JP7752085B2 - Gas shielding device and gas shielding method - Google Patents
Gas shielding device and gas shielding methodInfo
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Description
本開示は、ガスシールド装置及びガスシールド方法に関するものである。 This disclosure relates to a gas shielding device and a gas shielding method.
例えば工場では、工程ごとに雰囲気の条件が異なる。例えば、他の空間から、対象の空間への流体の混入を防止するために、対象の空間に流体を供給して、他の空間よりも内部圧力を高くする陽圧管理が知られている。例えば、特許文献1には、飲料充填装置において、空間に加熱した気体を供給することで、空間を陽圧化する旨が記載されている。 For example, in a factory, atmospheric conditions vary for each process. For example, positive pressure management is known, in which a fluid is supplied to a target space to increase the internal pressure relative to other spaces, in order to prevent fluid from mixing into the target space from other spaces. For example, Patent Document 1 describes a beverage filling machine in which heated gas is supplied to a space to create a positive pressure in the space.
ここで、対象の空間の陽圧を維持するためには、対象の空間に差圧を維持するための流体を供給し続ける必要がある。特許文献1には、一部にエアカーテンを形成することが記載されているが、他の空間が接続された状態となる。 Here, in order to maintain a positive pressure in the target space, it is necessary to continuously supply fluid to the target space to maintain the differential pressure. Patent Document 1 describes forming an air curtain in part, but this leaves other spaces connected.
本開示は、上記に鑑みてなされたものであり、対象の空間の圧力を効率よく維持できるガスシールド装置及びガスシールド方法を提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in light of the above, and aims to provide a gas shielding device and gas shielding method that can efficiently maintain the pressure in the target space.
本開示に係るガスシールド装置は、開口を有する第1区画と、前記開口で前記第1区画と接続され、前記第1区画よりも高い圧力の第2区画とを有する構造体の前記開口をガスシールドするガスシールド装置であって、前記開口の一辺の全域に配置され、前記開口の一辺から、前記開口の対応する辺に向けて、前記開口の全面を覆う板状の噴流を形成するノズルと、前記ノズルに噴射する流体を供給するガス供給部と、を含む。 The gas shielding device according to the present disclosure is a gas shielding device that gas-shields an opening of a structure having a first compartment with an opening and a second compartment connected to the first compartment by the opening and having a higher pressure than the first compartment. It includes: a nozzle that is disposed over the entire area of one side of the opening and forms a plate-shaped jet that extends from one side of the opening toward the corresponding side of the opening and covers the entire surface of the opening; and a gas supply unit that supplies fluid to be sprayed to the nozzle.
本開示に係るガスシールド方法は、開口を有する第1区画と、前記開口で前記第1区画と接続され、前記第1区画よりも高い圧力の第2区画とを有する構造体の前記開口をガスシールドするガスシールド方法であって、前記開口の一辺の全域に配置されたノズルに噴射する流体を供給し、前記ノズルから流体を噴射し、前記開口の一辺から、前記開口の対応する辺に向けて、前記開口の全面を覆う板状の噴流を形成する。 The gas shielding method disclosed herein is a gas shielding method for gas-shielding an opening in a structure having a first compartment with an opening and a second compartment connected to the first compartment by the opening and having a higher pressure than the first compartment. The method includes supplying a fluid to be sprayed to a nozzle positioned over the entire area of one side of the opening, spraying the fluid from the nozzle, and forming a plate-shaped jet that covers the entire surface of the opening from one side of the opening toward the corresponding side of the opening.
本開示によれば、対象の空間の圧力を効率よく維持できる。 This disclosure allows for efficient maintenance of pressure in a target space.
以下に図面を参照して、本開示の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。また、実施形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。 Preferred embodiments of the present disclosure are described in detail below with reference to the drawings. Note that the present disclosure is not limited to these embodiments, and when there are multiple embodiments, they also include configurations that combine the various embodiments. Furthermore, the components in the embodiments include those that would be easily imagined by a person skilled in the art, those that are substantially identical, and those that are within the so-called equivalent range.
図1は、本実施形態に係るガスシールド装置を備える区画ユニットの概略構成を示す模式図である。図1に示す区画ユニット10は、第1区画12と、第2区画14と、を有する。第1区画12と、第2区画14とは、開口16で接続される。区画ユニット10は、第1区画12と第2区画14とが開口16で接続され、かつ、第1区画12と第2区画14とが異なる圧力で管理される。本実施形態の区画ユニット10は、例えば、製造工場の区画であり、製造対象の物品が、第1区画12と第2区画14とを開口16を介して移動する。なお、区画ユニット10は、第1区画12と第2区画14とが開口16を介して接続され、それぞれの区画の圧力の管理値に差があればよい。 Figure 1 is a schematic diagram showing the general configuration of a compartment unit equipped with a gas shielding device according to this embodiment. The compartment unit 10 shown in Figure 1 has a first compartment 12 and a second compartment 14. The first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by an opening 16. In the compartment unit 10, the first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by the opening 16, and the first compartment 12 and the second compartment 14 are managed at different pressures. The compartment unit 10 of this embodiment may be, for example, a compartment in a manufacturing plant, and items to be manufactured move between the first compartment 12 and the second compartment 14 via the opening 16. Note that in the compartment unit 10, the first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by the opening 16, and it is sufficient that the managed pressure values of the respective compartments are different.
