JP7777482B2 - Method for producing release film - Google Patents
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Description
本発明は、剥離フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a release film.
粘着ラベル、樹脂シート製造時のキャリアシート、各種の保護シート等として、剥離フィルムが使用されている。このような剥離フィルムとしては、紙やプラスチックフィルム等の基材上に、シリコーン系剥離剤等から構成される剥離層を設けたものが使用されている。このような剥離フィルムは、有機溶剤を含有する溶剤型シリコーン系剥離剤を塗工液に用い、これをプラスチックフィルム等の基材上に塗布し、加熱することによって、剥離層を基材上に形成する手法等を用いて製造される。 Release films are used as adhesive labels, carrier sheets in the production of resin sheets, various protective sheets, and more. These release films have a release layer composed of a silicone-based release agent or the like provided on a substrate such as paper or plastic film. These release films are manufactured using a coating liquid containing a solvent-based silicone-based release agent containing an organic solvent, which is then applied to a substrate such as a plastic film and heated to form a release layer on the substrate.
このような剥離フィルムの製造方法に関するものとして、特許文献1には、シート状基材と、その上に設けられた光増感剤を含む付加反応型シリコーン樹脂組成物の硬化層とを有する剥離フィルムであって、上記硬化層が、α-ヒドロキシケトン類及びα-ジケトンジアルキルアセタール類の中から選ばれる少なくとも一種の光増感剤を含む付加反応型シリコーン樹脂組成物層を加熱処理後、紫外線照射処理してなるものであることを特徴とする剥離フィルムが開示されている。 As a method for producing such a release film, Patent Document 1 discloses a release film having a sheet-like substrate and, provided thereon, a cured layer of an addition-reaction type silicone resin composition containing a photosensitizer, wherein the cured layer is formed by heating an addition-reaction type silicone resin composition layer containing at least one photosensitizer selected from α-hydroxyketones and α-diketone dialkyl acetals, followed by ultraviolet irradiation.
しかし、剥離層を形成するための塗工液に関して、有機溶剤の使用量を減らして、無溶剤系のシリコーン剥離剤等を使用することも考えられるが、その場合には、十分な基材との密着性が得られず、剥離フィルムとして要求される剥離性との両立が難しいという問題がある。このような不具合は、ポリエチレンテレフタレート系基材を用いた場合に顕著であり、例えば、剥離層の表面が軽く擦れるだけで剥離剤が脱落するといった不具合が発生したりする。 However, while it is possible to reduce the amount of organic solvent used in the coating liquid used to form the release layer and use a solvent-free silicone release agent, etc., this can result in insufficient adhesion to the substrate, making it difficult to achieve the release properties required of a release film. This problem is particularly pronounced when using a polyethylene terephthalate substrate; for example, even light rubbing of the surface of the release layer can cause the release agent to come off.
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、剥離フィルムとして実用可能な剥離性を付与でき、かつ、基材との密着性に優れる、剥離フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and aims to provide a method for producing a release film that can impart practical release properties to the film and has excellent adhesion to the substrate.
本発明者は、上述した目的を達成するために鋭意検討した結果、(1)付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤を含有する塗工液を、ポリエチレンテレフタレート系基材に塗工して、塗工層を含む積層体を得る工程と、(2)積層体の塗工層に、積算光量が8~1400mJ/m2となるように紫外線を照射する、前照射工程と、(3)(2)工程の後に、積層体を加熱して、塗工層を反応硬化させて剥離層を形成する工程を行うことに知見を得て、本発明を完成するに至った。 As a result of extensive research into achieving the above-mentioned object, the present inventors discovered that the process involves (1) applying a coating liquid containing an addition reaction type solventless silicone release agent to a polyethylene terephthalate substrate to obtain a laminate including a coating layer, (2) a pre-irradiation step in which the coating layer of the laminate is irradiated with ultraviolet light so that the integrated light amount is 8 to 1400 mJ/ m2 , and (3) after step (2), heating the laminate to reactively cure the coating layer and form a release layer, thereby completing the present invention.
すなわち、本発明は以下のとおりである。 In other words, the present invention is as follows:
〔1〕
(1)付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤を含有する塗工液を、ポリエチレンテレフタレート系基材に塗工して、塗工層を含む積層体を得る工程と、(2)積層体の塗工層に、積算光量が8~1400mJ/m2となるように紫外線を照射する、前照射工程と、(3)(2)工程の後に、積層体を加熱して、塗工層を反応硬化させて剥離層を形成する工程と、を含む、剥離フィルムの製造方法である。
〔2〕
(3)工程は、(2)工程の後に、積層体を加熱した後に、紫外線を更に照射することによって、塗工層を反応硬化させて剥離層を形成する工程である、〔1〕に記載の剥離フィルムの製造方法である。
〔3〕
無溶剤系シリコーン剥離剤を含有する塗工液は、昇温速度10℃/分で室温から170℃まで昇温した際の、150℃における重量減少率が、8.0質量%以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の剥離フィルムの製造方法である。
[1]
This method for producing a release film includes the following steps: (1) applying a coating solution containing an addition reaction type solventless silicone release agent to a polyethylene terephthalate substrate to obtain a laminate including a coating layer; (2) a pre-irradiation step of irradiating the coating layer of the laminate with ultraviolet light so that the cumulative light amount is 8 to 1400 mJ/ m2 ; and (3) after step (2), heating the laminate to reactively cure the coating layer and form a release layer.
[2]
In the method for producing a release film according to [1], the process (3) is a process in which, after the process (2), the laminate is heated and then further irradiated with ultraviolet light to reactively harden the coating layer and form a release layer.
[3]
The method for producing a release film according to [1] or [2], wherein the coating liquid containing the solventless silicone release agent exhibits a weight loss rate of 8.0% by mass or less at 150°C when heated from room temperature to 170°C at a heating rate of 10°C/min.
本発明によれば、剥離フィルムとして実用可能な剥離性を付与でき、かつ、基材との密着性に優れる、剥離フィルムの製造方法を提供することができる。 The present invention provides a method for producing a release film that can impart practical release properties to the film and has excellent adhesion to the substrate.
以下、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施形態」という。)について詳細に説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。 The following describes in detail the form for carrying out the present invention (hereinafter simply referred to as the "present embodiment"). The following present embodiment is an example for explaining the present invention, and is not intended to limit the present invention to the following content. The present invention can be carried out with appropriate modifications within the scope of its gist.
本実施形態に係る剥離フィルムの製造方法は、(1)付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤を含有する塗工液を、ポリエチレンテレフタレート系基材に塗工して、塗工層を含む積層体を得る工程と、(2)積層体の塗工層に、積算光量が8~1400mJ/m2となるように紫外線を照射する、前照射工程と、(3)(2)工程の後に、積層体を加熱して、塗工層を反応硬化させて剥離層を形成する工程と、を含む、剥離フィルムの製造方法である。なお、本明細書の「フィルム」とは、「シート」呼ばれるものも包含する。よって、本実施形態の「剥離フィルム」は、「剥離シート」等と呼ばれるものも包含する。 The method for producing a release film according to this embodiment includes the following steps: (1) applying a coating solution containing an addition-reaction-type solventless silicone release agent to a polyethylene terephthalate substrate to obtain a laminate including a coating layer; (2) irradiating the coating layer of the laminate with ultraviolet light at an integrated dose of 8 to 1,400 mJ/ m2 ; and (3) after step (2), heating the laminate to reactively cure the coating layer and form a release layer. Note that the term "film" in this specification also encompasses what is sometimes called a "sheet." Therefore, the term "release film" in this embodiment also encompasses what is sometimes called a "release sheet," etc.
