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JP7762214B2 - Release film - Google Patents
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JP7762214B2 - Release film - Google Patents

Release film

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JP7762214B2 JP2023552492A JP2023552492A JP7762214B2 JP 7762214 B2 JP7762214 B2 JP 7762214B2 JP 2023552492 A JP2023552492 A JP 2023552492A JP 2023552492 A JP2023552492 A JP 2023552492A JP 7762214 B2 JP7762214 B2 JP 7762214B2
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Description

本開示は離型フィルムに関するものである。 This disclosure relates to release films.

離型フィルムは、通常、粘着剤の皮膜が付着され、粘着成分を大気中の異物又は望まない被着剤から保護するための保護フィルムとして用いられるものであって、ポリエステル基材フィルム上に離型層が設けられた構造を取るのが一般的である。 Release films are typically coated with an adhesive and used as a protective film to protect the adhesive components from foreign matter in the air or unwanted adherends, and typically consist of a polyester base film with a release layer on top.

また、離型フィルムは、一般に、粘・接着フィルム又はテープに保護フィルムの用途で付着され、粘・接着剤が用いられる前まで意図しない被着物に被着したり、ホコリ、異物などによる汚染を防止したりする用途で用いられ、更に他の用途としては、プリント配線基板、イン-モールド成形のように加熱加圧成形工程で型と成形物が固着されないようにしたり、セラミックスラリーなど各種の樹脂物を離型フィルムの離型面に塗工する塗工基材としての用途、他基材に塗工された各種の樹脂層を保護するために合紙される用途などの中間材として用いられ得る。特に、離型フィルムは、MLCC(Multi-Layer Ceramic Capacitor,MLCC)を構成するグリーンシートにおいてセラミックスラリーを薄くて均一に塗布するためのキャリアフィルムの用途で用いられる。MLCCは、電気を蓄積したり、電流を安定させるために用いられるキャパシタの一種として、そのサイズが小さく、静電容量が大きいため、携帯用電子機器に広く用いられており、特に、最近、スマートフォン及びタブレットPCの普及により、その需要が大きく増加している。このようなMLCCは、グリーンシートと内部金属電極を数十又は数百層交互に積層した後、外部電極を連結することによって完成し、そのサイズは1mm以下から数nmまで多様である。 Release films are generally attached to adhesive films or tapes as protective films, preventing adhesion to unintended substrates and preventing contamination by dust and foreign matter before the adhesive is used. Other uses include preventing adhesion between molds and molded objects during heat and pressure molding processes, such as in printed wiring boards and in-mold molding; as a coating substrate for coating various resin materials, such as ceramic slurries, on the release surface of the release film; and as an intermediate material used as a laminate to protect various resin layers coated on other substrates. In particular, release films are used as carrier films for applying a thin, uniform coating of ceramic slurries to green sheets that make up MLCCs (Multi-Layer Ceramic Capacitors). MLCCs are a type of capacitor used to store electricity and stabilize current. Due to their small size and large capacitance, they are widely used in portable electronic devices, and demand has increased significantly recently due to the popularity of smartphones and tablet PCs. MLCCs are completed by alternately stacking tens or hundreds of layers of green sheets and internal metal electrodes, and then connecting external electrodes, and their sizes vary from less than 1 mm to several nanometers.

MLCCに用いられるグリーンシートは、支持体であるキャリアフィルム上にセラミックスラリーが均一に塗布された後、焼成して形成され、グリーンシートを成形するためのキャリアフィルムは、機械的強度、寸法安定性、耐熱性、価格競争力等に優れた2軸延伸ポリエステルフィルムが基材として用いられ、その一面に高分子シリコーン離型層が塗布された離型フィルムが用いられている。 The green sheets used in MLCCs are formed by uniformly applying ceramic slurry to a carrier film support and then firing it. The carrier film used to form the green sheets is made from a biaxially oriented polyester film base, which offers excellent mechanical strength, dimensional stability, heat resistance, and price competitiveness. One side of the film is covered with a release film coated with a polymeric silicone release layer.

最近、MLCCの小型化及び高容量化の傾向に応じてグリーンシートの厚さを更に薄膜化し、セラミックスラリーを更に多層で積層することが要求されているが、MLCCの製造時に用いられる離型フィルムの剥離力が低すぎる場合、セラミックスラリーが離型フィルムから先剥離する問題が発生し得る。反対に、離型フィルムの剥離力が高すぎる場合、セラミックグリーンシートから離型フィルムの除去時、グリーンシートに亀裂、破断などが発生し得る。従って、MLCCに用いられる離型フィルムは、特に適当な剥離力によって剥がされることができる物性が要求される。 Recent trends toward smaller MLCCs and higher capacity have led to demands for thinner green sheets and for ceramic slurries to be laminated in even more layers. However, if the peel strength of the release film used in manufacturing MLCCs is too low, the ceramic slurry may peel off the release film first. Conversely, if the release strength of the release film is too high, cracks or breaks may occur in the green sheet when the release film is removed from the ceramic green sheet. Therefore, the release film used in MLCCs must have physical properties that allow it to be peeled off with an appropriate peel force.

また、セラミックスラリー製造時に用いられる有機溶媒が十分に揮発できずに離型層に残留する場合、グリーンシートの表面でオレンジピールのようなシミが発生するが、この問題は、粗さ要因以外に、離型層の耐溶剤性が低くてセラミックスラリーの溶媒が離型層内に残留する場合に発生して改善が必要であった。上記のようなグリーンシートの欠陥を未然に防止することがMLCCの信頼性の向上につながるので、MLCCの製造において離型フィルムの機能が非常に重要であると言える。 Furthermore, if the organic solvent used in producing the ceramic slurry does not volatilize sufficiently and remains on the release layer, orange peel-like stains appear on the surface of the green sheet. This problem, which is not only due to roughness but also occurs when the release layer has low solvent resistance and the ceramic slurry solvent remains in the release layer, required improvement. Preventing defects in green sheets such as those described above leads to improved MLCC reliability, so the functionality of the release film can be said to be extremely important in MLCC production.

本開示は、離型フィルムのための技術を提供する。本開示は、多様な範囲の剥離力を実現し、優れた経時安定性を示すことができる離型フィルムを提供することを目的とする。 This disclosure provides technology for release films. The purpose of this disclosure is to provide release films that can achieve a wide range of peel forces and exhibit excellent stability over time.

本開示は、水系システムで低温硬化して形成され得る離型フィルムを提供することを目的とする。 The present disclosure aims to provide a release film that can be formed by low-temperature curing using a water-based system.

本開示は、一側面において、離型フィルムを提供することができる。 In one aspect, the present disclosure can provide a release film.

一側面において、離型フィルムは、基材フィルム;及び前記基材フィルムの少なくとも一面に離型コーティング組成物が塗布されて形成された離型層;を含み、前記離型層の表面から厚さ方向に飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)を用いて測定したデプスプロファイルのうちNHのイオン強度曲線におけるNHイオンの最大カウント数と、離型層の表面でのNHイオンのカウント数、離型層と基材フィルムの境界でのNHイオンのカウント数をそれぞれINH_max、INH_t、INH_bとしたとき、INH_t/INH_maxの比が0.9以下であり、INH_t>INH_bであり得る。 In one aspect, a release film includes a substrate film; and a release layer formed by applying a release coating composition to at least one surface of the substrate film. In a depth profile measured from the surface of the release layer in a thickness direction using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS), the maximum NH -ion count in an NH -ion intensity curve, the NH -ion count at the surface of the release layer, and the NH -ion count at the interface between the release layer and the substrate film are defined as I NH_max , I NH_t , and I NH_b, respectively. The ratio of I NH_t /I NH_max may be 0.90 or less, and I NH_t > I NH_b .

一側面において、前記NHのイオン強度曲線は、変曲点を含み得る。 In one aspect, the NH 3 - ionic strength curve may include an inflection point.

一側面において、前記NHのイオン強度曲線は、窪んだ(concave)形状を有し得る。 In one aspect, the NH 3 - ionic strength curve may have a concave shape.

一側面において、前記離型層は、Si、S、C 、及びC イオンのうちの1つ以上をさらに含み得る。 In one aspect, the release layer can further include one or more of Si , S , C 7 H 5 O 2 , and C 3 H 5 N 5 ions.

一側面において、前記離型層は、Siイオン及びC イオンを含み、前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、Siのイオン強度は減少し、C のイオン強度は増加し、前記離型層のうち前記SiイオンとC イオンのイオン強度が同一の地点を含み得る。 In one aspect, the release layer contains Si - ions and C 7 H 5 O 2 - ions, and in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, the ion intensity of Si - decreases and the ion intensity of C 7 H 5 O 2 - increases, and the release layer may include a point where the ion intensity of the Si - ions and the ion intensity of the C 7 H 5 O 2 - ions are the same.

一側面において、前記離型層は、Sイオンを含み、前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、Sのイオン強度曲線は変曲点を含み得る。 In one aspect, the release layer contains S 2 -ions, and in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, the S 2 -ion intensity curve may include an inflection point.

一側面において、前記Sのイオン強度曲線は、窪んだ(concave)形状を有し得る。 In one aspect, the S 2 ionic strength curve may have a concave shape.

一側面において、前記離型層は、C イオンを含み、前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、離型層の表面に隣接した位置でC のイオン強度は減少し得る。 In one aspect, the release layer contains C 3 H 5 N 5 - ions, and in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, the ion intensity of C 3 H 5 N 5 - may decrease at a position adjacent to the surface of the release layer.

一側面において、前記離型フィルムは、5~32gf/inのテープ即時剥離力を示し得る。 In one aspect, the release film may exhibit a tape instant peel force of 5 to 32 gf/in.

一側面において、前記離型フィルムは、3~1000gf/inのテープ常温1日剥離力を示し得る。 In one aspect, the release film may exhibit a tape peel strength of 3 to 1000 gf/in after one day at room temperature.

一側面において、前記離型フィルムは、1~3gf/inのグリーンシート剥離力を示し得る。 In one aspect, the release film may exhibit a green sheet peel force of 1 to 3 gf/in.

一側面において、X線蛍光分析器(XRF)を用いて測定した離型層のシリコーン含量が0.001~0.2g/mであり得る。 In one aspect, the release layer can have a silicone content of 0.001 to 0.2 g/m 2 as measured using an X-ray fluorescence analyzer (XRF).

一側面において、前記離型層の表面エネルギーが19~30dyne/cmであり得る。 In one aspect, the surface energy of the release layer may be 19 to 30 dyne/cm.

一側面において、離型フィルムは、離型コーティング組成物が150℃以下の温度で硬化して形成されたものであり得る。 In one aspect, the release film may be formed by curing the release coating composition at a temperature of 150°C or less.

一側面において、離型コーティング組成物は、150℃以下の温度で硬化可能な組成物として、ポリジメチルシロキサン(polydimethylsiloxane,PDMS)を含むシリコーンエマルジョン成分(A);1つの分子内に前記シリコーンエマルジョン成分と縮合反応できる官能基を2つ以上含む成分(B);及び酸触媒を含む水系離型コーティング組成物であり得る。 In one aspect, the release coating composition may be an aqueous release coating composition that includes a silicone emulsion component (A) containing polydimethylsiloxane (PDMS) as a composition curable at a temperature of 150°C or less; a component (B) containing two or more functional groups in one molecule that can undergo a condensation reaction with the silicone emulsion component; and an acid catalyst.

本開示の一側面による離型フィルムは、離型フィルムへの製造時に広い範囲の剥離力を実現でき、優れた経時安定性を示すことができ、このような効果はシリコーン系離型コーティング組成物によって製造された離型フィルムと比較した時、更に優れたものである。 The release film according to one aspect of the present disclosure can achieve a wide range of release forces during production into a release film and exhibit excellent stability over time, an effect that is even superior when compared to release films produced using a silicone-based release coating composition.

本開示の一側面による離型フィルムは、シリコーン系フィルムでありながらも、水系システムで低温硬化によって形成されることができ、これは、従来の高温硬化によって形成されたシリコーン系フィルムと比較した時、更に優れたものである。 Although the release film according to one aspect of the present disclosure is a silicone-based film, it can be formed by low-temperature curing using a water-based system, which is superior to conventional silicone-based films formed by high-temperature curing.

本発明の一実施例による離型フィルムのTOF-SIMSデプスプロファイル測定結果である。1 shows the results of TOF-SIMS depth profile measurement of a release film according to an embodiment of the present invention.

従来のシリコーン系離型フィルムと本発明の一実施例による離型フィルムを示した模式図である。1 is a schematic diagram showing a conventional silicone-based release film and a release film according to an embodiment of the present invention.

本発明の一実施例による離型フィルムのFT-IRスペクトル測定結果を示したグラフである。1 is a graph showing the FT-IR spectrum measurement results of a release film according to an embodiment of the present invention.

本文書に記載された多様な側面又は実施例は、本開示の技術的思想を明確に説明する目的で例示されたものであり、これを特定の実施形態に限定しようとするわけではない。本開示の技術的思想は、本文書に記載された各側面又は実施例の多様な変更(modifications)、均等物(equivalents)、代替物(alternatives)及び各側面又は実施例の全部又は一部から選択的に組み合わせられた側面又は実施例を含む。また、本開示の技術的思想の権利範囲は以下に提示される多様な側面又は実施例やこれに関する具体的説明に限定されない。 The various aspects or examples described in this document are provided for the purpose of clearly explaining the technical idea of the present disclosure and are not intended to limit it to specific embodiments. The technical idea of the present disclosure includes various modifications, equivalents, and alternatives of each aspect or example described in this document, as well as aspects or examples that are selectively combined in whole or in part. Furthermore, the scope of the technical idea of the present disclosure is not limited to the various aspects or examples presented below or the specific descriptions thereof.

