biイオン、Tiイオン、Laイオン、およびYbイオンから選ばれる1種の金属イオンを含むルイス酸である(1)または(2)に記載の製造方法。
(4)ルイス酸が、Tiイオンを含むルイス酸である(1)または(2)に記載の製造方法。
(5)ルイス酸が、Ti(OR)である(1)または(2)に記載の製造方法。(Rは、C-Cアルキル基を示す。)
(6)Rが、エチル基、イソプロピル基、またはブチル基である(1)から(5)のいずれか1つに記載の製造方法
(7)(1)から(6)のいずれか1つに記載の製造方法を用いて製造された式(II)で示される化合物を、
パラジウム触媒を用いて、tert-ブチルアクリレートと反応させる工程を包含する
式(III):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩の製造方法。
(8)(7)に記載の製造方法を用いて製造された式(III)で示される化合物を、
式(IV)で示される化合物と縮合させる、
式(V):
で示される化合物の製造方法。
(9)(8)に記載の製造方法を用いて製造された式(V)で示される化合物を、加水分解する、
式(VI):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩の製造方法。
(10)(1)から(6)のいずれか1つに記載の製造方法を用いて製造された式(II)で示される化合物を中間体として用いることを特徴とする、式(VI)で示される化合物の製造方法。
(11)(9)または(10)に記載の製造方法を用いて製造された式(VI)で示される化合物を、
tert-ブチルアミンを用いて塩化させる工程、ならびに
アセトンおよび2-プロパノールの混合溶液中で結晶化させる工程を含む、
式(VI)で示される化合物のtert-ブチルアミン塩の製造方法。
(12)モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、5.81±0.2、10.31±0.2、11.09±0.2、11.54±0.2、15.56±0.2、16.19±0.2、19.24±0.2、23.16±0.2、25.80±0.2、および26.28±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピークを有するtBA1型結晶。
(13)モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.23±0.2、6.35±0.2、9.51±0.2、12.64±0.2、15.79±0.2、16.67±0.2、18.99±0.2、20.62±0.2、25.42±0.2、28.06±0.2、および28.42±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピークを有するtBA2型結晶。
(14)モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.15±0.2、14.92±0.2、15.55±0.2、18.70±0.2、20.40±0.2、23.20±0.2、25.13±0.2、26.13±0.2、27.86±0.2、および28.81±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピークを有するP1型結晶。
(15)モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.04±0.2、9.08±0.2、18.23±0.2、24.38±0.2、24.66±0.2、および27.18±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピークを有するP2型結晶。
(16)モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.10±0.2、6.23±0.2、9.39±0.2、12.55±0.2、15.71±0.2、18.15±0.2、18.91±0.2、25.32±0.2、27.10±0.2、および27.94±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピークを有するP3型結晶。
(17)(12)に記載の結晶ないし(16)に記載の結晶を有効成分として含有する医薬組成物。
本発明によって、3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体について、工業的に有用で新規な製造方法を提供することができる。特に、ルイス酸およびヒドリド還元剤を用いることで脱ハロゲン化および/または脱メチル化を抑制し、後処理が容易であるホルミル基の新規な還元方法を含む、高収率な製造方法を提供することができる。さらにその製造方法を用いてモノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶多型を製造することができる。
実施例7-1で製造された化合物の結晶の粉末X線回折パターンを示す。図の縦軸は、回折強度を相対的線強度で示し、横軸は回折角度2θの値を示す。 実施例8-1で製造された化合物の結晶の粉末X線回折パターンを示す。図の縦軸は、回折強度を相対的線強度で示し、横軸は回折角度2θの値を示す。 実施例8-2で製造された化合物の結晶の粉末X線回折パターンを示す。図の縦軸は、回折強度を相対的線強度で示し、横軸は回折角度2θの値を示す。 実施例8-3で製造された化合物の結晶の粉末X線回折パターンを示す。図の縦軸は、回折強度を相対的線強度で示し、横軸は回折角度2θの値を示す。 実施例8-4で製造された化合物の結晶の粉末X線回折パターンを示す。図の縦軸は、回折強度を相対的線強度で示し、横軸は回折角度2θの値を示す。
(本発明の製造方法)
本発明は、下記製造方法に関する。
式(I):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、ルイス酸およびヒドリド還元剤を用いて還元する工程を包含する、
式(II):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩の製造方法。
[Xは、ハロゲン原子を示す]。
そして、かかる方法は、後述の実施例に示すとおり、ホルミル-ハロインドール誘導体の新規な還元方法を含む工業的に有用で新規な製造方法(例えば、前記誘導体を高収率で得られる製造方法、前記誘導体の脱メチル化および/または脱ハロゲン化を抑制し、後処理が容易となる製造方法)となる。
本発明において、「ルイス酸」は、金属イオンを含み、電子対を受け取ることが出来る物質を意味する。ルイス酸に含まれる金属イオンとしては、例えば、Liイオン、Mgイオン、Caイオン、Alイオン、Scイオン、Inイオン、Biイオン、Bイオン、Tiイオン、Feイオン、Coイオン、Cuイオン、Znイオン、Ceイオン、Laイオン、およびYbイオン等が挙げられる。式(II)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を高収率をもって得られ易いという観点から、好ましくは、Liイオン、Mgイオン、Caイオン、Scイオン、Biイオン、Tiイオン、Feイオン、Cuイオン、Ceイオン、Laイオン、またはYbイオンであり、より好ましくは、Mgイオン、Caイオン、Scイオン、Biイオン、Tiイオン、Cuイオン、Laイオン、またはYbイオンであり、更に好ましくは、Mgイオン、Scイオン、Biイオン、Tiイオン、Laイオン、またはYbイオンであり、特に好ましくは、Tiイオンである。なお、本発明における「高収率」とは、後述の実施例に示すHPLC面積比率が、好ましくは75area%以上である。
