JP7794022B2 - liquid discharge device - Google Patents
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Description
本発明は、ヘッドのノズルから液体を吐出してシートに印刷する液体吐出装置に関する。 The present invention relates to a liquid ejection device that ejects liquid from nozzles in a head to print on a sheet.
ヘッドのノズルから液体を吐出してシートに印刷する液体吐出装置としては、例えば、特許文献1のインクジェットプリンタが知られている。特許文献1のインクジェットプリンタは、インクヘッドのノズル面のインクを除去するワイピング機構と、ワイパを洗浄可能なワイパ洗浄機構とを備える。ワイパは、回転軸を中心に回転してワイパ洗浄液に浸漬され、ノズル面のインクを除去する。 An inkjet printer, such as that disclosed in Patent Document 1, is a known example of a liquid ejection device that ejects liquid from the nozzles of a head to print on a sheet. The inkjet printer in Patent Document 1 is equipped with a wiping mechanism that removes ink from the nozzle surface of the ink head, and a wiper cleaning mechanism that can clean the wiper. The wiper rotates around its axis of rotation and is immersed in wiper cleaning fluid, removing ink from the nozzle surface.
特許文献1のインクジェットプリンタのワイパ洗浄機構では、洗浄液を貯留する洗浄液槽に対してワイパを移動させるためのスペースが筐体内に必要となる。また、ワイパや洗浄液槽の移動により、洗浄液の飛散や漏れが生じ得る。 The wiper cleaning mechanism of the inkjet printer described in Patent Document 1 requires space within the housing to move the wiper relative to the cleaning liquid tank that stores the cleaning liquid. Furthermore, movement of the wiper or cleaning liquid tank can cause the cleaning liquid to splash or leak.
本発明の目的は、洗浄液が筐体に飛散したり漏れ出したりし難い液体吐出装置を提供することである。 The object of the present invention is to provide a liquid ejection device that is less likely to cause cleaning liquid to splash or leak onto the housing.
本発明に係る液体吐出装置は、ノズル面に開口するノズルから液体を吐出するヘッドと、吸水性ワイパと、上記吸水性ワイパを支持する支持台と、上記支持台において上記吸水性ワイパに沿って延びており、少なくとも上記吸水性ワイパに沿った一部分において上向きに開口して含浸液が流通する液体流路と、上記含浸液を貯留するタンクと、上記タンクから上記液体流路へ含浸液を流通させる第1ポンプと、上記支持台を、待機位置と上記吸水性ワイパが上記ノズル面をワイピングするためのメンテナンス位置とに移動させる駆動部と、制御部と、を備えている。上記制御部は、上記支持台を上記メンテナンス位置に位置させ、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路に含浸液を流通させて、上記ワイピングを実行し、上記支持台を上記メンテナンス位置から上記待機位置に移動させる前に、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路から含浸液を排出する。 The liquid ejection device according to the present invention includes a head that ejects liquid from nozzles that open on a nozzle surface, an absorbent wiper, a support base that supports the absorbent wiper, a liquid flow path that extends along the absorbent wiper on the support base and opens upward at least partially along the absorbent wiper to allow impregnating liquid to flow, a tank that stores the impregnating liquid, a first pump that distributes impregnating liquid from the tank to the liquid flow path, a drive unit that moves the support base between a standby position and a maintenance position where the absorbent wiper wipes the nozzle surface, and a control unit. The control unit positions the support base at the maintenance position, drives the first pump to distribute impregnating liquid through the liquid flow path, thereby performing the wiping, and drives the first pump to discharge the impregnating liquid from the liquid flow path before moving the support base from the maintenance position to the standby position.
上記構成により、支持台をメンテナンス位置から待機位置へ移動させる前に液体流路内の含浸液を排出するので、支持台の移動によって液体流路から含浸液が漏れ出すことが抑制される。 With the above configuration, the impregnating liquid in the liquid flow path is drained before the support base is moved from the maintenance position to the standby position, preventing the impregnating liquid from leaking from the liquid flow path due to movement of the support base.
本発明に係る液体吐出装置は、洗浄液が筐体内でこぼれないようにすることができる。 The liquid ejection device of the present invention can prevent cleaning liquid from spilling inside the housing.
以下、本発明の好ましい実施形態を説明する。なお、本実施形態は本発明の一実施態様にすぎず、本発明の要旨を変更しない範囲で実施態様を変更できることは言うまでもない。また、以下の説明では、矢印の起点から終点に向かう進みが向きと表現され、矢印の起点と終点とを結ぶ線上の往来が方向と表現される。また、以下の説明においては、画像記録装置100が使用可能に設置された状態(図1の状態)を基準として上下方向7が定義され、排出口33が設けられている側を手前側(前面)として前後方向8が定義され、画像記録装置100を手前側(前面)から見て左右方向9が定義される。 A preferred embodiment of the present invention will be described below. Note that this embodiment is merely one implementation of the present invention, and it goes without saying that the implementation can be modified without departing from the spirit of the present invention. In the following description, the direction from the start point of an arrow to the end point is expressed as a direction, and the movement along the line connecting the start point and end point of an arrow is expressed as a direction. In the following description, the up-down direction 7 is defined based on the state in which the image recording device 100 is installed and ready for use (the state shown in Figure 1), the front-to-rear direction 8 is defined with the side where the discharge outlet 33 is located as the near side (front), and the left-to-right direction 9 is defined when looking at the image recording device 100 from the near side (front).
[画像記録装置100の外観構成]
図1に示される画像記録装置100は、インクジェット記録方式でロール体37(図2参照)をなすシートSに画像を記録する。
[External Configuration of Image Recording Device 100]
The image recording apparatus 100 shown in FIG. 1 records an image on a sheet S in the form of a roll 37 (see FIG. 2) by an inkjet recording method.
図1に示されるように、画像記録装置100は、筐体30を備える。筐体30は、上筐体31及び下筐体32を備える。上筐体31及び下筐体32は、全体として概ね直方体形状であって、卓上に載置可能な大きさである。すなわち、画像記録装置100は、卓上に載置されて使用されるのに適している。もちろん、画像記録装置100は、床面やラックに載置されて使用されてもよい。 As shown in FIG. 1, the image recording device 100 includes a housing 30. The housing 30 includes an upper housing 31 and a lower housing 32. The upper housing 31 and the lower housing 32 are generally rectangular parallelepiped in shape overall, and are large enough to be placed on a table. In other words, the image recording device 100 is suitable for use while placed on a table. Of course, the image recording device 100 may also be used while placed on the floor or in a rack.
図2に示されるように、筐体30は、上筐体31の内部に内部空間31Aが、下筐体32の内部に内部空間32Aが外部から区画される。 As shown in FIG. 2, the housing 30 is divided from the outside into an internal space 31A inside the upper housing 31 and an internal space 32A inside the lower housing 32.
図2、図3に示されるように、上筐体31は、下筐体32によって回動可能に支持されている。上筐体31は、後下端部に設けられ且つ左右方向9に延びる回動軸15周りに、図2に示される閉位置と、図3に示される開位置とに回動可能である。 As shown in Figures 2 and 3, the upper housing 31 is rotatably supported by the lower housing 32. The upper housing 31 can rotate around a rotation axis 15 provided at the lower rear end and extending in the left-right direction 9 between a closed position shown in Figure 2 and an open position shown in Figure 3.
図1に示されるように、下筐体32の前面32Fには、左右方向9に長いスリット状の排出口33が形成されている。排出口33からは、画像記録済みのシートS(図2参照)が排出される。 As shown in FIG. 1, a slit-shaped discharge opening 33 that is long in the left-right direction 9 is formed on the front surface 32F of the lower housing 32. A sheet S (see FIG. 2) with an image recorded on it is discharged from the discharge opening 33.
上筐体31の前面31Fには、操作パネル44が設けられている。ユーザは、操作パネル44に、画像記録装置100を動作させたり各種設定を確定したりするための入力を行う。 An operation panel 44 is provided on the front surface 31F of the upper housing 31. The user uses the operation panel 44 to input commands to operate the image recording device 100 and to confirm various settings.
[画像記録装置100の内部構成]
図2に示されるように、内部空間31A,32Aには、ホルダ35、テンショナ45、搬送ローラ対36、搬送ローラ対40、ヘッド38、第1支持機構51、ヒータ39、支持部46、第2支持機構52、CIS25、カッターユニット26、インクタンク34、含浸液タンク76、廃液タンク77、メンテナンス機構60およびコントローラ130(図10参照)が配置されている。コントローラ130は、画像記録装置100の動作を制御するものである。
[Internal configuration of image recording device 100]
2, the internal spaces 31A, 32A are provided with a holder 35, a tensioner 45, a pair of conveying rollers 36, a pair of conveying rollers 40, a head 38, a first support mechanism 51, a heater 39, a support portion 46, a second support mechanism 52, a CIS 25, a cutter unit 26, an ink tank 34, an impregnation liquid tank 76, a waste liquid tank 77, a maintenance mechanism 60, and a controller 130 (see FIG. 10). The controller 130 controls the operation of the image recording device 100.
内部空間32Aには、隔壁41が設けられている。隔壁41は、内部空間32Aの後下部を仕切って、シート収容空間32Cを区画する。シート収容空間32Cは、隔壁41、下筐体32により包囲される。 A partition wall 41 is provided in the internal space 32A. The partition wall 41 divides the lower rear section of the internal space 32A, defining the seat storage space 32C. The seat storage space 32C is surrounded by the partition wall 41 and the lower housing 32.
シート収容空間32Cには、ロール体37が収容される。ロール体37は、芯管と、長尺のシートSとを有している。シートSは、芯管の軸芯の周方向にロール状に芯管に巻回されている。 A roll body 37 is stored in the sheet storage space 32C. The roll body 37 has a core tube and a long sheet S. The sheet S is wound around the core tube in a roll shape in the circumferential direction of the core tube's axis.
図2に示されるように、シート収容空間32Cには、左右方向9に沿って延びるホルダ35が位置する。装着時、ロール体37の芯管の軸芯が左右方向9に沿い、且つロール体37が軸芯の周方向に周りに回転可能に、ホルダ35はロール体37を支持する。ホルダ35は、搬送モータ(駆動部の一例、図10参照)53から駆動力が伝達されて回転する。ホルダ35の回転に伴って、ホルダ35に支持されているロール体37も回転する。 As shown in FIG. 2, a holder 35 extending in the left-right direction 9 is located in the sheet storage space 32C. When installed, the holder 35 supports the roll 37 so that the axis of the core tube of the roll 37 is aligned with the left-right direction 9 and the roll 37 is rotatable circumferentially around the axis. The holder 35 rotates when a driving force is transmitted from a conveyance motor (an example of a drive unit, see FIG. 10) 53. As the holder 35 rotates, the roll 37 supported by the holder 35 also rotates.
図2に示されるように、シート収容空間32Cは、後部において上方へ向かって開口している。詳細には、隔壁41と後面32Bとの間、すなわち、ロール体37の後端の上方に隙間42が形成されている。シートSは、搬送ローラ対36,40が回転することで、ロール体37の後端から上方に引き出され隙間42を介してテンショナ45へと案内される。 As shown in FIG. 2, the sheet storage space 32C opens upward at the rear. More specifically, a gap 42 is formed between the partition 41 and the rear surface 32B, i.e., above the rear end of the roll body 37. As the conveying roller pair 36, 40 rotates, the sheet S is pulled upward from the rear end of the roll body 37 and guided to the tensioner 45 via the gap 42.
テンショナ45は、内部空間32Aの後部において隔壁41よりも上方に位置する。テンショナ45は、下筐体32の外側を向いている外周面45Aを有している。外周面45Aの上端は、上下方向7において搬送ローラ対36のニップDと概ね同じ上下位置にある。 The tensioner 45 is located at the rear of the internal space 32A, above the partition wall 41. The tensioner 45 has an outer peripheral surface 45A that faces the outside of the lower housing 32. The upper end of the outer peripheral surface 45A is located at approximately the same vertical position as the nip D of the conveying roller pair 36 in the vertical direction 7.
外周面45Aには、ロール体37から引き出されたシートSが掛けられ当接する。シートSは、外周面45Aに沿って前方に湾曲して、搬送向き8Aに延びて搬送ローラ対36に案内される。搬送向き8Aは、前後方向8に沿う前向きである。 The sheet S pulled out from the roll body 37 is hung on and contacts the outer peripheral surface 45A. The sheet S curves forward along the outer peripheral surface 45A, extends in the conveying direction 8A, and is guided by the conveying roller pair 36. The conveying direction 8A is forward along the front-to-rear direction 8.
テンショナ45の前方には、搬送ローラ対36が位置する。搬送ローラ対36は、搬送ローラ36Aとピンチローラ36Bとを有する。搬送ローラ36A、及びピンチローラ36Bは、外周面45Aの上端と概ね同じ上下位置で当接し合ってニップDを形成する。 A conveying roller pair 36 is located in front of the tensioner 45. The conveying roller pair 36 includes a conveying roller 36A and a pinch roller 36B. The conveying roller 36A and the pinch roller 36B abut against each other at a vertical position roughly flush with the upper end of the outer peripheral surface 45A, forming a nip D.
搬送ローラ対36の前方には、搬送ローラ対40が位置する。搬送ローラ対40は、搬送ローラ40Aとピンチローラ40Bとを有する。搬送ローラ40A、及びピンチローラ40Bは、外周面45Aの上端と概ね同じ上下位置で当接し合ってニップを形成する。 The conveying roller pair 40 is located in front of the conveying roller pair 36. The conveying roller pair 40 includes a conveying roller 40A and a pinch roller 40B. The conveying roller 40A and the pinch roller 40B come into contact with each other at a vertical position roughly coincident with the upper end of the outer peripheral surface 45A, forming a nip.
搬送ローラ36A,40Aは、搬送モータ53(図10参照)から駆動力が伝達されて回転する。搬送ローラ対36は、テンショナ45から搬送向き8Aに延びるシートSをニップしつつ回転することにより、後述する搬送路43の搬送面43Aに沿う搬送向き8Aに送り出す。搬送ローラ対40は、搬送ローラ対36から送り出されたシートSをニップしつつ回転することにより搬送向き8Aに送り出す。また、搬送ローラ対36,40の回転により、シートSは、シート収容空間32Cから隙間42を通ってテンショナ45に向けて引き出される。 The conveying rollers 36A, 40A are rotated by a driving force transmitted from a conveying motor 53 (see Figure 10). The conveying roller pair 36 rotates while nipping the sheet S extending from the tensioner 45 in the conveying direction 8A, thereby sending the sheet in the conveying direction 8A along the conveying surface 43A of the conveying path 43 (described below). The conveying roller pair 40 rotates while nipping the sheet S sent out from the conveying roller pair 36, thereby sending the sheet in the conveying direction 8A. Furthermore, the rotation of the conveying roller pairs 36, 40 pulls the sheet S from the sheet storage space 32C through the gap 42 toward the tensioner 45.
