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JP7746689B2 - Release film, release film with adhesive layer, and film laminate - Google Patents
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JP7746689B2 - Release film, release film with adhesive layer, and film laminate - Google Patents

Release film, release film with adhesive layer, and film laminate

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JP7746689B2 JP2021084599A JP2021084599A JP7746689B2 JP 7746689 B2 JP7746689 B2 JP 7746689B2 JP 2021084599 A JP2021084599 A JP 2021084599A JP 2021084599 A JP2021084599 A JP 2021084599A JP 7746689 B2 JP7746689 B2 JP 7746689B2
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Description

本発明は、離型フィルム、粘着層付き離型フィルムおよびフィルム積層体に関する。 The present invention relates to a release film, a release film with an adhesive layer, and a film laminate.

液晶テレビ、コンピューターディスプレイ、携帯電話やデジタルカメラなどの画像表示装置として利用されている液晶表示装置の製造方法の一例として、粘着層付き離型フィルムすなわち粘着剤層の片面側に離型層を介して基材フィルムを積層してなる粘着層付き離型フィルムを使用して、当該粘着剤層を偏光板に貼付して粘着剤層付偏光板を製造した後、液晶セルと貼り合せる際に、前記離型層を備えた基材フィルム(離型フィルム)を剥離して粘着剤層と液晶セルのガラス基板を貼付して製造する方法を挙げることができる。 One example of a method for manufacturing liquid crystal display devices used in image display devices such as liquid crystal televisions, computer displays, mobile phones, and digital cameras is to use a release film with an adhesive layer, i.e., a base film laminated to one side of an adhesive layer with a release layer interposed therebetween, and then attach the adhesive layer to a polarizing plate to produce an adhesive-layered polarizing plate. Then, when attaching the polarizing plate to a liquid crystal cell, the base film (release film) with the release layer is peeled off, and the adhesive layer is attached to the glass substrate of the liquid crystal cell.

近年、ディスプレイの大型化に伴い、偏光板などの光学部材及び離型フィルムの寸法が大きくなり、上述のような液晶表示装置の製造に使用する離型フィルムには、剥離面積が大きくても軽く剥離することができる性質が求められるようになって来ている。
シリコーンは、シロキサン骨格が有する柔軟性と、メチル基置換による低表面エネルギーとにより、小さな力で剥離することができる性質(「軽剥離性」とも称する)に優れている材料である。そのため、光学部材、例えば液晶ディスプレイなどを構成する部材を貼り合わせる粘着剤を保護するための離型フィルムとして、シリコーン樹脂を主成分樹脂とする熱・紫外線硬化型シリコーン系離型剤が硬化してなる離型層を設けた離型フィルムが注目されている。
In recent years, as displays have become larger, the dimensions of optical components such as polarizing plates and release films have also increased, and the release films used in the manufacture of the above-mentioned liquid crystal display devices are now required to have the property of being easily peelable even when the peeling area is large.
Silicone is a material with excellent properties, such as the flexibility of the siloxane skeleton and the low surface energy due to methyl group substitution, which allows it to be peeled off with little force (also referred to as "easy peelability"). For this reason, as a release film for protecting adhesives used to bond optical components, such as components constituting liquid crystal displays, attention has been focused on release films provided with a release layer formed by curing a heat/ultraviolet curable silicone-based release agent whose main component is silicone resin.

シリコーンを主成分樹脂として含有する離型層を備えた離型フィルムに関しては、例えば特許文献1において、剥離時に剥離が軽く、保存時の保持力に優れ、かつ耐大気暴露性や非移行性に優れる離型フィルムとして、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に硬化型シリコーンを主成分樹脂とする塗料を塗工した離型フィルムであり、当該塗料が、溶剤型硬化型シリコーンと無溶剤型硬化型シリコーンと、反応性重剥離調整剤とを主成分として含有し、かつ塗料中のSiH基とビニル基の比が特定範囲である離型フィルムが開示されている。 Regarding release films with a release layer containing silicone as the primary resin component, for example, Patent Document 1 discloses a release film that peels easily, has excellent retention during storage, and is resistant to atmospheric exposure and non-migration. The release film is made by applying a coating material whose primary resin component is curable silicone to at least one side of a polyester film, and the coating material contains solvent-curable silicone, solventless-curable silicone, and a reactive release modifier as primary components, and the ratio of SiH groups to vinyl groups in the coating material is within a specific range.

特許文献2には、ヘキセニル基、ビニル基、フェニル基、およびヒドロシリル基を官能基として有する反応性シリコーン樹脂と、質量平均分子量が50000~100000の未反応性シリコーン樹脂と、白金系触媒とを含有する塗布液から形成されたシリコーン系離型層をポリエステルフィルムの片面に有することを特徴とする離型フィルムが開示されている。 Patent Document 2 discloses a release film characterized by having a silicone-based release layer formed on one side of a polyester film from a coating liquid containing a reactive silicone resin having hexenyl, vinyl, phenyl, and hydrosilyl groups as functional groups, a non-reactive silicone resin with a mass-average molecular weight of 50,000 to 100,000, and a platinum-based catalyst.

特許文献3には、ポリエステルフィルムの少なくとも片面側に離型層を備えた離型フィルムであり、当該離型層を形成する組成物が、数平均分子量50000以上の硬化型シリコーン(A)と、数平均分子量30000以下の硬化型シリコーン(B)とを含有し、前記硬化型シリコーン(B)は、T単位構造を有し、且つ、硬化型シリコーン(B)が有するポリシロキサン鎖におけるT単位構造の含有割合がシロキサン単位で3モル%以上であることを特徴とする、離型フィルムが開示されている。 Patent Document 3 discloses a release film comprising a release layer on at least one side of a polyester film, wherein the composition forming the release layer contains a curable silicone (A) having a number average molecular weight of 50,000 or more and a curable silicone (B) having a number average molecular weight of 30,000 or less, wherein the curable silicone (B) has a T unit structure, and the content of T unit structures in the polysiloxane chain of the curable silicone (B) is 3 mol % or more in siloxane units.

ところで、偏光板やタッチセンサーなどの光学部材は、粘着層及び離型フィルムが積層された形で流通されることがある。例えば、光学部材の一方の面に、保護フィルムを、軽粘着層を介して剥離可能に積層し、他方の面に、粘着層付き離型フィルムを積層した状態、すわなち、離型フィルム/粘着層/光学フィルム/軽粘着層/保護フィルムの状態で流通することがある。
この際、粘着層から離型フィルムを剥離する際の剥離力が、光学部材と軽粘着層との密着力よりも大きいと、先に保護フィルムが剥離してしまう現象、いわゆる“泣き別れ現象”が発生することがあった。そのため、光学用途に使用する粘着層付き離型フィルムに関しては、より一層小さな力で剥離することができる軽剥離性に優れていることが求められる。
Optical components such as polarizing plates and touch sensors are sometimes distributed in a state in which an adhesive layer and a release film are laminated together. For example, an optical component may be distributed in a state in which a protective film is releasably laminated on one side of the optical component via a light adhesive layer, and a release film with an adhesive layer is laminated on the other side, i.e., in a state of release film/adhesive layer/optical film/light adhesive layer/protective film.
In this case, if the peeling force when peeling the release film from the adhesive layer is greater than the adhesion force between the optical component and the light adhesive layer, the protective film may peel off first, which is known as the "sad separation phenomenon." Therefore, release films with adhesive layers used for optical applications are required to have excellent light peeling properties, so that they can be peeled off with even less force.

また、従来は、粘着層付き離型フィルムの離型フィルムに接していない側すなわち離型フィルムとは反対側の粘着層表面(単に「粘着層表面」とも称する)に多少の凹凸があっても、当該粘着層表面は光学部材に接合するため、問題にされることはなかった。ところが近年、各部材が薄くなり、且つ光学的特性に関する品質要求が高まったことから、粘着層付き離型フィルムにおける粘着層表面の凹凸が課題になるようになってきた。すなわち、当該粘着層表面に凹凸があると、光学部材に貼り合わせた際、粘着層と光学部材との界面に歪が生じ、この歪みによって光が散乱するなどして、正確な光学検査の妨げになることがあった。
よって、粘着層付き離型フィルムに関しては、離型フィルムに接していない側の粘着層表面は、凹凸が少なくて平滑であることが求められる。
Furthermore, in the past, even if the adhesive layer surface (also simply referred to as the "adhesive layer surface") of a release film with an adhesive layer had some unevenness on the side not in contact with the release film, i.e., the side opposite the release film, this was not a problem because the adhesive layer surface was bonded to the optical component. However, in recent years, as components have become thinner and quality requirements regarding optical properties have increased, the unevenness of the adhesive layer surface of a release film with an adhesive layer has become an issue. That is, if the adhesive layer surface has unevenness, distortion occurs at the interface between the adhesive layer and the optical component when the film is bonded to the optical component, and this distortion can cause light scattering, which can interfere with accurate optical inspection.
Therefore, with respect to a release film with an adhesive layer, the surface of the adhesive layer on the side not in contact with the release film is required to be smooth with few irregularities.

特開2009-214359号公報JP 2009-214359 A 特開2016-188265号公報JP 2016-188265 A 特開2020-108937号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-108937

本発明者は、粘着層付き離型フィルムに関して、離型フィルムに接していない側すなわち離型フィルムとは反対側の粘着層表面に凹凸が出来る原因を検討した結果、離型層と粘着層との相互作用により、主に2つの原因で粘着層表面に凹凸が形成されることを見出した。すなわち、離型層の表面に凹凸があると、その影響で粘着層表面に凹凸が生じる場合があること、並びに、離型層から粘着層側に非相溶成分が溶出することで、粘着層組成物を塗布する際にハジキが発生したり、若しくは、粘着層内に当該非相溶成分が侵入して相分離構造を形成したりする結果、粘着層表面に凹凸が生じる場合があることを見出した。 The inventors of the present invention investigated the causes of unevenness on the surface of the adhesive layer on the side of a release film with an adhesive layer that is not in contact with the release film, i.e., the side opposite the release film, and found that the unevenness is formed on the surface of the adhesive layer mainly for two reasons due to the interaction between the release layer and the adhesive layer. Specifically, the inventors found that unevenness on the surface of the adhesive layer can result in unevenness on the surface of the adhesive layer due to the unevenness on the surface of the release layer, and that elution of incompatible components from the release layer to the adhesive layer can cause repelling when the adhesive layer composition is applied, or that the incompatible components can penetrate into the adhesive layer and form a phase-separated structure, resulting in unevenness on the surface of the adhesive layer.

そこで本発明は、離型フィルム及び粘着層付き離型フィルムに関し、粘着層表面の凹凸を抑制して平滑にすることができ、それでいて、軽剥離性にも優れている新たな離型フィルム、並びに、これを用いた新たな粘着層付き離型フィルムおよびフィルム積層体を提供せんとするものである。 The present invention relates to a release film and a release film with an adhesive layer, and aims to provide a new release film that can suppress unevenness on the adhesive layer surface to make it smooth, while also providing excellent easy peelability, as well as a new release film with an adhesive layer and a film laminate that uses this film.

本発明は、基材フィルムの片面側に離型層を備えた離型フィルムであり、
前記離型層の弾性率が1.4MPa以下であり、当該離型フィルムを1MPaの圧力下、1時間の条件でプレス処理した後、当該離型層に、アクリル系粘着テープを貼り合わせ、50mm×300mmのサイズにカットし、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持した後、23℃、50%RHで1時間静置した後の、引張速度300mm/分の条件下での180°剥離力が15mN/cm以下である、離型フィルムを提案する。
The present invention provides a release film having a release layer on one side of a base film,
The release film proposed has an elastic modulus of 1.4 MPa or less, and after the release film is pressed under a pressure of 1 MPa for 1 hour, an acrylic adhesive tape is attached to the release layer, the tape is cut to a size of 50 mm x 300 mm, and the tape is heated and held at 100°C (set temperature) for 1 hour in a hot air oven, and then allowed to stand at 23°C and 50% RH for 1 hour. The 180° peel strength of the release film is 15 mN/cm or less under conditions of a tensile speed of 300 mm/min.

本発明はまた、基材フィルムの片面側に、離型層組成物が硬化してなる離型層を備えた離型フィルムを提案する。
この際、当該離型層組成物として、数平均分子量(Mn)が20000以上、350000以下の硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする離型層組成物、又は、全シロキサン成分に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含む離型層組成物を提案する。
The present invention also proposes a release film having a release layer formed on one side of a substrate film by curing a release layer composition.
In this case, the release layer composition proposed is a release layer composition whose main component is a curable silicone resin having a number average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 350,000 or less, or a release layer composition containing 0.01 to 5.0 mol % of phenyl groups relative to the total siloxane components.

本発明はまた、前記離型フィルムの前記離型層に粘着層が積層してなる構成を備えた粘着層付き離型フィルムを提案する。 The present invention also proposes a release film with an adhesive layer, which has a configuration in which an adhesive layer is laminated on the release layer of the release film.

本発明はさらにまた、当該粘着層付き離型フィルムの前記粘着層表面に、光学部材が貼り合わされた構成を備えたフィルム積層体を提案する。 The present invention also proposes a film laminate having an optical component bonded to the surface of the adhesive layer of the adhesive-coated release film.

本発明が提案する離型フィルム、粘着層付き離型フィルム及びフィルム積層体は、軽剥離性に優れているばかりではなく、粘着層表面の凹凸を抑制して優れた平滑を得ることができる。よって、本発明が提案する離型フィルム、粘着層付き離型フィルムおよびフィルム積層体は、特に光学用途に好適に用いることができる。 The release film, adhesive-attached release film, and film laminate proposed by the present invention not only have excellent easy releasability, but also suppress unevenness on the adhesive layer surface, achieving excellent smoothness. Therefore, the release film, adhesive-attached release film, and film laminate proposed by the present invention are particularly suitable for use in optical applications.

参考例1~3で得られた離型フィルム(試料フィルム)の離型面の弾性率と塗布厚み(乾燥後)との関係をプロットし、対数変換・線形回帰の累乗近似にてフィッティングしたグラフである。1 is a graph obtained by plotting the relationship between the elastic modulus of the release surface of the release films (sample films) obtained in Reference Examples 1 to 3 and the coating thickness (after drying) and fitting the relationship using logarithmic transformation and power approximation of linear regression.

次に、本発明の実施形態の一例について説明する。但し、本発明が、次に説明する実施形態に限定されるものではない。 Next, an example of an embodiment of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the embodiment described below.

<<<本離型フィルム>>>
本発明の実施形態の一例に係る離型フィルム(「本離型フィルム」と称する)は、基材フィルム(「本基材フィルム」と称する)の少なくとも片面側に離型層(「本離型層」と称する)を備えた離型フィルムである。
<<<<Release Film>>>
A release film according to one embodiment of the present invention (referred to as "the present release film") is a release film having a release layer (referred to as "the present release layer") on at least one side of a base film (referred to as "the present base film").

本離型フィルムは、本基材フィルムの片面側に本離型層を備えていればよく、後述するように、本基材フィルムと本離型層との間に他の層を備えていてもよい。 The present release film only needs to have the present release layer on one side of the present base film, and as described below, may have other layers between the present base film and the present release layer.

<<本基材フィルム>>
本基材フィルムは、フィルム状を呈するものであれば、その材料を特に限定するものではない。例えば、紙製、樹脂製、金属製などであってもよい。これらの中でも、機械的強度および柔軟性の観点から、樹脂製であることが好ましい。
<<This base film>>
The material of the present substrate film is not particularly limited as long as it is in the form of a film. For example, it may be made of paper, resin, metal, etc. Among these, resin is preferred from the viewpoint of mechanical strength and flexibility.

樹脂製の本基材フィルムとしては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミドなどの高分子を膜状に形成したフィルムを挙げることができる。また、フィルム化が可能であれば、これらの材料を混合したもの(ポリマーブレンド)や構成単位を複合化したもの(共重合体)であっても構わない。 Examples of resin substrate films include films made from polymers such as polyethylene, polypropylene, polyester, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyamide, and polyimide. Furthermore, as long as they can be formed into a film, they may also be mixtures of these materials (polymer blends) or composites of their constituent units (copolymers).