技術的や科学的な用語を含め、本文書で用いられる用語は、特に定義されない限り、本開示の属する技術分野で通常の知識を有する者に一般に理解される意味を有し得る。 Unless otherwise defined, terms used in this document, including technical and scientific terms, may have the meaning commonly understood by a person of ordinary skill in the art to which this disclosure belongs.

1.離型フィルム 1. Release film

本開示の一側面において、離型フィルムは、基材フィルム;及び前記基材フィルムの少なくとも一面に離型コーティング組成物が塗布されて形成された離型層;を含み得る。 In one aspect of the present disclosure, the release film may include a substrate film; and a release layer formed by applying a release coating composition to at least one surface of the substrate film.

一側面において、離型フィルムは、前記離型層の表面から厚さ方向に飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)を用いて測定したデプスプロファイルのうちNHのイオン強度曲線におけるNHイオンの最大カウント数と、離型層の表面でのNHイオンのカウント数、離型層と基材フィルムの境界でのNHイオンのカウント数をそれぞれINH_max、INH_t、INH_bとしたとき、INH_t/INH_maxの比が0.9以下であり、INH_t>INH_bであり得る。 In one aspect, the release film may have a ratio of I NH_t /I NH_max of 0.90 or less, and I NH_t >I NH_b, where I NH_max, I NH_t, and I NH_b are the maximum NH -ion count in an NH -ion intensity curve in a depth profile measured from the surface of the release layer in a thickness direction using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF - SIMS ) , the NH -ion count at the surface of the release layer, and the NH -ion count at the boundary between the release layer and the substrate film , respectively.

図1は、本発明の一実施例による離型フィルムのTOF-SIMSデプスプロファイル測定結果である。 Figure 1 shows the results of a TOF-SIMS depth profile measurement of a release film according to one embodiment of the present invention.

図1を参照すると、INH_t/INH_maxの比が0.9以下であり、INH_t>INH_bである。例えば、INH_t/INH_maxの比は0.8以下であり得、又は、0.7以下であり得、又は、0.6以下であり得、又は、0.5以下であり得、又は、0.4以下であり得、又は、0.3以下であり得、又は、0.2以下であり得、又は、0.1以下であり得、又は、0.05以上であり得、又は、0.07以上であり得、又は、0.09以上であり得る。 1 , the ratio of I NH_t /I NH_max is 0.90 or less, and I NH_t >I NH_b . For example, the ratio of I NH_t /I NH_max may be 0.80 or less, or 0.70 or less, or 0.60 or less , or 0.50 or less, or 0.40 or less, or 0.30 or less, or 0.20 or less, or 0.10 or less, or 0.05 or more, or 0.07 or more, or 0.09 or more.

例えば、INH_t/INH_maxの比が0.9以下であると、離型層の表面には非シリコーン成分(例えば、メラミン成分)が主成分として多量に存在し得る。例えば、INH_t/INH_maxの比が0.5以下であると、離型層の表面には非シリコーン成分(例えば、メラミン成分)、界面活性剤及びその他成分(例えば、メラミン成分と相分離が十分に行われない成分)が存在し得る。例えば、INH_t/INH_maxの比が0.1以下であると、離型層の表面には非シリコーン成分(例えば、メラミン成分)が少量で含まれ、その他成分(例えば、メラミン成分と相分離が十分に行われる成分)が多量に存在し得る。 For example, when the ratio of I NH_t /I NH_max is 0.90 or less, a large amount of non-silicone components (e.g., melamine components) may be present as a major component on the surface of the release layer. For example, when the ratio of I NH_t /I NH_max is 0.50 or less, a non-silicone component (e.g., melamine component), surfactants, and other components (e.g., components that do not sufficiently phase separate from the melamine component) may be present on the surface of the release layer. For example, when the ratio of I NH_t /I NH_max is 0.10 or less, a small amount of non-silicone components (e.g., melamine components) may be present on the surface of the release layer, and a large amount of other components (e.g., components that sufficiently phase separate from the melamine component) may be present on the surface of the release layer.

図1を参照すると、前記NHのイオン強度曲線は変曲点を含む。ここで、変曲点はNHのイオン強度が増加したり減少する時に接線の傾きが変化する地点を意味し、イオン強度曲線のうちINH_tに該当する地点とINH_maxに該当する地点との間でNHのイオン強度の増加する程度が減少する変曲点、及び、イオン強度曲線のうちINH_maxに該当する地点とINH_bに該当する地点との間でNHのイオン強度の減少する程度が減少する変曲点のうちの1つ以上が存在し得る。 1, the NH ionic strength curve includes an inflection point. Here, the inflection point refers to a point where the slope of the tangent line changes as the NH ionic strength increases or decreases, and there may be one or more of an inflection point where the rate of increase in the NH ionic strength decreases between a point corresponding to I NH_t and a point corresponding to I NH_max on the ionic strength curve, and an inflection point where the rate of decrease in the NH ionic strength decreases between a point corresponding to I NH_max and a point corresponding to I NH_b on the ionic strength curve.

例えば、イオン強度曲線のうちINH_tに該当する地点とINH_maxに該当する地点との間でNHのイオン強度の増加する程度が減少する変曲点は、離型層のうちSi含量が減少し始める地点であり得る。 For example, the inflection point where the rate of increase in the NH 3 ion intensity decreases between a point corresponding to I NH_t and a point corresponding to I NH_max in the ion intensity curve may be the point where the Si content in the release layer begins to decrease.

図1を参照すると、前記NHのイオン強度曲線は、窪んだ(concave)形状を有し得る。 Referring to FIG. 1, the NH 3 - ionic strength curve may have a concave shape.

NHのイオン強度曲線が窪んだ形状を有するということは、離型フィルムの全体表面から、基材フィルムまでのシリコーン成分の分布が窪んだ形態を有することを意味する。即ち、離型フィルム全体表面ではシリコーン成分の比率が高く、離型フィルム全体の中間の部分にはシリコーン成分の含量が減って非シリコーン成分(例えば、メラミン成分)が主成分として含まれ、その下には基材フィルムが存在することを意味し得る。一側面において、離型層はSi、S、C 、及びC イオンのうちの1つ以上をさらに含み得る。 The concave shape of the NH- ion intensity curve means that the distribution of the silicone component from the entire surface of the release film to the substrate film has a concave shape. That is, it may mean that the proportion of the silicone component is high at the entire surface of the release film, and the content of the silicone component decreases in the middle portion of the release film, with a non-silicone component (e.g., melamine component) as the main component, and the substrate film is present underneath. In one aspect, the release layer may further include one or more of Si- , S- , C7H5O2- , and C3H5N5- ions .

例えば、離型層は、Si、S、C 、及びC イオンのうち任意の2以上の組合わせを含み得る。例えば、離型層は、Si、S、C 、及びC イオンを含み得る。 For example, the release layer can include a combination of any two or more of Si , S , C 7 H 5 O 2 , and C 3 H 5 N 5 ions. For example, the release layer can include Si , S , C 7 H 5 O 2 , and C 3 H 5 N 5 ions.

図1を参照すると、前記離型層は、Siイオン及びC イオンを含み、前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、Siのイオン強度は減少し、C のイオン強度は増加し、前記離型層のうち前記SiイオンとC イオンのイオン強度が同一である地点を含み得る。 Referring to FIG. 1, the release layer includes Si ions and C 7 H 5 O 2 ions, and in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, the ion intensity of Si decreases and the ion intensity of C 7 H 5 O 2 increases, and the release layer may include a point where the ion intensity of the Si ions and the ion intensity of the C 7 H 5 O 2 ions are the same.

例えば、離型層のうち前記SiイオンとC イオンのイオン強度が同一である地点は、シリコーン成分に比べて非シリコーン成分(例えば、メラミン成分)が本格的に含まれ始める領域が始まる地点であり得る。 For example, the point in the release layer where the ionic strength of the Si - ions and C 7 H 5 O 2 - ions is the same may be the point where a region where non-silicone components (e.g., melamine components) begin to be substantially contained relative to silicone components begins to be formed.

例えば、前記SiイオンとC イオンのイオン強度が同一である地点は、INH_bに該当する地点よりINH_tに該当する地点に更に近いこともあり、INH_tに該当する地点よりINH_maxに該当する地点に更に近いこともある。 For example, the point where the ionic strengths of the Si -ions and C 7 H 5 O 2 -ions are the same may be closer to the point corresponding to I NH_t than to the point corresponding to I NH_b , or may be closer to the point corresponding to I NH_max than to the point corresponding to I NH_t .

例えば、前記SiイオンとC イオンのイオン強度が同一である地点は、シリコーン成分を含む領域-非シリコーン成分(例えば、メラミン成分)を含む領域-基材フィルム構造の離型フィルムのうち非シリコーン成分領域が始まる地点であり得る。このような地点がINH_bに該当する地点よりINH_tに該当する地点に更に近いこともあり、INH_tに該当する地点よりINH_maxに該当する地点に更に近い位置にあることによって、シリコーン成分と非シリコーン成分の急激な濃度変化ではなく、もう少し緩やかな(smooth)濃度変化を意味し得、これは、シリコーン成分と非シリコーン成分を含む離型コーティング組成物が1回コーティングされて離型層が形成される製造工程に起因するものであり得る。 For example, the point where the ionic strengths of the Si - ion and C7H5O2 - ion are the same may be the point where the non-silicone component region begins in a release film having a silicone component-non-silicone component (e.g., melamine component) region-substrate film structure. This point may be closer to the point corresponding to INH_t than to the point corresponding to INH_b , or closer to the point corresponding to INH_max than to the point corresponding to INH_t , which may indicate a smoother concentration change rather than a sharp change in the concentration of the silicone component and non-silicone component. This may be due to the manufacturing process in which a release coating composition containing a silicone component and a non-silicone component is applied once to form the release layer.

図1を参照すると、前記離型層はSイオンを含み、前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、Sのイオン強度曲線は変曲点を含み得る。イオン強度曲線のうちINH_tに該当する地点とINH_maxに該当する地点との間でSのイオン強度の増加する程度が減少する変曲点が存在し、イオン強度曲線のうちINH_maxに該当する地点とINH_bに該当する地点との間でSのイオン強度の減少する程度が減少する変曲点が存在し得る。 1, the release layer contains S ions , and in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in a thickness direction, an S ion intensity curve may include an inflection point. An inflection point where the rate of increase in S ion intensity decreases may exist between a point corresponding to I NH_t and a point corresponding to I NH_max in the ion intensity curve, and an inflection point where the rate of decrease in S ion intensity decreases may exist between a point corresponding to I NH_max and a point corresponding to I NH_b in the ion intensity curve.

図1を参照すると、前記Sのイオン強度曲線は、窪んだ(concave)形状を有し得る。 Referring to FIG. 1, the ionic strength curve of the S 2 may have a concave shape.

図1を参照すると、前記離型層はC イオンを含み、前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、離型層の表面に隣接した位置でC のイオン強度は減少し得る。 Referring to FIG. 1, the release layer contains C 3 H 5 N 5 - ions, and in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, the ion intensity of C 3 H 5 N 5 - may decrease at a position adjacent to the surface of the release layer.

本開示の一側面において、離型フィルムは、基材フィルムの少なくとも1面に離型コーティング組成物を塗布して離型層を形成させて製造され得、このように製造された離型フィルムは、次の物性を有するものであり得る。下記物性は実験例に記載された方法で測定され得る。 In one aspect of the present disclosure, a release film can be manufactured by applying a release coating composition to at least one surface of a substrate film to form a release layer, and the release film manufactured in this manner can have the following physical properties. The following physical properties can be measured by the methods described in the experimental examples.

一側面において、離型フィルムは、5~32gf/inのテープ即時剥離力を示すものであり得、前記記載された上限及び下限値の間に存在する数値の剥離力を示すものであり得、例えば、7gf/in以上、9gf/in以上、11gf/in以上、13gf/in以上、15gf/in以上、17gf/in以上、19gf/in以上、21gf/in以上、23gf/in以上、25gf/in以上、27gf/in以上、29gf/in以上、又は31gf/in以上であるか、31gf/in以下、29gf/in以下、27gf/in以下、25gf/in以下、23gf/in以下、21gf/in以下、19gf/in以下、17gf/in以下、15gf/in以下、13gf/in以下、11gf/in以下、9gf/in以下、又は、7gf/in以下であり得る。 In one aspect, the release film may exhibit a tape instant peel strength of 5 to 32 gf/in, or a peel strength between the upper and lower limits described above, for example, 7 gf/in or more, 9 gf/in or more, 11 gf/in or more, 13 gf/in or more, 15 gf/in or more, 17 gf/in or more, 19 gf/in or more, 21 gf/in or more, 23 gf/in or more, 25 gf/in or more /in or more, 27 gf/in or more, 29 gf/in or more, or 31 gf/in or more, or 31 gf/in or less, 29 gf/in or less, 27 gf/in or less, 25 gf/in or less, 23 gf/in or less, 21 gf/in or less, 19 gf/in or less, 17 gf/in or less, 15 gf/in or less, 13 gf/in or less, 11 gf/in or less, 9 gf/in or less, or 7 gf/in or less.

