JP7750966B2 - 流動化装置内において微粒子状の材料を処理するための方法 - Google Patents

Description

本発明は、長手方向軸線を有する流動化ユニットを備える流動化装置内において微粒子状の材料を処理するための方法に関し、
前記流動化ユニットが、この流動化ユニットを分配チャンバーとこの分配チャンバーの上方に配置された流動化チャンバーとに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部を有しており、
その際、前記流動化チャンバーが、処理されるべき前記材料のための材料流入口を備えており、および、
前記分配チャンバーが、材料流出口面と下側および上側の縁部とを有する、処理された材料のための材料流出口を装備する材料排出部を備えており、および、
遮断装置が前記材料排出部を閉鎖し、且つ、
その際、前記分配チャンバーが、流体流入口を備えており、および、前記流動化チャンバーが、
前記流体流入口から前記パーフォレーションを付けられた受流底部を通って流体流出口へと流動し、前記流動化チャンバー内における前記材料を流動化するプロセスガスのための、流体流出口を備えており、
その際、作動状態において、先ず第一に、前記流動化チャンバーが、前記材料流入口を介して、処理されるべき材料でもって充填され、且つ、その後、前記材料が、前記流動化チャンバーを通って流動する前記プロセスガスによって処理される。

微粒子状の材料の処理のための流動化装置と、渦流床装置とは、既に久しい以前から公知である。

特許文献１は、微粒子状の材料の加工のための流動床装置を開示しており、この流動床装置が、分配チャンバーを取り囲むチャンバーと、この分配チャンバーの上方に配置された、パーフォレーションを付けられた受流底部と、プロセスガスのための流入口および流出口と、下側および上側の縁部を有する、高さおよび開口面を規定する排出開口部とを備えており、その際、受流底部が、この排出開口部の下側の縁部の上方で、この排出開口部の開口面が受流底部の下方の開口面と受流底部の下方の開口面とに分割されているように位置決めされている。

プロセスガスが分配チャンバーから受流底部の周囲を回って流動化チャンバーに流動する場合、ここで、プロセスガスが、微粒子状の材料の排出の際に、排出開口部において、一種の幕を形成することは欠点である。この膜は、微粒子状の材料の排出を少なくとも部分的に制限し、且つ、同時に、流動化装置からの微粒子状の材料の排出速度を低減する。

欧州特許出願公開第２ ６１１ ５３１ Ａ１号明細書

本発明の課題は、従って、一方では、流動化装置の排出を更に改善すること、および、他方では、同時に、従来技術の欠点を克服することである。

この課題は、それに加えて、冒頭に記載された様式の方法において、
前記分配チャンバーが、前記材料流出口面の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブを備えており、および、
前記作動状態の後に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動可能に配置された前記受流底部が、
この受流底部が、排出状態において、前記受流底部に沿って、前記分配チャンバー内において配置された前記材料流出口と前記流動化チャンバーとの間に流体接続が形成され、且つ、処理された前記材料が前記材料流出口を通って前記流動化ユニットから排出される程に、前記ウェブに配置されるように、
排出位置へと移動され、
前記受流底部の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置が前記材料排出部を開放すること、および、
前記ウェブが、一方では、処理された前記材料の落下を防止し、且つ、他方では、処理された前記材料の排出を可能にするために、プロセスガス流を、前記材料流出口面の領域内において、前記受流底部の周囲を回って流動するのを阻止すること、
前記ウェブが、鎌形状、即ち三日月形状、または、リング形状に形成されていること、
前記ウェブの上側面が、前記材料流出口の前記材料流出口面に対して接線方向に配置されているか、または、前記プロセスガスの流動方向とは逆方向に、この材料流出口の下方に配置されていること、
前記材料流出口の領域内において、前記分配チャンバーが、少なくとも部分的に、周囲方向に延在する前記ウェブによって如何なる間隙も有していないこと、
前記ウェブが、１６０°、または、５°から１８０°まで、または、１０°から６０°まで、の角度βを有していること、および、
前記排出状態において、前記受流底部が、前記ウェブの上に載置していること、
によって解決される。

この構成における利点は、そのウェブに受流底部が配置されている該ウェブが、
プロセスガス流が、材料流出口面の領域内において、受流底部の周囲を回って流動し、且つ、このことによって、処理された材料の排出を制限するかまたは完全に阻止する、一種の「プロセスガス幕（Ｐｒｏｚｅｓｓｇａｓ－Ｖｏｒｈａｎｇ）」を形成するのを、阻止することにある。
それに加えて、このウェブは、流動化チャンバー内において処理された材料が、排出の際に、受流底部と分配チャンバー内壁との間に結果として生じる間隙を通って分配チャンバー内へと落下することを防止する。

更に有利には、受流底部と流動化ユニットとの間の相対的な移動によって、微粒子状の材料は、処理の後、材料排出部を通って排出され得る。この相対的な移動は、プロセスガスが材料排出部を通っての処理された材料の排出を補助することの構造およびやり方で実施され得る。

この方法のこれに関連する有利な構成により、前記流動化ユニットは、この流動化ユニットの前記長手方向軸線に対して横向きに延びる旋回軸を有しており、
この旋回軸に、前記受流底部が旋回可能に配置されており、且つ、
この旋回軸を中心として、前記受流底部が、前記微粒子状の材料の処理の後、合目的に５°から１０°まで旋回される。
この構成により、旋回軸を中心としての旋回移動の形態での簡単な相対的な移動は可能である。このことによって、一方では、有利には、分配チャンバー内において配置された、材料排出部の材料流出口が、流動化チャンバー内において処理された材料の排出のために開放され、他方では、この排出が、受流底部の傾斜位置によって促進される。その上、受流底部は、有利には、旋回軸を中心として、０°と６０°との間の角度だけ、合目的に５°から１０°までの角度だけ旋回される。
この旋回移動により、受流底部と、分配チャンバー及び／または流動化チャンバーとの間で、基本的に鎌形状またはリング形状の間隙が形成され、この間隙は過度に大きくなるべきではない。何故ならば、ここで、さもなければ、排出状態において、プロセスガスでもってのこの間隙の貫通流動にもかかわらず、処理された材料が、分配チャンバー内へと到達可能であることの危険が存在するからである。プロセスガスは、合目的に、－ウェブが配置されていないところでの－この間隙を、排出状態において密閉する。

この方法の、同様にこれに関連する有利な構成により、
前記受流底部は、
前記長手方向軸線の軸線方向に移動可能に配置されており、且つ、
前記長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で、合目的に前記受流底部が、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方で位置決めされるまで移動される。
有利には、受流底部は、長手方向軸線の軸線方向に移動される。同様に選択的な構成により、材料排出部は、改善された排出のために、微粒子状の材料の処理の後、開放される。

特に有利には、前記受流底部は、前記排出位置への移動の際に、旋回移動と直線移動とを実施する。
その際、受流底部は、一方では、旋回移動によって旋回軸を中心として旋回され、および、他方では、長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で移動される。旋回移動と直線移動とは、相前後して適宜の順序において、または、互いに同時に実施され得る。このことによって、旋回移動と同様に直線移動との利点が効果を発揮する。

この方法の付加的で有利な構成に従い、前記受流底部は、前記排出位置において、前記受流底部の少なくとも一部が前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動される。
このことに関連して、前記受流底部は、前記排出位置において、前記受流底部が前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニットに対して相対的に移動される。
選択的に、受流底部の上側の縁部または上側面は、材料排出部の下側の縁部と面一に配置されている。これら両方の場合において、材料流出口面は最大に開放されており、従って、処理された材料の排出が能率的に且つ迅速に行われ得る。

