JP7768705B2 - Ring frame and method of manufacturing the ring frame - Google Patents
Ring frame and method of manufacturing the ring frameInfo
- Publication number
- JP7768705B2 JP7768705B2 JP2021142322A JP2021142322A JP7768705B2 JP 7768705 B2 JP7768705 B2 JP 7768705B2 JP 2021142322 A JP2021142322 A JP 2021142322A JP 2021142322 A JP2021142322 A JP 2021142322A JP 7768705 B2 JP7768705 B2 JP 7768705B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring frame
- frame
- stainless steel
- nickel
- adhesive tape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本発明は、中央に開口を有し、該開口を塞ぐようにテープが貼着されるリングフレームとその製造方法に関する。 The present invention relates to a ring frame with a central opening to which tape is attached to close the opening, and a method for manufacturing the same.
デバイスチップの製造工程では、複数のデバイスが表面に形成された半導体ウェーハやパッケージ基板等の被加工物を加工装置で加工する。そして、被加工物をデバイス毎に分割すると、個々のデバイスチップが形成される。形成されたデバイスチップは、電子機器に実装されて使用される。 In the device chip manufacturing process, workpieces such as semiconductor wafers and package substrates with multiple devices formed on their surfaces are processed using processing equipment. The workpieces are then divided into individual devices to form individual device chips. The formed device chips are then mounted in electronic devices for use.
加工装置に被加工物を搬入する際には、中央に開口を有するリングフレームと、該リングフレームの開口を塞ぐようにリングフレームに貼られる粘着テープと、と該被加工物が一体化され、フレームユニットが形成される。フレームユニットにおいて、被加工物は、リングフレームの開口内に収容された状態となる。 When a workpiece is loaded into the processing device, a frame unit is formed by integrating the workpiece with a ring frame having an opening in the center and adhesive tape attached to the ring frame to cover the opening. In the frame unit, the workpiece is housed within the opening of the ring frame.
フレームユニットを形成すると、被加工物の取り扱いが容易となる。また、被加工物が個々のデバイスチップに分割されたとき、各デバイスチップがそのまま粘着テープに貼り付いた状態であるため、形成されるデバイスチップの取り扱いも容易となる。さらに、被加工物が分割された後にリングフレームの開口の内側で粘着テープを径方向外向きに拡張すると、個々のデバイスチップの間隔が広がり、各デバイスチップのピックアップが容易となる。 Forming a frame unit makes it easier to handle the workpiece. Furthermore, when the workpiece is divided into individual device chips, each device chip remains attached to the adhesive tape, making the device chips that are formed easier to handle. Furthermore, if the adhesive tape is expanded radially outward inside the opening of the ring frame after the workpiece is divided, the spacing between the individual device chips increases, making it easier to pick up each device chip.
フレームユニットからデバイスチップが分離された後、リングフレームを再利用するためにリングフレームから粘着テープが剥がされる。しかしながら、このときに粘着テープが備える糊層(接着材層)がリングフレームに残留しやすく、この除去に手間がかかっていた。 After the device chip is separated from the frame unit, the adhesive tape is peeled off from the ring frame in order to reuse the ring frame. However, at this time, the glue layer (adhesive layer) on the adhesive tape tends to remain on the ring frame, making its removal time-consuming.
そこで、所定のエネルギーが付与されると粘着力が低下する性質を有する糊層を有する両面テープを介して粘着テープをリングフレームに貼り合わせる技術が開発された(特許文献1参照)。リングフレームから粘着テープを剥離させる際、予め両面テープに該所定のエネルギーを付与して糊層の粘着力を低下させると、リングフレームに糊層が残留しにくくなる。しかしながら、エネルギーを両面テープに十分に付与するのは手間であり、エネルギーにムラが生じて糊層がリングフレームに残ることもあった。 A technology has been developed to attach adhesive tape to a ring frame via double-sided tape with an adhesive layer whose adhesive strength decreases when a predetermined amount of energy is applied (see Patent Document 1). When peeling the adhesive tape from the ring frame, if the predetermined amount of energy is applied to the double-sided tape in advance to reduce the adhesive strength of the adhesive layer, the adhesive layer is less likely to remain on the ring frame. However, applying sufficient energy to the double-sided tape is time-consuming, and uneven energy can sometimes occur, resulting in the adhesive layer remaining on the ring frame.
また、粘着テープに代えて糊層を備えないシートを準備し、それぞれ開口を有する環状部と押圧部を有するフレームを準備し、シートの外周部を環状部と押圧部で挟持する技術が開発された(特許文献2参照)。しかしながら、糊層のないシートを被加工物に貼り付けるための専用の構造、または、追加の工程が必要となった。 In addition, a technology has been developed in which a sheet without an adhesive layer is prepared instead of adhesive tape, a frame is prepared with a ring-shaped portion and a pressing portion, each of which has an opening, and the outer periphery of the sheet is clamped between the ring-shaped portion and the pressing portion (see Patent Document 2). However, this requires a dedicated structure or additional process to attach the sheet without an adhesive layer to the workpiece.
そこで、従来から使用された糊層を備える粘着テープを使用でき、糊層を備える粘着テープが貼り付けられても、最終的に粘着テープが剥がされる際に糊層が残留しにくいリングフレームの開発が望まれた。 Therefore, there was a need to develop a ring frame that could be used with conventional adhesive tapes with adhesive layers, and that would not leave any adhesive layer behind when the adhesive tape was finally removed.
本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、貼着された粘着テープを剥離する際に粘着テープの糊層が残りにくいリングフレーム及び該リングフレームの製造方法を提供することである。 The present invention was made in consideration of these problems, and its purpose is to provide a ring frame that does not easily leave an adhesive layer of adhesive tape behind when the attached adhesive tape is peeled off, and a method for manufacturing such a ring frame.