本発明におけるルイス酸に含まれる金属イオンは、例えば、Li、Mg2、Ca2+、Al3+、Sc3+、In3+、Bi3+、B3+、Ti4+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Cu、Cu2+、Zn2+、Ce3+、Ce4+、La3+、およびYb3+等の各価数を有する金属イオンが挙げられる。それぞれの好ましい価数は、Li、Mg2+、Ca2+、Al3+、Sc3+、In3+、Bi3+、B3+、Ti4+、Fe3+、Co2+、Cu、Zn2+、Ce3+、La3+、およびYb3+である。
Liイオンを含んだルイス酸としては、例えば、LiCl、LiBr、LiI、およびLiOTf等が挙げられる。Mgイオンを含んだルイス酸としては、例えば、MgCl、MgBr、およびMgI等が挙げられる。好ましくは、MgClである。Caイオンを含んだルイス酸としては、例えば、CaCl、CaBr、およびCaI等が挙げられる。好ましくはCaClである。Alイオンを含んだルイス酸としては、例えば、AlCl3、AlBr、およびAlI等が挙げられる。好ましくは、AlClである。Scイオンを含んだルイス酸としては、例えば、Sc(OTf)等が挙げられる。Inを含んだルイス酸としては、例えば、InCl、InBr、およびInI等が挙げられる。Biイオンを含んだルイス酸としては、例えば、BiCl、BiBr、およびBi(OTf)等が挙げられる。好ましくは、BiClである。Bイオンを含んだルイス酸としては、例えば、BF・EtO等が挙げられる。Tiイオンを含んだルイス酸としては、例えば、TiCl、およびTi(OR)(例えば、Ti(OEt)、Ti(OiPr)、Ti(OBu))等が挙げられる。好ましくはTi(OR)であり、より好ましくはTi(OEt)、Ti(OiPr)、またはTi(OBu)である。なお、Rは、後述のC-Cアルキル基を示す。Feイオンを含んだルイス酸としては、例えば、FeCl、FeBr、FeI、FeCl、FeBr、およびFeI等が挙げられる。好ましくは、FeClである。Coイオンを含んだルイス酸としては、例えば、CoCl、CoBr、およびCoI等が挙げられる。好ましくは、CoClである。Cuイオンを含んだルイス酸としては、例えば、CuCl、CuBr、CuI、CuCl、CuBr、およびCuI等が挙げられる。好ましくはCuIである。Znイオンを含んだルイス酸としては、例えば、ZnCl、ZnBr、Zn(OTf)、およびZnO等が挙げられる。Ceイオンを含んだルイス酸としては、例えば、CeCl、およびCeCl等が挙げられる。Laイオンを含んだルイス酸としては、例えば、La(OTf)等が挙げられる。Ybイオンを含んだルイス酸としては、例えば、Yb(OTf)等が挙げられる。
本発明においてより好ましいルイス酸は、上述のとおり、Mgイオンを含んだルイス酸、Caイオンを含んだルイス酸、Scイオンを含んだルイス酸、Biイオンを含んだルイス酸、Tiイオンを含んだルイス酸、Cuイオンを含んだルイス酸、Laイオンを含んだルイス酸、またはYbイオンを含んだルイス酸である。これらルイス酸において、更に好ましくは、MgCl、MgBr、MgI、CaCl、Sc(OTf)、BiCl、Ti(OEt)、Ti(OiPr)、Ti(OBu)、CuI、La(OTf)、またはYb(OTf)であり、より好ましくは、Ti(OEt)、Ti(OiPr)、またはTi(OBu)である。
3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造において、後述の[実施例]に示す不純物(imp.2)は精製による除去が困難である。したがって、本発明において、imp.2の生成、すなわち式(II)で示される化合物またはその製薬上許容される塩の脱メチル化を抑え易いという観点から、本発明の好ましいルイス酸は、Mgイオンを含んだルイス酸、Alイオンを含んだルイス酸、Scイオンを含んだルイス酸、Inイオンを含んだルイス酸、Biイオンを含んだルイス酸、Bイオンを含んだルイス酸、Tiイオンを含んだルイス酸、Feイオンを含んだルイス酸、Coイオンを含んだルイス酸、Cuイオンを含んだルイス酸、Laイオンを含んだルイス酸、またはYbイオンを含んだルイス酸である。また、式(II)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を高収率をもって得られ易い一方で、imp.2の生成を抑え易いという観点から、より好ましくは、Mgイオンを含んだルイス酸、Scイオンを含んだルイス酸、Biイオンを含んだルイス酸、Tiイオンを含んだルイス酸、Feイオンを含んだルイス酸、Cuイオンを含んだルイス酸、Laイオンを含んだルイス酸、またはYbイオンを含んだルイス酸であり、更に好ましくは、MgCl、MgBr、MgI、Sc(OTf)、BiCl、Ti(OEt)、Ti(OiPr)、Ti(OBu)、FeCl、CuI、La(OTf)、またはYb(OTf)である。なお、本発明において「imp.2の生成を抑える」とは、後述の実施例に示すimp.2のHPLC面積比率が、好ましくは3area%以下であり、より好ましくは2area%以下である。
また同様に、3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造において、imp.1の生成、すなわち式(II)で示される化合物またはその製薬上許容される塩の脱ハロゲン化を抑え易いという観点から、好ましくは、Biイオンを含んだルイス酸、Cuイオンを含んだルイス酸、Tiイオンを含んだルイス酸、Liイオンを含んだルイス酸、Znイオンを含んだルイス酸、Caイオンを含んだルイス酸、Ybイオンを含んだルイス酸,Scイオンを含んだルイス酸、またはMgイオンを含んだルイス酸であり、より好ましくは、Biイオンを含んだルイス酸、Cuイオンを含んだルイス酸、Tiイオンを含んだルイス酸、Liイオンを含んだルイス酸、Znイオンを含んだルイス酸であり、更に好ましくは、BiCl、Bi(OTf)、BiBr、CuI、TiCl、LiI、LiBr、LiCl、LiOTf、またはZnOである。なお、本発明において「imp.1の生成を抑える」とは、後述の実施例に示すimp.1のHPLC面積比率が、好ましくは10area%以下であり、より好ましくは5area%以下である。
また、本発明において、「C-Cアルキル基」は、炭素数1から4個の直鎖または分枝鎖アルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、およびt-ブチル基等が挙げられる。好ましくは、エチル基、イソプロピル基、またはブチル基である。より好ましくは、エチル基である。
本発明において、「ヒドリド還元剤」は、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カルシウム、トリ酢酸水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム等を用いることができる。好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムである。
本発明において用いることのできる溶媒は、各反応に対して不活性なものであればよい。ヒドリド還元剤を用いた還元反応においては、例えば、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、イソプロパノール、テトラヒドロフラン等、またはそれらの混合溶媒を用いることができる。N-メチル-2-ピロリドン、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、またはそれらの混合溶媒を用いるのが好ましい。
本発明においては、上述のルイス酸およびヒドリド還元剤、ならびに溶媒を用い、式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を還元し、式(II)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を製造するが、この具体的な反応条件については、後述の[実施例]にて仔細示されている(特に、実施例1-1~3を参照のほど)。そのため、当業者であれば、当該反応条件を適宜参考にしながら式(II)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を製造することは可能である。しかしながら、本発明の反応条件等はこれらに限定して解釈されるべきではない。
