Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7781604B2 - Decorative materials - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7781604B2 - Decorative materials - Google Patents

Decorative materials

Info

Publication number
JP7781604B2
JP7781604B2 JP2021179325A JP2021179325A JP7781604B2 JP 7781604 B2 JP7781604 B2 JP 7781604B2 JP 2021179325 A JP2021179325 A JP 2021179325A JP 2021179325 A JP2021179325 A JP 2021179325A JP 7781604 B2 JP7781604 B2 JP 7781604B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base material
material body
metal layer
layer
decorative member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021179325A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023068327A (en
Inventor
伸二 元矢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP2021179325A priority Critical patent/JP7781604B2/en
Publication of JP2023068327A publication Critical patent/JP2023068327A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7781604B2 publication Critical patent/JP7781604B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、加飾部材に関する。詳しくは、水分による耐食性が必要な環境下で使用することを目的とした銅合金の加飾部材に関する。 The present invention relates to decorative members. More specifically, it relates to copper alloy decorative members intended for use in environments requiring corrosion resistance due to moisture.

特許文献1には、屋内水まわり環境で用いられる水まわり用部材の防汚性を高める技術が開示されている。具体的には、水まわり用部材の基材の表面にDLC(ダイヤモンドライクカーボン)被膜が形成されている。DLC被膜は、その含有される水素原子の量が所定量よりも多く、かつ、密度が所定値よりも小さくされることにより、防汚性および防汚耐久性の双方が高められた構成とされる。 Patent Document 1 discloses a technology for improving the stain resistance of wet area components used in indoor wet environments. Specifically, a DLC (diamond-like carbon) coating is formed on the surface of the substrate of the wet area component. The DLC coating contains more than a specified amount of hydrogen atoms and has a density lower than a specified value, thereby enhancing both its stain resistance and stain resistance durability.

特許第6641596号公報Patent No. 6641596

特許文献1に記載の技術では、DLC被膜の密度が小さいことから、被膜表面についた水分が内部に浸透し、基材との間に電位腐食を発生させて被膜剥離を引き起こす懸念がある。そこで、この対策として、DLC被膜を厚膜化することが考えられるが、DLC被膜はその蒸着時に高い残留応力が発生することから、厚膜化により却って被膜剥離が発生しやすくなるため好ましくない。そこで、本発明は、水分による耐食性を適切に高めることが可能な銅合金の加飾部材を提供する。 With the technology described in Patent Document 1, the density of the DLC coating is low, so there is a concern that moisture on the coating surface may penetrate into the interior, causing potential corrosion between the coating and the substrate and resulting in coating peeling. One possible solution to this problem would be to thicken the DLC coating, but because DLC coatings generate high residual stress during deposition, thickening the coating is undesirable as it actually makes the coating more susceptible to peeling. Therefore, the present invention provides a copper alloy decorative component that can appropriately improve corrosion resistance due to moisture.

上記課題を解決するために、本発明の加飾部材は次の手段をとる。すなわち、本発明の加飾部材は、水分による耐食性が必要な環境下で使用することを目的とした銅合金の加飾部材であり、銅合金製の母材本体、金属層、およびDLC被膜層を少なくとも含む。金属層は、DLC被膜層と母材本体との間に配置されている。DLC被膜層は、表層部の屈折率が波長550nmにおいて1.5~3.0のta-C被膜からなる。DLC被膜層の厚さが、0.5~5.0μmである。 To solve the above problems, the decorative member of the present invention takes the following measures. Specifically, the decorative member of the present invention is a copper alloy decorative member intended for use in environments requiring corrosion resistance due to moisture, and includes at least a copper alloy base material body, a metal layer, and a DLC coating layer. The metal layer is disposed between the DLC coating layer and the base material body. The DLC coating layer is made of a ta-C coating whose surface layer has a refractive index of 1.5 to 3.0 at a wavelength of 550 nm. The thickness of the DLC coating layer is 0.5 to 5.0 μm.

ここで、DLC被膜は、一般に、SP-3構造を含むアモルファスカーボン被膜として知られるものである。DLCは、そのsp2結合-sp3結合比率や水素含有量に基づいて、ta-C(テトラへドラルアモルファスカーボン)、a-C(アモルファスカーボン)、ta-C:H(水素化テトラへドラルアモルファスカーボン)およびa-C:H(水素化アモルファスカーボン)の4種類に分類される。 Here, DLC coatings are generally known as amorphous carbon coatings containing the SP-3 structure. DLC is classified into four types based on its sp2 bond-sp3 bond ratio and hydrogen content: ta-C (tetrahedral amorphous carbon), a-C (amorphous carbon), ta-C:H (hydrogenated tetrahedral amorphous carbon), and a-C:H (hydrogenated amorphous carbon).

このうち、ta-Cは、DLCの中では最もSP-3構造の比率が高く、最も高密度でかつ硬質な特徴を備えることが知られている。また、ta-Cは、耐摩耗性、絶縁性、耐熱性、および化学的非反応性にも優れる特徴を持つ。ta-Cは、PVD法(物理蒸着法)に分類される真空アーク蒸着法により形成することが可能とされる。真空アーク蒸着法は、真空中におけるアーク放電(真空アーク放電)によって発生させた高エネルギのイオンを持つ真空アークプラズマ(真空アーク放電プラズマ)を利用してワークに薄膜を蒸着する方法である。 Of these, ta-C has the highest proportion of SP-3 structure among DLCs and is known to have the highest density and hardness. ta-C also has excellent wear resistance, insulation, heat resistance, and chemical non-reactivity. It can be formed using the vacuum arc deposition method, which is classified as a PVD (physical vapor deposition) method. Vacuum arc deposition is a method of depositing a thin film onto a workpiece using vacuum arc plasma (vacuum arc discharge plasma) containing high-energy ions generated by arc discharge in a vacuum (vacuum arc discharge).

上記構成によれば、母材本体上に上記屈折率を備えた高密度なta-C被膜からなるDLC被膜層を設けることで、部材表面からの水分の浸透を適切に防止することができる。DLC被膜層は、中間層となる金属層を間に介して母材本体上に設けられることで、母材本体上に密着性良く成膜される。これらの構成により、加飾部材の水分による耐食性を適切に高めることができる。 With the above configuration, by providing a DLC coating layer made of a high-density ta-C coating with the above refractive index on the base material body, it is possible to appropriately prevent moisture penetration from the surface of the component. The DLC coating layer is provided on the base material body with an intermediate metal layer in between, allowing it to be formed on the base material body with good adhesion. These configurations can appropriately improve the corrosion resistance of the decorative component due to moisture.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。DLC被膜層が、SP-3構造を50~90%含み、かつ、その被膜のビッカース硬さが、1,500~5,000Hvである。上記構成によれば、DLC被膜層を、より適切な硬度を備えたta-C被膜からなる耐食被膜として機能させることができる。 The decorative member of the present invention may also be further configured as follows: The DLC coating layer contains 50 to 90% of the SP-3 structure, and the coating has a Vickers hardness of 1,500 to 5,000 Hv. This configuration allows the DLC coating layer to function as a corrosion-resistant coating made of a ta-C coating with a more appropriate hardness.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。DLC被膜層の表面粗さRaが、0.1μm以下であり、かつ、DLC被膜層の表面の欠陥が、20%以下である。上記構成によれば、DLC被膜層を、より表面が平滑で低摩擦なta-C被膜から成る耐食被膜として機能させることができる。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The surface roughness Ra of the DLC coating layer is 0.1 μm or less, and the surface defects of the DLC coating layer are 20% or less. This configuration allows the DLC coating layer to function as a corrosion-resistant coating made of a ta-C coating with a smoother surface and lower friction.