本発明の一態様によれば、中央に開口を有する薄板状のリングフレームであって、
一方の面のうち、少なくとも前記開口の縁に接する領域を含む領域に、フッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が設けられていることを特徴とするリングフレームが提供される。
According to one aspect of the present invention, there is provided a thin plate-shaped ring frame having an opening in the center,
A ring frame is provided, characterized in that one surface thereof is provided with a nickel composite coating having fine particles of a fluorine compound dispersed and fixed therein, at least in an area including the area in contact with the edge of the opening .
好ましくは、他方の面にも該フッ素化合物の微粒子が分散固定された該ニッケル複合被膜が設けられている。 Preferably, the other surface is also provided with the nickel composite coating with fine particles of the fluorine compound dispersed and fixed therein.
さらに、好ましくは、該フッ素化合物は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂のいずれかである。 More preferably, the fluorine compound is polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, polyvinyl fluoride, or perfluoroalkoxy fluororesin.
また、本発明の他の一態様によれば、中央に開口を有する薄板状のリングフレームの製造方法であって、中央に開口を有するステンレス鋼フレームに脱脂処理を実施し、該ステンレス鋼フレームに酸洗い処理を実施し、該ステンレス鋼フレームにニッケルストライクめっきを実施し、該ステンレス鋼フレームにニッケルポリテトラフルオロエチレン複合めっきを実施し、該ステンレス鋼フレームを洗浄及び乾燥することにより、表面のうち、少なくとも前記開口の縁に接する領域を含む領域にニッケルポリテトラフルオロエチレン複合めっき層が形成されたリングフレームを形成することを特徴とするリングフレームの製造方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a thin-plate ring frame having an opening in the center, which comprises degreasing a stainless steel frame having an opening in the center, pickling the stainless steel frame, nickel strike plating the stainless steel frame, nickel polytetrafluoroethylene composite plating the stainless steel frame, and then washing and drying the stainless steel frame to form a ring frame having a nickel polytetrafluoroethylene composite plating layer formed on a surface area including at least the area in contact with the edge of the opening .
好ましくは、該ニッケルポリテトラフルオロエチレン複合めっきは、電解めっきである。 Preferably, the nickel-polytetrafluoroethylene composite plating is electrolytic plating.
本発明の一態様に係るリングフレームには、フッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が設けられている。このニッケル複合被膜は摩擦係数が小さく、外表面に粘着テープが貼着されたときにその接着力の作用が小さくなる。これにより、粘着テープをリングフレームから容易に剥離できるようになり、リングフレームに糊層が残りにくくなる。 A ring frame according to one embodiment of the present invention is provided with a nickel composite coating in which fine particles of a fluorine compound are dispersed and fixed. This nickel composite coating has a low coefficient of friction, which reduces the adhesive force when adhesive tape is applied to its outer surface. This makes it easy to peel the adhesive tape from the ring frame, and makes it less likely that an adhesive layer will remain on the ring frame.
一般的には、被加工物を安定的に支持できるように、高い接着力で粘着テープがリングフレームに貼着されることが望ましい。これに対して、本発明の一態様に係るリングフレームでは、貼着される粘着テープの必要な接着力を確保しつつ接着力を下げることによりリングフレームへの糊層の残りを抑制する。 Generally, it is desirable for adhesive tape to be attached to the ring frame with high adhesive strength so that it can stably support the workpiece. In contrast, the ring frame of one aspect of the present invention reduces the adhesive strength while ensuring the necessary adhesive strength of the attached adhesive tape, thereby preventing the adhesive layer from remaining on the ring frame.
したがって、本発明により貼着された粘着テープを剥離する際に粘着テープの糊層が残りにくいリングフレーム及び該リングフレームの製造方法が提供される。 The present invention therefore provides a ring frame in which the adhesive layer of the adhesive tape is less likely to remain when the applied adhesive tape is peeled off, as well as a method for manufacturing such a ring frame.
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係るリングフレームは、被加工物を加工装置に搬入する際にフレームユニットを形成するために使用される。図1は、リングフレームと一体化される被加工物1の表面1aを模式的に示す斜視図である。 An embodiment of one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The ring frame of this embodiment is used to form a frame unit when a workpiece is loaded into a processing device. Figure 1 is a perspective view schematically showing the surface 1a of the workpiece 1 that is integrated with the ring frame.
被加工物1は、例えば、Si(シリコン)、SiC(シリコンカーバイド)、GaN(ガリウムナイトライド)、GaAs(ヒ化ガリウム)、若しくは、その他の半導体等の材料、または、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる略円板状の基板等である。該ガラスは、例えば、アルカリガラス、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等である。 The workpiece 1 is, for example, a substantially circular substrate made of a material such as Si (silicon), SiC (silicon carbide), GaN (gallium nitride), GaAs (gallium arsenide), or other semiconductor material, or a material such as sapphire, glass, or quartz. Examples of such glass include alkali glass, alkali-free glass, soda-lime glass, lead glass, borosilicate glass, and quartz glass.
被加工物1の表面1aは、格子状に配列された複数の分割予定ライン3で区画される。また、被加工物1の表面1aの分割予定ライン3で区画された各領域にはIC(Integrated Circuit)やLSI(Large-Scale Integration)等のデバイス5が形成される。被加工物1を加工装置で分割予定ライン3に沿って分割すると、それぞれデバイス5を備えるデバイスチップを形成できる。 The surface 1a of the workpiece 1 is partitioned by a plurality of planned division lines 3 arranged in a grid pattern. Furthermore, devices 5 such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large-Scale Integration) are formed in each area of the surface 1a of the workpiece 1 partitioned by the planned division lines 3. When the workpiece 1 is divided along the planned division lines 3 by a processing device, device chips each equipped with a device 5 can be formed.
