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JP7780693B2 - Method for producing solderable electrodes of base metal tin or base metal tin alloy by heat treatment under atmospheric pressure - Google Patents
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JP7780693B2 - Method for producing solderable electrodes of base metal tin or base metal tin alloy by heat treatment under atmospheric pressure - Google Patents

Method for producing solderable electrodes of base metal tin or base metal tin alloy by heat treatment under atmospheric pressure

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JP7780693B2 JP2024010615A JP2024010615A JP7780693B2 JP 7780693 B2 JP7780693 B2 JP 7780693B2 JP 2024010615 A JP2024010615 A JP 2024010615A JP 2024010615 A JP2024010615 A JP 2024010615A JP 7780693 B2 JP7780693 B2 JP 7780693B2
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Description

本発明は、エアーの下ではんだ付け可能な卑金属と合金素子を焼結できる作製方法に関し、特に、電気めっき工程の代わりに、熱処理工程を行い、更に特に、スズの電気めっき工程を必要しなく、電子素子電極を作成でき、そして、電極が、はんだ付性を有しながら、高機能特性を有しながら、はんだ付け可能な電極を作製できる方法である。 The present invention relates to a manufacturing method for sintering solderable base metal and alloy elements under air, and in particular, a heat treatment process is performed instead of an electroplating process, and more particularly, a method for creating electronic element electrodes without the need for a tin electroplating process, and a method for creating solderable electrodes that have high-performance properties while retaining solderability.

既存技術1によれば、大気の下で、厚膜印刷の貴金属銀や銀パラジウム合金の高温熱処理を行うことができるが、貴金属や合金材料は、非常に高価である。 Existing technology 1 allows for high-temperature heat treatment of thick-film printed precious metals such as silver and silver-palladium alloys in air, but precious metals and alloy materials are very expensive.

既存技術2によれば、貴金属の銀や銀パラジウム合金の代わりに、厚膜印刷の卑金属の銅やニッケル或いは、銅ニッケル合金を利用できるが、復元雰囲気の下で、熱処理を行わなければ、卑金属の銅やニッケル或いは、銅ニッケル合金が、酸化することにより、その特性が失う。そのため、材料を、貴金属を卑金属に変更してコストを低下できるが、熱処理工程は、大気焼結から、復元雰囲気焼結に変更しなければならないため、工程コストが大幅に高騰する。 According to existing technology 2, base metals such as copper, nickel, or copper-nickel alloys can be used in thick-film printing instead of precious metals such as silver or silver-palladium alloys. However, unless heat treatment is performed in a restoring atmosphere, the base metals such as copper, nickel, or copper-nickel alloys will oxidize and lose their properties. Therefore, while costs can be reduced by changing the material from precious metals to base metals, the heat treatment process must be changed from air sintering to restoring atmosphere sintering, which significantly increases process costs.

既存技術3によれば、既存の電子素子は、電極として、上記既存技術1のエアーの下で焼結する貴金属を利用するか、或いは、既存技術2の復元雰囲気の下で焼結する卑金属を利用するが、更にスズの電気めっきで、回路ボードに溶接することができる。 According to existing technology 3, existing electronic components use either precious metals sintered under air as in existing technology 1 above, or base metals sintered under a restoring atmosphere as in existing technology 2, as electrodes, but can be further welded to a circuit board by electroplating with tin.

上記のように、既存技術によれば、既存の電子素子は、電極を作製して下記の三つの機能を実現でき、
機能一、電子素子を接続して、電子素子特性を実現し、
機能二、緊密機械連結に電子素子を接続し、そして、
機能三、半田付けを介して電子回路ボードに結合する。
As described above, according to existing technologies, existing electronic devices can achieve the following three functions by fabricating electrodes:
Function 1: Connect electronic elements to realize electronic element characteristics;
Function 2: Connect electronic components in a tight mechanical connection; and
Function 3: Connect to an electronic circuit board via soldering.

上記のように、大気の下で貴金属電極を焼結することや、復元雰囲気の下で卑金属電極を焼結することによっても、何方にしても、スズの電気めっき工程で、電極の表面に一層のスズ層を電気めっきすることにより、はんだ付け可能性が得られ、これにより、半田ペーストによって電子回路ボードに結合される。しかしながら、電気めっきが、高環境汚染の工程であるため、格別に一層のスズ層を電気めっきすることを必要しなくて、はんだ付け可能な金属電極は、要請される。 As mentioned above, whether sintering a noble metal electrode in air or a base metal electrode in a restoring atmosphere, solderability is achieved by electroplating a tin layer on the surface of the electrode in a tin electroplating process, allowing it to be bonded to an electronic circuit board using solder paste. However, because electroplating is a highly environmentally polluting process, there is a demand for solderable metal electrodes that do not require electroplating a single tin layer.

上記のように、半田ペーストの成分は、主として、フラックス(flux)とパウダー(powder)の両部分からなる。半田ペーストは、価額が安くて、導電率が良いが、半田ペーストは、熱処理する時、用意に酸化して、また、一団になりやすいため、電極として利用できなく、半田付けとして、銀電極や銅電極に接続することだけに応用できる。 As mentioned above, solder paste is primarily made up of both flux and powder. Solder paste is inexpensive and has good conductivity, but it oxidizes easily during heat treatment and tends to clump together, meaning it cannot be used as an electrode. It can only be used to connect silver or copper electrodes.

異なるサイズの半田ペースト粒体の溶接効果が異なるため、同じな品質でも、小さい粒体の半田ペーストの粘度がより大きくて、濡れ性がより優れ、そして、より速いスピードで溶けて、微粒状になるが、用意に酸化し、また、価額がより高くなる。その故に、一般従来のものは、実用上、電気めっき工程を行わなくて、電極が、はんだ付け可能になることはできない。 Because the welding effect of solder paste particles of different sizes is different, even if the quality is the same, solder paste with smaller particles has a higher viscosity, better wettability, and melts faster, becoming finer, but it oxidizes easily and is more expensive. Therefore, in practical terms, conventional solder pastes cannot be made solderable without an electroplating process.

本発明者は、上記欠点を解消するため、慎重に研究し、また、学理を活用して、有効に上記欠点を解消でき、設計が合理である本発明を提案する。 The inventors have conducted careful research to overcome the above drawbacks and, utilizing scientific theory, have proposed this invention, which effectively overcomes the drawbacks and has a rational design.

本発明の主な目的は、従来技術の上記問題を解消でき、電気めっき工程の代わりに、熱処理工程を利用して、スズの電気めっき工程を必要しなくて、電極にはんだ付性を有しながら高機能特性を維持できる電子素子を作製する方法を提供する。 The main objective of the present invention is to provide a method for producing electronic devices that can solve the above-mentioned problems of the prior art, utilize a heat treatment process instead of an electroplating process, and do not require a tin electroplating process, while still maintaining high performance characteristics while providing solderability to the electrodes.

上記の目的を達成するために、本発明は、エアーの下ではんだ付け可能な卑金属と合金素子を焼結できる作製方法であり、印刷した厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムに、10~90 wt%の金属アルミニウム粉末を添加するか、或いは、先ず、一層の厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを印刷してから、その上に、更に、一層の厚膜のアルミニウム保護層を印刷して、大気の下で、300~600°C熱処理を行う時、当該金属アルミニウム粉末や当該アルミニウム保護層の高好気性を利用し、当該卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを保護して、高温の大気の下での焼結する時、酸化することを避けることができ、または、当該卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムが、高温の大気の下での焼結によって酸化した後、当該金属アルミニウム粉末や当該アルミニウム保護層の強い復元特質におって、酸化した後の当該卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを、金属や合金に復元させて、はんだ付性がつけられ、電極の融解点が高くなる、厚膜の卑金属スズ電極や卑金属スズ合金電極が得られる。 To achieve the above objectives, the present invention provides a method for sintering solderable base metal and alloy elements under air, in which a printed thick-film base metal tin conductor paste film or a base metal tin alloy conductor paste film is sintered with 10 to 90% By adding 50% by weight of metallic aluminum powder, or by first printing a thick layer of base metal tin or base metal tin alloy conductive paste film, and then printing a thick layer of aluminum protective layer on top of it, and then heat treating it in air at 300-600°C, the highly aerobic properties of the metallic aluminum powder or aluminum protective layer are utilized to protect the base metal tin or base metal tin alloy conductive paste film, preventing it from oxidizing during sintering in high-temperature air. Furthermore, after the base metal tin or base metal tin alloy conductive paste film is oxidized during sintering in high-temperature air, the strong recovery properties of the metallic aluminum powder or aluminum protective layer allow the oxidized base metal tin or base metal tin alloy conductive paste film to recover to its original metal or alloy state, resulting in a thick-film base metal tin or base metal tin alloy electrode with solderability and a high melting point.