この方法の付加的で有利な更なる構成に相応して、前記材料排出部は、遮断装置を有しており、前記受流底部が排出位置に位置するやいなや、この遮断装置が、前記材料排出部を開放する。有利には、前記受流底部の少なくとも一部が前記材料流出口の前記下側の前記縁部の下方に位置決めされるやいなや、前記遮断装置は、前記材料排出部を開放する。このことによって、材料流出口面は、最大に大きく開放されており、且つ、流動化ユニット３の流動化チャンバー内において処理された材料が、効果的に且つ時間を節約して、流動化装置の流動化ユニットから排出され得る。

この方法の更に別の有利な更なる構成により、特に排出管として形成された前記材料排出部に、流体接続流出口を備える、補助ガスの提供のための流体接続部が組み込まれており、
処理された前記材料の排出を支援するために、この補助ガスが、前記流体接続流出口を通って前記材料排出部内へと、少なくとも前記遮断装置が前記材料排出部を開放した場合に、流動する。
処理された材料の排出を支援および改善するために、流体接続部を通って、材料排出部に、流体、合目的に補助ガスまたは支持ガスを供給することは可能である。有利には、補助ガスは、プロセスガスに相応する。
更に有利には、補助ガスは、プロセスガスから分岐され、且つ、このプロセスガスに、材料排出部の後ろで、循環回路運転方法において再び引き渡される。

特に有利には、流体接続流出口、特にパーフォレーションを付けられた被覆部または穿孔の一部は、補助ガスが、処理された材料の排出の方向における流出方向を有するように形成されている。この極めて有利な更なる構成は、処理された材料の排出を更に支援する。

以下で、流動化装置、および、この流動化装置の有利な且つ好適な構成を詳細に説明する。
微粒子状の材料を処理するためのこの流動化装置は、長手方向軸線を有する流動化ユニットを備えており、
前記流動化ユニットが、この流動化ユニットを分配チャンバーとこの分配チャンバーの上方に配置された流動化チャンバーとに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部を有しており、
その際、前記流動化チャンバーが、処理されるべき前記材料のための材料流入口を備えており、および、
前記分配チャンバーが、材料流出口面と下側および上側の縁部とを有する、処理された前記材料のための材料流出口を装備する材料排出部を備えており、および、
遮断装置が前記材料排出部を閉鎖し、且つ、
その際、前記分配チャンバーが、流体流入口を備えており、および、前記流動化チャンバーが、
前記流体流入口から前記パーフォレーションを付けられた受流底部を通って流体流出口へと流動し、前記流動化チャンバー内における前記材料を流動化するプロセスガスのための、流体流出口を備えており、
その際、前記分配チャンバーが、前記材料流出口面の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブを備えており、および、
前記受流底部が、前記流動化ユニットに対して相対的に移動可能に配置されており、
その際、前記受流底部が、この受流底部の移動によって、流動化ユニットに対して相対的に、排出位置へと移動可能であり、
その際、処理された前記材料を前記流動化ユニットから排出するために、
前記受流底部が、排出状態において、
この受流底部に沿って、前記分配チャンバー内において配置された前記材料流出口と前記流動化チャンバーとの間の流体接続が形成されるように、前記ウェブに配置されており、および、
その際、前記受流底部の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置が前記材料排出部を開放する。

この構成における利点は、受流底部が配置されているウェブが、
プロセスガス流が、材料流出口面の領域内において、受流底部の周囲を回って流動すること、および、このことによって、処理された材料の排出を制限するかまたは完全に阻止する、一種の「プロセスガス幕（Ｐｒｏｚｅｓｓｇａｓ－Ｖｏｒｈａｎｇ）」を形成すること、
を阻止することにある。
それに加えて、このウェブは、流動化チャンバー内において処理された材料が、排出の際に、受流底部と分配チャンバー内壁との間に結果として生じる間隙を通って分配チャンバー内へと落下することを防止する。

有利には、受流底部と流動化ユニットとの間の相対的な移動によって、微粒子状の材料は、処理の後、材料排出部を通って排出され得る。この相対的な移動は、プロセスガスが材料排出部を通っての処理された材料の排出を補助することの構造およびやり方で実施され得る。

上記のことに関連して有利な流動化装置の実施形態により、受流底部は、作動位置において、有利には、流体流出口の上側の縁部の上方に配置されている。受流底部が作動位置に位置する場合、流動化装置は作動状態にある。これに伴って、作動位置において、材料は、材料流出口を通っての材料排出無しに、流動化チャンバー内において処理可能である。

排出位置において、受流底部は、この受流底部の移動によって、流動化装置に対して相対的に、有利には少なくとも部分的に、流体流出口の上側の縁部の下方に位置決めされる。この排出位置において、流動化装置は排出状態にある。

流動化装置の特に有利な更なる構成に相応して、ウェブの上側面は、材料流出口の材料流出口面に対して接線方向に配置されているか、または、プロセスガスの流動方向とは逆方向に、この材料流出口の下方に配置されている。分配チャンバー内におけるウェブのそのような配置により、流動化装置、特に流動化チャンバーからの処理された材料の排出は、明確に改善される。
上記のことに関連して、合目的に、ウェブの上側面は、材料流出口の材料流出口面の下側の縁部に対して接線方向に配置されている。この実施形態は、特に有利である。何故ならば、従って、処理された材料が、障害無しに、流動化装置から排出可能であるからである。

その上、ウェブは、有利には、鎌形状、特に三日月形状、またはリング形状に形成されている。このことによって、プロセスガス流動は、最も小さな強さで影響を及ぼされ、従って、流動化チャンバー内における処理されるべき材料の流動化が、作動位置において、更に極めて良好に機能する。

流動化装置のこれに関連する有利な構成により、
前記流動化ユニットは、この流動化ユニットの前記長手方向軸線に対して横向きに延びる旋回軸を有しており、
この旋回軸に、前記受流底部が旋回可能に配置されている。
合目的に、この旋回軸は、流動化ユニットの中心の前記長手方向軸線に対して垂直に延びている。
この構成により、旋回軸を中心としての旋回移動の形態での、簡単な相対的な移動は可能である。
このことによって、一方では、分配チャンバー内において配置された、材料排出の材料排出部が、流動化チャンバー内において処理された材料の排出のために開放され、他方では、この排出が、受流底部の傾斜位置によって、－液体においてと同様に－促進される。
その上、受流底部は、有利には、旋回軸を中心として、０°と６０°との間の角度だけ、合目的に５°から１０°までの角度だけ旋回される。
この旋回移動により、受流底部と、分配チャンバー及び／または流動化チャンバーとの間で、基本的に、リング形状または鎌形状の間隙が形成され、この間隙は過度に大きくなるべきではない。何故ならば、ここで、さもなければ、排出状態において、プロセスガスでもってのこの間隙の貫通流動にもかかわらず、処理された材料が、分配チャンバー内へと到達可能であることの危険が存在するからである。
原理的に、間隙は、プロセスガスによって密閉される。
材料流出口の領域内において、流動化ユニット、特に分配チャンバーは、少なくとも部分的に、周囲方向に延在するウェブによって如何なる間隙も有していない。
受流底部は、旋回軸を中心として旋回され、且つ、ウェブに配置される。