被加工物1を分割する加工装置に被加工物1を搬入する前に、図4(B)に示すように、被加工物1と、粘着テープ9と、リングフレーム7と、が一体化され、フレームユニット11が形成される。 Before the workpiece 1 is loaded into the processing device that divides it, the workpiece 1, adhesive tape 9, and ring frame 7 are integrated to form a frame unit 11, as shown in Figure 4(B).
被加工物1は、フレームユニット11の状態で加工装置に搬入され、加工される。加工装置で形成された個々のデバイスチップはそのまま粘着テープ9に支持される。その後、リングフレーム7の開口7aの内側で粘着テープ9を径方向外向きに拡張することでデバイスチップ間の間隔を広げると、デバイスチップをピックアップしやすくなる。 The workpiece 1 is loaded into the processing device in the frame unit 11 state and processed. The individual device chips formed in the processing device are supported directly on the adhesive tape 9. The adhesive tape 9 is then expanded radially outward inside the opening 7a of the ring frame 7, widening the spacing between the device chips and making it easier to pick up the device chips.
図2には、本実施形態に係るリングフレーム7の裏面側を模式的に示す斜視図が含まれている。リングフレーム7は、ステンレス鋼(SUS)等の金属等の材料で形成された薄板状の部材であり、被加工物1の径よりも大きい径の開口7aを備える。フレームユニット11を形成する際は、被加工物1は、リングフレーム7の開口7a内に位置付けられ、開口7aに収容される。 Figure 2 includes a perspective view showing the back side of the ring frame 7 according to this embodiment. The ring frame 7 is a thin plate-like member made of a metal material such as stainless steel (SUS), and has an opening 7a with a diameter larger than that of the workpiece 1. When forming the frame unit 11, the workpiece 1 is positioned within the opening 7a of the ring frame 7 and accommodated in the opening 7a.
粘着テープ9(図3等参照)は、ダイシングテープと呼ばれており、柔軟性を有する樹脂系テープであり、表裏面が平坦である。そして、粘着テープ9は、リングフレーム7の外径よりも大きい径を有し、基材層と、該基材層の一方の面に設けられた糊層(接着材層)と、により構成される。基材層は、例えば、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート等の材料で形成され、糊層は、例えば、アクリル系やゴム系の材料で形成される。 The adhesive tape 9 (see Figure 3, etc.) is known as dicing tape. It is a flexible resin-based tape with flat front and back surfaces. The adhesive tape 9 has a diameter larger than the outer diameter of the ring frame 7 and is composed of a base layer and a glue layer (adhesive layer) provided on one side of the base layer. The base layer is made of a material such as polyolefin, polyvinyl chloride, or polyethylene terephthalate, and the glue layer is made of an acrylic or rubber-based material.
被加工物1と、粘着テープ9と、リングフレーム7と、を一体化させる際、図2に示す通り、チャックテーブル2の吸引面2a上に被加工物1及びリングフレーム7を載せる。チャックテーブル2は、上部中央にリングフレーム7の外径よりも大きな径の多孔質部材を備える。該多孔質部材の上面は、チャックテーブル2の吸引面2aとなる。 When the workpiece 1, adhesive tape 9, and ring frame 7 are joined together, as shown in Figure 2, the workpiece 1 and ring frame 7 are placed on the suction surface 2a of the chuck table 2. The chuck table 2 has a porous member in its upper center that has a diameter larger than the outer diameter of the ring frame 7. The upper surface of this porous member becomes the suction surface 2a of the chuck table 2.
チャックテーブル2は、図3に示すように一端が該多孔質部材に通じた排気路を内部に有し、該排気路の他端側には吸引源2bが配設される。排気路には、連通状態と、切断状態と、を切り替える切り替え部2cが配設され、切り替え部2cが連通状態であると吸引面2aに置かれた被保持物に吸引源2bにより生じた負圧が作用し、被保持物がチャックテーブル2に吸引保持される。 As shown in Figure 3, the chuck table 2 has an internal exhaust passage with one end connected to the porous member, and a suction source 2b is provided at the other end of the exhaust passage. The exhaust passage is provided with a switching unit 2c that switches between a connected state and a cut state. When the switching unit 2c is in the connected state, negative pressure generated by the suction source 2b acts on the object to be held placed on the suction surface 2a, causing the object to be held by suction to the chuck table 2.
次に、図3に示す通り、被加工物1と、リングフレーム7と、を覆うように両者の上に粘着テープ9を配設する。チャックテーブル2の吸引面2aよりも大きな径の粘着テープ9が使用されると、チャックテーブル2による負圧を粘着テープ9に作用させる際に、吸引面2aの全体が粘着テープ9により覆われ、負圧が漏れない。 Next, as shown in Figure 3, adhesive tape 9 is placed over the workpiece 1 and the ring frame 7 so as to cover them both. If adhesive tape 9 with a diameter larger than the suction surface 2a of the chuck table 2 is used, when negative pressure from the chuck table 2 is applied to the adhesive tape 9, the entire suction surface 2a is covered by the adhesive tape 9, preventing leakage of the negative pressure.
粘着テープ9を被加工物1及びリングフレーム7に貼着する際には、切り替え部2cを操作して吸引源2bによる負圧を粘着テープ9等に作用させる。すると、粘着テープ9が大気圧により上方から押圧されて、粘着テープ9が被加工物1及びリングフレーム7に貼着される。なお、粘着テープ9の被加工物1及びリングフレーム7への貼着力を強めるために、粘着テープ9は上方からローラー等で押圧されてもよい。 When adhering the adhesive tape 9 to the workpiece 1 and ring frame 7, the switching unit 2c is operated to apply negative pressure from the suction source 2b to the adhesive tape 9, etc. The adhesive tape 9 is then pressed from above by atmospheric pressure, adhering the adhesive tape 9 to the workpiece 1 and ring frame 7. Note that the adhesive tape 9 may be pressed from above with a roller or the like to strengthen the adhesive force of the adhesive tape 9 to the workpiece 1 and ring frame 7.
