JP7776381B2 - Surface-coated tool, particularly surface-coated forming tap, and manufacturing method thereof - Google Patents
Surface-coated tool, particularly surface-coated forming tap, and manufacturing method thereofInfo
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Description
本発明は、表面被覆工具、特に表面被覆盛上げタップ、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to surface-coated tools, particularly surface-coated forming taps, and to a method for manufacturing the same.
金属等を加工するための工具として、転造工具及び切削工具等が知られている。転造とは、素材に強い力を加えて盛り上げて成形する加工方法(「塑性加工」とも呼ばれる)である。また、切削とは、素材を削って成形する加工方法である。 Rolling tools and cutting tools are known as tools for processing metals and other materials. Rolling is a processing method (also known as "plastic processing") in which a material is shaped by applying strong force to it. Cutting is a processing method in which a material is shaped by cutting it.
盛上げタップ等の転造工具を用いて、被加工物にめねじを形成する場合、一般的に、ドリル等で下穴が加工された被加工物に対して、盛上げタップのつる巻き線状に形成された成形部分(「ねじ部」とも称する)を回転させながら、被加工物の下穴に徐々に食い込ませて、下穴部分を塑性変形させる。 When forming a female thread in a workpiece using a rolling tool such as a forming tap, the helical formed forming portion of the forming tap (also called the "thread portion") is generally rotated relative to the workpiece, which has already had a pilot hole drilled into it with a drill or other tool, gradually driving the tap into the pilot hole in the workpiece and plastically deforming the pilot hole portion.
しかしながら、盛上げタップのねじ部による被加工物の下穴の塑性変形が開始すると、変形抵抗が生じ、それによって、盛上げタップのねじ部の山頂部分(「外径部」とも称する)及びフランク面に高い圧力が加わる。その結果、盛上げタップと被加工物との間の激しい摩擦による発熱や被加工物の塑性変形に伴う発熱が生じて、盛上げタップ及び被加工物が高温になってしまってしまうことがある。その一方で、被加工物の下穴の表面は、盛上げタップのねじ部によって強く押圧されて、その金属組織が延ばされることによって、表面の金属組織が剥離してしまうことがある。そして、剥離された金属組織は、上述した盛上げタップとの接触面における高い圧力、並びに盛上げタップ及び被加工物における高温によって、盛上げタップのねじ部の外径部及びフランク面に凝着するという現象が生じることがある。 However, when the threads of the threading tap begin to plastically deform the pilot hole in the workpiece, deformation resistance occurs, which applies high pressure to the crest portion (also referred to as the "outer diameter") and flank surfaces of the threads of the threading tap. As a result, heat is generated due to intense friction between the threading tap and the workpiece, and heat is generated due to plastic deformation of the workpiece, which can cause the threading tap and the workpiece to become very hot. Meanwhile, the surface of the pilot hole in the workpiece is pressed hard by the threads of the threading tap, causing the metal structure to stretch and peel off. The peeled metal structure can then adhere to the outer diameter and flank surfaces of the threads of the threading tap due to the high pressure at the contact surface with the threading tap and the high temperatures of the threading tap and the workpiece.
上記のような問題を防ぐために、盛上げタップに対して硬質皮膜による表面処理を行い、盛上げタップに耐摩耗性と、耐凝着性(すなわち、より平滑な表面状態)とを与えることが行われている。 To prevent problems like those mentioned above, forming taps are surface treated with a hard coating to give them wear resistance and adhesion resistance (i.e., a smoother surface).
近年、転造工具又は切削工具の表面処理に関して、多数な開発が行われてきた。 In recent years, numerous developments have been made in the surface treatment of rolling or cutting tools.
例えば、特許文献1では、硬質被膜で表面が被覆されている硬質被膜被覆工具が開示されている。より具体的には、特許文献1の工具は、AlaTibCrc〔但し、a、b、cはそれぞれ原子比で、0.3≦a≦0.7、0≦b≦0.5、0≦c≦0.7、且つa+b+c=1〕の窒化物または炭窒化物から成るI層と、CrAlNから成る窒化物相とBN相とが三次元的に混じり合う複合膜であるII層とを有し、工具母材の表面上に前記I層が設けられるとともに、該I層および前記II層が交互に4層以上積層されて前記硬質被膜が構成されている一方、前記工具母材の表面上に設けられる前記I層の層厚は10nm~500nmの範囲内で、その他の該I層および前記II層の層厚は何れも1nm~50nmの範囲内であり、被膜全体の総膜厚は0.1μm~20μmの範囲内である。 For example, Patent Document 1 discloses a hard-coated tool whose surface is coated with a hard coating. More specifically, the tool in Patent Document 1 has an I layer made of a nitride or carbonitride of AlaTibCrCrc (where a, b, and c are atomic ratios, 0.3≦a≦0.7, 0≦b≦0.5, 0≦c≦0.7, and a+b+c=1), and a II layer, which is a composite film made of CrAlN and a BN phase mixed three-dimensionally. The I layer is provided on the surface of the tool base material, and the I layer and the II layer are alternately stacked in four or more layers to form the hard coating. The thickness of the I layer provided on the surface of the tool base material is in the range of 10 nm to 500 nm, while the thicknesses of the other I and II layers are all in the range of 1 nm to 50 nm, and the total thickness of the entire coating is in the range of 0.1 μm to 20 μm.
また、特許文献2では、本体及び本体に適用された多層被膜を含む切削工具が開示されている。より具体的には、特許文献2の工具は、窒化チタンアルミニウム(TiAlN)、窒化チタンアルミニウムケイ素(TiAlSiN)、窒化クロム(CrN)、窒化アルミニウムクロム(AlCrN)、窒化アルミニウムクロムケイ素(AlCrSiN)および窒化ジルコニウム(ZrN)から選択された硬質材料の第1層Aが前記本体に適用されており、そして、窒化ケイ素(Si3N4)の第2層Bが、前記第1層Aの上に直接されている。 Patent Document 2 also discloses a cutting tool including a body and a multilayer coating applied to the body. More specifically, the tool of Patent Document 2 has a first layer A of a hard material selected from titanium aluminum nitride (TiAlN), titanium aluminum silicon nitride (TiAlSiN), chromium nitride (CrN), aluminum chromium nitride (AlCrN), aluminum chromium silicon nitride (AlCrSiN), and zirconium nitride ( ZrN ) applied to the body, and a second layer B of silicon nitride ( Si3N4 ) applied directly on the first layer A.
また、特許文献3では、基材と被膜との密着性に優れ、過酷な切削条件にも耐え得る表面被覆工具が開示されている。より具体的には、特許文献3の工具は、基材と、前記基材上に形成された被膜とを備え、前記基材は、WC粒子と、Coを含有し前記WC粒子同士を互いに結合する結合相とを含み、前記被膜は、前記基材と接する密着層と、前記密着層上に形成された上部層とを含み、前記密着層の厚さは、0.5nm以上20nm以下であり、前記密着層は、Cr、Ti、ZrおよびNbから選択される1種以上の元素と、前記基材を構成する元素から選択される1種以上の元素と、前記上部層を構成する元素から選択される1種以上の元素とを含む炭化物、窒化物もしくは炭窒化物を含有する。 Furthermore, Patent Document 3 discloses a surface-coated tool that exhibits excellent adhesion between the substrate and coating and can withstand severe cutting conditions. More specifically, the tool in Patent Document 3 comprises a substrate and a coating formed on the substrate. The substrate includes WC grains and a binder phase containing Co that bonds the WC grains together. The coating includes an adhesion layer in contact with the substrate and an upper layer formed on the adhesion layer. The adhesion layer has a thickness of 0.5 nm to 20 nm. The adhesion layer contains carbides, nitrides, or carbonitrides that include one or more elements selected from Cr, Ti, Zr, and Nb, one or more elements selected from the elements that make up the substrate, and one or more elements selected from the elements that make up the upper layer.
上記のような工具の被膜形成のためには、スパッタリング法、アークイオンプレーティング法等が用いられている。 Methods such as sputtering and arc ion plating are used to form coatings on tools such as those mentioned above.