ここで、シリコーン剥離剤を用いた従来の剥離フィルムの一例を説明すると、塗布性を確保して、薄い塗膜を得るためや、基材との密着性を確保するため等から、有機溶剤で希釈した溶剤系シリコーン剥離剤を用いることがある。また、硬化後のマイグレーションが少ないといった観点から、シリコーン剥離剤の中でも、付加反応型のシリコーン剥離剤を用いることがある。 Here, an example of a conventional release film that uses a silicone release agent is described. To ensure coatability, obtain a thin coating, and ensure adhesion to the substrate, solvent-based silicone release agents diluted with an organic solvent are sometimes used. Furthermore, among silicone release agents, addition reaction-type silicone release agents are sometimes used because they cause less migration after curing.
このような従来の手法において、環境に与える影響等を考慮して、有機溶剤の使用を極力控えた製造方法として、溶剤系シリコーンではなく、無溶剤系シリコーン剥離剤を用いることも試みられてはいるが、その場合には、基材との密着性が悪くなるという問題が生じる。特に、付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤を、ポリエチレンテレフタレート系基材と組み合わせた場合に、こういった問題が顕著に起こり得る。 In these conventional methods, attempts have been made to use solventless silicone release agents instead of solvent-based silicones as a manufacturing method that minimizes the use of organic solvents, taking into consideration factors such as the environmental impact. However, this method presents the problem of poor adhesion to the substrate. This problem can become particularly pronounced when an addition-reaction type solventless silicone release agent is combined with a polyethylene terephthalate-based substrate.
また、有機溶剤を加えることによって剥離剤を希釈して塗工液にしたり、あらかじめ所定量の有機溶剤を配合している溶剤系シリコーン剥離剤を用いたりする従来の手法では、安全面から、溶剤存在下で紫外線を照射することに、制約を受けることがある。例えば、溶剤を含有する状態で紫外線を照射すると、溶剤の蒸発等により、紫外線照射装置内で爆発限界を超えてしまうおそれがある。このような事情から、上述したような従来の手法では、加熱前に紫外線照射を行うことができない、あるいは、加熱前の照射を避けるといった事情もある。以上のようなことから、ポリエチレンテレフタレート系基材に、付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤を使用することは、実用レベルに耐え得る剥離フィルムを製造するには、現実的ではないと考えられていた。 Furthermore, with conventional methods that involve diluting the release agent by adding an organic solvent to create a coating solution, or using solvent-based silicone release agents that already contain a predetermined amount of organic solvent, safety restrictions may be placed on irradiating the material with UV light in the presence of a solvent. For example, if UV light is irradiated while the material contains a solvent, the evaporation of the solvent may cause the explosion limit to be exceeded within the UV irradiation equipment. For these reasons, with the conventional methods described above, UV irradiation before heating is not possible, or irradiation before heating is avoided. For these reasons, using an addition-reaction-type solventless silicone release agent on a polyethylene terephthalate substrate has been considered impractical for producing a release film that can withstand practical use.
このような点を踏まえた上で、本発明者は、発想を転換して、あえて無溶剤系シリコーン剥離剤を塗工液の成分に採用しつつ、この塗工液をポリエチレンテレフタレート系基材に塗工することについて、鋭意研究した。そして、加熱前に、紫外線を特定の条件で前照射してみることに着想を得て、本実施形態に係る製造方法を完成させた。すなわち、本発明者は、付加反応型の無溶剤系シリコーンとポリエチレンテレフタレート系基材という、密着性等の観点からは良くないと考えられている組み合わせであっても、意外にも、剥離フィルムとしての剥離性と基材との密着性とを、両立できることを見出した。 With these points in mind, the inventors changed their approach and conducted extensive research into incorporating a solventless silicone release agent into the coating liquid and applying this coating liquid to a polyethylene terephthalate-based substrate. They then came up with the idea of pre-irradiating the coating with ultraviolet light under specific conditions before heating, and perfected the manufacturing method of this embodiment. In other words, the inventors unexpectedly discovered that even with an addition-reaction-type solventless silicone and a polyethylene terephthalate-based substrate, a combination that is thought to be poor from the perspective of adhesion, it is possible to achieve both releasability as a release film and adhesion to the substrate.
以下、本実施形態において実施可能な各工程、及び使用可能な材料について、例示的に説明する。 Below, we will provide an example of each process that can be performed in this embodiment and the materials that can be used.
<塗工工程> <Coating process>
(1)付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤を含有する塗工液を、ポリエチレンテレフタレート系基材(PET系基材)に塗工して、塗工層を含む積層体を得る工程を行う。 (1) A coating solution containing an addition reaction type solventless silicone release agent is applied to a polyethylene terephthalate substrate (PET substrate) to obtain a laminate including a coating layer.
(ポリエチレンテレフタレート系基材(PET系基材)) (Polyethylene terephthalate (PET) substrate)
本実施形態は、フィルム基材としてPET系基材を用いる。PET系基材は、ポリエチレンテレフタレート(PET)を含有する基材であり、好ましくはポリエチレンテレフタレート基材である。ポリエチレンテレフタレートは、延伸されていてもよいし、無延伸でもよく、例えば、2軸延伸ポリエチレンテレフタレート等を好適に用いることができる。 In this embodiment, a PET-based substrate is used as the film substrate. The PET-based substrate is a substrate containing polyethylene terephthalate (PET), and is preferably a polyethylene terephthalate substrate. The polyethylene terephthalate may be stretched or unstretched; for example, biaxially stretched polyethylene terephthalate is preferably used.
PET系基材は、1層のみからなる単層でもよいし、2層以上の複数層であってもよい。複数層である場合、塗工液を塗布する層(基材の最表層)が、ポリエチレンテレフタレート系基材であればよい。例えば、複数層のPET系基材から構成される積層体等であってもよい。 The PET-based substrate may be a single layer consisting of only one layer, or may be a multi-layer consisting of two or more layers. If it is a multi-layer substrate, the layer to which the coating liquid is applied (the outermost layer of the substrate) should be a polyethylene terephthalate-based substrate. For example, it may be a laminate composed of multiple layers of PET-based substrates.
PET系基材の厚さは、特に限定されないが、2~500μmであることが好ましい。この厚みの上限は、250μm以下であることがより好ましく、188μm以下であることが更に好ましい。また、この厚みの下限は、10μm以上であることがより好ましく、15μm以上であることが更に好ましい。 The thickness of the PET substrate is not particularly limited, but is preferably 2 to 500 μm. The upper limit of this thickness is more preferably 250 μm or less, and even more preferably 188 μm or less. The lower limit of this thickness is more preferably 10 μm or more, and even more preferably 15 μm or more.