本発明の上記実施例によれば、当該卑金属スズ合金導体ペーストフィルム為スズ-銅合金或いは、すず-ニッケル合金のいずれかの一つである。 In accordance with the above embodiment of the present invention, the base metal tin alloy conductor paste film is either a tin-copper alloy or a tin-nickel alloy.

本発明の上記実施例によれば、当該アルミニウム保護層は、アルミニウムフィルムやアルミニウム合金フィルム或アルミニウム酸化物フィルムのいずれかの一つである。 According to the above embodiment of the present invention, the aluminum protective layer is one of an aluminum film, an aluminum alloy film, or an aluminum oxide film.

本発明の上記実施例によれば、当該アルミニウム合金フィルムは、銅アルミニウム合金であり、当該アルミニウム酸化物フィルムは、酸化銅である。 According to the above embodiment of the present invention, the aluminum alloy film is a copper-aluminum alloy, and the aluminum oxide film is copper oxide.

上記の目的を達成するために、本発明は、ブロック状セラミック素子であり、少なくとも、両側に位置する外端電極を有し、上記両側に位置する外端電極は、上記らの方法に従って、焼結によって形成された厚膜の卑金属スズの外端電極や卑金属スズ合金の外端電極である。 To achieve the above objective, the present invention provides a block-shaped ceramic element having at least outer electrodes located on both sides, the outer electrodes located on both sides being thick-film outer electrodes made of base metal tin or base metal tin alloy formed by sintering according to the above-mentioned method.

本発明の上記実施例によれば、当該ブロック状セラミック素子は、GPSセラミックアンテナや負温度係数(Negative Temperature Coefficient, NTC)のサーミスタ、正温度係数(Positive Temperature Coefficient, PTC)のサーミスタ、電圧依存抵抗器(Voltage Dependent Resistor, VDR)或いは、安全コンデンサである。 According to the above embodiment of the present invention, the block-shaped ceramic element is a GPS ceramic antenna, a negative temperature coefficient (NTC) thermistor, a positive temperature coefficient (PTC) thermistor, a voltage dependent resistor (VDR), or a safety capacitor.

上記の目的を達成するために、本発明は、積層セラミック共燒素子であり、少なくとも、外端電極があり、上記外端電極は、上記方法によって焼結されて形成された厚膜の卑金属スズの外端電極や卑金属スズ合金の外端電極である。 To achieve the above objective, the present invention provides a multilayer ceramic co-fired element having at least an outer electrode, which is a thick-film outer electrode made of base metal tin or a base metal tin alloy, formed by sintering using the above method.

本発明の上記実施例によれば、当該積層セラミック素子は、低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramic, LTCC)や積層セラミックコンデンサ(Multi-layer ceramic capacitors, MLCC)、積層NTC(Multilayer NTC)素子或いは、積層VDR(Multilayer VDR)素子である。 In the above-described embodiment of the present invention, the multilayer ceramic element is a low-temperature co-fired ceramic (LTCC), a multilayer ceramic capacitor (MLCC), a multilayer NTC element, or a multilayer VDR element.

本発明の上記実施例によれば、当該外端電極は、当該積層セラミック共燒素子を高温焼結して、ニッケルメッキした後、卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムの浸漬鍍金してから、更に、アルミニウム保護層の浸漬鍍金を行い、それから、エアーの下で、熱処理して、焼結により当該アルミニウム保護層を除去することによって形成される。 In the above embodiment of the present invention, the outer electrodes are formed by high-temperature sintering the multilayer ceramic co-fired element, nickel plating, immersion plating with a base metal tin conductor paste film or a base metal tin alloy conductor paste film, immersion plating with an aluminum protective layer, and then heat treating the element in air to remove the aluminum protective layer by sintering.

本発明の上記実施例によれば、当該外端電極は、当該積層セラミック共燒素子を高温焼結した後、直接、卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを浸漬鍍金して、更にアルミニウム保護層を浸漬鍍金し、それから、エアーの下で、熱処理して、焼結により当該アルミニウム保護層を除去することによって形成される。 In the above embodiment of the present invention, the outer electrodes are formed by high-temperature sintering of the multilayer ceramic co-fired element, followed by direct immersion plating with a base metal tin conductor paste film or a base metal tin alloy conductor paste film, followed by immersion plating with an aluminum protective layer, followed by heat treatment in air to remove the aluminum protective layer by sintering.

上記の目的を達成するために、本発明は、チップ抵抗器であり、少なくとも、抵抗層に接続される正面電極や裏面電極を有し、上記の正面電極や裏面電極は、上記らの方法により、焼結されて形成される厚膜の卑金属の正面スズ電極や卑金属の正面スズ合金電極であり、或いは、卑金属の裏面スズ電極や卑金属の裏面スズ合金電極である。 To achieve the above objectives, the present invention provides a chip resistor having at least a front electrode and a back electrode connected to a resistive layer, wherein the front electrode and back electrode are thick-film base-metal front tin electrodes or base-metal front tin alloy electrodes formed by sintering using the above methods, or are base-metal back tin electrodes or base-metal back tin alloy electrodes.

上記の目的を達成するために、本発明は、卑金属を合金抵抗層とするチップ合金抵抗器を作製方法であり、先ず、一層の厚膜の卑金属合金抵抗ペーストフィルムを印刷してから、その上に、更に、一層の厚膜のアルミニウム保護層を印刷し、チップ抵抗工程に従って、大気の下で、500~1400°Cの熱処理を行い、当該アルミニウム保護層の高好気性により、高温の大気下での焼結の時、当該卑金属合金抵抗ペーストフィルムを保護して、酸化しなく、当該アルミニウム保護層に、絶縁性を有しながら高熱伝導の放熱層が形成されることにより、はんだ付性を有しながら、抵抗特性を維持できる厚膜の卑金属合金抵抗層が得られる。 To achieve the above objectives, the present invention provides a method for manufacturing chip alloy resistors with a base metal alloy resistive layer. First, a single layer of thick-film base metal alloy resistive paste film is printed, and then a second layer of thick-film aluminum protective layer is printed on top of that. Following the chip resistor process, heat treatment is performed in air at 500-1400°C. The highly aerobic nature of the aluminum protective layer protects the base metal alloy resistive paste film from oxidation during sintering in high-temperature air. Furthermore, a heat dissipation layer with high thermal conductivity and insulating properties is formed on the aluminum protective layer, resulting in a thick-film base metal alloy resistive layer that is solderable and can maintain its resistive properties.

本発明の上記実施例によれば、当該卑金属合金抵抗ペーストフィルムは、銅ニッケルフィルムや銅マンガンフィルム或いは、ニッケルクロム(ケイ素)フィルムのいずれかの一つである。 According to the above embodiment of the present invention, the base metal alloy resistor paste film is one of a copper-nickel film, a copper-manganese film, or a nickel-chromium (silicon) film.

本発明の上記実施例によれば、当該アルミニウム保護層は、アルミニウムフィルムやアルミニウム合金フィルム或いは、アルミニウム酸化物フィルムのいずれかの一つである。 According to the above embodiment of the present invention, the aluminum protective layer is one of an aluminum film, an aluminum alloy film, or an aluminum oxide film.

本発明の上記実施例によれば、当該アルミニウム合金フィルムは、銅アルミニウム合金で、当該アルミニウム酸化物フィルムは、酸化銅である。 According to the above embodiment of the present invention, the aluminum alloy film is a copper-aluminum alloy, and the aluminum oxide film is copper oxide.

本発明の上記実施例によれば、当該チップ抵抗工程の折り畳み工程の後に、高導電率の金属スズをスパッタして、と内部の当該卑金属合金抵抗層に接続して、サイドガイドするように、オーム接触を形成し、その後、当該チップ抵抗工程に従って、その後の標準工程を終了し、当該チップ合金抵抗器を作製する。 According to the above embodiment of the present invention, after the folding step of the chip resistor process, highly conductive metal tin is sputtered to connect to the internal base metal alloy resistor layer and form an ohmic contact for side guiding. Then, the subsequent standard steps are completed according to the chip resistor process to produce the chip alloy resistor.

以下、図面を参照しながら、本発明の特徴や技術内容について、詳しく説明するが、それらの図面等は、参考や説明のためであり、本発明は、それによって制限されることが無い。 The features and technical content of the present invention will be explained in detail below with reference to the drawings. However, these drawings are for reference and explanation purposes only and the present invention is not limited thereby.