図2に示されるように、内部空間32Aには、外周面45Aの上端から排出口33に至る搬送路43が形成されている。搬送路43は、搬送向き8Aに沿ってほぼ直線的に延びており、シートSが通過可能な空間である。詳細には、搬送路43は、搬送向き8A及び左右方向9に拡がり且つ搬送向き8Aに長い搬送面43Aに沿っている。なお、図2では、搬送面43Aは、搬送路43を示す二点鎖線で示されている。搬送路43は、上下方向7に離れて位置するガイド部材(不図示)や、ヘッド38、搬送ベルト101、支持部46、ヒータ39などによって区画されている。すなわち、ヘッド38、搬送ベルト101、支持部46、及びヒータ39は、搬送路43に沿って位置する。 As shown in FIG. 2, a transport path 43 is formed in the internal space 32A, extending from the upper end of the outer peripheral surface 45A to the discharge opening 33. The transport path 43 extends substantially linearly along the transport direction 8A, allowing the sheet S to pass through. Specifically, the transport path 43 extends in the transport direction 8A and the left-right direction 9 and extends along a transport surface 43A that is long in the transport direction 8A. Note that in FIG. 2, the transport surface 43A is indicated by a two-dot chain line representing the transport path 43. The transport path 43 is defined by a guide member (not shown), a head 38, a transport belt 101, a support portion 46, a heater 39, and other components that are spaced apart in the vertical direction 7. In other words, the head 38, the transport belt 101, the support portion 46, and the heater 39 are positioned along the transport path 43.
ヘッド38は、搬送路43の上方において搬送ローラ対36よりも搬送向き8Aの下流側に位置する。ヘッド38は、ノズル面50(図4参照)において開口する複数のノズル38Aを有する。複数のノズル38Aから、インクが搬送ベルト101に支持されたシートSへ向かって下方へ吐出される。これにより、シートSに画像が記録される。ヘッド38の構成は、後に詳細に説明される。 The head 38 is located above the transport path 43 and downstream of the transport roller pair 36 in the transport direction 8A. The head 38 has multiple nozzles 38A that open in the nozzle surface 50 (see Figure 4). Ink is ejected downward from the multiple nozzles 38A toward the sheet S supported by the transport belt 101. This causes an image to be recorded on the sheet S. The configuration of the head 38 will be described in detail later.
第1支持機構51は、搬送路43の下方において搬送ローラ対36よりも搬送向き8Aの下流に位置する。第1支持機構51は、ヘッド38の下方に、ヘッド38と対向している。第1支持機構51は、搬送ベルト101と支持部材104を有する。搬送ベルト101は、搬送ローラ対36によって搬送向き8Aに搬送されてヘッド38の直下に位置するシートSを支持する。搬送ベルト101は、支持しているシートSを搬送向き8Aに搬送する。支持部材104は、メンテナンス機構60を支持可能である。第1支持機構51の構成は、後に詳細に説明される。 The first support mechanism 51 is located below the conveying path 43, downstream of the conveying roller pair 36 in the conveying direction 8A. The first support mechanism 51 faces the head 38 below it. The first support mechanism 51 has a conveying belt 101 and a support member 104. The conveying belt 101 supports the sheet S that has been conveyed in the conveying direction 8A by the conveying roller pair 36 and is positioned directly below the head 38. The conveying belt 101 conveys the supported sheet S in the conveying direction 8A. The support member 104 is capable of supporting the maintenance mechanism 60. The configuration of the first support mechanism 51 will be described in detail later.
ヒータ39は、搬送路43の下方においてヘッド38よりも搬送向き8Aの下流であって搬送ローラ対40よりも搬送向き8Aの上流に位置する。ヒータ39は、第1支持機構51より前方でフレームに支持され、左右方向9に延びる。ヒータ39は、伝熱プレート(不図示)と、フィルムヒータ(不図示)と、を有している。伝熱プレートは、金属製であり、搬送ベルト101の搬送面108と概ね同じ上下位置に、前後左右に拡がる支持面を有する。第1支持機構51から送り出されたシートSは、伝熱プレートの支持面上で前方へと搬送される。フィルムヒータは、伝熱プレートの下面に固定されており、コントローラ130の制御下で発熱する。この熱は、伝熱プレートを介して、伝熱プレート上のシートSに伝わる。また、ヒータ39からの熱は、ヒータ39の上方に配置されたダクト145によって回収される。 The heater 39 is located below the conveying path 43, downstream of the head 38 in the conveying direction 8A and upstream of the conveying roller pair 40 in the conveying direction 8A. The heater 39 is supported by a frame forward of the first support mechanism 51 and extends in the left-right direction 9. The heater 39 includes a heat transfer plate (not shown) and a film heater (not shown). The heat transfer plate is made of metal and has a support surface extending in the front-rear and left-right directions at approximately the same vertical position as the conveying surface 108 of the conveyor belt 101. The sheet S sent from the first support mechanism 51 is conveyed forward on the support surface of the heat transfer plate. The film heater is fixed to the underside of the heat transfer plate and generates heat under the control of the controller 130. This heat is transferred to the sheet S on the heat transfer plate via the heat transfer plate. Heat from the heater 39 is collected by a duct 145 located above the heater 39.
また、ダクト145は、搬送路43の上方であって、ヘッド38の搬送向き8Aの下流かつ搬送ローラ対40の上流に配置されている。 The duct 145 is located above the conveying path 43, downstream of the head 38 in the conveying direction 8A and upstream of the conveying roller pair 40.
支持部46は、搬送路43の下方に位置している。支持部46は、ヘッド38及び第1支持機構51よりも搬送向き8Aの下流に位置する。支持部46の後部には、ヒータ39が位置している。支持部46の前部は、搬送ローラ40Aと対向している。支持部46は、第1支持機構51の搬送ベルト101によって搬送向き8Aに搬送されてきたシートSを支持する。 The support section 46 is located below the conveying path 43. The support section 46 is located downstream of the head 38 and the first support mechanism 51 in the conveying direction 8A. The heater 39 is located behind the support section 46. The front section of the support section 46 faces the conveying roller 40A. The support section 46 supports the sheet S conveyed in the conveying direction 8A by the conveying belt 101 of the first support mechanism 51.
支持部46は、下筐体32によって左右方向9に延びる軸(不図示)周りに回動可能に支持されている。図3に示されるように、上筐体31が開位置のとき、支持部46は、図3に実線で示される倒伏位置と、図3に破線で示される起立位置とに回動可能である。 The support portion 46 is supported by the lower housing 32 so as to be rotatable around an axis (not shown) extending in the left-right direction 9. As shown in FIG. 3, when the upper housing 31 is in the open position, the support portion 46 can be rotated between a lying position indicated by a solid line in FIG. 3 and an upright position indicated by a dashed line in FIG. 3.
支持部46が倒伏位置のとき、支持部46の回動先端46Bは、回動基端46Aよりも前方(搬送向き8Aの下流)に位置している。支持部46が倒伏位置のとき、支持部46は、搬送路43の一部を構成しており、搬送ベルト101によって搬送向き8Aに搬送されてきたシートSを支持可能である。支持部46が起立位置のとき、支持部46の回動先端46Bは支持部46が倒伏位置のときよりも上方に位置しており、メンテナンス機構60が外部に露出可能である。支持部46の軸は、支持部46の後端部に設けられており、左右方向9に延びている。 When the support portion 46 is in the reclined position, the pivot tip 46B of the support portion 46 is located forward of the pivot base end 46A (downstream in the conveying direction 8A). When the support portion 46 is in the reclined position, the support portion 46 forms part of the conveying path 43 and is capable of supporting a sheet S conveyed in the conveying direction 8A by the conveyor belt 101. When the support portion 46 is in the upright position, the pivot tip 46B of the support portion 46 is located higher than when the support portion 46 is in the reclined position, allowing the maintenance mechanism 60 to be exposed to the outside. The shaft of the support portion 46 is provided at the rear end of the support portion 46 and extends in the left-right direction 9.
第2支持機構52は、支持部46の下方に位置しており、下筐体32に支持されることによって下筐体32の内部に固定されている。第2支持機構52は、メンテナンス機構60を支持可能である。第2支持機構52の構成は、後に詳細に説明される。 The second support mechanism 52 is located below the support portion 46 and is supported by the lower housing 32, thereby being fixed inside the lower housing 32. The second support mechanism 52 is capable of supporting the maintenance mechanism 60. The configuration of the second support mechanism 52 will be described in detail later.
CIS25は、搬送路43の上方において搬送ローラ対40よりも搬送向き8Aの下流に位置する。CIS25は、シートの印刷面の画像を読み取ることができる。 CIS 25 is located above conveyance path 43 and downstream of conveyance roller pair 40 in conveyance direction 8A. CIS 25 can read the image on the printing surface of the sheet.
カッターユニット26は、搬送路43の上方においてCIS25よりも搬送向き8Aの下流に位置する。カッターユニット26は、カッターキャリッジ27にカッター28が搭載されたものである。カッター28の移動によって、搬送路43に位置するシートSが左右方向9に沿って切断される。 The cutter unit 26 is located above the conveying path 43 and downstream of the CIS 25 in the conveying direction 8A. The cutter unit 26 has a cutter 28 mounted on a cutter carriage 27. As the cutter 28 moves, the sheet S positioned on the conveying path 43 is cut in the left-right direction 9.
インクタンク34は、インクを貯留している。インクは、顔料などを含む液体である。インクタンク34から不図示のチューブを通じてインクがヘッド38に供給される。 The ink tank 34 stores ink. The ink is a liquid containing pigments and other ingredients. The ink is supplied from the ink tank 34 to the head 38 through a tube (not shown).
含浸液タンク76は、含浸液Lを貯留している。含浸液Lは、ヘッド38のノズル面50を洗浄するためのものである。含浸液タンク76は、後述する第2支持機構52よりも下方に位置する。含浸液タンク76には、タンク内に形成される空気層を外部に連通する大気連通路83が形成されている。含浸液タンク76は、大気連通路83を開閉する含浸液流通バルブ(バルブの一例)84を有している。廃液タンク77は、含浸液Lが排出される容器である。なお、図11~図16においては、含浸液タンク76及び廃液タンク77の記載を省略している。 The impregnation liquid tank 76 stores the impregnation liquid L. The impregnation liquid L is used to clean the nozzle surface 50 of the head 38. The impregnation liquid tank 76 is located below the second support mechanism 52, which will be described later. The impregnation liquid tank 76 is formed with an air communication passage 83 that connects the air layer formed inside the tank to the outside. The impregnation liquid tank 76 has an impregnation liquid flow valve (an example of a valve) 84 that opens and closes the air communication passage 83. The waste liquid tank 77 is a container from which the impregnation liquid L is discharged. Note that the impregnation liquid tank 76 and waste liquid tank 77 are omitted from Figures 11 to 16.
メンテナンス機構60は、ヘッド38のメンテナンスを行うためのものである。メンテナンス機構60は、移動可能に構成されており、ヘッド38のメンテナンスが行われるときにヘッド38の直下に移動される(図11参照)。 The maintenance mechanism 60 is used to perform maintenance on the head 38. The maintenance mechanism 60 is configured to be movable, and is moved to a position directly below the head 38 when maintenance is to be performed on the head 38 (see Figure 11).
ヘッド38のメンテナンスは、パージ処理、キャップ洗浄処理、及びワイピング処理などである。パージ処理は、図11に示されるように、メンテナンス機構60の後述するキャップ62によってノズル面50を被覆した上で吸引ポンプ74(第2ポンプの一例)によってノズル38Aからインクを吸引する処理である。キャップ洗浄処理は、キャップ62によってノズル面50を被覆した状態でキャップ62に送り込んだ含浸液Lによってヘッド38のノズル面50を洗浄する処理である。ワイピング処理は、図12に示されるように、メンテナンス機構60の後述するスポンジワイパ(吸水性ワイパの一例)64によってヘッド38の後述するノズル面50を払拭する処理である。メンテナンス機構60の構成は、後に詳細に説明される。 Maintenance of the head 38 includes purging, cap cleaning, and wiping. As shown in FIG. 11, purging involves covering the nozzle surface 50 with a cap 62 (described later) of the maintenance mechanism 60, and then using a suction pump 74 (an example of a second pump) to suck ink from the nozzles 38A. As shown in FIG. 12, wiping involves wiping the nozzle surface 50 of the head 38 with an impregnating liquid L pumped into the cap 62 while the nozzle surface 50 is covered by the cap 62. As shown in FIG. 12, wiping involves wiping the nozzle surface 50 of the head 38 with a sponge wiper (an example of an absorbent wiper) 64 (described later) of the maintenance mechanism 60. The configuration of the maintenance mechanism 60 will be described in detail later.
[ヘッド38]
図2及び図4に示されるヘッド38は、概ね左右方向9に長い直方体形状である。図2及び図4に示されるように、ヘッド38は、フレーム48と、3つの吐出モジュール49A,49B,49Cとを備えている。以下、3つの吐出モジュール49A,49B,49Cを総称して、吐出モジュール49とも称する。なお、吐出モジュール49の数は、3つに限らず、例えば1つでもよい。
[Head 38]
The head 38 shown in Figures 2 and 4 has a generally rectangular parallelepiped shape that is long in the left-right direction 9. As shown in Figures 2 and 4, the head 38 includes a frame 48 and three discharge modules 49A, 49B, and 49C. Hereinafter, the three discharge modules 49A, 49B, and 49C will also be collectively referred to as discharge modules 49. Note that the number of discharge modules 49 is not limited to three and may be, for example, one.
図2及び図4に示されるように、吐出モジュール49は、フレーム48によって支持さ
れている。フレーム48の下面48Aには、3つの開口が形成されている。各吐出モジュール49A,49B,49Cは、その下面が当該開口に位置するように配置される。これにより、吐出モジュール49の下面は、下方に露出される。吐出モジュール49は、左右方向9において搬送路43内に配置されている。
2 and 4, the discharge module 49 is supported by a frame 48. Three openings are formed in a lower surface 48A of the frame 48. Each of the discharge modules 49A, 49B, and 49C is disposed so that its lower surface is positioned in one of the openings. This exposes the lower surface of each discharge module 49 downward. The discharge module 49 is disposed within the transport path 43 in the left-right direction 9.
図4に示されるように、吐出モジュール49A,49Bは、搬送向き8Aにおいて同位置に配置されている。吐出モジュール49A,49Bは、左右方向9に間隔を空けて配置されている。吐出モジュール49Cは、吐出モジュール49A,49Bよりも搬送向き8Aの下流側に配置されている。吐出モジュール49Cは、左右方向9において隣り合う2個の吐出モジュール49A,49Bの間に配置されている。吐出モジュール49Cの左端は、吐出モジュール49Aの右端より左方に位置している。吐出モジュール49Cの右端は、吐出モジュール49Bの左端より右方に位置している。つまり、左右方向9において、吐出モジュール49Cの端部と、吐出モジュール49A,49Bの端部とは重複している。 As shown in FIG. 4, the discharge modules 49A and 49B are arranged at the same position in the conveying direction 8A. The discharge modules 49A and 49B are arranged with a gap between them in the left-right direction 9. The discharge module 49C is arranged downstream of the discharge modules 49A and 49B in the conveying direction 8A. The discharge module 49C is arranged between two adjacent discharge modules 49A and 49B in the left-right direction 9. The left end of the discharge module 49C is located to the left of the right end of the discharge module 49A. The right end of the discharge module 49C is located to the right of the left end of the discharge module 49B. In other words, the end of the discharge module 49C overlaps with the ends of the discharge modules 49A and 49B in the left-right direction 9.