第1区画12は、負圧で管理される区画である。第1区画12は、流体の流通可能な部分として、開口16と、開口30とが形成され、吸引管32が接続される。第1区画12は、流体が流通可能な部分以外は、壁面となる。開口16については後述する。開口30は、開口16とは別の壁面に形成される。開口30は、第1区画12よりも高い圧力、例えば大気圧の他の空間と接続される。開口30は、外部からの空気が第1区画12へ流入するガス流れ60が形成される。 The first compartment 12 is a compartment managed by negative pressure. Opening 16 and opening 30 are formed in the first compartment 12 as portions through which fluid can flow, and a suction pipe 32 is connected. The first compartment 12 has wall surfaces other than the portions through which fluid can flow. Opening 16 will be described later. Opening 30 is formed in a wall surface separate from opening 16. Opening 30 is connected to another space at a higher pressure than the first compartment 12, for example, atmospheric pressure. Opening 30 forms a gas flow 60 through which air from the outside flows into the first compartment 12.
吸引管32は、第1区画12と接続される。吸引管32には、吸引機構34が配置される。吸引機34は、送風機等であり、吸引管32を介して第1区画12の空気を吸引するガス流れ64を形成する。第1区画12は、吸引機構34で、内部の空気が吸引されることで、内部の圧力が負圧となる。 The suction pipe 32 is connected to the first compartment 12. A suction mechanism 34 is disposed in the suction pipe 32. The suction device 34 is a blower or the like, and creates a gas flow 64 that sucks air from the first compartment 12 through the suction pipe 32. The suction mechanism 34 sucks in the air inside the first compartment 12, causing the internal pressure to become negative.
第2区画14は、陽圧で管理される区画である。第2区画14は、流体の流通可能な部分として、開口16とが形成され、給気管40が接続される。第2区画14は、流体が流通可能な部分以外は、壁面となる。開口16については後述する。 The second compartment 14 is a compartment managed under positive pressure. An opening 16 is formed in the second compartment 14 as a portion through which fluid can flow, and an air supply pipe 40 is connected. The second compartment 14 has walls other than the portion through which fluid can flow. The opening 16 will be described later.
給気管40は、第2区画14と接続される。給気管40には、給気機構42が配置される。給気機構42は、送風機等であり、給気管40を介して第2区画14に空気を供給するガス流れ62を形成する。第2区画14は、給気機構42で、内部に空気が供給されることで、内部の圧力が陽圧となる。 The air supply pipe 40 is connected to the second compartment 14. An air supply mechanism 42 is disposed in the air supply pipe 40. The air supply mechanism 42 is a blower or the like, and forms a gas flow 62 that supplies air to the second compartment 14 via the air supply pipe 40. When air is supplied to the interior of the second compartment 14 by the air supply mechanism 42, the internal pressure becomes positive.
開口16は、第1区画12と第2区画14とを接続する。本実施形態の開口16は、開口面に直交する方向に所定の長さを備える管路である。区画ユニット10は、第1区画12と第2区画14とが壁で仕切られた構造で、壁に形成された穴を開口16としてもよい。本実施形態の開口16は、開口面が長方形となる。なお、開口16の形状はこれに限定されない。 The opening 16 connects the first compartment 12 and the second compartment 14. In this embodiment, the opening 16 is a pipe with a predetermined length in a direction perpendicular to the opening surface. The compartment unit 10 may have a structure in which the first compartment 12 and the second compartment 14 are separated by a wall, and the opening 16 may be a hole formed in the wall. In this embodiment, the opening surface of the opening 16 is rectangular. However, the shape of the opening 16 is not limited to this.
図1に加え、図2から図4を用いて、ガスシールド装置について説明する。図2は、ガスシールド装置と開口との関係を示す斜視図である。図3は、ノズルの概略構成を示す断面図である。図4は、ガスシールド装置が形成するガスシールドを説明するための説明図である。 The gas shielding device will be explained using Figures 2 to 4 in addition to Figure 1. Figure 2 is a perspective view showing the relationship between the gas shielding device and the opening. Figure 3 is a cross-sectional view showing the general configuration of the nozzle. Figure 4 is an explanatory diagram for explaining the gas shield formed by the gas shielding device.
ガスシールド装置20は、開口16に配置される。ガスシールド装置20は、第2区画14から第1区画12への気体の流入を抑制するガスシールドを開口16に形成する。ガスシールド装置20は、ノズル50と、ガス供給部51と、を含む。ノズル50は、第1区画12の開口16が形成された壁面に配置される。ノズル50は、先端から空気を吹き出し、ガスシールド噴流66を形成する構造であり、開口16の一辺16aの全域に配置される。ノズル50は、開口16の配置されている一辺16aから、対向する開口16の一辺16bに向けて空気を噴射する向き、つまり、ガスシールド噴流66を噴出する向きに配置される。 The gas shielding device 20 is disposed in the opening 16. The gas shielding device 20 forms a gas shield in the opening 16 that suppresses the inflow of gas from the second compartment 14 to the first compartment 12. The gas shielding device 20 includes a nozzle 50 and a gas supply unit 51. The nozzle 50 is disposed on the wall surface of the first compartment 12 on which the opening 16 is formed. The nozzle 50 is configured to blow air from its tip to form a gas shield jet 66, and is disposed over the entire area of one side 16a of the opening 16. The nozzle 50 is disposed in a direction that sprays air from the side 16a on which the opening 16 is disposed toward the opposing side 16b of the opening 16, i.e., in a direction that sprays the gas shield jet 66.