図1~図10は、夫々、本発明のアルミニウムにスズを添加して焼結する時の微構造図や本発明のアルミニウムに銅スズを添加して焼結する時の微構造図、本発明のスズ銅フィルムで、アルミニウムフィルムを覆って焼結する時の微構造図、本発明の新規工程で、セラミック素子のアルミニウム銅スズの外端電極を作製する時の微構造図で、本発明の新規工程で、セラミック素子のスズの外端電極を作製する時の微構造図、本発明の新規工程で、積層セラミック素子を応用してスズの外端電極を焼結する時の構造概念図、本発明の新規工程で、積層セラミック素子を応用して、直接にスズの外端電極を焼結する時の構造概念図、本発明に係るチップ抵抗器の正面スズと裏面スズ電極の構造概念図、本発明に係る大気の下で、合金抵抗器の保護層を焼結する時の微構造図及び、本発明に係る大気の下で、合金抵抗器を焼結する時のサイドガイド工程とその電極の微構造概念図である。図のように、本発明は、エアーの下ではんだ付け可能な卑金属と合金素子を焼結できる作製方法であり、印刷した厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムに、金属アルミニウム粉末を添加するか、或いは、先ず、一層の厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを印刷してから、その上に、更に、一層の厚膜のアルミニウム保護層を印刷して、大気の下で、300~600°Cの熱処理を行う時、当該金属アルミニウム粉末や当該アルミニウム保護層の高好気性を利用し、当該卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを保護して、高温の大気の下での焼結する時、酸化することを避けることができ、または、当該卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムが、高温の大気の下での焼結によって酸化した後、当該金属アルミニウム粉末や当該アルミニウム保護層の強い復元特質によって、酸化した後の当該卑金属スズ導体ペーストフィルムや卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを、金属や合金に復元させて、大気の下で高温焼結によって容易に酸化する卑金属スズやスズ合金が、金属導電率や合金の特性を維持でき、これにより、はんだ付性を有して、電極融解点が向上される厚膜の卑金属スズ電極や卑金属スズ合金電極が得られる。 Figures 1 to 10 are, respectively, microstructural diagrams of the present invention when tin is added to aluminum and sintered, microstructural diagrams of the present invention when copper-tin is added to aluminum and sintered, microstructural diagrams of the present invention when an aluminum film is covered with a tin-copper film and sintered, microstructural diagrams of the present invention when an aluminum-copper-tin outer electrode of a ceramic element is produced using the new process of the present invention, microstructural diagrams of the present invention when tin outer electrodes of a ceramic element are produced using the new process of the present invention, structural conceptual diagrams of the present invention when sintering tin outer electrodes using a multilayer ceramic element using the new process of the present invention, structural conceptual diagrams of the present invention when sintering tin outer electrodes directly using a multilayer ceramic element using the new process of the present invention, structural conceptual diagrams of the front and back tin electrodes of a chip resistor according to the present invention, microstructural diagrams of the present invention when sintering a protective layer of an alloy resistor under atmospheric conditions, and a side guide process and a conceptual diagram of the microstructural structure of the electrodes when sintering an alloy resistor under atmospheric conditions according to the present invention. As shown in the figure, the present invention is a method for sintering solderable base metal and alloy elements in air, by adding metallic aluminum powder to a printed thick-film base metal tin conductor paste film or base metal tin alloy conductor paste film, or by first printing one layer of thick-film base metal tin conductor paste film or base metal tin alloy conductor paste film, and then printing one layer of thick-film aluminum protective layer on top of it, and then performing a heat treatment at 300 to 600°C in air, utilizing the highly aerobic nature of the metallic aluminum powder or the aluminum protective layer to protect the base metal tin conductor paste film or base metal tin alloy conductor paste film. This prevents oxidation during sintering in high-temperature air. Alternatively, after the base metal tin conductor paste film or base metal tin alloy conductor paste film is oxidized by sintering in high-temperature air, the strong recovery properties of the metal aluminum powder and the aluminum protective layer allow the oxidized base metal tin conductor paste film or base metal tin alloy conductor paste film to recover to its metal or alloy state. This allows base metal tin and tin alloys, which are easily oxidized by high-temperature sintering in air, to maintain their metal conductivity and alloy properties, resulting in a thick-film base metal tin electrode or base metal tin alloy electrode with solderability and an improved electrode melting point.

本発明によれば、金属電極は、格別に一層のスズ層を電気めっきすることを必要しなく、はんだ付け可能になるため、二種類の、電気めっき工程の代わりに熱処理を利用して、はんだ付け可能な電極を作製できる方法を提案する。 According to the present invention, metal electrodes can be soldered without the need for electroplating a single tin layer. Therefore, two methods are proposed for producing solderable electrodes using heat treatment instead of the electroplating process.

その一、本発明によれば、電極に、直接に、大量の金属パウダーを添加し、また、金属電極が、焼結温度の下で、酸化しなくて、液体に溶融しないために、金属パウダーが大気の下での熱処理によって酸化することを避けることが必要になり、そのため、高酸化生成エンタルピーを添加した金属アルミニウム粉末で、スズを保護して酸化しなく、また、金属パウダーの低い融解点について、その他の、例えば、金属銅粉の金属を添加することにより、銅スズ合金を生成してその融解点を向上させる。 First, according to the present invention, a large amount of metal powder is added directly to the electrode. Furthermore, since the metal electrode does not oxidize or melt into a liquid at the sintering temperature, it is necessary to prevent the metal powder from oxidizing during heat treatment in the atmosphere. Therefore, aluminum metal powder, which has a high oxidation enthalpy, is added to protect the tin from oxidation. Furthermore, due to the low melting point of the metal powder, other metals, such as copper metal powder, are added to form a copper-tin alloy, which raises its melting point.

その二、本発明によれば、スズを、直接に電極として利用しながら、直接に、スズ電極の上に、アルミニウムフィルムを覆うことにより、スズ電極が熱処理時に酸化されることを避け、そして、スズが、熱処理によって液体に溶融することを防止するため、スズフィルムに、例えば、銅のような適当な金属を添加することで、スズ銅合金を生成して、電極の融解点が向上される。 Second, according to the present invention, tin is used directly as an electrode, and an aluminum film is directly coated on the tin electrode to prevent the tin electrode from being oxidized during heat treatment. Furthermore, to prevent the tin from melting into a liquid during heat treatment, a suitable metal, such as copper, is added to the tin film to form a tin-copper alloy, thereby increasing the melting point of the electrode.

以下実施例は、本発明の詳細と内包を説明するものであり、本発明の請求範囲は、それによって、制限されず。 The following examples are provided to illustrate the details and scope of the present invention, but the scope of the claims is not limited thereby.

下の表一と表二は、金属アルミニウム粉末を金属パウダーや金属銅及びスズに添加することによって、厚膜の導体ペーストフィルムを作製してから、厚膜にスクリ-ン印刷し、それから、エアーの下での300~600°C焼結の熱処理を受けた後の抵抗値と抵抗特性である。 Tables 1 and 2 below show the resistance values and resistance characteristics after a thick conductive paste film was made by adding aluminum metal powder to metal powder, copper metal, and tin metal, then screen-printed onto the thick film and then subjected to a heat treatment of sintering at 300-600°C under air.

表一から分かるように、金属パウダーは、金属アルミニウム粉末の添加量の増加に従って、熱処理の時、その抗酸化能が強くなり、その中、40 wt%の金属アルミニウム粉末を60 wt%の金属パウダーに添加することにより、或いは、30 wt%の金属アルミニウム粉末を70 wt%の金属パウダーに添加することにより、ともに、スズアルミニウム混合導体ペーストフィルムは、エアーの下での600°Cの焼結でも、高導電率を維持できる。 As can be seen from Table 1, the oxidation resistance of the metal powder during heat treatment increases with the amount of metallic aluminum powder added. By adding 40 wt% metallic aluminum powder to 60 wt% metallic powder, or by adding 30 wt% metallic aluminum powder to 70 wt% metallic powder, the tin-aluminum mixed conductor paste film can maintain high conductivity even when sintered at 600°C in air.

表二から分かるように、金属パウダーを銅粉に混合したものは、金属アルミニウム粉末の添加量の増加とともに、熱処理の時、抗酸化能が強くなり、その中、50 wt%の金属アルミニウム粉末を50 wt%の金属銅粉に添加することにより、或いは、40 wt%の金属アルミニウム粉末を60 wt%の金属銅粉に添加することにより、ともに、銅アルミニウム混合導体ペーストフィルムは、エアーの下での600°Cの焼結でも、高導電率を維持できる。 As can be seen from Table 2, when metal powder is mixed with copper powder, the antioxidant ability during heat treatment increases with the amount of metallic aluminum powder added. By adding 50 wt% metallic aluminum powder to 50 wt% metallic copper powder, or by adding 40 wt% metallic aluminum powder to 60 wt% metallic copper powder, the copper-aluminum mixed conductor paste film can maintain high conductivity even when sintered at 600°C in air.