こうして粘着テープ9を被加工物1及びリングフレーム7に貼着した後、切り替え部2cを再び操作して吸引源2bの負圧を遮断する。そして、図4(A)に示す通り、カッター4を使用してリングフレーム7上で粘着テープ9を切断し、切断溝9aの外側で粘着テープ9の不要部分を除去する。すると、図4(B)に示すようにフレームユニット11を形成できる。 After the adhesive tape 9 has been adhered to the workpiece 1 and ring frame 7 in this way, the switch 2c is again operated to shut off the negative pressure of the suction source 2b. Then, as shown in Figure 4(A), the cutter 4 is used to cut the adhesive tape 9 on the ring frame 7, and the unnecessary portion of the adhesive tape 9 is removed outside the cutting groove 9a. This completes the formation of the frame unit 11, as shown in Figure 4(B).
フレームユニット11は加工装置に搬入され、加工装置で被加工物1が分割される。形成されたデバイスチップは、その後に粘着テープ9からピックアップされ、所定の対象に実装される。その後、粘着テープ9はリングフレーム7から剥離され廃棄され、リングフレーム7は清掃されて再利用される。このとき、粘着テープ9の糊層が部分的にリングフレーム7に残りやすく、糊層の除去に手間がかかっていた。 The frame unit 11 is loaded into a processing device, which separates the workpiece 1. The formed device chips are then picked up from the adhesive tape 9 and mounted on the desired target. The adhesive tape 9 is then peeled off from the ring frame 7 and discarded, and the ring frame 7 is cleaned and reused. At this time, the adhesive layer of the adhesive tape 9 tends to remain partially on the ring frame 7, making removal of the adhesive layer time-consuming.
そこで、本実施形態に係るリングフレーム7は、粘着テープ9が剥離されたときに糊層が残りにくいように、外表面にフッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が設けられる。この複合被膜は摩擦係数が極めて小さく、貼り付けられた粘着テープ9を容易に剥離でき、このときに糊層が該複合被膜に残りにくい。そのため、大きな手間をかけることなく使用済みのリングフレーム7を再利用できる。 To prevent this, the ring frame 7 according to this embodiment is provided with a nickel composite coating with fine particles of a fluorine compound dispersed and fixed on its outer surface, so that the adhesive layer is less likely to remain when the adhesive tape 9 is peeled off. This composite coating has an extremely low coefficient of friction, allowing the applied adhesive tape 9 to be easily peeled off, and the adhesive layer is less likely to remain on the composite coating. This allows the used ring frame 7 to be reused without significant effort.
次に、外表面にフッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が設けられたリングフレーム7の製造方法について説明する。図6は、当該製造方法の工程の流れを示すフローチャートである。以下、ニッケル複合被膜としてニッケルポリテトラフルオロエチレン(Ni-PTFE)複合めっき層をステンレス鋼フレームに配設することでリングフレーム7を製造する場合を例に、該製造方法について説明する。 Next, we will explain the manufacturing method for a ring frame 7 having a nickel composite coating on its outer surface with fine particles of a fluorine compound dispersed and fixed thereon. Figure 6 is a flowchart showing the steps in this manufacturing method. Below, we will explain this manufacturing method using as an example the case where a ring frame 7 is manufactured by disposing a nickel-polytetrafluoroethylene (Ni-PTFE) composite plating layer as the nickel composite coating on a stainless steel frame.
リングフレーム7の製造には、ステンレス鋼フレーム13(図5参照)が原料として用いられる。例えば、ステンレス鋼フレーム13は、半導体ウェーハ等の被加工物1と、ダイシングテープ等の粘着テープ9と、と一体化されてフレームユニット11の形成に使用されていた従来のリングフレームである。ステンレス鋼フレーム13の中央には、被加工物1の径よりも大きな径の開口が形成されている。 A stainless steel frame 13 (see Figure 5) is used as the raw material to manufacture the ring frame 7. For example, the stainless steel frame 13 is a conventional ring frame that is integrated with a workpiece 1 such as a semiconductor wafer and an adhesive tape 9 such as dicing tape to form a frame unit 11. An opening with a diameter larger than the diameter of the workpiece 1 is formed in the center of the stainless steel frame 13.
まず、ステンレス鋼フレーム13に脱脂処理S10を行う。脱脂処理S10は、ステンレス鋼フレーム13の表面に付着した各種の塵や油脂等の有機物を有機溶剤またはアルカリ溶液を使用してステンレス鋼フレーム13から除去する処理である。脱脂処理S10を実施すると、後述の通りステンレス鋼フレーム13の外表面にNi-PTFE複合めっき層を形成する際、ムラのない成膜が可能となる。 First, the stainless steel frame 13 is subjected to a degreasing process S10. The degreasing process S10 is a process in which various types of dust, oil, and other organic matter adhering to the surface of the stainless steel frame 13 are removed from the stainless steel frame 13 using an organic solvent or alkaline solution. Performing the degreasing process S10 enables a uniform film formation when forming a Ni-PTFE composite plating layer on the outer surface of the stainless steel frame 13, as described below.
脱脂処理S10をする際には、有機溶剤またはアルカリ溶液等の液体を加熱し、ステンレス鋼フレーム13を該液体に浸漬させる。脱脂処理S10には、例えば、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、トリクロロエタン等の有機溶剤が使用される。または、脱脂処理S10には、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ソーダ水溶液等のアルカリ溶液が使用される。 When performing the degreasing process S10, a liquid such as an organic solvent or alkaline solution is heated and the stainless steel frame 13 is immersed in the liquid. For example, organic solvents such as trichloroethylene, tetrachloroethylene, and trichloroethane are used for the degreasing process S10. Alternatively, alkaline solutions such as aqueous sodium hydroxide solution and aqueous sodium carbonate solution are used for the degreasing process S10.