ここで、DLC被膜層の「表面の欠陥」としては、例えば、DLC被膜層の表面に膜質低下を引き起こすドロップレット(マクロパーティカル)が付着する状況が挙げられる。ドロップレットとは、真空アーク蒸着法によりta-C被膜を成膜する際に、陰極ターゲットの蒸発源である固体黒鉛から放出され得る電気的に中性な蒸発粒子のことである。ドロップレットが被膜に付着することにより、被膜の表面に凹凸が形成される。また、ドロップレットは、固体黒鉛の組成構造であるSP-2構造あるいはそれに近い組成構造を持つことから、被膜への付着によりその部分の機械特性を低下させる原因となり得る。 Here, "surface defects" in the DLC coating layer include, for example, situations in which droplets (macroparticles) adhere to the surface of the DLC coating layer, causing a deterioration in film quality. Droplets are electrically neutral evaporated particles that can be emitted from solid graphite, the evaporation source of the cathode target, when forming a ta-C coating using vacuum arc evaporation. When droplets adhere to the coating, they form irregularities on the coating's surface. Furthermore, because droplets have an SP-2 structure, which is the compositional structure of solid graphite, or a compositional structure similar to it, their adhesion to the coating can cause a deterioration in the mechanical properties of that area.

それゆえ、ドロップレットが被膜表面に付着する状況が存在すると、被膜の幾何学的均一性(平坦性)や化学的均一性が担保されなくなる虞がある。また、ドロップレットが付着した被膜部分は、被膜剥離の起点となったり、保護被膜の劣化の起点となったりする虞がある。ドロップレットの付着を抑制する手法として、プラズマの輸送中にドロップレットをプラズマからフィルタリングする手法(FCVA法(フィルタード陰極真空アーク法)などと呼ばれる)が知られている。 Therefore, if droplets adhere to the coating surface, there is a risk that the geometric uniformity (flatness) and chemical uniformity of the coating will not be guaranteed. Furthermore, the areas of the coating where droplets adhere may become the starting point for coating peeling or the starting point for deterioration of the protective coating. One known method for suppressing droplet adhesion is to filter droplets from the plasma during plasma transport (known as the FCVA method (filtered cathodic vacuum arc)).

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。DLC被膜層が、5質量%以下の水素を含む。上記構成によれば、水素含有量の少ないta-C被膜により、DLC被膜層を中間層である金属層に対してより密着性良く成膜することができる。また、DLC被膜層を、より機械特性に優れたta-C被膜からなる耐食被膜として機能させることができる。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The DLC coating layer contains 5% by mass or less of hydrogen. This configuration allows the ta-C coating layer to be formed with better adhesion to the intermediate metal layer, due to the low hydrogen content. Furthermore, the DLC coating layer can function as a corrosion-resistant coating made of ta-C, which has superior mechanical properties.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。母材本体が、50%以上の銅を含有し、残部が、鉛、亜鉛、錫、鉄、ニッケル、およびアンチモンからなる銅合金である。上記構成によれば、上記成分の銅合金から成る水栓用配管等で用いられる母材本体の水分による耐食性を、DLC被膜層の被膜によって適切に高めることができる。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The base material body is a copper alloy containing 50% or more copper, with the remainder consisting of lead, zinc, tin, iron, nickel, and antimony. With this configuration, the moisture corrosion resistance of the base material body, which is made of a copper alloy of the above composition and is used for faucet piping, etc., can be appropriately improved by the DLC coating layer.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。金属層が、ニッケル、チタン、クロム、およびタングステンよりなる群から選択される少なくとも1種の金属を含む層である。上記構成によれば、上記群から選択される金属層を介して、DLC被膜層を母材本体に対してより密着性良く成膜することができる。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The metal layer is a layer containing at least one metal selected from the group consisting of nickel, titanium, chromium, and tungsten. This configuration allows the DLC coating layer to be formed with better adhesion to the base material body via the metal layer selected from the above group.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。金属層が、第1金属層と第2金属層とを含み、第2金属層の少なくとも一部が、第1金属層上に配置されている。上記構成によれば、金属層を多層構造とすることで、例えば、DLC被膜層に近い側の層をなす第2金属層をDLC被膜層とより密着性の高い金属により形成し、母材本体に近い側の層をなす第1金属層を母材本体とより密着性の高い金属により形成して、DLC被膜層を母材本体に対してより密着性良く成膜することが可能となる。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The metal layer includes a first metal layer and a second metal layer, with at least a portion of the second metal layer disposed on the first metal layer. According to this configuration, by forming the metal layer into a multi-layer structure, for example, the second metal layer, which is the layer closer to the DLC coating layer, is formed from a metal that has a higher adhesiveness to the DLC coating layer, and the first metal layer, which is the layer closer to the base material body, is formed from a metal that has a higher adhesiveness to the base material body, making it possible to form the DLC coating layer with better adhesion to the base material body.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。DLC被膜層の表層部の屈折率が、波長550nmにおいて2.0~3.0である。上記構成によれば、母材本体上に上記屈折率を備えたより高密度なta-C被膜からなるDLC被膜層を設けることができ、加飾部材の水分による耐食性をより適切に高めることができる。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The refractive index of the surface layer of the DLC coating layer is 2.0 to 3.0 at a wavelength of 550 nm. This configuration allows a DLC coating layer made of a higher-density ta-C coating with the above refractive index to be formed on the base material body, thereby more appropriately improving the corrosion resistance of the decorative member due to moisture.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。母材本体が、凹凸形状を有する。DLC被膜層において、母材本体が凹凸形状を有している部分に対して略真上に位置する部分が、凹凸形状に依存した形状を有する模様となっている。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The base material body has an uneven shape. In the DLC coating layer, a portion located approximately directly above the portion of the base material body having an uneven shape has a pattern whose shape depends on the uneven shape.

上記構成によれば、高密度、硬質、かつ、高い耐摩耗性を備えるta-C被膜からなるDLC被膜層によって、母材本体に施した凹凸形状に依存した形状を加飾部材の表面に鮮明に付与することができる。 With the above configuration, the DLC coating layer, which is made of a ta-C coating that is high-density, hard, and highly wear-resistant, can clearly impart a shape to the surface of the decorative component that is dependent on the uneven shape applied to the base material body.

また、本発明の加飾部材は、更に次のように構成されていてもよい。金属層の厚さが、0.01~10μmである。上記構成によれば、金属層の厚さを0.01~10μmに設定することで、DLC被膜層を母材本体に対して適切に密着させた状態に成膜することができる。 The decorative member of the present invention may also be configured as follows: The thickness of the metal layer is 0.01 to 10 μm. According to the above configuration, by setting the thickness of the metal layer to 0.01 to 10 μm, the DLC coating layer can be formed in a state where it is properly adhered to the base material body.

本発明の実施形態に係る加飾部材を模式的に示す概略斜視図である。1 is a schematic perspective view showing a decorative member according to an embodiment of the present invention; 加飾部材の断面構造を模式的に示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a cross-sectional structure of a decorative member. 加飾部材の製造方法を示す工程図である。5A to 5C are process diagrams showing a manufacturing method of a decorative member.

以下に、本発明を実施するための形態について、図面を用いて説明する。 The following describes an embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.