一側面において、離型フィルムは、3~1000gf/inのテープ常温1日剥離力を示すものであり得、前記記載された上限及び下限値の間に存在する数値の剥離力を示すものであり得、例えば、10gf/in以上、50gf/in以上、100gf/in以上、200gf/in以上、300gf/in以上、400gf/in以上、500gf/in以上、600gf/in以上、700gf/in以上、800gf/in以上、又は900gf/in以上であるか、900gf/in以下、800gf/in以下、700gf/in以下、600gf/in以下、500gf/in以下、400gf/in以下、300gf/in以下、200gf/in以下、100gf/in以下、50gf/in以下、又は、20gf/in以下であり得る。このような離型フィルムは、軽剥離、重剥離又は超重剥離離型フィルムの剥離力を満たすものであり、これを要求する分野で多様に使用可能である。一側面において、離型フィルムは、広いテープ常温1日剥離力を示し、このような範囲は従来のシリコーン離型フィルムからは達成できない物性に該当する。 In one aspect, the release film may exhibit a tape peel strength at room temperature after 1 day of 3 to 1000 gf/in, or a peel strength between the upper and lower limits described above, for example, 10 gf/in or more, 50 gf/in or more, 100 gf/in or more, 200 gf/in or more, 300 gf/in or more, 400 gf/in or more, 500 gf/in or more, 600 gf/in or more. The release strength may be 900 gf/in or more, 700 gf/in or more, 800 gf/in or more, or 900 gf/in or more, or 900 gf/in or less, 800 gf/in or less, 700 gf/in or less, 600 gf/in or less, 500 gf/in or less, 400 gf/in or less, 300 gf/in or less, 200 gf/in or less, 100 gf/in or less, 50 gf/in or less, or 20 gf/in or less. Such a release film satisfies the release strength of a light, heavy, or ultra-heavy release film and can be used in a variety of fields requiring such a release strength. In one aspect, the release film exhibits a wide range of tape room temperature 1-day release strength, a range that is unattainable with conventional silicone release films.

一側面において、離型フィルムは、1~3gf/inのグリーンシート剥離力を示すものであり得、前記記載された上限及び下限値の間に存在する数値の剥離力を示すものであり得る。グリーンシート剥離力は実験例1に記載された方法で測定され得、3μm厚さのグリーンシートに対する剥離力を示すものであり得る。 In one aspect, the release film may exhibit a green sheet peel strength of 1 to 3 gf/in, or a peel strength between the upper and lower limits described above. The green sheet peel strength may be measured using the method described in Experimental Example 1 and may represent the peel strength for a 3 μm thick green sheet.

従って、本開示の一側面による離型フィルムは、多様なテープ常温1日剥離力水準(grade)を実現しながらも、同時にテープ即時剥離力又はグリーンシート剥離力を基準として一定の範囲の軽剥離力を実現できる長所を有し、これにより、1つの離型フィルムを多様な用途のテープ常温1日剥離力を要求する産業分野で使用可能であり、テープ即時剥離力又はグリーンシート剥離力を基準として軽剥離の剥離力を要求する産業分野でも使用できるので、多様な目的に合わせて使用可能である。 Therefore, the release film according to one aspect of the present disclosure has the advantage of being able to achieve a variety of room temperature one-day tape peel strength levels (grades) while at the same time achieving a certain range of light peel strength based on the immediate tape peel strength or green sheet peel strength. As a result, a single release film can be used in a variety of industrial fields that require room temperature one-day tape peel strength for various purposes, and can also be used in industrial fields that require a light peel strength based on the immediate tape peel strength or green sheet peel strength, making it suitable for a variety of purposes.

一側面において、離型フィルムは、X線蛍光分析器を用いて測定した離型層のシリコーン含量が約0.001~約0.2g/mであり得る。 In one aspect, the release film can have a silicone content of the release layer of from about 0.001 to about 0.2 g/m 2 as measured using an X-ray fluorescence analyzer.

一側面において、離型フィルムは、約94%、約95%、又は、約96%以上の残留接着率を示すことができ、残留接着率は実験例4に記載された方法で測定され得る。一般に、離型フィルムを剥がす過程で、感圧接着体(pressure sensitive adhesive;PSA)又は光学用透明接着剤(optically clear adhesive;OCA)のような接着剤を離型フィルムの上に付着した後、離型フィルムを剥がす。ただし、このように離型フィルムを剥がす過程で離型フィルムの離型層に存在する未硬化成分が転写して接着剤の接着特性を妨げる問題が発生し得る。本開示の離型フィルムは、約95%以上の残留接着率を満たすので、高い基準が要求される分野でも使用可能な長所がある。 In one aspect, the release film may exhibit a residual adhesion rate of about 94%, about 95%, or about 96% or more, and the residual adhesion rate may be measured using the method described in Experimental Example 4. Generally, in the process of peeling off the release film, an adhesive such as a pressure-sensitive adhesive (PSA) or an optically clear adhesive (OCA) is applied to the release film, and then the release film is peeled off. However, during this peeling process, uncured components present in the release layer of the release film may transfer, which can cause problems and interfere with the adhesive properties of the adhesive. The release film of the present disclosure has a residual adhesion rate of about 95% or more, making it advantageous for use in fields requiring high standards.

一側面において、離型フィルムは、離型層の表面エネルギーが約19~約30dyne/cm又は約19.5~約27dyne/cmであり得、前記記載された上限及び下限値の間に存在する数値の表面エネルギー値を示すものであり得る。離型層の表面エネルギーは、実験例5に記載された方法で測定され得る。 In one aspect, the release film may have a surface energy of about 19 to about 30 dyne/cm or about 19.5 to about 27 dyne/cm, or may have a surface energy value between the upper and lower limits recited above. The surface energy of the release layer may be measured by the method described in Experimental Example 5.

一側面において、離型フィルムは、揮発性有機化合物の残留量が約5ppm以下であり得、これにより、環境にやさしい素材として活用が可能である。 In one aspect, the release film may have a residual amount of volatile organic compounds of approximately 5 ppm or less, making it suitable for use as an environmentally friendly material.

2.離型フィルムの製造方法 2. Release film manufacturing method

本開示の一側面において、離型フィルムの製造方法は、離型コーティング組成物を用いて離型層を形成させるものであれば、特に制限されない。例えば、基材フィルムの少なくとも1面に離型コーティング組成物を塗布し、これを加熱乾燥して離型コーティング組成物に含まれた成分(B)とシリコーンエマルジョン成分を硬化させて離型層を形成し、これにより離型フィルムを得ることが可能である。 In one aspect of the present disclosure, the method for producing a release film is not particularly limited, as long as it forms a release layer using a release coating composition. For example, a release coating composition is applied to at least one surface of a substrate film, and the coating is then heated and dried to cure component (B) and the silicone emulsion component contained in the release coating composition, thereby forming a release layer, thereby obtaining a release film.

一側面において、離型コーティング組成物を塗布する方法は、離型フィルム分野で広く用いられている公知の方法であり得、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法、イン-ラインコート法、オフ-ラインコート法などがあり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the method for applying the release coating composition may be a known method widely used in the field of release films, such as, but not limited to, gravure coating, bar coating, spray coating, spin coating, knife coating, roll coating, die coating, in-line coating, and off-line coating.

一側面において、塗布された離型コーティング組成物は、加熱乾燥によって熱硬化し得、この時、加熱温度は110℃~160℃、120℃~160℃、130℃~160℃、140℃~160℃、150℃~160℃、145℃~155℃又は150℃~155℃であり得、前記記載された範囲内に存在する温度であり得る。一側面において、加熱時間は5秒~60秒、10秒~40秒、15秒~30秒、又は、20秒~25秒であり得、前記記載された範囲内に存在する時間であり得る。 In one aspect, the applied release coating composition can be thermally cured by heating and drying. At this time, the heating temperature can be 110°C to 160°C, 120°C to 160°C, 130°C to 160°C, 140°C to 160°C, 150°C to 160°C, 145°C to 155°C, or 150°C to 155°C, and can be within the ranges described above. In another aspect, the heating time can be 5 seconds to 60 seconds, 10 seconds to 40 seconds, 15 seconds to 30 seconds, or 20 seconds to 25 seconds, and can be within the ranges described above.

一側面において、追加で離型コーティング組成物の加熱乾燥以後、未硬化成分の硬化のために後硬化工程を含み得る。例えば、後硬化工程は、加熱乾燥によって製造された離型フィルムを巻いてロール(roll)形態にした後、40℃~60℃で1日~5日間処理するものであり得る。処理温度は40℃~60℃、45℃~55℃、47℃~53℃、49℃~53℃、50℃~53℃、又は50℃~51℃であり得、処理時間は1日~5日、1.5日~4.5日、2日~4日、2.5日~3.5日、又は、3日~3.5日であり得る。後硬化工程を行う場合、離型フィルムの物性(例:剥離力、残留接着率、又はRub-off特性)において経時安定性が向上し得る。 In one aspect, a post-curing process may be included to cure any uncured components after the heat drying of the release coating composition. For example, the post-curing process may involve rolling the release film produced by heat drying into a roll and then treating it at 40°C to 60°C for 1 to 5 days. The treatment temperature may be 40°C to 60°C, 45°C to 55°C, 47°C to 53°C, 49°C to 53°C, 50°C to 53°C, or 50°C to 51°C, and the treatment time may be 1 to 5 days, 1.5 to 4.5 days, 2 to 4 days, 2.5 to 3.5 days, or 3 to 3.5 days. Performing a post-curing process may improve the stability over time of the physical properties of the release film (e.g., peel strength, residual adhesion, or rub-off characteristics).

一側面において、離型フィルムの離型層は、乾燥厚さで0.01~2μm、又は50nm~500nmで形成され得る。 In one aspect, the release layer of the release film can be formed with a dry thickness of 0.01 to 2 μm, or 50 nm to 500 nm.

一側面において、離型フィルムは、粘着剤、半硬化性接着剤、保護フィルム、塗工基材、合紙ライナー、積層セラミックキャパシタ用セラミックシート、印刷回路用半硬化樹脂、又は、プリプレグに用いられ得る。本開示は、前述した側面及び後述する実験例又は実施例を通じて更に明確になる。以下では、本開示の添付の表を参照して記述される実施例を通じて当該業界の通常の技術者が容易に理解して実現できるように詳細に説明する。しかし、これら実験例又は実施例は、本開示を例示的に説明するためのもので、本開示の範囲がこれら実験例又は実施例に限定されるわけではない。 In one aspect, the release film may be used in pressure-sensitive adhesives, semi-curing adhesives, protective films, coating substrates, interleaf liner, ceramic sheets for multilayer ceramic capacitors, semi-curing resins for printed circuits, or prepregs. The present disclosure will become more clear through the above-mentioned aspects and the experimental examples and examples described below. Hereinafter, the present disclosure will be described in detail through examples described with reference to the accompanying tables so that those skilled in the art can easily understand and implement the present disclosure. However, these experimental examples and examples are intended to exemplify the present disclosure, and the scope of the present disclosure is not limited to these experimental examples and examples.

3.基材フィルム 3. Base film

本開示の一側面において、離型フィルムを構成する基材フィルムは、従来、離型フィルムの分野で広く用いられている公知のフィルムを用いることができ、これに制限されない。 In one aspect of the present disclosure, the base film constituting the release film can be any known film that has been widely used in the field of release films, but is not limited to this.

一側面において、基材フィルムは、ポリエステル系重合体から形成されたものであり得るが、離型コーティング組成物が塗布される基材フィルムはポリエステル系フィルムに限定されない。具体的には、ポリエステル系重合体は、ポリエチレンテレフタレート重合体、ポリブチレンテレフタレート重合体、ポリエチレンナフタレート重合体、ポリフェニレンサルファイド重合体、ポリエーテルエーテルケトン重合体、ポリフタルアミド重合体、ポリイミド重合体、ポリスルホン重合体、ポリエーテルスルホン重合体、ポリエーテルイミド重合体又はこれらの組合わせであり得るが、これに制限されるわけではない。 In one aspect, the substrate film may be formed from a polyester-based polymer, but the substrate film to which the release coating composition is applied is not limited to a polyester-based film. Specifically, the polyester-based polymer may be, but is not limited to, polyethylene terephthalate polymer, polybutylene terephthalate polymer, polyethylene naphthalate polymer, polyphenylene sulfide polymer, polyether ether ketone polymer, polyphthalamide polymer, polyimide polymer, polysulfone polymer, polyethersulfone polymer, polyetherimide polymer, or a combination thereof.

一側面において、ポリエステル系重合体は、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールの縮合反応から得られたポリエステルであり得る。一側面において、前記芳香族ジカルボン酸は、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸(例えば、P-オキシ安息香酸など)、又は、これらの組合わせであり得るが、これに制限されるわけではない。一側面において、脂肪族グリコールは、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール、又は、これらの組合わせであり得るが、これに制限されるわけではない。 In one aspect, the polyester polymer may be a polyester obtained from the condensation reaction of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol. In one aspect, the aromatic dicarboxylic acid may be, but is not limited to, isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, an oxycarboxylic acid (e.g., p-oxybenzoic acid), or a combination thereof. In one aspect, the aliphatic glycol may be, but is not limited to, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, neopentyl glycol, or a combination thereof.

一側面において、ポリエステル系重合体としては、前記芳香族ジカルボン酸及び脂肪族グリコールのうちの2種以上の物質を併用でき、第三の成分を含有する共重合体も用いることができるが、耐熱性と耐化学性及び機械強度、経済性を考慮する場合、ポリエチレンテレフタレートを用いることが望ましいこともある。一側面において、基材フィルムは、2軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが望ましいこともある。 In one aspect, the polyester polymer can be a combination of two or more of the above-mentioned aromatic dicarboxylic acids and aliphatic glycols, and a copolymer containing a third component can also be used. However, when considering heat resistance, chemical resistance, mechanical strength, and economy, it may be preferable to use polyethylene terephthalate. In another aspect, it may be preferable to use a biaxially stretched polyethylene terephthalate film as the substrate film.

一側面において、基材フィルムは、10~200μmの厚さを有し得るが、これに制限されるわけではない。 In one aspect, the substrate film may have a thickness of 10 to 200 μm, but is not limited to this.

一側面において、離型コーティング組成物は、基材フィルムの少なくとも1面に塗布され、離型層を形成し得る。 In one aspect, the release coating composition can be applied to at least one surface of the substrate film to form a release layer.

