JP7748207B2 - Light-emitting device - Google Patents
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Description
本開示は、発光装置に関する。 This disclosure relates to a light-emitting device.
従来、複数の半導体レーザパッケージを備える発光装置が知られている(例えば、特許文献1)。特許文献1に記載された発光装置は、実装基板に実装された複数のCANパッケージを備え、複数のCANパッケージからのレーザ光をレンズアレイによって集光しようとしている。 Light-emitting devices equipped with multiple semiconductor laser packages are known (see, for example, Patent Document 1). The light-emitting device described in Patent Document 1 includes multiple CAN packages mounted on a mounting substrate, and attempts to focus the laser light from the multiple CAN packages using a lens array.
複数のCANパッケージの各々は半導体レーザチップを有する。発光装置においては、高出力化が求められており、各半導体レーザチップに供給される電流が増大する傾向にある。これに伴い、各半導体レーザチップにおける発熱量が増大するため、各半導体レーザチップからの放熱経路を確保する必要がある。しかしながら、特許文献1に記載された発光装置では、複数のCANパッケージを実装するために、実装基板に複数の穴を形成する必要がある。これにより、実装基板に穴が形成されない場合より、実装基板における放熱経路が減少するため、各半導体レーザチップから実装基板を介する放熱特性が低下する。したがって、半導体レーザチップに供給できる電流量が制限され得る。 Each of the multiple CAN packages contains a semiconductor laser chip. Light-emitting devices are required to achieve higher output, and the current supplied to each semiconductor laser chip tends to increase. This increases the amount of heat generated by each semiconductor laser chip, making it necessary to ensure a heat dissipation path from each semiconductor laser chip. However, in the light-emitting device described in Patent Document 1, multiple holes must be formed in the mounting substrate to mount the multiple CAN packages. This reduces the heat dissipation path in the mounting substrate compared to when no holes are formed in the mounting substrate, thereby reducing the heat dissipation characteristics from each semiconductor laser chip via the mounting substrate. This can limit the amount of current that can be supplied to the semiconductor laser chip.
本開示は、このような課題を解決するものであり、半導体レーザチップの放熱特性を高めることができる発光装置を提供することを目的とする。 The present disclosure aims to solve these problems by providing a light-emitting device that can improve the heat dissipation characteristics of a semiconductor laser chip.
上記課題を解決するために、本開示に係る発光装置の一態様は、主面を有する基台と、前記主面に実装され、前記主面に平行な光軸を有する複数の半導体レーザチップと、各々が、前記複数の半導体レーザチップの各々の出射点からの出射光を反射する反射面を有する複数のミラーと、各々が、前記複数のミラーの各々の反射面からの反射光を受ける複数のレンズ部を有する光学部材とを備え、前記主面の平面視で、前記反射面における前記出射光の中心位置と、前記複数のレンズ部のうち前記反射面に対応するレンズ部の中心位置との距離は、前記出射光の中心位置と、前記複数のレンズ部が配置されているレンズ領域の中心位置との距離が大きくなるにしたがって大きくなり、前記複数のレンズ部の各々からの出力光は、前記レンズ領域より面積が小さい所定面領域の内部に照射される。 In order to solve the above problems, one aspect of the light-emitting device disclosed herein comprises a base having a principal surface, a plurality of semiconductor laser chips mounted on the principal surface and having optical axes parallel to the principal surface, a plurality of mirrors each having a reflective surface that reflects light emitted from the emission points of each of the plurality of semiconductor laser chips, and an optical element having a plurality of lens portions that receive the light reflected from the reflective surfaces of each of the plurality of mirrors, wherein, in a planar view of the principal surface, the distance between the center position of the emitted light on the reflective surface and the center position of a lens portion of the plurality of lens portions that corresponds to the reflective surface increases as the distance between the center position of the emitted light and the center position of a lens region in which the plurality of lens portions are arranged increases, and output light from each of the plurality of lens portions is irradiated within a predetermined surface region having an area smaller than that of the lens region.
本開示によれば、半導体レーザチップの放熱特性を高めることができる発光装置を提供できる。 This disclosure provides a light-emitting device that can improve the heat dissipation characteristics of a semiconductor laser chip.
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される、数値、形状、材料、構成要素、及び、構成要素の配置位置や接続形態などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings. Note that each embodiment described below represents a specific example of the present disclosure. Therefore, the numerical values, shapes, materials, components, and the arrangement and connection of the components shown in the following embodiments are merely examples and are not intended to limit the present disclosure.
また、各図は模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。したがって、各図において縮尺等は必ずしも一致していない。なお、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。 Furthermore, each figure is a schematic diagram and is not necessarily an exact illustration. Therefore, the scale and other details do not necessarily match between the figures. Furthermore, in each figure, the same reference numerals are used to designate substantially identical components, and redundant explanations will be omitted or simplified.
また、本明細書において、「上方」及び「下方」という用語は、絶対的な空間認識における上方向(鉛直上方)及び下方向(鉛直下方)を指すものではなく、積層構成における積層順を基に相対的な位置関係により規定される用語として用いる。また、「上方」及び「下方」という用語は、2つの構成要素が互いに間隔をあけて配置されて2つの構成要素の間に別の構成要素が存在する場合のみならず、2つの構成要素が互いに接する状態で配置される場合にも適用される。 In addition, in this specification, the terms "above" and "below" do not refer to the upward direction (vertically upward) and downward direction (vertically downward) in an absolute spatial sense, but are used as terms defined by a relative positional relationship based on the stacking order in the stacked configuration. Furthermore, the terms "above" and "below" apply not only to cases where two components are arranged with a gap between them and another component exists between them, but also to cases where two components are arranged in contact with each other.
(実施の形態1)
実施の形態1に係る発光装置について説明する。
(Embodiment 1)
A light emitting device according to a first embodiment will be described.
[1-1.全体構成]
まず、本実施の形態に係る発光装置の全体構成について図1~図3を用いて説明する。図1及び図2は、それぞれ、本実施の形態に係る発光装置10の平面図及び断面図である。図2には、図1のII-II線における断面が示されている。図3は、本実施の形態に係る発光装置10の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。また、各図には、互いに直交するX軸、Y軸、及びZ軸が示されている。
[1-1. Overall configuration]
First, the overall configuration of the light emitting device according to the present embodiment will be described with reference to Figures 1 to 3. Figures 1 and 2 are a plan view and a cross-sectional view, respectively, of a light emitting device 10 according to the present embodiment. Figure 2 shows a cross section taken along line II-II in Figure 1. Figure 3 is a plan view showing the light emitting device 10 according to the present embodiment with the optical member 40 removed. Each figure also shows an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis, which are orthogonal to one another.
図2に示されるように、本実施の形態に係る発光装置10は、Z方向に発光装置10から離れたところにある所定面領域(図示せず)に光を照射する装置であり、基台20と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のミラー70と、光学部材40とを備える。本実施の形態では、発光装置10は、さらに枠部材30と、複数のサブマウント50とを備える。 As shown in FIG. 2, the light-emitting device 10 according to this embodiment is a device that irradiates light onto a predetermined surface area (not shown) located away from the light-emitting device 10 in the Z direction, and includes a base 20, multiple semiconductor laser chips 60, multiple mirrors 70, and an optical member 40. In this embodiment, the light-emitting device 10 further includes a frame member 30 and multiple submounts 50.
図1~図3に示される基台20は、複数の半導体レーザチップ60が実装される主面21を有する部材である。本実施の形態では、基台20は、略矩形の板状の形状を有する基板である。基台20は、熱伝導率が高い材料で形成され、複数の半導体レーザチップ60で発生する熱を放散する放熱部材としても機能する。 The base 20 shown in Figures 1 to 3 is a member having a main surface 21 on which multiple semiconductor laser chips 60 are mounted. In this embodiment, the base 20 is a substrate having a substantially rectangular plate shape. The base 20 is made of a material with high thermal conductivity, and also functions as a heat dissipation member that dissipates heat generated by the multiple semiconductor laser chips 60.
基台20の素材は、例えば、金属材料、セラミック材料、ガラス材料又は樹脂材料などである。半導体レーザチップ60で発生する熱を効率良く基台20で放散するには、基台20は、金属材料などの熱伝導率の高い材料によって構成されているとよい。熱伝導率が高くて基台20として実用的な金属材料としては、例えばCu又はAlが挙げられる。本実施の形態において、基台20は、Cuによって構成されたCu基板である。 The base 20 may be made of, for example, a metal, ceramic, glass, or resin material. To efficiently dissipate the heat generated by the semiconductor laser chip 60 through the base 20, the base 20 should be made of a material with high thermal conductivity, such as a metal. Metal materials with high thermal conductivity that are practical for the base 20 include, for example, Cu or Al. In this embodiment, the base 20 is a Cu substrate made of Cu.
なお、基台20の枠部材30の外側の部分などに、基台20を固定するための構造が形成されていてもよい。例えば、基台20には、貫通孔などが形成されていてもよい。 In addition, a structure for fixing the base 20 may be formed on the outer portion of the frame member 30 of the base 20. For example, the base 20 may have a through hole or the like formed therein.
図2及び図3に示される枠部材30は、複数の半導体レーザチップ60及び複数のミラー70を囲む環状部材である。枠部材30は、基台20の主面21に立設され、複数の半導体レーザチップ60などを収納する容器の一部として機能する。また、枠部材30は、光学部材40を支持する機能も有する。枠部材30は、基台20と、光学部材40とに挟まれる。枠部材30と、基台20と、光学部材40とに囲まれた空間に、複数の半導体レーザチップ60と、複数のミラー70とが収納される。なお、図示しないが、枠部材30は、複数の半導体レーザチップ60に電流を供給するための電流端子を有していてもよい。枠部材30は、例えば、Feなどの金属、合金などで形成される。枠部材30が、電流端子を備える場合には、電流端子の周囲には、絶縁部材が配置される。 The frame member 30 shown in Figures 2 and 3 is an annular member that surrounds multiple semiconductor laser chips 60 and multiple mirrors 70. The frame member 30 is erected on the main surface 21 of the base 20 and functions as part of a container that houses multiple semiconductor laser chips 60 and other components. The frame member 30 also functions to support the optical member 40. The frame member 30 is sandwiched between the base 20 and the optical member 40. Multiple semiconductor laser chips 60 and multiple mirrors 70 are housed in the space surrounded by the frame member 30, the base 20, and the optical member 40. Although not shown, the frame member 30 may have current terminals for supplying current to the multiple semiconductor laser chips 60. The frame member 30 is formed, for example, from a metal such as Fe or an alloy. If the frame member 30 has a current terminal, an insulating member is arranged around the current terminal.
図2及び図3に示される複数の半導体レーザチップ60の各々は、基台20の主面21に実装され、主面21に平行な光軸を有する半導体発光素子である。本実施の形態では、20個の半導体レーザチップ60の各々が、サブマウント50を介して主面21に実装される。複数の半導体レーザチップ60は、図3に示されるように、X軸方向及びY軸方向に行列状に配置されている。複数の半導体レーザチップ60の各々は、光学部材40の複数のレンズ部43の各々と対応する位置に配置される。 Each of the multiple semiconductor laser chips 60 shown in Figures 2 and 3 is mounted on the main surface 21 of the base 20 and is a semiconductor light-emitting element having an optical axis parallel to the main surface 21. In this embodiment, each of the 20 semiconductor laser chips 60 is mounted on the main surface 21 via a submount 50. As shown in Figure 3, the multiple semiconductor laser chips 60 are arranged in a matrix in the X-axis and Y-axis directions. Each of the multiple semiconductor laser chips 60 is positioned corresponding to each of the multiple lens portions 43 of the optical member 40.
複数の半導体レーザチップ60は、すべて同一の構成を有する。ここで、半導体レーザチップ60の構成について、図4を用いて説明する。図4は、本実施の形態に係る半導体レーザチップ60、サブマウント50、及びミラー70の構成を示す断面図である。図4は、図2の一部を拡大した図である。図4に示されるように、複数の半導体レーザチップ60の各々は、レーザ光である出射光L1を出射する出射点E1を有する。出射光L1の光軸は、基台20の主面21に平行である。ここで、出射光L1は矢印で示されているが、この矢印は出射光L1の光軸を示すものであり、実際の出射光L1は幅を持つ発散光である。 All of the multiple semiconductor laser chips 60 have the same configuration. The configuration of the semiconductor laser chip 60 will now be described with reference to Figure 4. Figure 4 is a cross-sectional view showing the configuration of the semiconductor laser chip 60, submount 50, and mirror 70 according to this embodiment. Figure 4 is an enlarged view of a portion of Figure 2. As shown in Figure 4, each of the multiple semiconductor laser chips 60 has an emission point E1 from which emitted laser light L1 is emitted. The optical axis of the emitted light L1 is parallel to the main surface 21 of the base 20. Here, the emitted light L1 is indicated by an arrow, but this arrow indicates the optical axis of the emitted light L1; in reality, the emitted light L1 is a diverging light with a width.
半導体レーザチップ60は、出射光L1の光軸方向(つまり、共振方向)を長手方向とする長尺状である。一例として、半導体レーザチップ60の光軸方向の長さは、1200μmであるが、これに限らない。 The semiconductor laser chip 60 is elongated, with its longitudinal direction aligned with the optical axis direction of the emitted light L1 (i.e., the resonance direction). As an example, the length of the semiconductor laser chip 60 in the optical axis direction is 1200 μm, but is not limited to this.
半導体レーザチップ60は、サブマウント50の上面に実装される。具体的には、半導体レーザチップ60は、サブマウント50上の配線電極(図示せず)に実装されている。本実施の形態において、半導体レーザチップ60は、ジャンクションダウン実装によりサブマウント50に実装されている。なお、半導体レーザチップ60の実装形態は、これに限るものではなく、ジャンクションアップ実装によりサブマウント50に実装されていてもよい。 The semiconductor laser chip 60 is mounted on the upper surface of the submount 50. Specifically, the semiconductor laser chip 60 is mounted on wiring electrodes (not shown) on the submount 50. In this embodiment, the semiconductor laser chip 60 is mounted on the submount 50 using junction-down mounting. However, the mounting configuration of the semiconductor laser chip 60 is not limited to this, and it may also be mounted on the submount 50 using junction-up mounting.
また、半導体レーザチップ60は、出射点E1が位置する端面がサブマウント50の光出射側の端面からはみ出すように実装されている。つまり、半導体レーザチップ60は、サブマウント50の端面から突出しており、半導体レーザチップ60の出射点E1は、サブマウント50の光出射側の端面よりも半導体レーザチップ60の光出射側に位置している。半導体レーザチップ60の突出量(つまり、サブマウント50の光出射側の端面から半導体レーザチップ60の出射点E1までの距離)は、例えば、5μm以上20μm以下であるが、これに限らない。本実施の形態において、半導体レーザチップ60の突出量は、10μmである。 The semiconductor laser chip 60 is mounted so that the end face where the emission point E1 is located protrudes from the end face on the light emission side of the submount 50. In other words, the semiconductor laser chip 60 protrudes from the end face of the submount 50, and the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 is located on the light emission side of the semiconductor laser chip 60 relative to the end face on the light emission side of the submount 50. The amount of protrusion of the semiconductor laser chip 60 (i.e., the distance from the end face on the light emission side of the submount 50 to the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60) is, for example, 5 μm or more and 20 μm or less, but is not limited to this. In this embodiment, the amount of protrusion of the semiconductor laser chip 60 is 10 μm.
図2~図4に示される複数のサブマウント50の各々は、基台20の主面21に実装され、半導体レーザチップ60を支持する部材である。本実施の形態では、複数のサブマウント50は、すべて同一の構成を有する。図4に示されるように、サブマウント50は、基台20の主面21に対向する実装面51と、実装面51の裏側に位置し半導体レーザチップ60が取り付けられる取付面52とを有する。言い換えると、サブマウント50は、基台20と、半導体レーザチップ60との間に位置している。 Each of the multiple submounts 50 shown in Figures 2 to 4 is mounted on the main surface 21 of the base 20 and is a member that supports the semiconductor laser chip 60. In this embodiment, the multiple submounts 50 all have the same configuration. As shown in Figure 4, the submount 50 has a mounting surface 51 that faces the main surface 21 of the base 20, and an attachment surface 52 located on the back side of the mounting surface 51 and on which the semiconductor laser chip 60 is attached. In other words, the submount 50 is located between the base 20 and the semiconductor laser chip 60.
