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JP7773402B2 - Detectors, heat treatment equipment - Google Patents
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JP7773402B2 - Detectors, heat treatment equipment - Google Patents

Detectors, heat treatment equipment

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JP7773402B2
JP7773402B2 JP2022028108A JP2022028108A JP7773402B2 JP 7773402 B2 JP7773402 B2 JP 7773402B2 JP 2022028108 A JP2022028108 A JP 2022028108A JP 2022028108 A JP2022028108 A JP 2022028108A JP 7773402 B2 JP7773402 B2 JP 7773402B2
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Description

本発明は、検出器、熱処理装置に関する。 The present invention relates to a detector and a heat treatment device.

有機材料と溶媒とを含む溶液を基板の上に塗布し、これを加熱して基板の上に有機膜を形成する技術が知られている。具体的には、溶液が塗布された基板(以下、ワークという。)が、チャンバの内部に搬入され、100℃~600℃程度の高温下で熱処理される。このような高温下において正常に動作する検出器は存在しなかったため、熱処理が終了し、ロボットアームによりチャンバの内部からワークが搬出されたか否かは、熱処理時間により推測されていた。 A technology is known in which a solution containing an organic material and a solvent is applied to a substrate, which is then heated to form an organic film on the substrate. Specifically, the substrate (hereinafter referred to as the workpiece) coated with the solution is carried into a chamber and heat-treated at high temperatures of approximately 100°C to 600°C. Because no detectors existed that could function properly at such high temperatures, whether the heat treatment had finished and the workpiece had been removed from the chamber by a robot arm was inferred from the heat treatment time.

国際公開第2019/117250号International Publication No. 2019/117250

しかしながら、例えば短時間の停電などにより熱処理時間のデータに不具合が生じてしまった場合など、チャンバの内部からワークが搬出されたか否かが分からなくなってしまうことがあった。このような場合、チャンバの内部にワークが残っているにも拘らず、ロボットアームにより誤って次のワークがチャンバの内部に搬入されてしまい、両者が衝突して割れたり欠けたりするおそれがあった。そのため、熱処理時に高温となるチャンバの内部においても正常に動作する検出器の開発が待ち望まれていた。 However, if a malfunction occurs in the heat treatment time data, for example due to a short power outage, it can become impossible to determine whether or not a workpiece has been removed from the chamber. In such a case, the robot arm may mistakenly carry the next workpiece into the chamber even though the workpiece remains inside, raising the risk of the two colliding and causing cracks or chips. For this reason, there has been a long awaited development of a detector that can operate normally even inside the chamber, which becomes very hot during heat treatment.

本発明は、熱処理時に高温となるチャンバの内部においても正常に動作する検出器を提供することを目的とする。また、このような検出器を備える熱処理装置も本発明の一態様とする。 The present invention aims to provide a detector that operates normally even inside a chamber that becomes hot during heat treatment. A heat treatment apparatus equipped with such a detector is also an aspect of the present invention.

本発明の検出器は、ワークを熱処理するチャンバの内部に設けられ、前記チャンバの内部に搬入される前記ワークを検出する検出器であって、金属からなる正極線と、記正極線から離間して設けられ、前記正極線と異なる金属を含む負極線と、前記ワークに押圧されることにより前記正極線の一端と前記負極線の一端とを導通させる検出部と、を備え、前記正極線の他端と前記負極線の他端とが、前記チャンバの外側に設けられていることを特徴とする。
The detector of the present invention is a detector that is provided inside a chamber in which a workpiece is heat-treated and that detects the workpiece being brought into the chamber, and is characterized in that it comprises a positive electrode wire made of metal, a negative electrode wire that is provided at a distance from the positive electrode wire and contains a metal different from that of the positive electrode wire, and a detection unit that is pressed against the workpiece to connect one end of the positive electrode wire to one end of the negative electrode wire, and the other end of the positive electrode wire and the other end of the negative electrode wire are provided outside the chamber.

本発明の熱処理装置は、ワークが搬入されるチャンバと、前記チャンバの内部に設けられ、前記ワークを熱処理するヒータと、前記チャンバの内部に設けられ、前記ワークに押圧されることにより、前記ワークを検出する上述の検出器と、を備える。 The heat treatment apparatus of the present invention comprises a chamber into which a workpiece is carried, a heater provided inside the chamber to heat-treat the workpiece, and the aforementioned detector provided inside the chamber to detect the workpiece by being pressed against the workpiece.

本発明の検出器は、熱処理時に高温となるチャンバの内部においても正常に動作することが出来る。 The detector of the present invention can operate normally even inside a chamber that becomes very hot during heat treatment.

実施形態のワークを示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a workpiece according to the embodiment. 実施形態の熱処理装置を示す正面図である。1 is a front view showing a heat treatment apparatus according to an embodiment; 実施形態の熱処理装置を示す部分断面図である。1 is a partial cross-sectional view showing a heat treatment apparatus according to an embodiment; 実施形態のカセットを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a cassette according to an embodiment. 実施形態のガス放出部を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a gas release portion of the embodiment. 実施形態の検出器を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a detector according to an embodiment. 実施形態の検出器の配置例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of the arrangement of detectors according to the embodiment. 実施形態の検出器の別の配置例を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating another example of the arrangement of detectors according to the embodiment. 実施形態の制御部を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a control unit according to the embodiment. 実施形態の搬入・加熱動作を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing the carrying-in and heating operation of the embodiment. 実施形態の冷却・搬出動作を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a cooling and carrying-out operation of the embodiment. 実施形態の検出動作を示すフローチャートである。10 is a flowchart illustrating a detection operation according to the embodiment. 実施形態の検出器のさらに別の配置例を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating yet another example of the arrangement of detectors according to the embodiment. 実施形態の三点支持部を示す図である。1A and 1B are diagrams illustrating a three-point support unit according to an embodiment.

[構成]
以下、本発明の実施形態(以下、本実施形態ともいう。)を、図面を参照して説明する。まず、熱処理装置1の熱処理対象であるワークWについて説明し、続いて、熱処理装置1について説明する。
[composition]
Hereinafter, an embodiment of the present invention (hereinafter also referred to as the present embodiment) will be described with reference to the drawings. First, a workpiece W to be heat-treated by a heat treatment apparatus 1 will be described, and then the heat treatment apparatus 1 will be described.

(ワーク)
ワークWは、図1に示すように、溶液Lが塗布された矩形の基板Sである。溶液Lは、有機材料を含む溶剤からなり、例えばポリアミド酸を含むワニスである。基板Sは、例えばガラス基板や半導体ウェーハであり、周縁部分を除き中心部分に溶液Lが塗布される。基板Sは、例えば1500mm×1850mmの大きさであり、この場合の周縁部分は、例えば矩形の基板Sの四辺から10mm内側の領域である。中心部分は、このような周縁部分に囲まれる領域である。なお、図1に示す、ワークWの大きさと、ワークW上の溶液Lが塗布される領域の大きさとの比率は、実際のものとは異なるが、説明を容易にするためにこの図を用いる。
(Work)
As shown in FIG. 1, the workpiece W is a rectangular substrate S coated with a solution L. The solution L is made of a solvent containing an organic material, such as a varnish containing polyamic acid. The substrate S is, for example, a glass substrate or a semiconductor wafer, and the solution L is coated on the central portion but not on the peripheral portion. The substrate S is, for example, 1500 mm x 1850 mm in size, and the peripheral portion in this case is, for example, the area 10 mm inward from the four sides of the rectangular substrate S. The central portion is the area surrounded by such peripheral portions. Note that the ratio between the size of the workpiece W and the size of the area on the workpiece W to which the solution L is coated, as shown in FIG. 1, is different from the actual ratio, but this figure is used for ease of explanation.

ワークWは、熱処理装置1において熱処理されることにより、溶液Lのポリアミド酸がイミド化され、基板Sの表面にポリイミド膜が形成される。なお、ワークWは、熱処理装置1に搬入される前に、図示しない仮焼成装置に搬入され、仮焼成膜が形成されても良い。仮焼成においては、例えば90℃以下、100Pa程度の圧力の雰囲気に3分以上放置することにより、溶液Lから予め溶媒の一部を蒸発させることが出来る。なお、仮焼成により溶液Lから溶媒の一部を蒸発させてなる仮焼成膜も、図中では溶液Lと同様に扱う。 The workpiece W is heat-treated in the heat treatment device 1, whereby the polyamic acid in the solution L is imidized, forming a polyimide film on the surface of the substrate S. Before being loaded into the heat treatment device 1, the workpiece W may be loaded into a pre-baking device (not shown) to form a pre-baked film. Pre-baking can be performed by leaving the workpiece W in an atmosphere of 90°C or less and a pressure of approximately 100 Pa for at least three minutes, for example, to evaporate some of the solvent from the solution L. The pre-baked film formed by evaporating some of the solvent from the solution L through pre-baking is treated the same as the solution L in the figures.

(熱処理装置)
熱処理装置1は、図2及び図3に示すように、開口部Aを介してワークWが搬入出されるチャンバ10と、チャンバ10の内部に設けられ、ワークWが載置されるカセット20と、カセット20を介してワークWを支持する支持部30と、ワークWを加熱するヒータ40と、を備える。さらに、カセット20には、ワークWに当接し、チャンバ10の内部においてワークWの有無を検出する検出器50(図6参照)が着脱可能に設けられる。この検出器50について、詳しくは後述する。
(Heat Treatment Apparatus)
2 and 3, the heat treatment apparatus 1 includes a chamber 10 into which the workpiece W is loaded and unloaded through an opening A, a cassette 20 provided inside the chamber 10 and on which the workpiece W is placed, a support unit 30 that supports the workpiece W via the cassette 20, and a heater 40 that heats the workpiece W. Furthermore, a detector 50 (see FIG. 6) that contacts the workpiece W and detects the presence or absence of the workpiece W inside the chamber 10 is detachably provided on the cassette 20. The detector 50 will be described in detail below.