ノズル50は、図3に示すように、ノズル基部70とノズル先端部72とが一体の構造となる。ノズル50は、内部に整流機構76、78、80が配置される。ノズル基部70は、開口16の一辺16aに沿った箱形状であり、ガス供給部51の給気管62が接続される。ノズル基部70は、ガスシールド噴流66の方向の厚みが一定であり、内部に整流機構76、78が配置される。ノズル基部70は、噴射するガスを、一辺16aに沿った方向に平均化させるヘッダとなる。 As shown in Figure 3, the nozzle 50 has an integrated structure consisting of a nozzle base 70 and a nozzle tip 72. The nozzle 50 has flow straightening mechanisms 76, 78, and 80 arranged inside. The nozzle base 70 is box-shaped along one side 16a of the opening 16, and is connected to the air supply pipe 62 of the gas supply unit 51. The nozzle base 70 has a constant thickness in the direction of the gas shield jet 66, and has flow straightening mechanisms 76 and 78 arranged inside. The nozzle base 70 serves as a header that averages the injected gas in the direction along one side 16a.
ノズル先端部72は、ノズル基部70と接続される。ノズル先端部72は、ノズル基部70から離れるにしたがって、ガスシールド噴流66に直交する面の断面積が減少する絞り形状である。ノズル先端部72は、開口16が形成される壁面側とは反対側の面が徐々に開口16が形成される壁面に近づくように、断面積が減少する。ノズル先端部72は、ノズル基部70との接続部と反対側の端部が、吹き出し口74となる。吹き出し口74は、一辺16aに沿って伸びる細長い開口である。吹き出し口74には、整流機構80が配置される。ノズル先端部72を通過するガスは、絞り形状で縮流され、吹き出し口74に沿った、一辺16aに沿った方向に長く、一辺16aに直交する方向が短い、細長い空気流を噴射する。なお、ノズル50は、本実施形態の縮流形状に限定されない。ノズル50は、ガスシールド噴流66が形成できればよく、縮流する部分がなくてもよい。また、ノズル50は、複数のノズルを、一辺16aに並べて配置して、一辺16aの全域からガスシールド噴流66を噴射する形状としてもよい。 The nozzle tip 72 is connected to the nozzle base 70. The nozzle tip 72 has a constricted shape, with the cross-sectional area of the plane perpendicular to the gas shield jet 66 decreasing with increasing distance from the nozzle base 70. The cross-sectional area of the nozzle tip 72 decreases so that the surface opposite the wall surface on which the opening 16 is formed gradually approaches the wall surface on which the opening 16 is formed. The end of the nozzle tip 72 opposite the connection with the nozzle base 70 forms the outlet 74. The outlet 74 is a long, narrow opening extending along one side 16a. A straightening mechanism 80 is disposed in the outlet 74. The gas passing through the nozzle tip 72 is constricted by the constricted shape, and an elongated airflow is sprayed along the outlet 74, which is long in the direction along the side 16a and short in the direction perpendicular to the side 16a. Note that the nozzle 50 is not limited to the constricted shape of this embodiment. The nozzle 50 need only be able to form the gas shield jet 66, and does not need to have a constricted portion. Alternatively, the nozzle 50 may be configured such that multiple nozzles are arranged along one side 16a, spraying the gas shield jet 66 from the entire area of the side 16a.
整流機構76、78、80は、一辺16aに沿った方向に平均化させ、かつ、流体の流れ方向を、ガスシールド噴流66に沿った方向に整流する機構である。整流機構76は、ノズル基部70に配置される。 The flow straightening mechanisms 76, 78, and 80 are mechanisms that average the flow in the direction along one side 16a and straighten the fluid flow direction in the direction along the gas shield jet 66. The flow straightening mechanism 76 is located in the nozzle base 70.
整流機構76は、ガスシールド噴流66に沿った方向及び一辺16aに沿った方向に延在する板が、板の表面に直交する方向に所定間隔離間して複数配置される構造である。ノズル基部70に流入したガスは、板の隙間を通って、ノズル先端部72側に移動する。ガスは、整流機構76を通過することで、一辺16aに沿った方向に平均化され、かつ、流体の流れ方向を、ガスシールド噴流66に沿った方向に整流される。 The flow straightening mechanism 76 has a structure in which multiple plates extending in the direction along the gas shield jet 66 and along one side 16a are arranged at a predetermined distance in a direction perpendicular to the surface of the plates. Gas that flows into the nozzle base 70 passes through the gaps between the plates and moves toward the nozzle tip 72. As the gas passes through the flow straightening mechanism 76, it is averaged in the direction along one side 16a, and the fluid flow direction is straightened to the direction along the gas shield jet 66.