また、本発明は、前記製造方法を用いて製造された式(II)で示される化合物を、
パラジウム触媒を用いて、tert-ブチルアクリレートと反応させる工程を包含する
式(III):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩の製造方法に関する。
さらに、本発明は、前記製造方法を用いて製造された式(III)で示される化合物を、
式(IV)で示される化合物と縮合させる、
式(V):
で示される化合物の製造方法に関する。
また、本発明は、前記製造方法を用いて製造された式(V)で示される化合物を、加水分解する、
式(VI):
で示される化合物またはその製薬上許容される塩の製造方法に関する。
さらにまた、前記製造方法を用いて製造された式(II)で示される化合物を中間体として用いることを特徴とする、式(VI)で示される化合物の製造方法に関する。
また、前記製造方法を用いて製造された式(VI)で示される化合物を、
tert-ブチルアミンを用いて塩化させる工程、ならびに
アセトンおよび2-プロパノールの混合溶液中で結晶化させる工程を含む、
式(VI)で示される化合物のtert-ブチルアミン塩の製造方法に関する。
これら式(II)で示される化合物またはその製薬上許容される塩から式(VI)で示される化合物のtert-ブチルアミン塩の製造方法についても、後述の[実施例]にて仔細示されている(特に、実施例4-1~8-4を参照のほど)。また、特許文献1にて仔細説明されている。そのため、当業者であれば、これらの記載を適宜参考にしながら、式(III)で示される化合物またはその製薬上許容される塩、式(V)で示される化合物、および式(VI)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を各々製造することもできる。しかしながら、本発明におけるはこれら化合物の製造方法はこれらの記載に限定して解釈されるべきではない。
また、本発明の製造方法では、化合物の官能基を適当な保護基で保護する場合がある。このような官能基としては、例えば水酸基、カルボキシ基、アミノ基等を挙げることができ、保護基の種類、ならびにそれらの保護基の導入と除去の条件は、例えばProtective Groups in Organic Synthesis(T.W.Green and P.G.M.Wuts,John Wiley & Sons,Inc.,New York,2006)に記載のものを参考にすることができる。
(本発明にかかる化合物)
次に、上述の製造方法における、反応物、中間体、生成物であるところの、式(I)~(VI)にて各々示される化合物、または製薬上許容されるそれらの塩について説明する。
本発明の式(I)で示される化合物および式(II)で示される化合物における「X」は、ハロゲン原子であり、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等が挙げられるが、好ましくは、臭素原子である。
本発明の式(III)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(V)で示される化合物、および式(VI)で示される化合物または製薬上許容される塩には各々、各化合物の幾何異性体が包含される。
本発明において「製薬学的に許容される塩」とは、著しい毒性を有さず、医薬組成物として使用され得る塩をいう。
本発明の式(I)で示される化合物、式(II)で示される化合物、および式(III)で示される化合物は各々、酸と反応させることにより塩とすることができる。かかる塩としては、例えば、フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩;硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩のような無機酸塩;メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のようなC-Cアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩のようなアリ-ルスルホン酸塩;酢酸塩、りんご酸塩、フマ-ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、アジピン酸塩のような有機酸塩;および、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩等を挙げることができる。
本発明の式(IV)で示される化合物、および式(VI)で示される化合物は各々、塩基と反応させることにより塩にすることができる。かかる塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩;カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩;アルミニウム塩、鉄塩等の金属塩;アンモニウム塩のような無機塩;t-ブチルアミン塩、t-オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、N-メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N’-ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、N-ベンジルフェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩等を挙げることができる。
本発明の式(I)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(II)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(III)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(IV)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(V)で示される化合物、および式(VI)で示される化合物または製薬上許容される塩は各々、大気中に放置したり、または、再結晶したりすることにより、水分子を取り込んで、水和物となる場合があり、そのような各水和物も本発明に包含される。
本発明の式(I)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(II)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(III)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(IV)で示される化合物または製薬上許容される塩、式(V)で示される化合物、および式(VI)で示される化合物または製薬上許容される塩は各々、溶媒中に放置されたり、または、再結晶したりすることにより、ある種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があり、そのような各溶媒和物も本発明に包含される。
また、本発明の式(VI)で示される化合物のtert-ブチルアミン塩には、以下のような結晶も包含される。
モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、5.81±0.2、10.31±0.2、11.09±0.2、11.54±0.2、15.56±0.2、16.19±0.2、19.24±0.2、23.16±0.2、25.80±0.2、および26.28±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピーク(例えば、3つ、5つ、6つ、7つ、8つ、9つ、または10個のピーク)を有するtBA1型結晶。
モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.23±0.2、6.35±0.2、9.51±0.2、12.64±0.2、15.79±0.2、16.67±0.2、18.99±0.2、20.62±0.2、25.42±0.2、28.06±0.2、および28.42±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピーク(例えば、3つ、5つ、6つ、7つ、8つ、9つ、10個、または11個のピーク)を有するtBA2型結晶。
モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.15±0.2、14.92±0.2、15.55±0.2、18.70±0.2、20.40±0.2、23.20±0.2、25.13±0.2、26.13±0.2、27.86±0.2、および28.81±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピーク(例えば、3つ、5つ、6つ、7つ、8つ、9つ、または10個のピーク)を有するP1型結晶。
モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.04±0.2、9.08±0.2、18.23±0.2、24.38±0.2、24.66±0.2、および27.18±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピーク(例えば、3つ、5つ、または6つのピーク)を有するP2型結晶。
モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶であって、銅のKα線(λ=1.54オングストローム)の照射で得られる粉末X線回折図において、3.10±0.2、6.23±0.2、9.39±0.2、12.55±0.2、15.71±0.2、18.15±0.2、18.91±0.2、25.32±0.2、27.10±0.2、および27.94±0.2から選択される回折角度(2θ)に、少なくとも3つのピーク(例えば、3つ、5つ、6つ、7つ、8つ、9つ、または10個のピーク)を有するP3型結晶。
さらにまた、本発明の式(VI)で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、医薬組成物として調製することもでき、また、研究目的の試薬として調製することもできる(特許文献1 参照)。
本発明の化合物またはその製薬学的に許容される塩を医薬組成物として調製する場合、用いられる製薬学的に許容される担体としては、例えば、滅菌水や生理食塩水、植物油、溶剤、基剤、乳化剤、懸濁剤、界面活性剤、安定剤、香味剤、芳香剤、賦形剤、ベヒクル、防腐剤、結合剤、希釈剤、等張化剤、無痛化剤、増量剤、崩壊剤、緩衝剤、コーティング剤、滑沢剤、着色剤、甘味剤、粘稠剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤あるいはその他の添加剤などが挙げられるが、これらに制限されない。本発明の化合物もしくはその製薬学的に許容される塩は、治療目的などに応じて、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、液剤などの各種形態とすることができる。また、例えば、リポソーム送達系の形態で投与することもできる。当該リポソームには、治療上の有用な特性を増進する上記補助部分(例えば、抗体やリガンドなど)を付加することもできる。
また、本発明の医薬組成物として、その対象疾患について特に制限はないが、好ましくは、脳腫瘍(神経膠腫を含む)、急性骨髄性白血病、骨髄異形成症候群、骨髄増殖性腫瘍、末梢性T細胞性リンパ腫、軟骨肉腫、骨肉腫、胆管癌、原始神経外胚葉腫瘍、Bリンパ芽球性リンパ腫、悪性黒色腫、前立腺癌、大腸癌、甲状腺癌等の癌や、オリエ病、マフッチ症候群である。すなわち、本発明の医薬組成物は、抗腫瘍剤として好適に用いられ得る。
また、本発明の医薬組成物の有効成分としては、上述の式(VI)で示される化合物またはその製薬学的に許容される塩である限り、特に制限されるものではないが、好ましくは、式(VI)で示される化合物のtert-ブチルアミン塩であり、より好ましくは、当該tert-ブチルアミン塩の上記tBA1型結晶、tBA2型結晶、P1型結晶、P2型結晶、およびP3型結晶からなる群から選択される少なくとも1の結晶であり、好ましくは、当該tBA1型結晶、tBA2型結晶、P1型結晶、P2型結晶。およびP3型結晶である。
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。実施例および参考例で用いる略号は、次のような意義を有する。
mg:ミリグラム,g:グラム,ml:ミリリットル,L:リットル,MHz:メガヘルツ。NMP:N-メチルピロリドン。
以下の実施例および参考例において、核磁気共鳴(以下、H NMR:500MHz)スペクトルは、テトラメチルシランを標準物質として、ケミカルシフト値をδ値(ppm)にて記載した。分裂パターンは一重線をs、二重線をd、三重線をt、四重線をq、多重線をm、ブロードをbrで示した。本実施例において、液体クロマトグラフィーは、HPLC 10A(SHIMADZU)またはACQUITY UPLC H-Class(WATERS)を使用した。
また、本実施例において、粉末X線回折測定における機器および測定条件は以下のとおりである。
機種:Rigaku MiniFlex600
試料:適量
X線発生条件:40kV,15mA
波長:1.54Å(銅のKα線)
測定温度:室温
走査速度:10°/min
走査範囲:3~40°
サンプリング幅:0.02°
なお、概して、X線回析スペクトルにおけるピークの位置は、約±0.2°2θで変化することが予期される。すなわち、比較される2つのピークの2θ値の差が、約±0.2°2θの範囲内にある場合には、両ピークは同一のピークとみなされる。
(参考例1-1) メチル=5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-カルボキシラートの製造
窒素雰囲気下、反応釜1にアセトニトリル(120mL)、1,1-カルボニルジイミダゾール(64.19g,0.3959mol)を加え、室温で攪拌したところに、2-フルオロ-2-メチルプロパン酸(40g)のアセトニトリル(40mL)溶液を30分間で滴下し、更に30分間攪拌した。次に、窒素雰囲気下、反応釜2にアセトニトリル(200mL)、マロン酸モノメチルカリウム(70.66g,0.4524mol)を加え、10-40℃に内温制御しながら塩化マグネシウムを(28.72g,0.3016mol)添加した。その後、反応釜2に対して反応釜1の溶液を50℃、40分間で滴下し、アセトニトリル(40mL)で洗浄した。室温に冷却し、濃塩酸(100mL)と常水(280mL)の混合液を15分間で滴下し、5分間攪拌、5分間静置した後、分液し、メチル=4-フルオロ-4-メチル-3-オキソペンタノアートのアセトニトリル溶液を得た。
別途、窒素雰囲気下、反応釜にジメチルホルムアミド(70mL)、N-ヒドロキシ-1-(2,4,6-トリクロロフェニル)メタンイミン(10g)を加え、室温で攪拌したところに、トリクロロイソシアヌル酸(3.73g,0.0160mol)の酢酸エチル(25.0mL)溶液を10-40℃に内温制御しながら滴下し、酢酸エチル(5.0mL)で洗浄した。室温で30分間攪拌した後、塩化ナトリウム(5.0g)の常水(45.0mL)溶液を加え、5分間攪拌、5分間静置した後、分液し、水層を廃棄した。次に、常水(50mL)を添加し、5分間攪拌、5分間静置した後、分液し、水層を廃棄した。最後に塩化ナトリウム(10.0g)の常水(40.0mL)溶液を加え、5分間攪拌、5分間静置した後、分液し2,4,6-トリクロロ-N-ヒドロキシベンゼン-1-カルボキシイミドイル クロライドの酢酸エチル溶液を得た。