図1は、金属アルミニウム粉末を金属パウダーに添加して、大気の下で、500°Cと600°Cの焼結温度の時の微構造(1000倍の顕微拡大倍率)であり、高好気性のアルミニウム金属粉末があるため、大気の下での高温焼結でも、スズは、金属の高導電特性を維持できることが、明白的である。 Figure 1 shows the microstructure (1000x microscope magnification) of the metal powder when aluminum metal powder is added and sintered at temperatures of 500°C and 600°C in air. It is clear that the highly aerobic aluminum metal powder allows the tin metal to maintain its high conductivity even when sintered at high temperatures in air.

図2は、金属アルミニウム粉末を金属パウダー混合銅粉に添加して、大気の下での異なる焼結温度の時の微構造であり、その中、図(a)は、1000倍拡大の顕微構造図であり、図(b)は、エネルギー分散型分光計(Energy Dispersive Spectrometer, EDS)の階層イメージであり、図(c)は、材料解析図である。高好気性のアルミニウム金属粉末があるため、大気の下での高温焼結でも、形成されたスズ-銅合金やスズ及び銅金属は、金属の高導電特性を維持できることが、明白的である。 Figure 2 shows the microstructure of aluminum powder mixed with copper powder at different sintering temperatures in air. Figure (a) is a 1000x magnification micrograph, Figure (b) is a layered image taken with an energy dispersive spectrometer (EDS), and Figure (c) is a material analysis diagram. It is clear that due to the presence of highly aerobic aluminum powder, the resulting tin-copper alloys and tin and copper metals can maintain their high conductivity even when sintered at high temperatures in air.

図3は、印刷した金属スズフィルムの上に覆うように、アルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムを印刷した時、大気の下で、400°Cの焼結温度での微構造であり、その中、図(a)は、1000倍拡大の顕微構造図であり、図(b)は、EDS階層イメージである。高好気性と強い復元特質の金属アルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムがあるため、大気の下での高温焼結でも、下層の金属スズフィルムは、金属の高導電特性を維持できることが、明白的である。 Figure 3 shows the microstructure of an aluminum film or aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film printed on top of a printed metal tin film, sintered at 400°C in air. Figure (a) is a 1000x magnification microscopic structure image, and Figure (b) is an EDS layered image. Because metal aluminum film and aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film have high aerobicity and strong recovery properties, it is clear that the underlying metal tin film can maintain its high metal conductivity even when sintered at high temperatures in air.

[実施例一]
本発明のより良い具体的な実施例によれば、本発明は、新規工程をブロック状セラミック素子の外端電極に応用でき、当該ブロック状セラミック素子は、GPSセラミックアンテナや負温度係数(Negative Temperature Coefficient, NTC)のサーミスタ、正温度係数(Positive Temperature Coefficient, PTC)のサーミスタ、電圧依存抵抗器(Voltage Dependent Resistor, VDR)或いは、安全コンデンサである。
[Example 1]
In a more specific embodiment of the present invention, the novel process can be applied to the outer electrodes of a ceramic block element, such as a GPS ceramic antenna, a negative temperature coefficient (NTC) thermistor, a positive temperature coefficient (PTC) thermistor, a voltage dependent resistor (VDR), or a safety capacitor.

本発明によれば、スズアルミニウム銅混合で、導体ペーストフィルムを、外端電極として、ブロック状セラミック素子の両側に印刷して、エアーの下で、300~600°Cの熱処理を行い、図4のようである。 According to the present invention, a conductive paste film made of a tin-aluminum-copper mixture is printed on both sides of a block-shaped ceramic element as the outer electrodes, and then heat-treated at 300-600°C under air, as shown in Figure 4.

また、ブロック状セラミック素子の両側に、夫々、スズ電極を印刷して、スズ電極の上に、アルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムにアルミニウム保護層を印刷し、その後、エアーの下で300~600°Cの熱処理を行って、上のアルミニウム電極で、下のスズやスズ合金電極を保護して酸化を避け、図5のようであり、その中、図(a)は、1000倍拡大の顕微構造図であり、図(b)は、EDS階層イメージである。 In addition, tin electrodes are printed on both sides of the block-shaped ceramic element, and then an aluminum protective layer is printed on top of the tin electrode, either on an aluminum film or an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film. This is then heat-treated in air at 300-600°C, allowing the upper aluminum electrode to protect the lower tin or tin alloy electrode and prevent oxidation. The result is shown in Figure 5, where (a) is a 1000x magnification microscopic structural image, and (b) is an EDS layered image.

表三は、外端電極として、アルミニウムスズに関連する合金(例えば、銅スズアルミニウム)フィルムを、ブロック状VDR素子に厚膜印刷してから、エアーの下で、焼結により、300~600°Cの熱処理を行う時の電気性質や溶接特性は、非常に優れた抵抗特性が得られる。 Table 3 shows that when an aluminum-tin-related alloy (e.g., copper-tin-aluminum) film is thick-printed onto a block-shaped VDR element as the outer electrode, and then heat-treated at 300-600°C by sintering under air, the electrical and welding properties are excellent, resulting in excellent resistance characteristics.

表四は、金属スズフィルムやスズ合金(例えば、スズ銅)フィルムを盤状電圧依存抵抗器に厚膜印刷してから、その上に、金属アルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムに厚膜印刷し、最後に、エアーの下で、300~600°Cの焼結で、熱処理を行う時の電気性質と溶接特性が、金属アルミニウムフィルムやスズ合金フィルムが覆われた金属スズフィルムが、極めって低い抵抗値を有し、金属アルミニウムフィルムが覆われた合金スズフィルム電極の電圧依存抵抗器が、非常に優れた電圧依存抵抗器特性を有する。 Table 4 shows the electrical and welding properties of a voltage-dependent resistor made by thick-printing a metal tin film or a tin alloy (e.g., tin-copper) film onto a disc-shaped voltage-dependent resistor, then thick-printing a metal aluminum film or an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film on top of that, and finally sintering it in air at 300-600°C. The metal tin film covered with the metal aluminum film or tin alloy film has extremely low resistance, while the voltage-dependent resistor with an alloy tin film electrode covered with a metal aluminum film has excellent voltage-dependent resistor properties.

[実施例二]
本発明のより良い具体的な実施例によれば、本発明は、新規工程を積層セラミック素子の外端電極に応用でき、当該積層セラミック素子は、低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramic, LTCC)や積層セラミックコンデンサ(Multi-layer ceramic capacitors, MLCC)、積層NTC(Multilayer NTC)素子或いは、積層VDR(Multilayer VDR)素子である。
[Example 2]
According to a more specific embodiment of the present invention, the novel process can be applied to the outer electrodes of a multilayer ceramic element, such as a low temperature co-fired ceramic (LTCC), a multilayer ceramic capacitor (MLCC), a multilayer NTC element, or a multilayer VDR element.

1.積層セラミック共燒素子11に対して、高温焼結を実行してから、銀ペーストや銅ペーストの浸漬鍍金工程の後、大気や窒素の下で、高温焼結によって外端電極12を形成し、従来は、積層セラミック素子を回路ボードに溶接するために、ニッケルメッキやスズの電気めっき工程によってニッケルメッキ層13やスズの電気めっき層14を形成することが必要で、例えば、図6、7の(a)のような構造であり、また、ニッケルメッキやスズの電気めっきが、環境を汚染する工程を避けるため、本発明は、スズの浸漬鍍金やアルミニウムの浸漬鍍金によりスズ層15やアルミニウム保護層16が形成され、そして、熱処理して、300~600°Cの焼結により、外面のアルミニウム保護層16を除去し、焼結のスズ層の外端電極17が形成され、従来のスズの電気めっき層14の代わりに、上記の焼結のスズ層を利用して、図6の(b)、(c)のような構造が得られる。 1. After high-temperature sintering of the multilayer ceramic co-fired element 11, a silver or copper paste immersion plating process is performed, followed by high-temperature sintering in air or nitrogen to form the outer electrode 12. Conventionally, in order to weld the multilayer ceramic element to a circuit board, a nickel plating layer 13 or a tin electroplating layer 14 must be formed using a nickel plating or tin electroplating process, resulting in structures such as those shown in Figures 6 and 7(a). To avoid the environmentally polluting effects of nickel plating or tin electroplating, the present invention forms a tin layer 15 or an aluminum protective layer 16 using tin immersion plating or aluminum immersion plating. The outer aluminum protective layer 16 is then removed by heat treatment and sintering at 300-600°C, forming a sintered tin layer outer electrode 17. By using the sintered tin layer instead of the conventional tin electroplating layer 14, structures such as those shown in Figures 6(b) and 6(c) can be obtained.

