JP7774197B2 - Space Purification System - Google Patents
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Description
本発明は、次亜塩素酸を含有する除菌水を含侵させた加湿エレメントから気化した次亜塩素酸により空間を浄化する空間浄化システムに関するものである。 The present invention relates to a space purification system that purifies space using hypochlorous acid vaporized from a humidifying element impregnated with disinfectant water containing hypochlorous acid.
除菌脱臭を行う手段として次亜塩素酸を含有する除菌水を活用することは有効な手段であり、除菌水を直接洗浄等に活用する、また、揮発噴霧等で空間を除菌する等、様々なシーンで活用されている。例えば、特許文献１に示すように、除菌水を加湿エレメント（気液接触部）に滴下して、加湿エレメントを通過した空気を除菌する給気装置（空間浄化システム）が提案されている。 The use of disinfectant water containing hypochlorous acid is an effective means of sterilizing and deodorizing, and is used in a variety of situations, including directly for cleaning, or for disinfecting spaces with volatile sprays. For example, Patent Document 1 proposes an air supply device (space purification system) that drips disinfectant water onto a humidifying element (air-liquid contact portion) to disinfect the air that has passed through the humidifying element.
しかしながら、従来の給気装置では、次亜塩素酸水が加湿エレメントに含まれる成分と反応して消費され、空気中に気化する次亜塩素酸が減少することがあり、対象空間に次亜塩素酸が目的の濃度で放出されなくなるという問題があった。 However, with conventional air supply devices, hypochlorous acid water reacts with components contained in the humidifying element and is consumed, which can reduce the amount of hypochlorous acid that evaporates into the air, resulting in the problem that hypochlorous acid is not released into the target space at the desired concentration.
そこで本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システムを提供することを目的とする。 The present invention aims to solve the above-mentioned conventional problems and provide a space purification system that can stably apply hypochlorous acid when hypochlorous acid is added to air flowing through the gas-liquid contact area.
そして、この目的を達成するために、本発明に係る空間浄化システムは、次亜塩素酸水を供給する次亜塩素酸水供給装置と、次亜塩素酸水供給装置から供給される次亜塩素酸水を滴下して気化させる気液接触部と、気液接触部を通風する空気を対象空間に放出する送風機と、を備える。気液接触部は、気液接触部を構成する材料と次亜塩素酸水との反応が抑制されるように、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材を組み合わせて構成され、抗菌剤又は防カビ剤として、イソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤を含有し、加湿素材は、互いに熱溶着によって接着されていることを特徴とする。これらにより所期の目的を達成するものである。 To achieve this objective, the space purification system of the present invention comprises a hypochlorous acid water supply device that supplies hypochlorous acid water, a gas-liquid contact section that drips and vaporizes the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device, and a blower that releases air ventilating the gas-liquid contact section into the target space. The gas-liquid contact section is composed of a combination of multiple humidifying materials having nonwoven fabrics made of polyester fibers or polyethylene fibers so as to suppress reaction between the material constituting the gas-liquid contact section and the hypochlorous acid water, and contains an isothiazolin-based antibacterial or antifungal agent as the antibacterial or antifungal agent, and the humidifying materials are bonded to each other by thermal welding . These features achieve the desired objective.
本発明によれば、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システムを提供することができる。 The present invention provides a space purification system that can stably apply hypochlorous acid when hypochlorous acid is added to air flowing through a gas-liquid contact section.
本発明に係る空間浄化システムは、次亜塩素酸水を供給する次亜塩素酸水供給装置と、次亜塩素酸水供給装置から供給される次亜塩素酸水を滴下して気化させる気液接触部と、気液接触部を通風する空気を対象空間に放出する送風機と、を備える。気液接触部は、気液接触部を構成する材料と次亜塩素酸水との反応が抑制されるように構成されている。 The space purification system of the present invention comprises a hypochlorous acid water supply device that supplies hypochlorous acid water, a gas-liquid contact unit that drips and vaporizes the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device, and a blower that releases air that passes through the gas-liquid contact unit into the target space. The gas-liquid contact unit is configured to suppress reaction between the material that makes up the gas-liquid contact unit and the hypochlorous acid water.
こうした構成によれば、気液接触部を構成する材料に起因する次亜塩素酸水の消費が抑制されるため、気液接触部を流通する空気と接触する次亜塩素酸水の濃度を安定化させることができる。この結果、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を設定濃度で付与することができる。つまり、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システムとすることができる。 This configuration suppresses the consumption of hypochlorous acid water caused by the materials that make up the gas-liquid contact section, thereby stabilizing the concentration of hypochlorous acid water that comes into contact with the air flowing through the gas-liquid contact section. As a result, hypochlorous acid can be added to the air flowing through the gas-liquid contact section at a set concentration. In other words, when hypochlorous acid is added to the air flowing through the gas-liquid contact section, this can be a space purification system that can stably add hypochlorous acid.
また、本発明に係る空間浄化システムでは、気液接触部は、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材を組み合わせて構成され、加湿素材は、互いに熱溶着によって接着されていることが好ましい。このようにすることで、複数の加湿素材を組み合わせる際に接着剤を使用する必要がなくなり、接着剤との反応による次亜塩素酸水の消費を抑制することができ、気液接触部から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 In addition, in the space purification system of the present invention, the gas-liquid contact unit is preferably constructed by combining multiple humidifying materials, each having a nonwoven fabric made from polyester fiber or polyethylene fiber, and the humidifying materials are preferably bonded together by thermal welding. This eliminates the need to use adhesive when combining multiple humidifying materials, reduces the consumption of hypochlorous acid water due to reaction with the adhesive, and enables a set concentration of hypochlorous acid to be stably applied to the air released from the gas-liquid contact unit.
