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JP7785692B2 - ビニル保護アルコール中間体の合成 - Google Patents
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JP7785692B2 - ビニル保護アルコール中間体の合成 - Google Patents

ビニル保護アルコール中間体の合成

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JP7785692B2 JP2022566655A JP2022566655A JP7785692B2 JP 7785692 B2 JP7785692 B2 JP 7785692B2 JP 2022566655 A JP2022566655 A JP 2022566655A JP 2022566655 A JP2022566655 A JP 2022566655A JP 7785692 B2 JP7785692 B2 JP 7785692B2
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Description

関連出願の相互参照
本出願は、あたかも本明細書に完全に記載されているかの如く、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれる、2020年5月6日出願の米国仮特許出願第63/020,862号明細書の利益を主張するものである。
本開示は、(1S,3’R,6’R,7’S,8’E,11’S,12’R)-6-クロロ-7’-メトキシ-11’,12’-ジメチル-3,4-ジヒドロ-2H,15’H-スピロ[ナフタレン-1,22’[20]オキサ[13]チア[1,14]ジアザテトラシクロ[14.7.2.03,6.019,24]ペンタコサ[8,16,18,24]テトラエン]-15’-オン13’,13’-ジオキシド(化合物A1;AMG176)、又はその塩若しくは溶媒和物、及び(1S,3’R,6’R,7’R,8’E,11’S,12’R)-6-クロロ-7’-メトキシ-11’,12’-ジメチル-7’-((9aR)-オクタヒドロ-2H-ピリド[1,2-a]ピラジン-2-イルメチル)-3,4-ジヒドロ-2H,15’H-スピロ[ナフタレン-1,22’-[20]オキサ[13]チア[1,14]ジアザテトラシクロ[14.7.2.03,6.019,24]ペンタコサ[8,16,18,24]テトラエン]-15’-オン13’,13’-ジオキシド(化合物A2;AMG397)、又はその塩若しくは溶媒和物の合成に使用される中間体を合成するための方法に関する。これらの化合物は、骨髄細胞白血病1タンパク質(Mcl-1)の阻害剤である。
化合物(1S,3’R,6’R,7’S,8’E,11’S,12’R)-6-クロロ-7’-メトキシ-11’,12’-ジメチル-3,4-ジヒドロ-2H,15’H-スピロ[ナフタレン-1,22’[20]オキサ[13]チア[1,14]ジアザテトラシクロ[14.7.2.03,6.019,24]ペンタコサ[8,16,18,24]テトラエン]-15’-オン13’,13’-ジオキシド(化合物A1)は、骨髄細胞白血病1(Mcl-1)の阻害剤として有用であり、
化合物、(1S,3’R,6’R,7’R,8’E,11’S,12’R)-6-クロロ-7’-メトキシ-11’,12’-ジメチル-7’-((9aR)-オクタヒドロ-2H-ピリド[1,2-a]ピラジン-2-イルメチル)-3,4-ジヒドロ-2H,15’H-スピロ[ナフタレン-1,22’-[20]オキサ[13]チア[1,14]ジアザテトラシクロ[14.7.2.03,6.019,24]ペンタコサ[8,16,18,24]テトラエン]-15’-オン13’,13’-ジオキシド(化合物A2)は、骨髄細胞白血病1(Mcl-1)の阻害剤として有用である。
ヒト癌の1つの一般的な特性は、Mcl-1の過剰発現である。Mcl-1過剰発現は、癌細胞がプログラム細胞死(アポトーシス)を受けることを防ぎ、広範な遺伝子損傷にもかかわらず細胞が生き残ることを可能にする。
Mcl-1は、タンパクのBcl-2ファミリーのメンバーである。Bcl-2ファミリーは、プロアポトーシスメンバー(BAX及びBAKなど)を含み、これらは、活性化すると、ミトコンドリア外膜中にホモオリゴマーを形成し、これは、アポトーシス誘発の一段階であるポア形成及びミトコンドリア内容物の放出をもたらす。Bcl-2ファミリーの抗アポトーシスメンバー(Bcl-2、Bcl-XL及びMcl-1など)は、BAX及びBAKの活性を遮断する。他のタンパク質(BID、BIM、BIK及びBADなど)は、更なる調節的機能を示す。研究から、Mcl-1阻害剤が癌の処置に有用であり得ることが示されている。Mcl-1は、多くの癌において過剰発現される。
その全体が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第9,562,061号明細書には、Mcl-1阻害剤としての化合物A1が開示され、その調製方法が提供されている。しかしながら、特に化合物A1を商業的に製造するために、化合物A1のより高い収率及び純度をもたらす改善された合成方法が所望されている。
その全体が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第10,300,075号明細書には、Mcl-1阻害剤としての化合物A2が開示され、その調製方法が提供されている。しかしながら、特に化合物A2を商業的に製造するために、化合物A2のより高い収率及び純度をもたらす改善された合成方法が所望されている。
米国特許第9,562,061号明細書 米国特許第10,300,075号明細書
本明細書では、化合物Dを合成するための方法であって、
(a)化合物B又はその塩と化合物Cとを有機溶媒中で混合してスラリーを形成することであって、有機溶媒は、非極性芳香族溶媒、エーテル溶媒、塩素化溶媒、アルコール溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルカーボネート、ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチルピロリジノン(NMP)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、ことと、
(b)工程(a)のスラリーと還元剤とを混合して、化合物Dを含む混合物を形成することと、を含み、OPGは、エーテル、アセタール又はケタール、アシル、スルホニル、及びシリルエーテルからなる群から選択されるアルコール保護基であり、RはH又はC1~6アルキルであり、Rは保護アルデヒドである、方法が提供される。
様々な実施形態では、方法は、
を工程(a)の有機溶媒中で混合することを更に含む。
様々な実施形態では、化合物Bは塩である。様々な実施形態では、RはHである。様々な実施形態では、Rは、メチル、エチル、n-プロピル、又はtert-ブチルである。
様々な実施形態では、OPGは、
(メトキシ)、
(tert-ブチルエーテル)、
(メトキシメチルアセタール、MOM)、
(2-メトキシエトキシメチルエーテル、MEM)、
(エトキシエチルアセタール、EE)、