以下では、チャンバ10の開口部Aを介してワークWを搬入出する方向をY方向、チャンバ10の載置面においてY方向に直交する方向をX方向、Y方向及びX方向に直交する方向をZ方向という。本実施形態のチャンバ10は、図2に示すように水平面に設置され、X方向を左右方向、Y方向を前後方向、Z方向を上下方向ということもある。ただし、これらの方向は、熱処理装置1の設置方向を限定するものではない。また、X方向において並び対向する二面を側面、Z方向において並び対向する二面を上下面ということもある。 In the following, the direction in which the workpiece W is loaded and unloaded through the opening A of the chamber 10 is referred to as the Y direction, the direction perpendicular to the Y direction on the placement surface of the chamber 10 is referred to as the X direction, and the direction perpendicular to the Y and X directions is referred to as the Z direction. In this embodiment, the chamber 10 is installed on a horizontal plane as shown in Figure 2, and the X direction is sometimes referred to as the left-right direction, the Y direction as the front-back direction, and the Z direction as the up-down direction. However, these directions do not limit the installation direction of the heat treatment device 1. Furthermore, the two surfaces that are aligned and facing each other in the X direction are sometimes referred to as side surfaces, and the two surfaces that are aligned and facing each other in the Z direction are sometimes referred to as the top and bottom surfaces.

チャンバ10は、正面に開口部Aが設けられる概略直方体の容器である。開口部Aは、チャンバ10の形状に対応して、概略長方形である。チャンバ10は、例えばステンレスなどの金属により形成される。 Chamber 10 is a roughly rectangular parallelepiped container with an opening A on the front. Opening A is roughly rectangular, corresponding to the shape of chamber 10. Chamber 10 is made of a metal such as stainless steel.

開口部Aに対向する位置には、図示しない開閉機構によって駆動される開閉扉Dが、開位置と閉位置との間を上下方向にスライド移動可能に設けられる。開閉扉Dを開位置とすると開口部Aが開かれ、ワークWの搬入出を行うことができる。開閉扉Dを閉位置とすると開口部Aが閉じられる。また、開閉機構は、閉位置の開閉扉Dを前後方向に移動させることにより、チャンバ10の密閉状態及び開放状態を切り替える。密閉状態は、開閉扉Dが開口部Aの縁に押し付けられて、チャンバ10の内部が気密に封止された状態である。開放状態は、開閉扉Dと開口部Aの縁との間に隙間が空いていて、チャンバ10の内部が大気開放されている状態である。なお、開閉扉Dと接触する開口部Aの縁には、気密性を向上させるためにOリングなどのシール材が設けられてもよい。 Opposite the opening A is an opening/closing door D, driven by an opening/closing mechanism (not shown), which is slidable vertically between an open position and a closed position. When the opening/closing door D is in the open position, the opening A is opened, allowing the workpiece W to be loaded or unloaded. When the opening/closing door D is in the closed position, the opening A is closed. The opening/closing mechanism also switches the chamber 10 between a sealed state and an open state by moving the opening/closing door D back and forth from the closed position. In the sealed state, the opening/closing door D is pressed against the edge of the opening A, hermetically sealing the interior of the chamber 10. In the open state, there is a gap between the opening/closing door D and the edge of the opening A, leaving the interior of the chamber 10 open to the atmosphere. A seal such as an O-ring may be provided on the edge of the opening A that comes into contact with the opening/closing door D to improve airtightness.

チャンバ10には、例えばその下方に排気部11が設けられる。排気部11は、一端がチャンバ10の内部に連通し、他端が図示しない排気装置に接続される。これにより、排気部11は、チャンバ10の内部が密閉状態にある時、チャンバ10の内部を減圧し、真空にすることが出来る。真空とは、例えば100Pa程度の圧力の雰囲気とするが、これに限られない。 An exhaust section 11 is provided in the chamber 10, for example, below it. One end of the exhaust section 11 is connected to the interior of the chamber 10, and the other end is connected to an exhaust device (not shown). This allows the exhaust section 11 to reduce the pressure inside the chamber 10 and create a vacuum when the interior of the chamber 10 is sealed. A vacuum is, for example, an atmosphere with a pressure of about 100 Pa, but is not limited to this.

チャンバ10には、例えばその上方に排気管12が設けられる。排気管12は、一端がチャンバ10の内部に連通し、他端がチャンバ10の外部に連通している。排気管12の内部には弁121が設けられる。弁121は、通常閉じられており、例えばチャンバ10の内部に後述の冷却ガスが放出される際に開かれる。これにより、チャンバ10の内部に放出された冷却ガスは、排気管12を介して外部に排気される。 An exhaust pipe 12 is provided in the chamber 10, for example, above it. One end of the exhaust pipe 12 is connected to the interior of the chamber 10, and the other end is connected to the outside of the chamber 10. A valve 121 is provided inside the exhaust pipe 12. The valve 121 is normally closed and is opened, for example, when a cooling gas (described below) is released into the chamber 10. As a result, the cooling gas released into the chamber 10 is exhausted to the outside via the exhaust pipe 12.

チャンバ10の内部には、Z方向に多段にカセット20が設けられている。本実施形態のワークWは、チャンバ10の内部に搬入され、カセット20に設けられた開口20aを介してカセット20の内部に載置される。カセット20は、図4に示すように、内部に載置されるワークWを上下左右の四方、及び開口20aと対向する面において囲う箱状体である。つまり、カセット20は、X方向から見たときの断面がコの字となる筐体である。なお、図4においては、説明を容易にするためにカセット20の上面を示していない。 Cassettes 20 are arranged in multiple stages in the Z direction inside the chamber 10. In this embodiment, the workpiece W is carried into the chamber 10 and placed inside the cassette 20 through an opening 20a provided in the cassette 20. As shown in Figure 4, the cassette 20 is a box-shaped body that encloses the workpiece W placed inside on all four sides (top, bottom, left, and right) and on the side facing the opening 20a. In other words, the cassette 20 is a housing with a U-shaped cross section when viewed from the X direction. Note that the top surface of the cassette 20 is not shown in Figure 4 to simplify the explanation.

カセット20は、カセットフレーム21と、カセットフレーム21に設けられ、箱状体を構成する均熱板22と、ワークWの下面を支持するワーク支持部23と、後述の支持部30にカセット20を支持させるカセット支持部24と、を備える。さらに、カセット20には、図3に示すように、その内部に冷却ガスを放出するガス放出部Gが着脱可能に設けられる。 The cassette 20 comprises a cassette frame 21, a heat equalizer plate 22 attached to the cassette frame 21 and forming a box-shaped body, a workpiece support portion 23 that supports the underside of the workpiece W, and a cassette support portion 24 that allows the cassette 20 to be supported by the support portion 30 described below. Furthermore, as shown in Figure 3, the cassette 20 is removably provided with a gas discharge portion G that discharges cooling gas into the interior thereof.

カセットフレーム21は、例えば細長い部材を用いて構成される骨組み構造である。カセットフレーム21は、例えば直方体の枠構造であり、直方体の上面および下面には、Y方向に差し渡される梁211が、X方向に複数本並べられる。梁211の本数は特に限定しないが、以下では4本とする。 The cassette frame 21 is a framework structure constructed, for example, using elongated members. The cassette frame 21 is, for example, a rectangular parallelepiped frame structure, with multiple beams 211 arranged in the X direction and spanning the Y direction on the top and bottom surfaces of the rectangular parallelepiped. There is no particular limitation on the number of beams 211, but in the following description it is assumed to be four.

均熱板22は、例えばステンレスなどの熱伝導率の高い金属材料からなる板状部材であり、カセットフレーム21の上下左右側及び奥側に設けられる。すなわち、均熱板22は、カセットフレーム21の上下左右側及び奥側に設けられることにより、箱状体のカセット20の上下左右面及び奥側の面を構成する。なお、奥側とは、Y方向において開口部Aが設けられる側と反対側である。具体的には、カセットフレーム21の上下においては、各梁211の間を埋めるように複数の均熱板22が設けられる。本実施形態においては、カセットフレーム21の外枠と4本の梁211との間を埋めるように、上下それぞれに5枚の均熱板22が設けられる。カセットフレーム21の左右側及び奥側においては、1枚ずつ均熱板22が設けられる。 The heat equalizer plates 22 are plate-shaped members made of a metal material with high thermal conductivity, such as stainless steel, and are provided on the top, bottom, left, right, and rear sides of the cassette frame 21. That is, by being provided on the top, bottom, left, right, and rear sides of the cassette frame 21, the heat equalizer plates 22 form the top, bottom, left, right, and rear surfaces of the box-shaped cassette 20. The rear side is the side opposite the side on which the opening A is provided in the Y direction. Specifically, multiple heat equalizer plates 22 are provided on the top and bottom of the cassette frame 21 to fill the spaces between each beam 211. In this embodiment, five heat equalizer plates 22 are provided on each of the top and bottom to fill the spaces between the outer frame of the cassette frame 21 and the four beams 211. One heat equalizer plate 22 is provided on each of the left, right, and rear sides of the cassette frame 21.

ワーク支持部23は、カセットフレーム21の下面の梁211から上方に突出して設けられ、その先端でワークWの下面を支持する棒状体である。ワーク支持部23の配置や本数は、特に限定しないが、例えば各梁211に等間隔に4本ずつ設けられる。すなわち、ワーク支持部23は、カセットフレーム21の下面において、格子状に4×4本設けられる。ワーク支持部23の先端は、ワークWの下面を傷つけないようにするため、例えば半球状である。 The work support portions 23 are rod-shaped bodies that protrude upward from the beams 211 on the underside of the cassette frame 21 and support the underside of the workpiece W at their tips. The arrangement and number of work support portions 23 are not particularly limited, but for example, four are provided at equal intervals on each beam 211. In other words, the work support portions 23 are provided in a 4 x 4 grid pattern on the underside of the cassette frame 21. The tips of the work support portions 23 are, for example, hemispherical in shape to prevent damage to the underside of the workpiece W.

カセット支持部24は、カセット20の側面から側方に突出して設けられ、後述の支持部30に支持される突出部である。カセット支持部24が支持部30に支持されることにより、カセット20が支持部30に支持される。従って、ワークWは、直接的にはカセット20のワーク支持部23に支持される一方で、間接的には支持部30に支持される。なお、このカセット20は、チャンバ10から一つずつ搬出することができ、個別にメンテナンスを行うことができる。 The cassette support portion 24 is a protrusion that protrudes laterally from the side surface of the cassette 20 and is supported by the support portion 30 described below. The cassette support portion 24 is supported by the support portion 30, thereby supporting the cassette 20 on the support portion 30. Therefore, the workpiece W is directly supported by the workpiece support portion 23 of the cassette 20, and indirectly supported by the support portion 30. The cassettes 20 can be removed from the chamber 10 one by one, allowing for individual maintenance.

