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JP7780106B2 - Surface treatment agents - Google Patents
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JP7780106B2 - Surface treatment agents - Google Patents

Surface treatment agents

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JP7780106B2
JP7780106B2 JP2024157439A JP2024157439A JP7780106B2 JP 7780106 B2 JP7780106 B2 JP 7780106B2 JP 2024157439 A JP2024157439 A JP 2024157439A JP 2024157439 A JP2024157439 A JP 2024157439A JP 7780106 B2 JP7780106 B2 JP 7780106B2
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Description

本開示は、表面処理剤に関する。 This disclosure relates to a surface treatment agent.

ある種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層(以下、「表面処理層」とも言う)は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている(特許文献1)。 It is known that certain fluoropolyether group-containing silane compounds can provide excellent water repellency, oil repellency, and stain resistance when used in the surface treatment of substrates. Layers obtained from surface treatment agents containing fluoropolyether group-containing silane compounds (hereinafter also referred to as "surface treatment layers") are applied as so-called functional thin films to a wide variety of substrates, such as glass, plastics, textiles, sanitary products, and building materials (Patent Document 1).

特開2014-218639号公報JP 2014-218639 A

特許文献1に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い耐久性を有する表面処理層が求められている。 The fluoropolyether group-containing silane compound described in Patent Document 1 can provide a surface treatment layer with excellent functionality, but there is a demand for a surface treatment layer with even greater durability.

本開示は、耐摩耗性が良好な膜を実現し得る表面処理剤の提供を目的とする。 The purpose of this disclosure is to provide a surface treatment agent that can produce a film with good abrasion resistance.

本開示は、以下の態様を含む。
[1]
フルオロポリエーテル基を有するシラン化合物(A)と、
フルオロポリエーテル基及び-O-CH=CH-CH (以下、本明細書において、「アリルエーテル基」は-O-CH=CH-CH を意味する)を有する化合物(B)
と、を含み、
前記化合物(B)は、以下の式(3)、(4)又は(5):
F1 α-X-[ARB1 δB2 3-δβ (3)
[RB1 δB2 3-δA]γ-X-RF2-X-[ARB1 δB2 3-δγ (4)
Si γ-X-RF2-X-[ARB1 δB2 3-δγ (5)
[式中:
Aは、それぞれ独立して、C原子又はSi原子であり;
F1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-であり;
F2は、-Rf -R-O-であり;
Rfは、それぞれ独立して、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基であり;
Rfは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-6アルキレン基であり;
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0又は1であり;
qは、それぞれ独立して、0又は1であり;
B1は、-RB3-O-CH=CH-CHであり;
B2は、それぞれ独立して、-RB3-O-CHCHCH-SiRB4 εB5 3-ε及び水素原子から選ばれる1種又は2種以上であり;
B3は、それぞれ独立して、単結合又はC1-20アルキレン基であり;
B4は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
B5は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
Siは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(5)において、少なくとも1つのRSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
は、それぞれ独立して、単結合又は2~10価の有機基であり;
αは、1~9の整数であり;
βは、1~9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
δは、それぞれ独立して、1~3の整数である。
εは、それぞれ独立して、1~3の整数である。]
で表される少なくとも1種の化合物(ただし、化合物(A)と化合物(B)とは異なる)を含む、組成物。
[2]
前記フルオロポリエーテル基を有するシラン化合物(A)は、式(1)又は(2):
[式中:
F1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-であり;
F2は、-Rf -R-O-であり;
Rfは、それぞれ独立して、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基であり;
Rfは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-6アルキレン基であり;
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0又は1であり;
qは、それぞれ独立して、0又は1であり;
Siは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(1)又は式(2)のそれぞれにおいて、少なくとも1つのRSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(1)又は式(2)のそれぞれにおいて、RSiは、-O-CH=CH-CH を含まず;
は、それぞれ独立して、単結合又は2~10価の有機基であり;
αは、1~9の整数であり;
βは、1~9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1~9の整数である。]
で表される少なくとも1種の化合物を含む、[1]に記載の組成物。
[3]
前記組成物に含まれるRSi及びRB1の合計に対する、前記組成物に含まれるRB1の割合が25モル%以下である、[1]又は[2]に記載の組成物。
[4] 前記シラン化合物(A)は、式(1a):
F1-X-RSi (1a)
[式中:
F1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-であり;
Rfは、それぞれ独立して、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基であり;
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
qは、それぞれ独立して、0又は1であり;
Siは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(1)において、少なくとも1つのRSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(1)において、RSiは、-O-CH=CH-CH を含まず;
は、それぞれ独立して、単結合又は2~10価の有機基である。]
において、Xが、単結合又は下記式:
-(R51p5-(X51q5
[式中:
51は、単結合、-(CHs5-又はo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、好ましくは-(CHs5-であり、
s5は、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数、さらにより好ましくは1又は2であり、
51は、-(X52l5-を表し、
52は、それぞれ独立して、-O-、-S-、o-、m-もしくはp-フェニレン基、-C(O)O-、-Si(R53-、-(Si(R53O)m5-Si(R53-、-CONR54-、-O-CONR54-、-NR54-及び-(CHn5-からなる群から選択される基を表し、
53は、それぞれ独立して、フェニル基、C1-6アルキル基又はC1-6アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はC1-6アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
54は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はC1-6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、
m5は、、それぞれ独立して、1~100の整数、好ましくは1~20の整数であり、
n5は、、それぞれ独立して、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
l5は、1~10の整数、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
p5は、0又は1であり、
q5は、0又は1であり、
ここに、p5及びq5の少なくとも一方は1であり、p5又はq5を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。]
で表される基であり、
Siが、下記式(S3):
-SiRa1 k1b1 l1c1 m1 (S3)
[式中、
a1は、それぞれ独立して、-Z-SiR22 q123 r1を表し;
は、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基を表し、以下Zとして記載する構造は、右側が(SiR22 q123 r1)に結合し;
22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を表し;
23は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し;
q1は、(SiR22 q123 r1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり;
b1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を表し;
c1は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基を表し;
k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、m1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、k1、l1とm1の合計は、(SiRa1 k1b1 l1c1 m1)単位において、3である。]で表される基である化合物を含み、
前記化合物(B)は、式(3):
F1 α-X-[ARB1 δB2 3-δβ (3)
[式中:
Aは、それぞれ独立して、C原子又はSi原子であり;
F1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-であり;
Rfは、それぞれ独立して、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基であり;
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
qは、それぞれ独立して、0又は1であり;
B1は、-RB3-O-CH=CH-CHであり;
B2は、それぞれ独立して、-RB3-O-CHCHCH-SiRB4 εB5 3-ε及び水素原子から選ばれる1種又は2種以上であり;
B3は、それぞれ独立して、単結合又はC1-20アルキレン基であり;
B4は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
B5は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
Siは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
は、それぞれ独立して、単結合又は2~10価の有機基であり;
αは、1~9の整数であり;
βは、1~9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1~9の整数である。]
で表される化合物を含む、[1]~[3]のいずれか1つに記載の組成物。
[5]
[1]~[4]のいずれか1つに記載の組成物を含む、表面処理剤。
[6]
含フッ素オイル及びシリコーンオイルから選択される1種又はそれ以上の成分をさらに含む、[5]に記載の表面処理剤。
[7]
防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、[5]または[6]に記載の表面処理剤。
[8]
基材と、該基材の表面に、[1]~[4]のいずれか1項に記載の組成物より形成された層とを含む物品。
[9]
基材と、該基材の表面に、[5]~[7]のいずれか1つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。



The present disclosure includes the following aspects.
[1]
a silane compound (A) having a fluoropolyether group;
Compound (B) having a fluoropolyether group and —O—CH═CH—CH 3 (hereinafter in this specification, “allyl ether group” means —O—CH═CH—CH 3 )
and,
The compound (B) is represented by the following formula (3), (4) or (5):
R F1 α −X A −[AR B1 δ R B2 3−δ ] β (3)
[R B1 δ R B2 3-δ A] γ -X A -R F2 -X A -[AR B1 δ R B2 3-δ ] γ (4)
R Si γ −X A −R F2 −X A −[AR B1 δ R B2 3−δ ] γ (5)
[In the formula:
Each A is independently a C atom or a Si atom;
Each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -;
R F2 is —Rf 2 p —R F —O q —;
Rf 1 's each independently represent a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Each R F is independently a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
Each q is independently 0 or 1;
R B1 is —R B3 —O—CH═CH—CH 3 ;
R B2 each independently represents one or more groups selected from —R B3 —O—CH 2 CH 2 CH 2 —SiR B4 ε R B5 3-ε and a hydrogen atom;
Each R B3 is independently a single bond or a C 1-20 alkylene group;
Each R B4 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
Each R B5 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
R Si each independently represents a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent group containing a Si atom bonded to a monovalent organic group;
In formula (5), at least one R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded;
X's and A 's each independently represent a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer from 1 to 9;
Each δ is independently an integer of 1 to 3.
Each ε is independently an integer of 1 to 3.
A composition comprising at least one compound represented by the formula (wherein compound (A) and compound (B) are different from each other).
[2]
The silane compound (A) having a fluoropolyether group is represented by the formula (1) or (2):
[In the formula:
Each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -;
R F2 is —Rf 2 p —R F —O q —;
Rf 1 's each independently represent a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Each R F is independently a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
Each q is independently 0 or 1;
R Si each independently represents a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent group containing a Si atom bonded to a monovalent organic group;
In each of formula (1) and formula (2), at least one R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded;
In each of formula (1) and formula (2), R Si does not contain —O—CH═CH—CH3 ;
X and A each independently represent a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer from 1 to 9.
The composition according to [1], comprising at least one compound represented by the formula:
[3]
The composition according to [1] or [2], wherein the proportion of R B1 contained in the composition relative to the total of R Si and R B1 contained in the composition is 25 mol % or less.
[4] The silane compound (A) is represented by the formula (1a):
R F1 -X A -R Si (1a)
[In the formula:
Each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -;
Rf 1 's each independently represent a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Each R F is independently a divalent fluoropolyether group;
Each q is independently 0 or 1;
R Si each independently represents a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent group containing a Si atom bonded to a monovalent organic group;
In formula (1), at least one R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded;
In formula (1), R Si does not contain —O—CH═CH—CH3 ;
X and A each independently represent a single bond or a divalent to decavalent organic group.
In the formula, X A is a single bond or a group represented by the following formula:
-(R 51 ) p5 -(X 51 ) q5 -
[In the formula:
R 51 represents a single bond, —(CH 2 ) s5 —, or an o-, m-, or p-phenylene group, preferably —(CH 2 ) s5 —;
s5 is an integer from 1 to 20, preferably an integer from 1 to 6, more preferably an integer from 1 to 3, and even more preferably 1 or 2;
X 51 represents —(X 52 ) 15 —;
X 52 each independently represents a group selected from the group consisting of —O—, —S—, o-, m- or p-phenylene, —C(O)O—, —Si(R 53 ) 2 —, —(Si(R 53 ) 2 O) m5 —Si(R 53 ) 2 —, —CONR 54 —, —O—CONR 54 —, —NR 54 — and —(CH 2 ) n5 —;
R 53 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, more preferably a methyl group;
R 54 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group);
m5 is independently an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20,
n5 is independently an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3,
l5 is an integer from 1 to 10, preferably an integer from 1 to 5, more preferably an integer from 1 to 3;
p5 is 0 or 1;
q5 is 0 or 1;
Here, at least one of p5 and q5 is 1, and the repeating units enclosed in parentheses with p5 or q5 may be present in any order.]
is a group represented by
R Si is represented by the following formula (S3):
-SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 (S3)
[In the formula,
Each R a1 independently represents —Z 1 —SiR 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 's each independently represent an oxygen atom or a divalent organic group, and the right side of the structure hereinafter described as Z 1 is bonded to (SiR 22 q1 R 23 r1 );
R 22 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R23 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1 is independently an integer of 1 to 3 for each (SiR 22 q1 R 23 r1 ) unit;
R b1 each independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
Each R c1 independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group;
each k1 is independently an integer of 0 to 3, each l1 is independently an integer of 0 to 3, each m1 is independently an integer of 0 to 3, and the sum of k1, l1 and m1 is 3 in the (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ) unit;
The compound (B) is represented by the formula (3):
R F1 α −X A −[AR B1 δ R B2 3−δ ] β (3)
[In the formula:
Each A is independently a C atom or a Si atom;
Each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -;
Rf 1 's each independently represent a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Each R F is independently a divalent fluoropolyether group;
Each q is independently 0 or 1;
R B1 is —R B3 —O—CH═CH—CH 3 ;
R B2 each independently represents one or more groups selected from —R B3 —O—CH 2 CH 2 CH 2 —SiR B4 ε R B5 3-ε and a hydrogen atom;
Each R B3 is independently a single bond or a C 1-20 alkylene group;
Each R B4 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
Each R B5 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
R Si each independently represents a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent group containing a Si atom bonded to a monovalent organic group;
X and A each independently represent a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer from 1 to 9.
The composition according to any one of [1] to [3], comprising a compound represented by the formula:
[5]
A surface treatment agent comprising the composition according to any one of [1] to [4].
[6]
The surface treatment agent according to [5], further comprising one or more components selected from fluorine-containing oils and silicone oils.
[7]
The surface treatment agent according to [5] or [6], which is used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent.
[8]
An article comprising a substrate and a layer formed on the surface of the substrate from the composition according to any one of [1] to [4].
[9]
An article comprising a substrate and a layer formed on the surface of the substrate using the surface treatment agent according to any one of [5] to [7].



本発明によれば、耐摩耗性が良好な膜を実現し得る表面処理剤を提供し得る。 The present invention provides a surface treatment agent that can produce a film with excellent abrasion resistance.

本開示の組成物は、フルオロポリエーテル基を有するシラン化合物(A)と、フルオロポリエーテル基及びアリルエーテル基を有する化合物(B)と、を含む。本開示の組成物は、上記化合物(A)と化合物(B)とを含むため、耐摩耗性が良好な膜を実現し得る。ただし、化合物(A)と、化合物(B)とは異なる。 The composition of the present disclosure contains a silane compound (A) having a fluoropolyether group and a compound (B) having a fluoropolyether group and an allyl ether group. Because the composition of the present disclosure contains the above-mentioned compound (A) and compound (B), it can produce a film with excellent abrasion resistance. However, compound (A) and compound (B) are different.

シラン化合物(A)を用いることで、耐摩耗性、特にスチールウールに対する耐摩耗性が良好な膜を提供し得る。本発明者らの検討によれば、化合物(A)に加えて上記化合物(B)を用いることで、スチールウールに対する耐摩耗性のみならず、より柔軟な材料、例えば、消しゴム等の樹脂系材料に対する耐摩耗性が良好な膜が得られることが見出された。本開示は特定の理論に限定して解釈されるべきではないが、化合物(B)は、末端にビニルエーテル基を有しており、かかる基が柔軟な材料との摩擦が生じた場合に、膜の損傷を抑制する作用を発揮し得ると考えられる。 The use of silane compound (A) can provide a film with good abrasion resistance, particularly abrasion resistance against steel wool. The inventors' research has found that using compound (B) in addition to compound (A) can provide a film that not only has good abrasion resistance against steel wool, but also good abrasion resistance against softer materials, such as resin-based materials like erasers. While this disclosure should not be interpreted as being limited to any particular theory, compound (B) has a terminal vinyl ether group, and it is believed that this group may have the effect of suppressing damage to the film when friction occurs with a soft material.

(フルオロポリエーテル基を有するシラン化合物(A))
上記フルオロポリエーテル基を有するシラン化合物(A)は、フルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有する化合物であり得、好ましくは、アリルエーテル基を含まない。好ましい態様において、上記化合物(A)は、下記式(1)又は(2):
[式中:
F1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-であり;
F2は、-Rf -R-O-であり;
Rfは、それぞれ独立して、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基であり;
Rfは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-6アルキレン基であり;
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0又は1であり;
qは、それぞれ独立して、0又は1であり;
Siは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(1)又は式(2)のそれぞれにおいて、少なくとも1つのRSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(1)又は式(2)のそれぞれにおいて、RSiは、アリルエーテル基を含まず;
は、それぞれ独立して、単結合又は2~10価の有機基であり;
αは、1~9の整数であり;
βは、1~9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1~9の整数である。]
で表される少なくとも1種の化合物を含むことが好ましい。
(Fluoropolyether Group-Containing Silane Compound (A))
The silane compound (A) having a fluoropolyether group may be a compound having a fluoropolyether group and a hydrolyzable silyl group, and preferably does not contain an allyl ether group. In a preferred embodiment, the compound (A) is represented by the following formula (1) or (2):
[In the formula:
Each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -;
R F2 is —Rf 2 p —R F —O q —;
Rf 1 's each independently represent a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Each R F is independently a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
Each q is independently 0 or 1;
R Si each independently represents a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent group containing a Si atom to which a monovalent organic group is bonded;
In each of formula (1) and formula (2), at least one R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded;
In each of formula (1) and formula (2), R Si does not contain an allyl ether group;
X and A each independently represent a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer from 1 to 9.
It is preferable that the composition contains at least one compound represented by the following formula:

上記式(1)において、RF1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-である。 In the above formula (1), each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -.

上記式(2)において、RF2は、-Rf -R-O-である。 In the above formula (2), R F2 is —Rf 2 p —R F —O q —.

上記式において、Rfは、それぞれ独立して、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基である。 In the above formula, each Rf 1 is independently a C 1-16 alkyl group optionally substituted with one or more fluorine atoms.

