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JP7780180B2 - Titanosilicate and its manufacturing method, method for oxidizing phenols, and method for manufacturing dihydric phenols - Google Patents
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JP7780180B2 - Titanosilicate and its manufacturing method, method for oxidizing phenols, and method for manufacturing dihydric phenols - Google Patents

Titanosilicate and its manufacturing method, method for oxidizing phenols, and method for manufacturing dihydric phenols

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Description

本発明は、チタノシリケートとその製造方法、フェノール類の酸化方法、および二価フェノールの製造方法に関する。 The present invention relates to a titanosilicate and a method for producing the same, a method for oxidizing phenols, and a method for producing dihydric phenols.

アルミノシリケートMCM-68は、Mobil社により最初に合成された比較的新しいゼオライトである(特許文献1)。このゼオライトは、大細孔(12員環細孔)や中細孔(10員環細孔)が三次元的に交わった構造を有している。このタイプのゼオライトは、一般に広い表面積と大きな内部空間を有するので、石油精製や石油化学プロセスにおける触媒として、また、比較的嵩高い有機分子を基質とする触媒として、有用とされている。 The aluminosilicate MCM-68 is a relatively new zeolite first synthesized by Mobil (Patent Document 1). This zeolite has a structure in which large pores (12-membered ring pores) and medium pores (10-membered ring pores) intersect three-dimensionally. This type of zeolite generally has a large surface area and large internal space, making it useful as a catalyst in oil refining and petrochemical processes, as well as for catalysts using relatively bulky organic molecules as substrates.

MCM-68は、Si/Al比が9~12であることから、Al含有量、つまり活性点が比較的多く、さらに安定であるため、酸触媒として検討されている。また、MCM-68は、炭化水素の吸着能力が高く、それが関与する反応、例えば芳香族炭化水素のアルキル化やアルキル芳香族炭化水素のトランスアルキル化、異性化、不均化、脱アルキル化などにおいて高い活性を示す。そのため、MCM-68は、炭化水素転換反応用触媒の基盤材料として期待されている。 MCM-68 has a Si/Al ratio of 9 to 12, meaning it has a relatively high Al content, i.e., a relatively high number of active sites, and is therefore stable, making it suitable for use as an acid catalyst. Furthermore, MCM-68 has a high hydrocarbon adsorption capacity and exhibits high activity in reactions involving these compounds, such as the alkylation of aromatic hydrocarbons and the transalkylation, isomerization, disproportionation, and dealkylation of alkylaromatic hydrocarbons. For this reason, MCM-68 is expected to be a base material for catalysts used in hydrocarbon conversion reactions.

FAU型トポロジーを有するゼオライト(FAU型アルミノシリケート、)は、CHA、AEI、AFX、ERI等の8員環ゼオライトを合成する際の出発原料として知られている。FAU型アルミノシリケートは、その合成に構造規定剤を必要とせず、低コストで得られるため、工業的に広く用いられている。 Zeolites with the FAU topology (FAU aluminosilicates) are known as starting materials for synthesizing 8-membered ring zeolites such as CHA, AEI, AFX, and ERI. FAU aluminosilicates are widely used industrially because they do not require structure-directing agents for synthesis and can be obtained at low cost.

FAU型アルミノシリケートは、含有するシリコン、アルミニウムの含有比率(Si/Al)が2より小さいX型ゼオライトと、2より大きいY型ゼオライトに分類される。X型ゼオライトは、例えば、高いイオン交換容量および親水性を有する吸着剤として用いることができる。Y型ゼオライトは、例えば、石油化学産業における流動接触分解の固体酸触媒として用いることができる。 FAU-type aluminosilicates are classified into X-type zeolites, which have a silicon-to-aluminum content ratio (Si/Al) of less than 2, and Y-type zeolites, which have a silicon-to-aluminum content ratio (Si/Al) of more than 2. X-type zeolites can be used, for example, as adsorbents with high ion exchange capacity and hydrophilicity. Y-type zeolites can be used, for example, as solid acid catalysts for fluid catalytic cracking in the petrochemical industry.

一般的なゼオライトは、Si/Alが高くなるにつれて安全性が向上することから、比較的Alが少ないY型ゼオライトが、高温条件下で安定した固体酸触媒として用いられている。Y型ゼオライトに対して水蒸気処理および酸処理を行い、アルミニウムを除去することにより、安定性をさらに向上させたゼオライトが得られる。得られたゼオライトは、USY(Ultra Stable Y)型ゼオライトと呼ばれ、工業的に重要な触媒となっている。 Since the safety of general zeolites improves as the Si/Al ratio increases, Y-type zeolites, which have a relatively low Al content, are used as solid acid catalysts that are stable under high-temperature conditions. By treating Y-type zeolites with steam and acid to remove the aluminum, zeolites with even greater stability can be obtained. The resulting zeolites are called USY (Ultra Stable Y)-type zeolites, and are important industrial catalysts.

一方、チタニウムシリカライト-1(TS-1)は、チタノシリケート系ゼオライトの代表であり、有機化合物の酸化反応等の触媒として、高い活性と選択率を示すことが知られている(特許文献2)。TS-1のような高い触媒活性を有するゼオライトを合成するための手法として、例えば、脱アルミニウムモルデナイトを高温のTiClの蒸気で処理することにより、ゼオライトにチタンを導入する技術が知られている(非特許文献1)。また、MCM-68を構成するアルミニウムをチタンに置き換えることにより、TS-1と同等またはそれ以上の触媒性能を有するチタノシリケートの製造方法も知られている(特許文献3)。 On the other hand, titanium silicalite-1 (TS-1) is a representative titanosilicate zeolite, and is known to exhibit high activity and selectivity as a catalyst for the oxidation reaction of organic compounds, etc. (Patent Document 2). One known method for synthesizing a zeolite with high catalytic activity like TS-1 is to introduce titanium into the zeolite by treating dealuminated mordenite with high-temperature TiCl4 vapor (Non-Patent Document 1). Furthermore, a method for producing a titanosilicate with catalytic performance equivalent to or superior to that of TS-1 by replacing the aluminum in MCM-68 with titanium is also known (Patent Document 3).

特表2002-535227号公報Special Publication No. 2002-535227 特開2004-175801号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-175801 特許第4923248号公報Patent No. 4923248

J.Phys.Chem.1996,100,10316-10322J. Phys. Chem. 1996, 100, 10316-10322

従来のチタノシリケートの製造方法は、アルミノシリケートに対して酸処理を行い、アルミニウムを除いて空いたサイトにチタンを修飾する考え方に基づいている。しかしながら、汎用性が高いFAU型アルミノシリケートに対して酸処理を行った場合、アルミニウム原子が除去されて空いたサイトには、チタンが到達する前にシリコンが入り込んでしまうため、チタンを修飾することが困難であった。そこで、酸処理後のチタン修飾を可能とする新規構造のゼオライトの導入が、複数検討されているが、それらのゼオライトは、製造するのが容易でないことが課題とされている。 Conventional methods for producing titanosilicate are based on the idea of treating aluminosilicate with acid, removing the aluminum and modifying the vacant sites with titanium. However, when acid treatment is performed on the highly versatile FAU-type aluminosilicate, silicon fills the vacant sites left by the removal of aluminum atoms before titanium can reach them, making it difficult to modify with titanium. Therefore, several studies have been conducted to introduce zeolites with new structures that allow for titanium modification after acid treatment, but the challenge is that these zeolites are not easy to produce.

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、容易に製造することが可能なゼオライトを基本骨格とし、触媒性能を有するチタノシリケートと、その製造方法を提供することを第一の目的とする。また、本発明は、当該チタノシリケートを触媒とした、フェノール類の酸化方法、および二価フェノールの製造方法を提供することを第二の目的とする。 The present invention was made in light of the above circumstances, and its first object is to provide a titanosilicate with catalytic properties that has a basic skeleton of zeolite, which can be easily produced, and a method for producing the same. A second object of the present invention is to provide a method for oxidizing phenols and a method for producing dihydric phenols using the titanosilicate as a catalyst.

上記課題を解決するため、本発明は以下の手段を採用している。 To solve the above problems, the present invention adopts the following measures.