ガス放出部Gは、図3及び図5に示すように、カセット20ごとに、カセット20の奥側に設けられ、X方向に延びる配管を有し、その先端に複数のノズルG1を有する。つまり、ガス放出部Gは、例えば後述する受け部32によりカセット20が支持される位置に対応して、Z方向に多段に設けられ、不図示のジョイント等の接続部を介して、カセット20に設けられたノズルG1とつながる配管と、チャンバ10の外側に設けられる不図示のガス供給装置とが着脱自在に接続される。なお、上述のメンテナンスのためにカセット20を搬出する際には、このようなガス供給装置と、ガス放出部Gとの接続部を取り外すことができる。 As shown in Figures 3 and 5, the gas release unit G is provided for each cassette 20 at the rear side of the cassette 20 and has piping extending in the X direction with multiple nozzles G1 at the tip of the piping. In other words, the gas release unit G is provided in multiple stages in the Z direction, corresponding to the position where the cassette 20 is supported by the receiving unit 32 described below, for example, and the piping connecting to the nozzles G1 provided on the cassette 20 is detachably connected to a gas supply device (not shown) provided outside the chamber 10 via a connection such as a joint (not shown). When the cassette 20 is removed for the aforementioned maintenance, the connection between the gas supply device and the gas release unit G can be detached.

ガス放出部Gには、このようなガス供給装置から冷却ガスが供給される。冷却ガスの温度は特に限定されないが、例えば常温よりも低いものとする。冷却ガスは、例えば窒素ガス、希ガス(アルゴンガスやヘリウムガスなど)などの、加熱されたワークWと反応し難いガスであればよい。また、ガス放出部Gの配管側面には、開口部Aが設けられる方向に向けて突出する複数のノズルG1が設けられ、ノズルG1の開口から冷却ガスが放出される。ノズルG1の開口は、例えばワークWの下面とカセット20の下面の間に向けられる。これにより、チャンバ10の内部を冷却する際にノズルG1の開口から放出される冷却ガスは、ワークWの下面を伝うように流れる(図3の破線矢印参照)。この時、チャンバ10の開口部Aが開いていれば、冷却ガスは開口部Aから排出される。これにより、チャンバ10の内部は陽圧となり、開口部Aを介してチャンバ10の内部にパーティクルが入るおそれが低減される。 Cooling gas is supplied to the gas discharge section G from this gas supply device. The temperature of the cooling gas is not particularly limited, but is, for example, lower than room temperature. The cooling gas may be, for example, nitrogen gas or a rare gas (such as argon gas or helium gas), as long as it is a gas that does not easily react with the heated workpiece W. In addition, multiple nozzles G1 protruding toward the opening A are provided on the side of the piping of the gas discharge section G, and the cooling gas is discharged from the openings of the nozzles G1. The openings of the nozzles G1 are, for example, directed between the underside of the workpiece W and the underside of the cassette 20. As a result, when cooling the interior of the chamber 10, the cooling gas discharged from the openings of the nozzles G1 flows along the underside of the workpiece W (see the dashed arrows in Figure 3). At this time, if opening A of the chamber 10 is open, the cooling gas is discharged from opening A. This creates a positive pressure inside the chamber 10, reducing the risk of particles entering the interior of the chamber 10 through opening A.

支持部30は、チャンバ10の内部に立設されるフレーム31と、フレーム31の内部に設けられ、カセット20を支持する受け部32と、を備える(図2参照)。フレーム31は、例えば細長い部材を用いて構成される骨組み構造である。フレーム31は、例えば直方体の枠構造であり、側面には板状の内壁が設けられている。受け部32は、フレーム31の内壁において、同じ高さでX方向に一対設けられる受け部材である。一対の受け部32は、カセット20のカセット支持部24を支持することにより、1つのカセット20を支持する。また、一対の受け部32は、フレーム31の内壁において、Z方向にカセット20と同数設けられる。本実施形態においては、図2及び図3に示すように、6つのカセット20に対応して、一対の受け部32が6組設けられる。 The support unit 30 includes a frame 31 erected inside the chamber 10 and a receiving unit 32 provided inside the frame 31 to support the cassette 20 (see Figure 2). The frame 31 is, for example, a framework structure constructed using elongated members. The frame 31 is, for example, a rectangular parallelepiped frame structure with plate-shaped inner walls on its sides. The receiving unit 32 is a pair of receiving members provided at the same height in the X direction on the inner wall of the frame 31. Each pair of receiving units 32 supports one cassette 20 by supporting the cassette support unit 24 of the cassette 20. The same number of pairs of receiving units 32 as the number of cassettes 20 are provided on the inner wall of the frame 31 in the Z direction. In this embodiment, as shown in Figures 2 and 3, six pairs of receiving units 32 are provided corresponding to six cassettes 20.

ヒータ40は、例えばX方向に延びる円柱状の部材であり、熱を放射してカセット20を加熱し、これによりカセット20の内部に載置されるワークWを加熱する。ヒータ40は、図3に示すように、Y方向に複数本並べて設けられる。さらに、Y方向に複数本並べて設けられたヒータ40は、カセット20を上下方向から挟むように、Z方向に多段に設けられる。すなわち、本実施形態においては、チャンバ10の内部に支持される6つのカセット20に対応して、7段のヒータ40が設けられる。 The heater 40 is, for example, a cylindrical member extending in the X direction. It radiates heat to heat the cassette 20, thereby heating the workpiece W placed inside the cassette 20. As shown in FIG. 3, multiple heaters 40 are arranged in a line in the Y direction. Furthermore, the multiple heaters 40 arranged in a line in the Y direction are arranged in multiple stages in the Z direction so as to sandwich the cassette 20 from above and below. That is, in this embodiment, seven stages of heaters 40 are provided corresponding to the six cassettes 20 supported inside the chamber 10.

検出器50は、図6に示すように、カセット20の梁211に着脱可能に設けられる。検出器50は、絶縁体51と、電極部52と、ホルダ53と、検出部54と、キャップ55と、を備える。検出器50は、高温下のチャンバ10内部においてワークWに押圧されることにより後述する導通部541が電極部52と接触し、ゼーベック効果により起電力を生じさせる。このとき、チャンバ10内は高温であるため、チャンバ10外の、図示しない基準接点との温度差が生じていることにより、起電力が発生する。 As shown in Figure 6, the detector 50 is detachably mounted on the beam 211 of the cassette 20. The detector 50 comprises an insulator 51, an electrode portion 52, a holder 53, a detection portion 54, and a cap 55. When the detector 50 is pressed against the workpiece W inside the chamber 10 at high temperatures, the conductive portion 541 (described below) comes into contact with the electrode portion 52, generating an electromotive force due to the Seebeck effect. At this time, since the temperature inside the chamber 10 is high, a temperature difference occurs with a reference junction (not shown) outside the chamber 10, generating an electromotive force.

絶縁体51は、梁211の上面に設けられ、梁211と電極部52とを絶縁する板状の基台である。絶縁体51の上面には、電極部52が配置される。 The insulator 51 is a plate-shaped base that is provided on the upper surface of the beam 211 and insulates the beam 211 from the electrode portion 52. The electrode portion 52 is disposed on the upper surface of the insulator 51.

電極部52は、正極線521と、負極線522とからなる。正極線521は、例えばニッケルとクロムを主成分とするニッケル合金(以下、クロメルともいう。ただし、この呼称は合金の成分比率を限定するものではない。)などの金属からなり、負極線522は、例えばニッケルとアルミニウムを主成分とするニッケル合金などの金属(以下、アルメルともいう。ただし、この呼称は合金の成分比率を限定するものではない。)からなる。正極線521の一端と負極線522の一端とは、所定の隙間を空けて配置されるが、後述のクロメルまたはアルメルからなる導通部541が両者に接触することにより、電気的に接続される。すなわち、導通部541を介して正極線521と負極線522とが導通される。本実施形態の電極部52は、正極線521の一端と負極線522の一端とがチャンバ10の内部に設けられ、正極線521の他端と負極線522の他端(基準接点)とが熱処理装置1の外部に設けられる。チャンバ10内の温度が高温であるときに、検出部54を介して正極線521の一端と負極線522の一端とが接触すると、ゼーベック効果が生じて電極部52に起電力が発生し、不図示の電圧計によってこの起電力が検出され、後述の不図示のロボットアームを制御する制御装置に信号が送られる。 The electrode section 52 consists of a positive electrode wire 521 and a negative electrode wire 522. The positive electrode wire 521 is made of a metal such as a nickel alloy primarily composed of nickel and chromium (hereinafter referred to as chromel, although this name does not limit the alloy's component ratios). The negative electrode wire 522 is made of a metal such as a nickel alloy primarily composed of nickel and aluminum (hereinafter referred to as alumel, although this name does not limit the alloy's component ratios). One end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522 are positioned with a specified gap between them, but are electrically connected by contacting a conductive section 541 made of chromel or alumel (described below). In other words, the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 are electrically connected via the conductive section 541. In this embodiment, the electrode unit 52 has one end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522 provided inside the chamber 10, and the other end of the positive electrode wire 521 and the other end (reference junction) of the negative electrode wire 522 provided outside the heat treatment device 1. When the temperature inside the chamber 10 is high and one end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522 come into contact via the detection unit 54, the Seebeck effect occurs, generating an electromotive force in the electrode unit 52. This electromotive force is detected by a voltmeter (not shown), and a signal is sent to a control device that controls a robot arm (not shown), which will be described later.