(メトキシプロピルアセタール、MOP)、
(テトラヒドロピラニルアセタール、THP)、
(ベンジルオキシメチルアセタール、BOM)、
(ベンジルエーテル、Bn)、
(4-メトキシベンジルエーテル、PMB)、
(2-ナフチルメチルエーテル、Nap)、
(アセチル、Ac)、
ピバロイル(Piv)、
(ベンゾイル、Bz)、
(4-ブロモベンゾイル、Br-Bz)、
(4-フルオロベンゾイル)、
(4-クロロベンゾイル)、
(4-ヨードベンゾイル)、
(4-ニトロベンゾイル)、
(4-フェニルベンゾイル)、
(1-ナフトイルエステル)、
(2-ナフトイルエステル)、
(4-メトキシベンゾイル)、
(イソブチリル)、OSiEt(トリエチルシリルエーテル、TES)、OSi(Pr)(トリイソプロピルシリルエーテル、TIPS)、OSiMe(トリメチルシリルエーテル、TMS)、OSiMetBu(tert-ブチルジメチルシリルエーテル、TBS)、OSiPh Bu(tert-ブチルジフェニルシリルエーテル、TBDPS)、OSOMe(メシル)、
(4-トルエンスルホニル、トシル)、
(4-ニトロベンゼンスルホニル、ノシル)、及びOSOCF(トリフリル)からなる群から選択される。場合によっては、OPGは4-ブロモベンゾイルである。
様々な実施形態では、Rは保護アルデヒドである。場合によっては、保護アルデヒドは、
からなる群から選択される。
場合によっては、Rは、
である。
様々な実施形態では、化合物Cは構造:
を有する。
様々な実施形態では、化合物Dは構造:
を有する。
様々な実施形態では、還元剤は、ホウ化水素、ボラン、シラン、ハンチエステル、ギ酸/アミン塩基/金属触媒、及び水素/金属触媒からなる群から選択される。場合によっては、還元剤は、NaBH(OAc)、NaBHCN、NaBH、ピコリンボラン(pic-BH)、ボランテトラヒドロフラン(BH-THF)、デカボラン(B1014)、ボランジメチルスルフィド(BH-S(Me))、N-複素環式カルベンボラン(NHC-ボラン)、トリエチルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、

/Pd、H/Rh、H/Ir、H/Ru、ギ酸/トリエチルアミン/Rh、ギ酸/トリエチルアミン/Ir、及びギ酸/トリエチルアミン/Ruからなる群から選択される。場合によっては、還元剤はNaBH(OAc)である。
様々な実施形態では、有機溶媒は、トルエン、ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、ジクロロメタン(DCM)、四塩化炭素、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、2-メチルテトラヒドロフラン(2-MeTHF)、メチルtert-ブチルエーテル(MTBE)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。場合によっては、有機溶媒は、トルエン、THF、DCM、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。場合によっては、有機溶媒はトルエンである。
様々な実施形態では、化合物B及び化合物Cは、1:1~1:2のB:Cのモル比で存在する。場合によっては、B:Cのモル比は1:1.1である。
様々な実施形態では、化合物B及び還元剤は、1:1~1:2.25のモル比で存在する。場合によっては、化合物B対還元剤のモル比は1:1.25である。
様々な実施形態では、工程(a)及び工程(b)のそれぞれが、10℃~40℃の温度で行われる。場合によっては、工程(a)及び工程(b)のそれぞれが、20℃の温度で行われる。
様々な実施形態では、工程(a)の混合は、1分間~1時間行われる。場合によっては、工程(a)の混合は、30分間行われる。
様々な実施形態では、還元剤は60秒以内でスラリーに添加される。様々な実施形態では、還元剤は、10分間~1時間にわたってスラリーに添加される。様々な実施形態では、還元剤は、2つ以上の等分量でスラリーに添加される。場合によっては、還元剤は、4つの等分量でスラリーに添加される。場合によっては、等分量は15分間隔で添加される。
様々な実施形態では、工程(b)の混合は、5時間~20時間行われる。場合によっては、工程(b)の混合は、16時間行われる。
様々な実施形態では、工程(a)及び(b)は、単一の反応槽内で順々に行われる。
様々な実施形態では、方法は、(c)工程(b)の混合物から化合物Dを抽出することを更に含む。場合によっては、抽出することは、化合物Dを結晶化することを介する。場合によっては、結晶化することは、トルエン、ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、ヘプタン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン(DME)、1,4-ジオキサン、ジクロロメタン(DCM)、四塩化炭素、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、2-メチルテトラヒドロフラン(2-MeTHF)、メチルtert-ブチルエーテル(MTBE)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される有機溶媒で実施される。場合によっては、結晶化することは、トルエン及びヘプタンで実施される。
様々な実施形態では、方法は、化合物Dを用いて、化合物A1、又はその塩若しくは溶媒和物を合成することを更に含む。
様々な実施形態では、方法は、化合物Dを用いて、化合物A2、又はその塩若しくは溶媒和物を合成することを更に含む。
更なる態様及び利点は、以下の発明を実施するための形態を再検討することにより当業者に明らかとなるであろう。本開示が例示的であり、本明細書に記載される具体的な実施形態に本発明を限定することを意図しないという理解の下で、本明細書の以下の説明は、具体的な実施形態を含む。
本明細書では、Mcl-1阻害剤、及び対応するビニル保護アルコール中間体を合成するための方法が提供される。具体的には、(1S,3’R,6’R,7’S,8’E,11’S,12’R)-6-クロロ-7’-メトキシ-11’,12’-ジメチル-3,4-ジヒドロ-2H,15’H-スピロ[ナフタレン-1,22’[20]オキサ[13]チア[1,14]ジアザテトラシクロ[14.7.2.03,6.019,24]ペンタコサ[8,16,18,24]テトラエン]-15’-オン13’,13’-ジオキシド(化合物A1)、又はその塩若しくは溶媒和物を合成するための方法、及び、(1S,3’R,6’R,7’R,8’E,11’S,12’R)-6-クロロ-7’-メトキシ-11’,12’-ジメチル-7’-((9aR)-オクタヒドロ-2H-ピリド[1,2-a]ピラジン-2-イルメチル)-3,4-ジヒドロ-2H,15’H-スピロ[ナフタレン-1,22’-[20]オキサ[13]チア[1,14]ジアザテトラシクロ[14.7.2.03,6.019,24]ペンタコサ[8,16,18,24]テトラエン]-15’-オン13’,13’-ジオキシド(化合物A2)、又はその塩若しくは溶媒和物を合成するための方法が提供される。