(1)本発明の一態様に係るチタノシリケートは、FAU型ゼオライトの骨格内のアルミニウムの一部が、チタンに置き換えられてなり、シリコンとチタンの含有比率(Si/Ti)が、20以上である。 (1) In one embodiment of the titanosilicate of the present invention, part of the aluminum in the framework of FAU zeolite is replaced with titanium, and the silicon to titanium content ratio (Si/Ti) is 20 or more.

(2)前記(1)に記載のチタノシリケートにおいて、シリコンとアルミニウムの含有比率(Si/Al)が、1.5以上であることが好ましい。 (2) In the titanosilicate described in (1) above, it is preferable that the silicon to aluminum content ratio (Si/Al) is 1.5 or more.

(3)前記(1)または(2)のいずれかに記載のチタノシリケートにおいて、UV-visスペクトルにおいて、200nm以上~230nmの波長範囲にピークを有することが好ましい。 (3) In the titanosilicate described in either (1) or (2), it is preferable that the titanosilicate has a peak in the wavelength range of 200 nm to 230 nm in the UV-vis spectrum.

(4)前記(1)~(3)のいずれか一つに記載のチタノシリケートにおいて、前記FAU型ゼオライトの骨格内のアルミニウムが、チタンに置き換えられていない場合に対し、水蒸気吸着量が50%以下であることが好ましい。 (4) In the titanosilicate described in any one of (1) to (3), it is preferable that the water vapor adsorption amount is 50% or less compared to when the aluminum in the framework of the FAU-type zeolite is not replaced with titanium.

(5)前記(1)~(4)のいずれか一つに記載のチタノシリケートにおいて、FAU型ゼオライトの細孔に、水素を含むことが好ましい。 (5) In the titanosilicate described in any one of (1) to (4), it is preferable that hydrogen is contained in the pores of the FAU-type zeolite.

(6)本発明の一態様に係るチタノシリケートの製造方法は、前記(1)~(5)のいずれか一つに記載のチタノシリケートの製造方法であって、前記FAU型ゼオライトを、骨格内にアルミニウムを含んだ状態で、気相のチタン源および反応ガスとともに加熱するチタン処理工程を有し、前記FAU型ゼオライトとして、シリコンとアルミニウムの含有比率(Si/Al)が1.5以上のものを用いる。 (6) A method for producing titanosilicate according to one aspect of the present invention is a method for producing titanosilicate according to any one of (1) to (5) above, which includes a titanium treatment step in which the FAU zeolite, while containing aluminum in its framework, is heated together with a gaseous titanium source and a reaction gas, and the FAU zeolite has a silicon-to-aluminum content ratio (Si/Al) of 1.5 or more.

(7)前記(6)に記載のチタノシリケートの製造方法において、前記チタン処理工程の後の前記FAU型ゼオライトを、反応ガスとともに加熱する未反応チタン除去工程を、さらに有することが好ましい。 (7) In the method for producing titanosilicate described in (6) above, it is preferable to further include an unreacted titanium removal step in which the FAU zeolite after the titanium treatment step is heated together with a reaction gas.

(8)前記(6)または(7)のいずれかに記載のチタノシリケートの製造方法において、前記チタン処理工程または前記未反応チタン除去工程の後に、300℃以上800℃以下の焼成を行う焼成工程を、さらに有してもよい。 (8) The method for producing titanosilicate described in either (6) or (7) above may further include a calcination step of calcining the mixture at a temperature of 300°C or higher and 800°C or lower after the titanium treatment step or the unreacted titanium removal step.

(9)本発明の一態様に係るフェノール類の酸化方法は、前記(1)~(5)のいずれか一つに記載のチタノシリケートを触媒として用い、フェノール類を酸化させる。 (9) A method for oxidizing phenols according to one embodiment of the present invention uses the titanosilicate described in any one of (1) to (5) above as a catalyst to oxidize phenols.

(10)本発明の一態様に係る二価フェノールの製造方法は、前記(9)に記載のフェノール類の酸化方法を用いて前記フェノール類を酸化させ、前記フェノール類としてフェノールを用いる。 (10) A method for producing a dihydric phenol according to one embodiment of the present invention involves oxidizing a phenol using the method for oxidizing a phenol described in (9) above, and using phenol as the phenol.

(11)前記(10)に記載の二価フェノールの製造方法において、前記フェノールおよび前記チタノシリケートの溶媒として、エタノールを添加してもよい。 (11) In the method for producing a dihydric phenol described in (10) above, ethanol may be added as a solvent for the phenol and the titanosilicate.

(12)前記(10)に記載の二価フェノールの製造方法において、前記フェノールおよび前記チタノシリケートの溶媒として、二価プロパノールを添加してもよい。 (12) In the method for producing a dihydric phenol described in (10) above, dihydric propanol may be added as a solvent for the phenol and the titanosilicate.

本発明によれば、容易に製造することが可能なゼオライトを基本骨格とし、触媒性能を有するチタノシリケートと、その製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、当該チタノシリケートを触媒とした、フェノール類の酸化方法、および二価フェノールの製造方法を提供することができる。 The present invention provides a titanosilicate with catalytic properties that has a basic skeleton of easily produced zeolite, as well as a method for producing the same. The present invention also provides a method for oxidizing phenols and a method for producing dihydric phenols using the titanosilicate as a catalyst.

アルミノシリケートに対し、チタン処理を行う装置の構成例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of an apparatus for performing titanium treatment on an aluminosilicate. チタン処理に伴う加熱条件を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating heating conditions associated with titanium treatment. チタン処理後の焼成処理の加熱条件を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating heating conditions for a firing treatment after titanium treatment. 実施例1~4のチタノシリケートについて、X線回折による分析を行った結果を示すグラフである。1 is a graph showing the results of X-ray diffraction analysis of the titanosilicates of Examples 1 to 4. 実施例5~7のチタノシリケートについて、X線回折による分析を行った結果を示すグラフである。1 is a graph showing the results of X-ray diffraction analysis of the titanosilicates of Examples 5 to 7. 実施例8のチタノシリケートについて、X線回折による分析を行った結果を示すグラフである。1 is a graph showing the results of X-ray diffraction analysis of the titanosilicate of Example 8. 実施例1~4、比較例1のチタノシリケートに対する、DR/UV-vis測定結果を示すグラフである。1 is a graph showing the DR/UV-vis measurement results for titanosilicates of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1. 実施例5~7、比較例1のチタノシリケートに対する、DR/UV-vis測定結果を示すグラフである。1 is a graph showing the DR/UV-vis measurement results for titanosilicates of Examples 5 to 7 and Comparative Example 1. 実施例1、5、7、8、比較例1のチタノシリケートに対する、DR/UV-vis測定結果を示すグラフである。1 is a graph showing the results of DR/UV-vis measurement for titanosilicates of Examples 1, 5, 7, and 8 and Comparative Example 1. 実施例8のチタノシリケートについて、水蒸気吸着量の評価結果をリアルスケールで示すグラフである。1 is a graph showing, on a real scale, the evaluation results of the amount of water vapor adsorption for the titanosilicate of Example 8. 実施例8のチタノシリケートについて、水蒸気吸着量の評価結果を片対数スケールで示すグラフである。1 is a graph showing the evaluation results of the water vapor adsorption amount for the titanosilicate of Example 8 on a semi-logarithmic scale.

以下、本発明を適用した実施形態に係るチタノシリケートとその製造方法、フェノール類の酸化方法、および二価フェノールの製造方法について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。 The titanosilicate and its production method, the method for oxidizing phenols, and the method for producing dihydric phenol according to embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. Note that the drawings used in the following description may show characteristic parts enlarged for ease of understanding, and the dimensional proportions of the components may not be the same as in reality. Furthermore, the materials, dimensions, etc. exemplified in the following description are merely examples, and the present invention is not limited to them. Appropriate modifications can be made within the scope of the present invention.