各吐出モジュール49A,49B,49Cは、複数のノズル38Aを備えている。各ノズル38Aは、各吐出モジュール49A,49B,49Cのノズル面50に開口されている。ノズル面50は、前後方向8、及び左右方向9に拡がる面である。上述したように、複数のノズル38Aから、インクが第1支持機構51の搬送ベルト101に支持されたシートSへ向かって下方へ吐出されて、シートSに画像が記録される。なお、複数のノズル38Aの配置や数は、図2及び図4に示された配置や数に限らない。 Each ejection module 49A, 49B, 49C has a plurality of nozzles 38A. Each nozzle 38A opens to a nozzle surface 50 of the ejection module 49A, 49B, 49C. The nozzle surface 50 is a surface extending in the front-rear direction 8 and the left-right direction 9. As described above, ink is ejected downward from the plurality of nozzles 38A toward the sheet S supported by the conveyor belt 101 of the first support mechanism 51, thereby recording an image on the sheet S. Note that the arrangement and number of the plurality of nozzles 38A are not limited to those shown in Figures 2 and 4.
ヘッド38は、上下方向7に沿って、図13~図15に示される記録位置、図11に示される被キャッピング位置、図12に実線で示される被ワイピング位置、及び図12に破線で示されるアンキャップ位置に移動する。記録位置は、搬送ベルト101に支持されたシートSに画像を記録するときのヘッド38の位置である。被キャッピング位置は、吐出モジュール49がメンテナンス機構60のキャップ62によって覆われるときのヘッド38の位置である。被キャッピング位置は、記録位置より上方の位置(記録位置よりも第1支持機構51から離れた位置)である。被ワイピング位置は、メンテナンス機構60のスポンジワイパ64が吐出モジュール49のノズル面50を払拭するときのヘッド38の位置である。被ワイピング位置は、被キャッピング位置より上方の位置である。アンキャップ位置は、ヘッド38をメンテナンス機構60から完全に離間させるときのヘッド38の位置である。アンキャップ位置は、被ワイピング位置より上方の位置である。 The head 38 moves along the vertical direction 7 to the recording position shown in Figures 13 to 15, the capped position shown in Figure 11, the wiping position shown by solid lines in Figure 12, and the uncapped position shown by dashed lines in Figure 12. The recording position is the position of the head 38 when recording an image on a sheet S supported by the conveyor belt 101. The capped position is the position of the head 38 when the ejection module 49 is covered by the cap 62 of the maintenance mechanism 60. The capped position is a position above the recording position (a position farther from the first support mechanism 51 than the recording position). The wiping position is the position of the head 38 when the sponge wiper 64 of the maintenance mechanism 60 wipes the nozzle surface 50 of the ejection module 49. The wiping position is a position above the capped position. The uncapped position is the position of the head 38 when the head 38 is completely separated from the maintenance mechanism 60. The uncapped position is a position above the wiping position.
図2に示されるように、ヘッド38は、ボールネジ29によって移動される。ボールネジ29は、ネジ軸29Aとナット部材29Bとを備える。ネジ軸29Aは、下筐体32によって、上下方向7に沿った軸周りに回転可能に支持されている。ネジ軸29Aは、ヘッドモータ54(図10参照)から駆動力を伝達されることによって回転する。なお、ヘッド38が上下動するための構成は、ボールネジ29を用いた構成に限らず、公知の種々の構成が採用可能である。 As shown in FIG. 2, the head 38 is moved by a ball screw 29. The ball screw 29 includes a screw shaft 29A and a nut member 29B. The screw shaft 29A is supported by the lower housing 32 so that it can rotate around an axis along the vertical direction 7. The screw shaft 29A rotates when a driving force is transmitted from the head motor 54 (see FIG. 10). Note that the configuration for moving the head 38 up and down is not limited to a configuration using the ball screw 29, and various known configurations can be used.
[第1支持機構51]
図2、図5、及び図6に示されるように、第1支持機構51は、搬送ベルト101、駆動ローラ102、従動ローラ103、支持部材104、ギヤ105、及びギヤ106を備えている。なお、各図において、ギヤ105,106の歯の図示は省略されている。
[First support mechanism 51]
2, 5, and 6, the first support mechanism 51 includes a conveyor belt 101, a drive roller 102, a driven roller 103, a support member 104, a gear 105, and a gear 106. Note that the teeth of the gears 105 and 106 are not shown in the drawings.
駆動ローラ102及び従動ローラ103は、支持部材104によって回転可能に支持されている。駆動ローラ102及び従動ローラ103は、前後方向8(搬送向き8A)に互いに離間している。搬送ベルト101は、無端ベルトである。搬送ベルト101は、駆動ローラ102、及び従動ローラ103に張架される。搬送ベルト101は、左右方向9において、搬送路43内に配置されている。 The drive roller 102 and driven roller 103 are rotatably supported by a support member 104. The drive roller 102 and driven roller 103 are spaced apart from each other in the front-to-rear direction 8 (conveying direction 8A). The conveying belt 101 is an endless belt. The conveying belt 101 is stretched over the drive roller 102 and driven roller 103. The conveying belt 101 is disposed within the conveying path 43 in the left-to-right direction 9.
駆動ローラ102は、搬送モータ53(図10参照)によって与えられる駆動力により回転し、搬送ベルト101を回動させる。搬送ベルト101の回動に伴い、従動ローラ103が回転する。搬送ベルト101は、搬送面108を有している。搬送面108は、搬送ベルト101の外周面における上側の部分であり、搬送向き8Aに沿って延びている。搬送面108は、搬送路43を挟んでヘッド38のノズル38Aと対向している。搬送面108が搬送向き8Aへと移動するように、駆動ローラ102は回転する。また、搬送面108は、搬送ローラ対36,40の間で搬送されるシートSを下方から支持しつつ、シートSに搬送力を与える。これによって、搬送ベルト101は、搬送路43に位置するシートSを搬送面108に沿う搬送向き8Aに搬送する。 The drive roller 102 rotates due to the driving force provided by the conveying motor 53 (see Figure 10), causing the conveying belt 101 to rotate. The rotation of the conveying belt 101 causes the driven roller 103 to rotate. The conveying belt 101 has a conveying surface 108. The conveying surface 108 is the upper portion of the outer circumferential surface of the conveying belt 101 and extends along the conveying direction 8A. The conveying surface 108 faces the nozzle 38A of the head 38 across the conveying path 43. The drive roller 102 rotates so that the conveying surface 108 moves in the conveying direction 8A. The conveying surface 108 also applies a conveying force to the sheet S while supporting the sheet S from below as it is conveyed between the pair of conveying rollers 36, 40. As a result, the conveying belt 101 conveys the sheet S located on the conveying path 43 in the conveying direction 8A along the conveying surface 108.
図2及び図5に示されるように、支持部材104は、軸109Aを備えている。軸109Aは、下筐体32によって回転可能に支持されている。軸109Aは、左右方向9(搬送向き8Aと直交し且つ吐出モジュール49のノズル面50と平行な方向)に延びている。軸109Aは、駆動ローラ102より搬送向き8Aの上流に設けられている。軸109Aは、搬送ローラ対36より下方に位置している。 As shown in Figures 2 and 5, the support member 104 has a shaft 109A. The shaft 109A is rotatably supported by the lower housing 32. The shaft 109A extends in the left-right direction 9 (a direction perpendicular to the conveying direction 8A and parallel to the nozzle surface 50 of the ejection module 49). The shaft 109A is located upstream of the drive roller 102 in the conveying direction 8A. The shaft 109A is located below the conveying roller pair 36.
軸109Aは、軸モータ59(図10参照)から駆動力が伝達されて回転する。軸109Aが回転することによって、支持部材104は軸109A周りに回動する。第1支持機構51の回動先端51Aは、軸109Aよりも搬送向き8Aの下流に位置している。 The shaft 109A rotates when a driving force is transmitted from the shaft motor 59 (see Figure 10). As the shaft 109A rotates, the support member 104 rotates around the shaft 109A. The rotation tip 51A of the first support mechanism 51 is located downstream of the shaft 109A in the conveying direction 8A.
なお、支持部材104が回動する構成は、上述した構成に限らない。例えば、下筐体32が軸109Aを備えており、軸109Aが支持部材104に設けられた孔に嵌合することによって、支持部材104が軸109A周りに回動する構成であってもよい。この場合、支持部材104は、仮想的な軸を備える。 Note that the configuration for rotating the support member 104 is not limited to the configuration described above. For example, the lower housing 32 may be provided with an axis 109A, and the axis 109A may fit into a hole provided in the support member 104, causing the support member 104 to rotate around the axis 109A. In this case, the support member 104 has a virtual axis.
支持部材104は、吐出モジュール49のノズル面50に平行な第1姿勢(図2参照)と、第1姿勢から軸109Aを中心に傾き、回動先端51Aが軸109Aよりも下方に位置する第2姿勢(図13参照)とに姿勢変化可能である。 The support member 104 can be changed between a first position (see Figure 2) parallel to the nozzle surface 50 of the ejection module 49 and a second position (see Figure 13) tilted from the first position around the axis 109A, with the tip 51A of the rotation positioned below the axis 109A.
図2に示されるように、第1支持機構51が第1姿勢のとき、搬送ベルト101の搬送面108は前後方向8に沿って延びている。これにより、搬送ベルト101は、搬送路43に位置するシートSを前方に搬送して支持部46に送ることが可能である。 As shown in FIG. 2, when the first support mechanism 51 is in the first position, the conveying surface 108 of the conveying belt 101 extends along the front-to-rear direction 8. This allows the conveying belt 101 to convey the sheet S located in the conveying path 43 forward and send it to the support portion 46.
図2、図13~図15に示されるように、第1支持機構51が第2姿勢のとき、搬送ベルト101の搬送面108は、前方へ向かうにしたがって下方へ向かう傾斜方向6に沿って延びている。なお、傾斜方向6は、左右方向9に直交し且つ搬送向き8Aと交差する向きである。 As shown in Figures 2 and 13 to 15, when the first support mechanism 51 is in the second position, the conveying surface 108 of the conveying belt 101 extends along an inclined direction 6 that slopes downward as it moves forward. Note that the inclined direction 6 is perpendicular to the left-right direction 9 and intersects with the conveying direction 8A.
図5及び図6に示されるように、支持部材104は、本体109と、立壁110,111とを備えている。なお、以下の支持部材104の説明では、第1支持機構51が第2姿勢であるとする。本体109は、概ね板状の部材であり、軸109Aを備えている。立壁110は、本体109の左端部から上方へ立設されている。立壁111は、本体109の右端部から上方へ立設されている。立壁110,111は、傾斜方向6に沿って延びている。 As shown in Figures 5 and 6, the support member 104 includes a main body 109 and standing walls 110 and 111. In the following description of the support member 104, it is assumed that the first support mechanism 51 is in the second position. The main body 109 is a generally plate-shaped member and includes a shaft 109A. The standing wall 110 extends upward from the left end of the main body 109. The standing wall 111 extends upward from the right end of the main body 109. The standing walls 110 and 111 extend along the inclination direction 6.
立壁110,111は、左右方向9において、搬送路43外に配置されている。立壁110,111は、駆動ローラ102及び従動ローラ103を回転可能に支持している。 The standing walls 110 and 111 are positioned outside the conveying path 43 in the left-right direction 9. The standing walls 110 and 111 rotatably support the drive roller 102 and the driven roller 103.
立壁110は、上面110Aを備える。立壁111は、第1上面111Aと第2上面111Bとを備える。第2上面111Bは、左右方向9において、第1上面111Aと異なる位置にある。上面110A及び第1上面111Aは、メンテナンス機構60を支持して、メンテナンス機構60の移動をスライド自在に支持する。図5及び図8に示されるように、第2上面111Bは、メンテナンス機構60の後述のラック154と対向可能な位置にある。第2上面111Bに、開口112が形成されている。開口112からギヤ105Aの一部が上方に突出している。ギヤ105Aは、対向する位置にあるラック154と噛合可能である。 The standing wall 110 has an upper surface 110A. The standing wall 111 has a first upper surface 111A and a second upper surface 111B. The second upper surface 111B is located at a different position from the first upper surface 111A in the left-right direction 9. The upper surface 110A and the first upper surface 111A support the maintenance mechanism 60, allowing the maintenance mechanism 60 to slide freely. As shown in Figures 5 and 8, the second upper surface 111B is located in a position that can face the rack 154 (described below) of the maintenance mechanism 60. An opening 112 is formed in the second upper surface 111B. A portion of the gear 105A protrudes upward from the opening 112. The gear 105A can mesh with the rack 154 located in the opposing position.
図2及び図5に示されるように、ギヤ105,106は、第1支持機構51の支持部材104によって回転可能に支持されている。ギヤ105は、左右方向9に沿って並んだギヤ105A,105Bで構成されている。ギヤ105A及びギヤ105Bは、互いに同軸に配置されている。ギヤ105Aは、ギヤ105Bと一体回転する。ギヤ105Bは、ギヤ106と噛合している。ギヤ106は、直接的にまたは他のギヤなどを介して第1モータ55(図10参照)と繋がっており、第1モータ55から駆動力を付与される。 As shown in Figures 2 and 5, gears 105 and 106 are rotatably supported by support member 104 of first support mechanism 51. Gear 105 is composed of gears 105A and 105B aligned in the left-right direction 9. Gears 105A and 105B are arranged coaxially. Gear 105A rotates integrally with gear 105B. Gear 105B meshes with gear 106. Gear 106 is connected to first motor 55 (see Figure 10) directly or via another gear, and receives driving force from first motor 55.
[第2支持機構52]
図2に示されるように、第2支持機構52は、全体として傾斜方向6に延びた状態で配
置されている。
[Second support mechanism 52]
As shown in FIG. 2 , the second support mechanism 52 is disposed so as to extend in the inclined direction 6 as a whole.
図2及び図5に示されるように、第2支持機構52は、本体115と、立壁116,117と、ギヤ118,119,120とを備えている。なお、各図において、ギヤ118,119,120の歯の図示は省略されている。 As shown in Figures 2 and 5, the second support mechanism 52 includes a main body 115, vertical walls 116 and 117, and gears 118, 119, and 120. Note that the teeth of gears 118, 119, and 120 are not shown in each figure.
本体115は、概ね板状の部材であり、下筐体32に固定されている。立壁116は、本体115の左端部から上方へ立設されている。立壁117は、本体115の右端部から上方へ立設されている。立壁116,117は、傾斜方向6に沿って延びている。 The main body 115 is a generally plate-shaped member and is fixed to the lower housing 32. The standing wall 116 extends upward from the left end of the main body 115. The standing wall 117 extends upward from the right end of the main body 115. The standing walls 116 and 117 extend along the inclination direction 6.
立壁116は、左右方向9において、第1支持機構51の立壁110と同位置である。立壁117は、左右方向9において、第1支持機構51の立壁111と同位置である。 The standing wall 116 is located at the same position in the left-right direction 9 as the standing wall 110 of the first support mechanism 51. The standing wall 117 is located at the same position in the left-right direction 9 as the standing wall 111 of the first support mechanism 51.
立壁116は、上面116Aを備える。立壁117は、第1上面117Aと第2上面117Bとを備える。第2上面117Bは、左右方向9において、第1上面117Aと異なる位置にある。 The standing wall 116 has an upper surface 116A. The standing wall 117 has a first upper surface 117A and a second upper surface 117B. The second upper surface 117B is located at a different position in the left-right direction 9 from the first upper surface 117A.
第1支持機構51が第2姿勢のとき、第1上面117Aは、第1支持機構51の立壁111の第1上面111Aと傾斜方向6に沿って並んでおり、且つ第1上面111Aと同一平面上にある。第1支持機構51が第2姿勢のとき、第2上面117Bは、第1支持機構51の立壁111の第2上面111Bと傾斜方向6に沿って並んでおり、且つ第2上面111Bと同一平面上にある。 When the first support mechanism 51 is in the second position, the first upper surface 117A is aligned with the first upper surface 111A of the standing wall 111 of the first support mechanism 51 along the inclination direction 6 and is on the same plane as the first upper surface 111A. When the first support mechanism 51 is in the second position, the second upper surface 117B is aligned with the second upper surface 111B of the standing wall 111 of the first support mechanism 51 along the inclination direction 6 and is on the same plane as the second upper surface 111B.