窒素雰囲気下、反応釜にメチル=4-フルオロ-4-メチル-3-オキソペンタノアートのアセトニトリル溶液(0.068mol相当分)を添加し、内温を15℃に調整する。28(w/w)%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液(12.0g,0.0623mol)を15℃で添加した後、2,4,6-トリクロロ-N-ヒドロキシベンゼン-1-カルボキシイミドイル クロライドの酢酸エチル溶液(0.0445mol相当分)を1時間で滴下し、酢酸エチル(5mL)で洗浄した。滴下後、内温15℃で1時間攪拌し、常水(25mL)を室温で添加し、2mol/L塩酸でpHを7から9に調整した。15分間攪拌、5分間静置した後、分液し水層を廃棄した。更に塩化ナトリウム(10.0g)の常水(40.0mL)溶液を加え、15分間攪拌、5分間静置した後、分液し水層を廃棄する。得られた有機層を50℃以下で50mL以下まで減圧濃縮した。2-プロパノール(200mL)を加え、更に50℃以下で50mL以下まで減圧濃縮する。2-プロパノールで液量60mLに調整し、55.79gの2-プロパノール溶液を得た。本溶液の一部を抜き出し、内温5℃に温調した後に攪拌し、晶出確認後30分間撹拌する。常水(10.6mL)を2時間で滴下して30分間攪拌した。得られた懸濁液を濾過し、結晶を冷却した2-プロパノール(4mL)と常水(4mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物(2.55g,0.00696mol)を得た。
H NMR(500MHz,DMSO-d)δ2.14(d,J=20Hz,6H)3.90(s,3H),8.18(s,2H);ESI MS m/z 366([M+1]+)。
(参考例1-2) メチル=5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-カルボキシレートの製造
窒素雰囲気下で、反応釜1の中にアセトニトリル(348g)、2-フルオロ-2-プロピオン酸メチル(145g)を加え、0℃で攪拌した。1時間かけて5回に分け、内温を10℃以下に抑えながら、1,1-カルボニルジイミダゾール(244.1g)を滴下した。アセトニトリル(20g)で投入口を洗浄し、更に1時間攪拌した。その後、窒素雰囲気下で、反応釜の温度を25℃まで調整してから、反応釜2の中にアセトニトリル(435g)、マロン酸モノメチルカリウム(235g)を添加し、内温を40℃以下に抑えながら塩化マグネシウム(143.5g)を4回に分けて添加した。アセトニトリル(145g)で投入口を洗浄し、25℃で1時間攪拌した。さらに、30℃で1時間かけて反応釜2に反応釜1で得られた溶液を滴下し、アセトニトリル(20g)で洗浄した。30℃で3時間攪拌し続け、20℃までに冷却させた。1時間で濃塩酸(428g)と常水(362.5)の混合液を滴下し、30分間攪拌した。30分間静置してから、分液を行い、10%塩化ナトリウム水溶液(725g)を加え、30分間攪拌し、30分間静置してから、再分液した。同じ作業を3回繰り返し、メチル=4-フルオロ-4-メチル-3-オキソペンタノエートのアセトニトリル溶液を得た。
なお、窒素雰囲気下で、反応釜の中にジメチルアセトアミド(900g)、N-ヒドロキシル-1-(2,4,6-トリクロロフェニル)メチレンイミン(215g)を加え、ジメチルアセトアミド(37g)で投入口を洗浄した。50℃で澄清となるまで攪拌し、内温を55℃以下に抑えながら、N-クロロスクシンイミド(126g)を3時間かけて21回に分けて添加し、50℃で1時間攪拌した。25℃で30分間攪拌した後、メチルtert-ブチルエーテル(1450g)と塩化ナトリウム(100g)の常水(900mL)溶液を加え、30分間攪拌、30分間静置してから分液し、水層を廃棄した。その後、以上の塩水洗浄と分液作業を2回繰り返し、最後に2,4,6-トリクロロ-N-ヒドロキシベンゼン-1-カルボキシイミドクロリドのメチルtert-ブチルエーテル溶液を得た。
窒素雰囲気下で、反応釜の中にメチル=4-フルオロ-4-メチル-3-オキソペンタノエートのアセトニトリル溶液を添加し、工水(188.5mL)を加えてから、内温を5℃に調整した。30℃以下で2時間以内にナトリウムメトキシドのメタノール溶液(223.3g)を添加し、pHを12~14に調整した。20℃、2時間で2,4,6-トリクロロ-N-ヒドロキシベンゼン-1-カルボキシイミドクロリドのメチルtert-ブチルエーテル溶液を滴下し、アセトニトリル(145g)で洗浄した。点滴した後、内温20℃で1時間攪拌し、室温で酢酸エチル(1450g)と塩化ナトリウム(145g)の工水(1305g)溶液を添加した。30分間攪拌、30分間静置してから分液し、水層を廃棄した。同じ塩水洗浄作業を2回繰り返した。得られた有機層を45℃以下で、400mL以下まで減圧濃縮した。メタノール(725g)を加え、更に45℃以下で、400mL以下となるまで減圧濃縮した。メタノール(725g)の2回目の添加を行い、45℃で400mL以下となるまで減圧濃縮した。メタノール(478.5g)を加えた後、40℃で20分間撹拌し、工水(101.5mL)を1時間以内で反応釜の中に滴下した。種結晶(0.435mg、当該種結晶は参考例1-1に準じて製造した。)を加えてから、2時間攪拌した。3時間かけて常水(350mL)を滴下し、2時間攪拌した。4時間で20℃までに冷却してから、4時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過し、冷却されたメタノール(232g)と常水(145g)の混合液で結晶を洗浄してから、40℃で24時間減圧乾燥することにより、目的化合物(295.0g,0.80mol,収率88.1%)を得た。なお、得られた目的化合物のH-NMR値を、参考例1-1に示したそれらと照合し、同一化合物であることを確認した。
(参考例2-1) 5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-カルボン酸の製造
窒素雰囲気下、反応釜にメタノール(30mL)を加え攪拌し、参考例1で得られた化合物(5g)を添加した。40(w/w)%テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(9.73g,0.0150mol)を添加し、72℃で3時間攪拌した。40℃に温調し、2mol/L塩酸(5.1mL)を添加し、晶出確認後1時間撹拌した。2mol/L塩酸(2.7mL)を10分間で滴下し、10分間攪拌した。更に、常水(20mL)を10分間で滴下して、10分間攪拌し、室温に冷却した後に30分間攪拌した。得られた懸濁液を濾過し、結晶をメタノール(7.5mL)と常水(7.5mL)の混合液で洗浄し、減圧下、40℃で一晩乾燥することにより標記化合物(4.44g,0.0126mol,収率92.3%)を得た。
H NMR(500MHz,DMSO-d)δ1.89(d,J=20Hz,6H),7.89(s,2H);ESI MS m/z 350([M-1]-)。
(参考例2-2) 5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-カルボン酸の製造
窒素雰囲気下で、反応釜の中にメタノール(440.0g)を添加・攪拌し、参考例1-2で得られた化合物(5g)を添加し、また40(w/w)%のテトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(195.0g)を加え、45℃で20時間撹拌した。温度を40℃に調整し、2mol/Lの塩酸(145.0g)を添加した。晶出を確認してから、1時間撹拌した。1時間かけて2mol/L塩酸(75.0g)を滴下し、2時間攪拌した。さらに、1時間かけて常水(600g)を滴下し、1時間攪拌した。20℃まで冷却してから、1時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過し、メタノール(120g)と常水(150g)の混合液で結晶を洗浄し、40℃で20時間減圧乾燥することにより、目的化合物(収率95.3%)を得た。なお、得られた目的化合物のH-NMR値を、参考例2-1に示したそれらと照合し、同一化合物であることを確認した。