スパッタリング法によって形成される被膜は、平滑な表面状態が得られると知られているが、アークイオンプレーティング法によって形成される被膜の場合に比べて、イオン化率が低いため、密度が低い。このため、表面処理としてスパッタリング法によって形成される被膜を用いる場合は、特に、加工の負荷が高いとされている盛上げタップ等の転造工具にとって、耐摩耗性が十分に得られない問題がある。 Coatings formed by sputtering are known to produce a smooth surface, but compared to coatings formed by arc ion plating, they have a lower ionization rate and therefore a lower density. For this reason, when using coatings formed by sputtering as a surface treatment, there is a problem of insufficient wear resistance, particularly for rolling tools such as forming taps, which are known to be subject to high processing loads.
その一方で、アークイオンプレーティング法によって形成される被膜は、イオン化率が高い反面、サブミクロンから数ミクロンの大きさの溶融粒子(「ドロップレット」とも称する)が生じやすい。このため、表面処理としてアークイオンプレーティング法によって形成される被膜を用いる場合は、平滑な表面状態が得られにくく、すなわち、耐凝着性が十分に得られない問題がある。 On the other hand, while the coating formed by the arc ion plating method has a high ionization rate, it is prone to producing molten particles (also called "droplets") measuring submicrons to several microns in size. For this reason, when using a coating formed by the arc ion plating method as a surface treatment, it is difficult to obtain a smooth surface, meaning that the coating cannot achieve sufficient adhesion resistance.
本発明は、上記の事情を改善しようとするものであり、その目的は、耐摩耗性及び耐凝着性に優れる表面被覆工具、特に表面被覆盛上げタップ、及びその製造方法を提供することである。 The present invention aims to improve the above situation, and its purpose is to provide a surface-coated tool, particularly a surface-coated forming tap, that has excellent wear resistance and adhesion resistance, and a method for manufacturing the same.
上記の目的を達成する本発明は、以下のとおりである。 The present invention, which achieves the above objectives, is as follows:
〈態様1〉
表面被覆工具の製造方法であって、
前記工具が、基材と、前記基材の表面上にこの順に被覆されている第I層及び第II層とを含み、
前記第I層及び前記第II層が、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであり、かつ
以下の工程(1)~(3)を含む、方法:
(1)前記基材上に、アークイオンプレーティング法によって前記第I層を形成すること、
(2)前記第I層に対して、金属イオンを用いたイオンボンバードメント処理を行うこと、及び
(3)前記イオンボンバードメント処理後の第I層上に、スパッタリング法によって第II層を形成すること。
〈態様2〉
前記基材の表面の算術平均粗さRa0と、前記第II層の表面の算術平均粗さRa2との関係が、以下の式(1)を満たす、態様1に記載の方法:
0μm≦Ra2-Ra0<0.060μm (1)
〈態様3〉
前記第II層の表面の算術平均粗さRaが、0.150μm以下である、態様1又は2に記載の方法。
〈態様4〉
前記工程(2)において、前記金属イオンが、Crイオンである、態様1~3のいずれか一項に記載の方法。
〈態様5〉
前記工具が、盛上げタップである、態様1~4のいずれか一項に記載の方法。
〈態様6〉
基材と、前記基材の表面上にこの順に被覆されている第I層及び第II層とを含み、
前記第I層が、アークイオンプレーティング層であり、
前記第II層が、スパッタリング層であり、
前記第I層及び前記第II層は、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであり、かつ
前記基材の表面の算術平均粗さRa0と、前記第II層の表面の算術平均粗さRa2との関係が、以下の式(1)を満たす、
表面被覆工具:
0μm≦Ra2-Ra0<0.060μm (1)
〈態様7〉
前記第II層の表面の算術平均粗さRaが、0.150μm以下である、態様6に記載の工具。
〈態様8〉
前記第I層の厚さが、1.0μm以上5.0μm以下であり、かつ
前記第II層の厚さが、1.0μm以下である、
態様6又は7に記載の工具。
〈態様9〉
前記第II層の表面の最大高さ粗さRzが、1.300μm以下である、態様6~8のいずれか一項に記載の工具。
〈態様10〉
前記第I層が、2以上の被膜から構成されている、態様6~9のいずれか一項に記載の工具。
〈態様11〉
前記第I層の表面のCrの含有量が、1.0at%未満である、態様6~10のいずれか一項に記載の工具。
〈態様12〉
前記工具が、盛上げタップである、請求項6~11のいずれか一項に記載の工具。
<Aspect 1>
A method for manufacturing a surface-coated tool, comprising the steps of:
the tool includes a substrate and a layer I and a layer II coated in this order on a surface of the substrate;
the layer I and the layer II are each independently at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating; and the method includes the following steps (1) to (3):
(1) forming the layer I on the substrate by an arc ion plating method;
(2) subjecting the layer I to an ion bombardment treatment using metal ions; and (3) forming a layer II by a sputtering method on the layer I after the ion bombardment treatment.
<Aspect 2>
The method according to aspect 1, wherein a relationship between an arithmetic mean roughness Ra 0 of the surface of the base material and an arithmetic mean roughness Ra 2 of the surface of the II layer satisfies the following formula (1):
0μm≦Ra 2 −Ra 0 <0.060μm (1)
<Aspect 3>
3. The method according to claim 1, wherein the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the layer II is 0.150 μm or less.
<Aspect 4>
Aspect 4. The method according to any one of Aspects 1 to 3, wherein in step (2), the metal ion is a Cr ion.
Aspect 5
Aspect 5. The method of any one of aspects 1 to 4, wherein the tool is a forming tap.
Aspect 6
A substrate, and a layer I and a layer II coated in this order on a surface of the substrate,
the I layer is an arc ion plating layer,
the second layer is a sputtering layer,
the layer I and the layer II are each independently at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating, and the relationship between the arithmetic mean roughness Ra 0 of the surface of the base material and the arithmetic mean roughness Ra 2 of the surface of the layer II satisfies the following formula (1):
Surface coated tools:
0μm≦Ra 2 −Ra 0 <0.060μm (1)
Aspect 7
A tool according to aspect 6, wherein the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the II layer is 0.150 μm or less.
<Aspect 8>
the thickness of the layer I is 1.0 μm or more and 5.0 μm or less, and the thickness of the layer II is 1.0 μm or less;
8. The tool of claim 6 or 7.
<Aspect 9>
A tool according to any one of aspects 6 to 8, wherein the surface of the II layer has a maximum height roughness Rz of 1.300 μm or less.
Aspect 10
Aspect 10. The tool of any one of aspects 6-9, wherein the Layer I is comprised of two or more coatings.
<Aspect 11>
11. The tool of any one of aspects 6 to 10, wherein a surface of the layer I has a Cr content less than 1.0 at.%.
<Aspect 12>
The tool according to any one of claims 6 to 11, wherein the tool is a forming tap.
本発明によれば、耐摩耗性及び耐凝着性に優れる表面被覆工具を提供することができる。 The present invention makes it possible to provide a surface-coated tool with excellent wear resistance and adhesion resistance.
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について詳述する。なお、説明の便宜上、各図において、同一又は相当する部分には同一の参照符号を付し、重複説明は省略する。また、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、発明の本旨の範囲内で種々変形して実施できる。 Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. For ease of explanation, identical or corresponding parts in each drawing will be designated by the same reference numerals, and duplicate explanations will be omitted. Furthermore, the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the spirit and scope of the invention.
《表面被覆工具》
本発明の表面被覆工具(以下、単に「本発明の工具」とも称する)は、
基材と、基材の表面上にこの順に被覆されている第I層及び第II層とを含み、
第I層が、アークイオンプレーティング層であり、
第II層が、スパッタリング層であり、
第I層及び第II層は、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであり、かつ
基材の表面の算術平均粗さRa0と、第II層の表面の算術平均粗さRa2との関係が、以下の式(1)を満たす、
表面被覆工具
である:
0μm≦Ra2-Ra0<0.060μm (1)
<Surface-coated tools>
The surface-coated tool of the present invention (hereinafter also simply referred to as "the tool of the present invention") is
A substrate, and a layer I and a layer II coated in this order on a surface of the substrate,
The first layer is an arc ion plating layer,
The layer II is a sputtering layer,
the first layer and the second layer are each independently at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating, and the relationship between the arithmetic mean roughness Ra 0 of the surface of the substrate and the arithmetic mean roughness Ra 2 of the surface of the second layer satisfies the following formula (1):
Surface coated tools:
0μm≦Ra 2 −Ra 0 <0.060μm (1)
本発明において、本発明の工具は、転造工具であってもよく、切削工具であってもよいが、転造工具、特に、盛上げタップであることが好ましい。 In the present invention, the tool of the present invention may be a rolling tool or a cutting tool, but is preferably a rolling tool, particularly a forming tap.