この流動化装置の、更に有利な、これに関して選択的な構成において、前記受流底部は、前記長手方向軸線の軸線方向に移動可能に配置されている。この受流底部は、前記長手方向軸線の軸線方向に、直線移動の形態で移動される。
合目的に前記受流底部は、この受流底部の上側面が、下側の前記縁部と面一になるか、または、この縁部の下方で位置決めされるまで移動される。有利には、受流底部は、長手方向軸線の軸線方向に移動されている。
同様に選択的な構成により、材料排出部は、改善された排出のために、微粒子状の材料の処理の後、開放される。

更に有利には、前記流動化ユニットは、この流動化ユニットの前記長手方向軸線に対して横向きに延び且つこの長手方向軸線の軸線方向に移動可能に配置された旋回軸を有しており、この旋回軸において、受流底部７が旋回可能に配置されている。
この流動化装置のこの構成により、有利な流動化装置の選択的な両方の実施形態の利点、即ち旋回移動と直線移動との利点は組み合わされる。それに加えて、－ウェブが配置されていないところで－、流動化ユニットと受流底部との間の、形成された間隙は、より小さい。

流動化装置の付加的で有利な構成に従い、前記受流底部、特にこの受流底部の上側面は、前記排出位置において、流動化ユニットに対して相対的なこの受流底部の移動によって、少なくとも部分的に、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる。
特に有利には、前記受流底部、特にこの受流底部の上側面は、前記排出位置において、前記材料流出口の下側の前記縁部の下方に位置決めされる。このことによって、材料流出口面は最大に開放されており、従って、処理された材料の排出が能率的に且つ迅速に行われ得る。

有利には、特に排出管として形成された前記材料排出部に、流体接続流出口を備える、補助ガスの提供のための流体接続部が組み込まれている。処理された材料の排出を支援および改善するために、流体接続部を通って、材料排出部に、流体、合目的に補助ガスまたは支持ガスを供給することは可能である。
有利には、補助ガスは、プロセスガスに相応する。更に有利には、補助ガスは、プロセスガスから分岐され、且つ、このプロセスガスに、材料排出部の後ろで、循環回路運転方法において再び引き渡される。

上記のことに関連して、材料排出部は、流動化装置の更なる構成に相応して、挿入底部を有しており、この挿入底部が、材料排出部を、処理された材料を流動化ユニットから輸送する材料通路と、補助ガスを案内する流体通路とに分割し、その際、挿入底部内において、流体接続流出口が配置されており、従って、補助ガスは、流体通路から材料通路内へと溢流可能である。
このことによって、補助ガス、特に補助空気の導入のための、極めて簡単な、且つ、場所を取らない構造が提供される。

有利には、流体接続流出口は、パーフォレーションを付けられた被覆部を有しているか、または、挿入底部内における穿孔によって形成されている。パーフォレーションを付けられた被覆部、または、相応して構成された穿孔によって、流動化ユニットから排出されるべき、処理された材料が、流体接続部内へと落下すること、および、この流体接続部を詰まらせることは阻止される。
特に有利には、流体接続流出口、特にパーフォレーションを付けられた被覆部または穿孔の一部は、補助ガスが、処理された材料の排出の方向における流出方向を有するように形成されている。この極めて有利な更なる構成は、処理された材料の排出を更に支援する。

合目的に、流体接続流出口は、材料流出口面の領域内において配置されている。このことによって、補助ガスが、排出するべき処理された材料を、直接的に材料流出口へと搬送すること、及び／または、補助することは保障される。

有利には、この方法は、先に記載された流動化装置で作動される。

以下で、本発明を、添付された図に基づいて詳細に説明する。

作動位置における流動化装置の第１の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している図である。 水平方向の位置における、旋回軸に配置された受流底部を有する、作動位置における流動化装置の第１の実施形態の概略的な図示による、図１内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。 角度αだけ旋回軸を中心として旋回された位置における、旋回軸に配置された受流底部を有する、排出位置における流動化装置の第１の実施形態の概略的な図示による、図１内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。 排出位置における流動化装置の第１の実施形態の概略的な図示の平面図を示している図である。 排出位置における、流動化装置の第１の実施形態の、ウェブと材料流出口とを備える分配チャンバーの内側の、投影の概略図示である。 作動位置における流動化装置の第２の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している図である。 水平方向の位置における、平面Ｚ－Ｚ内において配置された受流底部を有する、作動位置における流動化装置の第２の実施形態の概略的な図示による、図６内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。 水平方向の位置における、平面Ｚ´－Ｚ´内において配置された受流底部を有する、排出位置における流動化装置の第２の実施形態の概略的な図示による、図６内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。 図８内において図示された部分Ａの拡大図である。 作動位置における流動化装置の第３の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している図である。 水平方向の位置における、平面Ｚ－Ｚ内において配置された受流底部を有する、作動位置における流動化装置の第３の実施形態の概略的な図示による、図１０の断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。 排出位置における流動化装置の第３の実施形態の概略的な図示による、図１０内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図であり、その際、受流底部が、平面Ｚ´－Ｚ´内へと、長手方向軸線Ｘ－Ｘの軸線方向において移動され、且つ、旋回軸を中心として角度αだけ旋回されている。 作動位置における流動化装置の第４の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している図である。 水平方向の位置における、平面Ｚ－Ｚ内において配置された受流底部と、挿入底部を備える材料排出部とを有する、作動位置における流動化装置の第４の実施形態の概略的な図示による、図１３の断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。 角度αだけ旋回軸を中心として旋回された位置における、旋回軸に配置された受流底部を有する、排出位置における流動化装置の第４の実施形態の概略的な図示による、図１３内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。 排出位置における流動化装置の第４の実施形態の概略的な図示の平面図を示している図である。 排出位置における、流動化装置の第４の実施形態の、ウェブと材料流出口とを備える分配チャンバーの内側の、投影の概略図示である。 作動位置における流動化装置の第５の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している図である。 角度αだけ旋回軸を中心として旋回された位置における、旋回軸に配置された受流底部を有する、排出位置における流動化装置の第５の実施形態の概略的な図示による、図１８内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図である。

表現の異なる記載がされない限り、以下の説明は、微粒子状の材料Ｍの処理のための流動化装置１の図内において図示された実施形態全体に関する。

図１は、渦流床装置２として形成された流動化装置１の第１の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している。
この流動化装置１は、中心の長手方向軸線Ｘ－Ｘを有する流動化ユニット３を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して垂直方向に起立する中心軸線Ｙ－Ｙを備える排出管４が配置されている。この中心軸線Ｙ－Ｙとこの長手方向軸線Ｘ－Ｘとは、断面Ａ－Ａを画定する。この溶融ユニット１は、作動状態にある。

図２内において、図１内において示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図が、作動位置における、渦流床装置２として形成された流動化装置１の第１の実施形態の概略的な図示によって、図示されている。

流動化ユニット３は、この流動化ユニット３を分配チャンバー５とこの分配チャンバー５の上方に配置された流動化チャンバー６とに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部７を備えている。
受流底部７は、作動位置において、断面Ａ－Ａに対して垂直方向に画定された平面Ｚ－Ｚ内において位置しており、従って、作動位置において、処理されるべき材料Ｍは、受流底部７の上方の流動化チャンバー６内において配置されている。受流底部７が作動位置にある場合、溶融ユニット１は作動状態にある。