上記1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基における「C1-16アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のC1-6アルキル基、特に直鎖又は分枝鎖のC1-3アルキル基であり、より好ましくは直鎖のC1-6アルキル基、特に直鎖のC1-3アルキル基である。 The "C 1-16 alkyl group" in the C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms may be straight-chain or branched-chain, and is preferably a straight-chain or branched-chain C 1-6 alkyl group, particularly a straight-chain or branched-chain C 1-3 alkyl group, more preferably a straight -chain C 1-6 alkyl group, particularly a straight-chain C 1-3 alkyl group.

上記Rfは、好ましくは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているC1-16アルキル基であり、より好ましくはCFH-C1-15パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはC1-16パーフルオロアルキル基である。 The above Rf 1 is preferably a C 1-16 alkyl group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 perfluoroalkylene group, and even more preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group.

上記C1-16パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のC1-6パーフルオロアルキル基、特にC1-3パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のC1-6パーフルオロアルキル基、特にC1-3パーフルオロアルキル基、具体的には-CF、-CFCF、又は-CFCFCFである。 The C 1-16 perfluoroalkyl group may be linear or branched, and is preferably a linear or branched C 1-6 perfluoroalkyl group, particularly a C 1-3 perfluoroalkyl group, and more preferably a linear C 1-6 perfluoroalkyl group, particularly a C 1-3 perfluoroalkyl group, specifically —CF 3 , —CF 2 CF 3 , or —CF 2 CF 2 CF 3 .

上記式において、Rfは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-6アルキレン基である。 In the above formula, Rf2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted with one or more fluorine atoms.

上記1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-6アルキレン基における「C1-6アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のC1-3アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のC1-3アルキレン基である。 The "C 1-6 alkylene group" in the above-mentioned C 1-6 alkylene group optionally substituted with one or more fluorine atoms may be a straight chain or a branched chain, and is preferably a straight chain or branched chain C 1-3 alkylene group, and more preferably a straight chain C 1-3 alkylene group.

上記Rfは、好ましくは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているC1-6アルキレン基であり、より好ましくはC1-6パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはC1-3パーフルオロアルキレン基である。 The above Rf 2 is preferably a C 1-6 alkylene group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a C 1-6 perfluoroalkylene group, and even more preferably a C 1-3 perfluoroalkylene group.

上記C1-6パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のC1-3パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のC1-3パーフルオロアルキレン基、具体的には-CF-、-CFCF-、又は-CFCFCF-である。 The C 1-6 perfluoroalkylene group may be linear or branched, and is preferably a linear or branched C 1-3 perfluoroalkylene group, more preferably a linear C 1-3 perfluoroalkylene group, specifically —CF 2 —, —CF 2 CF 2 —, or —CF 2 CF 2 CF 2 —.

上記式において、pは、0又は1である。一の態様において、pは0である。別の態様においてpは1である。 In the above formula, p is 0 or 1. In one embodiment, p is 0. In another embodiment, p is 1.

上記式において、qは、それぞれ独立して、0又は1である。一の態様において、qは0である。別の態様においてqは1である。 In the above formula, each q is independently 0 or 1. In one embodiment, q is 0. In another embodiment, q is 1.

上記式(1)及び(2)において、Rは、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基である。 In the above formulas (1) and (2), each R 1 F is independently a divalent fluoropolyether group.

は、好ましくは、式:
-(OC12-(OC10-(OC-(OCFa -(OC-(OCF
[式中:
Faは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
a、b、c、d、e及びfは、それぞれ独立して、0~200の整数であって、a、b、c、d、e及びfの和は1以上である。a、b、c、d、e又はfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのRFaが水素原子又は塩素原子である場合、a、b、c、e及びfの少なくとも1つは、1以上である。]
で表される基(以下、「PFPE」で表される基ともいう)である。
R F preferably has the formula:
-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 R Fa 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -
[In the formula:
Each R Fa independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom;
a, b, c, d, e, and f each independently represent an integer of 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e, and f is 1 or more. The repeating units enclosed in parentheses with a, b, c, d, e, or f may be present in any order in the formula. However, when all R Fa are hydrogen atoms or chlorine atoms, at least one of a, b, c, e, and f is 1 or more.]
(hereinafter also referred to as a group represented by "PFPE").

Faは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのRFaが水素原子又は塩素原子である場合、a、b、c、e及びfの少なくとも1つは、1以上である。 R Fa is preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom, provided that when all R Fa are hydrogen atoms or chlorine atoms, at least one of a, b, c, e, and f is 1 or greater.

a、b、c、d、e及びfは、好ましくは、それぞれ独立して、0~100の整数であってもよい。 Preferably, a, b, c, d, e, and f may each independently be an integer from 0 to 100.

a、b、c、d、e及びfの和は、好ましくは5以上であり、より好ましくは10以上であり、例えば15以上又は20以上であってもよい。a、b、c、d、e及びfの和は、好ましくは200以下、より好ましくは100以下、さらに好ましくは60以下であり、例えば50以下又は30以下であってもよい。 The sum of a, b, c, d, e, and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more. The sum of a, b, c, d, e, and f is preferably 200 or less, more preferably 100 or less, and even more preferably 60 or less, and may be, for example, 50 or less or 30 or less.

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよく、環構造を含んでいてもよい。例えば、-(OC12)-は、-(OCFCFCFCFCFCF)-、-(OCF(CF)CFCFCFCF)-、-(OCFCF(CF)CFCFCF)-、-(OCFCFCF(CF)CFCF)-、-(OCFCFCFCF(CF)CF)-、-(OCFCFCFCFCF(CF))-等であってもよい。-(OC10)-は、-(OCFCFCFCFCF)-、-(OCF(CF)CFCFCF)-、-(OCFCF(CF)CFCF)-、-(OCFCFCF(CF)CF)-、-(OCFCFCFCF(CF))-等であってもよい。-(OC)-は、-(OCFCFCFCF)-、-(OCF(CF)CFCF)-、-(OCFCF(CF)CF)-、-(OCFCFCF(CF))-、-(OC(CFCF)-、-(OCFC(CF)-、-(OCF(CF)CF(CF))-、-(OCF(C)CF)-及び-(OCFCF(C))-のいずれであってもよい。-(OC)-(即ち、上記式中、RFaはフッ素原子である)は、-(OCFCFCF)-、-(OCF(CF)CF)-及び-(OCFCF(CF))-のいずれであってもよい。-(OC)-は、-(OCFCF)-及び-(OCF(CF))-のいずれであってもよい。 These repeating units may be linear or branched, and may contain a ring structure. For example, -(OC 6 F 12 )- is -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF (CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ))-, etc. may be used. -(OC 5 F 10 )- is -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, etc. may be used. -(OC 4 F 8 )- may be any of -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, -(OC(CF 3 ) 2 CF 2 )-, -(OCF 2 C(CF 3 ) 2 )-, -( OCF (CF 3 )CF(CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 )CF 2 )- and -(OCF 2 CF(C 2 F 5 ))-. --(OC 3 F 6 )-- (i.e., in the above formula, R Fa is a fluorine atom) may be any of --(OCF 2 CF 2 CF 2 )--, --(OCF(CF 3 )CF 2 )--, and --(OCF 2 CF(CF 3 ))--. --(OC 2 F 4 )-- may be any of --(OCF 2 CF 2 )-- and --(OCF(CF 3 ))--.

上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。
[式中、*は、結合位置を示す。]
The ring structure may be a three-, four-, five-, or six-membered ring as shown below.
[In the formula, * indicates the bonding position.]

上記環構造は、好ましくは四員環、五員環、又は六員環、より好ましくは四員環、又は六員環であり得る。 The above ring structure may preferably be a four-, five-, or six-membered ring, more preferably a four- or six-membered ring.

環構造を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記の単位であり得る。
[式中、*は、結合位置を示す。]
The repeating unit having a ring structure may preferably be the following unit.
[In the formula, * indicates the bonding position.]

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、膜(表面処理層)の表面滑り性、摩耗耐久性等を向上させることができる。 In one embodiment, the repeating unit is linear. By making the repeating unit linear, the surface slip properties, abrasion resistance, etc. of the film (surface treatment layer) can be improved.

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、膜(表面処理層)の動摩擦係数を大きくすることができる。 In one embodiment, the repeating unit is branched. By making the repeating unit branched, the dynamic friction coefficient of the film (surface treatment layer) can be increased.

一の態様において、Rは、それぞれ独立して、下記式(f1)~(f6)のいずれかで表される基である。
-(OC-(OC- (f1)
[式中、dは、1~200の整数であり、eは0又は1である。];
-(OC-(OCFa -(OC-(OCF- (f2)
[式中、RFaは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、好ましくはフッ素原子であり、c及びdは、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、e及びfは、それぞれ独立して1以上200以下の整数であり、
c、d、e及びfの和は2以上であり、
添字c、d、e又はfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。];
-(R-R- (f3)
[式中、Rは、OCF又はOCであり、
は、OC、OC、OC、OC10及びOC12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2又は3つの基の組み合わせであり、
gは、2~100の整数である。];
-(R-R-R-(R7’-R6’g’- (f4)
[式中、Rは、OCF又はOCであり、
は、OC、OC、OC、OC10及びOC12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2又は3つの基の組み合わせであり、
6’は、OCF又はOCであり、
7’は、OC、OC、OC、OC10及びOC12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2又は3つの基の組み合わせであり、
gは、2~100の整数であり、
g’は、2~100の整数であり、
は、
(式中、*は、結合位置を示す。)
である。];
-(OC12-(OC10-(OC-(OC-(OC-(OCF- (f5)
[式中、eは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、d及びfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、また、a、b、c、d、e又はfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
-(OC12-(OC10-(OC-(OC-(OC-(OCF- (f6)
[式中、fは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、d及びeは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、また、a、b、c、d、e又はfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
In one embodiment, each R F is independently a group represented by any one of the following formulas (f1) to (f6):
-(OC 3 F 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (f1)
[wherein d is an integer of 1 to 200, and e is 0 or 1];
-(OC 4 F 8 ) c - (OC 3 R Fa 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - (f2)
[In the formula, each R Fa independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, and preferably a fluorine atom; each c and d independently represents an integer of 0 to 30; and each e and f independently represents an integer of 1 to 200;
the sum of c, d, e, and f is 2 or more;
The order of occurrence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscript c, d, e, or f is arbitrary in the formula.
-(R 6 -R 7 ) g - (f3)
wherein R6 is OCF2 or OC2F4 ;
R7 is a group selected from OC2F4 , OC3F6 , OC4F8 , OC5F10 and OC6F12 , or a combination of two or three groups independently selected from these groups;
g is an integer from 2 to 100;
-(R 6 -R 7 ) g -R r -(R 7' -R 6' ) g' - (f4)
wherein R6 is OCF2 or OC2F4 ;
R7 is a group selected from OC2F4 , OC3F6 , OC4F8 , OC5F10 and OC6F12 , or a combination of two or three groups independently selected from these groups;
R6 ' is OCF2 or OC2F4 ,
R 7′ is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or a combination of two or three groups independently selected from these groups;
g is an integer from 2 to 100,
g' is an integer from 2 to 100,
R r is
(In the formula, * indicates the bonding position.)
is. ];
-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f5)
[In the formula, e is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d, and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the order of the repeating units enclosed in parentheses with a, b, c, d, e, or f is arbitrary in the formula.]
-(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f6)
[In the formula, f is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d, and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the order of the repeating units enclosed in parentheses with a, b, c, d, e, or f is arbitrary in the formula.]

上記式(f1)において、dは、好ましくは5~200、より好ましくは10~100、さらに好ましくは15~50、例えば25~35の整数である。上記式(f1)におけるOCは、好ましくは、(OCFCFCF)、(OCF(CF)CF)又は(OCFCF(CF))であり、より好ましくは、(OCFCFCF)である。上記式(f1)における(OC)は、好ましくは、(OCFCF)又は(OCF(CF))であり、より好ましくは、(OCFCF)である。一の態様において、eは0である。別の態様において、eは1である。 In the above formula (f1), d is preferably an integer of 5 to 200, more preferably 10 to 100, even more preferably 15 to 50, for example, an integer of 25 to 35. OC 3 F 6 in the above formula (f1) is preferably (OCF 2 CF 2 CF 2 ), (OCF(CF 3 )CF 2 ) or (OCF 2 CF(CF 3 )), more preferably (OCF 2 CF 2 CF 2 ). (OC 2 F 4 ) in the above formula (f1) is preferably (OCF 2 CF 2 ) or (OCF(CF 3 )), more preferably (OCF 2 CF 2 ). In one embodiment, e is 0. In another embodiment, e is 1.

上記式(f2)において、e及びfは、それぞれ独立して、好ましくは5~200、より好ましくは10~200の整数である。また、c、d、e及びfの和は、好ましくは5以上であり、より好ましくは10以上であり、例えば15以上又は20以上であってもよい。一の態様において、上記式(f2)は、好ましくは、-(OC-(OC-(OC-(OCF-で表される基であり、より好ましくは-(OCFCFCFCF-(OCFCFCF-(OCFCF-(OCF-で表される基である。別の態様において、式(f2)は、-(OC-(OCF-で表される基であってもよい。さらに別の態様において、上記式(f2)は、-(OC-(OCFCF(CRFad10-(OCFCF(CF))d11-(OCFCF-(OCF-であってもよい。d10及びd11は、それぞれ独立して、0~200の整数であり、好ましくは5~200、より好ましくは10~200の整数である。ただし、d10及びd11の和は、0~200であり、好ましくは5~200、より好ましくは10~200である。 In the above formula (f2), e and f are each independently an integer of preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200. The sum of c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more. In one aspect, the above formula (f2) is preferably a group represented by -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -, and more preferably a group represented by -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) c -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d -(OCF 2 CF 2 ) e -(OCF 2 ) f -. In another embodiment, formula (f2) may be a group represented by -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -. In yet another embodiment, formula (f2) may be -(OC 4 F 8 ) c -(OCF 2 CF 2 (CR Fa ) 2 ) d10 -(OCF 2 CF(CF 3 )) d11 -(OCF 2 CF 2 ) e -(OCF 2 ) f -. d10 and d11 are each independently an integer of 0 to 200, preferably an integer of 5 to 200, more preferably an integer of 10 to 200. However, the sum of d10 and d11 is 0 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200.

上記式(f3)において、Rは、好ましくは、OCであり、別の態様において、
OCFである。上記(f3)において、Rは、好ましくは、OC、OC及びOCから選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2又は3つの基の組み合わせであり、より好ましくは、OC及びOCから選択される基である。OC、OC及びOCから独立して選択される2又は3つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば-OCOC-、-OCOC-、-OCOC-、-OCOC-、-OCOC-、-OCOC-、-OCOC-、-OCOC-、-OCOCOC-、-OCOCOC-、-OCOCOC-、-OCOCOC-、-OCOCOC-、-OCOCOC-、-OCOCOC-、-OCOCOC-、及び-OCOCOC-等が挙げられる。上記式(f3)において、gは、好ましくは3以上、より好ましくは5以上の整数である。上記gは、好ましくは50以下の整数である。上記式(f3)において、OC、OC、OC、OC10及びOC12は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式(f3)は、好ましくは、-(OC-OC-又は-(OC-OC-である。
In the above formula (f3), R6 is preferably OC2F4 , and in another embodiment,
In the above (f3), R7 is preferably a group selected from OC2F4 , OC3F6 and OC4F8 , or a combination of two or three groups independently selected from these groups, and more preferably a group selected from OC3F6 and OC4F8 . The combination of two or three groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited, and examples thereof include -OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC 2 F 4 OC 4 F 8 -, -OC 3 F 6 OC 2 F 4 -, -OC 3 F 6 OC 3 F 6 -, -OC 3 F 6 OC 4 F 8 -, -OC 4 F 8 OC 4 F 8 -, -OC 4 F 8 OC 3 F 6 -, -OC 4 F 8 OC 2 F 4 -, -OC 2 F 4 OC 2 F 4 OC 3 F 6 - , -OC 2 F 4 OC 2 F 4 OC 4 F 8 -, -OC 2 F 4 OC 3 F 6 OC 2 F 4 -, -OC 2 F 4 OC 3 F 6 OC 3 F 6 -, -OC 2 F 4 OC 4 F 8 OC 2 F 4 -, -OC 3 F 6 OC 2 F 4 OC 2 F 4 -, -OC 3 F 6 OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC 3 F 6 OC 3 F 6 OC 2 F 4 -, and -OC 4 F 8 OC 2 F 4 OC 2 Examples include F 4 -. In the above formula (f3), g is preferably an integer of 3 or greater, more preferably 5 or greater. The above g is preferably an integer of 50 or less. In the above formula (f3), OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be either linear or branched, and are preferably linear. In this embodiment, the above formula (f3) is preferably -(OC 2 F 4 -OC 3 F 6 ) g - or -(OC 2 F 4 -OC 4 F 8 ) g -.

上記式(f4)において、R、R及びgは、上記式(f3)の記載と同意義であり、同様の態様を有する。R6’、R7’及びg’は、それぞれ、上記式(f3)に記載のR、R及びgと同意義であり、同様の態様を有する。Rは、好ましくは、
[式中、*は、結合位置を示す。]
であり、より好ましくは
[式中、*は、結合位置を示す。]
である。
In the formula (f4), R 6 , R 7 and g have the same meanings as those described in the formula (f3) and have the same embodiments. R 6 , R 7 and g′ have the same meanings as those described in the formula (f3) and have the same embodiments. R r is preferably
[In the formula, * indicates the bonding position.]
and more preferably
[In the formula, * indicates the bonding position.]
is.

上記式(f5)において、eは、好ましくは、1以上100以下、より好ましくは5以上100以下の整数である。a、b、c、d、e及びfの和は、好ましくは5以上であり、より好ましくは10以上、例えば10以上100以下である。 In the above formula (f5), e is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably an integer of 5 or more and 100 or less. The sum of a, b, c, d, e, and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example, 10 or more and 100 or less.