その全体が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第9,562,061号明細書には、Mcl-1阻害剤としての化合物A1、又はその塩若しくは溶媒和物が開示され、その調製するための方法が提供されている。米国特許第9,562,061号明細書からの化合物A1の塩及び溶媒和物の開示は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。本特許は、化合物A1の合成に用いられる、下記に示すビニルアルコール中間体化合物を合成する方法も開示する。
’061号特許明細書のビニルアルコール中間体
その全体が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第10,300,075号明細書には、Mcl-1阻害剤としての化合物A2、又はその塩若しくは溶媒和物が開示され、その調製するための方法が提供されている。米国特許第10,300,075号明細書からの化合物A2の塩及び溶媒和物の開示は、その全体が参考として組み込まれる。本特許は、化合物A2の合成に用いられる、上記に示すビニルアルコール中間体化合物を合成する方法も開示する。
’061号特許明細書は、’061号特許明細書の49段目における開示から翻案した下記のスキーム1に示すビニルアルコール中間体を作製するための手順を概説している。’061号特許明細書は、好ましくは0℃である室温未満の温度で、シクロブタンカルバルデヒド(中間体II)が溶媒中でオキサゼピン(中間体I)と組み合わせられることを説明している。シアノ水素化ホウ素ナトリウムが添加され、混合物が水酸化ナトリウム溶液に添加され、それにより中間体IIIが提供される。有利なことに、本明細書に記載される方法は、’061号特許明細書の一般手順1と比較して改善された合成経路を提供する。本明細書に記載される方法は、雰囲気条件(例えば、室温)で、より穏やかな試薬を用いて実施することができる。更に、本方法は、’061号特許明細書のビニルシクロブチル中間体と比較して、方法全体を通して改善された単離、貯蔵、及び純度を可能にする結晶性ビニルシクロブチル中間体を利用することができる。
スキーム1-’061号特許明細書の一般手順1
’061号特許明細書は、ビニルアルコール中間体を合成するための方法を更に説明し、ここではシクロブチル部分を含むフラグメントがベンゾオキサゼピン部分と既に結合した後で、ビニル基が化合物に添加される。例えば、下記に示され、’061号特許明細書の66~71段目における開示から翻案されたスキーム2は、’061号特許明細書に記載されるビニルアルコールを合成する一般的な方法を表す。’061号特許明細書は、次の合成工程で使用する前に中間体化合物のそれぞれを単離することを説明する。有利なことに、本明細書に記載される方法は、’061号特許明細書の方法と比較して必要な工程数が少なく、また中間体の単離を一切必要としない。更に、本明細書に記載される方法は、’061号特許明細書と比較して、化合物A1及びA2の収束性フラグメントアセンブリを提供し、優れた純度プロファイルを提供し、高結晶度の中間体を提供することにより安定性を改善し、全体的に高い収率を有する。
スキーム2-’061号特許明細書のビニルアルコール中間体の合成
本明細書では、化合物D、又はその塩若しくは溶媒和物を合成するための方法であって、
下記で詳細に説明する通り、(a)化合物B又はその塩と化合物Cとを有機溶媒中で混合してスラリーを形成することと、(b)工程(a)のスラリーと還元剤とを混合して、化合物Dを含む混合物を形成することと、を含む、方法が説明される。理解されるように、本開示の方法は、化合物Bのアミンと化合物Cのアルデヒド又は保護アルデヒドとの反応によって形成される中間体化合物を形成することと、続いてその中間体を還元して化合物Dの窒素-炭素結合を形成することと、を伴う。化合物Dを形成するための本明細書で開示される方法は、工程(a)において化合物BとCとの間で形成される中間体を単離する必要なしに、単一の反応槽内で順々に実施され得る。任意選択的に、化合物Dは抽出(例えば、結晶化)を介して単離されて、結晶性化合物Dを形成することができ、これを、化合物Aの調製中の更なる反応で用いることができる。
工程A
本開示の方法は、化合物B又はその塩と化合物Cとを有機溶媒中で混合してスラリーを形成することを含む。工程(a)における化合物BとCとの混合物は、化合物Bの窒素と化合物Cのアルデヒド又は保護アルデヒドとのカップリングから単離されていない中間体化合物を形成することが理解されよう。
本明細書で提供されるように、化合物Bは、
(B)、又はその塩の構造を有し、式中、RはH又はC1-6アルキルである。いくつかの実施形態では、Rは、Hである。その他の実施形態では、RはC1-6アルキルである。本明細書で使用するとき、用語「アルキル」は、直鎖又は分枝鎖の飽和炭化水素基を指す。Cという用語は、基が「n」個の炭素原子を有することを意味する。例えば、Cアルキルは、3つの炭素原子を有するアルキル基を指す。C1~6アルキルは、全範囲(すなわち、1~6個の炭素原子)、のみならず全ての下位群(例えば2~6、1~5、1~4、3~6、3~5、1、2、3、4、5、及び6個の炭素原子)を包含する数の炭素原子を有するアルキル基を指す。アルキル基の非限定的な例としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル(2-メチルプロピル)、tert-ブチル(1,1-ジメチルエチル)、n-ペンチル、及びn-ヘキシルが挙げられる。いくつかの実施形態では、Rは、メチル、エチル、n-プロピル、又はtert-ブチルである。
いくつかの実施形態では、化合物Bは塩である。化合物Bの塩は、例えば、その遊離塩基形態にある(すなわち、RがHであるときの)化合物Bを、好適な有機又は無機酸と反応させ、任意でこうして形成された塩を単離することによって、調製することができる。好適な塩の非限定的な例としては、臭化水素酸塩、塩酸塩、硫酸塩、重硫酸塩、スルホン酸塩、カンファースルホン酸塩、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩、吉草酸塩、オレイン酸塩、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩ラウリン酸塩、安息香酸塩、乳酸塩、リン酸塩、トシル酸塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、ナフチル酸塩、メシル酸塩、グルコヘプトン酸塩、ラクトビオン酸塩、ラウリルスルホン酸塩、及びアミノ酸塩などが挙げられる。いくつかの実施形態では、化合物Bはカンファースルホン酸塩である(すなわち、その遊離酸形態にある化合物Bがカンファースルホン酸と反応する)。
本明細書で提供されるように、化合物Cは、
の構造を有し、式中、RはCHO(すなわち、アルデヒド)又は保護アルデヒドであり、OPGはアルコール保護基である。いくつかの実施形態では、RはCHOである。その他の実施形態では、Rは保護アルデヒドである。