図1は、本発明の表面被覆工具の構成の一例を示す概略断面図である。 Figure 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a surface-coated tool of the present invention.
図1に示されている表面被覆工具100は、基材10と、基材10の表面上にこの順に被覆されている第I層11及び第II層12とを含んでいる。ここで、第I層11は、アークイオンプレーティング層である。また、第II層12が、スパッタリング層である。第I層11及び第II層12は、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであり、かつ基材10の表面の算術平均粗さRa0と、第II層12の表面の算術平均粗さRa2との関係が、以下の式(1)を満たす:
0μm≦Ra2-Ra0<0.060μm (1)
The surface-coated tool 100 shown in Fig. 1 includes a substrate 10 and a layer I 11 and a layer II 12 coated in this order on the surface of the substrate 10. Here, the layer I 11 is an arc ion plating layer, and the layer II 12 is a sputtering layer. The layers I 11 and II 12 are each independently at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating, and the relationship between the arithmetic mean roughness Ra 0 of the surface of the substrate 10 and the arithmetic mean roughness Ra 2 of the surface of the layer II 12 satisfies the following formula (1):
0μm≦Ra 2 −Ra 0 <0.060μm (1)
なお、本発明において、「アークイオンプレーティング層」とは、アークイオンプレーティング法によって形成された層又は被膜のことを指す。また、「スパッタリング層」とは、スパッタリング法によって形成された層又は被膜のことを指す。 In the present invention, the term "arc ion plating layer" refers to a layer or coating formed by the arc ion plating method. Furthermore, the term "sputtering layer" refers to a layer or coating formed by the sputtering method.
上述したように、転造又は切削工具の表面処理として、スパッタリング法によって形成された被膜を用いる場合及びアークイオンプレーティング法によって形成された被膜を用いる場合はあるが、それぞれに利点及び欠点がある。いずれの場合においても、特に、転造工具の表面処理に要求される耐摩耗性と耐凝着性とを両立させることが困難である。 As mentioned above, coatings formed by sputtering and arc ion plating can be used as surface treatments for rolling or cutting tools, but each method has its advantages and disadvantages. In either case, it is particularly difficult to achieve both the wear resistance and adhesion resistance required for surface treatment of rolling tools.
そこで、本発明者らは、アークイオンプレーティング法とスパッタリング法とを併用して、転造工具の表面処理を試みた。より具体的には、盛上げタップの表面に対して、アークイオンプレーティング法で被膜を形成した後に、スパッタリング法で被膜を形成するという多層膜の形成を試みた。 The inventors therefore attempted to treat the surface of a rolling tool by combining arc ion plating and sputtering. More specifically, they attempted to form a multilayer film by forming a coating on the surface of a thread forming tap using arc ion plating, and then forming another coating using sputtering.
しかしながら、単に、アークイオンプレーティング法とスパッタリング法とを組み合わせただけでは、耐摩耗性及び耐凝着性の両方に優れた表面処理の被膜が得られないことが分かった。より詳細には、アークイオンプレーティング法によって形成された被膜の表面には、ドロップレットによる突起が多く、そのままスパッタリング法によって被膜を形成した場合に、突起がそのまま転写されてしまい、その結果、面粗度が向上しないばかりか、密着不良による被膜の剥離が起こりうることが分かった。また、転造加工時の負荷により、ドロップレットを起点とした亀裂が発生し、表面のスパッタリング法によって形成された被膜ごと持ち去られてしまい、剥離につながりうることが分かった。 However, it was found that simply combining arc ion plating and sputtering does not result in a surface treatment coating that is both highly resistant to wear and adhesion. More specifically, it was found that the surface of a coating formed by arc ion plating has many protrusions caused by droplets, and if a coating is then formed by sputtering in this state, the protrusions will be transferred as is, resulting in a failure to improve surface roughness and the possibility of the coating peeling off due to poor adhesion. It was also found that cracks will occur starting from the droplets due to the load applied during the rolling process, which can carry away the entire coating formed by sputtering on the surface, leading to peeling.
これに対して、本発明者らが更なる研究を行い、スパッタリング法によって被膜を形成する前に、アークイオンプレーティング法によって形成された被膜に対して、金属イオンを用いたイオンボンバードメント処理を加えたことによって、目的の耐摩耗性及び耐凝着性に優れる転造工具が得られることを見いだした。更に、驚くべきことに、一般的に使用されるアルゴン(Ar)イオンでのイオンボンバードメント処理を行っても、所望の効果が得られないことが分かった(比較例1を参照)。 In response to this, the inventors conducted further research and discovered that by subjecting a coating formed by arc ion plating to ion bombardment treatment using metal ions before forming the coating by sputtering, they were able to obtain a rolling tool with the desired excellent wear resistance and adhesion resistance. Furthermore, surprisingly, they found that even when ion bombardment treatment using commonly used argon (Ar) ions was performed, the desired effects could not be achieved (see Comparative Example 1).
この知見によって得られた本発明の工具は、従来の被膜に比べてより平滑な表面状態を有し、例えば基材の表面の算術平均粗さRa0と第II層の表面の算術平均粗さRa2との関係が上記の式(1)を満たし、したがって、耐凝着性に優れている。また、第I層がアークイオンプレーティング層であることから、本発明の工具は、耐摩耗性にも優れている。更に、以下の「表面被覆工具の製造方法」の項目にも詳細に説明されているように、第II層を形成する前に、第I層の上に、特定のイオンボンバードメント処理を行ったことによって、第I層の表面を平坦化することができて、それによって、第I層と第II層との密着力も向上され、その結果、本発明の工具により高い耐摩耗性を付与できると考えられる。 The tool of the present invention, obtained based on this finding, has a smoother surface than conventional coatings. For example, the relationship between the arithmetic mean roughness Ra of the substrate surface and the arithmetic mean roughness Ra of the Layer II surface satisfies the above formula (1), and therefore has excellent adhesion resistance. Furthermore, because Layer I is an arc ion-plated layer, the tool of the present invention also has excellent wear resistance. Furthermore, as explained in detail in the section "Method for manufacturing a surface-coated tool" below, a specific ion bombardment treatment is performed on Layer I before forming Layer II, which makes it possible to flatten the surface of Layer I, thereby improving the adhesion between Layer I and Layer II. As a result, it is believed that the tool of the present invention has higher wear resistance.
すなわち、本発明の工具、特に、盛上げタップは、耐摩耗性及び耐凝着性に優れている。 In other words, the tool of the present invention, particularly the forming tap, has excellent wear resistance and adhesion resistance.
〈基材〉
本発明の工具において、基材は、例えば高速度工具鋼(HSS)、合金工具鋼、炭素工具鋼、微粒子超硬合金又は超微粒子超硬合金であってよいが、これらに限定されない。
<Base material>
In the tools of the present invention, the substrate may be, for example, but not limited to, high speed tool steel (HSS), alloy tool steel, carbon tool steel, fine grained cemented carbide or ultra fine grained cemented carbide.
本発明において、基材の表面の算術平均粗さRa0は、後述する第II層の表面の算術平均粗さRa2との関係が、以下の式(1)を満たせば、特に限定されない:
0μm≦Ra2-Ra0<0.060μm (1)
In the present invention, the arithmetic mean roughness Ra 0 of the surface of the substrate is not particularly limited as long as the relationship with the arithmetic mean roughness Ra 2 of the surface of the layer II described below satisfies the following formula (1):
0μm≦Ra 2 −Ra 0 <0.060μm (1)
式(1)において、Ra2-Ra0の値は、0.060μm未満であり、より具体的には、例えば、0.055μm以下、0.050μm以下、0.045μm以下、0.040μm以下、0.035μm以下、0.030μm以下、又は0.025μm以下であってよく、また0以上であってよい。 In formula (1), the value of Ra 2 -Ra 0 is less than 0.060 μm, and more specifically, may be, for example, 0.055 μm or less, 0.050 μm or less, 0.045 μm or less, 0.040 μm or less, 0.035 μm or less, 0.030 μm or less, or 0.025 μm or less, or may be 0 or greater.