渦流床装置２として形成された流動化装置１の流動化ユニット３は、長手方向軸線Ｘ－Ｘを中心として回転対称的に形成されている。矩形状、特に正方形状のような、他の幾何学的な形状は、他の図示されていない実施形態において実現されている。

図２内において示された実施形態において、分配チャンバー５は、分配チャンバー高さ８にわたって一定の分配チャンバー内径９を有する、円筒形の形状を有している。
分配チャンバー５は、長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して半径方向に離間された分配チャンバー壁１０を備えている。分配チャンバー壁１０は、分配チャンバー内壁１１と称される、この分配チャンバー壁１０の内側面と、分配チャンバー外壁１２と称される、この分配チャンバー壁１０の外側面とを有している。

同様に流動化チャンバー６も、図示された実施形態において円筒形に形成されており、その際、流動化チャンバー６が、分配チャンバー５とは異なり、流動化チャンバー高さ１３にわたって、下方から上方へとより大きくなる流動化チャンバー内径１４を有する円錐状の形状を有している。
流動化チャンバー６は、長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して離間された流動化チャンバー壁１５を備えている。流動化チャンバー壁１５は、流動化チャンバー内壁１６と称される、この流動化チャンバー壁１５の内側面と、流動化チャンバー外壁１７と称される、この流動化チャンバー壁１５の外側面とを有している。

流動化チャンバー６は、それに加えて、処理されるべき材料Ｍのための材料流入口１８を備えており、且つ、分配チャンバー５が、処理された材料Ｍ´のための材料排出部１９を備えている。
材料排出部１９は、特に、排出管壁２０を有する排出管４として形成されており、この排出管４が、図２内において図示された実施形態において、流動化ユニット３の長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して垂直方向に、中心軸線Ｙ－Ｙを中心として回転対称的に、分配チャンバー壁１０内において配置されている。その際、材料排出部１９の材料流出口２１は、この材料流出口２１が、分配チャンバー内壁１１と面一に形成されているように配置されている。
材料流出口２１は、材料流出口面２２を有しており、且つ、流動化チャンバー６内において処理された材料Ｍ´の排出のための、下側および上側の縁部２３ａ、２３ｂを備えている。

材料排出部１９の材料流出口２１は、遮断装置２４を有している。遮断装置２４は、受流底部７の作動位置において閉鎖されている。遮断装置２４は、合目的に、旋回軸２５を中心として旋回可能な跳ね上げ蓋２６として形成されている。作動状態において、これに伴って、流動化装置１の流動化ユニット３の材料排出部１９は閉鎖されている。
遮断装置２４が、更に、排出管４として形成された材料排出部１９内において、中心軸線Ｙ－Ｙの方向において、他の位置に形成されていることは可能である。

更に、分配チャンバー５は、流体流入口２７を、および、流動化チャンバー６が、流体流出口２８を有している。
図２内において示された作動位置において、パーフォレーションを付けられた受流底部７は、平面Ｚ－Ｚ内における水平の位置において配置されており、その際、プロセスガスＰＧが、流体流入口２７において流動化ユニット３内へと流入し、且つ、この流体流入口２７からパーフォレーションを付けられた受流底部７を通って、流体流出口２８へと流動し、この流体流出口で、このプロセスガスが、流動化ユニット３から流出する。
パーフォレーションを付けられた受流底部７は、合目的に、プロセスガスＰＧのための図示されていない貫通開口部を有しており、これら貫通開口部が、貫通流動の際に、圧力損失を生成する。プロセスガスＰＧは、作動状態において、即ち受流底部７の作動位置において、流動化チャンバー６内における処理されるべき材料Ｍを流動化する。

受流底部７は、流動化ユニット３内において、この流動化ユニット３に対して相対的に移動可能に配置されている。図２内において示された流動化装置１の実施形態において、流動化ユニット３は、この流動化ユニット３の長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して横向きに延びる旋回軸２９を有しており、この旋回軸に、受流底部７が、旋回可能に配置されている。流動化装置１の図示された第１の実施形態において、旋回軸２９は、合目的に、流動化ユニット３の長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して垂直に、且つ、排出管４の中心軸線Ｙ－Ｙに対して垂直に延びている。図２内において図示された、流動化装置１の作動状態において、受流底部７は、上側の縁部２３ｂの上方に配置されている。このことによって、微粒子状の材料Ｍの処理の間じゅう、流動化チャンバー６内におけるプロセスガスＰＧによって、如何なる材料Ｍも流動化装置１の流動化ユニット３から排出されないことは保障される。

その上、分配チャンバー５は、材料流出口面２２の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブ３０を有している。
ウェブ３０の上側面３１は、材料流出口２１の材料流出口面２２に対して接線方向に、配置されている。合目的に、ウェブ３０の上側面３１は、材料流出口２１の材料流出口面２２の下側の縁部２３ａに対して接線方向に、配置されている。ウェブ３０は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。

渦流床装置２内における微粒子状の材料Ｍの処理の後、処理された材料Ｍ´は、排出状態において、流動化装置１から、材料通路４２を通って排出される。
この目的のために、排出位置へと移動可能な受流底部７は、流動化ユニット３に対して相対的に、旋回移動の形態で移動され、従って、この受流底部が、排出位置へと旋回軸２９を中心として旋回され、流動化ユニット３内において位置決めされる。受流底部７が排出位置にある場合、流動化装置１は排出状態にある。

排出位置において、受流底部７は、この受流底部７がウェブ３０に配置されている程に、旋回軸２９を中心として角度αだけ旋回されている。このことによって、処理された材料を流動化ユニット３から排出するために、受流底部７に沿って、分配チャンバー５内において配置された材料流出口２１と流動化チャンバー６との間の流体接続が形成される。合目的に、受流底部７は、５°から１０°の角度だけ旋回されている。このことによって、処理された材料Ｍ´は、材料流出口への方向に流動する。処理された材料Ｍ´の排出は、プロセスガスＰＧによって補助され、このプロセスガスが、同様に排出状態においても、流体流入口２７から流体流出口２８へと、流動化装置１の流動化ユニット３を通って流動する。

受流底部７が排出状態において、排出位置においてウェブ３０に配置されているやいなや、遮断装置２４は材料排出部１９を開放する。次いで、流動化ユニット３内において処理された材料Ｍ´の排出が行われる。
有利には、排出状態において、遮断装置２４は可能な限り広く開放され、従って、材料流出口２１の材料流出口面２２は、最大に大きくなり、このことによって、付加的に、処理された材料Ｍ´の改善された排出が促進される。

排出位置において、旋回軸２９を中心として旋回される受流底部７による旋回移動に基づいて、間隙３２が、受流底部７と流動化ユニット３との間に、特にこの受流底部７と、分配チャンバー内壁１１及び／または流動化チャンバー内壁１６との間に形成され、この間隙は、基本的に、受流底部７の周囲全体を廻って延在する。その際、形成される間隙幅は変化する。
この間隙３２を通って、排出状態において、プロセスガスＰＧが流動し、従って、処理された材料Ｍ´は、排出の際に、流動化チャンバー６から、分配チャンバー５内へと到達または落下可能ではない。

材料流出口２１の領域内において、ウェブ３０は、一方では、排出されるべき材料Ｍ´の到達または落下を防止し、他方では、そのウェブに受流底部７が配置されている該ウェブ３０が、材料流出口面２２の領域内において、受流底部７の周囲を回って流動し且つこのことによって処理された材料の排出を制限するまたは完全に防止する、一種の「プロセスガス幕」を形成する、プロセスガス流を阻止する。