4.成分(B) 4. Ingredient (B)

本開示の一側面による離型コーティング組成物は、成分(B)を硬化後に離型層を構成する主鎖成分として用い、成分(B)を用いる場合、高い架橋密度によって硬い離型層塗膜を得ることができるようになり、既存のシリコーン系離型コーティング組成物を越える水準の硬化度を達成することができる。MLCCの製造のためのセラミックグリーンシート製造工程用離型フィルムでは、剥離力を所望の水準に調節するために離型層塗膜を硬くさせることが効果的であるためである。 A release coating composition according to one aspect of the present disclosure uses component (B) as the main chain component that forms the release layer after curing. When component (B) is used, a hard release layer coating can be obtained due to the high crosslink density, achieving a level of curing that exceeds that of existing silicone-based release coating compositions. This is because, in the case of release films used in the ceramic green sheet manufacturing process for producing MLCCs, it is effective to harden the release layer coating in order to adjust the release force to the desired level.

既存のシリコーン系離型コーティング組成物は、一般に、シリコーンエマルジョンなどのシリコーン系物質のみを含むが、シリコーンエマルジョンは低温で硬化が難しく、約230℃以上の高温で硬化がよく進み、約150℃の温度ではシリコーンエマルジョンのみを含んだ組成物の使用が難しかった。図2は、従来のシリコーン系離型コーティング組成物と本発明の一実施例による水系離型コーティング組成物の150℃以下の温度での低温硬化によるフィルム形成を示した模式図である。図2を参照すると、150℃以下の温度で既存のシリコーン系離型コーティング組成物を用いる場合、基材フィルム(例えば、PETフィルム)との結合力が低いことを見ることができる(左側図面参照)。 Existing silicone-based release coating compositions generally contain only silicone-based materials such as silicone emulsions. However, silicone emulsions are difficult to cure at low temperatures and cure well at high temperatures of approximately 230°C or higher, making it difficult to use compositions containing only silicone emulsions at temperatures of approximately 150°C. Figure 2 is a schematic diagram showing film formation by low-temperature curing at temperatures below 150°C for a conventional silicone-based release coating composition and a water-based release coating composition according to one embodiment of the present invention. Referring to Figure 2, it can be seen that when using an existing silicone-based release coating composition at temperatures below 150°C, the bonding strength with the substrate film (e.g., PET film) is low (see the diagram on the left).

例えば、フィルムの製造工程は、完成したフィルム生地をアンワインド(unwind)しながらコーティング後に、リワインド(rewind)してフィルムを製造するオフライン工程と、重合体を押し出す工程を通じて、シート化以後のフィルム化する過程で、中間コーティングで重合体をフィルムにするインライン工程に分けられる。この時、オフライン工程での乾燥温度は最大約150℃であり、インライン工程はフィルム延伸工程で約210~240℃の乾燥温度を有し得る。従って、オフライン工程では150℃以下の温度での硬化のために非水系溶剤(即ち、溶剤系溶媒)のみを用いてきた。 For example, the film manufacturing process can be divided into an offline process, in which the finished film fabric is unwound, coated, and then rewinded to produce a film, and an inline process, in which the polymer is extruded to form a sheet and then coated to produce a film. The drying temperature in the offline process is a maximum of approximately 150°C, while the inline process can have a drying temperature of approximately 210-240°C during the film stretching process. Therefore, the offline process has traditionally used only non-aqueous solvents (i.e., solvent-based solvents) for curing at temperatures below 150°C.

しかし、環境へのやさしさなどの要求によって前記組成物の溶剤を水系で用いる場合、約150℃以下(例えば、約130℃以下)の温度で硬化が行われなければならず、水系で使用可能な剤形はエマルジョンが適するが、前述した通り、シリコーンエマルジョンを用いる場合、150℃以下の温度で硬化が難しい問題点があった。また、硬化をしても離型フィルムのRub-off特性、基材密着性が低下する問題点があり、これを解決するために界面活性剤を投入する場合、硬化が抑制される問題点があった。 However, due to environmental friendliness and other requirements, when using a water-based solvent for the composition, curing must be carried out at temperatures below approximately 150°C (e.g., below approximately 130°C). Emulsion is a suitable formulation for use in water-based systems, but as mentioned above, when using a silicone emulsion, curing at temperatures below 150°C is difficult. Furthermore, even after curing, the release film's rub-off properties and substrate adhesion decrease, and when a surfactant is added to solve this problem, curing is inhibited.

本開示の一側面による離型コーティング組成物は、上述した通り、シリコーンエマルジョン成分と縮合反応できる官能基を2つ以上含む成分(B)を含むことによって、150℃以下の温度で高い硬化度を達成しながら、Rub-off特性などの優れた物性を実現することができる。従って、オフライン工程でも水系エマルジョンを使用できる可能性がある。図2を参照すると、成分(B)(例えば、メラミン成分)を活用して、相分離硬化反応が誘導され、密着力も優れ、硬化度が高いフィルムを実現可能であることを確認することができる(右側図面参照)。 As described above, the release coating composition according to one aspect of the present disclosure includes component (B) containing two or more functional groups capable of condensation reaction with the silicone emulsion component, thereby achieving a high degree of cure at temperatures of 150°C or less while also realizing excellent physical properties such as rub-off characteristics. Therefore, it may be possible to use aqueous emulsions in offline processes. Referring to Figure 2, it can be seen that by utilizing component (B) (e.g., a melamine component), a phase separation curing reaction is induced, resulting in a film with excellent adhesion and a high degree of cure (see the diagram on the right).

一側面において、前記成分(B)は、シリコーンエマルジョン成分縮合反応によってSi-O-R-N結合構造(ここで、Rは炭素数1~4のアルキルグループ)を形成し得る。 In one aspect, component (B) can form a Si-O-R-N bond structure (where R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) through a silicone emulsion component condensation reaction.

例えば、Rは、-CH-、-CHCH-、-CHCHCH-、又は-CHCHCHCH-であり得る。 For example, R can be —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, or —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —.

一側面において、前記成分(B)に含まれる官能基は、アミン基又はアミン誘導官能基であり得る。 In one aspect, the functional group contained in component (B) may be an amine group or an amine-derived functional group.

一側面において、成分(B)は、1つの分子内に前記シリコーンエマルジョン成分と縮合反応できる官能基を2つ以上含むものであれば、特に限定されないが、メラミン成分であり得、一般にメラミンとホルムアルデヒドの反応によって製造され、このように生成されたメチロール化メラミンを酸触媒条件で適切な炭素数のアルコールと反応させて得られたアルキルエーテル化メラミン化合物であり得る。 In one aspect, component (B) is not particularly limited as long as it contains two or more functional groups in one molecule that can undergo a condensation reaction with the silicone emulsion component, but it can be a melamine component, generally produced by reacting melamine with formaldehyde, and can be an alkyl etherified melamine compound obtained by reacting the methylol melamine thus produced with an alcohol having an appropriate carbon number under acid catalyzed conditions.

一側面において、成分(B)は、下記化学式1の構造を有するメラミン化合物、そのオリゴマー、その重合体及び/又はこれらの組合わせを意味し得る。 In one aspect, component (B) may refer to a melamine compound having the structure of the following chemical formula 1, its oligomer, its polymer, and/or a combination thereof.

[化学式1] [Chemical formula 1]

ここで、Xは、水素原子、-CHOH、又は-CH-O-Rを示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Rは、炭素数1~8個のアルキル基を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。また、少なくとも1つのXは-CH-O-CHであり得る。 Here, X represents a hydrogen atom, —CH 2 OH, or —CH 2 —O—R, and may be the same or different. R represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and may be the same or different. At least one X may be —CH 2 —O—CH 3 .

一側面において、前記Xは、いずれも-CH-O-CHであり得、メラミン化合物はフルエーテル型メチル化メラミン、メラミンオリゴマー及び/又はメラミン重合体であり得る。 In one aspect, each of the X's may be —CH 2 —O—CH 3 , and the melamine compound may be a full ether type methylated melamine, a melamine oligomer, and/or a melamine polymer.

一側面において、成分(B)として、商業的に入手可能で、広く用いられている多様な製品を用いることができ、例えば、サイメル300、サイメル301、サイメル303LF、サイメル350、又は、サイメル370N(以上、allnex社製品)を用いることができるが、これに制限されない。商業的に入手可能な製品を単独又は2種以上組み合わせて用いることもできる。 In one aspect, component (B) can be any of a variety of commercially available and widely used products, including, but not limited to, Cymel 300, Cymel 301, Cymel 303LF, Cymel 350, and Cymel 370N (all products of Allnex). Commercially available products can be used alone or in combination of two or more.

一側面において、成分(B)の含量は、組成物全体の総重量を基準に約0.2~約1.0重量%であり得、具体的には、約0.2~約0.8重量%、約0.3~約0.7重量%、約0.4~約0.6重量%、又は、約0.5~約0.6重量%であり得る。成分(B)を前記最小値未満で過度に少なく用いる場合、所望の硬化効果、即ち、離型層を硬く維持させて離型フィルムのグリーンシート剥離力を低くする効果が弱くなり、剥離力が所望の通りに調節されないこともある。また、成分(B)の硬化が十分に行われない場合、離型フィルムの経時安定性が減少することがあるので、成分(B)の含量は下記に言及する酸触媒との含量比率を満たすことがよい。 In one aspect, the content of component (B) may be about 0.2 to about 1.0 wt %, specifically about 0.2 to about 0.8 wt %, about 0.3 to about 0.7 wt %, about 0.4 to about 0.6 wt %, or about 0.5 to about 0.6 wt %, based on the total weight of the entire composition. If component (B) is used in an amount that is too small, below the minimum value, the desired curing effect, i.e., the effect of maintaining the hardness of the release layer and reducing the green sheet peel strength of the release film, may be weakened, and the peel strength may not be adjusted as desired. Furthermore, if component (B) is not cured sufficiently, the stability of the release film over time may decrease. Therefore, it is recommended that the content of component (B) satisfy the content ratio with the acid catalyst described below.

一側面において、成分(B)において全酸価は390~780mg KOH/gであり得、具体的には、400 KOH/g以上、450 KOH/g以上、500 KOH/g以上、550 KOH/g以上、600 KOH/g以上、650 KOH/g以上、700 KOH/g以上、又は、750 KOH/g以上であるか、730 KOH/g以下、680 KOH/g以下、630 KOH/g以下、580 KOH/g以下、530 KOH/g以下、480 KOH/g以下、又は、430 KOH/g以下であり得るが、これに制限されるわけではない。 In one aspect, the total acid number of component (B) may be 390 to 780 mg KOH/g, specifically 400 KOH/g or more, 450 KOH/g or more, 500 KOH/g or more, 550 KOH/g or more, 600 KOH/g or more, 650 KOH/g or more, 700 KOH/g or more, or 750 KOH/g or more, or 730 KOH/g or less, 680 KOH/g or less, 630 KOH/g or less, 580 KOH/g or less, 530 KOH/g or less, 480 KOH/g or less, or 430 KOH/g or less, but is not limited thereto.

5.シリコーンエマルジョン成分 5. Silicone emulsion ingredients

本開示の一側面において、シリコーンエマルジョン成分は、離型コーティング組成物でバインダー又は剥離力調節剤として用いられ得る。成分(B)は、単量体の分子量が低いので、硬化後に密な架橋構造を形成し、高い架橋密度を有するようになり、コーティング時に離型層の硬度が高くなるが、離型層の硬度が高くなるほどグリーンシートの剥離力が低くなる問題点がある。これを解決するために、Si-CHのような離型性を有する作用基を含み、軟らかい(soft)特性を有するシリコーンエマルジョン成分をともに硬化させることによって、硬さが解放され、離型層の軟らかさ(softness)が増加することができる。上述した通り、離型層の軟らかさが増加するに伴い、離型フィルムの剥離力も上昇するようになり、本開示は、成分(B)とシリコーンエマルジョン成分の組合わせにより、広い範囲の剥離力、特に、広い範囲のテープ常温1日剥離力を達成する効果を奏する。 In one aspect of the present disclosure, a silicone emulsion component may be used as a binder or release force modifier in a release coating composition. Because component (B) has a low molecular weight monomer, it forms a dense crosslinked structure after curing, resulting in a high crosslink density. This increases the hardness of the release layer during coating, but the higher the hardness of the release layer, the lower the release force of the green sheet. To address this issue, a silicone emulsion component having soft properties and containing a functional group with release properties, such as Si— CH3, may be co-cured to reduce the hardness and increase the softness of the release layer. As described above, increasing the softness of the release layer increases the release force of the release film. The present disclosure provides the effect of achieving a wide range of release forces, particularly a wide range of tape release forces at room temperature for one day, by combining component (B) and the silicone emulsion component.

シリコーンエマルジョン成分は、成分(B)と縮合反応によるSi-O-N結合構造を形成させることができ、形成された成分(B)-シリコーンエマルジョン成分の共重合体及びこの構造は、離型層の軟らかさを増加させ、経時安定性を増加させることができる。 The silicone emulsion component can form an Si-O-N bond structure through a condensation reaction with component (B). The resulting component (B)-silicone emulsion component copolymer and this structure can increase the softness of the release layer and its stability over time.

例えば、上述した化学式1のメラミン成分は、最大計6つの官能基を有することができる。この時、前記メラミン成分のうちNXグループがシリコーンエマルジョン成分と縮合反応によるSi-O-N結合構造を形成することができる。 For example, the melamine component of Formula 1 may have a maximum of six functional groups. In this case, the NX2 group of the melamine component may form an Si—O—N bond structure through a condensation reaction with the silicone emulsion component.

通常、シリコーン系離型フィルムでは、シリコーン重合体成分を添加して剥離力を増加させるが、この時、シリコーン重合体成分の含量が組成物全体の総重量を基準に50重量%を超えることになると、経時安定性において深刻な問題が発生する。時間が経つにつれ、離型層の表面に存在すべきシリコーン重合体成分が離型層の内部に含浸するためである。従来のシリコーン系離型フィルムとは異なり、本開示の離型コーティング組成物は、上述したように、成分(B)とシリコーンエマルジョン成分が共重合体になり、架橋網構造を形成するので、離型性を示す作用基が離型層の表面で内部に含浸せずに引き続き維持されることができ、これにより、優れた経時安定性を発揮することができる。 Typically, silicone-based release films increase their release strength by adding a silicone polymer component. However, if the content of the silicone polymer component exceeds 50 wt % based on the total weight of the entire composition, serious problems with stability over time occur. This is because, over time, the silicone polymer component that should be present on the surface of the release layer impregnates into the interior of the release layer. Unlike conventional silicone-based release films, the release coating composition of the present disclosure, as described above, copolymerizes component (B) and the silicone emulsion component to form a crosslinked network structure. This allows the functional groups that exhibit release properties to remain on the surface of the release layer without impregnating the interior, thereby demonstrating excellent stability over time.