発光装置10は、半導体レーザチップ60と同数のサブマウント50を備える。本実施の形態では、20個のサブマウント50が、それぞれ、20個の半導体レーザチップ60と1対1で対応する。 The light-emitting device 10 has the same number of submounts 50 as the semiconductor laser chips 60. In this embodiment, the 20 submounts 50 correspond one-to-one to the 20 semiconductor laser chips 60.
サブマウント50は、半導体レーザチップ60で発生する熱を放散させるためのヒートシンクとしても機能する。したがって、サブマウント50の材料は、導電性材料及び絶縁性材料のいずれによって構成されていてもよいが、熱伝導率の高い材料によって構成されているとよい。サブマウント50の熱伝導率は、例えば、150W/(m・K)以上であるとよい。例えば、サブマウント50は、窒化アルミニウム(AlN)や多結晶の炭化ケイ素(SiC)などのセラミック、Cuなどの金属材料、又は、単結晶ダイヤモンドや多結晶ダイヤモンドのダイヤモンドなどによって構成されている。本実施の形態において、サブマウント50は、AlNによって構成されている。なお、サブマウント50の形状は、例えば、矩形板状の直方体であるが、これに限らない。 The submount 50 also functions as a heat sink to dissipate heat generated by the semiconductor laser chip 60. Therefore, the submount 50 may be made of either a conductive or insulating material, but is preferably made of a material with high thermal conductivity. The thermal conductivity of the submount 50 is preferably 150 W/(m·K) or higher. For example, the submount 50 may be made of ceramics such as aluminum nitride (AlN) or polycrystalline silicon carbide (SiC), metal materials such as Cu, or diamond, such as single crystal diamond or polycrystalline diamond. In this embodiment, the submount 50 is made of AlN. The shape of the submount 50 is, for example, a rectangular plate-like cuboid, but is not limited to this.
サブマウント50は、例えば、基台20の主面21に金属系接合材を用いて接合される。つまり、サブマウント50は、基台20に固定用の穴などを形成することなく実装される。このため、基台20における放熱特性を低下させることなく、サブマウント50を基台20に実装できる。 The submount 50 is bonded to the main surface 21 of the base 20 using, for example, a metal bonding material. In other words, the submount 50 is mounted without forming fixing holes or the like in the base 20. This allows the submount 50 to be mounted on the base 20 without reducing the heat dissipation characteristics of the base 20.
複数のミラー70の各々は、図4に示されるように、複数の半導体レーザチップ60の各々の出射点E1からの出射光L1を反射する反射面71を有する素子である。複数のミラー70は、すべて同一の構成を有する。複数のミラー70は、図3に示されるように、X軸方向及びY軸方向に行列状に配置されている。複数のミラー70の各々は、光学部材40の複数のレンズ部43の各々と対応する位置に配置される。図4に示されるように、反射面71は、半導体レーザチップ60の出射点E1と対向して配置される平面ミラーである。本実施の形態では、反射面71は、出射光L1の方向に対して45°傾斜している。言い換えると、反射面71に垂直な方向は、出射光L1の方向に対して45°傾斜している。反射面71において出射光L1は反射され、反射光L2としてミラー70から光学部材40へ向かって伝搬する。本実施の形態では、出射光L1は、図2に示される反射面71の中心位置71Cに入射される。ここで、反射面71の中心位置71Cは、反射面71の重心位置で定義される。また、反射光L2は矢印で示されているが、この矢印は反射光L2の光軸を示すものであり、実際の反射光L2は幅を持つ発散光である。 As shown in FIG. 4, each of the multiple mirrors 70 is an element having a reflective surface 71 that reflects the emitted light L1 from the emission point E1 of each of the multiple semiconductor laser chips 60. All of the multiple mirrors 70 have the same configuration. As shown in FIG. 3, the multiple mirrors 70 are arranged in a matrix in the X-axis direction and the Y-axis direction. Each of the multiple mirrors 70 is arranged at a position corresponding to each of the multiple lens portions 43 of the optical element 40. As shown in FIG. 4, the reflective surface 71 is a flat mirror arranged opposite the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60. In this embodiment, the reflective surface 71 is inclined at 45° with respect to the direction of the emitted light L1. In other words, the direction perpendicular to the reflective surface 71 is inclined at 45° with respect to the direction of the emitted light L1. The emitted light L1 is reflected at the reflective surface 71 and propagates as reflected light L2 from the mirror 70 toward the optical element 40. In this embodiment, the emitted light L1 is incident on the center position 71C of the reflecting surface 71 shown in Figure 2. Here, the center position 71C of the reflecting surface 71 is defined as the center of gravity of the reflecting surface 71. Furthermore, although the reflected light L2 is indicated by an arrow, this arrow indicates the optical axis of the reflected light L2; in reality, the reflected light L2 is divergent light with a width.
ミラー70は、基台20の主面21に実装される。図3に示されるように、発光装置10は、半導体レーザチップ60と同数のミラー70を備える。本実施の形態では、20個のミラー70が、それぞれ、20個の半導体レーザチップ60と1対1で対応する。ここで、ミラー70と半導体レーザチップ60とのセットはすべて位置関係が同じである。言い換えると、半導体レーザチップ60の出射点E1から反射面71における出射光L1の中心位置C1までの距離はすべて同じであり、半導体レーザチップ60の出射光L1の光軸の主面21からの高さや反射面71の主面21からの高さはすべて同じである。 The mirrors 70 are mounted on the main surface 21 of the base 20. As shown in FIG. 3, the light-emitting device 10 includes the same number of mirrors 70 as the semiconductor laser chips 60. In this embodiment, the 20 mirrors 70 correspond one-to-one with the 20 semiconductor laser chips 60. Here, the positional relationship between the mirrors 70 and the semiconductor laser chips 60 is the same for all sets. In other words, the distance from the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 is the same for all sets, and the height of the optical axis of the emitted light L1 from the semiconductor laser chip 60 from the main surface 21 and the height of the reflecting surface 71 from the main surface 21 are all the same.
図1、図2、及び図4に示される光学部材40は、複数のレンズ部43を有する透光性の板状部材である。光学部材40は、枠部材30に支持され、枠部材30で囲まれる領域の蓋としても機能する。複数のレンズ部43の各々は、図4に示されるように、複数のミラー70の各々の反射面71からの反射光L2を受ける。本実施の形態では、複数のレンズ部43は、すべて同一の焦点距離を有する。レンズ部43は、例えば球面レンズである。レンズ部43の反射面71と対向する面は、平面であり、当該面の裏側(つまり外側)の面は球面状の凸形状を有する。つまり、レンズ部43は凸レンズである。光学部材40は、半導体レーザチップ60及びミラー70と同数のレンズ部43を有する。複数のレンズ部43は、図3に示されるように、X軸方向及びY軸方向に行列状に配置されている。複数のレンズ部43の各々は、複数のミラー70の各々と対応する位置に配置される。本実施の形態では、20個のレンズ部43が、それぞれ、20個のミラー70と1対1で対応する。光学部材40は、例えばガラスなどの透光性の部材で構成される。 The optical element 40 shown in Figures 1, 2, and 4 is a translucent plate-like element having multiple lens portions 43. The optical element 40 is supported by the frame element 30 and also functions as a lid for the area surrounded by the frame element 30. As shown in Figure 4, each of the multiple lens portions 43 receives reflected light L2 from the reflecting surface 71 of each of the multiple mirrors 70. In this embodiment, all of the multiple lens portions 43 have the same focal length. The lens portions 43 are, for example, spherical lenses. The surface of the lens portion 43 facing the reflecting surface 71 is flat, and the surface behind (i.e., the outside) of the flat surface has a spherical convex shape. In other words, the lens portions 43 are convex lenses. The optical element 40 has the same number of lens portions 43 as the semiconductor laser chips 60 and mirrors 70. The multiple lens portions 43 are arranged in a matrix in the X-axis and Y-axis directions, as shown in Figure 3. Each of the multiple lens portions 43 is positioned corresponding to each of the multiple mirrors 70. In this embodiment, the 20 lens units 43 correspond one-to-one to the 20 mirrors 70. The optical member 40 is made of a translucent material such as glass.
光学部材40は、図1に示されるように、複数のレンズ部43が配置されているレンズ領域44を有する。レンズ領域44は、例えば、複数のレンズ部43の包絡線44Eで囲まれる領域である。レンズ領域44の中心位置44Cは、レンズ領域44の重心である。 As shown in FIG. 1, the optical element 40 has a lens region 44 in which multiple lens portions 43 are arranged. The lens region 44 is, for example, the region surrounded by an envelope 44E of the multiple lens portions 43. The center position 44C of the lens region 44 is the center of gravity of the lens region 44.
[1-2.光路]
次に、本実施の形態に係る発光装置10における光路について主に図5及び図6を用いて説明する。図5は、本実施の形態に係る発光装置10における光路を説明する断面図である。図5には、図2と同様の断面の一部拡大図と、光路とが示されている。図6は、本実施の形態に係る発光装置10における複数のミラー70と複数のレンズ部43との位置関係を示す図である。図6には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図6には、複数のレンズ部43の輪郭が破線で併せて示されている。
[1-2. Optical path]
Next, the optical path in the light emitting device 10 according to this embodiment will be described mainly with reference to Figs. 5 and 6. Fig. 5 is a cross-sectional view illustrating the optical path in the light emitting device 10 according to this embodiment. Fig. 5 shows a partially enlarged view of the same cross section as Fig. 2, and the optical path. Fig. 6 is a diagram showing the positional relationship between the plurality of mirrors 70 and the plurality of lens units 43 in the light emitting device 10 according to this embodiment. Fig. 6 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20 in a plan view. In Fig. 6, the outlines of the plurality of lens units 43 are also shown by dashed lines.
図5に示されるように、半導体レーザチップ60から出射した主面21に平行な光軸を持つ出射光L1は、ミラー70の反射面71において反射し、反射光L2としてレンズ部43へ向かって伝搬する。ここで、反射光L2の光軸の方向は、基台20の主面21に垂直な方向と平行である。反射光L2は、レンズ部43に入射する。レンズ部43の光軸の方向は、基台20の主面21に垂直な方向と平行である。レンズ部43は、発散光である反射光L2を平行状態あるいは集束状態にし、出力光L3として発光装置10から出力される。ここで、反射光L2の光軸はレンズ部43の中心を通らず、かつレンズ部43の光軸と平行であるので、レンズ部43からの出力光L3は、レンズ部43の光軸方向に屈折する。なお、出力光L3は矢印で示されているが、この矢印は出力光L3の光軸を示すものであり、実際の出力光L3は幅を持つ光である。 As shown in FIG. 5, emitted light L1, which has an optical axis parallel to the principal surface 21 and is emitted from the semiconductor laser chip 60, is reflected by the reflecting surface 71 of the mirror 70 and propagates toward the lens unit 43 as reflected light L2. Here, the direction of the optical axis of the reflected light L2 is parallel to the direction perpendicular to the principal surface 21 of the base 20. The reflected light L2 is incident on the lens unit 43. The direction of the optical axis of the lens unit 43 is parallel to the direction perpendicular to the principal surface 21 of the base 20. The lens unit 43 converts the reflected light L2, which is divergent light, into a parallel or convergent state and outputs it from the light-emitting device 10 as output light L3. Here, the optical axis of the reflected light L2 does not pass through the center of the lens unit 43 and is parallel to the optical axis of the lens unit 43, so the output light L3 from the lens unit 43 is refracted in the direction of the optical axis of the lens unit 43. Note that output light L3 is indicated by an arrow, but this arrow indicates the optical axis of output light L3; in reality, output light L3 is light with a width.
ここで、図5及び図6に示されるように、主面21の平面視で、反射面71における出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43CとのX軸方向の距離(Dc)は、出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43が配置されているレンズ領域44の中心位置44CとのX軸方向の距離(De)が大きくなるにしたがって大きくなる。ここで、反射面71における出射光L1の中心位置C1は、出射光L1のビームプロファイルの重心位置、又は、出射光L1の強度が最大となる位置で定義される。また、レンズ部43の中心位置43Cは、主面21の平面視で、レンズ部43の光軸(図5に示される一点鎖線)が通る位置で定義される。また、図中に補助線は記載していないが、Y軸方向も同様に反射面71における出射光L1の中心位置C1も同様に変化している。 5 and 6, in a plan view of the principal surface 21, the distance (Dc) in the X-axis direction between the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 and the center position 43C of the lens portion 43 corresponding to the reflecting surface 71 increases as the distance (De) in the X-axis direction between the center position C1 of the emitted light L1 and the center position 44C of the lens region 44 in which the multiple lens portions 43 are arranged increases. Here, the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 is defined as the center of gravity of the beam profile of the emitted light L1 or the position where the intensity of the emitted light L1 is maximized. Furthermore, the center position 43C of the lens portion 43 is defined as the position through which the optical axis of the lens portion 43 (the dashed line shown in FIG. 5) passes in a plan view of the principal surface 21. Although no auxiliary lines are shown in the figures, the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 also changes in the Y-axis direction.
また、本実施の形態では、主面21の平面視で反射面71の中心位置71Cと、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43CとのX軸方向の距離は、反射面71の中心位置71Cとレンズ領域44の中心位置44CとのX軸方向の距離が大きくなるにしたがって大きくなる。本実施の形態では、反射面71における出射光L1の中心位置C1と、反射面71の中心位置71Cとは一致する。なお、反射面71における出射光L1の中心位置C1と、反射面71の中心位置71Cとは一致しなくてもよい。 In addition, in this embodiment, the distance in the X-axis direction between the center position 71C of the reflecting surface 71 in a plan view of the main surface 21 and the center position 43C of the lens portion 43 among the multiple lens portions 43 that corresponds to the reflecting surface 71 increases as the distance in the X-axis direction between the center position 71C of the reflecting surface 71 and the center position 44C of the lens region 44 increases. In this embodiment, the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 coincides with the center position 71C of the reflecting surface 71. Note that the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 does not have to coincide with the center position 71C of the reflecting surface 71.
以上のような構成により、図5に示されるように、出射光L1の中心位置C1と、レンズ領域44の中心位置44Cとの距離が大きくなるにしたがって、レンズ部43における反射光L2の光軸の屈折角が大きくなる。 With the above configuration, as shown in Figure 5, as the distance between the center position C1 of the emitted light L1 and the center position 44C of the lens region 44 increases, the refraction angle of the optical axis of the reflected light L2 at the lens section 43 increases.
したがって、複数のレンズ部43の各々からの出力光L3は、レンズ領域44より面積が小さい所定面領域A1の内部に照射される。このように、本実施の形態に係る発光装置10によれば、光学部材40と所定面領域A1との間に集光レンズを配置することなく、レンズ領域44より面積が小さい所定面領域A1に複数の出力光L3を集光できる。 Therefore, output light L3 from each of the multiple lens portions 43 is irradiated onto the interior of the predetermined surface area A1, which has an area smaller than that of the lens area 44. In this way, with the light-emitting device 10 according to this embodiment, multiple output light beams L3 can be focused onto the predetermined surface area A1, which has an area smaller than that of the lens area 44, without placing a focusing lens between the optical member 40 and the predetermined surface area A1.