(加飾部材1)
始めに、本発明の実施形態に係る加飾部材1の構成について説明する。本実施形態に係る加飾部材1は、図1に示すように、屋内の水まわり環境で使用される水栓用配管として構成される。加飾部材1は、図2に示すように、銅合金製の母材本体2と、母材本体2の表面に被膜された金属層3と、金属層3の表面に被膜されたDLC被膜層4と、を備える。加飾部材1の表面には、装飾模様としての凹部Dが形成されている。凹部Dは、母材本体2がブラスト処理されて凹部2Aを有する形に形成されることで、この凹部2Aに依存した凹凸形状として形成されている。なお、加飾部材1は、凹部Dが形成されない構成であっても良い。
(Decorative member 1)
First, the configuration of a decorative member 1 according to an embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 1 , the decorative member 1 according to this embodiment is configured as a faucet pipe used in indoor plumbing environments. As shown in FIG. 2 , the decorative member 1 includes a base material body 2 made of a copper alloy, a metal layer 3 coated on the surface of the base material body 2, and a DLC coating layer 4 coated on the surface of the metal layer 3. A decorative pattern, i.e., a recess D, is formed on the surface of the decorative member 1. The recess D is formed by blasting the base material body 2 to form a shape having recesses 2A, and the recesses D have an uneven shape that depends on the recesses 2A. The decorative member 1 may also be configured without the recesses D.

(母材本体2)
母材本体2は、銅を主成分とする銅合金からなる。具体的には、母材本体2は、50%以上の銅を含有し、残部が、鉛、亜鉛、錫、鉄、ニッケル、およびアンチモンからなる銅合金からなる。なお、母材本体2は、純銅、真鍮、青銅、白銅、あるいは洋白からなるものであってもよい。母材本体2の具体的な形状は特に限定されず、円管や角管等の管形状の他、円柱や角柱等の柱形状や球形状、あるいは板形状からなるものであってもよい。
(Base material body 2)
The base material body 2 is made of a copper alloy containing copper as a main component. Specifically, the base material body 2 is made of a copper alloy containing 50% or more copper, with the remainder being lead, zinc, tin, iron, nickel, and antimony. The base material body 2 may be made of pure copper, brass, bronze, cupronickel, or nickel silver. The specific shape of the base material body 2 is not particularly limited, and may be a tubular shape such as a circular pipe or a square pipe, a columnar shape such as a cylindrical or rectangular column, a spherical shape, or a plate shape.

母材本体2は、鋳造後に切削加工されて所定形状に形作られた後、表面がバフ研磨されて所定粗さに仕上げられる(前工程S1)。その後、母材本体2は、図3に示すように、鉛除去処理工程S2を経てブラスト処理工程S3にかけられて、その表面に上述した装飾模様となる凹部Dの下地形状をなす凹部2Aが陥凹される(図2参照)。その後、母材本体2は、鏡面仕上げ処理工程S4にかけられて、凹部2Aを含む表面全体が鏡のように磨かれた状態に仕上げる。その後、母材本体2は、洗浄処理工程S5にかけられて、表面に付着した汚れが取り除かれて洗浄される。 After casting, the base material body 2 is machined to a predetermined shape, and then the surface is buffed and finished to a predetermined roughness (pre-process S1). As shown in Figure 3, the base material body 2 then undergoes a lead removal process S2 and a blasting process S3, where recesses 2A are recessed into the surface, forming the base shape for the recesses D that will become the decorative pattern described above (see Figure 2). The base material body 2 then undergoes a mirror-finishing process S4, where the entire surface, including the recesses 2A, is polished to a mirror-like finish. The base material body 2 then undergoes a cleaning process S5, where any dirt adhering to the surface is removed and the body is cleaned.

更にその後、母材本体2は、金属層成膜工程S6にかけられて、その表面に中間層となる金属層3が成膜される。その後、母材本体2は、DLC被膜層成膜工程S7にかけられて、その表面に成膜された金属層3の表面にta-Cに分類されるDLC被膜層4が成膜される。以下、各工程について詳細を説明する。 The base material body 2 then undergoes a metal layer deposition process S6, in which a metal layer 3 is deposited on its surface as an intermediate layer. The base material body 2 then undergoes a DLC coating layer deposition process S7, in which a DLC coating layer 4 classified as ta-C is deposited on the surface of the metal layer 3 that has been deposited on its surface. Each process is explained in detail below.

(ブラスト処理工程S3)
ブラスト処理工程S3では、先ず、母材本体2の表面上に図示しないマスキング材が貼り付けられる。次に、マスキング材が貼り付けられた母材本体2の表面にブラスト処理を行い、マスキング材で被覆されたところ以外の母材本体2の表面部分を陥凹させて、母材本体2の表面に5μm以下の深さを持つ凹部2Aを形成する。
(Blast treatment step S3)
In the blasting process S3, first, a masking material (not shown) is attached to the surface of the base material body 2. Next, a blasting process is performed on the surface of the base material body 2 to which the masking material has been attached, and the surface portion of the base material body 2 other than the area covered with the masking material is recessed, thereby forming recesses 2A having a depth of 5 μm or less on the surface of the base material body 2.

マスキング材としては、凹部2Aの形状に対応した刳り貫き形状を備える塩化ビニル等の樹脂製のシートやゴム製のシートを用いることができる。また、マスキング材は、母材本体2の表面に塗布されることで凹部2Aの形状に対応した刳り貫き形状を備える塗膜として形成される塩化ビニル等の樹脂材からなる構成であってもよい。マスキング材を母材本体2の表面に貼り付けて母材本体2の表面上にブラスト加工を施すことで、マスキング材の刳り貫かれた部分にブラスト装置から投射されたメディア(研削材)が叩き付けられる。それにより、母材本体2の表面上に、マスキング材の刳り貫き形状に対応した凹部2Aが形成される。 The masking material can be a sheet made of a resin such as vinyl chloride or a rubber sheet with a hollowed-out shape corresponding to the shape of the recess 2A. The masking material may also be made of a resin such as vinyl chloride that is applied to the surface of the base material body 2 to form a coating with a hollowed-out shape corresponding to the shape of the recess 2A. By attaching the masking material to the surface of the base material body 2 and blasting the surface of the base material body 2, media (abrasive material) projected from a blasting device is struck against the hollowed-out portion of the masking material. This forms a recess 2A on the surface of the base material body 2 that corresponds to the hollowed-out shape of the masking material.

母材本体2の表面のうち、マスキング材で被覆された部分は、メディアが叩き付けられても、マスキング材により保護されるため、陥凹されない。マスキング材は、ブラスト処理の際にメディアが貫通することがないよう、一定以上の厚みを有することが好ましい。凹部2Aの形状に対応するマスキング材の刳り貫き形状は、所望の形状にすることが可能であり、図形、文字または模様等の様々な形状とすることができる。 The portions of the surface of the base material body 2 that are covered with masking material are protected by the masking material and will not be recessed even when struck by media. The masking material preferably has a certain thickness to prevent the media from penetrating during the blasting process. The cutout shape of the masking material that corresponds to the shape of the recess 2A can be made into any desired shape, including figures, letters, patterns, and other shapes.

ブラスト処理により、母材本体2が複雑な形状の表面を有していても、表面に均一な深さの凹部2Aを形成することが可能となる。ブラスト処理に用いるブラスト装置としては、例えば、エアーを用いてメディアを投射するエアーブラスト装置(コンプレッサ式、ブロア式等)や、メディアをモータの回転駆動によって投げ付けるショットブラスト装置が挙げられる。 Blasting makes it possible to form recesses 2A of uniform depth on the surface of the base material body 2, even if the surface has a complex shape. Examples of blasting devices used for blasting include air blasting devices (compressor type, blower type, etc.) that use air to project media, and shot blasting devices that throw media using the rotational drive of a motor.