上面116A及び第1上面117Aは、メンテナンス機構60を支持して、メンテナンス機構60の移動をスライド自在に支持する。第2上面117Bは、メンテナンス機構60のラック154と対向可能な位置にある。図5に示されるように、第2上面117Bに、開口123,124が形成されている。開口124は、開口123より前方に位置している。開口123からギヤ118の一部が上方に突出している。開口124からギヤ119の一部が上方に突出している。ギヤ118,119は、対向する位置にあるラック154と噛合可能である。 The top surface 116A and the first top surface 117A support the maintenance mechanism 60, allowing it to slide freely during movement. The second top surface 117B is positioned so that it can face the rack 154 of the maintenance mechanism 60. As shown in FIG. 5, openings 123 and 124 are formed in the second top surface 117B. The opening 124 is located forward of the opening 123. A portion of the gear 118 protrudes upward from the opening 123. A portion of the gear 119 protrudes upward from the opening 124. The gears 118 and 119 can mesh with the rack 154 located opposite them.
図2及び図5に示されるように、ギヤ118,119,120は、第2支持機構52の本体115によって回転可能に支持されている。ギヤ118は、左右方向9に沿って並んだギヤ118A,118Bで構成されている。ギヤ118A及びギヤ118Bは、互いに同軸に配置されている。ギヤ118Aは、ギヤ118Bと一体回転する。ギヤ119は、左右方向9に沿って並んだギヤ119A,119Bで構成されている。ギヤ119A及びギヤ119Bは、互いに同軸に配置されている。ギヤ119Aは、ギヤ119Bと一体回転する。ギヤ120は、ギヤ118B,119Bに噛合している。これにより、ギヤ120が回転したときに、ギヤ118,119は同方向に回転する。ギヤ120は、直接的にまたは他のギヤなどを介して第2モータ56(図10参照)と繋がっており、第2モータ56から駆動力を付与される。 As shown in Figures 2 and 5, gears 118, 119, and 120 are rotatably supported by the main body 115 of the second support mechanism 52. Gear 118 is composed of gears 118A and 118B aligned along the left-right direction 9. Gears 118A and 118B are arranged coaxially with each other. Gear 118A rotates integrally with gear 118B. Gear 119 is composed of gears 119A and 119B aligned along the left-right direction 9. Gears 119A and 119B are arranged coaxially with each other. Gear 119A rotates integrally with gear 119B. Gear 120 is meshed with gears 118B and 119B. As a result, when gear 120 rotates, gears 118 and 119 rotate in the same direction. Gear 120 is connected to second motor 56 (see Figure 10) either directly or via another gear, and receives driving force from second motor 56.
[メンテナンス機構60]
図6及び図7に示されるように、メンテナンス機構60は、支持台61、キャップ62を備えている。なお、以下のメンテナンス機構60の説明では、メンテナンス機構60が第2姿勢の第1支持機構51及び第2支持機構52によって支持されているとする。
[Maintenance mechanism 60]
6 and 7, the maintenance mechanism 60 includes a support base 61 and a cap 62. In the following description of the maintenance mechanism 60, it is assumed that the maintenance mechanism 60 is supported by the first support mechanism 51 and the second support mechanism 52 in the second posture.
[支持台61]
支持台61は、底台61Aと、底台61Aに載置される本体61Bと、スポンジワイパ64及びゴムワイパ63を本体61Bに保持するワイパホルダ61Cと、を有する。底台61Aは、上方が開口された箱型形状を有する。底台61Aは、第1底板121と、第1底板121の周縁から上方へ立設された第1縁板122と、延出片125と、ラック154(図8参照)と、を備えている。
[Support stand 61]
The support base 61 includes a base 61A, a main body 61B that is placed on the base 61A, and a wiper holder 61C that holds the sponge wiper 64 and the rubber wiper 63 on the main body 61B. The base 61A has a box-like shape that is open at the top. The base 61A includes a first bottom plate 121, a first edge plate 122 that extends upward from the periphery of the first bottom plate 121, an extension piece 125, and a rack 154 (see FIG. 8).
第1底板121は、傾斜方向6及び左右方向9へ拡がる平板状である。第1底板121の上面および下面は、傾斜方向6よりも左右方向9に長い矩形状に形成されている。第1底板121の下面は、第1支持機構51の立壁110の上面110Aに上方から当接可能である。第1底板121の下面は、立壁111の第1上面111Aに上方から当接可能である。これにより、メンテナンス機構60は、第1支持機構51によって支持可能である。第1底板121の下面は、第2支持機構52の立壁116の上面116Aに上方から当接可能である。第1底板121の下面は、第2支持機構52の立壁117の第1上面117Aに上方から当接可能である。これにより、メンテナンス機構60は、第2支持機構52によって支持可能である。 The first bottom plate 121 is flat and extends in the tilt direction 6 and the left-right direction 9. The upper and lower surfaces of the first bottom plate 121 are rectangular and longer in the left-right direction 9 than in the tilt direction 6. The lower surface of the first bottom plate 121 can abut from above against the upper surface 110A of the standing wall 110 of the first support mechanism 51. The lower surface of the first bottom plate 121 can abut from above against the first upper surface 111A of the standing wall 111. This allows the maintenance mechanism 60 to be supported by the first support mechanism 51. The lower surface of the first bottom plate 121 can abut from above against the upper surface 116A of the standing wall 116 of the second support mechanism 52. The lower surface of the first bottom plate 121 can abut from above against the first upper surface 117A of the standing wall 117 of the second support mechanism 52. This allows the maintenance mechanism 60 to be supported by the second support mechanism 52.
第1縁板122は、平面視において矩形枠状である。延出片125は、第1縁板122の右壁の下端部から右方へ延びている。延出片125は、第1縁板122の右壁の傾斜方向6の一端から他端まで延びている。 The first edge plate 122 has a rectangular frame shape in a plan view. The extension piece 125 extends to the right from the lower end of the right wall of the first edge plate 122. The extension piece 125 extends from one end of the right wall of the first edge plate 122 in the inclination direction 6 to the other end.
ラック154は、延出片125の下面に形成されている。図8に示されるように、ラック154は、延出片125の傾斜方向6の一端部から他端部の近傍まで延びている。ラック154は、第1支持機構51の立壁111の第2上面111Bと上下に対向可能である(図6参照)。 The rack 154 is formed on the underside of the extension piece 125. As shown in FIG. 8, the rack 154 extends from one end of the extension piece 125 in the inclination direction 6 to near the other end. The rack 154 can be positioned vertically opposite the second upper surface 111B of the standing wall 111 of the first support mechanism 51 (see FIG. 6).
ラック154は、第2上面111Bの開口112から突出したギヤ105Aと噛合可能である。ラック154とギヤ105Aとが噛合した状態でギヤ105Aが回転することによって、メンテナンス機構60は、第1支持機構51に対して上面110A及び第1上面111Aに沿ってスライドする。つまり、メンテナンス機構60の移動は、第1支持機構51の上面110A及び第1上面111Aによってガイドされる。 The rack 154 can mesh with the gear 105A protruding from the opening 112 in the second upper surface 111B. When the gear 105A rotates while the rack 154 and the gear 105A are meshed, the maintenance mechanism 60 slides along the upper surface 110A and the first upper surface 111A relative to the first support mechanism 51. In other words, the movement of the maintenance mechanism 60 is guided by the upper surface 110A and the first upper surface 111A of the first support mechanism 51.
ラック154は、第2支持機構52の立壁117の第2上面117Bと上下に対向可能である。ラック154は、第2上面117Bの開口123から突出したギヤ118A、及び第2上面117Bの開口124から突出したギヤ119Aと噛合可能である。ラック154とギヤ118A及びギヤ119Aの少なくとも一方が噛合した状態でギヤ105Aが回転することによって、メンテナンス機構60は、第2支持機構52に対して上面116A及び第1上面117Aに沿ってスライドする。つまり、メンテナンス機構60の移動は、第2支持機構52の上面116A及び第1上面111Aによってガイドされる。 The rack 154 can be positioned vertically opposite the second upper surface 117B of the standing wall 117 of the second support mechanism 52. The rack 154 can mesh with a gear 118A protruding from an opening 123 in the second upper surface 117B and a gear 119A protruding from an opening 124 in the second upper surface 117B. When the gear 105A rotates while the rack 154 is meshed with at least one of the gears 118A and 119A, the maintenance mechanism 60 slides along the upper surface 116A and first upper surface 117A relative to the second support mechanism 52. In other words, the movement of the maintenance mechanism 60 is guided by the upper surface 116A and first upper surface 111A of the second support mechanism 52.
これにより、メンテナンス機構60は、後述するように、図2及び図15に示される待機位置、図11に示されるメンテナンス位置、及び図12に示されるワイピング位置に移動可能である。メンテナンス位置及びワイピング位置のメンテナンス機構60は、ヘッド38の吐出モジュール49のノズル面50と上下方向7に対向している。 As a result, the maintenance mechanism 60 can be moved to the standby position shown in Figures 2 and 15, the maintenance position shown in Figure 11, and the wiping position shown in Figure 12, as described below. The maintenance mechanism 60 in the maintenance position and wiping position faces the nozzle surface 50 of the ejection module 49 of the head 38 in the vertical direction 7.
図7に示されるように、本体61Bは、上方が開放された略箱形形状である。本体61Bは、底台61Aよりも小さい。本体61Bは、底台61Aの第1底板121の上面に載置された状態で底台61Aに固定されている。本体61Bは、第2底板151と、第2底板151から上方へ立設された第2縁板152と、含浸液タンク76に貯留される含浸液Lを環流する液体流路153と、を備えている。 As shown in Figure 7, the main body 61B has a generally box-like shape with an open top. The main body 61B is smaller than the base 61A. The main body 61B is fixed to the base 61A while being placed on the upper surface of the first bottom plate 121 of the base 61A. The main body 61B includes a second bottom plate 151, a second edge plate 152 extending upward from the second bottom plate 151, and a liquid flow path 153 that circulates the impregnation liquid L stored in the impregnation liquid tank 76.
図7及び図9に示されるように、第2底板151は、傾斜方向6及び左右方向9に拡がる平板状である。第2底板151の上面および下面は、傾斜方向6よりも左右方向に長い矩形状に形成されている。第2縁板152は、平面視において矩形枠状である。第2縁板152は、第1壁部152A、第2壁部152B、第3壁部152C、及び第4壁部152Dを有する。 As shown in Figures 7 and 9, the second bottom plate 151 is flat and extends in the tilt direction 6 and the left-right direction 9. The upper and lower surfaces of the second bottom plate 151 are formed into a rectangular shape that is longer in the left-right direction than in the tilt direction 6. The second edge plate 152 has a rectangular frame shape in a plan view. The second edge plate 152 has a first wall portion 152A, a second wall portion 152B, a third wall portion 152C, and a fourth wall portion 152D.
第1壁部152Aは、第2底板151の後傾斜向き4側の端縁を左右方向9に沿って延びている。第1壁部152Aは、支持第61が第2姿勢の第1支持機構51によって支持されている状態において第2壁部152Bよりも上方に位置する。第1壁部152Aの左端は、第2底板151の左端縁から右向きに間隔を空けて位置している。第1壁部152Aの右端は、第2底板151の右端縁から左向きに間隔を空けて位置している。第1壁部152Aには、傾斜方向6に貫通する3つの貫通孔155が形成されている。3つの貫通孔155は、左右方向9に等間隔に形成されている。3つの貫通孔155は、ワイパホルダ61Cの後述の第1係止部194、第2係止部195、及び第3係止部196にそれぞれ係止可能である。 The first wall portion 152A extends along the left-right direction 9 from the edge of the second bottom plate 151 on the rearward inclined direction 4. The first wall portion 152A is positioned higher than the second wall portion 152B when the support 61 is supported by the first support mechanism 51 in the second position. The left end of the first wall portion 152A is positioned to the right and spaced apart from the left edge of the second bottom plate 151. The right end of the first wall portion 152A is positioned to the left and spaced apart from the right edge of the second bottom plate 151. Three through holes 155 are formed in the first wall portion 152A, penetrating in the inclined direction 6. The three through holes 155 are formed at equal intervals in the left-right direction 9. The three through holes 155 can be engaged with the first locking portion 194, second locking portion 195, and third locking portion 196 of the wiper holder 61C, respectively, as described below.
第2壁部152Bは、第2底板151の前傾斜向き5側の端縁を左右方向9に沿って延びている。第2壁部152Bは、支持第61が第2姿勢の第1支持機構51によって支持されている状態において第1壁部152Aよりも下方に位置する。第2壁部152Bの左端は、第2底板151の左端縁から右向きに間隔を空けて位置している。第2壁部152Bの右端は、第2底板151の右端縁から左向きに間隔を空けて位置している。第3壁部152Cは、第1壁部152Aの左端と第2壁部152Bの左端とを繋いでいる。第4壁部152Dは、第1壁部152Aの右端と第2壁部152Bの右端とを繋いでいる。 The second wall portion 152B extends along the left-right direction 9 from the edge of the second bottom plate 151 on the forward tilt direction 5 side. The second wall portion 152B is located lower than the first wall portion 152A when the support 61 is supported by the first support mechanism 51 in the second posture. The left end of the second wall portion 152B is located to the right and spaced apart from the left edge of the second bottom plate 151. The right end of the second wall portion 152B is located to the left and spaced apart from the right edge of the second bottom plate 151. The third wall portion 152C connects the left end of the first wall portion 152A to the left end of the second wall portion 152B. The fourth wall portion 152D connects the right end of the first wall portion 152A to the right end of the second wall portion 152B.
液体流路153の一端156は含浸液タンク76内に貯留される含浸液Lの水面よりも低い位置において開口する。液体流路153の他端157は、含浸液タンク76内に貯留される含浸液Lの水面よりも高い位置において開口する。 One end 156 of the liquid flow path 153 opens at a position lower than the water surface of the impregnation liquid L stored in the impregnation liquid tank 76. The other end 157 of the liquid flow path 153 opens at a position higher than the water surface of the impregnation liquid L stored in the impregnation liquid tank 76.
図9に示されるように、液体流路153は、第2底板151の上面に形成されている。液体流路153は、第2底板151の上面から下向きに凹んだ凹溝であり、上方に開口している。液体流路153は、支持部材104が第1姿勢にあるとき上向きに開口した状態となり、支持部材104が第2姿勢にあるとき上下方向7に対して傾斜した向きに開口した状態となる。液体流路153は、平面視において、左右方向9に延びてUターンするように折り返すU字形状に連続した形状を有する。液体流路153は、凹溝上において配置されるスポンジワイパ64A、スポンジワイパ64B、およびスポンジワイパ64Cを直列に接続するように延びている。液体流路153は、第1流路153A、中間流路153B、及び第2流路153Cを有する。 As shown in FIG. 9 , the liquid flow path 153 is formed on the upper surface of the second bottom plate 151. The liquid flow path 153 is a groove recessed downward from the upper surface of the second bottom plate 151 and opens upward. When the support member 104 is in the first position, the liquid flow path 153 opens upward, and when the support member 104 is in the second position, the liquid flow path 153 opens at an angle relative to the vertical direction 7. In a plan view, the liquid flow path 153 has a continuous U-shape that extends in the left-right direction 9 and then makes a U-turn. The liquid flow path 153 extends so as to connect in series the sponge wipers 64A, 64B, and 64C arranged in the groove. The liquid flow path 153 has a first flow path 153A, an intermediate flow path 153B, and a second flow path 153C.