図４内において、図１に相応する、流動化装置１の第１の実施形態の概略的な図示の平面図が示され、その際、流動化装置１は排出状態にある。その際、受流底部７は、旋回軸２９を中心として角度αだけ旋回された位置において、ウェブ３０に配置されており、このことによって、受流底部７と、流動化ユニット３、特に分配チャンバー内壁１１及び／または流動化チャンバー内壁１６との間に、間隙幅において変化する間隙３２が形成されている。
この間隙３２を通って、排出工程の間じゅう、プロセスガスＰＧが流動し、従って、如何なる処理された材料Ｍ´も、分配チャンバー５内へと到達可能ではない。

材料流出口面２２の領域内において、分配チャンバー５において配置されたウェブ３０は、周囲方向に延在している。ウェブ３０の上側面３１は、材料流出口２１の材料流出口面２２の下側の縁部２３ａに対して接線方向に配置されている。ウェブ３０は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。
ウェブ３０は、１６０°の角度βを有している。他のここで示されていない実施形態において、ウェブ３０は、５°から１８０°まで、有利には１０°から６０°までの角度βを有している。

図５は、排出位置における、流動化装置１の第１の実施形態の、ウェブ３０と材料流出口２１とを備える分配チャンバー内壁１１の投影の概略的な図示を示している。既に図４内において記載されているように、ウェブ３０の上側面３１は、材料流出口２１の材料流出口面２２の下側の縁部２３ａに対して接線方向に配置されている。材料流出口面２２は、このことによって、最大に大きく開放されている。
図５内において図示されていない遮断装置２４は、排出位置において材料排出部１９を開放し、従って、処理された材料Ｍ´が、流動化チャンバー６から、最大の開放された、流動化ユニット３の材料流出口面２２を通って能率的に排出可能である。投影された図示は、鎌形状に形成されたウェブ３０を備えており、その際、このウェブ３０が、ほぼ１６０°の角度βを有している。

図６は、図１に相応して、渦流床装置２として形成された流動化装置１の第２の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している。
この流動化装置１は、中心の長手方向軸線Ｘ－Ｘを有する流動化ユニット３を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して垂直方向に起立する中心軸線Ｙ－Ｙを備える排出管４が配置されている。この中心軸線Ｙ－Ｙとこの長手方向軸線Ｘ－Ｘとは、断面Ａ－Ａを画定する。この溶融ユニット１は、作動状態にある。

作動状態にある流動化装置１の、第２の実施形態の概略的な図示による、図６の断面Ａ－Ａに沿っての断面図は、図７内において図示されている。
受流底部７は、作動位置において、断面Ａ－Ａに対して垂直方向に画定された平面Ｚ－Ｚ内において位置しており、従って、処理されるべき材料Ｍは、作動状態において、受流底部７の上方の流動化チャンバー６内において配置されおり、そこで流動化可能および処理可能である。

その上、流動化装置１の第２の実施形態は、基本的に、流動化装置１の第１の実施形態と同じ構造で形成されている。これら両方の実施形態は、流動化ユニット３と受流底部７との間で実施される相対的な移動の、技術的な実施態様において相違する。
－第１の実施形態内においてのような－旋回移動の代わりに、第２の実施形態における受流底部７は、長手方向軸線Ｘ－Ｘの軸線方向３３における直線移動を実施する。受流底部７は、これに伴って、長手方向軸線Ｘ－Ｘの軸線方向３３において移動可能に配置されている。

更に、ウェブ３０が、プロセスガスの流動方向に沿って、材料流出口２１の下方に配置されており、このことは、第２の実施形態を、第１の実施形態から更に区別する。
ウェブ３０は、これに伴って、材料流出口面２２の下側の縁部２３ａから離間して配置されている。特に間隔ｃは、示されていない実施形態において、ごく微小であり、合目的にゼロに等しい。

図８内において、図６の断面Ａ－Ａに沿っての断面図が、流動化装置１の第２の実施形態の概略的な図示によって、排出位置の水平方向の位置における、平面Ｚ´－Ｚ´内において配置された受流底部７と共に示されている。平面Ｚ´－Ｚ´は、間隔ｄにおいて平面Ｚ－Ｚに対して平行に延びている。受流底部７は、間隔ｄだけ、中央の長手方向軸線Ｘ－Ｘの軸線方向３３において、下方へと、即ち平面Ｚ－Ｚから平面Ｚ´－Ｚ´内へと移動されている。
受流底部７は、示された実施形態において、ウェブ３０の上に載置しており、従って、合目的に、この受流底部７の上側の縁部３４及び／または上側面３５が、材料流出口２１の下側の縁部２３ａと同じ高さで配置されている。受流底部７の上側の縁部３４及び／または上側面３５は、特に、材料流出口２１の下側の縁部２３ａに対して接線方向に配置されている。これに伴って、材料流出口２１の材料流出口面２２は完全に開放されており、従って、材料通路４２を通っての処理された材料Ｍ´の排出が改善されて行われ得る。

合目的に、材料流出口２１の領域内における、パーフォレーションを付けられた受流底部７内において、少なくとも１つの排出開口部３６、特に複数の排出開口部３６が形成されており、前記排出開口部が、図示された矢印３７に相応して、材料流出口２１に向かって整向されている。このことによって、排出状態において、処理された材料Ｍ´の排出は、プロセスガスＰＧによって付加的に補助される。

図９は、図８内において図示された部分Ａの拡大図を示しており、この部分が、材料流出口２１の領域を図示している。
パーフォレーションを付けられた受流底部７は、貫通開口部３８を有しており、処理されるべき微粒子状の材料Ｍを流動化チャンバー６内において流動化するために、これら貫通開口部を通ってプロセスガスＰＧが流動する。これら貫通開口部３８は、適宜に配置可能であり、その際、これら貫通開口部３８が、材料Ｍの流動化及び／または処理に対する特有の要件に相応して、特定の数および貫通開口部直径において形成されている。

材料流出口２１の領域内において、パーフォレーションを付けられた受流底部７内において、排出開口部３６が配置されている。
プロセスガスＰＧは、矢印３７の方向に、排出開口部３６を通って流動し、且つ、従って、排出位置において、処理された材料Ｍ´の能率的且つ迅速な排出を補助する。これら排出開口部３６が、例えば、円形扇形において、材料流出口２１の手前配置されていることは可能である。
それに加えて、パーフォレーションを付けられた受流底部７の上側の縁部３４及び／または上側面３５は、材料流出口２１の下側の縁部２３ａの高さに至るまで、面一に降下されており、このことによって、処理された材料Ｍ´の排出が、付加的に、可能な限り大きな材料流出口面２２に基づいて支援され、且つ、容易化される。

図１０は、渦流床装置２として形成された流動化装置１の第３の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している。
この流動化装置１は、中心の長手方向軸線Ｘ－Ｘを有する流動化ユニット３を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して垂直方向に起立する中心軸線Ｙ－Ｙを備える排出管４が配置されており、その際、この中心軸線Ｙ－Ｙとこの長手方向軸線Ｘ－Ｘとが、断面Ａ－Ａを画定する。この溶融ユニット１は、作動状態にある。

図１１内において、図１０の断面Ａ－Ａに沿っての断面図が、作動状態における流動化装置１の第３の実施形態の概略的な図示によって、平面Ｗ－Ｗ内において配置された、水平位置における受流底部７と共に図示されている。