ここで、DcをDeと比例させることにより、すべての出力光L3の光軸を1か所に集めることができる。また、Y軸方向も同様に反射面71の中心位置71Cが変化している。図6に示されるように、出射光L1の中心位置C1と、レンズ領域44の中心位置44Cとを結ぶ線分上に、レンズ部43の中心位置43Cがあるが、必ずしも厳密に線分上になくてもよい。さらに、それぞれの出力光L3の光軸の方向は、平面視では大体レンズ領域44の中心位置の方を向いているが、必ずしも厳密に中心位置を向いていなくてもよい。さらに、半導体レーザチップ60の出射点E1から反射面71における出射光L1の中心位置C1までの距離をすべて同じにすることにより、半導体レーザチップ60の出射点E1からレンズ部43までの距離がすべて同じとなり、半導体レーザチップ60及びミラー70のそれぞれの位置の変化が出力光L3の集束状態に与える影響を極めて少なくできる。また、反射面71における出射光L1の中心位置C1と、反射面71の中心位置71Cとが一致することにより、出射光L1を効率的にミラー70で反射させることができる。 Here, by making Dc proportional to De, the optical axes of all output light beams L3 can be converged to one location. The center position 71C of the reflecting surface 71 also changes in the Y-axis direction. As shown in Figure 6, the center position 43C of the lens portion 43 is located on the line segment connecting the center position C1 of the output light beam L1 and the center position 44C of the lens region 44, but it does not necessarily have to be exactly on that line segment. Furthermore, while the optical axis of each output light beam L3 generally points toward the center position of the lens region 44 in a planar view, it does not necessarily have to point exactly toward the center position. Furthermore, by making the distance from the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the center position C1 of the output light beam L1 on the reflecting surface 71 the same for all beams, the distance from the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the lens portion 43 is also the same for all beams, minimizing the impact of changes in the positions of the semiconductor laser chip 60 and mirror 70 on the convergence of the output light beam L3. Furthermore, since the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 coincides with the center position 71C of the reflecting surface 71, the emitted light L1 can be efficiently reflected by the mirror 70.
また、本実施の形態において、出力光L3を、レンズ部43によって集束された集光ビームとすることにより、出力光L3が集光ビームでない場合より、面積が小さい所定面領域A1に出力光L3を集光できる。言い換えると、複数の出力光L3によって形成される遠視野像の面積を低減できる。したがって、所定面領域A1における光密度をさらに高めることができる。 Furthermore, in this embodiment, by making the output light L3 a focused beam focused by the lens unit 43, the output light L3 can be focused on a predetermined surface area A1 that is smaller than when the output light L3 is not a focused beam. In other words, the area of the far-field pattern formed by multiple output light beams L3 can be reduced. Therefore, the light density in the predetermined surface area A1 can be further increased.
[1-3.効果]
次に、本実施の形態に係る発光装置10の効果について説明する。本実施の形態に係る発光装置10は、図2に示されるように、複数の半導体レーザチップ60を備える。複数の半導体レーザチップ60の各々は、基台20の主面21に実装され、主面21に平行な光軸を有する。半導体レーザチップ60は、サブマウント50を介して主面21に実装される。ここで、サブマウント50は、基台20に固定用の穴などを形成することなく実装できるため、基台20における放熱特性を低下させることなくサブマウント50を基台20に実装できる。また、半導体レーザチップ60をサブマウント50だけを介して基台20に実装できる。つまり、半導体レーザチップ60を基台20の主面21に近接した位置に実装できる。このため、熱伝導率の高いサブマウント50を用いることで、半導体レーザチップ60を含むCANパッケージなどを基台20に実装する場合より、半導体レーザチップ60から基台20への放熱特性を高めることができる。以上のように、本実施の形態によれば、複数の半導体レーザチップ60の放熱特性を高めることができる発光装置10を実現できる。
[1-3. Effects]
Next, the effects of the light emitting device 10 according to this embodiment will be described. As shown in FIG. 2 , the light emitting device 10 according to this embodiment includes a plurality of semiconductor laser chips 60. Each of the plurality of semiconductor laser chips 60 is mounted on the main surface 21 of the base 20 and has an optical axis parallel to the main surface 21. The semiconductor laser chip 60 is mounted on the main surface 21 via a submount 50. Here, the submount 50 can be mounted on the base 20 without forming a fixing hole or the like in the base 20, so the submount 50 can be mounted on the base 20 without degrading the heat dissipation characteristics of the base 20. Furthermore, the semiconductor laser chip 60 can be mounted on the base 20 only via the submount 50. In other words, the semiconductor laser chip 60 can be mounted in close proximity to the main surface 21 of the base 20. Therefore, by using a submount 50 with high thermal conductivity, the heat dissipation characteristics from the semiconductor laser chip 60 to the base 20 can be improved compared to when a CAN package or the like including the semiconductor laser chip 60 is mounted on the base 20. As described above, according to this embodiment, it is possible to realize a light emitting device 10 that can improve the heat dissipation characteristics of the plurality of semiconductor laser chips 60 .
[1-4.製造方法]
次に、本実施の形態に係る発光装置10の製造方法について説明する。
[1-4. Manufacturing method]
Next, a method for manufacturing the light emitting device 10 according to the present embodiment will be described.
まず、複数のサブマウント50の各々に、半導体レーザチップ60を実装する。具体的には、サブマウント50の取付面52に金属系接合材を用いて半導体レーザチップ60を接合する。なお、サブマウント50の取付面52に、半導体レーザチップ60に供給される電圧を一定に維持するためのツェナーダイオードも併せて接合されてもよい。金属系接合材として、例えば、AuSnやAuGeNiなどのはんだ材料や、Cu、Al、Au、Ag、及びそれらの合金などの微粒子を含む接合材を用いることができる。 First, a semiconductor laser chip 60 is mounted on each of the multiple submounts 50. Specifically, the semiconductor laser chip 60 is bonded to the mounting surface 52 of the submount 50 using a metallic bonding material. A Zener diode for maintaining a constant voltage supplied to the semiconductor laser chip 60 may also be bonded to the mounting surface 52 of the submount 50. Examples of metallic bonding materials that can be used include solder materials such as AuSn and AuGeNi, and bonding materials containing fine particles of Cu, Al, Au, Ag, and alloys thereof.
続いて、半導体レーザチップ60が実装されたサブマウント50を基台20の主面21に実装する。具体的には、基台20の主面21に金属系接合材を用いてサブマウント50を接合する。金属系接合材として、例えば、AuSnやAuGeNiなどのはんだ材料や、Cu、Al、Au、Ag、及びそれらの合金の微粒子などを含む接合材を用いることができる。サブマウント50を主面21に接合する際、基台20、サブマウント50、及び金属系接合材を、例えば、200℃で30分程度加熱する。その後、金属系接合材などを冷却することで、金属系接合材を硬化させる。これにより、サブマウント50を基台20に実装できる。なお、枠部材30は、基台20にあらかじめ実装されている。また、枠部材30は、基台20と一体的に形成されていてもよい。 Next, the submount 50 with the semiconductor laser chip 60 mounted thereon is mounted on the main surface 21 of the base 20. Specifically, the submount 50 is bonded to the main surface 21 of the base 20 using a metallic bonding material. Examples of metallic bonding materials that can be used include solder materials such as AuSn and AuGeNi, and bonding materials containing fine particles of Cu, Al, Au, Ag, and alloys thereof. When bonding the submount 50 to the main surface 21, the base 20, submount 50, and metallic bonding material are heated, for example, to 200°C for approximately 30 minutes. The metallic bonding material is then cooled to harden it. This allows the submount 50 to be mounted on the base 20. The frame member 30 is mounted on the base 20 in advance. Alternatively, the frame member 30 may be formed integrally with the base 20.
続いて、半導体レーザチップ60に電流を供給するためのワイヤを半導体レーザチップ60などに接続する。具体的には、例えば、枠部材30に設けられた端子と、半導体レーザチップ60とをワイヤによって接続し、かつ、隣り合う二つの半導体レーザチップ60同士をワイヤによって直列接続する。これにより、発光装置10の外部から電流を供給可能となる。ワイヤの材質は、導電性であれば特に限定されないが、例えば、Au、Ag、Cuなどである。 Next, wires for supplying current to the semiconductor laser chip 60 are connected to the semiconductor laser chip 60. Specifically, for example, a terminal provided on the frame member 30 is connected to the semiconductor laser chip 60 by a wire, and two adjacent semiconductor laser chips 60 are connected in series by a wire. This makes it possible to supply current from outside the light-emitting device 10. There are no particular restrictions on the material of the wire as long as it is conductive, but examples include Au, Ag, and Cu.
続いて、ミラー70を基台20の主面21に実装する。具体的には、基台20の主面21に金属系接合材を用いてミラー70を接合する。金属系接合材を硬化させる前に、ミラー70のアクティブアライメントを行う。つまり、半導体レーザチップ60に電流を供給し、出射光L1を出射させて、ミラー70の反射面71上における出射光L1の位置、及び、ミラー70からの反射光L2の位置を確認しながら、ミラー70の主面21上における位置を調整する。ミラー70のアライメントが終了した後に、サブマウント50を実装する場合と同様に金属系接合材を硬化させる。これにより、ミラー70を基台20に実装できる。 Next, the mirror 70 is mounted on the main surface 21 of the base 20. Specifically, the mirror 70 is bonded to the main surface 21 of the base 20 using a metallic bonding material. Before the metallic bonding material is cured, active alignment of the mirror 70 is performed. That is, a current is supplied to the semiconductor laser chip 60 to emit the emitted light L1, and the position of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 of the mirror 70 and the position of the reflected light L2 from the mirror 70 are checked while adjusting the position of the mirror 70 on the main surface 21. After alignment of the mirror 70 is complete, the metallic bonding material is cured in the same manner as when mounting the submount 50. This allows the mirror 70 to be mounted on the base 20.
続いて、基台20に光学部材40を実装する。本実施の形態では、枠部材30を介して、基台20に光学部材40を実装する。具体的には、光学部材40を枠部材30に接着材などを用いて接合する。接着剤として、例えばUV硬化型接着剤を用いることができる。まず、枠部材30及び光学部材40の少なくとも一方にUV硬化型接着剤を塗布し、光学部材40を仮固定する。続いて、光学部材40のX、Y、及びZ軸方向の位置のアクティブアライメントを行う。光学部材40のアライメントが終了した後に、UV硬化型接着剤にUV光を照射することで、UV硬化型接着剤を硬化させる。これにより、光学部材40を基台20に実装できる。 Next, the optical element 40 is mounted on the base 20. In this embodiment, the optical element 40 is mounted on the base 20 via the frame element 30. Specifically, the optical element 40 is bonded to the frame element 30 using an adhesive or the like. A UV-curable adhesive, for example, can be used as the adhesive. First, the UV-curable adhesive is applied to at least one of the frame element 30 and the optical element 40 to temporarily fix the optical element 40. Next, active alignment of the position of the optical element 40 in the X, Y, and Z axis directions is performed. After alignment of the optical element 40 is complete, the UV-curable adhesive is irradiated with UV light to cure the UV-curable adhesive. This allows the optical element 40 to be mounted on the base 20.
以上のように、本実施の形態に係る発光装置10を製造できる。なお、光学部材40と枠部材30との間に、カバーガラスなどの透光性部材が装着されてもよい。また、光学部材40の複数のレンズ部43は、光学部材40から分離可能に構成されていてもよい。この場合、複数のレンズ部43は、個別にアクティブアライメントされてもよい。 As described above, the light emitting device 10 according to this embodiment can be manufactured. Note that a light-transmitting member such as a cover glass may be attached between the optical member 40 and the frame member 30. Furthermore, the multiple lens portions 43 of the optical member 40 may be configured to be separable from the optical member 40. In this case, the multiple lens portions 43 may be individually active aligned.
(実施の形態2)
実施の形態2に係る発光装置について説明する。実施の形態1に係る発光装置10では、レンズ領域44の中心位置44Cからミラー70の反射面71の中心位置71Cまでの距離に応じて、レンズ部43に対するミラー70と半導体レーザチップ60との位置関係を保ったまま、その平面視での位置を変えた。本実施の形態に係る発光装置は、レンズ部43に対するミラー70と半導体レーザチップ60との位置は変えずに、出射光L1の光軸の基台20の主面21からの高さを変えている点において、実施の形態1に係る発光装置10と相違する。以下、本実施の形態に係る発光装置について、実施の形態1に係る発光装置10との相違点を中心に図7及び図8を用いて説明する。
(Embodiment 2)
A light emitting device according to embodiment 2 will be described. In the light emitting device 10 according to embodiment 1, the positions of the mirror 70 and the semiconductor laser chip 60 relative to the lens portion 43 are changed in plan view while maintaining their positional relationship relative to the lens portion 43, depending on the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 71C of the reflecting surface 71 of the mirror 70. The light emitting device according to this embodiment differs from the light emitting device 10 according to embodiment 1 in that the positions of the mirror 70 and the semiconductor laser chip 60 relative to the lens portion 43 are not changed, but the height of the optical axis of the emitted light L1 from the main surface 21 of the base 20 is changed. The light emitting device according to this embodiment will be described below with reference to FIGS. 7 and 8, focusing on the differences from the light emitting device 10 according to embodiment 1.
図7は、本実施の形態に係る発光装置110の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。図7には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図7には、複数のレンズ部43の輪郭が破線で併せて示されている。図8は、本実施の形態に係る発光装置110の断面図である。図8には、図7のX軸方向のVIII-VIII線における断面が示されている。なお、図8においては、光学部材40の断面も示されている。 Figure 7 is a plan view showing the light-emitting device 110 according to this embodiment with the optical member 40 removed. Figure 7 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20. Figure 7 also shows the outlines of multiple lens portions 43 with dashed lines. Figure 8 is a cross-sectional view of the light-emitting device 110 according to this embodiment. Figure 8 shows a cross-section taken along line VIII-VIII in the X-axis direction of Figure 7. Note that Figure 8 also shows a cross-section of the optical member 40.
本実施の形態に係る発光装置110は、基台20と、枠部材30と、光学部材40と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のサブマウント53a~53d、54a~54d、55a~55d、56a~56d、57a~57dと、複数のミラー70とを備える。 The light-emitting device 110 according to this embodiment includes a base 20, a frame member 30, an optical member 40, multiple semiconductor laser chips 60, multiple submounts 53a-53d, 54a-54d, 55a-55d, 56a-56d, and 57a-57d, and multiple mirrors 70.
本実施の形態においては、図7に示されるように、基台20の主面21の平面視で、複数のミラー70の各々と、複数のレンズ部43の各々との相対位置が、すべてのミラー70において同一である。本実施の形態に係る発光装置110の例では、主面21の平面視で、複数のレンズ部43の各々の中心位置43Cと、複数のレンズ部43の各々に対応する反射面71の中心位置71Cとは、一致する。また、半導体レーザチップ60の出射点E1から反射面71の中心位置71Cまでの距離はすべて同じである。言い換えると、半導体レーザチップ60とミラー70との位置関係は全て同じである。 In this embodiment, as shown in FIG. 7 , in a plan view of the main surface 21 of the base 20, the relative position between each of the multiple mirrors 70 and each of the multiple lens portions 43 is the same for all mirrors 70. In the example of the light-emitting device 110 according to this embodiment, in a plan view of the main surface 21, the center position 43C of each of the multiple lens portions 43 coincides with the center position 71C of the reflecting surface 71 corresponding to each of the multiple lens portions 43. Furthermore, the distance from the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the center position 71C of the reflecting surface 71 is the same for all. In other words, the positional relationship between the semiconductor laser chip 60 and the mirror 70 is the same for all.
複数のサブマウント53a~53d、54a~54d、55a~55d、56a~56d、57a~57dは、図8に示されるように、高さが異なる点において、実施の形態1に係るサブマウント50と異なる。反射光L2の光軸の方向は、反射面の主面に対する角度が45°であるので、主面21に垂直な方向と平行である。主面21からの複数の半導体レーザチップ60の各々の出射点E1までの高さと、主面21から複数の半導体レーザチップ60の各々の出射点E1までの高さの平均値との差の絶対値は、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち複数のサブマウントの各々に対応するレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。したがって、半導体レーザチップ60の光軸の主面21からの距離、つまり、出射光L1の反射面71におけるX軸方向の位置がサブマウントの高さに応じて異なる。 As shown in FIG. 8, the multiple submounts 53a-53d, 54a-54d, 55a-55d, 56a-56d, and 57a-57d differ from the submount 50 of embodiment 1 in that they have different heights. The direction of the optical axis of reflected light L2 is parallel to the direction perpendicular to the main surface 21, since the angle of the reflecting surface with respect to the main surface is 45°. The absolute value of the difference between the height from the main surface 21 to the emission point E1 of each of the multiple semiconductor laser chips 60 and the average height from the main surface 21 to the emission point E1 of each of the multiple semiconductor laser chips 60 increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 corresponding to each of the multiple submounts increases. Therefore, the distance from the main surface 21 of the optical axis of the semiconductor laser chip 60, i.e., the position of the emitted light L1 in the X-axis direction on the reflecting surface 71, varies depending on the height of the submount.