また、本発明に係る空間浄化システムでは、気液接触部は、抗菌剤又は防カビ剤として、イソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤を含有していることが好ましい。このようにすることで、気液接触部での菌又はカビの発生を抑制しつつ、抗菌剤又は防カビ剤に起因する次亜塩素酸水の消費を抑制することができる。このため、気液接触部から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 In addition, in the space purification system of the present invention, the gas-liquid contact section preferably contains an isothiazolinone-based antibacterial or antifungal agent as the antibacterial or antifungal agent. This makes it possible to suppress the growth of bacteria or mold in the gas-liquid contact section while also reducing the consumption of hypochlorous acid water caused by the antibacterial or antifungal agent. This makes it possible to stably impart a set concentration of hypochlorous acid to the air released from the gas-liquid contact section.
以下、本発明を実施するための形態について添付図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。また、全図面を通して、同一の部位については同一の符号を付して説明を省略している。さらに、本発明に直接には関係しない各部の詳細については重複を避けるために、図面ごとの説明は省略している。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings. Note that the following embodiment is an example of a specific embodiment of the present invention and does not limit the technical scope of the present invention. Furthermore, identical parts throughout the drawings are designated by the same reference numerals, and their explanations are omitted. Furthermore, to avoid duplication, explanations of details of parts not directly related to the present invention are omitted for each drawing.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the drawings.
（実施の形態１）
図１を参照して、本発明の実施の形態１に係る空間浄化システム１について説明する。図１は、本発明の実施の形態１に係る空間浄化システム１の模式図である。
(Embodiment 1)
A space purification system 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to Fig. 1. Fig. 1 is a schematic diagram of the space purification system 1 according to the first embodiment of the present invention.
＜全体構成＞
空間浄化システム１は、外部から得られる市水である原水により高濃度の次亜塩素酸水を希釈し、次亜塩素酸を含む除菌水を生成した後、気液接触により空気中に次亜塩素酸を放出し、対象空間Ｓの除菌又は殺菌を行うシステムである。この際、空間浄化システム１では、ユーザにより設定された加湿能力量に基づいて、気液接触させる次亜塩素酸水の通水を制御する。具体的には、空間浄化システム１は、図１に示すように、次亜塩素酸水供給装置２と、空気調和装置２０とを備えて構成される。次亜塩素酸水供給装置２は、水供給部４と、次亜塩素酸水供給部７と、次亜塩素酸水制御部３とを備えて構成される。また、空気調和装置２０は、還気ダクト２２と、フィルタ２３と、空気冷却器２４と、空気加熱器２５と、気液接触部２６と、送風機２９と、給気ダクト３０と、ドレンパン３１と、排水流路３２と、熱源装置３３と、複数の流路（流路３４～流路３７）と、加湿制御部２１とを備えて構成される。
<Overall structure>
The space purification system 1 dilutes high-concentration hypochlorous acid water with raw city water obtained from the outside to produce disinfecting water containing hypochlorous acid, and then releases the hypochlorous acid into the air through gas-liquid contact to disinfect or sterilize the target space S. In this case, the space purification system 1 controls the flow of hypochlorous acid water that is brought into gas-liquid contact based on the humidification capacity set by the user. Specifically, as shown in FIG. 1 , the space purification system 1 is configured to include a hypochlorous acid water supply device 2 and an air conditioning device 20. The hypochlorous acid water supply device 2 is configured to include a water supply unit 4, a hypochlorous acid water supply unit 7, and a hypochlorous acid water control unit 3. The air conditioning unit 20 is also configured to include a return air duct 22, a filter 23, an air cooler 24, an air heater 25, an air-liquid contact section 26, a blower 29, an air supply duct 30, a drain pan 31, a drainage flow path 32, a heat source device 33, multiple flow paths (flow paths 34 to 37), and a humidification control section 21.
＜次亜塩素酸水供給装置＞
次亜塩素酸水供給装置２は、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水に、水供給部４から供給される水を混合して希釈し、希釈された次亜塩素酸水を気液接触部２６に供給する装置である。
<Hypochlorous acid water supply device>
The hypochlorous acid water supply device 2 is a device that mixes hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 with water supplied from the water supply unit 4 to dilute the hypochlorous acid water, and supplies the diluted hypochlorous acid water to the gas-liquid contact unit 26.
水供給部４は、外部の設備給水管（図示せず）から流入する市水を、空気調和装置２０の気液接触部２６に供給する部材である。水供給部４は、水道管５と、水道弁６とを有して構成される。水道管５は、外部の設備給水管と空気調和装置２０の気液接触部２６との間を連通接続する配管である。水道弁６は、水道管５に備えられている。水道弁６は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続され、次亜塩素酸水制御部３からの信号により開閉される。これにより、気液接触部２６に水道水を導入したり停止したりすることができる。水道弁６は、電磁弁を用いることができる。 The water supply unit 4 is a component that supplies city water flowing in from an external facility water supply pipe (not shown) to the gas-liquid contact unit 26 of the air conditioning unit 20. The water supply unit 4 is composed of a water pipe 5 and a water valve 6. The water pipe 5 is a pipe that connects the external facility water supply pipe and the gas-liquid contact unit 26 of the air conditioning unit 20. The water valve 6 is provided on the water pipe 5. The water valve 6 is connected to the hypochlorous acid water control unit 3 wirelessly or via a wire so that it can communicate with the hypochlorous acid water control unit 3, and is opened and closed by signals from the hypochlorous acid water control unit 3. This allows the introduction and stopping of tap water into the gas-liquid contact unit 26. A solenoid valve can be used for the water valve 6.
次亜塩素酸水供給部７は、内部に貯留する高濃度の次亜塩素酸水を、水供給部４の水道管５内に送出する部材である。次亜塩素酸水供給部７は、送水管８と、止水弁９と、送水ポンプ１０と、次亜塩素酸水タンク１１とを有して構成される。 The hypochlorous acid water supply unit 7 is a component that delivers high-concentration hypochlorous acid water stored internally into the water pipe 5 of the water supply unit 4. The hypochlorous acid water supply unit 7 is composed of a water supply pipe 8, a water stop valve 9, a water supply pump 10, and a hypochlorous acid water tank 11.