上記例示したフィルムの中でも、ポリエステルフィルムは、耐熱性、平面性、光学特性、強度などの物性が優れており、特に好ましい。
上記ポリエステルフィルムは単層でも、性質の異なる2以上の層を有する多層フィルム(積層フィルム)でもよい。
また、ポリエステルフィルムは、無延伸フィルム(シート)であっても、延伸フィルムであってもよい。中でも、一軸方向又は二軸方向に延伸された延伸フィルムであるのが好ましい。その中でも、力学特性のバランスや平面性の観点で、二軸延伸フィルムであるのがより好ましい。
Among the films exemplified above, polyester films are particularly preferred because they have excellent physical properties such as heat resistance, flatness, optical properties, and strength.
The polyester film may be a single layer film or a multilayer film (laminated film) having two or more layers with different properties.
The polyester film may be a non-stretched film (sheet) or a stretched film. Among them, a uniaxially or biaxially stretched film is preferred. Among them, a biaxially stretched film is more preferred from the viewpoint of balance of mechanical properties and flatness.

上記ポリエステルフィルムの主成分樹脂であるポリエステルは、ホモポリエステルであっても、共重合ポリエステルであってもよい。
なお、当該「主成分樹脂」とは、本ポリエステルフィルムを構成する樹脂の中で最も質量割合の大きい樹脂の意味であり、本ポリエステルフィルムを構成する樹脂の50質量%以上、或いは75質量%以上、或いは90質量%以上、或いは100質量%を占める場合が想定される。
The polyester that is the main component resin of the polyester film may be either a homopolyester or a copolymer polyester.
The term "main component resin" refers to the resin with the largest mass proportion among the resins constituting the polyester film, and is expected to account for 50 mass% or more, 75 mass% or more, 90 mass% or more, or 100 mass% of the resins constituting the polyester film.

上記ホモポリエステルとしては、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。この際、前記芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸などを挙げることができ、前記脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができる。
代表的なホモポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリブチレンテレフタレート(PBT)等を例示することができる。
The homopolyester is preferably one obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol, such as terephthalic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, or 1,4-cyclohexanedimethanol, as the aromatic dicarboxylic acid and such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, or 1,4-cyclohexanedimethanol.
Typical examples of homopolyester include polyethylene terephthalate (PET) and polybutylene terephthalate (PBT).

一方、上記ポリエステルが共重合ポリエステルの場合は、30モル%以下の第三成分を含有した共重合体であることが好ましい。
前記共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸等の一種又は二種以上を挙げることができる。他方、前記共重合ポリエステルの前記グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上を挙げることができる。
On the other hand, when the polyester is a copolymer polyester, it is preferable that the copolymer contains 30 mol % or less of a third component.
Examples of the dicarboxylic acid component of the copolymer polyester include one or more of isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, etc. On the other hand, examples of the glycol component of the copolymer polyester include one or more of ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol, etc.

中でも、本基材フィルムとしては、60モル%以上、好ましくは80モル%以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレートが好ましい。 Among these, polyethylene terephthalate, which contains 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more, of ethylene terephthalate units, is preferred for the substrate film.

本基材フィルムは、易滑性の付与および各工程での傷発生防止を主たる目的として、粒子を含有するものであってもよい。
粒子を配合する場合、配合する粒子の種類は、易滑性付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等を挙げることができる。さらに、ポリエステルの製造工程中、触媒等の金属化合物の一部を沈殿、微分散させた析出粒子を用いることもできる。
The present substrate film may contain particles, mainly for the purposes of imparting easy slipperiness and preventing scratches during each process.
When particles are blended, the type of particles to be blended is not particularly limited as long as they are particles that can impart lubricity, and examples thereof include inorganic particles such as silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, aluminum oxide, and titanium oxide, and organic particles such as acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenolic resin, epoxy resin, and benzoguanamine resin. Furthermore, precipitated particles obtained by precipitating and finely dispersing a part of a metal compound such as a catalyst during the polyester production process can also be used.

前記粒子の形状は、特に限定されるわけではない。例えば球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれであってもよい。また、粒子の硬度、比重、色等についても特に制限はない。また、必要に応じてこれらの物性が異なる2種類以上の粒子を併用してもよい。 The shape of the particles is not particularly limited. For example, they may be spherical, lumpy, rod-like, flat, etc. Furthermore, there are no particular limitations on the hardness, specific gravity, color, etc. of the particles. Furthermore, two or more types of particles with different physical properties may be used in combination, if necessary.

前記粒子の平均粒径は、0.1μm以上5μm以下であるのが好ましく、中でも0.5μm以上或いは4μm以下、その中でも1μm以上或いは4μm以下であるのがさらに好ましい。このような平均粒径の粒子を用いることにより、フィルムに適度な表面粗度を与え、良好な滑り性と平滑性が確保できる。 The average particle size of the particles is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less, and more preferably 0.5 μm or more or 4 μm or less, and even more preferably 1 μm or more or 4 μm or less. Using particles with such an average particle size gives the film an appropriate surface roughness, ensuring good slipperiness and smoothness.

本基材フィルム中の粒子含有量に関しては、粒子がない場合或いは少ない場合、フィルムの透明性が高くなる反面、滑り性が不十分となる場合がある。他方、粒子含有量が多すぎると、フィルムの透明性が不十分になる可能性がある。かかる観点から、本基材フィルム中の粒子含有量は、5質量%以下であるのが好ましく、中でも0.1質量%以上或いは3質量%以下であるのがさらに好ましい。
なお、高度な検査レベルが要求される用途では、本基材フィルム表面に存在する粒子由来の凸形状が、本粘着層に転写してしまうことが問題とされることがある。そこで、当該粒子が検査の支障にならないように、少なくとも本基材フィルムの片側表面または両側表面は、粒子が存在しないように構成するのが好ましい場合がある。その他、本粘着層と接する面の粒子量を低下させたり、粒子径を小さくしたりして、当該面を平滑にする一方、反対面の表面粗度を高くするなど、表裏両面側の粒子量又は粒子径が互いに異なる構成とすることもできる。
Regarding the particle content in the present base film, if there are no particles or if there are only a few particles, the film will have high transparency but may have insufficient slipperiness. On the other hand, if the particle content is too high, the film may have insufficient transparency. From this perspective, the particle content in the present base film is preferably 5% by mass or less, and more preferably 0.1% by mass or more or 3% by mass or less.
In applications requiring a high level of inspection, the transfer of convex shapes resulting from particles present on the surface of the substrate film to the adhesive layer can be a problem. Therefore, to prevent the particles from interfering with the inspection, it may be preferable to configure at least one or both surfaces of the substrate film to be particle-free. Alternatively, the amount or size of particles on the surface in contact with the adhesive layer can be reduced to smooth that surface, while the surface roughness of the opposite surface can be increased, thereby creating a configuration in which the amount or size of particles on the front and back surfaces are different from each other.

<<本離型層>>
本離型層は、硬化型シリコーン樹脂(「本硬化型シリコーン樹脂」)を主成分樹脂とする離型層組成物(「本離型層組成物」と称する)が硬化してなる層であり、本基材フィルムの少なくとも片面側に配置される。
本離型層は、本離型層組成物が硬化してなる硬化物を含有する離型層であるとも言うことができる。
<<Main release layer>>
This release layer is a layer formed by curing a release layer composition (referred to as "this release layer composition") whose main component resin is a curable silicone resin ("this curable silicone resin"), and is arranged on at least one side of this substrate film.
The present release layer can also be said to be a release layer containing a cured product obtained by curing the present release layer composition.

<本離型層組成物>
前記本離型層組成物は、硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする組成物であればよい。
本離型層組成物は、硬化型シリコーン樹脂以外の他の成分を含有してもよく、必要に応じて、例えば触媒、反応制御剤、架橋剤、重合開始剤、粒子、希釈溶剤、その他の添加剤を含有することができる。
<This release layer composition>
The release layer composition may be any composition containing a curable silicone resin as a main component resin.
The release layer composition may contain components other than the curable silicone resin, and may contain, as necessary, for example, catalysts, reaction control agents, crosslinking agents, polymerization initiators, particles, diluents, and other additives.

なお、上記「主成分樹脂」とは、本離型層組成物を構成する樹脂の中で最も質量割合の大きい樹脂の意味であり、本離型層組成物を構成する樹脂の50質量%以上、或いは75質量%以上、或いは90質量%以上、或いは100質量%を占める場合が想定される。 The term "main component resin" refers to the resin that has the largest mass proportion among the resins that make up the release layer composition, and is expected to account for 50 mass% or more, 75 mass% or more, 90 mass% or more, or 100 mass% of the resins that make up the release layer composition.

本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量すなわち本離型層組成物乃至本離型層に含有されるシロキサン成分の全量に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含むのが好ましい。
本離型層組成物乃至本離型層が、所定量のフェニル基を含むことにより、本離型層の表面に残存している可能性のあるアルケニル基(例えばビニル基、ヘキセニル基)あるいはSi-H基を被覆することができ、本離型層と粘着層との相互作用を低減することができ、さらなる軽剥離化効果を発現させることが期待できる。
かかる観点から、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含んでいるのが好ましく、中でも0.05mol%以上或いは4.0mol%以下、その中でも0.1mol%以上或いは3.0mol%以下、その中でも0.2mol%以上或いは2.0mol%以下のフェニル基を含んでいるのが特に好ましい。
The release layer composition or the release layer preferably contains 0.01 to 5.0 mol % of phenyl groups relative to the total amount of siloxane components, that is, the total amount of siloxane components contained in the release layer composition or the release layer.
By containing a predetermined amount of phenyl groups, the release layer composition or the release layer can cover alkenyl groups (e.g., vinyl groups, hexenyl groups) or Si-H groups that may remain on the surface of the release layer, thereby reducing the interaction between the release layer and the adhesive layer and expected to provide an even easier peeling effect.
From this viewpoint, it is preferable that the present release layer composition or the present release layer contains 0.01 to 5.0 mol% of phenyl groups relative to the total amount of siloxane components, and it is particularly preferable that the phenyl group content be 0.05 mol% or more or 4.0 mol% or less, of which 0.1 mol% or more or 3.0 mol% or less, and of which 0.2 mol% or more or 2.0 mol% or less.

本離型層組成物乃至本離型層が、フェニル基を上記割合で含むようにするには、フェニル基を所定割合で含む硬化型シリコーン樹脂を使用すればよい。但し、かかる方法に限定するものではない。例えば、フェニル基を含有する化合物、例えばフェニル基を有する非硬化型シリコーン樹脂、シラン化合物などを添加するようにしてもよい。 To ensure that the release layer composition or the release layer contains phenyl groups in the above proportion, a curable silicone resin containing a specified proportion of phenyl groups may be used. However, this method is not limited to this. For example, a compound containing phenyl groups, such as a non-curable silicone resin or silane compound having phenyl groups, may be added.

また、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して、アルケニル基、すなわちヘキセニル基、ビニル基などの二重結合を持つ残官能基の量が少ないと、離型層が十分に硬化しない可能性があり、一方で、アルケニル基量が大過剰であると、空気暴露後の剥離力が重くなる傾向にある。このことから、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して0.4~1.0mol%のアルケニル基を含んでいるのが好ましく、中でも0.5mol%以上或いは0.9mol%以下,その中でも0.6mol%以上或いは0.8mol%以下のアルケニル基を含んでいるのが特に好ましい。
また、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して、Si-H基量が少ないと離形層が十分に硬化せず、一方でSi-H基量が大過剰であると、残存するSi-H基が粘着層と反応することで離型フィルムの重剥離化に影響する可能性がある。このことから、本離型層組成物乃至本離型層は、全シロキサン成分量に対して0.8~2.2mol%のSi-H基を含んでいるのが好ましく、中でも1.2mol%以上或いは2.1mol%以下,その中でも1.4mol%以上或いは2.0mol%以下のSi-H基を含んでいるのが特に好ましい。
Furthermore, if the amount of alkenyl groups, i.e., residual functional groups having double bonds such as hexenyl groups and vinyl groups, is small relative to the total amount of siloxane components in the present release layer composition or present release layer, the release layer may not be sufficiently cured, while if the amount of alkenyl groups is greatly excessive, the release force after exposure to air tends to be strong. For this reason, the present release layer composition or present release layer preferably contains 0.4 to 1.0 mol% of alkenyl groups relative to the total amount of siloxane components, and particularly preferably contains 0.5 mol% or more or 0.9 mol% or less, and particularly preferably contains 0.6 mol% or more or 0.8 mol% or less of alkenyl groups.
Furthermore, if the amount of Si-H groups in the release layer composition or the release layer is small relative to the total amount of siloxane components, the release layer will not cure sufficiently, while if the amount of Si-H groups is excessive, the remaining Si-H groups may react with the adhesive layer, affecting the release strength of the release film. For this reason, the release layer composition or the release layer preferably contains 0.8 to 2.2 mol% of Si-H groups relative to the total amount of siloxane components, and particularly preferably contains 1.2 mol% or more or 2.1 mol% or less, and particularly preferably contains 1.4 mol% or more or 2.0 mol% or less of Si-H groups.

本離型層組成物乃至本離型層における全シロキサン成分含有量は、例えば、1H-NMRで主鎖のジメチルシロキサンユニットとそれ以外のユニットの積分比から測定することができ、フェニル基含有量、アルケニル基及びSi-H基の含有量についても、例えば、1H-NMRを測定することで評価することができる。但し、かかる方法に限定するものではない。 The total siloxane component content in the release layer composition or release layer can be measured, for example, by 1H-NMR from the integral ratio of the main chain dimethylsiloxane unit to other units, and the phenyl group content, alkenyl group content, and Si-H group content can also be evaluated, for example, by measuring 1H-NMR. However, these methods are not limited to these.

<本硬化型シリコーン樹脂>
本発明において「硬化型シリコーン樹脂」とは、硬化することができる性質を備えたシリコーン樹脂を意味する。なお、予め架橋剤を混合することで、硬化させることができるものも包含する。
硬化型シリコーン樹脂の硬化方法は任意である。例えば、空気中の湿気と反応して縮合反応により硬化する性質を備えたものであっても、加熱による付加反応により硬化する性質を備えたものであっても、光により付加重合又はラジカル重合して硬化する性質を備えたものであってもよい。
中でも、硬化反応の副生成物が無く、硬化膜の物性も安定であることから、加熱による付加反応により硬化する熱硬化型シリコーン樹脂であるのが好ましい。
本硬化型シリコーン樹脂が熱硬化型である場合、構造中にシロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基(Vi基)又はヘキセニル基などのアルケニル基が導入されているのが好ましい。
<Fully cured silicone resin>
In the present invention, the term "curable silicone resin" refers to a silicone resin that has the property of being able to be cured. This also includes silicone resins that can be cured by mixing a crosslinking agent in advance.
The curing method of the curable silicone resin is optional, and may be, for example, a resin that cures by a condensation reaction in response to moisture in the air, a resin that cures by an addition reaction caused by heating, or a resin that cures by addition polymerization or radical polymerization caused by light.
Among these, thermosetting silicone resins that cure by an addition reaction caused by heating are preferred, since they do not produce by-products in the curing reaction and the physical properties of the cured film are stable.
When the present curable silicone resin is a thermosetting type, it is preferable that an alkenyl group such as a vinyl group (Vi group) or a hexenyl group be introduced into a side chain and/or terminal of the main chain consisting of a siloxane bond in the structure.

本硬化型シリコーン樹脂は、ケイ素と酸素からなるシロキサン結合を主鎖としてなる重合体であればよい。
本硬化型シリコーン樹脂として、例えば、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖又は末端に各種置換基を導入したものを挙げることができる。この際、当該置換基としては、例えば、メチル基、フェニル基、ポリエーテル、エポキシ、アミン類、カルボキシル基、アラルキル基などのいずれか、又は、それらの二種以上の組み合わせを挙げることができる。
The present curable silicone resin may be any polymer having a main chain of siloxane bonds consisting of silicon and oxygen.
Examples of the present curable silicone resin include those in which various substituents have been introduced into the side chains or terminals of the main chain consisting of siloxane bonds, such as methyl groups, phenyl groups, polyethers, epoxy groups, amines, carboxyl groups, aralkyl groups, and the like, or combinations of two or more of these groups.