次に、ステンレス鋼フレーム13に酸洗い処理(酸活性処理)S20を実施する。酸洗い処理S20は、ステンレス鋼フレーム13の表面の酸化被膜や錆、残留油分を硫酸や塩酸等の強酸を使用してステンレス鋼フレーム13から除去し、ステンレス鋼フレーム13の素地を露出させる処理である。また、酸洗い処理S20を実施すると、ステンレス鋼フレーム13の表面に微小な凹凸形状が形成され、後に形成されるNi-PTFE複合めっき層のステンレス鋼フレーム13の外表面への密着力が増す。 Next, the stainless steel frame 13 is subjected to an acid pickling treatment (acid activation treatment) S20. The acid pickling treatment S20 is a process in which oxide films, rust, and residual oils on the surface of the stainless steel frame 13 are removed from the stainless steel frame 13 using a strong acid such as sulfuric acid or hydrochloric acid, exposing the base material of the stainless steel frame 13. Furthermore, performing the acid pickling treatment S20 creates minute irregularities on the surface of the stainless steel frame 13, which increases the adhesion of the Ni-PTFE composite plating layer that will be formed later to the outer surface of the stainless steel frame 13.
次に、ステンレス鋼フレーム13にニッケルストライクめっきS30を実施する。ニッケルストライクめっきS30は、ステンレス鋼フレーム13の表面に下地めっきを施す工程である。ニッケルストライクめっきS30は、ステンレス鋼フレーム13の表面において、酸洗い処理S20後の新たな不働態被膜の形成を阻止しつつ、後述のNi-PTFE複合被膜の該表面への密着性を高めるために実施される。 Next, nickel strike plating S30 is performed on the stainless steel frame 13. Nickel strike plating S30 is a process for applying a base plating to the surface of the stainless steel frame 13. Nickel strike plating S30 is performed to prevent the formation of a new passive film on the surface of the stainless steel frame 13 after the pickling treatment S20, while also improving the adhesion of the Ni-PTFE composite coating (described below) to the surface.
ニッケルストライクめっきS30では、塩化ニッケル及び塩酸から構成されるウッド浴とよばれる強酸性のめっき浴にステンレス鋼フレーム13及びニッケル金属板を浸漬させ、ステンレス鋼フレーム13及びニッケル金属板の間を通電する。すると、ステンレス鋼フレーム13の表面に、薄い下地膜としてニッケルストライクめっき層が形成される。 In nickel strike plating S30, the stainless steel frame 13 and nickel metal plate are immersed in a strongly acidic plating bath called a Wood's bath, which is composed of nickel chloride and hydrochloric acid, and electricity is passed between the stainless steel frame 13 and the nickel metal plate. This forms a nickel strike plating layer as a thin base film on the surface of the stainless steel frame 13.
次に、ニッケルストライクめっき層が表面に形成されたステンレス鋼フレーム13にニッケルポリテトラフルオロエチレン(Ni-PTFE)複合めっきS40を実施する。図5は、Ni-PTFE複合めっきS40を実施する様子を模式的に示す斜視図である。Ni-PTFE複合めっきS40は、例えば、塩化ビニル製の角型の容器8を有するめっき装置6で実施される。図5では、説明の便宜のために容器8の内部の構成要素が実線で描かれているが、容器8及び収容されためっき液10は透明であるとは限らない。 Next, nickel polytetrafluoroethylene (Ni-PTFE) composite plating S40 is performed on the stainless steel frame 13 with the nickel strike plating layer formed on its surface. Figure 5 is a perspective view that schematically shows how Ni-PTFE composite plating S40 is performed. Ni-PTFE composite plating S40 is performed, for example, in a plating device 6 having a rectangular container 8 made of polyvinyl chloride. In Figure 5, the internal components of the container 8 are drawn with solid lines for ease of explanation, but the container 8 and the plating solution 10 contained therein are not necessarily transparent.
容器8には、めっき液10が収容されている。めっき液10には、スルファミン酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ素、一次光沢剤、二次光沢剤、及び、ポリテトラフルオロエチレン分散液(PTFE分散液)が含まれる。PTFE分散液は、例えば、粒径が1μm以下のPTFEが25~28vol%で分散された液体である。また、アノードにはニッケル金属板16が使用される。 Container 8 contains plating solution 10. Plating solution 10 contains nickel sulfamate, nickel chloride, boron, a primary brightener, a secondary brightener, and a polytetrafluoroethylene dispersion (PTFE dispersion). The PTFE dispersion is a liquid in which, for example, PTFE with a particle size of 1 μm or less is dispersed at 25 to 28 vol%. A nickel metal plate 16 is used as the anode.
Ni-PTFE複合めっきS40では、ステンレス鋼フレーム13と、ニッケル金属板16と、を容器8に収容されためっき液10に浸漬させる。そして、ステンレス鋼フレーム13に接続された配線12と、ニッケル金属板16に接続された配線14と、を通じてめっき液に電流を流す。 In Ni-PTFE composite plating S40, a stainless steel frame 13 and a nickel metal plate 16 are immersed in plating solution 10 contained in a container 8. Then, an electric current is passed through the plating solution via wiring 12 connected to the stainless steel frame 13 and wiring 14 connected to the nickel metal plate 16.