上記式(f6)において、fは、好ましくは、1以上100以下、より好ましくは5以上100以下の整数である。a、b、c、d、e及びfの和は、好ましくは5以上であり、より好ましくは10以上、例えば10以上100以下である。 In the above formula (f6), f is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably an integer of 5 or more and 100 or less. The sum of a, b, c, d, e, and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example, 10 or more and 100 or less.

一の態様において、上記Rは、上記式(f1)で表される基である。 In one embodiment, the R F is a group represented by the formula (f1).

一の態様において、上記Rは、上記式(f2)で表される基である。 In one embodiment, the R F is a group represented by the formula (f2).

一の態様において、上記Rは、上記式(f3)で表される基である。 In one embodiment, the R F is a group represented by the formula (f3).

一の態様において、上記Rは、上記式(f4)で表される基である。 In one embodiment, the R F is a group represented by the formula (f4).

一の態様において、上記Rは、上記式(f5)で表される基である。 In one embodiment, the R F is a group represented by the formula (f5).

上記Rにおいて、fに対するeの比(以下、「e/f比」という)は、0.1~10であり、好ましくは0.2~5であり、より好ましくは0.2~2であり、さらに好ましくは0.2~1.5であり、さらにより好ましくは0.2~0.85である。e/f比を10以下にすることにより、この化合物から得られる膜(表面処理層)の滑り性、摩耗耐久性及び耐ケミカル性がより向上する。e/f比がより小さいほど、膜の滑り性及び摩耗耐久性はより向上する。一方、e/f比を0.1以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。e/f比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。 In the above R F , the ratio of e to f (hereinafter referred to as the "e/f ratio") is 0.1 to 10, preferably 0.2 to 5, more preferably 0.2 to 2, even more preferably 0.2 to 1.5, and even more preferably 0.2 to 0.85. By setting the e/f ratio to 10 or less, the slipperiness, abrasion resistance, and chemical resistance of the film (surface treatment layer) obtained from this compound are further improved. The smaller the e/f ratio, the more improved the slipperiness and abrasion resistance of the film. On the other hand, by setting the e/f ratio to 0.1 or more, the stability of the compound can be further improved. The larger the e/f ratio, the more improved the stability of the compound.

上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、RF1及びRF2部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば500~30,000、好ましくは1,500~30,000、より好ましくは2,000~10,000である。本明細書において、RF1及びRF2の数平均分子量は、19F-NMRにより測定される値とする。 In the fluoropolyether group-containing silane compound, the number average molecular weights of the RF1 and RF2 portions are not particularly limited, but are, for example, 500 to 30,000, preferably 1,500 to 30,000, and more preferably 2,000 to 10,000. In this specification, the number average molecular weights of RF1 and RF2 are values measured by 19F -NMR.

別の態様において、RF1及びRF2部分の数平均分子量は、500~30,000、好ましくは1,000~20,000、より好ましくは2,000~15,000、さらにより好ましくは2,000~10,000、例えば3,000~6,000であり得る。 In another embodiment, the number average molecular weight of the RF1 and RF2 moieties can be from 500 to 30,000, preferably from 1,000 to 20,000, more preferably from 2,000 to 15,000, even more preferably from 2,000 to 10,000, for example, from 3,000 to 6,000.

別の態様において、RF1及びRF2部分の数平均分子量は、4,000~30,000、好ましくは5,000~10,000、より好ましくは6,000~10,000であり得る。 In another embodiment, the number average molecular weight of the RF1 and RF2 portions can be from 4,000 to 30,000, preferably from 5,000 to 10,000, and more preferably from 6,000 to 10,000.

上記式(1)及び(2)において、RSiは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり、少なくとも1つのRSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。RSiは、基材との接着性に寄与し、上記基材の材料と化学的に反応してもよい。 In the above formulas (1) and (2), each R 3 Si is independently a monovalent group containing a Si atom bonded to a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent organic group, and at least one R 3 Si is a monovalent group containing a Si atom bonded to a hydroxyl group or a hydrolyzable group. R 3 Si contributes to adhesion to a substrate and may chemically react with the material of the substrate.

好ましい態様において、RSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。 In a preferred embodiment, R 1 Si is a monovalent group containing a Si atom having a hydroxyl group or a hydrolyzable group bonded thereto.

好ましい態様において、RSiは、下記式(S3)又は(S4):
で表される基である。
In a preferred embodiment, R Si is represented by the following formula (S3) or (S4):
It is a group represented by the following formula:

上記式中、Ra1は、それぞれ独立して、-Z-SiR22 q123 r1である。 In the above formula, each R a1 is independently —Z 1 —SiR 22 q1 R 23 r1 .

上記Zは、それぞれ独立して、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Zとして記載する構造は、右側が(SiR22 q123 r1)に結合する。 Each Z 1 is independently an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure hereinafter described as Z 1 , the right side is bonded to (SiR 22 q1 R 23 r1 ).

好ましい態様において、Zは、2価の有機基である。 In a preferred embodiment, Z1 is a divalent organic group.

好ましい態様において、Zは、Zが結合しているSi原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式(S3)において、(Si-Z-Si)は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 1 does not contain any group that forms a siloxane bond with the Si atom to which Z 1 is bonded. Preferably, in formula (S3), (Si-Z 1 -Si) does not contain a siloxane bond.

上記Zは、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CHz1-O-(CHz2-(式中、z1は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z2は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CHz3-フェニレン-(CHz4-(式中、z3は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z4は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z 1 above is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z1 -O-(CH 2 ) z2 - (wherein z1 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6, and z2 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6), or -(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 - (wherein z3 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6, and z4 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6). Such a C 1-6 alkylene group may be linear or branched, but is preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group, but are preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Zは、C1-6アルキレン基又は-(CHz3-フェニレン-(CHz4-、好ましくは-フェニレン-(CHz4-である。Zがかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 1 is a C 1-6 alkylene group or —(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 —, preferably —phenylene-(CH 2 ) z4 —. When Z 1 is such a group, light resistance, particularly ultraviolet resistance, can be improved.

別の好ましい態様において、上記Zは、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Zは、-CHCHCH-であり得る。別の態様において、Zは、-CHCH-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 1 is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 1 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 1 can be -CH 2 CH 2 -.

上記R22は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 The above R 22s are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

22は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 Preferably, each R 22 is independently a hydrolyzable group.

22は、好ましくは、それぞれ独立して、-OR、-OCOR、-O-N=CR 、-NR 、-NHR、-NCO、又はハロゲン(これら式中、Rは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-OR(即ち、アルコキシ基)である。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rは、メチル基であり、別の態様において、Rは、エチル基である。 R 22 is preferably, each independently, -OR j , -OCOR j , -O-N=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO, or halogen (in these formulas, R j represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR j (i.e., an alkoxy group). R j includes unsubstituted alkyl groups such as a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as a chloromethyl group. Among these, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and a methyl group or an ethyl group is more preferred. In one embodiment, R j is a methyl group, and in another embodiment, R j is an ethyl group.

上記R23は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 Each R23 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the hydrolyzable group.

23において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 23 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and even more preferably a methyl group.

上記q1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、r1は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、q1とr1の合計は、(SiR22 q123 r1)単位において、3である。 Each q1 is independently an integer of 0 to 3, and each r1 is independently an integer of 0 to 3. The sum of q1 and r1 is 3 in the (SiR 22 q1 R 23 r1 ) unit.

一の態様において、q1は、(SiR22 q123 r1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、より好ましくは3である。 In one embodiment, q1 is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, and more preferably 3 for each (SiR 22 q1 R 23 r1 ) unit.

一の態様において、q1は、(SiR22 q123 r1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、さらに好ましくは3である。 In one embodiment, q1 is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, and more preferably 3 for each (SiR 22 q1 R 23 r1 ) unit.

上記式中、Rb1は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 In the above formula, each R b1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

上記Rb1は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 Preferably, each of the R b1 's is independently a hydrolyzable group.

上記Rb1は、好ましくは、それぞれ独立して、-OR、-OCOR、-O-N=CR 、-NR 、-NHR、-NCO、又はハロゲン(これら式中、Rは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-OR(即ち、アルコキシ基)である。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rは、メチル基であり、別の態様において、Rは、エチル基である。 Preferably, each R b1 is independently -OR j , -OCOR j , -O-N=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO, or halogen (in these formulas, R j represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR j (i.e., an alkoxy group). Examples of R j include unsubstituted alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group; and substituted alkyl groups such as a chloromethyl group. Among these, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and a methyl group or an ethyl group is more preferred. In one embodiment, R j is a methyl group, and in another embodiment, R j is an ethyl group.

上記式中、Rc1は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 In the above formula, each R c1 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, excluding the above-mentioned hydrolyzable groups.

上記Rc1において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In the above R c1 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and even more preferably a methyl group.

上記k1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、m1は、それぞれ独立して、0~3の整数である。尚、k1、l1とm1の合計は、(SiRa1 k1b1 l1c1 m1)単位において、3である。 Each k1 is independently an integer of 0 to 3, each l1 is independently an integer of 0 to 3, and each m1 is independently an integer of 0 to 3. The sum of k1, l1, and m1 is 3 in the (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ) unit.

一の態様において、k1は、(SiRa1 k1b1 l1c1 m1)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。好ましい態様において、k1は、3である。 In one embodiment, k1 is independently an integer of 1 to 3 for each (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ) unit, preferably 2 or 3, more preferably 3. In a preferred embodiment, k1 is 3.

上記式(1)及び(2)において、RSiが式(S3)で表される基である場合、好ましくは、式(1)及び式(2)の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも2つ存在する。 In the above formulas (1) and (2), when R Si is a group represented by formula (S3), preferably, at least two Si atoms to which hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded are present in the terminal portions of formulas (1) and (2).

好ましい態様において、式(S3)において、Ra1が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのRa1において、q1は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, when R a1 is present in formula (S3), q1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 in at least one, preferably all, of R a1 .

好ましい態様において、式(S3)において、k1は2又は3、好ましくは3であり、q1は2又は3、好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), k1 is 2 or 3, preferably 3, and q1 is 2 or 3, preferably 3.

上記Re1は、それぞれ独立して、-Z-SiR34 n235 3-n2である。 The R e1 's are each independently —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 .

上記Zは、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は2価の有機基である。尚、以下Zとして記載する構造は、右側が(SiR34 n235 3-n2)に結合する。 The Z3s are each independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure hereinafter described as Z3 , the right side is bonded to (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ).

一の態様において、Zは酸素原子である。 In one embodiment, Z3 is an oxygen atom.

一の態様において、Zは2価の有機基である。 In one embodiment, Z3 is a divalent organic group.

上記Zは、好ましくは、C1-6アルキレン基、-(CHz5”-O-(CHz6”-(式中、z5”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z6”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)又は、-(CHz7”-フェニレン-(CHz8”-(式中、z7”は、0~6の整数、例えば1~6の整数であり、z8”は、0~6の整数、例えば1~6の整数である)である。かかるC1-6アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、C1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、及びC2-6アルキニル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 Z3 above is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z5" -O-(CH 2 ) z6" - (wherein z5" is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6, and z6" is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6), or -(CH 2 ) z7" -phenylene-(CH 2 ) z8" - (wherein z7" is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6, and z8" is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6). Such a C 1-6 alkylene group may be linear or branched, but is preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group, but are preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Zは、C1-6アルキレン基又は-(CHz7”-フェニレン-(CHz8”-、好ましくは-フェニレン-(CHz8”-である。Zがかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 3 is a C 1-6 alkylene group or —(CH 2 ) z7″ -phenylene-(CH 2 ) z8″ —, preferably —phenylene-(CH 2 ) z8″ —. When Z 3 is such a group, light resistance, particularly ultraviolet resistance, may be improved.

別の好ましい態様において、上記Zは、C1-3アルキレン基である。一の態様において、Zは、-CHCHCH-であり得る。別の態様において、Zは、-CHCH-であり得る。 In another preferred embodiment, Z 3 is a C 1-3 alkylene group. In one embodiment, Z 3 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another embodiment, Z 3 can be -CH 2 CH 2 -.

上記R34は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 The above R 34 's are each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

34は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 Preferably, each R 34 is independently a hydrolyzable group.

34は、好ましくは、それぞれ独立して、-OR、-OCOR、-O-N=CR 、-NR 、-NHR、-NCO、又はハロゲン(これら式中、Rは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-OR(即ち、アルコキシ基)である。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rは、メチル基であり、別の態様において、Rは、エチル基である。 R 34 is preferably, each independently, -OR j , -OCOR j , -O-N═CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO, or halogen (in these formulas, R j represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR j (i.e., an alkoxy group). R j includes unsubstituted alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group; and substituted alkyl groups such as a chloromethyl group. Among these, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and a methyl group or an ethyl group is more preferred. In one embodiment, R j is a methyl group, and in another embodiment, R j is an ethyl group.

上記R35は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 Each R 35 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, excluding the hydrolyzable groups.

上記R35において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In the above R 35 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and even more preferably a methyl group.

上記式中、n2は、(SiR34 n235 3-n2)単位毎にそれぞれ独立して、0~3の整数である。ただし、RSiが式(S4)で表される基である場合、式(1)及び式(2)の末端部分において、n2が1~3である(SiR34 n235 3-n2)単位が少なくとも1つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのn2が同時に0になることはない。換言すれば、式(1)及び式(2)の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも1つ存在する。 In the above formula, n2 is independently an integer of 0 to 3 for each (SiR n2 R 35 3-n2 ) unit. However, when R Si is a group represented by formula (S4), at least one (SiR n2 R 35 3-n2 ) unit in which n2 is 1 to 3 is present in the terminal portion of formula (1) and formula (2). That is, at such a terminal portion, all n2s do not become 0 at the same time. In other words, at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded is present in the terminal portion of formula (1) and formula (2).

n2は、(SiR34 n235 3-n2)単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは1~3の整数であり、より好ましくは2~3、さらに好ましくは3である。 n2 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, and even more preferably 3, independently for each (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) unit.

上記Rf1は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 Each R f1 is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group, excluding the hydrolyzable groups.

上記Rf1において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基又は-(C2st1-(O-C2st2(式中、sは、1~6の整数、好ましくは2~4の整数であり、t1は1又は0、好ましくは0であり、t2は、1~20の整数、好ましくは2~10の整数、より好ましくは2~6の整数である。)であり、より好ましくはC1-20アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基、特に好ましくはメチル基である。 In the above R f1 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group or -(C s H 2s ) t1 -(O-C s H 2s ) t2 (wherein s is an integer of 1 to 6, preferably an integer of 2 to 4; t1 is 1 or 0, preferably 0; and t2 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 10, more preferably an integer of 2 to 6), more preferably a C 1-20 alkyl group, still more preferably a C 1-6 alkyl group, and particularly preferably a methyl group.

一の態様において、Rf1は、水酸基である。 In one embodiment, R f1 is a hydroxyl group.

別の態様において、Rf1は、1価の有機基、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基である。 In another embodiment, R f1 is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group.

上記式(1)及び(2)において、RSiが式(S4)で表される基である場合、好ましくは、式(1)及び式(2)の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子が少なくとも2つ存在する。 In the above formulas (1) and (2), when R Si is a group represented by formula (S4), preferably, at least two Si atoms to which hydroxyl groups or hydrolyzable groups are bonded are present in the terminal portions of formulas (1) and (2).

一の態様において、RSiが式(S4)で表される基である場合、n2が1~3、好ましくは2又は3、より好ましくは3である(SiR34 n235 3-n2)単位は、式(1)及び式(2)の各末端部分において、2個以上、例えば2~27個、好ましくは2~9個、より好ましくは2~6個、さらに好ましくは2~3個、特に好ましくは3個存在する。 In one embodiment, when R Si is a group represented by formula (S4), the (SiR n2 R 35 3-n2 ) units, where n2 is 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, are present at each terminal portion of formula (1) and formula (2) in an amount of 2 or more, for example 2 to 27, preferably 2 to 9, more preferably 2 to 6, even more preferably 2 to 3, and particularly preferably 3.

好ましい態様において、式(S4)において、Re1が存在する場合、少なくとも1つの、好ましくは全てのRe1において、n2は、1~3の整数であり、好ましくは2又は3、より好ましくは3である。 In a preferred embodiment, when R e1 is present in formula (S4), n2 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, and more preferably 3 in at least one, preferably all, R e1 .

好ましい態様において、式(S4)において、l2は2又は3、好ましくは3であり、n2は、2又は3、好ましくは3である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), l2 is 2 or 3, preferably 3, and n2 is 2 or 3, preferably 3.

一の態様において、RSiは、式(S3)又は(S4)で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のSi原子又はC原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩耗耐久性を有する膜を形成することができる。 In one embodiment, R Si is a group represented by formula (S3) or (S4). These compounds can have multiple hydrolyzable groups branched from one Si atom or C atom at one end, and can therefore form a film with even higher abrasion resistance.

一の態様において、RSiは、式(S3)で表される基である。 In one embodiment, R 2 Si is a group represented by formula (S3).

一の態様において、RSiは、式(S4)で表される基である。 In one embodiment, R 2 Si is a group represented by formula (S4).

は、それぞれ独立して、単結合又は2~10価の有機基でありうる。 Each X 1 A can independently represent a single bond or a divalent to decavalent organic group.

上記Xにおける2~10価の有機基は、好ましくは2~8価の有機基である。一の態様において、かかる2~10価の有機基は、好ましくは2~4価の有機基であり、より好ましくは2価の有機基である。別の態様において、かかる2~10価の有機基は、好ましくは3~8価の有機基、より好ましくは3~6価の有機基である。 The divalent to decavalent organic group in XA above is preferably a divalent to octavalent organic group. In one embodiment, the divalent to decavalent organic group is preferably a divalent to tetravalent organic group, more preferably a divalent organic group. In another embodiment, the divalent to decavalent organic group is preferably a trivalent to octavalent organic group, more preferably a trivalent to hexavalent organic group.