送水管８は、水供給部４の水道管５の所定の位置において、水道管５と次亜塩素酸水タンク１１とを連通接続し、次亜塩素酸水タンク１１に貯留される次亜塩素酸水を水道管５内に送水するための配管である。 The water supply pipe 8 is a pipe that connects the water pipe 5 of the water supply unit 4 to the hypochlorous acid water tank 11 at a predetermined position on the water pipe 5, and is used to supply the hypochlorous acid water stored in the hypochlorous acid water tank 11 into the water pipe 5.
止水弁９は、送水管８に備えられている。止水弁９は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続され、次亜塩素酸水制御部３からの信号により開閉される。止水弁９は、電磁弁を用いることができる。 The stop valve 9 is provided on the water supply pipe 8. The stop valve 9 is connected to the hypochlorous acid water control unit 3 via wireless or wired communication so that it can communicate with the hypochlorous acid water control unit 3, and is opened and closed by signals from the hypochlorous acid water control unit 3. A solenoid valve can be used as the stop valve 9.
送水ポンプ１０は、送水管８に備えられている。送水ポンプ１０は、次亜塩素酸水タンク１１から送水管８に次亜塩素酸水を送水する際に、止水弁９が「開」の状態で、送水管８に次亜塩素酸水を流通させる機器である。送水ポンプ１０は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続され、次亜塩素酸水制御部３からの信号により動作する。止水弁９と送水ポンプ１０とが連動して動作することにより、送水管８内に次亜塩素酸水タンク１１からの次亜塩素酸水を導入したり停止したりすることができる。 The water supply pump 10 is provided in the water supply pipe 8. The water supply pump 10 is a device that circulates hypochlorous acid water through the water supply pipe 8 when the stop valve 9 is in the "open" state when hypochlorous acid water is being supplied from the hypochlorous acid water tank 11 to the water supply pipe 8. The water supply pump 10 is communicably connected to the hypochlorous acid water control unit 3 via wireless or wired communication, and operates in response to signals from the hypochlorous acid water control unit 3. The stop valve 9 and the water supply pump 10 operate in conjunction with each other, allowing the introduction and stopping of hypochlorous acid water from the hypochlorous acid water tank 11 into the water supply pipe 8.
次亜塩素酸水制御部３は、後述する加湿制御部２１からの信号に基づいて、空気調和装置２０への送水を行うように次亜塩素酸水供給装置２を制御する。次亜塩素酸水制御部３は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続される。 The hypochlorous acid water control unit 3 controls the hypochlorous acid water supply device 2 to supply water to the air conditioning unit 20 based on a signal from the humidification control unit 21, which will be described later. The hypochlorous acid water control unit 3 is connected to the humidification control unit 21 wirelessly or via a wired connection so that they can communicate with each other.
次亜塩素酸水供給装置２は、次亜塩素酸水制御部３からの信号に基づいて、次亜塩素酸水供給部７からの次亜塩素酸水の供給と、水供給部４からの水とを実行し、それぞれを配管内で混合して希釈し、設定された濃度の希釈された次亜塩素酸水を気液接触部２６に供給する。この際、配管内で混合希釈された次亜塩素酸水における次亜塩素酸濃度は２０ｐｐｍとしている。 Based on a signal from the hypochlorous acid water control unit 3, the hypochlorous acid water supply device 2 supplies hypochlorous acid water from the hypochlorous acid water supply unit 7 and water from the water supply unit 4, mixes and dilutes them in the piping, and supplies diluted hypochlorous acid water of the set concentration to the gas-liquid contact unit 26. At this time, the hypochlorous acid concentration in the hypochlorous acid water mixed and diluted in the piping is set to 20 ppm.
＜空気調和装置＞
空気調和装置２０は、外部及び対象空間Ｓから取り込んだ空気の温度及び湿度の調節を行い、次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水を気化させ、対象空間Ｓに放出することにより、対象空間Ｓの除菌又は殺菌を行う。空気調和装置２０は、上述した通り、還気ダクト２２と、フィルタ２３と、空気冷却器２４と、空気加熱器２５と、気液接触部２６と、送風機２９と、給気ダクト３０と、ドレンパン３１と、排水流路３２と、熱源装置３３と、複数の流路（流路３４～流路３７）と、加湿制御部２１とを備える。空気調和装置２０に導入された空気は、還気ダクト２２、フィルタ２３、空気冷却器２４、空気加熱器２５、気液接触部２６、及び送風機２９の順に通風され、給気ダクト３０により、装置外の対象空間Ｓに排出される。
<Air conditioning equipment>
The air conditioning device 20 adjusts the temperature and humidity of air taken in from the outside and the target space S, vaporizes the hypochlorous acid water delivered from the hypochlorous acid water supply device 2, and releases it into the target space S, thereby sterilizing or disinfecting the target space S. As described above, the air conditioning device 20 includes a return air duct 22, a filter 23, an air cooler 24, an air heater 25, a gas-liquid contact unit 26, a blower 29, an air supply duct 30, a drain pan 31, a drainage flow path 32, a heat source device 33, multiple flow paths (flow paths 34 to 37), and a humidification control unit 21. Air introduced into the air conditioning device 20 is ventilated in the order of the return air duct 22, the filter 23, the air cooler 24, the air heater 25, the gas-liquid contact unit 26, and the blower 29, and is then discharged to the target space S outside the device via the air supply duct 30.
還気ダクト２２は、空気調和装置２０内に空気を導入するための開口である。還気ダクト２２により導入された空気から、フィルタ２３により、塵及び埃等の不純物が除去される。 The return air duct 22 is an opening for introducing air into the air conditioning unit 20. Impurities such as dust and dirt are removed from the air introduced by the return air duct 22 by the filter 23.
フィルタ２３は、導入された空気から塵及び埃等の不純物を除去する。フィルタ２３を通過した空気は、空気冷却器２４へと通風される。 The filter 23 removes impurities such as dust and dirt from the introduced air. The air that passes through the filter 23 is ventilated to the air cooler 24.