これにより、実施の形態1に係る発光装置10と同様に、本実施の形態に係る発光装置110においても、主面21の平面視で、反射面71における出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43CとのX軸方向の距離は、出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43が配置されているレンズ領域44の中心位置44CとのX軸方向の距離が大きくなるにしたがって大きくなる。したがって、本実施の形態に係る複数のレンズ部43の各々に入射される反射光L2の位置は、X軸方向においては実施の形態1と同様となり、出力光L3はX軸方向に関してレンズ領域44の中心方向に屈折する。一方、Y軸方向については屈折していない。ここで、図7に示されるように、それぞれの出力光L3の光軸の方向は、平面視では大体レンズ領域44のX軸方向の中央位置の方向を向いているが、必ずしも厳密に向いていなくてもよい。 As a result, similar to the light-emitting device 10 according to embodiment 1, in the light-emitting device 110 according to this embodiment, in a plan view of the main surface 21, the distance in the X-axis direction between the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 and the center position 43C of the lens portion 43 among the plurality of lens portions 43 that corresponds to the reflecting surface 71 increases as the distance in the X-axis direction between the center position C1 of the emitted light L1 and the center position 44C of the lens region 44 in which the plurality of lens portions 43 are arranged increases. Therefore, the position of the reflected light L2 incident on each of the plurality of lens portions 43 according to this embodiment in the X-axis direction is the same as in embodiment 1, and the output light L3 is refracted toward the center of the lens region 44 in the X-axis direction. On the other hand, it is not refracted in the Y-axis direction. Here, as shown in FIG. 7 , the optical axis of each output light L3 is generally oriented toward the center of the lens region 44 in the X-axis direction in a plan view, but this need not be strictly oriented.
よって、本実施の形態に係る発光装置110においても、集光レンズを配置することなく、レンズ領域44より面積が小さい所定面領域A1に複数の出力光L3を集光できる。 Therefore, even in the light-emitting device 110 according to this embodiment, multiple output light beams L3 can be focused onto a predetermined surface area A1 that is smaller in area than the lens area 44 without the need for a focusing lens.
ここで、この高さの平均値との差の絶対値がDeに比例することにより、すべての出力光L3の光軸をほぼ1か所に集めることができる。また、Y軸方向には、実施の形態1と同様に、反射面71における出射光L1の中心位置と、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43CとのY軸方向の距離を、出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43が配置されているレンズ領域44の中心位置44CとのY軸方向の距離が大きくなるにしたがって大きくすることにより(図示せず)、集光レンズを配置することなく、レンズ領域44より面積が小さい所定面領域A1に複数の出力光L3を集光できる。さらに、半導体レーザチップ60の出射点E1の平面視における位置から反射面71の中心位置71Cまでの距離がすべて同じである場合、出射光L1と平行な基台20の主面21と、反射面71とのなす角度が45°であることから、主面21から半導体レーザチップ60の出射点E1の位置までの高さが変わっても、半導体レーザチップ60の出射点E1から反射面71における出射光L1の中心位置までの距離と、反射面71における出射光L1の中心位置からレンズ部43までの距離の和が一定となり、主面21から半導体レーザチップ60の出射点E1の位置までの高さが出力光L3の集束状態に与える影響を極めて少なくすることができる。 Here, because the absolute value of the difference from the average height is proportional to De, the optical axes of all output light beams L3 can be converged to approximately one location. Furthermore, in the Y-axis direction, as in embodiment 1, the distance in the Y-axis direction between the center position of output light beam L1 on reflecting surface 71 and center position 43C of the lens portion 43 corresponding to reflecting surface 71 is increased as the distance in the Y-axis direction between center position C1 of output light beam L1 and center position 44C of lens region 44 in which the multiple lens portions 43 are arranged increases (not shown). This makes it possible to converge multiple output light beams L3 to a predetermined surface region A1 smaller in area than lens region 44 without using a converging lens. Furthermore, if the distance from the position of the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 in a plan view to the center position 71C of the reflecting surface 71 is the same for all positions, the angle between the main surface 21 of the base 20, which is parallel to the emitted light L1, and the reflecting surface 71 is 45°. Therefore, even if the height from the main surface 21 to the position of the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 changes, the sum of the distance from the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the center position of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 and the distance from the center position of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 to the lens portion 43 remains constant, and the effect of the height from the main surface 21 to the position of the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 on the focusing state of the output light L3 can be minimized.
また、本実施の形態に係る発光装置110や後述する他のすべての実施の形態の発光装置210~710においても、複数の半導体レーザチップ60の各々は、主面21に実装され、主面21に平行な光軸を有するため、実施の形態1に係る発光装置10と同様の放熱特性向上効果が奏される。 Furthermore, in the light-emitting device 110 according to this embodiment and in all of the other embodiments 210 to 710 described below, each of the multiple semiconductor laser chips 60 is mounted on the main surface 21 and has an optical axis parallel to the main surface 21, thereby achieving the same improved heat dissipation effect as the light-emitting device 10 according to embodiment 1.
(実施の形態3)
実施の形態3に係る発光装置について説明する。本実施の形態に係る発光装置は、出射光L1の光軸の主面21からの高さをすべての半導体レーザチップ60において同一とし、反射面71の主面21からの高さを変えている点及び、平面視で出射点E1と反射面71の中心位置71Cの間隔を変えている点において、実施の形態2に係る発光装置110と相違する。以下、本実施の形態に係る発光装置について、実施の形態2に係る発光装置110との相違点を中心に図9及び図10を用いて説明する。
(Embodiment 3)
A light emitting device according to embodiment 3 will be described. The light emitting device according to this embodiment differs from light emitting device 110 according to embodiment 2 in that the height of the optical axis of emitted light L1 from main surface 21 is the same for all semiconductor laser chips 60, but the height of reflecting surface 71 from main surface 21 is changed, and the distance between emission point E1 and center position 71C of reflecting surface 71 in plan view is changed. The light emitting device according to this embodiment will be described below with reference to FIGS. 9 and 10, focusing on the differences from light emitting device 110 according to embodiment 2.
図9は、本実施の形態に係る発光装置210の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。図9には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図9には、複数のレンズ部43の輪郭が破線で併せて示されている。図10は、本実施の形態に係る発光装置210の断面図である。図10には、図9のX-X線における断面が示されている。なお、図10においては、光学部材40の断面も示されている。 Figure 9 is a plan view showing the light-emitting device 210 according to this embodiment with the optical member 40 removed. Figure 9 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20. Figure 9 also shows the outlines of multiple lens portions 43 with dashed lines. Figure 10 is a cross-sectional view of the light-emitting device 210 according to this embodiment. Figure 10 shows a cross-section taken along line X-X in Figure 9. Note that Figure 10 also shows a cross-section of the optical member 40.
本実施の形態に係る発光装置210は、基台20と、枠部材30と、光学部材40と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のサブマウント50と、複数のミラー73a~73d、74a~74d、75a~75d、76a~76d、77a~77dとを備える。 The light-emitting device 210 according to this embodiment includes a base 20, a frame member 30, an optical member 40, multiple semiconductor laser chips 60, multiple submounts 50, and multiple mirrors 73a-73d, 74a-74d, 75a-75d, 76a-76d, and 77a-77d.
本実施の形態に係る複数のサブマウント50は、実施の形態1に係る複数のサブマウント50と同様の構成を有する。このため、複数のサブマウント50に実装される半導体レーザチップ60の光軸の主面21からの距離は、すべて同一である。 The multiple submounts 50 according to this embodiment have the same configuration as the multiple submounts 50 according to embodiment 1. Therefore, the distances from the main surface 21 to the optical axes of the semiconductor laser chips 60 mounted on the multiple submounts 50 are all the same.
複数のミラー73a~73d、74a~74d、75a~75d、76a~76d、77a~77dの各々は、実施の形態2に係るミラー70と同様に反射面71を有する。図9に示されるように、基台20の主面21の平面視で、複数のミラーの各々と、複数のレンズ部43の各々との相対位置が、すべてのミラーにおいて同一である。本実施の形態に係る発光装置210の例では、主面21の平面視で、複数のレンズ部43の各々の中心位置43Cと、複数のレンズ部43の各々に対応する反射面71の中心位置71Cとは、一致する。 Each of the multiple mirrors 73a-73d, 74a-74d, 75a-75d, 76a-76d, and 77a-77d has a reflective surface 71, similar to mirror 70 according to embodiment 2. As shown in FIG. 9, in a plan view of the main surface 21 of the base 20, the relative position between each of the multiple mirrors and each of the multiple lens portions 43 is the same for all mirrors. In the example of light-emitting device 210 according to this embodiment, in a plan view of the main surface 21, the center position 43C of each of the multiple lens portions 43 coincides with the center position 71C of the reflective surface 71 corresponding to each of the multiple lens portions 43.
図10に示されるように、本実施の形態に係る複数のミラーは、反射面71の中心位置71Cの主面21からの高さが同一でない点において、実施の形態1に係る複数のミラー70と異なる。反射光L2の光軸の方向は、反射面71の主面21に対する角度が45°であるので、主面21に垂直な方向と平行である。主面21からの反射面71の中心位置71Cまでの高さと、主面21から反射面71の中心位置71Cまでの高さの複数のミラーでの平均値との差の絶対値は、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち複数のミラーの各々に対応するレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。したがって、出射光L1の反射面71におけるX軸方向の位置が反射面71の中心位置71Cの主面21からの高さに応じて異なる。これにより、実施の形態1に係る発光装置10と同様に、本実施の形態に係る発光装置210においても、主面21の平面視で、反射面71における出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43Cとの距離は、出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43が配置されているレンズ領域44の中心位置44Cとの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。したがって、本実施の形態に係る複数のレンズ部43の各々に入射される反射光L2の位置は、X軸方向においては実施の形態1と同様となり、出力光L3はX軸方向に関してレンズ領域44の中心方向に屈折する。一方、Y軸方向については屈折していない。ここで、図9に示されるように、それぞれの出力光L3の光軸の方向は、平面視では大体レンズ領域44のX軸方向の中央位置の方向を向いているが、必ずしも厳密に向いていなくてもよい。よって、本実施の形態に係る発光装置210においても、集光レンズを配置することなく、レンズ領域44より面積が小さい所定面領域A1に複数の出力光L3を集光できる。 As shown in FIG. 10 , the multiple mirrors according to this embodiment differ from the multiple mirrors 70 according to embodiment 1 in that the heights of the center positions 71C of the reflecting surfaces 71 from the principal surface 21 are not the same. The direction of the optical axis of the reflected light L2 is parallel to the direction perpendicular to the principal surface 21, since the angle of the reflecting surface 71 with respect to the principal surface 21 is 45°. The absolute value of the difference between the height from the principal surface 21 to the center position 71C of the reflecting surface 71 and the average height from the principal surface 21 to the center position 71C of the reflecting surface 71 for the multiple mirrors increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 corresponding to each of the multiple mirrors increases. Therefore, the position of the emitted light L1 in the X-axis direction on the reflecting surface 71 varies depending on the height from the principal surface 21 of the center position 71C of the reflecting surface 71. As a result, similarly to the light-emitting device 10 according to the first embodiment, in the light-emitting device 210 according to the present embodiment, in a plan view of the main surface 21, the distance between the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 and the center position 43C of the lens portion 43 among the plurality of lens portions 43 corresponding to the reflecting surface 71 increases as the distance between the center position C1 of the emitted light L1 and the center position 44C of the lens region 44 in which the plurality of lens portions 43 are arranged increases. Therefore, the position of the reflected light L2 incident on each of the plurality of lens portions 43 according to the present embodiment is the same as in the first embodiment in the X-axis direction, and the output light L3 is refracted toward the center of the lens region 44 in the X-axis direction. On the other hand, it is not refracted in the Y-axis direction. Here, as shown in FIG. 9 , the optical axis direction of each output light L3 is generally oriented toward the center position of the lens region 44 in the X-axis direction in a plan view, but this does not necessarily have to be strictly oriented. Therefore, in the light-emitting device 210 according to this embodiment, multiple output light beams L3 can be focused onto a predetermined surface area A1 that is smaller in area than the lens area 44, without the need for a focusing lens.
なお、本実施の形態3では、この反射面71の中心位置71Cまでの高さの平均値との差の絶対値はDeに比例することにより、すべての出力光L3の光軸をほぼ1か所に集めることができる。また、出射光L1と反射面71とのなす角度が45°であることから、主面21から反射面71の中心位置71Cまでの高さの変化量と同じだけ、反射面71における出射光L1の中心位置からレンズ部43までの距離が短くなる。よって、図10に示すように半導体レーザチップ60の出射点E1から反射面71の中心位置71Cまでの距離を同じだけ長くすることにより、半導体レーザチップ60の出射点E1から反射面71の中心位置71Cまでの距離と、主面21から反射面71の中心位置71Cまで距離との和を一定にすることができる。このことにより、主面21から反射面71の中心位置71Cまでの高さの変化量が出力光L3の集束状態に与える影響を極めて少なくすることができる。また、Y軸方向には、実施の形態1と同様に、反射面71における出射光L1の中心位置と、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43CとのY軸方向の距離を、出射光L1の中心位置C1と、複数のレンズ部43が配置されているレンズ領域44の中心位置44CとのY軸方向の距離が大きくなるにしたがって大きくすることにより(図示せず)、集光レンズを配置することなく、レンズ領域44より面積が小さい所定面領域A1に複数の出力光L3を集光できる。 In this third embodiment, the absolute value of the difference between the average height of the center position 71C of the reflecting surface 71 and the center position 71C is proportional to De, allowing the optical axes of all output light L3 to be converged to approximately one location. Furthermore, because the angle between the output light L1 and the reflecting surface 71 is 45°, the distance from the center position of the output light L1 on the reflecting surface 71 to the lens portion 43 is shortened by the same amount as the change in height from the main surface 21 to the center position 71C of the reflecting surface 71. Therefore, as shown in FIG. 10, by increasing the distance from the output point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the center position 71C of the reflecting surface 71 by the same amount, the sum of the distance from the output point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the center position 71C of the reflecting surface 71 and the distance from the main surface 21 to the center position 71C of the reflecting surface 71 can be made constant. This minimizes the effect of the change in height from the main surface 21 to the center position 71C of the reflecting surface 71 on the convergence of the output light L3. Furthermore, in the Y-axis direction, as in the first embodiment, the distance in the Y-axis direction between the center position of the output light L1 on the reflecting surface 71 and the center position 43C of the lens portion 43 that corresponds to the reflecting surface 71 is increased as the distance in the Y-axis direction between the center position C1 of the output light L1 and the center position 44C of the lens region 44 in which the multiple lens portions 43 are arranged increases (not shown), making it possible to focus the multiple output light beams L3 on a predetermined surface region A1 that is smaller in area than the lens region 44 without placing a focusing lens.
(実施の形態4)
実施の形態4に係る発光装置について説明する。本実施の形態に係る発光装置は、主に、少なくとも一部の反射光L2の光軸の方向が、レンズ部43の光軸の方向と異なる点において、実施の形態1に係る発光装置10と相違する。以下、本実施の形態に係る発光装置について、実施の形態1に係る発光装置10との相違点を中心に図11及び図12を用いて説明する。
(Fourth embodiment)
A light emitting device according to embodiment 4 will be described. The light emitting device according to this embodiment differs from the light emitting device 10 according to embodiment 1 mainly in that the direction of the optical axis of at least a portion of the reflected light L2 differs from the direction of the optical axis of the lens portion 43. The light emitting device according to this embodiment will be described below with reference to FIGS. 11 and 12, focusing on the differences from the light emitting device 10 according to embodiment 1.