一の態様において、Xは、単結合又は2価の有機基であり、αは1であり、βは1である。 In one embodiment, X 1 A is a single bond or a divalent organic group, α is 1, and β is 1.

一の態様において、Xは、単結合又は2価の有機基であり、γは1である。 In one embodiment, X 1 A is a single bond or a divalent organic group, and γ is 1.

一の態様において、Xは3~6価の有機基であり、αは1であり、βは2~5である。 In one embodiment, X 2 A is a trivalent to hexavalent organic group, α is 1, and β is 2-5.

一の態様において、Xは3~6価の有機基であり、γは2~5である。 In one embodiment, X A is a trivalent to hexavalent organic group and γ is 2 to 5.

一の態様において、Xは、3価の有機基であり、αは1であり、βは2である。 In one embodiment, X 1 A is a trivalent organic group, α is 1 and β is 2.

一の態様において、Xは、3価の有機基であり、γは2である。 In one embodiment, X 1 A is a trivalent organic group and γ is 2.

が、単結合又は2価の有機基である場合、式(1)及び(2)は、下記式(1a)及び(2a)で表される。
When XA is a single bond or a divalent organic group, formulas (1) and (2) are represented by the following formulas (1a) and (2a).

式(1a)又は式(2a)のそれぞれにおいて、少なくとも1つのRSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基である。また、式(1a)又は式(2a)のそれぞれにおいて、RSiは、アリルエーテル基を含まない。 In each of formula (1a) and formula (2a), at least one R 1 Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded. In addition, in each of formula (1a) and formula (2a), R 1 Si does not contain an allyl ether group.

一の態様において、Xは単結合である。 In one embodiment, X 2 A is a single bond.

別の態様において、Xは2価の有機基である。 In another embodiment, X A is a divalent organic group.

一の態様において、Xとしては、例えば、単結合又は下記式:
-(R51p5-(X51q5
[式中:
51は、単結合、-(CHs5-又はo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、好ましくは-(CHs5-であり、
s5は、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数、さらにより好ましくは1又は2であり、
51は、-(X52l5-を表し、
52は、それぞれ独立して、-O-、-S-、o-、m-もしくはp-フェニレン基、-C(O)O-、-Si(R53-、-(Si(R53O)m5-Si(R53-、-CONR54-、-O-CONR54-、-NR54-及び-(CHn5-からなる群から選択される基を表し、
53は、それぞれ独立して、フェニル基、C1-6アルキル基又はC1-6アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はC1-6アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
54は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はC1-6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、
m5は、、それぞれ独立して、1~100の整数、好ましくは1~20の整数であり、
n5は、、それぞれ独立して、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
l5は、1~10の整数、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
p5は、0又は1であり、
q5は、0又は1であり、
ここに、p5及びq5の少なくとも一方は1であり、p5又はq5を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。]
で表される2価の有機基が挙げられる。ここに、X(典型的にはXの水素原子)は、フッ素原子、C1-3アルキル基及びC1-3フルオロアルキル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Xは、これらの基により置換されていない。
In one embodiment, X A is, for example, a single bond or the following formula:
-(R 51 ) p5 -(X 51 ) q5 -
[In the formula:
R 51 represents a single bond, —(CH 2 ) s5 —, or an o-, m-, or p-phenylene group, preferably —(CH 2 ) s5 —;
s5 is an integer from 1 to 20, preferably an integer from 1 to 6, more preferably an integer from 1 to 3, and even more preferably 1 or 2;
X 51 represents —(X 52 ) 15 —;
X 52 each independently represents a group selected from the group consisting of —O—, —S—, o-, m- or p-phenylene, —C(O)O—, —Si(R 53 ) 2 —, —(Si(R 53 ) 2 O) m5 —Si(R 53 ) 2 —, —CONR 54 —, —O—CONR 54 —, —NR 54 — and —(CH 2 ) n5 —;
R 53 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, more preferably a methyl group;
R 54 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group);
m5 is independently an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20,
n5 is independently an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3,
l5 is an integer from 1 to 10, preferably an integer from 1 to 5, more preferably an integer from 1 to 3;
p5 is 0 or 1;
q5 is 0 or 1;
Here, at least one of p5 and q5 is 1, and the repeating units enclosed in parentheses with p5 or q5 may be present in any order.]
In this case, X A (typically a hydrogen atom of X A ) may be substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group. In a preferred embodiment, X A is not substituted with these groups.

好ましい態様において、上記Xは、それぞれ独立して、-(R51p5-(X51q5-R52-である。R52は、単結合、-(CHt5-又はo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、好ましくは-(CHt5-である。t5は、1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。ここに、R52(典型的にはR52の水素原子)は、フッ素原子、C1-3アルキル基及びC1-3フルオロアルキル基から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、R56は、これらの基により置換されていない。 In a preferred embodiment, each XA is independently -(R 51 ) p5 -(X 51 ) q5 -R 52 -. R 52 represents a single bond, -(CH 2 ) t5 -, or an o-, m-, or p-phenylene group, and is preferably -(CH 2 ) t5 -. t5 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 6, and more preferably an integer of 2 to 3. Here, R 52 (typically the hydrogen atom of R 52 ) may be substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group, and a C 1-3 fluoroalkyl group. In a preferred embodiment, R 56 is not substituted with these groups.

好ましくは、上記Xは、それぞれ独立して、
単結合、
1-20アルキレン基、
-R51-X53-R52-、又は
-X54-R52
[式中、R51及びR52は、上記と同意義であり、
53は、
-O-、
-S-、
-C(O)O-、
-CONR54-、
-O-CONR54-、
-Si(R53-、
-(Si(R53O)m5-Si(R53-、
-O-(CHu5-(Si(R53O)m5-Si(R53-、
-O-(CHu5-Si(R53-O-Si(R53-CHCH-Si(R53-O-Si(R53-、
-O-(CHu5-Si(OCHOSi(OCH-、
-CONR54-(CHu5-(Si(R53O)m5-Si(R53-、
-CONR54-(CHu5-N(R54)-、又は
-CONR54-(o-、m-又はp-フェニレン)-Si(R53
(式中、R53、R54及びm5は、上記と同意義であり、
u5は1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。)を表し、
54は、
-S-、
-C(O)O-、
-CONR54-、
-O-CONR54-、
-CONR54-(CHu5-(Si(R54O)m5-Si(R54-、
-CONR54-(CHu5-N(R54)-、又は
-CONR54-(o-、m-又はp-フェニレン)-Si(R54
(式中、各記号は、上記と同意義である。)
を表す。]
であり得る。
Preferably, each XA is independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
-R 51 -X 53 -R 52 -, or -X 54 -R 52 -
wherein R 51 and R 52 are as defined above;
X53 is
-O-,
-S-,
—C(O)O—,
-CONR 54- ,
-O-CONR 54 -,
-Si(R 53 ) 2 -,
-(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -,
-O-(CH 2 ) u5 -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -,
-O-( CH2 ) u5 -Si( R53 ) 2 -O-Si( R53 ) 2 - CH2CH2 -Si( R53 ) 2 -O-Si( R53 ) 2- ,
-O-(CH 2 ) u5 -Si(OCH 3 ) 2 OSi(OCH 3 ) 2 -,
-CONR54- ( CH2 ) u5- (Si( R53 ) 2O ) m5 -Si( R53 ) 2- ,
—CONR 54 —(CH 2 ) u5 —N(R 54 )—, or —CONR 54 —(o-, m-, or p-phenylene)-Si(R 53 ) 2
(wherein R 53 , R 54 and m5 are as defined above;
u5 represents an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 2 or 3;
X54 is
-S-,
—C(O)O—,
-CONR 54- ,
-O-CONR 54 -,
-CONR54- ( CH2 ) u5- (Si( R54 ) 2O ) m5 -Si( R54 ) 2- ,
—CONR 54 —(CH 2 ) u5 —N(R 54 )—, or —CONR 54 —(o-, m-, or p-phenylene)-Si(R 54 ) 2
(In the formula, each symbol has the same meaning as above.)
represents.]
It could be.

より好ましくは、上記Xは、それぞれ独立して、
単結合、
1-20アルキレン基、
-(CHs5-X53-、
-(CHs5-X53-(CHt5
-X54-、又は
-X54-(CHt5
[式中、X53、X54、s5及びt5は、上記と同意義である。]
である。
More preferably, each XA is independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
-(CH 2 ) s5 -X 53 -,
-(CH 2 ) s5 -X 53 -(CH 2 ) t5 -
—X 54 —, or —X 54 —(CH 2 ) t5
[In the formula, X 53 , X 54 , s5 and t5 are as defined above.]
is.

より好ましくは、上記Xは、それぞれ独立して、
単結合、
1-20アルキレン基、
-(CHs5-X53-(CHt5-、又は
-X54-(CHt5
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
であり得る。
More preferably, each XA is independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
—(CH 2 ) s5 —X 53 —(CH 2 ) t5 —, or —X 54 —(CH 2 ) t5
[In the formula, each symbol has the same meaning as above.]
It could be.

好ましい態様において、上記Xは、それぞれ独立して、
単結合
1-20アルキレン基、
-(CHs5-X53-、又は
-(CHs5-X53-(CHt5
[式中、
53は、-O-、-CONR54-、又は-O-CONR54-であり、
54は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はC1-6アルキル基を表し、
s5は、1~20の整数であり、
t5は、1~20の整数である。]
であり得る。
In a preferred embodiment, each XA is independently
a single bond C 1-20 alkylene group,
—(CH 2 ) s5 —X 53 —, or —(CH 2 ) s5 —X 53 —(CH 2 ) t5
[In the formula,
X 53 is —O—, —CONR 54 —, or —O—CONR 54 —;
R 54 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group;
s5 is an integer from 1 to 20,
t5 is an integer from 1 to 20.
It could be.

好ましい態様において、上記Xは、それぞれ独立して、
-(CHs5-O-(CHt5
-CONR54-(CHt5
[式中、
54は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はC1-6アルキル基を表し、
s5は、1~20の整数であり、
t5は、1~20の整数である。]
であり得る。
In a preferred embodiment, each XA is independently
-(CH 2 ) s5 -O-(CH 2 ) t5 -
-CONR 54 -(CH 2 ) t5 -
[In the formula,
R 54 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group;
s5 is an integer from 1 to 20,
t5 is an integer from 1 to 20.
It could be.

一の態様において、上記Xは、それぞれ独立して、
単結合、
1-20アルキレン基、
-(CHs5-O-(CHt5-、
-(CHs5-(Si(R53O)m5-Si(R53-(CHt5-、
-(CHs5-O-(CHu5-(Si(R53O)m5-Si(R53-(CHt5-、又は
-(CHs5-O-(CHt5-Si(R53-(CHu5-Si(R53-(Cv52v5)-
[式中、R53、m5、s5、t5及びu5は、上記と同意義であり、v5は1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。]
である。
In one embodiment, each XA is independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
-(CH 2 ) s5 -O-(CH 2 ) t5 -,
-(CH 2 ) s5 -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -(CH 2 ) t5 -,
-(CH 2 ) s5 -O-(CH 2 ) u5 -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -(CH 2 ) t5 -, or -(CH 2 ) s5 -O-(CH 2 ) t5 -Si(R 53 ) 2 -(CH 2 ) u5 -Si( R53 ) 2- ( Cv5H2v5 )-
[In the formula, R 53 , m5, s5, t5 and u5 are defined as above, and v5 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 2 to 3.]
is.

上記式中、-(Cv2v)-は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、-CHCH-、-CHCHCH-、-CH(CH)-、-CH(CH)CH-であり得る。 In the above formula, --(C v H 2v )-- may be a straight chain or a branched chain, for example, --CH 2 CH 2 --, --CH 2 CH 2 CH 2 --, --CH(CH 3 )--, or --CH(CH 3 )CH 2 --.

上記Xは、それぞれ独立して、フッ素原子、C1-3アルキル基及びC1-3フルオロアルキル基(好ましくは、C1-3パーフルオロアルキル基)から選択される1個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Xは、非置換である。 Each of the X 's may be independently substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C1-3 alkyl group, and a C1-3 fluoroalkyl group (preferably a C1-3 perfluoroalkyl group). In one embodiment, X 's are unsubstituted.

尚、上記Xは、各式の左側がRF1又はRF2に結合し、右側がRSiに結合する。 In addition, the left side of the above XA in each formula is bonded to R F1 or R F2 , and the right side is bonded to R Si .

一の態様において、Xは、それぞれ独立して、-O-C1-6アルキレン基以外であり得る。 In one embodiment, each X 1 A may independently be other than an —O—C 1-6 alkylene group.

別の態様において、Xとしては、例えば下記の基が挙げられる:
[式中、R41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、C1-6アルキル基、又はC1-6アルコキシ基、好ましくはメチル基であり;
Dは、
-CHO(CH-、
-CHO(CH-、
-CFO(CH-、
-(CH-、
-(CH-、
-(CH4-、
-CONH-(CH-、
-CON(CH)-(CH-、
-CON(Ph)-(CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、及び
(式中、R42は、それぞれ独立して、水素原子、C1-6のアルキル基又はC1-6のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。)
から選択される基であり、
Eは、-(CH-(nは2~6の整数)であり、
Dは、分子主鎖のRF1又はRF2に結合し、Eは、RSiに結合する。]
In another embodiment, X A includes, for example, the following groups:
[In the formula, each R 41 independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group;
D is
-CH 2 O(CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 -,
-CF 2 O(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 2 -,
-(CH 2 ) 3 -,
-( CH2 ) 4- ,
-CONH-(CH 2 ) 3 -,
-CON( CH3 )-( CH2 ) 3- ,
-CON(Ph)-(CH 2 ) 3 - (wherein Ph means phenyl), and
(In the formula, each R 42 independently represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group or a methoxy group, more preferably a methyl group.)
is a group selected from
E is —(CH 2 ) n — (n is an integer from 2 to 6);
D bonds to RF1 or RF2 of the molecular main chain, and E bonds to RSi .]