このとき、ステンレス鋼フレーム13の表面における電流密度を5A/dm2とし、Ni-PTFE複合めっき層の厚さが2μm以上10μm以下の厚みとなる時間で電解めっきを実施する。具体的には、2分間以上10分間以下の時間か、これに類する時間がかかることが見込まれる。Ni-PTFE複合めっきS40が実施されると、PTFEの微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜、すなわち、Ni-PTFE複合めっき層がステンレス鋼フレーム13の表面に形成される。 At this time, the current density on the surface of the stainless steel frame 13 is set to 5 A/ dm² , and electrolytic plating is performed for a time period sufficient to form a Ni-PTFE composite plating layer having a thickness of 2 μm to 10 μm. Specifically, the time period is expected to be 2 minutes to 10 minutes, or a similar period. When the Ni-PTFE composite plating S40 is performed, a nickel composite coating with dispersed and fixed PTFE particles, i.e., a Ni-PTFE composite plating layer, is formed on the surface of the stainless steel frame 13.
その後、ステンレス鋼フレーム13を容器8から引き上げ、ステンレス鋼フレーム13を洗浄及び乾燥する(S50)。具体的には、めっき液10が付着したステンレス鋼フレーム13を洗浄槽に収容された水に浸漬させて付着しためっき液10を除去し、洗浄槽からステンレス鋼フレーム13を引き上げて乾燥して付着した水を除去する。すると、表面にニッケル複合被膜としてニッケルポリテトラフルオロエチレン複合めっき層が形成されたリングフレーム7が形成される。 Then, the stainless steel frame 13 is lifted out of the container 8 and washed and dried (S50). Specifically, the stainless steel frame 13 with the plating solution 10 attached is immersed in water contained in a cleaning tank to remove the attached plating solution 10, and the stainless steel frame 13 is lifted out of the cleaning tank and dried to remove the attached water. This results in the formation of a ring frame 7 with a nickel-polytetrafluoroethylene composite plating layer formed on its surface as a nickel composite coating.
なお、以上に説明したリングフレームの製造方法の過程において、すなわち、各工程の間において、ステンレス鋼フレーム13は水等の液体により適宜洗浄されてもよい。ステンレス鋼フレーム13を水等で洗浄すると、化学的な反応の過剰な進行を防止できる。また、ステンレス鋼フレーム13の取り扱いが容易となる。 Note that during the process of manufacturing the ring frame described above, i.e., between each step, the stainless steel frame 13 may be washed with a liquid such as water as appropriate. Washing the stainless steel frame 13 with water or the like can prevent excessive chemical reactions from progressing. It also makes the stainless steel frame 13 easier to handle.
ここで、フッ素化合物としてポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が表面に形成されたリングフレーム7の該表面は、摩擦係数が極めて小さくなる。そのため、リングフレーム7の表面に粘着テープ9が貼着されたとき、その接着力の作用が小さくなる。そのため、フレームユニット11に含まれる被加工物1を加工した後、粘着テープ9をリングフレーム7から容易に剥離でき、リングフレーム7に粘着テープ9の糊層が残りにくくなる。 The surface of the ring frame 7, which has a nickel composite coating formed on it with fine particles of polytetrafluoroethylene (PTFE) dispersed and fixed as a fluorine compound, has an extremely low coefficient of friction. Therefore, when adhesive tape 9 is applied to the surface of the ring frame 7, its adhesive force is reduced. Therefore, after processing the workpiece 1 included in the frame unit 11, the adhesive tape 9 can be easily peeled off from the ring frame 7, and the adhesive layer of the adhesive tape 9 is less likely to remain on the ring frame 7.
一般的に、被加工物1を安定的に支持できるように、高い接着力で粘着テープ9がリングフレームに貼着されることが望まれる。しかしながら、本実施形態に係るリングフレーム7では、貼着される粘着テープ9の必要な接着力を確保しつつ接着力を下げることによりリングフレーム7への糊層の残りを抑制する。 Generally, it is desirable for the adhesive tape 9 to be attached to the ring frame with high adhesive strength so that the workpiece 1 can be stably supported. However, the ring frame 7 of this embodiment ensures the necessary adhesive strength of the attached adhesive tape 9 while reducing the adhesive strength, thereby preventing the adhesive layer from remaining on the ring frame 7.
また、リングフレーム7の外表面にフッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が形成されている場合、リングフレーム7は、糊層以外の汚れに対しても強くなる。例えば、被加工物1を加工する際に、被加工物1や加工具から加工屑が発生する。加工屑はリングフレーム7の外表面に接触することがあり、加工屑がリングフレーム7に付着することも考えられる。 Furthermore, if a nickel composite coating with dispersed and fixed fine particles of a fluorine compound is formed on the outer surface of the ring frame 7, the ring frame 7 will also be resistant to dirt other than the adhesive layer. For example, when processing the workpiece 1, processing debris will be generated from the workpiece 1 and the processing tool. The processing debris may come into contact with the outer surface of the ring frame 7, and it is possible that the processing debris will adhere to the ring frame 7.
しかしながら、フッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が外表面に形成されていると、加工屑がリングフレーム7に付着しにくい。また、加工屑がリングフレーム7に付着しても、その後の洗浄工程で加工屑を容易にリングフレーム7から除去できる。すなわち、該リングフレーム7は、糊層以外の汚れに対しても強い。 However, when a nickel composite coating with dispersed and fixed fluorine compound particles is formed on the outer surface, processing debris is less likely to adhere to the ring frame 7. Furthermore, even if processing debris does adhere to the ring frame 7, it can be easily removed from the ring frame 7 in a subsequent cleaning process. In other words, the ring frame 7 is resistant to dirt other than the adhesive layer.