本発明の一実施形態に係るチタノシリケートは、FAUトポロジーを有する大細孔ゼオライト(以下では、FAU型アルミノシリケートまたはFAU型ゼオライトと呼ぶ)を基本骨格とし、骨格内のアルミニウムの一部が、チタンに置き換えられてなる。FAU型アルミノシリケートは、骨格内のシリコンとアルミニウムの比率(Si/Al)に応じて、X型ゼオライト、Y型ゼオライト、USY型ゼオライト等に分類されている。比率(Si/Al)が1.0~1.5のものがX型ゼオライト、1.5~3.0のものがY型ゼオライト、5.0より大きいものがUSY型ゼオライトと呼ばれている。 The titanosilicate according to one embodiment of the present invention has a basic skeleton of a large-pore zeolite with FAU topology (hereinafter referred to as FAU aluminosilicate or FAU zeolite), with some of the aluminum in the skeleton replaced with titanium. FAU aluminosilicates are classified into X-type zeolites, Y-type zeolites, USY-type zeolites, etc., depending on the silicon-to-aluminum ratio (Si/Al) in the skeleton. Zeolites with a ratio (Si/Al) of 1.0 to 1.5 are called X-type zeolites, zeolites with a ratio (Si/Al) of 1.5 to 3.0 are called Y-type zeolites, and zeolites with a ratio of more than 5.0 are called USY-type zeolites.

本実施形態のチタノシリケートでは、骨格内のシリコン(Si)とチタン(Ti)の含有比率(Si/Ti)が、20以上であり、好ましくは50以上であり、より好ましくは100以上である。また、チタンは、骨格内にわずかでも含まれていればよいが、同含有比率(Si/Ti)が1000以下であれば好ましい。含有比率(Si/Ti)については、例えば、ICP-AES法を用いて測定することができる。 In the titanosilicate of this embodiment, the silicon (Si) to titanium (Ti) content ratio (Si/Ti) within the skeleton is 20 or greater, preferably 50 or greater, and more preferably 100 or greater. While even a small amount of titanium may be present within the skeleton, it is preferable for the content ratio (Si/Ti) to be 1000 or less. The content ratio (Si/Ti) can be measured, for example, using ICP-AES.

また、本実施形態のチタノシリケートでは、シリコン(Si)とアルミニウム(Al)の含有比率(Si/Al)が、1.5以上であり、好ましくは100以上であり、より好ましくは500以上である。また、アルミニウムは、骨格内に全く含まれていなくてもよいが、同含有比率(Si/Al)は1000以下であってもよい。含有比率(Si/Al)については、例えば、ICP-AES法を用いて測定することができる。 Furthermore, in the titanosilicate of this embodiment, the silicon (Si) to aluminum (Al) content ratio (Si/Al) is 1.5 or more, preferably 100 or more, and more preferably 500 or more. Furthermore, aluminum need not be contained in the skeleton at all, and the content ratio (Si/Al) may be 1000 or less. The content ratio (Si/Al) can be measured, for example, using the ICP-AES method.

本実施形態のチタノシリケートに含有されるチタン原子は、四配位の結晶構造を有し、骨格内に正しく導入されている。チタン原子の結晶構造については、UV-visスペクトルのピークの位置で確認することができる。UV-visスペクトルのピークが、200nm以上~230nmの波長範囲にある場合には、チタン原子が四配位の結晶構造を有すると考えられる。 The titanium atoms contained in the titanosilicate of this embodiment have a tetracoordinated crystal structure and are properly incorporated into the framework. The crystalline structure of the titanium atoms can be confirmed by the peak position in the UV-vis spectrum. If the peak in the UV-vis spectrum is in the wavelength range of 200 nm to 230 nm, the titanium atoms are considered to have a tetracoordinated crystal structure.

本実施形態のチタノシリケートの水蒸気吸着量は、骨格内のアルミニウムがチタンに置き換えられていない状態(チタン処理を行っていない状態)を基準として、10%以上50%以下、好ましくは10%以上20%以下である。つまり、FAU型ゼオライトの骨格を有する本実施形態のチタノシリケートは、チタン処理に伴って疎水性が高められている。そのため、本実施形態のチタノシリケートは、未焼成の状態であっても、FAU型以外のゼオライトを骨格とするチタノシリケートを焼成した場合と、同等の高い疎水性を有している。 The water vapor adsorption capacity of the titanosilicate of this embodiment is 10% to 50%, preferably 10% to 20%, based on the state in which the aluminum in the framework is not replaced with titanium (i.e., the state without titanium treatment). In other words, the titanosilicate of this embodiment, which has an FAU zeolite framework, has increased hydrophobicity due to titanium treatment. Therefore, even in an uncalcined state, the titanosilicate of this embodiment has a high hydrophobicity equivalent to that of calcined titanosilicates with frameworks other than FAU zeolite.

本実施形態のチタノシリケートは、FAU型ゼオライトを構成する細孔に、水素原子を含む。イオン交換サイトに位置するナトリウム原子との総和を基準とした水素原子の含有比率(H/(Na+H))は、95%以上100%以下であることが好ましい。 The titanosilicate of this embodiment contains hydrogen atoms in the pores that make up the FAU-type zeolite. The hydrogen atom content (H/(Na+H)) based on the total amount of hydrogen atoms and sodium atoms located at the ion exchange sites is preferably 95% or more and 100% or less.

以上のように、本実施形態のチタノシリケートは、汎用性が高いFAU型のゼオライトを基本骨格としており、高い疎水性を有している。そのため、骨格内にチタン原子が高い比率で導入されており、実施例として後述するように優れた触媒性能を有する。 As described above, the titanosilicate of this embodiment has a basic skeleton of the highly versatile FAU-type zeolite and is highly hydrophobic. Therefore, a high proportion of titanium atoms are introduced into the skeleton, resulting in excellent catalytic performance, as will be described later in the examples.

[チタノシリケートの製造方法]
本実施形態のチタノシリケートの製造方法は、主に、FAU型アルミノシリケートを準備する第一工程、FAU型アルミノシリケートにチタンを導入する第二、第三工程を有する。第三工程後に、焼成を行う工程(第四工程)を有してもよい。各製造工程の処理について、以下に説明する。
[Method for producing titanosilicate]
The method for producing titanosilicate of this embodiment mainly includes a first step of preparing an FAU-type aluminosilicate, and second and third steps of introducing titanium into the FAU-type aluminosilicate. A fourth step of firing may be included after the third step. The treatment in each production step will be described below.

(第一工程)
まず、結晶化したFAU型アルミノシリケート(FAU型ゼオライト)を準備する。FAU型アルミノシリケートとしては、市販されているものを用いることができる。一例として、東ソー株式会社、Zeolyst Internationalから市販されているものについて、それぞれ表1、2に掲載する。表1の掲載内容は、インターネット<URL:https://www.tosoh.co.jp/zeolite/hsz/list01.html>で開示されているものである。表2の掲載内容は、インターネット<URL:https://www.zeolyst.com/our-products/standard-zeolite-powders/zeolite-y.html>で開示されているものである。表1、2に掲載されているものを含め、いずれのFAU型アルミノシリケートの構造も、X線回折(XRD)による分析結果から、一義的に特定することができる。
(First step)
First, a crystallized FAU-type aluminosilicate (FAU-type zeolite) is prepared. Commercially available FAU-type aluminosilicates can be used. As examples, commercially available products from Tosoh Corporation and Zeolyst International are listed in Tables 1 and 2, respectively. The contents of Table 1 are disclosed on the Internet at URL: https://www.tosoh.co.jp/zeolite/hsz/list01.html. The contents of Table 2 are disclosed on the Internet at URL: https://www.zeolyst.com/our-products/standard-zeolite-powders/zeolite-y.html. The structure of any FAU-type aluminosilicate, including those listed in Tables 1 and 2, can be uniquely identified from the results of X-ray diffraction (XRD) analysis.

(第二工程)
準備したFAU型アルミノシリケートの粉末に対して、チタン処理、すなわち、FAU型の骨格を構成する各サイトに、チタンを導入(修飾)する処理を行う。具体的には、FAU型アルミノシリケートの粉末を、骨格内に5%~20%程度の比率でアルミニウムを含んだ状態で、気相のチタン源(例えば、塩化チタン、チタンアルコキシド等)および反応ガス(例えば、アルゴン、窒素、ヘリウム等の不活性ガス)とともに加熱する。この処理により、FAU型アルミノシリケートの骨格を構成する少なくとも一部のアルミニウムサイトに、チタンが導入されるとともに、チタンが導入されたアルミニウムサイトからアルミニウムを除去することができる。その結果として、FAU型アルミノシリケートを構成する少なくとも一部のアルミニウムが、チタンに置換される。図1は、チタン処理装置10の構成例を示す図である。
(Second process)
The prepared FAU-type aluminosilicate powder is subjected to a titanium treatment, i.e., a treatment for introducing (modifying) titanium into each site constituting the FAU-type framework. Specifically, the FAU-type aluminosilicate powder is heated together with a gaseous titanium source (e.g., titanium chloride, titanium alkoxide, etc.) and a reactive gas (e.g., an inert gas such as argon, nitrogen, or helium) in a state where the framework contains aluminum at a ratio of about 5% to 20%. This treatment introduces titanium into at least some of the aluminum sites constituting the framework of the FAU-type aluminosilicate, while also removing aluminum from the aluminum sites where titanium has been introduced. As a result, at least some of the aluminum constituting the FAU-type aluminosilicate is replaced with titanium. FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of a titanium treatment apparatus 10.

