JP7748736B2 - New stable aromatic boronic esters - Google Patents
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Description
本発明は、各種官能基化に有用であり、かつシリカゲルクロマトグラフィー中でも吸着されることなく、安定で単離精製可能な新規芳香族ボロン酸エステルに関する。本発明は、また、該芳香族ボロン酸エステルの製造方法にも関する。 The present invention relates to a novel aromatic boronic acid ester that is useful for various functionalizations, is stable, does not adsorb even during silica gel chromatography, and can be isolated and purified. The present invention also relates to a method for producing the aromatic boronic acid ester.
芳香族ボロン酸誘導体は、鈴木-宮浦カップリングに代表される様々な反応の基質として有機合成化学の分野で広く利用されている。しかし、無保護のボロン酸基(-B(OH)2)を有する芳香族ボロン酸は、容易に脱水して環状三量体無水物であるボロキシンを与えたり、シリカゲルに強く吸着されるため、その単離、精製やNMRによる構造決定、並びにボロン酸基を保持したままでの官能基変換が困難である等の欠点を有していた。これまでに芳香族ボロン酸のボロン酸基を保護基で保護することによる上記欠点の解決策が幾つか報告されている(非特許文献1)。中でも、芳香族ボロン酸ピナコールエステルは、最も汎用されるボロン酸保護体の1つであり、そのままカップリング反応の基質としても利用可能である。しかし、芳香族ボロン酸ピナコールエステルは、シリカゲルクロマトグラフィーによる単離、精製を行う際、収率が低下することが多い上に、その精製には、一般的な有機化合物の取り扱いとは異なるノウハウや技術が必要とされていた(非特許文献2)。最近、ジアミノナフタレン(dan)やN-メチルイミノ二酢酸(mida)と脱水縮合したボロン酸誘導体であるArB(dan)(非特許文献3)、ArB(mida)(非特許文献4)等が開発され、芳香族ボロン酸ピナコールエステルの不安定性は、改善されたが、これらのボロン酸誘導体は、その合成が困難である点、極性が極めて高い点、後の官能基変換が困難である点、脱保護が困難な点等、未だに多くの課題を残している。 Aromatic boronic acid derivatives are widely used in the field of organic synthetic chemistry as substrates for various reactions, such as the Suzuki-Miyaura coupling. However, aromatic boronic acids bearing an unprotected boronic acid group (-B(OH) 2 ) have drawbacks, such as their facile dehydration to give cyclic trimeric anhydrides (boroxines) and their strong adsorption to silica gel, making their isolation, purification, structural determination by NMR, and functional group transformations while retaining the boronic acid group difficult. Several solutions to these drawbacks have been reported, including the protection of the boronic acid group with a protecting group (Non-Patent Document 1). Among these, aromatic boronic acid pinacol esters are one of the most commonly used boronic acid protected derivatives and can be used directly as substrates for coupling reactions. However, isolation and purification of aromatic boronic acid pinacol esters by silica gel chromatography often results in low yields, and their purification requires know-how and techniques that differ from those used for handling general organic compounds (Non-Patent Document 2). Recently, boronic acid derivatives such as ArB(dan) (Non-Patent Document 3) and ArB(mida) (Non-Patent Document 4), which are obtained by dehydration condensation with diaminonaphthalene (dan) or N-methyliminodiacetic acid (mida), have been developed, and the instability of aromatic pinacol boronic acid esters has been improved. However, these boronic acid derivatives still have many problems, such as difficulty in synthesis, extremely high polarity, difficulty in subsequent functional group transformation, and difficulty in deprotection.
本発明の目的は、シリカゲルクロマトグラフィー中でも吸着されることなく安定で単離精製を容易に行うことができ、幅広い官能基変換へと適用可能な新規芳香族ボロン酸エステルを提供することである。 The object of the present invention is to provide a novel aromatic boronic acid ester that is stable and easy to isolate and purify without being adsorbed even during silica gel chromatography, and that can be applied to a wide range of functional group transformations.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、式(I):As a result of extensive research to solve the above problems, the present inventors have discovered a compound represented by formula (I):
[式中、 [In the formula,
で表される基は、それぞれさらに置換されていてもよい、アリール基または芳香族複素環基を示し;
R1およびR3は、それぞれ独立して、直鎖状のC1-6アルキル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、直鎖状のC2-6アルキル基を示し;ならびに
nは、1以上の整数を示す。]
で表される化合物またはその塩が、通常のシリカゲルカラムクロマトグラフィーや薄層クロマトグラフィー上でも極めて安定であり、その分解が見られず、容易に単離精製可能であることを見出すと共に、同化合物またはその塩を鈴木-宮浦カップリング反応に使用した結果、芳香族ボロン酸ピナコールエステルとほぼ同等の反応性を示し、対応するビアリール類へと変換可能であることを見出した。さらに、本発明者らは、同化合物またはその塩がNaBO3による酸素官能基への変換や、銅触媒を用いる窒素官能基への変換にも適用可能であることを見出し、本発明を完成した。
represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted;
R 1 and R 3 each independently represent a linear C 1-6 alkyl group;
R2 and R4 each independently represent a linear C2-6 alkyl group; and n represents an integer of 1 or greater.
The inventors have found that a compound represented by the formula (I) or its salt is extremely stable even on conventional silica gel column chromatography or thin-layer chromatography, does not decompose, and can be easily isolated and purified. Furthermore, when this compound or its salt was used in the Suzuki-Miyaura coupling reaction, it exhibited reactivity almost equivalent to that of aromatic boronic acid pinacol esters and could be converted to the corresponding biaryls. Furthermore, the inventors have found that this compound or its salt can also be used in conversion to oxygen functional groups using NaBO3 or to nitrogen functional groups using a copper catalyst, thereby completing the present invention.
すなわち、本発明は、以下の通りである。
[1]式(I):
That is, the present invention is as follows.
[1] Formula (I):
[式中、 [In the formula,
で表される基は、それぞれさらに置換されていてもよい、アリール基または芳香族複素環基を示し;
R1およびR3は、それぞれ独立して、直鎖状のC1-6アルキル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、直鎖状のC2-6アルキル基を示し;ならびに
nは、1以上の整数を示す。]
で表される化合物(以下、化合物(I)と記すことがある。)またはその塩(以下、化合物(I)とその塩を総称して「本発明化合物」と記すこともある。)。
[2]
represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted;
R 1 and R 3 each independently represent a linear C 1-6 alkyl group;
R2 and R4 each independently represent a linear C2-6 alkyl group; and n represents an integer of 1 or greater.
(hereinafter, may be referred to as compound (I)) or a salt thereof (hereinafter, compound (I) and its salt may be collectively referred to as "the compound of the present invention").
[2]
で表される基が、それぞれさらに置換されていてもよい、C6-14アリール基、5または6員の単環式芳香族複素環基あるいは8ないし14員の縮合芳香族複素環基である、上記[1]に記載の化合物またはその塩。
[3]
[0023] The compound or salt thereof according to the above-mentioned [1], wherein the group represented by the following formula (I) is a C 6-14 aryl group, a 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic group, or an 8- to 14-membered fused aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted.
[3]
で表される基が、さらに置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基である、上記[2]に記載の化合物またはその塩。
[4]R1およびR3が、それぞれ独立して、直鎖状のC1-4アルキル基であり、ならびにR2およびR4が、それぞれ独立して、直鎖状のC2-4アルキル基である、上記[1]~[3]のいずれかに記載の化合物またはその塩。
[5]R1およびR3が、メチル基、エチル基またはn-プロピル基であり、ならびにR2およびR4が、エチル基またはn-プロピル基である、上記[4]に記載の化合物またはその塩。
[6]R1、R2、R3およびR4のすべてが、エチル基またはn-プロピル基である、上記[4]に記載の化合物またはその塩。
[7]nが、1~3の整数である、上記[1]~[6]のいずれかに記載の化合物またはその塩。
[8]式(II):
The compound or salt thereof according to the above-mentioned [2], wherein the group represented by the following formula (I) is an optionally further substituted phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, furyl group or thienyl group.
[4] The compound or salt thereof according to any one of the above [1] to [3], wherein R 1 and R 3 are each independently a linear C 1-4 alkyl group, and R 2 and R 4 are each independently a linear C 2-4 alkyl group.
[5] The compound or salt thereof according to the above-mentioned [4], wherein R 1 and R 3 are a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group, and R 2 and R 4 are an ethyl group or an n-propyl group.
[6] The compound or salt thereof according to the above-mentioned [4], wherein all of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are an ethyl group or an n-propyl group.
[7] The compound or salt thereof according to any one of the above [1] to [6], wherein n is an integer of 1 to 3.
[8] Formula (II):
[式中、 [In the formula,
で表される基は、それぞれさらに置換されていてもよい、アリール基または芳香族複素環基を示し、および
nは、1以上の整数を示す。]
で表される化合物またはその塩と、式(III):
represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted, and n represents an integer of 1 or more.
or a salt thereof, and a compound represented by formula (III):
[式中、
R1およびR3は、それぞれ独立して、直鎖状のC1-6アルキル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、直鎖状のC2-6アルキル基を示す。]
で表される化合物を反応させる工程を含む、式(I):
[In the formula,
R 1 and R 3 each independently represent a linear C 1-6 alkyl group;
R2 and R4 each independently represent a linear C2-6 alkyl group.
The method of the present invention comprises the step of reacting a compound represented by formula (I):
[式中の各記号は、前記と同義を示す。]
で表される化合物またはその塩の製造方法。
[9]式(IV):
[Each symbol in the formula has the same meaning as defined above.]
A method for producing a compound represented by the formula:
[9] Formula (IV):
[式中、 [In the formula,
で表される基は、それぞれさらに置換されていてもよい、アリール基または芳香族複素環基を示し;
X1は、ハロゲン原子を示し;および
nは、1以上の整数を示す。]
で表される化合物またはその塩をイソプロピルマグネシウムクロリド-塩化リチウム錯体またはn-ブチルリチウムと反応させた後、トリメトキシボランと反応させ、続いて、式(III):
represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted;
X1 represents a halogen atom; and n represents an integer of 1 or more.
or a salt thereof with isopropyl magnesium chloride-lithium chloride complex or n-butyllithium, and then reacted with trimethoxyborane, followed by reacting a compound represented by formula (III):
[式中、
R1およびR3は、それぞれ独立して、直鎖状のC1-6アルキル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、直鎖状のC2-6アルキル基を示す。]
で表される化合物と反応させる工程を含む、式(I):
[In the formula,
R 1 and R 3 each independently represent a linear C 1-6 alkyl group;
R2 and R4 each independently represent a linear C2-6 alkyl group.
with a compound represented by formula (I):
[式中の各記号は、前記と同義を示す。]
で表される化合物またはその塩の製造方法。
[10]式(V):
[Each symbol in the formula has the same meaning as defined above.]
A method for producing a compound represented by the formula:
[10] Formula (V):
[式中、 [In the formula,
で表される基は、それぞれさらに置換されていてもよい、アリール基または芳香族複素環基を示し;
X2は、ハロゲン原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示し;および
nは、1以上の整数を示す。]
で表される化合物またはその塩を、金属触媒存在下、式(VI):
represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted;
X2 represents a halogen atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group; and n represents an integer of 1 or greater.
or a salt thereof, in the presence of a metal catalyst,
[式中、
R1およびR3は、それぞれ独立して、直鎖状のC1-6アルキル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、直鎖状のC2-6アルキル基を示す。]
で表される化合物と反応させる工程を含む、式(I):
[In the formula,
R 1 and R 3 each independently represent a linear C 1-6 alkyl group;
R2 and R4 each independently represent a linear C2-6 alkyl group.
with a compound represented by formula (I):
[式中の各記号は、前記と同義を示す。]
で表される化合物またはその塩の製造方法。
[11]式(VI):
[Each symbol in the formula has the same meaning as defined above.]
A method for producing a compound represented by the formula:
[11] Formula (VI):
[式中、
R1およびR3は、それぞれ独立して、直鎖状のC1-6アルキル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、直鎖状のC2-6アルキル基を示す。]
で表される化合物。
[12]上記[1]~[7]のいずれかに記載の化合物またはその塩を、金属触媒および塩基の存在下、式(VII):
[In the formula,
R 1 and R 3 each independently represent a linear C 1-6 alkyl group;
R2 and R4 each independently represent a linear C2-6 alkyl group.
A compound represented by the formula:
[12] The compound according to any one of the above [1] to [7] or a salt thereof is reacted with a compound of the formula (VII):
[式中、 [In the formula,
で表される基は、それぞれさらに置換されていてもよい、アリール基または芳香族複素環基を示し;および
X3は、ハロゲン原子を示す。]
で表される化合物またはその塩と反応させる工程を含む、式(VIII):
represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted; and X3 represents a halogen atom.]
or a salt thereof with a compound represented by formula (VIII):
[式中の各記号は、前記と同義を示す。]
で表される化合物またはその塩の製造方法。
[13]上記[1]~[7]のいずれかに記載の化合物またはその塩を、過酸と反応させる工程を含む、式(IX):
[Each symbol in the formula has the same meaning as defined above.]
A method for producing a compound represented by the formula:
[13] A method for producing a compound of formula (IX):
[式中の各記号は、前記と同義を示す。]
で表される化合物またはその塩の製造方法。
[14]上記[1]~[7]のいずれかに記載の化合物またはその塩を、金属触媒存在下、式(X):
[Each symbol in the formula has the same meaning as defined above.]
A method for producing a compound represented by the formula:
[14] The compound according to any one of the above [1] to [7] or a salt thereof is reacted with a compound of the formula (X):
[式中、
Rは、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基、または置換されていてもよい複素環基を示す。]
で表される化合物と反応させる工程を含む、式(XI):
[In the formula,
R represents an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted heterocyclic group.
with a compound represented by formula (XI):
[式中の各記号は、前記と同義を示す。]
で表される化合物またはその塩の製造方法。
[Each symbol in the formula has the same meaning as defined above.]
A method for producing a compound represented by the formula:
本発明の化合物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや薄層クロマトグラフィー上でも分解することなく、極めて安定であり、容易に単離精製することができるという利点を有する。また、本発明の化合物は、芳香族ボロン酸ピナコールエステルとほぼ同等の反応性を示すことから、鈴木-宮浦カップリング反応や各種官能基化反応に適用可能であり、各種医薬品や機能性材料の原料化合物または合成中間体として有用である。 The compounds of the present invention have the advantage of being extremely stable and easily isolated and purified, without decomposing even on silica gel column chromatography or thin-layer chromatography. Furthermore, because the compounds of the present invention exhibit reactivity roughly equivalent to that of aromatic boronic acid pinacol esters, they are applicable to Suzuki-Miyaura coupling reactions and various functionalization reactions, making them useful as raw materials or synthetic intermediates for various pharmaceuticals and functional materials.
以下、本明細書中で用いられる各置換基の定義について詳述する。特記しない限り各置換基は以下の定義を有する。The definitions of each substituent used in this specification are described in detail below. Unless otherwise specified, each substituent has the following definition.
本明細書中、「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。 As used herein, "halogen atom" includes, for example, fluorine, chlorine, bromine, and iodine.
本明細書中、「炭化水素基」としては、アルキル基(例、C1-6アルキル基)、アルケニル基(例、C2-6アルケニル基)、アルキニル基(例、C2-6アルキニル基)、シクロアルキル基(例、C3-10シクロアルキル基)、シクロアルケニル基(例、C3-10シクロアルケニル基)、アリール基(例、C6-14アリール基)、アラルキル基(例、C7-16アラルキル基)が挙げられる。 In the present specification, examples of the "hydrocarbon group" include alkyl groups (e.g., C 1-6 alkyl groups), alkenyl groups (e.g., C 2-6 alkenyl groups), alkynyl groups (e.g., C 2-6 alkynyl groups), cycloalkyl groups (e.g., C 3-10 cycloalkyl groups), cycloalkenyl groups (e.g., C 3-10 cycloalkenyl groups), aryl groups (e.g., C 6-14 aryl groups), and aralkyl groups (e.g., C 7-16 aralkyl groups).
本明細書中、「アルキル基」とは、直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数1以上のアルカンの任意の炭素原子から一個の水素原子を除去した基を意味し、特に炭素数範囲の限定がない場合には、C1-20アルキル基であり、中でも、C1-6アルキル基が好ましく、C1-4アルキル基がより好ましい。 In the present specification, the term "alkyl group" refers to a group obtained by removing one hydrogen atom from any carbon atom of a straight-chain or branched-chain alkane having one or more carbon atoms, and when there is no particular limitation on the range of the number of carbon atoms, it is a C1-20 alkyl group, and among these, a C1-6 alkyl group is preferable, and a C1-4 alkyl group is more preferable.
本明細書中、「C1-6アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、1,1-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル等が挙げられる。 In the present specification, examples of the "C 1-6 alkyl group" include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, hexyl, isohexyl, 1,1-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl and the like.
本明細書中、「C1-4アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C 1-4 alkyl group" include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl.
本明細書中、「直鎖状のC1-6アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、n-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシルが挙げられ、中でも、直鎖状のC1-4アルキル基が好ましい。 In the present specification, examples of the "straight-chain C 1-6 alkyl group" include methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl and n-hexyl, and among these, a straight-chain C 1-4 alkyl group is preferable.
本明細書中、「直鎖状のC2-6アルキル基」としては、例えば、エチル、n-プロピル、n-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシルが挙げられ、中でも、直鎖状のC2-4アルキル基が好ましい。 In the present specification, examples of the "straight-chain C 2-6 alkyl group" include ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl and n-hexyl, and among these, a straight-chain C 2-4 alkyl group is preferable.
本明細書中、「アルケニル基」とは、直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2以上のアルケンの任意の炭素原子から一個の水素原子を除去した基を意味し、特に炭素数範囲の限定がない場合には、C2-20アルケニル基であり、中でも、C2-6アルケニル基が好ましい。 In the present specification, the term "alkenyl group" refers to a group obtained by removing one hydrogen atom from any carbon atom of a straight-chain or branched-chain alkene having two or more carbon atoms, and unless there is any particular limitation on the range of the number of carbon atoms, is a C2-20 alkenyl group, and of these, a C2-6 alkenyl group is preferred.
本明細書中、「C2-6アルケニル基」としては、例えば、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C alkenyl group" include ethenyl, 1-propenyl, 2-propenyl, 2-methyl-1-propenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 3-methyl-2-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, 3-pentenyl, 4-pentenyl, 4-methyl-3-pentenyl, 1-hexenyl, 3-hexenyl and 5-hexenyl.
本明細書中、「アルキニル基」とは、直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2以上のアルキンの任意の炭素原子から一個の水素原子を除去した基を意味し、特に炭素数範囲の限定がない場合には、C2-20アルキニル基であり、中でも、C2-6アルキニル基が好ましい。 In the present specification, the term "alkynyl group" refers to a group in which one hydrogen atom has been removed from any carbon atom of a straight-chain or branched-chain alkyne having two or more carbon atoms, and when there is no particular limitation on the range of the number of carbon atoms, it is a C2-20 alkynyl group, and of these, a C2-6 alkynyl group is preferred.
本明細書中、「C2-6アルキニル基」としては、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、4-メチル-2-ペンチニルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C alkynyl group" include ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-pentynyl, 2-pentynyl, 3-pentynyl, 4-pentynyl, 1-hexynyl, 2-hexynyl, 3-hexynyl, 4-hexynyl, 5-hexynyl and 4-methyl-2-pentynyl.
本明細書中、「シクロアルキル基」とは、環状アルキル基を意味し、特に炭素数範囲の限定がない場合には、C3-10シクロアルキル基であり、中でも、C3-8シクロアルキル基が好ましい。 In the present specification, the term "cycloalkyl group" means a cyclic alkyl group, and when there is no particular limitation on the range of carbon atoms, it is a C 3-10 cycloalkyl group, and among these, a C 3-8 cycloalkyl group is preferred.