本離型層組成物乃至本離型層が所定割合でフェニル基を含むようにするための手法の一例として、0.01~5.0mol%のフェニル基を含有する、中でも0.05mol%以上或いは4.0mol%以下、その中でも0.1mol%以上或いは3.0mol%以下、その中でも0.2mol%以上或いは2.0mol%以下のフェニル基を含有する本硬化型シリコーン樹脂を使用する例を挙げることができる。
この際、当該本硬化型シリコーン樹脂は、メチル基に対するフェニル基のモル比(フェニル基/メチル)が0.0001~0.05であるのがさらに好ましく、中でも0.0005以上或いは0.04以下、その中でも0.001以上或いは0.03以下、その中でも0.02以上或いは0.02以下であるのがさらに好ましい。
As an example of a method for ensuring that the release layer composition or the release layer contains phenyl groups in a predetermined proportion, there can be mentioned the use of a curable silicone resin containing 0.01 to 5.0 mol% of phenyl groups, particularly 0.05 mol% or more or 4.0 mol% or less, of which 0.1 mol% or more or 3.0 mol% or less, and of which 0.2 mol% or more or 2.0 mol% or less of phenyl groups.
In this case, the molar ratio of phenyl groups to methyl groups (phenyl/methyl) in the present curable silicone resin is more preferably 0.0001 to 0.05, and even more preferably 0.0005 or more or 0.04 or less, even more preferably 0.001 or more or 0.03 or less, and even more preferably 0.02 or more or 0.02 or less.

本硬化型シリコーン樹脂の一例として、シロキサン結合からなる直鎖状の主鎖の側鎖又は末端に、フェニル基、Si-H基(単に「H基」とも称する)及びアルケニル基のいずれか又はこれら2種類以上が導入されたシリコーン樹脂を挙げることができる。
この際、本硬化型シリコーン樹脂におけるフェニル基の含有量は0.01~5.0mol%であるのが好ましく、中でも0.05mol%以上或いは4.0mol%以下、その中でも0.1mol%以上或いは3.0mol%以下、その中でも0.2mol%以上或いは2.0mol%以下であるのがさらに好ましい。
同じくこの際、本硬化型シリコーン樹脂におけるSi-H基の含有量は0.8~2.2mol%であるのが好ましく、中でも1.2mol%以上或いは2.1mol%以下,その中でも1.4mol%以上或いは2.0mol%以下であるのがさらに好ましい。
同じくこの際、本硬化型シリコーン樹脂におけるビニル基の含有量は0.4~1.0mol%であるのが好ましく、中でも0.4mol%以上或いは1.0mol%以下,その中でも0.6mol%以上或いは0.9mol%以下であるのがさらに好ましい。
An example of the present curable silicone resin is a silicone resin in which one or more of a phenyl group, a Si—H group (also simply referred to as an “H group”), and an alkenyl group have been introduced into a side chain or terminal of a linear main chain consisting of siloxane bonds.
In this case, the phenyl group content in the present curable silicone resin is preferably 0.01 to 5.0 mol%, and more preferably 0.05 mol% or more or 4.0 mol% or less, and even more preferably 0.1 mol% or more or 3.0 mol% or less, and even more preferably 0.2 mol% or more or 2.0 mol% or less.
In this case, the content of Si—H groups in the present curable silicone resin is preferably 0.8 to 2.2 mol %, more preferably 1.2 mol % or more or 2.1 mol % or less, and even more preferably 1.4 mol % or more or 2.0 mol % or less.
In this case, the vinyl group content in the present curable silicone resin is preferably 0.4 to 1.0 mol %, more preferably 0.4 mol % or more or 1.0 mol % or less, and even more preferably 0.6 mol % or more or 0.9 mol % or less.

本硬化型シリコーン樹脂は、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の組み合わせであってもよい。その場合、上述した各官能基の含有割合は、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の平均値が上記範囲内であるのが好ましい。 The present curable silicone resin may be a combination of two or more curable silicone resins. In that case, it is preferable that the content ratio of each of the above-mentioned functional groups be within the above-mentioned range, on average, for the two or more curable silicone resins.

本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)は20000以上350000以下であるのが好ましい。
本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)が低過ぎると、本離型フィルムに粘着層を積層した際、低分子量のシリコーン樹脂が粘着層へ溶出乃至移行する量が多くなるため好ましくない。本離型層を厚塗りしても軽剥離化効果に乏しい傾向にある。他方、本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)が高過ぎると、粘度が高くなり、本離型層組成物の流動性が低下して、本離型層組成物を塗布した際に、筋状のコートムラが生じて本離型層表面を平滑にすることが難しくなるから、好ましくない。
かかる観点から、本硬化型シリコーン樹脂の数平均分子量(Mn)は、20000以上であるのが好ましく、中でも50000以上であるのがより好ましく、中でも100000以上、その中でも特に150000以上であるのがさらに好ましい。他方、350000以下であるのが好ましく、中でも300000以下、その中でも特に250000以下であるのがさらに好ましい。
The number average molecular weight (Mn) of the present curable silicone resin is preferably 20,000 or more and 350,000 or less.
If the number average molecular weight (Mn) of the curable silicone resin is too low, when an adhesive layer is laminated on the release film, a large amount of the low molecular weight silicone resin will leach out or migrate into the adhesive layer, which is not preferable. Even if the release layer is applied thickly, the light release effect tends to be poor. On the other hand, if the number average molecular weight (Mn) of the curable silicone resin is too high, the viscosity increases, the fluidity of the release layer composition decreases, and when the release layer composition is applied, streaky coating unevenness occurs, making it difficult to smooth the surface of the release layer, which is not preferable.
From this viewpoint, the number average molecular weight (Mn) of the present curable silicone resin is preferably 20,000 or more, more preferably 50,000 or more, even more preferably 100,000 or more, and even more preferably 150,000 or more. On the other hand, it is preferably 350,000 or less, even more preferably 300,000 or less, and even more preferably 250,000 or less.

本硬化型シリコーン樹脂の質量平均分子量(Mw)は、同様の観点から、35000~600000であるのが好ましく、中でも50000以上或いは500000以下、その中でも100000以上或いは450000以下、その中でも特に120000以上であるのがさらに好ましい。 From the same viewpoint, the mass average molecular weight (Mw) of the present curable silicone resin is preferably 35,000 to 600,000, more preferably 50,000 or more or 500,000 or less, even more preferably 100,000 or more or 450,000 or less, and even more preferably 120,000 or more.

本硬化型シリコーン樹脂は、数平均分子量(Mn)に対する質量平均分子量(Mw)の比率(Mw/Mn)が1.7~2.7であるのが好ましく、中でも1.9以上或いは2.5以下であるのがさらに好ましい。この範囲を満足することで、架橋反応を効率よく進行させることが期待できる。 The curable silicone resin preferably has a ratio (Mw/Mn) of mass average molecular weight (Mw) to number average molecular weight (Mn) of 1.7 to 2.7, and more preferably 1.9 or more or 2.5 or less. By satisfying this range, it is expected that the crosslinking reaction will proceed efficiently.

本硬化型シリコーン樹脂は、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の組み合わせからなるものであってもよく、その場合、2種類以上の硬化型シリコーン樹脂の分子量の平均が上記範囲内であるのが好ましい。 The present curable silicone resin may be a combination of two or more types of curable silicone resins, in which case it is preferable that the average molecular weight of the two or more types of curable silicone resins be within the above range.

本硬化型シリコーン樹脂は、n-ヘプタン溶媒希釈にて、その含有量を15質量%に調整した際の25℃における粘度が10~400mcpsであるのが好ましい。
本硬化型シリコーン樹脂の当該粘度が10mcps以上であれば、塗布液の適度な粘度によりハジキが抑制され、良好なコート外観が得られるため好ましい。他方、当該粘度が400mcps以下であれば、本離型層組成物の流動性を維持することができ、本離型層組成物を塗布した際に、筋状のコートムラが生じるのを抑制でき、本離型層表面を平滑にすることができるから、好ましい。
かかる観点から、本硬化型シリコーン樹脂の当該粘度は、40mcps以上であるのがさらに好ましく、中でも80mcps以上であるのがさらに好ましい。他方、300mcps以下であるのがさらに好ましく、その中でも200mcps以下であるのがさらに好ましい。
The present curable silicone resin preferably has a viscosity of 10 to 400 mcps at 25° C. when diluted with n-heptane solvent to adjust the content to 15% by mass.
If the viscosity of the curable silicone resin is 10 mcps or more, the appropriate viscosity of the coating solution can suppress repelling and provide a good coating appearance, which is preferable. On the other hand, if the viscosity is 400 mcps or less, the fluidity of the release layer composition can be maintained, the occurrence of streaky coating unevenness can be suppressed when the release layer composition is applied, and the surface of the release layer can be made smooth, which is preferable.
From this viewpoint, the viscosity of the present curable silicone resin is more preferably 40 mcps or more, more preferably 80 mcps or more, and more preferably 300 mcps or less, more preferably 200 mcps or less.

本硬化型シリコーン樹脂は、無溶剤型硬化型シリコーン、溶剤型硬化型シリコーンのいずれであってもよい。また、両者を組み合わせて用いてもよい。
ここで、「無溶剤型硬化型シリコーン」とは、溶剤に希釈せずとも塗工できる粘度のシリコーンであり、短いポリシロキサン鎖よりなっており、比較的低分子量のシリコーンである。
他方、「溶剤型硬化型シリコーン」とは、溶剤に希釈しなければ塗工できない程度に粘度の高いシリコーンであり、無溶剤型硬化型シリコーンに比べると、比較的高い分子量を有するシリコーンである。
中でも、本硬化型シリコーン樹脂は、上記のように、中程度の数平均分子量(Mn)、中程度の粘度を有するのが好ましく、さらには、本基材フィルムへの密着性が良好となり、且つ、塗布外観(ムラ)も良く、且つ、本離型層の膜厚調整もし易いという観点から、溶剤型硬化型シリコーンであるのが好ましい。
The present curable silicone resin may be either a solventless curable silicone or a solvent curable silicone, or a combination of both.
Here, "solventless curable silicone" refers to a silicone with a viscosity that allows it to be applied without diluting it with a solvent, and is made up of short polysiloxane chains and has a relatively low molecular weight.
On the other hand, "solvent-curable silicone" is a silicone that is so viscous that it cannot be applied without being diluted with a solvent, and has a relatively high molecular weight compared to solventless-curable silicone.
In particular, it is preferable that the present curable silicone resin has a medium number average molecular weight (Mn) and a medium viscosity, as described above, and furthermore, it is preferable that it is a solvent-type curable silicone, from the viewpoints of providing good adhesion to the present substrate film, good coating appearance (evenness), and ease of adjusting the film thickness of the present release layer.

<その他の成分>
本離型層組成物は、上述したように、本硬化型シリコーン樹脂以外に、必要に応じて、例えば硬化触媒、粒子、希釈溶剤、反応制御剤、架橋剤、重合開始剤、密着強化剤、その他の添加剤を含有することができる。
例えば、本離型層組成物の一例として、本硬化型シリコーン樹脂、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端にヒドロシリル基(SiH基)を有する架橋剤、白金(Pt)を含む触媒、及び、溶剤を含有する組成物を挙げることができる。
<Other ingredients>
As described above, in addition to the present curable silicone resin, the present release layer composition may contain, as necessary, for example, a curing catalyst, particles, a diluting solvent, a reaction control agent, a crosslinking agent, a polymerization initiator, an adhesion promoter, and other additives.
For example, one example of the release layer composition of the present invention is a composition containing the present curable silicone resin, a crosslinking agent having a hydrosilyl group (SiH group) on the side chain and/or end of a main chain consisting of a siloxane bond, a catalyst containing platinum (Pt), and a solvent.

(触媒)
本離型層組成物は、必要に応じて、硬化触媒、すなわち硬化型シリコーンの珪素原子に結合したアルケニル基と、シリコーン架橋剤のハイドロジェンシラン(SiH)基とのヒドロシリル化付加反応を促進するための触媒を含有してもよい。
硬化触媒としては、例えば白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類との錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属系触媒などを挙げることができる。但し、これらに限定するものではない。
(catalyst)
The release layer composition may optionally contain a curing catalyst, i.e., a catalyst for promoting the hydrosilylation addition reaction between the alkenyl group bonded to the silicon atom of the curable silicone and the hydrogensilane (SiH) group of the silicone crosslinker.
Examples of the curing catalyst include, but are not limited to, platinum black, platinic chloride, chloroplatinic acid, reaction products of chloroplatinic acid with monohydric alcohols, complexes of chloroplatinic acid with olefins, platinum-based catalysts such as platinum bisacetoacetate, palladium-based catalysts, and rhodium-based catalysts.

本離型層組成物における硬化触媒の含有量としては、本硬化型シリコーンに対して、金属換算量として、0.5~500質量ppmであるのが好ましく、中でも5質量ppm以上或いは300質量ppm以下、その中でも10質量ppm以上或いは200ppm以下であるのがさらに好ましい。 The content of the curing catalyst in the release layer composition is preferably 0.5 to 500 ppm by mass, calculated as a metal equivalent, relative to the curable silicone, and more preferably 5 ppm by mass or more or 300 ppm by mass or less, and even more preferably 10 ppm by mass or more or 200 ppm by mass or less.

(架橋剤)
架橋剤は、シロキサン結合を有する架橋剤(「シリコーン架橋剤」とも称する)であるのが好ましい。中でも、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、珪素原子結合水素原子(SiH基)を有するものが好ましい。
(Crosslinking agent)
The crosslinking agent is preferably a crosslinking agent having a siloxane bond (also referred to as a "silicone crosslinking agent"), and particularly preferably one having silicon-bonded hydrogen atoms (SiH groups) on the side chains and/or ends of the main chain consisting of siloxane bonds.

例えば、下記一般式(1)で示され、一分子中に少なくとも2個、好ましくは3個以上(通常、3~200個程度)、より好ましくは3~100個、その中でも特に3~50個の珪素原子結合水素原子(SiH基)を有するものを挙げることができる。 For example, examples include those represented by the following general formula (1) that contain at least two, preferably three or more (usually about 3 to 200), more preferably 3 to 100, and especially 3 to 50 silicon-bonded hydrogen atoms (SiH groups) per molecule.

bcSiO(4-b-c)/2 (1) R b H c SiO (4-b-c)/2 (1)

式(1)中、Rは炭素数1~10の非置換又は置換の1価炭化水素基である。また、bは0.7~2.1、特に0.8~2.0、cは0.001~1.0で、かつb+cは0.8~3.0、特に1.0~2.5を満足する正数である。 In formula (1), R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Furthermore, b is a positive number that satisfies the range of 0.7 to 2.1, particularly 0.8 to 2.0, c is a positive number that satisfies the range of 0.001 to 1.0, and b+c is a positive number that satisfies the range of 0.8 to 3.0, particularly 1.0 to 2.5.

ここで、Rとしては、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン中のRと同様の基を挙げることができるが、好ましくはアルケニル基等の脂肪族不飽和結合を有さないものがよい。 Here, R can be the same group as R in the alkenyl group-containing organopolysiloxane, but preferably does not contain an aliphatic unsaturated bond such as an alkenyl group.

この珪素原子結合水素原子は、分子鎖末端の珪素原子に結合したものであっても、分子鎖途中(分子鎖非末端)の珪素原子に結合したものであっても、これらの両方に結合したものであってもよい。 These silicon-bonded hydrogen atoms may be bonded to silicon atoms at the ends of the molecular chain, to silicon atoms in the middle of the molecular chain (non-terminal), or to both.

なお、シリコーン架橋剤の分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網状構造のいずれでもよい。
さらに、一分子中の珪素原子数(又は重合度)は2~1,000であるのが好ましく、中でも3以上或いは500以下、その中でも3以上或いは300以下、その中でも特に4以上或いは150以下であるのがさらに好ましい。
The molecular structure of the silicone crosslinking agent may be any of a linear, cyclic, branched, and three-dimensional network structure.
Furthermore, the number of silicon atoms (or degree of polymerization) in one molecule is preferably 2 to 1,000, more preferably 3 or more or 500 or less, even more preferably 3 or more or 300 or less, and even more preferably 4 or more or 150 or less.