一側面において、シリコーンエマルジョン成分は、成分(B)と結合して架橋網構造を形成し、軟らかさを付与できるものであれば、制限されない。例えば、シリコーンエマルジョン成分は、特に制限されないが、主鎖以外に側鎖を含まないことがある。 In one aspect, the silicone emulsion component is not particularly limited, as long as it can combine with component (B) to form a crosslinked network structure and impart softness. For example, the silicone emulsion component may not contain any side chains other than the main chain, although this is not particularly limited.

一実施例において、前記シリコーンエマルジョン成分は、ポリアルキレングリコール(例えば、ポリエチレングリコール、PEG)を含まないことがある。 In one embodiment, the silicone emulsion component may be free of polyalkylene glycol (e.g., polyethylene glycol, PEG).

一実施例において、前記シリコーンエマルジョン成分は、水酸基、ポリエーテル基及びポリエステル基を含まないことがある。 In one embodiment, the silicone emulsion component may be free of hydroxyl groups, polyether groups, and polyester groups.

一実施例において、前記シリコーンエマルジョン成分は、アルケニル基を含まないことがある。 In one embodiment, the silicone emulsion component may be free of alkenyl groups.

側鎖を含むシリコーンエマルジョンを用いる場合、離型物性が重剥離(TESA7475テープ基準200g以上)のみに限定されなければならず、これを含む組成物を用いたフィルムはMLCCのような重剥離領域でのみ使用が制限され得る。しかし、本開示において、前記シリコーンエマルジョン成分は、上述した通り、主鎖以外にポリアルキレングリコール、水酸基、ポリエーテル基、ポリエステル基、アルケニル基などの側鎖を含まないことによって、成分(B)による硬化を用いても既存のシリコーン系硬化を用いた場合のように、Si-CH成分で離型層の表面を形成できるので、MLCCのような重剥離用途だけではなく、軽剥離領域などの多様な用途にも活用が可能である。 When using a silicone emulsion containing a side chain, the release properties must be limited to heavy release (200 g or more based on TESA 7475 tape), and films using compositions containing this may be limited to use in heavy release areas such as MLCC. However, as described above, the silicone emulsion component in this disclosure does not contain side chains such as polyalkylene glycol, hydroxyl groups, polyether groups, polyester groups, or alkenyl groups other than the main chain. Therefore, even when cured with component (B), the surface of the release layer can be formed with the Si- CH3 component, just as when using existing silicone-based curing. Therefore, it can be used not only for heavy release applications such as MLCC, but also for a variety of applications such as light release areas.

例えば、シリコーンエマルジョン成分は、ポリジメチルシロキサン(PDMS)であり得るが、これに制限されない。例えば、シリコーンエマルジョン成分は、分岐型(branched)ポリジメチルシロキサンであり得るが、これに制限されない。 For example, the silicone emulsion component may be, but is not limited to, polydimethylsiloxane (PDMS). For example, the silicone emulsion component may be, but is not limited to, branched polydimethylsiloxane.

一実施例において、シリコーンエマルジョン成分のうちSi-Vi対Si-Hの比は1:1.5~1:2.5であり得る。例えば、シリコーンエマルジョン成分のうちSi-Vi対Si-Hの比は1:1.6~1:2.3であり得る。ここで、「Si-Vi」はシリコーン-ビニル基結合を意味し、Si-Hはシリコーン-水素結合を意味する。シリコーンエマルジョン成分のうちSi-Vi:Si-Hiの比が1:1.5未満であると、組成物の硬化時、硬化が不十分で残留接着率及び基材密着力が不良になり得る。シリコーンエマルジョン成分のうちSi-Vi:Si-Hiの比が1:2.5を超え、Si-Hの含量が過度に多くなる場合、Si-Hが他成分(例えば、水酸基など)と反応して、時間が経つほど剥離力が上がり、経時安定性が低下することがある。 In one embodiment, the ratio of Si-Vi to Si-H in the silicone emulsion components may be 1:1.5 to 1:2.5. For example, the ratio of Si-Vi to Si-H in the silicone emulsion components may be 1:1.6 to 1:2.3. Here, "Si-Vi" refers to a silicone-vinyl group bond, and "Si-H" refers to a silicone-hydrogen bond. If the Si-Vi:Si-Hi ratio in the silicone emulsion components is less than 1:1.5, the composition may not cure sufficiently during curing, resulting in poor residual adhesion and poor substrate adhesion. If the Si-Vi:Si-Hi ratio in the silicone emulsion components exceeds 1:2.5, resulting in an excessively high Si-H content, the Si-H may react with other components (e.g., hydroxyl groups), increasing release force over time and reducing stability over time.

一実施例において、シリコーンエマルジョン成分の含量は、組成物全体の総重量を基準に0.02~9重量%、0.02~8重量%、0.03~7重量%、0.04~6重量%、又は、0.05~6重量%であり得る。シリコーンエマルジョン成分を前記最大値を超えて過量に用いる場合、成分(B)が十分に硬化できず、硬化していないシリコーンエマルジョン成分又は成分(B)が離型層の表面に上がってくるようになり、離型フィルムのRub-off特性(即ち、離型層の基材フィルムに対する付着力又は密着力)が不良に示され得る。シリコーンエマルジョン成分を前記最小値未満で過度に少なく用いる場合、硬化反応による架橋網構造が十分に形成されないので、所望の剥離力又は経時安定性を達成できないことがある。 In one embodiment, the content of the silicone emulsion component may be 0.02 to 9 wt %, 0.02 to 8 wt %, 0.03 to 7 wt %, 0.04 to 6 wt %, or 0.05 to 6 wt %, based on the total weight of the entire composition. If the silicone emulsion component is used in an excessive amount exceeding the maximum value, component (B) may not cure sufficiently, and the uncured silicone emulsion component or component (B) may rise to the surface of the release layer, resulting in poor rub-off characteristics of the release film (i.e., the adhesive strength or cohesion of the release layer to the substrate film). If the silicone emulsion component is used too little, below the minimum value, a crosslinked network structure may not be sufficiently formed by the curing reaction, and the desired release strength or stability over time may not be achieved.

一実施例において、シリコーンエマルジョン成分は、金属触媒をさらに含み得る。例えば、前記金属触媒は、アルカリ金属触媒、アルカリ土類金属触媒、又は、希土類金属触媒であり得るが、これに制限されるわけではない。例えば、前記金属触媒は、白金触媒であり得るが、これに制限されるわけではない。 In one embodiment, the silicone emulsion component may further include a metal catalyst. For example, the metal catalyst may be, but is not limited to, an alkali metal catalyst, an alkaline earth metal catalyst, or a rare earth metal catalyst. For example, the metal catalyst may be, but is not limited to, a platinum catalyst.

一側面において、成分(B)とシリコーンエマルジョンの重量比は、固形分基準で100:10~100:900であり得、前記記載された上限及び下限値の間に存在する重量比であり得る。 In one aspect, the weight ratio of component (B) to the silicone emulsion may be 100:10 to 100:900 on a solids basis, and may be a weight ratio between the upper and lower limits described above.

6.酸触媒 6. Acid Catalyst

一側面において、酸触媒は、成分(B)の架橋反応又は成分(B)とシリコーンエマルジョン成分の架橋反応を触媒するものと知られているものであれば制限されず、これらを適宜選択して用いることができる。例えば、酸触媒は、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、イソプレンスルホン酸、カンファースルホン酸、ヘキサンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ノナンスルホン酸、デカンスルホン酸、ヘキサデカンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メラミンヨウ化亜鉛(melamine ZnI)、メラミントリスルホン酸(melamine trisulfonic acid;MTSA)、クメンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ノニルナフタレンスルホン酸、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、プロピルアシッドホスフェート、イソプロピルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、オクチルアシッドホスフェート、2-エチルヘキシルアシッドホスフェート、デシルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、ベヘニルアシッドホスフェート、フェニルアシッドホスフェート、ノニルフェニルアシッドホスフェート、シクロヘキシルアシッドホスフェート、フェノキシエチルアシッドホスフェート、アルコキシポリエチレングリコールアシッドホスフェート、ビスフェノールAアシッドホスフェート、ジメチルアシッドホスフェート、ジエチルアシッドホスフェート、ジプロピルアシッドホスフェート、ジイソプロピルアシッドホスフェート、ジブチルアシッドホスフェート、ジオクチルアシッドホスフェート、ジ2-エチルヘキシルアシッドホスフェート、ジラウリルアシッドホスフェート、ジステアリルアシッドホスフェート、ジフェニルアシッドホスフェート、ビスノニルフェニルアシッドホスフェートなどの有機酸類;スルホニウム塩、ベンゾチアゾリウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩などの熱酸発生剤を用いることができるが、これに制限されるわけではない。前記酸触媒成分は1種を単独で、又は、2種以上を組み合わせて用いることができる。 In one aspect, the acid catalyst is not limited as long as it is known to catalyze the crosslinking reaction of component (B) or the crosslinking reaction between component (B) and a silicone emulsion component, and can be appropriately selected and used. For example, the acid catalyst can be inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.; oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, isoprene sulfonic acid, camphorsulfonic acid, hexanesulfonic acid, octanesulfonic acid, nonanesulfonic acid, decane sulfonic acid, hexadecanesulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, benzenesulfonic acid, alkylbenzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, melamine zinc iodide (melamine ZnI 2 ), melamine trisulfonic acid (melamine trisulfonic acid), methyl ... acid; MTSA), cumenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, nonylnaphthalenesulfonic acid, methyl acid phosphate, ethyl acid phosphate, propyl acid phosphate, isopropyl acid phosphate, butyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, octyl acid phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, decyl acid phosphate, lauryl acid phosphate, stearyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, behenyl acid phosphate, phenyl acid phosphate, nonylphenyl acid phosphate, cyclohexyl acid phosphate, phenoxyethyl Examples of suitable acid catalyst components include, but are not limited to, organic acids such as bisphenol A acid phosphate, alkoxypolyethylene glycol acid phosphate, bisphenol A acid phosphate, dimethyl acid phosphate, diethyl acid phosphate, dipropyl acid phosphate, diisopropyl acid phosphate, dibutyl acid phosphate, dioctyl acid phosphate, di-2-ethylhexyl acid phosphate, dilauryl acid phosphate, distearyl acid phosphate, diphenyl acid phosphate, and bisnonylphenyl acid phosphate; and thermal acid generators such as sulfonium salts, benzothiazolium salts, ammonium salts, and phosphonium salts. The acid catalyst components may be used singly or in combination of two or more.

一側面において、成分(B)と酸触媒の重量比は100:5~100:30、100:10~100:20、又は、100:10~100:15であり得、前記記載された上限及び下限値の間に存在する重量比であり得る。酸触媒の含量が前記重量比の最小値より過度に少なく用いられる場合、硬化反応が十分に起きなくなり、最大値を超えて過量に用いられる場合、過硬化が発生し、2つの場合のいずれも経時安定性が不良になる結果が示され得る。従って、優れた経時安定性を達成するためには、成分(B)と酸触媒の重量比が前記範囲を満たすことがよい。 In one aspect, the weight ratio of component (B) to acid catalyst may be 100:5 to 100:30, 100:10 to 100:20, or 100:10 to 100:15, or may be a weight ratio between the upper and lower limits recited above. If the amount of acid catalyst used is too low below the minimum weight ratio, the curing reaction will not occur sufficiently. If an excessive amount is used above the maximum weight ratio, over-curing will occur. In both cases, poor stability over time may result. Therefore, to achieve excellent stability over time, it is best for the weight ratio of component (B) to acid catalyst to satisfy the above range.

7.溶媒 7. Solvents

一側面において、離型コーティング組成物は、水系離型コーティング組成物であり得る。一側面において、水系は水溶液又は水分散体を意味し得、組成物の溶媒成分が水単独であるか、下記に記載する水と有機溶剤の組合わせであるものを意味し得る。 In one aspect, the release coating composition may be a water-based release coating composition. In one aspect, water-based may refer to an aqueous solution or dispersion, and may refer to a composition in which the solvent component is water alone or a combination of water and an organic solvent, as described below.

一側面において、水系離型コーティング組成物は水系ベースであるので、離型層を形成させる場合、揮発性有機化合物(VOC)の排出量を根本的に低減させることができ、環境へのやさしさの要件を満たすことができる。また、水系帯電防止剤のような水系添加剤と混合して簡単に用いられることができ、1液型調液で離型フィルムの帯電防止能と離型性をいずれも実現できる長所がある。 In one aspect, because the aqueous release coating composition is water-based, it can drastically reduce volatile organic compound (VOC) emissions when forming a release layer, thereby meeting environmentally friendly requirements. It can also be easily used by mixing with aqueous additives such as aqueous antistatic agents, and has the advantage of being able to achieve both antistatic properties and releasability in the release film with a one-component formulation.

一側面において、離型コーティング組成物は、水系溶媒をさらに含み得る。前記水系溶媒は、水又は水と有機溶剤の組合わせであり得る。前記水と有機溶剤の組合比は、水:有機溶剤の重量比が50:50以上、60:40以上、70:30以上、80:20以上、85:15以上、90:10以上、95:5以上、又は、99:1以上であり得る。 In one aspect, the release coating composition may further comprise an aqueous solvent. The aqueous solvent may be water or a combination of water and an organic solvent. The weight ratio of water to organic solvent may be 50:50 or more, 60:40 or more, 70:30 or more, 80:20 or more, 85:15 or more, 90:10 or more, 95:5 or more, or 99:1 or more.