整流機構78は、ノズル基部70の、整流機構76よりも下流側(ノズル先端部72側)に配置された、メッシュ状の構造物である。ノズル基部70に流入し、整流機構76を通過したガスは、整流機構78のメッシュの孔を通過して、ノズル先端部72側に移動する。ガスは、整流機構78を通過することで、一辺16aに沿った方向に平均化され、かつ、流体の流れ方向を、ガスシールド噴流66に沿った方向に整流される。 The flow straightening mechanism 78 is a mesh-like structure located downstream of the flow straightening mechanism 76 (towards the nozzle tip 72) on the nozzle base 70. Gas that flows into the nozzle base 70 and passes through the flow straightening mechanism 76 passes through the mesh holes of the flow straightening mechanism 78 and moves towards the nozzle tip 72. As the gas passes through the flow straightening mechanism 78, it is averaged in the direction along one side 16a and the fluid flow direction is straightened to a direction along the gas shield jet 66.
整流機構80は、吹き出し口74に配置された、メッシュ状の構造物である。ノズル基部70に流入し、整流機構76、78を通過したガスは、ノズル先端部72で縮流され、整流機構80のメッシュの孔を通過して、噴射される。ガスは、整流機構80を通過することで、一辺16aに沿った方向に平均化され、かつ、流体の流れ方向を、ガスシールド噴流66に沿った方向に整流される。 The flow straightening mechanism 80 is a mesh-like structure located at the outlet 74. Gas that flows into the nozzle base 70 and passes through the flow straightening mechanisms 76 and 78 is contracted at the nozzle tip 72 and then sprayed through the mesh holes of the flow straightening mechanism 80. As the gas passes through the flow straightening mechanism 80, it is averaged in the direction along one side 16a, and the fluid flow direction is straightened to the direction along the gas shield jet 66.
ガス供給部51は、ノズル50に噴射するガスを供給する。ガス供給部51は、給気管52と、送風機構54と、を有する、給気管52は、一方の端部がノズル50のノズル基部70に接続され、他方の端部が、第1区画12の外に解放される。送風機構54は、給気管52に配置され、ノズル50に空気を供給するガス流れを給気管52に形成する。 The gas supply unit 51 supplies gas to be sprayed to the nozzle 50. The gas supply unit 51 has an air supply pipe 52 and a blower mechanism 54. One end of the air supply pipe 52 is connected to the nozzle base 70 of the nozzle 50, and the other end is open outside the first compartment 12. The blower mechanism 54 is disposed in the air supply pipe 52 and forms a gas flow in the air supply pipe 52 that supplies air to the nozzle 50.
ガスシールド装置20は、ガス供給部51の送風機構54で供給されたガスを、ノズル50の吹き出し口74から噴き出すことで、ガスシールド噴流66を形成する。ガスシールド噴流66は、図4に示すように、ノズル50の吹き出し口74から同じ方向に向けて噴射されることで、板状の噴流となる。ガスシールド噴流66は、上述したように、ノズル50が配置されている開口16の一辺16aから、対向する一辺16bに向けて噴出する。これにより、図2に示すように、ガスシールド噴流66は、開口16の全面と重なる噴流となる。 The gas shielding device 20 forms a gas shield jet 66 by ejecting gas supplied by the blower mechanism 54 of the gas supply unit 51 from the outlet 74 of the nozzle 50. As shown in FIG. 4, the gas shield jet 66 is sprayed in the same direction from the outlet 74 of the nozzle 50, resulting in a plate-shaped jet. As described above, the gas shield jet 66 is ejected from one side 16a of the opening 16 where the nozzle 50 is located toward the opposing side 16b. As a result, the gas shield jet 66 becomes a jet that overlaps the entire surface of the opening 16, as shown in FIG. 2.
これにより、ガスシールド噴流66は、開口16の全面を塞いだ形状となり、開口16を介して第2区画14から第1区画12に流入するガス流れ68を小さくすることができる。 As a result, the gas shield jet 66 blocks the entire opening 16, reducing the gas flow 68 flowing from the second compartment 14 into the first compartment 12 through the opening 16.
区画ユニット10は、ガスシールド装置20を設け、開口16にガスシールド噴流66を形成し、第2区画14から漏れるガス流れ68を小さくできることで、給気管40から供給するガス流れ62を少なくすることができる。これにより、第2区画14の陽圧管理をより効率よく行うことができる。 The compartment unit 10 is equipped with a gas shield device 20, which forms a gas shield jet 66 at the opening 16 and reduces the gas flow 68 leaking from the second compartment 14, thereby reducing the gas flow 62 supplied from the air supply pipe 40. This allows for more efficient positive pressure management in the second compartment 14.
ノズル先端部72を開口16が形成される壁面側とは反対側の面が徐々に開口16が形成される壁面に近づくように、断面積が減少する形状とすることで、吹き出し口74を開口16に近づけることができ、また、吹き出し口74から噴出するガスシールド噴流66を開口16に沿った噴流とすることができる。 By shaping the nozzle tip 72 so that the cross-sectional area decreases on the side opposite the wall surface on which the opening 16 is formed, the nozzle outlet 74 can be brought closer to the opening 16, and the gas shield jet 66 ejected from the nozzle outlet 74 can be made to flow along the opening 16.
ノズル50は、整流機構76、78、80を配置することで、ガスシールド噴流66をより板状の噴流とすることができ、開口16でのガスの流通を低減することができる。 By arranging the flow straightening mechanisms 76, 78, and 80 in the nozzle 50, the gas shield jet 66 can be made into a more plate-shaped jet, reducing the flow of gas through the opening 16.