第1流路153Aは、液体流路153における含浸液Lの流通向きの上流側に位置する。第1流路153Aは、本体61Bにおける前側において左右方向9に延びる部分である。第1流路153Aの下流端には、下流に向かって溝の深さが浅くなるように傾斜する第1傾斜面172が形成されている。 The first flow path 153A is located on the upstream side of the liquid flow path 153 in the direction of flow of the impregnation liquid L. The first flow path 153A is a portion extending in the left-right direction 9 at the front side of the main body 61B. A first inclined surface 172 is formed at the downstream end of the first flow path 153A, and the depth of the groove is inclined so that it becomes shallower toward the downstream side.
中間流路153Bは、第1流路153Aの含浸液Lの流通向きの下流に位置する。中間流路153Bは、本体61Bにおける左側に配置されている。より具体的には、中間流路153Bは、第1流路153Aの下流端から本体61bの傾斜方向6の中間部まで前傾斜向き5に延びている。中間流路153Bは、第1流路153Aよりも浅い。 The intermediate flow path 153B is located downstream of the first flow path 153A in the direction of flow of the impregnation liquid L. The intermediate flow path 153B is located on the left side of the main body 61B. More specifically, the intermediate flow path 153B extends in a forward inclined direction 5 from the downstream end of the first flow path 153A to the middle of the main body 61b in the inclined direction 6. The intermediate flow path 153B is shallower than the first flow path 153A.
第2流路153Cは、液体流路153における含浸液Lの流通向きの下流側に位置する。第2流路153Cは、中間流路153Bの下流端から右方に延びる上流部153CAと、上流部153CAの下流端から前傾斜向き5側に延びる接続部153CBと、接続部153CBの下流端から右方に延びる下流部153CCと、を有している。上流部153CA、接続部153CB、および下流部153CCは、本体61Bの傾斜方向6における略中央に位置する。上流部153CA、接続部153CB、および下流部153CCは、支持台61が第2姿勢にあるとき、第1流路153Aよりも上下方向7において下方に位置する。接続部153CBは、下流に向かって溝の深さが深くなるように傾斜する第2傾斜面172Aが形成されている。 The second flow path 153C is located downstream of the liquid flow path 153 in the direction of flow of the impregnation liquid L. The second flow path 153C has an upstream portion 153CA extending rightward from the downstream end of the intermediate flow path 153B, a connecting portion 153CB extending forward in the inclined direction 5 from the downstream end of the upstream portion 153CA, and a downstream portion 153CC extending rightward from the downstream end of the connecting portion 153CB. The upstream portion 153CA, connecting portion 153CB, and downstream portion 153CC are located approximately in the center of the main body 61B in the inclined direction 6. When the support base 61 is in the second posture, the upstream portion 153CA, connecting portion 153CB, and downstream portion 153CC are located lower in the up-down direction 7 than the first flow path 153A. The connecting portion 153CB has a second inclined surface 172A that slopes downward so that the groove depth increases downstream.
図9に示されるように、第1流路153Aの上流端における凹溝の内壁面には、含浸液Lが第1流路153Aに流入する流入口171が開口している。流入口171には、第1供給チューブ175の一端が接続されている。第1供給チューブ175の他端は、第1支持機構51の外側に至り、含浸液タンク76に接続され、含浸液タンク76内に貯留される含浸液Lの水面よりも低い位置において開口する(図2参照)。 As shown in FIG. 9, an inlet 171, through which the impregnation liquid L flows into the first flow path 153A, opens on the inner wall surface of the recessed groove at the upstream end of the first flow path 153A. One end of a first supply tube 175 is connected to the inlet 171. The other end of the first supply tube 175 extends outside the first support mechanism 51 and is connected to the impregnation liquid tank 76, opening at a position lower than the water level of the impregnation liquid L stored in the impregnation liquid tank 76 (see FIG. 2).
第2流路153Cの下流部153CCの下流端における内壁面には、下流部153CCから含浸液Lが流出する流出口174が開口している。流出口174には、戻りチューブ176の一端が接続され、含浸液タンク76内に貯留される含浸液Lの水面よりも高い位置において開口する(図2参照)。戻りチューブ176の他端は、第1支持機構51の外側に至り、含浸液タンク76に接続されている。戻りチューブ176には戻りポンプ75(第1ポンプの一例)が設けられている(図2参照)。戻りポンプ75の駆動は、コントローラ130によって制御される。 An outlet 174, through which the impregnating liquid L flows out from the downstream portion 153CC, opens into the inner wall surface at the downstream end of the downstream portion 153CC of the second flow path 153C. One end of a return tube 176 is connected to the outlet 174, and opens at a position higher than the water surface of the impregnating liquid L stored in the impregnating liquid tank 76 (see Figure 2). The other end of the return tube 176 extends to the outside of the first support mechanism 51 and is connected to the impregnating liquid tank 76. A return pump 75 (an example of a first pump) is provided on the return tube 176 (see Figure 2). The operation of the return pump 75 is controlled by the controller 130.
図7に示されるように、ワイパホルダ61Cは、スポンジワイパ64と、ゴムワイパ63と、を有している。スポンジワイパ64およびゴムワイパ63は、ワイパホルダ61Cによって本体61Bに支持されている。 As shown in FIG. 7, the wiper holder 61C has a sponge wiper 64 and a rubber wiper 63. The sponge wiper 64 and the rubber wiper 63 are supported on the main body 61B by the wiper holder 61C.
[スポンジワイパ64]
スポンジワイパ64は、スポンジによって形成されている。本実施形態では、スポンジワイパ64は、3つ(64A,64B,64C)設けられている。以下、3つのスポンジワイパ64A,64B,64Cを総称して、スポンジワイパ64とも称する。スポンジワイパ64は、左右方向9の長さが傾斜方向6及び上下方向7の長さよりも長い直方体状に形成されている。スポンジワイパ64の上下方向7の長さは、傾斜方向6の長さよりも長い。
[Sponge Wiper 64]
The sponge wipers 64 are made of sponge. In this embodiment, three sponge wipers 64 (64A, 64B, 64C) are provided. Hereinafter, the three sponge wipers 64A, 64B, 64C will be collectively referred to as sponge wipers 64. The sponge wipers 64 are formed in a rectangular parallelepiped shape whose length in the left-right direction 9 is longer than their lengths in the tilt direction 6 and the up-down direction 7. The length of the sponge wiper 64 in the up-down direction 7 is longer than its length in the tilt direction 6.
スポンジワイパ64Aおよびスポンジワイパ64Bは、液体流路153の第1流路153Aに配置されている。スポンジワイパ64Aは、スポンジワイパ64Bよりも上流側に配置されている。スポンジワイパ64Cは、液体流路153の第2流路153Cに配置されている。 Sponge wiper 64A and sponge wiper 64B are arranged in the first flow path 153A of the liquid flow path 153. Sponge wiper 64A is arranged upstream of sponge wiper 64B. Sponge wiper 64C is arranged in the second flow path 153C of the liquid flow path 153.
スポンジワイパ64A、スポンジワイパ64B、およびスポンジワイパ64Cはそれぞれ、吐出モジュール49A、吐出モジュール49B、および吐出モジュール49Cに上下方向7に対応している。スポンジワイパ64Aおよびスポンジワイパ64Bは、互いに左右方向9に間隔を空けて位置する。スポンジワイパ64Cは、スポンジワイパ64Aおよびスポンジワイパ64Bよりも前傾斜向き5に間隔を空けて位置している。スポンジワイパ64Cは、左右方向9においてスポンジワイパ64Aとスポンジワイパ64Bとの間の中間に位置している。 Sponge wiper 64A, sponge wiper 64B, and sponge wiper 64C correspond to discharge module 49A, discharge module 49B, and discharge module 49C, respectively, in the up-down direction 7. Sponge wiper 64A and sponge wiper 64B are positioned at a distance from each other in the left-right direction 9. Sponge wiper 64C is positioned at a distance in the forward oblique direction 5 from sponge wipers 64A and 64B. Sponge wiper 64C is positioned midway between sponge wipers 64A and 64B in the left-right direction 9.
[ゴムワイパ63]
ゴムワイパ63は、ゴムによって形成されている。本実施形態では、ゴムワイパ63は、3つ(63A,63B,63C)設けられている。以下、3つのゴムワイパ63A,63B,63Cを総称して、ゴムワイパ63とも称する。
[Rubber wiper 63]
The rubber wipers 63 are made of rubber. In this embodiment, three rubber wipers 63 (63A, 63B, 63C) are provided. Hereinafter, the three rubber wipers 63A, 63B, 63C will also be collectively referred to as rubber wipers 63.
ゴムワイパ63は、上下方向7及び左右方向9に拡がる平板状に形成されている。ゴムワイパ63の傾斜方向6の長さは、スポンジワイパ64の傾斜方向6の長さよりも短い。これにより、ゴムワイパ63は、ワイピング処理時において吐出モジュール49のノズル面50に当接したときに、屈曲しやすくなっている。ゴムワイパ63の左右方向9の長さは、スポンジワイパ64の左右方向9の長さよりも僅かに長い。ゴムワイパ63の支持台61からの長さは、スポンジワイパ64の支持台61からの長さよりも長い。ゴムワイパ63は、スポンジワイパ64の左右方向9の両端よりも左右方向9の外側に位置している。ゴムワイパ63の上端部は、先細りに形成されている。これにより、ゴムワイパ63の上端部が、ワイピング処理時において吐出モジュール49のノズル面50に接触しやすい。 The rubber wiper 63 is formed in a flat plate shape that extends in the up-down direction 7 and the left-right direction 9. The length of the rubber wiper 63 in the tilt direction 6 is shorter than the length of the sponge wiper 64 in the tilt direction 6. This makes it easier for the rubber wiper 63 to bend when it comes into contact with the nozzle surface 50 of the ejection module 49 during wiping. The length of the rubber wiper 63 in the left-right direction 9 is slightly longer than the length of the sponge wiper 64 in the left-right direction 9. The length of the rubber wiper 63 from the support base 61 is longer than the length of the sponge wiper 64 from the support base 61. The rubber wiper 63 is located outside the ends of the sponge wiper 64 in the left-right direction 9. The upper end of the rubber wiper 63 is tapered. This makes it easier for the upper end of the rubber wiper 63 to come into contact with the nozzle surface 50 of the ejection module 49 during wiping.
ゴムワイパ63Aおよびゴムワイパ63Bは、液体流路153の第1流路153Aの外側に配置されている。ゴムワイパ63Cは、液体流路153の第2流路153Cの外側に配置されている。 Rubber wiper 63A and rubber wiper 63B are arranged outside the first flow path 153A of the liquid flow path 153. Rubber wiper 63C is arranged outside the second flow path 153C of the liquid flow path 153.
ゴムワイパ63A、ゴムワイパ63B、およびゴムワイパ63Cはそれぞれ、吐出モジュール49A、吐出モジュール49B、および吐出モジュール49Cに上下方向7に対応している。ゴムワイパ63Aは、ゴムワイパ63B、およびゴムワイパ63Cはそれぞれ、スポンジワイパ64A、スポンジワイパ64B、およびスポンジワイパ64Cから後傾斜向き4に間隔を空けて支持台61に配置されている。 Rubber wipers 63A, 63B, and 63C correspond to discharge modules 49A, 49B, and 49C, respectively, in the up-down direction 7. Rubber wipers 63A, 63B, and 63C are arranged on support base 61 at intervals in the rearward inclination direction 4 from sponge wipers 64A, 64B, and 64C, respectively.
[キャップ62]
図7に示されるように、キャップ62は、支持台61に支持されている。キャップ62は、複数設けられている。本実施形態では、キャップ62は、3つのキャップ62A,62B,62Cで構成されている。なお、キャップ62の数は、3つに限らず上述したヘッド38の吐出モジュール49の数に合わせて設定される。以下、3つのキャップ62A,62B,62Cを総称して、キャップ62とも称する。
[Cap 62]
As shown in Fig. 7, the cap 62 is supported by a support base 61. A plurality of caps 62 are provided. In this embodiment, the caps 62 are composed of three caps 62A, 62B, and 62C. The number of caps 62 is not limited to three and is set according to the number of ejection modules 49 of the head 38 described above. Hereinafter, the three caps 62A, 62B, and 62C will be collectively referred to as caps 62.
キャップ62は、ゴムやシリコンなどの弾性体で構成されている。キャップ62は、上方が開放された箱形形状である。 The cap 62 is made of an elastic material such as rubber or silicone. The cap 62 has a box-like shape with an open top.
キャップ62Aは、吐出モジュール49Aに対応しており、吐出モジュール49Aと上下方向7に対向可能である。キャップ62Aは、スポンジワイパ64Aから前傾斜向き5に間隔を空けて配置されている。キャップ62Aの底板69には、含浸液Lがキャップ62Aに流入する流入口(図示省略)と含浸液Lがキャップ62Aから流出する流出口とが形成されている。図2及び図9に示されるように、流入口には、第2供給チューブ177の一端が接続されている。第2供給チューブ177の他端は、メンテナンス機構60の外側に至り、含浸液タンク76に接続されている。流出口69Aには、第1廃液チューブ178の一端が接続されている。第1廃液チューブ178の他端は、メンテナンス機構60の外側に至り、廃液タンク77に接続されている。 The cap 62A corresponds to the discharge module 49A and can face the discharge module 49A in the vertical direction 7. The cap 62A is disposed at a distance 5 from the sponge wiper 64A in a forward tilt direction. The bottom plate 69 of the cap 62A is formed with an inlet (not shown) through which the impregnation liquid L flows into the cap 62A and an outlet through which the impregnation liquid L flows out of the cap 62A. As shown in FIGS. 2 and 9, one end of a second supply tube 177 is connected to the inlet. The other end of the second supply tube 177 extends outside the maintenance mechanism 60 and is connected to the impregnation liquid tank 76. One end of a first waste liquid tube 178 is connected to the outlet 69A. The other end of the first waste liquid tube 178 extends outside the maintenance mechanism 60 and is connected to the waste liquid tank 77.
キャップ62Bは、吐出モジュール49Bに対応しており、吐出モジュール49Bと上下方向7に対向可能である。キャップ62Bは、スポンジワイパ64Bから前傾斜向き5に間隔を空けて配置されている。キャップ62Bの底板69には、含浸液Lがキャップ62Bに流入する流入口(図示省略)と含浸液Lがキャップ62Bから流出する流出口69Bとが形成されている。流入口には、第2供給チューブ177から分岐した第3供給チューブ179の一端が接続されている。流出口69Bには、第2廃液チューブ180の一端が接続されている。第2廃液チューブ180の他端は、メンテナンス機構60の外側において第1廃液チューブ178に合流している。 The cap 62B corresponds to the discharge module 49B and can face the discharge module 49B in the vertical direction 7. The cap 62B is spaced apart from the sponge wiper 64B in a forward tilt direction 5. The bottom plate 69 of the cap 62B is formed with an inlet (not shown) through which the impregnating liquid L flows into the cap 62B and an outlet 69B through which the impregnating liquid L flows out of the cap 62B. One end of a third supply tube 179 branching off from the second supply tube 177 is connected to the inlet. One end of a second waste liquid tube 180 is connected to the outlet 69B. The other end of the second waste liquid tube 180 joins the first waste liquid tube 178 outside the maintenance mechanism 60.