図11は、本実施の形態に係る発光装置310の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。図11には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図11には、複数のレンズ部43の輪郭が破線で併せて示されている。図12は、本実施の形態に係る発光装置310の断面図である。図12には、図11のXII-XII線における断面が示されている。なお、図12においては、光学部材40の断面も示されている。 Figure 11 is a plan view showing a light-emitting device 310 according to this embodiment with the optical member 40 removed. Figure 11 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20. Figure 11 also shows the outlines of multiple lens portions 43 with dashed lines. Figure 12 is a cross-sectional view of the light-emitting device 310 according to this embodiment. Figure 12 shows a cross-section taken along line XII-XII in Figure 11. Note that Figure 12 also shows a cross-section of the optical member 40.
本実施の形態に係る発光装置310は、基台20と、枠部材30と、光学部材40と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のサブマウント50と、複数のミラー373a~373d、374a~374d、375a~375d、376a~376d、377a~377dとを備える。図11に示されるように、主面21の平面視で、各ミラーの反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向(例えば、図11のミラー374bに示される破線矢印71Dの方向)が、反射面71の中心位置71Cと、レンズ領域44の中心位置44Cとを結ぶ線(例えば、図11に示されるレンズ領域44の中心位置44Cと、ミラー374bの反射面71の中心位置71Cとを結ぶ二点鎖線など)に平行な方向となるように、各ミラーが配置される。また、各半導体レーザチップ60からの出射光L1の光軸の方向は、出射光L1が入射する反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向と一致するように各半導体レーザチップ60及びサブマウント50が配置される。 The light-emitting device 310 according to this embodiment includes a base 20, a frame member 30, an optical member 40, a plurality of semiconductor laser chips 60, a plurality of submounts 50, and a plurality of mirrors 373a-373d, 374a-374d, 375a-375d, 376a-376d, and 377a-377d. As shown in FIG. 11, in a plan view of the main surface 21, each mirror is positioned so that the direction perpendicular to the reflective surface 71 of each mirror projected onto the main surface 21 (e.g., the direction of the dashed arrow 71D shown on mirror 374b in FIG. 11) is parallel to the line connecting the center position 71C of the reflective surface 71 and the center position 44C of the lens region 44 (e.g., the dashed-dotted line connecting the center position 44C of the lens region 44 and the center position 71C of the reflective surface 71 of mirror 374b in FIG. 11). Furthermore, each semiconductor laser chip 60 and submount 50 are positioned so that the direction of the optical axis of the emitted light L1 from each semiconductor laser chip 60 coincides with the direction perpendicular to the reflecting surface 71 on which the emitted light L1 is incident, projected onto the main surface 21.
本実施の形態に係る複数のミラーの各々は、実施の形態1に係るミラー70と同様に反射面71を有する。図12に示されるように、本実施の形態に係る複数のミラーは、反射光L2の光軸がレンズ部43の光学中心を通る点で実施の形態1と同じであるが、反射面71の傾きにおいて、実施の形態1に係るミラー70と異なる。本実施の形態では、主面21に垂直な方向Dmと反射面71に垂直な方向D71とのなす角(図12のミラー375aにおける角度θr参照)と、複数のミラーでの当該なす角の平均値との差の絶対値は、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって、大きくなる。これにより、反射光L2の光軸の方向と主面21に垂直な方向(あるいはレンズ部43の光軸の方向)とのなす角(図12の角度θ2参照)が、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち反射光L2を受けるレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。なお、本実施の形態では、図12に示されるように反射光L2の光軸がレンズ部43の中心位置(光学中心)を通るため、レンズ部43の光軸と反射光L2の光軸とがずれていても、反射光L2と出力光L3とは同一方向に伝搬する。 Each of the multiple mirrors according to this embodiment has a reflective surface 71, similar to the mirror 70 according to embodiment 1. As shown in FIG. 12, the multiple mirrors according to this embodiment are the same as those according to embodiment 1 in that the optical axis of reflected light L2 passes through the optical center of the lens portion 43, but differ from the mirror 70 according to embodiment 1 in the inclination of the reflective surface 71. In this embodiment, the absolute value of the difference between the angle Dm perpendicular to the main surface 21 and the direction D71 perpendicular to the reflective surface 71 (see angle θr for mirror 375a in FIG. 12) and the average value of this angle for the multiple mirrors increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 corresponding to the reflective surface 71 increases. As a result, the angle (see angle θ2 in FIG. 12 ) between the direction of the optical axis of reflected light L2 and the direction perpendicular to main surface 21 (or the direction of the optical axis of lens portion 43) increases as the distance from center position 44C of lens region 44 to center position 43C of the lens portion 43 that receives reflected light L2 increases. Note that in this embodiment, as shown in FIG. 12 , the optical axis of reflected light L2 passes through the center position (optical center) of lens portion 43, so even if the optical axis of lens portion 43 and the optical axis of reflected light L2 are misaligned, reflected light L2 and output light L3 propagate in the same direction.
したがって、反射光L2の光軸を、レンズ部43によって屈折させることなく、出力光L3の光軸をレンズ部43の光軸に対して傾斜させて、出力光L3を所定面領域A1に集光できる。このように、本実施の形態では、反射光L2の光軸を、レンズ部43によって屈折させる必要がないため、反射光L2をレンズ部43の光軸付近に入射することが可能となる。したがって、出力光L3のコマ収差を低減することができるため、所定面領域A1における出力光L3のプロファイルの歪みを抑制できる。つまり、出力光L3を所定面領域A1に確実に集光することができる。 Therefore, the optical axis of the reflected light L2 is not refracted by the lens unit 43, and the optical axis of the output light L3 can be tilted with respect to the optical axis of the lens unit 43, so that the output light L3 can be focused on the predetermined surface area A1. In this way, in this embodiment, since there is no need to refract the optical axis of the reflected light L2 by the lens unit 43, it is possible for the reflected light L2 to be incident near the optical axis of the lens unit 43. Therefore, the coma aberration of the output light L3 can be reduced, and distortion of the profile of the output light L3 in the predetermined surface area A1 can be suppressed. In other words, the output light L3 can be reliably focused on the predetermined surface area A1.
ここで、このなす角の平均値との差の絶対値は、レンズ領域44の中心位置44Cからレンズ部43の中心位置43Cまでの距離に比例することにより、すべての出力光L3の光軸をほぼ1か所に集めることができる。また、図11に示されるように、それぞれの反射光L2の光軸と出力光L3の光軸の方向とは、平面視では大体レンズ領域44の中心位置の方向を向いているが、必ずしも厳密に中心位置を向いていなくてもよい。 Here, the absolute value of the difference from the average value of this angle is proportional to the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens section 43, so that the optical axes of all output light L3 can be converged to approximately one location. Also, as shown in Figure 11, the optical axes of the reflected light L2 and the output light L3 are generally oriented toward the center position of the lens region 44 in a planar view, but they do not necessarily have to be oriented exactly toward the center position.
また、図11に示されるように、反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向と、反射面71への出射光L1の入射方向とのなす角は、すべての複数のミラーにおいて同一角度である。本実施の形態では、当該角は、0°である。角度を同一にすることにより、実装後の位置検査の基準を統一することができ、検査が簡便になる。 Also, as shown in Figure 11, the angle between the direction perpendicular to the reflecting surface 71 projected onto the main surface 21 and the direction of incidence of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 is the same for all mirrors. In this embodiment, this angle is 0°. Making the angle the same allows for a unified standard for position inspection after mounting, simplifying the inspection.
ここで、半導体レーザチップ60の出射点E1から反射面71における出射光L1の中心位置までの距離と、反射面71における出射光L1の中心位置からレンズ部43までの距離との和が一定になるように半導体レーザチップ60を配置することにより、反射面71の角度の変化がそれぞれの出力光L3の集束状態に与える影響を極めて少なくすることができる。 Here, by positioning the semiconductor laser chip 60 so that the sum of the distance from the emission point E1 of the semiconductor laser chip 60 to the center position of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 and the distance from the center position of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 to the lens section 43 is constant, the effect that changes in the angle of the reflecting surface 71 have on the focusing state of each output light L3 can be greatly reduced.
(実施の形態5)
実施の形態5に係る発光装置について説明する。本実施の形態に係る発光装置は、複数のミラーの構成において実施の形態4に係る発光装置310と相違する。以下、本実施の形態に係る発光装置について、実施の形態4に係る発光装置310との相違点を中心に図13及び図14を用いて説明する。
Fifth Embodiment
A light emitting device according to embodiment 5 will be described. The light emitting device according to this embodiment differs from light emitting device 310 according to embodiment 4 in the configuration of the multiple mirrors. The light emitting device according to this embodiment will be described below with reference to FIGS. 13 and 14, focusing on the differences from light emitting device 310 according to embodiment 4.
図13は、本実施の形態に係る発光装置410の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。図13には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図13には、複数のレンズ部43の輪郭が破線で併せて示されている。図14は、本実施の形態に係る発光装置410の断面図である。図14には、図13のXIV-XIV線における断面が示されている。なお、図14においては、光学部材40の断面も示されている。 Figure 13 is a plan view showing a light-emitting device 410 according to this embodiment with the optical member 40 removed. Figure 13 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20. Figure 13 also shows the outlines of multiple lens portions 43 with dashed lines. Figure 14 is a cross-sectional view of the light-emitting device 410 according to this embodiment. Figure 14 shows a cross-section taken along line XIV-XIV in Figure 13. Note that Figure 14 also shows a cross-section of the optical member 40.
本実施の形態に係る発光装置410は、基台20と、枠部材30と、光学部材40と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のサブマウント50と、複数のミラー470とを備える。本実施の形態では、発光装置410は、図13に示されるように、複数の支持部83a~83d、84a~84d、85a~85d、86a~86d、87a~87dをさらに備える。ここで、支持部は基台と一体形成されていてもよいし、別々の部材で構成されていてもよい。 The light-emitting device 410 according to this embodiment includes a base 20, a frame member 30, an optical member 40, a plurality of semiconductor laser chips 60, a plurality of submounts 50, and a plurality of mirrors 470. In this embodiment, the light-emitting device 410 further includes a plurality of support portions 83a-83d, 84a-84d, 85a-85d, 86a-86d, and 87a-87d, as shown in FIG. 13. Here, the support portions may be formed integrally with the base, or may be composed of separate members.
複数のミラー470の各々は、図14に示されるように、反射面71を有する板状の素子である。本実施の形態では、複数のミラー470の各々は、長方形状の反射面71を一つの主面とする板状の形状を有する。言い換えると、複数のミラー470の各々は、直方体状の形状を有する。複数のミラー470は、それぞれ、複数の支持部83a~83d、84a~84d、85a~85d、86a~86d、87a~87dに立て掛けられる。なお、複数のミラー470の各々は、基台20の主面21、及び、対応する支持部に接合材などによって接合されてもよい。 As shown in FIG. 14, each of the multiple mirrors 470 is a plate-shaped element having a reflective surface 71. In this embodiment, each of the multiple mirrors 470 has a plate-like shape with a rectangular reflective surface 71 as one of its main surfaces. In other words, each of the multiple mirrors 470 has a rectangular parallelepiped shape. The multiple mirrors 470 are respectively supported against multiple supports 83a-83d, 84a-84d, 85a-85d, 86a-86d, and 87a-87d. Note that each of the multiple mirrors 470 may be bonded to the main surface 21 of the base 20 and the corresponding support using a bonding material or the like.
図13に示される複数の支持部83a~83d、84a~84d、85a~85d、86a~86d、87a~87dの各々は、基台20の主面21に配置され、ミラー470を支持する。本実施の形態では、複数の支持部は、主面21との間に段差を形成する。また、複数の支持部は互いに寸法が異なる。具体的には、図14に示されるように、支持部の主面21からの高さ(図14に示される支持部85dの高さHs参照)と、当該高さの複数の支持部での平均値(図14に示される支持部の高さの平均値Hsm参照)との差の絶対値(|Hs-Hsm|)は、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち支持部が支持するミラー470の反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって、大きくなる。これにより、実施の形態4と同様に、主面21に垂直な方向と反射面71に垂直な方向とのなす角(θr)と、複数のミラーでの当該なす角の平均値との差の絶対値は、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって、大きくなる。したがって、本実施の形態に係る発光装置410においても、半導体レーザチップ60からの出射光L1と反射面71からの反射光L2とレンズ部43からの出力光L3との位置関係が実施の形態4と同様であるため、実施の形態4と同様の効果が奏される。ここで、このなす角の平均値との差の絶対値はレンズ領域44の中心位置44Cからレンズ部43の中心位置43Cまでの距離に比例することにより、すべての出力光L3の光軸をほぼ1か所に集めることができる。さらに、本実施の形態では、複数のミラー470の各々の基台20の主面21に対する傾斜角を調整することができるため、精細な光軸調整が可能となる。また、複数のミラー470の構造を共通化できるため、複数のミラー470の製造を容易化でき、かつ、複数のミラー470に要するコストを削減できる。 Each of the multiple support portions 83a-83d, 84a-84d, 85a-85d, 86a-86d, and 87a-87d shown in FIG. 13 is disposed on the main surface 21 of the base 20 and supports the mirror 470. In this embodiment, the multiple support portions form a step between themselves and the main surface 21. The multiple support portions also differ in size from one another. Specifically, as shown in FIG. 14, the absolute value of the difference (|Hs-Hsm|) between the height of the support portion from the main surface 21 (see the height Hs of support portion 85d shown in FIG. 14) and the average value of that height for the multiple support portions (see the average height Hsm of the support portions shown in FIG. 14) increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 that corresponds to the reflective surface 71 of the mirror 470 supported by the support portion increases. As a result, similar to the fourth embodiment, the absolute value of the difference between the angle (θr) between the direction perpendicular to the main surface 21 and the direction perpendicular to the reflecting surface 71 and the average value of the angle formed by the multiple mirrors increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 corresponding to the reflecting surface 71 increases. Therefore, in the light-emitting device 410 according to this embodiment, the positional relationship between the emitted light L1 from the semiconductor laser chip 60, the reflected light L2 from the reflecting surface 71, and the output light L3 from the lens portion 43 is the same as in the fourth embodiment, and therefore the same effect as in the fourth embodiment is achieved. Here, the absolute value of the difference from the average value of the angle formed is proportional to the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43, so that the optical axes of all the output light L3 can be converged to approximately one location. Furthermore, in this embodiment, the inclination angle of each of the multiple mirrors 470 relative to the main surface 21 of the base 20 can be adjusted, enabling fine optical axis adjustment. Furthermore, since the structure of multiple mirrors 470 can be made common, manufacturing of multiple mirrors 470 can be simplified and the cost required for multiple mirrors 470 can be reduced.
(実施の形態6)
実施の形態6に係る発光装置について説明する。本実施の形態に係る発光装置は、主に、複数の半導体レーザチップ60及び複数のミラー70の構成において、実施の形態4に係る発光装置310と相違する。以下、本実施の形態に係る発光装置について、実施の形態4に係る発光装置310との相違点を中心に図15を用いて説明する。
(Embodiment 6)
A light emitting device according to embodiment 6 will be described. The light emitting device according to this embodiment differs from light emitting device 310 according to embodiment 4 mainly in the configuration of the plurality of semiconductor laser chips 60 and the plurality of mirrors 70. The light emitting device according to this embodiment will be described below with reference to FIG. 15 , focusing on the differences from light emitting device 310 according to embodiment 4.
図15は、本実施の形態に係る発光装置510の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。図15には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図15には、複数のレンズ部43の輪郭が破線で併せて示されており、ミラー70からの反射光L2の光軸、及び出力光L3の光軸も併せて示されている。 Figure 15 is a plan view showing the light-emitting device 510 according to this embodiment with the optical member 40 removed. Figure 15 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20. Figure 15 also shows the outlines of the multiple lens portions 43 with dashed lines, as well as the optical axis of the reflected light L2 from the mirror 70 and the optical axis of the output light L3.