メディア(研削材)の材質としては、例えば、アルミナ(白色、褐色)、炭化ケイ素(緑色、黒色)、硅砂、鉄、銅、ステンレス、亜鉛、アルミニウム、ガーネット、樹脂、ガラス等が挙げられる。また、メディアは、弾性母材に微細な砥粒をコートした構成からなるものであっても良い。メディアの形状としては、例えば、球状または鋭角状のものが挙げられる。メディアの粒径としては、例えば、5μm~2mmのものが挙げられる。メディアの投射圧は、0.1~0.5MPaが好ましい。 Examples of media (abrasive) materials include alumina (white, brown), silicon carbide (green, black), silica sand, iron, copper, stainless steel, zinc, aluminum, garnet, resin, and glass. The media may also be made of an elastic base material coated with fine abrasive grains. Examples of media shapes include spherical or acute-angled shapes. Examples of media particle sizes are 5 μm to 2 mm. The preferred media projection pressure is 0.1 to 0.5 MPa.

なお、凹部2Aを適度な表面粗さに仕上げる観点から、メディアの材質としては、緑色炭化ケイ素を用いることが好ましい。また、メディアは、粒径が10~60μmのものが好ましい。ブラスト処理により形成する凹部2Aの深さ及び表面粗さは、メディアの粒径、形状、材質、投射圧、投射密度等の調整によって適宜制御することができる。ブラスト処理後、母材本体2の表面からマスキング材が除去される。 In order to achieve an appropriate surface roughness for the recesses 2A, it is preferable to use green silicon carbide as the material for the media. Furthermore, it is preferable for the media to have a particle size of 10 to 60 μm. The depth and surface roughness of the recesses 2A formed by blasting can be appropriately controlled by adjusting the particle size, shape, material, blasting pressure, blasting density, etc. of the media. After blasting, the masking material is removed from the surface of the base material body 2.

(鏡面仕上げ処理工程S4)
鏡面仕上げ処理工程S4では、母材本体2の凹部2Aを含む表面全体に、更に粒径の小さなメディア(例えば、SDC:金属被覆合成ダイヤモンド #10000等のメディア)を用いたブラスト処理(鏡面仕上げ処理)を行い、母材本体2の表面全体を鏡のように磨いた状態に仕上げる。この鏡面仕上げ処理により、先のバフ研磨によって母材本体2の表面に付いた傷を除去する。
(Mirror finishing process S4)
In the mirror-finishing process S4, the entire surface of the base material body 2, including the recesses 2A, is subjected to a blasting process (mirror-finishing process) using media with even smaller particle sizes (for example, media such as SDC: metal-coated synthetic diamond #10000) to polish the entire surface of the base material body 2 to a mirror-like finish. This mirror-finishing process removes scratches that have been left on the surface of the base material body 2 by the previous buffing.

鏡面仕上げ処理工程S4では、母材本体2の凹部2Aを含む表面全体を2μm以下の均一な深さの研削量で研削する。したがって、先のブラスト処理工程S3により母材本体2の表面に凹部2Aを形成した後に、凹部2Aを含む母材本体2の表面全体に鏡面仕上げ処理を行っても、凹部2Aの装飾模様が消えることはない。この鏡面仕上げ処理により、母材本体2の表面を、JIS B 0601-2001に規定される算術平均粗さ(表面粗さ)Raが0.1μm以下となるように仕上げる。 In the mirror-finishing process S4, the entire surface of the base material body 2, including the recesses 2A, is ground to a uniform depth of 2 μm or less. Therefore, even if the entire surface of the base material body 2, including the recesses 2A, is mirror-finished after the recesses 2A are formed on the surface of the base material body 2 in the previous blasting process S3, the decorative pattern of the recesses 2A will not disappear. This mirror-finishing process finishes the surface of the base material body 2 so that the arithmetic mean roughness (surface roughness) Ra specified in JIS B 0601-2001 is 0.1 μm or less.

鏡面仕上げ処理により仕上げられる母材本体2の表面粗さは、メディアの粒径、形状、材質、投射圧、投射密度等の調整によって適宜制御することができる。なお、母材本体2の表面にマスキング材を貼着して凹部2Aを形成するブラスト処理を、この鏡面仕上げ処理工程S4におけるブラスト処理によって行っても良い。また、母材本体2の表面に凹部2Aを陥凹しない構成であっても良い。 The surface roughness of the base material body 2 that is finished by the mirror-finishing process can be appropriately controlled by adjusting the media particle size, shape, material, projection pressure, projection density, etc. The blasting process in this mirror-finishing process step S4 may also be a blasting process in which a masking material is applied to the surface of the base material body 2 to form recesses 2A. Alternatively, the recesses 2A may not be recessed into the surface of the base material body 2.

(洗浄処理工程S5)
洗浄処理工程S5では、炭化水素系の洗浄液を用いた洗浄方法により、母材本体2の表面に付着する汚れを取り除いて洗浄する。なお、洗浄処理工程S5は、水系洗浄液、準水系洗浄液、もしくは塩素・臭素・フッ素系の溶剤系洗浄液を用いた洗浄方法により、母材本体2の表面を洗浄する工程であっても良い。
(Cleaning treatment step S5)
In the cleaning process S5, a cleaning method using a hydrocarbon-based cleaning liquid is used to remove and clean the contaminants adhering to the surface of the base material body 2. Note that the cleaning process S5 may be a process of cleaning the surface of the base material body 2 by a cleaning method using an aqueous cleaning liquid, a semi-aqueous cleaning liquid, or a chlorine-, bromine-, or fluorine-based solvent-based cleaning liquid.

洗浄処理工程S5では、先ず、荒洗浄として、水洗浄により母材本体2の表面に付着した研磨材を除去する処理を行う。次に、本洗浄として、エマルジョン洗浄により母材本体2の表面を洗浄する処理を行う。このエマルジョン洗浄では、超音波により水を振動させる超音波洗浄方法と、洗浄槽の内部を真空近くまで減圧したり腹圧したりするのを繰り返す真空洗浄方法と、が組み合わされて洗浄が行われる。 In the cleaning process S5, first, a rough cleaning process is performed in which abrasives adhering to the surface of the base material body 2 are removed by water cleaning. Next, the main cleaning process is performed in which the surface of the base material body 2 is cleaned by emulsion cleaning. This emulsion cleaning process combines an ultrasonic cleaning method in which water is vibrated by ultrasonic waves, and a vacuum cleaning method in which the inside of the cleaning tank is repeatedly depressurized and then compressed to a near-vacuum state.