シリコーン架橋剤としては、例えば、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)フェニルシラン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンシロキサン・ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、(CH32HSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CH32HSiO1/2単位とSiO4/2単位と(C65)SiO3/2単位とからなる共重合体などや、これらの例示化合物において、メチル基の一部又は全部をエチル基、プロピル基等の他のアルキル基、フェニル基等のアリール基で置換したものを挙げることができる。但し、これらに限定するものではない。 Examples of silicone crosslinking agents include tris(dimethylhydrogensiloxy)methylsilane, tris(dimethylhydrogensiloxy)phenylsilane, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, methylhydrogencyclopolysiloxane, methylhydrogensiloxane-dimethylsiloxane cyclic copolymer, methylhydrogenpolysiloxane capped at both ends with trimethylsiloxy groups, and dimethylsiloxane-methylhydrogen capped at both ends with trimethylsiloxy groups. Examples of the copolymer include a phenylsiloxane copolymer, a dimethylpolysiloxane capped at both ends with dimethylhydrogensiloxy groups, a methylhydrogenpolysiloxane capped at both ends with dimethylhydrogensiloxy groups, a dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer capped at both ends with dimethylhydrogensiloxy groups, a methylhydrogensiloxane-diphenylsiloxane copolymer capped at both ends with trimethylsiloxy groups, a methylhydrogensiloxane-diphenylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer capped at both ends with trimethylsiloxy groups, a copolymer consisting of ( CH3 )2HSiO1 /2 units and SiO4 /2 units , a copolymer consisting of ( CH3 )2HSiO1 /2 units, SiO4 /2 units and ( C6H5 )SiO3 /2 units , and compounds in which some or all of the methyl groups in these exemplary compounds have been substituted with other alkyl groups such as ethyl groups or propyl groups, or aryl groups such as phenyl groups. However, it is not limited to these.

(粒子)
本離型層組成物は、必要に応じて、剥離力調整あるいはブロッキング防止対策として、粒子を含有することもできる。
この際、粒子の種類は、前記特性を付与可能な粒子であれば特に限定されるものではなく、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、カオリン、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機粒子、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の有機粒子等を挙げることができる。
その中でも、バインダー樹脂成分であるシリコーン樹脂との相性が良好な点から、粒子がシリコーン樹脂から構成されるのが好ましい。
(particle)
The release layer composition may contain particles as needed to adjust the release force or to prevent blocking.
In this case, the type of particle is not particularly limited as long as it is a particle that can impart the above-mentioned properties, and examples thereof include inorganic particles such as silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, aluminum oxide, and titanium oxide, and organic particles such as silicone resin, acrylic resin, styrene resin, urea resin, phenolic resin, epoxy resin, and benzoguanamine resin.
Among these, it is preferable that the particles are made of silicone resin because of its good compatibility with the silicone resin that is the binder resin component.

粒子の形状は、特に限定されるものではない。例えば球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれであってもよい。
また、粒子の硬度、比重、色等についても特に制限はない。
これらの粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。
The shape of the particles is not particularly limited, and may be, for example, spherical, blocky, rod-like, flat, or the like.
Furthermore, there are no particular limitations on the hardness, specific gravity, color, etc. of the particles.
Two or more types of these particles may be used in combination as needed.

(希釈溶剤)
本離型層組成物は、必要に応じて、希釈溶剤を含有することができる。
前記希釈溶剤としては、例えば、トルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、エチルメチルケトン(MEK)、イソブチルメチルケトン等のケトン類、エタノール、2-プロパノール等のアルコール類、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類などを挙げることができる。これらは、溶解性、塗工性や沸点等を考慮して単独または複数混合して使用するのが好ましい。
(Dilution solvent)
The release layer composition may optionally contain a diluent solvent.
Examples of the dilution solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, isooctane, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ketones such as ethyl methyl ketone (MEK), isobutyl methyl ketone, alcohols such as ethanol, 2-propanol, ethers such as diisopropyl ether, dibutyl ether, etc. These are preferably used alone or in combination, taking into consideration solubility, coatability, boiling point, etc.

(反応制御剤)
本離型層組成物は、必要に応じて、反応制御剤を含有することができる。
反応制御剤としては、例えばアセチレンアルコールなどを挙げることができる。
反応制御剤は1種類でもよいし、必要に応じて、2種類以上を併用してもよい。
反応制御剤の含有量は、本離型層組成物合計量100質量部あたり、0.001~5.0質量部であるのが好ましく、中でも0.01質量部以上或いは1.0質量部以下、その中でも0.05質量部以上或いは0.5質量部以下であるのがさらに好ましい。
(Reaction inhibitor)
The release layer composition may optionally contain a reaction inhibitor.
The reaction inhibitor may be, for example, acetylene alcohol.
The reaction inhibitor may be used alone or in combination of two or more types, if necessary.
The content of the reaction inhibitor is preferably 0.001 to 5.0 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the release layer composition, and more preferably 0.01 part by mass or more or 1.0 part by mass or less, and even more preferably 0.05 part by mass or more or 0.5 part by mass or less.

<本離型層の厚さ>
本離型層の厚さは、特に限定するものではない。本離型層の厚さが大きければ、本基材フィルムの影響、例えば本基材フィルムの硬さの影響を本離型フィルムの離型面に伝えづらくなり好ましい。かかる点から、本離型層の厚さ(乾燥後)は0.25μm以上であるのが好ましく、中でも0.30μm以上、その中でも0.35μm以上であるのがさらに好ましい。その一方、本離型層の厚さが厚過ぎると、ブロッキングの発生、コート外観の悪化などを引き起こす場合があるから、2.0μm以下であるのが好ましく、中でも1.5μm以下、その中でも1.0μm以下、その中でも0.8μm以下であるのが特に好ましい。
<Thickness of this release layer>
The thickness of the release layer is not particularly limited. If the thickness of the release layer is large, the influence of the substrate film, for example, the influence of the hardness of the substrate film, is less likely to be transmitted to the release surface of the release film, which is preferable. From this point of view, the thickness of the release layer (after drying) is preferably 0.25 μm or more, more preferably 0.30 μm or more, and even more preferably 0.35 μm or more. On the other hand, if the thickness of the release layer is too thick, blocking may occur, the coating appearance may deteriorate, etc., so it is preferably 2.0 μm or less, and even more preferably 1.5 μm or less, even more preferably 1.0 μm or less, and even more preferably 0.8 μm or less.

<<その他の層>>
本離型フィルムは、本基材フィルムと本離型層との間に「他の層」を備えていてもよい。
当該「他の層」としては、例えば、本基材フィルムと本離型層との密着性を高めるためのアンカーコート層のほか、各種機能を備えた硬化樹脂層などを挙げることができる。
当該硬化樹脂層とは、硬化樹脂、言い換えれば架橋構造を有する樹脂を主成分とする層であり、例えば、フィルム表面への配合物やオリゴマーの滲み出し(ブリード、プレートアウト)を封止するオリゴマー封止層のほか、帯電防止性を備えた帯電防止層などを挙げることができる。但し、これらに限定するものではない。
<<Other demographics>>
The present release film may have "another layer" between the present base film and the present release layer.
Examples of the "other layer" include an anchor coat layer for increasing the adhesion between the substrate film and the release layer, as well as cured resin layers having various functions.
The cured resin layer is a layer mainly composed of a cured resin, in other words, a resin having a crosslinked structure, and examples thereof include an oligomer sealing layer that seals out the bleed (bleeding, plate-out) of compounds or oligomers onto the film surface, and an antistatic layer that has antistatic properties, but is not limited to these.

<<本離型フィルムの製造方法>>
本離型フィルムは、本基材フィルムの片面側又は両面側に、必要に応じて、帯電防止層やオリゴマー封止層などの塗布層を形成した後、これらの表面に、本離型層組成物を塗布し、乾燥させ、硬化させることで製造することができる。
<<Method of manufacturing the release film>>
The present release film can be produced by forming a coating layer such as an antistatic layer or an oligomer sealing layer, as needed, on one or both sides of the present base film, and then applying the present release layer composition to these surfaces, drying, and curing the resulting film.

本離型層組成物の塗布方法としては、例えばマルチロールコート、リバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、バーコート、ダイコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」(槇書店 原崎勇次著1979年発行)に記載例がある。 The release layer composition can be applied by any conventional coating method, such as multi-roll coating, reverse gravure coating, direct gravure coating, bar coating, or die coating. Examples of coating methods are described in "Coating Methods" (published by Maki Shoten, Harasaki Yuji, 1979).

本離型層組成物を塗布する前に予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を本ポリエステルフィルムに施してもよい。 The polyester film may be subjected to a surface treatment such as corona treatment or plasma treatment before applying the release layer composition.

本離型層組成物の塗布量、すなわち本離型層の厚み(乾燥後)は、ブロッキング防止と移行性(すなわち離型剤成分が粘着テープ等へ移行する特性)の増大抑制の観点からは、薄くするのが好ましい。他方、軽剥離性(剥離力の低さ)を維持する観点からは、厚くするのが好ましい。
かかる点を考慮して、本離型層組成物の塗布量、すなわち本離型層の厚み(乾燥後)は、0.1~5.0g/mであるのが好ましく、さらに好ましくは0.2g/m以上或いは3.0g/m以下、その中でも0.3g/m以上或いは2.0g/m以下であるのがさらに好ましい。
The coating amount of the release layer composition, i.e., the thickness (after drying) of the release layer, is preferably small from the viewpoint of preventing blocking and suppressing an increase in migration (i.e., the property of the release agent component migrating to the adhesive tape, etc.), while it is preferably large from the viewpoint of maintaining easy releasability (low peel force).
In consideration of these points, the coating amount of the release layer composition, i.e., the thickness of the release layer (after drying), is preferably 0.1 to 5.0 g/ m2 , more preferably 0.2 g/ m2 or more or 3.0 g/m2 or less , and even more preferably 0.3 g/ m2 or more or 2.0 g/ m2 or less.

本離型層組成物を加熱によって硬化させる場合、従来から公知の加熱処理装置を用いて加熱すればよい。例えば、加熱オーブン、ホットプレート、熱風乾燥機、近赤外線ランプ、エアードライヤー等を例示することができる。また、加熱処理温度としては、35~220℃が好ましく、中でも40℃以上或いは200℃以下、その中でも50℃以上或いは180℃以下であるのがさらに好ましい。
さらに加熱処理時間としては、3秒~3分であるのが好ましく、中でも5秒以上或いは2分以下、その中でも5秒以上或いは1分以下であるのが特に好ましい。
When the release layer composition is cured by heating, it may be heated using a conventionally known heat treatment device. Examples include a heating oven, a hot plate, a hot air dryer, a near-infrared lamp, and an air dryer. The heat treatment temperature is preferably 35 to 220°C, more preferably 40°C or higher or 200°C or lower, and even more preferably 50°C or higher or 180°C or lower.
Furthermore, the heat treatment time is preferably 3 seconds to 3 minutes, more preferably 5 seconds or more or 2 minutes or less, and even more preferably 5 seconds or more or 1 minute or less.

他方、本離型層組成物を紫外線照射によって硬化させる場合、従来から公知の紫外線照射装置を用いて紫外線照射することができる。この際、光源として、例えばフュージョン(H)ランプ、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ(オゾン発生タイプ、オゾンレスタイプ)、UV-LEDなどを用いることができる。 On the other hand, when the release layer composition is cured by ultraviolet irradiation, ultraviolet irradiation can be performed using a conventionally known ultraviolet irradiation device. In this case, the light source that can be used may be, for example, a fusion (H) lamp, a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp (ozone-generating type, ozone-less type), or a UV-LED.

紫外線照射量としては特に限定されるわけではない。積算光量換算として、10~3000(mJ/cm)であるのが好ましく、中でも50(mJ/cm)以上或いは2000(mJ/cm)以下、その中でも100(mJ/cm)以上或いは1500(mJ/cm)以下であるのが特に好ましい。 The amount of ultraviolet light irradiation is not particularly limited, but is preferably 10 to 3000 (mJ/cm 2 ) in terms of cumulative light amount, more preferably 50 (mJ/cm 2 ) or more or 2000 (mJ/cm 2 ) or less, and even more preferably 100 (mJ/cm 2 ) or more or 1500 (mJ/cm 2 ) or less.

<<本離型フィルムの物性>>
本離型フィルムは、次の物性を有することができる。
<<Physical properties of this release film>>
The release film may have the following physical properties:

<弾性率>
本離型フィルムにおける本離型層の弾性率は1.4MPa以下であるのが好ましい。
本離型層の弾性率が1.4MPa以下であれば、本離型層上に形成した粘着層表面の平滑性を高めることができる。
かかる観点から、本離型層の弾性率は1.4MPa以下であるのが好ましく、中でも1.3MPa以下、その中でも特に1.1MPa以下であるのがさらに好ましい。
他方、下限値に関しては、離型層の膜強度の観点から、0.1MPa以上であるのが好ましく、中でも0.2MPa以上が好ましく、0.3MPa以上がより好ましく、0.4MPa以上で有ることがさらに好ましく、0.5MPa以上であることが特に好ましい。
<Elastic modulus>
The elastic modulus of the release layer in the release film is preferably 1.4 MPa or less.
If the modulus of elasticity of the release layer is 1.4 MPa or less, the smoothness of the surface of the adhesive layer formed on the release layer can be improved.
From this viewpoint, the elastic modulus of the release layer is preferably 1.4 MPa or less, more preferably 1.3 MPa or less, and even more preferably 1.1 MPa or less.
On the other hand, with regard to the lower limit, from the viewpoint of the film strength of the release layer, it is preferably 0.1 MPa or more, more preferably 0.2 MPa or more, more preferably 0.3 MPa or more, even more preferably 0.4 MPa or more, and particularly preferably 0.5 MPa or more.

<凝着エネルギー>
本離型フィルムにおける本離型層の凝着エネルギーは25mJ/m以上39mJ/m以下であるのが好ましく、中でも30mJ/m以上或いは39mJ/m以下であるのがより好ましく、中でも35mJ/m以上或いは39mJ/m以下であるのがさらに好ましく、その中でも36mJ/m以上或いは38mJ/m以下であるのがさらに好ましい。
本離型層の凝着エネルギーが前記範囲を満足することにより、本離型層が適度な濡れ性を有する表面を形成し、本離型層上に粘着層を設けた際にも、本離型層から粘着層側に非相溶成分が溶出することで、粘着層組成物を塗布する際にハジキが発生したり、若しくは、粘着層内に当該非相溶成分が侵入して相分離構造を形成したりすることを抑制しながら、軽剥離性を得ることができる。
<Adhesion energy>
The adhesion energy of the release layer in the release film is preferably 25 mJ/ m2 or more and 39 mJ/ m2 or less, more preferably 30 mJ/ m2 or more and 39 mJ/ m2 or less, even more preferably 35 mJ/ m2 or more and 39 mJ/ m2 or less, and even more preferably 36 mJ/ m2 or more and 38 mJ/ m2 or less.
When the adhesion energy of this release layer satisfies the above range, the release layer forms a surface with moderate wettability, and even when an adhesive layer is formed on this release layer, incompatible components are eluted from the release layer to the adhesive layer side, thereby achieving easy peelability while suppressing the occurrence of repelling when applying the adhesive layer composition or the incompatible components penetrating into the adhesive layer to form a phase separation structure.

なお、本離型層の凝着エネルギー及び弾性率は、原子間力顕微鏡(商品名:SPM-9700HT、島津製作所社製)にシリコンプローブ(team nanotec製、LRCH、曲率半径:250nm、バネ定数:0.2N/m)を取り付け、600m/sでタッピングを実施して得られたフォースカーブに基づいて、JKR 2点法に準拠して算出することができる。 The adhesion energy and elastic modulus of this release layer can be calculated in accordance with the JKR two-point method based on the force curve obtained by attaching a silicon probe (LRCH, manufactured by team nanotec, radius of curvature: 250 nm, spring constant: 0.2 N/m) to an atomic force microscope (product name: SPM-9700HT, manufactured by Shimadzu Corporation) and tapping at 600 m/s.