空気冷却器２４は、通過する空気の冷却を行うユニットである。空気冷却器２４は、流路３４及び流路３５により熱源装置３３と連通接続されている。空気冷却器２４には、熱源装置３３から流路３４を流通して冷水が流入し、冷水は、空気冷却器２４内を通水する。流入した冷水と、空気冷却器２４を通過する空気との間で熱交換が行われ、通過した空気の冷却が行われる。熱交換が行われた冷水は、流路３４を流通し、熱源装置３３へと送水される。この時、結露により発生する水は、ドレンパン３１により回収される。空気冷却器２４を通過した空気は、空気加熱器２５へと通風される。空気冷却器２４は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 The air cooler 24 is a unit that cools the air passing through it. The air cooler 24 is connected in communication with the heat source device 33 via flow paths 34 and 35. Chilled water flows into the air cooler 24 from the heat source device 33 through flow path 34, and the chilled water flows through the air cooler 24. Heat exchange occurs between the flowing chilled water and the air passing through the air cooler 24, cooling the air that has passed through. The chilled water that has undergone heat exchange flows through flow path 34 and is sent to the heat source device 33. At this time, water generated by condensation is collected in the drain pan 31. The air that has passed through the air cooler 24 is ventilated to the air heater 25. The air cooler 24 is connected to the humidification control unit 21 via wireless or wired communication and is controlled by the humidification control unit 21.
空気加熱器２５は、通過する空気の加熱を行うユニットである。空気加熱器２５は、流路３６及び流路３７により熱源装置３３と連通接続されている。空気加熱器２５には、熱源装置３３から流路３６を流通して温水が流入し、温水は、空気加熱器２５内を通水する。流入した温水と、空気加熱器２５を通過する空気との間で熱交換が行われ、通過した空気の加熱が行われる。熱交換が行われた温水は、流路３７を流通し、熱源装置３３へと送水される。空気加熱器２５を通過した空気は、気液接触部２６へと通風される。空気加熱器２５は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 The air heater 25 is a unit that heats the air passing through it. The air heater 25 is connected in communication with the heat source device 33 via flow paths 36 and 37. Hot water flows into the air heater 25 from the heat source device 33 through flow path 36, and the hot water passes through the air heater 25. Heat exchange occurs between the flowing hot water and the air passing through the air heater 25, heating the air that has passed through. The hot water that has undergone heat exchange flows through flow path 37 and is sent to the heat source device 33. The air that has passed through the air heater 25 is passed through the gas-liquid contact section 26. The air heater 25 is connected to the humidification control unit 21 via wireless or wired communication so as to be able to communicate with it, and is controlled by the humidification control unit 21.
＜気液接触部＞
気液接触部２６は、内部に取り入れた空気を加湿するユニットであり、加湿の際に、空気中に次亜塩素酸水（次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水）を含ませる。気液接触部２６は、水供給部４の水道管５を介して次亜塩素酸水供給装置２（次亜塩素酸水供給部７の送水管８）と連通接続されている。気液接触部２６は、次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水を含有することが可能な構造（例えば、気化フィルタ）を有する。気液接触部２６は、平板形状であり、多くの繊維を備え、繊維と繊維との間に水を保水することができる。気液接触部２６は、還気ダクト２２と気液接触部２６の平面部（空気の流通面）が対向するように設けられている。そして、次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水は、気液接触部２６の平面部の上方から供給される。そのため、気液接触部２６を通過する空気に、次亜塩素酸水を含有させることが可能となる。つまり、気液接触部２６は、次亜塩素酸水を平面部の上方から下方に流して気化させる。そして、次亜塩素酸水を含んだ空気が気化することにより、対象空間Ｓ内に次亜塩素酸が放出され、対象空間Ｓの除菌又は殺菌が行われる。なお、次亜塩素酸水供給装置２の動作中には、気液接触部２６に次亜塩素酸水が常時供給されるため、気液接触部２６が含有しきれなかった次亜塩素酸水は、下方に流れ落ちてドレンパン３１によって回収される。
<Gas-liquid contact section>
The gas-liquid contact unit 26 is a unit that humidifies the air taken in, and during humidification, hypochlorous acid water (hypochlorous acid water delivered from the hypochlorous acid water supply device 2) is added to the air. The gas-liquid contact unit 26 is connected in communication with the hypochlorous acid water supply device 2 (the water supply pipe 8 of the hypochlorous acid water supply unit 7) via the water pipe 5 of the water supply unit 4. The gas-liquid contact unit 26 has a structure (e.g., an evaporation filter) that can contain the hypochlorous acid water delivered from the hypochlorous acid water supply device 2. The gas-liquid contact unit 26 has a flat plate shape and includes many fibers, and is able to retain water between the fibers. The gas-liquid contact unit 26 is arranged so that the return air duct 22 and the flat surface (air flow surface) of the gas-liquid contact unit 26 face each other. The hypochlorous acid water delivered from the hypochlorous acid water supply device 2 is supplied from above the flat surface of the gas-liquid contact unit 26. Therefore, it is possible for hypochlorous acid water to be contained in the air passing through the gas-liquid contact unit 26. In other words, the gas-liquid contact unit 26 causes hypochlorous acid water to flow from above to below the flat surface and vaporize. Then, as the air containing hypochlorous acid water vaporizes, hypochlorous acid is released into the target space S, and the target space S is disinfected or sterilized. Note that during operation of the hypochlorous acid water supply device 2, hypochlorous acid water is constantly supplied to the gas-liquid contact unit 26, so any hypochlorous acid water that cannot be contained in the gas-liquid contact unit 26 flows downward and is collected by the drain pan 31.
次に、図２を参照して、気液接触部２６の構造について詳細に説明する。図２は、気液接触部２６の構成を模式図である。なお、図２は、気液接触部２６を正面視した図であり、気液接触部２６の平面部を示している。 Next, the structure of the gas-liquid contact section 26 will be described in detail with reference to Figure 2. Figure 2 is a schematic diagram of the configuration of the gas-liquid contact section 26. Note that Figure 2 is a front view of the gas-liquid contact section 26, showing the planar portion of the gas-liquid contact section 26.