なお、本実施形態の第2区画14は、さらに開口を備えていてもよい。第2区画14は、開口のそれぞれにガスシールド装置20を配置することで、開口16と同様の状態とすることができる。 In this embodiment, the second compartment 14 may further include openings. By disposing a gas shielding device 20 in each opening, the second compartment 14 can be made to have the same state as the openings 16.
図5は、他の実施形態に係るガスシールド装置概略構成を示す模式図である。図5に示す区画ユニット10aのうち、区画ユニット10と実施形態と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。区画ユニット10aは、第1区画12と第2区画14とが開口16で接続される点は、区画ユニット10と同様である。 Figure 5 is a schematic diagram showing the general configuration of a gas shielding device according to another embodiment. Of the compartment unit 10a shown in Figure 5, components that have the same functions as those in the compartment unit 10 and the embodiment are given the same reference numerals and detailed descriptions are omitted. The compartment unit 10a is similar to the compartment unit 10 in that the first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by an opening 16.
区画ユニット10aに配置されるガスシールド装置20aは、ノズル50aと、ガス供給部51aを有する。ノズル50aは、ノズル50と同様の構成である。ガス供給部51aは、給気管52aと、送風機構54aと、を有する。給気管52aと、送風機構54aとは、第1区画12の内部に配置される。給気管52aは、一方の端部がノズル50に接続され、他方の端部が第1区画12の内部に配置される。送風機構54aは、給気管52aに接続される。 The gas shielding device 20a arranged in the compartment unit 10a has a nozzle 50a and a gas supply unit 51a. The nozzle 50a has the same configuration as the nozzle 50. The gas supply unit 51a has an air supply pipe 52a and an air blowing mechanism 54a. The air supply pipe 52a and the air blowing mechanism 54a are arranged inside the first compartment 12. One end of the air supply pipe 52a is connected to the nozzle 50, and the other end is arranged inside the first compartment 12. The air blowing mechanism 54a is connected to the air supply pipe 52a.
区画ユニット10aは、ガスシールド装置20aのノズル50から噴射するガスを、第1区画12から吸引したガスとすることで、ガスシールド装置20aで、吸引するガスと噴射するガスで、第1区画12内のガス量が変動することを抑制できる。これにより、区画ユニット10aは、吸引管32で第1区画12から排出するガスの量を低減することができる。つまり、ガス流れ60で流入した空気と、ガス流れ68で流入する空気を、ガス流れ64で排出することで、第1区画12の負圧を維持することができる。これにより、各部で吸引、掃気する空気の量を少なくすることができ、区画ユニット10aの圧力の管理をより少ないエネルギーで実行することができる。また、第1区画12と第2区画14に流入するガス量を少なくできることで、流入するガスに対する処理の負荷も低減できる。 By using gas sucked from the first compartment 12 as the gas injected from the nozzle 50 of the gas shielding device 20a, the compartment unit 10a can suppress fluctuations in the amount of gas in the first compartment 12 due to the sucked and injected gas. This allows the compartment unit 10a to reduce the amount of gas exhausted from the first compartment 12 through the suction pipe 32. In other words, by exhausting the air flowing in via gas flow 60 and the air flowing in via gas flow 68 via gas flow 64, the negative pressure in the first compartment 12 can be maintained. This reduces the amount of air sucked in and purged in each section, allowing pressure management of the compartment unit 10a to be performed with less energy. Furthermore, by reducing the amount of gas flowing into the first compartment 12 and the second compartment 14, the processing load for the inflowing gas can also be reduced.
図6は、他の実施形態に係るガスシールド装置概略構成を示す模式図である。図7は、図6に示すガスシールド装置と開口との関係を示す斜視図である。図6、図7に示す区画ユニット10bのうち、区画ユニット10aと実施形態と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。区画ユニット10bは、第1区画12と第2区画14とが開口16で接続される点は、区画ユニット10と同様である。 Figure 6 is a schematic diagram showing the general configuration of a gas shielding device according to another embodiment. Figure 7 is a perspective view showing the relationship between the gas shielding device shown in Figure 6 and an opening. Of the compartment unit 10b shown in Figures 6 and 7, components that have the same functions as those in the compartment unit 10a of the embodiment are given the same reference numerals and detailed descriptions are omitted. The compartment unit 10b is similar to the compartment unit 10 in that the first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by an opening 16.
区画ユニット10bに配置されるガスシールド装置20bは、ノズル50と、ガス供給部101を有する。ガス供給部101は、コレクタ(回収機構)102と、循環路104と、送風機構106と、を含む。 The gas shielding device 20b arranged in the compartment unit 10b has a nozzle 50 and a gas supply unit 101. The gas supply unit 101 includes a collector (recovery mechanism) 102, a circulation path 104, and a blower mechanism 106.
コレクタ102は、ノズル50と対面する位置、つまり、開口16のノズル50が配置される辺と対向する辺に配置される。コレクタ102は、周囲の空気を吸引する。コレクタ102は、開口16の配置される辺の全域に、空気を吸引する開口が配置される。本実施形態のコレクタ102は、開口16が形成さえる面の第1区画12側の壁面に配置される。 The collector 102 is positioned facing the nozzle 50, i.e., on the side of the opening 16 opposite the side on which the nozzle 50 is located. The collector 102 sucks in the surrounding air. The collector 102 has openings for sucking in air arranged along the entire side on which the opening 16 is located. In this embodiment, the collector 102 is arranged on the wall surface on the first compartment 12 side of the surface on which the opening 16 is formed.
循環路104は、コレクタ102とノズル50とを接続する配管である。循環路104は、開口16と重ならない位置に配置される。本実施形態の循環路104は、開口16が形成される壁面に固定される。送風機構106は、循環経路104に配置され、コレクタ102からノズル50に向けたガス流れを形成する。 The circulation path 104 is a pipe that connects the collector 102 and the nozzle 50. The circulation path 104 is positioned so as not to overlap with the opening 16. In this embodiment, the circulation path 104 is fixed to the wall surface on which the opening 16 is formed. The blower mechanism 106 is positioned in the circulation path 104 and creates a gas flow from the collector 102 toward the nozzle 50.
ガスシールド装置20bは、コレクタ102を設けることで、ノズル50から噴射されたガスシールド噴流66を含む開口16の辺16bの近傍の空気を吸引することができる
。これにより、辺16bの近傍でのガスシールド噴流66の拡散を抑制することができ、ガスシールドの効果を高くでき、開口16のガス流れ68を寄り低減することができる。
By providing the collector 102, the gas shield device 20b can suck in the air near the side 16b of the opening 16, including the gas shield jet 66 sprayed from the nozzle 50. This makes it possible to suppress the diffusion of the gas shield jet 66 near the side 16b, thereby increasing the gas shield effect and further reducing the gas flow 68 at the opening 16.
また、循環路104でノズル50とコレクタ102を接続することで、ノズル50から噴射するガスシールド噴流66と、コレクタ102の吸引を1つの送風機構106で実現することができる。 Furthermore, by connecting the nozzle 50 and the collector 102 with a circulation path 104, the gas shield jet 66 sprayed from the nozzle 50 and the suction of the collector 102 can be achieved with a single blower mechanism 106.
図8は、ガスシールド装置の断面斜視図である。図8に示すガスシールド装置は、図6及び図7に示すガスシールド装置の各部に加え、スクープ110を備える。スクープ110は、コレクタ102が配置されている開口16の辺の第2区画14側の面に配置される板状の部材である。スクープ110は、開口16の辺に沿って延在し、一部が開口16に突出している。スクープ110は、開口16に突出する先端の形状を、円弧状、楕円、くさび形状等、種々の形状とすることができる。 Figure 8 is a cross-sectional perspective view of a gas shielding device. The gas shielding device shown in Figure 8 includes a scoop 110 in addition to the components of the gas shielding device shown in Figures 6 and 7. The scoop 110 is a plate-shaped member that is placed on the surface of the edge of the opening 16 on the side facing the second compartment 14, where the collector 102 is located. The scoop 110 extends along the edge of the opening 16, with a portion of the scoop 110 protruding into the opening 16. The tip of the scoop 110 that protrudes into the opening 16 can have various shapes, such as an arc, an ellipse, or a wedge shape.
図8に示すガスシールド装置は、スクープ110を設けることで、ガスシールド噴流66を、コレクタ102側に案内することができ、ガスシールド噴流66が第2区画14側に流入することを抑制できる。これにより、噴流の力が減少する。コレクタ102側の端部のガスシールド噴流66がコレクタ102側以外の領域に拡散することを抑制できる。 The gas shield device shown in Figure 8 is equipped with a scoop 110, which allows the gas shield jet 66 to be guided toward the collector 102, preventing the gas shield jet 66 from flowing toward the second section 14. This reduces the force of the jet. It also prevents the gas shield jet 66 at the end on the collector 102 side from diffusing to areas other than the collector 102 side.
図9は、他の実施形態に係るガスシールド装置概略構成を示す模式図である。図9に示す区画ユニット10cのうち、区画ユニット10aと実施形態と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。区画ユニット10cは、第1区画12と第2区画14とが開口16で接続される点は、区画ユニット10と同様である。 Figure 9 is a schematic diagram showing the general configuration of a gas shielding device according to another embodiment. Of the compartment unit 10c shown in Figure 9, components that have the same functions as those in the compartment unit 10a embodiment are designated by the same reference numerals and detailed descriptions are omitted. The compartment unit 10c is similar to the compartment unit 10 in that the first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by an opening 16.
区画ユニット10cに配置されるガスシールド装置20cは、ノズル50と、ガス供給部101cを有する。ガス供給部101cは、コレクタ(回収機構)102と、循環路104と、送風機構106と、を含む。ガス供給部101cは、コレクタ102の配置位置以外、ガス供給部101と同様の構成である。ガス供給部101cは、コレクタ102が第2区画14の壁面に配置される。循環路104は、コレクタ102とノズル50とを接続する。 The gas shielding device 20c arranged in the compartment unit 10c has a nozzle 50 and a gas supply unit 101c. The gas supply unit 101c includes a collector (collection mechanism) 102, a circulation path 104, and a blower mechanism 106. The gas supply unit 101c has the same configuration as the gas supply unit 101, except for the position of the collector 102. In the gas supply unit 101c, the collector 102 is arranged on the wall surface of the second compartment 14. The circulation path 104 connects the collector 102 and the nozzle 50.
