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JP7797274B2 - Radiative cooling film, how to use it, and how to make it - Google Patents
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JP7797274B2 - Radiative cooling film, how to use it, and how to make it - Google Patents

Radiative cooling film, how to use it, and how to make it

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JP7797274B2 JP2022051851A JP2022051851A JP7797274B2 JP 7797274 B2 JP7797274 B2 JP 7797274B2 JP 2022051851 A JP2022051851 A JP 2022051851A JP 2022051851 A JP2022051851 A JP 2022051851A JP 7797274 B2 JP7797274 B2 JP 7797274B2
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Description

本発明は、放射面から赤外光を放射する赤外放射層と、当該赤外放射層における前記放射面の存在側とは反対側に位置させる銀または銀合金で構成された光反射層と、前記光反射層における前記赤外放射層に隣接する側に位置させる隣接側保護層と、前記光反射層における前記赤外放射層から離れる側に位置させる離間側保護層を備えるフィルム体に構成され、
前記赤外放射層が、吸収した太陽光エネルギーよりも大きな熱輻射エネルギーを波長8μmから波長14μmの帯域で放つ厚みに調整されている樹脂材料層である放射冷却フィルムに関する。
The present invention is configured in a film body including an infrared emitting layer that emits infrared light from a radiation surface, a light reflecting layer made of silver or a silver alloy and located on the infrared emitting layer on the side opposite to the side on which the radiation surface is present, an adjacent-side protective layer located on the side of the light reflecting layer that is adjacent to the infrared emitting layer, and a remote-side protective layer located on the side of the light reflecting layer that is remote from the infrared emitting layer,
The present invention relates to a radiative cooling film in which the infrared radiation layer is a resin material layer whose thickness is adjusted to emit thermal radiation energy in the wavelength band of 8 μm to 14 μm that is greater than the absorbed solar light energy.

放射冷却とは、物質が周囲に赤外線などの電磁波を放射することでその温度が下がる現象のことを言う。この現象を利用すれば、たとえば、電気などのエネルギーを消費せずに冷却対象を冷やす放射冷却フィルムを構成することができる。 Radiation cooling is a phenomenon in which a substance's temperature drops when it radiates electromagnetic waves such as infrared rays into its surroundings. By utilizing this phenomenon, it is possible to create, for example, a radiative cooling film that cools an object without consuming energy such as electricity.

放射冷却フィルムにおいては、赤外放射層が、吸収した太陽光エネルギーよりも大きな熱輻射エネルギーを波長8μmから波長14μmの帯域で放射するから、光反射層が太陽光を十分に反射することより、昼間の日射環境下においても冷却対象を冷やすことができる。 In radiative cooling films, the infrared emitting layer emits greater thermal radiation energy in the 8 μm to 14 μm wavelength band than the absorbed solar energy, and the light reflective layer sufficiently reflects sunlight, allowing the object to be cooled even in a daytime solar radiation environment.

つまり、光反射層が、赤外放射層を透過した光(紫外光、可視光、赤外光)を反射して放射面から放射させて、赤外放射層を透過した光(紫外光、可視光、赤外光)が冷却対象に対して投射されて、冷却対象が加温されることを回避することにより、昼間の日射環境下においても冷却対象を冷やすことができる。
尚、光反射層は、赤外放射層を透過した光に加えて、赤外放射層から光反射層の存在側に放射される光を赤外放射層に向けて反射する作用も奏することになるが、以下の説明においては、光反射層を設ける目的が赤外放射層を透過した光(紫外光、可視光、赤外光)を反射することにあるとして説明する。
In other words, the light reflecting layer reflects the light (ultraviolet light, visible light, infrared light) that has passed through the infrared radiation layer and radiates it from the radiation surface, thereby preventing the light (ultraviolet light, visible light, infrared light) that has passed through the infrared radiation layer from being projected onto the object to be cooled and heating the object, and thereby making it possible to cool the object to be cooled even in a daytime solar environment.
The light reflecting layer has the effect of reflecting, toward the infrared radiation layer, not only the light that has passed through the infrared radiation layer but also the light that is emitted from the infrared radiation layer toward the side where the light reflecting layer is present. However, in the following description, it will be explained that the purpose of providing the light reflecting layer is to reflect the light (ultraviolet light, visible light, and infrared light) that has passed through the infrared radiation layer.

また、光反射層における赤外放射層に隣接する側に位置させる隣接側保護層と、光反射層における赤外放射層から離れる側に位置させる離間側保護層とを備えさせることにより、銀及び銀合金が水分により変色すること等を抑制して、光反射層の光反射を適切に行わせることができる。 In addition, by providing an adjacent-side protective layer located on the side of the light-reflecting layer adjacent to the infrared-emitting layer, and a distant-side protective layer located on the side of the light-reflecting layer away from the infrared-emitting layer, it is possible to prevent discoloration of silver and silver alloys due to moisture, and ensure that the light-reflecting layer properly reflects light.

放射冷却フィルムの従来例として、隣接側保護層及び離間側保護層を形成する材料が、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、酸化膜(SiO、Al)を用いたものがある(例えば、特許文献1(図15)参照)。
また、特許文献1の図17には、離間側保護層として、PET(ポリエチレンテレフタラート)にて形成されたフィルム層が設けられ、フィルム層の上に光反射層及び隣接側保護層が順次形成され、赤外放射層と隣接側保護層とが接着層(のり層)にて接着される形態の放射冷却フィルムが記載されている。
Conventional examples of radiative cooling films include those in which the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer are made of materials such as acrylic resin, silicone resin, fluororesin, and oxide film (SiO 2 , Al 2 O 3 ) (see, for example, Patent Document 1 (Fig. 15)).
Moreover, FIG. 17 of Patent Document 1 describes a radiative cooling film in which a film layer made of PET (polyethylene terephthalate) is provided as a separating-side protective layer, a light-reflecting layer and an adjacent-side protective layer are sequentially formed on the film layer, and the infrared radiation layer and the adjacent-side protective layer are bonded together with an adhesive layer (glue layer).

国際公開第2020/195743号International Publication No. 2020/195743

放射冷却フィルムの使用例として、フィルム体の裏面に粘着剤(糊)を塗工して、例えば、自動車の外面等の貼り付け対象(冷却対象である施工対象)に貼付して使用される場合がある。しかしながら、従来のフィルム体(放射冷却フィルム)は、伸性(伸び易さ)が少ないため、貼付する形状が平面もしくは2次曲面に限られ、また、貼付中にフィルム体を伸ばしながら貼り付け状態を微調整することができないものであった。 One example of how radiative cooling films can be used is by applying an adhesive (glue) to the back of the film and then attaching it to an object (the cooling target), such as the exterior of a car. However, conventional films (radiative cooling films) have little extensibility (ease of stretching), so they can only be attached to flat or quadratic curved surfaces, and it is not possible to stretch the film during application to fine-tune the attachment state.

つまり、銀または銀合金が伸性(伸び易さ)を有するため、光反射層は伸性(伸び易さ)を備えるものであるが、従来の放射冷却フィルムにおいては、例えば、アクリル樹脂が引張強さの大きな材料でかつ少し伸ばすと破断する材料である等、隣接側保護層及び離間側保護層を形成する材料が伸び難い材料であるため、従来のフィルム体(放射冷却フィルム)は、伸性(伸び易さ)が少ないものであった。
ちなみに、シリコーン樹脂は銀(銀合金)との密着性が極めて悪く、隣接側保護層及び離間側保護層を形成する材料としては不向きである。
That is, since silver or silver alloy has ductility (ease of stretching), the light reflective layer has ductility (ease of stretching). However, in conventional radiative cooling films, the materials forming the adjacent-side protective layer and the separating-side protective layer are difficult to stretch, for example, acrylic resin is a material with high tensile strength that breaks when stretched slightly, and therefore conventional film bodies (radiative cooling films) have little ductility (ease of stretching).
Incidentally, silicone resin has extremely poor adhesion to silver (silver alloy), and is therefore unsuitable as a material for forming the adjacent-side protective layer and the spaced-side protective layer.

また、離間側保護層をPETにて形成する場合においても、PETが伸び難い材料であるため、同様に、フィルム体(放射冷却フィルム)の伸性(伸び易さ)が少ないものとなる。 Furthermore, even when the separating-side protective layer is made of PET, PET is a material that is difficult to stretch, so the film body (radiative cooling film) will similarly have low extensibility (ease of stretching).

このように、従来の放射冷却フィルムは、フィルム体の貼り付け対象(施工対象)に対する形状追随性が悪いため、貼り付け対象(施工対象)が限定されるものであった。つまり、種々の物体の表面に放射冷却性能を与えることができないものであった。
ちなみに、フィルム体(放射冷却フィルム)の伸性(伸び易さ)が少ない場合には、フィルム体を折った際に皺(折皺)が入り易く、使用勝手が悪いものであった。
As described above, conventional radiative cooling films have poor conformability to the shape of the object to which they are attached (the object of application), which limits the objects to which they can be attached (the object of application). In other words, they cannot provide radiative cooling performance to the surfaces of various objects.
Incidentally, if the film body (radiative cooling film) has low extensibility (ease of stretching), it is likely to wrinkle (fold) when folded, making it difficult to use.

本発明は、かかる実状に鑑みて為されたものであって、その目的は、貼り付け対象に対する形状追随性を増加させた放射冷却フィルムを提供する点にある。 The present invention was made in consideration of these circumstances, and its purpose is to provide a radiative cooling film that has improved conformability to the shape of the object to which it is attached.

本発明の放射冷却フィルムは、放射面から赤外光を放射する赤外放射層と、当該赤外放射層における前記放射面の存在側とは反対側に位置させる銀または銀合金で構成された光反射層と、前記光反射層における前記赤外放射層に隣接する側に位置させる隣接側保護層と、前記光反射層における前記赤外放射層から離れる側に位置させる離間側保護層を備えるフィルム体に構成され、
前記赤外放射層が、吸収した太陽光エネルギーよりも大きな熱輻射エネルギーを波長8μmから波長14μmの帯域で放つ厚みに調整されている樹脂材料層であって、その特徴構成は、
前記隣接側保護層及び前記離間側保護層を形成する樹脂材料が、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂のいずれかであり、
前記フィルム体は、常温における引張強さが140N/2.5cm以下でかつ破断時伸びが30%以上であり、
前記光反射層の厚みが70nm以上、300nm以下である点にある。
The radiative cooling film of the present invention is configured in a film body including an infrared emitting layer that emits infrared light from a emitting surface, a light reflecting layer made of silver or a silver alloy and located on the side of the infrared emitting layer opposite to the side where the emitting surface exists, an adjacent-side protective layer located on the side of the light reflecting layer adjacent to the infrared emitting layer, and a distant-side protective layer located on the side of the light reflecting layer away from the infrared emitting layer,
The infrared radiation layer is a resin material layer whose thickness is adjusted to emit thermal radiation energy in a wavelength band of 8 μm to 14 μm that is greater than the absorbed solar light energy, and its characteristic configuration is as follows:
the resin material forming the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer is any one of a urethane resin, an acrylic urethane resin, and a polyolefin resin;
The film body has a tensile strength of 140 N/2.5 cm or less at room temperature and an elongation at break of 30% or more,
The thickness of the light-reflecting layer is 70 nm or more and 300 nm or less .

先ず、昼間の日射環境下においても冷却対象を冷やすことができる点について説明を加える。
すなわち、フィルム体における赤外放射層の放射層から入射する太陽光は、樹脂材料層を透過した後、樹脂材料層の放射面の存在側とは反対側にある光反射層で反射され、放射面から系外へ逃がされる。
なお、本明細書の記載において、単に光と称する場合、当該光の概念には紫外光(紫外線)、可視光、赤外光を含む。これらを電磁波としての光の波長で述べると、その波長が10nmから20000nm(0.01μmから20μmの電磁波)の電磁波を含む。
First, the fact that the object to be cooled can be cooled even in a daytime solar radiation environment will be explained.
That is, sunlight incident from the emitting layer of the infrared emitting layer in the film body passes through the resin material layer, is reflected by the light reflecting layer located on the opposite side to the side where the emitting surface of the resin material layer is present, and is then released outside the system from the emitting surface.
In this specification, when simply referring to light, the concept of light includes ultraviolet light (ultraviolet light), visible light, and infrared light. When these are described in terms of the wavelength of light as electromagnetic waves, they include electromagnetic waves with wavelengths of 10 nm to 20,000 nm (electromagnetic waves of 0.01 μm to 20 μm).

また、フィルム体への伝熱(入熱)は、赤外放射層としての樹脂材料層で赤外線に変換されて、放射面から系外へ逃がされる。
このように、フィルム体は、フィルム体へ照射される太陽光を反射し、また、フィルム体への伝熱(例えば、大気からの伝熱や、フィルム体が冷却する冷却対象からの伝熱)を赤外光として系外へ放射することができる。
Furthermore, heat transferred (heat input) to the film body is converted into infrared rays in the resin material layer serving as the infrared radiation layer, and is released to the outside of the system from the radiation surface.
In this way, the film body reflects sunlight irradiating onto it and can also radiate heat transferred to the film body (for example, heat transferred from the atmosphere or heat transferred from an object cooled by the film body) outside the system as infrared light.

そして、樹脂材料層が、吸収した太陽光エネルギーよりも大きな熱輻射エネルギーを波長8μmから波長14μmの帯域で放つ厚みに調整されているから、光反射層にて太陽光を適切に反射させるようにしながら、昼間の日射環境下においても、冷却機能を発揮することができる。 The resin material layer is adjusted to a thickness that allows it to emit greater thermal radiation energy in the 8 μm to 14 μm wavelength band than the absorbed solar energy, allowing the light-reflecting layer to appropriately reflect sunlight while still providing cooling functionality even in daytime solar environments.

光反射層にて太陽光を適切に反射できる点について説明を加えると、銀または銀合金である光反射層は、波長0.4μmから0.5μmの反射率が90%以上、波長0.5μmより長波の反射率が96%以上である反射率特性を備え、太陽光を適切に反射させることができる。
つまり、太陽光スペクトルは波長0.295μmから4μmにかけて存在し、そして、波長が0.4μmから大きくなるにつれて強度が大きくなり、特に波長0.5μmから波長2.5μmにかけての強度が大きい。
銀又は銀合金にて構成される光反射層は、波長0.4μmから0.5μmにかけて90%以上の反射率を示し、波長0.5μmより長波の反射率が96%以上である反射特性を備えているため、光反射層が太陽光エネルギーを5%程度以下しか吸収しなくなる。
To explain further the ability of the light-reflecting layer to appropriately reflect sunlight, a light-reflecting layer made of silver or a silver alloy has reflectance characteristics of 90% or more at wavelengths of 0.4 μm to 0.5 μm and 96% or more at wavelengths longer than 0.5 μm, and can appropriately reflect sunlight.
That is, the solar spectrum exists in the wavelength range from 0.295 μm to 4 μm, and the intensity increases as the wavelength increases from 0.4 μm, and the intensity is particularly high in the wavelength range from 0.5 μm to 2.5 μm.
The light-reflecting layer made of silver or a silver alloy has reflective properties that show a reflectance of 90% or more in the wavelength range of 0.4 μm to 0.5 μm and a reflectance of 96% or more at wavelengths longer than 0.5 μm, so the light-reflecting layer absorbs only about 5% or less of the solar energy.