なお、本発明において、層又は被膜の算術平均粗さRaは、JIS B 0601-2001に準拠して、3ヵ所で測定し、その平均値を算術平均粗さRaとすることができる。 In the present invention, the arithmetic mean roughness Ra of a layer or coating can be measured at three locations in accordance with JIS B 0601-2001, and the average value can be used as the arithmetic mean roughness Ra.
〈第I層〉
本発明の工具において、第I層は、アークイオンプレーティング層である。第I層は、アークイオンプレーティング層である故、密度が高いため、本発明の工具に耐摩耗性を付与することができる。
<Layer I>
In the tool of the present invention, Layer I is an arc ion plating layer. Because Layer I is an arc ion plating layer, it has a high density and can impart wear resistance to the tool of the present invention.
第I層は、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであってよい。また、第I層は、単一の被膜から構成されていてもよく、2以上の被膜から構成されていてもよいが、耐摩耗性をより向上させる観点からは、第I層は、2以上の被膜から構成されていることが好ましい。第I層が2以上の被膜から構成される場合には、各被膜はそれぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであってよい。 Layer I may be at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating. Furthermore, Layer I may be composed of a single coating, or two or more coatings; however, from the perspective of further improving wear resistance, it is preferable that Layer I be composed of two or more coatings. When Layer I is composed of two or more coatings, each coating may independently be at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating.
例えば、図2は、本発明の表面被覆工具の構成の一例を示す概略断面図である。図2に示されている本発明の表面被覆工具200は、基材20と、基材20の表面上にこの順に被覆されている第I層21a~21e及び第II層22とを含んでいる。図2に示されているように、第I層は、2以上の被膜21a、21b、21c、21d及び21eから構成されていている。また、表面被覆工具200において、第I層を構成する被膜21a、21b、21c、21d及び21eは、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであってよい。より具体的には、例えば、第I層は、それを構成する被膜21aが、窒化チタン被膜であり、被膜21b、21c、21d及び21eがいずれも炭窒化チタン被膜であってよい。 For example, Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a surface-coated tool of the present invention. The surface-coated tool 200 of the present invention shown in Figure 2 includes a substrate 20 and layers I 21a-21e and layer II 22, which are coated in this order on the surface of the substrate 20. As shown in Figure 2, layer I is composed of two or more coatings 21a, 21b, 21c, 21d, and 21e. Furthermore, in the surface-coated tool 200, the coatings 21a, 21b, 21c, 21d, and 21e constituting layer I may each independently be at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating. More specifically, for example, layer I may have coating 21a which is a titanium nitride coating, and coatings 21b, 21c, 21d, and 21e which are all titanium carbonitride coatings.
なお、第I層には、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜を構成する元素(すなわち、N、C、及びTi)以外の元素を更に含んでもよいが、N、C、及びTi以外の元素を微少量で含むか又は含まないことが好ましい。例えば、後述する「表面被覆工具の製造方法」の項目にも詳細に説明されているように、第II層を形成する前に、第I層の上に対して金属イオンを用いるイオンボンバードメント処理を行うが、このイオンボンバードメント処理に用いられる金属イオン、例えばクロム(Cr)イオンは、第I層に微少量で含むか又は含まないことが好ましい。言い換えれば、エネルギー分散型X線分析装置(EDS)で測定したときに、本発明に係る第I層の表面のCrの含有量は、1.0at%未満、0.9at%以下、0.8at%以下、0.7at%以下、0.6at%以下、0.5at%以下、0.4at%以下、0.3at%以下、0.2at%以下、0.1at%以下、又は0at%であることが好ましい。 While Layer I may further contain elements other than the elements constituting the titanium nitride coating, titanium carbide coating, and titanium carbonitride coating (i.e., N, C, and Ti), it is preferable for it to contain trace amounts or no elements other than N, C, and Ti. For example, as explained in detail in the section "Method for manufacturing a surface-coated tool" below, before forming Layer II, an ion bombardment treatment using metal ions is performed on Layer I, and it is preferable for Layer I to contain trace amounts or no metal ions used in this ion bombardment treatment, such as chromium (Cr) ions. In other words, when measured with an energy dispersive X-ray analyzer (EDS), the Cr content in the surface of Layer I according to the present invention is preferably less than 1.0 at%, 0.9 at% or less, 0.8 at% or less, 0.7 at% or less, 0.6 at% or less, 0.5 at% or less, 0.4 at% or less, 0.3 at% or less, 0.2 at% or less, 0.1 at% or less, or 0 at%.
本発明において、第I層の厚さは、特に限定されないが、1.0μm以上5.0μm以下であることが好ましい。より具体的には、第I層の厚さは、例えば、1.0μm以上、1.5μm以上、2.0μm以上、2.5μm以上、3.0μm以上、3.5μm以上、4.0μm以上、又は4.5μm以上であってよく、また、5.0μm以下、4.5μm以下、4.0μm以下、3.5μm以下、3.0μm以下、2.5μm以下、2.0μm以下、又は1.5μm以下であってよい。なお、本発明において、層又は被膜の厚さは、算術平均厚さを指す。また、第I層が2以上の被膜から構成されている場合には、これらの2以上の被膜の総厚さを第I層の厚さとする。 In the present invention, the thickness of Layer I is not particularly limited, but is preferably 1.0 μm or more and 5.0 μm or less. More specifically, the thickness of Layer I may be, for example, 1.0 μm or more, 1.5 μm or more, 2.0 μm or more, 2.5 μm or more, 3.0 μm or more, 3.5 μm or more, 4.0 μm or more, or 4.5 μm or more, and may be 5.0 μm or less, 4.5 μm or less, 4.0 μm or less, 3.5 μm or less, 3.0 μm or less, 2.5 μm or less, 2.0 μm or less, or 1.5 μm or less. Note that, in the present invention, the thickness of a layer or coating refers to the arithmetic mean thickness. Furthermore, when Layer I is composed of two or more coatings, the total thickness of these two or more coatings is defined as the thickness of Layer I.
〈第II層〉
本発明の工具において、第II層は、スパッタリング層である。第II層は、スパッタリング層である故、平滑性が高いため、本発明の工具に耐凝着性を付与することができる。
<Layer II>
In the tool of the present invention, Layer II is a sputtering layer. Because Layer II is a sputtering layer, it has high smoothness and can impart adhesion resistance to the tool of the present invention.
第II層は、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであってよい。また、第II層は、単一の被膜から構成されていてもよく、2以上の被膜から構成されていてもよいが、耐凝着性を確保した上で耐摩耗性をより向上させる観点からは、第II層は、単一の被膜から構成されていることが好ましい。なお、第II層が2以上の被膜から構成される場合には、各被膜はそれぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであってよい。 Layer II may be at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating. Layer II may be composed of a single coating, or two or more coatings. However, from the perspective of further improving wear resistance while maintaining adhesion resistance, it is preferable that Layer II be composed of a single coating. When Layer II is composed of two or more coatings, each coating may independently be at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating.
例えば、図2に示されている本発明の表面被覆工具200は、基材20と、基材20の表面上にこの順に被覆されている第I層21a~21e及び第II層22とを含んでいる。図2では、第II層22は、単一の被膜から構成されているが、2以上の被膜から構成されていてもよい。 For example, the surface-coated tool 200 of the present invention shown in Figure 2 includes a substrate 20, and layers I 21a-21e and layer II 22 coated in this order on the surface of the substrate 20. In Figure 2, layer II 22 is composed of a single coating, but it may also be composed of two or more coatings.