(付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤) (Addition reaction type, solventless silicone release agent)
本実施形態において、付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤は、例えば、反応希釈剤等の低分子量シリコーンを含有していてもよい。低分子量シリコーンは、わずかながら高温で揮発する場合がある。なお、本実施形態において、「無溶剤(系)」に関する好適な態様としては、昇温速度10℃/分で室温から170℃まで昇温した際の、150℃における重量減少率が、8.0質量%以下である。この重量減少率は、無溶剤の程度の指標となり得るものであり、より好ましくは6.0質量%以下であり、更に好ましくは5.0質量%以下であり、より更に好ましくは0質量%である。なお、含有減少率は、0質量%であることが好適であるが、本実施形態の作用効果が得られる範囲であれば、その下限値は、例えば、0質量%を超えていてもよい。したがって、例えば、上記した付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤は、有機溶剤を含有しないが、上記の重量減少率については、上記の数値範囲内にあるものでもよい。 In this embodiment, the solvent-free silicone release agent of the addition reaction type may contain, for example, a low-molecular-weight silicone such as a reactive diluent. Low-molecular-weight silicone may volatilize slightly at high temperatures. In this embodiment, a preferred aspect of the "solvent-free (system)" is a weight loss rate of 8.0% by mass or less at 150°C when heated from room temperature to 170°C at a heating rate of 10°C/min. This weight loss rate can serve as an indicator of the degree of solvent-freeness, and is more preferably 6.0% by mass or less, even more preferably 5.0% by mass or less, and even more preferably 0% by mass. While a content loss rate of 0% by mass is preferred, the lower limit may exceed 0% by mass, as long as the effects of this embodiment are achieved. Therefore, for example, the solvent-free silicone release agent of the addition reaction type described above may not contain an organic solvent, but the weight loss rate may be within the above-mentioned range.
そして、上記の重量減少率は、昇温速度10℃/分で室温から170℃まで昇温した際の、150℃における重量(「150℃の重量」)と、加熱前の重量(「加熱前の重量」)とを、下記式に当てはめて、重量減少率(%)を求めることができる。
重量減少率(%)=(加熱前の重量-150℃の重量)/加熱前の重量×100
The weight loss rate (%) can be calculated by applying the weight at 150°C ("weight at 150°C") and the weight before heating ("weight before heating") to the following formula when the temperature is raised from room temperature to 170°C at a heating rate of 10°C/min.
Weight loss rate (%) = (weight before heating - weight at 150°C) / weight before heating x 100
付加反応型のシリコーン剥離剤としては、例えば、(a)分子中に少なくとも1個以上の付加反応性基を有するポリオルガノシロキサンと、(b)分子中に少なくとも1個以上のヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサンとを、含有する剥離剤が好ましい。(a)成分の付加反応性基としては、アルケニル基が挙げられる。そして、(a)成分の付加反応性基と、(b)成分のヒドロシリル基とが、ヒドロシリル化反応等により反応硬化することによって、剥離フィルムとして実用可能な程度の剥離性を有する剥離層を形成することができ、かつ、剥離層をPET系基材に密着させることもできる。 Preferred examples of addition-reaction-type silicone release agents include those containing (a) a polyorganosiloxane having at least one addition-reactive group per molecule and (b) a polyorganosiloxane having at least one hydrosilyl group per molecule. Examples of the addition-reactive group in component (a) include alkenyl groups. The addition-reactive group in component (a) and the hydrosilyl group in component (b) react and cure through a hydrosilylation reaction or the like to form a release layer with sufficient releasability for practical use as a release film, and the release layer can also be adhered to a PET-based substrate.
さらに、塗工液に用いる無溶剤系シリコーン剥離剤は、(a)炭素数2~10のアルケニル基を含有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサンと、(b)ヒドロシリル基を含有するヒドロシリル基含有ポリオルガノシロキサンと、を含有することが、より好ましい。このような組み合わせとすることで、溶剤で希釈しなくても、塗工可能な程度の粘度に抑えることができ、かつ、(a)成分と(b)成分とを十分に反応硬化させて、剥離層を形成することができる。 More preferably, the solventless silicone release agent used in the coating solution contains (a) an alkenyl group-containing polyorganosiloxane containing alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms, and (b) a hydrosilyl group-containing polyorganosiloxane containing hydrosilyl groups. This combination allows the viscosity to be kept low enough to be coatable without diluting with a solvent, and components (a) and (b) can be sufficiently reacted and cured to form a release layer.
(a)成分としては、例えば、ビニル基含有ポリオルガノシロキサン、アリル基含有ポリオルガノシロキサン、ブテニル基含有ポリオルガノシロキサン、ペンテニル基含有ポリオルガノシロキサン、ヘキセニル基含有ポリオルガノシロキサン、ヘプテニル基含有ポリオルガノシロキサン、オクテニル基含有ポリオルガノシロキサン、ノネニル基含有ポリオルガノシロキサン、デセニル基含有ポリオルガノシロキサン等が挙げられる。 Examples of component (a) include vinyl group-containing polyorganosiloxanes, allyl group-containing polyorganosiloxanes, butenyl group-containing polyorganosiloxanes, pentenyl group-containing polyorganosiloxanes, hexenyl group-containing polyorganosiloxanes, heptenyl group-containing polyorganosiloxanes, octenyl group-containing polyorganosiloxanes, nonenyl group-containing polyorganosiloxanes, and decenyl group-containing polyorganosiloxanes.
(b)成分としては、架橋剤として機能し得るものを使用でき、例えば、分子中に1個以上、好ましくは2個以上のケイ素原子に結合した水素原子を有するヒドロシリル基含有ポリオルガノシロキサン等が挙げられる。具体例としては、ポリメチルハイドロジェンシロキサン、ポリエチルハイドロジェンシロキサン、ポリ(ジメチルシロキサン-メチルハイドロジェンシロキサン)、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン-メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン-メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ポリ(メチルハイドロジェンシロキサン)、ポリ(ハイドロジェンシルセスキオキサン)等のヒドロシリル基含有ポリオルガノシロキサンが挙げられる。 Component (b) can be a compound that functions as a crosslinking agent, such as a hydrosilyl group-containing polyorganosiloxane that has one or more, preferably two or more, silicon-bonded hydrogen atoms in the molecule. Specific examples include hydrosilyl group-containing polyorganosiloxanes such as polymethylhydrogensiloxane, polyethylhydrogensiloxane, poly(dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane), dimethylhydrogensiloxy group-endblocked dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-endblocked dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-endblocked poly(methylhydrogensiloxane), and poly(hydrogensilsesquioxane).
本実施形態の付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤は、一般に無溶剤系シリコーン剥離剤として市販されているものを使用でき、例えば、「DOWSIL(TM) LTC1057L」、「LTC1067M」、「(ダウ・東レ社製)(いずれもダウ・東レ社製);「KNS 3056」、「KNS 320A」、「X-62-1387」(いずれも信越化学工業社製)等の市販品を使用することができる。 The addition reaction type solventless silicone release agent of this embodiment can be any commercially available solventless silicone release agent, such as "DOWSIL™ LTC1057L," "LTC1067M," and "(Dow-Toray Industries, Inc.)" (all manufactured by Dow-Toray Industries, Inc.); "KNS 3056," "KNS 320A," and "X-62-1387" (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
(a)成分に対する(b)成分の含有量は、硬化反応可能な比率に制御すればよく、特に限定されないが、(a)成分100質量部に対し、0.1~100質量部であることが好ましく、0.3~50質量部であることがより好ましい。 The amount of component (b) relative to component (a) is not particularly limited as long as it is controlled to a ratio that allows for a curing reaction, but it is preferably 0.1 to 100 parts by mass, and more preferably 0.3 to 50 parts by mass, per 100 parts by mass of component (a).