その結果、夏場の南中時に、光反射層が吸収する太陽光エネルギーを50W/m程度以下とすることができ、樹脂材料層による放射冷却を良好に行うことができる。
尚、本明細書では、太陽光について、断りのない場合、スペクトルはAM1.5Gの規格とする。
以上の通り、昼間の日射環境下においても、冷却対象を放射冷却作用により冷却できることになる。
As a result, the solar energy absorbed by the light-reflecting layer at noon in summer can be reduced to approximately 50 W/m 2 or less, and radiation cooling by the resin material layer can be performed well.
In this specification, unless otherwise specified, the spectrum of sunlight is assumed to be in accordance with the AM1.5G standard.
As described above, the object to be cooled can be cooled by radiative cooling even in a daytime solar radiation environment.

しかも、隣接側保護層及び離間側保護層を備えているから、光反射層を構成する銀または銀合金に水分が到達することを抑制して銀または銀合金が水分により変色することを回避する等、光反射層の劣化を抑制できるから、光反射層の光反射を適切に行わせることができる。
ちなみに、隣接側保護層は、樹脂材料層にて発生したラジカルが光反射層を形成する銀又は銀合金に到達することも抑制することになり、樹脂材料層にて発生したラジカルが光反射層を形成する銀又は銀合金に到達することにより、光反射層の銀または銀合金が短期間で変色することも抑制することになる。
Furthermore, since the light-reflecting layer is provided with an adjacent-side protective layer and a distant-side protective layer, deterioration of the light-reflecting layer can be suppressed, such as by preventing moisture from reaching the silver or silver alloy that constitutes the light-reflecting layer, thereby preventing the silver or silver alloy from discoloring due to moisture, thereby allowing the light-reflecting layer to reflect light appropriately.
Incidentally, the adjacent-side protective layer also prevents radicals generated in the resin material layer from reaching the silver or silver alloy that forms the light-reflecting layer, and also prevents the silver or silver alloy of the light-reflecting layer from discoloring in a short period of time due to radicals generated in the resin material layer reaching the silver or silver alloy that forms the light-reflecting layer.

そして、本発明の放射冷却フィルムの特徴構成によれば、隣接側保護層及び離間側保護層を形成する樹脂材料が、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂のいずれかであるから、フィルム体(放射冷却フィルム)に伸性(伸び易さ)を備えさせることができる。 Furthermore, according to the characteristic configuration of the radiative cooling film of the present invention, the resin material forming the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer is either a urethane resin, an acrylic urethane resin, or a polyolefin resin, which allows the film body (radiative cooling film) to be provided with extensibility (ease of stretching).

つまり、光反射層は、銀または銀合金が展性を有するため、伸性(伸び易さ)を備えるものであり、赤外放射層を、伸性(伸び易さ)を備える樹脂材料を用いた樹脂材料層とすることにより、赤外放射層に伸性(伸び易さ)を備えさせることができる。
加えて、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂は、伸性(伸び易さ)を備えるものであるから、隣接側保護層及び離間側保護層に伸性(伸び易さ)を備えさせることができる。
その結果、フィルム体(放射冷却フィルム)に伸性(伸び易さ)を備えさせることができ、貼り付け対象に対する形状追随性を増加させることができる。
In other words, the light-reflecting layer has ductility (ease of stretching) because silver or a silver alloy has malleability, and by making the infrared radiation layer a resin material layer using a resin material that has ductility (ease of stretching), the infrared radiation layer can be made ductile (ease of stretching).
In addition, since urethane resin, acrylic urethane resin, and polyolefin resin have extensibility (ease of stretching), the adjacent-side protective layer and the separating-side protective layer can be made extensible (ease of stretching).
As a result, the film body (radiative cooling film) can be made extensible (easily stretchable), and its ability to conform to the shape of the object to which it is attached can be improved.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの特徴構成によれば、貼り付け対象に対する形状追随性を増加させることができる。 In short, the characteristic configuration of the radiative cooling film of the present invention allows for increased conformability to the shape of the object to which it is attached.

更に、本発明の放射冷却フィルムは、前記フィルム体は、常温における引張強さが140N/2.5cm以下でかつ破断時伸びが30%以上であるという特徴構成により、以下の作用効果を奏する。
本発明では、常温とは、23℃(JIS K 6732で定められている温度)であると定義する。
また、隣接側保護層及び離間側保護層がウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂にて形成されて十分に大きな伸性(伸び易さ)を備えるものであるから、本発明では、フィルム体の常温における引張強さ及び破断時伸び(伸びの限界)は、樹脂材料層(赤外放射層)及び光反射層の伸性(伸び易さ)によって定まるものとする。
Furthermore, the radiative cooling film of the present invention has the following advantageous effects due to its characteristic configuration that the tensile strength at room temperature is 140 N/2.5 cm or less and the elongation at break is 30% or more.
In the present invention, room temperature is defined as 23°C (the temperature defined in JIS K 6732).
Furthermore, since the adjacent-side protective layer and the separating-side protective layer are formed of urethane resin, acrylic urethane resin, or polyolefin resin and have sufficiently large extensibility (ease of stretching), in the present invention, the tensile strength and elongation at break (elongation limit) of the film body at room temperature are determined by the extensibility (ease of stretching) of the resin material layer (infrared radiation layer) and the light-reflecting layer.

すなわち、フィルム体の常温における引張強さが140N/2.5cm以下でかつフィルム体の破断時伸び(伸びの限界)が30%以上であるから、貼り付け対象(施工対象)に対する形状追随性を的確に増加させ、かつ、折皺の発生を抑制できる。 In other words, because the tensile strength of the film body at room temperature is 140 N/2.5 cm or less and the elongation at break (elongation limit) of the film body is 30% or more, it accurately increases the conformability to the shape of the object to which it is attached (the object to be applied) and suppresses the occurrence of creases.

説明を加えると、フィルム体における2.5cmあたりの引張強さ(JIS K 6732)が70N/2.5cm以下であると、フィルム体の曲面への施工性が優れたものとなる。そして、フィルム体を曲面に貼付施工する際には、ヒートガンなどによりフィルム体を80℃以上に加熱しながら伸ばすことになる。フィルム体を80℃以上に加熱すると、樹脂材料層(例えば、可塑剤が混入された塩化ビニル樹脂)の引張強さは常温と比較し、一般に1/2以下に下がることになる。故に、23℃における引張強さは、施工時に80℃以上に加熱することを鑑みて、140N/2.5cm以下にすることが望ましいものとなる。 To further explain, if the tensile strength per 2.5 cm of the film (JIS K 6732) is 70 N/2.5 cm or less, the film will be highly adaptable to curved surfaces. When applying the film to a curved surface, it is stretched while heated to 80°C or higher using a heat gun or similar device. When the film is heated to 80°C or higher, the tensile strength of the resin material layer (e.g., polyvinyl chloride resin mixed with plasticizer) generally drops to less than half of what it is at room temperature. Therefore, considering that the film will be heated to 80°C or higher during application, it is desirable for the tensile strength at 23°C to be 140 N/2.5 cm or less.

また、貼り付け対象(例えば、車のボンネットやトラックコンテナの端部等)にフィルム体を貼付施工する(貼り付ける)上で、30%の伸びは最低限必要であり、30%の伸びがあれば十分に貼付施工できるものとなる。
さらに、30%の伸びがあれば、フィルム体を折った際に皺(折皺)が入ることを抑制できる。
Furthermore, when attaching (sticking) a film body to an object to be attached (for example, a car hood or the end of a truck container), a minimum elongation of 30% is required, and an elongation of 30% is sufficient for the attachment.
Furthermore, if the film has an elongation of 30%, it is possible to prevent wrinkles (fold wrinkles) from occurring when the film body is folded.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、貼り付け対象に対する形状追随性を的確に増加させ、かつ、折皺の発生を抑制できる。 In short, this additional characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention accurately increases its ability to conform to the shape of the object to which it is attached, and also suppresses the occurrence of creases.

更に、本発明の放射冷却フィルムは、前記光反射層の厚みが70nm以上、300nm以下であるという特徴構成により、以下の作用効果を奏する。 Furthermore, the radiative cooling film of the present invention has the following advantageous effects due to the characteristic configuration that the thickness of the light reflecting layer is 70 nm or more and 300 nm or less.

すなわち、光反射層に上述の反射特性、つまり、波長0.4μmから0.5μmの反射率が90%以上、波長0.5μmより長波の反射率が96%以上である反射率特性を備えさせた状態で太陽光を反射させる場合には、光反射層の厚みを50nm以上にすることが望ましいものとなる。
そして、銀又は銀合金の光反射層は40%を超えて伸びると破断するから、フィルム体の曲面への施工の際に、光反射層が40%伸ばされることを考慮すれば、光反射層の厚みを50nmの1.4倍である70nm以上にすることにより、フィルム体が伸ばされた状態で施工されても、光反射層に適切な反射特性を備えさせることができる。
That is, when sunlight is to be reflected while the light-reflecting layer has the above-mentioned reflectance characteristics, i.e., a reflectance of 90% or more at wavelengths of 0.4 μm to 0.5 μm and a reflectance of 96% or more at wavelengths longer than 0.5 μm, it is desirable that the thickness of the light-reflecting layer be 50 nm or more.
Furthermore, since a silver or silver alloy light-reflecting layer will break if stretched beyond 40%, considering that the light-reflecting layer will be stretched by 40% when applied to the curved surface of the film body, by making the thickness of the light-reflecting layer 70 nm or more, which is 1.4 times 50 nm, the light-reflecting layer can be provided with appropriate reflective properties even when applied to the film body in a stretched state.

また、光反射層が万が一破断すると、光反射層の引張強さが0となるが、光反射層の引張強さがフィルム体の全体の引張強さに占める割合が大きいと、光反射層が破断した際に、フィルム体の引張強さの変化が大きくなり、貼りにくさに繋がることになる。
光反射層の引張強さを1N/2.5cm以下とすれば、フィルム体の全体の引張強さに占める割合(例えば、フィルム体の全体の引張強さが140N/2.5cmの場合に、1%以下となる)を少なくして、光反射層が破断した際に、フィルム体の引張強さの変化を小さくして、貼りにくさに繋がることを軽減できることになる。
Furthermore, if the light-reflecting layer were to break, the tensile strength of the light-reflecting layer would become zero. However, if the tensile strength of the light-reflecting layer accounts for a large proportion of the overall tensile strength of the film body, when the light-reflecting layer breaks, the change in the tensile strength of the film body would be large, making it difficult to apply.
If the tensile strength of the light-reflecting layer is 1 N/2.5 cm or less, the proportion of the tensile strength of the film body as a whole (for example, if the tensile strength of the film body as a whole is 140 N/2.5 cm, this proportion will be 1% or less), and when the light-reflecting layer breaks, the change in the tensile strength of the film body will be small, which will reduce the difficulty of application.

そして、銀又は銀合金の場合、室温から80℃程度に加熱しても引張強さに変化は生じない。
したがって、光反射層の厚みは300nm以下とし、光反射層の引張強さを1N/2.5cm以下とするのが望ましい。
In the case of silver or a silver alloy, there is no change in the tensile strength even when it is heated from room temperature to about 80°C.
Therefore, it is desirable that the thickness of the light-reflecting layer is 300 nm or less, and the tensile strength of the light-reflecting layer is 1 N/2.5 cm or less.

つまり、光反射層を構成する銀又は銀合金は、40%を超えて伸びると破断するものであるから、フィルム体を伸ばしながら貼付施工を行う際に、光反射層が破断することは少ないものの、万が一、光反射層が破断した際においても、フィルム体の引張強さの変化を小さくして、フィルム体を貼り付け易い状態に維持することができる。 In other words, the silver or silver alloy that makes up the light-reflective layer will break if it is stretched by more than 40%. Therefore, while the light-reflective layer is unlikely to break when the film is stretched during application, even if it does break, the change in the tensile strength of the film can be minimized, allowing the film to remain in a state that makes it easy to apply.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、フィルム体を伸ばしながら貼り付け対象に貼り付けた状態においても光反射層に適切な反射特性を備えさせるようにしながら、フィルム体を伸ばしながら貼り付け対象に貼り付ける貼付施工を良好に行うことができる。 In short, this further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention allows for good application of the film body to an object while stretching it, while still providing the light-reflecting layer with appropriate reflective properties even when the film body is stretched and attached to the object.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、
前記樹脂材料層の膜厚が、
波長0.4μmから0.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が13%以下であり、波長0.5μmから波長0.8μmの範囲の光吸収率の波長平均が4%以下であり、波長0.8μmから波長1.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が1%以内であり、1.5μmから2.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が40%以下となる光吸収特性を備え、且つ、8μmから14μmの範囲の輻射率の波長平均が40%以上となる熱輻射特性を備える状態の厚みに調整され、
前記樹脂材料層は、引張強さが139N/2.5cm以下で、破断時伸びが50%以上であり、かつ、温度上昇により引張強さが低下する点にある。
Further characteristic features of the radiative cooling film of the present invention are:
The thickness of the resin material layer is
The thickness is adjusted to have light absorption characteristics in which the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 0.4 μm to 0.5 μm is 13% or less, the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 0.5 μm to 0.8 μm is 4% or less, the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 0.8 μm to 1.5 μm is within 1%, and the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 1.5 μm to 2.5 μm is 40% or less, and thermal radiation characteristics in which the wavelength average of the emissivity in the wavelength range of 8 μm to 14 μm is 40% or more,
The resin material layer has a tensile strength of 139 N/2.5 cm or less, an elongation at break of 50% or more, and the tensile strength decreases with increasing temperature.

尚、波長0.4μmから0.5μmの範囲の光吸収率の波長平均とは、0.4μmから0.5μmの範囲の波長毎の光吸収率の平均値を意味するものであり、波長0.5μmから波長0.8μmの範囲の光吸収率の波長平均、波長0.8μmから波長1.5μmの範囲の光吸収率の波長平均、及び、1.5μmから2.5μmの範囲の光吸収率の波長平均も同様である。また、輻射率を含む他の同様な記載も同様な平均値を意味するものであり、以下、本明細書においては同様である。 Note that the wavelength average of light absorptance in the wavelength range of 0.4 μm to 0.5 μm refers to the average value of light absorptance for each wavelength in the range of 0.4 μm to 0.5 μm. The same applies to the wavelength average of light absorptance in the wavelength range of 0.5 μm to 0.8 μm, the wavelength average of light absorptance in the wavelength range of 0.8 μm to 1.5 μm, and the wavelength average of light absorptance in the wavelength range of 1.5 μm to 2.5 μm. Other similar terms, including emissivity, also refer to similar average values, and this also applies hereinafter in this specification.