本実施の形態に係る発光装置510は、基台20と、枠部材30と、光学部材40と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のサブマウント50と、複数のミラー70とを備える。複数の半導体レーザチップ60、複数のサブマウント50、及び、複数のミラー70は、それぞれ、配置以外の構成においては、実施の形態1に係る複数の半導体レーザチップ60、複数のサブマウント50、及び、複数のミラー70と同様の構成を有する。 The light-emitting device 510 according to this embodiment comprises a base 20, a frame member 30, an optical member 40, a plurality of semiconductor laser chips 60, a plurality of submounts 50, and a plurality of mirrors 70. Except for their arrangement, the plurality of semiconductor laser chips 60, the plurality of submounts 50, and the plurality of mirrors 70 each have the same configuration as the plurality of semiconductor laser chips 60, the plurality of submounts 50, and the plurality of mirrors 70 according to embodiment 1.
本実施の形態の場合、ミラー70の反射面71の基台20の主面21に対する角度は45°である。反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向A(図15中の破線の方向すなわちX軸方向)と出射光L1の光軸とが一致する場合、反射光L2は基台20の主面21に対して垂直な方向B(Z軸方向)に進む。一致しない場合、出射光L1のベクトルを方向Aと主面21に平行な面内において方向Aと直交する方向C(Y方向)とに分解して考えると、反射光L2のベクトルは方向Bと方向Cとの成分を持つことになる。すなわち平面視では反射光L2は方向C(Y軸方向)を向くことになる。 In this embodiment, the angle between the reflecting surface 71 of the mirror 70 and the main surface 21 of the base 20 is 45°. When direction A (the direction of the dashed line in Figure 15, i.e., the X-axis direction) obtained by projecting a direction perpendicular to the reflecting surface 71 onto the main surface 21 coincides with the optical axis of the emitted light L1, the reflected light L2 travels in direction B (Z-axis direction) perpendicular to the main surface 21 of the base 20. When they do not coincide, if the vector of the emitted light L1 is decomposed into direction A and direction C (Y-direction) orthogonal to direction A in a plane parallel to the main surface 21, the vector of the reflected light L2 will have components in directions B and C. That is, in a planar view, the reflected light L2 will point in direction C (Y-axis direction).
本実施の形態では、基台20の主面21の平面視において、ミラー70の反射面71に垂直な方向を基台20の主面21に投射した方向と、半導体レーザチップ60からの出射光L1の光軸の方向とのなす角を調整することによって、反射光L2の方向を主面21に垂直な方向に対して傾斜させている。具体的には、反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向(図15に示される破線の方向)と、出射光L1の方向(図15に示される一点鎖線の方向)とのなす角は、レンズ領域44の中心位置44Cから複数のレンズ部43のうち反射面71に対応するレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。これにより、反射光L2の光軸の方向と主面21に垂直な方向とのなす角が、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち反射光L2を受けるレンズ部43の中心位置までの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。したがって、本実施の形態に係る発光装置510においても実施の形態4に係る発光装置310と同様に反射光L2の光軸の方向と主面21に垂直な方向とのなす角が、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち反射光L2を受けるレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなるので、同様の集光の効果が奏される。特に、実施の形態1に記載の様に、反射光L2の光軸がレンズ部の中心位置43Cからずれた箇所を通る場合には出力光L3はレンズ部の中心位置の方向に向きを変えて進むので、適切に配置することにより、出力光L3をレンズ領域44の中心位置44Cの方向に向けることができる(図15中の出力光L3を示す矢印参照)。言い換えれば、所定面領域A1に複数の出力光L3を集光できる。 In this embodiment, in a plan view of the main surface 21 of the base 20, the direction of the reflected light L2 is tilted with respect to the direction perpendicular to the main surface 21 by adjusting the angle between the direction perpendicular to the reflecting surface 71 of the mirror 70 projected onto the main surface 21 of the base 20 and the direction of the optical axis of the emitted light L1 from the semiconductor laser chip 60. Specifically, the angle between the direction perpendicular to the reflecting surface 71 projected onto the main surface 21 (the direction of the dashed line shown in FIG. 15) and the direction of the emitted light L1 (the direction of the dot-dash line shown in FIG. 15) increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 corresponding to the reflecting surface 71 increases. As a result, the angle between the direction of the optical axis of the reflected light L2 and the direction perpendicular to the main surface 21 increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 that receives the reflected light L2 increases. Therefore, in the light-emitting device 510 according to the present embodiment, as in the light-emitting device 310 according to the fourth embodiment, the angle between the direction of the optical axis of the reflected light L2 and the direction perpendicular to the main surface 21 increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens portion 43 that receives the reflected light L2 increases, thereby achieving a similar light-condensing effect. In particular, as described in the first embodiment, when the optical axis of the reflected light L2 passes through a location that is shifted from the center position 43C of the lens portion, the output light L3 changes direction and travels toward the center position 43C of the lens portion. Therefore, by appropriately positioning the light-emitting device 510 according to the first embodiment, the output light L3 can be directed toward the center position 44C of the lens region 44 (see the arrow indicating the output light L3 in FIG. 15 ). In other words, multiple output light beams L3 can be focused onto the specified surface area A1.
ここで、このなす角はレンズ領域44の中心位置44Cからレンズ部43の中心位置43Cまでの距離にほぼ比例することにより、すべての出力光L3の光軸をほぼ1か所に集めることができる。 Here, this angle is approximately proportional to the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 43C of the lens section 43, so that the optical axes of all output light L3 can be converged to approximately one point.
また、本実施の形態では、複数のミラー70としてすべて同一のミラーを用いることが可能となる。このため、発光装置510の構成を簡素化することができる。 Furthermore, in this embodiment, it is possible to use the same mirror for all of the multiple mirrors 70. This simplifies the configuration of the light-emitting device 510.
また、本実施の形態においてはミラー70の反射面71に垂直な方向を主面に投射した方向は、図15の各ミラー70に示される破線の方向であり、すべての複数のミラーにおいて同一方向(つまり、図15のX軸方向)である。このように、複数のミラー70の向きを統一できるため、複数のミラー70を整列させることができる。したがって、複数のミラー70の実装を容易化することができる。 Furthermore, in this embodiment, the direction perpendicular to the reflecting surface 71 of the mirror 70 projected onto the main surface is the direction of the dashed line shown on each mirror 70 in Figure 15, and is the same direction for all multiple mirrors (i.e., the X-axis direction in Figure 15). In this way, the orientation of multiple mirrors 70 can be unified, allowing the multiple mirrors 70 to be aligned. This makes it easier to implement multiple mirrors 70.
また、本実施の形態においては、反射面71に垂直な方向の主面21に対する角度は、すべての複数のミラー70において同一角度(45°)である。このように、複数のミラー70として、すべて同一のミラーを用いることができるため、発光装置510の構成を簡素化できる。また、一列に並ぶ複数ミラーの反射面71を同一平面に設定することが可能であるので、複数ミラーを列方向につなげた一つのミラーに置き換えることもでき、さらに構成を簡素化できる。 In addition, in this embodiment, the angle (45°) between the reflective surface 71 and the main surface 21 in the direction perpendicular to the reflective surface 71 is the same for all of the multiple mirrors 70. In this way, the same mirrors can be used for all of the multiple mirrors 70, simplifying the configuration of the light-emitting device 510. Furthermore, because the reflective surfaces 71 of multiple mirrors lined up in a row can be set to the same plane, multiple mirrors can be replaced with a single mirror connected in the row direction, further simplifying the configuration.
なお、図15に示されるY軸方向の位置が、レンズ領域44の中心位置44Cと等しい位置である4個の半導体レーザチップ60(図15の上から3行目に配置される4個の半導体レーザチップ60)においては、反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向と、出射光L1の方向とのなす角が全て0°であり、レンズ領域44の中心位置44Cからの距離が大きくなるにしたがって大きくならない。このような出射光L1とミラー70との組み合わせが発光装置510に含まれていてもよい。 Incidentally, for the four semiconductor laser chips 60 whose positions in the Y-axis direction shown in Figure 15 are the same as the center position 44C of the lens region 44 (the four semiconductor laser chips 60 arranged in the third row from the top in Figure 15), the angles between the direction perpendicular to the reflecting surface 71 projected onto the main surface 21 and the direction of the emitted light L1 are all 0°, and do not increase as the distance from the center position 44C of the lens region 44 increases. Such a combination of emitted light L1 and mirror 70 may be included in the light-emitting device 510.
(実施の形態7)
実施の形態7に係る発光装置について説明する。本実施の形態に係る発光装置は、主に、複数の半導体レーザチップ60及び複数のミラー70の構成において、実施の形態6に係る発光装置510と相違する。以下、本実施の形態に係る発光装置について、実施の形態6に係る発光装置510との相違点を中心に図16を用いて説明する。
Seventh Embodiment
A light emitting device according to embodiment 7 will be described. The light emitting device according to this embodiment differs from the light emitting device 510 according to embodiment 6 mainly in the configuration of the plurality of semiconductor laser chips 60 and the plurality of mirrors 70. The light emitting device according to this embodiment will be described below with reference to FIG. 16 , focusing on the differences from the light emitting device 510 according to embodiment 6.
図16は、本実施の形態に係る発光装置610の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。図16には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図16には、複数のレンズ部43の輪郭が破線で併せて示されており、ミラー70からの反射光L2の光軸と出力光L3の光軸も併せて示されている。 Figure 16 is a plan view showing a light-emitting device 610 according to this embodiment with the optical member 40 removed. Figure 16 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20. Figure 16 also shows the outlines of multiple lens portions 43 with dashed lines, as well as the optical axis of the reflected light L2 from the mirror 70 and the optical axis of the output light L3.
本実施の形態に係る発光装置610は、基台20と、枠部材30と、光学部材40と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のサブマウント50と、複数のミラー70とを備える。複数の半導体レーザチップ60、複数のサブマウント50、及び、複数のミラー70は、それぞれ、配置以外の構成においては、実施の形態1に係る複数の半導体レーザチップ60、複数のサブマウント50、及び、複数のミラー70と同様の構成を有する。 The light-emitting device 610 according to this embodiment comprises a base 20, a frame member 30, an optical member 40, a plurality of semiconductor laser chips 60, a plurality of submounts 50, and a plurality of mirrors 70. Except for their arrangement, the plurality of semiconductor laser chips 60, the plurality of submounts 50, and the plurality of mirrors 70 each have the same configuration as the plurality of semiconductor laser chips 60, the plurality of submounts 50, and the plurality of mirrors 70 according to embodiment 1.
本実施の形態においても実施の形態6と同様に、基台20の主面21の平面視において、ミラー70の反射面71に垂直な方向を基台20の主面21に投射した方向(図16に示される破線の方向)と、半導体レーザチップ60からの出射光L1の光軸の方向(図16に示される一点鎖線の方向)とのなす角を調整することによって、反射光L2の方向を主面21に垂直な方向に対して傾斜させている。本実施の形態では、複数のミラー70の反射面71に垂直な方向を、レンズ領域44の中心位置44Cからの距離に応じて変化させている。具体的には、主面21の平面視で、反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向と、反射面71の中心位置71Cとレンズ領域44の中心位置44Cとを結ぶ線とのなす角が、レンズ領域44の中心位置44Cから反射面71の中心位置71Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。 これにより、反射光L2の光軸の方向と主面21に垂直な方向とのなす角が、レンズ領域44の中心位置44Cから、複数のレンズ部43のうち反射光L2を受けるレンズ部43の中心位置43Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなる。したがって、本実施の形態に係る発光装置610においても実施の形態6に係る発光装置510と同様であるため、同様の効果が奏される。 In this embodiment, as in the sixth embodiment, the direction of the reflected light L2 is tilted relative to the direction perpendicular to the principal surface 21 by adjusting the angle between the direction perpendicular to the reflecting surface 71 of the mirror 70 projected onto the principal surface 21 of the base 20 (the direction of the dashed line shown in FIG. 16 ) in a plan view of the principal surface 21 of the base 20 and the direction of the optical axis of the emitted light L1 from the semiconductor laser chip 60 (the direction of the dot-dash line shown in FIG. 16 ). In this embodiment, the direction perpendicular to the reflecting surfaces 71 of the multiple mirrors 70 is changed depending on the distance from the center position 44C of the lens region 44. Specifically, in a plan view of the principal surface 21, the angle between the direction perpendicular to the reflecting surface 71 projected onto the principal surface 21 and the line connecting the center position 71C of the reflecting surface 71 and the center position 44C of the lens region 44 increases as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 71C of the reflecting surface 71 increases. As a result, the angle between the direction of the optical axis of reflected light L2 and the direction perpendicular to main surface 21 increases as the distance from center position 44C of lens region 44 to center position 43C of the lens portion 43 that receives reflected light L2 increases. Therefore, light-emitting device 610 according to this embodiment is similar to light-emitting device 510 according to embodiment 6, and therefore achieves the same effects.
ここで、このなす角はレンズ領域44の中心位置44Cから反射面71の中心位置71Cまでの距離にほぼ比例することにより、すべての出力光L3の光軸をほぼ1か所に集めることができる。さらに、主面21内において反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向と直交する方向は、レンズ領域44の中心位置44Cを向いており、かつ、実施の形態1と同様に反射面71における出射光L1の中心位置とレンズ領域44の中心位置44Cとを結ぶ線分上にレンズ部43の中心位置43Cがあってもよい。これによりすべての出力光L3を1点に集光することが可能となる。 Here, because this angle is approximately proportional to the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 71C of the reflecting surface 71, the optical axes of all output light L3 can be converged to approximately one point. Furthermore, within the main surface 21, the direction orthogonal to the direction perpendicular to the reflecting surface 71 projected onto the main surface 21 points toward the center position 44C of the lens region 44, and, as in embodiment 1, the center position 43C of the lens section 43 may be on the line segment connecting the center position of the output light L1 on the reflecting surface 71 and the center position 44C of the lens region 44. This makes it possible to converge all output light L3 to one point.
また、本実施の形態では、複数のミラー70としてすべて同一のミラーを用いることが可能となる。このため、発光装置610の構成を簡素化することができる。 Furthermore, in this embodiment, it is possible to use the same mirror for all of the multiple mirrors 70. This simplifies the configuration of the light-emitting device 610.
また、本実施の形態においては、出射光L1の方向は、すべての複数の半導体レーザチップ60において同一方向(つまり、図15のX軸方向に平行な方向)である。これにより、複数の半導体レーザチップ60の向きを統一できるため、複数の半導体レーザチップ60を整列させることができる。したがって、複数の半導体レーザチップ60の実装を容易化することができる。 Furthermore, in this embodiment, the direction of the emitted light L1 is the same for all of the multiple semiconductor laser chips 60 (i.e., a direction parallel to the X-axis direction in Figure 15). This allows the orientation of the multiple semiconductor laser chips 60 to be unified, making it possible to align the multiple semiconductor laser chips 60. This therefore makes it easier to mount the multiple semiconductor laser chips 60.
また、本実施の形態においては、反射面71に垂直な方向の主面21に対する角度は、すべての複数のミラー70において同一角度(45°)である。このように、複数のミラー70として、すべて同一のミラーを用いることができるため、発光装置610の構成を簡素化できる。 Furthermore, in this embodiment, the angle (45°) between the reflective surface 71 and the main surface 21 in the direction perpendicular to the reflective surface 71 is the same for all of the multiple mirrors 70. In this way, the same mirrors can be used for all of the multiple mirrors 70, simplifying the configuration of the light-emitting device 610.