ホルダ53は、電極部52を覆うように配置され、電極部52の上方において検出部54を保持する保持部材である。ホルダ53は、有底の筒形状である保持部531と、保持部531の側面下部から梁211に沿う方向(Y方向)に延びるフランジ部532と、を備える。保持部531の底面は、中心部分に開口531aを備え、平面視において、この開口531aから正極線521の一端と、負極線522の一端とを臨むことが出来る。フランジ部532は、絶縁体51と対向する側の面に、正極線521と負極線522とを格納する溝Fを備える。なお、溝Fから延びる正極線521の他端と負極線522の他端は、チャンバ10に設けられた図示しない開口を介してチャンバ10の外部に引き出され、不図示の電圧計を介して、後述の図示しないロボットアームを制御する制御装置に接続される。なお、図6では溝Fに正極線521と負極線522を設けることを説明するために、フランジ部532が絶縁体51から離されて設けられているように表示されているが、実際には、フランジ部532は絶縁体51に載置されている。 The holder 53 is positioned to cover the electrode unit 52 and is a holding member that holds the detection unit 54 above the electrode unit 52. The holder 53 includes a cylindrical holding unit 531 with a bottom and a flange 532 that extends from the lower side of the holding unit 531 in the direction along the beam 211 (Y direction). The bottom surface of the holding unit 531 has an opening 531a in the center, and in a plan view, one end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522 are visible through this opening 531a. The flange 532 has a groove F on the surface facing the insulator 51 that accommodates the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522. The other ends of the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 extending from the groove F are pulled out of the chamber 10 through openings (not shown) provided in the chamber 10 and connected to a control device that controls a robot arm (not shown) described below via a voltmeter (not shown). In Figure 6, in order to illustrate the placement of the positive electrode wire 521 and negative electrode wire 522 in the groove F, the flange portion 532 is shown as being spaced apart from the insulator 51, but in reality, the flange portion 532 is placed on the insulator 51.

検出部54は、ばねBを介して保持部531の底面に保持される。検出部54は、円柱形状の金属からなる導通部541と、導通部541の先端部分を覆う保護部542と、を備える。 The detection unit 54 is held on the bottom surface of the holding unit 531 via spring B. The detection unit 54 includes a cylindrical metal conductive part 541 and a protective part 542 that covers the tip of the conductive part 541.

導通部541は、例えばクロメルまたはアルメルなどの金属からなる。すなわち、導通部541は、正極線521または負極線522の一方と同じ金属からなる。導通部541は、ばねBに挿通され、ばねBの下端及び上端から突出している。導通部541のばねBの下端から突出している部分は、開口531aに挿通されている一方で、ばねBの付勢力により、正極線521の一端と負極線522の一端とに対しては、所定の隙間を空けて位置している。開口531aは、導通部541の上下動をガイドする役割を果たす。導通部541は、開口531aを介して保持部531により支えられることによって、確実に電極部52に接触させられるようになっている。 The conductive portion 541 is made of a metal such as chromel or alumel. That is, the conductive portion 541 is made of the same metal as either the positive electrode wire 521 or the negative electrode wire 522. The conductive portion 541 is inserted into spring B and protrudes from the lower and upper ends of spring B. The portion of the conductive portion 541 protruding from the lower end of spring B is inserted into opening 531a, and the biasing force of spring B positions the conductive portion 541 at a predetermined gap from one end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522. The opening 531a serves to guide the vertical movement of the conductive portion 541. The conductive portion 541 is supported by the holding portion 531 via opening 531a, ensuring reliable contact with the electrode portion 52.

導通部541のばねBの上端から突出している部分は、保護部542に覆われている。保護部542は、例えばセラミックからなる。保護部542の下端は、ばねBの上端に当接している。保護部542の先端は、当接するワークWの下面を傷つけないようにするため、例えば半球状である。保護部542の先端に載置されるワークWは、その重量により検出部54を押圧し、ばねBを縮ませる。そのため、保護部542は、その先端がワーク支持部23の先端よりも少し高い位置に位置するように設けられると良い。すなわち、ワークWによって検出部54が押圧されてばねBが縮むことにより、下方へ移動する保護部542の高さ位置を、ワーク支持部23と同じ高さ位置になるようにすることで、確実にワークWを検出できるようにすることが好ましい。保護部542の先端にワークWが載置されると、導通部541の下端は、開口531aを通過し、正極線521の一端と負極線522の一端とに接触する。これにより、導通部541を介して正極線521と負極線522とが電気的に接続される。すなわち、導通部541を介して正極線521と負極線522とが導通される。この時、導通部541は、クロメルの場合正極線521の一部であり、アルメルの場合負極線522の一部であると言えるから、正極線521と負極線522とは、電極部52の両極として、導通部541を介して接触しているとも言える。 The portion of the conductive portion 541 that protrudes from the upper end of the spring B is covered by the protective portion 542. The protective portion 542 is made of, for example, ceramic. The lower end of the protective portion 542 abuts against the upper end of the spring B. The tip of the protective portion 542 is, for example, hemispherical to prevent damage to the underside of the workpiece W it abuts. The weight of the workpiece W placed on the tip of the protective portion 542 presses against the detection portion 54, compressing the spring B. For this reason, it is preferable to position the tip of the protective portion 542 slightly higher than the tip of the workpiece support portion 23. In other words, it is preferable to ensure that the height position of the protective portion 542, which moves downward when the detection portion 54 is pressed by the workpiece W and the spring B compresses, is the same height as the workpiece support portion 23, so that the workpiece W can be reliably detected. When the workpiece W is placed on the tip of the protective portion 542, the lower end of the conductive portion 541 passes through the opening 531a and comes into contact with one end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522. This electrically connects the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 via the conductive portion 541. In other words, the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 are electrically connected via the conductive portion 541. At this time, the conductive portion 541 can be said to be part of the positive electrode wire 521 in the case of chromel, and part of the negative electrode wire 522 in the case of alumel. Therefore, the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 can be said to be in contact with each other via the conductive portion 541 as the two poles of the electrode portion 52.

チャンバ10の内部が高温であるときに、正極線521と負極線522とが接触すると、チャンバ10の外部に設けられる不図示の電極部の他端(基準接点)との温度差により、電極部52に起電力が生じ、この起電力は、不図示の電圧計によって検出され、この検出信号が後述の図示しないロボットアームを制御する制御装置に伝達される。このようにして、検出器50は、チャンバ10の内部においてワークWを検出する。例えば、ワークWの処理が終了してワークWを取り出す際、開閉扉Dが開状態となっているが(開口部Aが開放されている)、このときのチャンバ10内部の温度は、ワークWの熱処理中よりは低下しているものの100℃程度の温度が保たれている。チャンバ10の外はクリーンルームであるから、20~25℃程度であり、チャンバ10の内部と外部とで温度差がある状態である。 When the inside of chamber 10 is hot and positive electrode wire 521 and negative electrode wire 522 come into contact, an electromotive force is generated in electrode 52 due to the temperature difference with the other end (reference junction) of the electrode (not shown) located outside chamber 10. This electromotive force is detected by a voltmeter (not shown), and the detection signal is transmitted to a control device that controls a robot arm (not shown) described below. In this way, detector 50 detects workpiece W inside chamber 10. For example, when processing of workpiece W is completed and workpiece W is removed, opening door D is open (opening A is open), and the temperature inside chamber 10 at this time is maintained at around 100°C, although it is lower than during heat treatment of workpiece W. Because the outside of chamber 10 is a clean room, the temperature is around 20-25°C, and there is a temperature difference between the inside and outside of chamber 10.

キャップ55は、保持部531を上方から覆うように、フランジ部532の上面に設けられる。キャップ55は、上面を有する中空の筒形状であり、上面の中心部分に開口55aが設けられる。キャップ55は、開口55aに保護部542が挿通されるように、検出部54に被せられ、保持部531の内部にパーティクルが侵入することを防止する。キャップ55の外側には、保護部542が突出している。この保護部542の上端にワークWが載置されることにより、検出器50は、上述のようにワークWを検出することが出来る。なお、前述したとおり導通部541は開口531aによってガイドされるため、開口531aはできる限り小さくされる。これに対し、キャップ55の開口55aは開口531aよりもワークWに近い場所にあるため、導通部541と開口531aとが擦れることでパーティクルが多く発生すると、ワークWにパーティクルが付着してしまう。そこで開口55aは、パーティクルが発生しない程度の大きさ(つまり、保護部542と擦れない程度の大きさ)とされる。また、開口55aに金属製のダイヤフラムを設け、保護部542が設けられるようにしても良い。このようにすることより、キャップ55内で発生したパーティクルがワークWに付着するのを防止することができる。 The cap 55 is provided on the upper surface of the flange portion 532 so as to cover the holding portion 531 from above. The cap 55 is hollow and cylindrical with an upper surface, and an opening 55a is provided in the center of the upper surface. The cap 55 covers the detection portion 54 so that the protective portion 542 is inserted into the opening 55a, preventing particles from entering the inside of the holding portion 531. The protective portion 542 protrudes from the outside of the cap 55. By placing the workpiece W on the upper end of this protective portion 542, the detector 50 can detect the workpiece W as described above. As mentioned above, the conductive portion 541 is guided by the opening 531a, so the opening 531a is made as small as possible. However, because the opening 55a of the cap 55 is located closer to the workpiece W than the opening 531a, if a large number of particles are generated due to friction between the conductive portion 541 and the opening 531a, the particles will adhere to the workpiece W. Therefore, the opening 55a is sized to prevent particles from being generated (i.e., large enough to prevent friction with the protective part 542). Alternatively, a metal diaphragm may be provided in the opening 55a to provide the protective part 542. This prevents particles generated inside the cap 55 from adhering to the workpiece W.

検出器50は、梁211においてワーク支持部23の近傍に設けられ、ワークWは、ワーク支持部23とともに、検出器50の保護部542に当接する。検出器50は、カセット20ごとに、少なくとも1つ設けられる。検出器50が設けられる位置は特に限定されないが、例えば図7に示すように、一番左側の梁211の奥側に設けられる。検出器50は、チャンバ10の内外の温度差により起電力を発生させるので、温度差を確保する観点からは、チャンバ10の開口部A側よりも奥側(チャンバ10のY方向における中心よりも開口部Aから離れる方向)に設けられる方が好ましい。要するに、開閉扉Dが開状態であっても、チャンバ10内においてチャンバ10の外との温度差が確実に発生する領域に検出器50が設けられれば良い。 The detector 50 is provided on the beam 211 near the workpiece support portion 23, and the workpiece W, together with the workpiece support portion 23, abuts against the protective portion 542 of the detector 50. At least one detector 50 is provided for each cassette 20. The location at which the detector 50 is provided is not particularly limited, but for example, as shown in FIG. 7, the detector 50 is provided at the rear side of the leftmost beam 211. The detector 50 generates an electromotive force due to the temperature difference between the inside and outside of the chamber 10. Therefore, from the perspective of ensuring a temperature difference, it is preferable to provide the detector 50 on the rear side of the opening A of the chamber 10 (in a direction away from the opening A and the center of the chamber 10 in the Y direction). In short, it is sufficient that the detector 50 is provided in an area within the chamber 10 where a temperature difference between the inside and outside of the chamber 10 is reliably generated, even when the opening/closing door D is open.