用語「保護アルデヒド」又は「アルデヒド保護基」は、アルデヒド官能基をマスクするために用いられる任意の保護基を指す。アルデヒド保護基としては、アセタール及びヘミアセタールが挙げられる。アセタール及びヘミアセタールは、C1-8アルコール又はC2-8ジオールから調製することができる。場合によっては、保護アルデヒドは、アルデヒドとエチレン又はプロピレングリコールとの縮合から形成される5又は6員環の環状アセタールである。場合によっては、保護アルデヒドはイミン又はヒドロキシイミンである。場合によっては、保護アルデヒドは、亜硫酸水素塩又はベンゾトリアゾールを含む。いくつかの実施形態では、保護アルデヒドは、
からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、保護アルデヒドは、
である。いくつかの実施形態では、保護アルデヒドは、
であり、式中、対イオンは、例えばナトリウムイオンである。
アルコール保護基は、ヒドロキシル官能基をマスクする基であり、当該技術分野で周知されている。化合物の調製は、様々なヒドロキシル基の保護及び脱保護を伴い得る。保護及び脱保護の必要性、並びに適切な保護基の選択は、当業者によって容易に決定可能である。保護基の化学的性質は、例えば、Greene,et al.,Protective Groups in Organic Synthesis,4d.Ed.,Wiley&Sons,2007で見出すことができ、これは参照することによりその全体が本明細書に組み込まれる。本明細書に記載のアルコール保護基、並びに形成及び切断方法に対する調整は、様々な置換基を考慮して必要に応じ調整することができる。場合によっては、アルコール保護基、OPGは、エーテル、アセタール又はケタール、アシル、スルホニル、及びシリルエーテルからなる群から選択される。
いくつかの実施形態では、OPGはエーテルである。エーテル保護基は、保護対象のヒドロキシル基(例えば、エーテルとしてマスクされた)からの酸素に結合した、置換又は非置換のいずれかのアルキル部分を含む。好適なエーテルの例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、メトキシメチルアセタール(MOM)、2-メトキシエトキシエトキシエチルエステル(MEM)、エトキシエチルアセタール(EE)、及びメトキシプロピルエーテル(MOP)が挙げられるが、これらに限定されない。検討されるエーテルのその他の例としては、ベンジルオキシメチルアセタール(BOM)、ベンジルエーテル(Bn)、4-メトキシベンジルエーテル(PMB)、及び2-ナフチルメチルエーテル(Nap)が挙げられるが、これらに限定されない。
いくつかの実施形態では、OPGはアセタール又はケタールである。保護基としてのアセタールは、
の一般構造を有し、アセタール(OR’オプションとしてであり、式中R’は、例えばアルキル基である)又はヘミアセタール(OHオプションとして)であってもよく、式中、R-Oは保護されているヒドロキシル基から誘導され、PG’は(ヘミ)アセタール保護基の残部である。保護基としてのケタールは、
の一般構造を有し、式中、R-Oは保護されているヒドロキシル基から誘導され、ケタール(OR’オプションとしてであり、式中R’は、例えばアルキル基である)又はヘミケタール(OHオプションとして)であってもよく、各PG’は、ヒドロキシル基をマスクする(ヘミ)ケタール保護基の残部(すなわちR-OH)から誘導され、置換又は非置換であってよい。好適なアセタールの例としては、テトラヒドロピラニルアセタール(THP)が挙げられるがこれに限定されない。
いくつかの実施形態では、OPGはアシルである。本明細書で使用するとき、用語「アシル」は、アルコールの酸素原子がアシル基に結合したアルコール保護基を指し、
式中、R-Oは保護されているヒドロキシル基から誘導され、PG’は、アシル保護基の残部から誘導される。好適なアシルの例としては、アセチル(Ac)、ピバロイル(Piv)、ベンゾイル(Bz)、4-ブロモベンゾイル(Br-Bz)、4-フルオロベンゾイル、4-クロロベンゾイル、4-ヨードベンゾイル、4-ニトロベンゾイル、4-フェニルベンゾイル、1-ナフトイルエステル、2-ナフトイルエステル、4-メトキシベンゾイル、及びイソブチリルが挙げられるがこれらに限定されない。
いくつかの実施形態では、OPGはシリルエーテルである。本明細書で使用するとき、用語「シリルエーテル」は、アルコールの酸素原子がシリルエーテル基に結合したアルコール保護基を指し、
式中、R-Oは保護されているヒドロキシル基から誘導され、各PG’は、シリルエーテル保護基の残部から誘導される。好適なシリルエーテルの例としては、トリエチルシリルエーテル(TES)、トリイソプロピルシリルエーテル(TIPS)、トリメチルシリルエーテル(TMS)、tert-ブチルジメチルシリルエーテル(TBS)、及びtert-ブチルジフェニルシリルエーテル(TBDPS)が挙げられるがこれらに限定されない。
いくつかの実施形態では、OPGはスルホニル保護基である。本明細書で使用するとき、用語「スルホニル保護基」は、アルコールの酸素原子がスルホニル基に結合したアルコール保護基を指し、
式中、R-Oは保護されているヒドロキシル基から誘導され、PG’は、スルホニル保護基の残部から誘導される。いくつかの実施形態では、スルホニル保護基は、メシル、トシル、ノシル、及びトリフリルからなる群から選択される。
いくつかの実施形態では、OPGは、
(メトキシ)、
(tert-ブチルエーテル)、
(メトキシメチルアセタール、MOM)、
(2-メトキシエトキシメチルエーテル、MEM)、
(エトキシエチルアセタール、EE)、
(メトキシプロピルアセタール、MOP)、
(テトラヒドロピラニルアセタール、THP)、
(ベンジルオキシメチルアセタール、BOM)、
(ベンジルエーテル、Bn)、
(4-メトキシベンジルエーテル、PMB)、
(2-ナフチルメチルエーテル、Nap)、
(アセチル、Ac)、
ピバロイル(Piv)、
(ベンゾイル、Bz)、
(4-ブロモベンゾイル、Br-Bz)、
(4-フルオロベンゾイル)、
(4-クロロベンゾイル)、
(4-ヨードベンゾイル)、
(4-ニトロベンゾイル)、
(4-フェニルベンゾイル)、
(1-ナフトイルエステル)、
(2-ナフトイルエステル)、
(4-メトキシベンゾイル)、
(イソブチリル)、OSiEt(トリエチルシリルエーテル、TES)、OSi(Pr)(トリイソプロピルシリルエーテル、TIPS)、OSiMe(トリメチルシリルエーテル、TMS)、OSiMetBu(tert-ブチルジメチルシリルエーテル、TBS)、OSiPh Bu(tert-ブチルジフェニルシリルエーテル、TBDPS)、OSOMe(メシル)、
(4-トルエンスルホニル、トシル)、
(4-ニトロベンゼンスルホニル、ノシル)、及びOSOCF(トリフリル)からなる群から選択される。いくつかの実施形態では、OPGは4-ブロモベンゾイルである。
いくつかの実施形態では、OPGは4-ブロモベンゾイルであり、Rは、
であり、すなわち、化合物Cは、
の構造を有する。
化合物B及びCの工程(a)の混合は、有機溶媒の存在下で実施される。化合物B及び化合物Cは、有機溶媒中に1:1~1:2のB:Cのモル比、例えば、少なくとも1:1、1:1.1、1:1.2、1:1.3、1:1.4、若しくは1:1.5のモル比、及び/又は最大で1:2、1:1.9、1:1.7、1:1.6、1:1.5、若しくは1:1.4のモル比、例えば、1:1~1:1.5、1:1~1:1.4、又は1:1.1~1:1.3で存在してよい。いくつかの実施形態では、化合物B対化合物Cのモル比は1:1.1である。