一側面において、有機溶剤は、離型フィルム分野で広く用いられている公知の有機溶剤であり得、水と相溶性が良い溶媒ならば特に制限されない。例えば、有機溶剤は、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ヘキサン、アセトン、酢酸エチル、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチルグリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ガンマ-ブチロラクトン、及びこれらの組合わせからなる群より選択された1つ以上であり得るが、これに制限されるわけではない。 In one aspect, the organic solvent may be a known organic solvent widely used in the field of release films, and is not particularly limited as long as it is a solvent that is compatible with water. For example, the organic solvent may be one or more selected from the group consisting of isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, hexane, acetone, ethyl acetate, ethylene glycol, propylene glycol, butyl glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, gamma-butyrolactone, and combinations thereof, but is not limited thereto.

8.その他成分 8. Other ingredients

一側面において、離型コーティング組成物は、達成しようとする離型層の物性(例:枠を変化させない範囲内で帯電防止剤、伝導性向上剤、pH調節剤、界面活性剤、及び防汚剤のうちの1つ以上をさらに含み得る。 In one aspect, the release coating composition may further include one or more of an antistatic agent, a conductivity enhancer, a pH adjuster, a surfactant, and an antifouling agent, provided that the desired physical properties (e.g., frame) of the release layer are not altered.

(1)帯電防止剤及び伝導性向上剤 (1) Antistatic agents and conductivity enhancers

本開示の一側面において、帯電防止剤は、離型層に帯電防止能を付与するだけでなく、異物の吸着を防止する効果を奏することができる。セラミックグリーンシート製造工程ではセラミックグリーンシートを切断及び裁断する工程が存在し、この時、セラミックグリーンシートは粒子の粒のようなビーズが集まっている形態であるので、グリーンシートを切断する過程でビーズ脱落現象が発生する。従って、帯電防止能は、離型フィルムがセラミックグリーンシートとともに切断される過程で静電気によるビーズ脱落現象を防止することができ、これにより、セラミックグリーンシート製造の工程性に寄与することができる。 In one aspect of the present disclosure, the antistatic agent not only imparts antistatic properties to the release layer, but also has the effect of preventing the adsorption of foreign matter. The ceramic green sheet manufacturing process includes a step of cutting and shredding the ceramic green sheet. During this step, the ceramic green sheet is in the form of a collection of beads like particle particles, so the beads fall off during the cutting process. Therefore, the antistatic property can prevent the beads from falling off due to static electricity during the process of cutting the release film together with the ceramic green sheet, thereby contributing to the processability of the ceramic green sheet manufacturing process.

一側面において、帯電防止剤は、離型フィルム分野で広く用いられている公知の帯電防止剤であり得、特に制限されない。例えば、帯電防止剤は、PEDOT(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene))、PEDOT:PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate)、ポリアニリン、ポリピロール、第4級アンモニウム塩、スルホン酸塩、及びリン酸塩からなる群より選択されたものであり得るが、これに制限されるわけではない。 In one aspect, the antistatic agent may be a known antistatic agent widely used in the field of release films, and is not particularly limited. For example, the antistatic agent may be selected from the group consisting of PEDOT (Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), PEDOT:PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate), polyaniline, polypyrrole, quaternary ammonium salts, sulfonates, and phosphates, but is not limited thereto.

一側面において、帯電防止剤は、固形分である帯電防止剤の成分を含有する水溶液の形態で離型コーティング組成物に含まれ得(固形分含量は1.0%~2.0%又は1.5%~2.0%であり得る)、この時、帯電防止剤を含有する水溶液の含量は組成物全体の総重量を基準に約0.1~約30重量%、約1~約25重量%、又は、約5~約20重量%であり得、前記記載された上限値又は下限値の間に存在する含量であり得る。帯電防止剤の含量が前記最大値を超えて過量に用いられる場合、離型層の外観に欠点を誘発し得、このような欠点はブルースポット(bluespot)と見られ得る。 In one aspect, the antistatic agent may be included in the release coating composition in the form of an aqueous solution containing the antistatic agent component as a solid (the solid content may be 1.0% to 2.0%, or 1.5% to 2.0%). In this case, the content of the aqueous solution containing the antistatic agent may be about 0.1 to about 30 wt %, about 1 to about 25 wt %, or about 5 to about 20 wt %, based on the total weight of the entire composition, and may be a content between the upper and lower limits recited above. If the content of the antistatic agent is used in an excessive amount exceeding the maximum value, it may cause defects in the appearance of the release layer, and such defects may be seen as blue spots.

一側面において、帯電防止剤は、前記含量で含まれ、離型層に約10~1010ohm/sqの表面抵抗を付与することができる。 In one aspect, the antistatic agent is present in the above amount, and can impart a surface resistivity of about 10 4 to 10 10 ohm/sq to the release layer.

一側面において、離型コーティング組成物は、伝導性向上剤をさらに含んで所望の水準の表面抵抗、即ち、帯電防止能を達成することができる。このような伝導性向上剤は、帯電防止剤の性能を補助する役割をすることができ、伝導性向上剤を用いるようになれば、さらに少ない量の帯電防止剤を用いても所望の離型層の表面抵抗の水準を達成することができる。 In one aspect, the release coating composition can further include a conductivity enhancer to achieve the desired level of surface resistance, i.e., antistatic performance. Such a conductivity enhancer can complement the performance of the antistatic agent, and by using a conductivity enhancer, the desired level of surface resistance of the release layer can be achieved even with a smaller amount of antistatic agent.

一側面において、伝導性向上剤の含量は、組成物全体の総重量を基準に約1~20重量%、約1~15重量%、約1~10重量%、約1~8重量%、約1.5~8重量%、約1.5~6重量%、約2~6重量%、約2.5~6重量%、約3~6重量%、約4~6重量%であり得る。伝導性向上剤の含量が前記最大値を超えて過量に用いられる場合、離型層の硬化を妨げることがあり、離型層の外観及びRub-off特性が所望の水準に達成されないことがあり、伝導性向上剤の含量が前記最小値未満で過度に少なく用いる場合、その効果が不備なこともある。 In one aspect, the content of the conductivity enhancer may be about 1 to 20 wt %, about 1 to 15 wt %, about 1 to 10 wt %, about 1 to 8 wt %, about 1.5 to 8 wt %, about 1.5 to 6 wt %, about 2 to 6 wt %, about 2.5 to 6 wt %, about 3 to 6 wt %, or about 4 to 6 wt %, based on the total weight of the entire composition. If the content of the conductivity enhancer is used in an excessive amount exceeding the maximum value, it may hinder curing of the release layer, and the appearance and rub-off characteristics of the release layer may not be achieved to the desired level. If the content of the conductivity enhancer is used too little, below the minimum value, the effect may be insufficient.

一側面において、伝導性向上剤は、従来、離型フィルム分野で広く用いられている公知の伝導性向上剤であり得、特に制限されない。例えば、伝導性向上剤は、エチレングリコール、ジメチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、プロピレングリコール、ブチルグリコール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ガンマ-ブチロラクトン、スルホラン、ジメチルカーボネート、及びソルビトールからなる群より選択されたものであり得るが、これに制限されるわけではない。 In one aspect, the conductivity enhancer may be a known conductivity enhancer that has been widely used in the field of release films, and is not particularly limited. For example, the conductivity enhancer may be selected from the group consisting of ethylene glycol, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, propylene glycol, butyl glycol, dipropylene glycol dimethyl ether, gamma-butyrolactone, sulfolane, dimethyl carbonate, and sorbitol, but is not limited thereto.

(2)pH調節剤 (2) pH adjuster

本開示の一側面において、pH調節剤は、組成物全体のpHを所望の水準に調節することができる。離型コーティング組成物には酸性を示す帯電防止剤が含まれ得、組成物が酸性を帯びるようになると、界面活性剤又はシリコーンエマルジョン成分のような中性又は塩基性成分が十分に機能できないこともあるので、この場合、pH調節が必要である。離型コーティング組成物全体のpHが調節されない場合、組成物自体の経時安定性が急激に悪くなることがあり、組成物を製造した後、経過時間に応じて離型層の外観が劣悪になる現象が発生し得る。例えば、離型コーティング組成物を製造し、直ちに基材フィルムに塗布して離型層を形成させた場合には、良好であった外観が、製造後約4時間が経過して離型層を形成させた場合には、離型層の外観がまだらになる現象があらわれることがある。 In one aspect of the present disclosure, the pH adjuster can adjust the pH of the entire composition to a desired level. The release coating composition may contain an acidic antistatic agent. When the composition becomes acidic, neutral or basic components such as surfactants or silicone emulsion components may not function properly, making pH adjustment necessary. If the pH of the entire release coating composition is not adjusted, the stability of the composition over time may rapidly deteriorate, and the appearance of the release layer may deteriorate over time after preparation. For example, if a release coating composition is prepared and immediately applied to a substrate film to form a release layer, the appearance may be good. However, if the release layer is formed approximately four hours after preparation, the appearance of the release layer may become mottled.

一側面において、pH調節剤は、離型フィルム分野で広く知られている公知のpH調節剤であり得、特に制限されない。例えば、pH調節剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム及びアンモニア水からなる群より選択された1つ以上であり得るが、これに制限されない。pH調節剤は、塩基性pH調節剤であり得る。 In one aspect, the pH adjuster may be a known pH adjuster widely known in the field of release films, and is not particularly limited. For example, the pH adjuster may be one or more selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, and aqueous ammonia, but is not limited thereto. The pH adjuster may be a basic pH adjuster.

一側面において、pH調節剤の含量は、組成物全体の総重量を基準に0.05~0.3重量%、0.1~0.3重量%、又は、0.15~0.25重量%であり得、前記記載された上限値又は下限値の間に存在する含量であり得る。pH調節剤が前記最大値を超えて過量に用いられる場合、離型層の硬化を妨げることがある。 In one aspect, the content of the pH adjuster may be 0.05 to 0.3 wt %, 0.1 to 0.3 wt %, or 0.15 to 0.25 wt %, based on the total weight of the entire composition, and may be a content between the upper and lower limits recited above. If the pH adjuster is used in an excessive amount exceeding the maximum value, it may interfere with curing of the release layer.

(3)界面活性剤 (3) Surfactants

本開示の一側面において、界面活性剤は、離型コーティング組成物のウェティング(wetting)性又は基材フィルムに対する塗布性を向上させ、成分(B)とシリコーンエマルジョン成分の相溶性を向上させるものであり得る。一側面において、水系離型コーティング組成物において水を単独溶媒で用いる場合には、互いに異なる2種以上の界面活性剤を用いることができる。 In one aspect of the present disclosure, the surfactant can improve the wetting properties of the release coating composition or its applicability to a substrate film, and can also improve the compatibility between component (B) and the silicone emulsion component. In one aspect, when water is used as the sole solvent in the aqueous release coating composition, two or more different surfactants can be used.

一側面において、界面活性剤は、離型フィルム分野で広く知られている公知の界面活性剤として表面張力を低くすることができる成分であり得、特に制限されない。例えば、界面活性剤は、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、変性シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、又は、これらの組合わせであり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the surfactant may be a component capable of lowering surface tension, such as a known surfactant widely known in the field of release films, and is not particularly limited. For example, the surfactant may be, but is not limited to, a cationic surfactant, an anionic surfactant, an amphoteric surfactant, a nonionic surfactant, a silicone surfactant, a modified silicone surfactant, a fluorine-containing surfactant, or a combination thereof.

一側面において、カチオン系界面活性剤は、例えば、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、又は、アルキルベンジルジメチルアンモニウム塩であり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the cationic surfactant may be, for example, but not limited to, an alkyltrimethylammonium salt, a dialkyldimethylammonium salt, or an alkylbenzyldimethylammonium salt.

一側面において、アニオン系界面活性剤は、例えば、脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルエーテルスルホン酸エステル塩、アルキルポリオキシエチレンスルホン酸塩、又はモノアルキルリン酸塩類であり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the anionic surfactant may be, for example, but not limited to, a fatty acid salt, an alkylbenzene sulfonate, an alkyl sulfonate, an alkyl ether sulfonate ester salt, an alkyl polyoxyethylene sulfonate, or a monoalkyl phosphate.

一側面において、両性界面活性剤は、例えば、アルキルジメチルアミンオキサイド、又は、アルキルカルボキシベタインであり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the amphoteric surfactant may be, for example, but not limited to, alkyldimethylamine oxide or alkylcarboxybetaine.

一側面において、ノニオン系界面活性剤は、例えば、脂肪酸エタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ソルビトール、ソルビタン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、又は、ポリオキシアルキレン変性シリコーン類であり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the nonionic surfactant may be, for example, fatty acid ethanolamide, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, sorbitol, sorbitan, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, propylene glycol fatty acid ester, or polyoxyalkylene-modified silicone, but is not limited to these.

一側面において、シリコーン系界面活性剤は、例えば、ポリエーテル変性シリコーン、又は、ポリグリセリン変性シリコーンなどであり得るが、これに制限されない。このような変性シリコーンの構造は、側鎖変形型、両末端変成型(ABA型)、片末端変成型(AB型)、両末端側鎖変成型、直鎖ブロック型(ABn型)、分岐型などに分類され得るが、これらのうちどの構造の変性シリコーンでも用いられることができる。 In one aspect, the silicone surfactant may be, for example, a polyether-modified silicone or a polyglycerin-modified silicone, but is not limited to these. The structure of such modified silicones may be classified into side chain modified type, both end modified type (ABA type), one end modified type (AB type), both end side chain modified type, linear block type (ABn type), branched type, etc., and modified silicones of any of these structures may be used.