気液接触部２６は、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材２７を組み合わせて構成され、加湿素材２７は、互いに熱溶着によって接着されている。具体的には、図２に示すように、気液接触部２６は、複数の加湿素材２７と、加湿素材２７を固定するフレーム２８とを有して構成される。 The gas-liquid contact section 26 is constructed by combining multiple humidifying materials 27, each made of a nonwoven fabric made from polyester or polyethylene fibers, and the humidifying materials 27 are bonded together by thermal welding. Specifically, as shown in Figure 2, the gas-liquid contact section 26 is constructed from multiple humidifying materials 27 and a frame 28 that secures the humidifying materials 27.
加湿素材２７は、熱溶着性を有する合成樹脂（例えば、ポリエステル繊維、ポリエチレン繊維）を含んだ不織布により構成される。加湿素材２７同士は、接着剤を用いることなく、互いに熱溶着により張り合わされている。そして、加湿素材２７は、不織布の内部に次亜塩素酸水を保水する。また、加湿素材２７には、抗菌剤又は防カビ剤として、次亜塩素酸水との間での反応が生じにくいイソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤を含有している。イソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤としては、例えば、１，２－ベンズイソチアゾリン－３－オン、Ｎ－ｎ－ブチル－１，２－ベンズイソチアゾリン－３－オン、ｎ－オクチル－４－イソチアゾリン－３－オン、２－メチル－４イソチアゾリン－３－オン、２－メチル－４，５－トリメチレン－４－イソチアゾリン－３－オンから選択される１種または２種以上である。言い換えれば、加湿素材２７は、次亜塩素酸水との間での反応が生じる抗菌剤又は防カビ剤（例えば、ジンクピリチオン）を含まないように構成されている。なお、熱溶着した複数の加湿素材２７には、空気が流通するための隙間２７ａが形成されている。 The humidifying material 27 is composed of a nonwoven fabric containing a heat-welding synthetic resin (e.g., polyester fiber or polyethylene fiber). The humidifying materials 27 are bonded together by heat welding without the use of adhesive. The humidifying material 27 retains hypochlorous acid water within the nonwoven fabric. The humidifying material 27 also contains an isothiazolin-based antibacterial or antifungal agent that is unlikely to react with hypochlorous acid water. Examples of isothiazolin-based antibacterial or antifungal agents include one or more selected from the group consisting of 1,2-benzisothiazolin-3-one, N-n-butyl-1,2-benzisothiazolin-3-one, n-octyl-4-isothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, and 2-methyl-4,5-trimethylene-4-isothiazolin-3-one. In other words, the humidifying material 27 is configured not to contain antibacterial or antifungal agents (e.g., zinc pyrithione) that would react with hypochlorous acid water. Furthermore, gaps 27a are formed between the heat-welded humidifying materials 27 to allow air to circulate.
フレーム２８は、熱溶着した複数の加湿素材２７の外周全体を固定し、気液接触部２６の外枠を構成する部材である。フレーム２８の上端部には、次亜塩素酸水供給装置２における送水管８が接続される。そして、フレーム２８は、フレーム２８の上端部から加湿素材２７の上部に次亜塩素酸水を滴下する。 The frame 28 is a component that secures the entire outer periphery of the multiple heat-welded humidifying materials 27 and forms the outer frame of the gas-liquid contact section 26. The water supply pipe 8 of the hypochlorous acid water supply device 2 is connected to the upper end of the frame 28. The frame 28 drips hypochlorous acid water from the upper end of the frame 28 onto the top of the humidifying materials 27.
以上のように気液接触部２６は構成される。 The gas-liquid contact section 26 is configured as described above.
送風機２９は、図１に示すように、気液接触部２６の後段、且つ、給気ダクト３０の前段に設けられる。送風機２９は、空気調和装置２０内の空気を外部に排出することにより、還気ダクト２２から給気ダクト３０へ向かう空気の流れを生成する。これにより、除菌又は殺菌のための空気を空気調和装置２０内に流入させることができる。送風機２９により、次亜塩素酸を含む空気が対象空間Ｓに放出され、対象空間Ｓの除菌又は殺菌を行うことが可能となる。また、送風機２９は、加湿制御部２１と無線又は有線により通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 As shown in FIG. 1, the blower 29 is provided after the gas-liquid contact section 26 and before the air supply duct 30. The blower 29 exhausts air from the air conditioner 20 to the outside, thereby generating an air flow from the return air duct 22 toward the air supply duct 30. This allows air for sterilization or disinfection to flow into the air conditioner 20. The blower 29 releases air containing hypochlorous acid into the target space S, making it possible to sterilize or disinfect the target space S. The blower 29 is also connected to the humidification control section 21 via wireless or wired communication and is controlled by the humidification control section 21.
給気ダクト３０は、空気調和装置２０内の空気を対象空間Ｓに放出するための開口である。給気ダクト３０から、次亜塩素酸を含む空気が対象空間Ｓに放出され、空間の除菌又は殺菌を行うことが可能となる。 The air supply duct 30 is an opening for releasing air from within the air conditioning unit 20 into the target space S. Air containing hypochlorous acid is released from the air supply duct 30 into the target space S, making it possible to disinfect or sterilize the space.
ドレンパン３１は、空気調和装置２０内の水を集めるための受け皿である。ドレンパン３１は、空気冷却器２４、空気加熱器２５、及び気液接触部２６の下部に設けられ、少なくとも空気冷却器２４及び気液接触部２６から流出する水を回収する。 The drain pan 31 is a receptacle for collecting water inside the air conditioning unit 20. The drain pan 31 is provided below the air cooler 24, air heater 25, and gas-liquid contact section 26, and collects water that flows out from at least the air cooler 24 and gas-liquid contact section 26.