流動化装置１の第３の実施形態は、基本的に、最初の両方の実施形態の組み合わせである。同様に第３の実施形態においても、受流底部７は、流動化ユニット３に対して相対的に移動可能である。
第１および第２の実施形態に対する相違において、第３の実施形態の受流底部７は、一方では、旋回軸２９を中心として旋回移動を実施し、および、他方では、長手方向軸線Ｘ－Ｘの軸線方向３３における直線移動を実施することのために適合されている。図示された作動状態において、微粒子状の材料Ｍは、流動化チャンバー６内において処理される。

作動位置から排出位置への、受流底部７の移動の際の旋回移動と直線移動とは、相前後して適宜の順序において、または、互いに同時に実施され得る。このことによって、旋回移動および直線移動の利点は効果を発揮する。本実施形態において、旋回移動と直線移動とは、同時に実施される。

材料排出部１９は、旋回軸２５を中心として移動可能な遮断装置２４を有している。遮断装置２４は、合目的に、跳ね上げ蓋２６、弁、または、ロータリーバルブ（Ｚｅｌｌｒａｄｓｃｈｌｅｕｓｅ）、またはその種の他の物として形成されている。第３の実施形態内において跳ね上げ蓋２６として形成された遮断装置２４は、材料排出部１９を閉鎖するか、または、この材料排出部を開放する。
図１１内において図示された－受流底部７が材料流出口２１の下側の縁部２３ａの上方、および、上側の縁部２３ｂの下方に位置する－作動状態において、遮断装置２４は、材料排出部１９を閉鎖している。これに伴って、プロセスガスＰＧも処理されるべき材料Ｍも、流動化装置１の流動化ユニット３、特に流動化チャンバー６から流出可能ではなく、または、排出され得ない。示された実施形態において、跳ね上げ蓋２６は、中心軸線Ｙ－Ｙに対して法線方向に配置された旋回軸２５を中心として旋回可能である。

図１２は、図１０の断面Ａ－Ａに沿っての断面図を、流動化装置１の第３の実施形態の概略的な図示によって示している。

排出状態において、流動化チャンバー６内において処理された、微粒子状の材料Ｍ´は、流動化装置１の流動化ユニット３から、排出管４として形成された材料通路４２を備える材料排出部１９を通って排出される。遮断装置２４は、その際、旋回軸２５を中心として旋回されており、且つ、材料排出部１９を、－受流底部７が少なくとも部分的に材料流出口２１の上側の縁部２３ｂの下方に位置する－排出状態において開放する。

受流底部７は、その際、一方では、旋回軸２９を中心として角度αだけ旋回されており、且つ、他方では、この旋回軸２９が、平面Ｗ－Ｗから、この平面Ｗ－Ｗに対して平行に整向された平面Ｗ´－Ｗ´内へと、長手方向軸線Ｘ－Ｘの軸線方向３３において移動されている。平面Ｗ－Ｗから、平行な間隔ｄだけ移動された平面Ｗ´－Ｗ´内への、受流底部７の旋回軸２９の降下と、この旋回軸２９を中心としてのこの受流底部７の同時の旋回とによって、流動化チャンバー６からの処理された材料Ｍ´の改善された排出は生起される。示された実施形態において、平面Ｗ´－Ｗ´は、中心軸線Ｙ－Ｙの上方に配置されている。
このことによって、その角度だけ受流底部７が旋回軸２９を中心として旋回されている、該角度αを小さく保持することが可能であることは結果として生み出され、従って、受流底部７と、流動化ユニット３、特に分配チャンバー内壁１１及び／または流動化チャンバー内壁１６との間で形成する間隙３２が最小限化される。このことは、処理された材料Ｍ´の、更に改善された排出を誘起する。

受流底部７の上側面３５は、排出位置において、材料流出口２１の下側の縁部２３ａの上方に位置決めされる。遮断装置２４を有する材料排出部１９は、旋回軸２５を中心として旋回された遮断装置２４によって開放されており、従って、処理された材料Ｍ´が、排出開口部３６を通って流動するプロセスガスＰＧによって補助されて、排出され得る。

図１３から１７まで内において示された、流動化装置１の第４の実施形態は、基本的に、図１から５まで内において図示された流動化装置１の第１の実施形態と同じ構造である。両方の実施形態の間の相違は、排出管４として形成された材料排出部１９の構成にあり、且つ、それに伴うウェブ３０の配置にある。

図１３は、その際、渦流床装置２として形成された流動化装置１の第４の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示している。
この流動化装置１は、中心の長手方向軸線Ｘ－Ｘを有する流動化ユニット３を備えており、この流動化ユニットにおいて、長手方向軸線Ｘ－Ｘに対して垂直方向に起立する中心軸線Ｙ－Ｙを備える排出管４が配置されており、その際、この中心軸線Ｙ－Ｙとこの長手方向軸線Ｘ－Ｘとは、断面Ａ－Ａを画定する。この溶融ユニット１は、作動状態にある。

図１４内において、作動状態における流動化装置１が示されている。その際、分配チャンバー５を流動化チャンバー６から分離する、平面Ｗ－Ｗ内において位置する受流底部７は、材料流出口２１の上側の縁部２３ｂ上方に配置されている。微粒子状の材料Ｍは、流動化装置１の流動化ユニット３の流動化チャンバー６内において、特にプロセスガスＰＧによって処理される。プロセスガスＰＧは、流動化ユニット３を、流体流入口２７から、パーフォレーションを付けられた受流底部７を通って、流体流出口２８へと貫通流動する。

第１の実施形態とは異なり、図１４の第４の実施形態において、排出管４として形成された材料排出部１９に、補助ガスＨＧの提供のための、流体接続流出口３９を備える流体接続部４０が組み込まれている。流体接続流出口３９は、材料流出口２１の材料流出口面２２の領域内において配置されている。

排出管４として形成された材料排出部１９は、挿入底部４１を有している。挿入底部４１は、材料排出部１９を、処理された材料Ｍ´を流動化ユニット３から輸送する材料通路４２と、補助ガスＨＧを案内する流体通路４３とに分割する。
挿入底部４１内において、合目的に、流体接続流出口３９が配置されており、従って、補助ガスＨＧは、流体通路４３から材料通路４２内へと溢流可能である。流体接続流出口３９は、挿入底部４１内における穿孔４４によって形成されている。その際、流体接続流出口３９、特に穿孔４４は、合目的に、補助ガスＨＧが、流動化装置１からの処理された材料Ｍ´の排出の方向における流出方向を有しているように形成されている。

図１５は、流動化装置１を、排出状態において示している。排出状態において、受流底部７が排出位置において配置されており、即ち、この受流底部７は、この受流底部がウェブ３０に配置されているように、流動化ユニット３に対して相対的に移動されている。排出状態において、受流底部７は、ウェブ３０の上に載置している。
処理された材料Ｍ´の排出は、材料通路４２を通って行われ、その際、補助ガスＨＧが、流体接続流出口３９を通って、流体通路４３からこの材料通路４２内へと流動し、且つ、その際、流動化装置１からの処理された材料Ｍ´の排出を支援する。

図１６内において、図１３に相応する、流動化装置１の第４の実施形態の概略的な図示の平面図が示され、その際、流動化装置１が排出状態にある。その際、受流底部７は、旋回軸２９を中心として角度αだけ旋回された位置において、ウェブ３０に配置されており、このことによって、受流底部７と、流動化ユニット３、特に分配チャンバー内壁１１及び／または流動化チャンバー内壁１６との間に、間隙幅において変化する間隙３２が形成されている。
この間隙３２を通って、排出工程の間じゅう、プロセスガスＰＧが流動し、従って、如何なる処理された材料Ｍ´も、分配チャンバー５内へと到達可能ではない。