なお、図16に示されるY軸方向の位置が、レンズ領域44の中心位置44Cと等しい位置である4個のミラー70(図16の上から3行目に配置される4個のミラー70)においては、反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向と、反射面71の中心位置71Cとレンズ領域44の中心位置44Cとを結ぶ線とのなす角が全て0°であり、レンズ領域44の中心位置44Cから反射面71の中心位置71Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくならない。このような出射光L1とミラー70との組み合わせが発光装置610に含まれていてもよい。 In addition, for the four mirrors 70 whose positions in the Y-axis direction shown in Figure 16 are the same as the center position 44C of the lens region 44 (the four mirrors 70 arranged in the third row from the top in Figure 16), the angles formed between the direction perpendicular to the reflective surface 71 projected onto the main surface 21 and the line connecting the center position 71C of the reflective surface 71 and the center position 44C of the lens region 44 are all 0°, and do not increase as the distance from the center position 44C of the lens region 44 to the center position 71C of the reflective surface 71 increases. Such a combination of emitted light L1 and mirrors 70 may be included in the light-emitting device 610.
(実施の形態8)
実施の形態8に係る発光装置について説明する。本実施の形態に係る発光装置は、主に、光学部材の構成と、複数の半導体レーザチップ60及び複数のミラー70の構成において、実施の形態6に係る発光装置510と相違する。以下、本実施の形態に係る発光装置について、実施の形態6に係る発光装置510との相違点を中心に図17及び図18を用いて説明する。
Eighth Embodiment
A light emitting device according to embodiment 8 will be described. The light emitting device according to this embodiment differs from the light emitting device 510 according to embodiment 6 mainly in the configuration of the optical members and the configurations of the plurality of semiconductor laser chips 60 and the plurality of mirrors 70. The light emitting device according to this embodiment will be described below with reference to FIGS. 17 and 18, focusing on the differences from the light emitting device 510 according to embodiment 6.
図17は、本実施の形態に係る発光装置710の光学部材40を取り外した状態を示す平面図である。図17には、基台20の主面21の平面視における平面図が示されている。図17には、複数のレンズ部743の輪郭が破線で併せて示されており、ミラーからの反射光L2の光軸、及び出力光L3の光軸も併せて示されている。図18は、本実施の形態に係る発光装置710の模式的な断面図である。図18には、図17のXVIII-XVIII線における断面が示されている。なお、図18においては、光学部材740の断面も示されている。また、図18には、断面には存在しない半導体レーザチップ60なども併せて模式的に示されている。 Figure 17 is a plan view showing a light-emitting device 710 according to this embodiment with the optical member 40 removed. Figure 17 shows a plan view of the main surface 21 of the base 20. Figure 17 also shows the outlines of multiple lens portions 743 with dashed lines, as well as the optical axis of reflected light L2 from the mirror and the optical axis of output light L3. Figure 18 is a schematic cross-sectional view of the light-emitting device 710 according to this embodiment. Figure 18 shows a cross-section taken along line XVIII-XVIII in Figure 17. Note that Figure 18 also shows a cross-section of the optical member 740. Figure 18 also schematically shows the semiconductor laser chip 60, which is not present in the cross-section.
本実施の形態に係る発光装置710は、基台20と、枠部材30と、光学部材740と、複数の半導体レーザチップ60と、複数のサブマウント50と、複数のミラー70とを備える。複数の半導体レーザチップ60、複数のサブマウント50、及び、複数のミラー70は、それぞれ、配置以外の構成においては、実施の形態1に係る複数の半導体レーザチップ60、複数のサブマウント50、及び、複数のミラー70と同様の構成を有する。 The light-emitting device 710 according to this embodiment includes a base 20, a frame member 30, an optical member 740, a plurality of semiconductor laser chips 60, a plurality of submounts 50, and a plurality of mirrors 70. Except for their arrangement, the plurality of semiconductor laser chips 60, the plurality of submounts 50, and the plurality of mirrors 70 each have the same configuration as the plurality of semiconductor laser chips 60, the plurality of submounts 50, and the plurality of mirrors 70 according to embodiment 1.
光学部材740は、複数のレンズ部743を有する。光学部材740は、図17に示されるように、複数のレンズ部743が配置されているレンズ領域744を有する。レンズ領域744は、例えば、複数のレンズ部743の包絡線744Eで囲まれる領域である。レンズ領域744の中心位置744Cは、レンズ領域744の重心である。 The optical element 740 has a plurality of lens portions 743. As shown in FIG. 17 , the optical element 740 has a lens region 744 in which the plurality of lens portions 743 are arranged. The lens region 744 is, for example, the region surrounded by an envelope 744E of the plurality of lens portions 743. The center position 744C of the lens region 744 is the center of gravity of the lens region 744.
レンズ部743は、例えばパラボラレンズの様な非球面レンズである。本実施の形態では、図18に一点鎖線で示されるように、レンズ部743の光軸は、主面21に垂直な方向に対して傾斜している。この傾斜角度の大きさは、レンズ領域744の中心位置744Cからレンズ部743までの距離が大きくなるにしたがって大きくなっている。つまり、複数のレンズ部743の各々の光軸の方向と、主面21に垂直な方向とのなす角は、レンズ領域744の中心位置744Cから複数のレンズ部743の各々の中心位置743Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなっている。これにより、レンズ部743に入射する反射光L2の光軸の方向及び位置を、それぞれ、レンズ部743の光軸の方向及び位置とほぼ一致させることで、出力光L3を所定面領域A1に集光することができる。また、反射光L2の光軸の位置を、レンズ部743の光軸の位置に近づけることで、レンズ部743におけるコマ収差を低減できるため、所定面領域A1における出力光L3のプロファイルの歪みを抑制できる。つまり、出力光L3を所定面領域A1に確実に集光することができる。 The lens portion 743 is an aspherical lens, such as a parabolic lens. In this embodiment, as shown by the dashed-dotted line in FIG. 18 , the optical axis of the lens portion 743 is inclined with respect to the direction perpendicular to the principal surface 21. The magnitude of this inclination angle increases as the distance from the center position 744C of the lens region 744 to the lens portion 743 increases. In other words, the angle between the direction of the optical axis of each of the multiple lens portions 743 and the direction perpendicular to the principal surface 21 increases as the distance from the center position 744C of the lens region 744 to the center position 743C of each of the multiple lens portions 743 increases. This allows the direction and position of the optical axis of the reflected light L2 incident on the lens portion 743 to approximately coincide with the direction and position of the optical axis of the lens portion 743, respectively, thereby focusing the output light L3 on the predetermined surface area A1. Furthermore, by bringing the position of the optical axis of the reflected light L2 closer to the position of the optical axis of the lens portion 743, coma aberration in the lens portion 743 can be reduced, thereby suppressing distortion of the profile of the output light L3 in the specified surface area A1. In other words, the output light L3 can be reliably focused on the specified surface area A1.
また、複数のレンズ部743の各々の光軸は、所定面領域A1と交わってもよい。これにより、レンズ部743に入射する反射光L2の光軸の方向及び位置を、それぞれ、レンズ部743の光軸の方向及び位置とほぼ一致させることで、出力光L3を所定面領域A1に集光することができる。 Furthermore, the optical axis of each of the multiple lens units 743 may intersect with the predetermined surface area A1. This allows the direction and position of the optical axis of the reflected light L2 incident on the lens unit 743 to approximately coincide with the direction and position of the optical axis of the lens unit 743, respectively, thereby allowing the output light L3 to be focused on the predetermined surface area A1.
また、図17に示されるように、主面21の平面視で、レンズ領域744の中心位置744Cと複数のレンズ部743の各々と対応する反射面71上での出射光L1の中心位置C1とを結ぶ線分上に、複数のレンズ部743の各々の表面において複数のレンズ部743の各々の光軸が通る点743Aの位置があってもよい。これにより、反射面71からの反射光L2をレンズ部743の光軸と一致させることが可能となるため、レンズ部743の光軸から外れて失われる反射光L2の成分を低減することが可能となる。 Furthermore, as shown in FIG. 17 , in a plan view of the main surface 21, a point 743A, through which the optical axis of each of the plurality of lens portions 743 passes, may be located on the surface of each of the plurality of lens portions 743, on a line segment connecting the center position 744C of the lens region 744 and the center position C1 of the emitted light L1 on the reflecting surface 71 corresponding to each of the plurality of lens portions 743. This makes it possible to align the reflected light L2 from the reflecting surface 71 with the optical axis of the lens portion 743, thereby reducing the component of the reflected light L2 that deviates from the optical axis of the lens portion 743 and is lost.
また、複数のレンズ部743の各々の光軸の方向と、複数のレンズ部743の各々に入射する反射光L2の光軸の方向とのなす角(図18に示される角度θe)は、レンズ領域744の中心位置744Cから、複数のレンズ部743の各々の中心位置743Cまでの距離が大きくなるにしたがって大きくなってもよい。この構成は、実施の形態4の反射光L2とレンズ部43と同様の位置関係にあるため、同様の集光の効果を有する。なお、本実施の形態では、図18に示されるように反射光L2と出力光L3とは同一方向に伝搬する。 Furthermore, the angle (angle θe shown in FIG. 18) between the direction of the optical axis of each of the multiple lens portions 743 and the direction of the optical axis of the reflected light L2 incident on each of the multiple lens portions 743 may increase as the distance from the center position 744C of the lens region 744 to the center position 743C of each of the multiple lens portions 743 increases. This configuration has the same positional relationship as the reflected light L2 and lens portions 43 in embodiment 4, and therefore has the same focusing effect. Note that in this embodiment, the reflected light L2 and output light L3 propagate in the same direction, as shown in FIG. 18.
本実施の形態4、5、6、8に係る発光装置710の所定面領域A1における出力光L3のプロファイルについて、図19を用いて説明する。図19は、本実施の形態に係る発光装置710の所定面領域A1におけるすべての出力光L3のプロファイルを重ね合わせた遠視野像を示す図である。図19において、各出力光L3のプロファイルが破線で示されている。 The profile of output light L3 in a predetermined surface area A1 of light-emitting device 710 according to embodiments 4, 5, 6, and 8 will be described using Figure 19. Figure 19 is a diagram showing a far-field pattern obtained by superimposing the profiles of all output light L3 in a predetermined surface area A1 of light-emitting device 710 according to the present embodiment. In Figure 19, the profile of each output light L3 is indicated by a dashed line.
図19に示されるように、本実施の形態に係る発光装置710の所定面領域A1におけるすべての出力光L3のプロファイルを重ね合わせた遠視野像は、円形である。なお、ここで、円形とは、完全な円に限定されず、実質的に円形であるものも含む。例えば、遠視野像の輪郭の円からのずれが10%以下であるような場合にも、当該遠視野像の形状も円形に含まれる。 As shown in Figure 19, the far-field pattern obtained by superimposing the profiles of all output light L3 in a predetermined surface area A1 of the light-emitting device 710 according to this embodiment is circular. Note that the term "circular" here does not necessarily mean a perfect circle, but also includes something that is substantially circular. For example, even if the deviation of the outline of the far-field pattern from a circle is 10% or less, the shape of the far-field pattern is also considered circular.
また、図19に示されるように、出力光L3の断面形状は、所定面領域A1において長軸方向を有する。図19において、長軸方向の一部が太い実線で示されている。当該長軸方向は、すべての出力光L3において均等に分散している。つまり、すべての出力光L3において長軸方向が特定の方向に偏っていない。これにより、所定面領域A1における光の強度分布を均一化しやすくなる。したがって、強度分布のムラの少ない照射光を生成することができる。 Furthermore, as shown in Figure 19, the cross-sectional shape of the output light L3 has a major axis direction in the specified surface area A1. In Figure 19, part of the major axis direction is indicated by a thick solid line. The major axis direction is evenly distributed in all of the output light L3. In other words, the major axis direction is not biased in a particular direction in all of the output light L3. This makes it easier to homogenize the light intensity distribution in the specified surface area A1. Therefore, it is possible to generate irradiation light with little unevenness in the intensity distribution.
(変形例など)
以上、本開示に係る発光装置について、各実施の形態に基づいて説明したが、本開示は、上記各実施の形態に限定されるものではない。
(Variations, etc.)
Although the light emitting device according to the present disclosure has been described above based on the embodiments, the present disclosure is not limited to the above-described embodiments.
例えば、上記各実施の形態では、各発光装置は、枠部材30を備えるが、枠部材30は、各発光素子の必須の構成要素ではない。例えば、各発光装置の各光学部材が、枠部材に相当する部分を有してもよい。また、各光学部材は、枠部材30以外の部材によって基台20に支持されてもよい。 For example, in each of the above embodiments, each light-emitting device includes a frame member 30, but the frame member 30 is not an essential component of each light-emitting element. For example, each optical member of each light-emitting device may have a portion equivalent to a frame member. Furthermore, each optical member may be supported on the base 20 by a member other than the frame member 30.
また、実施の形態2以外の各発光装置のサブマウント50は、必須の構成要素ではない。半導体レーザチップ60は、基台20に直接実装されてもよい。このように半導体レーザチップ60は、基台20の主面21に直接、又は、サブマウント50を介して実装されてもよい。 Furthermore, the submount 50 of each light-emitting device other than that of embodiment 2 is not an essential component. The semiconductor laser chip 60 may be mounted directly on the base 20. In this way, the semiconductor laser chip 60 may be mounted directly on the main surface 21 of the base 20 or via the submount 50.
また、上記各実施の形態では、複数の半導体レーザチップ60は、すべて同一の構成を有したが、互いに異なる構成を有していてもよい。 Furthermore, in each of the above embodiments, the multiple semiconductor laser chips 60 all have the same configuration, but they may also have different configurations.
また、実施の形態4に係る発光装置310においては、反射面71に垂直な方向を主面21に投射した方向が、すべての複数のミラーで同一方向ではなかったが、同一方向としてもよい。この場合、実施の形態6に係る発光装置510と同様に、出射光L1の方向を各半導体レーザチップ60において異ならせることで、反射光L2の光軸の方向が実施の形態4に係る反射光L2の光軸と同様の方向になるように調整することができる。また、この場合、複数のミラーの反射面71に垂直な方向も適宜調整してもよい。 In addition, in the light-emitting device 310 according to embodiment 4, the direction perpendicular to the reflecting surface 71 projected onto the main surface 21 was not the same for all of the multiple mirrors, but it may be the same. In this case, as with the light-emitting device 510 according to embodiment 6, by varying the direction of the emitted light L1 for each semiconductor laser chip 60, it is possible to adjust the direction of the optical axis of the reflected light L2 to be the same as the optical axis of the reflected light L2 according to embodiment 4. In this case, the direction perpendicular to the reflecting surface 71 of the multiple mirrors may also be adjusted as appropriate.
また、実施の形態1、2、3、7の各発光装置においても、シリンドリカルレンズを用いるなどして各出力光の長軸方向を均等に縮小することで、実施の形態8に係る発光装置710と同様に、円形の遠視野像を得ることができる。 Furthermore, in each of the light-emitting devices according to embodiments 1, 2, 3, and 7, by uniformly reducing the major axis direction of each output light by using a cylindrical lens or the like, it is possible to obtain a circular far-field pattern, similar to the light-emitting device 710 according to embodiment 8.
また、上記各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で上記各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。 This disclosure also includes forms obtained by applying various modifications to the above embodiments that would occur to those skilled in the art, as well as forms realized by arbitrarily combining the components and functions of the above embodiments within the scope of the spirit of this disclosure.
本開示の発光装置は、例えば、高出力かつ高光密度の光源としてプロジェクタ用の光源などに適用できる。 The light-emitting device disclosed herein can be used, for example, as a high-output, high-light-density light source for projectors.