工程(a)の有機溶媒は、非極性芳香族溶媒、エーテル溶媒、塩素化溶媒、アルコール溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチルピロリジノン(NMP)、ジメチルカーボネート、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。非極性芳香族溶媒の非限定的な例としては、トルエン、ベンゼン、キシレン、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、ナフタレン、及びベンゾトリフルオリドが挙げられる。エーテル溶媒の非限定的な例としては、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル(MTBE)、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、2-メチルテトラヒドロフラン(2-MeTHF)、及びシクロペンチルメチルエーテルが挙げられる。塩素化溶媒の非限定的な例としては、1,2-ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、及びジクロロメタンが挙げられる。アルコール溶媒の非限定的な例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール、及びtert-ブタノールが挙げられる。
いくつかの実施形態では、有機溶媒は、トルエン、ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、ジクロロメタン(DCM)、四塩化炭素、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、2-メチルテトラヒドロフラン(2-MeTHF)、メチルtert-ブチルエーテル(MTBE)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。いくつかの実施形態では、有機溶媒は、トルエン、THF、DCM、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される。いくつかの実施形態では、有機溶媒はトルエンである。
溶媒は、5L/kg化合物Bから25L/kg化合物Bまでの量、例えば、少なくとも約5、10、15、若しくは20L/kg化合物B、及び/又は、最大で約25、20、25、若しくは10L/kg化合物B、例えば、5L/kg~20L/kg、5L/kg~15L/kg、又は5L/kg~10L/kgの量で含まれ得る。いくつかの実施形態では、溶媒は10L/kg化合物Bの量で存在する。
いくつかの実施形態では、工程(a)は、
(カンファースルホン酸)を有機溶媒中で化合物B及びCと混合することを更に含む。本明細書で説明するように、カンファースルホン酸は、化合物Bの塩形態を調製するために使用することができる。有利なことに、化合物Bの塩形態は、インサイチュで形成することができ、本明細書に記載の方法の工程(a)で使用する前に単離する必要がない。
工程(a)は、10℃~40℃の温度、例えば、少なくとも10、12、15、17、20、22、25、27、若しくは30℃、及び/又は最大で40、37、35、32、30、27、25、22、若しくは20℃、例えば、10℃~30℃、12℃~27℃、15℃~25℃、又は17℃~22℃で行われ得る。いくつかの実施形態では、工程(a)は20℃の温度で行われる。
工程(a)の混合は、1分間~1時間、例えば、少なくとも1、5、10、15、20、25、30、35、若しくは40分間、及び/又は最大で60、55、50、45、40、35、30、25、若しくは20分間、例えば、5~45分間、10~40分間、15~40分間、20~45分間、又は25~35分間行われ得る。いくつかの実施形態では、工程(a)の混合は、30分間行われる。
工程B
本開示の方法は、工程(a)のスラリーと還元剤とを混合して、化合物Dを含む混合物を形成することを含む。工程(b)は工程(a)と同じ又は異なる反応槽内で実行してよい。いくつかの実施形態では、工程(b)は工程(a)と同じ反応槽内で実施される。
本明細書で提供されるように、化合物Dは、
であり、式中、R及びOPGのそれぞれは、本明細書で説明される通りである。いくつかの実施形態では、RはHであり、OPGは4-ブロモベンゾイルであり、すなわち、化合物Dは構造
を有する。
還元剤は、工程(a)で化合物BとCとの間に形成された窒素-炭素二重結合を還元する任意の剤である。還元剤は、例えば、プロトンと組み合わせて用いられる金属水素化物、水素/金属触媒、有機金属試薬、又は電子供与体であり得、電子は、カソード、又はLi、Na、K、Mg、Zn、Fe、及びAlから選択される金属によって供与される。金属水素化物としては、水素化ホウ素及びアルミニウムが挙げられる。ホウ素又はアルミニウムの水素化物の例としては、NaBH、NaB(CN)H、NaBH(OAc)、LiAlH、LiAlH(Otert-Bu)、LiBH、LiBHEt、及びLiBH(sec-Bu)が挙げられる。場合によっては、還元剤は、ホウ化水素、ボラン、シラン、ハンチエステル、ギ酸/アミン塩基/金属触媒、及び水素/金属触媒からなる群から選択される。ハンチエステル、1,4-ジヒドロベンゾール、イソプロパノール、ギ酸、及びギ酸アンモニウムは移動水素化試薬であり、また、これらは、水素化物イオン及びプロトンを移動させることができるため、水素源である。これらの移動水素化試薬との反応は、金属非含有、すなわち金属触媒の不在下で実施することができる。
いくつかの実施形態では、還元剤はホウ化水素である。好適なホウ化水素の例としては、NaBH(OAc)、NaBHCN、NaBHが挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、還元剤はNaBH(OAc)である。
いくつかの実施形態では、還元剤はボランである。好適なボランの例としては、ピコリンボラン(pic-BH)、ボランテトラヒドロフラン(BH-THF)、デカボラン(B1014)、ボランジメチルスルフィド(BH-S(Me))、及びN-複素環式カルベンボラン(NHC-ボラン)が挙げられるが、これらに限定されない。NHC-ボランの一例は、1,3-ジメチルイミダゾール-2-イリデンボラン(diMe-Imd-BH)である。
いくつかの実施形態では、還元剤はシランである。好適なシランの例としては、トリエチルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、トリクロロシラン、トリフェニルシラン、(トリス)トリメチルシラン、及びフェニルメチルシランが挙げられるが、これらに限定されない。
いくつかの実施形態では、還元剤はハンチエステルである。好適なハンチエステルの例としては、
が挙げられるが、これらに限定されない。
いくつかの実施形態では、還元剤は、ギ酸/アミン塩基/金属触媒である。好適なアミン塩基の例としては、トリエチルアミン及びジイソプロピルエチルアミンなどの三級アミン塩基が挙げられる。好適な金属触媒の例としては、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、ルテニウム(Ru)、及びロジウム(Rh)が挙げられるが、これらに限定されない。好適なギ酸/アミン塩基/金属触媒の例としては、ギ酸/トリエチルアミン/Ir、ギ酸/トリエチルアミン/Ru、及びギ酸/トリエチルアミン/Rhが挙げられるが、これらに限定されない。