すなわち、樹脂材料層は、厚みによって光吸収率や輻射率(光放射率)が変化する。そのため、太陽光をできるだけ吸収せず、いわゆる大気の窓の領域の波長帯域(光の波長8μmから14μmの領域)において大きな熱輻射を発するように樹脂材料層の厚みを調整する必要がある。 In other words, the light absorptivity and emissivity (light emissivity) of the resin material layer change depending on its thickness. Therefore, it is necessary to adjust the thickness of the resin material layer so that it absorbs as little sunlight as possible and emits a large amount of thermal radiation in the wavelength band of the so-called atmospheric window (the region with light wavelengths of 8 μm to 14 μm).

具体的には、樹脂材料層における太陽光の光吸収率(光吸収特性)の観点において、波長0.4μmから0.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が13%以下であり、波長0.5μmから波長0.8μmの範囲の光吸収率の波長平均が4%以下であり、波長0.8μmから波長1.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が1%以内であり、波長1.5μmから2.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が40%以下とする必要がある。尚、2.5μmから4μmの範囲の光吸収率については、波長平均が100%以下であればよい。
このような光吸収率が分布する場合、太陽光の光吸収率は10%以下となり、エネルギーで言うと100W以下となる。
Specifically, in terms of the light absorptance (light absorption characteristics) of sunlight in the resin material layer, the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 0.4 μm to 0.5 μm must be 13% or less, the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 0.5 μm to 0.8 μm must be 4% or less, the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 0.8 μm to 1.5 μm must be within 1%, and the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 1.5 μm to 2.5 μm must be 40% or less. Note that for the light absorptance in the wavelength range of 2.5 μm to 4 μm, it is sufficient if the wavelength average light absorptance is 100% or less.
When the light absorption rate is distributed in this way, the light absorption rate of sunlight is 10% or less, which corresponds to 100 W or less in terms of energy.

つまり、太陽光の光吸収率は樹脂材料層の膜厚を厚くすると増加する。樹脂材料層を厚膜にすると、大気の窓の輻射率はほぼ1となり、その際に宇宙に放出する熱輻射は125W/mから160W/mとなる。
光反射層での太陽光吸収は50W/m以下であることが好ましい。
したがって、樹脂材料層と光反射層における太陽光吸収の和が150W/m以下であり、大気の状態がよければ冷却が進む。樹脂材料層は、以上のように太陽光スペクトルのピーク値付近の吸収率が小さなものを用いるのが良い。
In other words, the light absorption rate of sunlight increases as the thickness of the resin material layer increases. When the resin material layer is made thick, the emissivity of the atmospheric window becomes almost 1, and the thermal radiation emitted into space at that time becomes 125 W/ m2 to 160 W/ m2 .
The solar light absorption in the light reflecting layer is preferably 50 W/m 2 or less.
Therefore, cooling will proceed if the sum of the solar light absorption in the resin material layer and the light reflective layer is 150 W/ or less and the atmospheric conditions are good. As described above, it is preferable to use a resin material layer that has a small absorption rate near the peak value of the solar light spectrum.

また、樹脂材料層の赤外光を放射する輻射率(熱輻射特性)の観点では、波長8μmから14μmの範囲の輻射率の波長平均が40%以上となる必要がある。
すなわち、光反射層で吸収される50W/m程度の太陽光の熱輻射を樹脂材料層から宇宙に放出させるには、それ以上の熱輻射を樹脂材料層が出す必要がある。
例えば、外気温が30℃のとき、波長8μmから14μmの大気の窓の熱輻射の最大は200W/mである(輻射率1として計算)。この値が得られるのは、高山など、空気の薄いよく乾燥した環境の快晴時である。低地などでは大気の厚みが高山よりも厚くなるので、大気の窓の波長帯域は狭くなり、透過率は低下する。ちなみに、このことを「大気の窓が狭くなる」と呼ぶ。
Furthermore, in terms of the emissivity (thermal radiation characteristics) of the resin material layer for emitting infrared light, the wavelength average of the emissivity in the wavelength range of 8 μm to 14 μm must be 40% or more.
That is, in order to radiate the thermal radiation of sunlight of about 50 W/m 2 absorbed by the light reflecting layer from the resin material layer into space, the resin material layer needs to emit more thermal radiation than that.
For example, when the outside temperature is 30°C, the maximum thermal radiation of the atmospheric window for wavelengths between 8 μm and 14 μm is 200 W/ m2 (calculated with an emissivity of 1). This value can be obtained on a clear day in a dry environment with thin air, such as a high mountain. In lowlands, the atmosphere is thicker than in high mountains, so the wavelength band of the atmospheric window is narrower and the transmittance is lower. Incidentally, this is called the "atmospheric window becoming narrower."

また、実際に放射冷却フィルムを使用する環境は多湿であることもあり、その場合も大気の窓は狭くなる。低地で利用する際の大気の窓域で発生する熱輻射は、状態の良いときで30℃において160W/mと見積もられる(輻射率1として計算)。
また、日本ではよくあることであるが、空に靄があるときや、スモッグが存在する場合、大気の窓はさらに狭くなり、宇宙への放射は125W/m程度となる。
In addition, the actual environment in which the radiative cooling film is used may be humid, which also narrows the atmospheric window. When used in low-lying areas, the thermal radiation generated in the atmospheric window is estimated to be 160 W/ m2 at 30°C under good conditions (calculated with an emissivity of 1).
Furthermore, when there is haze or smog in the sky, which is common in Japan, the atmospheric window becomes even narrower, and radiation into space is around 125 W/ m2 .

かかる事情を鑑みて、波長8μmから14μmの範囲の輻射率の波長平均は40%以上(大気の窓帯での熱輻射強度が50W/m以上)ないと中緯度帯の低地で用いることができない。
したがって、樹脂材料層の厚みを、上述した光学的規定の範囲になるように調整することにより、太陽光の光吸収による入熱よりも大気の窓における出熱の方が大きくなり、昼間の日射環境下でも屋外で放射冷却できるようになる。
In consideration of these circumstances, unless the wavelength average of the emissivity in the wavelength range of 8 μm to 14 μm is 40% or more (thermal radiation intensity in the atmospheric window zone is 50 W/ m2 or more), it cannot be used in low altitudes in the mid-latitude zone.
Therefore, by adjusting the thickness of the resin material layer so that it falls within the above-mentioned optical specification range, the heat output at the atmospheric window becomes greater than the heat input due to the absorption of sunlight, making it possible to perform radiative cooling outdoors even in a daytime solar radiation environment.

また、樹脂材料層は、引張強さが139N/2.5cm以下でかつ破断時伸びが50%以上であり、かつ、温度上昇により引張強さが低下するものであるから、貼り付け対象に対してフィルム体を貼り付ける施工性を高めるために、樹脂材料層の厚さを厚くしても、曲面への貼付施工においては、ヒートガンなどによりフィルム体を80℃以上に加熱しながら伸ばすことにより、フィルム体を曲面に対して良好に貼付施工することができる。 The resin material layer has a tensile strength of 139 N/2.5 cm or less and an elongation at break of 50% or more, and the tensile strength decreases with increasing temperature. Therefore, even if the thickness of the resin material layer is increased to improve ease of application when attaching the film body to an object, when applying it to a curved surface, the film body can be successfully applied to the curved surface by stretching it while heating it to 80°C or more using a heat gun or the like.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、太陽光の光吸収による入熱よりも大気の窓における出熱の方が大きくなって、日射環境下でも屋外で放射冷却でき、しかも、フィルム体を曲面に対して良好に貼付施工することができる。 In short, this further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention makes the heat output at the atmospheric window greater than the heat input due to sunlight absorption, enabling radiative cooling outdoors even in a solar radiation environment, and the film body can be easily attached to curved surfaces.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、
前記樹脂材料層を形成する樹脂材料が、可塑剤が混入された塩化ビニル系樹脂であり、前記樹脂材料層の厚みが、14μm以上、330μm以下である点にある。
本発明で用いられる塩化ビニル系樹脂とは、塩化ビニルあるいは塩化ビニリデンの単独重合体及び塩化ビニルあるいは塩化ビニリデンの共重合体であり、その製造方法は、従来公知の重合方法で行われる。
Further characteristic features of the radiative cooling film of the present invention are:
The resin material forming the resin material layer is a vinyl chloride resin mixed with a plasticizer, and the thickness of the resin material layer is 14 μm or more and 330 μm or less.
The vinyl chloride resin used in the present invention is a homopolymer of vinyl chloride or vinylidene chloride or a copolymer of vinyl chloride or vinylidene chloride, and can be produced by a conventionally known polymerization method.

すなわち、塩化ビニル系樹脂は、10μm以上の厚みがあれば、大気の窓領域において十分な熱輻射が得られるものであり、その結果、日射環境下でも屋外で適切に放射冷却できる。つまり、塩化ビニル系樹脂は、その熱輻射特性が大気の窓領域において大きな熱輻射が得られるフッ素樹脂やシリコーンゴムと同等であり、これら樹脂よりもかなり安価であるから、直射日光下で周囲温度よりも温度が低下するフィルム体(放射冷却フィルム)を安価に構成するのに有効である。 In other words, vinyl chloride resins with a thickness of 10 μm or more can provide sufficient thermal radiation in the atmospheric window region, and as a result, can provide appropriate radiative cooling outdoors even in a solar radiation environment. In other words, vinyl chloride resins have thermal radiation properties equivalent to those of fluororesins and silicone rubber, which provide significant thermal radiation in the atmospheric window region, and are significantly cheaper than these resins, making them effective for inexpensively constructing films (radiative cooling films) whose temperature drops below the ambient temperature under direct sunlight.

また、塩化ビニル系樹脂に可塑剤が混入されているから、樹脂材料層が十分な伸性(伸び易さ)を備えることになる結果、放射冷却フィルムが十分な伸性(伸び易さ)を備えるものとなる。
したがって、フィルム体を伸ばしながら貼り付け対象に貼り付ける貼り付け施工を良好に行うことができる。
Moreover, since a plasticizer is mixed into the vinyl chloride resin, the resin material layer has sufficient extensibility (ease of stretching), and as a result, the radiative cooling film has sufficient extensibility (ease of stretching).
Therefore, the film body can be smoothly attached to the object while being stretched.

ちなみに、塩化ビニル系樹脂は、可塑剤を入れることにより軟質となることで、他物が接触しても他物に合わせて柔軟に形状を変化させることによって傷つくことを回避するため、長期に亘って美麗な状態に維持できる。ちなみに、薄膜状のフッ素樹脂は、硬質性であるから、他物の接触により柔軟に形状を変化させることができず傷がつき易く、美麗な状態を維持し難いものである。
また、塩化ビニル系樹脂に可塑剤を入れることにより、傷がついても80℃以上に加熱することで変形し表面傷を無くし平滑化することができ、つまりは傷を自己修復することができる。フッ素樹脂やシリコーンゴムにこの特性はない。軟質な塩化ビニル系樹脂のこの特性によって綺麗な状態を長期間維持することができる。このことは長期にわたる放射冷却性能の維持につながる。
このように、可塑剤を入れることにより、フィルム体(放射冷却フィルム)の耐久性が向上する。
また、塩化ビニル系樹脂は、難燃性であり且つ生分解され難いものであるから、屋外で長期間使用する放射冷却フィルムの樹脂材料層を形成する樹脂材料として好適である。
By the way, vinyl chloride resins can be made soft by adding plasticizers, and when they come into contact with other objects, they can flexibly change shape to fit the object, avoiding damage and allowing them to maintain a beautiful appearance for a long period of time.By the way, thin film fluororesins are hard, so they cannot flexibly change shape when they come into contact with other objects, are easily damaged, and it is difficult to maintain a beautiful appearance.
Furthermore, by adding a plasticizer to vinyl chloride resin, even if it is scratched, it can be deformed by heating it to 80°C or above, eliminating the surface scratches and smoothing it out, meaning that it can self-repair. Fluorine resin and silicone rubber do not have this property. This property of soft vinyl chloride resin allows it to maintain a clean state for a long period of time. This leads to the maintenance of radiative cooling performance over a long period of time.
In this way, by adding a plasticizer, the durability of the film body (radiative cooling film) is improved.
Furthermore, vinyl chloride resins are flame retardant and difficult to biodegrade, making them suitable as resin materials for forming the resin material layer of radiative cooling films that are used outdoors for long periods of time.

そして、銀又は銀合金の光反射層は40%を超えて伸びると破断するものであり、フィルム体の曲面への施工の際に、フィルム体が40%伸ばされながら貼り付け施工されることを考慮して、樹脂材料層の厚みを10nmの1.4倍である14nm以上にしてあるから、フィルム体が伸ばされた状態で施工されても、樹脂材料層に適切な熱輻射特性を備えさせることができる。 The silver or silver alloy light-reflective layer will break if it is stretched by more than 40%. Taking into consideration that the film will be stretched by 40% when applied to the curved surface, the thickness of the resin material layer is set to 14 nm or more, which is 1.4 times 10 nm. Therefore, even when the film is applied in a stretched state, the resin material layer can be provided with appropriate thermal radiation properties.

また、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層の厚みが330μm以下であるから、樹脂材料層の引張強さを139N/2.5cm以下にすることができ、上述の如く、曲面への貼付施工においては、ヒートガンなどによりフィルム体を80℃以上に加熱しながら伸ばすことにより、フィルム体を曲面に対して良好に貼付施工することができる。 Furthermore, because the thickness of the resin material layer formed from vinyl chloride resin is 330 μm or less, the tensile strength of the resin material layer can be reduced to 139 N/2.5 cm or less. As mentioned above, when applying to curved surfaces, the film can be heated to 80°C or higher using a heat gun or the like while being stretched, allowing the film to be applied well to curved surfaces.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、日射環境下でも屋外で放射冷却できるフィルム体の低廉化を図り、しかも、フィルム体を曲面、特に三次元曲面に対して良好に貼付施工することができる。 In short, this additional characteristic of the radiative cooling film of the present invention allows for cost-effective film that can provide radiative cooling outdoors even in solar radiation environments, and also allows the film to be easily attached to curved surfaces, particularly three-dimensional curved surfaces.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、前記樹脂材料層の厚みが、50μm以上、330μm以下である点にある。 A further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention is that the thickness of the resin material layer is 50 μm or more and 330 μm or less.