上記Xの具体的な例としては、例えば:
単結合、
-CHOCH-、
-CHO(CH-、
-CHO(CH-、
-CHO(CH-、
-CHO(CH-、
-CHO(CH-、
-CHO(CHSi(CHOSi(CH(CH-、
-CHO(CHSi(CHOSi(CHOSi(CH(CH-、
-CHO(CHSi(CHO(Si(CHO)Si(CH(CH-、
-CHO(CHSi(CHO(Si(CHO)Si(CH(CH-、
-CHO(CHSi(CHO(Si(CHO)10Si(CH(CH-、
-CHO(CHSi(CHO(Si(CHO)20Si(CH(CH-、
-CHOCFCHFOCF-、
-CHOCFCHFOCFCF-、
-CHOCFCHFOCFCFCF-、
-CHOCHCFCFOCF-、
-CHOCHCFCFOCFCF-、
-CHOCHCFCFOCFCFCF-、
-CHOCHCFCFOCF(CF)CFOCF-、
-CHOCHCFCFOCF(CF)CFOCFCF-、
-CHOCHCFCFOCF(CF)CFOCFCFCF-、
-CHOCHCHFCFOCF-、
-CHOCHCHFCFOCFCF-、
-CHOCHCHFCFOCFCFCF-、
-CHOCHCHFCFOCF(CF)CFOCF-、
-CHOCHCHFCFOCF(CF)CFOCFCF-、
-CHOCHCHFCFOCF(CF)CFOCFCFCF-、
-CHOCFCHFOCFCFCF-C(O)NH-CH-、
-CHOCH(CHCHSi(OCHOSi(OCH(CHSi(OCHOSi(OCH(CH-、
-CHOCHCHCHSi(OCHOSi(OCH(CH-、
-CHOCHCHCHSi(OCHCHOSi(OCHCH(CH-、
-CHOCHCHCHSi(OCHOSi(OCH(CH-、
-CHOCHCHCHSi(OCHCHOSi(OCHCH(CH-、
-(CH-Si(CH-(CH-、
-CH-、
-(CH-、
-(CH-、
-(CH-、
-(CH-、
-(CH-、
-CO-、
-CONH-、
-CONH-CH-、
-CONH-(CH-、
-CONH-(CH-、
-CONH-(CH-、
-CONH-(CH-、
-CONH-(CH-、
-CON(CH)-CH-、
-CON(CH)-(CH-、
-CON(CH)-(CH-、
-CON(CH)-(CH-、
-CON(CH)-(CH-、
-CON(CH)-(CH-、
-CON(Ph)-CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CON(Ph)-(CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CON(Ph)-(CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CON(Ph)-(CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CON(Ph)-(CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CON(Ph)-(CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CONH-(CHNH(CH-、
-CONH-(CHNH(CH-、
-CHO-CONH-(CH-、
-CHO-CONH-(CH-、
-S-(CH-、
-(CHS(CH-、
-CONH-(CHSi(CHOSi(CH(CH-、
-CONH-(CHSi(CHOSi(CHOSi(CH(CH-、
-CONH-(CHSi(CHO(Si(CHO)Si(CH(CH-、
-CONH-(CHSi(CHO(Si(CHO)Si(CH(CH-、
-CONH-(CHSi(CHO(Si(CHO)10Si(CH(CH-、
-CONH-(CHSi(CHO(Si(CHO)20Si(CH(CH-、
-C(O)O-(CH-、
-C(O)O-(CH-、
-CH-O-(CH-Si(CH-(CH-Si(CH-(CH-、
-CH-O-(CH-Si(CH-(CH-Si(CH-CH(CH)-、
-CH-O-(CH-Si(CH-(CH-Si(CH-(CH-、
-CH-O-(CH-Si(CH-(CH-Si(CH-CH(CH)-CH-、
-OCH-、
-O(CH-、
-OCFHCF-、
などが挙げられる。
Specific examples of the above XA include:
single bond,
-CH 2 OCH 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 4 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 5 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 6 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 2 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 3 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 10 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 20 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CH 2 OCF 2 CHFOCF 2 -,
-CH 2 OCF 2 CHFOCF 2 CF 2 -,
-CH 2 OCF 2 CHFOCF 2 CF 2 CF 2 -,
-CH 2 OCH 2 CF 2 CF 2 OCF 2 -,
-CH 2 OCH 2 CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 -,
-CH 2 OCH 2 CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 -,
-CH2OCH2CF2CF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2- ,
-CH 2 OCH 2 CF 2 CF 2 OCF (CF 3 )CF 2 OCF 2 CF 2 -,
-CH2OCH2CF2CF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2CF2CF2- ,
-CH 2 OCH 2 CHFCF 2 OCF 2 -,
-CH 2 OCH 2 CHFCF 2 OCF 2 CF 2 -,
-CH 2 OCH 2 CHFCF 2 OCF 2 CF 2 CF 2 -,
-CH 2 OCH 2 CHFCF 2 OCF (CF 3 )CF 2 OCF 2 -,
-CH 2 OCH 2 CHFCF 2 OCF (CF 3 ) CF 2 OCF 2 CF 2 -,
-CH2OCH2CHFCF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2CF2CF2- ,
-CH 2 OCF 2 CHFOCF 2 CF 2 CF 2 -C(O)NH-CH 2 -,
-CH2OCH2 ( CH2 ) 7CH2Si ( OCH3 ) 2OSi(OCH3)2 ( CH2 ) 2Si ( OCH3 ) 2OSi ( OCH3 ) 2 ( CH2 ) 2- ,
-CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 2 OSi(OCH 3 ) 2 (CH 2 ) 3 -,
-CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 2 CH 3 ) 2 OSi(OCH 2 CH 3 ) 2 (CH 2 ) 3 -,
-CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 2 OSi(OCH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 2 CH 3 ) 2 OSi(OCH 2 CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-(CH 2 ) 2 -Si(CH 3 ) 2 -(CH 2 ) 2 -,
—CH 2 —,
-(CH 2 ) 2 -,
-(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 4 -,
-(CH 2 ) 5 -,
-(CH 2 ) 6 -,
-CO-,
-CONH-,
-CONH-CH 2 -,
-CONH-(CH 2 ) 2 -,
-CONH-(CH 2 ) 3 -,
-CONH-(CH 2 ) 4 -,
-CONH-(CH 2 ) 5 -,
-CONH-(CH 2 ) 6 -,
-CON( CH3 ) -CH2- ,
-CON( CH3 )-( CH2 ) 2- ,
-CON( CH3 )-( CH2 ) 3- ,
-CON( CH3 )-( CH2 ) 4- ,
-CON( CH3 )-( CH2 ) 5- ,
-CON( CH3 )-( CH2 ) 6- ,
-CON(Ph)-CH 2 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 2 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 3 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 4 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 5 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 6 - (wherein Ph means phenyl),
-CONH-(CH 2 ) 2 NH(CH 2 ) 3 -,
-CONH-(CH 2 ) 6 NH(CH 2 ) 3 -,
-CH 2 O-CONH-(CH 2 ) 3 -,
-CH 2 O-CONH-(CH 2 ) 6 -,
-S-(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 2 S(CH 2 ) 3 -,
-CONH-(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CONH-( CH2 ) 3Si ( CH3 ) 2OSi ( CH3 ) 2OSi ( CH3 ) 2 ( CH2 ) 2- ,
-CONH-(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 2 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CONH-(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 3 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CONH-(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 10 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-CONH-(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 20 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 -,
-C(O)O-(CH 2 ) 3 -,
-C(O)O-(CH 2 ) 6 -,
-CH 2 -O-(CH 2 ) 3 -Si(CH 3 ) 2 -(CH 2 ) 2 -Si(CH 3 ) 2 -(CH 2 ) 2 -,
-CH 2 -O-(CH 2 ) 3 -Si(CH 3 ) 2 -(CH 2 ) 2 -Si(CH 3 ) 2 -CH(CH 3 )-,
-CH 2 -O-(CH 2 ) 3 -Si(CH 3 ) 2 -(CH 2 ) 2 -Si(CH 3 ) 2 -(CH 2 ) 3 -,
-CH2 -O-( CH2 ) 3 -Si( CH3 ) 2- ( CH2 ) 2 -Si( CH3 ) 2 -CH( CH3 ) -CH2- ,
-OCH2- ,
-O(CH 2 ) 3 -,
-OCFHCF2- ,
Examples include:

さらに別の態様において、Xは、それぞれ独立して、式:-(R16x1-(CFR17y1-(CHz1-で表される基である。式中、x1、y1及びz1は、それぞれ独立して、0~10の整数であり、x1、y1及びz1の和は1以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。 In yet another embodiment, each X 1 A is independently a group represented by the formula: -(R 16 ) x1 -(CFR 17 ) y1 -(CH 2 ) z1 -, wherein x1, y1, and z1 are each independently an integer of 0 to 10, the sum of x1, y1, and z1 is 1 or more, and the order of the repeating units enclosed in parentheses in the formula is arbitrary.

上記式中、R16は、それぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、-NR18-(式中、R18は、水素原子又は有機基を表す)又は2価の有機基である。好ましくは、R18は、酸素原子又は2価の極性基である。 In the above formula, each R 16 is independently an oxygen atom, phenylene, carbazolylene, —NR 18 — (wherein R 18 represents a hydrogen atom or an organic group), or a divalent organic group. Preferably, R 18 is an oxygen atom or a divalent polar group.

上記「2価の極性基」としては、特に限定されないが、-C(O)-、-C(=NR19)-、及び-C(O)NR19-(これらの式中、R19は、水素原子又は低級アルキル基を表す)が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、C1-6アルキル基、例えばメチル、エチル、n-プロピルであり、これらは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。 The "divalent polar group" is not particularly limited, but includes -C(O)-, -C(=NR 19 )-, and -C(O)NR 19 - (in these formulas, R 19 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). The "lower alkyl group" is, for example, a C 1-6 alkyl group such as methyl, ethyl, or n-propyl, which may be substituted with one or more fluorine atoms.

上記式中、R17は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、C1-6、好ましくはC1-3フルオロアルキル基、好ましくはC1-3パーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。 In the above formula, each R 17 is independently a hydrogen atom, a fluorine atom, or a lower fluoroalkyl group, preferably a fluorine atom. The "lower fluoroalkyl group" is, for example, a C 1-6 , preferably a C 1-3 fluoroalkyl group, preferably a C 1-3 perfluoroalkyl group, more preferably a trifluoromethyl group or a pentafluoroethyl group, and even more preferably a trifluoromethyl group.

さらに別の態様において、Xの例として、下記の基が挙げられる:
[式中、
41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、C1-6アルキル基、又はC1-6アルコキシ基好ましくはメチル基であり;
各X基において、Tのうち任意のいくつかは、分子主鎖のRF1又はRF2に結合する以下の基:
-CHO(CH-、
-CHO(CH-、
-CFO(CH-、
-(CH-、
-(CH-、
-(CH4-、
-CONH-(CH-、
-CON(CH)-(CH-、
-CON(Ph)-(CH-(式中、Phはフェニルを意味する)、又は
[式中、R42は、それぞれ独立して、水素原子、C1-6のアルキル基又はC1-6のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。]
であり、別のTのいくつかは、分子主鎖のRSiに結合し、存在する場合、残りのTは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、C1-6アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。
In yet another embodiment, examples of X A include the following groups:
[In the formula,
R 41 is independently a hydrogen atom, a phenyl group, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group;
In each XA group, any one of T's may be one of the following groups bonded to RF1 or RF2 of the molecular backbone:
-CH 2 O(CH 2 ) 2 -,
-CH 2 O(CH 2 ) 3 -,
-CF 2 O(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 2 -,
-(CH 2 ) 3 -,
-( CH2 ) 4- ,
-CONH-(CH 2 ) 3 -,
-CON( CH3 )-( CH2 ) 3- ,
-CON(Ph)-(CH 2 ) 3 - (wherein Ph means phenyl), or
[In the formula, each R 42 independently represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group or a methoxy group, and more preferably a methyl group.]
and some of the other T's are bonded to R 1 Si's in the molecular main chain, and the remaining T's, if present, are each independently a methyl group, a phenyl group, a C 1-6 alkoxy group, a radical scavenger group, or an ultraviolet absorbing group.

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、又はトリアジン類の残基が挙げられる。 The radical scavenging group is not particularly limited as long as it can capture radicals generated by light irradiation, but examples include residues of benzophenones, benzotriazoles, benzoic acid esters, phenyl salicylates, crotonic acids, malonic acid esters, organoacrylates, hindered amines, hindered phenols, or triazines.

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換及び未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレート又はアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。 The ultraviolet absorbing group is not particularly limited as long as it can absorb ultraviolet light, but examples include residues of benzotriazoles, hydroxybenzophenones, esters of substituted and unsubstituted benzoic acid or salicylic acid compounds, acrylates or alkoxycinnamates, oxamides, oxanilides, benzoxazinones, and benzoxazoles.

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基又は紫外線吸収基としては、以下の式で表される基が挙げられる。
In a preferred embodiment, preferred radical scavenging groups or ultraviolet absorbing groups include groups represented by the following formulas:

この態様において、Xは、それぞれ独立して、3~10価の有機基であり得る。 In this embodiment, each X 1 A may independently be a trivalent to decavalent organic group.

さらに別の態様において、Xの例として、下記の基が挙げられる:
[式中、R25、R26及びR27は、それぞれ独立して2~6価の有機基であり、
25は、少なくとも1つのRF1に結合し、R26及びR27は、それぞれ、少なくとも1つのRSiに結合する。]
In yet another embodiment, examples of X A include the following groups:
[In the formula, R 25 , R 26 and R 27 each independently represent a divalent to hexavalent organic group;
R25 is bonded to at least one R F1 , and R26 and R27 are each bonded to at least one R Si .

一の態様において、上記R25は、単結合、C1-20アルキレン基、C3-20シクロアルキレン基、C5-20アリーレン基、-R57-X58-R59-、-X58-R59-、又は-R57-X58-である。上記、R57及びR59は、それぞれ独立して、単結合、C1-20アルキレン基、C3-20シクロアルキレン基、又はC5-20アリーレン基である。上記X58は、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-又は-COO-である。 In one aspect, R 25 is a single bond, a C 1-20 alkylene group, a C 3-20 cycloalkylene group, a C 5-20 arylene group, -R 57 -X 58 -R 59 -, -X 58 -R 59 -, or -R 57 -X 58 -. R 57 and R 59 are each independently a single bond, a C 1-20 alkylene group, a C 3-20 cycloalkylene group, or a C 5-20 arylene group. X 58 is -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, or -COO-.

一の態様において、上記R26及びR27は、それぞれ独立して、炭化水素、又は炭化水素の端又は主鎖中にN、O及びSから選択される少なくとも1つの原子を有する基であり、好ましくは、C1-6アルキル基、-R36-R37-R36-、-R36-CHR38 -などが挙げられる。ここに、R36は、それぞれ独立して、単結合又はC1-6アルキル基、好ましくはC1-6アルキル基である。R37は、N、O又はSであり、好ましくはN又はOである。R38は、-R45-R46-R45-、-R46-R45-又は-R45-R46-である。ここに、R45は、それぞれ独立して、C1-6アルキル基である。R46は、N、O又はSであり、好ましくはOである。 In one embodiment, R 26 and R 27 are each independently a hydrocarbon or a group having at least one atom selected from N, O, and S at the end or in the main chain of the hydrocarbon, and are preferably a C 1-6 alkyl group, -R 36 -R 37 -R 36 -, -R 36 -CHR 38 2 -, etc. Here, each R 36 is independently a single bond or a C 1-6 alkyl group, preferably a C 1-6 alkyl group. R 37 is N, O, or S, preferably N or O. R 38 is -R 45 -R 46 -R 45 -, -R 46 -R 45 -, or -R 45 -R 46 -. Here, each R 45 is independently a C 1-6 alkyl group. R 46 is N, O, or S, preferably O.

上記化合物は、特に限定されるものではないが、5×10~1×10の平均分子量を有し得る。なかでも、好ましくは2,000~30,000、より好ましくは2,500~12,000の平均分子量を有することが、耐UV性及び摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本開示において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、19F-NMRにより測定される値とする。 The compound may have an average molecular weight of 5 x 10 to 1 x 10 , but is not particularly limited thereto. Among these, from the viewpoint of UV resistance and abrasion durability, it is preferable that the compound has an average molecular weight of preferably 2,000 to 30,000, more preferably 2,500 to 12,000. In this disclosure, "average molecular weight" refers to number average molecular weight, and "average molecular weight" is a value measured by 19 F-NMR.

一の態様において、化合物(A)は、好ましくは式(1)で表される化合物、より好ましくは式(1a)で表される化合物、さらに好ましくは式(1b)で表される化合物であり得、別の態様において、化合物(A)は、好ましくは式(2)で表される化合物、より好ましくは式(2a)で表される化合物、さらに好ましくは式(2b)で表される化合物でありうる。 In one aspect, compound (A) may be preferably a compound represented by formula (1), more preferably a compound represented by formula (1a), and even more preferably a compound represented by formula (1b); in another aspect, compound (A) may be preferably a compound represented by formula (2), more preferably a compound represented by formula (2a), and even more preferably a compound represented by formula (2b).

上記式(1)又は式(2)で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、5×10~1×10の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、2,000~32,000、より好ましくは2,500~12,000の平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「平均分子量」は、数平均分子量を言い、「平均分子量」は、19F-NMRにより測定される値とする。 The fluoropolyether group-containing silane compound represented by the above formula (1) or formula (2) may have an average molecular weight of 5 x 10 2 to 1 x 10 5 , but is not particularly limited thereto. Within this range, an average molecular weight of 2,000 to 32,000, more preferably 2,500 to 12,000, is preferred from the viewpoint of abrasion resistance. Note that this "average molecular weight" refers to a number average molecular weight, and the "average molecular weight" is a value measured by 19 F-NMR.

化合物(A)における、式(1)又は式(2)で表される化合物の合計の含有率は、好ましくは80質量%以上100質量%以下、より好ましくは90質量%以上100質量%以下、さらに好ましくは95質量%以上100質量%以下でありうる。 The total content of compounds represented by formula (1) or formula (2) in compound (A) is preferably 80% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, and even more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less.

(フルオロポリエーテル基及びアリルエーテル基を有する化合物(B))
上記フルオロポリエーテル基及びアリルエーテル基を有する化合物(B)は、フルオロポリエーテル基とアリルエーテル基とを有し、好ましい態様において、以下の式(3)、(4)又は(5):
F1 α-X-[ARB1 δB2 3-δβ (3)
[RB1 δB2 3-δA]γ-X-RF2-X-[ARB1 δB2 3-δγ (4)
Si γ-X-RF2-X-[ARB1 δB2 3-δγ (5)
で表される化合物(B)と、を含む、組成物。
[式中:
Aは、それぞれ独立して、C原子又はSi原子であり;
F1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-であり;
F2は、-Rf -R-O-であり;
Rfは、それぞれ独立して、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基であり;
Rfは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-6アルキレン基であり;
は、それぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0又は1であり;
qは、それぞれ独立して、0又は1であり;
B1は、-RB3-O-CH=CH-CHであり;
B2は、それぞれ独立して、-RB3-O-CHCHCH-SiRB4 εB5 3-ε及び水素原子から選ばれる1種又は2種以上であり;
B3は、それぞれ独立して、単結合又はC1-20アルキレン基であり;
B4は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
B5は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基であり;
Siは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
式(5)において、少なくとも1つのRSiは、水酸基又は加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
は、それぞれ独立して、単結合又は2~10価の有機基であり;
αは、1~9の整数であり;
βは、1~9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
δは、それぞれ独立して、1~3の整数であり;
εは、それぞれ独立して、1~3の整数である。]
で表される少なくとも1種の化合物を含む。
(Compound (B) Having a Fluoropolyether Group and an Allyl Ether Group)
The compound (B) having a fluoropolyether group and an allyl ether group has a fluoropolyether group and an allyl ether group, and in a preferred embodiment, is represented by the following formula (3), (4), or (5):
R F1 α −X A −[AR B1 δ R B2 3−δ ] β (3)
[R B1 δ R B2 3-δ A] γ -X A -R F2 -X A -[AR B1 δ R B2 3-δ ] γ (4)
R Si γ −X A −R F2 −X A −[AR B1 δ R B2 3−δ ] γ (5)
and a compound (B) represented by the formula:
[In the formula:
Each A is independently a C atom or a Si atom;
Each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -;
R F2 is —Rf 2 p —R F —O q —;
Rf 1 's each independently represent a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Each R F is independently a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
Each q is independently 0 or 1;
R B1 is —R B3 —O—CH═CH—CH 3 ;
R B2 each independently represents one or more groups selected from —R B3 —O—CH 2 CH 2 CH 2 —SiR B4 ε R B5 3-ε and a hydrogen atom;
Each R B3 is independently a single bond or a C 1-20 alkylene group;
Each R B4 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
Each R B5 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
R Si each independently represents a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent group containing a Si atom to which a monovalent organic group is bonded;
In formula (5), at least one R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is bonded;
X and A each independently represent a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer from 1 to 9;
Each δ is independently an integer from 1 to 3;
Each ε is independently an integer of 1 to 3.
The compound contains at least one compound represented by the formula:

上記化合物を含むことで、耐摩耗性が良好な膜を実現し得る。 By including the above compounds, a film with good abrasion resistance can be achieved.

上記式(3)、(4)及び(5)において、RF1、RF2、RSi、X、α、β及びγは、上記と同意義である。 In the above formulas (3), (4) and (5), R F1 , R F2 , R Si , X A , α, β and γ have the same meanings as defined above.