排水流路３２は、空気調和装置２０内に溜まった水を排水するための流路である。排水流路３２は、ドレンパン３１と接続され、ドレンパン３１により集められた水（次亜塩素酸水を含む）を装置外に排出する。 The drainage flow path 32 is a flow path for draining water that has accumulated inside the air conditioning unit 20. The drainage flow path 32 is connected to the drain pan 31 and discharges the water (including hypochlorous acid water) collected in the drain pan 31 outside the unit.
熱源装置３３は、水の冷却及び加熱を行い、空気冷却器２４に供給するための冷水及び空気加熱器２５に供給する温水とする装置である。熱源装置３３は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 The heat source device 33 is a device that cools and heats water to produce cold water to be supplied to the air cooler 24 and hot water to be supplied to the air heater 25. The heat source device 33 is connected to the humidification control unit 21 wirelessly or via a wired connection so that it can communicate with the humidification control unit 21, and is controlled by the humidification control unit 21.
流路３４は、熱源装置３３により冷却された水を、熱源装置３３から空気冷却器２４へ送水する流路である。 The flow path 34 is a flow path that transports water cooled by the heat source device 33 from the heat source device 33 to the air cooler 24.
流路３５は、空気冷却器２４に通水した水を熱源装置３３へ送水する流路である。 The flow path 35 is a flow path that sends water that has passed through the air cooler 24 to the heat source device 33.
流路３６は、熱源装置３３により加熱された水を、熱源装置３３から空気加熱器２５へ送水する流路である。 The flow path 36 is a flow path that transports water heated by the heat source device 33 from the heat source device 33 to the air heater 25.
流路３７は、空気加熱器２５に通水した水を熱源装置３３へ送水する流路である。 The flow path 37 is a flow path that sends water that has passed through the air heater 25 to the heat source device 33.
加湿制御部２１は、空気冷却器２４、空気加熱器２５、送風機２９、及び熱源装置３３の各動作を制御する。加湿制御部２１は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続される。 The humidification control unit 21 controls the operation of the air cooler 24, air heater 25, blower 29, and heat source device 33. The humidification control unit 21 is connected to the hypochlorous acid water control unit 3 wirelessly or via a wired connection so that they can communicate with each other.
＜空間浄化処理＞
次に、空間浄化システム１による空間浄化処理について説明する。
<Space purification treatment>
Next, the space purification process performed by the space purification system 1 will be described.
空間浄化処理は、次亜塩素酸水供給装置２から送出された次亜塩素酸水を、空気調和装置２０によって気化させ、対象空間Ｓに放出する処理である。 The space purification process involves vaporizing hypochlorous acid water delivered from the hypochlorous acid water supply device 2 using the air conditioning device 20 and releasing it into the target space S.
まず、加湿制御部２１は、空間浄化処理の開始に伴い、送風機２９を起動する。これにより、空気調和装置２０内の空気が対象空間Ｓに排出され、還気ダクト２２から空気（例えば、対象空間Ｓの空気）が導入される。導入された空気は、フィルタ２３により不純物（例えば、塵埃）の除去が行われる。その後、空気冷却器２４及び空気加熱器２５によって熱交換され、調温された空気となる。そして、気液接触部２６を通過することにより、空気の加湿が行われる。加湿の際に、気液接触部２６を通過した空気は、次亜塩素酸水供給装置２によって濃度調整された次亜塩素酸水を含有する。次亜塩素酸水を含む空気は、送風機２９により給気ダクト３０から対象空間Ｓに放出され、気化することにより、対象空間Ｓ内に次亜塩素酸が設定濃度で放出され、対象空間Ｓの除菌又は殺菌が行われる。 First, the humidification control unit 21 activates the blower 29 upon initiation of the space purification process. This causes air within the air conditioning unit 20 to be discharged into the target space S, and air (e.g., air from the target space S) is introduced through the return air duct 22. Impurities (e.g., dust) are removed from the introduced air by the filter 23. The air then undergoes heat exchange in the air cooler 24 and air heater 25, resulting in temperature-adjusted air. The air is then humidified by passing through the gas-liquid contact unit 26. During humidification, the air that has passed through the gas-liquid contact unit 26 contains hypochlorous acid water whose concentration has been adjusted by the hypochlorous acid water supply device 2. The air containing the hypochlorous acid water is released into the target space S from the intake air duct 30 by the blower 29, where it evaporates, releasing hypochlorous acid at the set concentration into the target space S, thereby sterilizing or disinfecting the target space S.
以上のようにして、空間浄化システム１では、加湿制御部２１によって、次亜塩素酸水供給装置２での次亜塩素酸水の供給処理の制御及び空気調和装置２０での加湿処理の制御が行われ、空間浄化処理が実行される。 In this way, in the space purification system 1, the humidification control unit 21 controls the hypochlorous acid water supply process in the hypochlorous acid water supply device 2 and the humidification process in the air conditioning device 20, thereby carrying out the space purification process.
以上、本実施の形態１に係る空間浄化システム１によれば、以下の効果を享受することができる。 As described above, the space purification system 1 according to the first embodiment can provide the following benefits.
（１）空間浄化システム１は、次亜塩素酸水を供給する次亜塩素酸水供給装置２と、次亜塩素酸水供給装置２から供給される次亜塩素酸水を滴下して気化させる気液接触部２６と、気液接触部２６を通風する空気を対象空間Ｓに放出する送風機２９と、を備える。そして、気液接触部２６は、気液接触部２６を構成する材料と次亜塩素酸水との反応が抑制されるように構成した。 (1) The space purification system 1 includes a hypochlorous acid water supply device 2 that supplies hypochlorous acid water, a gas-liquid contact section 26 that drips and vaporizes the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device 2, and a blower 29 that releases air that passes through the gas-liquid contact section 26 into the target space S. The gas-liquid contact section 26 is configured to suppress reaction between the material that makes up the gas-liquid contact section 26 and the hypochlorous acid water.