キャップ62Cは、吐出モジュール49Cに対応しており、吐出モジュール49Cと上下方向7に対向可能である。キャップ62Cは、スポンジワイパ64Cから前傾斜向き5に間隔を空けて配置されている。キャップ62Cの底板69には、含浸液Lがキャップ62Cに流入する流入口(図示省略)と含浸液Lがキャップ62Cから流出する流出口69Cとが形成されている。流入口には、第2供給チューブ177から分岐した第4供給チューブ201の一端が接続されている。流出口69Cには、第3廃液チューブ202の一端が接続されている。第3廃液チューブ202の他端は、メンテナンス機構60の外側において第1廃液チューブ178に合流している。 The cap 62C corresponds to the discharge module 49C and can face the discharge module 49C in the up-down direction 7. The cap 62C is disposed at a distance 5 from the sponge wiper 64C in a forward tilt direction. The bottom plate 69 of the cap 62C is formed with an inlet (not shown) through which the impregnating liquid L flows into the cap 62C and an outlet 69C through which the impregnating liquid L flows out of the cap 62C. One end of a fourth supply tube 201 branching off from the second supply tube 177 is connected to the inlet. One end of a third waste liquid tube 202 is connected to the outlet 69C. The other end of the third waste liquid tube 202 joins the first waste liquid tube 178 outside the maintenance mechanism 60.
第2供給チューブ177における第3供給チューブ179及び第4供給チューブ201の分岐点よりも上流側にキャップ洗浄バルブ72(図10参照)が設けられている。キャップ洗浄バルブ72は、第2供給チューブ177の流路を開閉する。キャップ洗浄バルブ72の開閉は、コントローラ130によって制御される。 A cap cleaning valve 72 (see Figure 10) is provided on the second supply tube 177 upstream of the branch point of the third supply tube 179 and the fourth supply tube 201. The cap cleaning valve 72 opens and closes the flow path of the second supply tube 177. The opening and closing of the cap cleaning valve 72 is controlled by the controller 130.
第1廃液チューブ178における第2廃液チューブ180及び第3廃液チューブ202の合流点よりも下流側に吸引ポンプ74(図2参照)が設けられている。吸引ポンプ74の駆動は、コントローラ130によって制御される。なお、吸引ポンプ74は、第1廃液チューブ178、第2廃液チューブ180、及び第3廃液チューブ202のそれぞれに設けられてもよい。 A suction pump 74 (see Figure 2) is provided in the first waste liquid tube 178 downstream of the confluence of the second waste liquid tube 180 and the third waste liquid tube 202. The operation of the suction pump 74 is controlled by the controller 130. Note that a suction pump 74 may be provided in each of the first waste liquid tube 178, the second waste liquid tube 180, and the third waste liquid tube 202.
[コントローラ130]
図10に示されるように、コントローラ130は、CPU131、ROM132、RAM133、EEPROM134、及びASIC135を備えており、これらは内部バス137によって接続されている。ROM132には、CPU131の各種動作を制御するためのプログラムなどが格納されている。RAM133は、CPU131が上記プログラムを実行する際に用いるデータや信号等を一時的に記録する記憶領域、或いはデータ処理の作業領域として使用される。EEPROM134には、電源オフ後も保持すべき設定やフラグ等が格納される。
[Controller 130]
10 , the controller 130 includes a CPU 131, a ROM 132, a RAM 133, an EEPROM 134, and an ASIC 135, which are connected by an internal bus 137. The ROM 132 stores programs for controlling various operations of the CPU 131. The RAM 133 is used as a storage area for temporarily recording data, signals, etc. used when the CPU 131 executes the programs, or as a work area for data processing. The EEPROM 134 stores settings, flags, etc. that should be retained even after the power is turned off.
ASIC135には、搬送モータ53、ヘッドモータ54、第1モータ55、第2モータ56、戻りポンプモータ47、吸引ポンプモータ58、軸モータ59、バルブモータ71、及びバルブモータ73が接続されている。 The ASIC 135 is connected to the transport motor 53, head motor 54, first motor 55, second motor 56, return pump motor 47, suction pump motor 58, shaft motor 59, valve motor 71, and valve motor 73.
ASIC135は、各モータを回転させるための駆動信号を生成し、この駆動信号を元に各モータを制御する。各モータは、ASIC135からの駆動信号によって正転又は逆転する。コントローラ130は、搬送モータ53の駆動を制御して、ホルダ35、搬送ローラ36A、搬送ローラ40A、及び駆動ローラ102を回転させる。コントローラ130は、ヘッドモータ54の駆動を制御して、ネジ軸29Aを回転させ、ヘッド38を上下方向7に沿って移動させる。コントローラ130は、第1モータ55の駆動を制御して、第1支持機構51のギヤ106を回転させる。コントローラ130は、第2モータ56の駆動を制御して、第2支持機構52のギヤ120を回転させる。コントローラ130は、吸引ポンプモータ58の駆動を制御して、吸引ポンプ74を駆動させる。コントローラ130は、バルブモータ71の駆動を制御して、キャップ洗浄バルブ72を開閉させる。コントローラ130は、バルブモータ73の駆動を制御して、含浸液流通バルブ84を開閉させる。コントローラ130は、軸モータ59の駆動を制御して、第1支持機構51を回動させる。コントローラ130は、戻りポンプモータ47の駆動を制御して、戻りポンプ75を駆動させる。 The ASIC 135 generates drive signals to rotate each motor and controls each motor based on these drive signals. Each motor rotates forward or reverse based on the drive signal from the ASIC 135. The controller 130 controls the drive of the transport motor 53 to rotate the holder 35, transport roller 36A, transport roller 40A, and drive roller 102. The controller 130 controls the drive of the head motor 54 to rotate the screw shaft 29A and move the head 38 in the vertical direction 7. The controller 130 controls the drive of the first motor 55 to rotate the gear 106 of the first support mechanism 51. The controller 130 controls the drive of the second motor 56 to rotate the gear 120 of the second support mechanism 52. The controller 130 controls the drive of the suction pump motor 58 to drive the suction pump 74. The controller 130 controls the drive of the valve motor 71 to open and close the cap cleaning valve 72. The controller 130 controls the drive of the valve motor 73 to open and close the impregnation liquid flow valve 84. The controller 130 controls the drive of the shaft motor 59 to rotate the first support mechanism 51. The controller 130 controls the drive of the return pump motor 47 to drive the return pump 75.
なお、ASIC135には、圧電素子(不図示)が接続されており、不図示のドライブ回路を介してコントローラ130により給電されることで動作する。コントローラ130は、圧電素子への給電を制御し、複数のノズル38Aから選択的にインク滴を吐出させる。 A piezoelectric element (not shown) is connected to the ASIC 135, and operates when power is supplied from the controller 130 via a drive circuit (not shown). The controller 130 controls the power supply to the piezoelectric element, causing ink droplets to be selectively ejected from the multiple nozzles 38A.
以下、メンテナンス機構60において含浸液Lが液体流路153に供給され排出される動作について、メンテナンス機構60、第1支持機構51、ヘッド38の動作とともに説明する。液体流路153への含浸液Lの供給および排出は、パージ処理および浸漬処理、ワイピング処理、画像記録処理とともに行われる。 The operation of the maintenance mechanism 60 to supply and discharge the impregnating liquid L to the liquid flow path 153 will be described below, along with the operation of the maintenance mechanism 60, the first support mechanism 51, and the head 38. The supply and discharge of the impregnating liquid L to the liquid flow path 153 is performed in conjunction with the purging process, immersion process, wiping process, and image recording process.
[パージ処理および浸漬処理]
画像記録処理が実行されていないときの画像記録装置100は待機状態である。待機状態のとき、図11に示されるように、ヘッド38は被キャッピング位置に位置しており、第1支持機構51はメンテナンス機構60を支持した状態で第1姿勢に位置しており、メンテナンス機構60はメンテナンス位置に位置している。このとき、キャップ62は、ノズル面50を覆っている。
[Purging and soaking treatments]
When the image recording process is not being performed, the image recording device 100 is in a standby state. In the standby state, as shown in Fig. 11, the head 38 is in the capped position, the first support mechanism 51 is in the first posture while supporting the maintenance mechanism 60, and the maintenance mechanism 60 is in the maintenance position. At this time, the cap 62 covers the nozzle surface 50.
待機状態のときに、コントローラ130は、パージ処理を、所定タイミングでまたは外部からの命令を受け取ったときに実行する。以下では、画像記録装置100が待機状態のときに、コントローラ130が外部からパージ処理を実行する旨の命令を受け取ったときの処理が説明される。 When in standby mode, the controller 130 executes the purge process at a predetermined timing or when an external command is received. The following describes the process that occurs when the image recording device 100 is in standby mode and the controller 130 receives an external command to execute the purge process.
パージ処理において、コントローラ130は、キャップ洗浄バルブ72を閉じた状態で吸引ポンプ74を駆動させる。これにより、ノズル38A内のインクが吸引されて、キャップ62と吐出モジュール49のノズル面50とによって形成された空間から第1廃液チューブ178、第2廃液チューブ180、及び第3廃液チューブ202を通ってインクが廃液タンク77に排出される。このとき、キャップ洗浄バルブ72が閉じられているので、含浸液タンク76から第2供給チューブ177、第3供給チューブ179、及び第4供給チューブ201を通してキャップ62A,62B,62Cに含浸液Lが供給されることはない。 During the purge process, the controller 130 drives the suction pump 74 with the cap cleaning valve 72 closed. This causes the ink in the nozzle 38A to be sucked out and discharged from the space formed by the cap 62 and the nozzle surface 50 of the ejection module 49 through the first waste liquid tube 178, the second waste liquid tube 180, and the third waste liquid tube 202 into the waste liquid tank 77. Because the cap cleaning valve 72 is closed at this time, the impregnating liquid L is not supplied from the impregnating liquid tank 76 to the caps 62A, 62B, and 62C through the second supply tube 177, the third supply tube 179, and the fourth supply tube 201.
コントローラ130は、浸漬処理を、所定タイミングでまたは外部からの命令を受け取ったときに実行する。以下では、画像記録装置100が待機状態のときにおいてパージ処理が行われた後に、コントローラ130が浸漬処理を実行するときの処理が説明される。 The controller 130 executes the immersion process at a predetermined timing or when it receives an external command. The following describes the process that the controller 130 executes when the image recording device 100 is in a standby state and the purging process is performed.
浸漬処理において、コントローラ130は、キャップ洗浄バルブ72を開いた状態で吸引ポンプ74を駆動させる。これにより、含浸液タンク76から第2供給チューブ177、第3供給チューブ179、及び第4供給チューブ201を通してキャップ62A,62B,62Cに含浸液Lが供給され、吐出モジュール49のノズル面50が含浸液Lに浸漬される。その結果、ノズル面50に付着しているインクは、含浸液Lに溶解して含浸液Lとともに廃液タンク77に排出される。 During the immersion process, the controller 130 drives the suction pump 74 with the cap cleaning valve 72 open. This causes the impregnation liquid L to be supplied from the impregnation liquid tank 76 to the caps 62A, 62B, and 62C through the second supply tube 177, third supply tube 179, and fourth supply tube 201, immersing the nozzle surface 50 of the ejection module 49 in the impregnation liquid L. As a result, the ink adhering to the nozzle surface 50 dissolves in the impregnation liquid L and is discharged together with the impregnation liquid L into the waste liquid tank 77.
浸漬処理が終了すると、コントローラ130は、ヘッド38をアンキャップ位置に移動しメンテナンス位置のメンテナンス機構60から離間させるが、この前に、コントローラ130は、含浸液流通バルブ84を駆動して大気連通路83を閉じた状態にするとともに戻りポンプ75を駆動する。これにより、含浸液タンク76から含浸液Lが第1供給チューブ175を通して支持台61に供給される。支持台61に供給された含浸液Lは、流入口171を通して液体流路153における第1流路153Aに流入する。第1流路153Aに流入した含浸液Lは、中間流路153B、及び第2流路153Cを順に流通し、流出口174から排出される。このとき、スポンジワイパ64A,64B,64Cに含浸液Lが含浸しスポンジワイパ64A,64B,64Cは、含浸液Lを十分に含んだ状態になる。 When the immersion process is completed, the controller 130 moves the head 38 to the uncapped position and separates it from the maintenance mechanism 60 at the maintenance position. However, before this, the controller 130 activates the impregnation liquid flow valve 84 to close the atmosphere communication passage 83 and activates the return pump 75. This causes the impregnation liquid L to be supplied from the impregnation liquid tank 76 to the support base 61 through the first supply tube 175. The impregnation liquid L supplied to the support base 61 flows into the first flow path 153A of the liquid flow path 153 through the inlet 171. The impregnation liquid L that has flowed into the first flow path 153A flows sequentially through the intermediate flow path 153B and the second flow path 153C before being discharged from the outlet 174. At this time, the impregnation liquid L soaks the sponge wipers 64A, 64B, and 64C, and the sponge wipers 64A, 64B, and 64C become sufficiently saturated with the impregnation liquid L.
コントローラ130は、含浸液流通バルブ84を駆動して大気連通路83を開いた状態にするとともに戻りポンプ75を駆動する。これにより、流出口174から排出された含浸液Lが戻りチューブ176を通して含浸液タンク76に戻される。 The controller 130 drives the impregnating liquid flow valve 84 to open the atmosphere communication passage 83 and drives the return pump 75. This causes the impregnating liquid L discharged from the outlet 174 to return to the impregnating liquid tank 76 through the return tube 176.
[ワイピング処理]
コントローラ130は、ワイピング処理を実行する。以下、ワイピング処理が説明される。
[Wiping process]
The controller 130 executes the wiping process, which will be described below.
コントローラ130は、ヘッド38を下方へ移動させることによって図12において破線で示されるアンキャップ位置から実線で示される被ワイピング位置へ移動させる。これにより、キャップ62が吐出モジュール49のノズル面50から離間する。 The controller 130 moves the head 38 downward from the uncapped position shown by the dashed line in FIG. 12 to the wiped position shown by the solid line. This separates the cap 62 from the nozzle surface 50 of the ejection module 49.
コントローラ130は、メンテナンス機構60をメンテナンス位置からワイピング位置へ移動させる。具体的には、図11に示されるように、メンテナンス位置のメンテナンス機構60は、第1支持機構51に支持されている。このとき、ラック154は、ギヤ105と噛合している。この状態で第1モータ55が駆動されて、ギヤ106が図11において時計回りに回転すると、ギヤ105が図11において反時計回りに回転する。これにより、メンテナンス位置のメンテナンス機構60は、前後方向8(搬送向き8A)に沿って前方(搬送向き8Aの下流)へ移動し、ワイピング位置に到達する(図12参照)。 The controller 130 moves the maintenance mechanism 60 from the maintenance position to the wiping position. Specifically, as shown in FIG. 11, the maintenance mechanism 60 in the maintenance position is supported by the first support mechanism 51. At this time, the rack 154 is engaged with the gear 105. In this state, when the first motor 55 is driven and the gear 106 rotates clockwise in FIG. 11, the gear 105 rotates counterclockwise in FIG. 11. As a result, the maintenance mechanism 60 in the maintenance position moves forward (downstream in the conveying direction 8A) along the front-to-rear direction 8 (conveying direction 8A) and reaches the wiping position (see FIG. 12).