なお、(a)成分及び(b)成分のポリオルガノシロキサンの骨格としては、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリメチルエチルシロキサン等のポリアルキルアルキルシロキサン;ポリアルキルアリールシロキサン;等が挙げられる。これらの中でも、ポリジメチルシロキサンが好ましい。 The polyorganosiloxane skeletons of components (a) and (b) include polyalkylalkylsiloxanes such as polydimethylsiloxane, polydiethylsiloxane, and polymethylethylsiloxane; polyalkylarylsiloxanes; and the like. Of these, polydimethylsiloxane is preferred.
上記のポリオルガノシロキサンの骨格は、ケイ素原子(Si)等に1種又は2種以上の有機基が結合した、変性ポリオルガノシロキサン等であってもよい。有機基としては、アミノ基、シラノール基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、カルボキシル基等が挙げられる。 The skeleton of the polyorganosiloxane may be a modified polyorganosiloxane in which one or more organic groups are bonded to silicon atoms (Si). Examples of organic groups include amino groups, silanol groups, acrylic groups, methacrylic groups, epoxy groups, and carboxyl groups.
塗工液は、白金系触媒を含むことが好ましい。白金系触媒の具体例としては、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、パラジウム、ロジウム等の白金族金属系化合物等が挙げられる。触媒の含有量は、特に限定されないが、(a)成分及び(b)成分の合計量100質量部に対し、1~10質量部であることが好ましい。この上限は、より好ましくは8質量部以下であり、更に好ましくは5質量部以下である。 The coating fluid preferably contains a platinum-based catalyst. Specific examples of platinum-based catalysts include fine particle platinum, fine particle platinum adsorbed on a carbon powder support, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complexes of chloroplatinic acid, and platinum group metal compounds such as palladium and rhodium. The catalyst content is not particularly limited, but is preferably 1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of components (a) and (b). The upper limit is more preferably 8 parts by mass or less, and even more preferably 5 parts by mass or less.
また、塗工液は、必要に応じて、増感剤を更に含有してもよい。増感剤としては、特に限定されず、後述する紫外線樹脂硬化の際に慣用されているものを使用できる。増感剤の具体例としては、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、α-ヒドロキシケトン類、α-アミノケトン類、α-ジケトン類、α-ジケトンジアルキルアセタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、その他化合物等が挙げられる。 The coating liquid may also contain a sensitizer, if necessary. There are no particular limitations on the sensitizer, and any sensitizer commonly used in ultraviolet resin curing, as described below, can be used. Specific examples of sensitizers include benzoins, benzophenones, acetophenones, α-hydroxyketones, α-aminoketones, α-diketones, α-diketone dialkyl acetals, anthraquinones, thioxanthones, and other compounds.
ベンゾイン類としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン-n-ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ポリジメチルシロキサンの両末端にベンゾインがエーテル結合した化合物等が挙げられる。 Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, and compounds in which benzoin is ether-bonded to both ends of polydimethylsiloxane.
ベンゾフェノン類としては、ベンゾフェノン、p-フェニルベンゾフェノン、4,4′-ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、トリメチルシリル化ベンゾフェノン、4-メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。 Examples of benzophenones include benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, trimethylsilylated benzophenone, and 4-methoxybenzophenone.
アセトフェノン類としては、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、3-メチルアセトフェノン、4-メチルアセトフェノン、4-アリルアセトフェノン、3-ペンチルアセトフェノン、プロピオフェノン等が挙げられる。 Examples of acetophenones include acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 3-methylacetophenone, 4-methylacetophenone, 4-allylacetophenone, 3-pentylacetophenone, and propiophenone.
α-ヒドロキシケトン類としては、2-ヒドロキシ-1-(4-イソプロピル)フェニル-2-メチルプロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。 Examples of α-hydroxyketones include 2-hydroxy-1-(4-isopropyl)phenyl-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone.
α-アミノケトン類としては、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン等が挙げられる。 Examples of α-aminoketones include 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one.
α-ジケトン類としてはベンジル、ジアセチル等が挙げられる。 Examples of α-diketones include benzyl and diacetyl.
α-ジケトンジアルキルアセタール類としてはベンジルジメチルアセタール、ベンジルジエチルアセタール等が挙げられる。 Examples of α-diketone dialkyl acetals include benzyl dimethyl acetal and benzyl diethyl acetal.
アントラキノン類としては、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、2-tert-ブチルアントラキノン、2-アミノアントラキノン等が挙げられる。 Examples of anthraquinones include 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, and 2-aminoanthraquinone.
チオキサントン類としては、2-メチルチオキサントン、2-エチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等が挙げられる。 Examples of thioxanthones include 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone.
その他化合物としては、例えば、トリフェニルアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エステル等の第三級アミン類や、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等が挙げられる。 Other compounds include, for example, tertiary amines such as triphenylamine and p-dimethylaminobenzoic acid ester, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile.
これらの光増感剤を用いる場合は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、その含有量は、(a)成分及び(b)成分の合計量100質量部に対し、0.01~30質量部であることが好ましく、0.05~20質量部であることがより好ましい。 When using these photosensitizers, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. Furthermore, the content thereof is preferably 0.01 to 30 parts by mass, and more preferably 0.05 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of components (a) and (b).
本実施形態では、塗工の際には基本的に溶剤を積極的に添加する必要はなく、無溶剤系シリコーン剥離剤を用いればよい。例えば、塗工液に溶剤を積極的に添加したり、あるいは、既に一定量の溶剤を含有している溶剤系シリコーン剥離剤を使用したりする従来の手法では、塗工液中の溶剤の含有量は、本実施形態と異なり、高い値となる。この点、本実施形態では、溶剤中の溶剤の含有量は、低い値であるが、十分な剥離性、基材との密着性等を付与することができる。例えば、無溶剤系シリコーン剥離剤を含有する塗工液は、昇温速度10℃/分で室温から170℃まで昇温した際の、150℃における重量減少率が、8.0質量%以下であることが好ましく、6.0質量%以下であることがより好ましく、5.0質量%以下であることが更に好ましく、0質量%であることがより更に好ましい。なお、含有減少率は、0質量%であることが好適であるが、本実施形態の作用効果が得られる範囲であれば、その下限値は、例えば、0質量%を超えていてもよい。 In this embodiment, it is not necessary to actively add a solvent during coating; a solventless silicone release agent can be used. For example, in conventional methods such as actively adding a solvent to the coating liquid or using a solvent-based silicone release agent that already contains a certain amount of solvent, the solvent content in the coating liquid is high, unlike in this embodiment. In contrast, in this embodiment, the solvent content in the coating liquid is low, but sufficient release properties and adhesion to the substrate can be imparted. For example, when a coating liquid containing a solventless silicone release agent is heated from room temperature to 170°C at a heating rate of 10°C/min, the weight loss rate at 150°C is preferably 8.0% by mass or less, more preferably 6.0% by mass or less, even more preferably 5.0% by mass or less, and even more preferably 0% by mass. Note that while a content loss rate of 0% by mass is preferred, the lower limit may be, for example, greater than 0% by mass, as long as the effect of this embodiment is achieved.