本明細書中、「C3-10シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ[2.2.1]ヘプチル、ビシクロ[2.2.2]オクチル、ビシクロ[3.2.1]オクチル、アダマンチルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C 3-10 cycloalkyl group" include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, bicyclo[2.2.1]heptyl, bicyclo[2.2.2]octyl, bicyclo[3.2.1]octyl and adamantyl.
本明細書中、「C3-8シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C 3-8 cycloalkyl group" include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl.
本明細書中、「シクロアルケニル基」とは、環状アルケニル基を意味し、特に炭素数範囲の限定がない場合には、C3-10シクロアルケニル基であり、中でも、C3-8シクロアルケニル基が好ましい。 In the present specification, the term "cycloalkenyl group" means a cyclic alkenyl group, and when there is no particular limitation on the range of the number of carbon atoms, it is a C 3-10 cycloalkenyl group, and among these, a C 3-8 cycloalkenyl group is preferred.
本明細書中、「C3-8シクロアルケニル基」としては、例えば、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C 3-8 cycloalkenyl group" include cyclopropenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl, cycloheptenyl and cyclooctenyl.
本明細書中、「アリール基」とは、芳香族性を示す単環式あるいは多環式(縮合)の炭化水素基を意味し、中でも、C6-14アリール基が好ましい。 In the present specification, the term "aryl group" refers to a monocyclic or polycyclic (fused) hydrocarbon group exhibiting aromaticity, and among these, a C 6-14 aryl group is preferred.
本明細書中、「C6-14アリール基」としては、例えば、フェニル、1-ナフチル、2-ナフチル、1-アントリル、2-アントリル、9-アントリル、ビフェニリルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C 6-14 aryl group" include phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, 1-anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl and biphenylyl.
本明細書中、「アラルキル基」とは、アルキル基にアリール基が置換した基を意味し、特に炭素数範囲は限定されないが、好ましくは、C7-16アラルキル基である。 In the present specification, the term "aralkyl group" refers to a group in which an aryl group is substituted on an alkyl group, and although there are no particular limitations on the range of carbon atoms, it is preferably a C 7-16 aralkyl group.
本明細書中、「C7-16アラルキル基」としては、例えば、ベンジル、1-フェニルエチル、2-フェニルエチル、(ナフチル-1-イル)メチル、(ナフチル-2-イル)メチル、1-(ナフチル-1-イル)エチル、1-(ナフチル-2-イル)エチル、2-(ナフチル-1-イル)エチル、2-(ナフチル-2-イル)エチル、ビフェニリルメチル、フェニルプロピルが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C aralkyl group" include benzyl, 1-phenylethyl, 2-phenylethyl, (naphthyl-1-yl)methyl, (naphthyl-2-yl)methyl, 1-(naphthyl-1-yl)ethyl, 1-(naphthyl-2-yl)ethyl, 2-(naphthyl-1-yl)ethyl, 2-(naphthyl-2-yl)ethyl, biphenylylmethyl and phenylpropyl.
本明細書中、「アルコキシ基」とは、直鎖または分岐鎖のアルキル基が酸素原子と結合した基を意味し、特に炭素数範囲は限定されないが、好ましくは、C1-6アルコキシ基である。 In the present specification, the term "alkoxy group" refers to a group in which a linear or branched alkyl group is bonded to an oxygen atom, and although there are no particular limitations on the range of carbon atoms, it is preferably a C 1-6 alkoxy group.
本明細書中、「C1-6アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシが挙げられる。中でも、C1-4アルコキシ基が好ましい。 [0023] In the present specification, examples of the "C 1-6 alkoxy group" include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, pentyloxy, isopentyloxy, neopentyloxy and hexyloxy. Of these, a C 1-4 alkoxy group is preferable.
本明細書中、「C7-16アラルキルオキシ基」としては、例えば、ベンジルオキシ、1-フェニルエチルオキシ、2-フェニルエチルオキシ、(ナフチル-1-イル)メチルオキシ、(ナフチル-2-イル)メチルオキシ、1-(ナフチル-1-イル)エチルオキシ、1-(ナフチル-2-イル)エチルオキシ、2-(ナフチル-1-イル)エチルオキシ、2-(ナフチル-2-イル)エチルオキシ、ビフェニリルメチルオキシ、フェニルプロピルオキシが挙げられる。 In the present specification, examples of the "C aralkyloxy group" include benzyloxy, 1-phenylethyloxy, 2-phenylethyloxy, (naphthyl-1-yl)methyloxy, (naphthyl-2-yl)methyloxy, 1-(naphthyl-1-yl)ethyloxy, 1-(naphthyl-2-yl)ethyloxy, 2-(naphthyl-1-yl)ethyloxy, 2-(naphthyl-2-yl)ethyloxy, biphenylylmethyloxy and phenylpropyloxy.
本明細書中、「複素環基」としては、例えば、環構成原子として炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる1ないし4個のヘテロ原子をそれぞれ含有する、(i)芳香族複素環基、(ii)非芳香族複素環基および(iii)7ないし10員複素架橋環基が挙げられる。 In this specification, examples of the term "heterocyclic group" include (i) aromatic heterocyclic groups, (ii) non-aromatic heterocyclic groups, and (iii) 7- to 10-membered bridged heterocyclic groups, each of which contains, in addition to carbon atoms, 1 to 4 heteroatoms selected from nitrogen atoms, sulfur atoms, and oxygen atoms as ring-constituting atoms.
本明細書中、「芳香族複素環基」としては、例えば、環構成原子として炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる1ないし4個のヘテロ原子を含有する5ないし14員(好ましくは5ないし10員)の芳香族複素環基が挙げられる。In this specification, examples of the term "aromatic heterocyclic group" include 5- to 14-membered (preferably 5- to 10-membered) aromatic heterocyclic groups containing, in addition to carbon atoms, 1 to 4 heteroatoms selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atoms as ring-constituting atoms.
該「芳香族複素環基」の好適な例としては、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、1,2,4-オキサジアゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、1,2,4-チアジアゾリル、1,3,4-チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル等の5または6員の単環式芳香族複素環基;
ベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジニル、チエノピリジニル、フロピリジニル、ピロロピリジニル、ピラゾロピリジニル、オキサゾロピリジニル、チアゾロピリジニル、イミダゾピラジニル、イミダゾピリミジニル、チエノピリミジニル、フロピリミジニル、ピロロピリミジニル、ピラゾロピリミジニル、オキサゾロピリミジニル、チアゾロピリミジニル、ピラゾロトリアジニル、ナフト[2,3-b]チエニル、フェノキサチイニル、インドリル、イソインドリル、1H-インダゾリル、プリニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、カルバゾリル、β-カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、フェナジニル、フェノチアジニル、フェノキサジニル等の8ないし14員の縮合芳香族複素環基(縮合多環式(好ましくは2または3環式)芳香族複素環基)が挙げられる。
Preferable examples of the "aromatic heterocyclic group" include 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic groups such as thienyl, furyl, pyrrolyl, imidazolyl, pyrazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, 1,2,4-oxadiazolyl, 1,3,4-oxadiazolyl, 1,2,4-thiadiazolyl, 1,3,4-thiadiazolyl, triazolyl, tetrazolyl, triazinyl, etc.;
Benzothiophenyl, benzofuranyl, benzimidazolyl, benzoxazolyl, benzisoxazolyl, benzothiazolyl, benzisothiazolyl, benzotriazolyl, imidazopyridinyl, thienopyridinyl, furopyridinyl, pyrrolopyridinyl, pyrazolopyridinyl, oxazolopyridinyl, thiazolopyridinyl, imidazopyrazinyl, imidazopyrimidinyl, thienopyrimidinyl, furopyrimidinyl, pyrrolopyrimidinyl, pyrazolopyrimidinyl, oxazolopyrimidinyl, thiazolopyrimidinyl Examples of fused aromatic heterocyclic groups include 8- to 14-membered fused aromatic heterocyclic groups (fused polycyclic (preferably bi- or tricyclic) aromatic heterocyclic groups) such as phenyl, pyrazolotriazinyl, naphtho[2,3-b]thienyl, phenoxathiinyl, indolyl, isoindolyl, 1H-indazolyl, purinyl, isoquinolyl, quinolyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, quinoxalinyl, quinazolinyl, cinnolinyl, carbazolyl, β-carbolinyl, phenanthridinyl, acridinyl, phenazinyl, phenothiazinyl, and phenoxazinyl.
本明細書中、「非芳香族複素環基」としては、例えば、環構成原子として炭素原子以外に窒素原子、硫黄原子および酸素原子から選ばれる1ないし4個のヘテロ原子を含有する3ないし14員(好ましくは4ないし10員)の非芳香族複素環基が挙げられる。In this specification, examples of "non-aromatic heterocyclic groups" include 3- to 14-membered (preferably 4- to 10-membered) non-aromatic heterocyclic groups containing, in addition to carbon atoms, 1 to 4 heteroatoms selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atoms as ring-constituting atoms.
該「非芳香族複素環基」の好適な例としては、アジリジニル、オキシラニル、チイラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チエタニル、テトラヒドロチエニル、テトラヒドロフラニル、ピロリニル、ピロリジニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、オキサゾリニル、オキサゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、チアゾリニル、チアゾリジニル、テトラヒドロイソチアゾリル、テトラヒドロオキサゾリル、テトラヒドロイソオキサゾリル、ピペリジニル、ピペラジニル、テトラヒドロピリジニル、ジヒドロピリジニル、ジヒドロチオピラニル、テトラヒドロピリミジニル、テトラヒドロピリダジニル、ジヒドロピラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、モルホリニル、チオモルホリニル、アゼパニル、ジアゼパニル、アゼピニル、オキセパニル、アゾカニル、ジアゾカニル等の3ないし8員単環式非芳香族複素環基;
ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾイミダゾリル、ジヒドロベンゾオキサゾリル、ジヒドロベンゾチアゾリル、ジヒドロベンゾイソチアゾリル、ジヒドロナフト[2,3-b]チエニル、テトラヒドロイソキノリル、テトラヒドロキノリル、4H-キノリジニル、インドリニル、イソインドリニル、テトラヒドロチエノ[2,3-c]ピリジニル、テトラヒドロベンゾアゼピニル、テトラヒドロキノキサリニル、テトラヒドロフェナントリジニル、ヘキサヒドロフェノチアジニル、ヘキサヒドロフェノキサジニル、テトラヒドロフタラジニル、テトラヒドロナフチリジニル、テトラヒドロキナゾリニル、テトラヒドロシンノリニル、テトラヒドロカルバゾリル、テトラヒドロ-β-カルボリニル、テトラヒドロアクリジニル、テトラヒドロフェナジニル、テトラヒドロチオキサンテニル、オクタヒドロイソキノリル等の9ないし14員縮合多環式(好ましくは2または3環式)非芳香族複素環基が挙げられる。
Preferable examples of the "non-aromatic heterocyclic group" include aziridinyl, oxiranyl, thiiranyl, azetidinyl, oxetanyl, thietanyl, tetrahydrothienyl, tetrahydrofuranyl, pyrrolinyl, pyrrolidinyl, imidazolinyl, imidazolidinyl, oxazolinyl, oxazolidinyl, pyrazolinyl, pyrazolidinyl, thiazolinyl, thiazolidinyl, tetrahydroisothiazolyl, tetrahydrooxazolyl, tetrahydrofuranyl, and the like. 3- to 8-membered monocyclic non-aromatic heterocyclic groups such as dihydroisoxazolyl, piperidinyl, piperazinyl, tetrahydropyridinyl, dihydropyridinyl, dihydrothiopyranyl, tetrahydropyrimidinyl, tetrahydropyridazinyl, dihydropyranyl, tetrahydropyranyl, tetrahydrothiopyranyl, morpholinyl, thiomorpholinyl, azepanyl, diazepanyl, azepinyl, oxepanyl, azocanyl, diazocanyl, etc.;
Dihydrobenzofuranyl, dihydrobenzimidazolyl, dihydrobenzoxazolyl, dihydrobenzothiazolyl, dihydrobenzisothiazolyl, dihydronaphtho[2,3-b]thienyl, tetrahydroisoquinolyl, tetrahydroquinolyl, 4H-quinolizinyl, indolinyl, isoindolinyl, tetrahydrothieno[2,3-c]pyridinyl, tetrahydrobenzazepinyl, tetrahydroquinoxalinyl, tetrahydrophenanthridinyl, hexyl and 9- to 14-membered fused polycyclic (preferably bi- or tricyclic) non-aromatic heterocyclic groups such as tetrahydrophenothiazinyl, hexahydrophenoxazinyl, tetrahydrophthalazinyl, tetrahydronaphthyridinyl, tetrahydroquinazolinyl, tetrahydrocinnolinyl, tetrahydrocarbazolyl, tetrahydro-β-carbolinyl, tetrahydroacridinyl, tetrahydrophenazinyl, tetrahydrothioxanthenyl, and octahydroisoquinolyl.
本明細書中、「7ないし10員複素架橋環基」の好適な例としては、キヌクリジニル、7-アザビシクロ[2.2.1]ヘプタニルが挙げられる。 In this specification, suitable examples of "7- to 10-membered heterobridged ring group" include quinuclidinyl and 7-azabicyclo[2.2.1]heptanyl.
本明細書中、「アシル基」としては、ホルミル基、炭化水素-カルボニル基(C1-6アルキル-カルボニル基、C2-6アルケニル-カルボニル基(例、クロトノイル)、C3-10シクロアルキル-カルボニル基(例、シクロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘプタンカルボニル)、C3-10シクロアルケニル-カルボニル基(例、2-シクロヘキセンカルボニル)、C6-14アリール-カルボニル基、C7-16アラルキル-カルボニル基)、複素環カルボニル基(例、ニコチノイル、イソニコチノイル、テノイル、フロイル等の5ないし14員芳香族複素環カルボニル基、モルホリニルカルボニル、ピペリジニルカルボニル、ピロリジニルカルボニル等の3ないし14員非芳香族複素環カルボニル基)、アルコキシ-カルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等のC1-6アルコキシ-カルボニル基)、アリールオキシ-カルボニル基(例、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等のC6-14アリールオキシ-カルボニル基)、アラルキルオキシ-カルボニル基(例、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等のC7-16アラルキルオキシ-カルボニル基)、カルバモイル基、モノ-またはジ-炭化水素-カルバモイル基(モノ-またはジ-C1-6アルキル-カルバモイル基(例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、N-エチル-N-メチルカルバモイル)、モノ-またはジ-C2-6アルケニル-カルバモイル基(例、ジアリルカルバモイル)、モノ-またはジ-C3-10シクロアルキル-カルバモイル基(例、シクロプロピルカルバモイル)、モノ-またはジ-C6-14アリール-カルバモイル基(例、フェニルカルバモイル)、モノ-またはジ-C7-16アラルキル-カルバモイル基(例、ベンジルカルバモイル、フェネチルカルバモイル))、複素環カルバモイル基(例、ピリジルカルバモイル等の5ないし14員芳香族複素環カルバモイル基)、チオカルバモイル基、モノ-またはジ-炭化水素-チオカルバモイル基(モノ-またはジ-C1-6アルキル-チオカルバモイル基(例、メチルチオカルバモイル、N-エチル-N-メチルチオカルバモイル)、モノ-またはジ-C2-6アルケニル-チオカルバモイル基(例、ジアリルチオカルバモイル)、モノ-またはジ-C3-10シクロアルキル-チオカルバモイル基(例、シクロプロピルチオカルバモイル、シクロヘキシルチオカルバモイル)、モノ-またはジ-C6-14アリール-チオカルバモイル基(例、フェニルチオカルバモイル)、モノ-またはジ-C7-16アラルキル-チオカルバモイル基(例、ベンジルチオカルバモイル、フェネチルチオカルバモイル))、芳香族複素環チオカルバモイル基(例、ピリジルチオカルバモイル等の5ないし14員芳香族複素環チオカルバモイル基)が挙げられる。中でも、好ましくは、ホルミル基、C1-6アルキル-カルボニル基(例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル)、C3-10シクロアルキル-カルボニル基(例、シクロブタンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘプタンカルボニル)、C6-14アリール-カルボニル基(例、ベンゾイル、1-ナフトイル、2-ナフトイル)、C7-16アラルキル-カルボニル基(例、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル)、C1-6アルコキシ-カルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec-ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル)、C6-14アリールオキシ-カルボニル基、C7-16アラルキルオキシ-カルボニル基(例、ベンジルオキシカルボニル)、カルバモイル基、モノ-またはジ-C1-6アルキル-カルバモイル基(例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、N-エチル-N-メチルカルバモイル)である。 In the present specification, examples of the "acyl group" include a formyl group, a hydrocarbon-carbonyl group (C 1-6 alkyl-carbonyl group, C 2-6 alkenyl-carbonyl group (e.g., crotonoyl), a C 3-10 cycloalkyl-carbonyl group (e.g., cyclobutanecarbonyl, cyclopentanecarbonyl, cyclohexanecarbonyl, cycloheptanecarbonyl), a C 3-10 cycloalkenyl-carbonyl group (e.g., 2-cyclohexenecarbonyl), a C 6-14 aryl-carbonyl group, a C 7-16 aralkyl-carbonyl groups), heterocyclylcarbonyl groups (e.g., 5- to 14-membered aromatic heterocyclylcarbonyl groups such as nicotinoyl, isonicotinoyl, thenoyl, and furoyl, and 3- to 14-membered non-aromatic heterocyclylcarbonyl groups such as morpholinylcarbonyl, piperidinylcarbonyl, and pyrrolidinylcarbonyl), alkoxy-carbonyl groups (e.g., C 1-6 alkoxy-carbonyl groups such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl), aryloxy-carbonyl groups (e.g., C 6-14 aryloxy-carbonyl groups such as phenyloxycarbonyl and naphthyloxycarbonyl), aralkyloxy-carbonyl groups (e.g., C 7-16 aralkyloxy-carbonyl groups such as benzyloxycarbonyl and phenethyloxycarbonyl), carbamoyl groups, mono- or di-hydrocarbon-carbamoyl groups (mono- or di-C 1-6 alkyl-carbamoyl groups (e.g., methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, dimethylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, N-ethyl-N-methylcarbamoyl), mono- or di-C 2-6 alkenyl-carbamoyl groups (e.g., diallylcarbamoyl), mono- or di-C 3-10 cycloalkyl-carbamoyl groups (e.g., cyclopropylcarbamoyl), mono- or di-C 6-14 aryl-carbamoyl groups (e.g., phenylcarbamoyl), mono- or di-C 7-16 aralkyl-carbamoyl groups (e.g., benzylcarbamoyl, phenethylcarbamoyl)), heterocyclic carbamoyl groups (e.g., 5- to 14-membered aromatic heterocyclic carbamoyl groups such as pyridylcarbamoyl), thiocarbamoyl groups, mono- or di-hydrocarbon-thiocarbamoyl groups (mono- or di-C 1-6 alkyl-thiocarbamoyl groups (e.g., methylthiocarbamoyl, N-ethyl-N-methylthiocarbamoyl), mono- or di-C 2-6 alkenyl-thiocarbamoyl groups (e.g., diallylthiocarbamoyl), mono- or di-C 3-10 cycloalkyl-thiocarbamoyl groups (e.g., cyclopropylthiocarbamoyl, cyclohexylthiocarbamoyl), mono- or di-C 6-14 aryl-thiocarbamoyl groups (e.g., phenylthiocarbamoyl), mono- or di-C 7-16 aralkyl-thiocarbamoyl groups (e.g., benzylthiocarbamoyl, phenethylthiocarbamoyl)), and aromatic heterocyclic thiocarbamoyl groups (e.g., 5- to 14-membered aromatic heterocyclic thiocarbamoyl groups such as pyridylthiocarbamoyl). Among these, preferred are a formyl group, a C 1-6 alkyl-carbonyl group (e.g., acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, hexanoyl, heptanoyl), a C 3-10 cycloalkyl-carbonyl group (e.g., cyclobutanecarbonyl, cyclopentanecarbonyl, cyclohexanecarbonyl, cycloheptanecarbonyl), a C 6-14 aryl-carbonyl group (e.g., benzoyl, 1-naphthoyl, 2-naphthoyl), a C 7-16 aralkyl-carbonyl group (e.g., phenylacetyl, phenylpropionyl), a C 1-6 alkoxy-carbonyl groups (e.g., methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl), C 6-14 aryloxy-carbonyl groups, C 7-16 aralkyloxy-carbonyl groups (e.g., benzyloxycarbonyl), carbamoyl groups, and mono- or di-C 1-6 alkyl-carbamoyl groups (e.g., methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, dimethylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, N-ethyl-N-methylcarbamoyl).