Aは、それぞれ独立して、C原子又はSi原子である。一態様において、Aは、C原子である。別の態様において、Aは、Si原子である。Aは、好ましくは、Si原子である。 Each A is independently a C atom or a Si atom. In one embodiment, A is a C atom. In another embodiment, A is a Si atom. A is preferably a Si atom.

B1は、それぞれ独立して、-RB3-O-CH=CH-CHである。 Each R B1 is independently —R B3 —O—CH═CH—CH 3 .

B2は、それぞれ独立して、-RB3-O-CHCHCH-SiRB4 εB5 3-ε及び水素原子から選ばれる1種又は2種以上である。一の態様において、RB2は、-RB3-O-CHCHCH-SiRB4 εB5 3-εであり得る。別の態様において、RB2は、水素原子であり得る。 Each R B2 is independently one or more selected from -R B3 -O-CH 2 CH 2 CH 2 -SiR B4 ε R B5 3-ε and a hydrogen atom. In one aspect, R B2 can be -R B3 -O-CH 2 CH 2 CH 2 -SiR B4 ε R B5 3-ε . In another aspect, R B2 can be a hydrogen atom.

上記RB3は、それぞれ独立して、単結合又はC1-20アルキレン基である。一の態様において、RB3は、好ましくは単結合であり得る。別の態様において、RB3は、好ましくはC1-20アルキレン基、より好ましくはC1-6アルキレン基であり得る。 Each R B3 is independently a single bond or a C 1-20 alkylene group. In one embodiment, R B3 is preferably a single bond. In another embodiment, R B3 is preferably a C 1-20 alkylene group, more preferably a C 1-6 alkylene group.

B4は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each R B4 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

B4は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。 Preferably, each R B4 is independently a hydrolyzable group.

B4は、好ましくは、それぞれ独立して、-OR、-OCOR、-O-N=CR 、-NR 、-NHR、-NCO、又はハロゲン(これら式中、Rは、置換又は非置換のC1-4アルキル基を示す)であり、より好ましくは-OR(即ち、アルコキシ基)である。Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基;クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Rは、メチル基であり、別の態様において、Rは、エチル基である。 R B4 is preferably, each independently, -OR j , -OCOR j , -O-N=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO, or halogen (in these formulas, R j represents a substituted or unsubstituted C 1-4 alkyl group), and more preferably -OR j (i.e., an alkoxy group). R j includes unsubstituted alkyl groups such as a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as a chloromethyl group. Among these, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and a methyl group or an ethyl group is more preferred. In one embodiment, R j is a methyl group, and in another embodiment, R j is an ethyl group.

上記RB5は、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基である。かかる1価の有機基は、上記加水分解性基を除く1価の有機基である。 Each R B5 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, excluding the hydrolyzable groups.

B5において、1価の有機基は、好ましくはC1-20アルキル基であり、より好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R B5 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and even more preferably a methyl group.

一の態様において、εは、(SiRB4 εB5 3-ε)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、より好ましくは3である。 In one embodiment, ε is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, and more preferably 3 for each (SiR B4 ε R B5 3-ε ) unit.

一の態様において、δは、(ARB1 δB2 3-δ)単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり、好ましくは2~3の整数、より好ましくは3である。 In one embodiment, δ is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, and more preferably 3 for each (AR B1 δ R B2 3-δ ) unit.

上記式(3)、式(4)又は式(5)で表される化合物(B)は、特に限定されるものではないが、5×10~1×10の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、2,000~32,000、より好ましくは2,500~12,000の平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。 The compound (B) represented by the above formula (3), formula (4), or formula (5) may have an average molecular weight of, but not limited to, 5 × 10 2 to 1 × 10 5. Within this range, it is preferable that the compound has an average molecular weight of 2,000 to 32,000, more preferably 2,500 to 12,000, from the viewpoint of wear resistance.

上記組成物において、上記組成物に含まれるRSi及びRB1の合計に対する、上記組成物に含まれるRB1の割合は、好ましくは25モル%以下、より好ましくは20モル%以下、さらに好ましくは10モル%以下であり、例えば0.1モル%以上、さらに1モル%以上であってもよい。上記割合がかかる範囲にあることで、耐摩耗性、特に柔軟な材料(例えば、消しゴム等の樹脂系材料)に対する耐摩耗性がより良好な膜を提供することが容易になり得る。 In the composition, the proportion of R 1 B1 contained in the composition relative to the total of R 1 Si and R 1 B1 contained in the composition is preferably 25 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, even more preferably 10 mol% or less, and may be, for example, 0.1 mol% or more, or even 1 mol% or more. By having the proportion in this range, it may be easier to provide a film with better abrasion resistance, particularly abrasion resistance against soft materials (for example, resin-based materials such as erasers).

上記式(3)、式(4)又は式(5)で表される化合物(B)の含有率は、上記化合物(A)と化合物(B)との合計100質量%中、好ましくは0.1質量%以上25質量%以下、より好ましくは1質量%以上20質量%以下であり得る。上記含有率がかかる範囲にあることで、耐摩耗性、特に柔軟な材料(例えば、消しゴム等の樹脂系材料)に対する耐摩耗性がより良好な膜を提供することが容易になり得る。 The content of compound (B) represented by formula (3), formula (4), or formula (5) above can be preferably 0.1% by mass or more and 25% by mass or less, and more preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, based on 100% by mass of the total of compound (A) and compound (B). Having the content within this range can make it easier to provide a film with better abrasion resistance, particularly abrasion resistance against soft materials (e.g., resin-based materials such as erasers).

上記組成物中、上記化合物(A)及び上記化合物(B)の合計の含有率は、好ましくは80質量%以上100質量%以下、より好ましくは90質量%以上100質量%以下、さらに好ましくは95質量%以上100質量%以下であり得る。 In the composition, the total content of compound (A) and compound (B) may preferably be 80% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, and even more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less.

(表面処理剤)
本開示の表面処理剤は、上記組成物を含む。上記化合物(A)及び上記化合物(B)の合計の含有率は、上記表面処理剤100質量%中、好ましくは0.02~40.0質量%、より好ましくは0.02~30.0質量%、さらに好ましくは0.04~25.0質量%、特に好ましくは0.05~20.0質量%であり得る。上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の含有量を上記の範囲にすることにより、より高い撥水撥油性を得ることができる。
本開示の組成物において、不揮発分は、組成物の全量から溶媒を除いた部分としてよい。
(Surface treatment agent)
The surface treatment agent of the present disclosure includes the above-described composition. The total content of the compound (A) and the compound (B) in the surface treatment agent (100% by mass) is preferably 0.02 to 40.0% by mass, more preferably 0.02 to 30.0% by mass, even more preferably 0.04 to 25.0% by mass, and particularly preferably 0.05 to 20.0% by mass. By setting the content of the fluoropolyether group-containing silane compound within the above range, higher water and oil repellency can be obtained.
In the composition of the present disclosure, the non-volatile content may be the portion excluding the solvent from the total amount of the composition.

(その他の成分)
本開示の表面処理剤は、さらに、含フッ素オイルとして理解され得る(非反応性の)フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物(以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う)、シリコーンオイルとして理解され得る(非反応性の)シリコーン化合物(以下、「シリコーンオイル」と言う)、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。尚、他の成分は、上記した化合物(A)及び化合物(B)とは異なる成分である。
好ましい態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイル及びシリコーンオイルから選択される1種又はそれ以上の成分をさらに含む。
(Other ingredients)
The surface treatment agent of the present disclosure may further contain a (non-reactive) fluoropolyether compound that can be understood as a fluorine-containing oil, preferably a perfluoro(poly)ether compound (hereinafter collectively referred to as "fluorine-containing oil"), a (non-reactive) silicone compound that can be understood as a silicone oil (hereinafter referred to as "silicone oil"), alcohols, catalysts, surfactants, polymerization inhibitors, sensitizers, etc. The other components are components different from the above-mentioned compound (A) and compound (B).
In a preferred embodiment, the surface treatment agent of the present disclosure further contains one or more components selected from fluorine-containing oils and silicone oils.

含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式(6)で表される化合物(パーフルオロ(ポリ)エーテル化合物)が挙げられる。
Rf-(OCa”-(OCb”-(OCc”-(OCFd”-Rf ・・・(6)
式中、Rfは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基(好ましくは、C1-16のパーフルオロアルキル基)を表し、Rfは、1個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16アルキル基(好ましくは、C1-16パーフルオロアルキル基)、フッ素原子又は水素原子を表し、Rf及びRfは、より好ましくは、それぞれ独立して、C1-3パーフルオロアルキル基である。
a”、b”、c”及びd”は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a”、b”、c”及びd”の和は30より大きく、好ましくは40~300、より好ましくは50~300である。添字a”、b”、c”又はd”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、-(OC)-は、-(OCFCFCFCF)-、-(OCF(CF)CFCF)-、-(OCFCF(CF)CF)-、-(OCFCFCF(CF))-、-(OC(CFCF)-、-(OCFC(CF)-、-(OCF(CF)CF(CF))-、-(OCF(C)CF)-及び(OCFCF(C))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCFCFCFCF)-である。-(OC)-は、-(OCFCFCF)-、-(OCF(CF)CF)-及び(OCFCF(CF))-のいずれであってもよく、好ましくは-(OCFCFCF)-である。-(OC)-は、-(OCFCF)-及び(OCF(CF))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCFCF)-である。
The fluorine-containing oil is not particularly limited, but examples thereof include compounds represented by the following general formula (6) (perfluoro(poly)ether compounds).
Rf 5 - (OC 4 F 8 ) a" - (OC 3 F 6 ) b" - (OC 2 F 4 ) c" - (OCF 2 ) d" - Rf 6 ... (6)
In the formula, Rf 5 represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted with one or more fluorine atoms, Rf 6 represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted with one or more fluorine atoms, a fluorine atom, or a hydrogen atom, and Rf 5 and Rf 6 are more preferably each independently a C 1-3 perfluoroalkyl group.
a", b", c", and d" respectively represent the number of four types of repeating units of the perfluoro(poly)ether constituting the main skeleton of the polymer, and are each independently an integer of 0 to 300, and the sum of a", b", c", and d" is greater than 30, preferably 40 to 300, and more preferably 50 to 300. The order of occurrence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscript a", b", c", or d" is arbitrary in the formula. Of these repeating units, -(OC 4 F 8 )- may be any of -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, -(OC(CF 3 ) 2 CF 2 )-, -(OCF 2 C(CF 3 ) 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF(CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 )CF 2 )- and (OCF 2 CF(C 2 F 5 ))-, but is preferably -(OCF 2 - (OC 3 F 6 )- may be any of -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) -, -(OCF(CF 3 )CF 2 )-, and (OCF 2 CF(CF 3 ) )-, and is preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-. -(OC 2 F 4 )- may be any of -(OCF 2 CF 2 )- and (OCF(CF 3 ))-, and is preferably -(OCF 2 CF 2 )-.

上記一般式(6)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物の例として、以下の一般式(6a)及び(6b)のいずれかで示される化合物(1種又は2種以上の混合物であってよい)が挙げられる。
Rf-(OCFCFCFb”-Rf ・・・(6a)
Rf-(OCFCFCFCFa”-(OCFCFCFb”-(OCFCFc”-(OCFd”-Rf ・・・(6b)
これら式中、Rf及びRfは上記の通りであり;式(6a)において、b”は1以上100以下の整数であり;式(6b)において、a”及びb”は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c”及びd”はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a”、b”、c”、d”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
Examples of the perfluoro(poly)ether compound represented by the general formula (6) include compounds represented by either of the following general formulas (6a) and (6b) (which may be one type or a mixture of two or more types):
Rf 5 - (OCF 2 CF 2 CF 2 ) b" - Rf 6 ... (6a)
Rf 5 - (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) a" - (OCF 2 CF 2 CF 2 ) b" - (OCF 2 CF 2 ) c" - (OCF 2 ) d" - Rf 6 ... (6b)
In these formulas, Rf5 and Rf6 are as defined above; in formula (6a), b" is an integer of 1 or more and 100 or less; in formula (6b), a" and b" are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, and c" and d" are each independently an integer of 1 or more and 300 or less. The order of occurrence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscripts a", b", c", and d" is arbitrary in the formula.

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Rf-F(式中、RfはC5-16パーフルオロアルキル基である。)で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。 From another viewpoint, the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf 3 -F (wherein Rf 3 is a C 5-16 perfluoroalkyl group), or may be a chlorotrifluoroethylene oligomer.

上記含フッ素オイルは、好ましくは1000以上、より好ましくは1500以上、さらに好ましくは2000以上の数平均分子量を有していてもよい。また、上記含フッ素オイルは、好ましくは30000以下、より好ましくは20000以下、さらに好ましくは10000以下の数平均分子量を有していてもよい。含フッ素オイルの分子量は、GPCを用いて測定し得る。 The above-mentioned fluorinated oil may have a number average molecular weight of preferably 1,000 or more, more preferably 1,500 or more, and even more preferably 2,000 or more. The above-mentioned fluorinated oil may also have a number average molecular weight of preferably 30,000 or less, more preferably 20,000 or less, and even more preferably 10,000 or less. The molecular weight of the fluorinated oil can be measured using GPC.

上記含フッ素オイルは、上記表面処理剤に対して、例えば0~50質量%、好ましくは0~30質量%、より好ましくは0~5質量%含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、又は極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。 The fluorinated oil may be contained in an amount of, for example, 0 to 50% by mass, preferably 0 to 30% by mass, and more preferably 0 to 5% by mass, relative to the surface treatment agent. In one embodiment, the surface treatment agent of the present disclosure is substantially free of fluorinated oil. "Substantially free of fluorinated oil" means that the agent does not contain any fluorinated oil, or may contain only trace amounts of fluorinated oil.

一の態様において、含フッ素シラン化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩耗耐久性及び高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。 In one embodiment, the number average molecular weight of the fluorinated oil may be smaller than the number average molecular weight of the fluorinated silane compound. By using such an average molecular weight, it is possible to form a cured product with high abrasion resistance and high surface slippage while suppressing a decrease in the transparency of the surface treatment layer obtained from such a compound.

含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与し得る。 Fluorinated oils can contribute to improving the surface slip properties of the layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure.

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が2,000以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。 The silicone oil may be, for example, a linear or cyclic silicone oil with 2,000 or fewer siloxane bonds. The linear silicone oil may be a so-called straight silicone oil or a modified silicone oil. Examples of straight silicone oils include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, and methylhydrogen silicone oil. Examples of modified silicone oils include straight silicone oils modified with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol, or the like. Examples of cyclic silicone oils include cyclic dimethylsiloxane oil.

本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示の含フッ素シラン化合物の合計100質量部(2種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様)に対して、例えば0~300質量部、好ましくは50~200質量部で含まれ得る。 In the surface treatment agent of the present disclosure, such silicone oil may be contained in an amount of, for example, 0 to 300 parts by mass, preferably 50 to 200 parts by mass, per 100 parts by mass of the total of the fluorine-containing silane compounds of the present disclosure (or the total of these if there are two or more types, and the same applies below).

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与し得る。 Silicone oil can help improve the surface slip properties of the surface treatment layer.

上記アルコール類としては、例えば1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~6のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、iso-プロパノール、tert-ブタノール、CFCHOH、CFCFCHOH、(CFCHOHが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、含フッ素シラン化合物と溶媒の相溶性を改善させる。 Examples of the alcohols include alcohols having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms, such as methanol, ethanol, isopropanol, tert-butanol, CF3CH2OH , CF3CF2CH2OH , and ( CF3 ) 2CHOH . Adding these alcohols to the surface treatment agent improves the stability of the surface treatment agent and also improves the compatibility of the fluorine - containing silane compound with the solvent.

上記アルコール類は、表面処理剤中、上記金属化合物に対して、モル比で、好ましくは0.1~5倍、より好ましくは0.5~3倍、さらに好ましくは0.8~1.2倍の量で含まれる。アルコール類の含有割合を上記の範囲とすることにより、表面処理層の安定性をより向上させることができる。 The alcohols are preferably contained in the surface treatment agent in an amount, by molar ratio, of 0.1 to 5 times, more preferably 0.5 to 3 times, and even more preferably 0.8 to 1.2 times the metal compound. By keeping the alcohol content within the above range, the stability of the surface treatment layer can be further improved.

上記触媒としては、酸(例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等)、塩基(例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等)、遷移金属(例えばTi、Ni、Sn等)等が挙げられる。 Examples of the catalyst include acids (e.g., acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (e.g., ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.), and transition metals (e.g., Ti, Ni, Sn, etc.).

触媒は、本開示の含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。 The catalyst promotes the hydrolysis and dehydration condensation of the fluorine-containing silane compound of the present disclosure, and promotes the formation of the layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure.

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。 Other components besides those mentioned above include, for example, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and methyltriacetoxysilane.

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。 The surface treatment agent of the present disclosure can be impregnated into a porous substance, such as a porous ceramic material, or a metal fiber, such as steel wool, and formed into pellets. These pellets can be used, for example, for vacuum deposition.

本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばPt、Rh、Ru、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、NaCl、KCl、シランの縮合物などを微量含み得る。 In addition to the components described above, the surface treatment agent disclosed herein may contain trace amounts of impurities such as Pt, Rh, Ru, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, triphenylphosphine, NaCl, KCl, and silane condensates.

(物品)
以下、本開示の物品について説明する。
(Goods)
The articles of the present disclosure are described below.

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の組成物及び/又は表面処理剤より形成された層(表面処理層)とを含む。一の態様において、本開示の物品は、基材と、該基材の表面に、本開示の組成物より形成された層とを含む。別の態様において、本開示の物品は、基材と、該基材の表面に、本開示の表面処理剤より形成された層とを含む。 The article of the present disclosure includes a substrate and a layer (surface treatment layer) formed on the surface of the substrate from the composition and/or surface treatment agent of the present disclosure. In one aspect, the article of the present disclosure includes a substrate and a layer formed on the surface of the substrate from the composition of the present disclosure. In another aspect, the article of the present disclosure includes a substrate and a layer formed on the surface of the substrate from the surface treatment agent of the present disclosure.