2.積層セラミック共燒素子11に対して、高温焼結を実行してから、直接に、スズやアルミニウムの浸漬鍍金により、スズ層15やアルミニウム保護層16が形成され、それから、300~600°Cの焼結の熱処理により、外面のアルミニウム保護層16を除去し、焼結による銀や銅の外端電極の代わりに、焼結のスズの外端電極17を形成することにより、内部電極111に接続することができるだけでなく、スズの電気めっき工程を必要しなくて、直接に、回路ボードの上にはんだ付けでき、図7の(b)、(c)のような構造が得られる。 2. After high-temperature sintering of the multilayer ceramic co-fired element 11, the tin layer 15 and aluminum protective layer 16 are formed directly by tin or aluminum immersion plating. Then, the outer aluminum protective layer 16 is removed by sintering heat treatment at 300-600°C. Instead of the sintered silver or copper outer electrodes, sintered tin outer electrodes 17 are formed. This not only allows connection to the internal electrodes 111, but also eliminates the need for a tin electroplating process and allows direct soldering onto a circuit board, resulting in the structures shown in Figures 7(b) and (c).

[実施例三]チップ抵抗
1.本発明は、新規工程を、チップ抵抗電極に応用して、図8のようであり、その中、図(a)は、従来の抵抗端電極構造であり、図(b)、(c)は、本発明の新規抵抗端電極構造である。
[Example 3] Chip resistor
1. The present invention applies a new process to chip resistor electrodes, as shown in Figure 8, where Figure (a) shows the conventional resistor terminal electrode structure, and Figures (b) and (c) show the new resistor terminal electrode structure of the present invention.

チップ抵抗器や抵抗層に接続される正面電極や裏面電極を作製する時、先ず、抵抗フィルム22を連結するスズフィルム21を印刷してから、一層のアルミニウムフィルムやアルミニウム合金フィルムであるアルミニウム保護層23を印刷し、それから、300~600°Cの熱処理を行い、これにより、抵抗層26を接続する、大気の下での焼結でも、高導電率が得られる裏面スズ電極24や正面スズ電極25が生成され、図8の(b)、(c)のような構造になり、そのため、既存の大気の下での焼結の高導電率を有する正面銀電極27に相当する、抵抗器の特性安定性が得られ、また、電気めっき工程を必要しなくて、図8の(a)のようなニッケルメッキ層28やスズの電気めっき層29が形成される。 When fabricating the front and back electrodes connected to the chip resistor or resistive layer, a tin film 21 is first printed to connect the resistive film 22, followed by printing an aluminum protective layer 23, which is a single layer of aluminum or aluminum alloy film. Heat treatment at 300-600°C then forms the back tin electrode 24 and front tin electrode 25 that connect the resistive layer 26 and have high conductivity even when sintered in air, resulting in a structure like that shown in Figure 8(b) and (c). This provides stable resistor characteristics equivalent to the front silver electrode 27, which has high conductivity when sintered in air. Furthermore, a nickel plating layer 28 and a tin electroplating layer 29, as shown in Figure 8(a), are formed without the need for an electroplating process.

2.本発明は、新規工程を、合金チップ抵抗に応用して、図9のようであり、その中、図(a)は、異なる温度(800°C/10min、850°C/10min、750°C/10min+850°C/10min)での顕微構造図であり、図(b)は、図(a)の異なる温度で処理した時のEDS階層イメージである。 2. This invention applies the new process to alloy chip resistors, as shown in Figure 9, where Figure (a) shows the microscopic structure at different temperatures (800°C/10 min, 850°C/10 min, 750°C/10 min + 850°C/10 min), and Figure (b) shows the EDS layer image when processed at the different temperatures shown in Figure (a).

(一)保護層
先ず、合金抵抗ペースト(例えば、銅ニッケル、銅マンガン、ニッケルクロム(ケイ素))フィルムを印刷して、その後、合金抵抗ペーストフィルムの上に、更に、アルミニウム保護層として、一層の厚膜の的アルミニウムフィルムやアルミニウム合金フィルム(例えば、銅アルミニウム)或いは、アルミニウム酸化物フィルムを印刷し、500~1400°Cの高温熱処理時、合金抵抗ペーストフィルムを保護して、酸化を防止し、合金抵抗ペーストフィルムの高機能抵抗特性を維持し、その上のアルミニウム保護層によって、絶縁が形成されて、高熱伝導の特性を有し、図9のようである。
(1) Protective Layer First, a film of alloy resistor paste (e.g., copper-nickel, copper-manganese, nickel-chromium (silicon)) is printed, and then a thick layer of aluminum film, aluminum alloy film (e.g., copper-aluminum), or aluminum oxide film is printed on the alloy resistor paste film as an aluminum protective layer. This protects the alloy resistor paste film from oxidation during high-temperature heat treatment at 500-1400°C, maintaining the high-performance resistance properties of the alloy resistor paste film. The aluminum protective layer on top provides insulation and high thermal conductivity, as shown in Figure 9.

(二)構造
先ず、基板31の上に、合金抵抗ペースト(例えば、銅ニッケルや銅マンガン及びニッケルクロム(ケイ素))フィルム32を印刷し、その後、合金抵抗ペーストフィルム32の上に、更に、アルミニウム保護層33として、一層の完全に下の合金抵抗ペーストフィルムを覆う厚膜のアルミニウムやアルミニウム合金フィルム(例えば、銅アルミニウム)或いは、アルミニウム酸化物フィルムを印刷し、500~1400°Cの高温熱処理の時、酸化しないように合金抵抗ペーストフィルムを保護する。また、合金抵抗層34に接続するため、チップ抵抗器の折り畳み工程やサイドガイドのスパッタ工程により、例えば、銅やスズの高導電率の金属をスパッタして、銅層35やスズ層で、大気の下で焼結される卑金属合金抵抗層34を接続し、図10のように、従来の銅のスパッタによるチップ合金抵抗器は、更に、ニッケルメッキやスズの電気めっき工程により、素子が形成されるが、スズのスパッタによるチップ合金抵抗器は、ニッケルメッキやスズの電気めっきを必要しなくて、素子が形成され、その中、図10は、大気で焼結する合金抵抗器のサイドガイド電極の構造であり、図(a)は、エッチング工程を有し、図(b)は、エッチング工程を有しない。この新規構造は、大気で、チップ抵抗器を焼結でき、その電気特性は、表五のようである。
(2) Structure First, an alloy resistor paste (e.g., copper-nickel, copper-manganese, and nickel-chromium (silicon)) film 32 is printed on a substrate 31. Then, an aluminum protective layer 33 is printed on the alloy resistor paste film 32. This thick aluminum or aluminum alloy film (e.g., copper-aluminum) or aluminum oxide film completely covers the underlying alloy resistor paste film, protecting the alloy resistor paste film from oxidation during high-temperature heat treatment at 500-1400°C. Furthermore, to connect the alloy resistance layer 34, a highly conductive metal such as copper or tin is sputtered during the chip resistor folding process or side guide sputtering process, and the copper layer 35 or tin layer is used to connect the base metal alloy resistance layer 34 sintered in air. As shown in Figure 10, while a conventional chip alloy resistor made by copper sputtering further requires a nickel or tin electroplating process to form the element, a chip alloy resistor made by tin sputtering does not require nickel or tin electroplating to form the element. Figure 10 shows the structure of the side guide electrode of an alloy resistor sintered in air, where Figure (a) includes an etching process and Figure (b) does not. This novel structure allows chip resistors to be sintered in air, and its electrical properties are shown in Table 5.

上記の説明のように、本発明に係る方法は、下記らの技術特徴がある。 As explained above, the method of the present invention has the following technical features:

1. 金属パウダー(10~50 wt%)と(10~90 wt%)の金属アルミニウム粉末を添加した卑金属粉末(例えば、ニッケルや銅)を厚膜印刷して、大気の下で、300~600°Cの熱処理を行うことにより、卑金属のニッケルや銅及びスズの酸化を避けることができ、同時に、スズ合金の融解点が向上され、これにより、はんだ付性を有しながら、高機能特性を有する厚膜の卑金属電極フィルムが得られる。 1. By printing a thick film of base metal powder (e.g., nickel or copper) with metal powder (10-50 wt%) and metallic aluminum powder (10-90 wt%) added, and then heat treating it in air at 300-600°C, oxidation of the base metals nickel, copper, and tin can be avoided, while at the same time the melting point of the tin alloy is increased, resulting in a thick base metal electrode film that has solderability and high functional properties.

2. セラミック基板の上に、一層の例えば、スズである卑金属導体ペーストフィルム或いは、例えば、スズ合金(例えば、10~90 wt%スズ銅)の卑金属合金導体ペーストフィルムを厚膜印刷してから、当該卑金属導体ペーストフィルムや卑金属合金導体ペーストフィルムの上に、一層の厚膜印刷のアルミニウムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)のアルミニウム保護層を印刷することにより、エアーの下で300~600°Cの熱処理において、卑金属のスズや銅の酸化と溶融を避けることができ、そのため、はんだ付け可能なスズや高機能特性の厚膜の卑金属スズ電極フィルム或いは、スズ合金電極フィルムが得られる。 2. A layer of base metal conductor paste film, such as tin, or a base metal alloy conductor paste film, such as a tin alloy (e.g., 10 to 90 wt% tin-copper), is thick-film printed onto a ceramic substrate, and then a layer of thick-film printed aluminum protective layer of aluminum or an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) is printed on top of the base metal conductor paste film or base metal alloy conductor paste film. This prevents the base metal tin or copper from oxidizing and melting during heat treatment at 300 to 600°C in air, thereby producing a solderable tin or a thick-film base metal tin electrode film or tin alloy electrode film with high performance properties.