(実施例1-1) 4-ブロモ-3-メチル-1H-インドールの製造
窒素雰囲気下、反応釜にN-メチルピロリドン(70mL)、オルトチタン酸テトライソプロピル(19.03g,0.06695mol)、水素化ホウ素ナトリウム(6.75g,0.178mol)を加え、室温で1時間攪拌した。0℃に冷却後、N-メチルピロリドン(20mL)に溶解させた4-ブロモ-1H-インドール-3-ホルムアルデヒド(20g)を滴下した。80℃に昇温後、80℃で2時間撹拌した。再び0℃に冷却し、アセトン(39.5mL)を滴下後、0℃で13.5時間撹拌した。続いて、0℃で乳酸(37.5g)を滴下後、0℃で1時間撹拌し、室温に昇温した。常水(60mL)と塩化ナトリウム(6g)を添加した後、酢酸エチル(300mL)を添加し、室温で撹拌後、水層を取り除いた。有機層に常水(60mL)と塩化ナトリウム(12g)を添加した後、室温で撹拌後、水層を取り除いた。有機層に常水(60mL)と炭酸水素ナトリウム(4.8g)を添加した後、室温で撹拌後、水層を取り除くことにより標記化合物(16.72g,0.07959mol,収率89.2%)の酢酸エチルおよびN-メチルピロリドン溶液を得た。
H NMR(500MHz,CDCl)δ2.54(s,3H),6.95-6.98(m,2H),7.23(d,J=7.8Hz,2H),7.88(br s,1H)。
(実施例1-2) 4-ブロモ-3-メチル-1H-インドールの製造
窒素雰囲気下で、反応釜1の中にテトラヒドロフラン(2.08kg)、原材料である4-ブロモ-1H-インドール-3-ホルムアルデヒド(0.80kg,3.571mol)、イソプロパノール(3.76kg)を添加し、25℃で1時間攪拌した。精製水を、溶液KF(系内水分)が0.5%になるまで補充し、5℃まで冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム(144.0g、1.06eq)を何回かに分けて添加して、中間体である(4-ブロモ-1H-インドール-3-イル)メタノールのテトラヒドロフランとイソプロパノールとの混合液を調製し、5℃以下で保管した。同時に反応釜2の中にテトラヒドロフラン(2.08kg)とイソプロパノール(3.76kg)を加え、25℃で水素化ホウ素ナトリウム(152.0g、1.13eq)とCaCl(400.0g、1.1eq)を添加し、その溶液を25℃で0.5時間撹拌した後、60℃まで加温させ、中間体である(4-ブロモ-1H-インドール-3-イル)メタノールの反応液を滴下し、60℃で36時間反応させた。反応終了後、反応釜2の温度を25℃まで低下させ、トルエン(7.04kg(原料に対して8.8当量))を加え、反応釜の温度を5℃に調整し、過剰な水素化ホウ素ナトリウムをクエンチするように14.91kgのAcOH水溶液(0.51kgのAcOH溶液と14.40kgの水)を加え、クエンチ温度を30℃以下に維持しながら、25℃に調整し、1時間攪拌した。0.5時間静置した後、水層を廃棄した。有機層に精製水(8kg)を加え、25℃で1時間撹拌した後、水層を廃棄した。有機層に炭酸水素ナトリウム水溶液(0.20kgの炭酸水素ナトリウムを4.00kgの水に溶解したもの)4.20kgを加え、室温で1時間撹拌した後、水層を除去し、有機層を2.4Lまで濃縮してから、再びトルエン(2.00kg)を加え、2.4Lまで濃縮し、そして目的化合物であるトルエン溶液を得た。
(実施例2-1) 各種ルイス酸の検討1
下記化学反応式に示す、化合物(1)から化合物(2)を得る反応において、実施例1-1と同様の反応条件でルイス酸スクリーニングを行い、各種化合物の量がどのように変化するかをHPLC面積比率から検討した。結果を表1に示す。なお、以下の表における「Imp.」とは、Impurity(不純物)であることを表す。
HPLC条件
検出:225nm
カラム:YMC Triart C8 (4.6mmID×150mm,3μm)
カラム温度:40℃
移動相:A:10mM酢酸アンモニウム水溶液、B:アセトニトリル
グラジエント条件:
流量:1.0mL/min
注入量:1μL
試料溶解液:アセトニトリル/水(8:2)。
(実施例2-2) 各種ルイス酸の検討2
表1で検討したいくつかのルイス酸に対し、実施例1と同様の反応条件でルイス酸当量の検討を行った。結果を表3に示す。なお、HPLC条件は実施例2-1と同一である。また、反応系は、スラリー(slurry)よりも溶液(Solution)の状態である方が、より均一な反応状態であることから好ましい。
(実施例3) 各種ルイス酸の検討3
実施例1-1と同様の反応条件でチタンアルコキシドの種類を検討した。結果を表4に示す。なお、当該表に示すNo.1-3は全てSolutionであった。
(実施例4-1) tert-ブチル=(2E)-3-(3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロプ-2-エノアートの製造
窒素雰囲気下、反応釜にアセトニトリル(25mL)、実施例1-1で得られた化合物(5g)のN-メチルピロリドン溶液、酢酸パラジウム(0.053g,0.00024mol)、トリス(o-トルイル)ホスフィン(0.145g,0.000476mol)、トリエチルアミン(2.89g,0.0286mol)、アクリル酸tert-ブチル(3.66g,0.0286mol)を加え、80℃で3時間攪拌した。50℃に冷却後、常水(12.5mL)を滴下し、室温に冷却した。標記化合物の種結晶(5mg)を添加し、室温で1時間撹拌した。続いて、常水(37.5mL)を1時間かけて滴下後、室温で1時間撹拌した。得られた懸濁液を濾過し、結晶をアセトニトリル(10mL)と常水(15mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物(5.56g,0.0216mol,収率90.8%)を得た。
H NMR(500MHz,DMSO-d)δ1.50(s,9H),2.46(s,3H),3.33(s,1H),6.42(d,J=16.0Hz,1H),7.08(t,J=8.1Hz,1H),7.23(s,1H),7.39(d,J=8.1Hz,1H),7.44(d,J=7.5Hz,1H),8.39(d,J=16.1Hz,1H),10.98(br s,1H)。
なお、種結晶はカラムクロマトグラフィーにて精製した標記化合物を静置して得た。
(実施例4-2) tert-ブチル=(2E)-3-(3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロプ-2-エノアートの製造
窒素雰囲気下で、反応釜の中にN,N-ジメチルホルムアミド(3.04kg)、実施例1-2で得られた化合物(0.80kg)のトルエン溶液、酢酸パラジウム(8.0g,0.0357mo1)、トリス(p-トリル)ホスフィン(28.0g,0.107mol)、ジイソプロピルトリエチルアミン(0.64kg,4.95mol)、tert-ブチルアクリレート(0.64kg,4.93mol)を加え、100℃で12時間攪拌した。50℃まで冷却した後、精製水(0.12kg)を滴下し、5.6Lまで濃縮させ、トルエンの含有量は2%以下にした。その後、25℃まで冷却し、アセトニトリル(2.80kg)を加え、また精製水を添加し、系内水分が10%になるまで補充した。目的化合物の種結晶(40.0g)を添加し、25℃で2時間攪拌した。さらに、4時間かけてゆっくりと精製水(1.20kg)を滴下した後、4時間かけて急速に精製水(5.60kg)を添加し、室温で4時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過し、結晶をアセトニトリル(1.20kg)と精製水(2.40kg)で2回洗浄し、40℃で40時間かけて減圧乾燥することにより、目的化合物(0.70kg,2.72mol,収率76.0%)を得た。なお、種結晶はカラムで精製後の目的化合物を静置して得られた。また、得られた目的化合物のH-NMR値を、実施例4-1に示したそれらと照合し、同一化合物であることを確認した。