ところで、ワークWの基板Sにおいて、溶液Lが塗布されていない周縁部分の領域は、溶液Lが塗布されている中心部分の領域に比して、表面が何にも保護されていないため、割れや欠けが発生しやすい。これにより、例えば熱処理中にワークWの左上部分が欠けてしまった場合、その直下に設けられる検出器50は、ワークWにより押圧されない。このように、検出器50がワークWを検出することが出来ないと、チャンバ10の内部にはワークWが存在しないと判断されるため、誤ってチャンバ10の内部にワークWが搬入され、衝突により割れたり欠けたりするおそれがあった。このような事態を回避するため、検出器50は、カセット20ごとに、2つ以上設けられても良い。 However, the peripheral area of the substrate S of the workpiece W, where the solution L is not applied, is more susceptible to cracking and chipping than the central area where the solution L is applied, because the surface is not protected in any way. As a result, if the upper left portion of the workpiece W is chipped during heat treatment, for example, the detector 50 located directly below it will not be pressed by the workpiece W. If the detector 50 cannot detect the workpiece W, it will determine that the workpiece W is not present inside the chamber 10, and the workpiece W may be mistakenly brought into the chamber 10, potentially causing it to crack or chip due to a collision. To avoid such a situation, two or more detectors 50 may be provided for each cassette 20.

この場合、検出器50は、例えば図8に示すように、矩形のワークWの対角線上に位置する角の下面に当接するように一対設けられる。以下では、図8の紙面において、ワークWの左上角の下面に当接するように設けられる検出器50を検出器50a、ワークWの右下角の下面に当接するように設けられる検出器50を検出器50bとする。検出器50a、50bの両方がワークWを検出した場合には、「ワークあり」と判断することが出来る。検出器50a、50bの一方のみがワークWを検出した場合には、「ワークあり」かつ「ワーク割れ」と判断することが出来る。検出器50a、50bの両方がワークWを検出しなかった場合には、「ワークなし」と判断することが出来る。 In this case, as shown in Figure 8, for example, a pair of detectors 50 are provided so as to abut against the underside of the diagonally opposite corners of the rectangular workpiece W. In the following, in the plane of Figure 8, the detector 50 provided so as to abut against the underside of the upper left corner of the workpiece W will be referred to as detector 50a, and the detector 50 provided so as to abut against the underside of the lower right corner of the workpiece W will be referred to as detector 50b. If both detectors 50a and 50b detect the workpiece W, it can be determined that "workpiece present." If only one of detectors 50a and 50b detects the workpiece W, it can be determined that "workpiece present" and "workpiece cracked." If neither detector 50a nor 50b detects the workpiece W, it can be determined that "workpiece not present."

熱処理装置1は、各構成の動作を制御する制御部80を更に備える。すなわち、制御部80は、開閉扉Dと、排気部11と、弁121と、ヒータ40と、ガス放出部Gと、を制御する。制御部80は、図9に示すように、開閉制御部81と、排気制御部82と、加熱制御部83と、ガス制御部84と、記憶部85と、入出力制御部86と、を有する。 The heat treatment apparatus 1 further includes a control unit 80 that controls the operation of each component. That is, the control unit 80 controls the opening/closing door D, the exhaust unit 11, the valve 121, the heater 40, and the gas release unit G. As shown in FIG. 9 , the control unit 80 includes an opening/closing control unit 81, an exhaust control unit 82, a heating control unit 83, a gas control unit 84, a memory unit 85, and an input/output control unit 86.

開閉制御部81は、開閉扉Dの開閉機構を制御する。つまり、開閉制御部81は、開閉扉Dを開位置及び閉位置に移動させる制御や、密閉状態及び開放状態を切り替える制御を行う。 The opening/closing control unit 81 controls the opening/closing mechanism of the opening/closing door D. In other words, the opening/closing control unit 81 controls the movement of the opening/closing door D to the open position and the closed position, and controls the switching between the sealed state and the open state.

排気制御部82は、排気部11を制御し、密閉状態にあるチャンバ10の内部を真空にすることが出来る。また、排気制御部82は、排気管12の弁121の開閉を制御し、チャンバ10の内部から冷却ガスを排気することが出来る。 The exhaust control unit 82 controls the exhaust unit 11 to create a vacuum inside the sealed chamber 10. The exhaust control unit 82 also controls the opening and closing of the valve 121 of the exhaust pipe 12 to exhaust the cooling gas from inside the chamber 10.

加熱制御部83は、ヒータ40の出力を制御する。ヒータ40の出力は、ヒータ40に対する電力供給量を制御することにより、チャンバ10の内部を所定の熱処理温度、例えば100℃~600℃となるように制御可能である。また、加熱制御部83は、ヒータ40に対する電力供給を停止することも出来る。 The heating control unit 83 controls the output of the heater 40. By controlling the amount of power supplied to the heater 40, the output of the heater 40 can be controlled so that the interior of the chamber 10 is at a predetermined heat treatment temperature, for example, between 100°C and 600°C. The heating control unit 83 can also stop the power supply to the heater 40.

ガス制御部84は、ガス放出部Gから冷却ガスを放出させるか否か、すなわちガス放出部Gのオンオフを制御する。ガス放出部Gがオンになるとは、ノズルG1の開口から冷却ガスを放出することをいう。ガス放出部Gがオフになるとは、ノズルG1の開口から放出している冷却ガスを停止することをいう。 The gas control unit 84 controls whether or not cooling gas is released from the gas release unit G, i.e., controls the on/off state of the gas release unit G. When the gas release unit G is turned on, cooling gas is released from the opening of the nozzle G1. When the gas release unit G is turned off, cooling gas released from the opening of the nozzle G1 is stopped.

記憶部85は、制御部80の制御対象となる各構成の動作を実現するためのプログラム、データ等の情報を記憶する。入出力制御部86は、制御部80の制御対象となる各構成との間での信号の変換や入出力を制御するインタフェースである。 The memory unit 85 stores information such as programs and data for implementing the operation of each component controlled by the control unit 80. The input/output control unit 86 is an interface that controls signal conversion and input/output between each component controlled by the control unit 80.

さらに、制御部80には、入力装置91、出力装置92が接続されている。入力装置91は、オペレータが、制御部80を介して熱処理装置1を操作するためのスイッチ、タッチパネル、キーボード、マウス等の入力手段である。出力装置92は、熱処理装置1の状態を確認するための情報を、オペレータが視認可能な状態とする表示装置等の出力手段である。 Furthermore, an input device 91 and an output device 92 are connected to the control unit 80. The input device 91 is an input means such as a switch, touch panel, keyboard, or mouse that allows the operator to operate the heat treatment device 1 via the control unit 80. The output device 92 is an output means such as a display device that makes information for checking the status of the heat treatment device 1 visible to the operator.

[動作]
(搬入・加熱動作)
上記のような構成の熱処理装置1の搬入・加熱動作を、図10のフローチャートを参照して説明する。前提として、チャンバ10の内部には支持部30により複数のカセット20が支持され、カセット20の内部にワークWは載置されていないものとする。開口部Aは閉位置に位置しているものとする。ただし、チャンバ10と開閉扉Dとの間には隙間があり、チャンバ10の内部は開放状態にあるものとする。検出器50は、図8に示すように、ワークWの対角線上に位置する角の下面に当接するように一対設けられる。
[Operation]
(Loading and heating)
The loading and heating operation of the heat treatment apparatus 1 configured as described above will be described with reference to the flowchart in Fig. 10. It is assumed that a plurality of cassettes 20 are supported by the support parts 30 inside the chamber 10, and that no workpieces W are placed inside the cassettes 20. The opening A is in the closed position. However, there is a gap between the chamber 10 and the opening/closing door D, and the interior of the chamber 10 is open. As shown in Fig. 8, a pair of detectors 50 are provided so as to abut against the underside of the diagonally opposite corners of the workpieces W.

まず、開閉制御部81により、開閉扉Dをスライドさせ、開位置に移動させる(ステップS01)。続いて、図示しないロボットアームにより、上の段のカセット20から順にワークWが搬入される(ステップS02)。搬入されたワークWは、カセット20の内部に設けられたワーク支持部23及び検出器50に支持される。ワークWの搬入が完了すると、開閉制御部81により、開閉扉Dを閉位置にスライドさせ、さらに開口部Aに押し付けることにより、チャンバ10の内部を密閉状態とする(ステップS03)。 First, the opening/closing control unit 81 slides the opening/closing door D to the open position (step S01). Next, a robot arm (not shown) loads the workpieces W into the cassettes 20, starting from the top tier (step S02). The loaded workpieces W are supported by the workpiece support unit 23 and detector 50 provided inside the cassette 20. Once the workpieces W have been loaded, the opening/closing control unit 81 slides the opening/closing door D to the closed position and presses it against the opening A, sealing the interior of the chamber 10 (step S03).

チャンバ10の内部を密閉状態にした後は、排気制御部82により、排気部11を制御し、チャンバ10の内部を減圧する(ステップS04)。例えば、100Pa程度の圧力まで減圧する。なお、チャンバ10の内部が所定圧まで減圧され、真空状態になった後、チャンバ10の内部は真空に保たれる。続いて、加熱制御部83により、チャンバ10の内部が所定の熱処理温度になるように、ヒータ40に対して電力を供給し、ワークWの熱処理を行う(ステップS05)。熱処理温度は、例えば100℃~600℃とするが、特に制限されない。なお、ヒータ40に対する電力供給は、ステップS03の時点から行われても良く、これにより徐々にチャンバ10の内部を加熱するようにしても良い。ワークWの熱処理が終わった後は、加熱制御部83により、ヒータ40に対する電力供給を停止する(ステップS06)。 After the interior of the chamber 10 is sealed, the exhaust control unit 82 controls the exhaust unit 11 to depressurize the interior of the chamber 10 (step S04). For example, the pressure is reduced to approximately 100 Pa. After the interior of the chamber 10 is depressurized to a predetermined pressure and reaches a vacuum state, the interior of the chamber 10 is maintained at a vacuum. Next, the heating control unit 83 supplies power to the heater 40 so that the interior of the chamber 10 reaches a predetermined heat treatment temperature, and heat treatment is performed on the workpiece W (step S05). The heat treatment temperature is, for example, 100°C to 600°C, but is not particularly limited. Note that power supply to the heater 40 may be started from step S03, thereby gradually heating the interior of the chamber 10. After heat treatment of the workpiece W is completed, the heating control unit 83 stops the power supply to the heater 40 (step S06).