すなわち、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層の厚みが50μm以上であるから、フィルム体が40%伸ばされた状態で施工されても、樹脂材料層の厚みが略36μm程度となり、十分大きな熱輻射特性を備えさせることができる。
その結果、日射環境下でも屋外で適切に放射冷却できる。
ちなみに、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層の厚みが330μm以下であるから、上述の如く、フィルム体を曲面に対して良好に貼付施工することができる。
In other words, since the thickness of the resin material layer formed from vinyl chloride resin is 50 μm or more, even if the film body is applied in a state where it is stretched by 40%, the thickness of the resin material layer will be approximately 36 μm, and it will be able to have sufficiently large thermal radiation properties.
As a result, proper radiative cooling can be achieved outdoors even in a solar radiation environment.
Incidentally, since the thickness of the resin material layer formed from vinyl chloride resin is 330 μm or less, the film body can be applied to a curved surface satisfactorily as described above.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、日射環境下でも屋外で適切に放射冷却できる。 In short, this additional characteristic configuration of the radiative cooling film of the present invention enables appropriate radiative cooling outdoors, even in a solar radiation environment.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、前記可塑剤が、フタル酸エステル類、脂肪族二塩基酸エステル類及びリン酸エステル類からなる群より選択される1つ以上の化合物からなる点にある。 A further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention is that the plasticizer comprises one or more compounds selected from the group consisting of phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, and phosphate esters.

すなわち、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤が、フタル酸エステル類、脂肪族二塩基酸エステル類及びリン酸エステル類からなる群より選択される1つ以上の化合物であるから、可塑剤が太陽光に含まれている紫外線(波長295nmから400nmの紫外光)を吸収し難いものとなるため、可塑剤が混入された塩化ビニル系樹脂の耐候性を適切に向上できる。 In other words, because the plasticizer mixed into the vinyl chloride resin is one or more compounds selected from the group consisting of phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, and phosphate esters, the plasticizer is less likely to absorb the ultraviolet light contained in sunlight (ultraviolet light with wavelengths of 295 nm to 400 nm), thereby appropriately improving the weather resistance of the vinyl chloride resin mixed with the plasticizer.

つまり、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤が紫外線を吸収すると、可塑剤の加水分解が進む結果、塩化ビニル系樹脂が脱塩素等を生じて着色(茶色)し、しかも、機械強度の低下を生じる虞があるが、可塑剤が太陽光に含まれている紫外線を吸収し難いものとなるため、可塑剤が混入された塩化ビニル系樹脂の耐候性を向上できるのである。 In other words, when plasticizers mixed into vinyl chloride resins absorb ultraviolet light, the hydrolysis of the plasticizer progresses, causing the vinyl chloride resin to undergo dechlorination, discoloring (brown), and possibly reducing its mechanical strength. However, because the plasticizers are less likely to absorb the ultraviolet light contained in sunlight, the weather resistance of vinyl chloride resins mixed with plasticizers can be improved.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの特徴構成によれば、耐候性を向上できる放射冷却フィルムを提供できる。 In short, the characteristic configuration of the radiative cooling film of the present invention makes it possible to provide a radiative cooling film with improved weather resistance.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、前記可塑剤が、前記塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、7重量部以上、50重量部以下の範囲で混入されている点にある。 A further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention is that the plasticizer is mixed in an amount ranging from 7 parts by weight to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the vinyl chloride resin.

すなわち、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤が、塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、7重量部以上、50重量部以下の範囲で混入されているから、樹脂材料層に適度の伸性(伸び易さ)を備えさせるようにしながら、樹脂材料層の耐久性の低下を抑制できる。 In other words, the plasticizer mixed into the vinyl chloride resin is in the range of 7 parts by weight to 50 parts by weight per 100 parts by weight of vinyl chloride resin, which gives the resin material layer appropriate extensibility (ease of stretching) while preventing a decrease in the durability of the resin material layer.

つまり、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤が、塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、7重量部以上混入されているから、樹脂材料層に適度の伸性(伸び易さ)を備えさせることができる。
また、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤が、塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、50重量部以下で混入されているから、樹脂材料層の耐久性の低下を抑制できる。
In other words, since the plasticizer mixed into the vinyl chloride resin is 7 parts by weight or more per 100 parts by weight of the vinyl chloride resin, the resin material layer can be given appropriate extensibility (ease of stretching).
Furthermore, since the plasticizer mixed into the vinyl chloride resin is 50 parts by weight or less per 100 parts by weight of the vinyl chloride resin, deterioration in the durability of the resin material layer can be suppressed.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、樹脂材料層に適度の伸性(伸び易さ)を備えさせかつ樹脂材料層の耐久性の低下を抑制できる。 In short, this further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention provides the resin material layer with appropriate extensibility (ease of stretching) while preventing a decrease in the durability of the resin material layer.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、前記可塑剤が、前記塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、15重量部以上、50重量部以下の範囲で混入されている点にある。 A further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention is that the plasticizer is mixed in an amount ranging from 15 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the vinyl chloride resin.

すなわち、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤が、塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、15重量部以上混入されているから、樹脂材料層の伸性(伸び易さ)を十分に向上させることができる。 In other words, the plasticizer mixed into the vinyl chloride resin is 15 parts by weight or more per 100 parts by weight of vinyl chloride resin, which sufficiently improves the extensibility (ease of stretching) of the resin material layer.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、樹脂材料層の伸性(伸び易さ)を十分に向上させることができる。 In short, this additional characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention can sufficiently improve the extensibility (ease of stretching) of the resin material layer.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、前記隣接側保護層及び前記離間側保護層の厚さが300nm以上で、40μm以下である点にある。 A further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention is that the thicknesses of the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer are 300 nm or more and 40 μm or less.

すなわち、隣接側保護層及び離間側保護層のそれぞれの厚さが300nm以上であるから、樹脂材料層を透過する水分が光反射層を形成する銀又は銀合金に到達することや、冷却対象(例えば、フィルム体の貼り付け対象)からの水分が光反射層を形成する銀又は銀合金に到達することを適切に抑制して、光反射層の劣化を適切に抑制できる。
また、隣接側保護層の厚さが300nm以上であるから、樹脂材料層にて発生したラジカルが光反射層を形成する銀又は銀合金に到達することも適切に抑制することになる。
In other words, since the thickness of each of the adjacent-side protective layer and the separating-side protective layer is 300 nm or more, it is possible to appropriately prevent moisture that passes through the resin material layer from reaching the silver or silver alloy that forms the light-reflecting layer, and to appropriately prevent moisture from the object to be cooled (for example, the object to which the film body is attached) from reaching the silver or silver alloy that forms the light-reflecting layer, thereby appropriately suppressing deterioration of the light-reflecting layer.
Furthermore, since the thickness of the adjacent-side protective layer is 300 nm or more, radicals generated in the resin material layer are appropriately prevented from reaching the silver or silver alloy that forms the light-reflecting layer.

また、隣接側保護層及び離間側保護層の厚さが40μm以下であるから、隣接側保護層及び離間側保護層がフィルム体の断熱性を上げて、フィルム体の放射冷却性能を低下させることを回避できる。 Furthermore, because the thickness of the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer is 40 μm or less, the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer increase the insulating properties of the film body, thereby preventing a decrease in the radiative cooling performance of the film body.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、光反射層の劣化を適切に抑制し、フィルム体の放射冷却性能の低下を抑制できる。 In short, this additional characteristic configuration of the radiative cooling film of the present invention appropriately suppresses deterioration of the light-reflecting layer and prevents a decrease in the radiative cooling performance of the film body.

本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成は、前記樹脂材料層と前記隣接側保護層とが、接着層にて接着され、
前記接着層が、ウレタン樹脂系接着剤、アクリルウレタン樹脂系接着剤、ポリオレフィン樹脂系接着剤のいずれかで形成されている点にある。
A further characteristic configuration of the radiative cooling film of the present invention is that the resin material layer and the adjacent-side protective layer are bonded together by an adhesive layer,
The adhesive layer is formed from any one of a urethane resin adhesive, an acrylic urethane resin adhesive, and a polyolefin resin adhesive.

すなわち、樹脂材料層と隣接側保護層とが、接着層にて接着されるものであるから、例えば、離間側保護層、光反射層及び隣接側保護層を積層状態に一体的に形成し、別途製作した樹脂材料層と隣接側保護層とを接着層にて接着する手順にて、樹脂材料層、隣接側保護層、光反射層及び離間側保護層が積層された状態に良好に形成することができる。 In other words, because the resin material layer and adjacent-side protective layer are bonded together by an adhesive layer, the resin material layer, adjacent-side protective layer, light-reflecting layer, and adjacent-side protective layer can be formed in a laminated state in a satisfactory manner by, for example, forming the separating-side protective layer, light-reflecting layer, and adjacent-side protective layer integrally in a laminated state, and then bonding a separately manufactured resin material layer to the adjacent-side protective layer with an adhesive layer.

接着層の厚みは、1μm以上、30μm以下であることが好ましい。
尚、ウレタン樹脂は破断時伸びが100%~10000%の範囲である等、接着層を形成するウレタン樹脂系接着剤、アクリルウレタン樹脂系接着剤、ポリオレフィン樹脂系接着剤は伸性(伸び易さ)が特に優れているから、本発明では、接着層が存在する場合においても、フィルム体の常温における引張強さ及び破断時伸び(伸びの限界)は、樹脂材料層(赤外放射層)及び光反射層の伸性(伸び易さ)によって定まるものとする。
The thickness of the adhesive layer is preferably 1 μm or more and 30 μm or less.
In addition, since the urethane resin adhesive, acrylic urethane resin adhesive, and polyolefin resin adhesive that form the adhesive layer have particularly excellent extensibility (ease of stretching), such as the elongation at break of urethane resin being in the range of 100% to 10,000%, in the present invention, even when an adhesive layer is present, the tensile strength and elongation at break (elongation limit) of the film body at room temperature are determined by the extensibility (ease of stretching) of the resin material layer (infrared radiation layer) and the light-reflecting layer.

ちなみに、樹脂材料層と隣接側保護層との間に接着層が位置する場合には、接着層からもラジカルが発生することになるが、接着層にて発生したラジカルが光反射層に到達することを、隣接側保護層によって抑制できる。 Incidentally, if an adhesive layer is located between the resin material layer and the adjacent-side protective layer, radicals will also be generated from the adhesive layer, but the adjacent-side protective layer can prevent the radicals generated in the adhesive layer from reaching the light-reflecting layer.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの更なる特徴構成によれば、樹脂材料層、隣接側保護層、光反射層及び離間側保護層が積層された状態に良好に形成することができる。 In short, this further characteristic feature of the radiative cooling film of the present invention allows the resin material layer, adjacent-side protective layer, light-reflecting layer, and distant-side protective layer to be formed in a well-layered state.

本発明の放射冷却フィルムの使用方法の特徴構成は、上記した放射冷却フィルムの使用方法であって、
前記フィルム体の伸びが40%以内となる状態にて使用する点にある。
The characteristic configuration of the method for using the radiative cooling film of the present invention is the method for using the radiative cooling film described above,
The film is used in a state where the elongation of the film is within 40%.

すなわち、光反射層の銀及び銀合金が40%を超えて伸びると破断するから、伸びが40%以内となる状態にてフィルム体を使用することにより、光反射層が破断することを抑制しながら、フィルム体を貼り付け対象に良好に貼り付け施工することができる。 In other words, the silver and silver alloy in the light-reflective layer will break if it stretches beyond 40%, so by using the film with an elongation of 40% or less, you can successfully attach the film to the object to which it is to be attached while preventing the light-reflective layer from breaking.

要するに、本発明の放射冷却フィルムの使用方法の特徴構成によれば、光反射層が破断することを抑制しながら、フィルム体を貼り付け対象に良好に貼り付け施工することができる。 In short, the characteristic features of the method for using the radiative cooling film of the present invention allow the film body to be successfully attached to the attachment target while preventing breakage of the light-reflecting layer.

本発明の放射冷却フィルムの作成方法は、上記した放射冷却フィルムの作成方法であって、
基材の上部に、離型層、前記離間側保護層、前記反射層、前記隣接側保護層を順次積層して反射層側積層体を形成し、
前記樹脂材料層を別途形成し、
前記樹脂材料層と前記反射層側積層体とを前記接着層にて接着し、
その後、前記離型層を前記離間側保護層から分離する点にある。
The method for producing a radiative cooling film of the present invention is the method for producing the radiative cooling film described above,
a release layer, the spacing-side protective layer, the reflective layer, and the adjacent-side protective layer are sequentially laminated on an upper portion of a substrate to form a reflective layer-side laminate;
The resin material layer is separately formed,
the resin material layer and the reflective layer-side laminate are bonded together by the adhesive layer;
Thereafter, the release layer is separated from the separating-side protective layer.

すなわち、樹脂材料層、隣接側保護層、光反射層及び離間側保護層が積層された状態のフィルム体を作成するにあたり、先ず、基材の上部に、離型層、離間側保護層、反射層、隣接側保護層を順次積層して反射層側積層体を形成する。また、樹脂材料層を別途形成する。 That is, to create a film body in which a resin material layer, adjacent-side protective layer, light-reflecting layer, and spacing-side protective layer are laminated, first, a release layer, spacing-side protective layer, reflective layer, and adjacent-side protective layer are laminated in that order on top of the substrate to form a reflective layer-side laminate. A resin material layer is also formed separately.

次に、樹脂材料層と反射層側積層体とを接着層にて接着する。
その後、離型層を離間側保護層から外して、基材を分離する。
尚、離型層は、シリコーン樹脂、フッ素樹脂のいずれかで形成することが好ましく、また、基材は、エチレンテレフタラート樹脂(PET)を用いることができる。
Next, the resin material layer and the reflective layer side laminate are bonded together with an adhesive layer.
Thereafter, the release layer is removed from the separating-side protective layer, and the substrate is separated.
The release layer is preferably made of either a silicone resin or a fluororesin, and the substrate may be made of ethylene terephthalate resin (PET).

つまり、離間側保護層、光反射層及び隣接側保護層を積層状態に一体的に形成し、別途製作した樹脂材料層と隣接側保護層とを接着層にて接着する手順を用いることにより、樹脂材料層、隣接側保護層、光反射層及び離間側保護層が積層された状態に形成することができる。
この場合において、離間側保護層、光反射層及び隣接側保護層を積層状態に一体的に形成するにあたり、適度の厚さを備えて適度の保形性を有する基材を用いることにより、基材の上部に、離型層、離間側保護層、反射層、隣接側保護層を順次積層して反射層側積層体を形成することにより、離間側保護層、光反射層及び隣接側保護層を積層状態に良好に形成できることになる。
In other words, by using a procedure in which the separating-side protective layer, the light-reflecting layer, and the adjacent-side protective layer are integrally formed in a laminated state, and a separately manufactured resin material layer and the adjacent-side protective layer are bonded together with an adhesive layer, the resin material layer, the adjacent-side protective layer, the light-reflecting layer, and the separating-side protective layer can be formed in a laminated state.
In this case, when forming the separating-side protective layer, the light-reflecting layer, and the adjacent-side protective layer integrally in a laminated state, by using a substrate with an appropriate thickness and appropriate shape retention, the release layer, the separating-side protective layer, the reflective layer, and the adjacent-side protective layer are sequentially laminated on top of the substrate to form a reflective layer-side laminate, which makes it possible to form the separating-side protective layer, the light-reflecting layer, and the adjacent-side protective layer in a well-laid state.

そして、樹脂材料層と反射層側積層体とを接着層にて接着した後、離型層を離間側保護層から外して基材を分離すれば、樹脂材料層、隣接側保護層、光反射層及び離間側保護層が積層された状態、つまり、フィルム体を良好に形成できることになる。 Then, after bonding the resin material layer and the reflective layer-side laminate with the adhesive layer, the release layer is removed from the separating-side protective layer to separate the substrate, resulting in a laminated state of the resin material layer, adjacent-side protective layer, light-reflecting layer, and separating-side protective layer, i.e., a satisfactory film body can be formed.

要するに、放射冷却フィルムの作成方法の特徴構成によれば、フィルム体を良好に形成できる。 In short, the characteristic configuration of the radiative cooling film production method allows for the film body to be formed well.

本発明の放射冷却フィルムの作成方法の更なる特徴構成は、
前記樹脂材料層と前記反射層側積層体とを前記接着層にて接着した後、前記離型層を前記離間側保護層から分離する点にある。
Further characteristic features of the method for producing a radiative cooling film of the present invention are as follows:
The resin material layer and the reflective layer-side laminate are bonded together by the adhesive layer, and then the release layer is separated from the separation-side protective layer.

すなわち、樹脂材料層と反射層側積層体とを接着層にて接着し、その後、離型層を離間側保護層から外して基材を分離するものであるから、樹脂材料層、隣接側保護層、光反射層及び離間側保護層が積層された状態、つまり、フィルム体を形成できることになる。 In other words, the resin material layer and the reflective layer-side laminate are bonded together with an adhesive layer, and then the release layer is removed from the separating-side protective layer to separate the substrate. This results in a film body in which the resin material layer, adjacent-side protective layer, light-reflecting layer, and separating-side protective layer are laminated.

要するに、放射冷却フィルムの作成方法の特徴構成によれば、フィルム体を良好に形成できる。 In short, the characteristic configuration of the radiative cooling film production method allows for the film body to be formed well.

放射冷却フィルムの基本構成を説明する図である。FIG. 1 illustrates the basic configuration of a radiative cooling film. 樹脂材料の光吸収率と波長との関係を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the light absorptance of a resin material and wavelength. 塩化ビニル樹脂の輻射率スペクトルを示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the emissivity spectrum of vinyl chloride resin. 塩化ビニリデン樹脂の輻射率スペクトルを示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the emissivity spectrum of vinylidene chloride resin. 放射冷却フィルムの具体構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a specific configuration of a radiative cooling film. 放射冷却フィルムの作成手順を示す図である。FIG. 1 illustrates the fabrication procedure for a radiative cooling film. 可塑剤の添加量と引張強さとの関係を示す表である。1 is a table showing the relationship between the amount of plasticizer added and tensile strength. 可塑剤の添加量と伸び限界との関係を示す表である。1 is a table showing the relationship between the amount of plasticizer added and the elongation limit. 紫外線吸収剤を添加した樹脂材料層の透過率を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the transmittance of a resin material layer to which an ultraviolet absorber is added. 銀をベースにした光反射層の光反射率スペクトルを示す図である。FIG. 1 shows the light reflectance spectrum of a silver-based light-reflecting layer. ポリエチレンの光透過率と波長との関係を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between light transmittance and wavelength of polyethylene. 試験用構成を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a test configuration. 隣接側保護層がポリエチレンの場合の試験結果を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing test results when the adjacent-side protective layer is made of polyethylene. 隣接側保護層が紫外線吸収アクリルの場合の試験結果を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing test results when the adjacent-side protective layer is made of ultraviolet-absorbing acrylic. ポリエチレンの輻射率スペクトルを示す図である。FIG. 1 shows the emissivity spectrum of polyethylene. 塩化ビニル樹脂に可塑剤を混入した試験結果を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing test results in which a plasticizer is mixed into a vinyl chloride resin. 可塑剤の波長と吸光度との関係を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between wavelength and absorbance of a plasticizer. 可塑剤の波長と吸光度との関係を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between wavelength and absorbance of a plasticizer. 可塑剤の波長と吸光度との関係を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between wavelength and absorbance of a plasticizer. 可塑剤の波長と吸光度との関係を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the relationship between wavelength and absorbance of a plasticizer. 樹脂材料層の表裏を凹凸状にした構成を説明する図である。10A and 10B are diagrams illustrating a configuration in which the front and back surfaces of a resin material layer are uneven. 樹脂材料層にフィラーを混入させた構成を説明する図である。10A and 10B are diagrams illustrating a configuration in which a filler is mixed into a resin material layer. 可塑剤と引張強さと破断時伸びとの関係を示す表である。1 is a table showing the relationship between plasticizer, tensile strength, and elongation at break.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
〔放射冷却フィルムの基本構成〕
図1に示すように、放射冷却フィルムCPは、放射面Hから赤外光IRを放射する赤外放射層Aと、当該赤外放射層Aにおける放射面Hの存在側とは反対側に位置させる光反射層Bと、光反射層Bにおける赤外放射層Aに隣接する面に隣接側保護層Duと、光反射層Bにおける赤外放射層Aから離れる面に離間側保護層Dsを備えるフィルム体Fに構成されている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Basic structure of radiative cooling film]
As shown in Fig. 1, the radiative cooling film CP is configured as a film body F including an infrared emitting layer A that radiates infrared light IR from a emitting surface H, a light reflecting layer B located on the side of the infrared emitting layer A opposite to the side where the emitting surface H exists, an adjacent-side protective layer Du on the surface of the light reflecting layer B adjacent to the infrared emitting layer A, and a distant-side protective layer Ds on the surface of the light reflecting layer B away from the infrared emitting layer A.

フィルム体Fは、常温における引張強さが140N/2.5cm以下でかつ破断時伸びが30%以上である。
本実施形態では、赤外放射層Aの常温における引張強さが139N/2.5cm以下で、破断時伸びが50%以上であり、光反射層Bの常温における引張強さが1N/2.5cm以下で、破断時伸びが30%以上である。
ちなみに、常温とは、23℃(JIS K 6732で定められている温度)と定義する。
The film body F has a tensile strength of 140 N/2.5 cm or less at room temperature and an elongation at break of 30% or more.
In this embodiment, the infrared radiation layer A has a tensile strength of 139 N/2.5 cm or less at room temperature and an elongation at break of 50% or more, and the light-reflecting layer B has a tensile strength of 1 N/2.5 cm or less at room temperature and an elongation at break of 30% or more.
Incidentally, normal temperature is defined as 23°C (the temperature specified in JIS K 6732).

光反射層Bは、銀あるいは銀合金で構成され、赤外放射層A及び隣接側保護層Duを透過した太陽光等の光Lを反射するものである。そして、その反射特性が、波長0.4μmから0.5μmの反射率が90%以上、波長0.5μmより長波の反射率が96%以上である。
太陽光スペクトルは、波長0.295μm(295nm)から4μm(4000nm)にかけて存在し、波長0.4μm(400nm)から大きくなるにつれ強度が大きくなり、特に波長0.5μm(500nm)から波長1.8μm(1800nm)にかけての強度が大きい。
The light-reflecting layer B is made of silver or a silver alloy and reflects light L, such as sunlight, that has passed through the infrared radiation layer A and the adjacent-side protective layer Du. Its reflection characteristics are such that the reflectance is 90% or more for wavelengths of 0.4 μm to 0.5 μm and 96% or more for wavelengths longer than 0.5 μm.
The solar spectrum exists in the wavelength range from 0.295 μm (295 nm) to 4 μm (4000 nm), and the intensity increases as the wavelength increases from 0.4 μm (400 nm), and the intensity is particularly high in the wavelength range from 0.5 μm (500 nm) to 1.8 μm (1800 nm).

尚、本実施形態において、光Lとは、紫外光(紫外線)、可視光、赤外光を含むものであり、これらを電磁波としての光の波長で述べると、その波長が10nmから20000nm(0.01μmから20μmの電磁波)の電磁波を含む。本書では、紫外光(紫外線)の波長域が、295nm(0.295μm)以上で、400nm(0.4μm)以下の範囲であるとする。 In this embodiment, light L includes ultraviolet light (ultraviolet rays), visible light, and infrared light, which, when expressed in terms of the wavelength of light as electromagnetic waves, include electromagnetic waves with wavelengths of 10 nm to 20,000 nm (electromagnetic waves of 0.01 μm to 20 μm). In this document, the wavelength range of ultraviolet light (ultraviolet rays) is defined as being greater than or equal to 295 nm (0.295 μm) and less than or equal to 400 nm (0.4 μm).

光反射層Bが、波長0.4μmから0.5μmにかけて90%以上の反射特性を示し、波長0.5μmより長波の反射率が96%以上の反射特性を示すことにより、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)が光反射層Bで吸収する太陽光エネルギーを5%以下に抑えることができ、すなわち夏場の南中時に吸収する太陽光エネルギーを50W程度とすることができる。 The light-reflecting layer B exhibits a reflectivity of 90% or more from wavelengths of 0.4 μm to 0.5 μm, and a reflectivity of 96% or more for wavelengths longer than 0.5 μm, which means that the solar energy absorbed by the light-reflecting layer B of the radiative cooling film CP (film body F) can be reduced to 5% or less. In other words, the solar energy absorbed at noon in summer can be reduced to around 50 W.

赤外放射層Aは、吸収した太陽光エネルギーよりも大きな熱輻射エネルギーを波長8μmから波長14μmの帯域で放つ厚みに調整された塩化ビニル系樹脂からなる樹脂材料層Jとして構成されている。
ちなみに、本発明で用いられる塩化ビニル系樹脂とは、塩化ビニルあるいは塩化ビニリデンの単独重合体及び塩化ビニルあるいは塩化ビニリデンの共重合体であり、その製造方法は、従来公知の重合方法で行われる。
The infrared radiation layer A is configured as a resin material layer J made of vinyl chloride resin adjusted to a thickness that emits thermal radiation energy greater than the absorbed solar energy in the wavelength band of 8 μm to 14 μm.
The vinyl chloride resin used in the present invention is a homopolymer of vinyl chloride or vinylidene chloride or a copolymer of vinyl chloride or vinylidene chloride, and is produced by a conventionally known polymerization method.

樹脂材料層Jの詳細は後述するが、本実施形態では、樹脂材料層Jを形成する樹脂材料が、可塑剤が混入された塩化ビニル系樹脂である。つまり、樹脂材料層Jを形成する樹脂材料が、樹脂可塑剤が混入された塩化ビニル樹脂、または、可塑剤が混入された塩化ビニリデン樹脂である。
可塑剤が混入された塩化ビニル系樹脂は、伸性(伸び易さ)が優れ、温度上昇により引張強さが低下する性能を有する。
Although details of the resin material layer J will be described later, in this embodiment, the resin material forming the resin material layer J is a vinyl chloride resin mixed with a plasticizer. In other words, the resin material forming the resin material layer J is a vinyl chloride resin mixed with a resin plasticizer, or a vinylidene chloride resin mixed with a plasticizer.
Vinyl chloride resins mixed with plasticizers have excellent ductility (ease of stretching) and exhibit a property in which the tensile strength decreases with increasing temperature.

従って、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)は、放射冷却フィルムCPに入射した光Lのうちの一部の光を、赤外放射層Aの放射面Hにて反射し、放射冷却フィルムCPに入射した光Lのうちで樹脂材料層J及び隣接側保護層Duを透過した光(太陽光等)を、光反射層Bにて反射して、放射面Hから外部へ逃がすように構成されている。 The radiative cooling film CP (film body F) is therefore configured to reflect a portion of the light L incident on the radiative cooling film CP from the radiation surface H of the infrared radiation layer A, and to reflect the light L incident on the radiative cooling film CP that has passed through the resin material layer J and the adjacent-side protective layer Du (such as sunlight) from the light reflection layer B, allowing it to escape to the outside from the radiation surface H.

そして、光反射層Bにおける樹脂材料層Jの存在側とは反対側に位置する冷却対象物Eからの放射冷却フィルムCPへの入熱(例えば、冷却対象物Eからの熱伝導による入熱)を、樹脂材料層Jによって赤外光IRに変換して放射することにより、冷却対象物Eを冷却するように構成されている。 The radiative cooling film CP is configured to cool the object to be cooled E by converting heat input to the film CP from the object to be cooled E, which is located on the side of the light-reflecting layer B opposite the side where the resin material layer J is present (for example, heat input due to thermal conduction from the object to be cooled E), into infrared light IR by the resin material layer J and radiating it.

つまり、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)は、当該放射冷却フィルムCPへ照射される光Lを反射し、また、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)への伝熱(例えば、大気からの伝熱や冷却対象物Eからの伝熱)を赤外光IRとして外部に放射するように構成されている。
また、樹脂材料層J、隣接側保護層Du、光反射層B及び離間側保護層Dsが伸性を備えることによって、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)が伸性を備えるように構成されている。
That is, the radiative cooling film CP (film body F) is configured to reflect the light L irradiated onto the radiative cooling film CP, and to radiate heat transferred to the radiative cooling film CP (film body F) (for example, heat transferred from the atmosphere or the object to be cooled E) to the outside as infrared light IR.
Furthermore, the resin material layer J, adjacent-side protective layer Du, light-reflecting layer B, and distant-side protective layer Ds are configured to have extensibility, so that the radiative cooling film CP (film body F) is configured to have extensibility.

加えて、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)は、赤外光IRを樹脂材料層Jの光反射層Bと接する面とは反対側の放射面Hから放射する放射冷却方法を実施するために用いられることになり、具体的には、放射面Hを空に向け、当該空に向けた放射面Hから赤外光IR放射する放射冷却方法を実施することになる。 In addition, the radiative cooling film CP (film body F) is used to implement a radiative cooling method in which infrared light IR is radiated from the radiation surface H on the side opposite to the surface of the resin material layer J that is in contact with the light-reflecting layer B. Specifically, the radiation surface H is directed toward the sky, and the radiation cooling method is implemented in which infrared light IR is radiated from the radiation surface H that faces the sky.

本発明の放射冷却フィルムCP(放射冷却フィルム)を装着する対象(冷却対象物E)としては、各種のテント類(膜材)の外面、電気機器等を収納するボックスの外面、物品搬送用コンテナの外面、牛乳を貯留する牛乳タンクの外面、牛乳タンクローリーの牛乳貯留部の外面等、冷却が必要な諸々のものを対象とすることができる。
また、本発明の放射冷却フィルムCP(フィルム体)は、糊をつけて、車の外周、倉庫や建屋の外壁、ヘルメットの外周にラッピングすることにより、放射冷却を発揮させる等、既設の物体に後付けして、容易に放射冷却能力を発揮させることができる。
The target (cooling target E) to which the radiative cooling film CP (radiative cooling film) of the present invention can be attached can be any object that requires cooling, such as the outer surface of various tents (membrane materials), the outer surface of boxes that store electrical equipment, the outer surface of containers for transporting goods, the outer surface of milk tanks that store milk, the outer surface of the milk storage part of milk tanker trucks, etc.
Furthermore, the radiative cooling film CP (film body) of the present invention can be attached to existing objects to easily exert its radiative cooling capacity, such as by applying glue and wrapping it around the periphery of a car, the outer wall of a warehouse or building, or the periphery of a helmet.