なお、上記の塗工液の重量減少率とは、昇温速度10℃/分で室温から170℃まで昇温した際の、150℃における重量(「150℃の重量」)と、加熱前の重量(「加熱前の重量」)とを、下記式に当てはめて、重量減少率(%)を求めることができる。具体的には、実施例に記載の方法に準拠して求めることができる。
重量減少率(%)=(加熱前の重量-150℃の重量)/加熱前の重量×100
The weight loss rate of the coating liquid can be calculated by applying the weight at 150°C ("weight at 150°C") and the weight before heating ("weight before heating") to the following formula when the temperature is raised from room temperature to 170°C at a heating rate of 10°C/min. Specifically, the weight loss rate can be calculated in accordance with the method described in the examples.
Weight loss rate (%) = (weight before heating - weight at 150°C) / weight before heating x 100
そして、本実施形態の塗工液の調製としては、上述した無溶剤系シリコーン剥離剤に、上述した金属触媒や光増感剤等を混合すればよい。例えば、上述した触媒(白金系触媒等)を含有する塗工液を用いる場合、塗工液は、溶剤を添加することなく、無溶剤系シリコーン剥離剤と金属触媒とを混合することによって塗工液を得る工程によって、調製・準備できる。光増感剤等を配合する場合も同様である。なお、ここでいう溶剤としては、有機溶剤等が挙げられ、その具体例としては、芳香族系溶剤(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、炭化水素系溶剤(ヘキサン、ヘプタン等)、アルコール系溶剤(メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、セルソルブ類、プロピレングリコールモノメチルエーテル類等)、エステル系溶剤(酢酸エチル、γ-ブチルラクトン等)、ケトン系溶剤(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル系溶剤(テトラヒドロフラン等)、窒素原子含有溶剤(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等)、硫黄原子含有溶剤(ジメチルスルホキシド等)等が挙げられる。 The coating liquid of this embodiment can be prepared by mixing the above-mentioned metal catalyst, photosensitizer, etc. with the above-mentioned solventless silicone release agent. For example, when using a coating liquid containing the above-mentioned catalyst (platinum-based catalyst, etc.), the coating liquid can be prepared by mixing the solventless silicone release agent with the metal catalyst to obtain the coating liquid without adding a solvent. The same applies when a photosensitizer, etc. is added. The solvent referred to here includes organic solvents, and specific examples thereof include aromatic solvents (benzene, toluene, xylene, etc.), hydrocarbon solvents (hexane, heptane, etc.), alcohol solvents (methanol, ethanol, propanol, butanol, cellosolves, propylene glycol monomethyl ethers, etc.), ester solvents (ethyl acetate, γ-butyl lactone, etc.), ketone solvents (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ether solvents (tetrahydrofuran, etc.), nitrogen-containing solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc.), and sulfur-containing solvents (dimethyl sulfoxide, etc.).
本実施形態では、上記の各成分を含有する塗工液を、PET系基材の片面又は両面に塗工する。塗工の方法は、特に限定されず、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法等によって塗工する方法が挙げられる。 In this embodiment, a coating liquid containing the above components is applied to one or both sides of a PET-based substrate. The coating method is not particularly limited, and examples include gravure coating, bar coating, spray coating, spin coating, etc.
そして、塗工液の塗布量は、0.03~0.5g/m2であることが好ましく、0.05~0.4g/m2であることがより好ましく、0.08~0.3g/m2であることが更に好ましい。塗工量をこのような範囲とすることで、剥離層の厚さを実用可能な程度に薄くできるとともに、十分な剥離性を剥離層に付与でき、かつ、PET系基材への密着性も十分に確保できる。 The coating amount of the coating liquid is preferably 0.03 to 0.5 g/m 2 , more preferably 0.05 to 0.4 g/m 2 , and even more preferably 0.08 to 0.3 g/m 2. By setting the coating amount within this range, the thickness of the release layer can be made thin enough for practical use, sufficient releasability can be imparted to the release layer, and sufficient adhesion to the PET-based substrate can be ensured.
このようにして、PET系基材上に塗工液を塗布することによって形成された、塗工層を含む積層体を得ることができる。 In this way, a laminate including a coating layer formed by applying the coating liquid onto a PET substrate can be obtained.
<前照射工程>
続いて、(2)積層体の塗工層に、積算光量が8~1400mJ/m2となるように紫外線を照射する、前照射工程を行う。なお、加熱工程の前に、この前照射を行うことによって、PET系基材の最表面のみが暖められることで、離型剤の流動を高め、基材へのアンカー効果を付与することも期待できる(ただし、本実施形態の作用はこれらに限定されない)。
<Pre-irradiation process>
Next, (2) a pre-irradiation step is performed in which the coating layer of the laminate is irradiated with ultraviolet light so that the cumulative light amount is 8 to 1400 mJ/m 2. Note that by performing this pre-irradiation before the heating step, only the outermost surface of the PET-based substrate is heated, which is expected to increase the flow of the release agent and impart an anchoring effect to the substrate (however, the effects of this embodiment are not limited to these).
紫外線照射は、インラインで行ってもよい。紫外線ランプとして、従来公知のもの、例えば、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ、無電極紫外線ランプ等を用いることができるが、無電極紫外線ランプが好ましい。この無電極紫外線ランプには、フュージョン社製のDバルブ、Hバルブ、H+バルブ、Vバルブ等があるが、Hバルブ及びH+バルブが好ましい。 UV irradiation may be performed in-line. Conventional UV lamps, such as high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, high-power metal halide lamps, and electrodeless UV lamps, can be used, but electrodeless UV lamps are preferred. Electrodeless UV lamps include D bulbs, H bulbs, H+ bulbs, and V bulbs manufactured by Fusion, with H bulbs and H+ bulbs being preferred.
そして、紫外線照射の積算光量は、8~1400mJ/m2であり、この上限は、1000mJ/m2以下であることが好ましく、700mJ/m2以下であることがより好ましく、600mJ/m2以下であることが更に好ましい。また、この下限は、9mJ/m2以上であることが好ましく、10mJ/m2以上であることがより好ましく、15mJ/m2以上であることが更に好ましい。このような範囲とすることにより、塗膜形成、剥離層の剥離性、及び基材との密着性等を、より高いレベルで両立させることができる。そして、上記下限値以上とすることにより、特に基材との密着性が向上し、上記下限値以下とすることにより、基材のダメージを一層効果的に低減でき、シュリンクやシワの発生を一層効果的に防止できる。 The cumulative light dose of ultraviolet irradiation is 8 to 1400 mJ/ m2 , with the upper limit being preferably 1000 mJ/ m2 or less, more preferably 700 mJ/ m2 or less, and even more preferably 600 mJ/ m2 or less. The lower limit is preferably 9 mJ/ m2 or more, more preferably 10 mJ/ m2 or more, and even more preferably 15 mJ/ m2 or more. By setting the dose within this range, it is possible to achieve a higher level of compatibility between coating film formation, release layer releasability, and adhesion to the substrate. By setting the dose at or above the lower limit, adhesion to the substrate is particularly improved. By setting the dose at or below the lower limit, damage to the substrate can be more effectively reduced, and the occurrence of shrinkage and wrinkles can be more effectively prevented.