(冷却・搬出動作)
続いて、熱処理装置1の冷却・搬出動作を、図11のフローチャートを参照して説明する。前提として、ヒータ40の加熱時間が終了し、ヒータ40に対する電力供給が停止されているものとする。まず、排気部11の排気を停止し、ガス制御部84によりガス放出部Gをオンにする(ステップS11)。これにより、チャンバ10の内部を真空から徐々に大気圧に近づけていくとともに、均熱板22およびワークWを冷却していく。カセット20を構成する均熱板22が冷却されることで、均熱板22からワークWに熱が伝わることを妨げられるため、冷却ガスにより効率的にワークWを冷却することができる。
(Cooling and removal operation)
Next, the cooling and unloading operation of the heat treatment apparatus 1 will be described with reference to the flowchart of FIG. 11 . It is assumed that the heating time of the heater 40 has ended and the power supply to the heater 40 has been stopped. First, exhaust from the exhaust unit 11 is stopped, and the gas release unit G is turned on by the gas control unit 84 (step S11). This gradually changes the pressure inside the chamber 10 from vacuum to atmospheric pressure, and cools the heat equalizer plate 22 and the workpiece W. Cooling the heat equalizer plate 22 that constitutes the cassette 20 prevents heat from being transferred from the heat equalizer plate 22 to the workpiece W, allowing the workpiece W to be efficiently cooled by the cooling gas.

チャンバ10の内部が大気圧になると、排気制御部82により弁121を開き、排気管12を介して冷却ガスをチャンバ10の外部に排気する(ステップS12)。これにより、チャンバ10の内部は、大気圧の状態で所定の温度まで冷却される。所定の温度は、例えば100℃以下である。チャンバ10内の温度が所定の温度以下であるか否かは、不図示のセンサにより検知するようにしても良い。あるいは、予め実験等で求めた最適な時間に基づき管理するようにしても良い。なお、所定の温度になる前に、以下のステップS13に示すようにチャンバ10の開口部Aを開放状態とすると、開口部Aを介してチャンバ10の内部に流入する酸素と、ワークWの基板Sに形成された膜の成分とが反応してしまい、所望の膜質を有するワークWが得られなくなるおそれがある。 Once the pressure inside the chamber 10 reaches atmospheric pressure, the exhaust control unit 82 opens the valve 121 and exhausts the cooling gas to the outside of the chamber 10 through the exhaust pipe 12 (step S12). This cools the inside of the chamber 10 to a predetermined temperature while maintaining atmospheric pressure. The predetermined temperature is, for example, 100°C or below. A sensor (not shown) may be used to detect whether the temperature inside the chamber 10 is below the predetermined temperature. Alternatively, the temperature may be controlled based on an optimal time determined in advance through experiments, etc. Note that if opening A of the chamber 10 is left open as shown in step S13 below before the predetermined temperature is reached, the oxygen flowing into the chamber 10 through opening A may react with the components of the film formed on the substrate S of the workpiece W, potentially resulting in a workpiece W that does not have the desired film quality.

ステップS12により、チャンバ10の内部が大気圧の状態で所定の温度まで冷却されると、開閉制御部81により開閉扉Dを制御し、チャンバ10の内部を開放状態にし、さらに開閉扉Dをスライドさせ、開位置に移動させる(ステップS13)。続いて、図示しないロボットアームにより、下の段のカセット20から順にワークWが搬出される(ステップS14)。なお、ワークWの搬出の時点は、上述のように、熱処理時間によって判断されている。例えば、熱処理の開始の時点を基準として、熱処理時間にワークWの搬出にかかる時間を加えた時間を、ワークWの搬出の時点とすることが出来る。この、ワークWの搬出の時点からタイマーを起動して、所定時間が経過したか否かにより、チャンバ10内に次のワークWが搬入され、検出器50によるワークWの検出を行うべきタイミングが訪れたか否かを判断するようにしても良い。 When the interior of the chamber 10 is cooled to a predetermined temperature under atmospheric pressure in step S12, the opening/closing control unit 81 controls the opening/closing door D to open the interior of the chamber 10, and then slides the opening/closing door D to the open position (step S13). Next, a robot arm (not shown) unloads the workpieces W, starting from the cassette 20 on the lower level (step S14). The time when the workpieces W are unloaded is determined based on the heat treatment time, as described above. For example, the time when the workpieces W are unloaded can be determined by adding the heat treatment time to the time required to unload the workpieces W, based on the start of the heat treatment. A timer can be started from the time when the workpieces W are unloaded, and depending on whether a predetermined time has elapsed, it can be determined whether the next workpiece W should be loaded into the chamber 10 and the detector 50 should detect the workpieces W.

(検出動作)
続いて、検出器50が図8に示すように配置された熱処理装置1の検出動作を、図12のフローチャートを参照して説明する。ワークWの搬出の時点(図11のステップS14の後)で、次に熱処理を行うワークWをチャンバ10の内部に搬入する前に、チャンバ10の内部にワークWが残っているか否かを検出する(ステップS21)。具体的には、検出器50a、50bにおいて、ワークWが検出されているか否かを確認する。このときチャンバ10内の温度は100℃以下であるが、開閉扉Dが開状態であったとしても、急激にチャンバ10内の温度が低下することはなく、チャンバ10の外部と50℃程度の温度差がある状態である。あるいは、開閉扉Dを開状態にする際に、ヒータ40をオンにして次の昇温に備えるようにしても良い。このようにすることで、チャンバ10の内外の温度差を確実に保つことができ、検出器50によるワークWの検出が確実に行うことができる。検出器50a、50bの両方がワークWを検出しなかった場合(ステップS21のNO)、チャンバ10の内部に「ワークなし」と判断し、図示しないロボットアームにより、次に熱処理を行うワークWの搬入を行う。
(Detection operation)
Next, the detection operation of the heat treatment apparatus 1 with the detector 50 arranged as shown in FIG. 8 will be described with reference to the flowchart of FIG. 12. At the time of unloading the workpiece W (after step S14 in FIG. 11), before the next workpiece W to be heat-treated is loaded into the chamber 10, it is detected whether the workpiece W remains inside the chamber 10 (step S21). Specifically, it is confirmed whether the detectors 50a and 50b have detected the workpiece W. At this time, the temperature inside the chamber 10 is below 100°C. Even if the opening/closing door D is open, the temperature inside the chamber 10 does not drop suddenly, and there is a temperature difference of about 50°C between the outside and the inside of the chamber 10. Alternatively, when the opening/closing door D is opened, the heater 40 may be turned on to prepare for the next temperature rise. This reliably maintains the temperature difference between the inside and outside of the chamber 10, allowing the detector 50 to reliably detect the workpiece W. If neither detector 50a nor 50b detects the workpiece W (NO in step S21), it is determined that there is no workpiece inside the chamber 10, and the workpiece W to be heat-treated next is loaded using a robot arm (not shown).

一方で、検出器50a、50bの少なくとも一方がワークWを検出した場合(ステップS21のYES)、チャンバ10の内部に「ワークあり」と判断される。この場合、次に熱処理を行うワークWの搬入を一時停止する。さらに、このチャンバ10の内部に残っているワークWが割れているか否かを判断することも出来る(ステップS22)。すなわち、検出器50a、50bの両方がワークWを検出した場合(ステップS22のYES)、ワークWは「割れなし」と判断される。この場合、所定の時間が経過した後に(ステップS23)、再びステップS21に戻る。この時点でワークWが搬出されていれば、ステップS21のYESに進み、次に熱処理を行うワークWの搬入を行う。一方で、検出器50a、50bの一方だけがワークWを検出した場合(ステップS22のNO)、ワークWは「割れあり」と判断される。この場合、カセット20の内部にワークWの欠片が残っていると考えられるので、所定の時間が経過してワークWが搬出されたとしても、カセット20の内部にはワークWの欠片が残っていると考えられるので、この欠片を除去する必要がある。 On the other hand, if at least one of the detectors 50a and 50b detects a workpiece W (YES in step S21), it is determined that a workpiece is present inside the chamber 10. In this case, the loading of the workpiece W to be heat-treated next is temporarily stopped. It is also possible to determine whether the workpiece W remaining inside the chamber 10 is cracked (step S22). That is, if both detectors 50a and 50b detect the workpiece W (YES in step S22), the workpiece W is determined to be "uncracked." In this case, after a predetermined time has elapsed (step S23), the process returns to step S21. If the workpiece W has been unloaded at this point, the process proceeds to YES in step S21, and the workpiece W to be heat-treated next is loaded. On the other hand, if only one of the detectors 50a and 50b detects the workpiece W (NO in step S22), the workpiece W is determined to be "cracked." In this case, it is likely that pieces of the workpiece W remain inside the cassette 20, so even if the workpiece W is removed after a predetermined time has passed, it is likely that pieces of the workpiece W remain inside the cassette 20, and these pieces must be removed.

[作用効果]
(1)本実施形態の検出器50は、ワークWを熱処理するチャンバ10の内部に設けられ、チャンバ10の内部に搬入されるワークWに押圧される検出器50であって、金属からなる正極線521と、正極線521から離間して設けられ、正極線521と異なる金属からなる負極線522と、ワークWに押圧されることにより正極線521の一端と負極線522の一端とを導通させる検出部54と、を備え、正極線521の他端と負極線522の他端とが、チャンバ10の外側に設けられていることを特徴とする。いずれも金属からなる正極線521と負極線522は、耐熱性を有するので、100℃~600℃となる高温下のチャンバ10の内部においても、ワークWの有無を検出することが出来る。
[Action and effect]
(1) The detector 50 of this embodiment is provided inside the chamber 10 in which the workpiece W is heat-treated, and is pressed against the workpiece W being carried into the chamber 10. The detector 50 includes a positive electrode wire 521 made of metal, a negative electrode wire 522 that is provided at a distance from the positive electrode wire 521 and made of a different metal than the positive electrode wire 521, and a detection unit 54 that conducts one end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522 when pressed against the workpiece W, and the other end of the positive electrode wire 521 and the other end of the negative electrode wire 522 are provided outside the chamber 10. The positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522, both made of metal, are heat-resistant, and therefore can detect the presence or absence of the workpiece W even inside the chamber 10 at high temperatures of 100°C to 600°C.