チタン処理装置10は、主に、ガラス管11と、ガラス管11の周囲に配された加熱器(ヒーター)12と、加熱器12に接続された温度コントローラー13と、チタン源を収容した容器14と、不活性ガスの供給源15とを備えている。ガラス管11、チタン源の容器14、不活性ガスの供給源15は、四方バルブ16を介して互いにチューブで接続されており、不活性ガスに対し、直接ガラス管11に向かう流路と、チタン源の容器14を経由してガラス管11に向かう流路と、が随時切り替わるように構成されている。 The titanium processing device 10 mainly comprises a glass tube 11, a heater 12 arranged around the glass tube 11, a temperature controller 13 connected to the heater 12, a container 14 containing a titanium source, and an inert gas supply source 15. The glass tube 11, titanium source container 14, and inert gas supply source 15 are connected to each other by tubing via a four-way valve 16, and are configured so that the inert gas can be switched between a flow path that goes directly to the glass tube 11 and a flow path that goes via the titanium source container 14 to the glass tube 11 at any time.

チタン処理の手順について、図1を用いて説明する。まず、粉末状のFAU型アルミノシリケートの結晶Sを、石英ウール等の繊維材料(不図示)で囲み、この繊維材料を介してガラス管11の内部に固定する。 The titanium treatment procedure is explained using Figure 1. First, powdered FAU-type aluminosilicate crystals S are surrounded by a fibrous material (not shown) such as quartz wool, and then fixed inside the glass tube 11 via this fibrous material.

まず、不活性ガスが直接ガラス管11に向かうように流路を切り換え、ガラス管11内にアルゴン、窒素、ヘリウム等の不活性ガスを流通させた状態で、FAU型アルミノシリケート結晶Sの加熱を行う。加熱温度は、300℃以上800℃以下であることが好ましく、500℃程度であればより好ましい。加熱時間は、1時間以上12時間以下であることが好ましく、4時間程度であればより好ましい。 First, the flow path is switched so that the inert gas flows directly into the glass tube 11, and the FAU-type aluminosilicate crystals S are heated while an inert gas such as argon, nitrogen, or helium is circulating through the glass tube 11. The heating temperature is preferably 300°C or higher and 800°C or lower, and more preferably around 500°C. The heating time is preferably 1 hour or higher and 12 hours or lower, and more preferably around 4 hours.

続いて、不活性ガスがチタン源の容器14を経由してガラス管11に向かう流路に切り替え、ガラス管11内に、不活性ガスおよびチタン源となる気相の塩化チタンまたはチタンアルコキシドを流通させた状態で、FAU型アルミノシリケート結晶Sの加熱を行う。 Then, the inert gas is switched to a flow path that passes through the titanium source container 14 and heads toward the glass tube 11, and the FAU-type aluminosilicate crystals S are heated while the inert gas and the titanium source, titanium chloride or titanium alkoxide in gas phase, are circulating through the glass tube 11.

図2は、チタン処理に伴う加熱条件を説明する図である。まず、FAU型アルミノシリケート結晶Sに対し、所定の加熱温度になるように、ほぼ一定の速度で約4時間かけて昇温を行う。加熱温度は、300℃以上800℃以下であることが好ましく、600℃程度であればより好ましい。加熱温度に達したら、設定した加熱時間その温度を維持する。加熱時間は、0.5時間以上6時間以下であることが好ましく、1時間程度であればより好ましい。ここでの加熱により、FAU型アルミノシリケートの骨格を構成する少なくとも一部のサイトに、チタンが導入される。加熱時間が経過したら加熱を止めて冷却する。 Figure 2 is a diagram explaining the heating conditions associated with titanium treatment. First, the FAU-type aluminosilicate crystals S are heated at a nearly constant rate over a period of approximately four hours to a predetermined heating temperature. The heating temperature is preferably between 300°C and 800°C, and more preferably around 600°C. Once the heating temperature is reached, that temperature is maintained for the set heating time. The heating time is preferably between 0.5 hours and 6 hours, and more preferably around 1 hour. This heating introduces titanium into at least some of the sites that make up the framework of the FAU-type aluminosilicate. After the heating time has elapsed, heating is stopped and the crystals are cooled.

ここで用いる塩化チタンとしては、例えば、TiCl、TiClなどが挙げられる。また、ここで用いるチタンアルコキシドとしては、例えば、Ti(OMe)、Ti(OEt)、Ti(OPr)、Ti(OPr-i)、Ti(OBu)などが挙げられる。 Examples of titanium chlorides used here include TiCl 4 and TiCl 3. Examples of titanium alkoxides used here include Ti(OMe) 4 , Ti(OEt) 4 , Ti(OPr) 4 , Ti(OPr-i) 4 , and Ti(OBu) 4 .

(第三工程)
続いて、不活性ガスが直接ガラス管11に向かうように流路を切り換え、加熱温度、加熱時間は変えずに、再びガラス管11内に不活性ガスを流通させる。これにより、チタン導入後のFAU型アルミノシリケートの結晶構造に残存する、未反応のチタン源が除去される。未反応のチタン源の除去後、FAU型アルミノシリケートを室温まで放冷し、蒸留水で洗浄し、約80℃のオーブン中で乾燥させる。
(Third step)
Next, the flow path is switched so that the inert gas flows directly into the glass tube 11, and the inert gas is again circulated through the glass tube 11 without changing the heating temperature or heating time. This removes any unreacted titanium source remaining in the crystal structure of the FAU-type aluminosilicate after the introduction of titanium. After the removal of the unreacted titanium source, the FAU-type aluminosilicate is allowed to cool to room temperature, washed with distilled water, and dried in an oven at approximately 80°C.

上述した工程処理によって、FAU型アルミノシリケートの基本骨格を有し、アルミニウムの一部がチタンに置き換わったチタノシリケートを合成することができる。合成されたチタノシリケートの骨格内において、シリコンとチタンの含有比率(Si/Ti)は、概ね50以上となる。この含有比率は、加熱条件によって調整することができる。 The above-described process allows for the synthesis of a titanosilicate with a basic FAU-type aluminosilicate skeleton, in which some of the aluminum has been replaced with titanium. The silicon-to-titanium (Si/Ti) content ratio within the skeleton of the synthesized titanosilicate is generally 50 or higher. This content ratio can be adjusted by adjusting the heating conditions.

(第四工程)
オルト選択率を高める観点から、合成したチタノシリケートに対しては、さらに焼成を行ってもよい。図3は、チタン処理後の焼成処理の加熱条件を説明する図である。まず、チタノシリケートに対し、約0.8℃/min~1.2℃/minの範囲でほぼ一定の速度、好ましくは約1℃/min程度の速度で焼成温度まで昇温する。焼成温度は、300℃以上800℃以下の範囲であれば好ましく、650℃程度であればより好ましい。焼成温度に達したら、設定した焼成時間その温度を維持する。焼成時間は、1時間以上12時間以下の範囲であれば好ましく、4時間程度であればより好ましい。焼成時間が経過したら焼成を止めて放冷する。
(Fourth step)
From the viewpoint of increasing the ortho selectivity, the synthesized titanosilicate may be further calcined. FIG. 3 is a diagram illustrating the heating conditions for the calcination treatment after the titanium treatment. First, the titanosilicate is heated to the calcination temperature at a substantially constant rate in the range of about 0.8°C/min to 1.2°C/min, preferably at a rate of about 1°C/min. The calcination temperature is preferably in the range of 300°C to 800°C, and more preferably about 650°C. Once the calcination temperature is reached, the temperature is maintained for the set calcination time. The calcination time is preferably in the range of 1 hour to 12 hours, and more preferably about 4 hours. After the calcination time has elapsed, the calcination is stopped and the mixture is allowed to cool.