材料流出口面２２の領域内において、分配チャンバー内壁１１において配置されたウェブ３０は、周囲方向に延在している。ウェブ３０の上側面３１は、挿入底部４１の上側の縁部４５に配置されている。
ウェブ３０の上側面３１と挿入底部４１の上側面４６とは、従って、面一に接し合って接続する、平坦な上側面３１、４６を形成する。ウェブ３０は、その際、鎌形状、特に三日月形状に形成されている。ウェブ３０は、１６０°の角度βを有している。

図１７は、排出位置における、流動化装置１の第４の実施形態の、ウェブ３０と材料流出口２１とを備える分配チャンバー内壁１１の投影の概略的な図示を示している。既に図１６内において記載されているように、ウェブ３０の上側面３１は、材料排出部１９の挿入底部４１の上側の縁部４５に対して接線方向に配置されている。ウェブ３０の上側面３１と、挿入底部４１の上側面４６とは、従って、面一に接し合って接続する、平坦な上側面３１、４６を形成する。
材料流出口面２２は、このことによって、第１の実施形態の材料流出口面２２との比較において、より小さい。材料流出口面２２は、従って、材料通路４２に割り当てられた材料流出口面２２ａと、流体通路４３に割り当てられた材料流出口面２２ｂとに分割されている。その際、材料流出口面２２ａは、遮断装置２４によって、排出状態において開放されており、且つ、材料流出口面２２ｂが分配チャンバー内壁１１として形成されている。

図１７内において図示されていない遮断装置２４が、排出位置において、材料排出部１９、特に材料流出口面２２ａを開放し、従って、処理された材料Ｍ´は、流動化ユニット３の流動化チャンバー６から、材料通路４２を通って、能率的に、且つ、流体通路４３から流出する補助ガスＨＧによって補助されて、排出可能である。
投影された図示は、鎌形状に形成されたウェブ３０を備えている。このウェブ３０は、ほぼ１６０°の角度βを有している。

図１８と１９とは、流動化装置１の、更に別の、第５の実施形態を示している。その際、図１８は、作動位置における流動化装置１の第５の実施形態の概略的な図示の平面図を、断面Ａ－Ａと共に示しており、および、図１９が、この図１８内において図示された断面Ａ－Ａに沿っての断面図を、角度αだけ旋回軸２９を中心として旋回された位置における旋回軸２９に配置された受流底部７を有する、排出位置における流動化装置１の第５の実施形態の概略図によって示している。

第５の実施形態は、基本的に、第１の実施形態と同じ構造である。これら両方の実施形態は、ウェブ３０が、プロセスガスＰＧの流動方向とは逆方向に、材料流出口２１の下方に配置されていることによって相違している。ウェブ３０は、材料流出口面２２の下側の縁部２３ａから離間されている。

更に、両方の実施形態は、排出管４として形成された材料排出部１９に、補助ガスＨＧの提供のための流体接続流出口３９を有する流体接続部４０が所属して設けられていることによって互いに相違している。
流体接続流出口３９は、排出管壁２０内において配置されており、且つ、パーフォレーションを付けられた被覆部４７を備えている。パーフォレーションを付けられた被覆部４７を貫通する穿孔４８は、流体接続部４０から材料通路４２内へと流出する補助ガスＨＧが、流動化装置１からの処理された材料Ｍ´の排出の方向に流動するように整向されている。

跳ね上げ蓋２６として形成された遮断装置２４は、旋回軸２５を中心として旋回可能に配置されており、その際、この旋回軸２５が、中心軸線Ｙ－Ｙに対して垂直方向に配置されており、且つ、この中心軸線と交差している。跳ね上げ蓋２６は、図１９内において図示された排出位置において、材料排出部１９を、流動化チャンバー６の排出のために開放する。
なお、本願は、特許請求の範囲に記載の発明に関するものであるが、他の態様として以下も包含し得る。
１． 長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）を有する流動化ユニット（３）を備える流動化装置（１）内において微粒子状の材料（Ｍ）を処理するための方法であって、
前記流動化ユニットが、この流動化ユニット（３）を分配チャンバー（５）とこの分配チャンバー（５）の上方に配置された流動化チャンバー（６）とに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部（７）を有しており、
前記流動化チャンバー（６）が、処理されるべき前記材料（Ｍ）のための材料流入口（１８）を備えており、および、
前記分配チャンバー（５）が、材料流出口面（２２）と下側および上側の縁部（２３）とを有する、処理された前記材料（Ｍ´）のための材料流出口（２１）を装備する材料排出部（１９）を備えており、および、
遮断装置（２４）が前記材料排出部（１９）を閉鎖し、且つ、
前記分配チャンバー（５）が、流体流入口（２７）を備えており、および、前記流動化チャンバー（６）が、
前記流体流入口（２７）から前記パーフォレーションを付けられた受流底部（７）を通って前記流体流出口（２８）へと流動し、前記流動化チャンバー（６）内における前記材料（Ｍ）を流動化するプロセスガス（ＰＧ）のための、流体流出口（２８）を備えており、作動状態において、先ず第一に、前記流動化チャンバー（６）が、前記材料流入口（１８）を介して、処理されるべき材料（Ｍ）でもって充填され、且つ、その後、前記材料（Ｍ）が、前記流動化チャンバー（６）を通って流動する前記プロセスガス（ＰＧ）によって処理される、
前記方法において、
前記分配チャンバー（５）が、前記材料流出口面（２２）の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブ（３０）を備えており、および、
前記作動状態の後に、前記流動化ユニット（３）に対して相対的に移動可能に配置された前記受流底部（７）が、
この受流底部（７）が、排出状態において、前記受流底部（７）の傍らを通り過ぎる、前記分配チャンバー（５）内において配置された前記材料流出口（２１）と前記流動化チャンバー（６）との間に流体接続が形成され、且つ、処理された前記材料（Ｍ´）が前記材料流出口（２１）を通って前記流動化ユニット（３）から排出される程に、前記ウェブ（３０）に配置されるように、
排出位置へと移動され、
前記受流底部（７）の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置（２４）が前記材料排出部（１９）を開放する、
ことを特徴とする方法。
２． 前記流動化ユニット（３）は、この流動化ユニット（３）の前記長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）に対して横向きに延びる旋回軸（２９）を有しており、
この旋回軸に、前記受流底部（７）が旋回可能に配置されており、且つ、
この旋回軸を中心として、前記受流底部（７）が、前記微粒子状の材料（Ｍ）の処理の後、合目的に５°から１０°まで旋回されることを特徴とする上記１に記載の方法。
３． 前記受流底部（７）は、
前記長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）の軸線方向（３３）に移動可能に配置されており、且つ、
前記長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）の軸線方向（３３）に、直線移動の形態で、合目的に前記受流底部（７）が下側の前記縁部（２３ａ）の下方で位置決めされるまで移動される、
ことを特徴とする上記１に記載の方法。
４． 前記受流底部（７）は、前記排出位置への移動の際に、旋回移動と直線移動とを、相前後して適宜の順序において、または、同時に実施することを特徴とする上記２または３に記載の方法。
５． 前記受流底部（７）は、前記排出位置において、
前記受流底部（７）の少なくとも一部が前記材料流出口（２１）の下側の前記縁部（２３ａ）の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニット（３）に対して相対的に移動されることを特徴とする上記１から４のいずれか一つに記載の方法。
６． 前記受流底部（７）は、前記排出位置において、
前記受流底部（７）が前記材料流出口（２１）の下側の前記縁部（２３ａ）の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニット（３）に対して相対的に移動されることを特徴とする上記５に記載の方法。
７． 前記材料排出部（１９）は、遮断装置（２４）を有しており、前記受流底部（７）が排出位置に位置するやいなや、この遮断装置が、前記材料排出部（１９）を開放することを特徴とする上記１から６のいずれか一つに記載の方法。
８． 前記受流底部（７）の少なくとも一部が前記材料流出口の前記下側の前記縁部（２３ａ）の下方に位置決めされるやいなや、前記遮断装置（２４）は、前記材料排出部（１９）を開放することを特徴とする上記７に記載の方法。
９． 特に排出管（４）として形成された前記材料排出部（１９）に、流体接続流出口（３９）を備える、補助ガス（ＨＧ）の提供のための流体接続部（４０）が組み込まれており、処理された前記材料（Ｍ´）の排出を支援するために、この補助ガス（ＨＧ）が、前記流体接続流出口（３９）を通って前記材料排出部（１９）内へと、少なくとも前記遮断装置（２４）が前記材料排出部（１９）を開放した場合に、流動することを特徴とする上記１から８のいずれか一つに記載の方法。