(実施例5-1) tert-ブチル=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロプ-2-エノアートの製造
窒素雰囲気下、反応釜にアセトニトリル(100mL)、参考例2-1で得られた化合物(10g)、1,1-カルボニルジイミダゾール(5.06g,0.0284mol)を加え、40℃で3.5時間攪拌した。室温に冷却後、10分間減圧脱気し、実施例4-1で得られた化合物(8.19g)、ジアザビシクロウンデセン(0.86g,0.0057mol)を加えた。室温で2時間撹拌後、酢酸(0.85g,0.014mol)を加えた。続いて、常水(43mL)を1時間かけて滴下し、室温で15時間撹拌した。得られた懸濁液を濾過し、結晶をアセトニトリル(24mL)と常水(16mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物(15.94g,0.02693mol,収率95.0%)を得た。
H NMR(500MHz,DMSO-d)δ1.49(s,9H),1.83(d,J=21.8Hz,6H),2.37(s,3H),6.50(d,J=15.5Hz,1H),7.34(t,J=8.0Hz,1H),7.44(s,1H),7.73(d,J=7.5Hz,1H),7.84(s,2H),8.24(d,J=16.1Hz,1H),8.25(d,J=8.0Hz,1H)。
(実施例5-2) tert-ブチル=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロプ-2-エノアートの製造
窒素雰囲気下で、反応釜の中にトルエン(36kg)、参考例2-2で得られた化合物(4.0kg,11.3mol)、1,1-カルボニルジイミダゾール(2.28kg,14.1mol)を加え、40℃で2時間攪拌した。25℃まで冷却した後、精製水(24kg)を加えて1時間撹拌し、静置してから水層を除去した。有機層を20Lになるまで濃縮し、系内の水分量が0.3%未満になったら、実施例4-2で得られた化合物(3.03kg、11.8mol)、アセトニトリル(28kg)、ジアザビシクロウンデセン(346g、2.27mo1)を添加した。25℃で6時間攪拌してから酢酸(340g,5.66mol)を加えた。その後、反応液を20Lまで濃縮させてから、イソプロパノール(32kg)を加え、25℃で1.5時間攪拌した。更に20Lまで濃縮させ、イソプロパノール(32kg)を加え、30Lまで濃縮させた。最後にイソプロパノール(16kg)を加え、25℃で0.5時間攪拌し、4時間で-5℃になるまで冷却し、4時間攪拌した。なお、上清液の残留率は0.38%であった。得られた懸濁液をろ過し、結晶をイソプロパノール(10kg)で洗浄した後、40℃で18時間減圧乾燥することにより、目的化合物を得た(収率92%)。なお、得られた目的化合物のH-NMR値を、実施例5-1に示したそれらと照合し、同一化合物であることを確認した。
(実施例6-1) (2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エン酸の製造
窒素雰囲気下、反応釜にアセトニトリル(100mL)、実施例5-1で得られた化合物(10g)を加え、50℃で撹拌して完溶させた。12mol/L塩酸水溶液(4.2mL)を加え、3時間撹拌した後、室温まで冷却した。続いて、常水(80mL)を1時間かけて滴下し、室温で3時間撹拌した。得られた懸濁液を濾過し、結晶をアセトニトリル(22mL)と常水(18mL)の混合液で洗浄し、減圧下、40℃で一晩乾燥することにより標記化合物(8.35g,0.0558mol,収率92.2%)を得た。
H NMR(500MHz,DMSO-d)δ1.83(d,J=21.8Hz,6H),2.37(s,3H),6.50(d,J=16.0Hz,1H),7.35(t,J=8.0Hz,1H),7.43(s,1H),7.70(d,J=7.5Hz,1H),7.84(s,2H),8.25(d,J=15.5Hz,1H),8.26(d,J=8.6Hz,1H)。
(実施例6-2) (2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エン酸の製造
窒素雰囲気下で、反応釜の中にアセトン(25.8kg)、実施例5-2で得られた化合物(3.1kg)を加え、25℃で完全に溶解させるように撹拌した。12mol/Lの塩酸水溶液(7.4kg)を加え、40℃で3時間撹拌した後、室温(20℃)まで冷却した。次に、精製水(6.2kg)を1時間かけて滴下し、種結晶(15.2g、実施例6-1に準じて製造した。)を加え、室温で1時間攪拌した。4時間かけて精製水(12.4kg)を滴下し、25℃で2時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過し、結晶をアセトン(6.8kg)と精製水(9.9kg)の混合液で洗浄し、35℃で8時間減圧乾燥することにより、目的化合物を得た(収率94.0%)。なお、得られた目的化合物のH-NMR値を、実施例6-1に示したそれらと照合し、同一化合物であることを確認した。
(実施例7-1) モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアート((2E)-3-(1-{[5-(2-fluoropropan-2-yl)-3-(2,4,6-trichlorophenyl)-1,2-oxazol-4-yl] carbonyl}-3-methyl-1H-indol-4-yl) propa-2-enoate t-butylamine saltともいう)の製造
窒素雰囲気下、反応釜に実施例6で得られた化合物(30g)にアセトン(255mL)と2-プロパノール(255mL)を加え、30℃で30分間撹拌して完溶させた。活性炭(0.3g)を加えて30分間撹拌し、活性炭を濾過し、アセトン(45mL)と2-プロパノール(45mL)の混合液で活性炭を洗浄し、濾液を取得した。得られた溶液を40℃に昇温しtert-ブチルアミン(1.2g)とアセトン(13mL)と2-プロパノール(13mL)の混合液を添加し、30分間撹拌した。標記化合物の結晶の析出を確認後、tert-ブチルアミン(1.4g)とアセトン(15mL)と2-プロパノール(15mL)の混合液を30分間かけて滴下し、30分間撹拌後、60℃に昇温した。tert-ブチルアミン(1.6g)とアセトン(17mL)と2-プロパノール(17mL)の混合液を2時間かけて滴下した。その後、2時間撹拌し、1.5時間かけて0℃へ冷却し、3時間撹拌した。得られた懸濁液を濾過し、結晶を冷却したアセトン(45mL)と冷却した2-プロパノール(45mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物のtBA2型結晶(15.5g)を得た。図1に粉末X線回折パターンを示し、表5に粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)、格子面間隔(d値)、および相対強度を記載する。
H NMR(500MHz,DMSO-d)δ1.20(s,9H),1.83(d,J=22.4Hz,6H),2.35(s,3H),6.39(d,J=15.7Hz,1H),7.30(t,J=7.9Hz,1H),7.34(s,1H),7.54(d,J=7.9Hz,1H),7.85(s,2H),7.93(d,J=15.7Hz,1H),8.17(d,J=8.5Hz,1H)。
(実施例7-2) モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H-インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの製造