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂(天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい)、金属、セラミックス、半導体(シリコン、ゲルマニウム等)、繊維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。 Substrates that can be used in the present disclosure may be made of any suitable material, such as glass, resin (natural or synthetic resin, which may be a common plastic material), metal, ceramics, semiconductors (silicon, germanium, etc.), fibers (woven fabrics, nonwoven fabrics, etc.), fur, leather, wood, ceramics, stone, etc., building materials, sanitary products, etc.

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面(最外層)に何らかの層(又は膜)、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、SiO、SiO、ZrO、TiO、TiO、Ti、Ti、Al、Ta、Ta,Nb、HfO、Si、CeO、MgO、Y、SnO、MgF、WOなどが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの2種以上を組み合わせて(例えば混合物として)使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはSiO及び/又はSiOを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ(ITO)や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材(ガラス)の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層(I-CON)、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。 For example, when the article to be manufactured is an optical component, the material constituting the surface of the substrate may be a material for optical components, such as glass or transparent plastic. Also, when the article to be manufactured is an optical component, some layer (or film), such as a hard coat layer or an anti-reflection layer, may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate. The anti-reflection layer may be either a single-layer anti-reflection layer or a multi-layer anti-reflection layer. Examples of inorganic materials that can be used for the anti-reflection layer include SiO 2 , SiO , ZrO 2 , TiO 2 , TiO , Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Ta 3 O 5 , Nb 2 O 5 , HfO 2 , Si 3 N 4 , CeO 2 , MgO, Y 2 O 3 , SnO 2 , MgF 2 , WO 3 , etc. These inorganic substances may be used alone or in combination of two or more of them (for example, as a mixture). When a multilayer antireflection layer is formed, it is preferable to use SiO 2 and/or SiO 2 for the outermost layer. When the product to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, a transparent electrode, for example, a thin film using indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide, may be provided on a portion of the surface of the substrate (glass). Furthermore, the substrate may have an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomization film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase difference film, a liquid crystal display module, or the like, depending on its specific specifications.

上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。 The shape of the substrate is not particularly limited and may be, for example, a plate, a film, or other form. Furthermore, the surface region of the substrate on which the surface treatment layer is to be formed need only be at least a portion of the substrate surface, and can be determined appropriately depending on the application and specific specifications of the product to be manufactured.

一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属(特に卑金属)、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理(例えばコロナ放電)や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する(異物等を除去する)ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素-炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をLB法(ラングミュア-ブロジェット法)や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。 In one embodiment, at least the surface portion of such a substrate may be made of a material that inherently contains hydroxyl groups. Examples of such materials include glass, metals (especially base metals), ceramics, and semiconductors, which form natural or thermal oxide films on their surfaces. Alternatively, for materials such as resins, which do not inherently contain hydroxyl groups but have insufficient hydroxyl groups, or which do not inherently contain hydroxyl groups, pretreatment can be performed on the substrate to introduce or increase the number of hydroxyl groups on the surface. Examples of such pretreatment include plasma treatment (e.g., corona discharge) and ion beam irradiation. Plasma treatment can introduce or increase hydroxyl groups on the substrate surface and can also be used to clean the substrate surface (remove foreign matter, etc.). Another example of such pretreatment is a method in which an interfacial adsorbent having carbon-carbon unsaturated bond groups is first formed in the form of a monomolecular film on the substrate surface using the Langmuir-Blodgett method (LB method) or chemical adsorption method, and then the unsaturated bonds are cleaved in an atmosphere containing oxygen, nitrogen, or the like.

別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばSi-H基を1つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。 In another embodiment, at least the surface portion of such a substrate may be made of a material containing another reactive group, such as a silicone compound having one or more Si-H groups, or an alkoxysilane.

好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。 In a preferred embodiment, the substrate is glass. Examples of such glass include sapphire glass, soda-lime glass, alkali aluminosilicate glass, borosilicate glass, alkali-free glass, crystal glass, and quartz glass, with chemically strengthened soda-lime glass, chemically strengthened alkali aluminosilicate glass, and chemically bonded borosilicate glass being particularly preferred.

本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。 The article of the present disclosure can be produced by forming a layer of the surface treatment agent of the present disclosure on the surface of the substrate, and then post-treating this layer as necessary, thereby forming a layer from the surface treatment agent of the present disclosure.

本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。 The layer formation of the surface treatment agent of the present disclosure can be carried out by applying the surface treatment agent to the surface of the substrate so as to coat the surface. The coating method is not particularly limited. For example, a wet coating method or a dry coating method can be used.

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。 Examples of wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating, and similar methods.

乾燥被覆法の例としては、蒸着(通常、真空蒸着)、スパッタリング、CVD及び類似の方法が挙げられる。蒸着法(通常、真空蒸着法)の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。CVD方法の具体例としては、プラズマ-CVD、光学CVD、熱CVD及び類似の方法が挙げられる。 Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum deposition), sputtering, CVD, and similar methods. Specific examples of vapor deposition methods (usually vacuum deposition) include resistance heating, electron beam, high-frequency heating using microwaves, ion beam, and similar methods. Specific examples of CVD methods include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。 In addition, coating using atmospheric pressure plasma is also possible.

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される:炭素数5~12のパーフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ-1,3-ジメチルシクロヘキサン);ポリフルオロ芳香族炭化水素(例えば、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン);ポリフルオロ脂肪族炭化水素(例えば、C13CHCH(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AC-6000)、1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタン(例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ(登録商標)H);ヒドロフルオロエーテル(HFE)(例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル(COCH)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7000)、パーフルオロブチルメチルエーテル(COCH)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7100)、パーフルオロブチルエチルエーテル(COC)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7200)、パーフルオロヘキシルメチルエーテル(CCF(OCH)C)(例えば、住友スリーエム株式会社製のNovec(商標)7300)などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル(パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい)、あるいはCFCHOCFCHF(例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン(登録商標)AE-3000))など。これらの溶媒は、単独で、又は、2種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル(COCH)及び/又はパーフルオロブチルエチルエーテル(COC)が特に好ましい。 When using a wet coating method, the surface treatment agent of the present disclosure can be diluted with a solvent and then applied to the surface of a substrate. From the viewpoint of the stability of the composition of the present disclosure and the volatility of the solvent, the following solvents are preferably used: perfluoroaliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (e.g., perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane, and perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (e.g., bis(trifluoromethyl)benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (e.g., C 6 F 13 CH 2 CH 3 (e.g., Asahiklin (registered trademark) AC-6000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (e.g., Zeorora (registered trademark) H manufactured by Zeon Corporation); hydrofluoroethers (HFEs) (e.g., perfluoropropyl methyl ether (C 3 F 7 OCH 3 ) (e.g., Novec (trademark) 7000 manufactured by Sumitomo 3M Limited), perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) (e.g., Novec™ 7100 manufactured by Sumitomo 3M Limited), perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 OC 2 H 5 ) (e.g., Novec™ 7200 manufactured by Sumitomo 3M Limited), perfluorohexyl methyl ether (C 2 F 5 CF(OCH 3 )C 3 F 7 ) (e.g., Novec™ 7300 manufactured by Sumitomo 3M Limited), etc. (the perfluoroalkyl group and the alkyl group may be linear or branched), or CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 (e.g., Asahiklin™ AE-3000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). These solvents can be used alone or as a mixture of two or more. Among them, hydrofluoroethers are preferred, and perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) and/or perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 OC 2 H 5 ) are particularly preferred.

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。 When using the dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure may be subjected to the dry coating method as is, or may be diluted with the above-mentioned solvent before being subjected to the dry coating method.

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着(通常、真空蒸着)処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着(通常、真空蒸着)処理をしてもよい。 The layer of the surface treatment agent is preferably formed so that the surface treatment agent of the present disclosure is present in the layer together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation. Conveniently, when using the wet coating method, the surface treatment agent of the present disclosure may be diluted with a solvent, and then the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present disclosure immediately before application to the substrate surface. When using the dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst has been added may be directly vapor-deposited (usually vacuum vapor-deposited), or a pellet-shaped material impregnated with the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst has been added may be vapor-deposited (usually vacuum vapor-deposited) onto a porous metal such as iron or copper.

触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。 Any suitable acid or base can be used as the catalyst. Examples of acid catalysts that can be used include acetic acid, formic acid, and trifluoroacetic acid. Examples of base catalysts that can be used include ammonia and organic amines.

本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性(例えば指紋等の汚れの付着を防止する)、防水性(電子部品等への水の浸入を防止する)、表面滑り性(又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感)、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。 The surface treatment layer included in the article of the present disclosure has both high abrasion resistance and excellent abrasion resistance. Furthermore, in addition to high abrasion resistance, depending on the composition of the surface treatment agent used, the surface treatment layer may also have water repellency, oil repellency, stain resistance (for example, preventing the adhesion of stains such as fingerprints), waterproofing (preventing water from penetrating into electronic components, etc.), surface slipperiness (or lubricity, for example, ease of wiping off stains such as fingerprints and excellent tactile feel), chemical resistance, etc., making it suitable for use as a functional thin film.

従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。 Accordingly, the present disclosure also relates to an optical material having the above-described surface treatment layer as its outermost layer.

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる:例えば、陰極線管(CRT;例えば、パソコンモニター)、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機薄膜ELドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管(VFD)、電界放出ディスプレイ(FED;Field Emission Display)などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。 Preferred optical materials include optical materials related to displays, etc., such as those exemplified below, as well as a wide variety of other optical materials: for example, displays such as cathode ray tubes (CRTs; e.g., personal computer monitors), liquid crystal displays, plasma displays, organic electroluminescent displays, inorganic thin-film electroluminescent dot matrix displays, rear projection displays, vacuum fluorescent displays (VFDs), and field emission displays (FEDs), as well as protective plates for such displays, or displays with anti-reflection coatings applied to their surfaces.

本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる:眼鏡などのレンズ;PDP、LCDなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板;携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート;ブルーレイ(Blu-ray(登録商標))ディスク、DVDディスク、CD-R、MOなどの光ディスクのディスク面;光ファイバー;時計の表示面など。 The article of the present disclosure may be, but is not limited to, an optical component. Examples of optical components include: lenses for eyeglasses and the like; front protective plates, anti-reflection plates, polarizing plates, and anti-glare plates for displays such as PDPs and LCDs; touch panel sheets for devices such as mobile phones and personal digital assistants; disc surfaces for optical discs such as Blu-ray (registered trademark) discs, DVD discs, CD-Rs, and MO discs; optical fibers; and the display surfaces of watches and clocks.

また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。 The article of the present disclosure may also be a medical device or medical material.

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、1~50nm、1~30nm、好ましくは1~15nmの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。 The thickness of the above layer is not particularly limited. In the case of optical components, the thickness of the above layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, 1 to 30 nm, and preferably 1 to 15 nm, from the viewpoints of optical performance, abrasion resistance, and anti-fouling properties.

以上、本開示の物品について詳述した。なお、本開示の物品及び物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。 The articles of the present disclosure have been described in detail above. Note that the articles and methods for manufacturing the articles of the present disclosure are not limited to those exemplified above.

以下の実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、本実施例において、フルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意であり、以下に示される化学式は平均組成を示す。 The present invention will be explained in more detail using the following examples, but the present invention is not limited to these examples. Note that in these examples, the repeating units that make up the fluoropolyether may be present in any order, and the chemical formula shown below represents the average composition.

(合成例1)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)26(CF2O)26CF2CH2OCH2CH=CH2(ただし、混合物中には(CF2CF2CF2O)および/または(CF2CF2CF2CF2O)の繰り返し単位を微量含む化合物も含まれるが、極微量のため考慮していない)で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルオキシ体20g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン20g、トリクロロシラン1.36gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニルー1,1、3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.094mL加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて5時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却した後、減圧下で揮発分を留去した。そして、この混合物を1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン5gに溶解させ、シリカゲルを充填したショートカラムにチャージした後に、溶離液として1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン40gを流した。溶出液を濃縮し、末端にアリル基を有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B1)8gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(B1):
CF3O(CF2CF2O)26(CF2O)26CF2CH2O CH=CHCH3
(Synthesis Example 1)
A 100 mL four-neck flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer was charged with 20 g of a perfluoropolyether-modified allyloxy compound having the average composition CF3O(CF2CF2O)26(CF2O ) 26CF2CH2OCH2CH = CH2 ( note that the mixture also contains compounds containing trace amounts of repeating units of ( CF2CF2CF2O ) and / or ( CF2CF2CF2CF2O ), but these are not taken into account due to their extremely small amounts), 20 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 1.36 g of trichlorosilane, and the mixture was stirred at 5°C for 30 minutes under a nitrogen stream. Subsequently, 0.094 mL of a xylene solution containing 2% Pt complex of 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added, and the mixture was heated to 60°C and stirred at this temperature for 5 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, and the volatiles were distilled off under reduced pressure. This mixture was then dissolved in 5 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene and charged into a short column packed with silica gel, followed by the passage of 40 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene as an eluent. The eluate was concentrated to obtain 8 g of a perfluoropolyether group-containing allyl compound (B1) having an allyl group at its terminal, as shown in the following formula:
Perfluoropolyether group-containing allyl compound (B1):
CF 3 O (CF 2 CF 2 O) 26 (CF 2 O) 26 CF 2 CH 2 O CH=CHCH 3

(合成例2)
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH=CH2で表されるパーフルオロポリエーテル変性アリルオキシ体20g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン20g、トリアセトキシメチルシラン0.06g、トリクロロシラン1.36gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.094ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて5時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A1)19gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A1):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2SiCl3
(Synthesis Example 2)
A 100 mL four-neck flask equipped with a reflux condenser, thermometer , and stirrer was charged with 20 g of a perfluoropolyether-modified allyloxy compound represented by the average composition CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH = CH2 , 20 g of 1,3 -bis(trifluoromethyl)benzene, 0.06 g of triacetoxymethylsilane, and 1.36 g of trichlorosilane, and the mixture was stirred for 30 minutes at 5°C under a nitrogen stream. Subsequently, 0.094 ml of a xylene solution containing 2 % Pt complex of 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added, and the mixture was heated to 60°C and stirred at this temperature for 5 hours. Thereafter, volatiles were distilled off under reduced pressure to obtain 19 g of a perfluoropolyether group-containing silane compound (A1) of the following formula having trichlorosilane at the end:
Perfluoropolyether group-containing silane compound (A1):
CF 3 CF 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 CF 2 O) 20 CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 SiCl 3

還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、上記末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(A1)19g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン20gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを0.7mol/L含むジエチルエーテル溶液を26.4mL加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて10時間撹拌した。その後、5℃まで冷却し、メタノールを5mL加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作(より詳細には、パーフルオロヘキサン相(フルオラス相)にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相(有機相)に非フルオロ系化合物を分離除去する操作)を3回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(A2)20gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリル体(A2):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si(CH2CH=CH2)3
A 100 mL four-neck flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a stirrer was charged with 19 g of the perfluoropolyether group-containing trichlorosilane compound (A1) having trichlorosilane at the terminal and 20 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and the mixture was stirred at 5 ° C. for 30 minutes under a nitrogen stream. Subsequently, 26.4 mL of a diethyl ether solution containing 0.7 mol/L of allyl magnesium bromide was added, and the mixture was heated to room temperature and stirred at this temperature for 10 hours. Thereafter, the mixture was cooled to 5 ° C., 5 mL of methanol was added, and the mixture was heated to room temperature and filtered to remove insoluble matter. Subsequently, the volatiles were distilled off under reduced pressure, and the non-volatiles were diluted with perfluorohexane and washed with methanol in a separatory funnel (more specifically, an operation of maintaining fluoro-based compounds in the perfluorohexane phase (fluorous phase) and separating and removing non-fluoro-based compounds in the methanol phase (organic phase)) three times. Subsequently, the volatile matter was distilled off under reduced pressure to obtain 20 g of the following perfluoropolyether group-containing allyl compound (A2) having an allyl group at the terminal.
Perfluoropolyether group-containing allyl compound (A2):
CF 3 CF 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 CF 2 O) 20 CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si(CH 2 CH=CH 2 ) 3

還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、上記末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体(A2)15g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15g、トリアセトキシメチルシラン0.05g、トリクロロシラン3.15gを仕込み、窒素気流下、5℃で30分間撹拌した。続いて、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.141ml加えた後、60℃まで昇温させ、この温度にて5時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(A3)16gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(A3):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si(CH2CH2CH2SiCl3)3
A 100 mL four-neck flask equipped with a reflux condenser, thermometer, and stirrer was charged with 15 g of the perfluoropolyether group-containing allyl compound (A2) having an allyl group at the terminal, 15 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, 0.05 g of triacetoxymethylsilane, and 3.15 g of trichlorosilane, and the mixture was stirred for 30 minutes at 5 ° C. under a nitrogen stream. Subsequently, 0.141 ml of a xylene solution containing 2% Pt complex of 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added, and the mixture was heated to 60 ° C. and stirred at this temperature for 5 hours. Thereafter, volatiles were distilled off under reduced pressure to obtain 16 g of the following perfluoropolyether group-containing trichlorosilane compound (A3) having trichlorosilane at the terminal.
Perfluoropolyether group-containing trichlorosilane compound (A3):
CF 3 CF 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 CF 2 O) 20 CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si(CH 2 CH 2 CH 2 SiCl 3 ) 3

還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、上記末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物(A3)16g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン15gを加え、窒素気流下、50℃で30分間撹拌した。続いて、メタノール0.78gとオルソギ酸トリメチル36gの混合溶液を加えた後、65℃まで昇温させ、この温度にて3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A4)17gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(A4):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
Into a 100 mL four-neck flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, and a stirrer, 16 g of the perfluoropolyether group-containing trichlorosilane compound (A3) having trichlorosilane at the terminal and 15 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene were added, and the mixture was stirred at 50°C for 30 minutes under a nitrogen stream. Subsequently, a mixed solution of 0.78 g of methanol and 36 g of trimethyl orthoformate was added, and the mixture was heated to 65°C and stirred at this temperature for 3 hours. Thereafter, volatiles were distilled off under reduced pressure to obtain 17 g of the following perfluoropolyether group-containing silane compound (A4) having a trimethylsilyl group at the terminal.
Perfluoropolyether group-containing silane compound (A4):
CF 3 CF 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 CF 2 O) 20 CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si[CH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 3 ) 3 ] 3

(実施例1~6及び比較例1)
合成例1で得られた化合物(B1)、及び、合成例2で得られた化合物(A4)を、化合物(B1)の割合が表1に示す値となるように混合して、組成物を調製した。該組成物において、化合物(B1)の割合(モル%)は、RSi及びRB1の合計に対する、RB1の割合に該当する。
(Examples 1 to 6 and Comparative Example 1)
A composition was prepared by mixing the compound (B1) obtained in Synthesis Example 1 and the compound (A4) obtained in Synthesis Example 2 so that the proportion of the compound (B1) was the value shown in Table 1. In the composition, the proportion (mol %) of the compound (B1) corresponds to the proportion of R 1 B1 to the total of R 1 Si and R 1 B1 .