本発明において、第II層の厚さは、特に限定されないが、1.0μm以下であることが好ましい。より具体的には、第II層の厚さは、例えば、1.0μm以下、0.9μm以下、0.8μm以下、0.7μm以下、0.6μm以下、又は0.5μm以下であってよく、また、0.02μm以上、0.05μm以上、0.1μm以上、0.2μm以上、又は0.3μm以上であってよい。 In the present invention, the thickness of Layer II is not particularly limited, but is preferably 1.0 μm or less. More specifically, the thickness of Layer II may be, for example, 1.0 μm or less, 0.9 μm or less, 0.8 μm or less, 0.7 μm or less, 0.6 μm or less, or 0.5 μm or less, or may be 0.02 μm or more, 0.05 μm or more, 0.1 μm or more, 0.2 μm or more, or 0.3 μm or more.
本発明において、第II層の表面が平滑であればあるほど、耐凝着性の効果が大きくなる。このため、本発明に係る第II層の表面の算術平均粗さRa2は、例えば、0.150μm以下、0.140μm以下、0.130μm以下、0.120μm以下、又は0.115μm以下であってよい。また、第II層の表面の算術平均粗さRaの下限は、特に限定されず、例えば0.010μm以上であってよい。 In the present invention, the smoother the surface of Layer II, the greater the adhesion resistance effect. Therefore, the arithmetic mean roughness Ra2 of the surface of Layer II according to the present invention may be, for example, 0.150 μm or less, 0.140 μm or less, 0.130 μm or less, 0.120 μm or less, or 0.115 μm or less. The lower limit of the arithmetic mean roughness Ra of the surface of Layer II is not particularly limited and may be, for example, 0.010 μm or more.
また、本発明において、第II層の表面の最大高さ粗さRzは、1.300μm以下であってよく、より具体的には、例えば、1.250μm以下、1.200μm以下、1.150μm以下、1.100μm以下、又は0.950μm以下であってよく、また、0.500μm以上であってよい。 In addition, in the present invention, the maximum height roughness Rz of the surface of Layer II may be 1.300 μm or less, and more specifically, may be, for example, 1.250 μm or less, 1.200 μm or less, 1.150 μm or less, 1.100 μm or less, or 0.950 μm or less, or may be 0.500 μm or more.
なお、本発明において、層又は被膜の最大高さ粗さRzは、JIS B 0601-2001に準拠して、3ヵ所で測定し、その平均値を最大高さ粗さRzとすることができる。 In the present invention, the maximum height roughness Rz of a layer or coating can be measured at three locations in accordance with JIS B 0601-2001, and the average value can be used as the maximum height roughness Rz.
〈その他の層〉
本発明の工具において、本発明の効果を損なわない限り、随意にその他の層を更に含んでよい。
Other demographics
The tool of the present invention may further include other layers as desired, as long as the effects of the present invention are not impaired.
その他の層として、例えば、基材と第I層との間の密着性を上げるための任意の下地層を設けてもよい。また、第I層が2以上の被膜から構成されている場合には、これらの第I層を構成する被膜の中において、任意の機能をもたらす機能層を設けてもよい。 Other layers may include, for example, an optional underlayer to improve adhesion between the substrate and Layer I. Furthermore, if Layer I is composed of two or more coatings, functional layers that provide optional functions may be provided among the coatings that make up Layer I.
《表面被覆工具の製造方法》
本発明の表面被覆工具の製造方法(以下、単に、「本発明の製造方法」とも称する)は、
工具が、基材と、基材の表面上にこの順に被覆されている第I層及び第II層とを含み、
第I層及び前記第II層が、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであり、かつ
以下の工程(1)~(3)を含む、方法:
(1)基材上に、アークイオンプレーティング法によって第I層を形成すること、
(2)第I層に対して、金属イオンを用いたイオンボンバードメント処理を行うこと、及び
(3)イオンボンバードメント処理後の第I層上に、スパッタリング法によって第II層を形成すること。
<<Method for manufacturing surface-coated tools>>
The method for producing a surface-coated tool of the present invention (hereinafter also simply referred to as the "production method of the present invention") comprises the steps of:
The tool includes a substrate and a layer I and a layer II coated in this order on a surface of the substrate;
wherein the first layer and the second layer are each independently at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating; and the method includes the following steps (1) to (3):
(1) forming a first layer on a substrate by an arc ion plating method;
(2) performing an ion bombardment treatment on the layer I using metal ions; and (3) forming the layer II by a sputtering method on the layer I after the ion bombardment treatment.
本発明の製造方法において、係る「工具」、「第I層」、及び「第II層」に関する説明は、上述した「表面被覆工具」の項目を参照できるため、ここでは省略する。 In the manufacturing method of the present invention, the "tool," "Layer I," and "Layer II" are described in the "Surface-Coated Tool" section above, so an explanation will be omitted here.
図3は、本発明の製造方法に係る工程の概略を示すフローチャートである。 Figure 3 is a flowchart showing an outline of the steps involved in the manufacturing method of the present invention.
図3に示されている本発明の製造方法は、工程(1)基材上に、アークイオンプレーティング法によって第I層を形成すること(S1)、工程(2)第I層に対して、金属イオンを用いたイオンボンバードメント処理を行うこと(S2)、及び工程(3)イオンボンバードメント処理後の第I層上に、スパッタリング法によって第II層を形成すること(S3)を含む。 The manufacturing method of the present invention shown in Figure 3 includes step (1) forming Layer I on a substrate by arc ion plating (S1), step (2) subjecting Layer I to ion bombardment treatment using metal ions (S2), and step (3) forming Layer II on Layer I after ion bombardment treatment by sputtering (S3).
〈成膜装置〉
本発明の製造方法に使用される成膜装置は、特に限定されず、1つの装置を用いてもよく、複数の装置を併用してもよい。
<Film forming equipment>
The film forming apparatus used in the manufacturing method of the present invention is not particularly limited, and one apparatus may be used, or a plurality of apparatuses may be used in combination.
図4は、本発明に用いられる成膜装置の一例を模式的に示す側面透視図である。本発明に係る工程(1)から工程(3)まで、図4に示されている成膜装置500内で行うことができる。 Figure 4 is a side perspective view showing a schematic example of a film formation apparatus used in the present invention. Steps (1) to (3) according to the present invention can be performed in the film formation apparatus 500 shown in Figure 4.
図4に示されている成膜装置500では、チャンバー501内に、被膜の金属原料となるターゲット(アーク用ターゲット)502、イオンボンバードメント処理用金属原料ターゲット503、被膜の金属原料となるターゲット(スパッタ用ターゲット)504、並びに基材10a及び10bを設置できる回転式の基材ホルダ505が取り付けられている。また、ターゲット502、503、及び504のそれぞれには電源が取り付けられており、基材ホルダ505にはバイアス電源が取り付けられている。更に、チャンバー501には、原料ガスを導入するためのガス導入口506と、ガス排気口507とを備えている。また、チャンバー501の圧力は、ガス排気口5072から真空ポンプ(図示せず)によってガスを吸引することにより調整することができる。 In the film formation apparatus 500 shown in Figure 4, a target (arc target) 502 serving as the metal source for the coating, a metal source target 503 for ion bombardment treatment, a target (sputtering target) 504 serving as the metal source for the coating, and a rotary substrate holder 505 on which substrates 10a and 10b can be placed are installed within a chamber 501. Power supplies are attached to each of the targets 502, 503, and 504, and a bias power supply is attached to the substrate holder 505. Furthermore, the chamber 501 is equipped with a gas inlet 506 for introducing source gas and a gas outlet 507. The pressure in the chamber 501 can be adjusted by sucking gas from the gas outlet 5072 using a vacuum pump (not shown).
〈工程(1)〉
工程(1)では、基材上に、アークイオンプレーティング法によって第I層を形成する。
<Process (1)>
In step (1), the first layer is formed on the substrate by arc ion plating.
アークイオンプレーティング法は、成膜装置内に基材とターゲットとを配置し、ターゲットに高電流を印加してアーク放電を生じさせることにより、ターゲットを構成する元素をイオン化させて、これを負のバイアス電圧を印加した基材上に堆積させる蒸着方法である。 The arc ion plating method is a deposition method in which a substrate and target are placed in a film-forming device, and a high current is applied to the target to create an arc discharge, ionizing the elements that make up the target, which are then deposited on a substrate to which a negative bias voltage is applied.