以上のように、本実施形態のチタノシリケートの製造方法によれば、FAU型の基本骨格を有するチタノシリケートを得ることができる。FAU型アルミノシリケートは、製造が容易であり、最も利用されているゼオライトの一つであるため、このゼオライトへのチタン導入を可能にする本技術は、産業の発展に大きく寄与し得るものと考えられる。 As described above, the titanosilicate manufacturing method of this embodiment makes it possible to obtain titanosilicate with an FAU-type basic skeleton. FAU-type aluminosilicate is easy to manufacture and is one of the most widely used zeolites, so this technology, which makes it possible to introduce titanium into this zeolite, is expected to make a significant contribution to industrial development.

本実施形態のチタノシリケートの製造方法によれば、骨格を構成する各サイトに、チタン原子が到達する直前までアルミニウム原子が存在しているため、シリコン原子によって、チタン原子の導入が妨げられる問題を回避することができる。また、FAU型アルミノシリケートを基本骨格とするチタノシリケートは、焼成しない状態であっても疎水性が十分に高いため、骨格を構成する各サイトに、チタン原子を引き付けやすく、安定した結晶構造を維持することができる。したがって、本実施形態のチタノシリケートの製造方法によれば、FAU型以外の骨格にチタンを導入する際の酸処理が不要であり、また、焼成処理については省くことも可能であるため、従来の製造方法に比べて大幅なプロセス簡略化を実現することができる。 According to the method for producing titanosilicate of this embodiment, aluminum atoms are present at each site constituting the skeleton until just before the titanium atoms reach it, thereby avoiding the problem of silicon atoms interfering with the introduction of titanium atoms. Furthermore, titanosilicates with an FAU-type aluminosilicate as their basic skeleton are sufficiently hydrophobic even in an uncalcined state, making it easy to attract titanium atoms to each site constituting the skeleton and maintaining a stable crystal structure. Therefore, according to the method for producing titanosilicate of this embodiment, acid treatment is not required when introducing titanium into a skeleton other than the FAU-type, and the calcination treatment can also be omitted, thereby significantly simplifying the process compared to conventional production methods.

[フェノールの酸化方法、二価フェノールの製造方法]
上記チタノシリケートを触媒とする酸化反応により、フェノール類を酸化させることができる。酸化させるフェノール類としては、特に限定されることはないが、例えば、フェノール、クレゾール、アミノフェノール、サリチル酸等が挙げられる。
[Method for oxidizing phenol, method for producing dihydric phenol]
Phenols can be oxidized by an oxidation reaction using the titanosilicate as a catalyst. The phenols to be oxidized are not particularly limited, but examples thereof include phenol, cresol, aminophenol, salicylic acid, etc.

フェノールを酸化させることにより、二価フェノールを製造することができる。実施例として後述するように、製造される二価フェノールには、主に、ヒドロキノンHQ(二価フェノールのパラ異性体)、カテコールCL(二価フェノールのオルト異性体)、ヒドロキノンHQがさらに酸化されたパラベンゾキノンp-BQ等が含まれる。反応に用いるフェノールおよびチタノシリケートの溶媒としては、必須ではないが、例えば、エタノール、二価プロパノール、アセトニトリル、スルホラン等が挙げられる。 Dihydric phenols can be produced by oxidizing phenol. As described in the examples below, the dihydric phenols produced mainly include hydroquinone HQ (the para-isomer of dihydric phenol), catechol CL (the ortho-isomer of dihydric phenol), and parabenzoquinone p-BQ, which is obtained by further oxidizing hydroquinone HQ. Solvents for the phenol and titanosilicate used in the reaction are not essential, but examples include ethanol, dihydric propanol, acetonitrile, and sulfolane.

本実施形態のフェノール酸化反応では、医薬品等に用いることが可能なカテコールCLが高い収率で得られる傾向にある。この収率は、触媒であるチタノシリケートが含有するシリコンとチタンの比率Si/Tiを変えることにより、調整することができる。 The phenol oxidation reaction of this embodiment tends to produce catechol CL, which can be used in pharmaceuticals, etc., in high yield. This yield can be adjusted by changing the ratio of silicon to titanium (Si/Ti) contained in the titanosilicate catalyst.

以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。 The following examples will make the effects of the present invention clearer. Note that the present invention is not limited to the following examples, and can be modified as appropriate within the scope of its gist.

(実施例1~4)
FAU型アルミノシリケート結晶として、東ソー株式会社製のHSZ-360HUAのサンプル約1.0gを、4つ準備した。図1のチタン処理装置10を用いて、4つのサンプル(実施例1~4)に対して、それぞれ別々に次の手順でチタン処理(第二工程)を行った。HSZ-360HUAに含有されるシリコンとアルミニウムの比率(Si/Al)は、8.07であった。
Examples 1 to 4
Four samples of approximately 1.0 g of HSZ-360HUA manufactured by Tosoh Corporation were prepared as FAU-type aluminosilicate crystals. Using the titanium treatment apparatus 10 shown in Figure 1, each of the four samples (Examples 1 to 4) was separately subjected to titanium treatment (second step) according to the following procedure. The ratio of silicon to aluminum (Si/Al) contained in HSZ-360HUA was 8.07.

まず、HSZ-360HUAの結晶Sを、石英ウールで囲み、石英ウールを介して石英管11の内部に固定した。 First, HSZ-360HUA crystal S was surrounded by quartz wool and fixed inside the quartz tube 11 via the quartz wool.

続いて、アルゴンガスが直接ガラス管11に向かうように流路を切り換え、石英管11内にアルゴンガスを流通させた状態で、結晶Sの加熱を行った。室温から約700℃まで、約4時間かけてほぼ一定の速度で昇温した。 Next, the flow path was switched so that the argon gas was directed directly into the glass tube 11, and the crystal S was heated while argon gas was circulating inside the quartz tube 11. The temperature was raised from room temperature to approximately 700°C at a nearly constant rate over approximately four hours.

続いて、アルゴンガスがチタン源の容器14を経由してガラス管11に向かう流路に切り替え、石英管11内に、アルゴンガスおよびチタン源となる気相の四塩化チタンを流通させた状態で、結晶Sの加熱を行った。加熱温度を約700℃とし、加熱時間を約1時間とした。流通させるアルゴンガスの流速は、30mL/minとした。 Then, the argon gas flow path was switched to pass through the titanium source container 14 and head toward the glass tube 11. The crystal S was heated while argon gas and titanium tetrachloride gas, which serves as the titanium source, were flowing through the quartz tube 11. The heating temperature was approximately 700°C, and the heating time was approximately 1 hour. The flow rate of the argon gas was 30 mL/min.

続いて、不活性ガスが直接石英管11に向かうように流路を切り換え、加熱温度、加熱時間は変えずに、約1時間かけて再び石英管11内に不活性ガスを流通させることにより、結晶S中に残存する未反応のチタン源を除去した(第三工程)。 Next, the flow path was switched so that the inert gas was directed directly toward the quartz tube 11, and the inert gas was again circulated through the quartz tube 11 for approximately one hour without changing the heating temperature or heating time, thereby removing any unreacted titanium source remaining in the crystals S (third step).

最後に、約10分かけて結晶Sを室温まで放冷し、蒸留水で洗浄し、約80℃のオーブン中で乾燥させた。 Finally, Crystal S was allowed to cool to room temperature over approximately 10 minutes, washed with distilled water, and dried in an oven at approximately 80°C.

上述した工程処理によって、FAU型アルミノシリケートの基本骨格を有し、Alの一部がTiに置き換わった実施例1~3のチタノシリケートを合成することができた。 Through the above-described process, we were able to synthesize the titanosilicates of Examples 1 to 3, which have the basic skeleton of an FAU-type aluminosilicate and in which some of the Al has been replaced with Ti.

合成した実施例1、3のチタノシリケートに対して、さらに焼成を行った(第四工程)。具体的には、空気雰囲気下において、約10時間20分かけて室温から約650℃まで一定速度で昇温し、約650℃で約4時間保持し、最後に放冷した。 The synthesized titanosilicates of Examples 1 and 3 were further calcined (fourth step). Specifically, the temperature was raised at a constant rate from room temperature to approximately 650°C over approximately 10 hours and 20 minutes in an air atmosphere, then held at approximately 650°C for approximately 4 hours, and finally allowed to cool.