上記組成物を、その濃度(化合物(B1)及び化合物(A4)の合計の濃度)が20質量%になるように、ハイドロフルオロエーテル(スリーエム社製、ノベックHFE7200)に溶解させて、表面処理剤を調製した。 The above composition was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE7200, manufactured by 3M) so that the concentration (total concentration of compound (B1) and compound (A4)) was 20% by mass, to prepare a surface treatment agent.

上記で調製した表面処理剤を化学強化ガラス(コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ0.7mm)上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力3.0×10-3Paとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を7nmの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス1枚(55mm×100mm)あたり、表面処理剤2mg(即ち、化合物(B1)及び化合物(A4)の合計0.4mg含有)を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度20℃および湿度65%の雰囲気下で24時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。 The surface treatment agent prepared above was vacuum-deposited onto chemically strengthened glass (Corning "Gorilla" glass, thickness 0.7 mm). The vacuum deposition treatment conditions were a pressure of 3.0 × 10 -3 Pa. First, silicon dioxide was deposited on the surface of this chemically strengthened glass to a thickness of 7 nm using an electron beam deposition method to form a silicon dioxide film. Subsequently, 2 mg of the surface treatment agent (i.e., containing a total of 0.4 mg of compound (B1) and compound (A4)) was deposited per piece of chemically strengthened glass (55 mm × 100 mm). The chemically strengthened glass with the deposited film was then left to stand for 24 hours in an atmosphere at a temperature of 20 ° C and a humidity of 65%. This hardened the deposited film, forming a surface treatment layer.

上記の実施例および比較例にて基材表面に形成された表面処理層について、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角は、接触角測定装置(協和界面科学社製)を用いて、水1μLにて実施した。
まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した(摩擦回数 ゼロ回)。その後、摩擦耐久性評価として、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール(番手♯0000、寸法5mm×10mm×10mm)を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に1,000gfの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを140mm/秒の速度で往復させた。往復回数1,000回毎に水の静的接触角(度)を測定し、接触角の測定値が100度を維持したときの最大の往復回数を摩耗耐久性の指標とした。
結果を表1及び表2に示す。
The static contact angle of water was measured for the surface treatment layers formed on the substrate surfaces in the above examples and comparative examples using a contact angle measuring device (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) with 1 μL of water.
First, as an initial evaluation, after the formation of the surface treatment layer, the static contact angle of water was measured without any contact with the surface (number of frictions: 0). Then, as an evaluation of friction durability, steel wool friction durability was evaluated. Specifically, the substrate on which the surface treatment layer was formed was placed horizontally, and steel wool (number #0000, dimensions 5 mm x 10 mm x 10 mm) was brought into contact with the exposed upper surface of the surface treatment layer, and a load of 1,000 gf was applied thereon. Then, with the load applied, the steel wool was reciprocated at a speed of 140 mm/sec. The static contact angle of water (degrees) was measured every 1,000 reciprocations, and the maximum number of reciprocations at which the measured contact angle maintained 100 degrees was used as an index of abrasion durability.
The results are shown in Tables 1 and 2.

実施例1~6は、本開示の実施例であり、これらの組成物から得られる膜は、耐摩耗性が良好であることが確認された。
比較例1は、化合物(B)を含まない例であり、初期の対水接触角は良好であったものの、耐摩耗性は実施例1~6に及ばなかった。
Examples 1 to 6 are examples of the present disclosure, and it was confirmed that the films obtained from these compositions had good abrasion resistance.
Comparative Example 1 is an example that does not contain the compound (B), and although the initial water contact angle was good, the abrasion resistance was not as good as that of Examples 1-6.

本開示の物品は、種々多様な用途、例えばタッチパネル等の光学部材として好適に利用され得る。 The articles disclosed herein can be suitably used in a wide variety of applications, such as optical components for touch panels and the like.

Claims (6)

フルオロポリエーテル基を有するシラン化合物(A)と、
フルオロポリエーテル基及び-O-CH=CH-CHを有する化合物(B)
と、を含み、
前記シラン化合物(A)は、式(1a):
F1-X-RSi (1a)
[式中:
F1、R-R-O-であり;
Rf、C 1-16 パーフルオロアルキル基であり;
は、-(OC 12 -(OC 10 -(OC -(OC Fa -(OC -(OCF であり;
Fa は、それぞれ独立して、フッ素原子であり、
a、b、c、d、e及びfは、それぞれ独立して、0~200の整数であって、a、b、c、d、e及びfの和は1以上であり、a、b、c、d、e又はfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり;
qは、0又は1であり
Siは、下記式(S3):
-SiR a1 k1 b1 l1 c1 m1 (S3)
[式中、
a1 は、それぞれ独立して、-Z -SiR 22 q1 23 r1 を表し;
は、それぞれ独立して、C 1-6 アルキレン基又は-(CH z3 -フェニレン-(CH z4 -を表し、以下Z として記載する構造は、右側が(SiR 22 q1 23 r1 )に結合し;
22 は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を表し;
23 は、それぞれ独立して、水素原子又はC 1-6 アルキル基を表し;
q1は、(SiR 22 q1 23 r1 )単位毎にそれぞれ独立して、1~3の整数であり;
b1 は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を表し;
c1 は、それぞれ独立して、水素原子又はC 1-6 アルキル基を表し;
k1は、それぞれ独立して、1~3の整数であり、l1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、m1は、それぞれ独立して、0~3の整数であり、k1、l1とm1の合計は、(SiR a1 k1 b1 l1 c1 m1 )単位において、3である。]
で表される基であり、-O-CH=CH-CHを含まず;
、単結合又は下記式:
-R 51 -X 53 -R 52
[式中:
51は、単結合、-(CHs5-又はo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し
s5は、1~20の整数であり、
53 は、-O-、-S-、-C(O)O-、-CONR 54 -、-O-CONR 54 -、-Si(R 53 -、-(Si(R 53 O) m5 -Si(R 53 -、-O-(CH u5 -(Si(R 53 O) m5 -Si(R 53 -、-O-(CH u5 -Si(R 53 -O-Si(R 53 -CH CH -Si(R 53 -O-Si(R 53 -、-O-(CH u5 -Si(OCH OSi(OCH -、-CONR 54 -(CH u5 -(Si(R 53 O) m5 -Si(R 53 -、-CONR 54 -(CH u5 -N(R 54 )-、又は-CONR 54 -(o-、m-又はp-フェニレン)-Si(R 53 -を表し、
53は、それぞれ独立して、フェニル基、C1-6アルキル基又はC1-6アルコキシ基を表し
54は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はC1-6アルキル基を表し、
m5は、それぞれ独立して、1~100の整数であり、
u5は、それぞれ独立して、1~20の整数であり、
52 は、単結合、-(CH t5 -又はo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、
t5は、1~20の整数である。]
で表される基である。]
で表され
前記化合物(B)は、以下の式(3):
-[ARB1 δB2 3-δ (3)
[式中:
Aは、それぞれ独立して、C原子又はSi原子であり;
F1は、それぞれ独立して、Rf-R-O-であり;
Rfは、それぞれ独立して、C1-16 パーフルオロアルキル基であり;
は、それぞれ独立して、-(OC 12 -(OC 10 -(OC -(OC Fa -(OC -(OCF 基であり;
Fa は、それぞれ独立して、フッ素原子であり、
a、b、c、d、e及びfは、それぞれ独立して、0~200の整数であって、a、b、c、d、e及びfの和は1以上であり、a、b、c、d、e又はfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり;
qは、それぞれ独立して、0又は1であり;
B1は、-RB3-O-CH=CH-CHであり;
B2は、それぞれ独立して、-RB3-O-CHCHCH-SiRB4 εB5 3-ε及び水素原子から選ばれる1種又は2種以上であり;
B3は、それぞれ独立して、単結合又はC1-20アルキレン基であり;
B4は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり;
B5は、それぞれ独立して、水素原子又は 1-6 アルキル基であり;
、単結合又は下記式:
-R 51 -X 53 -R 52
[式中:
51 は、単結合、-(CH s5 -又はo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し
s5は、1~20の整数であり、
53 は、-O-、-S-、-C(O)O-、-CONR 54 -、-O-CONR 54 -、-Si(R 53 -、-(Si(R 53 O) m5 -Si(R 53 -、-O-(CH u5 -(Si(R 53 O) m5 -Si(R 53 -、-O-(CH u5 -Si(R 53 -O-Si(R 53 -CH CH -Si(R 53 -O-Si(R 53 -、-O-(CH u5 -Si(OCH OSi(OCH -、-CONR 54 -(CH u5 -(Si(R 53 O) m5 -Si(R 53 -、-CONR 54 -(CH u5 -N(R 54 )-、又は-CONR 54 -(o-、m-又はp-フェニレン)-Si(R 53 -を表し、
53 は、それぞれ独立して、フェニル基、C 1-6 アルキル基又はC 1-6 アルコキシ基を表し、
54 は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はC 1-6 アルキル基を表し、
m5は、それぞれ独立して、1~100の整数であり、
u5は、それぞれ独立して、1~20の整数であり、
52 は、単結合、-(CH t5 -又はo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、
t5は、1~20の整数である。]
で表される基であり;
δは、それぞれ独立して、1~3の整数であり;
εは、それぞれ独立して、1~3の整数である。
で表される少なくとも1種の化合物ただし、化合物(A)と化合物(B)とは異なる)を含み、
式(3)を含む化合物(B)の含有率は、化合物(A)と化合物(B)との合計100質量%中、0.1質量%以上25質量%以下であり、
Si及びRB1の合計に対するRB1の割合が、25モル%以下であり、
前記化合物(A)及び前記化合物(B)の合計の含有率が、80質量%以上100質量%以下である、組成物。
a silane compound (A) having a fluoropolyether group;
Compound (B) having a fluoropolyether group and —O—CH═CH— CH3
and,
The silane compound (A) is represented by the formula (1a):
R F1 -X A -R Si (1a)
[In the formula:
R F1 is R f 1 -R F -O q -;
Rf 1 is a C 1-16 perfluoroalkyl group;
R F is -(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 R Fa 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - ;
Each R Fa is independently a fluorine atom;
a, b, c, d, e, and f each independently represent an integer of 0 to 200, the sum of a, b, c, d, e, and f is 1 or more, and the order of the repeating units enclosed in parentheses with a, b, c, d, e, or f is arbitrary in the formula;
q is 0 or 1 ;
R Si is represented by the following formula (S3):
-SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 (S3)
[In the formula,
Each R a1 independently represents -Z 1 -SiR 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 's each independently represent a C 1-6 alkylene group or —(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 —, and the right side of the structure hereinafter described as Z 1 is bonded to (SiR 22 q1 R 23 r1 );
R 22 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 independently represents a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group;
q1 is independently an integer of 1 to 3 for each (SiR 22 q1 R 23 r1 ) unit;
R b1 each independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
Each R c1 independently represents a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group;
Each k1 is independently an integer of 1 to 3, each l1 is independently an integer of 0 to 3, and each m1 is independently an integer of 0 to 3, and the sum of k1, l1, and m1 is 3 in the (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ) unit.
and does not contain —O—CH═CH— CH3 ;
XA is a single bond or a group represented by the following formula:
-R 51 -X 53 -R 52 -
[In the formula:
R 51 represents a single bond, —(CH 2 ) s5 —, or an o-, m-, or p-phenylene group, and s5 represents an integer of 1 to 20;
X 53 is -O-, -S-, -C(O)O-, -CONR 54 -, -O-CONR 54 -, -Si(R 53 ) 2 -, -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -, -O-(CH 2 ) u5 -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -, -O-(CH 2 ) u5 -Si(R 53 ) 2 -O-Si(R 53 ) 2 -CH 2 CH 2 -Si(R 53 ) 2 -O-Si(R 53 ) 2 -, -O-(CH 2 ) u5 -Si(OCH 3 ) 2 OSi(OCH 3 ) 2 -, -CONR 54 -(CH 2 ) u5 -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -, -CONR 54 -(CH 2 ) u5 -N(R 54 )-, or -CONR 54 -(o-, m-, or p-phenylene)-Si(R 53 ) 2 -;
R 53 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group ;
R 54 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group;
m5 each independently represents an integer of 1 to 100;
Each u5 is independently an integer from 1 to 20,
R 52 represents a single bond, —(CH 2 ) t5 —, or an o-, m-, or p-phenylene group;
t5 is an integer from 1 to 20 .
is a group represented by the following formula:
is expressed as
The compound (B) is represented by the following formula (3):
R F 1 - X A - [AR B1 δ R B2 3-δ ] (3)
[In the formula:
Each A is independently a C atom or a Si atom;
Each R F1 is independently Rf 1 -R F -O q -;
Each Rf 1 is independently a C 1-16 perfluoroalkyl group;
Each R F is independently a -(OC 6 F 12 ) a -(OC 5 F 10 ) b -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 R Fa 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - group;
Each R Fa is independently a fluorine atom;
a, b, c, d, e, and f each independently represent an integer of 0 to 200, the sum of a, b, c, d, e, and f is 1 or more, and the order of the repeating units enclosed in parentheses with a, b, c, d, e, or f is arbitrary in the formula;
Each q is independently 0 or 1;
R B1 is —R B3 —O—CH═CH—CH 3 ;
R B2 each independently represents one or more groups selected from —R B3 —O—CH 2 CH 2 CH 2 —SiR B4 ε R B5 3-ε and a hydrogen atom;
Each R B3 is independently a single bond or a C 1-20 alkylene group;
Each R B4 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
Each R B5 is independently a hydrogen atom or a C 1-6 alkyl group ;
XA is a single bond or a group represented by the following formula:
-R 51 -X 53 -R 52 -
[In the formula:
R 51 represents a single bond, —(CH 2 ) s5 —, or an o-, m-, or p-phenylene group;
s5 is an integer from 1 to 20,
X 53 is -O-, -S-, -C(O)O-, -CONR 54 -, -O-CONR 54 -, -Si(R 53 ) 2 -, -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -, -O-(CH 2 ) u5 -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -, -O-(CH 2 ) u5 -Si(R 53 ) 2 -O-Si(R 53 ) 2 -CH 2 CH 2 -Si(R 53 ) 2 -O-Si(R 53 ) 2 -, -O-(CH 2 ) u5 -Si(OCH 3 ) 2 OSi(OCH 3 ) 2 -, -CONR 54 -(CH 2 ) u5 -(Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -, -CONR 54 -(CH 2 ) u5 -N(R 54 )-, or -CONR 54 -(o-, m-, or p-phenylene)-Si(R 53 ) 2 -;
R 53 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group, or a C 1-6 alkoxy group;
R 54 each independently represents a hydrogen atom, a phenyl group, or a C 1-6 alkyl group;
m5 each independently represents an integer of 1 to 100;
Each u5 is independently an integer from 1 to 20,
R 52 represents a single bond, —(CH 2 ) t5 —, or an o-, m-, or p-phenylene group;
t5 is an integer from 1 to 20.
is a group represented by
Each δ is independently an integer from 1 to 3;
Each ε is independently an integer of 1 to 3.
( provided that the compound (A) and the compound (B) are different ),
the content of the compound (B) containing the formula (3) is 0.1 mass% or more and 25 mass% or less, relative to 100 mass% of the total of the compound (A) and the compound (B),
the proportion of R B1 to the total of R Si and R B1 is 25 mol % or less;
The composition, wherein the total content of the compound (A) and the compound (B) is 80% by mass or more and 100% by mass or less.
請求項1に記載の組成物を含む、表面処理剤。 A surface treatment agent comprising the composition of claim 1. 含フッ素オイル及びシリコーンオイルから選択される1種又はそれ以上の成分をさらに含む、請求項2に記載の表面処理剤。 The surface treatment agent according to claim 2, further comprising one or more components selected from fluorinated oils and silicone oils. 防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、請求項2に記載の表面処理剤。 The surface treatment agent according to claim 2, which is used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent. 基材と、該基材の表面に、請求項1に記載の組成物より形成された層とを含む物品。 An article comprising a substrate and a layer formed on the surface of the substrate from the composition described in claim 1. 基材と、該基材の表面に、請求項2~4のいずれか1項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。 An article comprising a substrate and a layer formed on the surface of the substrate using the surface treatment agent described in any one of claims 2 to 4.
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