紫外線照射の照度は、特に限定されないが、この上限は、500mW/m2以下であることが好ましく、300mW/m2未満であることがより好ましく、250mW/m2以下であることが更に好ましい。また、この下限は、80mW/m2以上であることが好ましく、100mW/m2以上であることがより好ましく、120mW/m2以上であることが更に好ましく、150mW/m2以上であることがより更に好ましく、170mW/m2以上であることが一層更に好ましい。 The illuminance of ultraviolet irradiation is not particularly limited, but the upper limit is preferably 500 mW/ m2 or less, more preferably less than 300 mW/ m2 , and even more preferably 250 mW/ m2 or less. The lower limit is preferably 80 mW/ m2 or more, more preferably 100 mW/ m2 or more, even more preferably 120 mW/ m2 or more, even more preferably 150 mW/ m2 or more, and even more preferably 170 mW/ m2 or more.
<加熱工程>
(3)上記の(2)工程の後に、積層体を加熱して、塗工層を反応硬化させて剥離層を形成する工程を行う。
<Heating process>
(3) After the above step (2), a step is carried out in which the laminate is heated to react and cure the coating layer, thereby forming a release layer.
(3)工程の加熱温度は、特に限定されないが、50℃以上200℃以下であることが好ましい。この上限は、170℃以下であることがより好ましく、150℃以下であることが更に好ましい。また、この下限は、70℃以上であることがより好ましく、80℃以上であることが更に好ましい。加熱温度をこのような範囲とすることで、塗膜形成、剥離層の剥離性、及び基材との密着性等を、より高いレベルで両立させることができる。 The heating temperature in step (3) is not particularly limited, but is preferably 50°C or higher and 200°C or lower. The upper limit is more preferably 170°C or lower, and even more preferably 150°C or lower. The lower limit is more preferably 70°C or higher, and even more preferably 80°C or higher. By keeping the heating temperature within this range, it is possible to achieve a higher level of compatibility between coating film formation, releasability of the release layer, and adhesion to the substrate.
加熱時間は、特に限定されないが、この上限は、60秒以下であることが好ましく、40秒以下であることがより好ましい。また、この下限は、15秒以上であることが好ましく、20秒以上であることがより好ましい。加熱時間をこのような範囲とすることで、塗膜形成、剥離層の剥離性、及び基材との密着性等を、より高いレベルで両立させることができる。 The heating time is not particularly limited, but the upper limit is preferably 60 seconds or less, and more preferably 40 seconds or less. The lower limit is preferably 15 seconds or more, and more preferably 20 seconds or more. By keeping the heating time within this range, it is possible to achieve a higher level of compatibility between coating film formation, releasability of the release layer, and adhesion to the substrate.
加熱の方法は、特に限定されないが、ドライヤー、オーブン、赤外線炉等によって加熱する方法を採用できる。 The heating method is not particularly limited, but methods such as using a hair dryer, oven, or infrared furnace can be used.
(後照射工程)
本実施形態は、必要に応じて、加熱工程の後に、さらに紫外線の後照射を行ってもよい。すなわち、(3)工程は、上記の(2)工程の後に、積層体を加熱した後に、紫外線を更に照射することによって、塗工層を反応硬化させて剥離層を形成する工程とすることもできる。
(Post-irradiation process)
In this embodiment, if necessary, post-irradiation with ultraviolet light may be performed after the heating step. That is, step (3) may be performed after step (2) above, by heating the laminate and then irradiating it with ultraviolet light to reactively cure the coating layer and form a release layer.
紫外線の後照射は、前照射工程において説明した条件の範囲を採用することができる。そして、後照射の条件は、前照射の条件と同一でもよいし、異なっていてもよい。 The post-irradiation of ultraviolet light can be performed within the range of conditions described for the pre-irradiation process. The post-irradiation conditions may be the same as or different from the pre-irradiation conditions.
また、本実施形態における紫外線照射の積算光量の合計(前照射工程と後照射工程の合計)は、8~1400mJ/m2であることが好ましい。この積算光量の合計の上限は、1000mJ/m2以下であることが好ましく、700mJ/m2以下であることがより好ましく、600mJ/m2以下であることが更に好ましい。また、この積算光量の合計の下限は、9mJ/m2以上であることが好ましく、10mJ/m2以上であることがより好ましく、15mJ/m2以上であることが更に好ましい。このような範囲とすることにより、塗膜形成、剥離層の剥離性、及び基材との密着性等を、より一層高いレベルで両立させることができる。そして、上記下限値以上とすることにより、特に基材との密着性が向上し、上記下限値以下とすることにより、基材のダメージをより一層効果的に低減でき、シュリンクやシワの発生をより一層効果的に防止できる。 In addition, the total integrated light amount of ultraviolet irradiation in this embodiment (the total of the pre-irradiation step and the post-irradiation step) is preferably 8 to 1400 mJ/ m2 . The upper limit of this total integrated light amount is preferably 1000 mJ/ m2 or less, more preferably 700 mJ/ m2 or less, and even more preferably 600 mJ/ m2 or less. The lower limit of this total integrated light amount is preferably 9 mJ/ m2 or more, more preferably 10 mJ/ m2 or more, and even more preferably 15 mJ/ m2 or more. By setting it within this range, it is possible to achieve a higher level of compatibility between coating film formation, release layer releasability, and adhesion to the substrate. Furthermore, by setting it at or above the above lower limit, adhesion to the substrate is particularly improved, and by setting it at or below the above lower limit, damage to the substrate can be more effectively reduced and the occurrence of shrinkage and wrinkles can be more effectively prevented.
続いて、本実施形態に係る製造方法によって得られる剥離フィルムの好適な態様について、説明する。 Next, we will explain preferred aspects of the release film obtained by the manufacturing method of this embodiment.
剥離フィルムの剥離層の厚みは、特に限定されないが、0.03~0.6μmまで薄くすることも可能である。この厚みの上限は、0.5μm以下であることがより好ましく、0.3μm以下であることが更に好ましい。また、この厚みの下限は、0.04μm以上であることがより好ましく、0.06μm以上であることが更に好ましい。 The thickness of the release layer of the release film is not particularly limited, but it can be as thin as 0.03 to 0.6 μm. The upper limit of this thickness is preferably 0.5 μm or less, and even more preferably 0.3 μm or less. The lower limit of this thickness is preferably 0.04 μm or more, and even more preferably 0.06 μm or more.
また、剥離フィルムの剥離力としては、従来の製造方法によって得られる剥離フィルムとそん色ない程度であり、かつ、実用可能な程度の剥離力を維持することができている。本実施形態によれば、用途や分野に応じて、適宜、好適な剥離力となるよう制御することができるが、一例を挙げるならば、例えば、10~1000mN/25mmであり、20~800mN/25mmであることが好ましい。そして、この上限は、600mN/25mm以下であることがより好ましく、500mN/25mm以下であることが更に好ましい。また、この下限は、20mN/25mm以上であることがより好ましく、25mN/25mm以上であることが更に好ましい。 The release strength of the release film is comparable to that of release films obtained by conventional manufacturing methods, and is able to maintain a practical level of release strength. According to this embodiment, the release strength can be appropriately controlled depending on the application or field; for example, it is 10 to 1000 mN/25 mm, and preferably 20 to 800 mN/25 mm. The upper limit is more preferably 600 mN/25 mm or less, and even more preferably 500 mN/25 mm or less. The lower limit is more preferably 20 mN/25 mm or more, and even more preferably 25 mN/25 mm or more.