なお、上記実施形態では、リングフレーム7のすべての外表面にフッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が形成される場合を例に説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。例えば、本発明の一態様に係るリングフレーム7では、リングフレーム7の一方の面にのみフッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が形成されてもよく、他方の面に該ニッケル複合被膜が形成されていなくてもよい。 In the above embodiment, an example was described in which a nickel composite coating with dispersed and fixed fine particles of a fluorine compound is formed on all outer surfaces of the ring frame 7, but this aspect of the present invention is not limited to this. For example, in a ring frame 7 according to one aspect of the present invention, a nickel composite coating with dispersed and fixed fine particles of a fluorine compound may be formed on only one surface of the ring frame 7, and the nickel composite coating may not be formed on the other surface.
この場合、作業者は、被加工物1と、リングフレーム7と、粘着テープ9と、を一体化してフレームユニット11を形成する際に、粘着テープ9が貼着されるリングフレーム7の面を選択できる。例えば、リングフレーム7を再利用しやすいように粘着テープ9の糊層をリングフレーム7に残したくない場合、フレームユニット11を形成する際、リングフレーム7の該ニッケル複合被膜が形成されている該一方の面に粘着テープ9を貼着するとよい。 In this case, when integrating the workpiece 1, ring frame 7, and adhesive tape 9 to form the frame unit 11, the worker can select the surface of the ring frame 7 to which the adhesive tape 9 will be attached. For example, if you do not want to leave the adhesive layer of the adhesive tape 9 on the ring frame 7 so that the ring frame 7 can be easily reused, when forming the frame unit 11, it is recommended that the adhesive tape 9 be attached to the one surface of the ring frame 7 on which the nickel composite coating is formed.
その一方で、被加工物1の重量や、被加工物1に実施される加工の内容次第では、粘着テープ9を強い接着力でリングフレーム7に貼着することが望まれる場合がある。この場合、あえて粘着テープ9をリングフレーム7の該ニッケル複合被膜が形成されていない該他方の面に貼着するとよい。このように、該ニッケル複合被膜がリングフレーム7の該一方の面にのみ設けられていると、粘着テープ9の貼着面を目的に応じて使い分けられる。 On the other hand, depending on the weight of the workpiece 1 and the type of processing to be performed on the workpiece 1, it may be desirable to adhere the adhesive tape 9 to the ring frame 7 with strong adhesive strength. In this case, it is advisable to adhere the adhesive tape 9 to the other side of the ring frame 7 on which the nickel composite coating is not formed. In this way, if the nickel composite coating is provided on only one side of the ring frame 7, the adhesive surface of the adhesive tape 9 can be used depending on the purpose.
ここで、リングフレーム7の外表面の一部にのみ該ニッケル複合被膜を形成するには、リングフレーム7の外表面の他の部分をマスキングした状態でNi-PTFE複合めっきS40等の工程を実施するとよい。そして、マスキングを実施するには、耐薬のテープを貼着する方法、耐薬のレジストを設ける方法等が考えられる。 To form the nickel composite coating only on a portion of the outer surface of the ring frame 7, it is advisable to carry out a process such as Ni-PTFE composite plating S40 while masking the remaining portions of the outer surface of the ring frame 7. Possible methods for masking include applying chemical-resistant tape or applying a chemical-resistant resist.
なお、該ニッケル複合被膜は、リングフレーム7の該一方の面だけでなく該他方の面にも設けられていてもよい。この場合、作業者は、リングフレーム7のいずれの面に粘着テープ9を貼着させるか迷うことがない。 The nickel composite coating may be provided not only on one surface of the ring frame 7 but also on the other surface. In this case, the worker will not have to worry about which surface of the ring frame 7 to apply the adhesive tape 9 to.
また、上記実施形態では、ニッケル複合被膜に分散固定されるフッ素化合物の微粒子がポリテトラフルオロエチレン(PTFE)である場合を例に説明したが、フッ素化合物の材質はこれに限定されない。リングフレーム7の外表面に求められる性質に応じて、フッ素化合物の種別が適宜選択されるとよい。 In addition, in the above embodiment, the fluorine compound particles dispersed and fixed in the nickel composite coating were described as being polytetrafluoroethylene (PTFE), but the material of the fluorine compound is not limited to this. The type of fluorine compound can be selected appropriately depending on the properties required for the outer surface of the ring frame 7.
すなわち、ニッケル複合被膜に分散固定されるフッ素化合物は、例えば、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリフッ化ビニル(PVF)、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)のいずれかでもよい。 That is, the fluorine compound dispersed and fixed in the nickel composite coating may be, for example, polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinyl fluoride (PVF), or perfluoroalkoxy fluororesin (PFA).
さらに、上記実施形態では、Ni-PTFE複合めっきS40を電解めっきで実施する場合について説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。すなわち、Ni-PTFE複合めっきS40は、無電解めっきにより実施されてもよい。 Furthermore, in the above embodiment, the Ni-PTFE composite plating S40 is described as being performed by electrolytic plating, but this aspect of the present invention is not limited to this. In other words, the Ni-PTFE composite plating S40 may also be performed by electroless plating.
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, etc. related to the above embodiments can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.
1 被加工物
3 分割予定ライン
5 デバイス
7 リングフレーム
9 粘着テープ
9a 切断溝
11 フレームユニット
13 ステンレス鋼フレーム
2 チャックテーブル
2a 吸引面
2b 吸引源
2c 切り替え部
4 カッター
6 めっき装置
8 容器
10 めっき液
12,14 配線
16 ニッケル金属板
REFERENCE SIGNS LIST 1 Workpiece 3 Planned division line 5 Device 7 Ring frame 9 Adhesive tape 9a Cutting groove 11 Frame unit 13 Stainless steel frame 2 Chuck table 2a Suction surface 2b Suction source 2c Switching unit 4 Cutter 6 Plating device 8 Container 10 Plating solution 12, 14 Wiring 16 Nickel metal plate
Claims (5)
一方の面のうち、少なくとも前記開口の縁に接する領域を含む領域に、フッ素化合物の微粒子が分散固定されたニッケル複合被膜が設けられていることを特徴とするリングフレーム。 A thin plate-shaped ring frame having an opening in the center,
A ring frame characterized in that one surface thereof is provided with a nickel composite coating having fine particles of a fluorine compound dispersed and fixed therein, in an area including at least an area in contact with the edge of the opening .