3.誘電セラミックス安全コンデンサやバリスタの外端電極には、高導電率の他に、はんだ付け可能な性質を必要とし、それは、銅やスズ(10~50wt%)及びアルミニウム(10~90wt%)の添加割合を調整して、伝導電気性質機能やはんだ付け可能な電極を実現できる。 3. The outer electrodes of dielectric ceramic safety capacitors and varistors require high conductivity as well as solderability. This can be achieved by adjusting the addition ratio of copper, tin (10-50wt%), and aluminum (10-90wt%).

4.半導体セラミックスNTC、PTCの外端電極には、高導電率の他に、はんだ付け可能な性質を必要とし、また、半導化セラミックにオーム接触を形成することも必要になり、それは、銅やニッケル、スズ(10~50wt%)及びアルミニウム(10~90wt%)の添加割合を調整して、これにより、異なる仕事関数を有する厚膜の電極が、オーム接触になって、伝導電気性質機能とはんだ付け可能な電極を実現できる。 4. In addition to high conductivity, the outer electrodes of semiconductor ceramic NTC and PTC must also be solderable. They must also be able to form ohmic contacts with the semiconductor ceramic. This is achieved by adjusting the proportions of copper, nickel, tin (10-50 wt%), and aluminum (10-90 wt%) added, allowing thick-film electrodes with different work functions to form ohmic contacts, achieving conductive electrical properties and solderability.

5.積層セラミック共燒素子の外端電極を作製する場合、ニッケルメッキの後に、更にスズや銅スズの浸漬鍍金を行い、それから、アルミニウムを浸漬鍍金してスズを保護し、エアーの下で熱処理(300~600°C)でスズや銅スズを焼結して、上層のアルミニウム保護層を除去し、スズの電気めっき層の代わりに、焼結したスズやスズ銅層が形成される。 5. When manufacturing the outer electrodes of a multilayer ceramic co-fired element, after nickel plating, tin or copper-tin immersion plating is performed, and then aluminum is immersion plated to protect the tin. The tin or copper-tin is then sintered by heat treatment (300-600°C) in air, removing the upper aluminum protective layer and forming a sintered tin or tin-copper layer in place of the electroplated tin layer.

6.積層セラミック共燒素子の外端電極を作製する場合、直接に、既存の、スズの電気めっきを必要とする高温焼結銀電極や銅電極の代わりに、スズや銅スズの浸漬鍍金を行い、それから、スズやスズ銅を保護するためのアルミニウムを浸漬鍍金し、また、エアーの下で熱処理(300~600°C)によって、スズや銅スズの焼結を行い、そして、既存の、銅や銀を焼結してからニッケルメッキやスズメッキによる外端電極の代わりに、上層のアルミニウム保護層を除去して焼結のスズやスズ銅の外端電極が形成される。 6. When manufacturing the outer electrodes of multilayer ceramic co-fired elements, instead of the existing high-temperature sintered silver electrodes or copper electrodes that require tin electroplating, tin or copper-tin immersion plating is performed, followed by immersion plating with aluminum to protect the tin or tin-copper. The tin or copper-tin is then sintered by heat treatment in air (300-600°C). Then, instead of the existing outer electrodes made of sintered copper or silver and then nickel-plated or tin-plated, the upper aluminum protective layer is removed to form sintered tin or tin-copper outer electrodes.

7.チップ抵抗器と抵抗層を接続させるための正面電極を作製する場合、先ず、一層のスズや銅スズ導体ペーストフィルムを印刷して抵抗フィルムを連結させ、その上に、更に、一層のアルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムであるアルミニウム保護層を印刷して、スズや銅スズ導体ペーストフィルムを保護して、高温酸化を避け、そして、熱処理(500~1400°C)を行う。 7. When creating a front electrode to connect a chip resistor and a resistive layer, first print a layer of tin or copper-tin conductive paste film to connect the resistive film, then print an aluminum protective layer, which is an aluminum film or an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film, on top of that to protect the tin or copper-tin conductive paste film and prevent high-temperature oxidation, and then perform heat treatment (500-1400°C).

8.まず、合金抵抗ペースト(例えば、銅ニッケルや銅マンガン或いは、ニッケルクロム(ケイ素))フィルムを印刷してから、合金抵抗ペーストフィルムの上に、アルミニウム保護層として、一層の厚膜のアルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金[例えば、アルミニウム銅(10~90 wt%)]フィルム或いはアルミニウムと酸化物混合[例えば、アルミニウムと酸化銅(10~90 wt%)] フィルムを印刷して、熱処理(500~1400°C)の時、保護して、銅ニッケルマンガンシリーズ合金抵抗ペーストフィルムの酸化を避け、合金抵抗ペーストフィルムの高機能抵抗特性を維持し、同時に、上層のアルミニウム保護層が、高温焼結後、絶縁性を有しながら、高熱伝導できる放熱層になる。 8. First, an alloy resistor paste (e.g., copper-nickel, copper-manganese, or nickel-chromium (silicon)) film is printed, and then a thick aluminum film, an aluminum-related alloy [e.g., aluminum-copper (10-90 wt%)] film, or an aluminum-oxide mixture [e.g., aluminum-copper oxide (10-90 wt%)] film is printed on top of the alloy resistor paste film as an aluminum protective layer. This provides protection during heat treatment (500-1400°C), preventing oxidation of the copper-nickel-manganese series alloy resistor paste film and maintaining the high-performance resistance properties of the alloy resistor paste film. At the same time, the upper aluminum protective layer becomes a heat dissipation layer with insulating properties and high thermal conductivity after high-temperature sintering.

9.上記8.エアーの下で焼結可能なチップ合金抵抗器は、合金抵抗の特性を導出するため、チップ抵抗工程の折り畳み工程の後、サイドガイドを作製する時、スパッタにより、例えば、銅である高導電率の金属と、例えば、銅ニッケルである内部合金抵抗層とがオーム接触を形成し、それから、チップ抵抗の続きの標準工程を行う。 9. For the chip alloy resistors that can be sintered under air, as described above, after the folding process of the chip resistor process, when the side guides are made, an ohmic contact is formed between a highly conductive metal, such as copper, and the inner alloy resistor layer, such as copper-nickel, by sputtering, in order to derive the alloy resistor characteristics. Then, the subsequent standard processes for the chip resistor are carried out.

本発明は、既存技術との技術特徴は、下記のように異なる。 The technical features of this invention differ from existing technologies as follows:

1.既存技術は、卑金属厚膜印刷導電銅やニッケル或いは、銅ニッケル合金膏フィルムを熱処理する場合、復元雰囲気の下(窒素或いは、窒素水素混合物)で焼結する熱処理が必要であり、これにより、卑金属である銅やニッケル或いは合金の酸化によって、その機能を失うことを避け、或いは、エアーの下で、外端電極として、銀ペーストを焼結することによって、良い導電気性質と粘着力を有しながら、良い半田付け特性が求まれる。 1. Existing technology requires sintering in a restoring atmosphere (nitrogen or a nitrogen-hydrogen mixture) when heat-treating base metal thick-film printed conductive copper, nickel, or copper-nickel alloy paste. This prevents the base metal copper, nickel, or alloy from losing its functionality due to oxidation. Alternatively, sintering silver paste as the outer electrode in air provides good soldering properties while maintaining good electrical conductivity and adhesion.

上記の既存技術に対比して、本発明に係る新規技術は、高度好気性と高復元性を有するアルミニウム粉末やアルミニウムフィルム或いは、アルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムを添加すること或いは覆うことによって卑金属スズやスズの合金(例えば、銅スズ)を保護し、即エアーの下で高温熱処理しても、焼結によってスズの酸化により、その機能を失うことはない。 In contrast to the above-mentioned existing technologies, the new technology of the present invention protects base metal tin or tin alloys (e.g., copper-tin) by adding or covering them with aluminum powder or aluminum film, or an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film, which has high aerobicity and high recovery properties, and even when immediately subjected to high-temperature heat treatment in air, the functionality is not lost due to tin oxidation during sintering.