Claims (9)

1. 長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）を有する流動化ユニット（３）を備える流動化装置（１）内において微粒子状の材料（Ｍ）を処理するための方法であって、
   前記流動化ユニットが、この流動化ユニット（３）を分配チャンバー（５）とこの分配チャンバー（５）の上方に配置された流動化チャンバー（６）とに分割する、パーフォレーションを付けられた受流底部（７）を有しており、
   前記流動化チャンバー（６）が、処理されるべき前記微粒子状の材料（Ｍ）のための材料流入口（１８）を備えており、および、
   前記分配チャンバー（５）が、材料流出口面（２２）と下側および上側の縁部（２３）とを有する、処理された材料（Ｍ´）のための材料流出口（２１）を装備する材料排出部（１９）を備えており、および、
   遮断装置（２４）が前記材料排出部（１９）を閉鎖し、且つ、
   前記分配チャンバー（５）が、流体流入口（２７）を備えており、および、前記流動化チャンバー（６）が、
   前記流体流入口（２７）から前記パーフォレーションを付けられた受流底部（７）を通って流体流出口（２８）へと流動し、前記流動化チャンバー（６）内における前記微粒子状の材料（Ｍ）を流動化するプロセスガス（ＰＧ）のための、流体流出口（２８）を備えており、作動状態において、先ず第一に、前記流動化チャンバー（６）が、前記材料流入口（１８）を介して、処理されるべき微粒子状の材料（Ｍ）でもって充填され、且つ、その後、前記微粒子状の材料（Ｍ）が、前記流動化チャンバー（６）を通って流動する前記プロセスガス（ＰＧ）によって処理される、
   前記方法において、
   前記分配チャンバー（５）が、前記材料流出口面（２２）の領域内において配置された、少なくとも部分的に周囲方向に延在するウェブ（３０）を備えており、および、
   前記作動状態の後に、前記流動化ユニット（３）に対して相対的に移動可能に配置された前記受流底部（７）が、
   この受流底部（７）が、排出状態において、前記受流底部（７）に沿って、前記分配チャンバー（５）内において配置された前記材料流出口（２１）と前記流動化チャンバー（６）との間に流体接続が形成され、且つ、処理された前記材料（Ｍ´）が前記材料流出口（２１）を通って前記流動化ユニット（３）から排出される程に、前記ウェブ（３０）に配置されるように、
   排出位置へと移動され、
   前記受流底部（７）の前記排出位置における前記排出状態において、前記遮断装置（２４）が前記材料排出部（１９）を開放すること、および、
   前記ウェブ（３０）が、一方では、処理された前記材料（Ｍ´）の落下を防止し、且つ、他方では、処理された前記材料（Ｍ´）の排出を可能にするために、プロセスガス流を、前記材料流出口面（２２）の領域内において、前記受流底部（７）の周囲を回って流動するのを阻止すること、
   前記ウェブ（３０）が、鎌形状、即ち三日月形状に形成されていること、
   前記ウェブ（３０）の上側面が、前記材料流出口（２１）の前記材料流出口面（２２）に対して接線方向に配置されているか、または、前記プロセスガス（ＰＧ）の流動方向とは逆方向に、この材料流出口（２１）の下方に配置されていること、
   前記材料流出口（２１）の領域内において、前記分配チャンバー（５）が、少なくとも部分的に、周囲方向に延在する前記ウェブ（３０）によって如何なる間隙も有していないこと、
   前記ウェブ（３０）が、５°から１８０°までの角度βを有していること、および、
   前記排出状態において、前記受流底部（７）が、前記ウェブ（３０）の上に載置していること、
   を特徴とする方法。
2. 前記流動化ユニット（３）は、この流動化ユニット（３）の前記長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）に対して横向きに延びる旋回軸（２９）を有しており、
   この旋回軸に、前記受流底部（７）が旋回可能に配置されており、且つ、
   この旋回軸を中心として、前記受流底部（７）が、前記微粒子状の材料（Ｍ）の処理の後、旋回されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記受流底部（７）は、
   前記長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）の軸線方向（３３）に移動可能に配置されており、且つ、
   前記長手方向軸線（Ｘ－Ｘ）の軸線方向（３３）に、直線移動の形態で移動される、
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 前記受流底部（７）は、前記排出位置への移動の際に、旋回移動と直線移動とを、相前後して適宜の順序において、または、同時に実施することを特徴とする請求項２または３に記載の方法。
5. 前記受流底部（７）は、前記排出位置において、
   前記受流底部（７）の少なくとも一部が前記材料流出口（２１）の下側の前記縁部（２３ａ）の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニット（３）に対して相対的に移動されることを特徴とする請求項１から４のいずれか一つに記載の方法。
6. 前記受流底部（７）は、前記排出位置において、
   前記受流底部（７）が前記材料流出口（２１）の下側の前記縁部（２３ａ）の下方に位置決めされる程に、前記流動化ユニット（３）に対して相対的に移動されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
7. 前記材料排出部（１９）は、遮断装置（２４）を有しており、前記受流底部（７）が排出位置に位置するやいなや、この遮断装置が、前記材料排出部（１９）を開放することを特徴とする請求項１から６のいずれか一つに記載の方法。
8. 前記受流底部（７）の少なくとも一部が前記材料流出口の前記下側の前記縁部（２３ａ）の下方に位置決めされるやいなや、前記遮断装置（２４）は、前記材料排出部（１９）を開放することを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 排出管（４）として形成された前記材料排出部（１９）に、流体接続流出口（３９）を備える、補助ガス（ＨＧ）の提供のための流体接続部（４０）が組み込まれており、処理された前記材料（Ｍ´）の排出を支援するために、この補助ガス（ＨＧ）が、前記流体接続流出口（３９）を通って前記材料排出部（１９）内へと、少なくとも前記遮断装置（２４）が前記材料排出部（１９）を開放した場合に、流動することを特徴とする請求項１から８のいずれか一つに記載の方法。