以上説明したように、本実施形態に係る製造方法によって得られる剥離フィルムは、剥離性、基材との密着性に優れるため、長期間保存・静置していても剥離層がPET系基材から剥離することを効果的に抑制でき、さらには数日間(1日~10日、あるいはそれ以上)静置していても、剥離層が擦れたりしても、剥離剤が剥離フィルムから脱落することを効果的に抑制できる。このような特性を有する剥離フィルムは、ディスプレイ等の光学デバイスに用いる粘着シートや、半導体加工用の粘着シート等の、粘着剤の保護材料等の材料として、好適に使用できる。また、本実施形態に係る製造方法は、溶剤の使用量を軽減できる、さらには溶剤を使用しなくてもよいことが期待されるため、環境に優しい製造方法として、期待される。 As explained above, the release film obtained by the manufacturing method of this embodiment has excellent releasability and adhesion to the substrate, effectively preventing the release layer from peeling off the PET-based substrate even when stored or left stationary for long periods of time. Furthermore, even when left stationary for several days (1 to 10 days or more) or when the release layer is rubbed, the release agent is effectively prevented from falling off the release film. Release films with such properties are suitable for use as adhesive protective materials in adhesive sheets used in optical devices such as displays, and adhesive sheets for semiconductor processing. Furthermore, the manufacturing method of this embodiment is expected to reduce the amount of solvent used, or even eliminate the use of solvent, making it an environmentally friendly manufacturing method.
以下の実施例及び比較例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明は以下の実施例により何ら限定されるものではない。なお、%及び部は、特に断りのない限り、質量基準に基づくものである。 The present invention will be explained in more detail with reference to the following examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples in any way. Note that percentages and parts are by weight unless otherwise specified.
本実施例では、以下の材料を使用した。 In this example, the following materials were used:
(剥離剤)
・ダウ・東レ社製、商品名「DOWSIL(TM) LTC1057L」:
付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤(分子中にアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンと、分子中にヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサン架橋剤とを含有する、無溶剤付加反応型シリコーン)
・信越化学工業社製、商品名「KNS 3056」:
付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤(分子中にビニル基を有するポリオルガノシロキサンと、分子中にヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサン架橋剤とを含有する、無溶剤付加反応型シリコーン)
(触媒)
・ダウ・東レ社製、商品名「DOWSIL(TM) SRX-212 Catalyst」:
白金系触媒
・信越化学工業社製、商品名「CAT-PL-56」:
白金系触媒
(Removal agent)
Dow-Toray Industries, Inc., product name "DOWSIL™ LTC1057L":
Addition reaction type solventless silicone release agent (a solventless addition reaction type silicone containing a polyorganosiloxane having an alkenyl group in the molecule and a polyorganosiloxane crosslinker having a hydrosilyl group in the molecule)
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name "KNS 3056":
Addition reaction type solventless silicone release agent (a solventless addition reaction type silicone containing a polyorganosiloxane with a vinyl group in the molecule and a polyorganosiloxane crosslinker with a hydrosilyl group in the molecule)
(catalyst)
- Dow-Toray Industries, Inc., product name "DOWSIL™ SRX-212 Catalyst":
Platinum catalyst, product name "CAT-PL-56" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.:
platinum catalyst
<実施例1> <Example 1>
まず、基材としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱ケミカル社製、商品名「ダイアホイル T-100」;厚さ38μm)を準備した。
そして、付加反応型の無溶剤系シリコーン剥離剤(ダウ・東レ社製、商品名「DOWSIL(TM) LTC1057L」)100質量部と、白金触媒(ダウ・東レ社製、商品名「DOWSIL(TM) SRX-212 Catalyst」)とを、溶剤を加えることなく混合して、無溶剤系の塗工液(塗工液の150℃の重量減少率:2.1質量%、表1の「150℃の重量減少率(%)」参照)を準備した。
First, a polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "Diafoil T-100"; thickness 38 μm) was prepared as a substrate.
Then, 100 parts by mass of an addition reaction type solventless silicone release agent (manufactured by Dow-Toray Industries, Inc., trade name "DOWSIL™ LTC1057L") and a platinum catalyst (manufactured by Dow-Toray Industries, Inc., trade name "DOWSIL™ SRX-212 Catalyst") were mixed without adding a solvent to prepare a solventless coating fluid (weight loss rate of coating fluid at 150°C: 2.1% by mass; see "Weight loss rate at 150°C (%)" in Table 1).
なお、上記の「重量減少率」は、以下の方法に準拠して求めた。
まず、塗工液20mgを準備してサンプルとした。そして、サンプルについて、TG-DTA(島津製作所社製、示差熱・熱重量同時測定装置「DTG-60」)を用いて、昇温速度10℃/分で室温から170℃まで昇温した際の、150℃における重量(「150℃の重量」)と、加熱前の重量(「加熱前の重量」)をそれぞれ求めた。そして、これらを、下記式に当てはめて、重量減少率(%)を求めた。
重量減少率(%)=(加熱前の重量-150℃の重量)/加熱前の重量×100
The "weight loss rate" was determined according to the following method.
First, 20 mg of the coating liquid was prepared as a sample. Then, using a TG-DTA (Shimadzu Corporation, differential thermal and thermogravimetric simultaneous analyzer "DTG-60"), the sample was heated from room temperature to 170°C at a heating rate of 10°C/min, and the weight at 150°C ("weight at 150°C") and the weight before heating ("weight before heating") were determined. These values were then applied to the following formula to determine the weight loss rate (%).
Weight loss rate (%) = (weight before heating - weight at 150°C) / weight before heating x 100
そして、塗工装置(熊谷理機工業社製、装置名「RIテスター」)を用いて、上記の塗工液を、塗工量0.25g/m2となるように、上記の基材の一方の表面に塗布して、塗工層(塗膜)を形成した。
続いて、塗工層がウェット状態(未硬化状態)のまま、塗布面側から紫外線(UV)を照射(積算光量100mJ/m2、照度200mW/m2、表1の「熱硬化前UV照射」参照)した。その後、オーブンに入れて、温度100℃、30秒の条件で硬化させた。これらの処理によって、塗工層を硬化させて剥離層を形成して、剥離フィルムを得た。
Then, using a coating device (manufactured by Kumagai Riki Kogyo Co., Ltd., device name "RI Tester"), the above coating liquid was applied to one surface of the above substrate so as to give a coating amount of 0.25 g/ m2 , thereby forming a coating layer (coating film).
Next, while the coating layer was still wet (uncured), it was irradiated with ultraviolet (UV) light from the coated surface (cumulative light amount 100 mJ/ m2 , illuminance 200 mW/ m2 , see "UV irradiation before thermal curing" in Table 1). It was then placed in an oven and cured at 100°C for 30 seconds. These treatments cured the coating layer, forming a release layer and obtaining a release film.