いくつかの実施形態では、還元剤は、H/Pd、H/Rh、H/Ir、及びH/Ruが挙げられるがこれらに限定されない水素/金属触媒である。
いくつかの実施形態では、還元剤は、NaBH(OAc)、NaBHCN、NaBH、ピコリンボラン(pic-BH)、ボランテトラヒドロフラン(BH-THF)、デカボラン(B1014)、ボランジメチルスルフィド(BH-S(Me))、N-複素環式カルベンボラン(NHC-ボラン)、トリエチルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、

/Pd、H/Rh、及びH/Ru、ギ酸/トリエチルアミン/Rh、ギ酸/トリエチルアミン/Ir、及びギ酸/トリエチルアミン/Ruからなる群から選択される。
化合物B及び還元剤は、1:1~1:2.25のモル比、例えば、少なくとも1:1、1:1.25、1:1.5、1:1.75、若しくは1:2、及び/又は最大で1:2.25、1:1.2、1:1.75、1:1.5、若しくは1:1.25、例えば、1:1~1:2、1:1~1:1.75、又は1:1~1:1.5のモル比で存在し得る。いくつかの実施形態では、化合物B対還元剤のモル比は1:1.25である。
還元剤は、工程(a)のスラリーに、単回の添加(すなわち、全て一度に)、又は徐々に(すなわち、少しずつ)経時的に、添加することができる。実際に還元剤をスラリーに「全て一度に」添加するには、大規模な反応(例えばキログラム規模の材料)を扱う場合、例えば1秒超かかる場合があることは理解されよう。したがって、いくつかの実施形態では、還元剤は60秒以内、場合によっては30秒以内又は10秒以内で前記スラリーに添加され、これは、全て一度にスラリーに添加されたものと見なされる。還元剤が全て一度に添加されない場合、還元剤は、より長い期間にわたって、少しずつ又は連続的に添加され得る。いくつかの実施形態では、還元剤は、10分間~1時間にわたって、例えば、少なくとも10、15、20、25、30、35、若しくは40分間、及び/又は最大で60、55、50、45、40、35、30、若しくは25分間、例えば10~45分間、15~30分間、又は20~30分間にわたって、スラリーに添加される。いくつかの実施形態では、還元剤は、2つ以上の等分量でスラリーに添加される。いくつかの実施形態では、還元剤は、4つの等分量でスラリーに添加される。いくつかの実施形態では、2つ以上(例えば4つ)の等分量がそれぞれ15分間隔で添加される。
工程(b)は、10℃~40℃の温度、例えば、少なくとも10、12、15、17、20、22、25、27、若しくは30℃、及び/又は最大で40、37、35、32、30、27、25、22、若しくは20℃、例えば、12℃~35℃、15℃~30℃、17℃~25℃、又は20℃~25℃で行われ得る。いくつかの実施形態では、工程(b)は20℃の温度で行われる。
工程(b)の混合は、5時間~20時間、例えば少なくとも5、7、10、12、16、若しくは15時間、及び/又は最大で20、17、16、15、12、10、若しくは7時間、例えば、10~20時間、12~20時間、12~17時間、又は15~17時間行われ得る。いくつかの実施形態では、混合は16時間行われる。
工程C
いくつかの実施形態では、本開示の方法は、工程(b)の混合物から化合物Dを抽出することを更に含み得る。いくつかの実施形態では、抽出することは、混合物から化合物Dを結晶化することによって行われる。結晶化することは、トルエン、ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、ヘプタン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン(DME)、1,4-ジオキサン、ジクロロメタン(DCM)、四塩化炭素、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、2-メチルテトラヒドロフラン(2-MeTHF)、メチルtert-ブチルエーテル(MTBE)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される有機溶媒で実施され得る。いくつかの実施形態では、化合物Dは、トルエン及びヘプタンを用いて混合物から結晶化される。場合によっては、化合物D結晶の形成を補助するため、結晶化の間に化合物Dの種結晶が添加される。場合によっては、化合物Dの結晶は濾過されて乾燥される。
化合物Dを合成するための方法を用いて、化合物A1及びA2を合成することができる。下記のスキーム3に示すように、化合物Dを用いて、化合物A1、又はその塩若しくは溶媒和物を合成することができる。下記のスキーム4に示すように、化合物Dを用いて、化合物A2、又はその塩若しくは溶媒和物を合成することができる。
スキーム3-化合物Dから化合物A1への変換
スキーム3に示され、且つ米国特許第9,562,061号明細書に記載されるように、化合物Dを用いて、化合物A1並びにその塩及び溶媒和物を合成することができる。スルホンアミドEE22の合成は、米国特許第9,562,061号明細書に開示される。化合物EE22及びDを反応させて、化合物Eを形成することができる。米国特許第9,562,061号明細書に記載されるように、化合物Eの環化及び脱保護化により化合物Fが得られる、これを続いてメチル化して、化合物A1を得ることができる。
スキーム4-化合物Dから化合物A2への変換
スキーム4に示され、且つ米国特許第10,300,075号明細書に記載されるように、化合物Dを用いて、化合物A2並びにその塩及び溶媒和物を合成することができる。スキーム3に関して上述した通り、スルホンアミドEE22の合成は、米国特許第9,562,061号明細書に開示される。化合物EE22及びD(遊離酸)を反応させて化合物を形成することができ、これを環化させて化合物を得ることができる。米国特許第10,300,075号明細書に開示されるように、化合物を続いて酸化させて化合物を得ることができる。或いは、化合物を酸化させて化合物の非環化バージョンを得ることができ、これを続いて環化させて化合物を得ることができる。米国特許第10,300,075号明細書に開示される手順を用いて、化合物を続いてエポキシ化させて化合物を得ることができる。化合物を続いて二環式化合物と反応させて、化合物を得ることができる。最後に、化合物をメチル化することによって、米国特許第10,300,075号明細書に開示される化合物A2が得られる。
いくつかの実施形態では、方法は、化合物Dを用いて、化合物A1、又はその塩若しくは溶媒和物を合成することを更に含む。
いくつかの実施形態では、方法は、化合物Dを用いて、化合物A2、又はその塩若しくは溶媒和物を合成することを更に含む。
本開示がその詳細な説明と併せて読まれる一方、前述の説明及び以下の実施例は、例示であり、本開示の範囲を限定するものではなく、本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲によって定義されることが意図されることを理解されたい。他の態様、利点及び変更形態は、以下の特許請求の範囲内である。