(実施例5、6)
FAU型アルミノシリケート結晶として、東ソー株式会社製のHSZ-360HUAのサンプル約1.0gを2つ準備した。2つのサンプル(実施例5、6)に対し、チタン源とともに加熱する温度を約600℃とした以外は、実施例1、3と同様の処理を行った。
(Examples 5 and 6)
Two samples of approximately 1.0 g each of HSZ-360HUA manufactured by Tosoh Corporation were prepared as FAU-type aluminosilicate crystals. The two samples (Examples 5 and 6) were subjected to the same treatment as in Examples 1 and 3, except that the temperature at which they were heated together with the titanium source was approximately 600°C.

(実施例7)
FAU型アルミノシリケート結晶として、東ソー株式会社製のHSZ-360HUAのサンプル約1.0gを1つ準備した。このサンプル(実施例7)に対し、チタン源とともに加熱する温度を約650℃とした以外は、実施例1、3と同様の処理を行った。
Example 7
As the FAU-type aluminosilicate crystals, one sample of approximately 1.0 g of HSZ-360HUA manufactured by Tosoh Corporation was prepared. This sample (Example 7) was subjected to the same treatment as in Examples 1 and 3, except that the temperature at which it was heated together with the titanium source was set to approximately 650°C.

(実施例8)
FAU型アルミノシリケート結晶として、東ソー株式会社製のHSZ-370HUAのサンプル約1.0gを1つ準備した。HSZ-370HUAに含有されるシリコンとアルミニウムの比率(Si/Al)は、15であった。このサンプル(実施例8)に対して、実施例5、6と同様の処理を行った。
(Example 8)
As the FAU-type aluminosilicate crystals, one sample of approximately 1.0 g of HSZ-370HUA manufactured by Tosoh Corporation was prepared. The ratio of silicon to aluminum (Si/Al) contained in HSZ-370HUA was 15. This sample (Example 8) was subjected to the same treatment as in Examples 5 and 6.

実施例1~8で得られたチタノシリケートに対し、シリコンとアルミニウムの含有比率(Si/Al)、シリコンとチタンの含有比率(Si/Ti)を測定した。測定結果を表3に示す。 The silicon-to-aluminum content ratio (Si/Al) and silicon-to-titanium content ratio (Si/Ti) were measured for the titanosilicates obtained in Examples 1 to 8. The measurement results are shown in Table 3.

(比較例1)
触媒学会によって、アジア参照触媒(Asia Reference Catalyst; ARC)として指定され、配布されているチタニウムシリカライト-1(TS-1)を準備した。
(Comparative Example 1)
Titanium silicalite-1 (TS-1), designated and distributed by the Catalysis Society as the Asia Reference Catalyst (ARC), was prepared.

[X線回折パターンの評価]
実施例1~8のサンプルについて、X線回折(XRD)の分析を行った。分析結果を示す回折パターンを、図4~6のグラフに示す。グラフの横軸は回折角度を示し、縦軸は回折強度を示している。
[Evaluation of X-ray diffraction patterns]
X-ray diffraction (XRD) analysis was performed on the samples of Examples 1 to 8. Diffraction patterns showing the analysis results are shown in the graphs of Figures 4 to 6. The horizontal axis of the graph represents the diffraction angle, and the vertical axis represents the diffraction intensity.

図4のグラフは、HSZ-360HUAの結晶サンプルについて、下記の状態で得られた回折パターンを並べて示している。
一段目:チタン処理を行っていない初期状態(上記実施形態の第一工程後の状態)
二段目:実施例1として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
三段目:実施例1として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
四段目:実施例2として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
五段目:実施例3として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
六段目:実施例3として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
七段目:実施例4として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
The graph in FIG. 4 shows an array of diffraction patterns obtained for a crystalline sample of HSZ-360HUA under the following conditions:
First stage: Initial state before titanium treatment (state after the first step in the above embodiment)
Second row: As in Example 1, titanium treatment was performed but no firing was carried out. Third row: As in Example 1, titanium treatment was performed but no firing was carried out. Fourth row: As in Example 2, titanium treatment was performed but no firing was carried out. Fifth row: As in Example 3, titanium treatment was performed but no firing was carried out. Sixth row: As in Example 3, titanium treatment was performed but no firing was carried out. Seventh row: As in Example 4, titanium treatment was performed but no firing was carried out.

図5のグラフは、HSZ-360HUAの結晶サンプルについて、下記の状態で得られた回折パターンを並べて示している。
一段目:チタン処理を行っていない初期状態(上記実施形態の第一工程後の状態)
二段目:実施例5として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
三段目:実施例5として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
四段目:実施例6として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
五段目:実施例6として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
六段目:実施例7として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
七段目:実施例7として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
The graph in FIG. 5 shows an array of diffraction patterns obtained for a crystalline sample of HSZ-360HUA under the following conditions:
First stage: Initial state before titanium treatment (state after the first step in the above embodiment)
Second row: As in Example 5, titanium treatment was performed but not calcined. Third row: As in Example 5, titanium treatment was performed but calcined. Fourth row: As in Example 6, titanium treatment was performed but not calcined. Fifth row: As in Example 6, titanium treatment was performed but calcined. Sixth row: As in Example 7, titanium treatment was performed but not calcined. Seventh row: As in Example 7, titanium treatment was performed but calcined.

図6のグラフは、HSZ-370HUAの結晶サンプルについて、下記の状態で得られた回折パターンを並べて示している。
一段目:チタン処理を行っていない初期状態(上記実施形態の第一工程後の状態)
二段目:実施例8として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
三段目:実施例8として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
The graph in FIG. 6 shows an array of diffraction patterns obtained for a crystalline sample of HSZ-370HUA under the following conditions:
First stage: Initial state before titanium treatment (state after the first step in the above embodiment)
Second row: Example 8, titanium treatment was performed but not sintered. Third row: Example 8, titanium treatment was performed and sintered.

図4~6のグラフの比較により、いずれのサンプルにおいても、同様のXRDパターンが得られていることが分かる。この結果から、Si/Alの比率を6.8~15の間で変化させた場合、チタン処理の温度を600℃~700℃の間で変化させた場合のいずれにおいても、各工程の前後で高い結晶性が維持されていることが分かる。また、同じ条件で処理した異なるサンプル間で、再現性が得られていることも分かる。 Comparing the graphs in Figures 4 to 6, it can be seen that similar XRD patterns were obtained for all samples. These results show that high crystallinity was maintained before and after each process, whether the Si/Al ratio was varied between 6.8 and 15, or the titanium treatment temperature was varied between 600°C and 700°C. It also shows that reproducibility was achieved between different samples processed under the same conditions.

[Ti配位状態の評価]
実施例1~8のサンプルについて、DR/UV-vis測定を行った。測定結果を示すDR/UV-Visスペクトルを、図7~9のグラフに示す。グラフの横軸は波長(nm)を示し、縦軸はKubelka-Munk関数を示している。
[Evaluation of Ti Coordination State]
DR/UV-Vis measurements were performed on the samples of Examples 1 to 8. The DR/UV-Vis spectra showing the measurement results are shown in the graphs of Figures 7 to 9. The horizontal axis of the graph represents wavelength (nm), and the vertical axis represents the Kubelka-Munk function.

図7のグラフは、HSZ-360HUAの結晶サンプル、およびチタニウムシリカライト-1の結晶サンプルについて、下記の状態で得られたDR/UV-Visスペクトルを並べて示している。
一段目:比較例1として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
二段目:実施例1として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
三段目:実施例1として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
四段目:実施例2として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
五段目:実施例3として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
六段目:実施例3として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
七段目:実施例4として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
The graph in FIG. 7 shows the DR/UV-Vis spectra obtained under the following conditions for a crystalline sample of HSZ-360HUA and a crystalline sample of titanium silicalite-1.
First row: Comparative example 1, titanium treatment was performed but not fired. Second row: Example 1, titanium treatment was performed but not fired. Third row: Example 1, titanium treatment was performed but not fired. Fourth row: Example 2, titanium treatment was performed but not fired. Fifth row: Example 3, titanium treatment was performed but not fired. Sixth row: Example 3, titanium treatment was performed but not fired. Seventh row: Example 4, titanium treatment was performed but not fired.