メンテナンス機構60がメンテナンス位置からワイピング位置へ移動する過程において、スポンジワイパ64及びゴムワイパ63の先端部(上端部)が吐出モジュール49のノズル面50に当接しつつノズル面50に対してスライドする。具体的には、スポンジワイパ64A,64B,64C及びゴムワイパ63A,63B,63Cが吐出モジュール49A,49B,49Cのノズル面50に対して接触した状態でスライドする。これにより、各吐出モジュール49A,49B,49Cのノズル面50が払拭される。その結果、ノズル面50及びノズル面50に開口されたノズル38Aから異物などが取り除かれる。 As the maintenance mechanism 60 moves from the maintenance position to the wiping position, the tips (upper ends) of the sponge wiper 64 and rubber wiper 63 slide relative to the nozzle surface 50 of the ejection module 49 while abutting against the nozzle surface 50. Specifically, the sponge wipers 64A, 64B, 64C and rubber wipers 63A, 63B, 63C slide in contact with the nozzle surface 50 of the ejection modules 49A, 49B, 49C. This wipes the nozzle surface 50 of each ejection module 49A, 49B, 49C. As a result, foreign matter is removed from the nozzle surface 50 and the nozzles 38A opening in the nozzle surface 50.
メンテナンス機構60がワイピング位置のとき、第1モータ55が駆動されて、ギヤ106が図12において反時計回りに回転すると、ギヤ105が図12において時計回りに回転する。これにより、ワイピング位置のメンテナンス機構60は、後方(搬送向き8Aの上流)へ移動し、メンテナンス位置に到達する(図11参照)。 When the maintenance mechanism 60 is in the wiping position, the first motor 55 is driven, causing the gear 106 to rotate counterclockwise in FIG. 12, which in turn causes the gear 105 to rotate clockwise in FIG. 12. As a result, the maintenance mechanism 60 in the wiping position moves backward (upstream in the conveying direction 8A) and reaches the maintenance position (see FIG. 11).
コントローラ130は、軸モータ59を駆動して第1支持機構51を第1姿勢から第2姿勢に姿勢変化させる。これにより、液体流路153の含浸液Lは第1流路153Aから第2流路153Cに流れて、第2流路153Cに貯留する。 The controller 130 drives the axial motor 59 to change the position of the first support mechanism 51 from the first position to the second position. As a result, the impregnation liquid L in the liquid flow path 153 flows from the first flow path 153A to the second flow path 153C and is stored in the second flow path 153C.
コントローラ130は、含浸液流通バルブ84を駆動して大気連通路83を開いた状態にするとともに戻りポンプ75を駆動する。これにより、第2流路153Cに貯留した含浸液Lが流出口174から戻りチューブ176を通して含浸液タンク76に排出される。 The controller 130 drives the impregnation liquid flow valve 84 to open the atmosphere communication passage 83 and drives the return pump 75. This causes the impregnation liquid L stored in the second flow path 153C to be discharged from the outlet 174 through the return tube 176 to the impregnation liquid tank 76.
[メンテナンス機構60の移動]
図13~図15に示されるように、メンテナンス機構60は、第1支持機構51および第2支持機構52に支持された状態で第2姿勢の第1支持機構51および第2支持機構52に対してスライド移動することによって傾斜方向6に沿って待機位置に移動可能である。つまり、第1支持機構51および第2支持機構52は、メンテナンス位置、待機位置、及びこれらの両位置の間に位置するメンテナンス機構60を支持可能である。
[Movement of the maintenance mechanism 60]
13 to 15, the maintenance mechanism 60 can move to a standby position along the inclined direction 6 by sliding relative to the first support mechanism 51 and the second support mechanism 52 in the second posture while being supported by the first support mechanism 51 and the second support mechanism 52. In other words, the first support mechanism 51 and the second support mechanism 52 can support the maintenance mechanism 60 at the maintenance position, the standby position, and between these positions.
具体的には、コントローラ130は、まず、第1モータ55を駆動する。これにより、ギヤ106が図13において時計回りに回転するため、ギヤ105が反時計回りに回転し、メンテナンス位置のメンテナンス機構60は、前傾斜向き5へ移動して第2支持機構52上に受け渡される(図14参照)。 Specifically, the controller 130 first drives the first motor 55. This causes the gear 106 to rotate clockwise in FIG. 13, which in turn causes the gear 105 to rotate counterclockwise. The maintenance mechanism 60 in the maintenance position then moves in the forward tilt direction 5 and is transferred onto the second support mechanism 52 (see FIG. 14).
コントローラ130は、第2モータ56を駆動する。これにより、ギヤ120が図14において時計回りに回転するため、ギヤ118,119が反時計回りに回転し、第1支持機構51からスライド移動したメンテナンス機構60が第2支持機構52上の待機位置に到達する(図15参照)。 The controller 130 drives the second motor 56. This causes the gear 120 to rotate clockwise in FIG. 14, causing the gears 118 and 119 to rotate counterclockwise, and the maintenance mechanism 60, which has slid from the first support mechanism 51, reaches its standby position on the second support mechanism 52 (see FIG. 15).
[画像記録処理]
以下に、シートSに画像が記録されるときの処理(画像記録処理)が説明される。
[Image recording processing]
The process when an image is recorded on the sheet S (image recording process) will be described below.
コントローラ130は、操作パネル44や、画像記録装置100とLANなどによって接続された情報処理装置などの外部から、シートSに画像を記録する旨の命令を受け取ると、上述したようにメンテナンス機構60をメンテナンス位置から待機位置へ移動させる。 When the controller 130 receives a command to record an image on the sheet S from an external device, such as the operation panel 44 or an information processing device connected to the image recording device 100 via a LAN or the like, it moves the maintenance mechanism 60 from the maintenance position to the standby position as described above.
コントローラ130は、軸モータ59を駆動し、第1支持機構51を第2姿勢から第1姿勢へ姿勢変化させる。 The controller 130 drives the shaft motor 59 to change the position of the first support mechanism 51 from the second position to the first position.
次に、コントローラ130は、ヘッド38を下方へ移動させることによって被キャッピング位置から記録位置へ移動させる(図16参照)。そして、シートSの搬送を開始して、当該シートSがヘッド38の直下に位置する状態でノズル38Aからインクを吐出する。これによりシートSに画像が記録される。シートS上に付着したインクは、ヒータ39からの熱によってシートSに定着する。更に搬送されたシートSは、CIS25によって記録された画像をチェックされた後、カッターユニット26によって所定のサイズに切断されて排出される。 Next, the controller 130 moves the head 38 downward, moving it from the capped position to the recording position (see Figure 16). Then, conveyance of the sheet S begins, and ink is ejected from the nozzles 38A when the sheet S is positioned directly below the head 38. This records an image on the sheet S. The ink adhering to the sheet S is fixed to the sheet S by the heat from the heater 39. The conveyed sheet S is then checked for the recorded image by the CIS 25, and then cut to a specified size by the cutter unit 26 and discharged.
シートSへの画像記録処理の後、メンテナンス機構60がメンテナンス位置に移動するときは、上述の逆の工程が行われる。 After the image recording process on the sheet S, when the maintenance mechanism 60 moves to the maintenance position, the above-mentioned process is performed in reverse.
具体的には、まず、コントローラ130は、軸モータ59を駆動し、第1支持機構51を第1姿勢から第2姿勢へ姿勢変化させる(図15参照)。このとき、メンテナンス機構60は、第2支持機構52に支持されており、ラック154は、ギヤ118,119双方と噛合している。この状態で第2モータ56(図10参照)が駆動されて、ギヤ120が図15において反時計回りに回転すると、ギヤ118,119が図15において時計回りに回転する。これにより、待機位置のメンテナンス機構60は、後傾斜向き4へ移動する(図14参照)。 Specifically, first, the controller 130 drives the shaft motor 59 to change the position of the first support mechanism 51 from the first position to the second position (see Figure 15). At this time, the maintenance mechanism 60 is supported by the second support mechanism 52, and the rack 154 is engaged with both gears 118 and 119. In this state, when the second motor 56 (see Figure 10) is driven and the gear 120 rotates counterclockwise in Figure 15, the gears 118 and 119 rotate clockwise in Figure 15. As a result, the maintenance mechanism 60 in the standby position moves to the rearward tilt orientation 4 (see Figure 14).
コントローラ130は、第1モータ55を駆動する。これにより、ギヤ106が図14において反時計回りに回転するため、ギヤ105が時計回りに回転し、第2支持機構52からスライド移動したメンテナンス機構60が第1支持機構51上に到達する(図13参照)。 The controller 130 drives the first motor 55. This causes the gear 106 to rotate counterclockwise in FIG. 14, which in turn causes the gear 105 to rotate clockwise, causing the maintenance mechanism 60, which has slid from the second support mechanism 52, to reach the first support mechanism 51 (see FIG. 13).
メンテナンス機構60が第1支持機構51に支持された状態において、軸モータ59(図10参照)が駆動されることによって、第1支持機構51が第2姿勢から第1姿勢へ回動される。そして、ヘッド38が被ワイピング位置から被キャッピング位置に移動される。これにより、メンテナンス機構60は、メンテナンス位置に位置する(図11参照)。メンテナンス位置のメンテナンス機構60は、ヘッド38と第1姿勢の第1支持機構51との間に位置している。 With the maintenance mechanism 60 supported by the first support mechanism 51, the shaft motor 59 (see Figure 10) is driven to rotate the first support mechanism 51 from the second position to the first position. The head 38 is then moved from the wiped position to the capped position. This positions the maintenance mechanism 60 at the maintenance position (see Figure 11). The maintenance mechanism 60 in the maintenance position is located between the head 38 and the first support mechanism 51 in the first position.
[実施形態における作用効果]
支持台61を、スポンジワイパ64がノズル面50をワイピングするメンテナンス位置から待機位置へ移動させる前に、戻りポンプ75を駆動して液体流路153内の含浸液Lを排出する。このため、支持台61が移動するときに液体流路153から含浸液Lが漏れ出すのを抑制することができる。
[Effects of the embodiment]
Before the support base 61 is moved from the maintenance position where the sponge wiper 64 wipes the nozzle surface 50 to the standby position, the return pump 75 is driven to discharge the impregnating liquid L from the liquid flow path 153. This makes it possible to prevent the impregnating liquid L from leaking from the liquid flow path 153 when the support base 61 moves.
支持台61をメンテナンス位置から待機位置に移動させたときに戻りポンプ75を駆動して含浸液Lを液体流路153から排出することで、液体流路153内の含浸液Lを時間をおいて排出することができる。このため、液体流路153に含浸液Lが残留するのを抑制することができる。 When the support base 61 is moved from the maintenance position to the standby position, the return pump 75 is driven to discharge the impregnating liquid L from the liquid flow path 153, allowing the impregnating liquid L in the liquid flow path 153 to be discharged over time. This prevents the impregnating liquid L from remaining in the liquid flow path 153.
含浸液流通バルブ84を開閉させて含浸液タンク76を外部と連通させたり、外部から閉塞させたりすることによって、含浸液Lを含浸液タンク76と液体流路153との間で環流させるか、液体流路153から含浸液タンク76へ排出させるか、切り替えることができる。 By opening and closing the impregnation liquid flow valve 84 to connect the impregnation liquid tank 76 to the outside or to close it from the outside, it is possible to switch between circulating the impregnation liquid L between the impregnation liquid tank 76 and the liquid flow path 153, or discharging the impregnation liquid L from the liquid flow path 153 to the impregnation liquid tank 76.
複数のスポンジワイパ64を一本の液体流路153で直列に接続して、複数のスポンジワイパ64に一度に含浸液Lを供給することができる。 Multiple sponge wipers 64 can be connected in series with a single liquid flow path 153, allowing the impregnating liquid L to be supplied to multiple sponge wipers 64 at once.
支持台61の姿勢を第1支持機構51によって第2姿勢にすることで、支持台61を傾斜方向へスライドさせることができる。 By setting the position of the support base 61 to the second position using the first support mechanism 51, the support base 61 can be slid in the tilted direction.
第1支持機構51を第2姿勢に姿勢変化させて、傾斜した状態の支持台61の液体流路153から含浸液Lを排出するため、支持台61が傾斜した状態で移動するときに液体流路153から含浸液Lが漏れ出すのを抑制できる。
The first support mechanism 51 is changed to the second position to discharge the impregnating liquid L from the liquid flow path 153 of the support base 61 in an inclined state, thereby preventing the impregnating liquid L from leaking from the liquid flow path 153 when the support base 61 moves in an inclined state.
第1支持機構51を第2姿勢にすることで支持台61の第2流路153Cが第1流路153Aよりも下方に位置するため、液体流路153の含浸液Lが第1流路153Aから第2流路153Cへ流れる。含浸液Lが第2流路153Cに溜まることで、含浸液Lは第2流路153Cに位置する戻りポンプ75によって残留することなく含浸液タンク76へ排出される。 By placing the first support mechanism 51 in the second position, the second flow path 153C of the support base 61 is positioned lower than the first flow path 153A, causing the impregnating liquid L in the liquid flow path 153 to flow from the first flow path 153A to the second flow path 153C. As the impregnating liquid L accumulates in the second flow path 153C, it is discharged to the impregnating liquid tank 76 by the return pump 75 located in the second flow path 153C without any residue.
スポンジワイパ64への含浸液Lの供給が支持台61がアンキャップ位置に移動する前に行われるため、スポンジワイパ64に含浸液Lを浸漬させる時間を十分に確保することができる。これにより、ノズル面50を払拭する前においてスポンジワイパ64に含浸液Lを確実に浸漬させることができる。また、パージ処理においてもアンキャップ位置に移動する前に含浸液Lが供給され、スポンジワイパ64に含浸液Lを確実に浸漬させることができる。 Because the impregnating liquid L is supplied to the sponge wiper 64 before the support base 61 moves to the uncap position, sufficient time is ensured for the sponge wiper 64 to be soaked in the impregnating liquid L. This ensures that the sponge wiper 64 is soaked in the impregnating liquid L before wiping the nozzle surface 50. Furthermore, during the purging process, the impregnating liquid L is supplied before the support base 61 moves to the uncap position, ensuring that the sponge wiper 64 is soaked in the impregnating liquid L.
[変形例]
画像記録装置100では、液体流路153は、左右方向9に延びてUターンするように折り返すU字形状に形成されたが、液体流路153を流通する含浸液Lがスポンジワイパ64に接触できれば、U字形状に限定されることはない。液体流路153は、例えば、左右方向9に延びる直線状に形成されてもよい。
[Variations]
In the image recording device 100, the liquid flow path 153 is formed in a U-shape that extends in the left-right direction 9 and makes a U-turn, but the shape is not limited to a U-shape as long as the impregnating liquid L flowing through the liquid flow path 153 can come into contact with the sponge wiper 64. The liquid flow path 153 may be formed, for example, in a straight line that extends in the left-right direction 9.
画像記録装置100では、スポンジワイパ64は、3つのスポンジワイパ64A,64B,64Cを有したが、スポンジワイパ64の数は、吐出モジュール49Aの数に対応していれば、3つに限定されることはない。例えば、スポンジワイパ64の数は、4つ以上でもよく、2つ以下でもよい。 In the image recording device 100, the sponge wipers 64 include three sponge wipers 64A, 64B, and 64C, but the number of sponge wipers 64 is not limited to three as long as it corresponds to the number of ejection modules 49A. For example, the number of sponge wipers 64 may be four or more, or two or less.