こうした構成によれば、気液接触部２６を構成する材料（加湿素材２７）に起因する次亜塩素酸水の消費が抑制されるため、気液接触部２６を流通する空気と接触する次亜塩素酸水の濃度を安定化させることができる。この結果、気液接触部２６を流通する空気に次亜塩素酸を設定濃度で付与することができる。つまり、気液接触部２６を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システム１とすることができる。 This configuration suppresses the consumption of hypochlorous acid water caused by the material (humidifying material 27) that makes up the gas-liquid contact unit 26, thereby stabilizing the concentration of hypochlorous acid water that comes into contact with the air flowing through the gas-liquid contact unit 26. As a result, hypochlorous acid can be added to the air flowing through the gas-liquid contact unit 26 at a set concentration. In other words, when hypochlorous acid is added to the air flowing through the gas-liquid contact unit 26, the space purification system 1 can be made to be able to add hypochlorous acid stably.
（２）空間浄化システム１では、気液接触部２６は、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材２７を組み合わせて構成され、加湿素材２７は、互いに熱溶着によって接着されるようにした。これにより、複数の加湿素材２７を組み合わせる際に接着剤を使用する必要がなくなり、接着剤との反応による次亜塩素酸水の消費を抑制することができ、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (2) In the space purification system 1, the gas-liquid contact unit 26 is constructed by combining multiple humidifying materials 27, each having a nonwoven fabric made from polyester fiber or polyethylene fiber, and the humidifying materials 27 are bonded to each other by thermal welding. This eliminates the need to use adhesive when combining the multiple humidifying materials 27, reduces the consumption of hypochlorous acid water due to reaction with the adhesive, and enables a set concentration of hypochlorous acid to be stably applied to the air released from the gas-liquid contact unit 26.
（３）空間浄化システム１では、気液接触部２６は、抗菌剤又は防カビ剤として、イソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤を含有するようにした。これにより、気液接触部２６での菌又はカビの発生を抑制しつつ、抗菌剤又は防カビ剤に起因する次亜塩素酸水の消費を抑制することができる。このため、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (3) In the space purification system 1, the gas-liquid contact unit 26 contains an isothiazolinone-based antibacterial or antifungal agent as the antibacterial or antifungal agent. This suppresses the growth of bacteria or mold in the gas-liquid contact unit 26 while also reducing the consumption of hypochlorous acid water caused by the antibacterial or antifungal agent. This allows a set concentration of hypochlorous acid to be stably added to the air released from the gas-liquid contact unit 26.
（４）空間浄化システム１では、気液接触部２６を、次亜塩素酸水との間での反応が生じる抗菌剤又は防カビ剤（例えば、ジンクピリチオン）を含まないように構成した。これにより、抗菌剤又は防カビ剤に起因する次亜塩素酸水の消費を確実に抑制することができるため、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (4) In the space purification system 1, the gas-liquid contact unit 26 is configured not to contain antibacterial or antifungal agents (e.g., zinc pyrithione) that react with hypochlorous acid water. This reliably suppresses the consumption of hypochlorous acid water due to antibacterial or antifungal agents, thereby enabling a set concentration of hypochlorous acid to be stably added to the air released from the gas-liquid contact unit 26.
（５）空間浄化システム１では、次亜塩素酸水供給装置２と気液接触部２６とを、配管（送水管８）によって連通接続して構成し、水供給部４から供給される水と、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水とを、配管内において混合希釈して気液接触部２６に供給するようにした。このようにすることで、空間浄化システム１では、配管内において混合希釈される次亜塩素酸水は、気液接触部２６（加湿素材２７）に到達するまで外部の空気と触れることが抑制される。このため、次亜塩素酸の空気接触による減衰を抑制することができ、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (5) In the space purification system 1, the hypochlorous acid water supply device 2 and the gas-liquid contact unit 26 are connected in communication with each other via piping (water supply pipe 8), and the water supplied from the water supply unit 4 and the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 are mixed and diluted in the piping before being supplied to the gas-liquid contact unit 26. By doing this, in the space purification system 1, the hypochlorous acid water mixed and diluted in the piping is prevented from coming into contact with external air until it reaches the gas-liquid contact unit 26 (humidifying material 27). This prevents hypochlorous acid from attenuating due to air contact, and allows a set concentration of hypochlorous acid to be stably added to the air released from the gas-liquid contact unit 26.
（６）空間浄化システム１では、配管（水道管５及び送水管８）を、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水に、水供給部４から供給される水によって希釈するように構成した。これにより、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水を希釈する際に、水供給部４から供給される水によってかき混ぜられる。これにより、気液接触部２６に供給する際の次亜塩素酸水の濃度を安定化させることができる。このため、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (6) In the space purification system 1, the piping (water pipe 5 and water supply pipe 8) is configured so that the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 is diluted with water supplied from the water supply unit 4. As a result, when the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 is diluted, it is stirred with the water supplied from the water supply unit 4. This makes it possible to stabilize the concentration of hypochlorous acid water when it is supplied to the gas-liquid contact unit 26. Therefore, it is possible to stably impart a set concentration of hypochlorous acid to the air released from the gas-liquid contact unit 26.
以上、本発明に関して実施の形態をもとに説明した。これらの実施の形態は例示であり、それらの各構成要素あるいは各処理プロセスの組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されているところである。 The present invention has been described above based on embodiments. These embodiments are merely examples, and those skilled in the art will understand that various modifications are possible in the combination of each component or each treatment process, and that such modifications are also within the scope of the present invention.
本実施の形態１に係る空間浄化システム１では、次亜塩素酸水供給装置２から設定濃度に希釈した次亜塩素酸水を気液接触部２６に供給するようにしたが、これに限られない。例えば、次亜塩素酸水供給装置２は、塩酸あるいはリン酸塩水等のｐＨ調整剤を混合し、次亜塩素酸水のｐＨ値を調整するように構成してもよい。これにより、気液接触部２６から放出される空気に含ませる次亜塩素酸の濃度の制御範囲を広げることができる。 In the space purification system 1 according to the first embodiment, hypochlorous acid water diluted to a set concentration is supplied from the hypochlorous acid water supply device 2 to the gas-liquid contact unit 26, but this is not limited to this. For example, the hypochlorous acid water supply device 2 may be configured to mix a pH adjuster such as hydrochloric acid or phosphate water to adjust the pH value of the hypochlorous acid water. This makes it possible to expand the control range for the concentration of hypochlorous acid contained in the air released from the gas-liquid contact unit 26.