2.既存の積層セラミック素子は、内部電極と共燒した後、浸漬鍍金工程で外面端電極を作製し、例えば、エアーの下で焼結する銀電極や窒素焼結の銅電極であり、それから、電気めっき工程で、ニッケルメッキやスズメッキを行って、端電極と良い半田付け特性を保護する。 2. Existing multilayer ceramic elements are co-fired with the internal electrodes, and then the outer terminal electrodes are created using an immersion plating process, such as silver electrodes sintered under air or copper electrodes sintered in nitrogen. Then, nickel or tin plating is applied using an electroplating process to protect the terminal electrodes and their good soldering properties.

上記に対比して、本発明に係る新規技術は、厚膜のアルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムで厚膜のスズを保護して、電気めっきのスズ電極の代わりに、スズ電極を焼結作製し、これにより、積層セラミック素子において外端電極を作製する時のスズの電気めっき層を取り換えることができ、または、積層セラミック素子の銀外端電極や外端銅電極の代わりに、直接、スズの外端電極を焼結でき、これにより、電気めっき汚染工程が低減され、環境や社会及び企業管理(Environmental、Social、Governance, ESG)の要請に満足できる。 In contrast to the above, the new technology of the present invention protects a thick tin film with a thick aluminum film or an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film, and then sinters the tin electrode instead of electroplating it. This can replace the electroplated tin layer when creating the outer electrodes of a multilayer ceramic element, or can directly sinter tin outer electrodes instead of silver outer electrodes or copper outer electrodes of a multilayer ceramic element, thereby reducing the electroplating pollution process and satisfying environmental, social, and corporate governance (ESG) requirements.

3.既存のセラミック素子は、外端電極を作製する場合、焼結後のセラミック体が、復元雰囲気で外端電極を焼結する時、焼結した後のセラミック体特性が変化(例えば、チップ抵抗器やNTC、PTC、VDR、及びピエゾ電気PZT)するため、窒素焼結の銅電極を利用できない。 3. When manufacturing the outer electrodes of existing ceramic elements, the properties of the sintered ceramic body change when the outer electrodes are sintered in a restoring atmosphere (e.g., chip resistors, NTCs, PTCs, VDRs, and piezoelectric PZTs), so nitrogen-sintered copper electrodes cannot be used.

上記に対比して、本発明に係る新規技術は、厚膜のアルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルムで、厚膜の銅電極フィルムを保護して、大気の下において、熱処理を行うため、チップ抵抗器やNTC、PTC、VDR及びピエゾ電気PZT等のセラミック素子によって、銅電極を作製できる。 In contrast to the above, the new technology of the present invention protects a thick copper electrode film with a thick aluminum film or an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film and performs heat treatment in air, making it possible to create copper electrodes using ceramic elements such as chip resistors, NTCs, PTCs, VDRs, and piezoelectric PZTs.

4.既存のチップ合金抵抗器は、非常に低い抵抗温度係数を有し、その作製方法は、主として、大気焼結の貴金属である銀パラジウム合金や、窒素(窒素と水素)の復元雰囲気の下で焼結した卑金属の銅ニッケル合金で作製する。 4. Existing chip alloy resistors have a very low temperature coefficient of resistance and are primarily made from air-sintered precious metal silver-palladium alloys or base metal copper-nickel alloys sintered in a restoring nitrogen (nitrogen and hydrogen) atmosphere.

上記に対比して、本発明に係る新規技術は、厚膜のアルミニウムフィルムやアルミニウムに関連する合金(例えば、銅アルミニウム)フィルム或いは、アルミニウムと酸化物(例えば、酸化銅)フィルムを保護厚膜とし、卑金属合金(例えば、銅ニッケルや銅マンガン、ニッケルクロム)抵抗器を作製する時、酸化を酸化するため、大気雰囲気の下で焼結することにより、復元雰囲気の下で焼結した(例えば、銅ニッケルや銅マンガン及び、ニッケルクロム)に相当する特性が得られる。 In contrast to the above, the new technology of the present invention uses a thick aluminum film, an aluminum-related alloy (e.g., copper-aluminum) film, or an aluminum and oxide (e.g., copper oxide) film as a protective thick film when manufacturing base metal alloy (e.g., copper-nickel, copper-manganese, nickel-chromium) resistors. Sintering in an air atmosphere oxidizes the oxide, resulting in properties equivalent to those sintered in a restoring atmosphere (e.g., copper-nickel, copper-manganese, and nickel-chromium).

上記の説明のように、本発明は、エアーの下ではんだ付け可能な卑金属と合金素子を焼結できる作製方法であり、有効に従来の諸欠点を解消でき、電気めっき工程の代わりに、熱処理工程で電子素子電極を作製することにより、スズの電気めっき工程を要らなくて、電極が、はんだ付性や高機能特性を有するはんだ付け可能な電極になり、これにより、本発明は、より進歩的かつより実用的で、法に従って特許請求を出願する。 As explained above, the present invention is a manufacturing method for sintering solderable base metal and alloy elements under air, which effectively overcomes the drawbacks of the prior art. By manufacturing electronic element electrodes using a heat treatment process instead of an electroplating process, the tin electroplating process is eliminated, and the electrodes become solderable electrodes with solderability and high performance properties. This makes the present invention more advanced and practical, and patent claims are filed in accordance with the law.

ただ、上記の説明は、本発明のより良い実施例であり、本発明の実施範囲は、それによって制限されることない。 However, the above description is a preferred embodiment of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereby.

本発明に係わる特許請求の範囲や明細書の内容に基づいて行った等価の変更や修正は、全てが、本発明の特許請求の範囲内に含まれる。 All equivalent changes and modifications made based on the scope of the claims and the contents of the specification of the present invention are included within the scope of the claims of the present invention.

本発明のアルミニウムにスズを添加して焼結する時の微構造図である。FIG. 1 is a microstructure diagram of the aluminum of the present invention when tin is added and sintered. 本発明のアルミニウムに銅スズを添加して焼結する時の微構造図である。FIG. 1 is a microstructure diagram of the aluminum of the present invention when copper tin is added and sintered. 本発明のスズ銅フィルムで、アルミニウムフィルムを覆って焼結する時の微構造図である。1 is a microstructure diagram of the tin copper film of the present invention when it is covered with an aluminum film and sintered. 本発明の新規工程で、作製されたセラミック素子のアルミニウム銅スズの外端電極の微構造図である。1 is a microstructure diagram of an aluminum copper tin outer electrode of a ceramic element fabricated by the novel process of the present invention. 本発明の新規工程で、作製されたセラミック素子のスズの外端電極の微構造図である。1 is a microstructure diagram of the tin outer end electrode of a ceramic element fabricated by the novel process of the present invention. 本発明の新規工程で、積層セラミック素子を応用して、スズの外端電極を焼結する時の構造概念図である。1 is a structural conceptual diagram of a multilayer ceramic element when sintering tin outer electrodes in the novel process of the present invention. 本発明の新規工程で、積層セラミック素子を応用して、直接にスズの外端電極を焼結する時の構造概念図である。1 is a structural conceptual diagram of a multilayer ceramic element in which tin outer electrodes are directly sintered in the novel process of the present invention. 本発明に係るチップ抵抗器の正面スズと裏面スズ電極の構造概念図である。1 is a structural conceptual diagram of the front and back tin electrodes of a chip resistor according to the present invention. FIG. 本発明に係る大気焼結の合金抵抗器の保護層の微構造図である。1 is a microstructure diagram of the protective layer of the air-sintered alloy resistor according to the present invention; FIG. 本発明に係る大気焼結の合金抵抗器のサイドガイド工程とその電極の微構造概念図である。1 is a schematic diagram of the side guide process of the air-sintered alloy resistor according to the present invention and the microstructure of its electrodes.