エマルジョン洗浄に超音波洗浄方法が組み合わされることで、母材本体2に付着している汚れを効果的に洗浄することが可能となる。また、エマルジョン洗浄に真空洗浄方法が組み合わされることで、大気圧下では洗浄できない止まり穴や袋穴の中まで洗浄液を行き渡らせて、母材本体2の細かい隙間まで効果的に洗浄することが可能となる。特に、真空洗浄方法と超音波洗浄方法とが組み合わされることで、大気圧下と比べて超音波の効果がより高くなるため、より効果的な洗浄を行うことが可能となる。なお、上記洗浄方法に加えて、あるいは上記洗浄方法に代えて、エマルジョン洗浄に脱気洗浄方法、回転洗浄方法、揺動洗浄方法、あるいはシャワー洗浄方法を組み合わせても良い。 By combining emulsion cleaning with ultrasonic cleaning, it is possible to effectively clean dirt adhering to the base material body 2. Furthermore, by combining emulsion cleaning with vacuum cleaning, the cleaning liquid can reach blind holes and blind holes that cannot be cleaned under atmospheric pressure, making it possible to effectively clean even the small gaps in the base material body 2. In particular, by combining vacuum cleaning with ultrasonic cleaning, the effect of ultrasound is enhanced compared to atmospheric pressure, allowing for more effective cleaning. Note that in addition to or instead of the above cleaning methods, emulsion cleaning may be combined with degassing cleaning, rotational cleaning, swing cleaning, or shower cleaning.

脱気洗浄方法を組み合わせることで、超音波洗浄方法を用いた際の超音波の効きを更に高めることが可能となる。回転洗浄方法・揺動洗浄方法を組み合わせることで、洗浄液の流れを物理的に作り出して洗浄効果を更に高めることができる。また、超音波が母材本体2の表面に均等に当たりやすくなる。また、その他にも、洗浄液の流れを物理的に作り出す方法として、水を循環させたりバブリングさせたりする方法が挙げられる。また、シャワー洗浄方法を組み合わせることで、母材本体2に対して洗浄液を上からだけでなく、横や下からもかけて、適切な洗浄を行うことが可能となる。なお、その他の洗浄方法として、高圧ジェット洗浄方法、スプレー洗浄方法、あるいはブラシ洗浄方法等が挙げられる。 By combining it with a degassing cleaning method, it is possible to further enhance the effectiveness of ultrasound when using ultrasonic cleaning methods. By combining the rotational cleaning method and the oscillation cleaning method, it is possible to physically create a flow of cleaning liquid, further enhancing the cleaning effect. It also makes it easier for the ultrasound to hit the surface of the base material body 2 evenly. Other methods for physically creating a flow of cleaning liquid include circulating or bubbling water. Furthermore, by combining it with a shower cleaning method, it is possible to spray cleaning liquid on the base material body 2 not only from above, but also from the sides and below, allowing for appropriate cleaning. Other cleaning methods include high-pressure jet cleaning, spray cleaning, and brush cleaning.

上記洗浄により、母材本体2の表面に付着していた油などの汚れは、洗浄液に溶解して、洗浄液全体へと拡散される。また、母材本体2に付着している汚れは、洗浄液に溶解して洗浄液へと置換される。次に、洗浄処理工程S5では、すすぎ洗浄として、母材本体2の表面をベーパー洗浄する処理を行う。ベーパー洗浄では、洗浄液を沸騰させた蒸気で洗浄することで、母材本体2の表面に残る汚れを更に高精度に洗浄する。 By performing the above cleaning, oil and other contaminants adhering to the surface of the base material body 2 are dissolved in the cleaning liquid and dispersed throughout the cleaning liquid. Furthermore, contaminants adhering to the base material body 2 are dissolved in the cleaning liquid and replaced by the cleaning liquid. Next, in the cleaning process step S5, a process of vapor cleaning is performed on the surface of the base material body 2 as a rinse. In vapor cleaning, the cleaning liquid is boiled and steam is used to clean contaminants remaining on the surface of the base material body 2 with even greater precision.

次に、洗浄処理工程S5では、乾燥処理として、母材本体2の表面に残る洗浄液を乾燥させる処理を行う。この乾燥処理は、いわゆる真空乾燥により行われる。真空乾燥は、洗浄槽の内部を真空近くまで減圧することで、洗浄液の沸点を急激的に上げて、洗浄液を突沸乾燥させる公知の方法である。真空乾燥を用いることで、先のベーパー洗浄により加温された洗浄槽内の減圧によって洗浄液の突沸乾燥を効果的に促すことができ、母材本体2上にシミなどを残さないように適切に乾燥処理することができる。 Next, in the cleaning process step S5, a drying process is performed to dry the cleaning liquid remaining on the surface of the base material body 2. This drying process is performed by so-called vacuum drying. Vacuum drying is a well-known method in which the pressure inside the cleaning tank is reduced to near vacuum, rapidly raising the boiling point of the cleaning liquid and causing the cleaning liquid to dry by bumping. By using vacuum drying, the pressure inside the cleaning tank, which has been heated by the previous vapor cleaning, is reduced, effectively promoting the bumping drying of the cleaning liquid, allowing for appropriate drying process that does not leave stains or other marks on the base material body 2.

なお、乾燥処理は、熱風乾燥あるいは吸引乾燥によって行われても良い。熱風乾燥は、熱風を洗浄槽の内部に送り込むことで、母材本体2の表面を乾燥させる公知の方法である。吸引乾燥は、圧縮された熱風を洗浄槽の内部に送り込むと同時に、吸引ブロアで反対側から引き抜くことで、母材本体2の表面を乾燥させる公知の方法である。熱風乾燥及び吸引乾燥は、真空乾燥が行えない水系洗浄液を用いた洗浄槽にも適用することが可能である。 The drying process may be performed by hot air drying or suction drying. Hot air drying is a known method of drying the surface of the base material body 2 by sending hot air into the cleaning tank. Suction drying is a known method of drying the surface of the base material body 2 by sending compressed hot air into the cleaning tank and simultaneously drawing it out from the opposite side with a suction blower. Hot air drying and suction drying can also be applied to cleaning tanks that use aqueous cleaning liquids and cannot be vacuum dried.

(金属層3)
金属層3は、母材本体2とその表面に成膜されるDLC被膜層4との間に介在して、これらの密着性を向上させるための中間層として機能する。金属層3は、母材本体2上に直接成膜される第1金属層3Aと、第1金属層3A上に積層状に成膜される第2金属層3Bと、からなる。第1金属層3A及び第2金属層3Bとしては、それぞれ、ニッケル、チタン、クロム、タングステン、またはケイ素からなる層を挙げることができる。なお、金属層3は、チタン、クロム、タングステン、またはケイ素からなる単層構造からなるものであっても良い。特に、金属層3を単層構造で成膜する場合には、耐食性に優れ、かつ、母材本体2及びDLC被膜層4との密着性に優れたチタンからなることが好ましい。
(Metal layer 3)
The metal layer 3 is interposed between the base material body 2 and the DLC coating layer 4 formed on its surface, and functions as an intermediate layer to improve adhesion between them. The metal layer 3 is composed of a first metal layer 3A formed directly on the base material body 2 and a second metal layer 3B formed in a laminated state on the first metal layer 3A. The first metal layer 3A and the second metal layer 3B may each be made of nickel, titanium, chromium, tungsten, or silicon. The metal layer 3 may also have a single-layer structure made of titanium, chromium, tungsten, or silicon. In particular, when the metal layer 3 is formed as a single-layer structure, it is preferably made of titanium, which has excellent corrosion resistance and excellent adhesion to the base material body 2 and the DLC coating layer 4.