本明細書中、「アシルオキシ基」とは、アシル基が酸素原子と結合した基を意味し、好ましくは、ホルミルオキシ基、C1-6アルキル-カルボニルオキシ基(例、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ヘプタノイル)、C3-10シクロアルキル-カルボニルオキシ基(例、シクロブタンカルボニルオキシ、シクロペンタンカルボニルオキシ、シクロヘキサンカルボニルオキシ、シクロヘプタンカルボニルオキシ)、C6-14アリール-カルボニルオキシ基(例、ベンゾイルオキシ、1-ナフトイルオキシ、2-ナフトイルオキシ)、C7-16アラルキル-カルボニルオキシ基、C1-6アルコキシ-カルボニルオキシ基(例、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、プロポキシカルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキシ、ブトキシカルボニルオキシ、イソブトキシカルボニルオキシ、sec-ブトキシカルボニルオキシ、tert-ブトキシカルボニルオキシ、ペンチルオキシカルボニルオキシ、ヘキシルオキシカルボニルオキシ)、C6-14アリールオキシ-カルボニルオキシ基(例、ベンジルオキシカルボニルオキシ)、C7-16アラルキルオキシ-カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、モノ-またはジ-C1-6アルキル-カルバモイルオキシ基(例、メチルカルバモイルオキシ、エチルカルバモイルオキシ、ジメチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオキシ、N-エチル-N-メチルカルバモイルオキシ)である。 In the present specification, the term "acyloxy group" means a group in which an acyl group is bonded to an oxygen atom, and is preferably a formyloxy group, a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group (e.g., acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, isobutyryloxy, pentanoyloxy, hexanoyloxy, heptanoyl), a C 3-10 cycloalkyl-carbonyloxy group (e.g., cyclobutanecarbonyloxy, cyclopentanecarbonyloxy, cyclohexanecarbonyloxy, cycloheptanecarbonyloxy), a C 6-14 aryl-carbonyloxy group (e.g., benzoyloxy, 1-naphthoyloxy, 2-naphthoyloxy), a C 7-16 aralkyl-carbonyloxy group, a C 1-6 alkoxy-carbonyloxy groups (e.g., methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, propoxycarbonyloxy, isopropoxycarbonyloxy, butoxycarbonyloxy, isobutoxycarbonyloxy, sec-butoxycarbonyloxy, tert-butoxycarbonyloxy, pentyloxycarbonyloxy, hexyloxycarbonyloxy), C 6-14 aryloxy-carbonyloxy groups (e.g., benzyloxycarbonyloxy), C 7-16 aralkyloxy-carbonyloxy groups, carbamoyloxy groups, mono- or di-C 1-6 alkyl-carbamoyloxy groups (e.g., methylcarbamoyloxy, ethylcarbamoyloxy, dimethylcarbamoyloxy, diethylcarbamoyloxy, N-ethyl-N-methylcarbamoyloxy).
本明細書中、「C1-6アルキルスルファニル基」とは、直鎖又は分岐鎖のC1-6アルキル基が硫黄原子と結合した基を意味し、例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、ブチルスルファニル、イソブチルスルファニル、sec-ブチルスルファニル、tert-ブチルスルファニル、ペンチルスルファニル、イソペンチルスルファニル、ネオペンチルスルファニル、ヘキシルスルファニルが挙げられる。中でも、C1-4アルキルスルファニル基が好ましい。 In the present specification, the term "C 1-6 alkylsulfanyl group" means a group in which a linear or branched C 1-6 alkyl group is bonded to a sulfur atom, and examples thereof include methylsulfanyl, ethylsulfanyl, propylsulfanyl, isopropylsulfanyl, butylsulfanyl, isobutylsulfanyl, sec-butylsulfanyl, tert-butylsulfanyl, pentylsulfanyl, isopentylsulfanyl, neopentylsulfanyl, and hexylsulfanyl. Of these, a C 1-4 alkylsulfanyl group is preferred.
本明細書中、「C1-6アルキルスルホニル基」とは、直鎖又は分岐鎖のC1-6アルキル基がスルホニル基(-S(=O)2-)に結合した基を意味し、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、sec-ブチルスルホニル、tert-ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニルが挙げられる。中でも、C1-4アルキルスルホニル基が好ましい。 In the present specification, the term "C 1-6 alkylsulfonyl group" means a group in which a linear or branched C 1-6 alkyl group is bonded to a sulfonyl group (-S(=O) 2 -), and examples thereof include methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, tert-butylsulfonyl, pentylsulfonyl, isopentylsulfonyl, neopentylsulfonyl, and hexylsulfonyl. Of these, a C 1-4 alkylsulfonyl group is preferred.
本明細書中、「C1-6アルキルスルホニルオキシ基」とは、C1-6アルキルスルホニル基が酸素原子に結合した基を意味し、例えば、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスルホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチルスルホニルオキシ、イソブチルスルホニルオキシ、sec-ブチルスルホニルオキシ、tert-ブチルスルホニルオキシ、ペンチルスルホニルオキシ、イソペンチルスルホニルオキシ、ネオペンチルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオキシが挙げられる。中でも、C1-4アルキルスルホニルオキシ基が好ましい。 In the present specification, the term "C 1-6 alkylsulfonyloxy group" means a group in which a C 1-6 alkylsulfonyl group is bonded to an oxygen atom, and examples thereof include methylsulfonyloxy, ethylsulfonyloxy, propylsulfonyloxy, isopropylsulfonyloxy, butylsulfonyloxy, isobutylsulfonyloxy, sec-butylsulfonyloxy, tert-butylsulfonyloxy, pentylsulfonyloxy, isopentylsulfonyloxy, neopentylsulfonyloxy, and hexylsulfonyloxy. Of these, a C 1-4 alkylsulfonyloxy group is preferable.
本明細書中、「C6-14アリールスルホニル基」とは、C6-14アリール基がスルホニル基(-S(=O)2-)の硫黄原子に結合した基を意味し、例えば、フェニルスルホニル、1-ナフチルスルホニル、2-ナフチルスルホニルが挙げられる。 As used herein, the term "C 6-14 arylsulfonyl group" means a group in which a C 6-14 aryl group is bonded to the sulfur atom of a sulfonyl group (-S(=O) 2 -), and examples thereof include phenylsulfonyl, 1-naphthylsulfonyl and 2-naphthylsulfonyl.
本明細書中、「C6-14アリールスルホニルオキシ基」とは、C6-14アリール基がスルホニルオキシ基(-S(=O)2-O-)の硫黄原子に結合した基を意味し、例えば、フェニルスルホニルオキシ、1-ナフチルスルホニルオキシ、2-ナフチルスルホニルオキシが挙げられる。 In the present specification, the term "C 6-14 arylsulfonyloxy group" means a group in which a C 6-14 aryl group is bonded to the sulfur atom of a sulfonyloxy group (-S(=O) 2 -O-), and examples thereof include phenylsulfonyloxy, 1-naphthylsulfonyloxy and 2-naphthylsulfonyloxy.
本明細書中、「三置換シリル基」とは、同一又は異なる、C1-6アルキル基、C6-14アリール基およびC1-6アルコキシ基からなる群より選択される3個の置換基で置換されたシリル基を意味し、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基(好ましくは、トリC1-6アルキルシリル基)、tert-ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基が挙げられる。 As used herein, the term "tri-substituted silyl group" refers to a silyl group substituted with three substituents, which may be the same or different, selected from the group consisting of a C1-6 alkyl group, a C6-14 aryl group, and a C1-6 alkoxy group. Examples include trialkylsilyl groups such as a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a tert-butyldimethylsilyl group (preferably a tri- C1-6 alkylsilyl group), a tert-butyldiphenylsilyl group, and a triphenylsilyl group.
本明細書中、「置換されてもよい」とは、無置換であるか、または置換可能な任意の位置において置換基で置換される(任意の水素原子が置換基と置き換わる)ことを意味する。該「置換基」としては、特に限定されないが、下記(置換基群Z1)または(置換基群Z2)より選択される置換基が挙げられ、各置換基は、下記(置換基群Z)より選択される置換基でさらに置換されていてもよい。 In this specification, the term "optionally substituted" means unsubstituted or substituted with a substituent at any substitutable position (any hydrogen atom is replaced with a substituent). The "substituent" is not particularly limited, but includes a substituent selected from the following (substituent group Z1 ) or (substituent group Z2 ), and each substituent may be further substituted with a substituent selected from the following (substituent group Z).
(置換基群Z1)
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) スルホ基、
(7) ホスホ基、
(8) アジド基、
(9) オキソ基、
(10) 炭化水素基、
(11) アシル基、
(12) 複素環基、
(13) C1-6アルコキシ基、
(14) C3-10シクロアルキルオキシ基、
(15) C2-6アルケニルオキシ基、
(16) C2-6アルキニルオキシ基、
(17) C6-14アリールオキシ基、
(18) C7-16アラルキルオキシ基、
(19) アシルオキシ基、
(20) (a) 炭化水素基、
(b) アシル基、
(c) C1-6アルキルスルホニル基、および
(d) C6-14アリールスルホニル基からなる群より選択される置換基
でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(21) C1-6アルキルスルファニル基、
(22) C1-6アルキルスルホニル基、
(23) C6-14アリールスルホニル基、
(24) ジC1-6アルキルホスフィノ基、
(25) ジC6-14アリールホスフィノ基、
(26) 三置換シリル基、
(27) C1-6アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(28) C6-14アリールスルホニルオキシ基。
(Substituent group Z 1 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) sulfo group,
(7) phospho group,
(8) an azide group,
(9) an oxo group,
(10) hydrocarbon groups,
(11) acyl group,
(12) heterocyclic groups,
(13) a C alkoxy group,
(14) a C cycloalkyloxy group,
(15) a C2-6 alkenyloxy group,
(16) a C alkynyloxy group,
(17) a C aryloxy group,
(18) a C 7-16 aralkyloxy group,
(19) an acyloxy group,
(20) (a) a hydrocarbon group;
(b) an acyl group,
(c) a C 1-6 alkylsulfonyl group, and
(d) an amino group which may be mono- or di-substituted by a substituent selected from the group consisting of C 6-14 arylsulfonyl groups;
(21) a C 1-6 alkylsulfanyl group,
(22) a C 1-6 alkylsulfonyl group,
(23) a C arylsulfonyl group,
(24) a diC alkylphosphino group,
(25) a diC arylphosphino group,
(26) a trisubstituted silyl group,
(27) C 1-6 alkylsulfonyloxy group, and
(28) A C 6-14 arylsulfonyloxy group.
(置換基群Z2)
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) スルホ基、
(7) ホスホ基、
(8) アジド基、
(9) オキソ基、
(10) C3-10シクロアルキル基、
(11) C6-14アリール基、
(12) アシル基、
(13) 複素環基、
(14) C1-6アルコキシ基、
(15) C3-10シクロアルキルオキシ基、
(16) C2-6アルケニルオキシ基、
(17) C2-6アルキニルオキシ基、
(18) C6-14アリールオキシ基、
(19) C7-16アラルキルオキシ基、
(20) アシルオキシ基、
(21) (a) 炭化水素基、
(b) アシル基、
(c) C1-6アルキルスルホニル基、および
(d) C6-14アリールスルホニル基からなる群より選択される置換基
でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(22) C1-6アルキルスルファニル基、
(23) C1-6アルキルスルホニル基、
(24) C6-14アリールスルホニル基、
(25) ジC1-6アルキルホスフィノ基、
(26) ジC6-14アリールホスフィノ基、
(27) 三置換シリル基、
(28) C1-6アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(29) C6-14アリールスルホニルオキシ基。
(Substituent group Z 2 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) sulfo group,
(7) phospho group,
(8) an azide group,
(9) an oxo group,
(10) a C cycloalkyl group,
(11) a C aryl group,
(12) acyl group,
(13) heterocyclic groups,
(14) a C alkoxy group,
(15) a C cycloalkyloxy group,
(16) a C2-6 alkenyloxy group,
(17) a C alkynyloxy group,
(18) a C aryloxy group,
(19) a C 7-16 aralkyloxy group,
(20) an acyloxy group,
(21) (a) a hydrocarbon group;
(b) an acyl group,
(c) a C 1-6 alkylsulfonyl group, and
(d) an amino group which may be mono- or di-substituted by a substituent selected from the group consisting of C 6-14 arylsulfonyl groups;
(22) a C 1-6 alkylsulfanyl group,
(23) a C 1-6 alkylsulfonyl group,
(24) a C arylsulfonyl group,
(25) a diC alkylphosphino group,
(26) a diC arylphosphino group,
(27) a trisubstituted silyl group,
(28) C 1-6 alkylsulfonyloxy group, and
(29) A C 6-14 arylsulfonyloxy group.
(置換基群Z)
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) アジド基、
(7) C1-6アルキル基、
(8) C3-10シクロアルキル基、
(9) C6-14アリール基、
(10) C1-6アルコキシ基、
(11) ホルミル基、
(12) C1-6アルキル-カルボニル基、
(13) C1-6アルコキシ-カルボニル基、
(14) C1-6アルキルスルホニル基、
(15) C1-6アルキル-カルボニルオキシ基、
(16) C1-6アルキルスルファニル基、
(17) 三置換シリル基、
(18) C1-6アルキルスルホニルオキシ基、および
(19) C6-14アリールスルホニルオキシ基。
(Substituent group Z)
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) an azide group,
(7) a C 1-6 alkyl group,
(8) a C 3-10 cycloalkyl group,
(9) a C aryl group,
(10) a C alkoxy group,
(11) formyl group,
(12) a C 1-6 alkyl-carbonyl group,
(13) a C alkoxy -carbonyl group,
(14) a C 1-6 alkylsulfonyl group,
(15) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group,
(16) a C 1-6 alkylsulfanyl group,
(17) a trisubstituted silyl group,
(18) a C 1-6 alkylsulfonyloxy group, and
(19) A C 6-14 arylsulfonyloxy group.
中でも、該置換されてもよい「置換基」として、好ましくは、下記(置換基群Z3)または(置換基群Z4)より選択される置換基である。 Among these, the optionally substituted "substituent" is preferably a substituent selected from the following (substituent group Z 3 ) or (substituent group Z 4 ).
(置換基群Z3)
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) アジド基、
(7) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、
(8) (a) ハロゲン原子、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、および
(c) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC3-10シクロアルキル基、
(9) (a) ハロゲン原子、
(b) シアノ基、
(c) ニトロ基、
(d) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、
(e) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基、
(f) ホルミル基、
(g) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基、および
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニルオキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリール基、
(10) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基、
(11) ホルミル基、
(12) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基、
(13) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ-カルボニル基、
(14) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニル基、
(15) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニルオキシ基、
(16) (a) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC3-10シクロアルキル基、
(c) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリール基、
(d)ホルミル基、
(e)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基、
(f)ハロゲン原子またはC6-14アリール基で置換されていてもよいC1-6アルコキシ-カルボニル基、
(g) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリール-カルボニル基、
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニル基、および
(i) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリールスルホニル基
からなる群より選択される置換基でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(17) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルファニル基、
(18) 三置換シリル基、
(19) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(20) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリールスルホニルオキシ基。
(Substituent group Z 3 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) an azide group,
(7) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom,
(8) (a) a halogen atom,
(b) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and
(c) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(9) (a) a halogen atom,
(b) a cyano group,
(c) a nitro group,
(d) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom;
(e) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom,
(f) a formyl group,
(g) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom, and
(h) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom;
(10) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom,
(11) formyl group,
(12) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(13) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(14) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(15) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom,
(16) (a) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom;
(b) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by a halogen atom;
(c) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(d) a formyl group,
(e) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(f) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted with a halogen atom or a C 6-14 aryl group,
(g) a C 6-14 aryl-carbonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(h) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom, and
(i) an amino group optionally mono- or di-substituted by a substituent selected from the group consisting of a C 6-14 arylsulfonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(17) a C 1-6 alkylsulfanyl group optionally substituted by a halogen atom,
(18) trisubstituted silyl groups,
(19) A C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by a halogen atom, and
(20) A C 6-14 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom.
(置換基群Z4)
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) アジド基、
(7) (a) ハロゲン原子、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、および
(c) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC3-10シクロアルキル基、
(8) (a) ハロゲン原子、
(b) シアノ基、
(c) ニトロ基、
(d) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、
(e) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基、
(f) ホルミル基、
(g) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基、および
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニルオキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリール基、
(9) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基、
(10) ホルミル基、
(11) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基、
(12) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ-カルボニル基、
(13) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニル基、
(14) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニルオキシ基、
(15) (a) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC3-10シクロアルキル基、
(c) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリール基、
(d)ホルミル基、
(e)ハロゲン原子またはC6-14アリール基で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基、
(f)ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ-カルボニル基、
(g) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリール-カルボニル基、
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニル基、および
(i) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリールスルホニル基
からなる群より選択される置換基でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(16) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルファニル基、
(17) 三置換シリル基、
(18) ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(19) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC6-14アリールスルホニルオキシ基。
(Substituent group Z 4 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) an azide group,
(7) (a) a halogen atom,
(b) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and
(c) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(8) (a) a halogen atom,
(b) a cyano group,
(c) a nitro group,
(d) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom;
(e) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom,
(f) a formyl group,
(g) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom, and
(h) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom;
(9) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom,
(10) formyl group,
(11) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(12) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(13) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(14) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom,
(15) (a) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom;
(b) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by a halogen atom;
(c) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(d) a formyl group,
(e) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom or a C 6-14 aryl group,
(f) a C alkoxy -carbonyl group optionally substituted by a halogen atom,
(g) a C 6-14 aryl-carbonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(h) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom, and
(i) an amino group optionally mono- or di-substituted by a substituent selected from the group consisting of a C 6-14 arylsulfonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(16) a C 1-6 alkylsulfanyl group optionally substituted by a halogen atom,
(17) a trisubstituted silyl group,
(18) a C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by a halogen atom, and
(19) A C 6-14 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom.
該置換されてもよい「置換基」の数は、置換可能な数であれば特に限定されないが、好ましくは1ないし6個、より好ましくは1ないし3個である。複数の置換基が存在する場合、各置換基は、同一でも異なっていてもよい。The number of "substituents" that may be substituted is not particularly limited as long as it is a substitutable number, but is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. When multiple substituents are present, the substituents may be the same or different.
本明細書中、「置換されていてもよいアリール基(フェニル基)」、「置換されていてもよい複素環基」または「置換されていてもよい芳香族複素環基(5または6員の単環式芳香族複素環基あるいは8ないし14員の縮合芳香族複素環基)」における置換されてもよい「置換基」としては、前記(置換基群Z)より選択される置換基でさらに置換されていてもよい(置換基群Z1)、または(置換基群Z3)より選択される置換基が挙げられる。 In the present specification, examples of the "optionally substituted substituent" in the "optionally substituted aryl group (phenyl group)", "optionally substituted heterocyclic group" or "optionally substituted aromatic heterocyclic group (5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic group or 8- to 14-membered fused aromatic heterocyclic group)" include (substituent group Z 1 ) which may be further substituted with a substituent selected from the above (substituent group Z) , or a substituent selected from (substituent group Z 3 ) .
本明細書中、「置換されていてもよいアルキル基」における置換されてもよい「置換基」としては、前記(置換基群Z)より選択される置換基でさらに置換されていてもよい(置換基群Z2)、または(置換基群Z4)より選択される置換基が挙げられる。 In the present specification, examples of the "substituent" in the "optionally substituted alkyl group" that may be substituted include (substituent group Z2) which may be further substituted with a substituent selected from the above (substituent group Z ), or a substituent selected from (substituent group Z4 ).
本明細書中、「ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基」としては、例えば、1ないし6個、好ましくは1ないし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル基が挙げられる。具体例としては、メチル、クロロメチル、ジフルオロメチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、エチル、2-ブロモエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、テトラフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、プロピル、2,2―ジフルオロプロピル、3,3,3-トリフルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、4,4,4-トリフルオロブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、5,5,5-トリフルオロペンチル、ヘキシル、6,6,6-トリフルオロヘキシルが挙げられる。 [0033] In the present specification, examples of the " C1-6 alkyl group optionally substituted with one or more halogen atoms" include a C1-6 alkyl group optionally substituted with 1 to 6, preferably 1 to 3, halogen atoms. Specific examples include methyl, chloromethyl, difluoromethyl, trichloromethyl, trifluoromethyl, ethyl, 2-bromoethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, tetrafluoroethyl, pentafluoroethyl, propyl, 2,2-difluoropropyl, 3,3,3-trifluoropropyl, isopropyl, butyl, 4,4,4-trifluorobutyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, 5,5,5-trifluoropentyl, hexyl, and 6,6,6-trifluorohexyl.
本明細書中、「ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基」としては、例えば、1ないし6個、好ましくは1ないし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルコキシ基が挙げられる。具体例としては、メトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、エトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、4,4,4-トリフルオロブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシが挙げられる。 [0033] In the present specification, examples of the "C 1-6 alkoxy group optionally substituted with one or more halogen atoms" include a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with 1 to 6, preferably 1 to 3, halogen atoms. Specific examples include methoxy, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, ethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, 4,4,4-trifluorobutoxy, isobutoxy, sec-butoxy, pentyloxy and hexyloxy.
本明細書中、「ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルファニル基」としては、例えば、1ないし6個、好ましくは1ないし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルチオ基が挙げられる。具体例としては、メチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、4,4,4-トリフルオロブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオが挙げられる。 [0033] In the present specification, examples of the "C 1-6 alkylsulfanyl group optionally substituted with one or more halogen atoms" include a C 1-6 alkylthio group optionally substituted with 1 to 6, preferably 1 to 3, halogen atoms. Specific examples include methylthio, difluoromethylthio, trifluoromethylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, 4,4,4-trifluorobutylthio, pentylthio and hexylthio.
本明細書中、「ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基」としては、例えば、1ないし6個、好ましくは1ないし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニル基が挙げられる。具体例としては、アセチル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、トリクロロアセチル、プロパノイル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイルが挙げられる。 [0033] In the present specification, examples of the "C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted with one or more halogen atoms" include a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted with 1 to 6, preferably 1 to 3, halogen atoms. Specific examples include acetyl, chloroacetyl, trifluoroacetyl, trichloroacetyl, propanoyl, butanoyl, pentanoyl and hexanoyl.
本明細書中、「ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニルオキシ基」としては、例えば、1ないし6個、好ましくは1ないし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキル-カルボニルオキシ基が挙げられる。具体例としては、アセトキシ、クロロアセトキシ、トリフルオロアセトキシ、トリクロロアセトキシ、プロパノイロキシ、ブタノイロキシ、ペンタノイロキシ、ヘキサノイロキシが挙げられる。 [0033] In the present specification, examples of the "C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted with one or more halogen atoms" include a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted with 1 to 6, preferably 1 to 3, halogen atoms. Specific examples include acetoxy, chloroacetoxy, trifluoroacetoxy, trichloroacetoxy, propanoyloxy, butanoyloxy, pentanoyloxy and hexanoyloxy.
本明細書中、「ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニル基」としては、例えば、1ないし6個、好ましくは1ないし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニル基が挙げられる。具体例としては、メチルスルホニル、ジフルオロメチルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、4,4,4-トリフルオロブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニルが挙げられる。 [0033] In the present specification, examples of the "C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted with one or more halogen atoms" include a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted with 1 to 6, preferably 1 to 3, halogen atoms. Specific examples include methylsulfonyl, difluoromethylsulfonyl, trifluoromethylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, butylsulfonyl, 4,4,4-trifluorobutylsulfonyl, pentylsulfonyl and hexylsulfonyl.
本明細書中、「ハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニルオキシ基」としては、例えば、1ないし6個、好ましくは1ないし3個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1-6アルキルスルホニルオキシ基が挙げられる。具体例としては、メチルスルホニルオキシ、ジフルオロメチルスルホニルオキシ、トリフルオロメチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスルホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチルスルホニルオキシ、4,4,4-トリフルオロブチルスルホニルオキシ、ペンチルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオキシが挙げられる。 [0033] In the present specification, examples of the "C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted with one or more halogen atoms" include a C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted with 1 to 6, preferably 1 to 3, halogen atoms. Specific examples include methylsulfonyloxy, difluoromethylsulfonyloxy, trifluoromethylsulfonyloxy, ethylsulfonyloxy, propylsulfonyloxy, isopropylsulfonyloxy, butylsulfonyloxy, 4,4,4-trifluorobutylsulfonyloxy, pentylsulfonyloxy and hexylsulfonyloxy.
本明細書中、「その塩」とは、化合物が酸性基または塩基性基を有する場合に、塩基又は酸と反応させることにより生成する塩を示し、例えば、無機酸との塩、有機酸との塩、無機塩基との塩、有機塩基との塩、アンモニウム塩、アミノ酸との塩等が挙げられる。 In this specification, "its salt" refers to a salt formed by reacting a compound having an acidic or basic group with a base or acid, such as a salt with an inorganic acid, a salt with an organic acid, a salt with an inorganic base, a salt with an organic base, an ammonium salt, or a salt with an amino acid.
(本発明の化合物(I))
以下、化合物(I)の各基について説明する。
(Compound (I) of the present invention)
Each group in compound (I) will be explained below.
で表される基は、それぞれさらに置換されていてもよい、アリール基または芳香族複素環基を表す。 The group represented by represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted.
で表される基は、好ましくは、C6-14アリール基、5または6員の単環式芳香族複素環基あるいは8ないし14員の縮合芳香族複素環基であり、より好ましくは、フェニル基、ナフチル基、あるいは5または6員の単環式芳香族複素環基であり、さらに好ましくは、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基であり、特に好ましくは、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基であり、それぞれ置換可能な位置に置換基をさらに有していてもよい。置換基の数は、置換可能な数であれば特に限定されないが、好ましくは1ないし6個、より好ましくは1ないし3個である。複数の置換基が存在する場合、各置換基は、同一でも異なっていてもよい。さらに置換されていてもよい「置換基」としては、前記した置換基群(例えば、(置換基群Z)より選択される置換基でさらに置換されていてもよい(置換基群Z1)、または(置換基群Z3))より選択される置換基が挙げられる。 The group represented by the formula (I) is preferably a C 6-14 aryl group, a 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic group, or an 8- to 14-membered fused aromatic heterocyclic group, more preferably a phenyl group, a naphthyl group, or a 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic group, even more preferably a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, a furyl group, or a thienyl group, and particularly preferably a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, a furyl group, or a thienyl group, each of which optionally further has a substituent at a substitutable position. The number of substituents is not particularly limited as long as it is a substitutable number, but is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3. When multiple substituents are present, the respective substituents may be the same or different. Examples of "substituents" that may be further substituted include substituents selected from the above-mentioned substituent group (for example, (substituent group Z 1 ) or (substituent group Z 3 ) which may be further substituted with a substituent selected from (substituent group Z)).
R1およびR3は、それぞれ独立して、直鎖状のC1-6アルキル基を表す。 R 1 and R 3 each independently represent a linear C 1-6 alkyl group.
R1およびR3は、好ましくは、それぞれ独立して、直鎖状のC1-4アルキル基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基またはn-プロピル基であり、さらに好ましくは、エチル基である。 Preferably, R 1 and R 3 are each independently a linear C 1-4 alkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group or an n-propyl group, and even more preferably an ethyl group.
R2およびR4は、それぞれ独立して、直鎖状のC2-6アルキル基を表す。 R2 and R4 each independently represent a linear C2-6 alkyl group.
R2およびR4は、好ましくは、直鎖状のC2-4アルキル基であり、より好ましくは、エチル基またはn-プロピル基であり、さらに好ましくは、エチル基である。 R2 and R4 are preferably a linear C2-4 alkyl group, more preferably an ethyl group or an n-propyl group, and even more preferably an ethyl group.
nは、1以上の整数を表す。 n represents an integer of 1 or greater.
nは、好ましくは、1~3の整数であり、より好ましくは、1または2である。 n is preferably an integer from 1 to 3, more preferably 1 or 2.
以下に、好適な化合物(I)を示す。 A suitable compound (I) is shown below.
[化合物(I)-A]
式(I)において、
[Compound (I)-A]
In formula (I),
で表される基が、それぞれさらに、前記(置換基群Z)より選択される置換基でさらに置換されていてもよい(置換基群Z1)より選択される置換基(好ましくは、(置換基群Z3)より選択される置換基)で置換されていてもよい、C6-14アリール基、5または6員の単環式芳香族複素環基あるいは8ないし14員の縮合芳香族複素環基であり、
R1およびR3が、それぞれ独立して、直鎖状のC1-4アルキル基であり、
R2およびR4が、それぞれ独立して、直鎖状のC2-4アルキル基であり、および
nは、1~3の整数である、
化合物(I)。
is a C 6-14 aryl group, a 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic group or an 8- to 14- membered fused aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted with a substituent selected from (substituent group Z 1 ) (preferably a substituent selected from (substituent group Z 3 )), which may further be substituted with a substituent selected from (substituent group Z),
R 1 and R 3 are each independently a linear C 1-4 alkyl group;
R 2 and R 4 are each independently a linear C 2-4 alkyl group, and n is an integer from 1 to 3;
Compound (I).
[化合物(I)-B]
式(I)において、
[Compound (I)-B]
In formula (I),
で表される基が、それぞれさらに、前記(置換基群Z)より選択される置換基でさらに置換されていてもよい(置換基群Z1)より選択される置換基(好ましくは、(置換基群Z3)より選択される置換基)で置換されていてもよい、フェニル基、ナフチル基、あるいは5または6員の単環式芳香族複素環基であり、
R1およびR3が、それぞれ独立して、直鎖状のC1-4アルキル基であり、
R2およびR4が、それぞれ独立して、直鎖状のC2-4アルキル基であり、および
nは、1~3の整数である、
化合物(I)。
is a phenyl group, a naphthyl group, or a 5- or 6-membered monocyclic aromatic heterocyclic group, each of which may be further substituted with a substituent selected from (substituent group Z 1 ) (preferably a substituent selected from (substituent group Z 3 )), which may be further substituted with a substituent selected from (substituent group Z);
R 1 and R 3 are each independently a linear C 1-4 alkyl group;
R 2 and R 4 are each independently a linear C 2-4 alkyl group, and n is an integer from 1 to 3;
Compound (I).
[化合物(I)-C]
式(I)において、
[Compound (I)-C]
In formula (I),
で表される基が、それぞれさらに、前記(置換基群Z3)より選択される置換基で置換されていてもよい、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基であり、
R1およびR3が、それぞれ独立して、直鎖状のC1-4アルキル基であり、
R2およびR4が、それぞれ独立して、直鎖状のC2-4アルキル基であり、および
nは、1~3の整数である、
化合物(I)。
is a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, a furyl group or a thienyl group, each of which may be further substituted by a substituent selected from the above (substituent group Z 3 ),
R 1 and R 3 are each independently a linear C 1-4 alkyl group;
R 2 and R 4 are each independently a linear C 2-4 alkyl group, and n is an integer from 1 to 3;
Compound (I).
[化合物(I)-D]
式(I)において、
[Compound (I)-D]
In formula (I),
で表される基が、それぞれさらに、前記(置換基群Z3)より選択される置換基で置換されていてもよい、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基であり、
R1およびR3が、メチル基、エチル基またはn-プロピル基であり、
R2およびR4が、エチル基またはn-プロピル基であり、および
nは、1または2である、
化合物(I)。
is a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, a furyl group or a thienyl group, each of which may be further substituted by a substituent selected from the above (substituent group Z 3 ),
R 1 and R 3 are a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group;
R2 and R4 are ethyl or n-propyl groups, and n is 1 or 2;
Compound (I).
[化合物(I)-E]
式(I)において、
[Compound (I)-E]
In formula (I),
で表される基が、それぞれさらに、前記(置換基群Z3)より選択される置換基で置換されていてもよい、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基であり、
R1、R2、R3およびR4のすべてが、エチル基またはn-プロピル基であり、およびnは、1または2である、
化合物(I)。
is a phenyl group, a naphthyl group, a pyridyl group, a furyl group or a thienyl group, each of which may be further substituted by a substituent selected from the above (substituent group Z 3 ),
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are all ethyl or n-propyl groups, and n is 1 or 2;
Compound (I).
化合物(I)の好適な具体例としては、例えば、実施例I-1~I-21の化合物が挙げられる。 Specific examples of suitable compounds (I) include the compounds of Examples I-1 to I-21.
化合物(I)が塩である場合、このような塩としては、例えば、前記した無機塩基との塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性アミノ酸との塩、酸性アミノ酸との塩等が挙げられる。 When compound (I) is in the form of a salt, examples of such salts include the salts with the aforementioned inorganic bases, ammonium salts, salts with organic bases, salts with inorganic acids, salts with organic acids, salts with basic amino acids, and salts with acidic amino acids.
無機塩基との塩の好適な例としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩;カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩;アルミニウム塩等が挙げられる。 Suitable examples of salts with inorganic bases include alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts; alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts and barium salts; aluminum salts, etc.
有機塩基との塩の好適な例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、N,N’-ジベンジルエチレンジアミン等との塩が挙げられる。 Suitable examples of salts with organic bases include salts with trimethylamine, triethylamine, pyridine, picoline, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, dicyclohexylamine, N,N'-dibenzylethylenediamine, etc.
無機酸との塩の好適な例としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等との塩が挙げられる。 Suitable examples of salts with inorganic acids include salts with hydrochloric acid, hydrobromic acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, etc.
有機酸との塩の好適な例としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等との塩が挙げられる。 Suitable examples of salts with organic acids include salts with formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, fumaric acid, oxalic acid, tartaric acid, maleic acid, citric acid, succinic acid, malic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、アルギニン、リジン、オルニチン等との塩が挙げられる。 Suitable examples of salts with basic amino acids include salts with arginine, lysine, ornithine, etc.
酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、アスパラギン酸、グルタミン酸等との塩が挙げられる。 Suitable examples of salts with acidic amino acids include salts with aspartic acid, glutamic acid, etc.
化合物(I)は、溶媒和物(例えば、水和物、エタノール和物、ジメチルスルホキシド和物等)および無溶媒和物(例えば、非水和物等)をその範囲内に包含する。 Compound (I) encompasses within its scope solvates (e.g., hydrates, ethanol solvates, dimethyl sulfoxide solvates, etc.) and non-solvates (e.g., non-hydrates, etc.).
化合物(I)は、同位元素(例、2H、3H、11C、14C、18F、35S、125I等)等で標識または置換された化合物であってもよい。 Compound (I) may be a compound labeled or substituted with an isotope (e.g., 2 H, 3 H, 11 C, 14 C, 18 F, 35 S, 125 I, etc.).
化合物(I)が不斉中心を有する場合、エナンチオマーあるいはジアステレオマーなどの異性体が存在しうる。このような異性体およびそれらの混合物はすべて本発明の範囲内に包含される。また、コンホメーションあるいは互変異性による異性体が生成する場合があるが、このような異性体あるいはその混合物も本発明の化合物(I)に含まれる。When compound (I) has an asymmetric center, it may exist in the form of isomers such as enantiomers or diastereomers. All such isomers and mixtures thereof are included within the scope of the present invention. Furthermore, isomers may be produced due to conformation or tautomerism, and such isomers and mixtures thereof are also included in compound (I) of the present invention.
(本発明の化合物の製造方法)
本発明の化合物の製造方法(以下、「本発明の製造方法」と記すこともある。)について以下に説明する。
(Method for producing the compound of the present invention)
The method for producing the compound of the present invention (hereinafter sometimes referred to as "the production method of the present invention") will be explained below.
以下の製造方法における各工程で用いられた原料や試薬、ならびに得られた化合物は、それぞれ塩を形成していてもよい。このような塩としては、例えば、前述の化合物(I)の塩と同様のもの等が挙げられる。The raw materials and reagents used in each step of the following production methods, as well as the resulting compounds, may each form a salt. Examples of such salts include those similar to the salts of compound (I) described above.
各工程で得られた化合物が遊離化合物である場合には、自体公知の方法により、目的とする塩に変換することができる。逆に各工程で得られた化合物が塩である場合には、自体公知の方法により、遊離体または目的とする他の種類の塩に変換することができる。 If the compound obtained in each step is a free compound, it can be converted into the desired salt by a method known per se. Conversely, if the compound obtained in each step is a salt, it can be converted into the free form or another type of desired salt by a method known per se.
各工程で得られた化合物は反応液のままか、または粗生成物として得た後に、次反応に用いることもできる、あるいは、各工程で得られた化合物を、常法に従って、反応混合物から濃縮、晶出、再結晶、蒸留、溶媒抽出、分溜、クロマトグラフィーなどの分離手段により単離および/または精製することができる。 The compounds obtained in each step can be used in the next reaction either as the reaction solution or as a crude product, or they can be isolated and/or purified from the reaction mixture by conventional separation methods such as concentration, crystallization, recrystallization, distillation, solvent extraction, fractional distillation, and chromatography.
各工程の原料や試薬の化合物が市販されている場合には、市販品をそのまま用いることができる。 If the raw materials and reagent compounds for each step are commercially available, the commercially available products can be used as is.
各工程の反応は、特に記載の無い限り、自体公知の方法、例えば、第5版実験化学講座、13巻~19巻(日本化学会編);新実験化学講座、14巻~15巻(日本化学会編);精密有機化学 改訂第2版(L. F. Tietze, Th. Eicher、南江堂);改訂 有機人名反応そのしくみとポイント(東郷秀雄著、講談社);ORGANIC SYNTHESES Collective Volume I~VII(John Wiley & Sons Inc.);Modern Organic Synthesis in the Laboratory A Collection of Standard Experimental Procedures(Jie Jack Li著、OXFORD UNIVERSITY出版);Comprehensive Heterocyclic Chemistry III, Vol.1~Vol.14(エルゼビア・ジャパン株式会社);人名反応に学ぶ有機合成戦略(富岡清監訳、化学同人発行);コンプリヘンシブ・オーガニック・トランスフォーメーションズ(VCH Publishers Inc.)1989年刊等に記載された方法、あるいは実施例に記載された方法に準じて行われる。Unless otherwise specified, the reactions in each step are carried out in accordance with methods known per se, for example, in Experimental Chemistry Lectures, 5th Edition, Vol. 13-19 (edited by the Chemical Society of Japan); New Experimental Chemistry Lectures, Vol. 14-15 (edited by the Chemical Society of Japan); Precision Organic Chemistry, Revised 2nd Edition (L. F. Tietze, Th. Eicher, Nankodo); Revised Organic Named Reactions: Their Mechanisms and Key Points (by Hideo Togo, Kodansha); ORGANIC SYNTHESES Collective Volumes I-VII (John Wiley & Sons Inc.); Modern Organic Synthesis in the Laboratory: A Collection of Standard Experimental Procedures (by Jie Jack Li, Oxford University); Comprehensive Heterocyclic Chemistry III, Vol. 1-14 (Elsevier Japan Co., Ltd.); Organic Synthesis Strategies Learned from Named Reactions (translated and supervised by Kiyoshi Tomioka, published by Kagaku Dojin); Comprehensive Organic Transformations (VCH Publishers Inc., 1989, or the like, or the method described in the Examples.
各工程において、官能基の保護または脱保護反応は、自体公知の方法、例えば、Wiley-Interscience社2007年刊「Protective Groups in Organic Synthesis, 4th Ed.」(Theodora W. Greene, Peter G. M. Wuts著);Thieme社2004年刊「Protecting Groups 3rd Ed.」(P. J. Kocienski著)等に記載された方法、あるいは実施例に記載された方法に準じて行われる。In each step, the protection or deprotection of functional groups is carried out according to known methods, such as those described in "Protective Groups in Organic Synthesis, 4th Ed." (Theodora W. Greene and Peter G. M. Wuts), published by Wiley-Interscience in 2007; "Protecting Groups, 3rd Ed." (P. J. Kocienski), published by Thieme in 2004, or methods described in the Examples.
化合物(I)が、光学異性体、立体異性体、位置異性体、回転異性体を含有する場合には、自体公知の合成手法、分離手法(濃縮、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶など)によりそれぞれを単品として得ることができる。 When compound (I) contains optical isomers, stereoisomers, positional isomers, or rotational isomers, each can be obtained as a single product by known synthesis or separation methods (concentration, solvent extraction, column chromatography, recrystallization, etc.).
光学異性体は自体公知の方法により製造することができる。具体的には、光学活性な合成中間体を用いる、または、最終物のラセミ体を常法に従って光学分割することにより光学異性体を得る。Optical isomers can be produced by methods known per se. Specifically, optically active synthetic intermediates are used, or optical isomers are obtained by optically resolving the final racemic compound using conventional methods.
本発明の製造方法の例として、代表的な製造方法(1)~(3)、ならびに後述する製造例および実施例を以下に述べるが、製造法はこれらに限定されない。 As examples of the manufacturing method of the present invention, representative manufacturing methods (1) to (3) as well as the manufacturing examples and examples described below are described below, but the manufacturing methods are not limited to these.
(製造方法(1))
化合物(I)は、下記反応式1で示される方法またはそれに準じた方法等により製造することができる。
反応式1
(Manufacturing method (1))
Compound (I) can be produced by the method shown in the following reaction scheme 1 or a method analogous thereto.
Reaction Scheme 1
(式中の各記号は前記と同義を示す。) (The symbols in the formula have the same meanings as above.)
本製造方法は、化合物(II)を、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物(III)と反応させる工程を含む、化合物(I)の製造方法である。 This production method is a method for producing compound (I), which includes a step of reacting compound (II) with compound (III) in a solvent that does not adversely affect the reaction.
化合物(III)の使用量は、化合物(II)のボロン酸基1モルに対して、通常1モル~1.5モルであり、好ましくは1モル~1.2モルである。
溶媒としては、特に限定されないが、ジエチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、4-メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素等の水と分離する溶媒が挙げられ、中でも、ジクロロメタンが好ましい。
反応温度は、通常0℃~100℃であり、好ましくは室温(15℃~30℃)である。
反応時間は通常2~24時間であり、好ましくは8~24時間である。
また、反応を加速させるために、触媒量の酢酸を添加してもよい。
The amount of compound (III) used is usually 1 mole to 1.5 moles, preferably 1 mole to 1.2 moles, per mole of the boronic acid group of compound (II).
The solvent is not particularly limited, but examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, cyclopentyl methyl ether, and 4-methyltetrahydropyran; halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; and aromatic hydrocarbons such as toluene and benzene, which are solvents that separate from water. Of these, dichloromethane is preferred.
The reaction temperature is usually 0°C to 100°C, preferably room temperature (15°C to 30°C).
The reaction time is usually 2 to 24 hours, preferably 8 to 24 hours.
In order to accelerate the reaction, a catalytic amount of acetic acid may be added.
(製造方法(2))
化合物(I)は、下記反応式2で示される方法またはそれに準じた方法等により製造することができる。
反応式2
(Manufacturing method (2))
Compound (I) can be produced by the method shown in the following reaction scheme 2 or a method analogous thereto.
Reaction Scheme 2
(式中の各記号は前記と同義を示す。) (The symbols in the formula have the same meanings as above.)
本製造方法は、化合物(IV)を、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、イソプロピルマグネシウムクロリド-塩化リチウム錯体(i-PrMgCl-LiCl)またはn-ブチルリチウム(n-BuLi)と反応させる工程(工程1)後、トリメトキシボラン(B(OMe)3)と反応させる工程(工程2)を経て、化合物(III)と反応させる工程(工程3)を含む、化合物(I)の製造方法である。 This production method is a method for producing compound (I), comprising a step (step 1) of reacting compound (IV) with isopropyl magnesium chloride-lithium chloride complex (i-PrMgCl-LiCl) or n-butyllithium (n-BuLi) in a solvent that does not adversely influence the reaction, a step (step 2) of reacting compound (IV) with trimethoxyborane (B(OMe) 3 ), and a step (step 3) of reacting compound (III).
(工程1)
イソプロピルマグネシウムクロリド-塩化リチウム錯体(i-PrMgCl-LiCl)またはn-ブチルリチウム(n-BuLi)の使用量は、化合物(IV)のX1基1モルに対して、通常1モル~1.5モルであり、好ましくは1.2モルである。
溶媒としては、特に限定されないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒が挙げられ、中でも、テトラヒドロフランが好ましい。
反応温度は、通常-78℃~-10℃であり、好ましくは-78℃~-40℃である。
反応時間は通常0.5~24時間であり、好ましくは1~12時間である。
(Step 1)
The amount of isopropyl magnesium chloride-lithium chloride complex (i-PrMgCl-LiCl) or n-butyllithium (n-BuLi) used is usually 1 mole to 1.5 moles, preferably 1.2 moles, per mole of X group in compound (IV).
The solvent is not particularly limited, but examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, and 1,4-dioxane, and among these, tetrahydrofuran is preferred.
The reaction temperature is usually from -78°C to -10°C, preferably from -78°C to -40°C.
The reaction time is usually 0.5 to 24 hours, preferably 1 to 12 hours.
(工程2)
トリメトキシボラン(B(OMe)3)の使用量は、化合物(IV)のX1基1モルに対して、通常1.5モル~3モル、好ましくは2モルである。
溶媒としては、工程1で使用する溶媒が好ましい。
反応温度は、通常0℃~60℃であり、好ましくは室温(15℃~30℃)である。
反応時間は通常2~24時間であり、好ましくは8~24時間である。
工程2の反応混合物は、後処理後、そのまま工程3に供することができる。
(Step 2)
The amount of trimethoxyborane (B(OMe) 3 ) used is usually 1.5 to 3 moles, preferably 2 moles, per mole of X 1 group in compound (IV).
The solvent is preferably the solvent used in step 1.
The reaction temperature is usually 0°C to 60°C, preferably room temperature (15°C to 30°C).
The reaction time is usually 2 to 24 hours, preferably 8 to 24 hours.
The reaction mixture of step 2 can be subjected to step 3 as it is after post-treatment.
(工程3)
化合物(III)の使用量は、化合物(IV)のX1基1モルに対して、通常1~1.5モルであり、好ましくは1モル~1.2モルである。
溶媒としては、特に限定されないが、ジエチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル、1,4-ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、4-メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素等の水と分離する溶媒が挙げられ、中でも、ジクロロメタンが好ましい。
反応温度は、通常0℃~60℃であり、好ましくは室温(15℃~30℃)である。
反応時間は通常2~24時間であり、好ましくは8~24時間である。
(Step 3)
The amount of compound (III) used is usually 1 to 1.5 moles, preferably 1 to 1.2 moles, per mole of one group X in compound (IV).
The solvent is not particularly limited, but examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,4-dioxane, cyclopentyl methyl ether, and 4-methyltetrahydropyran; halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; and aromatic hydrocarbons such as toluene and benzene, which are solvents that separate from water. Of these, dichloromethane is preferred.
The reaction temperature is usually 0°C to 60°C, preferably room temperature (15°C to 30°C).
The reaction time is usually 2 to 24 hours, preferably 8 to 24 hours.
(製造方法(3))
化合物(I)は、下記反応式3で示される方法またはそれに準じた方法等により製造することができる。
反応式3
(Manufacturing method (3))
Compound (I) can be produced by the method shown in the following reaction scheme 3 or a method analogous thereto.
Reaction Scheme 3
(式中の各記号は前記と同義を示す。) (The symbols in the formula have the same meanings as above.)
本製造方法は、化合物(V)を、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、金属触媒存在下、化合物(VI)と反応させる工程(工程1)を含む、化合物(I)の製造方法である。 This production method is a method for producing compound (I), which includes a step (step 1) of reacting compound (V) with compound (VI) in a solvent that does not adversely affect the reaction in the presence of a metal catalyst.
化合物(VI)の使用量は、化合物(V)のX2基1モルに対して、通常1モル~2モルであり、好ましくは1.5モルである。金属触媒としては、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、[1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム(II)ジクロリド(PdCl2(dppp))、1、1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン-パラジウム(II)ジクロリド、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム(II)等のパラジウム触媒;ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛等の亜鉛触媒;トリスアセチルアセトナト鉄(III)(Fe(acac)3)、塩化鉄(II)等の鉄触媒;テトラキス(1,3-ジシクロヘキシルイミダゾリン-2-イリデン)(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)[Ni2(Icy)4(μ-(η2:η2)-COD)]、ビス(1,3-ジシクロヘキシルイミダゾリン-2-イリデン)(エチレン)ニッケル(0)[Ni(Icy)2(η2-C2H4)]、テトラキス(1,3-ジシクロヘキシルイミダゾリン-2-イリデン)(シクロオクテン)ニッケル(0)[Ni(Icy)2(η2-COE)]等のニッケル触媒;オキサゾイリニルフェロセニルホスフィンコバルト(II)、ジフェニルホスフィノフェロセン塩化コバルト(II)、トリス(アセチルアセトナト)コバルト(III)等のコバルト触媒;塩化セリウム(III)等のセリウム触媒;ヨウ化銅(I)、塩化銅(I)、臭化銅(I)、フェナントロリンヨウ化銅(I)等の銅触媒;ヨウ化マンガン(II)、臭化マンガン(II)、塩化マンガン(II)、二酸化マンガン(IV)等のマンガン触媒等が挙げられ、好ましくは、パラジウム触媒であり、中でも、[1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム(II)ジクロリド(PdCl2(dppp))がより好ましい。
また、必要に応じて、2-ビス(シクロヘキシルホスフィノ)ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピルビフェニル(XPhos)、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジイソプロポキシビフェニル(RuPhos)、3,6-ジメトキシ―2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピルビフェニル(BrettPhos)などのホスフィンリガンド、1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾリウム塩等のNHCリガンド前駆体を添加してもよい。
金属触媒の使用量は、化合物(V)のX2基1モルに対して、通常0.001モル~0.5モルであり、好ましくは0.01モル~0.2モルであり、より好ましくは0.01~0.1モルである。
溶媒としては、使用する金属触媒の種類等に応じて任意に選択することが可能であるが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等が挙げられ、中でも、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドが好ましい。
本工程は、必要に応じて塩基を添加してもよい。
塩基としては、例えば、ナトリウム tert-ブトキシド、カリウム メトキシド、ナトリウム メトキシド、マグネシウム tert-ブトキシド、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、フッ化カリウム、フッ化セシウム等が挙げられ、中でも、酢酸カリウム、酢酸ナトリウムが好ましい。
塩基の使用量は、化合物(V)のX2基1モルに対して、通常1モル~10モルであり、好ましくは1モル~5モルであり、より好ましくは1.5~3モルである。
反応温度は、通常0℃~100℃であり、好ましくは60℃~100℃であり、より好ましくは80℃である。
反応時間は通常1~12時間であり、好ましくは1~3時間である。
The amount of compound (VI) used is usually 1 to 2 moles, preferably 1.5 moles, per mole of X 2 group of compound (V). Examples of the metal catalyst include palladium catalysts such as palladium(II) acetate, palladium(II) chloride, [1,3-bis(diphenylphosphino)propane]palladium(II) dichloride (PdCl 2 (dppp)), 1,1-bis(diphenylphosphino)ferrocene-palladium(II) dichloride, dichlorobis(triphenylphosphine)palladium(II), and dichlorobis(tricyclohexylphosphine)palladium(II); zinc catalysts such as dimethylzinc and diethylzinc; iron catalysts such as trisacetylacetonatoiron(III) (Fe(acac) 3 ) and iron(II) chloride; and tetrakis(1,3-dicyclohexylimidazolin-2-ylidene)(1,5-cyclooctadiene)nickel(0) [Ni 2 (Icy) 4 (μ-(η 2 :η 2 )-COD)], bis(1,3-dicyclohexylimidazolin-2-ylidene)(ethylene)nickel(0) [Ni(Icy) 2 (η 2 -C 2 H 4 )], tetrakis(1,3-dicyclohexylimidazolin-2-ylidene)(cyclooctene)nickel(0) [Ni(Icy) 2 (η 2 cobalt catalysts such as oxazolidinylferrocenylphosphine cobalt(II), diphenylphosphinoferrocene cobalt(II) chloride, and tris(acetylacetonato)cobalt(III); cerium catalysts such as cerium(III) chloride; copper catalysts such as copper(I) iodide, copper(I) chloride, copper(I) bromide, and phenanthroline copper(I) iodide; and manganese catalysts such as manganese(II) iodide, manganese(II) bromide, manganese(II) chloride, and manganese(IV) dioxide. Palladium catalysts are preferred, and [1,3-bis(diphenylphosphino)propane]palladium(II) dichloride (PdCl 2 (dppp)) is more preferred.
Furthermore, if necessary, a phosphine ligand such as 2-bis(cyclohexylphosphino)biphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2',4',6'-triisopropylbiphenyl (XPhos), 2-dicyclohexylphosphino-2',6'-diisopropoxybiphenyl (RuPhos), or 3,6-dimethoxy-2-dicyclohexylphosphino-2',4',6'-triisopropylbiphenyl (BrettPhos), or an NHC ligand precursor such as 1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazolium salt may be added.
The amount of the metal catalyst used is usually 0.001 to 0.5 moles, preferably 0.01 to 0.2 moles, more preferably 0.01 to 0.1 moles, per mole of X2 group in compound (V).
The solvent can be arbitrarily selected depending on the type of metal catalyst used and the like, and examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, and 1,4-dioxane; halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; and sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, and among these, tetrahydrofuran and dimethyl sulfoxide are preferred.
In this step, a base may be added as needed.
Examples of the base include sodium tert-butoxide, potassium methoxide, sodium methoxide, magnesium tert-butoxide, potassium acetate, sodium acetate, tripotassium phosphate, cesium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylethylamine, potassium fluoride, and cesium fluoride, and among these, potassium acetate and sodium acetate are preferred.
The amount of the base used is usually 1 to 10 moles, preferably 1 to 5 moles, more preferably 1.5 to 3 moles, per mole of X 2 group of compound (V).
The reaction temperature is usually 0°C to 100°C, preferably 60°C to 100°C, and more preferably 80°C.
The reaction time is usually 1 to 12 hours, preferably 1 to 3 hours.
製造方法(3)で使用する化合物(VI)は、下記反応式4で示される方法またはそれに準じた方法等により製造することができる。
反応式4
Compound (VI) used in production method (3) can be produced by the method shown in the following reaction scheme 4 or a method similar thereto.
Reaction Scheme 4
(式中の各記号は前記と同義を示す。) (The symbols in the formula have the same meanings as above.)
本製造方法は、塩基存在下、テトラヒドロキシジボロン(化合物(XII))を、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物(III)と脱水縮合させる工程を含む。 This production method includes a step of dehydrating and condensing tetrahydroxydiboron (compound (XII)) with compound (III) in the presence of a base in a solvent that does not adversely affect the reaction.
化合物(III)の使用量は、化合物(XII)1モルに対して、通常2モル~3モルであり、好ましくは2モルである。
塩基としては、例えば、ナトリウム tert-ブトキシド、カリウム メトキシド、ナトリウム メトキシド、マグネシウム tert-ブトキシド、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、フッ化カリウム、フッ化セシウム、炭酸ルビジウム等が挙げられ、中でも、酢酸カリウムが好ましい。
塩基の使用量は、化合物(XII)1モルに対して、通常2モル~5モルであり、好ましくは2モル~3モルである。
溶媒としては、特に限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒が挙げられ、中でも、トルエンが好ましい。
反応温度は、溶媒の加熱還流温度が好ましく、通常、本工程は、ディーン・スターク(Dean-Stark)装置を用いて行われる。
反応時間は通常2~36時間であり、好ましくは12~24時間である。
The amount of compound (III) used is usually 2 to 3 moles, preferably 2 moles, per mole of compound (XII).
Examples of the base include sodium tert-butoxide, potassium methoxide, sodium methoxide, magnesium tert-butoxide, potassium acetate, sodium acetate, tripotassium phosphate, cesium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylethylamine, potassium fluoride, cesium fluoride, rubidium carbonate, and the like, and among these, potassium acetate is preferred.
The amount of the base used is usually 2 to 5 moles, preferably 2 to 3 moles, per mole of compound (XII).
The solvent is not particularly limited, but examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene, and among these, toluene is preferred.
The reaction temperature is preferably the reflux temperature of the solvent, and this step is usually carried out using a Dean-Stark apparatus.
The reaction time is usually 2 to 36 hours, preferably 12 to 24 hours.
上記製造方法(1)~(3)により得られる化合物(I)は、対応するボロン酸ピナコールエステルと比較して、極めて安定であるため、後述する試験例に記載のとおり、シリカゲルクロマトグラフィー(シリカゲルカラムクロマトグラフィー、薄層シリカゲルクロマトグラフィー等)により容易かつ良好な回収率にて精製することができる。また、対応するボロン酸ピナコールエステルからボロン酸への脱保護反応条件下(すなわち、塩酸-過ヨウ素酸ナトリウムを用いる脱保護反応条件下)でも、化合物(I)は、安定に存在し得、酸性条件下で高い安定性を示すことが確認された。 Compound (I) obtained by the above production methods (1) to (3) is extremely stable compared to the corresponding pinacol boronate ester. Therefore, as described in the test examples below, it can be easily purified with good recovery rates by silica gel chromatography (silica gel column chromatography, thin-layer silica gel chromatography, etc.). Furthermore, it was confirmed that compound (I) remains stable even under deprotection reaction conditions for the corresponding pinacol boronate ester to boronic acid (i.e., deprotection reaction conditions using hydrochloric acid-sodium periodate), and exhibits high stability under acidic conditions.
(本発明の化合物(I)を用いる各種官能基化方法)
化合物(I)は、対応するボロン酸ピナコールエステルと比較して安定性に優れるだけでなく、対応するボロン酸ピナコールエステルと同様、各種官能基化反応に幅広く使用することができる。以下に、化合物(I)を用いる各種官能基化方法の例として、代表的な例を述べるが、適用可能な官能基化方法はこれらに限定されない。化合物(I)は、ボロン酸ピナコールエステルを用いた従来公知の各種官能基化反応全般に適用可能である。
(Various functionalization methods using compound (I) of the present invention)
Compound (I) is not only more stable than the corresponding pinacol boronate ester, but can also be used in a wide variety of functionalization reactions, similar to the corresponding pinacol boronate ester. Representative examples of various functionalization methods using compound (I) are described below, but applicable functionalization methods are not limited to these. Compound (I) is generally applicable to various conventionally known functionalization reactions using pinacol boronate esters.
(ビアリールカップリング反応(鈴木-宮浦カップリング反応))
下記反応式5で示される方法またはそれに準じた方法に従い、金属触媒および塩基の存在下、化合物(VII)と化合物(I)を反応させることにより化合物(VIII)を製造することができる。
反応式5
(Biaryl Coupling Reaction (Suzuki-Miyaura Coupling Reaction))
Compound (VIII) can be produced by reacting compound (VII) with compound (I) in the presence of a metal catalyst and a base according to the method shown in the following reaction scheme 5 or a method similar thereto.
Reaction Scheme 5
(式中の各記号は前記と同義を示す。) (The symbols in the formula have the same meanings as above.)
化合物(VII)の使用量は、化合物(I)のボリルエステル基1モルに対して、通常0.5モル~0.7モルであり、好ましくは0.7モルである。
金属触媒としては、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、塩化パラジウム(II)・ジフェニルホスフィノフェロセン(PdCl2(dppf))、パラジウム炭素(0)等のパラジウム触媒;ヨウ化銅(I)、臭化銅(I)、塩化銅(I)、塩化銅(II)等の銅触媒;ビス(1,5-シクロオクタジエン)ニッケル(0)、ビス(アセチルアセトナト)ニッケル(II)等のニッケル触媒;ジクロロ(p-シメン)ルテニウム(II)二量体、ルテニウムアルミナ等のルテニウム触媒等が挙げられ、好ましくは、パラジウム触媒であり、中でも、酢酸パラジウム(II)がより好ましい。
また、必要に応じて、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジメトキシビフェニル(SPhos)、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピルビフェニル(XPhos)、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジイソプロポキシビフェニル(RuPhos)、3,6-ジメトキシ―2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピルビフェニル(BrettPhos)、トリ-t-ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、[4-(N,N-ジメチルアミノ)フェニル]ジ-tert-ブチルホスフィン(AmPhos)、(S)-1-[(RP)-2-(ジシクロヘキシルホスフィノ)フェロセニル]エチルジ-tert-ブチルホスフィン(JosiPhos)等のホスフィンリガンドを添加してもよい。
金属触媒の使用量は、化合物(I)のボリルエステル基1モルに対して、通常0.001モル~0.5モルであり、好ましくは0.005モル~0.1モルであり、より好ましくは0.005~0.05モルである。
溶媒としては、使用する金属触媒の種類等に応じて任意に選択することが可能であるが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;またはこれら有機溶媒と水との混合溶媒等が挙げられ、中でも、トルエンと水の混合溶媒が好ましい。
塩基としては、例えば、水酸化カリウム、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、フッ化カリウム、フッ化セシウム、炭酸ルビジウム等が挙げられ、中でも、リン酸三カリウムが好ましい。
塩基の使用量は、化合物(I)のボリルエステル基1モルに対して、通常1モル~10モルであり、好ましくは1モル~5モルであり、より好ましくは1.5~3モルである。
反応温度は、通常60℃~120℃であり、好ましくは90℃~120℃であり、より好ましくは110℃である。
反応時間は通常1~48時間であり、好ましくは12~24時間である。
The amount of compound (VII) used is usually 0.5 to 0.7 moles, preferably 0.7 moles, per mole of the boryl ester group of compound (I).
Examples of the metal catalyst include palladium catalysts such as palladium(II) acetate, palladium(II) chloride, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium(0), bis(dibenzylideneacetone)palladium(0), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0), palladium(II) chloride.diphenylphosphinoferrocene (PdCl 2 (dppf)), and palladium on carbon(0); copper catalysts such as copper(I) iodide, copper(I) bromide, copper(I) chloride, and copper(II) chloride; nickel catalysts such as bis(1,5-cyclooctadiene)nickel(0) and bis(acetylacetonato)nickel(II); and ruthenium catalysts such as dichloro(p-cymene)ruthenium(II) dimer and ruthenium alumina. Palladium catalysts are preferred, and palladium(II) acetate is more preferred.
Furthermore, if necessary, a phosphine ligand such as 2-dicyclohexylphosphino-2',6'-dimethoxybiphenyl (SPhos), 2-dicyclohexylphosphino-2',4',6'-triisopropylbiphenyl (XPhos), 2-dicyclohexylphosphino-2',6'-diisopropoxybiphenyl (RuPhos), 3,6-dimethoxy-2-dicyclohexylphosphino-2',4',6'-triisopropylbiphenyl (BrettPhos), tri-t-butylphosphine, tricyclohexylphosphine, [4-(N,N-dimethylamino)phenyl]di-tert-butylphosphine (AmPhos), or (S)-1-[(RP)-2-(dicyclohexylphosphino)ferrocenyl]ethyldi-tert-butylphosphine (JosiPhos) may be added.
The amount of the metal catalyst used is usually 0.001 to 0.5 moles, preferably 0.005 to 0.1 moles, and more preferably 0.005 to 0.05 moles, per mole of the boryl ester group of compound (I).
The solvent can be arbitrarily selected depending on the type of metal catalyst used and other factors, and examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, and 1,4-dioxane; halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; and mixed solvents of these organic solvents with water, and among these, a mixed solvent of toluene and water is preferred.
Examples of the base include potassium hydroxide, potassium acetate, sodium acetate, tripotassium phosphate, cesium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylethylamine, potassium fluoride, cesium fluoride, rubidium carbonate, and the like, and among these, tripotassium phosphate is preferred.
The amount of the base used is usually 1 to 10 moles, preferably 1 to 5 moles, more preferably 1.5 to 3 moles, per mole of the boryl ester group of compound (I).
The reaction temperature is usually 60°C to 120°C, preferably 90°C to 120°C, and more preferably 110°C.
The reaction time is usually 1 to 48 hours, preferably 12 to 24 hours.
(酸化反応)
下記反応式6で示される方法またはそれに準じた方法に従い、化合物(I)を過酸と反応させることにより化合物(IX)を製造することができる。
反応式6
(Oxidation reaction)
Compound (IX) can be produced by reacting compound (I) with a peracid according to the method shown in the following reaction scheme 6 or a method similar thereto.
Reaction Scheme 6
(式中の各記号は前記と同義を示す。) (The symbols in the formula have the same meanings as above.)
過酸の使用量は、化合物(I)のボリルエステル基1モルに対して、通常1モル~2モルであり、好ましくは1モル~1.5モルである。
過酸としては、過ホウ素酸ナトリウム(NaBO3)、過ヨウ素酸ナトリウム(酸性条件下)、過酸化水素等が挙げられ、中でも、過ホウ素酸ナトリウム(NaBO3)またはその水和物が好ましい。
溶媒としては、使用する過酸の種類等に応じて任意に選択することが可能であるが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;またはこれら有機溶媒と水との混合溶媒等が挙げられ、中でも、テトラヒドロフランと水の混合溶媒が好ましい。
反応温度は、通常0℃~100℃であり、好ましくは室温(15℃~30℃)である。
反応時間は通常1~48時間であり、好ましくは8~24時間である。
The amount of peracid used is usually 1 to 2 moles, preferably 1 to 1.5 moles, per mole of the boryl ester group of compound (I).
Examples of peracids include sodium perborate (NaBO 3 ), sodium periodate (under acidic conditions), and hydrogen peroxide, and among these, sodium perborate (NaBO 3 ) or its hydrate is preferred.
The solvent can be arbitrarily selected depending on the type of peracid used and other factors, and examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, and 1,4-dioxane; halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; and mixed solvents of these organic solvents with water, and among these, a mixed solvent of tetrahydrofuran and water is preferred.
The reaction temperature is usually 0°C to 100°C, preferably room temperature (15°C to 30°C).
The reaction time is usually 1 to 48 hours, preferably 8 to 24 hours.
(アミノ化反応)
下記反応式7で示される方法またはそれに準じた方法に従い、金属触媒および塩基の存在下、化合物(I)を化合物(X)と反応させることにより化合物(XI)を製造することができる。
反応式7
(Amination reaction)
Compound (XI) can be produced by reacting compound (I) with compound (X) in the presence of a metal catalyst and a base according to the method shown in the following reaction scheme 7 or a method analogous thereto.
Reaction Scheme 7
(式中の各記号は前記と同義を示す。) (The symbols in the formula have the same meanings as above.)
化合物(X)の使用量は、化合物(I)のボリルエステル基1モルに対して、通常0.5モル~2モルであり、好ましくは0.5モル~1モルである。
金属触媒としては、酢酸銅(II)、塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)、硝酸銅(II)、ビス(トリフルオロメタンスルホン酸)銅(I)、ビス(トリフルオロ酢酸)銅(I)等の銅触媒;塩化ニッケル(II)、酢酸ニッケル(II)、硝酸ニッケル(II)等のニッケル触媒等が挙げられ、好ましくは、銅触媒であり、中でも、酢酸銅がより好ましい。
金属触媒の使用量は、化合物(I)のボリルエステル基1モルに対して、通常0.001モル~0.5モルであり、好ましくは0.005モル~0.1モルであり、より好ましくは0.01~0.05モルである。
溶媒としては、使用する金属触媒の種類等に応じて任意に選択することが可能であるが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒;クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;またはこれら有機溶媒と水との混合溶媒等が挙げられ、中でも、アセトニトリルが好ましい。
塩基としては、例えば、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、フッ化カリウム、フッ化セシウム、炭酸ルビジウム等が挙げられ、中でも、フッ化セシウムが好ましい。
塩基の使用量は、化合物(I)のボリルエステル基1モルに対して、通常0.5モル~10モルであり、好ましくは0.5モル~3モルであり、より好ましくは0.5~1モルである。
反応温度は、通常15℃~100℃であり、好ましくは20℃~60℃であり、より好ましくは40℃である。
反応時間は通常1~48時間であり、好ましくは12~24時間である。
The amount of compound (X) used is usually 0.5 to 2 moles, preferably 0.5 to 1 mole, per mole of the boryl ester group of compound (I).
Examples of the metal catalyst include copper catalysts such as copper(II) acetate, copper(I) chloride, copper(I) bromide, copper(I) iodide, copper(II) nitrate, copper(I) bis(trifluoromethanesulfonate), and copper(I) bis(trifluoroacetate); and nickel catalysts such as nickel(II) chloride, nickel(II) acetate, and nickel(II) nitrate. Of these, copper catalysts are preferred, and copper acetate is more preferred.
The amount of the metal catalyst used is usually 0.001 to 0.5 moles, preferably 0.005 to 0.1 moles, more preferably 0.01 to 0.05 moles, per mole of the boryl ester group of compound (I).
The solvent can be arbitrarily selected depending on the type of metal catalyst used and other factors, and examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, methyl tert-butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, and 1,4-dioxane; halogenated hydrocarbons such as chloroform and dichloromethane; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; and mixed solvents of these organic solvents with water, and among these, acetonitrile is preferred.
Examples of the base include potassium acetate, sodium acetate, tripotassium phosphate, cesium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylethylamine, potassium fluoride, cesium fluoride, rubidium carbonate, and the like, and among these, cesium fluoride is preferred.
The amount of the base used is usually 0.5 to 10 moles, preferably 0.5 to 3 moles, more preferably 0.5 to 1 mole, per mole of the boryl ester group of compound (I).
The reaction temperature is usually 15°C to 100°C, preferably 20°C to 60°C, and more preferably 40°C.
The reaction time is usually 1 to 48 hours, preferably 12 to 24 hours.
本発明は、更に以下の製造例、実施例、および試験例によって詳しく説明されるが、これらは本発明を限定するものではなく、本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。 The present invention is further explained in detail by the following manufacturing examples, examples, and test examples, but these do not limit the present invention and may be modified without departing from the scope of the present invention.
反応は、Merck 60 F254 シリカゲルプレート(厚さ0.25mm)を用いて、薄層クロマトグラフィーによりモニターした。
融点(mp)は全て未補正である。融点は、ヤナコMP-S3を用いて測定した。
赤外線吸収(IR)スペクトルは、島津FTIR IR Affinity 1Sを使用して薄膜法で測定した。
高分解能質量分析(HRMS)は、JEOL JMS-S3000(MALDI)またはJEOL JMS-700(EI、CI、FAB)を用いて測定した。
1H及び13C-NMRスペクトルは、JEOL JNM-ECA500、JEOL ECS400、JEOL ECS300を用い、重クロロホルムを溶媒として測定した。1H-NMRについてのデータは、化学シフト(δppm)、多重度(s=シングレット、d=ダブレット、t=トリプレット、q=カルテット、quint=クインテット、m=マルチプレット、dd=ダブルダブレット、dt=ダブルトリプレット、brs=ブロードシングレット)、カップリング定数(Hz)、積分及び割当てとして報告する。
フラッシュクロマトグラフィーは、関東化学株式会社(日本、東京)のシリカゲル60Nを用いて行った。
薄層クロマトグラフィーでは、化合物のUV吸収(波長:254nm)を観察すると共に、呈色試薬として、アニスアルデヒドまたはセリウムモリブデン酸アンモニウムを用いた。
以下の製造例、実施例、および試験例に使用する試薬及び材料は特に断らない限り商業的に入手可能である。
また、「室温」とは、特記しない限り、15~30℃の温度を表す。混合溶媒において示した比は、特に断らない限り容積比を示す。%は、特に断らない限り重量%を示す。
The reaction was monitored by thin layer chromatography using Merck 60 F254 silica gel plates (0.25 mm thick).
All melting points (mp) are uncorrected and were measured using a Yanaco MP-S3.
Infrared absorption (IR) spectra were measured by the thin film method using a Shimadzu FTIR IR Affinity 1S.
High-resolution mass spectrometry (HRMS) was measured using a JEOL JMS-S3000 (MALDI) or a JEOL JMS-700 (EI, CI, FAB).
1 H and 13 C-NMR spectra were measured using a JEOL JNM-ECA500, a JEOL ECS400, and a JEOL ECS300 in deuterated chloroform as the solvent. 1 H-NMR data are reported as chemical shifts (δ ppm), multiplicities (s = singlet, d = doublet, t = triplet, q = quartet, quint = quintet, m = multiplet, dd = double doublet, dt = double triplet, brs = broad singlet), coupling constants (Hz), integrals, and assignments.
Flash chromatography was performed using silica gel 60N from Kanto Chemical Co., Ltd. (Tokyo, Japan).
In the thin layer chromatography, UV absorption (wavelength: 254 nm) of the compound was observed, and anisaldehyde or cerium ammonium molybdate was used as a color reagent.
Reagents and materials used in the following Preparations, Examples, and Test Examples are commercially available unless otherwise specified.
Unless otherwise specified, "room temperature" refers to a temperature of 15 to 30°C. Ratios shown in mixed solvents are by volume unless otherwise specified. % refers to weight % unless otherwise specified.
以下の実施例においては下記の略号を使用する。
Mp:融点
M:モル濃度
N:規定度
CDCl3:重クロロホルム
1H NMR:プロトン核磁気共鳴
13C NMR:カーボン核磁気共鳴
CH2Cl2: ジクロロメタン
CH3CN : アセトニトリル
t-BuCN : ピバロニトリル
Et3N : トリエチルアミン
TiCl4 : 四塩化チタン
EtMgBr:臭化エチルマグネシウム
AcOK:酢酸カリウム
i-PrMgCl-LiCl : イソプロピルマグネシウムクロリド-塩化リチウム錯体
HRMS : 高分解能質量分析
THF : テトラヒドロフラン
SPhos : 2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジメトキシビフェニル
DMSO : ジメチルスルホキシド
PdCl2(dppp) : [1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム(II)ジクロリド
The following abbreviations are used in the following examples:
Mp: Melting point
M: Molar concentration
N: Normality
CDCl 3 : deuterated chloroform
1 H NMR: proton nuclear magnetic resonance
13 C NMR: Carbon nuclear magnetic resonance
CH2Cl2 : dichloromethane
CH 3 CN: acetonitrile
t-BuCN: pivalonitrile
Et 3 N: Triethylamine
TiCl 4 : Titanium tetrachloride
EtMgBr: Ethyl magnesium bromide
AcOK: Potassium acetate
i-PrMgCl-LiCl: Isopropyl magnesium chloride-lithium chloride complex
HRMS: High resolution mass spectrometry
THF: tetrahydrofuran
SPhos: 2-dicyclohexylphosphino-2',6'-dimethoxybiphenyl
DMSO: dimethyl sulfoxide
PdCl 2 (dppp) : [1,3-bis(diphenylphosphino)propane]palladium(II) dichloride
製造例1
3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールの合成
Production Example 1
Synthesis of 3,4-diethylhexane-3,4-diol
窒素気流下、亜鉛粉末を1.0M塩酸中で30分撹拌し、蒸留水とジエチルエーテルで洗浄後、減圧下で6時間乾燥させ、アルゴン雰囲気下で保存したものを活性亜鉛粉末として用いた。
活性亜鉛粉末(13g,0.20mol)のジクロロメタン(0.40L)懸濁液に、1.0M四塩化チタンのジクロロメタン溶液(0.10L,0.10mol)を加えた後、ピバロニトリル(40mL,0.40mol)を0℃にてゆっくりと滴下した。反応懸濁液をさらに30分間、室温にて撹拌した後、ジエチルケトン(11mL,0.10mol)のジクロロメタン(0.25L)溶液を0℃にてゆっくりと滴下した。滴下後、反応混合物を室温にて16時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を室温にて加え、反応を停止した。反応溶液をセライトろ過し、ジクロロメタンで3回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル=9:1)にて精製することにより、3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオール(6.2g,収率71%)を無色固体として得た。
Mp 25.7-26.1℃;
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ: 0.94 (12H, t, J= 7.5 Hz), 1.58-1.65 (8H, m), 1.98 (2H, s);
13C NMR (100MHz, CDCl3) δ: 9.0, 27.3, 78.8.
Zinc powder was stirred in 1.0 M hydrochloric acid under a nitrogen stream for 30 minutes, washed with distilled water and diethyl ether, dried under reduced pressure for 6 hours, and stored under an argon atmosphere to be used as activated zinc powder.
To a suspension of activated zinc powder (13 g, 0.20 mol) in dichloromethane (0.40 L) was added a 1.0 M solution of titanium tetrachloride in dichloromethane (0.10 L, 0.10 mol), and then pivalonitrile (40 mL, 0.40 mol) was slowly added dropwise at 0°C. The reaction suspension was stirred for an additional 30 minutes at room temperature, and then a solution of diethyl ketone (11 mL, 0.10 mol) in dichloromethane (0.25 L) was slowly added dropwise at 0°C. After the addition, the reaction mixture was stirred at room temperature for 16 hours, and then saturated aqueous ammonium chloride solution was added at room temperature to quench the reaction. The reaction solution was filtered through Celite, extracted three times with dichloromethane, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After distilling off the solvent, the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 9:1) to obtain 3,4-diethylhexane-3,4-diol (6.2 g, yield 71%) as a colorless solid.
Mp 25.7-26.1℃;
1 H NMR (400MHz, CDCl 3 ) δ: 0.94 (12H, t, J= 7.5 Hz), 1.58-1.65 (8H, m), 1.98 (2H, s);
13C NMR (100MHz, CDCl 3 ) δ: 9.0, 27.3, 78.8.
製造例2
4,5-ジプロピルオクタン-4,5-ジオールの合成
Production Example 2
Synthesis of 4,5-dipropyloctane-4,5-diol
製造例1と同様の方法により調製した活性亜鉛粉末(6.5g,0.10mol)のジクロロメタン(0.20L)懸濁液に、1.0M四塩化チタンのジクロロメタン溶液(50mL,50mmol)を加えた後、ピバロニトリル(22mL,0.20mol)を0℃にてゆっくりと滴下した。反応懸濁液をさらに30分間、室温にて撹拌した後、4-ヘプタノン(7.0mL,50mmol)のジクロロメタン(0.15L)溶液を0℃にてゆっくりと滴下した。滴下後、反応混合物を室温にて16時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を室温にて加え、反応を停止した。反応溶液をセライトろ過し、ジクロロメタンで3回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル=90:10)にて精製することにより、4,5-ジプロピルオクタン-4,5-ジオール(3.0g,収率52%)を無色固体として得た。
Mp 75.1-76.3 ℃;
1H NMR (300MHz, CDCl3) δ: 0.91 (12H, t, J= 7.0 Hz), 1.31-1.57 (16H, m), 1.91 (2H, s);
13C NMR (100MHz, CDCl3) δ: 15.1, 17.8, 38.0, 78.7.
To a suspension of activated zinc powder (6.5 g, 0.10 mol) in dichloromethane (0.20 L) prepared by the same method as in Preparation Example 1, a 1.0 M solution of titanium tetrachloride in dichloromethane (50 mL, 50 mmol) was added, and then pivalonitrile (22 mL, 0.20 mol) was slowly added dropwise at 0°C. The reaction suspension was stirred for an additional 30 minutes at room temperature, and then a solution of 4-heptanone (7.0 mL, 50 mmol) in dichloromethane (0.15 L) was slowly added dropwise at 0°C. After the addition, the reaction mixture was stirred at room temperature for 16 hours, and saturated aqueous ammonium chloride solution was added at room temperature to quench the reaction. The reaction solution was filtered through Celite, extracted three times with dichloromethane, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate=90:10) to obtain 4,5-dipropyloctane-4,5-diol (3.0 g, yield 52%) as a colorless solid.
Mp 75.1-76.3 °C;
1 H NMR (300MHz, CDCl 3 ) δ: 0.91 (12H, t, J= 7.0 Hz), 1.31-1.57 (16H, m), 1.91 (2H, s);
13C NMR (100MHz, CDCl 3 ) δ: 15.1, 17.8, 38.0, 78.7.
製造例3
3,4-ジメチルヘキサン-3,4-ジオールの合成
Production Example 3
Synthesis of 3,4-dimethylhexane-3,4-diol
窒素気流下、ジアセチル(4.4mL,50mmol)のTHF(0.10L)溶液を0℃に冷却し、3.0M臭化エチルマグネシウムのTHF(4.2mL,0.13mol)溶液を5分かけて滴下した。反応溶液を室温にてさらに18時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した。反応溶液をジクロロメタンで3回抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=80:20)にて精製することにより、3,4-ジメチルヘキサン-3,4-ジオール(ジアステレオマー比;1.9:1)(2.0g,収率27%)を無色油状物として得た。
1H NMR (300MHz, CDCl3) δ: 0.96 (6H, t, J= 7.5 Hz), 1.12 (12/3H, d, J= 0.5 Hz), 1.14 (6/3H, d, J= 0.5 Hz), 1.37-1.49 (8/3H, m), 1.61-1.70 (4/3H, m), 1.78 (2H, brs);
13C NMR (100MHz, CDCl3) δ: 7.96 (2/3C), 8.02 (1/3C), 20.0 (2/3C), 20.5 (1/3C), 28.1 (1/3C), 28.5 (2/3C), 77.2.
Under a nitrogen stream, a solution of diacetyl (4.4 mL, 50 mmol) in THF (0.10 L) was cooled to 0°C, and a 3.0 M solution of ethylmagnesium bromide in THF (4.2 mL, 0.13 mol) was added dropwise over 5 minutes. The reaction solution was stirred at room temperature for an additional 18 hours, and then the reaction was quenched with saturated aqueous ammonium chloride. The reaction solution was extracted three times with dichloromethane, and the organic layer was washed with saturated aqueous sodium bicarbonate and saturated aqueous sodium chloride and then dried over anhydrous sodium sulfate. After distilling off the solvent, the residue was purified by silica gel column chromatography (hexane/ethyl acetate = 80:20) to obtain 3,4-dimethylhexane-3,4-diol (diastereomeric ratio; 1.9:1) (2.0 g, yield 27%) as a colorless oil.
1 H NMR (300MHz, CDCl 3 ) δ: 0.96 (6H, t, J= 7.5 Hz), 1.12 (12/3H, d, J= 0.5 Hz), 1.14 (6/3H, d, J= 0.5 Hz), 1.37-1.49 (8/3H, m), 1.61-1.70 (4/3H, m), 1.78 (2H, brs);
13 C NMR (100MHz, CDCl 3 ) δ: 7.96 (2/3C), 8.02 (1/3C), 20.0 (2/3C), 20.5 (1/3C), 28.1 (1/3C), 28.5 (2/3C), 77.2.
製造例4
4,4,4’,4’,5,5,5’,5’-オクタエチル-2,2’-ビス(1,3,2-ジオキサボロラン)の合成
Production Example 4
Synthesis of 4,4,4',4',5,5,5',5'-octaethyl-2,2'-bis(1,3,2-dioxaborolane)
窒素気流下、テトラヒドロキシジボロン(0.38g,4.2mmol)、3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオール(1.5g,8.4mmol)、酢酸カリウム(1.0g,11mmol)をトルエン(40mL)に希釈し、Dean-Stark装置を用いて16時間加熱還流した。その後、反応混合物を室温まで放冷し、セライトろ過を行い、溶媒を留去することにより、4,4,4’,4’,5,5,5’,5’-オクタエチル-2,2’-ビス(1,3,2-ジオキサボロラン)(1.5g,収率99%)を無色固体として得た。
Mp 62.7-64.5 ℃;
1H NMR (300MHz, CDCl3) δ: 0.90 (24H, t, J= 7.5 Hz), 1.60-1.75 (16H, m);
13C NMR (100MHz, CDCl3) δ: 8.9, 26.4, 88.3.
Under a nitrogen stream, tetrahydroxydiboron (0.38 g, 4.2 mmol), 3,4-diethylhexane-3,4-diol (1.5 g, 8.4 mmol), and potassium acetate (1.0 g, 11 mmol) were diluted in toluene (40 mL) and heated to reflux for 16 hours using a Dean-Stark apparatus. The reaction mixture was then allowed to cool to room temperature, filtered through Celite, and the solvent was evaporated to give 4,4,4',4',5,5,5',5'-octaethyl-2,2'-bis(1,3,2-dioxaborolane) (1.5 g, yield 99%) as a colorless solid.
Mp 62.7-64.5 °C;
1 H NMR (300MHz, CDCl 3 ) δ: 0.90 (24H, t, J= 7.5 Hz), 1.60-1.75 (16H, m);
13C NMR (100MHz, CDCl 3 ) δ: 8.9, 26.4, 88.3.
実施例I-1~I-21(化合物(I-1)~(I-21)の合成)
(製法1)
ボロン酸の3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステルの一般製造方法(1)
窒素気流下、アリールボロン酸(ボロン酸基:1.0mol)と3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオール(1.0mol)のジクロロメタン懸濁液(0.10M)を室温にて16時間撹拌した後、水を加えて反応を停止した。反応混合物をジクロロメタンで3回抽出し,無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル)にて精製することにより、アリールボロン酸の3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステルを得た。
Examples I-1 to I-21 (Synthesis of Compounds (I-1) to (I-21))
(Production Method 1)
General method for preparing 3,4-diethylhexane-3,4-diol esters of boronic acids (1)
A dichloromethane suspension (0.10 M) of arylboronic acid (boronic acid group: 1.0 mol) and 3,4-diethylhexane-3,4-diol (1.0 mol) was stirred at room temperature for 16 hours under a nitrogen stream, and then water was added to quench the reaction. The reaction mixture was extracted three times with dichloromethane and dried over anhydrous magnesium sulfate. After the solvent was distilled off, the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate) to obtain the 3,4-diethylhexane-3,4-diol ester of arylboronic acid.
(製法2)
ボロン酸の3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステルの一般製造方法(2)
窒素気流下、ハロゲン化アリール(ハロゲン原子:1.0mol)のTHF溶液に1.0M i-PrMgCl-LiClのTHF(1.2当量)溶液を-40℃にてゆっくり滴下し、同温度にて12時間撹拌した(又は2.7M n-ブチルリチウムのTHF(1.2mol)溶液を-78℃にてゆっくり滴下し、同温度にて1時間撹拌)。その後、トリメトキシボラン(2.0mol)を滴下し、室温で終夜撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した。反応混合物を酢酸エチルで3回抽出し,無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残渣に3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオール(1.0mol)とジクロロメタンを加え、室温にて撹拌した。得られた溶液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル)にて精製することにより、アリールボロン酸の3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステルを得た。
(Production Method 2)
General method for preparing 3,4-diethylhexane-3,4-diol esters of boronic acids (2)
Under a nitrogen stream, a 1.0 M solution of i-PrMgCl-LiCl in THF (1.2 equivalents) was slowly added dropwise to a THF solution of an aryl halide (halogen atom: 1.0 mol) at −40°C, followed by stirring at the same temperature for 12 hours (or a 2.7 M solution of n-butyllithium in THF (1.2 mol) was slowly added dropwise at −78°C, followed by stirring at the same temperature for 1 hour). Subsequently, trimethoxyborane (2.0 mol) was added dropwise, and the mixture was stirred overnight at room temperature. The reaction mixture was then quenched by adding saturated aqueous ammonium chloride. The reaction mixture was extracted three times with ethyl acetate and dried over anhydrous magnesium sulfate. After distilling off the solvent, 3,4-diethylhexane-3,4-diol (1.0 mol) and dichloromethane were added to the residue, followed by stirring at room temperature. The resulting solution was concentrated and purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate) to obtain the 3,4-diethylhexane-3,4-diol ester of arylboronic acid.
(製法3)
ボロン酸の3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステルの一般製造方法(3)
シュレンク中にPdCl2(dppp)-CH2Cl2(5.0mol%)、酢酸カリウム(3.0mol)、および4,4,4’,4’,5,5,5’,5’-オクタエチル-2,2’-ビス(1,3,2-ジオキサボロラン)(1.5mol)を加え、アルゴン雰囲気下にした後に、アリールハライド(ハロゲン原子:1.0mol)のDMSO溶液(1.0M)を加え、80℃にて撹拌した後、反応液を室温へ放冷した。得られた反応液を酢酸エチルで希釈後、シリカろ過し、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル)にて精製することにより、アリールボロン酸の3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステルを得た。
(Production Method 3)
General method for preparing 3,4-diethylhexane-3,4-diol esters of boronic acids (3)
In a Schlenk tube, PdCl 2 (dppp)-CH 2 Cl 2 (5.0 mol %), potassium acetate (3.0 mol), and 4,4,4',4',5,5,5',5'-octaethyl-2,2'-bis(1,3,2-dioxaborolane) (1.5 mol) were added, and the mixture was placed under an argon atmosphere. A DMSO solution (1.0 M) of aryl halide (halogen atom: 1.0 mol) was then added, and the mixture was stirred at 80°C, after which the reaction mixture was allowed to cool to room temperature. The resulting reaction mixture was diluted with ethyl acetate, filtered through silica gel, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate) to give 3,4-diethylhexane-3,4-diol ester of arylboronic acid.
製法1、製法2または製法3の方法に従い、または準じて、実施例I-1~I-21の化合物を合成した。下表1-1~表1-5に各実施例化合物の化学構造、収率および物性データを示す。 The compounds of Examples I-1 to I-21 were synthesized according to or in accordance with Production Method 1, Production Method 2, or Production Method 3. Tables 1-1 to 1-5 below show the chemical structure, yield, and physical property data of each example compound.
試験例1
化合物(I)のシリカゲルクロマトグラフィーに対する安定性評価
[1]化合物(I-1)、化合物(I-18)および化合物(I-19)と、フェニルボロン酸ピナコールエステル(比較例1)との比較実験
ナスフラスコへ純粋な化合物(I-1)、化合物(I-18)、化合物(I-19)およびフェニルボロン酸ピナコールエステル(比較例1)の各100mgを、被検化合物として、それぞれ別々にジクロロメタン(1.0mL)に溶かし、シリカゲル(約600mg)加えた。この懸濁液からエバポレーターを用いて溶媒を減圧留去し、被検化合物をシリカゲルに吸着させた(混合から吸着まで約5分以内)。これを約10cmの高さのシリカゲルカラム(1%トリエチルアミンにて前処理または非前処理)(内径20mm)の上に乗せ、酢酸エチル(1%トリエチルアミン存在下または非存在下)にて溶出させた(滞留時間:約1分)。得られたフラクションから溶媒を減圧留去し、1HNMRにて化学構造の維持を確認した後、秤量した。得られた結果を下表2に示す。
Test Example 1
Evaluation of the Stability of Compound (I) Against Silica Gel Chromatography [1] Comparative Experiment of Compounds (I-1), (I-18), and (I-19) with Phenylboronic Acid Pinacol Ester (Comparative Example 1) Pure Compounds (I-1), (I-18), (I-19), and phenylboronic acid pinacol ester (Comparative Example 1), each 100 mg, were dissolved in dichloromethane (1.0 mL) separately in a recovery flask, and silica gel (approximately 600 mg) was added. The solvent was removed from this suspension under reduced pressure using an evaporator, and the test compound was adsorbed onto the silica gel (the entire process from mixing to adsorption took approximately 5 minutes). This was placed on a silica gel column (inner diameter 20 mm) approximately 10 cm high (pretreated or not with 1% triethylamine) and eluted with ethyl acetate (in the presence or absence of 1% triethylamine) (retention time: approximately 1 minute). The solvent was distilled off from the obtained fraction under reduced pressure, and after confirming by 1 H NMR that the chemical structure was maintained, the fraction was weighed. The results are shown in Table 2 below.
[2]化合物(I-4)、化合物(I-20)および化合物(I-21)と、1,4-フェニレンジボロン酸ピナコールエステル(比較例2)との比較実験
ナスフラスコへ純粋な化合物(I-4)、化合物(I-20)、化合物(I-21)および1,4-フェニレンジボロン酸ピナコールエステル(比較例2)の各50mgを、被検化合物として、それぞれ別々にジクロロメタン(1.0mL)に溶かし、シリカゲル(約600mg)加えた。この懸濁液からエバポレーターを用いて溶媒を減圧留去し、被検化合物をシリカゲルに吸着させた(混合から吸着まで約5分以内)。これを約10cmの高さのシリカゲルカラム(内径20mm)の上に乗せ、酢酸エチル(トリエチルアミン存在下または非存在下)にて溶出させた(滞留時間:約1分)。得られたフラクションから溶媒を減圧留去し、1HNMRにて化学構造の維持を確認した後、秤量した。得られた結果を下表3に示す。
[2] Comparative Experiment of Compounds (I-4), (I-20), and (I-21) with 1,4-Phenylenediboronic Acid Pinacol Ester (Comparative Example 2) 50 mg of each of pure Compounds (I-4), (I-20), (I-21), and 1,4-phenylenediboronic Acid Pinacol Ester (Comparative Example 2) were dissolved in dichloromethane (1.0 mL) separately in a recovery flask, and silica gel (approximately 600 mg) was added. The solvent was removed from this suspension under reduced pressure using an evaporator, and the test compound was adsorbed onto the silica gel (the entire process from mixing to adsorption took approximately 5 minutes). This was placed on a silica gel column (inner diameter 20 mm) approximately 10 cm high and eluted with ethyl acetate (with or without triethylamine) (retention time: approximately 1 minute). The solvent was removed from the resulting fraction under reduced pressure, and after confirming the maintenance of the chemical structure by 1 H NMR, the fraction was weighed. The results obtained are shown in Table 3 below.
[3]化合物(I-10)、化合物(I-11)、化合物(I-13)および化合物(I-15)と、対応するヘテロアリールボロン酸ピナコールエステル(比較例3、4、5、6)との比較実験
ナスフラスコへ純粋な化合物(I-10)、化合物(I-11)、化合物(I-13)、化合物(I-15)および対応するヘテロアリールボロン酸ピナコールエステル(比較例3、4、5、6)の各50mgを、被検化合物として、それぞれ別々にジクロロメタン(1.0mL)に溶かし、シリカゲル(約600mg)加えた。この懸濁液からエバポレーターを用いて溶媒を減圧留去し、被検化合物をシリカゲルに吸着させた(混合から吸着まで約5分以内)。これを約10cmの高さのシリカゲルカラム(内径20mm)の上に乗せ、酢酸エチルにて溶出させた(滞留時間:約1分)。得られたフラクションから溶媒を減圧留去し、1HNMRにて化学構造の維持を確認した後、秤量した。得られた結果を下表4に示す。
[3] Comparative Experiments of Compounds (I-10), (I-11), (I-13), and (I-15) with the Corresponding Heteroarylboronic Acid Pinacol Esters (Comparative Examples 3, 4, 5, and 6) 50 mg of each of pure Compounds (I-10), (I-11), (I-13), and (I-15), and the corresponding heteroarylboronic acid pinacol esters (Comparative Examples 3, 4, 5, and 6), as test compounds, were dissolved in dichloromethane (1.0 mL) separately in a recovery flask, and silica gel (approximately 600 mg) was added. The solvent was removed from this suspension under reduced pressure using an evaporator, and the test compounds were adsorbed onto the silica gel (the entire process from mixing to adsorption took approximately 5 minutes). This was placed on top of a silica gel column (inner diameter 20 mm) approximately 10 cm high, and eluted with ethyl acetate (retention time: approximately 1 minute). The solvent was distilled off from the obtained fraction under reduced pressure, and after confirming by 1 H NMR that the chemical structure was maintained, the fraction was weighed. The results are shown in Table 4 below.
表2、3、4によれば、化合物(I)は、対応するピナコールエステルと比較して、シリカゲルに対して極めて安定であることが確認された。 Tables 2, 3, and 4 confirm that compound (I) is extremely stable on silica gel compared to the corresponding pinacol ester.
また、化合物(I-2)および化合物(I-4)とそれぞれ対応するピナコールエステルであるp-トリルボロン酸ピナコールエステル(比較例7)および1,4-フェニレンジボロン酸ピナコールエステル(比較例2)の薄層クロマトグラフィー展開の結果、対応するピナコールエステルでは、いずれもテーリングが見られるのに対し、化合物(I-2)および化合物(I-4)は、きれいなスポットとして観測され、化合物(I)のシリカゲル上での安定性が確認された(図1参照)。この結果は、表2、3、4の結果ともよく整合している。 Furthermore, thin-layer chromatography of compound (I-2) and compound (I-4) and their corresponding pinacol esters, p-tolylboronic acid pinacol ester (Comparative Example 7) and 1,4-phenylenediboronic acid pinacol ester (Comparative Example 2), revealed that while tailing was observed for both of the corresponding pinacol esters, compound (I-2) and compound (I-4) were observed as clean spots, confirming the stability of compound (I) on silica gel (see Figure 1). This result is in good agreement with the results in Tables 2, 3, and 4.
試験例2
ピナコールエステルの脱保護反応条件に対する化合物(I)の安定性評価
p-トリルボロン酸のピナコールエステル(比較例7)は、通常、THF-水の混合溶媒中、塩酸酸性条件下(1N塩酸)、過ヨウ素酸ナトリウムにより脱保護され、アリールボロン酸に変換された(収率:62%)。化合物(I-2)を、同脱保護条件に付したところ、脱保護はほとんど進行せず、化合物(I-2)が87%の収率で回収された。また、酸性条件(塩酸酸性条件下)や塩基性条件(水酸化ナトリウム、水酸化リチウム存在下)にも安定であることが確認された。
Test Example 2
Evaluation of the stability of compound (I) under deprotection reaction conditions of pinacol ester The pinacol ester of p-tolylboronic acid (Comparative Example 7) was deprotected with sodium periodate under acidic conditions of hydrochloric acid (1N hydrochloric acid) in a THF-water mixed solvent, and converted to an arylboronic acid (yield: 62%). When compound (I-2) was subjected to the same deprotection conditions, deprotection hardly proceeded, and compound (I-2) was recovered in 87% yield. It was also confirmed that compound (I-2) was stable under acidic conditions (hydrochloric acid) and basic conditions (in the presence of sodium hydroxide or lithium hydroxide).
試験例1、2の結果から、化合物(I)は、対応するボロン酸ピナコールエステルと比較して、顕著な安定性を示し、シリカゲルクロマトグラフィーにより簡便かつ効率良く単離、精製可能であることが分かった。 The results of Test Examples 1 and 2 showed that compound (I) exhibits remarkable stability compared to the corresponding boronic acid pinacol ester and can be easily and efficiently isolated and purified by silica gel chromatography.
試験例3(化合物(I)を用いる各種官能基化反応)
[1]化合物(I)を用いる鈴木-宮浦カップリング反応(製法4)
窒素気流下、シュレンク中にて、化合物(I)(ボリル基:1.5mol)、ハロゲン化アリール(化合物(VII))(1.0mol)、酢酸パラジウム(1.0mol%)、SPhos(2.0mol%)、リン酸三カリウム(2.0mol)のトルエン/水(10/1)溶液(1.0M)を110℃にて加熱24時間撹拌した。反応混合物を室温に戻し、酢酸エチルで希釈してシリカろ過し、エバポレーターを用いて溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル)にて精製することにより、ビアリール化合物が得られた。
製法4に従い、または準じて、各種ビアリール化合物を合成した。下表5-1~表5-3に各原料化合物およびビアリール化合物の化学構造、収率、およびビアリール化合物の物性データを示す。
Test Example 3 (Various functionalization reactions using compound (I))
[1] Suzuki-Miyaura coupling reaction using compound (I) (Production Method 4)
Under a nitrogen stream, in a Schlenk tube, a toluene/water (10/1) solution (1.0 M) of compound (I) (boryl group: 1.5 mol), aryl halide (compound (VII)) (1.0 mol), palladium acetate (1.0 mol%), SPhos (2.0 mol%), and tripotassium phosphate (2.0 mol) was heated and stirred at 110° C. for 24 hours. The reaction mixture was returned to room temperature, diluted with ethyl acetate, and filtered through silica gel. The solvent was distilled off under reduced pressure using an evaporator, and the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate) to obtain a biaryl compound.
Various biaryl compounds were synthesized according to or in accordance with Production Method 4. Tables 5-1 to 5-3 below show the chemical structures, yields, and physical property data of each raw material compound and biaryl compound.
[2]化合物(I)(化合物(I-2))を用いる酸素官能基導入反応
4-メチルフェニルボロン酸3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステル(化合物(I-2))(27mg,0.10mmol)、THF/H2O=1/1溶液(1.0mL)、NaBO3・4H2O(77mg,0.50mmol)を加え、室温条件下12時間攪拌後、セライトろ過を行い、飽和食塩水と酢酸エチルで分液した。硫酸マグネシウムで脱水後、反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル=95/5)にて精製することにより、p-クレゾール(10mg;収率96%)を無色油状物として得た。
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ: 2.28 (3H, s), 4.66 (1H, brs), 6.73 (2H, d, J= 8.5 Hz), 7.04 (2H, d, J= 8.5 Hz);
13C NMR (100MHz, CDCl3) δ: 20.5, 115.0, 129.96, 130.04, 153.2.
[2] Oxygen Functional Group Introduction Reaction Using Compound (I) (Compound (I-2)) 4-Methylphenylboronic acid 3,4-diethylhexane-3,4-diol ester (Compound (I-2)) (27 mg, 0.10 mmol), a THF/H 2 O=1/1 solution (1.0 mL), and NaBO 3 ·4H 2 O (77 mg, 0.50 mmol) were added and stirred at room temperature for 12 hours. After filtration through Celite, the mixture was separated into saturated brine and ethyl acetate. After dehydration over magnesium sulfate, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate=95/5) to obtain p-cresol (10 mg; yield 96%) as a colorless oil.
1 H NMR (400MHz, CDCl 3 ) δ: 2.28 (3H, s), 4.66 (1H, brs), 6.73 (2H, d, J= 8.5 Hz), 7.04 (2H, d, J= 8.5 Hz);
13C NMR (100MHz, CDCl 3 ) δ: 20.5, 115.0, 129.96, 130.04, 153.2.
[3]化合物(I)(化合物(I-2))を用いる窒素官能基導入反応
スリ付き試験管にCsF(15mg,0.10mmol)を入れ、フレームドライ後放冷する。その後、Cu(OAc)2(2.0mg,0.010mmol)を加えて、酸素置換する。その後4-メチルフェニルボロン酸3,4-ジエチルヘキサン-3,4-ジオールエステル(化合物(I-2))(55mg,0.20mmol)とブチルアミン(10μL,0.10mmol)をアセトニトリルで希釈し、シリンジで加え、40℃で24時間攪拌した。反応液をシリカろ過した後、エバポレーターを用いて溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル=90:10)にて精製することにより、N-ブチル-4-メチルアニリン(11mg;収率67%)を褐色油状物として得た。
1H NMR (400MHz, CDCl3) δ: 0.94 (3H, t, J= 7.0 Hz), 1.37-1.46 (2H, m), 1.57-1.64 (2H, m), 2.24 (3H, s), 3.09 (2H, t, J= 7.0 Hz), 6.58 (2H, d, J= 8.0 Hz), 6.99 (2H, d, J= 8.0 Hz);
13C NMR (100MHz, CDCl3) δ: 13.8, 20.2, 20.5, 31.0, 45.4, 114.5, 126.8, 128.8, 129.8.
[3] Nitrogen Functional Group Introduction Reaction Using Compound (I) (Compound (I-2)) CsF (15 mg, 0.10 mmol) was placed in a slotted test tube, flame-dried, and allowed to cool. Then, Cu(OAc) 2 (2.0 mg, 0.010 mmol) was added to replace the oxygen. Then, 4-methylphenylboronic acid 3,4-diethylhexane-3,4-diol ester (Compound (I-2)) (55 mg, 0.20 mmol) and butylamine (10 μL, 0.10 mmol) were diluted with acetonitrile, added via syringe, and stirred at 40°C for 24 hours. The reaction solution was filtered through silica gel, and the solvent was removed under reduced pressure using an evaporator. The residue was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 90:10) to obtain N-butyl-4-methylaniline (11 mg; yield 67%) as a brown oil.
1 H NMR (400MHz, CDCl 3 ) δ: 0.94 (3H, t, J= 7.0 Hz), 1.37-1.46 (2H, m), 1.57-1.64 (2H, m), 2.24 (3H, s), 3.09 (2H, t, J= 7.0 Hz), 6.58 (2H, d, J= 8.0 Hz), 6.99 (2H, d, J= 8.0 Hz);
13C NMR (100MHz, CDCl 3 ) δ: 13.8, 20.2, 20.5, 31.0, 45.4, 114.5, 126.8, 128.8, 129.8.
試験例3の[2]、[3]で得られた結果を下表6に示す。表6中の収率欄の括弧内の数値は、対応するピナコールエステルを原料として用いた場合の収率を示す。The results obtained in Test Example 3 [2] and [3] are shown in Table 6 below. The values in parentheses in the yield column in Table 6 indicate the yield when the corresponding pinacol ester is used as a raw material.
試験例3の[1]~[3]の結果から、各種官能基化反応において、化合物(I)は、対応するボロン酸ピナコールエステルと同等か、またはそれ以上に優れた反応性を示すことが確認された。 The results of Test Example 3 [1] to [3] confirmed that in various functionalization reactions, compound (I) exhibits reactivity equivalent to or superior to that of the corresponding boronic acid pinacol ester.
本発明によれば、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや薄層クロマトグラフィー上でも分解や吸着されることなく、極めて安定であり、かつ容易に単離精製可能な新規芳香族ボロン酸エステルを提供することができる。また、本発明の化合物は、従来より汎用されてきた芳香族ボロン酸ピナコールエステルと同等またはそれ以上に優れた反応性を示すことから、鈴木-宮浦カップリング反応や各種官能基化反応に適用可能であり、各種医薬品や機能性材料の原料化合物または合成中間体として極めて有用である。 The present invention provides novel aromatic boronic acid esters that are extremely stable and can be easily isolated and purified without being decomposed or adsorbed even on silica gel column chromatography or thin-layer chromatography. Furthermore, the compounds of the present invention exhibit reactivity equivalent to or superior to that of the conventionally widely used aromatic boronic acid pinacol esters. Therefore, they are applicable to Suzuki-Miyaura coupling reactions and various functionalization reactions, and are extremely useful as raw materials or synthetic intermediates for various pharmaceuticals and functional materials.
本出願は、日本国で2021年3月1日に出願された特願2021-031904を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含されるものである。 This application is based on Patent Application No. 2021-031904 filed in Japan on March 1, 2021, the contents of which are incorporated in their entirety into this specification.
Claims (5)
R1およびR3は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基またはn-プロピル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、エチル基またはn-プロピル基を示し;ならびに
nは、1または2を示す。
(置換基群Z 3 )
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) アジド基、
(7) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(8) (a) ハロゲン原子、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、および
(c) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基
(9) (a) ハロゲン原子、
(b) シアノ基、
(c) ニトロ基、
(d) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(e) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(f) ホルミル基、
(g) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、および
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(10) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(11) ホルミル基、
(12) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(13) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(14) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、
(15) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基、
(16) (a) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基、
(c) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(d)ホルミル基、
(e)ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(f)ハロゲン原子またはC 6-14 アリール基で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(g) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール-カルボニル基、
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、および
(i) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニル基
からなる群より選択される置換基でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(17) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルファニル基、
(18) 三置換シリル基、
(19) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(20) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニルオキシ基。]
で表される化合物またはその塩。 Formula (I):
R 1 and R 3 each independently represent a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group;
R2 and R4 each independently represent an ethyl group or an n-propyl group; and n represents 1 or 2 .
(Substituent group Z 3 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) an azide group,
(7) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(8) (a) a halogen atom,
(b) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom , and
(c) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
A C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of
(9) (a) a halogen atom,
(b) a cyano group,
(c) a nitro group,
(d) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ;
(e) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a formyl group,
(g) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(h) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted with a halogen atom
a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of:
(10) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(11) formyl group,
(12) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(13) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(14) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(15) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(16) (a) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom ;
(b) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by a halogen atom ;
(c) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(d) a formyl group,
(e) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted with a halogen atom or a C 6-14 aryl group,
(g) a C 6-14 aryl- carbonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(h) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(i) a C 6-14 arylsulfonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom.
an amino group which may be mono- or di-substituted with a substituent selected from the group consisting of
(17) a C 1-6 alkylsulfanyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(18) trisubstituted silyl groups,
(19) A C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by a halogen atom , and
(20) A C 6-14 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom.]
A compound represented by the formula (I) or a salt thereof .
nは、1または2を示す。
(置換基群Z 3 )
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) アジド基、
(7) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(8) (a) ハロゲン原子、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、および
(c) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基
(9) (a) ハロゲン原子、
(b) シアノ基、
(c) ニトロ基、
(d) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(e) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(f) ホルミル基、
(g) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、および
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(10) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(11) ホルミル基、
(12) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(13) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(14) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、
(15) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基、
(16) (a) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基、
(c) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(d)ホルミル基、
(e)ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(f)ハロゲン原子またはC 6-14 アリール基で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(g) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール-カルボニル基、
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、および
(i) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニル基
からなる群より選択される置換基でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(17) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルファニル基、
(18) 三置換シリル基、
(19) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(20) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニルオキシ基。]
で表される化合物またはその塩と、式(III):
R1およびR3は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基またはn-プロピル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、エチル基またはn-プロピル基を示す。]
で表される化合物を反応させる工程を含む、式(I):
で表される化合物またはその塩の製造方法。 Formula (II):
(Substituent group Z 3 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) an azide group,
(7) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(8) (a) a halogen atom,
(b) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom , and
(c) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
A C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of
(9) (a) a halogen atom,
(b) a cyano group,
(c) a nitro group,
(d) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ;
(e) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a formyl group,
(g) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(h) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted with a halogen atom
a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of:
(10) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(11) formyl group,
(12) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(13) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(14) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(15) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(16) (a) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom ;
(b) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by a halogen atom ;
(c) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(d) a formyl group,
(e) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted with a halogen atom or a C 6-14 aryl group,
(g) a C 6-14 aryl- carbonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(h) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(i) a C 6-14 arylsulfonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom.
an amino group which may be mono- or di-substituted with a substituent selected from the group consisting of
(17) a C 1-6 alkylsulfanyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(18) trisubstituted silyl groups,
(19) A C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by a halogen atom , and
(20) A C 6-14 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom.]
or a salt thereof, and a compound represented by formula (III):
R 1 and R 3 each independently represent a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group;
R2 and R4 each independently represent an ethyl group or an n-propyl group.
The method of the present invention comprises the step of reacting a compound represented by formula (I):
A method for producing a compound represented by the formula:
X1は、ハロゲン原子を示し;および
nは、1または2を示す。
(置換基群Z 3 )
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) アジド基、
(7) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(8) (a) ハロゲン原子、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、および
(c) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基
(9) (a) ハロゲン原子、
(b) シアノ基、
(c) ニトロ基、
(d) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(e) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(f) ホルミル基、
(g) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、および
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(10) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(11) ホルミル基、
(12) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(13) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(14) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、
(15) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基、
(16) (a) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基、
(c) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(d)ホルミル基、
(e)ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(f)ハロゲン原子またはC 6-14 アリール基で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(g) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール-カルボニル基、
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、および
(i) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニル基
からなる群より選択される置換基でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(17) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルファニル基、
(18) 三置換シリル基、
(19) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(20) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニルオキシ基。]
で表される化合物またはその塩をイソプロピルマグネシウムクロリド-塩化リチウム錯体またはn-ブチルリチウムと反応させた後、トリメトキシボランと反応させ、続いて、式(III):
R1およびR3は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基またはn-プロピル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、エチル基またはn-プロピル基を示す。]
で表される化合物と反応させる工程を含む、式(I):
で表される化合物またはその塩の製造方法。 Formula (IV):
X1 represents a halogen atom; and n represents 1 or 2 .
(Substituent group Z 3 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) an azide group,
(7) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(8) (a) a halogen atom,
(b) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom , and
(c) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
A C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of
(9) (a) a halogen atom,
(b) a cyano group,
(c) a nitro group,
(d) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(e) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a formyl group,
(g) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(h) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted with a halogen atom
a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of:
(10) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(11) formyl group,
(12) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(13) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(14) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(15) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(16) (a) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom ;
(b) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by a halogen atom ;
(c) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(d) a formyl group,
(e) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom or a C 6-14 aryl group,
(g) a C 6-14 aryl- carbonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(h) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(i) a C 6-14 arylsulfonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom.
an amino group which may be mono- or di-substituted with a substituent selected from the group consisting of
(17) a C 1-6 alkylsulfanyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(18) trisubstituted silyl groups,
(19) A C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by a halogen atom , and
(20) A C 6-14 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom.]
or a salt thereof with isopropyl magnesium chloride-lithium chloride complex or n-butyllithium, and then reacted with trimethoxyborane, followed by reacting a compound represented by formula (III):
R 1 and R 3 each independently represent a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group;
R2 and R4 each independently represent an ethyl group or an n-propyl group.
with a compound represented by formula (I):
A method for producing a compound represented by the formula:
X2は、ハロゲン原子またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を示し;および
nは、1または2を示す。
(置換基群Z 3 )
(1) ハロゲン原子、
(2) シアノ基、
(3) ニトロ基、
(4) ヒドロキシ基、
(5) カルボキシ基、
(6) アジド基、
(7) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(8) (a) ハロゲン原子、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、および
(c) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基
(9) (a) ハロゲン原子、
(b) シアノ基、
(c) ニトロ基、
(d) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(e) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(f) ホルミル基、
(g) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、および
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基
からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(10) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基、
(11) ホルミル基、
(12) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(13) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(14) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、
(15) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニルオキシ基、
(16) (a) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、
(b) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 3-10 シクロアルキル基、
(c) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール基、
(d)ホルミル基、
(e)ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル-カルボニル基、
(f)ハロゲン原子またはC 6-14 アリール基で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ-カルボニル基、
(g) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリール-カルボニル基、
(h) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニル基、および
(i) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニル基
からなる群より選択される置換基でモノ-またはジ-置換されていてもよいアミノ基、
(17) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルファニル基、
(18) 三置換シリル基、
(19) ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキルスルホニルオキシ基、ならびに
(20) ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルキル基、およびハロゲン原子で置換されていてもよいC 1-6 アルコキシ基からなる群より選択される1ないし3個の置換基で置換されていてもよいC 6-14 アリールスルホニルオキシ基。]
で表される化合物またはその塩を、金属触媒存在下、式(VI):
R1およびR3は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基またはn-プロピル基を示し;
R2およびR4は、それぞれ独立して、エチル基またはn-プロピル基を示す。]
で表される化合物と反応させる工程を含む、式(I):
で表される化合物またはその塩の製造方法。 Formula (V):
X2 represents a halogen atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group; and n represents 1 or 2 .
(Substituent group Z 3 )
(1) a halogen atom,
(2) a cyano group,
(3) a nitro group,
(4) a hydroxy group,
(5) a carboxy group,
(6) an azide group,
(7) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(8) (a) a halogen atom,
(b) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom , and
(c) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom
A C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of
(9) (a) a halogen atom,
(b) a cyano group,
(c) a nitro group,
(d) a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom ;
(e) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a formyl group,
(g) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(h) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted with a halogen atom
a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of:
(10) a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(11) formyl group,
(12) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(13) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(14) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(15) a C 1-6 alkyl-carbonyloxy group optionally substituted by a halogen atom ,
(16) (a) a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom ;
(b) a C 3-10 cycloalkyl group optionally substituted by a halogen atom ;
(c) a C 6-14 aryl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(d) a formyl group,
(e) a C 1-6 alkyl-carbonyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(f) a C 1-6 alkoxy-carbonyl group optionally substituted with a halogen atom or a C 6-14 aryl group,
(g) a C 6-14 aryl- carbonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom;
(h) a C 1-6 alkylsulfonyl group optionally substituted by a halogen atom , and
(i) a C 6-14 arylsulfonyl group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted by a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted by a halogen atom.
an amino group which may be mono- or di-substituted with a substituent selected from the group consisting of
(17) a C 1-6 alkylsulfanyl group optionally substituted by a halogen atom ,
(18) trisubstituted silyl groups,
(19) A C 1-6 alkylsulfonyloxy group optionally substituted by a halogen atom , and
(20) A C 6-14 arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1-6 alkyl group optionally substituted with a halogen atom, and a C 1-6 alkoxy group optionally substituted with a halogen atom.]
or a salt thereof, in the presence of a metal catalyst,
R 1 and R 3 each independently represent a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group;
R2 and R4 each independently represent an ethyl group or an n-propyl group.
with a compound represented by formula (I):
A method for producing a compound represented by the formula:
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Non-Patent Citations (1)
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| JACOBSEN, Mikkel F. et al.,Synthesis of Rigid Homo- and Heteroditopic Nucleobase-Terminated Molecules Incorporating Adenine and,Organic Letters,2007年06月29日,vol.9, no.15,pp.2851-2854 |
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