<実施例2~10> <Examples 2-10>
表1に記載の条件に変更した点以外は、実施例1と同様の手順により、剥離フィルムを得た。なお、実施例6については、オーブンから取り出した後に、さらに、塗布面側から紫外線(UV)を照射(積算光量100mJ/m2、照度200mW/m2、表1の「熱硬化前UV照射」参照)する、後照射を行った(表1の「硬化後UV照射」参照)。なお、実施例2~10で調製した無溶剤系の塗工液の150℃の重量減少率は、表1の「150℃の重量減少率(%)」に記載のとおりであった。 Release films were obtained in the same manner as in Example 1, except that the conditions were changed as shown in Table 1. For Example 6, after removal from the oven, post-irradiation was performed by irradiating the coated surface with ultraviolet (UV) light (integrated light amount 100 mJ/m 2 , illuminance 200 mW/m 2 , see "UV irradiation before thermal curing" in Table 1) (see "UV irradiation after curing" in Table 1). The weight loss rates at 150°C of the solventless coating solutions prepared in Examples 2 to 10 were as shown in "Weight loss rate at 150°C (%)" in Table 1.
<比較例1~5> <Comparative Examples 1-5>
表1に記載の条件に変更した点以外は、実施例1と手順に準拠して、剥離フィルムを得た。なお、比較例1、2はUV照射を行わなかったものであり、比較例3は、加熱前のUV照射(前照射)を行わず、加熱後のUV照射(後照射)を行ったものである。 A release film was obtained in accordance with the same procedure as in Example 1, except for the changes in conditions listed in Table 1. Note that Comparative Examples 1 and 2 were not subjected to UV irradiation, and Comparative Example 3 was not subjected to UV irradiation before heating (pre-irradiation), but was subjected to UV irradiation after heating (post-irradiation).
<評価方法> <Evaluation Method>
得られた各剥離フィルムについて、以下に示す方法に準拠して各物性の評価を行った。 The physical properties of each of the resulting release films were evaluated according to the methods described below.
(剥離物性、剥離力の評価)
各実施例及び各比較例で作製した剥離フィルムの剥離面に対し、アクリル系粘着剤(トーヨーケム社製,製品名「オリバイン(登録商標)BPS-5127」)を、アプリケーターを用いて塗工し、100℃で2分間乾燥させることで、厚さ125μmの粘着剤層を形成した。さらに、当該粘着剤層の剥離フィルムとは反対側の面に対し、PETフィルム(東レ社製,製品名「ルミラー(登録商標)T-60」,厚さ:50μm)を貼付して、測定用サンプルとしての粘着シートを得た。
この測定用サンプルを、万能引張試験機(島津製作所社製,製品名「オートグラフAGS-20NX」)に固定し、JIS K6854:1999に準じて、剥離フィルムを180°方向に引張速度0.3m/分で剥離したときの力を測定し、これを剥離力(mN/25mm)とした。
(Evaluation of peeling properties and peeling force)
An acrylic adhesive (manufactured by Toyochem Co., Ltd., product name "Olivine (registered trademark) BPS-5127") was applied using an applicator to the release surface of the release film produced in each Example and Comparative Example, and dried at 100°C for 2 minutes to form an adhesive layer with a thickness of 125 μm. Furthermore, a PET film (manufactured by Toray Industries, Inc., product name "Lumirror (registered trademark) T-60", thickness: 50 μm) was attached to the surface of the adhesive layer opposite the release film, to obtain an adhesive sheet as a measurement sample.
This measurement sample was fixed to a universal tensile tester (Shimadzu Corporation, product name "Autograph AGS-20NX"), and the force when the release film was peeled in the 180° direction at a tensile speed of 0.3 m/min was measured in accordance with JIS K6854:1999, and this was taken as the peel force (mN/25 mm).
(外観)
作製した剥離フィルムの外観を、蛍光灯下で、目視で観察した。判断基準は以下のとおりとした。
〇:強いシワは無く、フィルムも歪んでいない。
×:強いシワが確認され、フィルムが歪んでいる。
(exterior)
The appearance of the prepared release film was visually observed under a fluorescent lamp, and the evaluation criteria were as follows:
◯: No strong wrinkles and no distortion of the film.
×: Strong wrinkles were observed and the film was distorted.
(ラブオフ試験)
剥離フィルムの剥離層の密着性を評価した。具体的には、加工直後(作製直後)、1日後、3日後、10日後のそれぞれにおいて、剥離層の表面をX方向(所定の一方向)に5回指で擦った後、当該X方向と垂直なY方向に5回指で擦り、当該X方向と当該Y方向の交差部におけるスミア(曇り)とラブオフ(脱落)状態を目視で確認した。評価基準は以下のとおりとした。
「○」:曇り及び脱落の両方が、確認されなかった。
「△」:曇りが、確認された。
「×」:脱落が、確認された。
(Rub-off test)
The adhesion of the release layer of the release film was evaluated. Specifically, immediately after processing (immediately after production), 1 day later, 3 days later, and 10 days later, the surface of the release layer was rubbed with a finger five times in the X direction (a predetermined direction), and then rubbed with a finger five times in the Y direction perpendicular to the X direction, and the smear (cloudiness) and rub-off (fall-off) at the intersection of the X direction and the Y direction were visually confirmed. The evaluation criteria were as follows.
"◯": Neither clouding nor falling off was observed.
"△": Cloudiness was observed.
"X": Dropout was confirmed.
各実施例及び各比較例の製造条件を表1に示し、これらの評価結果を表2に示す。 The manufacturing conditions for each example and comparative example are shown in Table 1, and the evaluation results are shown in Table 2.
以上より、本実施例によれば、剥離フィルムとして実用可能な剥離性を付与でき、かつ、基材との密着性に優れる剥離フィルムを製造できることが少なくとも確認された。さらに、本実施例の製造方法は、溶剤を使用することなく、剥離剤として無溶剤系シリコーン剥離剤を用いて、十分な物性を付与できることが確認されたので、環境に優しい製造方法であることも期待される。 From the above, it was confirmed that this example at least provides release properties sufficient for practical use as a release film, and that it is possible to produce a release film that has excellent adhesion to the substrate. Furthermore, since the manufacturing method of this example was confirmed to be able to provide sufficient physical properties using a solventless silicone release agent as the release agent, without using a solvent, it is also expected to be an environmentally friendly manufacturing method.
Claims (3)
(2)前記積層体の前記塗工層に、積算光量が8~500mJ/m2となるように紫外線を照射する、前照射工程と、
(3)前記(2)工程の後に、前記積層体を加熱して、前記塗工層を反応硬化させて剥離層を形成する工程と、
を含む、剥離フィルムの製造方法。 (1) applying a coating solution containing an addition reaction type solventless silicone release agent to a polyethylene terephthalate substrate to obtain a laminate including a coating layer;
(2) a pre-irradiation step of irradiating the coating layer of the laminate with ultraviolet light so that the cumulative light amount is 8 to 500 mJ/ m2;
(3) after the step (2), heating the laminate to reactively cure the coating layer and form a release layer;
A method for producing a release film, comprising:
請求項1に記載の剥離フィルムの製造方法。 The step (3) is a step of, after the step (2), heating the laminate and then further irradiating it with ultraviolet light to reactively cure the coating layer and form a release layer.
A method for producing the release film according to claim 1.
請求項1又は2に記載の剥離フィルムの製造方法。 the coating liquid containing the solventless silicone release agent has a weight loss rate of 8.0% by mass or less at 150°C when heated from room temperature to 170°C at a heating rate of 10°C/min;
A method for producing the release film according to claim 1 or 2.
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