以下の実施例は、例示のために提供され、本発明の範囲を限定することを意図しない。
実施例1
500mLのグラスライニングされたジャケット付き反応器に、25.0gの化合物B(1.0当量、43.4mmol)を投入し、続いて21.9gの化合物C(1.1当量、47.7mmol、70.4重量%)及び250mLのトルエン(10L/kg)を投入した。得られたスラリー混合物を20℃で30分間撹拌した。続いて、20℃で反応器にNaBH(OAc)(11.5g、1.25当量)を0.25等量に分けて投入し、各部分を少なくとも15分間隔で投入した。反応を、LC分析で化合物Bの完全な消費が確認されるまで、20℃で≧5時間撹拌した。反応混合物にNaCl及びNaHCOの水溶液をゆっくりと投入して、観測されたガスの発生を抑制した。バッチを20℃で>30分間撹拌した。相分離後に水相を除去した。有機相を含有する反応器にHPO水溶液を投入し、得られた混合物を20℃で>15分間撹拌した。相分離後に水相を除去した。このHPO水溶液の洗浄手順を更に2回繰り返した。有機相を含有する反応器にNaCl水溶液を投入し、混合物を20℃で>15分間撹拌した。相分離後に水相を除去した。続いてバッチを≦55℃の減圧下で濃縮し、続いてバッチを20℃に冷却した。反応器に化合物Dの種を投入して、結晶化を誘発させ、スラリーを20℃で>1時間保持した。続いてヘプタンを反応器に投入した。添加後、懸濁液を20℃で>1時間撹拌した。濾過し、2/1のヘプタン/トルエンで洗浄した後に化合物Dが得られ、これを40℃の真空下で乾燥させた。この2工程によって、85.5重量%、85.0%の単離収率で化合物Dを得た。
化合物D:H NMR(600MHz,CDCl)δ 7.86(d,J=8.6Hz,2H),7.64(d,J=8.5Hz,1H),7.50(d,J=8.6Hz,2H),7.47(dd,J=8.2,1.9Hz,1H),7.44(d,J=1.9Hz,1H),7.16(dd,J=8.5,2.3Hz,1H),7.08(d,J=2.3Hz,1H),6.93(d,J=8.2Hz,1H),5.84(ddd,J=17.1,10.6,6.4Hz,1H),5.49(bt,J=6.4Hz,1H),5.36(dt,J=17.1,1.2Hz,1H),5.22(dt,J=10.6,1.2Hz,1H),4.12(d,J=12.1Hz,1H),4.08(d,J=12.1Hz,1H),3.59(dd,J=14.8,4.1Hz,1H),3.52(d,J=14.4Hz,1H),3.35(dd,J=14.8,9.0Hz,2H),3.32(d,J=14.4Hz,1H),2.78 - 2.75(m,1H),2.75 - 2.71(m,2H),2.47(qui,J=8.5Hz,1H),2.12 - 2.02(m,1H),2.00 - 1.92(m,1H),1.93 - 1.85(m,2H),1.85 - 1.77(m,1H),1.78 - 1.69(m,2H),1.56(bt,J=11.0Hz,1H);13C NMR(151MHz,CDCl)δ 171.8,165.1,153.7,141.0,139.0,138.8,134.3,132.1,131.7,131.0,129.5,129.1,128.6,128.1,126.6,123.7,121.7,120.8,117.5,117.0,79.4,78.0,60.9,58.8,43.0,41.8,36.2,30.2,29.0,25.9,21.2,19.0.LRMS(ESI):計算値:650;実測値:650.1。

Claims (38)

  1. 化合物(D)を合成するための方法であって、
    (a)化合物(B)又はその塩と化合物(C)とを有機溶媒中で混合してスラリーを形成することであって、前記有機溶媒は、非極性芳香族溶媒、エーテル溶媒、塩素化溶媒、アルコール溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルカーボネート、ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチルピロリジノン(NMP)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、ことと、
    及び
    (b)工程(a)のスラリーと還元剤とを混合して、化合物(D)を含む混合物を形成することと、を含み、
    ここで、
    OPGは、エーテル、アセタール又はケタール、アシル、スルホニル、及びシリルエーテルからなる群から選択されるアルコール保護基であり、
    はH又はC1~6アルキルであり、
    は保護アルデヒドであり、前記保護アルデヒドが、下記の基:
    からなる群から選択される、方法。
  2. 下式の化合物:
    を工程(a)の有機溶媒中で混合することを更に含む、請求項1に記載の方法。
  3. 化合物(B)は塩である、請求項2に記載の方法。
  4. はHである、請求項1に記載の方法。
  5. はメチル、エチル、n-プロピル、又はtert-ブチルである、請求項1に記載の方法。
  6. OPGは、下式の基:
    (メトキシ)、
    下式の基:
    (tert-ブチルエーテル)、
    下式の基:
    (メトキシメチルアセタール、MOM)、
    下式の基:
    (2-メトキシエトキシメチルエーテル、MEM)、
    下式の基:
    (エトキシエチルアセタール、EE)、
    下式の基:
    (メトキシプロピルアセタール、MOP)、
    下式の基:
    (テトラヒドロピラニルアセタール、THP)、
    下式の基:
    (ベンジルオキシメチルアセタール、BOM)、
    下式の基:
    (ベンジルエーテル、Bn)、
    下式の基:
    (4-メトキシベンジルエーテル、PMB)、
    下式の基:
    (2-ナフチルメチルエーテル、Nap)、
    下式の基:
    (アセチル、Ac)、
    下式の基:
    ピバロイル(Piv)、
    下式の基:
    (ベンゾイル、Bz)、
    下式の基:
    (4-ブロモベンゾイル、Br-Bz)、
    下式の基:
    (4-フルオロベンゾイル)、
    下式の基:
    (4-クロロベンゾイル)、
    下式の基:
    (4-ヨードベンゾイル)、
    下式の基:
    (4-ニトロベンゾイル)、
    下式の基:
    (4-フェニルベンゾイル)、
    下式の基:
    (1-ナフトイルエステル)、
    下式の基:
    (2-ナフトイルエステル)、
    下式の基:
    (4-メトキシベンゾイル)、
    下式の基:
    (イソブチリル)、
    OSiEt(トリエチルシリルエーテル、TES)、
    OSi(Pr)(トリイソプロピルシリルエーテル、TIPS)、
    OSiMe(トリメチルシリルエーテル、TMS)、
    OSiMetBu(tert-ブチルジメチルシリルエーテル、TBS)、
    OSiPh Bu(tert-ブチルジフェニルシリルエーテル、TBDPS)、
    OSOMe(メシル)、
    下式の基:
    (トシル)、