<加熱剥離力(プレス後)>
本離型フィルムは、当該離型フィルムを1MPaの圧力下、1時間の条件でプレス処理した後、当該離型フィルムの離型層の表面に、アクリル系粘着テープ、例えば日東電工製No.502の片面を貼り付け、50mm×300mmのサイズにカットし、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持した後、23℃、50%RHで1時間静置し、その後、引張試験機、例えば(株)島津製作所「EZgraph」を使用して測定される、引張速度300mm/分の条件下での180°剥離力(「加熱剥離力(プレス後)」と称する)が15mN/cm以下を満足するのが好ましい。中でも14mN/cm以下、その中でも11mN/cm以下を満足するのがさらに好ましい。
なお、上記剥離力は、例えば引張試験機((株)島津製作所「EZgraph」)を使用して測定することができる。但し、かかる試験機に限定するものではない。
<Heating peel strength (after pressing)>
The present release film is subjected to a press treatment under a pressure of 1 MPa for 1 hour, and then one side of an acrylic adhesive tape, such as No. 502 manufactured by Nitto Denko, is attached to the surface of the release layer of the release film. The tape is then cut to a size of 50 mm x 300 mm, heated and held at 100°C (set temperature) in a hot air oven for 1 hour, and then allowed to stand at 23°C and 50% RH for 1 hour. The 180° peel strength (referred to as "heat peel strength (after pressing)") measured at a tensile speed of 300 mm/min using a tensile tester, such as an "EZgraph" manufactured by Shimadzu Corporation, is preferably 15 mN/cm or less. Of these, 14 mN/cm or less is more preferable, and 11 mN/cm or less is even more preferable.
The peel strength can be measured using, for example, a tensile tester ("EZgraph" manufactured by Shimadzu Corporation), but is not limited to such a tester.

<加熱剥離力(プレス無し)>
本離型フィルムは、本離型フィルムの離型層表面に、アクリル系両面粘着テープ、例えば日東電工(株)製「No.502」の片面を貼り付け、50mm×300mmのサイズにカットし、この状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持し、次いで23℃、50%RHで1時間静置した後、引張試験機、例えば(株)島津製作所「EZgraph」を使用して推測される、引張速度300mm/分の条件下での180°剥離した際の剥離力(「加熱剥離力(プレス無し)」と称する)が、15mN/cm以下を満足するのが好ましい。中でも14mN/cm以下、その中でも11mN/cm以下を満足するがさらに好ましい。
<Heat peeling force (no press)>
The release film is prepared by adhering one side of an acrylic double-sided adhesive tape, such as "No. 502" manufactured by Nitto Denko Corporation, to the release layer surface of the release film, cutting the tape to a size of 50 mm x 300 mm, heating and holding the tape in this state at 100°C (set temperature) for 1 hour, and then leaving the tape to stand at 23°C and 50% RH for 1 hour. The peel strength (referred to as "heat peel strength (without pressing)") estimated using a tensile tester, such as "EZgraph" manufactured by Shimadzu Corporation, at 180° peeling under conditions of a tensile speed of 300 mm/min is preferably 15 mN/cm or less, more preferably 14 mN/cm or less, and even more preferably 11 mN/cm or less.

<TESA7475テープ加熱剥離力>
本離型フィルムは、本離型フィルムの離型層表面に、アクリル系粘着テープ、例えばテサ社製「TESA7475」を貼り付け、25mm×300mmのサイズにカットし、この状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持し、次いで23℃、50%RHで1時間静置し、その後、試料サンプルの反離型層面側をSUS板に両面テープで固定し、引張試験機、例えば(株)島津製作所「EZgraph」を使用して推測される、引張速度300mm/分の条件下での180°剥離した際の剥離力(「TESA7475テープ加熱剥離力」と称する)が、30mN/cm以下を満足するのが好ましく、中でも25mN/cm以下、その中でも20mN/cm以下を満足するがさらに好ましい。
<TESA7475 tape heat peel strength>
The present release film is prepared by attaching an acrylic adhesive tape, for example, "TESA7475" manufactured by Tesa, to the release layer surface of the present release film, cutting it to a size of 25 mm x 300 mm, heating and holding it in this state at 100°C (set temperature) in a hot air oven for 1 hour, and then leaving it to stand at 23°C and 50% RH for 1 hour, and then fixing the side opposite the release layer of the sample to a SUS plate with double-sided tape. The peel force (referred to as "TESA7475 tape heat peel force") when peeled at 180° under conditions of a tensile speed of 300 mm/min, as estimated using a tensile tester, for example, "EZgraph" manufactured by Shimadzu Corporation, is preferably 30 mN/cm or less, more preferably 25 mN/cm or less, and even more preferably 20 mN/cm or less.

本離型フィルムは、上記加熱剥離力(プレス後)が上記範囲を満足すると同時に、さらに加熱剥離力(プレス無し)又はTESA7475テープ加熱剥離力又はこれら両方を満足することにより、さらに超軽剥離化することができる。 This release film not only satisfies the above-mentioned range for heat peel strength (after pressing), but also satisfies the heat peel strength (without pressing), the TESA 7475 tape heat peel strength, or both, thereby achieving even easier peeling.

<表面の算術平均高さ(Sa)>
本離型フィルムにおいて、本離型層表面または本離型層が設けられていないフィルム表面またはこれら両方の表面の算出平均粗さ(Sa、ISO25178表面性状)に特に制限はないが、本発明におけるシリコーン層の耐ブロッキング性の観点から、算術平均粗さSaが30nm以下である時に発明の効果が顕著に得られる。本離型層表面または本離型層が設けられていないフィルム表面またはこれら両方の表面の算出平均粗さが低下するのに伴ってブロッキングが起きやすくなり、離型層の重剥離化や、ロール状に巻かれたフィルムの巻き出し時に剥離帯電が生じることが知られている。
一方、本離型層表面に形成された粘着層への凹凸形状の転写や、光学用途向けの検査性の観点から、本離型層表面または本離型層が設けられていないフィルム表面の算出平均粗さ(Sa)が30nm以下であれば、離型層表面が平滑であるから好ましい。
かかる観点から、本離型層表面または本離型層が設けられていないフィルム表面またはこれら両方の表面の算出平均粗さ(Sa)が30nm以下であるのが好ましく、中でも25nm以下、その中でも20nm以下であるのがさらに好ましい。
本離型層表面または本離型層が設けられていないフィルム表面の算出平均粗さ(Sa)を上記範囲に調整するには、ポリエステルフィルム表面層の平均粒径、粒子添加量、離型層の塗布厚みなどを調整すればよい。但し、かかる方法に限定するものではない。
<Arithmetic mean height of surface (Sa)>
In the present release film, there are no particular restrictions on the calculated average roughness (Sa, ISO 25178 surface quality) of the surface of the present release layer, the surface of the film not provided with the present release layer, or both of these surfaces, but from the viewpoint of the blocking resistance of the silicone layer in the present invention, the effects of the present invention are significantly obtained when the arithmetic average roughness Sa is 30 nm or less. It is known that as the calculated average roughness of the surface of the present release layer, the surface of the film not provided with the present release layer, or both of these surfaces decreases, blocking becomes more likely to occur, resulting in heavy peeling of the release layer and the generation of peel electrification when the film wound into a roll is unwound.
On the other hand, from the viewpoint of transferring the uneven shape to the adhesive layer formed on the surface of this release layer and inspectability for optical applications, it is preferable that the calculated average roughness (Sa) of the surface of this release layer or the surface of a film on which this release layer is not formed is 30 nm or less, since the surface of the release layer is smooth.
From this viewpoint, it is preferable that the calculated average roughness (Sa) of the surface of the release layer, or the surface of the film on which the release layer is not provided, or both of these surfaces, is 30 nm or less, more preferably 25 nm or less, and even more preferably 20 nm or less.
The calculated average roughness (Sa) of the surface of the release layer or the surface of a film not provided with the release layer can be adjusted to the above range by adjusting the average particle size of the polyester film surface layer, the amount of particles added, the coating thickness of the release layer, etc. However, the present invention is not limited to such a method.

<<<粘着層付き離型フィルム>>>
本離型フィルムを用いて、当該本離型フィルムの本離型層上に粘着層(「本粘着層」)を備えた粘着層付き離型フィルム(「本粘着層付き離型フィルム」と称する)を作製することができる。
<<<<Release film with adhesive layer>>>
Using this release film, a release film with an adhesive layer (referred to as "the release film with the adhesive layer") can be produced, which has an adhesive layer (the "adhesive layer") on the release layer of the release film.

<<本粘着層>>
本粘着層は、粘着剤組成物(「本粘着剤組成物」と称する)を本離型フィルム上に塗布し、硬化させることで形成することができる。
<<Main adhesive layer>>
The present adhesive layer can be formed by applying an adhesive composition (hereinafter referred to as "the present adhesive composition") onto the present release film and curing it.

<本粘着剤組成物>
本粘着剤組成物は、アクリル系樹脂を主成分樹脂とするアクリル系粘着剤組成物であっても、ゴムを主成分とするゴム系粘着剤組成物であっても、ウレタン系樹脂を主成分とするウレタン系粘着剤組成物であっても、シリコーン樹脂を主成分とするシリコーン系粘着剤組成物であってもよい。
中でも、本粘着剤組成物は、粘着力と剥離力をバランス良く調整することができ、且つ、安価である点から、アクリル系樹脂を主成分とするアクリル系粘着剤組成物が好ましい。
<Present Pressure-Sensitive Adhesive Composition>
The present pressure-sensitive adhesive composition may be an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic resin as the main component resin, a rubber-based pressure-sensitive adhesive composition containing rubber as the main component, a urethane-based pressure-sensitive adhesive composition containing a urethane resin as the main component, or a silicone-based pressure-sensitive adhesive composition containing a silicone resin as the main component.
Among these, acrylic pressure-sensitive adhesive compositions containing an acrylic resin as the main component are preferred, as they allow the adhesive strength and peel strength to be adjusted in a well-balanced manner and are inexpensive.

なお、上記「主成分樹脂」とは、本粘着剤組成物を構成する樹脂の中でも最も質量割合の高い樹脂を意味する。例えば、本粘着剤組成物を構成する樹脂全量の50質量%以上、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上を占める成分を意味する。なお、上限としては通常99.99質量%である。 The term "main component resin" refers to the resin with the highest mass percentage among the resins constituting the pressure-sensitive adhesive composition. For example, it refers to a component that accounts for 50 mass% or more, preferably 60 mass% or more, and more preferably 70 mass% or more of the total amount of resins constituting the pressure-sensitive adhesive composition. The upper limit is typically 99.99 mass%.

本粘着剤組成物は、上記主成分以外、後述する架橋剤のほか、必要に応じて、例えばシランカップリング剤、帯電防止剤、その他のアクリル系粘着剤、その他の粘着剤、ウレタン樹脂、ロジン、ロジンエステル、水添ロジンエステル、フェノール樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、脂肪族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、スチレン系樹脂、キシレン系樹脂等の粘着付与剤、着色剤、充填剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、機能性色素等の従来公知の添加剤や、紫外線あるいは放射線照射により呈色あるいは変色を起こすような化合物などの添加剤を配合することができる。
これら添加剤の配合量は、本粘着剤組成物全体の10質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは5質量%以下、その中でも特に5質量%以下であり、添加剤として分子量が1万よりも低い低分子成分は極力含まないことが耐久性に優れる点で好ましい。
In addition to the above-mentioned main components, the present pressure-sensitive adhesive composition may contain, as necessary, a crosslinking agent as described below, as well as conventionally known additives such as a silane coupling agent, an antistatic agent, other acrylic pressure-sensitive adhesives, other pressure-sensitive adhesives, tackifiers such as urethane resins, rosin, rosin esters, hydrogenated rosin esters, phenolic resins, aromatic-modified terpene resins, aliphatic petroleum resins, alicyclic petroleum resins, styrene-based resins, and xylene-based resins, colorants, fillers, antioxidants, ultraviolet absorbers, and functional dyes, as well as additives such as compounds that change color or undergo color development when exposed to ultraviolet light or radiation.
The amount of these additives to be blended is preferably 10% by mass or less of the total pressure-sensitive adhesive composition, more preferably 5% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less, and it is preferable that the additives contain as few low-molecular-weight components with a molecular weight of less than 10,000 as possible, in terms of excellent durability.

(アクリル系樹脂)
本粘着剤組成物の主成分樹脂であるアクリル系樹脂としては、(メタ)アクリル系重合体を挙げることができる。
(acrylic resin)
The acrylic resin that is the main component resin of the present pressure-sensitive adhesive composition may be a (meth)acrylic polymer.

(メタ)アクリル系重合体は、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主な構成単位とする重合体である。
前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸n-ペンチル及び(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸4-t-ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸トリシクロデカニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタエニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル等を挙げることができる。これらは1種のみで用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、(メタ)アクリル系重合体の(メタ)アクリレートとの相溶性、耐熱性の点から、(メタ)アクリル酸メチルが好ましい。(メタ)アクリル系重合体はラジカル重合可能な二重結合を有するものであってもよい。
The (meth)acrylic polymer is a polymer having a (meth)acrylic acid alkyl ester as a main constituent unit.
Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, 4-t-butylcyclohexyl (meth)acrylate, tricyclodecanyl (meth)acrylate, dicyclopentaenyl (meth)acrylate, and adamantyl (meth)acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl (meth)acrylate is preferred from the viewpoints of the compatibility of the (meth)acrylic polymer with the (meth)acrylate and heat resistance. The (meth)acrylic polymer may have a radically polymerizable double bond.

(メタ)アクリル重合体は、ガラス転移温度、機械物性、相溶性等を良好にすることを目的として、(メタ)アクリル酸アルキルエステル以外の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸、その他ビニル基を有する化合物を共重合することができる。前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル以外の(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、(メタ)アクリル酸メトキシメチル(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシメチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸γ-ブチロラクトン等を挙げることができる。
前記ビニル基を有する化合物としては、ジメチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド等のアクリルアミド系化合物、スチレン、α-メチルスチレン、p-メトキシスチレン等のスチレン系化合物、無水マレイン酸等を挙げることができる。
The (meth)acrylic polymer can be copolymerized with (meth)acrylic acid esters other than alkyl (meth)acrylate esters, (meth)acrylic acid, or other compounds having a vinyl group, for the purpose of improving the glass transition temperature, mechanical properties, compatibility, etc. Examples of the (meth)acrylic acid esters other than alkyl (meth)acrylate esters include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, and hydroxybutyl (meth)acrylate, alkoxyalkyl (meth)acrylates such as methoxymethyl (meth)acrylate, methoxyethyl (meth)acrylate, ethoxymethyl (meth)acrylate, and ethoxyethyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, and γ-butyrolactone (meth)acrylate.
Examples of the compound having a vinyl group include acrylamide compounds such as dimethylacrylamide, hydroxyethylacrylamide, and dimethylaminopropylacrylamide; styrene compounds such as styrene, α-methylstyrene, and p-methoxystyrene; and maleic anhydride.

ガラス転移温度(Tg)は、(メタ)アクリル系重合体を形成する単量体の種類および質量分率から、下記のFoxの式より求められる。
1/Tg=Σ(Wi/Tgi)この式で、Tgは(メタ)アクリル系重合体のガラス転移温度(単位はK)、Wiは(メタ)アクリル系重合体を構成する単量体i由来の単量体単位の質量分率、Tgiは単量体iの単独重合体のガラス転移温度(単位はK)を示す。Tgiの値は、POLYMERHANDBOOK Volume1(WILEY-INTERSCIENCE)に記載の値を用いることができる。
The glass transition temperature (Tg) can be calculated from the type and mass fraction of the monomers forming the (meth)acrylic polymer using the following Fox formula.
1/Tg=Σ(Wi/Tgi) In this formula, Tg is the glass transition temperature (unit: K) of the (meth)acrylic polymer, Wi is the mass fraction of the monomer units derived from monomer i constituting the (meth)acrylic polymer, and Tgi is the glass transition temperature (unit: K) of the homopolymer of monomer i. The value of Tgi can be the value described in POLYMER HANDBOOK Volume 1 (WILEY-INTERSCIENCE).

本発明において、共重合成分としては、後述する架橋剤との反応点となる点でアクリルモノマー(a1)を含有してもよい。 In the present invention, the copolymerization component may contain an acrylic monomer (a1) which serves as a reaction site with the crosslinking agent described below.