中央に開口を有するステンレス鋼フレームに脱脂処理を実施し、
該ステンレス鋼フレームに酸洗い処理を実施し、
該ステンレス鋼フレームにニッケルストライクめっきを実施し、
該ステンレス鋼フレームにニッケルポリテトラフルオロエチレン複合めっきを実施し、
該ステンレス鋼フレームを洗浄及び乾燥することにより、
表面のうち、少なくとも前記開口の縁に接する領域を含む領域にニッケルポリテトラフルオロエチレン複合めっき層が形成されたリングフレームを形成することを特徴とするリングフレームの製造方法。 A method for manufacturing a thin plate-shaped ring frame having an opening in the center, comprising:
A stainless steel frame with a central opening is degreased,
The stainless steel frame is subjected to an acid pickling treatment;
The stainless steel frame is nickel strike plated;
The stainless steel frame is subjected to nickel polytetrafluoroethylene composite plating,
The stainless steel frame is washed and dried to
A method for manufacturing a ring frame, comprising forming a ring frame having a nickel-polytetrafluoroethylene composite plating layer formed on a surface thereof, at least in an area including an area in contact with the edge of the opening .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021142322A JP7768705B2 (en) | 2021-09-01 | 2021-09-01 | Ring frame and method of manufacturing the ring frame |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021142322A JP7768705B2 (en) | 2021-09-01 | 2021-09-01 | Ring frame and method of manufacturing the ring frame |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023035456A JP2023035456A (en) | 2023-03-13 |
| JP7768705B2 true JP7768705B2 (en) | 2025-11-12 |
Family
ID=85504194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021142322A Active JP7768705B2 (en) | 2021-09-01 | 2021-09-01 | Ring frame and method of manufacturing the ring frame |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7768705B2 (en) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002348699A (en) | 2000-07-14 | 2002-12-04 | Osaka Gas Co Ltd | Plating film and plating coating using the same |
| JP2003305743A (en) | 2002-04-12 | 2003-10-28 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | Golf ball mold, method of manufacturing the same, and method of manufacturing golf ball |
| JP2009123942A (en) | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Dicing frame |
| WO2015125351A1 (en) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | 株式会社村田製作所 | Electronic component supplier and manufacturing method therefor |
| US20200277515A1 (en) | 2017-09-15 | 2020-09-03 | Lintec Corporation | Film-shaped firing material and film-shaped firing material with support sheet |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0631985U (en) * | 1992-09-29 | 1994-04-26 | 博 岩田 | Cutting tool with electroless composite plating |
| JP3215627B2 (en) * | 1995-09-25 | 2001-10-09 | 大阪瓦斯株式会社 | Iron |
-
2021
- 2021-09-01 JP JP2021142322A patent/JP7768705B2/en active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002348699A (en) | 2000-07-14 | 2002-12-04 | Osaka Gas Co Ltd | Plating film and plating coating using the same |
| JP2003305743A (en) | 2002-04-12 | 2003-10-28 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | Golf ball mold, method of manufacturing the same, and method of manufacturing golf ball |
| JP2009123942A (en) | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Dicing frame |
| WO2015125351A1 (en) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | 株式会社村田製作所 | Electronic component supplier and manufacturing method therefor |
| US20200277515A1 (en) | 2017-09-15 | 2020-09-03 | Lintec Corporation | Film-shaped firing material and film-shaped firing material with support sheet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023035456A (en) | 2023-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8871609B2 (en) | Thin wafer handling structure and method | |
| US11335564B2 (en) | Element chip smoothing method and element chip manufacturing method | |
| US11189480B2 (en) | Element chip manufacturing method | |
| JP2019125723A (en) | Method for manufacturing device chip | |
| US20140113452A1 (en) | Wafer edge trimming method | |
| JP5090789B2 (en) | Bonding apparatus, method for preventing dissolution of adhesive, and bonding method | |
| US20190189497A1 (en) | Workpiece processing method | |
| CN113903656A (en) | Silicon carbide wafer processing technology | |
| JP6035468B2 (en) | Semiconductor-on-diamond wafer handle and manufacturing method | |
| JP2002151442A (en) | Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device | |
| WO2021181768A1 (en) | Cleaning method of electronic component and manufacturing method of element chip | |
| JP7768705B2 (en) | Ring frame and method of manufacturing the ring frame | |
| JP2023116932A (en) | Work stage and exposure equipment | |
| JP2020053473A (en) | Method for manufacturing element chip | |
| CN106463385B (en) | Roll-to-roll wafer backside particle and contamination removal | |
| US9929025B2 (en) | Cassette fixture for holding film frames with affixed thin substrates during liquid chemical batch removal of carriers | |
| CN115312455A (en) | A thin wafer heat sink forming process | |
| JP2010040930A (en) | Etching method | |
| JP2010073884A (en) | Jig for semiconductor wafer and method of manufacturing semiconductor device | |
| JP3235700U (en) | Silicon wafer for electroless plating | |
| TWI872238B (en) | Temporary bonding method, device wafer processing method, temporary bonding layer stack and device wafer processing layer stack | |
| JP7390615B2 (en) | Resin coating equipment, resin film forming method, and device chip manufacturing method | |
| JP6354694B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| JP2020053472A (en) | Method for manufacturing element chip | |
| JP2005243906A (en) | Manufacturing method of laminated wafer, and tool for removing oxide film of laminated wafer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240724 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20250415 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250527 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250609 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20251007 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20251030 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7768705 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |