JP7795690B2

JP7795690B2 - プローブ位置モニタリング構造及びプローブの位置をモニタリングする方法

Info

Publication number: JP7795690B2
Application number: JP2021136765A
Authority: JP
Inventors: 泰伸鳥居
Original assignee: ユナイテッド・セミコンダクター・ジャパン株式会社
Priority date: 2020-09-02
Filing date: 2021-08-25
Publication date: 2026-01-08
Anticipated expiration: 2041-08-25
Also published as: US12339315B2; US20240264225A1; US20220065925A1; JP2022042488A; US11714123B2; US11994556B2; US20230314504A1

Description

１．技術分野
本発明は、プローブ位置モニタリング構造及びプローブの位置をモニタリングする方法に関し、特に、接触部にジグザグ構造を含むプローブ位置モニタリング構造、及びプローブ位置モニタリング構造を有するプローブの位置をモニタリングする方法に関する。

２．背景技術
集積回路の製造は関連技術が進歩するにつれて進歩を続けている。多くの種類の電気回路が集積され、単一のチップ上に形成されることが可能である。チップを製造するための半導体プロセスは、薄膜を形成するための堆積プロセス、フォトレジスト・コーティング・プロセス、露光プロセス、パターニングされたフォトレジストを形成するための現像プロセス、及び薄膜をパターニングするためのエッチング・プロセス等の多くのステップを含む可能性がある。上記のプロセスは、集積回路及び／又は対応するチップを基板（例えば、ウェファ）上に形成するために反復的に実行される可能性がある。製造プロセスの途中及び／又は後に直接的にチップに対して及び／又は基板上の要素グループに対して、多くの検査を実行することが要求される。一般に、検査プローブは、上述の検査において検査パッドに接触するように使用され、検査プローブが検査パッドと正確に接触していない場合、検査エレメント・グループ及び／又はチップの状態は、検査結果によって誤って判定されてしまう可能性がある。従って、検査結果を利用して検査対象物の状態を判定する前に、検査プローブの位置をモニタリングし、検査プローブが対応する検査パッドと正確に接触していることを確実にすることは重要である。

プローブ位置モニタリング構造及びプローブの位置をモニタリングする方法が本発明において提供される。プローブ位置モニタリング構造の接触部は、抵抗測定に使用されるジグザグ構造を含み、その場合にプローブはジグザグ構造に直接的に接触し、プローブの位置は、共通ラインとプローブとの間のジグザグ構造の抵抗を測定することによってモニタリングされることが可能である。

本発明の実施形態によれば、プローブ位置モニタリング構造が提供される。プローブ位置モニタリング構造は、第１共通ラインとプローブに直接的に接触するように構成された接触部とを含む。接触部は第１ジグザグ構造を含み、第１ジグザグ構造の第１端部は第１共通ラインに直接的に接続される。

本発明の実施形態によれば、プローブの位置をモニタリングする方法が提供される。本方法は以下のステップを含む。プローブ位置モニタリング構造が提供される。プローブ位置モニタリング構造は第１共通ラインと接触部とを含む。接触部は第１ジグザグ構造を含み、第１ジグザグ構造の第１端部は、第１共通ラインに直接的に接続される。第１ジグザグ構造は第１プローブに直接的に接触する。抵抗測定は、第１プローブの位置をモニタリングするために、第１プローブと第１端部との間に位置する第１ジグザグ構造の部分の抵抗を測定するように実行される。

本発明のこれら及び他の目的は、種々の図及び図面に示される好ましい実施形態の以下の詳細な説明を読んだ後に当業者にとって間違いなく明らかになるであろう。

本発明の第１実施形態によるプローブ位置モニタリング構造を示す概略図である。

本発明の第１実施形態によるプローブ位置モニタリング構造の部分拡大図を示す概略図である。

図２の線Ａ－Ａ’に沿った断面図である。

本発明の実施形態によるプローブ位置モニタリング構造を含む半導体ウェファを示す概略図である。

本発明の実施形態による第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。

第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図６Ａは、第１プローブ及び第２プローブによる２点測定ステップを示す。第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図６Ｂは、第２プローブ及び第３プローブによる２点測定ステップを示す。第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図６Ｃは、第１プローブ及び第３プローブによる２点測定ステップを示す。

第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図７Ａは、第１プローブ、第２プローブ、及び第３プローブによる３点測定ステップを示す。第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図７Ｂは、第１プローブ、第２プローブ、及び第３プローブによる別の３点測定ステップを示す。第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図７Ｃは、第１プローブ、第２プローブ、及び第３プローブによる更に別の３点測定ステップを示す。

第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図８Ａは、第１プローブ、第２プローブ、及び第３プローブによる３点測定ステップを示す。第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図８Ｂは、第１プローブ、第２プローブ、及び第３プローブによる別の３点測定ステップを示す。第１実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする本発明の別の実施形態による方法を示す概略図であり、図８Ｃは、第１プローブ、第２プローブ、及び第３プローブによる更に別の３点測定ステップを示す。

本発明の第２実施形態によるプローブ位置モニタリング構造を示す概略図である。

本発明の一実施形態による第２実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図であり、図１０Ａは、第１プローブ及び第２プローブによる２点測定ステップを示す。は、本発明の一実施形態による第２実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図であり、図１０Ｂは、第２プローブ及び第３プローブによる２点測定ステップを示す。

本発明の第３実施形態によるプローブ位置モニタリング構造を示す概略図である。

第３実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。

本発明の第４実施形態によるプローブ位置モニタリング構造を示す概略図である。

第４実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図であり、図１４Ａは、第１プローブ、第２プローブ、第３プローブ、及び第４プローブによる４点測定ステップを示す。第４実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図であり、図１４Ｂは、第１プローブ、第２プローブ、第５プローブ、及び第６プローブによる別の４点測定ステップを示す。第４実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図であり、図１４Ｃは、第１プローブ、第３プローブ、第４プローブ、及び第５プローブによる更に別の４点測定ステップを示す。

本発明の第５実施形態によるプローブ位置モニタリング構造を示す概略図である。

第５実施形態のプローブ位置モニタリング構造によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。

具体的な構成及び配置が議論されているが、これは例示的な目的だけのために行われていることが理解されるべきである。当業者は、本開示の精神及び範囲から逸脱することなく、他の構成及び配置が使用され得ることを認識するであろう。本発明はまた種々の他のアプリケーションにも使用され得ることは当業者にとって明らかであろう。

「一実施形態」、「実施形態」、「幾つかの実施形態」等に対する明細書中での参照は、説明される実施形態が特定の特長、構造、又は特徴を含む可能性があるが、必ずしも全ての実施形態がその特定の特長、構造、又は特徴を含むとは限らないことを示すことに留意されたい。また、このような語句は、必ずしも同一の実施形態を意味するものでもない。更に、特定の特長、構造又は特徴が実施形態に関連して説明される場合、明示的に説明されているか否かにかかわらず、そのような特長、構造又は特徴を他の実施形態に適用することは、当業者の知識の範囲内であろう。

本明細書において、第１、第２などの用語は、種々の要素、構成要素、領域、層、及び／又はセクションを記述するために使用される可能性があるが、これらの要素、構成要素、領域、層、及び／又はセクションは、これらの用語によって限定されるべきではないことが理解されるべきである。これらの用語は、１つの要素、構成要素、領域、層及び／又はセクションを別のものから区別するだけのために使用される。従って、以下に説明される第１の要素、構成要素、領域、層又はセクションは、本開示の教示から逸脱することなく、第２の要素、構成要素、領域、層又はセクションと言及することが可能である。

本開示における「～に」、「～の上に」及び「～上に」の意味は、「～に」が何かを「直接的に～に」を意味するだけでなく、それらの間に中間的な特徴又は層とともに何か「に」という意味を含むように広義に解釈されるべきであること、及び、「～の上に」又は「～を超えて」は何か「の上方に」又は「を超えて」という意味を示すだけでなく、それらの間に中間的な特徴又は層がない状態で（即ち、何かの上に直接的に）何か「の上方に」又は「を超えて」いる意味を含むことも可能であることが、理解されるべきである。