画像記録装置100では、支持台61に3つのゴムワイパ63A,63B,63Cが設けられたが、ゴムワイパ63の数は、吐出モジュール49Aの数に対応していれば、特に限定されることはない。例えば、ゴムワイパ63の数は、4つ以上でもよく、2つ以下でもよい。また、ゴムワイパ63は、省略されてもよい。 In the image recording device 100, three rubber wipers 63A, 63B, and 63C are provided on the support base 61, but the number of rubber wipers 63 is not particularly limited as long as it corresponds to the number of ejection modules 49A. For example, the number of rubber wipers 63 may be four or more, or two or less. Furthermore, the rubber wipers 63 may be omitted.
画像記録装置100では、メンテナンス機構60は、メンテナンス位置から前方へ移動することにより、ワイピング位置へ移動したが、メンテナンス位置から後方へ移動することにより、ワイピング位置へ移動してもよい。この場合、スポンジワイパ64は、ゴムワイパ63の後方に配置されてもよい。 In the image recording device 100, the maintenance mechanism 60 moves from the maintenance position forward to the wiping position, but it may also move from the maintenance position backward to the wiping position. In this case, the sponge wiper 64 may be positioned behind the rubber wiper 63.
画像記録装置100では、ワイピング処理において、ヘッド38が被ワイピング位置にある状態で、スポンジワイパ64及びゴムワイパ63がヘッド38に対して移動したが、スポンジワイパ64及びゴムワイパ63の位置が固定された状態で、ヘッド38がスポンジワイパ64及びゴムワイパ63に対して移動してもよい。 In the image recording device 100, during the wiping process, the sponge wiper 64 and rubber wiper 63 move relative to the head 38 while the head 38 is in the wiped position. However, the head 38 may also move relative to the sponge wiper 64 and rubber wiper 63 while the positions of the sponge wiper 64 and rubber wiper 63 are fixed.
画像記録装置100では、メンテナンス機構60が第1支持機構51と第2支持機構52とに支持されており、メンテナンス機構60がメンテナンス位置と待機位置とに移動する際、第1支持機構51と第2支持機構52との間で受け渡される場合を例にあげて説明したが、この構成に限らない。第1支持機構51と第2支持機構52は、例えば、一体に形成されており第1姿勢と第2姿勢とに姿勢変化可能なものであってもよく、メンテナンス機構60が、これによって支持されるものであってもよい。 In the image recording device 100, the maintenance mechanism 60 is supported by the first support mechanism 51 and the second support mechanism 52, and is handed over between the first support mechanism 51 and the second support mechanism 52 as the maintenance mechanism 60 moves between the maintenance position and the standby position. However, this configuration is not limited to this. The first support mechanism 51 and the second support mechanism 52 may be integrally formed and capable of changing their position between the first and second positions, and the maintenance mechanism 60 may be supported thereby.
38・・・ヘッド
38A・・・ノズル
50・・・ノズル面
51・・・第1支持機構(支持部材)
53・・・搬送モータ(駆動部)
61・・・支持台
62・・・キャップ
64・・・スポンジワイパ(吸水性ワイパ)
74・・・吸引ポンプ(第2ポンプ)
75・・・戻りポンプ(第1ポンプ)
76・・・含侵液タンク(タンク)
77・・・廃液タンク
100・・・画像記録装置(液体吐出装置)
130・・・コントローラ(制御部)
83・・・大気連通路
84・・・含浸液流通バルブ(バルブ)
153・・・液体流路
153A・・・第1流路
153C・・・第2流路
178・・・第1廃液チューブ(廃液流路)
L・・・含浸液
38: head 38A: nozzle 50: nozzle surface 51: first support mechanism (support member)
53...Transport motor (drive unit)
61: Support base 62: Cap 64: Sponge wiper (water-absorbent wiper)
74...Suction pump (second pump)
75...Return pump (first pump)
76... Impregnation liquid tank (tank)
77: Waste liquid tank 100: Image recording device (liquid ejection device)
130: Controller (control unit)
83: Atmosphere communication passage 84: Impregnation liquid flow valve (valve)
153: Liquid flow path 153A: First flow path 153C: Second flow path 178: First waste liquid tube (waste liquid flow path)
L...Impregnation liquid
Claims (10)
吸水性ワイパと、
上記吸水性ワイパを支持する支持台と、
上記支持台において上記吸水性ワイパに沿って延びており、少なくとも上記吸水性ワイパに沿った一部分において上向きに開口して含浸液が流通する液体流路と、
上記含浸液を貯留するタンクと、
上記タンクから上記液体流路へ含浸液を流通させる第1ポンプと、
上記支持台を、待機位置と上記吸水性ワイパが上記ノズル面をワイピングするためのメンテナンス位置とに移動させる駆動部と、
制御部と、を備えており、
上記制御部は、
上記支持台を上記メンテナンス位置に位置させ、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路に含浸液を流通させて、上記ワイピングを実行し、
上記支持台を上記メンテナンス位置から上記待機位置に移動させる前に、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路から含浸液を排出し、
上記支持台を上記メンテナンス位置から上記待機位置に移動させて、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路から含浸液を排出する液体吐出装置。 a head that ejects liquid from nozzles that open on a nozzle surface;
an absorbent wiper;
a support base for supporting the water-absorbent wiper;
a liquid flow path extending along the absorbent wiper on the support base and opening upward at least in a portion along the absorbent wiper, through which the impregnating liquid flows;
a tank for storing the impregnation liquid;
a first pump that causes the impregnation liquid to flow from the tank to the liquid flow path;
a drive unit that moves the support base between a standby position and a maintenance position where the water-absorbent wiper wipes the nozzle surface;
a control unit; and
The control unit
positioning the support base at the maintenance position, driving the first pump to circulate the impregnating liquid through the liquid flow path, and performing the wiping;
before moving the support base from the maintenance position to the standby position, driving the first pump to discharge the impregnating liquid from the liquid flow path ;
The liquid discharge device moves the support base from the maintenance position to the standby position, and drives the first pump to discharge the impregnating liquid from the liquid flow path .
上記液体流路は、上記タンクに対して含浸液を環流する流路であり、
上記制御部は、
上記液体流路から含浸液を上記タンクへ排出するときに上記バルブを開き、上記タンクから上記液体流路に含浸液を供給するときに上記バルブを閉じる請求項1に記載の液体吐出装置。 a valve for opening and closing an atmosphere communication passage that connects the tank with the outside,
the liquid flow path is a flow path for circulating the impregnation liquid to the tank,
The control unit
2. The liquid ejection device according to claim 1 , wherein the valve is opened when the impregnating liquid is discharged from the liquid flow path to the tank, and the valve is closed when the impregnating liquid is supplied from the tank to the liquid flow path.
吸水性ワイパと、an absorbent wiper;
上記吸水性ワイパを支持する支持台と、a support base for supporting the water-absorbent wiper;
上記支持台において上記吸水性ワイパに沿って延びており、少なくとも上記吸水性ワイパに沿った一部分において上向きに開口して含浸液が流通する液体流路と、a liquid flow path extending along the absorbent wiper on the support base and opening upward at least in a portion along the absorbent wiper, through which the impregnating liquid flows;
上記含浸液を貯留するタンクと、a tank for storing the impregnation liquid;
上記タンクから上記液体流路へ含浸液を流通させる第1ポンプと、a first pump that causes the impregnation liquid to flow from the tank to the liquid flow path;
上記支持台を、待機位置と上記吸水性ワイパが上記ノズル面をワイピングするためのメンテナンス位置とに移動させる駆動部と、a drive unit that moves the support base between a standby position and a maintenance position where the water-absorbent wiper wipes the nozzle surface;
上記タンクと外部とを連通する大気連通路を開閉するバルブと、a valve for opening and closing an atmosphere communication passage that connects the tank with the outside;
制御部と、を備えており、a control unit; and
上記液体流路は、上記タンクに対して含浸液を環流する流路であり、the liquid flow path is a flow path for circulating the impregnation liquid to the tank,
上記制御部は、The control unit
上記支持台を上記メンテナンス位置に位置させ、上記バルブを閉じ、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路に含浸液を流通させて、上記ワイピングを実行し、positioning the support stand at the maintenance position, closing the valve, and driving the first pump to circulate the impregnating liquid through the liquid flow path, thereby performing the wiping;
上記支持台を上記メンテナンス位置から上記待機位置に移動させる前に、上記バルブを開き、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路から含浸液を上記タンクへ排出する液体吐出装置。a liquid discharge device that opens the valve and drives the first pump to discharge the impregnating liquid from the liquid flow path to the tank before moving the support base from the maintenance position to the standby position;
上記支持部材は、上記液体流路の開口が上向きとなる第1姿勢と、上記液体流路の開口が上下方向に対して傾斜する第2姿勢とに姿勢変化する請求項1から3のいずれかに記載の液体吐出装置。 The apparatus further includes a support member that slidably supports the support base,
4. The liquid ejection device according to claim 1, wherein the support member changes its position between a first position in which the opening of the liquid flow path faces upward and a second position in which the opening of the liquid flow path is inclined relative to the vertical direction.
吸水性ワイパと、an absorbent wiper;
上記吸水性ワイパを支持する支持台と、a support base for supporting the water-absorbent wiper;
上記支持台において上記吸水性ワイパに沿って延びており、少なくとも上記吸水性ワイパに沿った一部分において上向きに開口して含浸液が流通する液体流路と、a liquid flow path extending along the absorbent wiper on the support base and opening upward at least in a portion along the absorbent wiper, through which the impregnating liquid flows;
上記含浸液を貯留するタンクと、a tank for storing the impregnation liquid;
上記タンクから上記液体流路へ含浸液を流通させる第1ポンプと、a first pump that causes the impregnation liquid to flow from the tank to the liquid flow path;
上記支持台を、待機位置と上記吸水性ワイパが上記ノズル面をワイピングするためのメンテナンス位置とに移動させる駆動部と、a drive unit that moves the support base between a standby position and a maintenance position where the water-absorbent wiper wipes the nozzle surface;
上記支持台をスライド自在に支持する支持部材と、a support member that slidably supports the support base;
制御部と、を備えており、a control unit; and
上記制御部は、The control unit
上記支持台を上記メンテナンス位置に位置させ、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路に含浸液を流通させて、上記ワイピングを実行し、positioning the support base at the maintenance position, driving the first pump to circulate the impregnating liquid through the liquid flow path, and performing the wiping;
上記支持台を上記メンテナンス位置から上記待機位置に移動させる前に、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路から含浸液を排出し、before moving the support base from the maintenance position to the standby position, driving the first pump to discharge the impregnating liquid from the liquid flow path;
上記支持部材は、上記液体流路の開口が上向きとなる第1姿勢と、上記液体流路の開口が上下方向に対して傾斜する第2姿勢とに姿勢変化する液体吐出装置。The liquid ejection device wherein the support member changes its position between a first position in which the opening of the liquid flow path faces upward and a second position in which the opening of the liquid flow path is inclined relative to the up-down direction.
上記支持台は、上記第2姿勢において上記第2流路が上記第1流路よりも下方に位置するように傾き、
上記第1ポンプは、上記第2流路に位置する請求項4から6のいずれかに記載の液体吐出装置。 the liquid flow path includes a first flow path upstream of the water-absorbent wiper and a second flow path downstream of the water-absorbent wiper;
the support base is inclined in the second attitude so that the second flow path is positioned lower than the first flow path,
7. The liquid ejection device according to claim 4 , wherein the first pump is located in the second flow path.
上記液体流路は、複数の上記吸水性ワイパを直列に接続するように延びている請求項1から7のいずれかに記載の液体吐出装置。8. The liquid ejection device according to claim 1, wherein the liquid flow path extends so as to connect a plurality of the water-absorbent wipers in series.
上記キャップ内から含浸液を排出する第2ポンプと、
廃液タンクと、
上記キャップと上記廃液タンクとを繋ぐ廃液流路と、をさらに備えており、
上記支持台は、上記キャップが上記ヘッドのノズル面に当接するキャップ位置と、上記キャップが上記ヘッドのノズル面から離れるアンキャップ位置と、に移動可能であり、
上記制御部は、
上記支持台を上記キャップ位置に移動して、上記第2ポンプを駆動するパージ処理を実行し、
上記支持台を上記アンキャップ位置に移動する前に上記第1ポンプを駆動して上記液体流路に含浸液を供給する請求項1から8のいずれかに記載の液体吐出装置。 a cap supported by the support base;
a second pump that discharges the impregnating liquid from inside the cap;
A waste tank;
a waste liquid flow path connecting the cap and the waste liquid tank,
the support base is movable between a cap position where the cap comes into contact with the nozzle face of the head and an uncapped position where the cap is separated from the nozzle face of the head,
The control unit
moving the support base to the cap position and performing a purge process by driving the second pump;
9. The liquid ejection device according to claim 1, wherein the first pump is driven to supply the impregnation liquid to the liquid flow path before the support base is moved to the uncapped position.
吸水性ワイパと、an absorbent wiper;
上記吸水性ワイパを支持する支持台と、a support base for supporting the water-absorbent wiper;
上記支持台において上記吸水性ワイパに沿って延びており、少なくとも上記吸水性ワイパに沿った一部分において上向きに開口して含浸液が流通する液体流路と、a liquid flow path extending along the absorbent wiper on the support base and opening upward at least in a portion along the absorbent wiper, through which the impregnating liquid flows;
上記含浸液を貯留するタンクと、a tank for storing the impregnation liquid;
上記タンクから上記液体流路へ含浸液を流通させる第1ポンプと、a first pump that causes the impregnation liquid to flow from the tank to the liquid flow path;
上記支持台を、待機位置と上記吸水性ワイパが上記ノズル面をワイピングするためのメンテナンス位置とに移動させる駆動部と、a drive unit that moves the support base between a standby position and a maintenance position where the water-absorbent wiper wipes the nozzle surface;
上記支持台に支持されたキャップと、a cap supported by the support base;
上記キャップ内から含浸液を排出する第2ポンプと、a second pump that discharges the impregnating liquid from inside the cap;
廃液タンクと、A waste tank;
上記キャップと上記廃液タンクとを繋ぐ廃液流路と、a waste liquid flow path connecting the cap and the waste liquid tank;
制御部と、を備えており、a control unit; and
上記支持台は、上記キャップが上記ヘッドのノズル面に当接するキャップ位置と、上記キャップが上記ヘッドのノズル面から離れるアンキャップ位置と、に移動可能であり、the support base is movable between a cap position where the cap comes into contact with the nozzle face of the head and an uncapped position where the cap is separated from the nozzle face of the head,
上記制御部は、The control unit
上記支持台を上記キャップ位置に移動して、上記第2ポンプを駆動するパージ処理を実行し、moving the support base to the cap position and performing a purge process by driving the second pump;
上記支持台を上記アンキャップ位置に移動する前に上記第1ポンプを駆動して上記液体流路に含浸液を供給し、before moving the support base to the uncapped position, driving the first pump to supply the impregnating liquid to the liquid flow path;
上記支持台を上記メンテナンス位置に位置させ、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路に含浸液を流通させて、上記ワイピングを実行し、positioning the support base at the maintenance position, driving the first pump to circulate the impregnating liquid through the liquid flow path, and performing the wiping;
上記支持台を上記メンテナンス位置から上記待機位置に移動させる前に、上記第1ポンプを駆動して上記液体流路から含浸液を排出する液体吐出装置。The liquid discharge device drives the first pump to discharge the impregnating liquid from the liquid flow path before the support base is moved from the maintenance position to the standby position.
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