(2)本実施形態の検出部54は、正極線521と負極線522とから離間して設けられ、正極線521または負極線522の一方と同じ金属からなる導通部541を備え、ワークWに押圧されることにより、導通部541を介して正極線521の一端と負極線522の一端とを導通させる。これにより、正極線521と負極線522とを動かさずに、正極線521と負極線522とを接触させることが可能となるので、検出器50の耐久性が向上する。 (2) The detection unit 54 of this embodiment is provided at a distance from the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 and includes a conductive portion 541 made of the same metal as either the positive electrode wire 521 or the negative electrode wire 522. When pressed against the workpiece W, the detection unit 54 establishes electrical continuity between one end of the positive electrode wire 521 and one end of the negative electrode wire 522 via the conductive portion 541. This makes it possible to bring the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 into contact without moving them, thereby improving the durability of the detector 50.

(3)正極線521は、ニッケルとクロムを主成分とするニッケル合金からなり、負極線522は、ニッケルとアルミニウムを主成分とするニッケル合金からなる。これらの合金からなる正極線521と負極線522は、非常に高い耐熱性を有するので、100℃~600℃となる高温下のチャンバ10の内部においてもワークWの有無を検出可能なだけでなく、検出器50の耐久性を向上させることも出来る。 (3) The positive electrode wire 521 is made of a nickel alloy primarily composed of nickel and chromium, and the negative electrode wire 522 is made of a nickel alloy primarily composed of nickel and aluminum. The positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 made of these alloys have extremely high heat resistance, so they can not only detect the presence or absence of a workpiece W even inside the chamber 10 at high temperatures of 100°C to 600°C, but also improve the durability of the detector 50.

(4)本実施形態の熱処理装置1は、ワークWが搬入されるチャンバ10と、チャンバ10の内部に設けられ、ワークWを熱処理するヒータ40と、チャンバ10の内部に設けられ、ワークWに押圧されることにより、ワークWを検出する上述の検出器50と、を備える。クロメル及びアルメルは、非常に高い耐熱性を有するので、100℃~600℃となる高温下のチャンバ10の内部においても、ワークWの有無を検出することが出来る。また、正極線521がクロメルからなり、負極線522がアルメルからなる場合、本実施形態の熱処理装置1は、チャンバ10を減圧し、真空にして熱処理を行うが、クロメル及びアルメルは、圧力変化について高い耐性を有しているため、真空下のチャンバ10の内部においても、ワークWの有無を検出することが出来る。 (4) The heat treatment apparatus 1 of this embodiment includes a chamber 10 into which the workpiece W is loaded, a heater 40 provided inside the chamber 10 to heat-treat the workpiece W, and the aforementioned detector 50 provided inside the chamber 10 to detect the workpiece W by being pressed against it. Chromel and alumel have extremely high heat resistance, so they can detect the presence or absence of the workpiece W even inside the chamber 10 at high temperatures of 100°C to 600°C. Furthermore, when the positive electrode wire 521 is made of chromel and the negative electrode wire 522 is made of alumel, the heat treatment apparatus 1 of this embodiment reduces the pressure of the chamber 10 to create a vacuum for heat treatment. However, because chromel and alumel have high resistance to pressure changes, they can detect the presence or absence of the workpiece W even inside the chamber 10 under vacuum.

(5)本実施形態の検出器50は、チャンバ10の奥側に設けられても良い。この場合、熱が逃げにくいチャンバ10の内部とチャンバ10外部とで大きな温度差を確保することが出来るので、検出器50の電極部52は、確実に機能することが出来る。 (5) The detector 50 of this embodiment may be installed at the back of the chamber 10. In this case, a large temperature difference can be ensured between the inside of the chamber 10, where heat does not easily escape, and the outside of the chamber 10, allowing the electrode portion 52 of the detector 50 to function reliably.

(6)本実施形態のワークWは、矩形であり、検出器50は、ワークWの対角線上の角の下面に当接するように一対設けられる。これにより、検出器50がワークWを検出した場合において、さらにその角に割れが生じているか否かを検出することが出来る。割れが生じている場合には、カセット20の内部に残っているワークWの欠片を事前に除去することが出来るので、次に搬入するワークWに欠片が衝突するおそれを回避することが出来るまた、ワークWに塗布され熱処理される溶液Lは、加熱処理中に与えられる温度に場所によってばらつきが生じると膜質に悪影響を及ぼす。しかしながら本実施形態の検出器50は、膜が形成されていない領域に対向するように設けられるため、検出器50によってワークWの膜が形成された領域の熱を奪うことを防止することができる。 (6) In this embodiment, the workpiece W is rectangular, and a pair of detectors 50 are installed to abut the underside of diagonally opposite corners of the workpiece W. This allows the detector 50 to detect the workpiece W and further detect whether or not a crack has occurred at that corner. If a crack has occurred, any pieces of the workpiece W remaining inside the cassette 20 can be removed in advance, thereby preventing the pieces from colliding with the next workpiece W to be loaded. Furthermore, the solution L applied to the workpiece W and subjected to heat treatment can have a negative impact on the film quality if the temperature applied during the heat treatment varies from place to place. However, in this embodiment, the detector 50 is installed facing the area where no film is formed, and therefore the detector 50 can be prevented from removing heat from the area of the workpiece W where a film is formed.

[変形例]
(1)上記実施形態の正極線521はクロメル、負極線522はアルメルとしたが、これに限られない。例えば、正極線521が鉄、負極線522が銅およびニッケルを主とした合金であっても良い。あるいは、正極線521、負極線522ともに白金ロジウム合金であってもよいし、正極線521、負極線522ともにレニウムを含むタングステン・レニウム合金であってもよい。その他、正極線と負極線とが接触する箇所と基準接点との温度差により起電力を発する金属で、かつ、加熱後のチャンバ10内の温度に耐えうる金属であればよい。
[Modification]
(1) In the above embodiment, the positive electrode wire 521 is made of chromel and the negative electrode wire 522 is made of alumel, but this is not limited to this. For example, the positive electrode wire 521 may be made of iron and the negative electrode wire 522 may be made of an alloy mainly containing copper and nickel. Alternatively, both the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 may be made of a platinum-rhodium alloy, or both the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 may be made of a tungsten-rhenium alloy containing rhenium. Any other metal may be used as long as it generates an electromotive force due to the temperature difference between the point where the positive electrode wire and the negative electrode wire contact each other and the reference junction and can withstand the temperature inside the chamber 10 after heating.

(2)上記実施形態の検出器50は、導通部541を介して正極線521と負極線522とを接触させたが、これに限られない。例えば、平面視で正極線521と負極線522とが重なるように設けられ、その上方から導通部541を降下させることにより、正極線521と負極線522とを直接接触させ、正極線521と負極線522とを導通させるようにしても良い。この場合には、導通部541は導電性を有する素材である必要はない。 (2) In the detector 50 of the above embodiment, the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 are in contact with each other via the conductive portion 541, but this is not limited to this. For example, the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 may be arranged so that they overlap in a plan view, and the conductive portion 541 may be lowered from above to bring the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 into direct contact with each other, thereby establishing electrical continuity between the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522. In this case, the conductive portion 541 does not need to be made of a conductive material.

(3)上記実施形態の検出器50は、例えば図13に示すように、ワークWの四隅の角の下面に当接するように4つ設けられても良い。以下では、ワークWの左下角の下面に当接するように設けられる検出器50を検出器50c、ワークWの右上角の下面に当接するように設けられる検出器50を検出器50dとする。検出器50a~50dの全てがワークWを検出した場合には、「ワークあり」と判断することが出来る。少なくとも1つの検出器50a~50dがワークWを検出し、他の少なくとも1つの検出器50a~50dがワークWを検出しなかった場合には、「ワークあり」かつ「ワーク割れ」と判断することが出来る。検出器50a~50dの全てがワークWを検出しなかった場合には、「ワークなし」と判断することが出来る。これにより、ワークWの対角線上の角の下面に当接するように一対の検出器50を設けた場合に比して、より正確にワークWの有無及び割れを検出することが出来る。 (3) In the above embodiment, four detectors 50 may be provided so as to abut against the underside of the four corners of the workpiece W, as shown in FIG. 13, for example. Hereinafter, the detector 50 provided so as to abut against the underside of the lower left corner of the workpiece W will be referred to as detector 50c, and the detector 50 provided so as to abut against the underside of the upper right corner of the workpiece W will be referred to as detector 50d. If all of the detectors 50a to 50d detect the workpiece W, it can be determined that "a workpiece is present." If at least one of the detectors 50a to 50d detects the workpiece W and at least one of the other detectors 50a to 50d does not detect the workpiece W, it can be determined that "a workpiece is present" and "a workpiece is cracked." If none of the detectors 50a to 50d detect the workpiece W, it can be determined that "a workpiece is not present." This makes it possible to more accurately detect the presence or absence of a workpiece W and any cracks in the workpiece W compared to when a pair of detectors 50 are provided so as to abut against the underside of diagonally opposite corners of the workpiece W.