一側面において、フッ素系界面活性剤は、フッ素、フッ素基含有シラン系化合物、及びフッ素基含有有機化合物からなる群より選択された1つ以上であり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the fluorosurfactant may be one or more selected from the group consisting of fluorine, fluorine-containing silane compounds, and fluorine-containing organic compounds, but is not limited to these.

一側面において、界面活性剤の含量は、組成物全体の総重量を基準に0.05~0.2重量%、0.1~0.2重量%、又は、0.15~0.2重量%であり得、前記記載された上限値又は下限値の間に存在する含量であり得る。 In one aspect, the surfactant content may be 0.05 to 0.2 wt %, 0.1 to 0.2 wt %, or 0.15 to 0.2 wt %, based on the total weight of the entire composition, and may be a content between the upper and lower limits recited above.

(4)防汚剤 (4) Antifouling agent

本開示の一側面において、防汚剤は、離型層の表面エネルギーを調節し、防汚性を付与することができる。基材フィルムと離型層間の表面エネルギー差が少ない場合、基材フィルムに対する離型層の湿潤性及び剥離性が低下することがあるが、防汚剤は離型層の表面エネルギーを低くしてこれを防止する効果を奏することができる。また、本開示の離型コーティング組成物に含まれる成分(B)は、スリップ性(滑る特性)がほとんどないので、防汚剤は離型層にスリップ性を付与することができる。 In one aspect of the present disclosure, the antifouling agent can adjust the surface energy of the release layer and impart antifouling properties. If the difference in surface energy between the substrate film and the release layer is small, the wettability and peelability of the release layer relative to the substrate film may decrease; however, the antifouling agent can prevent this by lowering the surface energy of the release layer. Furthermore, because component (B) contained in the release coating composition of the present disclosure has almost no slip properties (sliding characteristics), the antifouling agent can impart slip properties to the release layer.

一側面において、防汚剤は、フッ素、フッ素基含有シラン系化合物、及びフッ素基含有有機化合物からなる群より選択された1つ以上であり得るが、これに制限されない。 In one aspect, the antifouling agent may be one or more selected from the group consisting of fluorine, fluorine-containing silane compounds, and fluorine-containing organic compounds, but is not limited to these.

例えば、前記防汚剤は、自己乳化型シリコーンを含まないことがある。自己乳化型シリコーンは水に十分に溶解しないので、これを含む場合、水系溶剤としての使用が難しく、本開示による離型コーティング組成物は、シリコーンエマルジョン成分を含む代わりに、自己乳化型シリコーンを含まないことがある。 For example, the antifouling agent may not contain self-emulsifying silicone. Because self-emulsifying silicone is not sufficiently soluble in water, if it contains such a compound, it may be difficult to use it as a water-based solvent. Therefore, the release coating composition according to the present disclosure may contain a silicone emulsion component but may not contain self-emulsifying silicone.

一側面において、防汚剤の含量は、組成物全体の総重量を基準に0.1~0.3重量%、0.15~0.25重量%、又は、0.2~0.25重量%であり得、前記記載された上限値又は下限値の間に存在する含量であり得る。防汚剤が前記最小値より過度に少なく用いられる場合、離型フィルムの剥離時にシミ跡が残存する問題が発生し得、離型フィルムをグリーンシートから剥がした後、グリーンシートスラリー粒子が離型層に残存する問題が発生し得る。 In one aspect, the content of the antifouling agent may be 0.1 to 0.3 wt %, 0.15 to 0.25 wt %, or 0.2 to 0.25 wt %, based on the total weight of the entire composition, and may be a content between the upper and lower limits recited above. If the amount of antifouling agent is used in an amount that is excessively less than the minimum value, problems may occur in which stains remain when the release film is peeled off, and problems may occur in which green sheet slurry particles remain on the release layer after the release film is peeled off from the green sheet.

[実施例] [Example]

1.離型コーティング組成物の製造 1. Preparation of release coating composition

下記成分を混合して離型コーティング組成物を製造した。ただし、シリコーンエマルジョン成分の含量は、表1に従い、成分(B)100重量部に対して互いに異なる含量で製造した。 The following components were mixed to prepare a release coating composition. However, the content of the silicone emulsion component was varied relative to 100 parts by weight of component (B) as shown in Table 1.

- 成分(B)(メラミン成分)(メーカー:SANWA CHEMICAL、製品名-NIKALAC MW12LF)0.1~3.0重量% - Component (B) (melamine component) (Manufacturer: SANWA CHEMICAL, Product Name: NIKALAC MW12LF) 0.1-3.0% by weight

- シリコーンエマルジョン成分(PDMS、メーカー:DOW chemical、製品名:Sol-off 7946 Emulsion)0.01~26.4重量% - Silicone emulsion component (PDMS, manufacturer: DOW Chemical, product name: Sol-off 7946 Emulsion) 0.01 to 26.4% by weight

- 酸触媒(メラミン触媒)(メーカー:Allnex社、製品名:Cymel(登録商標)4040 Catalyst)0.1~3.0重量% - Acid catalyst (melamine catalyst) (Manufacturer: Allnex, Product name: Cymel® 4040 Catalyst) 0.1 to 3.0% by weight

- 白金触媒(メーカー:DOW chemical、製品名:Syl-off 7924)0.01~24.0重量% - Platinum catalyst (manufacturer: DOW Chemical, product name: Syl-off 7924) 0.01 to 24.0% by weight

- PEDOT水溶液(メーカー:ヘラウス社、製品名:Clevios PT2)0.5~20重量% - PEDOT aqueous solution (manufacturer: Heraus, product name: Clevios PT2) 0.5 to 20% by weight

- 9%のアンモニア水(メーカー:トクサン薬品工業(株))0.1~0.5重量% - 9% aqueous ammonia (manufacturer: Tokusan Pharmaceutical Co., Ltd.) 0.1-0.5% by weight

- 界面活性剤(メーカー:BYK社、製品名:BYK348)0.01~0.3重量% - Surfactant (manufacturer: BYK, product name: BYK348) 0.01 to 0.3% by weight

- 蒸溜水残量 - Distilled water remaining

2.離型フィルムの製造 2. Release film manufacturing

このように製造した離型コーティング組成物を厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート基材フィルム(メーカー:東レ尖端素材、製品名:XD500)の少なくとも1面に、バーコータを用いて塗布した後、熱風乾燥器で150℃の温度で30秒間加熱乾燥して硬化させ、基材上に離型層が設けられた離型フィルムを製造した。 The release coating composition thus produced was applied to at least one side of a 50 μm thick polyethylene terephthalate substrate film (manufacturer: Toray Advanced Materials, product name: XD500) using a bar coater, and then cured by heating and drying in a hot air dryer at 150°C for 30 seconds, producing a release film with a release layer provided on the substrate.

[比較例] [Comparative Example]

1.離型コーティング組成物の製造 1. Preparation of release coating composition

実施例と同一に離型コーティング組成物を製造するものの、比較例1の場合、シリコーンエマルジョン成分を除き、比較例2~5の場合、それぞれ実施例1、4、6、7と同一の含量のシリコーンエマルジョン成分を含み、メラミン成分を除いた。比較例6及び7は、シリコーンエマルジョン成分を含む代わりに、PEG系シリコーンエマルジョン成分((メーカー:シリコーンDNA、製品名:SD-3667))を表1に従ってメラミン成分100重量部に対して互いに異なる含量で含んだ。 The release coating compositions were prepared in the same manner as in the Examples, except that in Comparative Example 1 the silicone emulsion component was omitted, and in Comparative Examples 2 to 5 the silicone emulsion component was included in the same amount as in Examples 1, 4, 6, and 7, respectively, but the melamine component was omitted. In Comparative Examples 6 and 7, instead of including the silicone emulsion component, a PEG-based silicone emulsion component (manufacturer: Silicone DNA, product name: SD-3667) was included in different amounts per 100 parts by weight of the melamine component, as shown in Table 1.

2.離型フィルムの製造 2. Release film manufacturing

前記実施例と同一の方法で比較例の離型コーティング組成物を用いて、離型層が設けられた離型フィルムを製造した。 A release film provided with a release layer was prepared using the comparative release coating composition in the same manner as in the previous example.

[実験例1]グリーンシート剥離力の測定及び経時安定性の測定 [Experimental Example 1] Measurement of green sheet peel strength and stability over time

チタン酸バリウム(BaTiO;堺化学工業社製、製品名:BT-03)50質量部、ポリビニルブチラール(積水化学工業社製、製品名:エスレックB・KBM-2)5質量部、及びフタル酸ジオクチル(関東化学社製、製品名:フタル酸ジオクチル鹿1級)2質量部に、トルエン69質量部及びエタノール46質量部を添加し、ボールミルで混合分散させてセラミックスラリーを製造した。 50 parts by mass of barium titanate (BaTiO 3 ; manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product name: BT-03), 5 parts by mass of polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., product name: S-LEC B·KBM-2), and 2 parts by mass of dioctyl phthalate (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., product name: Dioctyl Phthalate Grade 1) were added to 69 parts by mass of toluene and 46 parts by mass of ethanol, and the mixture was mixed and dispersed in a ball mill to produce a ceramic slurry.

実施例及び比較例において、製造後、常温48時間保管した離型フィルムを、離型層の表面にアプリケーターを用いて前記セラミックスラリーを均一に塗工した。その後、乾燥器で80℃で1分間乾燥させた。最終的に、離型フィルム上に厚さが3μmであるセラミックグリーンシートを得、セラミックグリーンシートが付着された離型フィルムを製造した。 In the examples and comparative examples, the release films were stored at room temperature for 48 hours after production, and the ceramic slurry was then uniformly applied to the surface of the release layer using an applicator. The films were then dried in a dryer at 80°C for 1 minute. Finally, a ceramic green sheet with a thickness of 3 μm was obtained on the release film, and a release film with a ceramic green sheet attached was manufactured.

セラミックグリーンシートが付着された離型フィルムを、室温23℃、湿度50%の条件下で24時間及び90日間保管した。その後、セラミックグリーンシートで離型フィルムとは反対側の面にアクリル粘着テープ(日東電工社製、商品名:31Bテープ)を接着させ、その状態で25mm幅に裁断し、これを測定サンプルにした。 The release film with the ceramic green sheet attached was stored at a room temperature of 23°C and a humidity of 50% for 24 hours and 90 days. After that, acrylic adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Corporation, product name: 31B tape) was adhered to the side of the ceramic green sheet opposite the release film, and the sheet was cut to a width of 25 mm to prepare the measurement sample.

このような測定サンプルの粘着テープ側を平板に固定させた後、引張試験機(ChemInstrument社のAR-1000機器)を用いて90°剥離角度、500mm/分の剥離速度でセラミックグリーンシートから剥離フィルムを剥がして、剥離力(gf/25mm)を測定した。5回測定した結果の平均値を表1に示した。 The adhesive tape side of such a measurement sample was fixed to a flat plate, and then the release film was peeled off from the ceramic green sheet using a tensile tester (ChemInstrument's AR-1000) at a 90° peel angle and a peel rate of 500 mm/min to measure the peel force (gf/25 mm). The average value of the results of five measurements is shown in Table 1.

[実験例2]テープ剥離力の測定 [Experimental Example 2] Tape Peel Force Measurement

本開示の技術分野で広く用いられている標準テープであるTESA7475テープ(ドイツTESA社製)を用いて、前記実施例及び比較例で製造した離型コーティング組成物を塗布して製造された離型フィルムの剥離力を評価した。 The release strength of the release films prepared by applying the release coating compositions prepared in the examples and comparative examples was evaluated using TESA 7475 tape (manufactured by TESA, Germany), a standard tape widely used in the technical field of the present disclosure.

2kgローラで離型層の離型コーティング面に標準テープであるTESA7475テープを付着し、常温で20分経過後又は常温で24時間経過後の剥離時の剥離力を測定した。剥離力の測定はChemInstrument社のAR-1000機器を用いて180°剥離角度、12in/分の剥離速度で5回測定してその平均値を求めた。 Standard TESA 7475 tape was applied to the release coating surface of the release layer using a 2 kg roller, and the peel force was measured after 20 minutes at room temperature or after 24 hours at room temperature. The peel force was measured five times using a ChemInstrument AR-1000 device at a 180° peel angle and a peel speed of 12 in/min, and the average value was calculated.

[実験例3]シリコーン含量の測定 [Experimental Example 3] Silicone content measurement

X線蛍光分析器(XRF)(OXFORD社製、製品名:LAB X-3500)を用いて、前記実施例及び比較例で製造された離型フィルムの離型層でシリコーン含量を測定した。 The silicone content in the release layers of the release films produced in the above examples and comparative examples was measured using an X-ray fluorescence analyzer (XRF) (manufactured by OXFORD, product name: LAB X-3500).

[実験例4]残留接着率の測定 [Experimental Example 4] Measurement of residual adhesion rate

前記実施例及び比較例で製造された離型フィルムの測定用サンプルを25℃、65%RHで24時間保管後、離型コーティング面に標準テープであるNitto31Bテープを張った後、このサンプルを常温で20g/cmの荷重で24時間圧着した。離型コーティング面に接着したテープを汚染なく回収後に表面が平坦できれいなポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム面に接着した後、2kgのテープローラで1回往復圧着させた後、剥離力を測定した。 The release film measurement samples prepared in the examples and comparative examples were stored at 25°C and 65% RH for 24 hours, and then a standard Nitto 31B tape was attached to the release coating surface and the sample was pressed at room temperature with a load of 20 g/ cm for 24 hours. The tape attached to the release coating surface was recovered without contamination and then attached to a polyethylene terephthalate (PET) film surface with a flat and clean surface. The tape was pressed back and forth once with a 2 kg tape roller, and the peel force was measured.

比較のため、使用したことのないNitto31Bテープを表面が平坦できれいなPETフィルム面に接着した後、2kgのテープローラで1回往復圧着させた後、剥離力を測定した。 For comparison, a new Nitto 31B tape was adhered to a flat, clean PET film surface, and then pressed back and forth once with a 2 kg tape roller, after which the peel force was measured.