金属層3が2層で構成される場合において、第1金属層3Aは、母材本体2との密着性に優れ、硬質で、かつ、耐食性および耐熱性に優れたニッケルからなることが特に好ましい。また、第2金属層3Bは、耐食性に優れ、かつ、DLC被膜層4との密着性に優れたチタンからなることが特に好ましい。第2金属層3Bの下地となる第1金属層3Aの厚さは、3μm以下であることが好ましい。第2金属層3Bの厚さは、0.1~1.0μmであることが好ましい。 When the metal layer 3 is composed of two layers, it is particularly preferable that the first metal layer 3A be made of nickel, which has excellent adhesion to the base material body 2, is hard, and has excellent corrosion resistance and heat resistance. It is particularly preferable that the second metal layer 3B be made of titanium, which has excellent corrosion resistance and excellent adhesion to the DLC coating layer 4. The thickness of the first metal layer 3A, which serves as the base for the second metal layer 3B, is preferably 3 μm or less. The thickness of the second metal layer 3B is preferably 0.1 to 1.0 μm.

第1金属層3Aは、母材本体2の表面全体に均一な厚さを持つ形に積層状に成膜される。第2金属層3Bは、第1金属層3Aの表面全体に均一な厚さを持つ形に積層状に成膜される。なお、第1金属層3Aは、母材本体2の一部を残す表面に部分的に成膜される構成であっても良い。また、第2金属層3Bも、その少なくとも一部が第1金属層3A上に配置されるように成膜される構成であれば良く、一部が母材本体2上に直接成膜される構成であっても良い。すなわち、第1金属層3Aも、その少なくとも一部がDLC被膜層4の裏面に直接一体的に成膜される構成であっても良い。 The first metal layer 3A is deposited in a laminated state with a uniform thickness over the entire surface of the base material body 2. The second metal layer 3B is deposited in a laminated state with a uniform thickness over the entire surface of the first metal layer 3A. The first metal layer 3A may be deposited partially on the remaining surface of the base material body 2. The second metal layer 3B may also be deposited so that at least a portion of it is located on the first metal layer 3A, or may be deposited partially directly on the base material body 2. In other words, at least a portion of the first metal layer 3A may also be deposited directly and integrally on the back surface of the DLC coating layer 4.

金属層3を構成する第1金属層3A及び第2金属層3Bは、金属層成膜工程S6において、それぞれ、PVD法(物理蒸着法)に分類されるスパッタリング法により母材本体2の表面上に積層状に成膜される。金属層成膜工程S6では、先ず、アルゴンイオンを用いたイオンボンバードメント処理が行われ、母材本体2の表面に表出する酸化膜や水酸化膜などの不動態被膜が除去される。 In the metal layer deposition process S6, the first metal layer 3A and second metal layer 3B that make up the metal layer 3 are each deposited in a laminated layer on the surface of the base material body 2 by a sputtering method classified as a PVD (physical vapor deposition) method. In the metal layer deposition process S6, an ion bombardment process using argon ions is first performed to remove passivation films such as oxide and hydroxide films that appear on the surface of the base material body 2.

次いで、スパッタリング法により、不活性ガス(アルゴンガス)の導入された真空中で、陰極ターゲット(成膜材料)にマイナスの電圧を印加してグロー放電を発生させ、ガスイオンを成膜材料に衝突させることで叩き出した成膜材料の粒子を母材本体2の表面に付着・堆積させて緻密な薄膜を形成する。金属層3を構成する第1金属層3A及び第2金属層3Bをそれぞれスパッタリング法で成膜することで、母材本体2を液体や高温気体にさらすことなく母材本体2の表面に緻密でかつ密着性の高い薄膜を成膜することができる。 Next, using the sputtering method, a negative voltage is applied to the cathode target (film-forming material) in a vacuum containing an inert gas (argon gas), generating a glow discharge. Gas ions collide with the film-forming material, knocking out particles of the film-forming material, which then adhere and deposit on the surface of the base material body 2, forming a dense thin film. By depositing the first metal layer 3A and the second metal layer 3B that make up the metal layer 3 using the sputtering method, a dense, highly adhesive thin film can be formed on the surface of the base material body 2 without exposing the base material body 2 to liquid or high-temperature gas.

なお、金属層3を構成する第1金属層3A及び第2金属層3Bは、スパッタリング法の他、アークイオンプレーティング法により、母材本体2の表面上に成膜される構成であっても良い。アークイオンプレーティング法は、真空中で成膜材料を蒸発させ、アーク放電によりイオン化(電離)させたプラス電荷の成膜材料を、マイナス電荷が印加された母材本体2の表面に引き寄せて成膜する公知の方法である。 The first metal layer 3A and second metal layer 3B that make up the metal layer 3 may be formed on the surface of the base material body 2 by sputtering or arc ion plating. Arc ion plating is a well-known method in which film-forming material is evaporated in a vacuum and then ionized (ionized) by arc discharge, resulting in a positively charged film-forming material that is attracted to the surface of the base material body 2 to which a negative charge has been applied, forming a film.

(DLC被膜層4)
DLC被膜層4は、DLC被膜層成膜工程S7において、PVD法(物理蒸着法)に分類される真空アーク蒸着法により、母材本体2の表面に成膜された金属層3の表面に均一な厚さを持つ形に積層状に成膜される。DLC被膜層4は、上記真空アーク蒸着法により、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)の中では最もSP-3構造の比率が高く、最も高密度でかつ硬質な特徴を備えるとされるta-Cに分類される被膜層として形成される。ta-Cは、SP-3構造の比率が50%~90%で、かつ、水素含有量が5質量%以下のアモルファスカーボンである。
(DLC coating layer 4)
In the DLC coating layer forming step S7, the DLC coating layer 4 is formed in a laminated form with a uniform thickness on the surface of the metal layer 3 formed on the surface of the base material body 2 by vacuum arc deposition, which is classified as a PVD (physical vapor deposition) method. The DLC coating layer 4 is formed by the vacuum arc deposition method as a coating layer classified as ta-C, which has the highest proportion of SP-3 structure among DLCs (diamond-like carbons) and is characterized by its highest density and hardness. ta-C is amorphous carbon with a proportion of SP-3 structure of 50% to 90% and a hydrogen content of 5% by mass or less.

詳しくは、DLC被膜層4は、真空アーク蒸着法の中でも特に表面の欠陥を少なく成膜できる手法として知られる公知のFCVA法(フィルタード陰極真空アーク法)により成膜される。FCVA法は、真空アーク蒸着法によりta-C被膜をワークに蒸着する際、陰極ターゲットの蒸発源である固体黒鉛から放出され得る電気的に中性な蒸発粒子であるドロップレット(SP-2構造あるいはそれに近い組成構造を持つマクロパーティカル)をプラズマの輸送中にプラズマからフィルタリングして、被膜に付着させにくくすることができる公知の手法である。 More specifically, the DLC coating layer 4 is formed by the well-known FCVA (filtered cathodic vacuum arc) method, which is known as a vacuum arc deposition method that can produce films with minimal surface defects. The FCVA method is a well-known technique that filters droplets (macroparticles with an SP-2 structure or a similar composition structure), which are electrically neutral evaporated particles that can be emitted from solid graphite, the evaporation source of the cathode target, from the plasma during plasma transport, making them less likely to adhere to the coating when a ta-C coating is deposited on a workpiece by vacuum arc deposition.