10、110、210、310、410、510、610、710 発光装置
20 基台
21 主面
30 枠部材
40、740 光学部材
43、743 レンズ部
43C、44C、71C、743C、744C、C1 中心位置
44、744 レンズ領域
44E、744E 包絡線
50、53a、53b、53c、53d、54a、54b、54c、54d、55a、55b、55c、55d、56a、56b、56c、56d、57a、57b、57c、57d サブマウント
51 実装面
52 取付面
60 半導体レーザチップ
70、73a、73b、73c、73d、74a、74b、74c、74d、75a、75b、75c、75d、76a、76b、76c、76d、77a、77b、77c、77d、373a、373b、373c、373d、374a、374b、374c、374d、375a、375b、375c、375d、376a、376b、376c、376d、377a、377b、377c、377d、470 ミラー
71 反射面
83a、83b、83c、83d、84a、84b、84c、84d、85a、85b、85c、85d、86a、86b、86c、86d、87a、87b、87c、87d 支持部
A1 所定面領域
E1 出射点
L1 出射光
L2 反射光
L3 出力光
10, 110, 210, 310, 410, 510, 610, 710 Light emitting device 20 Base 21 Main surface 30 Frame member 40, 740 Optical member 43, 743 Lens portion 43C, 44C, 71C, 743C, 744C, C1 Center position 44, 744 Lens area 44E, 744E Envelope 50, 53a, 53b, 53c, 53d, 54a, 54b, 54c, 54d, 55a, 55b, 55c, 55d, 56a, 56b, 56c, 56d, 57a, 57b, 57c, 57d Submount 51 Mounting surface 52 Mounting surface 60 Semiconductor laser chip 70, 73a, 73b, 73c, 73d, 74a, 74b, 74c, 74d, 75a, 75b, 75c, 75d, 76a, 76b, 76c, 76d, 77a, 77b, 77c, 77d, 373a, 373b, 373c, 373d, 374a, 374b, 374c, 374d, 375a, 375b, 375c, 375d, 376a, 376b, 376c, 376d, 377a, 377b, 377c, 377d, 470 mirror 71 reflective surface 83a, 83b, 83c, 83d, 84a, 84b, 84c, 84d, 85a, 85b, 85c, 85d, 86a, 86b, 86c, 86d, 87a, 87b, 87c, 87d Support part A1 Predetermined surface area E1 Emission point L1 Output light L2 Reflected light L3 Output light
Claims (28)
前記主面に実装され、前記主面に平行な光軸を有する複数の半導体レーザチップと、
各々が、前記複数の半導体レーザチップの各々の出射点からの出射光を反射する反射面を有する複数のミラーと、
各々が、前記複数のミラーの各々の反射面からの反射光を受ける複数のレンズ部を有する光学部材とを備え、
前記主面の平面視で、前記反射面における前記出射光の中心位置から、前記複数のレンズ部のうち前記反射面に対応するレンズ部の中心位置までの距離を第1の距離としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記複数のレンズ部が配置されているレンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対する前記第1の距離よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第1の距離の方が大きく、
前記複数のレンズ部の各々からの出力光は、前記レンズ領域より面積が小さい所定面領域の内部に照射され、
前記反射光の光軸の方向と前記主面に垂直な方向とのなす角を第1の角としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対応する前記反射光に対する前記第1の角よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対応する前記反射光に対する前記第1の角の方が大きい
発光装置。 a base having a main surface;
a plurality of semiconductor laser chips mounted on the main surface and having optical axes parallel to the main surface;
a plurality of mirrors, each having a reflecting surface that reflects light emitted from each of the emission points of the plurality of semiconductor laser chips;
an optical member having a plurality of lens portions each receiving reflected light from the reflective surfaces of the plurality of mirrors;
When a distance from a center position of the emitted light on the reflecting surface to a center position of a lens portion of the plurality of lens portions corresponding to the reflecting surface is defined as a first distance in a plan view of the main surface,
the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged is greater than the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged;
The output light from each of the plurality of lens portions is irradiated onto the inside of a predetermined surface area having an area smaller than that of the lens area,
When an angle formed between the direction of the optical axis of the reflected light and a direction perpendicular to the main surface is defined as a first angle,
The first angle with respect to the reflected light corresponding to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region is larger than the first angle with respect to the reflected light corresponding to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region.
Light-emitting device.
請求項1に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 1 , wherein the first angle increases as the distance from the center of the lens region to the center of one of the plurality of lens portions that receives the reflected light increases.
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対応する前記反射面に対する前記第3の差よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対応する前記反射面に対する前記第3の差の方が大きい
請求項1又は2に記載の発光装置。 When the absolute value of the difference between the angle formed by the direction perpendicular to the main surface and the direction perpendicular to the reflecting surface and the average value of the formed angle for the plurality of mirrors is defined as a third difference,
The third difference with respect to the reflecting surface corresponding to the lens portion of the plurality of lens portions that is closest to the center position of the lens region is greater than the third difference with respect to the reflecting surface corresponding to the lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region.
The light-emitting device according to claim 1 or 2 .
請求項3に記載の発光装置。The light emitting device according to claim 3 .
請求項3又は4に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 3 , wherein a direction perpendicular to the reflecting surface projected onto the main surface is the same for all of the plurality of mirrors.
請求項3又は4に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 3 , wherein an angle formed between a direction perpendicular to the reflecting surface projected onto the main surface and an incident direction of the emitted light onto the reflecting surface is the same for all of the plurality of mirrors.
前記複数のミラーは、それぞれ複数の支持部に立て掛けられる
請求項3又は4に記載の発光装置。 further comprising a plurality of support portions disposed on the main surface;
The light emitting device according to claim 3 , wherein the plurality of mirrors are respectively supported on a plurality of supports.
前記主面に実装され、前記主面に平行な光軸を有する複数の半導体レーザチップと、
各々が、前記複数の半導体レーザチップの各々の出射点からの出射光を反射する反射面を有する複数のミラーと、
各々が、前記複数のミラーの各々の反射面からの反射光を受ける複数のレンズ部を有する光学部材とを備え、
前記主面の平面視で、前記反射面における前記出射光の中心位置から、前記複数のレンズ部のうち前記反射面に対応するレンズ部の中心位置までの距離を第1の距離としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記複数のレンズ部が配置されているレンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対する前記第1の距離よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第1の距離の方が大きく、
前記複数のレンズ部の各々からの出力光は、前記レンズ領域より面積が小さい所定面領域の内部に照射され、
前記反射面に垂直な方向を前記主面に投射した方向と、前記出射光の方向とのなす角を第2の角としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対応する前記反射面に対する前記第2の角よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対応する前記反射面に対する前記第2の角の方が大きい
発光装置。 a base having a main surface;
a plurality of semiconductor laser chips mounted on the main surface and having optical axes parallel to the main surface;
a plurality of mirrors, each having a reflecting surface that reflects light emitted from each of the emission points of the plurality of semiconductor laser chips;
an optical member having a plurality of lens portions each receiving reflected light from the reflective surfaces of the plurality of mirrors;
When a distance from a center position of the emitted light on the reflecting surface to a center position of a lens portion of the plurality of lens portions corresponding to the reflecting surface is defined as a first distance in a plan view of the main surface,
the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged is greater than the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged;
The output light from each of the plurality of lens portions is irradiated onto the inside of a predetermined surface area having an area smaller than that of the lens area,
When the angle between the direction perpendicular to the reflecting surface and the direction of the emitted light projected onto the main surface is defined as a second angle,
The second angle with respect to the reflecting surface corresponding to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region is larger than the second angle with respect to the reflecting surface corresponding to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region.
Light-emitting device.
請求項8に記載の発光装置。The light emitting device according to claim 8 .
請求項8又は9に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 8 , wherein a direction perpendicular to the reflecting surface projected onto the main surface is the same for all of the plurality of mirrors.
請求項8又は9に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 8 , wherein the angle of the direction perpendicular to the reflecting surface with respect to the main surface is the same for all of the plurality of mirrors.
前記主面に実装され、前記主面に平行な光軸を有する複数の半導体レーザチップと、
各々が、前記複数の半導体レーザチップの各々の出射点からの出射光を反射する反射面を有する複数のミラーと、
各々が、前記複数のミラーの各々の反射面からの反射光を受ける複数のレンズ部を有する光学部材とを備え、
前記主面の平面視で、前記反射面における前記出射光の中心位置から、前記複数のレンズ部のうち前記反射面に対応するレンズ部の中心位置までの距離を第1の距離としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記複数のレンズ部が配置されているレンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対する前記第1の距離よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第1の距離の方が大きく、
前記複数のレンズ部の各々からの出力光は、前記レンズ領域より面積が小さい所定面領域の内部に照射され、
前記複数のレンズ部の各々の光軸の方向と、前記主面に垂直な方向とのなす角を第3の角としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置から最も近いレンズ部に対する前記第3の角よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第3の角の方が大きい
発光装置。 a base having a main surface;
a plurality of semiconductor laser chips mounted on the main surface and having optical axes parallel to the main surface;
a plurality of mirrors, each having a reflecting surface that reflects light emitted from each of the emission points of the plurality of semiconductor laser chips;
an optical member having a plurality of lens portions each receiving reflected light from the reflective surfaces of the plurality of mirrors;
When a distance from a center position of the emitted light on the reflecting surface to a center position of a lens portion of the plurality of lens portions corresponding to the reflecting surface is defined as a first distance in a plan view of the main surface,
the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged is greater than the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged;
The output light from each of the plurality of lens portions is irradiated onto the inside of a predetermined surface area having an area smaller than that of the lens area,
When the angle formed between the direction of the optical axis of each of the plurality of lens portions and the direction perpendicular to the main surface is defined as a third angle,
The third angle of the lens portion located at the outermost position of the lens region among the plurality of lens portions is larger than the third angle of the lens portion located closest to the center position of the lens region among the plurality of lens portions.
Light-emitting device.
請求項12に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 12 , wherein the third angle increases as the distance from the center of the lens region to the center of each of the plurality of lens portions increases.
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対する前記第4の角よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第4の角の方が大きい
請求項12又は13に記載の発光装置。 When an angle formed between the direction of the optical axis of each of the plurality of lens portions and the direction of the optical axis of the reflected light incident on each of the plurality of lens portions is defined as a fourth angle,
The fourth angle of the lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region is larger than the fourth angle of the lens portion of the plurality of lens portions that is closest to the center position of the lens region.
14. The light emitting device according to claim 12 or 13.
請求項14に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 14 , wherein the fourth angle increases as the distance from the center of the lens region to the center of each of the plurality of lens portions increases.
請求項12又は13に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 12 or 13 , wherein the optical axis of each of the plurality of lens portions intersects with the predetermined surface area.
請求項12又は13に記載の発光装置。 14. The light emitting device according to claim 12, wherein, in a planar view of the main surface, a point on the surface of each of the plurality of lens portions through which the optical axis of each of the plurality of lens portions passes is located on a line segment connecting a center position of the lens region and a center position of the emitted light on the reflecting surface corresponding to each of the plurality of lens portions.
前記主面に実装され、前記主面に平行な光軸を有する複数の半導体レーザチップと、
各々が、前記複数の半導体レーザチップの各々の出射点からの出射光を反射する反射面を有する複数のミラーと、
各々が、前記複数のミラーの各々の反射面からの反射光を受ける複数のレンズ部を有する光学部材とを備え、
前記主面の平面視で、前記反射面における前記出射光の中心位置から、前記複数のレンズ部のうち前記反射面に対応するレンズ部の中心位置までの距離を第1の距離としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記複数のレンズ部が配置されているレンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対する前記第1の距離よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第1の距離の方が大きく、
前記複数のレンズ部の各々からの出力光は、前記レンズ領域より面積が小さい所定面領域の内部に照射され
前記主面から前記複数の半導体レーザチップの各々の前記出射点までの高さと、前記主面から前記複数の半導体レーザチップの各々の前記出射点までの高さの平均値との差の絶対値を第1の差としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対応する前記出射点に対する前記第1の差よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対応する前記出射点に対する前記第1の差の方が大きい
発光装置。 a base having a main surface;
a plurality of semiconductor laser chips mounted on the main surface and having optical axes parallel to the main surface;
a plurality of mirrors, each having a reflecting surface that reflects light emitted from each of the emission points of the plurality of semiconductor laser chips;
an optical member having a plurality of lens portions each receiving reflected light from the reflective surfaces of the plurality of mirrors;
When a distance from a center position of the emitted light on the reflecting surface to a center position of a lens portion of the plurality of lens portions corresponding to the reflecting surface is defined as a first distance in a plan view of the main surface,
the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged is greater than the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged;
The output light from each of the plurality of lens portions is irradiated onto the inside of a predetermined surface area smaller than the area of the lens area.
when an absolute value of a difference between a height from the principal surface to the emission point of each of the plurality of semiconductor laser chips and an average value of a height from the principal surface to the emission point of each of the plurality of semiconductor laser chips is defined as a first difference,
The first difference with respect to the emission point corresponding to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region is greater than the first difference with respect to the emission point corresponding to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region.
Light-emitting device.
請求項18に記載の発光装置。19. The light emitting device according to claim 18.
前記主面に実装され、前記主面に平行な光軸を有する複数の半導体レーザチップと、
各々が、前記複数の半導体レーザチップの各々の出射点からの出射光を反射する反射面を有する複数のミラーと、
各々が、前記複数のミラーの各々の反射面からの反射光を受ける複数のレンズ部を有する光学部材とを備え、
前記主面の平面視で、前記反射面における前記出射光の中心位置から、前記複数のレンズ部のうち前記反射面に対応するレンズ部の中心位置までの距離を第1の距離としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記複数のレンズ部が配置されているレンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対する前記第1の距離よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第1の距離の方が大きく、
前記複数のレンズ部の各々からの出力光は、前記レンズ領域より面積が小さい所定面領域の内部に照射され、
前記主面から前記反射面の中心位置までの高さと、前記主面から前記反射面の中心位置までの高さの前記複数のミラーでの平均値との差の絶対値を第2の差としたとき、
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対応する前記反射面に対する前記第2の差よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対応する前記反射面に対する第2の差の方が大きい
発光装置。 a base having a main surface;
a plurality of semiconductor laser chips mounted on the main surface and having optical axes parallel to the main surface;
a plurality of mirrors, each having a reflecting surface that reflects light emitted from each of the emission points of the plurality of semiconductor laser chips;
an optical member having a plurality of lens portions each receiving reflected light from the reflective surfaces of the plurality of mirrors;
When a distance from a center position of the emitted light on the reflecting surface to a center position of a lens portion of the plurality of lens portions corresponding to the reflecting surface is defined as a first distance in a plan view of the main surface,
the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged is greater than the first distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region in which the plurality of lens portions are arranged;
The output light from each of the plurality of lens portions is irradiated onto the inside of a predetermined surface area having an area smaller than that of the lens area,
When an absolute value of a difference between a height from the main surface to a center position of the reflecting surface and an average value of heights from the main surface to the center positions of the reflecting surfaces for the plurality of mirrors is defined as a second difference,
The second difference with respect to the reflecting surface corresponding to the lens portion of the plurality of lens portions that is closest to the center position of the lens region is larger than the second difference with respect to the reflecting surface corresponding to the lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region.
Light-emitting device.
請求項20に記載の発光装置。21. The light emitting device according to claim 20.
請求項18~21のいずれか1項に記載の発光装置。 The light emitting device according to any one of claims 18 to 21, wherein , in a planar view of the main surface, a center position of each of the plurality of lens portions coincides with a center position of the reflecting surface corresponding to each of the plurality of lens portions.
請求項1~22のいずれか1項に記載の発光装置。The light emitting device according to any one of claims 1 to 22.
請求項1~23のいずれか1項に記載の発光装置。 The light emitting device according to any one of claims 1 to 23 , wherein the output light is a condensed beam.
前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の中心位置に最も近いレンズ部に対する前記第2の距離よりも、前記複数のレンズ部のうち前記レンズ領域の最も外側に位置するレンズ部に対する前記第2の距離の方が大きいThe second distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is closest to a center position of the lens region is greater than the second distance to a lens portion of the plurality of lens portions that is located at the outermost position of the lens region.
請求項1~24のいずれか1項に記載の発光装置。The light emitting device according to any one of claims 1 to 24.
請求項25に記載の発光装置。26. The light emitting device of claim 25.
請求項1~26のいずれか1項に記載の発光装置。 The light emitting device according to any one of claims 1 to 26 , wherein a far-field pattern obtained by superimposing all of the output light in the predetermined surface area is circular.
すべての前記出力光において均等に分散している
請求項27に記載の発光装置。 The cross-sectional shape of the output light has a major axis in the predetermined surface area, and the major axis is
28. The light emitting device of claim 27 , wherein all of the output light is uniformly dispersed.
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