    下式の基:
    (ノシル)、及び
    OSOCF(トリフリル)からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
  7. OPGは4-ブロモベンゾイルである、請求項6に記載の方法。
  8. は、下式の基:
    である、請求項1に記載の方法。
  9. 化合物(C)は、以下の構造:
    で表される化合物である、請求項8に記載の方法。
  10. 化合物(D)は、以下の構造:
    で表される化合物である、請求項1に記載の方法。
  11. 前記還元剤は、ホウ化水素、ボラン、シラン、ハンチュエステル、ギ酸/アミン塩基/金属触媒、及び水素/金属触媒からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
  12. 前記還元剤は、NaBH(OAc)、NaBHCN、NaBH、ピコリンボラン(pic-BH)、ボランテトラヒドロフラン(BH-THF)、デカボラン(B1014)、ボランジメチルスルフィド(BH-S(Me))、N-複素環式カルベンボラン(NHC-ボラン)、トリエチルシラン、フェニルシラン、ジフェニルシラン、
    下式の化合物:
    、下式の化合物:
    、下式の化合物:
    、下式の化合物:
    、H/Pd、H/Rh、H/Ir、H/Ru、ギ酸/トリエチルアミン/Rh、ギ酸/トリエチルアミン/Ir、及びギ酸/トリエチルアミン/Ruからなる群から選択される、請求項11に記載の方法。
  13. 前記還元剤がNaBH(OAc)である、請求項12に記載の方法。
  14. 前記有機溶媒が、トルエン、ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、1,2-ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン、ジクロロメタン(DCM)、四塩化炭素、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、2-メチルテトラヒドロフラン(2-MeTHF)、メチルtert-ブチルエーテル(MTBE)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
  15. 前記有機溶媒が、トルエン、THF、DCM、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項14に記載の方法。
  16. 前記有機溶媒がトルエンである、請求項15に記載の方法。
  17. 化合物(B)及び化合物(C)が、1:1~1:2の(B):(C)のモル比で存在する、請求項1に記載の方法。
  18. 前記(B):(C)のモル比が1:1.1である、請求項17に記載の方法。
  19. 化合物(B)及び前記還元剤が、1:1~1:2.25のモル比で存在する、請求項1に記載の方法。
  20. 化合物(B)対前記還元剤の前記モル比が1:1.25である、請求項19に記載の方法。
  21. 工程(a)及び工程(b)のそれぞれが、10℃~40℃の温度で行われる、請求項1に記載の方法。
  22. 工程(a)及び工程(b)のそれぞれが、20℃の温度で行われる、請求項21に記載の方法。
  23. 工程(a)の混合は、1分間~1時間行われる、請求項1に記載の方法。
  24. 工程(a)の混合は、30分間行われる、請求項23に記載の方法。
  25. 前記還元剤は、60秒以内で前記スラリーに添加される、請求項1に記載の方法。
  26. 前記還元剤は、10分間~1時間にわたって前記スラリーに添加される、請求項1に記載の方法。
  27. 前記還元剤は、2つ以上の等分量で前記スラリーに添加される、請求項26に記載の方法。
  28. 前記還元剤は、4つの等分量で前記スラリーに添加される、請求項27に記載の方法。
  29. 前記等分量は15分間隔で添加される、請求項27に記載の方法。
  30. 工程(b)の混合は、5時間~20時間行われる、請求項1に記載の方法。
  31. 工程(b)の混合は、16時間行われる、請求項30に記載の方法。
  32. 工程(a)及び(b)は、単一の反応槽内で順々に行われる、請求項1に記載の方法。
  33. (c) 工程(b)の混合物から化合物(D)を抽出することを更に含む、請求項1に記載の方法。
  34. 前記抽出が、化合物(D)の結晶化を介する、請求項33に記載の方法。
  35. 前記結晶化が、トルエン、ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、ヘプタン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン(DME)、1,4-ジオキサン、ジクロロメタン(DCM)、四塩化炭素、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、メチルtert-ブチルエーテル(MTBE)、2-メチルテトラヒドロフラン(2-MeTHF)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される有機溶媒で実施される、請求項34に記載の方法。
  36. 前記結晶化が、トルエン及びヘプタンで実施される、請求項35に記載の方法。
  37. 化合物(A1):
    又はその塩若しくは溶媒和物を合成する方法であって、請求項1に記載の方法を含み、
    更に、以下の工程:
    a)請求項1に記載の方法で得られた化合物(D)を、化合物(EE22):
    と反応させて、化合物(E):
    を形成する工程、
    b)得られた化合物(E)を環化させ、保護基(PG)を除去して、化合物(F):
    を提供する工程、
    c)得られた化合物(F)をメチル化して、前記化合物(A1)又はその塩若しくは溶媒和物を合成する工程を含む方法。
  38. 化合物(A2):
    又はその塩若しくは溶媒和物を合成する方法であって、請求項1に記載の方法を含み、
    更に、以下の工程:
    a’)請求項1に記載の方法で得られた化合物(D)から、保護基(PG)、及びR がC 1~6 アルキルである場合、R を除去して、化合物(D)の脱保護されたカルボン酸の形態である、以下の構造:
    で表される化合物を得る工程、
    ’)化合物(EE22):
    を、工程a’)で得られた化合物(D)の脱保護されたカルボン酸の形態化合物と反応させて、化合物(G):
    を形成する工程、
    ’)得られた化合物(G)を環化させて、化合物(H):
    を提供する工程、
    ’)得られた化合物(H)を酸化して、ケトンを含む化合物(I):
    を形成する工程、
    ’)得られた化合物(I)をエポキシ化して、エポキシ化化合物(J):
    を調製する工程、
    ’)得られた化合物(J)を、二環式化合物(K):
    と反応させて、化合物(L):
    を調製する工程、及び
    ’)得られた化合物(L)をメチル化して、前記化合物(A2)又はその塩若しくは溶媒和物を合成する工程を含む方法。
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