ドロップレットが被膜に付着されにくくなることで、被膜の表面を凹凸の少ない幾何学的均一性(平坦性)及び化学的均一性を担保した形に形成することができる。その結果、DLC被膜層4を、表面が平滑で、かつ、機械特性の低下しにくい形に形成することができる。DLC被膜層4は、上記FCVA法を用いて、表面粗さRaが0.1μm以下であり、かつ、表面の欠陥が20%以下となるように形成されることが好ましい。また、DLC被膜層4は、厚さが0.5~5.0μmで、かつ、被膜のビッカース硬さが1,500~5,000Hvに形成されることが好ましい。被膜の硬さは、被膜の厚みが数十nm~数十μmの場合には、ナノインデンテーション硬さで示されることがある。 By making it difficult for droplets to adhere to the coating, the coating surface can be formed with minimal irregularities, ensuring geometric uniformity (flatness) and chemical uniformity. As a result, the DLC coating layer 4 can be formed with a smooth surface and less deterioration of mechanical properties. The DLC coating layer 4 is preferably formed using the above-mentioned FCVA method so that the surface roughness Ra is 0.1 μm or less and the surface defects are 20% or less. Furthermore, the DLC coating layer 4 is preferably formed to a thickness of 0.5 to 5.0 μm and a Vickers hardness of 1,500 to 5,000 Hv. When the coating thickness is tens of nanometers to tens of μm, the hardness of the coating can be expressed as nanoindentation hardness.

また、DLC被膜層4は、上記FCVA法を用いて、表層部の屈折率が波長550nmにおいて1.5~3.0のta-C被膜として形成されることが好ましい。上記屈折率の測定方法としては、薄膜の屈折率を求める手法として知られる公知の分光エリプソメトリー法(薄膜に対する入射光と反射光の偏光状態の変化を測定する分析手法)や光干渉法が挙げられる。 The DLC coating layer 4 is preferably formed using the FCVA method as a ta-C coating with a surface layer refractive index of 1.5 to 3.0 at a wavelength of 550 nm. Methods for measuring the refractive index include the well-known spectroscopic ellipsometry method (an analytical method that measures changes in the polarization state of light incident on and reflected from a thin film) and optical interference method, which are known methods for determining the refractive index of thin films.

DLC被膜層4の表層部の屈折率は、DLC被膜層4の密度が低い場合、入射光が被膜内に吸収されて反射光の光量が少なくなることから小さくなる。反対に、DLC被膜層4の表層部の屈折率は、DLC被膜層4の密度が高い場合、入射光が被膜内に吸収されにくく反射光の光量が多くなることから大きくなる。 When the density of the DLC coating layer 4 is low, the refractive index of the surface layer of the DLC coating layer 4 is small because incident light is absorbed within the coating, reducing the amount of reflected light. Conversely, when the density of the DLC coating layer 4 is high, the refractive index of the surface layer of the DLC coating layer 4 is large because incident light is less easily absorbed within the coating, increasing the amount of reflected light.

したがって、母材本体2上に上記屈折率を備えた高密度なta-C被膜からなるDLC被膜層4を設けることで、部材表面からの水分の浸透を適切に防止することができる。DLC被膜層4は、中間層となる金属層3を間に介して母材本体2上に設けられることで、母材本体2上に密着性良く成膜される。これらの構成により、加飾部材1の水分による耐食性を適切に高めることができる。 Therefore, by providing a DLC coating layer 4 made of a high-density ta-C coating with the above-mentioned refractive index on the base material body 2, it is possible to appropriately prevent moisture penetration from the surface of the component. The DLC coating layer 4 is provided on the base material body 2 with the metal layer 3, which serves as an intermediate layer, in between, so that it is formed on the base material body 2 with good adhesion. This configuration appropriately enhances the moisture corrosion resistance of the decorative component 1.

DLC被膜層4の成膜により、加飾部材1の表面には、図2に示すように、凹部2Aが陥凹された母材本体2の凹凸形状に依存した凹凸形状(凹部D)を持つ高密度、硬質、かつ、高い耐摩耗性を備える被膜層が形成される。DLC被膜層4及びその下層に形成される金属層3は、それぞれ、上述した真空アーク蒸着法やスパッタリング法により、母材本体2の表面に均一な厚さを持つ形に積層状に成膜される。したがって、DLC被膜層4及び金属層3は、それぞれ、母材本体2に陥凹された凹部2Aの略真上の位置に、凹部2Aの形状に即して寸胴状に凹んだ装飾模様となる凹部Dを形成する形に成膜される。 By depositing the DLC coating layer 4, a high-density, hard, and highly wear-resistant coating layer is formed on the surface of the decorative component 1, as shown in Figure 2. The DLC coating layer 4 and the underlying metal layer 3 are each deposited in layers of uniform thickness on the surface of the base material body 2 using the vacuum arc deposition or sputtering methods described above. Therefore, the DLC coating layer 4 and the metal layer 3 are each deposited in a shape that forms a cylindrical decorative pattern, the shape of which corresponds to the recess 2A, approximately directly above the recess 2A recessed in the base material body 2.

上記加飾部材1の表面に形成される凹部Dは、その窪んだ先の内角部に被膜が肉盛り状に堆積することなく、内角部が母材本体2の凹部2Aの形状に依存して寸胴状に凹んだ輪郭が鮮明な内角部を成す形に形成される。したがって、母材本体2に陥凹する凹部2Aの形状を深く設定しなくても、加飾部材1の表面に輪郭が鮮明な凹凸模様を形成することができる。DLC被膜層4がta-C被膜から成ることで、加飾部材1の表面に形成される凹部Dを高密度、硬質、かつ、高い耐摩耗性を備える鮮明な模様形状に仕上げることができ、凹部Dの形状を崩しにくくすることができる。 The recesses D formed on the surface of the decorative member 1 are formed so that the coating does not build up at the inner corners of the recesses, but rather have a cylindrical shape with a clear outline that depends on the shape of the recesses 2A in the base material body 2. Therefore, even if the shape of the recesses 2A recessed into the base material body 2 is not set deep, a textured pattern with a clear outline can be formed on the surface of the decorative member 1. Because the DLC coating layer 4 is made of a ta-C coating, the recesses D formed on the surface of the decorative member 1 can be finished with a clear pattern that is high-density, hard, and highly wear-resistant, making the shape of the recesses D less likely to collapse.

《その他の実施形態について》
以上、本発明の実施形態を1つの実施形態を用いて説明したが、本発明は、上記実施形態に示した構成に限定されず、本発明の要旨を変更をしない範囲内で種々の変更、追加、および削除が可能なものである。例えば、本発明の加飾部材は、水分による耐食性が必要な環境下で使用することを目的としたものであれば良く、屋内外の水まわり環境で使用される水栓用配管の他、水栓用配管以外にも適用することができるものである。
Other Embodiments
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the configuration shown in the above embodiment, and various modifications, additions, and deletions are possible within the scope of the present invention. For example, the decorative member of the present invention may be any member intended for use in an environment requiring corrosion resistance due to moisture, and may be applied to faucet piping used in indoor and outdoor wet environments, as well as to other than faucet piping.