図１は本発明の第１実施形態によるプローブ位置モニタリング構造を示す概略図であり、図２はプローブ位置モニタリング構造の部分拡大図を示す概略図である。図１及び図２に示すように、本実施形態では、プローブ位置モニタリング構造１０１が提供される。プローブ位置モニタリング構造１０１は、第１共通ラインＣＬ１と、プローブ（図１及び図２に示される第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び／又は第３プローブＰＲ３など）と直接的に接触するように構成された接触部ＣＴとを含む。接触部ＣＴは第１ジグザグ構造ＺＳ１を含み、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１は、第１共通ラインＣＬ１と直接的に接続されている。幾つかの実施形態において、第１ジグザグ構造ＺＳ１は、垂直方向（例えば、図１及び図２で示されている第３方向Ｄ３）でプローブと直接的に接触するように水平方向（例えば、図１及び図２で示されている第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２）に延在することが可能であるが、これに限定されない。例えば、第１ジグザグ構造ＺＳ１は、複数の第１セクションＳＣ１及び複数の第２セクションＳＣ２を含むことが可能である。第１セクションＳＣ１の各々は第１方向Ｄ１に延長されることが可能であり、第１セクションＳＣ１は、第２方向Ｄ２に繰り返し配置され、互いに平行に配置されることが可能である。第２セクションＳＣ２の各々は、第２方向Ｄ２に延長され、第２方向Ｄ２で互いに隣接して配置された第１セクションＳＣ１のうちの２つに直接的に接続されることが可能である。換言すれば、第１ジグザグ構造ＺＳ１には、第１セクションＳＣ１及び第２セクションＳＣ２により構成されるＳ字状の構造が存在する。第２方向Ｄ２は、第１方向Ｄ１とは異なる。幾つかの実施形態において、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２は直交して互いに垂直であってもよいが、これに限定されない。

更に、第１ジグザグ構造ＺＳ１は、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第３セクションＳＣ３を介して第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されることが可能であり、第３セクションＳＣ３は第２方向Ｄ２に延長されることが可能である。第３セクションＳＣ３の一方端（例えば、第１端部Ｅ１１）は、第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されてもよく、第２方向における第３セクションＳＣ３の他方端は、第１共通ラインＣＬ１に隣接する第１セクションＳＣ１のうちの１つに直接的に接続されてもよい。幾つかの実施形態において、第１ジグザグ構造ＺＳ１のセクションの線幅は、第１プローブＰＲ１の位置をモニタリングするために、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さ（例えば、図２に示される長さＬ１１）を計算するためには、互いに等しいことが好ましいかもしれない。換言すれば、第１セクションＳＣ１各々の幅Ｗ１、第２セクションＳＣ２各々の幅Ｗ２、及び第３セクションＳＣ３幅Ｗ３は、互いに実質的に等しくてもよいが、これらに限定されない。幾つかの実施形態において、上述の第１プローブＰＲ１と第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さの計算において、第１共通ラインＣＬ１の抵抗を無視するために、第１セクションＳＣ１各々の幅Ｗ１は第１共通ラインＣＬ１の幅Ｗ４より小さくてもよい。例えば、第１セクションＳＣ１各々の幅Ｗ１に対する第１共通ラインＣＬ１の幅Ｗ４の比率（Ｗ４／Ｗ１）は、５～２００の範囲に及んでよいが、これに限定されない。

幾つかの実施形態では、プローブ位置モニタリング構造１０１における接触部ＣＴは、第２ジグザグ構造ＺＳ２及び第３ジグザグ構造ＺＳ３を更に含む可能性がある。第１ジグザグ構造ＺＳ１、第２ジグザグ構造ＺＳ２、及び第３ジグザグ構造ＺＳ３は、第１方向Ｄ１に整列していてもよく、第１ジグザグ構造ＺＳ１と接触する第１プローブＰＲ１、第２ジグザグ構造ＺＳ２と接触する第２プローブＰＲ２、及び第３ジグザグ構造ＺＳ３と接触する第３プローブＰＲ３の位置をモニタリングするために、第１ジグザグ構造ＺＳ１のパターン、第２ジグザグ構造ＺＳ２のパターン、及び第３ジグザグ構造ＺＳ３のパターンは第３方向Ｄ３において互いに同一であってもよいが、これらに限定されない。幾つかの実施形態では、第２ジグザグ構造ＺＳ２の第１端部Ｅ２１及び第３ジグザグ構造ＺＳ３の第１端部Ｅ３１は、それぞれ、第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されてもよく、第１ジグザグ構造ＺＳ１、第２ジグザグ構造ＺＳ２、第３ジグザグ構造ＺＳ３、及び第１共通ラインＣＬ１は、１つの導電層（誘電体材料に埋め込まれた金属層など）の異なる部分であってもよいが、これに限定されない。

図３は、図２の線Ａ－Ａ’に沿った断面図である。図１－３に示すように、プローブ位置モニタリング構造１０１は、層間誘電体ＩＬＤを更に含んでもよく、第１共通ラインＣＬ１及び接触部ＣＴは、少なくとも部分的に層間誘電体ＩＬＤ内に配置されてもよい。幾つかの実施形態において、複数の導電層（例えば、図３に示される金属層Ｍ１、金属層Ｍ２、金属層Ｍ３及び金属層Ｍ４）は、層間誘電体ＩＬＤの中に配置され、積層構造（例えば、図３に示される積層された金属層ＳＭ）を形成するために、第３方向Ｄ３に互いに積層されてもよい。なお、第３方向Ｄ３は層間誘電体ＩＬＤの垂直方向及び厚み方向と言及され、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２は第３方向Ｄ３に直交する水平方向と言及されもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態では、積層金属層ＳＭ内の１つ以上の金属層が、上述の第１共通ラインＣＬ１及び接触部ＣＴを形成するために使用される可能性がある。例えば、第１共通ラインＣＬ１は、第１層（金属層Ｍ１の第１部分Ｍ１１など）、第２層（金属層Ｍ２の第１部分Ｍ２１など）、第３層（金属層Ｍ３の第１部分Ｍ３１など）、及び第４層（金属層Ｍ４の第１部分Ｍ４など）を第３方向Ｄ３に積層して含むことが可能であり、第１ジグザグ構造ＺＳ１は、第１層（金属層Ｍ１の第２部分Ｍ１２など）、第２層（金属層Ｍ２の第２部分Ｍ２２など）、第３層（金属層Ｍ３の第２部分Ｍ３２など）、及び第４層（金属層Ｍ４の第２部分Ｍ４など）を、第３方向Ｄ３に積層し且つ層間誘電体ＩＬＤの部分によって互いに分離して含むことが可能であるが、これらに限定されない。幾つかの実施形態において、第１共通ラインＣＬ１は、金属層Ｍ４の第１部分Ｍ４１のみから構成されてもよく、接触部ＣＴは、金属層Ｍ４の第２部分Ｍ４２から構成されてもよく、それに応じて第１共通ラインＣＬ１及び接触部ＣＴは、少なくとも、積層金属層ＳＭの最上層に位置してもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態では、第１ジグザグ構造ＺＳ１、第２ジグザグ構造ＺＳ２、第３ジグザグ構造ＺＳ３、及び第１共通ラインＣＬ１は、１つの導電層（金属層Ｍ４など）の異なる部分であってもよいが、これらに限定されない。

幾つかの実施形態において、接続プラグ（図３に示される接続プラグＶ１、接続プラグＶ２及び接続プラグＶ３等）は、金属層Ｍ１の第１部分Ｍ１１、金属層Ｍ２の第１部分Ｍ２１、金属層Ｍ３の第１部分Ｍ３１及び金属層Ｍ４の第１部分Ｍ４１を電気的に接続するために、第１共通ラインＣＬ１の金属層の間に配置されてもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態において、金属層Ｍ１、金属層Ｍ２、金属層Ｍ３及び金属層Ｍ４は、互いに電気的に絶縁されてもよく、金属層Ｍ１、金属層Ｍ２、金属層Ｍ３及び金属層Ｍ４は、電気的に浮遊していると考えられてもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態において、図２に示されるジグザグ構造のパターンは、第３方向Ｄ３における金属層Ｍ４の第２部分Ｍ４２のパターンと考えられてもよい。第３方向Ｄ３における金属層Ｍ３の第２部分Ｍ３２のパターン、第３方向Ｄ３における金属層Ｍ２の第２部分Ｍ２２のパターン、第３方向Ｄ３における金属層Ｍ１の第２部分Ｍ１２のパターンは、それぞれ、第３方向Ｄ３における金属層Ｍ４の第２部分Ｍ４２のパターンと同一であってよい。幾つかの実施形態では、積層金属層ＳＭ及び相互接続構造（図示せず）は、半導体製造方法における同一のバック・エンド・オブ・ライン（ＢＥＯＬ）プロセスによって同時に形成されてもよい。従って、金属層Ｍ４がＢＥＯＬプロセスの最後の金属層である場合、金属層Ｍ４の第２部分Ｍ４２は、最終検査測定ステップにおいてプローブと直接的に接触する可能性があり、金属層Ｍ３の第２部分Ｍ３２は、金属層Ｍ４を形成するステップの前に、イン・ライン検査測定ステップにおいてプローブと直接的に接触する可能性があり、金属層Ｍ２の第２部分Ｍ２２は、金属層Ｍ３を形成するステップの前に、イン・ライン検査測定ステップにおいてプローブと直接的に接触する可能性があり、金属層Ｍ１の第２部分Ｍ１２は、金属層Ｍ２を形成するステップの前に、イン・ライン検査測定ステップにおいてプローブと直接的に接触する可能性がある。幾つかの実施形態では、金属層Ｍ４の第２部分Ｍ４２、金属層Ｍ３の第２部分Ｍ３２、金属層Ｍ２の第２部分Ｍ２２、及び金属層Ｍ１の第２部分Ｍ１２は、現在の検査測定ステップの測定結果に対して先行する検査測定ステップによって生成された導電性残留物の影響を回避するために、層間誘電体ＩＬＤの部分によって互いに分離されてもよい。

幾つかの実施形態では、層間誘電体ＩＬＤは、上述のＢＥＯＬプロセスにおいて半導体基板（図１～３には示されていない半導体ウェファなど）上に形成されてもよく、層間誘電体ＩＬＤは、酸化シリコンなどの誘電体材料、低誘電定数（ｌｏｗ－ｋ）誘電体材料、又は他の適切な誘電体材料の単一層構造又は多層構造を含んでもよい。上記の（ｌｏｗ－ｋ）誘電体材料は、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）、水素シルセスキオキサン（ＨＳＱ）、メチルシルスキオキサン（ＭＳＱ）、水素化シリコン・オキシカーバイド（ＳｉＯＣ－Ｈ）、多孔質誘電体材料、又は、比較的低い誘電定数を有する他の適切な材料を含んでもよい。幾つかの実施形態では、金属層Ｍ１～Ｍ４及び接続プラグＶ１～Ｖ３は、それぞれ、障壁材料及び障壁材料上に配置された導電性材料を含んでもよい。バリア材料は、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、タンタル（Ｔａ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、又は他の適切な導電性バリア材料を含むことが可能であり、導電性材料は、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタニウム・アルミニウム（ＴｉＡｌ）、コバルト・タングステンリン化物（ＣｏＷＰ）、又は他の適切な金属導電性材料を含むことが可能である。幾つかの実施形態において、プローブ（第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３など）は、プローブ・カード構造（図示せず）に接続されたプローブ針であってもよく、プローブの材料は、タングステン、タングステン－レニウム（ＷＲｅ）、ベリリウム銅（ＢｅＣｕ）、又は他の適切な導電性材料を含んでもよい。

図４は、本発明の実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０１を含む半導体ウェファ１０を示す概略図である。図１及び図４に示すように、第１領域Ｒ１及び第１領域Ｒ１に隣接する第２領域Ｒ２が半導体ウェファ１０上に規定されてもよい。半導体チップ（図示せず）及び複数のコンタクト・パッドＴＰは、第１領域Ｒ１内に配置され、プローブ位置モニタリング構造１０１は、第２領域Ｒ２内に配置されてもよい。幾つかの実施形態では、第２領域Ｒ２は、ウェファ・ダイシング・プロセスにおける半導体チップ間のスクライブ領域であってもよく、半導体ウェファ１０の製造のためのマーク（位置合わせマークなど）、イン・ライン検査パッド、最終検査のための検査パッドは、第２領域Ｒ２内に配置されてもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態では、プローブ位置モニタリング構造１０１内の接触部ＣＴのジグザグ構造と接触するように構成されたプローブ（第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３など）と、イン・ライン検査パッド、最終検査のための検査パッド、及び／又は接触パッドＴＰと接触するように構成された他のプローブ針とは、同じプローブ・カード構造に接続されることが可能であり、それに応じて、プローブ針の位置は、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び／又は第３プローブＰＲ３の位置をモニタリングすることによって、相対的にモニタリングされることが可能である。

図５は、本発明の実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０１によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図１、図２、及び図５に示すように、プローブの位置をモニタリングする方法は、以下のステップを含むことが可能である。プローブ位置モニタリング構造１０１が設けられる。プローブ位置モニタリング構造１０１は、第１共通ラインＣＬ１と、プローブに直接的に接触するように構成された接触部ＣＴとを含む。接触部ＣＴは、第１ジグザグ構造ＺＳ１を含み、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１は、第１共通ラインＣＬ１と直接的に接続される。第１ジグザグ構造ＺＳ１は、第１プローブＰＲ１と直接的に接触する。抵抗測定は、第１プローブＰＲ１の位置をモニタリングするために、第１プローブＰＲ１と第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の部分の抵抗を測定するように実行される。

幾つかの実施形態において、プローブの位置をモニタリングする方法は、以下のステップを含むことが可能であるが、これに限定されない。図１－３、５に示すように、幾つかの実施形態では、第１ジグザグ構造ＺＳ１は第１プローブＰＲ１に直接的に接触し、第２ジグザグ構造ＺＳ２は第２プローブＰＲ２に直接的に接触し、第３ジグザグ構造ＺＳ３は第１プローブＰＲ３に直接的に接触し、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の部分の抵抗（図５に示す抵抗Ｒ_Ｌ１１など）、第２ジグザグ構造ＺＳ２の第１端部Ｅ２１と第２プローブＰＲ２との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の部分の抵抗（図５に示す抵抗Ｒ_Ｌ２１など）、及び第３ジグザグ構造ＺＳ３の第１端部Ｅ３１と第３プローブＰＲ３との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の部分の抵抗（図５に示す抵抗Ｒ_Ｌ３１など）は、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３による抵抗測定により取得されてもよい。換言すれば、抵抗測定は、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、及び抵抗Ｒ_Ｌ３１を測定するために実行されることが可能である。加えて、プローブの位置をモニタリングする方法は、上述の抵抗測定の結果に従って、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の部分の長さＬ１１を計算することを更に含んでもよい。例えば、抵抗Ｒ_Ｌ１１は、第１プローブＰＲ１に直接的に接触する接触端部Ｃ１１と第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗であるとすることが可能であり、第１端部Ｅ１１と接触端部Ｃ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さＬ１１は、以下の式によって計算することが可能であり、その場合において、ρは第１ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗率（例えば、金属層Ｍ４の電気抵抗率などであるが、これに限定されない）を表し、Ｈは第１ジグザグ構造ＺＳ１の厚み（例えば、第３方向Ｄ３における金属層Ｍ４の厚みなどであるが、これに限定されない）を表す。

同様に、抵抗Ｒ_Ｌ２１は、第２プローブＰＲ２に直接的に接触する接触端部Ｃ２１と第１端部Ｅ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の電気抵抗であってもよく、抵抗Ｒ_Ｌ３１は、第３プローブＰＲ３に直接的に接触する接触端部Ｃ３１と第１端部Ｅ３１との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の電気抵抗であってもよく、第１端部Ｅ２１と接触端部Ｃ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さＬ２１と、第１端部Ｅ３１と接触端部Ｃ３１との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の長さＬ３１とは、上述の抵抗測定の結果に従って計算されてもよい。従って、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３の位置は、上述の抵抗測定を介して得られた長さＬ１１、長さＬ２１、及び長さＬ３１によってモニタリングされることが可能である。幾つかの実施形態において、長さＬ１１は、第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間の第１ジグザグ構造ＺＳ１に沿った最短経路の長さと考えられてもよく、長さＬ２１は、第１端部Ｅ２１と第２プローブＰＲ２との間の第２ジグザグ構造ＺＳ２に沿った最短経路の長さと考えられてもよく、長さＬ３１は、第１端部Ｅ３１と第３プローブＰＲ３との間の第３ジグザグ構造ＺＳ３に沿った最短経路の長さと考えられてもよいが、これらに限定されない。

図６Ａ～６Ｃは、本発明の実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０１を使用するプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図１－３及び図６Ａ－６Ｃに示すように、幾つかの実施形態において、抵抗測定は第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３を介する２点測定ステップを含んでもよい。例えば、図６Ａに示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよく（その値は、ＤＣ電源に接続された電流計から得ることができる）、第１プローブＰＲ１と第２プローブＰＲ２との間の電圧降下を測定し、第１の２点測定ステップで第１抵抗値Ｒ_６Ａを得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよい。同様に、図６Ｂに示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第２プローブＰＲ２と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第２の２点測定ステップで第２抵抗値Ｒ_６Ｂを得るために、電圧計が第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。同様に、図６Ｃに示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第３の２点測定ステップで第３抵抗値Ｒ_６Ｃを得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。各々の測定ステップで得られる抵抗値は、上述の各々の測定ステップにおいて、電圧計からの電圧値を電流計からの電流値で割った値に等しいものであってもよい。幾つかの実施形態において、特に、第１共通ラインＣＬ１の抵抗が、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、及び抵抗Ｒ_Ｌ３１より相対的にかなり小さく、且つそれに応じて省略できるような場合には、第１抵抗値Ｒ_６Ａは抵抗Ｒ_Ｌ１１と抵抗Ｒ_Ｌ２１との和に実質的に等しくてもよく、第２抵抗値Ｒ_６Ｂは抵抗Ｒ_Ｌ２１と抵抗Ｒ_Ｌ３１との和に実質的に等しくてもよく、第３抵抗値Ｒ_６Ｃは抵抗Ｒ_Ｌ１１と抵抗Ｒ_Ｌ３１との和に実質的に等しくてもよい。従って、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、及び抵抗Ｒ_Ｌ３１は、上記の２点測定ステップの結果に従ってそれぞれ計算されることが可能である。

図７Ａ～図７Ｃは、本発明の実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０１を使用するプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図１－３、図７Ａ－７Ｃに示すように、幾つかの実施形態において、抵抗測定は、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３を介する３点測定ステップを含んでもよい。例えば、図７Ａに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が、第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第１の３点測定ステップで第１抵抗値Ｒ_７Ａを得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。図７Ｂに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が、第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよく、第２プローブＰＲ２と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第２の３点測定ステップで第２抵抗値Ｒ_７Ｂを得るために、電圧計が第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。図７Ｃに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が、第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第３の３点測定ステップで第３抵抗値Ｒ_７Ｃを得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。幾つかの実施形態において、特に、第１共通ラインＣＬ１の抵抗が、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、及び抵抗Ｒ_Ｌ３１より相対的にかなり小さく、且つそれに応じて省略できるような場合には、第１抵抗値Ｒ_７Ａは抵抗Ｒ_Ｌ１１に実質的に等しくてもよく、第２抵抗値Ｒ_７Ｂは抵抗Ｒ_Ｌ２１に実質的に等しくてもよく、第３抵抗値Ｒ_７Ｃは抵抗Ｒ_Ｌ３１に実質的に等しくてもよい。

図８Ａ～図８Ｃは、本発明の実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０１を使用するプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図１－３、図８Ａ－８Ｃに示すように、幾つかの実施形態において、抵抗測定は、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３を介する３点測定ステップを含んでもよい。例えば、図８Ａに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が、第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１と第２プローブＰＲ２との間の電圧降下を測定し、第１の３点測定ステップで第１抵抗値Ｒ_８Ａを得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよい。図８Ｂに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が、第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１と第２プローブＰＲ２との間の電圧降下を測定し、第２の３点測定ステップで第２抵抗値Ｒ_８Ｂを得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよい。図８Ｃに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が、第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第２プローブＰＲ２と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第３の３点測定ステップで第３抵抗値Ｒ_８Ｃを得るために、電圧計が第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。幾つかの実施形態において、特に、第１共通ラインＣＬ１の抵抗が、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、及び抵抗Ｒ_Ｌ３１より相対的にかなり小さく、且つそれに応じて省略できるような場合には、第１抵抗値Ｒ_８Ａは抵抗Ｒ_Ｌ１１に実質的に等しくてもよく、第２抵抗値Ｒ_８Ｂは抵抗Ｒ_Ｌ２１に実質的に等しくてもよく、第３抵抗値Ｒ_８Ｃは抵抗Ｒ_Ｌ３１に実質的に等しくてもよい。

プローブ位置モニタリング構造１０１を用いてプローブの位置をモニタリングする方法における抵抗測定の測定方法は、上述の測定ステップに限定されず、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、及び抵抗Ｒ_Ｌ３１を測定するために、他の適切な測定方法が適用されてもよいことは言及に値する。

以下の説明は、本発明の様々な実施形態を詳述する。説明の簡明化のために、以下の実施形態の各々における同一の構成要素は、同一の記号でマークされる。実施形態間の相違をより理解しやすくするために、以下の説明は、様々な実施形態の間の相違点を詳細に説明し、同一の特徴は重複して説明されない。

図９は、本発明の第２実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０２を示す概略図である。図９に示すように、プローブ位置モニタリング構造１０２は、第２共通ラインＣＬ２を更に含んでもよい。第２ジグザグ構造ＺＳ２の第１端部Ｅ２１は、第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されてもよく、第２ジグザグ構造ＺＳ２の第２端部Ｅ２２は、第２共通ラインＣＬ２に直接的に接続されてもよく、第３ジグザグ構造ＺＳ３の第１端部Ｅ３１は、第２共通ラインＣＬ１に直接的に接続されてもよい。幾つかの実施形態において、プローブ位置モニタリング構造１０２は、第３共通ラインＣＬ３及び第４の共通ラインＣＬ４を更に含んでもよく、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第２端部Ｅ１２は、第３共通ラインＣＬ３に直接的に接続されてもよく、第３ジグザグ構造ＺＳ３の第２端部Ｅ３２は、第４共通ラインＣＬ４に直接的に接続されてもよい。第２共通ラインＣＬ２、第３共通ラインＣＬ３、及び第４共通ラインＣＬ４の材料組成及び構造は、第１共通ラインＣＬ１のものと類似していてもよい。第１端部Ｅ１１及び第２端部Ｅ１２は、第２方向Ｄ２における第１ジグザグ構造ＺＳ１の両側にある２つの端部であってもよく、第１端部Ｅ２１及び第２端部Ｅ２２は、第２方向Ｄ２における第２ジグザグ構造ＺＳ２の両側にある２つの端部であってもよく、第１端部Ｅ３１及び第２端部Ｅ３２は、第２方向Ｄ２における第３ジグザグ構造ＺＳ３の両側にある２つの端部であってもよい。

図１０Ａ及び図１０Ｂは、本発明の実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０２を使用するプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図９、図１０Ａ、及び図１０Ｂに示すように、プローブ位置モニタリング構造１０２によるプローブの位置のモニタリング方法は、第１ジグザグ構造ＺＳ１を第１プローブＰＲ１に直接的に接触させること、第２ジグザグ構造ＺＳ２を第２プローブＰＲ２に直接的に接触させること、第３ジグザグ構造ＺＳ３を第３プローブＰＲ３に直接的に接触させることを含むことが可能である。この実施形態における抵抗測定は、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の部分の抵抗（図１０Ａに示される抵抗Ｒ_Ｌ１１など）、第２ジグザグ構造ＺＳ２の第１端部Ｅ２１と第２プローブＰＲ２との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の部分の抵抗（図１０Ａに示される抵抗Ｒ_Ｌ２１など）、第２ジグザグ構造ＺＳ２の第２端部Ｅ２２と第２プローブＰＲ２との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の部分の抵抗（図１０Ａに示される抵抗Ｒ_Ｌ２２など）、第３ジグザグ構造ＺＳ３の第１端部Ｅ３１と第３プローブＰＲ３との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の部分の抵抗（図１０Ａに示される抵抗Ｒ_Ｌ３１など）を測定するために実行されてもよい。抵抗Ｒ_Ｌ１１は、第１端部Ｅ１１と接触端部Ｃ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗であってもよく、抵抗Ｒ_Ｌ１２は、第１プローブＰＲ１と直接的に接触する接触端部Ｃ１２と第２端部Ｅ１２との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗であってもよく、抵抗Ｒ_Ｌ２１は、第１端部Ｅ２１と接触端部Ｃ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の電気抵抗であってもよく、抵抗Ｒ_Ｌ２２は、第２プローブＰＲ２と直接的に接触する接触端部Ｃ２２と第２端部Ｅ２２との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の電気抵抗であってもよく、抵抗Ｒ_Ｌ３１は、第１端部Ｅ３１と接触端部Ｃ３１との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の電気抵抗であってもよく、抵抗Ｒ_Ｌ３２は、第３プローブＰＲ３と直接的に接触する接触端部Ｃ３２と第２端部Ｅ３２との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の電気抵抗であってもよい。

幾つかの実施形態において、抵抗測定は、第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２を介する２点測定ステップ、並びに第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３を介する別の２点測定ステップを含んでもよい。例えば、図１０Ａに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２の間の電圧降下を測定し、第１の２点測定ステップで第１抵抗値Ｒ_１０Ａを得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよい。図１０Ｂに示されるように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３の間の電圧降下を測定し、第２の２点測定ステップで第２抵抗値Ｒ_１０Ｂを得るために、電圧計が第２プローブＰＲ２及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。幾つかの実施形態において、特に、第１共通ラインＣＬ１及び第２共通ラインＣＬ２の抵抗が、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、抵抗Ｒ_Ｌ２２、及び抵抗Ｒ_Ｌ３１よりも相対的にかなり低く且つそれに応じて省略できる場合には、第１抵抗値Ｒ_１０Ａは抵抗Ｒ_Ｌ１１と抵抗Ｒ_Ｌ２１との合計に実質的に等しくてもよく、第２抵抗値Ｒ_１０Ｂは抵抗Ｒ_Ｌ２２と抵抗Ｒ_Ｌ３１との合計に実質的に等しくてもよい。幾つかの実施形態において、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、及び第３プローブＰＲ３が第１方向Ｄ１に整合している場合に、抵抗Ｒ_Ｌ１１は第１抵抗値Ｒ_１０Ａの半分に実質的に等しくてもよく、抵抗Ｒ_Ｌ２１は第１抵抗値Ｒ_１０Ａの半分に実質的に等しくてもよく、抵抗Ｒ_Ｌ２２は第２抵抗値Ｒ_１０Ｂの半分に実質的に等しくてもよく、抵抗Ｒ_Ｌ３１は第２抵抗値Ｒ_１０Ｂの半分に実質的に等しくてもよい。第１端部Ｅ２１と接触端部Ｃ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さと、第２端部Ｅ２２と接触端部Ｃ２２との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さとは、第２プローブＰＲ２の位置をより正確にモニタリングするために上述した抵抗測定に従って計算されてもよい。

プローブ位置モニタリング構造１０２を用いてプローブの位置をモニタリングする方法における抵抗測定の測定方法は、上述の測定ステップに限定されず、抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ１２、抵抗Ｒ_Ｌ２１、抵抗Ｒ_Ｌ２２、抵抗Ｒ_Ｌ３１、及び抵抗Ｒ_Ｌ３２を測定するために、他の適切な測定方法が適用されてもよいことは言及に値する。更に、幾つかの実施形態では、第１共通ラインＣＬ１、第２共通ラインＣＬ２、第３共通ラインＣＬ３、第４の共通ラインＣＬ４、及び接触部ＣＴは、少なくとも、（上述の図３に示される積層金属層ＳＭなどの）積層された金属層の最上層に位置してもよいが、これに限定されない。

この実施形態において、第１共通ラインＣＬ１、第２共通ラインＣＬ２、第３共通ラインＣＬ３、及び第４共通ラインＣＬ４がそれぞれ積層金属層（例えば、図３に示す積層金属層ＳＭなど）の中の金属層で形成される場合、共通ライン各々の金属層は、金属配線の間で閉回路を形成してしまうことを回避し、上述の抵抗測定に影響を与えないように、物理的にも電気的にも分離されるべきであることは、言及に値する。換言すれば、各共通ラインが、積層金属層内の金属層で形成される場合、金属層の間に如何なる接続プラグ（図３に示す接続プラグＶ１～Ｖ３など）も配置されない。

図１１は、本発明の第３実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０３を示す概略図である。図１２は、プローブ位置モニタリング構造１０３によりプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図１１に示すように、プローブ位置モニタリング構造１０３は、第１共通ラインＣＬ１と接触部ＣＴとを含み、接触部ＣＴは、第１共通ラインＣＬ１にそれぞれ直接的に接続された第１ジグザグ構造ＺＳ１と第２ジグザグ構造ＺＳ２とを含む。具体的には、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１と第２ジグザグ構造ＺＳ２の第１端部Ｅ２１とはそれぞれ第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されることが可能である。図１１及び図１２に示すように、プローブ位置モニタリング構造１０３によるプローブの位置をモニタリングする方法は、第１ジグザグ構造ＺＳ１を第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に直接的に接触させ、第２ジグザグ構造ＺＳ２を第３プローブＰＲ３及び第４プローブＰＲ４に直接的に接触させることを含むことが可能である。図１２に示される抵抗Ｒ_ＣＴ１、抵抗Ｒ_ＣＴ２、抵抗Ｒ_ＣＴ３、及び抵抗Ｒ_ＣＴ４はそれぞれ第１プローブＰＲ１と第１ジグザグ構造ＺＳ１との間の接触抵抗、第２プローブＰＲ２と第１ジグザグ構造ＺＳ１との間の接触抵抗、第３プローブＰＲ３と第２ジグザグ構造ＺＳ２との間の接触抵抗、及び第４プローブＰＲ４と第２ジグザグ構造ＺＳ２との間の接触抵抗であるとすることが可能である。更に、第１端部Ｅ１１と接触端部Ｃ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さが、第２プローブＰＲ２に直接的に接触する接触端部Ｃ２１と第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さより短いので、図１２に示される抵抗Ｒ_Ｌ１は、第１プローブＰＲ１に直接的に接触する接触端部Ｃ１１と第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗であるとすることが可能であり、第１端部Ｅ２１と接触端部Ｃ３１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さが、第４プローブＰＲ４に直接的に接触する接触端部Ｃ４１と第１端部Ｅ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さより短いので、図１２に示される抵抗Ｒ_Ｌ２は、第３プローブＰＲ３に直接的に接触する接触端部Ｃ３１と第１端部Ｅ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗であるとすることが可能である。

幾つかの実施形態において、プローブ位置モニタリング構造１０３によるプローブの位置をモニタリングする方法における抵抗測定は、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第３プローブＰＲ３、及び第４プローブＰＲ４を介する４点測定ステップを含んでもよい。例えば、図１２に示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されることが可能であり、第２プローブＰＲ２と第４プローブＰＲ４との間の電圧降下を測定し、４点測定ステップにおいて、上述した抵抗Ｒ_Ｌ１及び抵抗Ｒ_Ｌ２の合計に実質的に等しい抵抗値を得るために、電圧計が第２プローブＰＲ２及び第４プローブＰＲ４に接続されてもよい。幾つかの実施形態において、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第３プローブＰＲ３、及び第４のプローブＰＲ４が第１方向Ｄ１に整合している場合に、抵抗Ｒ_Ｌ１は図１２に示される４点測定ステップで得られる抵抗値の半分に実質的に等しくてもよく、抵抗Ｒ_Ｌ２は図１２に示される４点測定ステップで得られる抵抗値の半分に実質的に等しくてもよいが、これらに限定されない。換言すれば、プローブと接触部ＣＴとの間の接触抵抗は、上述の抵抗測定で使用される４点測定ステップによって省略されることが可能であり、第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さ、及び第１端部Ｅ２１と第３プローブＰＲ３との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さは、より正確に計算されることが可能であり、第１プローブＰＲ１の位置及び第３プローブＰＲ３の位置は、より正確にモニタリングされることが可能である。

プローブ位置モニタリング構造１０３を用いてプローブの位置をモニタリングする方法における抵抗測定の測定方法は、上述の測定ステップに限定されず、抵抗Ｒ_Ｌ１１及び抵抗Ｒ_Ｌ２１を測定するために、他の適切な測定方法が適用されてもよいことは言及に値する。更に、本実施形態におけるプローブと接触部ＣＴとの間の接触抵抗を省略するように構成された測定方法は、本発明の他の実施形態に適用されてもよい。

図１３は、本発明の第４実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０４を示す概略図である。図１４Ａ～１４Ｃは、プローブ位置モニタリング構造１０４によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図１３に示すように、プローブ位置モニタリング構造１０４は、第１共通ラインＣＬ１と接触部ＣＴとを含み、接触部ＣＴは、第１共通ラインＣＬ１にそれぞれ直接的に接続された第１ジグザグ構造ＺＳ１、第２ジグザグ構造ＺＳ２、及び第３ジグザグ構造ＺＳ３を含む。具体的には、第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１、第２ジグザグ構造ＺＳ２の第１端部Ｅ２１、及び第３ジグザグ構造ＺＳ３の第１端部Ｅ３１はそれぞれ第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続することが可能である。図１３及び図１４Ａ－１４Ｃに示すように、プローブ位置モニタリング構造１０４によりプローブの位置をモニタリングする方法は、第１ジグザグ構造ＺＳ１を第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に直接的に接触させること、第２ジグザグ構造ＺＳ２を第３プローブＰＲ３及び第５プローブＰＲ５に直接的に接触させること、及び第３ジグザグ構造ＺＳ３を第４プローブＰＲ４及び第６プローブＰＲ６に直接的に接触させることを含むことが可能である。図１４Ａ－１４Ｃに示される抵抗Ｒ_ＣＴ１、抵抗Ｒ_ＣＴ２、抵抗Ｒ_ＣＴ３、抵抗Ｒ_ＣＴ４、抵抗Ｒ_ＣＴ５、及び抵抗Ｒ_ＣＴ６は、第１プローブＰＲ１と第１ジグザグ構造ＺＳ１との間の接触抵抗、第２プローブＰＲ２と第１ジグザグ構造ＺＳ１との間の接触抵抗、第３プローブＰＲ３と第２ジグザグ構造ＺＳ２との間の接触抵抗、第４プローブＰＲ４と第３ジグザグ構造ＺＳ３との間の接触抵抗、第５プローブＰＲ５と第２ジグザグ構造ＺＳ２との間の接触抵抗、及び第６プローブＰＲ６と第３ジグザグ構造ＺＳ３との間のそれぞれの接触抵抗であるとすることが可能である。更に、第１端部Ｅ１１と接触端部Ｃ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さが、第２プローブＰＲ２と直接的に接触する接触端部Ｃ２１と第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さよりも短いので、図１４Ａ－１４Ｃに示される抵抗Ｒ_Ｌ１は、第１プローブＰＲ１に直接的に接触する接触端部Ｃ１１と第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗であってもよく、第１端部Ｅ２１と接触端部Ｃ３１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さが、第５プローブＰＲ５と直接的に接触する接触端部Ｃ５１と第１端部Ｅ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さよりも短いので、図１４Ａ－１４Ｃに示される抵抗Ｒ_Ｌ２は、第３プローブＰＲ３に直接的に接触する接触端部Ｃ３１と第１端部Ｅ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の電気抵抗であってもよく、第１端部Ｅ３１と接触端部Ｃ６１との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の長さが、第４プローブＰＲ４と直接的に接触する接触端部Ｃ４１と第１端部Ｅ３１との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の長さよりも短いので、図１４Ａ－１４Ｃに示される抵抗Ｒ_Ｌ３は、第６プローブＰＲ６に直接的に接触する接触端部Ｃ６１と第１端部Ｅ３１との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の電気抵抗であってもよい。

幾つかの実施形態において、プローブ位置モニタリング構造１０４によるプローブの位置をモニタリングする方法における抵抗測定は、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第３プローブＰＲ３、第４プローブＰＲ４、第５プローブＰＲ５、及び／又は第６プローブＰＲ６を介する４点測定ステップを含んでもよい。例えば、図１４Ａに示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよく、第２プローブＰＲ２と第４プローブＰＲ４との間の電圧降下を測定し、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第３プローブＰＲ３、及び第４プローブＰＲ４を介する４点測定ステップで上述した抵抗Ｒ_Ｌ１に実質的に等しい抵抗値を得るために、電圧計が第２プローブＰＲ２及び第４プローブＰＲ４に接続されてもよい。図１４Ｂに示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第１プローブＰＲ１及び第６プローブＰＲ６に接続されてもよく、第２プローブＰＲ２と第５プローブＰＲ５との間の電圧降下を測定し、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第５プローブＰＲ５、及び第６プローブＰＲ６を介する別の４点測定ステップで上述した抵抗Ｒ_Ｌ１に実質的に等しい抵抗値を得るために、電圧計が第２プローブＰＲ２及び第５プローブＰＲ５に接続されてもよい。図１４Ｃに示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第５プローブＰＲ５及び第４プローブＰＲ４に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第１プローブＰＲ１、第３プローブＰＲ３、第４プローブＰＲ４、及び第５プローブＰＲ５を介する別の４点測定ステップで上述した抵抗Ｒ_Ｌ２に実質的に等しい抵抗値を得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。更に、上述した抵抗Ｒ_Ｌ３は、図１４Ａに示された４点測定ステップの変形例、及び／又は図１４Ｂに示された４点測定ステップの変形例に類似する４点測定ステップによって取得されてもよい。例えば、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第５プローブＰＲ５及び第４プローブＰＲ４に接続されてもよく、第１プローブＰＲ１と第６プローブＰＲ６との間の電圧降下を測定し、第１プローブＰＲ１、第４プローブＰＲ４、第５プローブＰＲ５、及び第６プローブＰＲ６を介する４点測定ステップにおいて上述の抵抗Ｒ_Ｌ３と実質的に等しい抵抗値を得るために、電圧計が第１プローブＰＲ１及び第６プローブＰＲ６に接続されてもよい。プローブと接触部ＣＴとの間の接触抵抗は、上述の抵抗測定で使用される４点測定ステップによって省略されることが可能であり、第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さ、第１端部Ｅ２１と第３プローブＰＲ３との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さ、第１端部Ｅ３１と第６プローブＰＲ６との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の長さは、より正確に計算されることが可能であり、第１プローブＰＲ１、第３プローブＰＲ３、及び第６プローブＰＲ６の位置は、より正確にモニタリングされることが可能である。

プローブ位置モニタリング構造１０４を用いてプローブの位置をモニタリングする方法における抵抗測定の測定方法は、上述の測定ステップに限定されず、抵抗Ｒ_Ｌ１、抵抗Ｒ_Ｌ２、抵抗Ｒ_Ｌ３を測定するために、他の適切な測定方法が適用されてもよいことは言及に値する。更に、本実施形態におけるプローブと接触部ＣＴとの間の接触抵抗を省略するように構成された測定方法は、本発明の他の実施形態にも適用されてもよい。

図１５は、本発明の第５実施形態によるプローブ位置モニタリング構造１０５を示す概略図である。図１６は、プローブ位置モニタリング構造１０５によるプローブの位置をモニタリングする方法を示す概略図である。図１５に示すように、プローブ位置モニタリング構造１０５は、第１共通ラインＣＬ１と、第２共通ラインＣＬ２と、基準ジグザグ構造ＲＺと、第１ジグザグ構造ＺＳ１及び第２ジグザグ構造ＺＳ２を含む接触部ＣＴとを含む。第１ジグザグ構造ＺＳ１の第１端部Ｅ１１は、第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されてもよく、第２ジグザグ構造ＺＳ２の第１端部Ｅ２１は、第２共通ラインＣＬ２に直接的に接続されてもよい。基準ジグザグ構造ＲＺは、第１方向Ｄ１において第１ジグザグ構造ＺＳ１と第２ジグザグ構造ＺＳ２との間に配置されてもよい。基準ジグザグ構造ＲＺの第１端部Ｅ９１は第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されてもよく、基準ジグザグ構造ＲＺの第２端部Ｅ９２は第２共通ラインＣＬ２に直接的に接続されてもよく、基準ジグザグ構造ＲＺの線幅は、第１ジグザグ構造ＺＳ１の線幅及び／又は第２ジグザグ構造ＺＳ２の線幅に等しくてもよい。幾つかの実施形態において、接触部ＣＴは、第３ジグザグ構造ＺＳ３及び第４ジグザグ構造ＺＳ４を更に含んでもよい。第４ジグザグ構造ＺＳ４の第１端部Ｅ４１は、第１共通ラインＣＬ１に直接的に接続されてもよく、第３ジグザグ構造ＺＳ３の第１端部Ｅ３１は、第２共通ラインＣＬ２に直接的に接続されてもよい。第１ジグザグ構造ＺＳ１、第２ジグザグ構造ＺＳ２、第３ジグザグ構造ＺＳ３、及び第４ジグザグ構造ＺＳ４は、第１方向Ｄ１に整列していてもよく、第１ジグザグ構造ＺＳ１及び第２ジグザグ構造ＺＳ２は、第１方向において第４ジグザグ構造ＺＳ４と第３ジグザグ構造ＺＳ３との間に配置されてもよい。幾つかの実施形態において、第３方向における第１ジグザグ構造ＺＳ１のパターン、第２ジグザグ構造ＺＳ２のパターン、第３ジグザグ構造ＺＳ３のパターン、及び第４のジグザグ構造ＺＳ４のパターンは、互いに同一であってもよいが、これに限定されない。幾つかの実施形態において、基準ジグザグ構造ＲＺは、接触部ＣＴの一部ではなく、基準ジグザグ構造ＲＺ、第１ジグザグ構造ＺＳ１、第２ジグザグ構造ＺＳ２、第３ジグザグ構造ＺＳ３、第４ジグザグ構造ＺＳ４、第１共通ラインＣＬ１及び第２共通ラインＣＬ２は、１つの導電層（図３に示される金属層Ｍ４等）のうちの異なる部分であってもよいが、これに限定されない。

図１５及び図１６に示すように、プローブ位置モニタリング構造１０５によるプローブの位置をモニタリングする方法は、第１ジグザグ構造ＺＳ１を第１プローブＰＲ１と直接的に接触させること、第２ジグザグ構造ＺＳ２を第２プローブＰＲ２と直接的に接触させること、第３ジグザグ構造ＺＳ３を第３プローブＰＲ３と直接的に接触させること、及び第４のジグザグ構造ＺＳ４を第４のプローブＰＲ４と直接的に接触させることを含むことが可能である。図１６に示される抵抗Ｒ_Ｌ１１は、第１プローブＰＲ１に直接的に接触する接触端部Ｃ１１と第１端部Ｅ１１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の電気抵抗であってもよく、図１６に示される抵抗Ｒ_Ｌ２１は、第２プローブＰＲ２に直接的に接触する接触端部Ｃ２１と第１端部Ｅ２１との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の電気抵抗であってもよく、図１６に示される抵抗Ｒ_Ｌ３１は、第３プローブＰＲ３と直接的に接触する接触端部Ｃ３１と第１端部Ｅ３１との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の電気抵抗であってもよく、図１６に示される抵抗Ｒ_Ｌ４１は、第４プローブＰＲ４と直接的に接触する接触端部Ｃ４１と第１端部Ｅ４１との間に位置する第４ジグザグ構造ＺＳ４の電気抵抗であってもよく、図１６に示される抵抗Ｒ_ＬＲは、基準ジグザグ構造ＲＺの電気抵抗であってもよい。

幾つかの実施形態において、プローブ位置モニタリング構造１０５によりプローブの位置をモニタリングする方法における抵抗測定は、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第３プローブＰＲ３、及び第４のプローブＰＲ４を介する４点測定ステップを含んでもよい。例えば、図１６に示すように、定電流を供給するために、ＤＣ電源が第１プローブＰＲ１及び第２プローブＰＲ２に接続されてもよく、第４プローブＰＲ４と第３プローブＰＲ３との間の電圧降下を測定し、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第３プローブＰＲ３、及び第４プローブＰＲ４を介する４点測定ステップにおいて上述した抵抗Ｒ_ＬＲに実質的に等しい抵抗値を得るために、電圧計が第４プローブＰＲ４及び第３プローブＰＲ３に接続されてもよい。基準ジグザグ構造ＲＺの線幅設計値は他のジグザグ構造のものと同一であるので、そして基準ジグザグ構造ＲＺ及びジグザグ構造は、同一プロセスで同時に形成される同一材料で形成されることが可能であるので、ジグザグ構造の実際の線幅は、上記抵抗測定によって得られる抵抗Ｒ_ＬＲに従って算出されてもよい。換言すれば、抵抗Ｒ_ＬＲは、第１端部Ｅ１１と第１プローブＰＲ１との間に位置する第１ジグザグ構造ＺＳ１の長さ、第１端部Ｅ２１と第２プローブＰＲ２との間に位置する第２ジグザグ構造ＺＳ２の長さ、第１端部Ｅ３１と第３プローブＰＲ３との間に位置する第３ジグザグ構造ＺＳ３の長さ、及び第１端部Ｅ４１と第４プローブＰＲ４との間に位置する第４ジグザグ構造ＺＳ４の長さをより正確に算出するために使用されることが可能であり、第１プローブＰＲ１、第２プローブＰＲ２、第３プローブＰＲ３、及び第４プローブＰＲ４の位置は、より正確にモニタリングされることが可能である。更に、この実施形態において抵抗Ｒ_Ｌ１１、抵抗Ｒ_Ｌ２１、抵抗Ｒ_Ｌ３１、及び抵抗Ｒ_Ｌ４１は、上述した実施形態における測定ステップ、又は他の適切な測定方法によって測定されることが可能であり、基準ジグザグ構造ＲＺは、何らかの設計上の考察に応じて本発明の他の実施形態に適用されてもよい。

この実施形態において、第１共通ラインＣＬ１及び第２共通ラインＣＬ２が積層金属層（例えば、図３に示す積層金属層ＳＭ）の中の金属層で形成される場合、第１共通ライン及び第２共通ラインにおける金属層は、金属配線の間で閉回路を形成してしまうことを回避し、上述の抵抗測定に影響を与えないように、物理的にも電気的にも分離されるべきであることは、言及に値する。換言すれば、第１共通ラインＣＬ１及び第２共通ラインＣＬ２が、積層金属層内の金属層で形成される場合、金属層の間に如何なる接続プラグ（図３に示す接続プラグＶ１～Ｖ３など）も配置されない。

以上の説明をまとめると、本発明におけるプローブ位置モニタリング構造及びプローブ位置モニタリング方法によれば、プローブ位置モニタリング構造の接触部は、抵抗測定に使用されるジグザグ構造を有し、そこではプローブがジグザグ構造に直接的に接触しており、プローブの位置は、共通ラインとプローブとの間のジグザグ構造の抵抗を測定し、共通ラインとプローブとの間のジグザグ構造の長さを算出することによって、モニタリングされることが可能である。

当業者は、本発明の教示を保持しつつ、装置及び方法についての多くの修正及び変更が行われてよいことを容易に理解するであろう。従って、上記の開示は、添付の特許請求の範囲の記載及び境界によってのみ限定されるように解釈されるべきである。

［付記］
（付記１）
プローブ位置モニタリング構造であって：
第１共通ライン；及び
プローブに直接的に接触するように構成された接触部であって、前記接触部は第１ジグザグ構造を含み、前記第１ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、接触部；
を含むプローブ位置モニタリング構造。
（付記２）
前記第１ジグザグ構造は：
第１セクションであって、前記第１セクションの各々は第１方向に延びている、第１セクション；及び
第２セクションであって、前記第２セクションの各々は、前記第１方向とは異なる第２方向に延び、互いに隣接して位置する２つの第１セクションに直接的に接続されている第２セクション；
を含む、付記１に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記３）
前記第１セクション各々の幅は前記第１共通ラインの幅より小さい、付記２に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記４）
前記第１セクション各々の幅に対する前記第１共通ラインの幅の比率は、５ないし２００の範囲に及ぶ、付記３に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記５）
前記接触部は第２ジグザグ構造を更に含み、前記第２ジグザグ構造のパターンは前記第１ジグザグ構造のパターンと同一である、付記１～４のうち何れか１項に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記６）
第２共通ラインであって、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続され、前記第２ジグザグ構造の第２端部は前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記接触部は第３ジグザグ構造を更に含み、前記第３ジグザグ構造の第１端部は前記第２共通ラインに直接的に接続されている、第２共通ラインを更に含む付記５に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記７）
前記接触部は第３ジグザグ構造を更に含み、前記第３ジグザグ構造のパターンは前記第１ジグザグ構造の前記パターンと同一であり、前記第１ジグザグ構造、前記第２ジグザグ構造、前記第３ジグザグ構造、及び前記第１共通ラインは金属層のうちの異なる部分である、付記５に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記８）
前記第３ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、付記７に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記９）
第２共通ラインであって、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第２共通ラインに直接的に接続されている、第２共通ライン；及び
前記第１ジグザグ構造と前記第２ジグザグ構造との間に配置された基準ジグザグ構造であって、前記基準ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の第２端部は前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の線幅は前記第１ジグザグ構造の線幅に等しい、基準ジグザグ構造；
を更に含む付記５に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記１０）
中間層誘電体であって、前記第１共通ライン及び前記接触部は少なくとも部分的に前記中間層誘電体に配置され、前記第１ジグザグ構造は、前記中間層誘電体の部分により互いに隔てられる第１層及び第２層を含む、中間層誘電体；
を更に含む付記１～９のうち何れか１項に記載のプローブ位置モニタリング構造。
（付記１１）
プローブの位置をモニタリングする方法であって：
プローブ位置モニタリング構造を提供するステップであって、前記プローブ位置モニタリング構造は：
第１共通ライン；及び
第１ジグザグ構造を含む接触部であって、前記第１ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、接触部；
を含む、ステップ；
前記第１ジグザグ構造を第１プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第１プローブと前記第１端部との間に位置する前記第１ジグザグ構造の部分の抵抗を測定し、前記第１プローブの位置をモニタリングするために抵抗測定を実行するステップ；
を含むプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１２）
前記抵抗測定の結果に従って前記第１ジグザグ構造の前記第１端部と前記第１プローブとの間に位置する前記第１ジグザグ構造の部分の長さを算出するステップ；
を更に含む付記１１に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１３）
前記接触部は更に：
第２ジグザグ構造であって、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、第２ジグザグ構造；
第３ジグザグ構造であって、前記第３ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、第３ジグザグ構造；
を含み、前記プローブの位置をモニタリングする方法は：
前記第２ジグザグ構造を第２プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第３ジグザグ構造を第３プローブに直接的に接触させるステップであって、前記抵抗測定は、前記第２ジグザグ構造の第１端部と前記第２プローブとの間に位置する前記第２ジグザグ構造の部分の抵抗と、前記第３ジグザグ構造の第１端部と前記第３プローブとの間に位置する前記第３ジグザグ構造の部分の抵抗とを測定するように実行される、ステップ；
を更に含む付記１１に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１４）
前記抵抗測定は、前記第１プローブ、前記第２プローブ、及び前記第３プローブによる２点測定ステップ又は３点測定ステップを含む、付記１３に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１５）
前記抵抗測定の結果に従って、前記第２ジグザグ構造の前記第１端部と前記第２プローブとの間に位置する前記第２ジグザグ構造の部分の長さと、前記第３ジグザグ構造の前記第１端部と前記第３プローブとの間に位置する前記第３ジグザグ構造の部分の長さとを算出するステップ；
を更に含む付記１３に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１６）
前記プローブ位置モニタリング構造は：
第２共通ラインであって、前記接触部は第２ジグザグ構造と第３ジグザグ構造とを更に含み、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続され、前記第２ジグザグ構造の第２端部は前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記第３ジグザグ構造の第１端部は前記第２共通ラインに直接的に接続されている、第２共通ライン；
を更に含み、前記プローブの位置をモニタリングする方法は：
前記第２ジグザグ構造を第２プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第３ジグザグ構造を第３プローブに直接的に接触させるステップであって、前記抵抗測定は、前記第２ジグザグ構造の第１端部と前記第２プローブとの間に位置する前記第２ジグザグ構造の部分の抵抗と、前記第２ジグザグ構造の第２端部と前記第２プローブとの間に位置する前記第２ジグザグ構造の部分の抵抗と、前記第３ジグザグ構造の第１端部と前記第３プローブとの間に位置する前記第３ジグザグ構造の部分の抵抗と、を測定するように実行される、ステップ；
を更に含む付記１１に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１７）
前記抵抗測定は、前記第１プローブ及び前記第２プローブによる２点測定ステップと、前記第２プローブ及び前記第３プローブによる別の２点測定ステップとを含む、付記１６に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１８）
前記接触部は：
第２ジグザグ構造であって、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、第２ジグザグ構造；
を更に含み、前記プローブの位置をモニタリングする方法は：
前記第１ジグザグ構造を第２プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第２ジグザグ構造を第３プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第２ジグザグ構造を第４プローブに直接的に接触させるステップであって、前記抵抗測定は、前記第１プローブ、前記第２プローブ、前記第３プローブ、及び前記第４プローブによる４点測定ステップを含む、ステップ；
を更に含む付記１１に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記１９）
前記接触部は：
第２ジグザグ構造であって、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、第２ジグザグ構造；及び
第３ジグザグ構造であって、前記第３ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、第３ジグザグ構造；
を更に含み、前記プローブの位置をモニタリングする方法は：
前記第１ジグザグ構造を第２プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第２ジグザグ構造を第３プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第３ジグザグ構造を第４プローブに直接的に接触させるステップであって、前記抵抗測定は、前記第１プローブ、前記第２プローブ、前記第３プローブ、及び前記第４プローブによる４点測定ステップを含む、ステップ；
を更に含む付記１１に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
（付記２０）
前記プローブ位置モニタリング構造は：
第２共通ラインであって、前記接触部は第２ジグザグ構造、第３ジグザグ構造、及び第４ジグザグ構造を更に含み、前記第２ジグザグ構造の第１端部と前記第３ジグザグ構造の第１端部とは前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記第４ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、第２共通ライン；及び
前記第１ジグザグ構造と前記第２ジグザグ構造との間に配置された基準ジグザグ構造であって、前記基準ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の第２端部は前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の線幅は前記第１ジグザグ構造の線幅に等しい、基準ジグザグ構造；
を更に含み、前記プローブの位置をモニタリングする方法は：
前記第２ジグザグ構造を第２プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第３ジグザグ構造を第３プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第４ジグザグ構造を第４プローブに直接的に接触させるステップであって、前記抵抗測定は、前記第１プローブ、前記第２プローブ、前記第３プローブ、及び前記第４プローブによる４点測定ステップを含む、ステップ；
を更に含む付記１１に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。

特開２００８－０７１９９９号公報特開平７－３０２７７３号公報特開２００８－２３５４８５号公報特開２００５－３４０６９６号公報特開２００７－０４８８５３号公報特開２００７－２１４３９２号公報特開昭５８－４３５３５号公報特開平２－１３７３５０号公報特開平３－１４２５０号公報特開平４－１６２５４４号公報特開平５－３４３４８７号公報特開平８－２７９５３９号公報特開２００７－１５８３４６号公報特開２０１５－０１５４４１号公報

Claims

プローブ位置モニタリング構造であって：
第１共通ライン；及び
プローブに直接的に接触するように構成された接触部；
を含み、前記接触部は、第１ジグザグ構造と、第２ジグザグ構造と、第３ジグザグ構造とを含み、
前記第１ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されており；
前記第２ジグザグ構造のパターンは前記第１ジグザグ構造のパターンと同一であり；及び
前記第３ジグザグ構造のパターンは前記第１ジグザグ構造の前記パターンと同一であり、前記第１ジグザグ構造、前記第２ジグザグ構造、前記第３ジグザグ構造、及び前記第１共通ラインは金属層のうちの異なる部分である、プローブ位置モニタリング構造。
前記第１ジグザグ構造は：
第１セクションであって、前記第１セクションの各々は第１方向に延びている、第１セクション；及び
第２セクションであって、前記第２セクションの各々は、前記第１方向とは異なる第２方向に延び、互いに隣接して位置する２つの第１セクションに直接的に接続されている第２セクション；
を含む、請求項１に記載のプローブ位置モニタリング構造。
前記第１セクション各々の幅は前記第１共通ラインの幅より小さい、請求項２に記載のプローブ位置モニタリング構造。
第２共通ラインであって、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続され、前記第２ジグザグ構造の第２端部は前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記第３ジグザグ構造の第１端部は前記第２共通ラインに直接的に接続されている、第２共通ラインを更に含む請求項１に記載のプローブ位置モニタリング構造。
前記第３ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、請求項１に記載のプローブ位置モニタリング構造。
第２共通ラインであって、前記第２ジグザグ構造の第１端部は前記第２共通ラインに直接的に接続されている、第２共通ライン；及び
前記第１ジグザグ構造と前記第２ジグザグ構造との間に配置された基準ジグザグ構造であって、前記基準ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の第２端部は前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の線幅は前記第１ジグザグ構造の線幅に等しい、基準ジグザグ構造；
を更に含む請求項１に記載のプローブ位置モニタリング構造。
中間層誘電体であって、前記第１共通ライン及び前記接触部は少なくとも部分的に前記中間層誘電体に配置され、前記第１ジグザグ構造は、前記中間層誘電体の部分により互いに隔てられる第１層及び第２層を含む、中間層誘電体；
を更に含む請求項１～６のうち何れか１項に記載のプローブ位置モニタリング構造。
プローブの位置をモニタリングする方法であって：
プローブ位置モニタリング構造を提供するステップであって、前記プローブ位置モニタリング構造は：
第１共通ライン；及び
第１ジグザグ構造と、第２ジグザグ構造と、第３ジグザグ構造とを含む接触部を含み、
前記第１ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されており；
前記第２ジグザグ構造のパターンは前記第１ジグザグ構造のパターンと同一であり；及び
前記第３ジグザグ構造のパターンは前記第１ジグザグ構造の前記パターンと同一であり、前記第１ジグザグ構造、前記第２ジグザグ構造、前記第３ジグザグ構造、及び前記第１共通ラインは金属層のうちの異なる部分である、ステップ；
前記第１ジグザグ構造を第１プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第１プローブと前記第１端部との間に位置する前記第１ジグザグ構造の部分の抵抗を測定し、前記第１プローブの位置をモニタリングするために抵抗測定を実行するステップ；
を含むプローブの位置をモニタリングする方法。
前記抵抗測定の結果に従って前記第１ジグザグ構造の前記第１端部と前記第１プローブとの間に位置する前記第１ジグザグ構造の部分の長さを算出するステップ；
を更に含む請求項８に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。
前記プローブ位置モニタリング構造は：
第２共通ラインであって、前記接触部は第４ジグザグ構造を更に含み、前記第２ジグザグ構造の第１端部と前記第３ジグザグ構造の第１端部とは前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記第４ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続されている、第２共通ライン；及び
前記第１ジグザグ構造と前記第２ジグザグ構造との間に配置された基準ジグザグ構造であって、前記基準ジグザグ構造の第１端部は前記第１共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の第２端部は前記第２共通ラインに直接的に接続され、前記基準ジグザグ構造の線幅は前記第１ジグザグ構造の線幅に等しい、基準ジグザグ構造；
を更に含み、前記プローブの位置をモニタリングする方法は：
前記第２ジグザグ構造を第２プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第３ジグザグ構造を第３プローブに直接的に接触させるステップ；及び
前記第４ジグザグ構造を第４プローブに直接的に接触させるステップであって、前記抵抗測定は、前記第１プローブ、前記第２プローブ、前記第３プローブ、及び前記第４プローブによる４点測定ステップを含む、ステップ；
を更に含む請求項９に記載のプローブの位置をモニタリングする方法。