より具体的に、例えば、図4の成膜装置500内に、回転式の基材ホルダ505に基材10a及び10bをそれぞれ取り付けて、そして、ターゲット502としてTiを含むターゲットを用いて、また、原料ガスとして、窒素ガス及び/又はアセチレンガスを用いる。この際、基材10a及び10bを回転させながら、ターゲット502に高電流を印加してアーク放電を生じさせることにより、ターゲットを構成する元素をイオン化させて、ガス導入口506から原料ガスを導入した雰囲気下で、負のバイアス電圧を印加した基材10a及び10b上に堆積させることによって、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つである第I層を形成することができる。 More specifically, for example, in the film formation apparatus 500 shown in FIG. 4, substrates 10a and 10b are each attached to a rotary substrate holder 505, and a Ti-containing target 502 is used as the target 502, with nitrogen gas and/or acetylene gas used as the source gas. While rotating the substrates 10a and 10b, a high current is applied to the target 502 to generate an arc discharge, ionizing the elements that make up the target. The source gas is introduced from the gas inlet 506, and the target is deposited on the substrates 10a and 10b to which a negative bias voltage is applied, forming a first layer, which is at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating.
なお、図4では、基材として、10a及び10bの2つを設けているが、1つであってもよく、更に3つ以上であってもよい。また、原料ガスとして、窒素ガス及び/又は炭化水素ガス(例えばアセチレンガス等)の量を調節することによって、所望の窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜を形成することができる。 In Figure 4, two substrates, 10a and 10b, are provided, but there may be only one, or even three or more. Furthermore, by adjusting the amount of nitrogen gas and/or hydrocarbon gas (e.g., acetylene gas) used as the raw material gas, the desired titanium nitride coating, titanium carbide coating, and titanium carbonitride coating can be formed.
また、工程(1)では、チャンバー501内の温度は、特に限定されず、例えば400℃~500℃の範囲内で適宜調整してよい。チャンバー501内の圧力は、特に限定されず、適宜調整してよい。また、ターゲット及び基材に印加する電圧や電流等は、所望の被膜の種類又は厚さ等に合わせて、適宜調整してよい。 In step (1), the temperature within chamber 501 is not particularly limited and may be adjusted as appropriate within the range of, for example, 400°C to 500°C. The pressure within chamber 501 is not particularly limited and may be adjusted as appropriate. In addition, the voltage and current applied to the target and substrate may be adjusted as appropriate depending on the type or thickness of the desired coating.
〈工程(2)〉
工程(2)では、第I層に対して、金属イオンを用いたイオンボンバードメント処理を行う。これによって、アークイオンプレーティング法によって形成された第I層の表面のドロップレットを除去することができて、すなわち、第I層の表面を平坦化することができる。
<Process (2)>
In step (2), the layer I is subjected to an ion bombardment treatment using metal ions, which removes droplets formed on the surface of the layer I by the arc ion plating method, i.e., flattens the surface of the layer I.
工程(2)において、イオンボンバードメント処理に用いられる金属イオンは、例えばCrイオン、又はTiイオンであってよいが、Crイオンであることが好ましい。 In step (2), the metal ions used in the ion bombardment treatment may be, for example, Cr ions or Ti ions, but are preferably Cr ions.
工程(2)は、より具体的に、例えば、図4の成膜装置500内に、基材10a及び10bに形成された第I層に対して、基材10a及び10bを回転されながら、Crを含むターゲット503を用いて、イオンボンバードメント処理を行うことができる。 More specifically, in step (2), for example, an ion bombardment process can be performed on the layer I formed on the substrates 10a and 10b in the film formation apparatus 500 shown in Figure 4 using a target 503 containing Cr while the substrates 10a and 10b are being rotated.
金属イオンボンバードメント処理を行う際に、イオンボンバードメント処理に使用される金属元素が、基材に付着しないか又は微少量でしか付着しないように、例えば、基材に印加するバイアス電圧を適宜調整することによって行ってよい。 When performing metal ion bombardment, the bias voltage applied to the substrate can be appropriately adjusted, for example, so that the metal elements used in the ion bombardment do not adhere to the substrate or adhere only in trace amounts.
また、工程(2)は、真空雰囲気下又は高真空雰囲気下で行ってよく、また、適宜に例えばアルゴンガス等の不活性ガスを導入してよい。 In addition, step (2) may be carried out in a vacuum or high vacuum atmosphere, and an inert gas such as argon gas may be introduced as appropriate.
〈工程(3)〉
工程(3)では、イオンボンバードメント処理後の第I層上に、スパッタリング法によって第II層を形成する。
<Process (3)>
In step (3), the layer II is formed by sputtering on the layer I after the ion bombardment treatment.
スパッタリング法は、グロー放電によるArイオンでターゲット材料の表面に衝突させ、そしてターゲットから放出された原子をイオン化させ、基材上に堆積させる蒸着方法である。 Sputtering is a deposition method in which Ar ions generated by glow discharge bombard the surface of a target material, ionizing the atoms emitted from the target and depositing them on a substrate.
より具体的に、例えば、図4の成膜装置500内に、ターゲット504としてTiを含むターゲットを用いて、また、原料ガスとして、窒素ガス及び/又はアセチレンガスを用いる。この際、イオンボンバードメント処理後の第I層上に対して、基材10a及び10bを回転されながら、グロー放電によるArイオンでターゲット504の表面に衝突させ、そしてターゲット504から放出されたTi原子をイオン化させて、また、必要に応じて原料ガスを導入して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つである第II層を形成することができる。 More specifically, for example, a target containing Ti is used as the target 504 in the film formation apparatus 500 of FIG. 4, and nitrogen gas and/or acetylene gas is used as the source gas. During this process, while the substrates 10a and 10b are rotated on the layer I after the ion bombardment process, Ar ions generated by glow discharge are bombarded against the surface of the target 504, ionizing the Ti atoms released from the target 504. Furthermore, source gas is introduced as necessary to form layer II, which is at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating.
〈任意の他の工程〉
本発明の製造方法は、上述した工程の他、随意に他の工程を更に含んでよい。ここで、他の工程として、例えばエッチング工程が挙げられるがこれには限定されない。
<Optional Other Steps>
The manufacturing method of the present invention may optionally include other steps in addition to the steps described above, such as, but not limited to, an etching step.
(エッチング工程)
例えば、本発明の製造方法は、工程(1)の前に、基材に対して、エッチングを行うことを更に含んでよい。エッチングを行うことによって、本発明の工具表面に付着した微細な汚れ等を除去することができる。
(Etching process)
For example, the manufacturing method of the present invention may further include etching the substrate before step (1). By performing the etching, fine dirt and the like adhering to the surface of the tool of the present invention can be removed.
エッチングとしては、例えば、反応性ガスエッチング、反応性イオンエッチング等のドライエッチングを用いることができる。 Etching can be performed using dry etching such as reactive gas etching or reactive ion etching.
以下に実施例を挙げて、本発明について更に詳しく説明を行うが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will be described in more detail below using examples, but the present invention is not limited to these examples.
《実施例1》
実施例1では、図5に示された構成を有する試験タップ(「評価用タップ」とも称する)及び測定用の試験片をそれぞれ製造した。
Example 1
In Example 1, a test tap (also referred to as an "evaluation tap") and a test piece for measurement, each having the configuration shown in FIG. 5, were manufactured.
より具体的には、基材として、高速度工具鋼(HSS)を用いた。基材の表面上に被覆されている第I層は、アークイオンプレーティング法によって形成された複数のTiN被膜及びTiCN被膜を含み、総厚さは、2.0μmであった。また、第I層の最上層(すなわち、第II層と隣接する層)の表面に対して、Crイオンボンバードメント処理を行い、この処理後に、第II層を、スパッタリング法によって形成された。第II層の厚さは、0.5μmであった。 More specifically, high-speed tool steel (HSS) was used as the substrate. Layer I, coated on the surface of the substrate, included multiple TiN and TiCN coatings formed by arc ion plating, with a total thickness of 2.0 μm. Furthermore, the surface of the top layer of Layer I (i.e., the layer adjacent to Layer II) was subjected to Cr ion bombardment treatment, and after this treatment, Layer II was formed by sputtering. The thickness of Layer II was 0.5 μm.