〔樹脂材料層の概要〕
樹脂材料層Jを形成する樹脂材料(塩化ビニル系樹脂)は、厚みによって光吸収率や輻射率(光放射率)が変化する。そのため、太陽光をできるだけ吸収せず、いわゆる大気の窓の波長帯域(波長8μmから波長14μmの帯域)において大きな熱輻射を発するように樹脂材料層Jの厚みを調整する必要がある。
[Outline of resin material layer]
The light absorptivity and emissivity (light emissivity) of the resin material (vinyl chloride resin) forming the resin material layer J change depending on the thickness. Therefore, it is necessary to adjust the thickness of the resin material layer J so that it absorbs as little sunlight as possible and emits large thermal radiation in the so-called atmospheric window wavelength band (wavelength band from 8 μm to 14 μm).

具体的には、樹脂材料層Jの厚みが、波長0.4μmから0.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が13%以下であり、波長0.5μmから波長0.8μmの範囲の光吸収率の波長平均が4%以下であり、波長0.8μmから波長1.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が1%以内であり、波長1.5μmから2.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が40%以下となる光吸収特性を備え、且つ、波長8μmから14μmの範囲の輻射率の波長平均が40%以上となる熱輻射特性を備える状態の厚みに調整されている。 Specifically, the thickness of the resin material layer J is adjusted to have light absorption characteristics such that the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 0.4 μm to 0.5 μm is 13% or less, the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 0.5 μm to 0.8 μm is 4% or less, the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 0.8 μm to 1.5 μm is within 1%, and the wavelength average light absorptance in the wavelength range of 1.5 μm to 2.5 μm is 40% or less, and thermal radiation characteristics such that the wavelength average emissivity in the wavelength range of 8 μm to 14 μm is 40% or more.

太陽光の光吸収率の観点で、樹脂材料の光吸収率は樹脂材料の膜厚を厚くすると増加する。樹脂材料を厚膜にすると、大気の窓の輻射率はほぼ1となり、その際に宇宙に放出する熱輻射は125W/mから160W/mとなる。隣接側保護層Du及び光反射層Bでの太陽光吸収は50W/m以下である。樹脂材料層J、隣接側保護層Du及び光反射層Bにおける太陽光吸収の和が150W/m以下であり、大気の状態がよければ冷却が進む。樹脂材料層Jを形成する樹脂材料は、以上のように太陽光スペクトルのピーク値付近の光吸収率が小さなものを用いるのが良い。 In terms of the light absorption rate of sunlight, the light absorption rate of the resin material increases as the film thickness of the resin material increases. When the resin material is made thick, the emissivity of the atmospheric window becomes nearly 1, and the thermal radiation emitted into space at that time becomes 125 W/ to 160 W/ . The sunlight absorption in the adjacent-side protective layer Du and the light-reflecting layer B is 50 W/ or less. If the sum of the sunlight absorption in the resin material layer J, the adjacent-side protective layer Du, and the light-reflecting layer B is 150 W/ or less and the atmospheric conditions are good, cooling will proceed. As described above, it is preferable to use a resin material that has a small light absorption rate near the peak value of the sunlight spectrum for the resin material layer J.

また、赤外放射(熱輻射)の観点では、樹脂材料層Jの厚みは、波長8μmから14μmの範囲の輻射率の波長平均が40%以上となる状態の厚みに調整する必要がある。
隣接側保護層Du及び光反射層Bで吸収される50W/m程度の太陽光の熱エネルギーを、樹脂材料層Jの熱輻射より樹脂材料層Jから宇宙に放出させるには、それ以上の熱輻射を樹脂材料層Jが出す必要がある。
例えば、外気温が30℃のとき、8μmから14μmの大気の窓の熱輻射の最大は200W/mである(輻射率1として計算)。この値が得られるのは、高山など、空気の薄いよく乾燥した環境の快晴時である。低地などでは大気の厚みが高山よりも厚くなるので、大気の窓の波長帯域は狭くなり、透過率は低下する。ちなみに、このことを「大気の窓が狭くなる」と呼ぶ。
In terms of infrared radiation (thermal radiation), the thickness of the resin material layer J needs to be adjusted so that the wavelength average of the emissivity in the wavelength range of 8 μm to 14 μm is 40% or more.
In order to release the thermal energy of sunlight of approximately 50 W/ m2 , which is absorbed by the adjacent protective layer Du and the light-reflecting layer B, into space from the resin material layer J through thermal radiation from the resin material layer J, the resin material layer J must emit more thermal radiation than this.
For example, when the outside temperature is 30°C, the maximum thermal radiation of the atmospheric window from 8 μm to 14 μm is 200 W/ m2 (calculated with an emissivity of 1). This value can be obtained on a clear day in a dry environment with thin air, such as a high mountain. Since the atmosphere is thicker in lowlands than in high mountains, the wavelength band of the atmospheric window is narrower and the transmittance is lower. Incidentally, this is called the "narrowing of the atmospheric window."

また、放射冷却フィルムCPを実際に使用する環境は多湿であることもあり、その場合においても大気の窓は狭くなる。低地で利用する際の大気の窓域で発生する熱輻射は、状態の良いときで30℃において160W/mと見積もられる(輻射率1として計算)。また、日本ではよくあることであるが空に靄があるときや、スモッグが存在する場合、大気の窓はさらに狭くなり、宇宙への放射は125W/m程度となる。
かかる事情を鑑みて、波長8μmから14μmの輻射率の波長平均は40%以上(大気の窓帯での熱輻射強度が50W/m)ないと中緯度帯の低地で用いることができない。
Furthermore, the environment in which the radiative cooling film CP is actually used may be humid, and even in that case, the atmospheric window will be narrow. The thermal radiation generated in the atmospheric window when used in low-lying areas is estimated to be 160 W/ m2 at 30°C under good conditions (calculated with an emissivity of 1). Furthermore, when there is haze or smog in the sky, which is common in Japan, the atmospheric window becomes even narrower, and radiation into space is about 125 W/ m2 .
In view of these circumstances, unless the wavelength average of the emissivity in the wavelength range of 8 μm to 14 μm is 40% or more (thermal radiation intensity in the atmospheric window zone is 50 W/m 2 ), it cannot be used in lowlands in the mid-latitude zone.

したがって、上記事項を鑑みた光学的規定の範囲になるように樹脂材料層Jの厚みを調整すると、太陽光の光吸収による入熱よりも大気の窓における出熱の方が大きくなり、日射環境下でも屋外で放射冷却により外気より低温とすることができるようになる。 Therefore, if the thickness of the resin material layer J is adjusted to fall within the optically specified range taking the above into consideration, the heat output from the atmospheric window will be greater than the heat input due to sunlight absorption, and it will be possible to maintain a temperature lower than the outside air through radiative cooling even outdoors in a solar radiation environment.

本実施形態においては、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層Jの厚みが、14μm以上330μm以下である。好ましくは、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層Jの厚みが、50μm以上330μm以下である。
このようにすることで、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層Jの引張強さが、139N/2.5cm以下でかつ破断時伸び(伸びの限界)が50%以上となる。
また、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層Jは、温度上昇により引張強さが低下することになる。例えば、80℃に加熱すると、塩化ビニル系樹脂にて形成される樹脂材料層Jの引張り強さが、常温に較べて、一般的に1/2以下に低下することになる。
In this embodiment, the thickness of the resin material layer J made of vinyl chloride resin is 14 μm or more and 330 μm or less. Preferably, the thickness of the resin material layer J made of vinyl chloride resin is 50 μm or more and 330 μm or less.
By doing so, the resin material layer J made of vinyl chloride resin has a tensile strength of 139 N/2.5 cm or less and an elongation at break (elongation limit) of 50% or more.
Furthermore, the tensile strength of the resin material layer J made of vinyl chloride resin decreases with increasing temperature. For example, when heated to 80°C, the tensile strength of the resin material layer J made of vinyl chloride resin generally decreases to half or less compared to that at room temperature.

〔樹脂材料の詳細〕
キルヒホッフの法則により、輻射率(ε)と光吸収率(A)は等しい。光吸収率は吸収係数(α)から下記の式(1)(以下、光吸収率関係式と呼ぶことがある)にて求めることができる。
A=1-exp(-αt)---(1)尚、tは膜厚である。
つまり、樹脂材料層Jの膜厚を調整すると、吸収係数の大きな波長帯域で大きな熱輻射が得られる。屋外で放射冷却する場合、大気の窓の波長帯域である波長8μmから14μmにおいて吸収係数の大きな材料を用いるとよい。
また、太陽光の吸収を抑制するために波長0.3μmから4μm、特に0.4μmから2.5μmの範囲で吸収係数を持たない、或いは小さな材料を用いるとよい。吸収係数と吸収率の関係式(光吸収率関係式)からわかるように、光吸収率(輻射率)は樹脂材料の膜厚によって変化する。
[Details of resin material]
According to Kirchhoff's law, the emissivity (ε) is equal to the light absorptance (A). The light absorptance can be calculated from the absorption coefficient (α) using the following formula (1) (hereinafter sometimes referred to as the light absorptance relational formula):
A=1-exp(-αt) (1) where t is the film thickness.
In other words, by adjusting the film thickness of the resin material layer J, it is possible to obtain a large thermal radiation in a wavelength band with a large absorption coefficient. When performing radiative cooling outdoors, it is recommended to use a material with a large absorption coefficient in the wavelength band of 8 μm to 14 μm, which is the atmospheric window wavelength band.
Furthermore, to suppress absorption of sunlight, it is advisable to use a material that has no or a small absorption coefficient in the wavelength range of 0.3 μm to 4 μm, particularly 0.4 μm to 2.5 μm. As can be seen from the relational expression between the absorption coefficient and the absorptance (light absorptance relational expression), the light absorptance (emissivity) changes depending on the film thickness of the resin material.

日射環境下での放射冷却によって周囲の大気より温度を下げるためには、大気の窓の波長帯域において大きな吸収係数をもち、太陽光の波長帯域では吸収係数を殆ど持たない材料を選ぶと、膜厚の調整によって太陽光は殆ど吸収しないが、大気の窓の熱輻射を多く出す、つまりは太陽光の入力よりも放射冷却による出力の方が大きな状態を作り出すことができる。 In order to lower the temperature below the surrounding atmosphere through radiative cooling in a solar radiation environment, a material with a large absorption coefficient in the wavelength band of the atmospheric window and almost no absorption coefficient in the wavelength band of sunlight can be selected. By adjusting the film thickness, it is possible to absorb almost no sunlight but emit a large amount of thermal radiation from the atmospheric window. In other words, it is possible to create a state in which the output from radiative cooling is greater than the input of sunlight.

太陽光スペクトルは波長0.295μmより長波しか存在しない。なお、紫外線の定義は波長0.4μmよりも短波長側の範囲、可視光線の定義は波長0.4μmから0.8μmの範囲、近赤外線の定義は波長0.8μmから3μmの範囲、中赤外線の定義は3μmから8μmの範囲、遠赤外線の定義は波長8μmよりも長波の範囲とする。 The solar spectrum only contains wavelengths longer than 0.295 μm. Ultraviolet rays are defined as the range of wavelengths shorter than 0.4 μm, visible light is defined as the range of wavelengths from 0.4 μm to 0.8 μm, near-infrared rays are defined as the range of wavelengths from 0.8 μm to 3 μm, mid-infrared rays are defined as the range of wavelengths from 3 μm to 8 μm, and far-infrared rays are defined as the range of wavelengths longer than 8 μm.

炭素-塩素結合(C-Cl)に関して、アルケンの炭素と塩素の結合エネルギーは3.28eVであり、その波長は0.378μmであるので、太陽光のうちの紫外線を多く吸収するが、可視域については吸収をほとんど持たない。
厚さ100μmの塩化ビニル樹脂の紫外から可視域の吸収率スペクトルを図2に示すが、波長0.38μmよりも短波長側で光吸収が大きくなる。
厚さ100μmの塩化ビニリデン樹脂の紫外から可視域の吸収率スペクトルを図2に示すが、波長0.4μmよりも短波長側で若干の吸収率スペクトルの増加がみられる。
Regarding the carbon-chlorine bond (C—Cl), the bond energy between carbon and chlorine in an alkene is 3.28 eV, and the wavelength is 0.378 μm, so it absorbs a lot of ultraviolet light in sunlight, but has almost no absorption in the visible range.
FIG. 2 shows the absorption spectrum of a 100 μm thick vinyl chloride resin in the ultraviolet to visible region, and shows that the light absorption is large on the shorter wavelength side than 0.38 μm.
The absorption spectrum of a 100 μm thick vinylidene chloride resin in the ultraviolet to visible region is shown in FIG. 2, and a slight increase in the absorption spectrum is observed on the shorter wavelength side than 0.4 μm.

尚、図2には、厚さ40μmのエチレンテレフタラート樹脂(PET)の紫外から可視域の吸収率スペクトル、及び、ポリエチレン(オレフィン系)の紫外から可視域の吸収率スペクトルを併記する。 Figure 2 also shows the ultraviolet to visible absorbance spectrum of 40 μm-thick ethylene terephthalate resin (PET) and the ultraviolet to visible absorbance spectrum of polyethylene (olefin-based).

図3に、炭素-塩素結合をもつ塩化ビニル樹脂(PVC)の大気の窓における輻射率を示す。また、図4に、炭素-塩素結合をもつ塩化ビニリデン樹脂(PVDC)の大気の窓における輻射率を示す。
炭素-塩素結合に関しては、C-Cl伸縮振動による吸収係数が波長12μmを中心に半値幅1μm以上の広帯域に現れる。
また、塩化ビニル樹脂の場合、塩素の電子吸引の影響で、主鎖に含まれるアルケンのC-Hの変角振動に由来する吸収係数が波長10μmあたりに現れる。塩化ビニリデン樹脂についても同様である。
これらの影響で、厚さ10μmの輻射率の波長平均は、波長8μmから14μmの範囲において43%であり、波長平均40%以上という規定の中に入る。図示の通り、膜厚が厚くなると大気の窓領域における輻射率は増大する。
Figure 3 shows the emissivity of polyvinyl chloride resin (PVC) with carbon-chlorine bonds at the atmospheric window, and Figure 4 shows the emissivity of polyvinylidene chloride resin (PVDC) with carbon-chlorine bonds at the atmospheric window.
Regarding the carbon-chlorine bond, the absorption coefficient due to the C-Cl stretching vibration appears in a wide band with a half-width of 1 μm or more centered at a wavelength of 12 μm.
In the case of vinyl chloride resin, the electron-withdrawing effect of chlorine causes an absorption coefficient at a wavelength of around 10 μm, which is due to the bending vibration of the C—H bond of the alkene contained in the main chain. The same is true for vinylidene chloride resin.
Due to these effects, the wavelength average of the emissivity of a 10 μm thick film is 43% in the wavelength range from 8 μm to 14 μm, which falls within the wavelength average of 40% or more. As shown in the figure, the emissivity in the atmospheric window region increases as the film thickness increases.