窒素雰囲気下で、反応釜の中で実施例6-2で得られた化合物(4.9kg)にアセトン(32.9kg)と2-プロパノール(32.9kg)を加え、30℃で完全に溶解させるように30分間攪拌した。その溶液をZetaCarbonTM(Cuno Filtration S.A.S.)でろ過し、アセトン(5.9kg)と2-プロパノール(5.9kg)の混合液でZetaCarbonを洗浄し、溶液を得た。得られた溶液を40℃まで加温し、tert-ブチルアミン(200.9g)を添加し、1時間攪拌した。目的化合物の晶出を確認した後に、tert-ブチルアミン(236.0g)を滴下し、種結晶(18.5g、当該種結晶は、実施例7-1に準じて製造した。)と共に1時間攪拌してから、60℃まで加温した。tert-ブチルアミン(169.5g)を滴下し、アセトン(2.5kg)と2-プロパノール(2.5kg)と共に管路に投入した。その後、3時間攪拌して、10時間かけて0℃まで冷却させ、4時間攪拌した。得られた懸濁液をろ過し、アセトン(5.9kg)と2-プロパノール(5.9kg)の混合液で晶体を洗浄した。35℃で20時間減圧乾燥することにより、目的化合物のtBA2型結晶を得た(収率87.9%)。なお、得られた目的化合物のH-NMR値を、実施例7-1に示したそれらと照合し、同一化合物であることを確認した。
(実施例8) モノ(2-メチルプロパン-2-アンモニウム)=(2E)-3-(1-{[5-(2-フルオロプロパン-2-イル)-3-(2,4,6-トリクロロフェニル)-1,2-オキサゾール-4-イル]カルボニル}-3-メチル-1H- インドール-4-イル)プロパ-2-エノアートの結晶多形
標記化合物は複数の結晶多形(tBA1型、tBA2型、P1型、P2型、P3型)を有しており、実施例7-1および7-2に示すtBA2型結晶を除く4種類の結晶形の製造を実施例8-1、8-2、8-3、および8-4に示す。
(実施例8-1) tBA1型結晶の製造
実施例7-1で得られた化合物(10g)にアセトン(52mL)と2-プロパノール(52mL)を加え、30℃で30分間攪拌して完溶させた。活性炭(0.1g)を加えて30分間撹拌し、活性炭を濾過し、アセトン(13mL)と2-プロパノール(13mL)の混合液で活性炭を洗浄し、濾液を取得した。得られた溶液を40℃に昇温し、2-プロパノール(80mL)を添加し、tert-ブチルアミン(0.2g)とアセトン(1.3mL)と2-プロパノール(3mL)の混合液を添加した。続いて、tert-ブチルアミン(1.2g)を添加し、30分間撹拌後、0℃に冷却した。2時間撹拌し、得られた懸濁液を濾過し、結晶を冷却したアセトン(15mL)と冷却した2-プロパノール(15mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物のtBA1型結晶(9.8g)を得た。図2に粉末X線回折パターンを示し、表6に粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)、格子面間隔(d値)、および相対強度を記載する。
(実施例8-2) P1型結晶の製造
実施例7-1で得られた化合物(3g)にアセトン(21mL)と精製水(3mL)を加え、40℃で30分間撹拌して完溶させた。tert-ブチルアミン(0.1g)を15分間毎に3回添加し、標記化合物の結晶の析出を確認後、tert-ブチルアミン(0.1g)を添加した。5℃に冷却し30分間撹拌後、得られた懸濁液を濾過し、結晶を冷却したアセトン(1.5mL)と冷却した精製水(2.6mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物のP1型結晶(2.9g)を得た。図3に粉末X線回折パターンを示し、表7に粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)、格子面間隔(d値)、および相対強度を記載する。
(実施例8-3) P2型結晶の製造
実施例7-1で得られた化合物(20g)にアセトン(104mL)と2-プロパノール(104mL)を加え、30℃で30分間撹拌して完溶させた。活性炭(0.2g)を加えて30分間撹拌し、活性炭を濾過し、アセトン(26mL)と2-プロパノール(26mL)の混合液で活性炭を洗浄し、濾液を取得した。得られた溶液を40℃に昇温し、2-プロパノール(160mL)を添加し、tert-ブチルアミン(0.4g)とアセトン(2.6mL)と2-プロパノール(6mL)の混合液を添加した。続いて、tert-ブチルアミン(0.9g)を添加し、30分間撹拌後、得られた懸濁液を濾過し、結晶をアセトン(30mL)と2-プロパノール(30mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物のP2型結晶(17.7g)を得た。図4に粉末X線回折パターンを示し、表8に粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)、格子面間隔(d値)、および相対強度を記載する。
(実施例8-4) P3型結晶の製造
実施例7-1で得られた化合物(10g)にアセトン(52mL)と2-プロパノール(52mL)を加え、30℃で30分間撹拌して完溶させた。活性炭(0.1g)を加えて30分間撹拌し、活性炭を濾過し、アセトン(13mL)と2-プロパノール(13mL)の混合液で活性炭を洗浄し、濾液を取得した。得られた溶液を60℃に昇温し、2-プロパノール(80mL)を添加し、tert-ブチルアミン(0.5g)を添加した。1時間撹拌し、標記化合物の析出を確認後、tert-ブチルアミン(0.3g)を添加し、25℃に冷却して一晩撹拌した。得られた懸濁液を濾過し、結晶をアセトン(15mL)と2-プロパノール(15mL)の混合液で洗浄し、減圧下で40℃一晩乾燥することにより標記化合物のP3型結晶(7.2g)を得た。図5に粉末X線回折パターンを示し、表9に粉末X線回折スペクトルにおける回折角(2θ)、格子面間隔(d値)、および相対強度を記載する。
以上説明したように、本発明によれば、3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体の製造において、前記誘導体を高収率にて得ることができ、さらには、当該誘導体の脱メチル化または脱ハロゲン化が抑制され、後処理が容易となり得る。3-メチル-4-ハロ-インドール誘導体は、抗腫瘍剤等の医薬あるいはその製造原料として有用であるため、特に医療分野において利用可能である。

Claims (4)

  1. 式(I):
    で示される化合物を、Ti(OR)およびヒドリド還元剤を用いて還元する工程を包含する製造方法によって、
    式(II):
    で示される化合物を製造する工程、および、
    当該化合物を、パラジウム触媒を用いて、tert-ブチルアクリレートと反応させる工程を包含する
    式(III):
    で示される化合物の製造方法。
    [Xは、ハロゲン原子を示す。Rは、C -C アルキル基を示す。]
  2. 請求項に記載の製造方法によって式(III)で示される化合物を製造する工程、および、
    当該化合物を式(IV)で示される化合物と縮合させる工程を包含する、
    式(V):
    で示される化合物の製造方法。
  3. 請求項に記載の製造方法によって式(V)で示される化合物を製造する工程、および、
    当該化合物を加水分解する工程を包含する、
    式(VI):
    で示される化合物の製造方法。
  4. 請求項に記載の製造方法によって式(VI)で示される化合物を製造する工程、
    当該化合物をtert-ブチルアミン を用いて塩化させる工程、ならびに
    アセトンおよび2-プロパノールの混合溶液中で結晶化させる工程を含む、
    式(VI)で示される化合物のtert-ブチルアミン塩の製造方法。
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