《比較例1》
比較例1は、Crイオンボンバードメント処理の代わりにArイオンボンバードメント処理を行ったこと以外は、実施例1と同様にして、試験タップ及び測定用の試験片を製造した。
Comparative Example 1
In Comparative Example 1, a test tap and a test piece for measurement were manufactured in the same manner as in Example 1, except that Ar ion bombardment was performed instead of Cr ion bombardment.
《比較例2》
比較例2は、イオンボンバードメント処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして、試験タップ及び測定用の試験片を製造した。
Comparative Example 2
In Comparative Example 2, a test tap and a test piece for measurement were produced in the same manner as in Example 1, except that the ion bombardment treatment was not carried out.
《比較例3》
比較例3は、ホロカソード放電によって、基材にTiNを成膜した後、その上に、TiCNを成膜したこと、並びにイオンボンバードメント処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして、試験タップ及び測定用の試験片を製造した。
Comparative Example 3
In Comparative Example 3, a test tap and a test piece for measurement were manufactured in the same manner as in Example 1, except that a TiN film was formed on the substrate by hollow cathode discharge, and then a TiCN film was formed thereon, and no ion bombardment treatment was performed.
〈評価〉
(表面粗さの測定)
実施例及び比較例で製造した試験タップ及びそれぞれに対応する試験片に対して、被覆される前の基材の算術平均粗さRa及び最大高さ粗さRz、並びに被覆後の第II層の表面の算術平均粗さRa及び最大高さ粗さRzを求めて、結果を表1に示す。
<evaluation>
(Surface roughness measurement)
For the test taps manufactured in the Examples and Comparative Examples and the corresponding test pieces, the arithmetic mean roughness Ra and maximum height roughness Rz of the substrate before coating, and the arithmetic mean roughness Ra and maximum height roughness Rz of the surface of Layer II after coating were determined, and the results are shown in Table 1.
なお、算術平均粗さRaは、JIS B 0601-2001に準拠して、粗さ測定機を用いて、3ヵ所で測定し、その平均値を算術平均粗さRaとした。また、最大高さ粗さRzは、JIS B 0601-2001に準拠して、粗さ測定機を用いて、3ヵ所で測定し、その平均値を最大高さ粗さRzとした。 The arithmetic mean roughness Ra was measured at three locations using a roughness measuring device in accordance with JIS B 0601-2001, and the average value was taken as the arithmetic mean roughness Ra. Furthermore, the maximum height roughness Rz was measured at three locations using a roughness measuring device in accordance with JIS B 0601-2001, and the average value was taken as the maximum height roughness Rz.
(顕微鏡観察)
上記で製造した実施例及び比較例で製造した試験タップのそれぞれに対して、電子顕微鏡を用いて観察した。観察結果は、それぞれ図6(a)(実施例1)、図6(b)(比較例1)、図6(c)(比較例2)、及び図6(d)(比較例3)に示す。
(Microscopic observation)
The test taps manufactured in the examples and comparative examples were observed using an electron microscope, and the observation results are shown in Figure 6(a) (Example 1), Figure 6(b) (Comparative Example 1), Figure 6(c) (Comparative Example 2), and Figure 6(d) (Comparative Example 3), respectively.
図6(a)~図6(d)から明らかなように、実施例1の試験タップは、その表面が最も平滑であり、ドロップレットの数もわずかであることが分かった。 As is clear from Figures 6(a) to 6(d), the test tap of Example 1 had the smoothest surface and the fewest number of droplets.
(ロックウェル硬さ試験の圧痕による被膜の密着性評価)
実施例1、比較例1及び2の試験片のそれぞれに対して、ロックウェル硬さ試験機にて、ダイヤモンド圧子(円錐)で圧痕を付けた。その後、各圧痕部位を電子顕微鏡で観察し、それぞれの結果を図7~9に示す。
(Coating adhesion evaluation by indentation in Rockwell hardness test)
An indentation was made with a diamond indenter (cone) using a Rockwell hardness tester on each of the test pieces of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2. Thereafter, each indented portion was observed under an electron microscope, and the respective results are shown in Figures 7 to 9.
また、各観察結果に対して、密着性評価基準DIN VDI 3198に基づき、評価を行った。 In addition, each observation result was evaluated based on the adhesion evaluation standard DIN VDI 3198.
図7は、実施例1の圧痕部位の観察結果を示す図である。図7(b)は、図7(a)の四角の枠で囲んだ部分の拡大図である。図7から明らかなように、実施例1の結果では、拡大で観察された場合(図7(b))においても、極小のクラックのみが見られた。また、これは、密着性評価基準DIN VDI 3198のHF1(合格)ランクに相当することが明らかである。すなわち、実施例1の試験片の被膜の密着性が高いことが分かった。 Figure 7 shows the results of observing the indentation site of Example 1. Figure 7(b) is an enlarged view of the area enclosed by the square frame in Figure 7(a). As is clear from Figure 7, in the results of Example 1, only very small cracks were observed even when observed under magnification (Figure 7(b)). This also clearly corresponds to the HF1 (pass) rank in the adhesion evaluation standard DIN VDI 3198. In other words, it was found that the coating of the test piece of Example 1 had high adhesion.
図8は、比較例1の圧痕部位の観察結果を示す図である。図8(b)は、図8(a)の四角の枠で囲んだ部分の拡大図である。図8から明らかなように、比較例1の結果では、拡大で観察された場合(図8(b))において、小さいクラックが見られた。また、これは、密着性評価基準DIN VDI 3198のHF1(合格)ランクに相当するが、実施例1の場合の密着性に比べてやや劣っていることが分かった。 Figure 8 shows the results of observing the indentation site in Comparative Example 1. Figure 8(b) is an enlarged view of the area enclosed by the square frame in Figure 8(a). As is clear from Figure 8, small cracks were observed in the results of Comparative Example 1 when observed under magnification (Figure 8(b)). This corresponds to an HF1 (pass) rank in the adhesion evaluation standard DIN VDI 3198, but was found to be slightly inferior to the adhesion in Example 1.
図9は、比較例2の圧痕部位の観察結果を示す図である。なお、確認の便宜上、図9の写真のコントラストを調整した。図9から明らかなように、比較例2の結果では、第II層(すなわち、スパッタリング層)が剥離されたことが分かった。また、これは、密着性評価基準DIN VDI 3198のHF6(不合格)ランクに相当することが明らかである。 Figure 9 shows the results of observing the indentation site in Comparative Example 2. Note that the contrast of the photograph in Figure 9 has been adjusted for ease of confirmation. As is clear from Figure 9, the results for Comparative Example 2 show that Layer II (i.e., the sputtering layer) had peeled off. This clearly corresponds to a rank of HF6 (fail) in the adhesion evaluation standard DIN VDI 3198.
なお、比較例3の試験片に対して、同様にロックウェル硬さ試験を行った。比較例3の圧痕部位の観察結果(図示せず)は、密着性評価基準DIN VDI 3198のHF1(合格)ランクに相当することが分かった。 A Rockwell hardness test was also conducted on the test piece of Comparative Example 3. The observation results (not shown) of the indentation site of Comparative Example 3 were found to correspond to the HF1 (pass) rank of the adhesion evaluation standard DIN VDI 3198.
また、実施例及び比較例のそれぞれの圧痕結果の密着性評価基準DIN VDI 3198に相当するランクは、下記の表1に纏められている。 The rankings of the indentation results for each of the examples and comparative examples, which correspond to the adhesion evaluation standard DIN VDI 3198, are summarized in Table 1 below.
(ビッカース硬さ試験)
実施例1及び比較例1~3の試験片のそれぞれに対して、JIS Z 2244に基づき、250mNの試験荷重でビッカース硬さを測定した。それぞれの結果を下記の表1に示す。
(Vickers hardness test)
The Vickers hardness of each of the test pieces of Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 was measured at a test load of 250 mN in accordance with JIS Z 2244. The results are shown in Table 1 below.