図3に示す如く、塩化ビニル樹脂の場合は100μmより厚くなっても大気の窓領域における熱輻射の増大は殆どなくなる。つまり、塩化ビニル樹脂の場合、大気の窓における熱輻射は表面から深さ約100μm以内の部分で生じており、より深い部分の輻射は外に出てこない。
図4に示す如く、塩化ビニリデン樹脂は、塩化ビニル樹脂と同様であることが分かる。
As shown in Figure 3, in the case of vinyl chloride resin, even if the thickness exceeds 100 μm, there is almost no increase in thermal radiation in the atmospheric window region. In other words, in the case of vinyl chloride resin, thermal radiation in the atmospheric window occurs within a depth of about 100 μm from the surface, and radiation from deeper parts does not escape to the outside.
As shown in FIG. 4, it can be seen that vinylidene chloride resin is similar to vinyl chloride resin.

以上のように、樹脂材料表面から発生する大気の窓領域の熱輻射は、表面からの深さが概ね100μm以内の部分で生じており、それ以上に樹脂の厚みが増していくと、熱輻射に寄与しない樹脂材料によって、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の放射冷却した冷熱が断熱されることになる。
理想的に太陽光を全く吸収しない樹脂材料層Jを光反射層Bの上に作製することを考える。この場合、太陽光は放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の光反射層Bでのみ吸収される。
樹脂材料の熱伝導率はおしなべて0.2W/m/K程度であり、この熱伝導性を考慮して計算すると、樹脂材料層Jの厚みが20mmを超えると、冷却面(光反射層Bにおける樹脂材料層Jの存在側とは反対側の面)の温度が上昇する。
As described above, the thermal radiation of the atmospheric window region generated from the surface of the resin material occurs within a depth of approximately 100 μm from the surface. If the resin thickness increases beyond this, the cold generated by radiative cooling of the radiative cooling film CP (film body F) will be insulated by the resin material that does not contribute to thermal radiation.
Consider fabricating a resin material layer J that ideally does not absorb any sunlight on the light reflecting layer B. In this case, sunlight is absorbed only by the light reflecting layer B of the radiative cooling film CP (film body F).
The thermal conductivity of resin materials is generally about 0.2 W/m/K, and when calculations are made taking this thermal conductivity into account, if the thickness of the resin material layer J exceeds 20 mm, the temperature of the cooling surface (the surface of the light-reflecting layer B opposite the side where the resin material layer J is present) will rise.

太陽光をまったく吸収しない理想的な樹脂材料が存在したとしても、樹脂材料の熱伝導率はおしなべて0.2W/m/K程度であるので、20mmを超えると光反射層Bが日射を受けて加熱されてしまい、光反射層側に設置された冷却対象物Eは加熱される。つまり、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の樹脂材料の厚みは20mm以下にする必要がある。 Even if an ideal resin material existed that did not absorb any sunlight, the thermal conductivity of resin materials is generally around 0.2 W/m/K. Therefore, if the thickness exceeds 20 mm, the light-reflecting layer B would be heated by sunlight, and the object to be cooled E placed on the light-reflecting layer side would be heated. In other words, the thickness of the resin material of the radiative cooling film CP (film body F) needs to be 20 mm or less.

〔樹脂材料層の厚みについて〕
放射冷却フィルムCPの実用の観点では、樹脂材料層Jの厚みは薄い方がよい。樹脂材料の熱伝導率は、金属やガラスなどよりも一般に低い。冷却対象物Eを効果的に冷却するには、樹脂材料層Jの膜厚は必要最低限であるのがよい。樹脂材料層Jの膜厚を厚くするほどに大気の窓の熱輻射は大きくなり、ある膜厚を超えると大気の窓における熱輻射エネルギーは飽和する。
[Thickness of the resin material layer]
From the viewpoint of practical use of the radiative cooling film CP, it is preferable that the thickness of the resin material layer J is thin. The thermal conductivity of resin materials is generally lower than that of metals, glass, etc. To effectively cool the cooling target E, it is preferable that the thickness of the resin material layer J is the minimum necessary. The thicker the resin material layer J is, the greater the thermal radiation of the atmospheric window becomes, and above a certain thickness, the thermal radiation energy at the atmospheric window becomes saturated.

飽和する膜厚は樹脂材料にもよるが、炭素-塩素結合を含む樹脂の場合、厚みが100μmであっても飽和しており、厚さ50μmでも大気の窓領域において十分な熱輻射が得られる。樹脂材料の厚さが薄い方が、熱貫流率が高まり被冷却物の温度をより効果的に下げられるので、炭素-塩素結合を含む樹脂の場合、50μm以下の厚さにすると断熱性が小さくなり冷却対象物Eを効果的に冷却することができる。炭素-塩素結合の場合には、100μm以下の厚さであれば、冷却対象物Eを効果的に冷却することができる。 The film thickness at which saturation occurs depends on the resin material, but in the case of resins containing carbon-chlorine bonds, saturation occurs even at a thickness of 100 μm, and sufficient heat radiation is obtained in the atmospheric window region even at a thickness of 50 μm. The thinner the resin material, the higher the thermal conductivity and the more effectively the temperature of the object to be cooled can be lowered. Therefore, in the case of resins containing carbon-chlorine bonds, a thickness of 50 μm or less reduces the insulating properties and allows for effective cooling of object E. In the case of carbon-chlorine bonds, a thickness of 100 μm or less allows for effective cooling of object E.

薄くする効用は断熱性を下げて冷熱を伝えやすくすること以外にもある。それは、炭素-塩素結合を含む樹脂が呈する、近赤外域でのCH、CH、CH由来の近赤外域の光吸収の抑制である。薄くすると、これらによる太陽光吸収を小さくすることができるので、放射冷却フィルムCPの冷却能力が高まることになる。
以上の観点から、炭素-塩素結合を含む樹脂である塩化ビニル系樹脂の場合、50μm以下の厚さにするとより効果的に日照下において放射冷却効果を出すことができる。
The benefit of thinning the film is not only to reduce heat insulation and improve cold conduction, but also to suppress the absorption of near-infrared light from CH, CH2 , and CH3 , which are present in resins containing carbon-chlorine bonds. Thinning the film reduces the sunlight absorption caused by these, thereby increasing the cooling capacity of the radiative cooling film CP.
From the above viewpoint, in the case of vinyl chloride resin, which is a resin containing carbon-chlorine bonds, a thickness of 50 μm or less can more effectively exert a radiative cooling effect under sunlight.

上述の通り、樹脂材料層Jの厚さが10μm以上であれば日照下において放射冷却効果を出すことができるが、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)を貼付施工の際に40%近く伸ばすことを前提とした場合には、上述の如く、樹脂材料層Jの厚さは14μm以上にする必要がある。そして、樹脂材料層Jの厚さが50μm以上であれば、樹脂材料層Jが十分大きな放射冷却効果を出すことができる。
また、樹脂材料層Jの引張強さを139N/2.5cm以下にするため、樹脂材料層Jの厚さを、300μm以下にする必要がある。
As mentioned above, if the thickness of the resin material layer J is 10 μm or more, it can produce a radiative cooling effect under sunlight, but if it is assumed that the radiative cooling film CP (film body F) will be stretched by nearly 40% when applied, the thickness of the resin material layer J needs to be 14 μm or more, as mentioned above. And if the thickness of the resin material layer J is 50 μm or more, the resin material layer J can produce a sufficiently large radiative cooling effect.
Furthermore, in order to make the tensile strength of the resin material layer J 139 N/2.5 cm or less, the thickness of the resin material layer J must be 300 μm or less.

(樹脂材料層Jの引張強さについて)
図7には、樹脂材料層Jの厚さ(μm)と引張強さ(N/2.5cm)との関係を例示する。具体的には、図7においては、樹脂材料層J(塩化ビニル樹脂)に可塑剤としてDOP(フタル酸ジ-2-エチルヘキシル)を添加する場合において、添加するDOPの添加量(重量部)を変化させながら、樹脂材料層Jの厚さ(μm)と引張強さ(N/2.5cm)との関係を例示する。
(Regarding the tensile strength of the resin material layer J)
7 illustrates the relationship between the thickness (μm) and tensile strength (N/2.5 cm) of the resin material layer J. Specifically, in the case where DOP (di-2-ethylhexyl phthalate) is added as a plasticizer to the resin material layer J (vinyl chloride resin), the relationship between the thickness (μm) and tensile strength (N/2.5 cm) of the resin material layer J is illustrated while changing the amount (parts by weight) of DOP added.

図7においては、樹脂材料層Jの100重量に対して添加するDOPの重量部の上限は、50重量部とする。つまり、可塑剤の添加量は、耐久性の観点から50重量部を上限とする。
図7に示す如く、樹脂材料層Jの100重量に対して可塑剤の添加量が50重量部で、引張強さが139N/2.5cm以下になるには、樹脂材料層Jの厚さの上限は概ね330μmであり、樹脂材料層Jの厚さの上限を320μmにすると一層よい。
ちなみに、可塑剤の種類が変化した場合には、可塑剤の可塑化効率を重量部に掛け合わせることにより、樹脂材料層Jの厚さ(μm)と引張強さ(N/2.5cm)との関係を求めることができる。
7, the upper limit of the weight parts of DOP added to 100 parts by weight of the resin material layer J is 50 parts by weight. That is, the amount of plasticizer added is limited to 50 parts by weight from the viewpoint of durability.
As shown in Figure 7, when the amount of plasticizer added is 50 parts by weight per 100 parts by weight of the resin material layer J, in order to achieve a tensile strength of 139 N/2.5 cm or less, the upper limit of the thickness of the resin material layer J is approximately 330 μm, and it is even better to set the upper limit of the thickness of the resin material layer J to 320 μm.
Incidentally, if the type of plasticizer changes, the relationship between the thickness (μm) and tensile strength (N/2.5 cm) of the resin material layer J can be determined by multiplying the plasticizing efficiency of the plasticizer by the weight part.

〔光反射層の詳細〕
光反射層Bに上述の反射率特性を持たせるためには、放射面Hの存在側(樹脂材料層Jの存在側)の反射材料は銀または銀合金である必要がある。
図10に示す通り、銀をベースとして光反射層Bを構成すれば、光反射層Bに求められる反射率が得られる。
[Details of the light-reflecting layer]
In order to provide the light reflecting layer B with the above-mentioned reflectance characteristics, the reflecting material on the side where the radiation surface H exists (the side where the resin material layer J exists) must be silver or a silver alloy.
As shown in FIG. 10, if the light-reflecting layer B is made of silver as a base, the reflectance required for the light-reflecting layer B can be obtained.

銀または銀合金のみで太陽光を上述の反射率特性を持たせた状態で反射する場合、厚さが50nm以上必要である。
ちなみに、銀及び銀合金は40%を超えて伸びると破断することになるので、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)は、40%以内の伸びで使用する必要がある。つまり、本発明の放射冷却フィルムCPの使用方法として、フィルム体Fの伸びが40%以内となる状態で使用する必要がある。
When sunlight is reflected using only silver or a silver alloy while maintaining the above-mentioned reflectance characteristics, a thickness of 50 nm or more is required.
Incidentally, silver and silver alloys will break if elongated beyond 40%, so the radiative cooling film CP (film body F) needs to be used with an elongation of 40% or less. In other words, the radiative cooling film CP of the present invention needs to be used in a state where the elongation of the film body F is 40% or less.

そして、光反射層Bが40%伸びても、光反射層Bの厚さを50nmに確保するためには、光反射層Bの厚さを70nm以上にする必要がある。
また、光反射層Bの引張強さを1N/2.5cm以下にするには、光反射層Bの厚さの上限は0.3μmである。
つまり、本発明の放射冷却フィルムCP(フィルム体F)においては、光反射層Bの厚さを70nm以上、0.3μm以下にすることになる。
Even if the light reflecting layer B expands by 40%, in order to ensure that the thickness of the light reflecting layer B is 50 nm, the thickness of the light reflecting layer B needs to be 70 nm or more.
In order to make the tensile strength of the light reflecting layer B equal to or less than 1 N/2.5 cm, the upper limit of the thickness of the light reflecting layer B is 0.3 μm.
That is, in the radiative cooling film CP (film body F) of the present invention, the thickness of the light reflecting layer B is set to be 70 nm or more and 0.3 μm or less.

ちなみに、「銀合金」としては、銀に、銅、パラジウム、金、亜鉛、スズ、マグネシウム、ニッケル、チタンのいずれかを、例えば、0.4質量%から4.5質量%程度添加した合金を用いることができる。具体例としては、銀に銅とパラジウムを添加して作成した銀合金である「APC-TR(フルヤ金属製)」を用いることができる。 By the way, the "silver alloy" can be an alloy in which copper, palladium, gold, zinc, tin, magnesium, nickel, or titanium is added to silver, for example, in an amount of about 0.4% to 4.5% by mass. A specific example is "APC-TR (manufactured by Furuya Metal)," a silver alloy made by adding copper and palladium to silver.

銀および銀合金は雨や湿度に弱くそれらから保護をする必要があり、また、その変色を抑制する必要がある。そのために、図1に示す如く、銀や銀合金に隣接させる形態で、銀を保護する隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsが必要である。
隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsの詳細は、後述する。
Silver and silver alloys are vulnerable to rain and humidity and need to be protected from these and to prevent discoloration. To this end, an adjacent-side protective layer Du and a distant-side protective layer Ds are required to protect the silver and silver alloy, as shown in FIG.
The adjacent-side protective layer Du and the distant-side protective layer Ds will be described in detail later.

〔可塑剤の詳細〕
樹脂材料層Jを形成する塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤は、フタル酸エステル類、脂肪族二塩基酸エステル類及びリン酸エステル類からなる群より選択される1つ以上の化合物である。
そして、可塑剤の添加量が、塩化ビニル系樹脂100重量部に対して7重量部以上、50重量部以下である。好ましくは、可塑剤の添加量が、15重量部%以上、50重量部以下である。
[Plasticizer details]
The plasticizer mixed into the vinyl chloride resin forming the resin material layer J is one or more compounds selected from the group consisting of phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, and phosphate esters.
The amount of the plasticizer added is 7 parts by weight or more and 50 parts by weight or less, preferably 15 parts by weight or more and 50 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the vinyl chloride resin.