1 加飾部材
2 母材本体
2A 凹部
3 金属層
3A 第1金属層
3B 第2金属層
4 DLC被膜層
D 凹部
S1 前工程
S2 鉛除去処理工程
S3 ブラスト処理工程
S4 鏡面仕上げ処理工程
S5 洗浄処理工程
S6 金属層成膜工程
S7 DLC被膜層成膜工程
REFERENCE SIGNS LIST 1 Decorative member 2 Base material body 2A Recess 3 Metal layer 3A First metal layer 3B Second metal layer 4 DLC coating layer D Recess S1 Pre-process S2 Lead removal process S3 Blasting process S4 Mirror finish process S5 Cleaning process S6 Metal layer deposition process S7 DLC coating layer deposition process

Claims (10)

栓に用いられる銅合金の加飾部材であり、
銅合金製の母材本体、金属層、およびDLC被膜層を少なくとも含み、
前記金属層は、前記DLC被膜層と前記母材本体との間に配置されており、
前記DLC被膜層は、表層部の屈折率が波長550nmにおいて1.5~3.0のta-C被膜からなり、
前記DLC被膜層の厚さが、0.5~5.0μmである、加飾部材。
It is a copper alloy decorative material used in faucets .
The substrate includes at least a copper alloy base body, a metal layer, and a DLC coating layer;
the metal layer is disposed between the DLC coating layer and the base material body;
the DLC coating layer is made of a ta-C coating having a refractive index of 1.5 to 3.0 at a wavelength of 550 nm at a surface layer portion;
The decorative member has a thickness of 0.5 to 5.0 μm.
前記DLC被膜層が、SP-3構造を50~90%含み、かつ、その被膜のビッカース硬さが、1,500~5,000Hvである、請求項1に記載の加飾部材。 The decorative member according to claim 1, wherein the DLC coating layer contains 50 to 90% of the SP-3 structure and the Vickers hardness of the coating is 1,500 to 5,000 Hv. 前記DLC被膜層の表面粗さRaが、0.1μm以下である、請求項1または2に記載の加飾部材。 3. The decorative member according to claim 1, wherein the DLC coating layer has a surface roughness Ra of 0.1 [mu]m or less. 前記DLC被膜層が、5質量%以下の水素を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の加飾部材。 The decorative member according to any one of claims 1 to 3, wherein the DLC coating layer contains 5% by mass or less of hydrogen. 前記母材本体が、50%以上の銅を含有し、残部が、鉛、亜鉛、錫、鉄、ニッケル、およびアンチモンからなる銅合金である、請求項1~4のいずれか1項に記載の加飾部材。 The decorative member according to any one of claims 1 to 4, wherein the base material body is a copper alloy containing 50% or more copper, with the remainder consisting of lead, zinc, tin, iron, nickel, and antimony. 前記金属層が、ニッケル、チタン、クロム、およびタングステンよりなる群から選択される少なくとも1種の金属を含む層である、請求項1~5のいずれか1項に記載の加飾部材。 The decorative member according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal layer is a layer containing at least one metal selected from the group consisting of nickel, titanium, chromium, and tungsten. 前記金属層が、第1金属層と第2金属層とを含み、前記第2金属層の少なくとも一部が、前記第1金属層上に配置されている、請求項1~6のいずれか1項に記載の加飾部材。 A decorative member according to any one of claims 1 to 6, wherein the metal layer includes a first metal layer and a second metal layer, and at least a portion of the second metal layer is disposed on the first metal layer. 前記DLC被膜層の前記表層部の屈折率が、波長550nmにおいて2.0~3.0である、請求項1~7のいずれか1項に記載の加飾部材。 The decorative member according to any one of claims 1 to 7, wherein the refractive index of the surface layer of the DLC coating layer is 2.0 to 3.0 at a wavelength of 550 nm. 前記母材本体が、凹凸形状を有し、
前記DLC被膜層において、前記母材本体が前記凹凸形状を有している部分に対して略真上に位置する部分が、前記凹凸形状に依存した形状を有する模様となっている、請求項1~7のいずれか1項に記載の加飾部材。
The base material body has an uneven shape,
The decorative member according to any one of claims 1 to 7, wherein a portion of the DLC coating layer that is located approximately directly above a portion of the base material body that has the uneven shape has a pattern having a shape that depends on the uneven shape.
前記金属層の厚さが、0.01~10μmである、請求項1~9のいずれか1項に記載の加飾部材。 The decorative member according to any one of claims 1 to 9, wherein the thickness of the metal layer is 0.01 to 10 μm.
JP2021179325A 2021-11-02 2021-11-02 Decorative materials Active JP7781604B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021179325A JP7781604B2 (en) 2021-11-02 2021-11-02 Decorative materials

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021179325A JP7781604B2 (en) 2021-11-02 2021-11-02 Decorative materials

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023068327A JP2023068327A (en) 2023-05-17
JP7781604B2 true JP7781604B2 (en) 2025-12-08

Family

ID=86327022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021179325A Active JP7781604B2 (en) 2021-11-02 2021-11-02 Decorative materials

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7781604B2 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008149707A1 (en) 2007-06-01 2008-12-11 Itoh Optical Industrial Co., Ltd. Dlc film and dlc coated mold
US20110165435A1 (en) 2008-09-10 2011-07-07 Axel Rost Sanitary object
US20120141821A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Axel Rost Bathroom appliance
JP2015085319A (en) 2013-09-26 2015-05-07 Toto株式会社 Metallic components for water-area
JP2019512597A (en) 2016-03-01 2019-05-16 エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 プフェフィコン Hydrogen-free carbon coating with zirconium adhesion film
WO2020127240A1 (en) 2018-12-21 2020-06-25 Nanofilm Technologies International Pte Ltd Corrosion resistant carbon coatings

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63130764A (en) * 1986-11-19 1988-06-02 Kao Corp Ornamental material

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008149707A1 (en) 2007-06-01 2008-12-11 Itoh Optical Industrial Co., Ltd. Dlc film and dlc coated mold
US20110165435A1 (en) 2008-09-10 2011-07-07 Axel Rost Sanitary object
US20120141821A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Axel Rost Bathroom appliance
JP2015085319A (en) 2013-09-26 2015-05-07 Toto株式会社 Metallic components for water-area
JP2019512597A (en) 2016-03-01 2019-05-16 エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 プフェフィコン Hydrogen-free carbon coating with zirconium adhesion film
WO2020127240A1 (en) 2018-12-21 2020-06-25 Nanofilm Technologies International Pte Ltd Corrosion resistant carbon coatings

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023068327A (en) 2023-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106222610B (en) A kind of nanocomposite hard coating and preparation method thereof
US20160333186A1 (en) Article coated with dlc and manufacturing method thereof
JP2017536475A (en) Reflector substrate with corrosion resistant coating capable of high quality finish
US8734907B2 (en) Coating of shield surfaces in deposition systems
CN114846176B (en) Coated cutting tool
CN108130533A (en) One kind has high wear-resistant anti-corrosion hard seal ball valve and preparation method
TW200949013A (en) Ceramic sprayed member, making method, abrasive medium for use therewith
CN106929799B (en) High temperature resistant protective coating and preparation method and application thereof
US20140242500A1 (en) Process For Cleaning Shield Surfaces In Deposition Systems
WO1995029271A1 (en) Slide member and method of its production
CN109868451B (en) A kind of coating tool and its coating preparation process
CN1823178B (en) Sputtering target and surface finishing method of the sputtering target
JP7781604B2 (en) Decorative materials
CN101363111A (en) Method for producing carbon thin film and carbon thin film-coated body
JP7760388B2 (en) Faucet member and method for manufacturing the same
JP7707093B2 (en) Faucet parts
JP2012522128A (en) Method for coating a part made of aluminum alloy and part obtained from said method
JP7665499B2 (en) Decorative materials
JP5082113B2 (en) Carrier for holding object to be polished and method for manufacturing the same
JP5082114B2 (en) Manufacturing method of carrier for holding object to be polished
CN1195272A (en) Liquid Electric Heating Container
JP5082116B2 (en) Method for manufacturing non-metallic carrier for holding object to be polished
JPH05214505A (en) Formation of spray deposit
JP3024095B2 (en) Sandblasting surface treatment method
JPH0247601A (en) Production of glass with functional film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240802

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20250704

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250715

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250806

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20251111

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20251126

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7781604

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150