図8のグラフは、HSZ-360HUAの結晶サンプル、およびチタニウムシリカライト-1の結晶サンプルについて、下記の状態で得られたDR/UV-Visスペクトルを並べて示している。
一段目:比較例1として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
二段目:実施例5として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
三段目:実施例5として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
四段目:実施例6として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
五段目:実施例6として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
六段目:実施例7として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
七段目:実施例7として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
The graph in FIG. 8 shows the DR/UV-Vis spectra obtained under the following conditions for a crystalline sample of HSZ-360HUA and a crystalline sample of titanium silicalite-1.
First row: Comparative example 1, titanium treatment was performed but not fired. Second row: Example 5, titanium treatment was performed but not fired. Third row: Example 5, titanium treatment was performed but not fired. Fourth row: Example 6, titanium treatment was performed but not fired. Fifth row: Example 6, titanium treatment was performed but not fired. Sixth row: Example 7, titanium treatment was performed but not fired. Seventh row: Example 7, titanium treatment was performed but not fired.

図9のグラフは、HSZ-370HUAの結晶サンプル、およびチタニウムシリカライト-1の結晶サンプルについて、下記の状態で得られたDR/UV-Visスペクトルを並べて示している。
一段目:比較例1として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
二段目:実施例8として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
三段目:実施例8として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
四段目:実施例5として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
五段目:実施例5として、チタン処理を行い、焼成を行った状態
六段目:実施例7として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
七段目:実施例1として、チタン処理を行い、焼成を行っていない状態
The graph in FIG. 9 shows the DR/UV-Vis spectra obtained under the following conditions for a crystalline sample of HSZ-370HUA and a crystalline sample of titanium silicalite-1.
First row: Comparative example 1, titanium treatment was performed but not calcined. Second row: Example 8, titanium treatment was performed but not calcined. Third row: Example 8, titanium treatment was performed but not calcined. Fourth row: Example 5, titanium treatment was performed but not calcined. Fifth row: Example 5, titanium treatment was performed but not calcined. Sixth row: Example 7, titanium treatment was performed but not calcined. Seventh row: Example 1, titanium treatment was performed but not calcined.

波長が200~230nmの領域は、骨格内の4配位Tiに相当する吸収を示す領域である。波長が250~290nmの領域は、骨格外の5配位ないし6配位Tiに相当する吸収を示す領域である。 The wavelength region of 200 to 230 nm is the region that shows absorption corresponding to tetracoordinated Ti within the framework. The wavelength region of 250 to 290 nm is the region that shows absorption corresponding to pentacoordinated or hexacoordinated Ti outside the framework.

図7~9のグラフでは、実施例1~8のサンプルに対応するDR/UV-Visスペクトルが、いずれも、波長が200~230nmの領域にピークを有している。この結果から、Si/Alの比率を6.8~15の間で変化させた場合、チタン処理の温度を600℃~700℃の間で変化させた場合のいずれにおいても、合成したチタノシリケートにおけるFAU型の骨格内に、チタンが正しく導入されていることが分かる。また、同じ条件で処理した異なるサンプル間で、再現性が得られていることも分かる。 In the graphs of Figures 7 to 9, the DR/UV-Vis spectra corresponding to the samples of Examples 1 to 8 all have peaks in the wavelength region of 200 to 230 nm. These results demonstrate that titanium was properly incorporated into the FAU-type framework of the synthesized titanosilicate, regardless of whether the Si/Al ratio was varied between 6.8 and 15, or whether the titanium treatment temperature was varied between 600°C and 700°C. It also demonstrates that reproducibility was achieved between different samples treated under the same conditions.

[水蒸気吸着量の評価]
実施例1の下記三つの状態(チタン導入前の状態、チタン導入直後の状態、チタン導入後に焼成した状態)のサンプルについて、25℃での水蒸気吸着量の評価を行った。評価に用いた水蒸気吸着等温線を、リニアスケール、片対数スケールで、それぞれ図10、11のグラフに示す。グラフの横軸は相対圧力を示し、縦軸は水蒸気吸着量を示している。ここでは、チタン導入前の状態を□印でプロットし、チタン導入直後の状態を△印でロットし、チタン導入後に焼成した状態を〇印でプロットしている。
[Evaluation of water vapor adsorption amount]
The water vapor adsorption amount at 25°C was evaluated for samples in the following three states of Example 1 (state before titanium was introduced, state immediately after titanium was introduced, and state after titanium was introduced and calcined). The water vapor adsorption isotherms used for the evaluation are shown in the graphs of Figures 10 and 11 on a linear scale and a semi-logarithmic scale, respectively. The horizontal axis of the graph represents relative pressure, and the vertical axis represents the water vapor adsorption amount. Here, the state before titanium was introduced is plotted with a square, the state immediately after titanium was introduced is plotted with a triangle, and the state after titanium was introduced and calcined is plotted with a circle.

チタン導入前の状態とチタン導入直後の状態との比較から、チタンの導入によって水蒸気吸着量が著しく下がり、疎水化していることが分かる。より詳細には、FAU型アルミノシリケートの骨格内のアルミニウムの水蒸気吸着量が、チタンに置き換えられていない場合に対し、水蒸気吸着量が約30%~50%以下となっている。一方、チタン導入直後の状態と、チタン導入後に焼成した状態との比較から、焼成の前後で水蒸気吸着量がほぼ同じであり、焼成に伴う疎水化はほとんど見られない。 A comparison of the state before and immediately after the introduction of titanium shows that the introduction of titanium significantly reduces the amount of water vapor adsorption, resulting in hydrophobicity. More specifically, the amount of water vapor adsorption by the aluminum in the framework of the FAU-type aluminosilicate is approximately 30% to 50% less than when it is not replaced with titanium. On the other hand, a comparison of the state immediately after the introduction of titanium with the state after calcination after the introduction of titanium shows that the amount of water vapor adsorption is roughly the same before and after calcination, with almost no hydrophobicity due to calcination being observed.

[フェノール酸化反応に対する触媒性能の評価]
実施例5~7のサンプルを触媒とする、次の化学反応式に示すフェノール酸化反応の実験を行った。
[Evaluation of catalytic performance for phenol oxidation reaction]
Using the samples of Examples 5 to 7 as catalysts, an experiment was carried out on the phenol oxidation reaction shown in the following chemical reaction formula.

実験の具体的な手順について説明する。初めに、ガラス製耐圧容器中で、触媒20mg、フェノール2.00g(21.3mmol)、過酸化水素水(30wt%)0.48g(4.25mmol)を混合し、100℃で60分間撹拌した。反応終了後、容器を氷冷しつつ、スルホラン2.0g(16.64mmol)で希釈した。内部標準物質として、アニソール0.225g(2.08mmol)を加えてよく混合した後、遠心分離(3500rpm、10分)により、反応液と触媒を分離した。 The specific experimental procedure is as follows: First, 20 mg of catalyst, 2.00 g (21.3 mmol) of phenol, and 0.48 g (4.25 mmol) of hydrogen peroxide (30 wt%) were mixed in a glass pressure vessel and stirred at 100°C for 60 minutes. After the reaction was completed, the vessel was cooled on ice and diluted with 2.0 g (16.64 mmol) of sulfolane. 0.225 g (2.08 mmol) of anisole was added as an internal standard substance and mixed thoroughly, after which the reaction mixture was separated from the catalyst by centrifugation (3500 rpm, 10 minutes).

次いで、上澄み液約150mgに、過剰量の無水酢酸(約0.4g)および炭酸カリウム(約0.6g)を加え、反応液全体を約20~50℃に保ちつつ時々振動させながら30分間置くことにより、存在するフェノール系化合物を徹底的にアセチル化した。その後クロロホルムで希釈し、ガスクロマトグラフ装置(島津製作所製GC-2014、検出器:FID、カラム:DB-1 0.25mm×30m×1.00μm)を用いて分析した。また、未反応の過酸化水素を定量するために、2.0mol/L塩酸水溶液50mLに遠心分離の上澄み液0.5gとヨウ化カリウム0.8gを加え、約0.1mol/Lの正確な濃度のチオ硫酸ナトリウム水溶液で滴定した。 Next, to approximately 150 mg of the supernatant, excess acetic anhydride (approximately 0.4 g) and potassium carbonate (approximately 0.6 g) were added, and the entire reaction mixture was kept at approximately 20-50°C and left for 30 minutes with occasional shaking to thoroughly acetylate any phenolic compounds present. The mixture was then diluted with chloroform and analyzed using a gas chromatograph (Shimadzu GC-2014, detector: FID, column: DB-1 0.25 mm x 30 m x 1.00 μm). Additionally, to quantify the amount of unreacted hydrogen peroxide, 0.5 g of the centrifuged supernatant and 0.8 g of potassium iodide were added to 50 mL of 2.0 mol/L aqueous hydrochloric acid, and the mixture was titrated with an aqueous sodium thiosulfate solution with an exact concentration of approximately 0.1 mol/L.