また、本実施の形態１に係る空間浄化システム１では、次亜塩素酸水供給装置２は、水供給部４から供給される水と、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水とを、配管内において混合希釈するように構成したが、これに限られない。例えば、次亜塩素酸水供給装置２は、混合槽を設け、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水と水供給部４から供給される水とを混合槽内で混合希釈した上で、気液接触部２６に混合希釈した次亜塩素酸水を供給するようにしてもよい。このようにしても、少なくとも上述した効果（１）～効果（４）を享受することができる。 In addition, in the space purification system 1 according to the first embodiment, the hypochlorous acid water supply device 2 is configured to mix and dilute the water supplied from the water supply unit 4 and the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 within the piping, but this is not limited to this. For example, the hypochlorous acid water supply device 2 may be provided with a mixing tank, and the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 and the water supplied from the water supply unit 4 may be mixed and diluted within the mixing tank, and the mixed and diluted hypochlorous acid water may then be supplied to the gas-liquid contact unit 26. Even in this case, at least the above-described effects (1) to (4) can be achieved.
本発明に係る空間浄化システムは、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な構成となっており、対象空間の空気を除菌又は殺菌するシステムとして有用である。 The space purification system of the present invention is configured to stably impart hypochlorous acid when the hypochlorous acid is added to the air flowing through the gas-liquid contact area, making it useful as a system for sterilizing or disinfecting the air in a target space.
１ 空間浄化システム
２ 次亜塩素酸水供給装置
３ 次亜塩素酸水制御部
４ 水供給部
５ 水道管
６ 水道弁
７ 次亜塩素酸水供給部
８ 送水管
９ 止水弁
１０ 送水ポンプ
１１ 次亜塩素酸水タンク
１２ ｐＨ調整剤供給部
２０ 空気調和装置
２１ 加湿制御部
２２ 還気ダクト
２３ フィルタ
２４ 空気冷却器
２５ 空気加熱器
２６ 気液接触部
２７ 加湿素材
２７ａ 隙間
２８ フレーム
２９ 送風機
３０ 給気ダクト
３１ ドレンパン
３２ 排水流路
３３ 熱源装置
３４ 流路
３５ 流路
３６ 流路
３７ 流路
REFERENCE SIGNS LIST 1 Space purification system 2 Hypochlorous acid water supply device 3 Hypochlorous acid water control unit 4 Water supply unit 5 Water pipe 6 Water valve 7 Hypochlorous acid water supply unit 8 Water supply pipe 9 Stop valve 10 Water supply pump 11 Hypochlorous acid water tank 12 pH adjuster supply unit 20 Air conditioner 21 Humidification control unit 22 Return air duct 23 Filter 24 Air cooler 25 Air heater 26 Gas-liquid contact unit 27 Humidifying material 27a Gap 28 Frame 29 Blower 30 Air supply duct 31 Drain pan 32 Drainage flow path 33 Heat source device 34 Flow path 35 Flow path 36 Flow path 37 Flow path
Claims (1)
前記次亜塩素酸水供給装置から供給される前記次亜塩素酸水を滴下して気化させる気液接触部と、
前記気液接触部を通風する空気を対象空間に放出する送風機と、
を備え、
前記気液接触部は、
前記気液接触部を構成する材料と前記次亜塩素酸水との反応が抑制されるように、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材を組み合わせて構成され、
抗菌剤又は防カビ剤として、イソチアゾリン系の前記抗菌剤又は前記防カビ剤を含有し、
前記加湿素材は、互いに熱溶着によって接着されていることを特徴とする空間浄化システム。 a hypochlorous acid water supply device for supplying hypochlorous acid water;
A gas-liquid contact section in which the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device is dropped and vaporized;
a blower that discharges air that ventilates the gas-liquid contact portion into a target space;
Equipped with
The gas-liquid contact section
The humidifying material is configured by combining a plurality of humidifying materials having nonwoven fabrics made of polyester fibers or polyethylene fibers so as to suppress the reaction between the material constituting the gas-liquid contact portion and the hypochlorous acid water ,
The antibacterial agent or antifungal agent contains an isothiazolinone-based antibacterial agent or antifungal agent,
The space purification system is characterized in that the humidifying materials are bonded to each other by thermal welding .
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008241136A (en) | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Sanyo Electric Co Ltd | Sterilizing device |
| JP2011099172A (en) | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Oji Paper Co Ltd | Diffusing member and method for producing the same |
| JP2018050483A (en) | 2016-09-26 | 2018-04-05 | 株式会社東芝 | Dry process treatment method |
| JP2020067245A (en) | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 株式会社ピーズガード | Air supply device |
| WO2020105227A1 (en) | 2018-11-22 | 2020-05-28 | 日揮ユニバーサル株式会社 | Filtering material for air filters and method for manufacturing filtering material for air filters |
| JP2020110557A (en) | 2019-01-08 | 2020-07-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | Air cleaner |
-
2021
- 2021-09-29 JP JP2021158588A patent/JP7774197B2/en active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008241136A (en) | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Sanyo Electric Co Ltd | Sterilizing device |
| JP2011099172A (en) | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Oji Paper Co Ltd | Diffusing member and method for producing the same |
| JP2018050483A (en) | 2016-09-26 | 2018-04-05 | 株式会社東芝 | Dry process treatment method |
| JP2020067245A (en) | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 株式会社ピーズガード | Air supply device |
| WO2020105227A1 (en) | 2018-11-22 | 2020-05-28 | 日揮ユニバーサル株式会社 | Filtering material for air filters and method for manufacturing filtering material for air filters |
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