(4)上記実施形態の検出器50は、例えば図14に示すように、各検出器50の近傍に三点支持部Tを設けても良い。三点支持部Tは、例えば、梁211に設けられる。三点支持部Tは、例えば三本一組の棒状体により構成される。これらの棒状体の先端は、ワーク支持部23同様、半球状であっても良い。この三点支持部Tが設けられることにより、熱処理中にワークWが割れてしまったとしても、ワークWの欠片は三点支持部Tに支持されるので、ワークWの欠片は検出器50から落下することなく、検出器50に検出され続ける。上記実施形態においては、例えば検出器50が当接しているワークWの角の全てが割れてしまった場合には、ワークWが残っているにも拘らず「ワークなし」と判断されるおそれがあったが、本実施形態ではこのような誤判断のおそれを低減することが出来る。これにより、チャンバ10内に残っているワークWと、新たに搬入されるワークWとが衝突して割れたり欠けたりすることを防止することができる。 (4) The detectors 50 in the above embodiment may be provided with a three-point support portion T near each detector 50, as shown in FIG. 14, for example. The three-point support portion T is provided, for example, on the beam 211. The three-point support portion T is composed of, for example, a set of three rods. The tips of these rods may be hemispherical, similar to the workpiece support portion 23. By providing this three-point support portion T, even if the workpiece W breaks during heat treatment, the fragments of the workpiece W are supported by the three-point support portion T. Therefore, the fragments of the workpiece W do not fall from the detector 50 and continue to be detected by the detector 50. In the above embodiment, for example, if all corners of the workpiece W that the detector 50 is abutting are broken, there is a risk that the detector 50 may determine that "no workpiece" is present even though the workpiece W remains. However, this embodiment reduces the risk of such an erroneous determination. This prevents the workpiece W remaining in the chamber 10 from colliding with the newly loaded workpiece W, causing it to break or chip.

なお、図14においては、4つの検出器50に対応して4つの三点支持部Tを設けたが、これに限られない。例えば、図8に示すように一対の検出器50を設ける場合であれば、これに対応して一対の三点支持部Tを設けても良い。すなわち、各検出器50に対応して、各検出器50の近傍に三点支持部Tを設ければ良い。また、各検出器50の近傍に三点支持部Tを設ける代わりに、検出器50そのものを、三点支持部Tを構成する棒状体の1つとしても良い。換言すれば、1つの検出器50と二本の棒状体とで三点支持部Tを構成しても良い。 Note that while four three-point support parts T are provided corresponding to four detectors 50 in Figure 14, this is not limiting. For example, if a pair of detectors 50 is provided as shown in Figure 8, a pair of three-point support parts T may be provided corresponding to the pair. That is, a three-point support part T may be provided near each detector 50. Also, instead of providing a three-point support part T near each detector 50, the detector 50 itself may be one of the rod-shaped bodies that make up the three-point support part T. In other words, a three-point support part T may be made up of one detector 50 and two rod-shaped bodies.

(5)上記実施形態の検出器50は、連続して加熱処理を行う際に、処理と処理の間にワークWの有無を検出することを例示しているが、最初の加熱処理前にチャンバ10内を予熱しておき、ワークWを搬入したときから処理中においてワークWの検出を行うようにしても良い。ワークWの処理と処理の間だけでなく、ワークW搬入時~処理中においてもワークWを検出することによって、このタイミングでのワークWの監視が可能になり、ワークWが問題なく搬入されたか否か、ワークWに割れが生じたか否か、割れが生じたタイミングはいつかなども検出することが出来る。 (5) In the above embodiment, the detector 50 is illustrated as detecting the presence or absence of a workpiece W between successive heat treatments. However, it is also possible to preheat the chamber 10 before the first heat treatment and detect the workpiece W from the time the workpiece W is loaded during treatment. By detecting the workpiece W not only between treatments but also when the workpiece W is loaded and during treatment, it becomes possible to monitor the workpiece W at this timing, and to detect whether the workpiece W was loaded without any problems, whether cracks have occurred in the workpiece W, and when the cracks occurred.

(6)また、上記実施形態においては、検出器50による検出信号を、ロボットアームを制御する制御装置に送り、当該ロボットアームを制御することについて例示したが、これに限られず、検出器50による検出信号に基づいて、オペレータが視認可能な状態とする表示装置等の出力手段に出力するようにしても良い。例えば、パネルに表示したり、ランプを点灯させるなどしてワークWが検出されたことを表示するようにしてもよい。 (6) Furthermore, in the above embodiment, the detection signal from the detector 50 is sent to a control device that controls the robot arm, and the robot arm is controlled. However, this is not limited to this. Based on the detection signal from the detector 50, the signal may be output to an output means such as a display device that is visible to the operator. For example, the fact that the workpiece W has been detected may be indicated on a panel or by turning on a lamp.

(7)また、上記実施形態においては、検出器50の正極線521と負極線522とが異なる金属によって構成されていることを例示したが、これに限られず、同一の金属によって構成されていても良い。この場合には、電気を流すための電源を別途設ける必要がある。 (7) Furthermore, in the above embodiment, the positive electrode wire 521 and the negative electrode wire 522 of the detector 50 are made of different metals, but this is not limited thereto and they may be made of the same metal. In this case, a separate power source for supplying electricity must be provided.

[他の実施形態]
以上、本発明の実施形態及び各部の変形例を説明したが、この実施形態や各部の変形例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上述したこれら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明に含まれる。
Other Embodiments
Although the embodiments of the present invention and modifications of each part have been described above, these embodiments and modifications of each part are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments described above can be embodied in various other forms, and various omissions, substitutions, and modifications can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and modifications are included within the scope and spirit of the invention, and are also included in the invention described in the claims.

1 熱処理装置
10 チャンバ
11 排気部
12 排気管
121 弁
20 カセット
21 カセットフレーム
211 梁
22 均熱板
23 ワーク支持部
24 カセット支持部
30 支持部
31 フレーム
32 受け部
40 ヒータ
50 検出器
51 絶縁体
52 電極部
521 正極線
522 負極線
53 ホルダ
531 保持部
532 フランジ部
54 検出部
541 導通部
542 保護部
55 キャップ
80 制御部
81 排気制御部
82 加熱制御部
83 ガス制御部
84 開閉制御部
85 記憶部
86 入出力制御部
91 入力装置
92 出力装置
A 開口部
B ばね
D 開閉扉
F 溝
G ガス放出部
L 溶液
S 基板
W ワーク
1 Heat treatment apparatus 10 Chamber 11 Exhaust section 12 Exhaust pipe 121 Valve 20 Cassette 21 Cassette frame 211 Beam 22 Heat equalizing plate 23 Work support section 24 Cassette support section 30 Support section 31 Frame 32 Receiving section 40 Heater 50 Detector 51 Insulator 52 Electrode section 521 Positive electrode wire 522 Negative electrode wire 53 Holder 531 Holding section 532 Flange section 54 Detecting section 541 Conductive section 542 Protective section 55 Cap 80 Control section 81 Exhaust control section 82 Heating control section 83 Gas control section 84 Opening/closing control section 85 Memory section 86 Input/output control section 91 Input device 92 Output device A Opening section B Spring D Opening/closing door F Groove G Gas release section L Solution S Substrate W Work

Claims (8)

ワークを熱処理するチャンバの内部に設けられ、前記チャンバの内部に搬入される前記ワークを検出する検出器であって、
金属からなる正極線と、
前記正極線から離間して設けられ、前記正極線と異なる金属を含む負極線と、
前記ワークに押圧されることにより前記正極線の一端と前記負極線の一端とを導通させる検出部と、を備え、
前記正極線の他端と前記負極線の他端とが、前記チャンバの外側に設けられていることを特徴とする検出器。
A detector that is provided inside a chamber in which a workpiece is heat-treated and detects the workpiece being carried into the chamber,
a positive electrode wire made of metal;
a negative electrode wire provided at a distance from the positive electrode wire and containing a metal different from that of the positive electrode wire;
a detection unit that is pressed against the workpiece to electrically connect one end of the positive electrode wire and one end of the negative electrode wire;
The other end of the positive electrode wire and the other end of the negative electrode wire are provided outside the chamber.
前記検出部は、
前記正極線と前記負極線とから離間して設けられ、前記正極線または前記負極線の一方と同じ金属からなる導通部を備え、
前記ワークに押圧されることにより、前記導通部を介して前記正極線の一端と前記負極線の一端とを導通させる、
請求項1に記載の検出器。
The detection unit
a conductive part provided at a distance from the positive electrode wire and the negative electrode wire and made of the same metal as one of the positive electrode wire and the negative electrode wire;
When pressed against the workpiece, one end of the positive electrode wire and one end of the negative electrode wire are electrically connected via the conductive portion.
The detector of claim 1 .
前記正極線は、ニッケルとクロムを主成分とするニッケル合金からなり、
前記負極線は、ニッケルとアルミニウムを主成分とするニッケル合金からなる、
請求項1または2に記載の検出器。
the positive electrode wire is made of a nickel alloy containing nickel and chromium as main components,
The negative electrode wire is made of a nickel alloy containing nickel and aluminum as main components.
3. A detector according to claim 1 or 2.
ワークが搬入されるチャンバと、
前記チャンバの内部に設けられ、前記ワークを熱処理するヒータと、
前記チャンバの内部に設けられ、前記ワークを検出する請求項1乃至3のいずれかに記載の検出器と、
を備える熱処理装置。
a chamber into which the workpiece is carried;
a heater provided inside the chamber for heat-treating the workpiece;
a detector according to any one of claims 1 to 3, which is provided inside the chamber and detects the workpiece;
A heat treatment device comprising:
前記検出器は、前記チャンバの、前記ワークを搬入出する開口部から離れた奥側に設けられる、
請求項4に記載の熱処理装置。
The detector is provided at the back side of the chamber, away from an opening through which the workpiece is carried in and out.
The heat treatment apparatus according to claim 4 .
前記ワークは、矩形であり、
前記検出器は、前記ワークの対角線上の角の下面に当接するように一対設けられる、
請求項4に記載の熱処理装置。
The workpiece is rectangular,
The detectors are provided in pairs so as to abut on the undersides of diagonally opposite corners of the workpiece.
The heat treatment apparatus according to claim 4 .
前記ワークは、矩形であり、
前記検出器は、前記ワークの四隅の角の下面に当接するように4つ設けられる、
請求項4に記載の熱処理装置。
The workpiece is rectangular,
The detector is provided in four numbers so as to abut on the undersides of the four corners of the workpiece.
The heat treatment apparatus according to claim 4 .
各検出器の近傍に、前記ワークの角の下面を支持するように三点支持部が設けられる、
請求項6または7に記載の熱処理装置。
A three-point support unit is provided near each detector to support the underside of the corner of the workpiece.
The heat treatment device according to claim 6 or 7.
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