アクリルモノマー(a1)は、その他の共重合成分と共重合されアクリル系樹脂となった際に、架橋構造の反応点となるものであり、後述する架橋剤(B)の含有する官能基と反応しうる官能基を含有するモノマーを用いればよい。このようなアクリルモノマー(a1)としては、例えば、水酸基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、アセトアセチル基含有モノマー、イソシアネート基含有モノマー、グリシジル基含有モノマー等を挙げることができる。これらの中でも、架橋剤と効率的に架橋反応ができる点で水酸基含有モノマーが好ましく用いられる。アクリルモノマー(a1)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。 Acrylic monomer (a1) serves as a reactive site for the crosslinking structure when copolymerized with other copolymerization components to form an acrylic resin. A monomer containing a functional group capable of reacting with the functional group contained in crosslinking agent (B), described below, may be used. Examples of such acrylic monomer (a1) include hydroxyl group-containing monomers, amino group-containing monomers, acetoacetyl group-containing monomers, isocyanate group-containing monomers, and glycidyl group-containing monomers. Among these, hydroxyl group-containing monomers are preferred because they can efficiently undergo crosslinking reactions with the crosslinking agent. Acrylic monomer (a1) may be used alone or in combination of two or more types.

水酸基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、5-ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート等のアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のカプロラクトン変性モノマー、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等のオキシアルキレン変性モノマー、その他、2-アクリロイロキシエチル2-ヒドロキシエチルフタル酸、N-メチロール(メタ)アクリルアミド等の1級水酸基含有モノマー;2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-クロロ2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の2級水酸基含有モノマー;2,2-ジメチル2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の3級水酸基含有モノマーを挙げることができる。 Examples of hydroxyl group-containing monomers include hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 5-hydroxypentyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, and 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate; caprolactone-modified monomers such as caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth)acrylate; oxyalkylene-modified monomers such as diethylene glycol (meth)acrylate and polyethylene glycol (meth)acrylate; primary hydroxyl group-containing monomers such as 2-acryloyloxyethyl 2-hydroxyethyl phthalate and N-methylol (meth)acrylamide; secondary hydroxyl group-containing monomers such as 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 3-chloro 2-hydroxypropyl (meth)acrylate; and tertiary hydroxyl group-containing monomers such as 2,2-dimethyl 2-hydroxyethyl (meth)acrylate.

上記水酸基含有モノマーの中でも、架橋剤との反応性に優れる点で1級水酸基含有モノマーが好ましく、更には、2-ヒドロキシエチルアクリレートを使用することが、ジ(メタ)アクリレート等の不純物が少なく、製造しやすい点で特に好ましい。 Of the above hydroxyl group-containing monomers, primary hydroxyl group-containing monomers are preferred because of their excellent reactivity with crosslinking agents. Furthermore, the use of 2-hydroxyethyl acrylate is particularly preferred because it contains fewer impurities such as di(meth)acrylates and is easy to manufacture.

なお、本発明で使用する水酸基含有モノマーとしては、不純物であるジ(メタ)アクリレートの含有割合が、0.5%以下のものを用いることも好ましく、更に0.2%以下、殊には0.1%以下のものを使用することが好ましい。水酸基含有モノマーとしては、具体的には、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレートなどが特に好ましく、これらは低分子量であるため精製しやすい点で好ましい。 The hydroxyl group-containing monomer used in the present invention preferably contains 0.5% or less of the impurity di(meth)acrylate, and more preferably 0.2% or less, and even more preferably 0.1% or less. Specific examples of hydroxyl group-containing monomers that are particularly preferred include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate, which are preferred because they have low molecular weights and are therefore easy to purify.

アミノ基含有モノマーとしては、例えば、t-ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of amino group-containing monomers include t-butylaminoethyl (meth)acrylate, ethylaminoethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, and diethylaminoethyl (meth)acrylate.

アセトアセチル基含有モノマーとしては、例えば、2-(アセトアセトキシ)エチル(メタ)アクリレート、アリルアセトアセテート等を挙げることができる。 Examples of acetoacetyl group-containing monomers include 2-(acetoacetoxy)ethyl (meth)acrylate and allyl acetoacetate.

イソシアネート基含有モノマーとしては、例えば、2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートやそれらのアルキレンオキサイド付加物等を挙げることができる。 Examples of isocyanate group-containing monomers include 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and alkylene oxide adducts thereof.

グリシジル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸アリルグリシジル等を挙げることができる。 Examples of glycidyl group-containing monomers include glycidyl (meth)acrylate and allyl glycidyl (meth)acrylate.

共重合成分中におけるアクリルモノマー(a1)の含有量は、好ましくは0.01~20質量%、さらに好ましくは0.1~10質量%、その中でも特に0.2~3質量%である。
アクリルモノマー(a1)が少なすぎると、架橋時の架橋点が少なくなりすぎるため、架橋後の凝集力が不足する傾向があり、多すぎると粘着力が下がりすぎる傾向がある。
The content of the acrylic monomer (a1) in the copolymerization components is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and even more preferably 0.2 to 3% by mass.
If the amount of acrylic monomer (a1) is too small, the number of crosslinking points will be too small during crosslinking, and the cohesive strength after crosslinking will tend to be insufficient, whereas if the amount is too large, the adhesive strength will tend to be too low.

また、必要に応じて、共重合成分として、(a1)以外の共重合性モノマー(a2)を含有することもできる。
共重合性モノマー(a2)としては、例えば、メチルメタリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-ブチルメタクリレート、iso-ブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル系モノマー、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシ化o-フェニルフェニル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、スチレン等の芳香環含有モノマー、(メタ)アクリロイルモルホリン、ジメチル(メタ)アクリルアミド、ジエチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド等のアミド系モノマー、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アルキルビニルエーテル、ビニルトルエン、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、イタコン酸ジアルキルエステル、フマル酸ジアルキルエステル、アリルアルコール、アクリルクロライド、メチルビニルケトン、N-アクリルアミドメチルトリメチルアンモニウムクロライド、アリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチルアリルビニルケトン等を挙げることができる。
If necessary, a copolymerizable monomer (a2) other than (a1) may be contained as a copolymerization component.
Examples of the copolymerizable monomer (a2) include (meth)acrylic acid alkyl ester monomers such as methyl methacrylate, ethyl (meth)acrylate, n-butyl methacrylate, iso-butyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate; phenyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, ethoxylated o-phenylphenyl (meth)acrylate, and phenoxyethyl (meth)acrylate. Examples of suitable monomers include aromatic ring-containing monomers such as diethylene glycol (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, and styrene; amide monomers such as (meth)acryloylmorpholine, dimethyl(meth)acrylamide, diethyl(meth)acrylamide, and (meth)acrylamide; acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl stearate, vinyl chloride, vinylidene chloride, alkyl vinyl ethers, vinyl toluene, vinyl pyridine, vinyl pyrrolidone, dialkyl itaconate esters, dialkyl fumarate esters, allyl alcohol, acrylic chloride, methyl vinyl ketone, N-acrylamidomethyltrimethylammonium chloride, allyltrimethylammonium chloride, and dimethylallyl vinyl ketone.

共重合成分中における共重合性モノマー(a2)の含有割合は、好ましくは0~20質量%、さらに好ましくは1~15質量%、その中でも特に2~10質量%であり、共重合性モノマー(a2)が多すぎると粘着特性が低下しやすい傾向がある。 The content of copolymerizable monomer (a2) in the copolymerization components is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and even more preferably 2 to 10% by mass. If the amount of copolymerizable monomer (a2) is too high, the adhesive properties tend to decrease.

(架橋剤)
本粘着剤組成物は、その硬化方法に応じて、必要に応じて架橋剤を含有することができる。
架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、アミン系架橋剤などを挙げることができる。中でも、基材との密着性向上、あるいはアクリル系樹脂との反応性の点で、イソシアネート系架橋剤が好適に用いられる。
架橋剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(Crosslinking agent)
The present pressure-sensitive adhesive composition may contain a crosslinking agent as needed depending on the curing method.
Examples of the crosslinking agent include an isocyanate-based crosslinking agent, an epoxy-based crosslinking agent, an aziridine-based crosslinking agent, a melamine-based crosslinking agent, an aldehyde-based crosslinking agent, an amine-based crosslinking agent, etc. Among these, an isocyanate-based crosslinking agent is preferably used in terms of improving adhesion to the substrate or reactivity with the acrylic resin.
The crosslinking agents may be used alone or in combination of two or more.

架橋剤の含有量は、主成分樹脂100質量部に対して、0.01~10質量部であることが好ましく、さらに好ましくは0.05~5質量部、その中でも0.1~3質量部である。
架橋剤の含有量が上記範囲内であれば、凝集力が不足することもなく、所望する耐久性を得ることができる一方、柔軟性および粘着力が低下するのを防ぐことができる。
The content of the crosslinking agent is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.05 to 5 parts by mass, and even more preferably 0.1 to 3 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the main component resin.
If the content of the crosslinking agent is within the above range, the cohesive strength will not be insufficient and the desired durability can be obtained, while a decrease in flexibility and adhesive strength can be prevented.

なお、硬化反応に関して、活性エネルギー線を照射する光硬化による場合は、架橋剤として、本粘着剤組成物に多官能(メタ)アクリレートを配合することが好ましい。
かかる多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
When the curing reaction is carried out by photocuring through irradiation with active energy rays, it is preferable to add a polyfunctional (meth)acrylate to the pressure-sensitive adhesive composition as a crosslinking agent.
Examples of such polyfunctional (meth)acrylates include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and glycerin polyglycidyl ether poly(meth)acrylate.

<本粘着層の厚さ>
本粘着層の厚さは、特に限定するものではない。例えば、十分な粘着力を付与したり、粘着剤を貼り合わせる基材の凹凸や段差を埋めたりする観点から、0.1μm以上であるのが好ましく、中でも0.5μm以上、その中でも1μm以上であるのがさらに好ましい。その一方、材料の使用効率や透過度、アウトガスの観点から、10000μm以下であるのが好ましく、中でも3000μm以下、その中でも1000μm以下であるのがさらに好ましい。
<Thickness of the adhesive layer>
The thickness of the adhesive layer is not particularly limited.For example, from the viewpoint of providing sufficient adhesive strength and filling unevenness or steps of the substrate to which the adhesive is attached, it is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, and even more preferably 1 μm or more.On the other hand, from the viewpoint of material use efficiency, permeability, and outgassing, it is preferably 10,000 μm or less, more preferably 3,000 μm or less, and even more preferably 1,000 μm or less.

<<<本フィルム積層体>>>
本粘着層付き離型フィルムの本粘着層表面に、光学部材が貼り合わされてなる構成を備えたフィルム積層体(「本フィルム積層体」と称する)を作製することができる。
<<<Present film laminate>>>
A film laminate (referred to as "the present film laminate") having a configuration in which an optical member is bonded to the surface of the present adhesive layer of the present release film with an adhesive layer can be produced.

前記光学部材としては、例えば、偏光板、タッチセンサーなどを挙げることができる。また、自動車に搭載されるタッチパネルなどの車載用光学部材であってもよい。 Examples of the optical component include polarizing plates and touch sensors. It may also be an optical component for use in automobiles, such as a touch panel.

(偏光板)
上記偏光板の材料および構成は任意である。例えば、ヨウ素を配向色素として用いた延伸ポリビニルアルコールフィルムに保護フィルムとしてTAC(トリアセチルセルロース)フィルムを積層したものが、この種の偏光板として広く実用化されている。
また、偏光板は、表面に、実質的に位相差を有しないハードコート、防眩、低反射、帯電防止などの機能を持つ層構成を有するものであってもよい。
(Polarizing plate)
The polarizing plate may be made of any material and have any configuration. For example, a polarizing plate of this type that is formed by laminating a TAC (triacetyl cellulose) film as a protective film on a stretched polyvinyl alcohol film that uses iodine as an alignment dye is widely used.
The polarizing plate may have a layer structure on the surface thereof that has a hard coat having substantially no retardation, anti-glare, low reflection, anti-static, or other functions.

(タッチセンサー)
上記タッチセンサーは、ユーザが画面に表示される画像を指やタッチペンなどで接触する場合、この接触に反応してタッチ地点を把握する部材であり、センサー技術により、静電容量方式、抵抗膜方式、赤外線または超音波などを利用した表面波方式などの方法が例示される。
一般にタッチセンサーは液晶表示パネル、有機ELなどの表示装置に搭載される。
また、近年、ガラス基板の代替として、フレキシブル性に着目して、基材フィルムを用いる傾向にある。
タッチセンサーフィルムは、感知電極の機能を実行するためのパターン化した透明導電層を設けるのが一般的である。
(touch sensor)
The touch sensor is a component that detects the touch point when a user touches an image displayed on a screen with a finger or a touch pen, and examples of sensor technologies include a capacitance type, a resistive film type, and a surface wave type using infrared rays or ultrasonic waves.
Generally, touch sensors are mounted on display devices such as liquid crystal display panels and organic EL displays.
Furthermore, in recent years, there has been a trend toward using substrate films as an alternative to glass substrates, focusing on their flexibility.
Touch sensor films typically include a patterned transparent conductive layer to perform the function of the sensing electrodes.

<<<語句の説明など>>>
本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。
また、画像表示パネル、保護パネル等のように「パネル」と表現する場合、板体、シート及びフィルムを包含するものである。
<<<<Explanation of terms etc.>>>
In the present invention, the term "film" includes the term "sheet", and the term "sheet" includes the term "film".
Furthermore, when the term "panel" is used, such as an image display panel or a protective panel, it encompasses a plate, a sheet, and a film.

本発明において、「X~Y」(X,Yは任意の数字)と記載した場合、特にことわらない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」或いは「好ましくはYより小さい」の意も包含するものである。
また、「X以上」(Xは任意の数字)と記載した場合、特にことわらない限り「好ましくはXより大きい」の意を包含し、「Y以下」(Yは任意の数字)と記載した場合、特にことわらない限り「好ましくはYより小さい」の意も包含するものである。
In the present invention, when it is described as "X to Y" (X and Y are arbitrary numbers), unless otherwise specified, it means "X or more and Y or less", and also means "preferably larger than X" or "preferably smaller than Y".
Furthermore, when it is stated that the amount is "X or more" (X is any number), it also means that the amount is "preferably greater than X" unless otherwise specified, and when it is stated that the amount is "Y or less" (Y is any number), it also means that the amount is "preferably smaller than Y" unless otherwise specified.

次に、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。但し、本発明が、以下に説明する実施例に限定されるものではない。 Next, the present invention will be explained in more detail using examples. However, the present invention is not limited to the examples described below.

<評価方法>
以下において、種々の物性等の測定及び評価は次のようにして行った。
<Evaluation method>
In the following, measurements and evaluations of various physical properties were carried out as follows.

(1)硬化型シリコーン樹脂の粘度
硬化型シリコーン樹脂をn-ヘプタンで15質量%に溶媒希釈し、この溶液の25℃での粘度を、E型粘度計(東機産業(株)製「TVE-22L」)粘度計を用いて測定した。
(1) Viscosity of Curable Silicone Resin The curable silicone resin was diluted with n-heptane to a solvent concentration of 15% by mass, and the viscosity of this solution at 25°C was measured using an E-type viscometer ("TVE-22L" manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).

(2)硬化型シリコーン樹脂の分子量測定
GPC測定装置を使用して、クロマトグラムを測定し、標準ポリスチレンを使用した検量線に基づいて数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を求め、表2に示した。具体的には、測定用の試料4mgを、4mLのTHFに溶解して測定溶液とし、測定溶液100μLをGPC測定装置に注入して測定した。溶離液にはテトラヒドロフラン(THF)を使用した。分析には東ソー(株)製「Ecosec8320」を使用し、ガードカラムには東ソー(株)製「TSKgel guardcolumn HXL-L」、カラムには東ソー(株)製「TSKgel GMHXL」を4本連結して使用した。また、オーブンの温度は40℃、THF流量1.0mL/分の条件で分析を行い、検出にはRIを用いた。
(2) Molecular Weight Measurement of Curable Silicone Resin A chromatogram was measured using a GPC measurement device, and the number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) were determined based on a calibration curve using standard polystyrene, as shown in Table 2. Specifically, 4 mg of the sample to be measured was dissolved in 4 mL of THF to prepare a measurement solution, and 100 μL of the measurement solution was injected into the GPC measurement device for measurement. Tetrahydrofuran (THF) was used as the eluent. For the analysis, an "Ecosec 8320" manufactured by Tosoh Corporation was used, and a "TSKgel guard column HXL-L" manufactured by Tosoh Corporation was used as the guard column, and four "TSKgel GMHXL" columns manufactured by Tosoh Corporation were used in conjunction. The analysis was performed at an oven temperature of 40°C and a THF flow rate of 1.0 mL/min, and RI was used for detection.

(3)離型層の厚み測定
裏面からの反射を抑えるために、あらかじめ、試料フィルムの測定裏面に黒テープ(ニチバン(株)製ビニールテープVT―50)を貼った。測定には、分光光度計(日本分光(株)製紫外可視分光光度計V-670)を使用して、波長範囲300~800nmでの絶対反射率を、同期モード、入射角5°、N偏光、レスポンスFast、データ取得間隔1.0nm、バンド幅10nm、走査速度1000m/minの条件で測定した。この測定で得られたデータと、シリコーンの屈折率を1.43として計算したデータとを比較することで、離型層の膜厚を求めた。
(3) Measurement of Release Layer Thickness In order to suppress reflection from the back surface, black tape (Vinyl Tape VT-50 manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was attached to the back surface of the sample film beforehand. For the measurement, a spectrophotometer (UV-Visible Spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation) was used to measure the absolute reflectance in the wavelength range of 300 to 800 nm under the following conditions: synchronous mode, incident angle 5°, N polarization, response Fast, data acquisition interval 1.0 nm, bandwidth 10 nm, and scanning speed 1000 m/min. The film thickness of the release layer was determined by comparing the data obtained from this measurement with data calculated assuming a refractive index of silicone of 1.43.

(4)加熱剥離力(プレス無し)
試料フィルムの離型層表面に、アクリル系両面粘着テープ(日東電工(株)製「No.502」)の片面を貼り付け、50mm×300mmのサイズにカットし、この状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持し、次いで23℃、50%RHで1時間静置した後、引張試験機((株)島津製作所「EZgraph」)を使用して、引張速度300mm/分の条件下で180°剥離力を測定した。
(4) Heat peeling force (without pressing)
One side of an acrylic double-sided adhesive tape ("No. 502" manufactured by Nitto Denko Corporation) was attached to the surface of the release layer of the sample film, and the sample was cut to a size of 50 mm x 300 mm. In this state, the sample was heated and held at 100°C (set temperature) in a hot air oven for 1 hour, and then allowed to stand at 23°C and 50% RH for 1 hour. After that, the 180° peel force was measured using a tensile tester ("EZgraph" manufactured by Shimadzu Corporation) at a tensile speed of 300 mm/min.

(5)プレス後加熱剥離力(プレス後)
サイズが210mm×297mm(A4サイズ)の試料サンプルを離型層面と反離型層面とが対向するように重ねて配置した。
重ねて配置した試料サンプルの上下に、三菱ケミカル(株)製38μm厚さPETフィルム「T100-38」を各5枚ずつ重ねて、1MPaの圧力下、1時間の条件でプレス処理した後、試料フィルムの離型層表面にアクリル系両面粘着テープ(日東電工(株)製「No.502」)の片面を貼り付けて、以後は「加熱剥離力(プレス無し)」と同様にして剥離力を測定した。
プレスは試料サンプル作成後、15分以内に開始した。
なお、表2の「-」は、未評価の意味である。
(5) Post-press heat peeling force (after pressing)
The sample having a size of 210 mm x 297 mm (A4 size) was placed on top of the other so that the release layer surface and the surface opposite the release layer surface faced each other.
Five sheets of 38 μm thick PET film "T100-38" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation were placed on top and bottom of the stacked sample, and pressed under a pressure of 1 MPa for 1 hour. One side of an acrylic double-sided adhesive tape ("No. 502" manufactured by Nitto Denko Corporation) was then attached to the surface of the release layer of the sample film, and the peel force was then measured in the same manner as in "heat peel force (without pressing)".
Pressing was started within 15 minutes after sample preparation.
In Table 2, "-" means that the evaluation has not been carried out.

(6)TESA7475テープ加熱剥離力
試料フィルムの離型層表面に、アクリル系粘着テープ(テサ社製「TESA7475」)の片面に貼り付け、25mm×300mmのサイズにカットし、この状態で、熱風式オーブンにて100℃(設定温度)で1時間加熱保持し、次いで23℃、50%RHで1時間静置した。その後、試料サンプルの反離型層面側をSUS板に両面テープで固定し、引張試験機((株)島津製作所「EZgraph」)を使用して、引張速度300mm/分の条件下で180°剥離力を測定した。
なお、表2の「-」は、未評価の意味である。
(6) TESA7475 tape heat peel strength One side of an acrylic adhesive tape (TESA7475 manufactured by TESA) was attached to the release layer surface of the sample film, and the tape was cut to a size of 25 mm x 300 mm. In this state, the tape was heated and held at 100°C (set temperature) in a hot air oven for 1 hour, and then left to stand at 23°C and 50% RH for 1 hour. Thereafter, the side of the sample opposite the release layer was fixed to a SUS plate with double-sided tape, and the 180° peel strength was measured using a tensile tester (EZgraph manufactured by Shimadzu Corporation) at a tensile speed of 300 mm/min.
In Table 2, "-" means that the evaluation has not been carried out.

(7)離型層の弾性率の測定
試料フィルムの離型層表面を、原子間力顕微鏡で観察し、得られた画像を解析して弾性率を算出した。
この際、原子間力顕微鏡(商品名:SPM-9700HT、島津製作所社製)にシリコンプローブ(team nanotec製、LRCH、曲率半径:250nm、バネ定数:0.2N/m)を取り付け、600m/sでタッピングを実施して得られたフォースカーブに基づいて、JKR 2点法に準拠して算出した。
なお、実施例1~4の弾性率は、塗布厚みと弾性率とが既知の参考例1~3のデータを元にした計算値である。
(7) Measurement of Elastic Modulus of Release Layer The surface of the release layer of the sample film was observed with an atomic force microscope, and the obtained image was analyzed to calculate the elastic modulus.
At this time, a silicon probe (manufactured by team nanotec, LRCH, radius of curvature: 250 nm, spring constant: 0.2 N/m) was attached to an atomic force microscope (trade name: SPM-9700HT, manufactured by Shimadzu Corporation), and tapping was performed at 600 m/s. Based on the obtained force curve, calculation was performed in accordance with the JKR two-point method.
The elastic modulus in Examples 1 to 4 is a calculated value based on the data of Reference Examples 1 to 3, whose coating thickness and elastic modulus are known.

(8)粘着層表面の凹凸評価
試料フィルムの離型層の表面(離型面)に、下記粘着剤組成物を、湿潤状態での膜厚が2milになるように塗布し、150℃、3分間、熱処理して硬化させて粘着層を形成し、前記離型面と接触していない側の粘着層表面の凹凸を下記目視判定により評価した。
(8) Evaluation of unevenness on the adhesive layer surface The adhesive composition described below was applied to the surface of the release layer (release surface) of the sample film so that the film thickness in a wet state was 2 mil, and the adhesive layer was formed by curing it by heat treatment at 150°C for 3 minutes. The unevenness on the adhesive layer surface on the side not in contact with the release surface was evaluated by visual inspection as described below.

《粘着剤組成物》
主剤(アクリル系樹脂):AT352(サイデン化学製)100質量部
硬化剤:AL(サイデン化学製)0.25質量部
添加剤:X-301-375SK(サイデン化学製)0.25質量部
添加剤:X-301-352S(サイデン化学製)0.25質量部
トルエン:40質量部
<<Adhesive Composition>>
Base agent (acrylic resin): 100 parts by mass of AT352 (manufactured by Saiden Chemical Industry Co., Ltd.) Curing agent: 0.25 parts by mass of AL (manufactured by Saiden Chemical Industry Co., Ltd.) Additive: 0.25 parts by mass of X-301-375SK (manufactured by Saiden Chemical Industry Co., Ltd.) Additive: 0.25 parts by mass of X-301-352S (manufactured by Saiden Chemical Industry Co., Ltd.) Toluene: 40 parts by mass

(目視判定)
試料フィルムの離型面に上記のようにして粘着層を形成し、前記離型面と接触していない側の粘着層表面の塗布外観すなわち粘着層表面の凹凸を目視で観察し、下記判定基準に従い判定し、判定結果を表2に示した。
(判定基準)
○(good):表面凹凸を認識できないくらいに良好であるか、または非常に表面凹凸が軽微である。
△(poor):表面凹凸を認識できる。
×(very poor):明瞭に表面凹凸を認識できる。
(Visual inspection)
An adhesive layer was formed on the release surface of the sample film as described above, and the coating appearance of the adhesive layer surface on the side not in contact with the release surface, i.e., the unevenness of the adhesive layer surface, was visually observed and judged according to the following criteria, and the results are shown in Table 2.
(Judgment criteria)
◯ (good): The surface is so good that the surface irregularities are not recognizable, or the surface irregularities are very slight.
△ (poor): Surface irregularities can be recognized.
× (very poor): Surface irregularities are clearly recognizable.

[原料]
実施例及び比較例では次の原料を使用した。
[Raw materials]
The following raw materials were used in the examples and comparative examples.

<離型層組成物>
a1:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂(数平均分子量:176000)と、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、Si-H基が導入された架橋剤とを含有する混合物(粘度:95mcps))
a2:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂、数平均分子量:10600、粘度:1.7mcps)
a3:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ビニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂(数平均分子量:364000)と、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、Si-H基が導入された架橋剤とを含有する混合物(粘度:410mcps))
a4:硬化型シリコーン樹脂組成物(シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、ヘキセニル基が導入された硬化型シリコーン樹脂(数平均分子量:399000)と、シロキサン結合からなる主鎖の側鎖および/又は末端に、Si-H基が導入された架橋剤とを含有する混合物(粘度:430mcps))
<Release Layer Composition>
a1: Curable silicone resin composition (a mixture (viscosity: 95 mcps) containing a curable silicone resin (number average molecular weight: 176,000) in which vinyl groups have been introduced into the side chains and/or ends of the main chain consisting of siloxane bonds, and a crosslinker in which Si—H groups have been introduced into the side chains and/or ends of the main chain consisting of siloxane bonds)
a2: Curable silicone resin composition (a curable silicone resin in which vinyl groups have been introduced into the side chains and/or terminals of a main chain consisting of siloxane bonds, number average molecular weight: 10,600, viscosity: 1.7 mcps)
a3: Curable silicone resin composition (a mixture (viscosity: 410 mcps) containing a curable silicone resin (number average molecular weight: 364,000) in which vinyl groups have been introduced into the side chains and/or ends of the main chain consisting of siloxane bonds, and a crosslinker in which Si—H groups have been introduced into the side chains and/or ends of the main chain consisting of siloxane bonds)
a4: Curable silicone resin composition (a mixture (viscosity: 430 mcps) containing a curable silicone resin (number average molecular weight: 399,000) in which hexenyl groups have been introduced into the side chains and/or ends of a main chain consisting of siloxane bonds, and a crosslinker in which Si—H groups have been introduced into the side chains and/or ends of a main chain consisting of siloxane bonds)

(硬化型シリコーン樹脂の組成分析)
実施例・比較例で用いた硬化型シリコーン樹脂の組成分析を、400MHz-NMR(Bruker Avance400M)を用いて行い、結果を表1に示した。
1H-NMR測定には、溶媒としてCDClを用い、ジメチルシロキサンのメチル基に由来するピークを化学シフト基準として、温度30℃にて行った。
下記表1には、硬化型シリコーン樹脂における各官能基の含有割合(mol%)を示した。
(Composition analysis of curable silicone resin)
The composition of the curable silicone resins used in the examples and comparative examples was analyzed using a 400 MHz-NMR (Bruker Avance 400M). The results are shown in Table 1.
The 1H-NMR measurement was carried out at a temperature of 30°C using CDCl 3 as a solvent and the peak derived from the methyl group of dimethylsiloxane as the chemical shift reference.
Table 1 below shows the content (mol %) of each functional group in the curable silicone resin.

b1:架橋剤(CL750:モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製)
c1:付加型白金触媒(PL-50T:信越化学工業株式会社製)
c2:付加型白金触媒(CM678:モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製)
c3:付加型白金触媒(SRX212:ダウ・東レ株式会社製)
b1: Crosslinking agent (CL750: manufactured by Momentive Performance Materials)
c1: Addition type platinum catalyst (PL-50T: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
c2: Addition type platinum catalyst (CM678: manufactured by Momentive Performance Materials)
c3: Addition type platinum catalyst (SRX212: manufactured by Dow Toray Co., Ltd.)

[実施例1]
三菱ケミカル(株)製38μm厚さPETフィルム「T100-38」の片面に、下記離型剤組成Aからなる離型層組成物をバーコート方式により塗布し、150℃、15秒間熱処理して硬化させて、厚さ(乾燥後)0.30μmの離型層を形成して離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Example 1]
A release layer composition comprising the release agent composition A described below was applied by bar coating to one side of a 38 μm thick PET film "T100-38" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and the applied composition was cured by heat treatment at 150° C. for 15 seconds to form a release layer having a thickness (after drying) of 0.30 μm, thereby obtaining a release film (sample film).

<離型剤組成-A>
硬化型シリコーン樹脂組成物a1:98質量%
付加型白金触媒c1 : 2質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release Agent Composition-A>
Curable silicone resin composition a1: 98% by mass
Addition type platinum catalyst c1: 2 mass%
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.

[実施例2]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.38μmになるように、離型層組成物の固形型分濃度を3.7質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Example 2]
In Example 1, the solid content concentration of the release layer composition was changed to 3.7 mass % so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.38 μm. The same procedure as in Example 1 was repeated to obtain a release film (sample film).

[実施例3]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.48μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を1.9質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Example 3]
In Example 1, the solid content concentration of the release layer composition was changed to 1.9 mass % so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.48 μm. The same procedure as in Example 1 was repeated to obtain a release film (sample film).

[実施例4]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.59μmになるように、離型層組成物の固形分濃度を1.9質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Example 4]
In Example 1, the solid content concentration of the release layer composition was changed to 1.9 mass % so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.59 μm. The same procedure as in Example 1 was repeated to obtain a release film (sample film).

[比較例1]
実施例1において、離型層組成物を下記離型剤組成-Bに変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型層の厚み(乾燥後)が0.23μmの離型層を有する離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, except that the release layer composition was changed to the following release agent composition-B, production was carried out in the same manner as in Example 1, and a release film (sample film) having a release layer with a thickness (after drying) of 0.23 μm was obtained.

<離型剤組成-B>
硬化型シリコーン樹脂組成物a2:91質量%
架橋剤b1 : 3質量%
付加型白金触媒c2 : 6質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release Agent Composition-B>
Curable silicone resin composition a2: 91% by mass
Crosslinking agent b1: 3% by mass
Addition type platinum catalyst c2: 6% by mass
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.

[比較例2]
実施例1において、離型層組成物を下記離型剤組成-Cに変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型層の厚み(乾燥後)が0.24μmの離型層を有する離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 2]
In Example 1, except that the release layer composition was changed to the following release agent composition-C, production was carried out in the same manner as in Example 1, and a release film (sample film) having a release layer with a thickness (after drying) of 0.24 μm was obtained.

<離型剤組成-C>
硬化型シリコーン樹脂組成物a3:99質量%
付加型白金触媒c1 : 1質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release Agent Composition-C>
Curable silicone resin composition a3: 99% by mass
Addition type platinum catalyst c1: 1 mass%
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.

[比較例3]
実施例1において、離型層組成物を下記離型剤組成-Dに変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型層の厚み(乾燥後)が0.28μmの離型層を有する離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Comparative Example 3]
In Example 1, except that the release layer composition was changed to the following release agent composition-D, the same procedure as in Example 1 was repeated to obtain a release film (sample film) having a release layer with a thickness (after drying) of 0.28 μm.

<離型剤組成-D>
硬化型シリコーン樹脂組成物a4:99質量%
付加型白金触媒c3 : 1質量%
上記離型層組成物をn-ヘプタンで希釈し、固形分濃度を5.4質量%に調整した。
<Release Agent Composition-D>
Curable silicone resin composition a4: 99% by mass
Addition type platinum catalyst c3: 1 mass%
The release layer composition was diluted with n-heptane to adjust the solid content concentration to 5.4% by mass.

[参考例1]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.23μmになるように、離型層組成物の固形型分濃度を5.4質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Reference example 1]
In Example 1, the solid content concentration of the release layer composition was changed to 5.4 mass % so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.23 μm. The same procedure as in Example 1 was repeated to obtain a release film (sample film).

[参考例2]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.18μmになるように、離型層組成物の固形型分濃度を3.7質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Reference example 2]
In Example 1, the solid content concentration of the release layer composition was changed to 3.7 mass % so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.18 μm. The same procedure as in Example 1 was repeated to obtain a release film (sample film).

[参考例3]
実施例1において、離型層の厚み(乾燥後)が0.09μmになるように、離型層組成物の固形型分濃度を1.9質量%に変更した以外は、実施例1と同様にして製造し、離型フィルム(試料フィルム)を得た。
[Reference example 3]
In Example 1, the solid content concentration of the release layer composition was changed to 1.9 mass % so that the thickness of the release layer (after drying) was 0.09 μm. The same procedure as in Example 1 was repeated to obtain a release film (sample film).

上記実施例および比較例で得られた各離型フィルム(試料フィルム)の特性を表2にまとめて示し、参考例で得られた各離型フィルム(試料フィルム)の特性を表3にまとめて示す。 The properties of each release film (sample film) obtained in the above examples and comparative examples are summarized in Table 2, and the properties of each release film (sample film) obtained in the reference examples are summarized in Table 3.

「加熱剥離力(プレス後)」の評価は、予め、プレス処理をすることで離型面と粘着層表面とを意図的に強く密着させた状態を再現することで、より過酷な状況下で如何に安定して、且つスムーズに剥離できるかという観点から評価を行った。
実施例1~4は、プレス処理前後でもほとんど剥離力が大きく変化せず、安定していることが分かった。
一方、比較例1~3は、プレス無しの状態である「加熱剥離力(プレス無)」を評価した時点で、すでに実施例1~4の約6~7割程度剥離力値が大きくなることが確認され、超軽剥離化を達成するのが困難であることが分かった。
また、「TESA7475加熱剥離力」は、離型層の厚みによる剥離力の変化量が大きく、離型層の厚みに敏感に対応するため、軽剥離化効果が見えやすいことが分かった。
The "heat peel strength (after pressing)" was evaluated from the perspective of how stable and smooth the peeling could be under more severe conditions by first recreating a condition in which the release surface and the adhesive layer surface were intentionally tightly adhered together through a pressing process.
It was found that in Examples 1 to 4, the peel strength did not change significantly before and after the press treatment and was stable.
On the other hand, when Comparative Examples 1 to 3 were evaluated for "heat peel force (without press)" in the absence of press, it was confirmed that the peel force values were already about 60 to 70% higher than those of Examples 1 to 4, indicating that it would be difficult to achieve ultra-light peel strength.
Furthermore, it was found that the "TESA7475 heat peeling force" exhibited a large change in peeling force depending on the thickness of the release layer, and responded sensitively to the thickness of the release layer, making it easy to see the effect of reducing peeling force.

離型層の塗布厚み(乾燥後)が0.25μm未満の領域においては、離型層の弾性率が1.5MPa以上になるため、アクリル粘着テープに対する剥離性が劇的に軽剥離化しないことが分かった。
それに対して、離型層の弾性率が1.4MPa以下の場合には、予めプレス処理をしているにも関わらず、本来であれば、プレス処理に伴い、剥離力値が大きくなっても不思議ではないが、剥離力値が最も軽いもので、約3割程度、さらに軽剥離化していることが分かった。そのため、本発明の離型フィルム(実施例を含む)は、参考例(従来)レベルでは到達するのが困難な超軽剥離化を達成していることが分かる。
It was found that in the region where the coating thickness (after drying) of the release layer is less than 0.25 μm, the modulus of elasticity of the release layer is 1.5 MPa or more, and therefore the releasability to the acrylic adhesive tape does not become dramatically easier.
On the other hand, when the elastic modulus of the release layer is 1.4 MPa or less, it is not surprising that the peel force value increases due to the press treatment, even though the press treatment has been performed in advance. However, it was found that the release force value was about 30% lighter at the lightest. Therefore, it can be seen that the release film of the present invention (including the examples) achieves an ultra-light release property that is difficult to achieve at the level of the reference example (conventional).

実施例1~4で得られた試料フィルムは、離型層厚さが0.25μm以上であり、その弾性率は1.4MPa以下であると考えられる。離型層の弾性率が1.4MPa以下になると、ブロッキングおよびブロッキングによる重剥離化が発生する可能性が高まることが知られている。
そのため、本願発明では、中粘度、具体的には、n-ヘプタン溶媒希釈にて15質量%に調整した際の25℃における粘度が10~400mcpsである硬化型シリコーン樹脂を用いることにより、前記課題を解決できることが分かった。
さらに好ましくは、硬化型シリコーン樹脂がフェニル構造を有することも、前記課題解決に寄与していることが推察される。
一方、実施例1~4で得られた試料フィルムのプレス後加熱剥離力に重剥離化は見られず、さらに軽剥離となることが分かった。
It is believed that the sample films obtained in Examples 1 to 4 had a release layer thickness of 0.25 μm or more and an elastic modulus of 1.4 MPa or less. It is known that when the elastic modulus of the release layer is 1.4 MPa or less, the possibility of blocking and heavy release due to blocking occurring increases.
Therefore, in the present invention, it has been found that the above-mentioned problems can be solved by using a curable silicone resin with a medium viscosity, specifically, a viscosity of 10 to 400 mcps at 25°C when diluted with n-heptane solvent to 15% by mass.
More preferably, the curable silicone resin has a phenyl structure, which is also thought to contribute to solving the above problems.
On the other hand, the sample films obtained in Examples 1 to 4 did not show a heavy peeling force after pressing, and it was found that the peeling force after heating was lighter.

上記実施例及び発明者がこれまで行ってきた試験結果より、離型層の弾性率が1.4MPa以下であり、当該離型層の23℃、180°剥離力が15mN/cm以下であれば、軽剥離性に優れているばかりではなく、粘着層表面の凹凸を抑制して優れた平滑を得ることができることが分かった。 From the above examples and the results of tests conducted by the inventors to date, it has been found that if the release layer has an elastic modulus of 1.4 MPa or less and a 180° peel strength at 23°C of 15 mN/cm or less, not only will the release layer have excellent light releasability, but it will also be able to suppress unevenness on the adhesive layer surface and achieve excellent smoothness.

また、上記実施例及び発明者がこれまで行ってきた試験結果より、数平均分子量(Mn)が20000以上350000以下である中程度の数平均分子量(Mn)を有する硬化型シリコーンを、離型層組成物の主成分樹脂として使用することで、当該離型層の乾燥後厚みが0.30μm以上、離型層の弾性率が1.4MPa以下となった場合でも、ブロッキングによる重剥離化の無い、非常に軽剥離な離型フィルムが得られることが分かった。
そのため、離型層の乾燥後厚みを0.25μm以上、2.0μm以下、より好ましくは0.30μm以上、1.5μm以下、さらに好ましくは0.35μm以上、1.0μm以下、離型層の弾性率を1.4MPa以下、0.10MPa以上、より好ましくは1.3MPa以下、0.20MPa以上、さらに好ましくは1.0MPa以下、0.30MPa以上の範囲とすることで、特に超軽剥離性が必要とされる用途において優れた離型フィルムが得られることが分かった。
Furthermore, from the above examples and the results of tests conducted by the inventors to date, it has been found that by using a curable silicone having a moderate number average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 350,000 or less as the main component resin of the release layer composition, a release film with very light release properties can be obtained, without heavy release due to blocking, even if the dry thickness of the release layer is 0.30 μm or more and the elastic modulus of the release layer is 1.4 MPa or less.
Therefore, it has been found that by setting the dry thickness of the release layer to 0.25 μm or more and 2.0 μm or less, more preferably 0.30 μm or more and 1.5 μm or less, and even more preferably 0.35 μm or more and 1.0 μm or less, and by setting the elastic modulus of the release layer to 1.4 MPa or less, 0.10 MPa or more, more preferably 1.3 MPa or less, 0.20 MPa or more, and even more preferably 1.0 MPa or less and 0.30 MPa or more, an excellent release film can be obtained, particularly in applications where ultra-light releasability is required.

また、数平均分子量(Mn)が20000以上350000以下である中程度の数平均分子量(Mn)を有する硬化型シリコーンを、離型層組成物の主成分樹脂として使用し、且つ、当該離型層組成物が所定量のフェニル基を含むように調整することにより、軽剥離性をさらに高めることができ、粘着層表面の凹凸をより一層抑制することができことが分かった。この際、粘着層表面の凹凸を抑制できるのは、離型層表面が適度な濡れ性を有し、また、粘着層側への低分子量のシリコーン樹脂、すなわち非相溶成分の溶出乃至移行を抑制することができた結果であると考えることができる。 It has also been found that by using a curable silicone with a moderate number-average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 350,000 or less as the main component resin of the release layer composition and adjusting the release layer composition to contain a predetermined amount of phenyl groups, it is possible to further improve the easy releasability and further suppress unevenness on the adhesive layer surface. In this case, the suppression of unevenness on the adhesive layer surface can be attributed to the fact that the release layer surface has appropriate wettability and that it is possible to suppress the elution or migration of low-molecular-weight silicone resin, i.e., incompatible components, into the adhesive layer.

特に、数平均分子量(Mn)が20000以上350000以下である中程度の数平均分子量(Mn)を有する硬化型シリコーンを主成分樹脂として含む離型層組成物を塗布し硬化させて形成した離型層を有する離型フィルムは、当該離型層を塗布厚み(乾燥後の厚み)が0.30μm以上で厚塗りした場合でも、良好な軽剥離性と、高平滑な粘着層表面を得ることができることが分かった。
また、上記のように中程度の分子量を有する硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする離型層組成物は、軽剥離化を目的として、離型層の厚みを厚くするために塗布液を高濃度で調製した場合でも、塗布液の粘度が適切な領域内に保つことが可能であり、塗布外観(スジなどコートムラの無い)が良好であり、離型フィルム面内において、剥離力値のバラツキが抑えられた安定な剥離特性を有する離型フィルムを製造できることが分かった。
In particular, it has been found that a release film having a release layer formed by applying and curing a release layer composition containing, as the main component resin, a curable silicone having a moderate number average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 350,000 or less can obtain good easy peelability and a highly smooth adhesive layer surface even when the release layer is applied thickly (thickness after drying) to a thickness of 0.30 μm or more.
Furthermore, it was found that a release layer composition having a curable silicone resin with a moderate molecular weight as the main component resin as described above can maintain the viscosity of the coating liquid within an appropriate range even when the coating liquid is prepared at a high concentration to increase the thickness of the release layer in order to achieve light release, and can produce a release film with a good coating appearance (no coating unevenness such as streaks) and stable release properties with reduced variation in peel force values within the surface of the release film.

さらに、上記実施例及び発明者がこれまで行ってきた試験結果より、離型層上に粘着層を形成した際、離型層中にフェニル基が存在すると、粘着層表面の凹凸を抑制したまま、より軽剥離にすることができることが分かった。
現時点では詳細なメカニズムは不明だが、一般的な高分子量を有する硬化型シリコーン樹脂を主成分樹脂とする離型層組成物(離型層組成物a3、a4など)に対して、中分子量化により増加する反応基(アルケニル基、Si-H基)の未反応分が、フェニル基によって粘着剤から隠される(フェニル基とアルケニル基、Si-H基の相互作用)ためと推測される。
また、上記実施例及び発明者がこれまで行ってきた試験結果より、離型層において、全シロキサン成分量に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含むのが好ましいことが分かってきた。
Furthermore, from the above examples and the results of tests conducted by the inventors to date, it has been found that when an adhesive layer is formed on a release layer, the presence of phenyl groups in the release layer enables easier peeling while suppressing the unevenness of the adhesive layer surface.
At present, the detailed mechanism is unknown, but it is speculated that in release layer compositions (such as release layer compositions a3 and a4) whose main component is a typical high-molecular-weight curable silicone resin, the unreacted reactive groups (alkenyl groups, Si-H groups) that increase as the molecular weight increases to medium levels are hidden from the adhesive by the phenyl groups (interaction between the phenyl groups and the alkenyl groups and Si-H groups).
Furthermore, from the above examples and the results of tests conducted by the inventors, it has been found that it is preferable for the release layer to contain 0.01 to 5.0 mol % of phenyl groups relative to the total amount of siloxane components.

Claims (9)

基材フィルムの片面側に離型層を備えた離型フィルムであり、
前記離型層の弾性率が1.4MPa以下であり、離型層の厚み(乾燥後)が0.25μm~2.0μmであり、
前記離型層は、シロキサン結合からなる直鎖状の主鎖の側鎖又は末端に、フェニル基、Si-H基及びアルケニル基のいずれか又はこれら2種以上が導入されたものであり、数平均分子量(Mn)が20000以上、176000以下であり、n-ヘプタン溶媒希釈にて15質量%に調整した際の25℃における粘度が10~400mcpsである硬化型シリコーン樹脂(メチル基とヘキセニル基とフェニル基を有する、数平均分子量(Mn)が200000の硬化型シリコーン樹脂を除く)を主成分樹脂とし、シロキサン結合を有する架橋剤を含み、かつ、全シロキサン成分に対して0.01~5.0mol%のフェニル基を含み、全シロキサン成分に対して0.4~1.0mol%のアルケニル基を含み、全シロキサン成分に対して0.8~2.2mol%のSi-H基を含む離型層組成物が硬化してなる層である、離型フィルム。
A release film having a release layer on one side of a base film,
The release layer has an elastic modulus of 1.4 MPa or less and a thickness (after drying) of 0.25 μm to 2.0 μm;
The release layer is a release film obtained by curing a release layer composition in which any one or two or more of a phenyl group, an Si—H group, and an alkenyl group are introduced into a side chain or an end of a linear main chain composed of siloxane bonds, the release layer having as its main component a curable silicone resin (excluding a curable silicone resin having a number average molecular weight (Mn) of 200,000 which has a methyl group, a hexenyl group, and a phenyl group) having a number average molecular weight (Mn) of 20,000 or more and 176,000 or less and having a viscosity of 10 to 400 mcps at 25° C. when diluted to 15% by mass with n-heptane solvent, the release layer containing a crosslinker having a siloxane bond, and the release layer composition containing 0.01 to 5.0 mol % of phenyl groups, 0.4 to 1.0 mol % of alkenyl groups, and 0.8 to 2.2 mol % of Si—H groups, based on the total siloxane components.
離型層と基材フィルムとの間に硬化樹脂層を備えた、請求項に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1 , further comprising a cured resin layer between the release layer and the substrate film. 硬化樹脂層が帯電防止層またはオリゴマー封止層である、請求項に記載の離型フィルム。 The release film of claim 2 , wherein the cured resin layer is an antistatic layer or an oligomer sealing layer. 離型層表面または離型層が設けられていないフィルム表面の算出平均粗さ(Sa)が30nm以下である、請求項1~の何れかに記載の離型フィルム。 4. The release film according to claim 1 , wherein the calculated average roughness (Sa) of the release layer surface or the film surface on which no release layer is provided is 30 nm or less. 前記基材フィルムがポリエステルフィルムである、請求項1~の何れかに記載の離型フィルム。 The release film according to any one of claims 1 to 4 , wherein the base film is a polyester film. 請求項1~の何れかに記載の離型フィルムの前記離型層に粘着層が積層してなる構成を備えた粘着層付き離型フィルム。 A release film with an adhesive layer, comprising the release film according to any one of claims 1 to 5 , and an adhesive layer laminated on the release layer. 前記粘着層が、アクリル系樹脂を主成分とするアクリル系粘着剤組成物から構成された層である、請求項に記載の粘着層付き離型フィルム。 7. The release film with an adhesive layer according to claim 6 , wherein the adhesive layer is a layer made of an acrylic adhesive composition containing an acrylic resin as a main component. 請求項又はに記載の粘着層付き離型フィルムの前記粘着層表面に、光学部材が貼り合わされてなる構成を備えたフィルム積層体。 A film laminate comprising an optical member bonded to a surface of the adhesive layer of the release film with an adhesive layer according to claim 6 or 7 . 前記光学部材が偏光板又はタッチセンサーである、請求項に記載のフィルム積層体。 The film laminate according to claim 8 , wherein the optical component is a polarizing plate or a touch sensor.
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