表1の結果から明らかなように、Crイオンを用いたイオンボンバードメント処理を実施した実施例1は、第II層の算術平均表面粗さが最も低く、すなわち耐凝着性が最も高いことが示唆された。 As is clear from the results in Table 1, Example 1, which underwent ion bombardment treatment using Cr ions, had the lowest arithmetic mean surface roughness of Layer II, suggesting that it had the highest adhesion resistance.
〈盛上げタップ(転造工具)への適用結果1〉
実施例1及び比較例3のそれぞれの試験タップの耐摩耗性及び耐凝着性を評価した。それぞれの1,600穴加工後の状態写真を図10(実施例1)及び図11(比較例3)に示す。
<Results of application to forming taps (rolling tools) 1>
The wear resistance and adhesion resistance of each test tap of Example 1 and Comparative Example 3 were evaluated. Photographs of the condition of each tap after drilling 1,600 holes are shown in Figure 10 (Example 1) and Figure 11 (Comparative Example 3).
なお、穴加工試験条件は、以下のとおりである:
タップ:盛上げタップ M4×0.7
被削材:S50C(炭素鋼)
下穴径:3.7 mm
タッピング速度:20 m/min
切削油剤:水溶性切削油剤エマルション濃度5%
The hole drilling test conditions are as follows:
Tap: Forming tap M4 x 0.7
Work material: S50C (carbon steel)
Pilot hole diameter: 3.7 mm
Tapping speed: 20 m/min
Cutting fluid: Water-soluble cutting fluid emulsion concentration 5%
図10及び図11から明らかなように、図10(a)及び図11(a)では、実施例1及び比較例3のそれぞれの外観上に大きな違いはなかったものの、それぞれの拡大図である図10(b)及び図11(b)を観察すると、比較例3のタップ山頂において、基材(母材)が露出された部分及び凝着部分が見られた。これに対して、実施例1では、基材露出はなかった。 As is clear from Figures 10 and 11, there was no significant difference in appearance between Example 1 and Comparative Example 3 in Figures 10(a) and 11(a). However, when observing the enlarged views in Figures 10(b) and 11(b), respectively, it was found that areas where the substrate (base material) was exposed and areas of adhesion were visible at the top of the tap in Comparative Example 3. In contrast, there was no exposed substrate in Example 1.
すなわち、比較例3に比べて、盛上げタップとして使用された実施例1は、耐摩耗性及び耐凝着性に優れていることが分かった。 In other words, it was found that Example 1, which was used as a thread forming tap, had superior wear resistance and adhesion resistance compared to Comparative Example 3.
〈盛上げタップ(転造工具)への適用結果2〉
実施例1及び比較例3のそれぞれの試験タップの耐摩耗性及び耐凝着性を評価した。それぞれの880穴加工後の状態写真を図12(実施例1)及び図13(比較例3)に示す。
<Results of application to forming taps (rolling tools) 2>
The wear resistance and adhesion resistance of each test tap of Example 1 and Comparative Example 3 were evaluated. Photographs of the state of each tap after drilling 880 holes are shown in Figure 12 (Example 1) and Figure 13 (Comparative Example 3).
なお、穴加工試験条件は、以下のとおりである:
タップ:盛上げタップ M2×0.4
被削材:SUS304(凝着が生じやすい素材)
下穴径:1.82 mm
タッピング速度:5 m/min
切削油剤:水溶性切削油剤エマルション濃度5%
The hole drilling test conditions are as follows:
Tap: Forming tap M2 x 0.4
Work material: SUS304 (material prone to adhesion)
Pilot hole diameter: 1.82 mm
Tapping speed: 5 m/min
Cutting fluid: Water-soluble cutting fluid emulsion concentration 5%
図12及び図13から明らかなように、図12(a)及び図13(a)では、実施例1及び比較例3のそれぞれの外観上に大きな違いはなかったものの、それぞれの拡大図である図12(b)及び図13(b)を観察すると、比較例3では、基材(母材)が露出された部分及び凝着部分が見られた。これに対して、実施例1では、凝着部分が見られたものの、比較例3ほど大きくなかった。また、実施例1では、基材露出はなかった。 As is clear from Figures 12 and 13, there was no significant difference in appearance between Example 1 and Comparative Example 3 in Figures 12(a) and 13(a). However, when observing the enlarged views of Figures 12(b) and 13(b), Comparative Example 3 had exposed areas of the substrate (base material) and adhered areas. In contrast, in Example 1, although adhered areas were visible, they were not as large as in Comparative Example 3. Furthermore, there was no exposed substrate in Example 1.
この結果から、比較例3に比べて、実施例1の試験タップは、耐摩耗性及び耐凝着性に優れていることが分かった。 These results demonstrate that the test tap of Example 1 has superior wear resistance and adhesion resistance compared to Comparative Example 3.
10、20、10a、10b 基材
11 第I層
12、22 第II層
21a、21b、21c、21d、21e 第I層を構成する被膜
100、200 表面被覆工具
500 成膜装置
501 チャンバー
502、503、504 ターゲット
505 基材ホルダ
506 ガス導入口
507 ガス排気口
10, 20, 10a, 10b Substrate 11 Layer I 12, 22 Layer II 21a, 21b, 21c, 21d, 21e Coating constituting Layer I 100, 200 Surface-coated tool 500 Film-forming apparatus 501 Chamber 502, 503, 504 Target 505 Substrate holder 506 Gas inlet 507 Gas outlet
Claims (11)
前記工具が、基材と、前記基材の表面上にこの順に被覆されている第I層及び第II層とを含み、
前記第I層及び前記第II層が、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであり、かつ
以下の工程(1)~(3)を含み:
(1)前記基材上に、アークイオンプレーティング法によって前記第I層を形成すること、
(2)前記第I層に対して、金属イオンを用いたイオンボンバードメント処理を行うこと、及び
(3)前記イオンボンバードメント処理後の第I層上に、スパッタリング法によって第II層を形成すること、かつ
前記工程(2)において、前記金属イオンが、Crイオンである、
方法。 A method for manufacturing a surface-coated tool, comprising the steps of:
the tool includes a substrate and a layer I and a layer II coated in this order on a surface of the substrate;
the layer I and the layer II are each independently at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating; and the method includes the following steps (1) to (3):
(1) forming the layer I on the substrate by an arc ion plating method;
(2) subjecting the layer I to an ion bombardment treatment using metal ions; and (3) forming a layer II on the layer I after the ion bombardment treatment by a sputtering method .
In the step (2), the metal ion is a Cr ion.
method.
0μm≦Ra2-Ra0<0.060μm (1) The method according to claim 1, wherein a relationship between an arithmetic mean roughness Ra 0 of the surface of the substrate and an arithmetic mean roughness Ra 2 of the surface of the II layer satisfies the following formula (1):
0μm≦Ra 2 −Ra 0 <0.060μm (1)
前記第I層が、アークイオンプレーティング層であり、
前記第II層が、スパッタリング層であり、
前記第I層の表面が、1.0at%未満のCrを含有し、
前記第I層及び前記第II層は、それぞれ独立して、窒化チタン被膜、炭化チタン被膜、及び炭窒化チタン被膜のうちの少なくとも1つであり、かつ
前記基材の表面の算術平均粗さRa0と、前記第II層の表面の算術平均粗さRa2との関係が、以下の式(1)を満たす、
表面被覆工具:
0μm≦Ra2-Ra0<0.060μm (1) A substrate, and a layer I and a layer II coated in this order on a surface of the substrate,
the I layer is an arc ion plating layer,
the second layer is a sputtering layer,
the surface of the I layer contains less than 1.0 at% Cr;
the layer I and the layer II are each independently at least one of a titanium nitride coating, a titanium carbide coating, and a titanium carbonitride coating, and the relationship between the arithmetic mean roughness Ra 0 of the surface of the base material and the arithmetic mean roughness Ra 2 of the surface of the layer II satisfies the following formula (1):
Surface coated tools:
0μm≦Ra 2 −Ra 0 <0.060μm (1)
前記第II層の厚さが、1.0μm以下である、
請求項5に記載の工具。 the thickness of the layer I is 1.0 μm or more and 5.0 μm or less, and the thickness of the layer II is 1.0 μm or less;
6. The tool of claim 5 .
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