コレクタ102を、第2区画14に配置することで、ノズル50から噴射されるガスシールド噴流66に加え、ノズル50からコレクタ102に向かう気流の膜も形成することができる。これにより、開口16を遮断する空気の膜をより厚くすることができ、ガス流れ68で流れるガスをより低減することができる。なお、図9に示す配置の場合、コレクタ102で吸引したガスに加え、第1区画12のガスをノズル50に供給してもよい。例えば、循環路104に、第1区画12を吸引する送風機構106と配管を設け、第1区画12から吸引する空気のエゼクタ効果で、コレクタ102からガスを吸引してもよい。 By placing the collector 102 in the second compartment 14, in addition to the gas shield jet 66 sprayed from the nozzle 50, a film of airflow can also be formed from the nozzle 50 toward the collector 102. This allows the air film blocking the opening 16 to be thicker, further reducing the amount of gas flowing in the gas flow 68. Note that in the arrangement shown in Figure 9, gas from the first compartment 12 can be supplied to the nozzle 50 in addition to the gas sucked into the collector 102. For example, a blower mechanism 106 and piping for sucking into the first compartment 12 can be provided in the circulation path 104, and gas can be sucked from the collector 102 by the ejector effect of the air sucked from the first compartment 12.
図10は、他の実施形態に係るガスシールド装置概略構成を示す模式図である。図10に示す区画ユニット10dのうち、区画ユニット10aと実施形態と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。区画ユニット10dは、第1区画12と第2区画14とが開口16で接続される点は、区画ユニット10と同様である。 Figure 10 is a schematic diagram showing the general configuration of a gas shielding device according to another embodiment. Of the compartment unit 10d shown in Figure 10, components that have the same functions as those in the compartment unit 10a embodiment are designated by the same reference numerals and detailed descriptions are omitted. The compartment unit 10d is similar to the compartment unit 10 in that the first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by an opening 16.
区画ユニット10dに配置されるガスシールド装置20dは、ノズル50と、ガス供給部101dを有する。ガス供給部101dは、コレクタ(回収機構)102と、循環路104と、送風機構106と、を含む。ガスシールド装置20dは、各部が、開口16の第2区画14側の壁面に配置される。 The gas shielding device 20d arranged in the compartment unit 10d has a nozzle 50 and a gas supply unit 101d. The gas supply unit 101d includes a collector (recovery mechanism) 102, a circulation path 104, and a blower mechanism 106. Each part of the gas shielding device 20d is arranged on the wall surface on the second compartment 14 side of the opening 16.
ガスシールド装置20は、ノズル50と、ガス供給部101dと、を第2区画14、つまり、圧力が高い側の区画の壁面に配置しても、開口16にガスシールド噴流66を形成することで、ガス流れ68で開口16を通過して第1区画12に流入するガスを低減することができる。 Even if the nozzle 50 and gas supply unit 101d are located on the wall surface of the second compartment 14, i.e., the compartment with the higher pressure, the gas shield device 20 can reduce the amount of gas that passes through the opening 16 and flows into the first compartment 12 via the gas flow 68 by forming a gas shield jet 66 at the opening 16.
図11は、他の実施形態に係るガスシールド装置概略構成を示す模式図である。図11に示す区画ユニット10eのうち、区画ユニット10と実施形態と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。区画ユニット10eは、第1区画12と第2区画14とが開口16で接続される点は、区画ユニット10と同様である。 Figure 11 is a schematic diagram showing the general configuration of a gas shielding device according to another embodiment. Of the compartment unit 10e shown in Figure 11, components that have the same functions as those in the compartment unit 10 and the embodiment are given the same reference numerals and detailed descriptions are omitted. The compartment unit 10e is similar to the compartment unit 10 in that the first compartment 12 and the second compartment 14 are connected by an opening 16.
区画ユニット10eに配置されるガスシールド装置20eは、ノズル50と、ガス供給部51を有する。ガスシールド装置20eのノズル50は、開口16の開口面に平行な方向から、開口16から離れる方向に角度θ傾斜する。つまり、ノズル50は、開口16に沿った方向で、かつ、開口16から角度θ傾いた方向に、ガスシールド噴流66を噴射する。ここで、角度θは、10°以下とすることが好ましい。 The gas shielding device 20e arranged in the compartment unit 10e has a nozzle 50 and a gas supply unit 51. The nozzle 50 of the gas shielding device 20e is inclined at an angle θ from a direction parallel to the opening surface of the opening 16 toward a direction away from the opening 16. In other words, the nozzle 50 sprays the gas shielding jet 66 in a direction along the opening 16 and in a direction inclined at an angle θ from the opening 16. Here, it is preferable that the angle θ be 10° or less.
ガスシールド装置20eは、ノズル50を角度θ傾けることで、ガスシールド噴流66が開口16を介して、第2区画14に流入することを抑制できる。なお、本実施形態では、角度θを0より大きくしたが、上記実施形態のように、角度θを0とすることで、開口16に沿ったガスシールド噴流66を形成することができ、開口16のシールド性能を高くすることができる。 By tilting the nozzle 50 by an angle θ, the gas shield device 20e can prevent the gas shield jet 66 from flowing into the second compartment 14 through the opening 16. In this embodiment, the angle θ is greater than 0; however, by setting the angle θ to 0, as in the above embodiment, the gas shield jet 66 can be formed along the opening 16, thereby improving the shielding performance of the opening 16.