剥離力は、下記の通り測定し、それから式1によって残留接着率を算出した。 The peel force was measured as follows, and the residual adhesion rate was calculated using Equation 1.

測定機器:ChemInstrument社のAR-1000機器 Measuring equipment: ChemInstrument AR-1000 instrument

測定方法:180°剥離角度、剥離速度30mm/分 Measurement method: 180° peel angle, peel speed 30 mm/min

<数1> <Math 1>

残留接着率(%)=[離型層の表面に接着させた後、剥がした接着テープの剥離力/離型層の表面に接触させなかった接着テープの剥離力]×100 Residual adhesion rate (%) = [peel strength of adhesive tape adhered to the surface of a release layer and then peeled off / peel strength of adhesive tape not in contact with the surface of a release layer] x 100

[実験例5]表面エネルギーの測定 [Experimental Example 5] Surface Energy Measurement

前記実施例及び比較例で製造された離型フィルムの離型コーティング面に接触角測定機(KRUSS社製、製品名:DSA-100)を用いて蒸溜水及びヨウ化メチレン(diiodomethane)を落としてそれぞれの接触角を測定した後、測定された接触角値をOwens-Wendtモデルに代入して表面エネルギーを計算した。 Distilled water and methylene iodide were dropped onto the release coating surface of the release films prepared in the examples and comparative examples using a contact angle measuring device (manufactured by KRUSS, product name: DSA-100) to measure the contact angle for each. The measured contact angle values were then substituted into the Owens-Wendt model to calculate the surface energy.

[実験例6]Rub-offテスト [Experimental Example 6] Rub-off test

親指で力を入れて、前記実施例及び比較例で製造された離型フィルムの離型層を10回往復してこすった後の離型層の表面が変化する程度を肉眼で観察した。その結果、Rub-off特性を次の通り評価した。 The release layers of the release films manufactured in the above examples and comparative examples were rubbed back and forth with a thumb 10 times, and the degree of change in the surface of the release layer was then observed with the naked eye. As a result, the rub-off characteristics were evaluated as follows:

◎:評価後に変化がない場合 ◎: No change after evaluation

○:微細にこすれるが、使用上の問題はない場合 ○: There is slight rubbing, but no problems with use.

△:離型層の表面が白くなった場合 △: The release layer surface has turned white.

X:離型層が剥がれ落ちた場合 X: If the release layer peels off

前記実験例により得られた結果を下記表1に記載した。 The results obtained from the above experimental example are listed in Table 1 below.

表1の結果によると、本開示の一側面による離型コーティング組成物を用いて得られた離型フィルムは、比較例を用いた場合に比べて、優れた残留接着率、Rub-off特性を示すと同時に、多様な範囲のテープ常温1日剥離力を達成した。従って、多様な産業分野で活用され得る長所を有することができる。また、優れた残留接着率及びRub-off特性を通じて、低温硬化が可能であることを確認することができる。従来、当該技術分野で用いられるシリコーン系離型コーティング組成物を含む離型フィルムである比較例2~5の場合、残留接着率、表面エネルギーが良くなく、Rub-off特性が非常に劣悪であった。即ち、シリコーンエマルジョンだけでは残留接着率が低く、Rub-off特性が良くないので、低温での硬化が難しかった。一方、実施例では、メラミン成分とシリコーンエマルジョン成分の組合わせを通じて、不十分な硬化力を向上させながらも、シリコーンエマルジョンによって離型性を高めることができるが、これは、シリコーンエマルジョンは分子量が大きく、反応サイトが分子の両末端1つずつを基本として2つ~3つで、低温硬化が難しい一方、メラミンは単量体の分子量が低く、最大6つの反応サイトを有することができるため、反応性が高いので、既存のシリコーン系離型コーティング組成物で達成し難かった優れたRub-off特性を達成することができた。 As shown in Table 1, the release film obtained using the release coating composition according to one aspect of the present disclosure exhibited superior residual adhesion and rub-off properties compared to the comparative example, while also achieving a wide range of room temperature one-day tape peel strength. Therefore, it has the advantage of being useful in a variety of industrial fields. Furthermore, its excellent residual adhesion and rub-off properties confirm that low-temperature curing is possible. Comparative Examples 2 to 5, which are release films containing silicone-based release coating compositions conventionally used in the art, exhibited poor residual adhesion and surface energy, and very poor rub-off properties. In other words, silicone emulsion alone exhibited low residual adhesion and poor rub-off properties, making low-temperature curing difficult. Meanwhile, in the examples, the combination of melamine and silicone emulsion components improves insufficient curing power while enhancing release properties through the silicone emulsion. This is because silicone emulsions have a large molecular weight and typically have two to three reactive sites, one at each end of the molecule, making low-temperature curing difficult. Meanwhile, melamine has a low molecular weight monomer and can have up to six reactive sites, making it highly reactive. This allows for excellent rub-off properties that were difficult to achieve with existing silicone-based release coating compositions.

本開示の一側面による実施例は、製造後90日のグリーンシートで剥離力を測定した時にも、製造後1日目とほぼ類似のグリーンシート剥離力を示し、経時安定性に非常に優れた特性を示した。 When the peel strength of a green sheet according to one aspect of the present disclosure was measured 90 days after production, it exhibited a peel strength that was nearly the same as that measured on the first day after production, demonstrating excellent stability over time.

また、本開示の一側面による実施例は、少なくとも94%以上の残留接着率を示すことを確認した。 Furthermore, it was confirmed that examples according to one aspect of the present disclosure exhibit a residual adhesion rate of at least 94% or more.

[実験例7]FT-IRスペクトルの測定 [Experimental Example 7] FT-IR Spectroscopy

実施例1の離型コーティング組成物及び従来の自己乳化型シリコーンを含むシリコーン系離型コーティング組成物で製造された離型層でのFT-IRスペクトルを測定した。具体的には、Bruker社のVERTEX70機器を用い、実施例と比較例の離型コーティング組成物をガラス板に塗布し、熱風乾燥器で150℃温度で30秒間加熱乾燥して硬化させた後、セラミックナイフでコーティング層を0.1g採取して測定機器のATR法でスペクトルを測定した。FT-IRスペクトル測定結果は図3に示した。 FT-IR spectra were measured for release layers prepared using the release coating composition of Example 1 and a conventional silicone-based release coating composition containing a self-emulsifying silicone. Specifically, using a Bruker VERTEX 70 device, the release coating compositions of the example and comparative examples were applied to a glass plate and cured by heating and drying in a hot air oven at 150°C for 30 seconds. 0.1 g of the coating layer was then sampled with a ceramic knife and the spectrum was measured using the ATR method on the measuring device. The FT-IR spectrum measurement results are shown in Figure 3.

図3によると、本開示の離型層は、約1020cm-1、約1090cm-1のSi-O伸縮吸収帯と約800cm-1のSi-C伸縮吸収帯の影響で当該領域帯が高い吸収ピーク強度を示すことを確認することができる。このようなピーク強度を通じて、前記離型層のうちPDMSに由来した成分が含まれたと解釈することができる。 3, the release layer of the present disclosure exhibits high absorption peak intensities in these regions due to the influence of the Si—O stretching absorption bands at about 1020 cm −1 and about 1090 cm −1 and the Si—C stretching absorption band at about 800 cm −1 . These peak intensities can be interpreted as indicating the presence of components derived from PDMS in the release layer.

Claims (15)

基材フィルム;及び前記基材フィルムの少なくとも一面に離型コーティング組成物が塗布されて形成された離型層;を含み、
前記離型コーティング組成物はメラミン成分及びシリコーンエマルジョン成分を含み、前記シリコーンエマルジョン成分は側鎖を含まず、
前記離型層の表面から厚さ方向に飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)を用いて測定したデプスプロファイルのうちNHのイオン強度曲線におけるNHイオンの最大カウント数と、離型層の表面でのNHイオンのカウント数、離型層と基材フィルムの境界でのNHイオンのカウント数をそれぞれINH_max、INH_t、INH_bとしたとき、
NH_t/INH_maxの比が0.90以下であり、INH_t>INH_bである、離型フィルム。
a base film; and a release layer formed by applying a release coating composition to at least one surface of the base film;
the release coating composition comprises a melamine component and a silicone emulsion component, the silicone emulsion component does not comprise a side chain;
In a depth profile measured from the surface of the release layer in the thickness direction using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS), the maximum count number of NH - ions in the NH - ion intensity curve, the count number of NH - ions at the surface of the release layer, and the count number of NH - ions at the boundary between the release layer and the substrate film are defined as I NH_max , I NH_t , and I NH_b , respectively.
A release film, wherein the ratio of I NH_t /I NH_max is 0.90 or less, and I NH_t >I NH_b .
前記NHのイオン強度曲線は、変曲点を含む、請求項1に記載の離型フィルム。 2. The release film according to claim 1, wherein the NH 3 - ionic strength curve includes an inflection point. 前記NHのイオン強度曲線は、窪んだ(concave)形状を有する、請求項1に記載の離型フィルム。 2. The release film according to claim 1, wherein the NH 3 - ionic strength curve has a concave shape. 記基材フィルムはポリエチレンテレフタレート重合体を含み、前記離型層は、Si、S、C 、及びC イオンのうちの1つ以上をさらに含む、請求項1に記載の離型フィルム。 10. The release film of claim 1, wherein the substrate film comprises polyethylene terephthalate polymer and the release layer further comprises one or more of Si , S , C 7 H 5 O 2 , and C 3 H 5 N 5 ions. 前記離型層は、Siイオン及びC イオンを含み、
前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、Siのイオン強度は減少し、C のイオン強度は増加し、
前記離型層のうち前記SiイオンとC イオンのイオン強度が同一の地点を含む、請求項4に記載の離型フィルム。
the release layer comprises Si - ions and C7H5O2 - ions ;
In a depth profile measured by TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, the ion intensity of Si decreased and the ion intensity of C 7 H 5 O 2 increased.
5. The release film according to claim 4, wherein the release layer includes a portion where the ionic strength of the Si ions and the ionic strength of the C 7 H 5 O 2 ions are the same.
前記離型層は、Sイオンを含み、
前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、Sのイオン強度曲線は変曲点を含む、請求項4に記載の離型フィルム。
the release layer contains S - ions,
5. The release film according to claim 4, wherein in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, an S ion intensity curve includes an inflection point.
前記Sのイオン強度曲線は、窪んだ(concave)形状を有する、請求項6に記載の離型フィルム。 7. The release film according to claim 6, wherein the S.sub.2- ionic strength curve has a concave shape. 前記離型層は、C イオンを含み、
前記離型層の表面から厚さ方向にTOF-SIMSを用いて測定したデプスプロファイルにおいて、離型層の表面に隣接した位置でC のイオン強度は減少する、請求項4に記載の離型フィルム。
the release layer contains C 3 H 5 N 5 - ions;
5. The release film according to claim 4, wherein in a depth profile measured using TOF-SIMS from the surface of the release layer in the thickness direction, the ionic strength of C 3 H 5 N 5 - decreases at a position adjacent to the surface of the release layer.
5~32gf/inのテープ即時剥離力を示す、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, which exhibits an instant tape peel strength of 5 to 32 gf/in. 3~1000gf/inのテープ常温1日剥離力を示す、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, which exhibits a tape peel strength of 3 to 1000 gf/in after one day at room temperature. 1~3gf/inのグリーンシート剥離力を示す、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, which exhibits a green sheet peel strength of 1 to 3 gf/in. X線蛍光分析器(XRF)を用いて測定した離型層のシリコーン含量が0.001~0.2g/mである、請求項1に記載の離型フィルム。 2. The release film according to claim 1, wherein the release layer has a silicone content of 0.001 to 0.2 g/ m2 as measured using an X-ray fluorescence analyzer (XRF). 離型層の表面エネルギーが19~30dyne/cmである、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the surface energy of the release layer is 19 to 30 dyne/cm. 離型コーティング組成物が150℃以下の温度で硬化して形成された離型層を含む、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, comprising a release layer formed by curing the release coating composition at a temperature of 150°C or less. ポリジメチルシロキサン(polydimethylsiloxane,PDMS)を含むシリコーンエマルジョン成分(A);
1つの分子内に前記シリコーンエマルジョン成分と縮合反応できる官能基を2つ以上含む成分(B);及び
酸触媒を含む水系離型コーティング組成物である、請求項1に記載の離型フィルム。
a silicone emulsion component (A) containing polydimethylsiloxane (PDMS);
2. The release film according to claim 1, which is an aqueous release coating composition comprising: a component (B) containing, in one molecule, two or more functional groups capable of undergoing a condensation reaction with the silicone emulsion component; and an acid catalyst.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102521827B1 (en) * 2022-07-06 2023-04-17 도레이첨단소재 주식회사 Release film

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000343664A (en) 1999-06-09 2000-12-12 Teijin Ltd Release film
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6474327B2 (en) * 2015-06-23 2019-02-27 リンテック株式会社 Release film for ceramic green sheet manufacturing process
TWI741053B (en) * 2016-10-25 2021-10-01 日商三菱化學股份有限公司 Release film
CN110845933A (en) * 2018-08-03 2020-02-28 荒川化学工业株式会社 Aqueous antistatic release coating composition and antistatic release film
CN112334305A (en) * 2018-08-10 2021-02-05 东洋纺株式会社 Release film for producing ceramic green sheet
JPWO2020196222A1 (en) * 2019-03-26 2020-10-01
KR102223435B1 (en) * 2019-05-30 2021-03-04 도레이첨단소재 주식회사 Release film
KR102521827B1 (en) * 2022-07-06 2023-04-17 도레이첨단소재 주식회사 Release film

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000343664A (en) 1999-06-09 2000-12-12 Teijin Ltd Release film
JP2019073003A (en) 2017-10-12 2019-05-16 東洋紡株式会社 Release film for producing ceramic green sheet
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