上記分析の結果、ヒドロキノン(二価フェノールのパラ異性体)HQ、カテコール(二価フェノールのオルト異性体)CL、HQがさらに酸化されたパラベンゾキノンp-BQが検出された。 The results of the above analysis detected hydroquinone (a para-isomer of dihydric phenol) HQ, catechol (an ortho-isomer of dihydric phenol) CL, and parabenzoquinone p-BQ, which is formed by further oxidation of HQ.

この実験における各サンプルの焼成の有無、Tiの含有量、触媒回転数(TON)、収率(yield)、パラ体の選択率(p-sel.(%))、Hの転化率(H(%)conv.)、Hの有効利用率(H(%)eff.)について、表4に示す。(eff.はEfficiencyの短縮形。) Table 4 shows the calcination status of each sample, the Ti content, catalyst turnover number (TON), yield, para-isopropyl selectivity (p-sel. (%)), H 2 O 2 conversion (H 2 O 2 (%) conv.), and effective utilization rate of H 2 O 2 (H 2 O 2 (%) eff.) in this experiment. (eff. is an abbreviation for efficiency.)

HQ、p-BQ、CLの収率の和を、total(トータル収率)として示している。また、パラ体の選択率(p-sel.)を、HQとp-BQの和をtotalで割ったものとして示している。TON(触媒回転数)は、トータルの生成物の物質量(モル数)を、Ti活性点のモル数で割ったものである。つまり、TONは、反応開始から反応終了まで(ここでは60分間)に、触媒サイクルが何回回転したかの指標となるものである。 The sum of the yields of HQ, p-BQ, and CL is shown as the total yield. The selectivity of the para isomer (p-sel.) is shown as the sum of HQ and p-BQ divided by the total. TON (catalytic turnover number) is the total amount of product substance (number of moles) divided by the number of moles of Ti active sites. In other words, TON is an indicator of how many times the catalytic cycle has been completed from the start of the reaction to the end of the reaction (60 minutes in this case).

(%)eff.(H有効利用率)は、過酸化水素の有効利用率であり、過酸化水素中の酸素が、どの程度の効率でフェノール酸化に関わったかを示す指標となるものである。 H 2 O 2 (%) eff. (effective H 2 O 2 utilization rate) is the effective utilization rate of hydrogen peroxide, and is an index showing the efficiency with which oxygen in hydrogen peroxide is involved in phenol oxidation.

表4の結果によれば、いずれのサンプルでも、フェノール酸化活性およびパラ選択性を示しており、触媒機能を有するチタノシリケートが得られていることが分かる。特に、いずれのサンプルにおいても、未焼成の状態での触媒機能(収率、TON等)が、焼成を行った状態での触媒機能を上回っていることが分かる。この結果は、FAU以外の骨格を用いた場合には見られない特有の結果と言える。 The results in Table 4 show that all samples exhibited phenol oxidation activity and para selectivity, indicating that titanosilicates with catalytic functionality were obtained. In particular, it can be seen that in all samples, the catalytic functionality (yield, TON, etc.) in the uncalcined state exceeded the catalytic functionality in the calcined state. This result is unique and cannot be seen when a framework other than FAU is used.

また、表4の結果によれば、焼成を行うことによりパラ選択率が下がり、反対にオルト選択率が上がっていることも分かる。この結果から、焼成温度を変えることにより、パラ選択率、オルト選択率を調整することができると考えられる。 The results in Table 4 also show that calcination reduces para selectivity and increases ortho selectivity. These results suggest that para selectivity and ortho selectivity can be adjusted by changing the calcination temperature.

10 チタン処理装置
11 石英管
12 加熱器
13 温度コントローラー
14 チタン源の容器
15 不活性ガスの供給源
16 四方バルブ
S 結晶
10 Titanium processing device 11 Quartz tube 12 Heater 13 Temperature controller 14 Titanium source container 15 Inert gas supply source 16 Four-way valve S Crystal

Claims (11)

FAU型ゼオライトの骨格内のアルミニウムの一部が、チタンに置き換えられてなり、
シリコンとチタンの含有比率(Si/Ti)が、20以上であり、
前記FAU型ゼオライトの骨格内のアルミニウムが、チタンに置き換えられていない場合に対し、水蒸気吸着量が50%以下であることを特徴とするチタノシリケート。
A part of aluminum in the framework of FAU zeolite is replaced with titanium,
The silicon to titanium content ratio (Si/Ti) is 20 or more,
A titanosilicate characterized in that the amount of water vapor adsorption is 50% or less compared to when the aluminum in the framework of the FAU-type zeolite is not replaced with titanium.
シリコンとアルミニウムの含有比率(Si/Al)が、1.5以上であることを特徴とする請求項1に記載のチタノシリケート。 The titanosilicate according to claim 1, characterized in that the silicon to aluminum content ratio (Si/Al) is 1.5 or more. UV-visスペクトルにおいて、200nm以上~230nmの波長範囲にピークを有することを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のチタノシリケート。 The titanosilicate described in either 1 or 2, characterized in that it has a peak in the wavelength range of 200 nm to 230 nm in the UV-vis spectrum. FAU型ゼオライトの細孔に、水素を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載のチタノシリケート。 The titanosilicate according to any one of claims 1 to 3, characterized in that hydrogen is contained in the pores of the FAU-type zeolite. 請求項1~4のいずれか一項に記載のチタノシリケートの製造方法であって、
前記FAU型ゼオライトを、骨格内にアルミニウムを含んだ状態で、気相のチタン源および反応ガスとともに加熱するチタン処理工程を有し、
前記FAU型ゼオライトとして、シリコンとアルミニウムの含有比率(Si/Al)が1.5以上のものを用いることを特徴とするチタノシリケートの製造方法。
A method for producing the titanosilicate according to any one of claims 1 to 4,
a titanium treatment step of heating the FAU zeolite, with aluminum contained in the framework, together with a gaseous titanium source and a reaction gas;
A method for producing titanosilicate, characterized in that the FAU-type zeolite has a silicon to aluminum content ratio (Si/Al) of 1.5 or more.
前記チタン処理工程の後の前記FAU型ゼオライトを、反応ガスとともに加熱する未反応チタン除去工程を、さらに有することを特徴とする請求項5に記載のチタノシリケートの製造方法。 The method for producing titanosilicate described in claim 5 further comprises a step of removing unreacted titanium by heating the FAU-type zeolite together with a reaction gas after the titanium treatment step. 記未反応チタン除去工程の後に、300℃以上800℃以下の焼成を行う焼成工程を、さらに有することを特徴とする請求項6に記載のチタノシリケートの製造方法。 7. The method for producing titanosilicate according to claim 6 , further comprising a calcination step of performing calcination at 300° C. or higher and 800° C. or lower after the unreacted titanium removal step. 請求項1~4のいずれか一項に記載のチタノシリケートを触媒として用い、フェノール類を酸化させることを特徴とするフェノール類の酸化方法。 A method for oxidizing phenols, comprising oxidizing phenols using the titanosilicate according to any one of claims 1 to 4 as a catalyst. 請求項8に記載のフェノール類の酸化方法を用いて前記フェノール類を酸化させ、
前記フェノール類としてフェノールを用いることを特徴とする二価フェノールの製造方法。
The phenols are oxidized using the method for oxidizing phenols according to claim 8,
A method for producing a dihydric phenol, wherein phenol is used as the phenol.
前記フェノールおよび前記チタノシリケートの溶媒として、エタノールを添加することを特徴とする請求項9に記載の二価フェノールの製造方法。 The method for producing a dihydric phenol according to claim 9, characterized in that ethanol is added as a solvent for the phenol and the titanosilicate. 前記フェノールおよび前記チタノシリケートの溶媒として、二価プロパノールを添加することを特徴とする請求項9に記載の二価フェノールの製造方法。 The method for producing dihydric phenol described in claim 9, characterized in that dihydric propanol is added as a solvent for the phenol and the titanosilicate.
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