11 積層セラミック共燒素子
111 内部電極
12 外端電極
13 ニッケルメッキ層
14 スズの電気めっき層
15 スズ層
16 アルミニウム保護層
17 焼結スズ層の外端電極
21 スズフィルム
22 抵抗フィルム
23 アルミニウム保護層
24 裏面スズ電極
25 正面スズ電極
26 抵抗層
27 正面銀電極
28 ニッケルメッキ層
29 スズの電気めっき層
31 基板
32 合金抵抗ペーストフィルム
33 アルミニウム保護層
34 合金抵抗層
35 銅層
11 Multilayer ceramic co-fired element
111 Internal electrode
12 Outer electrode
13 Nickel plating layer
14 Tin electroplating layer
15 Tin layer
16 Aluminum protective layer
17 Outer electrode of sintered tin layer
21 Tin Film
22 Resistive film
23 Aluminum protective layer
24 Backside tin electrode
25 Front tin electrode
26 Resistance layer
27 Front silver electrode
28 Nickel plating layer
29 Tin electroplating layer
31 PCB
32 Alloy Resistor Paste Film
33 Aluminum protective layer
34 alloy resistance layer
35 copper layer

Claims (10)

印刷の厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは卑金属スズ合金導体ペーストフィルムに10wt%~90wt%の金属アルミニウム粉末が添してあり、
大気の下で、300~600°Cの熱処理を行う時、前記金属アルミニウム粉末の酸化されやすさを利用し、前記卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは前記卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを当該金属アルミニウム粉末で保護して
前記卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは前記卑金属スズ合金導体ペーストフィルムの熱処理で得られ厚膜の卑金属スズ電極または卑金属スズ合金電極がはんだ付性をもったものとなる
ことを特徴とする大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法
A printed thick-film base metal tin conductor paste film or base metal tin alloy conductor paste film is added with 10 wt% to 90 wt % of metallic aluminum powder;
When heat treatment is performed at 300 to 600°C under atmospheric conditions, the aluminum metal powder is easily oxidized , and the base metal tin conductor paste film or the base metal tin alloy conductor paste film is protected by the aluminum metal powder ;
The thick -film base metal tin electrode or base metal tin alloy electrode obtained by heat treatment of the base metal tin conductor paste film or the base metal tin alloy conductor paste film has solderability .
1. A method for producing a solderable electrode of base metal tin or a base metal tin alloy by heat treatment in air, comprising :
ず、一層の厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを印刷してから、その上に、更に、一層の厚膜のアルミニウム保護層を印刷し、
大気の下で、300~600°Cの熱処理を行う時、前記アルミニウム保護層の酸化されやすさを利用し、前記卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは前記卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを前記アルミニウム保護層で保護して
前記卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは前記卑金属スズ合金導体ペーストフィルムの熱処理で得られ厚膜の卑金属スズ電極または卑金属スズ合金電極がはんだ付性をもったものとなる
ことを特徴とする大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法
First , a layer of thick base metal tin conductor paste film or a layer of thick base metal tin alloy conductor paste film is printed , and then a layer of thick aluminum protective layer is printed thereon;
The aluminum protective layer is easily oxidized when heat-treated at 300 to 600°C under atmospheric pressure, and the base metal tin conductive paste film or the base metal tin alloy conductive paste film is protected by the aluminum protective layer ;
The thick -film base metal tin electrode or base metal tin alloy electrode obtained by heat treatment of the base metal tin conductor paste film or the base metal tin alloy conductor paste film has solderability .
1. A method for producing a solderable electrode of base metal tin or a base metal tin alloy by heat treatment in air, comprising :
請求項1または請求項2に記載の大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法において、
前記卑金属スズ合金導体ペーストフィルムは、スズ-銅合金或いはスズ-ニッケル合金のいずれかで
ことを特徴とする大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法。
3. A method for producing a solderable electrode of base metal tin or a base metal tin alloy by heat treatment under atmospheric pressure according to claim 1 or claim 2, comprising :
The base metal tin alloy conductor paste film is either a tin-copper alloy or a tin -nickel alloy.
1. A method for producing a solderable electrode of base metal tin or a base metal tin alloy by heat treatment in air, comprising :
請求項2に記載の大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法において、
前記アルミニウム保護層は、アルミニウムフィルム、アルミニウム合金フィルム或いはアルミニウム酸化物フィルムのいずれかで
ことを特徴とする大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法。
3. The method for producing a solderable electrode of base metal tin or base metal tin alloy by heat treatment under atmospheric pressure according to claim 2 ,
The aluminum protective layer is either an aluminum film, an aluminum alloy film , or an aluminum oxide film.
1. A method for producing a solderable electrode of base metal tin or a base metal tin alloy by heat treatment in air, comprising :
請求項4に記載の大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法において、
前記アルミニウム合金フィルムは、銅アルミニウム合金であり、
前記アルミニウム酸化物フィルムは、酸化銅であ
ことを特徴とする大気の下での熱処理によりはんだ付け可能な卑金属スズまたは卑金属スズ合の電極を作する方法。
5. The method for producing a solderable electrode of base metal tin or base metal tin alloy by heat treatment under atmospheric pressure according to claim 4 ,
the aluminum alloy film is a copper aluminum alloy;
The aluminum oxide film is copper oxide
1. A method for producing a solderable electrode of base metal tin or a base metal tin alloy by heat treatment in air, comprising :
ロック状セラミック素子外端電極を作成する方法であって、
前記ブロック状セラミック素子の上に印刷する厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは卑金属スズ合金導体ペーストフィルムに10wt%~90wt%の金属アルミニウム粉末が添加してあり、
大気の下で、300~600°Cの熱処理を行い、
前記ブロック状セラミック素子に、厚膜の卑金属スズ電極または卑金属スズ合金電極の外端電極を作成する
ことを特徴とするブロック状セラミック素子に外端電極を作成する方法。
A method for producing an outer electrode on a block- shaped ceramic element, comprising the steps of:
a thick base metal tin conductor paste film or a base metal tin alloy conductor paste film printed on the block- shaped ceramic element contains 10 wt% to 90 wt% of metallic aluminum powder;
Heat treatment is carried out at 300 to 600°C in air.
The block-shaped ceramic element is provided with outer electrodes of thick-film base metal tin electrodes or base metal tin alloy electrodes.
1. A method for producing an outer electrode on a block-shaped ceramic element .
ロック状セラミック素子外端電極を作成する方法であって、
先ず、前記ブロック状セラミック素子の上に、一層の厚膜の卑金属スズ導体ペーストフィルムまたは卑金属スズ合金導体ペーストフィルムを印刷してから、その上に、更に、一層の厚膜のアルミニウム保護層を印刷し、
大気の下で、300~600°Cの熱処理を行い、
前記ブロック状セラミック素子に、厚膜の卑金属スズ電極または卑金属スズ合金電極の外端電極を作成する
ことを特徴とするブロック状セラミック素子に外端電極を作成する方法。
A method for producing an outer electrode on a block- shaped ceramic element, comprising the steps of:
First, a layer of thick base metal tin conductor paste film or a layer of thick base metal tin alloy conductor paste film is printed on the block-shaped ceramic element, and then a layer of thick aluminum protective layer is printed thereon;
Heat treatment is carried out at 300 to 600°C in air.
The block-shaped ceramic element is provided with outer electrodes of thick-film base metal tin electrodes or base metal tin alloy electrodes.
1. A method for producing an outer electrode on a block-shaped ceramic element .
請求項6または請求項7に記載のブロック状セラミック素子に外端電極を作成する方法において、
当該ブロック状セラミック素子は、GPSセラミックアンテナや負温度係数(Negative Temperature Coefficient, NTC)のサーミスタ、正温度係数(Positive Temperature Coefficient, PTC)のサーミスタ、電圧依存抵抗器(Voltage Dependent Resistor, VDR)或いは、安全コンデンサであ
ことを特徴とするブロック状セラミック素子に外端電極を作成する方法。
8. The method for producing an outer electrode on the block-shaped ceramic element according to claim 6 or 7 ,
The ceramic block element can be a GPS ceramic antenna, a negative temperature coefficient (NTC) thermistor, a positive temperature coefficient (PTC) thermistor, a voltage dependent resistor (VDR), or a safety capacitor.
1. A method for producing an outer electrode on a block-shaped ceramic element .
層セラミック素子外端電極を作成する方法であって、
前記積層セラミック素子に直接または前記積層セラミック素子に浸漬鍍金によるニッケルメッキの後、卑金属スズまたは卑金属スズ合金を浸漬鍍金し、更に、アルミニウム保護層浸漬鍍金し、それから、大気の下で、300~600°Cの熱処理を行い、
前記積層セラミック素子に、卑金属スズ電極または卑金属スズ合金電極の外端電極を作成する
ことを特徴とする積層セラミック素子外端電極を作成する方法
A method for forming an outer electrode on a multilayer ceramic element, comprising the steps of:
The multilayer ceramic element is directly or immersion-plated with nickel , then immersion-plated with a base metal tin or a base metal tin alloy , and then immersion-plated with an aluminum protective layer , followed by heat treatment at 300 to 600°C in air ;
The laminated ceramic element is provided with outer terminal electrodes of base metal tin electrodes or base metal tin alloy electrodes .
1. A method for forming an outer electrode on a multilayer ceramic element.
請求項9に記載の積層セラミック素子に外端電極を作成する方法において、
当該積層セラミック素子は、低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramic, LTCC)、積層セラミックコンデンサ(Multi-layer ceramic capacitors, MLCC)、積層NTC(Multilayer NTC)素子、或いは、積層VDR(Multilayer VDR)素子である
ことを特徴とする積層セラミック素子に外端電極を作成する方法。
10. The method for producing outer terminal electrodes in a multilayer ceramic element according to claim 9 ,
The method for forming an outer electrode on a multilayer ceramic element is characterized in that the multilayer ceramic element is a low temperature co-fired ceramic (LTCC), a multilayer ceramic capacitor (MLCC), a multilayer NTC (multilayer NTC) element, or a multilayer VDR (multilayer VDR) element.
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