本開示のガスシールド装置20では、シールドガス噴流66を形成する方向は、特に限定されず、鉛直方向、水平方向、斜め方向の任意の向きとすることができる。ガスシールド装置20は、開口16に、開閉可能な扉をさらに設けてもよい。この場合、扉が開いている状態で、ガスシールド装置20を稼働させることで、ガス流れ68を低減することができる。 In the gas shielding device 20 of the present disclosure, the direction in which the shielding gas jet 66 is formed is not particularly limited and can be any direction, including vertical, horizontal, and diagonal. The gas shielding device 20 may further be provided with an openable door at the opening 16. In this case, the gas flow 68 can be reduced by operating the gas shielding device 20 with the door open.
本開示の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。 The technical scope of this disclosure is not limited to the above embodiments, and modifications may be made as appropriate without departing from the spirit of this disclosure.
10 区画ユニット
12 第1区画
14 第2区画
16 開口
20 ガスシールド装置
30 開口
32 吸引管
34 吸引機構
40 給気管
42 給気機構
50 ノズル
51 ガス供給部
52 給気管
54 送風機構
60、62、64、68 ガス流れ
66 ガスシールド噴流
70 ノズル基部
72 ノズル先端部
74 吹き出し口
76、78、80 整流機構
REFERENCE SIGNS LIST 10 Compartment unit 12 First compartment 14 Second compartment 16 Opening 20 Gas shielding device 30 Opening 32 Suction pipe 34 Suction mechanism 40 Air supply pipe 42 Air supply mechanism 50 Nozzle 51 Gas supply unit 52 Air supply pipe 54 Blowing mechanism 60, 62, 64, 68 Gas flow 66 Gas shielding jet 70 Nozzle base 72 Nozzle tip 74 Blowing outlet 76, 78, 80 Flow straightening mechanism
Claims (8)
前記開口の一辺の全域に配置され、前記開口の一辺から、前記開口の対向する辺に向けて、前記開口の全面を覆う板状の噴流を形成するノズルと、
前記ノズルに噴射する流体を供給するガス供給部と、を含み、
前記ガス供給部は、前記開口の、前記ノズルが配置されている辺と対向する辺に配置され、周囲の流体を吸引する回収機構と、前記回収機構と前記ノズルを接続し、吸引した流体を前記ノズルに供給する循環路と、を備え、
前記回収機構は、前記回収機構が配置された開口の辺の、前記第2区画側の面に配置され、前記開口よりも突出したスクープを備えるガスシールド装置。 A gas shielding device for gas-shielding an opening of a structure having a first compartment having an opening and a second compartment connected to the first compartment at the opening and having a higher pressure than the first compartment,
a nozzle disposed over the entire area of one side of the opening, the nozzle forming a plate-shaped jet of air from the one side of the opening toward the opposite side of the opening, the jet of air covering the entire surface of the opening;
a gas supply unit that supplies a fluid to be sprayed to the nozzle ,
the gas supply unit includes a recovery mechanism that is disposed on a side of the opening opposite to the side on which the nozzle is disposed and that sucks in a surrounding fluid, and a circulation path that connects the recovery mechanism to the nozzle and supplies the sucked fluid to the nozzle,
The gas shield device includes a scoop that is disposed on a surface of the side of the opening on which the recovery mechanism is disposed, facing the second compartment, and that protrudes beyond the opening .
前記開口の一辺の全域に配置されたノズルに噴射する流体を供給し、
前記ノズルから流体を噴射し、前記開口の一辺から、前記開口の対応する辺に向けて、前記開口の全面を覆う板状の噴流を形成し、
前記ノズルに噴射する流体を供給するガス供給部は、前記開口の、前記ノズルが配置されている辺と対向する辺に配置され、周囲の流体を吸引する回収機構と、前記回収機構と前記ノズルを接続し、吸引した流体を前記ノズルに供給する循環路と、を備え、
前記回収機構は、前記回収機構が配置された開口の辺の、前記第2区画側の面に配置され、前記開口よりも突出したスクープを備えるガスシールド方法。 1. A gas shielding method for gas-shielding an opening in a structure having a first compartment having an opening and a second compartment connected to the first compartment by the opening and having a higher pressure than the first compartment, comprising:
supplying a fluid to be sprayed to nozzles arranged over the entire area of one side of the opening;
a fluid is ejected from the nozzle from one side of the opening toward a corresponding side of the opening, forming a plate-shaped jet that covers the entire surface of the opening;
a gas supply unit that supplies a fluid to be sprayed to the nozzle is disposed on a side of the opening opposite to the side on which the nozzle is disposed, and includes a recovery mechanism that sucks in surrounding fluid, and a circulation path that connects the recovery mechanism to the nozzle and supplies the sucked fluid to the nozzle;
The gas shielding method , wherein the recovery mechanism is arranged on a surface of the side of the opening on which the recovery mechanism is arranged, facing the second compartment, and includes a scoop protruding beyond the opening .
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