可塑剤としての脂肪族二塩基酸エステルが、アジピン酸エステル類、アジピン酸エステル共重合体類、アゼライン酸エステル類、アゼライン酸エステル共重合体類、セバシン酸エステル類、セバシン酸エステル共重合体類、コハク酸エステル類及びコハク酸エステル共重合体類からなる群より選択される1つ以上の化合物から構成されるとよい。 The aliphatic dibasic acid ester used as a plasticizer may be composed of one or more compounds selected from the group consisting of adipic acid esters, adipic acid ester copolymers, azelaic acid esters, azelaic acid ester copolymers, sebacic acid esters, sebacic acid ester copolymers, succinic acid esters, and succinic acid ester copolymers.

可塑剤としての脂肪族二塩基酸エステルが、脂肪族二塩基酸と飽和脂肪族アルコール2分子とがエステル結合したものであるとよい。
可塑剤のフタル酸エステルが、フタル酸と飽和脂肪族アルコール2分子とがエステル結合したものであるとよい。
可塑剤としてのリン酸エステルが、リン酸トリエステル、又は、芳香族リン酸エステルであるとよい。
The aliphatic dibasic acid ester as the plasticizer is preferably an aliphatic dibasic acid and two molecules of a saturated aliphatic alcohol bonded together via an ester bond.
The phthalate ester of the plasticizer is preferably formed by ester bonding between phthalic acid and two molecules of a saturated aliphatic alcohol.
The phosphate ester as the plasticizer may be a phosphate triester or an aromatic phosphate ester.

<フタル酸エステル類の詳細>
フタル酸エステル類を列挙すると、次の通りである。
フタル酸ジメチル(DMP)、フタル酸ジエチル(DEP)、フタル酸ジブチル(DPP)、フタル酸ジ-2-エチルヘキシル(DOP)、フタル酸ジイソノニル(DINP)、フタル酸ジイソデシル(DIDP)、フタル酸ジウンデシル(DUP)、フタル酸ジトリデシル(DTDP)、テレフタル酸ビス(2-エチルヘキシル)(DOTP)、イソフタル酸ビス(2-エチルヘキシル)(DOIP)等。
<Details of phthalate esters>
The phthalate esters are listed below.
Dimethyl phthalate (DMP), diethyl phthalate (DEP), dibutyl phthalate (DPP), di-2-ethylhexyl phthalate (DOP), diisononyl phthalate (DINP), diisodecyl phthalate (DIDP), diundecyl phthalate (DUP), ditridecyl phthalate (DTDP), bis(2-ethylhexyl) terephthalate (DOTP), bis(2-ethylhexyl) isophthalate (DOIP), and the like.

<脂肪族二塩基酸エステル類の詳細>
脂肪族二塩基酸エステル類を列挙すると、次の通りである。
アジピン酸ジブチル(DBA)、アジピン酸ジイソブチル(DIBA)、アジピン酸ジ-2-エチルヘキシル(DOA)、アジピン酸ジイソノニル(DINA)、アジピン酸ジイソデシル(DIDA)、アゼライン酸ビス-2-エチルヘキシル(DOZ)、セバシン酸ジブチル(DBS)、セバシン酸ジ-2-エチルヘキシル(DOS)、セバシン酸ジイソノニル(DINS)、コハク酸ジエチル(DESU)等。
また、アジピン酸等の2塩基酸とジオール(二官能アルコール、あるいはグリコール)との共重合(ポリエステル化)によって合成された分子量400~4000の脂肪族ポリエステル。
<Details of aliphatic dibasic acid esters>
The aliphatic dibasic acid esters are listed below.
Dibutyl adipate (DBA), diisobutyl adipate (DIBA), di-2-ethylhexyl adipate (DOA), diisononyl adipate (DINA), diisodecyl adipate (DIDA), bis-2-ethylhexyl azelaate (DOZ), dibutyl sebacate (DBS), di-2-ethylhexyl sebacate (DOS), diisononyl sebacate (DINS), diethyl succinate (DESU), and the like.
Also, aliphatic polyesters having a molecular weight of 400 to 4,000 synthesized by copolymerization (polyesterification) of a dibasic acid such as adipic acid with a diol (difunctional alcohol or glycol).

<リン酸トリエステル>
リン酸トリエステルを列挙すると、次の通りである。
トリメチルホスフェート(TMP)、トリエチルホスフェート(TEP)、トリブチルホスフェート(TBP)、トリス(2エチルヘキシル)ホスフェート(TOP)。
<Phosphate triester>
The phosphoric acid triesters are listed below.
Trimethyl phosphate (TMP), triethyl phosphate (TEP), tributyl phosphate (TBP), tris(2-ethylhexyl) phosphate (TOP).

<芳香族リン酸エステル>
芳香族リン酸エステルを列挙すると、次の通りである。
トリフェニルホスフェート(TPP)、トリクレシルホスフェート(TCP)、トリキシレニルホスフェート(TXP)、トレジルジフェニルホスフェート(CDP)、2-エチルヘキシルジフェニルホスフェート。
<Aromatic phosphate ester>
The aromatic phosphate esters are listed below.
Triphenyl phosphate (TPP), tricresyl phosphate (TCP), trixylenyl phosphate (TXP), tresyl diphenyl phosphate (CDP), 2-ethylhexyl diphenyl phosphate.

<可塑剤と伸びの限界との関係について>
図8には、可塑剤の添加量(重量部)と樹脂材料層J(塩化ビニル樹脂)の伸びの限界(破断時伸び)との関係を、アジピン酸ポリエステル(脂肪族二塩基酸エステル類)、フタル酸ジ-2-エチルヘキシル(DOP)、アジピン酸ジ-2-エチルヘキシル(DOA)の夫々について示す。
図8を参照すれば、可塑剤として、アジピン酸ジ-2-エチルヘキシル(DOA)については、7重量部以上添加されると、伸びの限界(破断時伸び)が40%以上であり、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)が、40%以内の伸びで使用される条件を満たすことになる。
また、可塑剤が15重量部以上添加されると、アジピン酸ポリエステル、フタル酸ジ-2-エチルヘキシル(DOP)、アジピン酸ジ-2-エチルヘキシル(DOA)の夫々の伸びの限界(限界伸び)が確実に40%以上となり、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)が、40%以内の伸びで使用される条件を確実に満たすことになる。
<Relationship between plasticizers and elongation limits>
Figure 8 shows the relationship between the amount of plasticizer added (parts by weight) and the elongation limit (elongation at break) of the resin material layer J (vinyl chloride resin) for each of adipic acid polyester (aliphatic dibasic acid esters), di-2-ethylhexyl phthalate (DOP), and di-2-ethylhexyl adipate (DOA).
Referring to Figure 8, when di-2-ethylhexyl adipate (DOA) is added as a plasticizer in an amount of 7 parts by weight or more, the elongation limit (elongation at break) is 40% or more, and the radiative cooling film CP (film body F) satisfies the condition for use with an elongation of 40% or less.
Furthermore, when 15 parts by weight or more of plasticizer is added, the elongation limits (limit elongation) of each of adipate polyester, di-2-ethylhexyl phthalate (DOP), and di-2-ethylhexyl adipate (DOA) are reliably 40% or more, and the radiative cooling film CP (film body F) reliably meets the condition of being used with an elongation of 40% or less.

<適正な可塑剤の評価について>
塩化ビニル樹脂用の可塑剤には、フタル酸エステル類、脂肪族二塩基酸エステル類、リン酸トリエステル類、芳香族リン酸エステル類、トリメリット酸エステル類、エポキシ化脂肪酸エステル類がある。これら可塑剤類から下記化合物を選定し、塩化ビニル100重量部に対し各種可塑剤を43重量部混ぜて、キセノンウエザー試験により評価した。
なお、塩化ビニル樹脂には、トリアジン系の紫外線吸収剤とヒンダードアミン系の光安定剤を塩化ビニル100重量部あたりそれぞれ0.5重量部ずつ混錬した。
<Evaluation of appropriate plasticizers>
Plasticizers for vinyl chloride resin include phthalates, aliphatic dibasic acid esters, phosphate triesters, aromatic phosphate esters, trimellitic acid esters, and epoxidized fatty acid esters. The following compounds were selected from these plasticizers, and 43 parts by weight of each plasticizer was mixed with 100 parts by weight of vinyl chloride and evaluated using a xenon weather test.
The vinyl chloride resin was mixed with 0.5 parts by weight of a triazine-based ultraviolet absorber and a hindered amine-based light stabilizer per 100 parts by weight of vinyl chloride.

フタル酸エステルの代表として、フタル酸ジ-2-エチルヘキシル(DOP)、フタル酸ジイソデシル(DIDP)。
脂肪族二塩基酸エステルの代表として、アジピン酸ジ-2-エチルヘキシル(DOA)、アジピン酸ブタンジオール共重合体(平均分子量1000程度)、アジピン酸ジイソノニル(DINA)。
リン酸トリエステルの代表として、トリブチルホスフェート(TBP)。
芳香族リン酸エステルの代表として、トリクレシルホスフェート(TCP)。
トリメリット酸エステルの代表として、トリメリット酸トリ-2-エチルヘキシル(TOTM)。
エポキシ化脂肪酸エステルの代表として、エポキシ化大豆油。
Representative phthalate esters include di-2-ethylhexyl phthalate (DOP) and diisodecyl phthalate (DIDP).
Representative aliphatic dibasic acid esters include di-2-ethylhexyl adipate (DOA), butanediol adipate copolymer (average molecular weight of about 1000), and diisononyl adipate (DINA).
A representative phosphate triester is tributyl phosphate (TBP).
A representative aromatic phosphate ester is tricresyl phosphate (TCP).
A representative example of trimellitic acid esters is tri-2-ethylhexyl trimellitate (TOTM).
Epoxidized soybean oil is a representative example of epoxidized fatty acid esters.

耐久試験はキセノンウエザー試験を1920時間(実暴露4年に相当)実施した結果をもって耐久性の優劣判断を行った。尚、紫外線換算で487時間が1年に相当する。
キセノンウエザー試験の条件は以下の通りである。
紫外線強度180W/m(波長295-400nm)。
〈散水なし条件〉BPT89℃、湿度50%、1時間42分。
〈散水あり条件〉槽内温度38℃、湿度90%、18分。
Durability was judged based on the results of a 1,920-hour xenon weather test (equivalent to four years of actual exposure). 487 hours is equivalent to one year of UV exposure.
The conditions for the xenon weather test are as follows:
Ultraviolet light intensity 180W/m 2 (wavelength 295-400nm).
<Conditions without watering> BPT 89°C, humidity 50%, 1 hour 42 minutes.
<Conditions with watering> Temperature inside the tank: 38°C, humidity: 90%, 18 minutes.

1920時間の試験結果を図16に示す。ちなみに、本実施形態では塩化ビニル樹脂で実験しているが、塩化ビニリデン樹脂でも同様である。
上記実験の結果、トリメリット酸エステル(TOTM)、及び、エポキシ化脂肪酸エステル(エポキシ化大豆油)を可塑剤として用いると耐久性が著しく下がることが明らかとなった。なお、エポキシ化脂肪酸は1120時間で茶変し試験継続できなくなったので同図に載せていない。
The test results for 1920 hours are shown in Figure 16. Incidentally, although the experiment was conducted using vinyl chloride resin in this embodiment, the same results were obtained with vinylidene chloride resin.
The results of the above experiment revealed that durability was significantly reduced when trimellitic acid ester (TOTM) and epoxidized fatty acid ester (epoxidized soybean oil) were used as plasticizers. Note that epoxidized fatty acid turned brown after 1,120 hours, making it impossible to continue the test, so it is not shown in the figure.

これに対して、フタル酸エステル系、脂肪族二塩基酸エステル系、リン酸トリエステル系、芳香族リン酸エステル系を用いると4年程度耐久することが分かった。つまり、塩化ビニル樹脂に混入する可塑剤として、フタル酸エステル系、脂肪族二塩基酸エステル系、リン酸トリエステル系、芳香族リン酸エステル系を用いると、4年程度経過しても、放射冷却フィルムCPの反射率は低下しないが、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤として、トリメリット酸エステル系、エポキシ化脂肪酸エステルを用いると、放射冷却フィルムCPの反射率が、4年程度経過する前から、大きく低下することが分かった。 In contrast, it was found that when phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, phosphate triesters, or aromatic phosphate esters were used as plasticizers to be mixed into the vinyl chloride resin, the reflectance of the radiative cooling film CP did not decrease even after about four years. However, when trimellitate esters or epoxidized fatty acid esters were used as plasticizers to be mixed into the vinyl chloride resin, the reflectance of the radiative cooling film CP decreased significantly even before about four years had passed.

以上の試験結果により、塩化ビニル系樹脂の可塑剤としては、フタル酸エステル類、脂肪族二塩基酸エステル類、リン酸トリエステル類、芳香族リン酸エステル類の耐久が優れており、トリメリット酸エステル、エポキシ化脂肪酸エステルは耐久性がないことがわかる。 The above test results show that phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, phosphate triesters, and aromatic phosphate esters are highly durable plasticizers for vinyl chloride resins, while trimellitate esters and epoxidized fatty acid esters are not durable.

〔その他の添加剤について〕
樹脂材料層Jを形成する塩化ビニル樹脂に、難燃剤、安定剤、安定化助剤、充てん剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤が入っていてもよい。
<難燃剤>
難燃剤としては、水酸化アルミニウム、三酸化アンチモン、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛等の無機系化合物、クレジルジフェニルホスフェート、トリスクロロエチルフォスフェート、トリスクロロプロピルフォスフェート、トリスジクロロプロピルフォスフェート等のリン系化合物、塩素化パラフィン等のハロゲン系化合物等が例示される。又、塩化ビニル樹脂100重量部に対する難燃剤の配合量は0.1~20重量部程度である。
[Other additives]
The vinyl chloride resin forming the resin material layer J may contain a flame retardant, a stabilizer, a stabilizing aid, a filler, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer.
<Flame retardants>
Examples of flame retardants include inorganic compounds such as aluminum hydroxide, antimony trioxide, magnesium hydroxide, and zinc borate, phosphorus compounds such as cresyl diphenyl phosphate, trischloroethyl phosphate, trischloropropyl phosphate, and trisdichloropropyl phosphate, and halogen compounds such as chlorinated paraffin, etc. The amount of flame retardant to be blended per 100 parts by weight of vinyl chloride resin is about 0.1 to 20 parts by weight.

<安定剤>
安定剤としては、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸マグネシウム、ラウリン酸マグネシウム、リシノール酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸バリウム、リシノール酸バリウム、ステアリン酸バリウム、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、リシノール酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛等の金属石鹸化合物、ジメチルスズビス-2-エチルヘキシルチオグリコレート、ジブチルスズマレエート、ジブチルスズビスブチルマレエート、ジブチルスズジラウレート等の有機錫系化合物、アンチモンメルカプタイド化合物等が例示される。又、塩化ビニル樹脂100重量部に対する安定剤の配合量は0.1~20重量部程度である。
<Stabilizer>
Examples of stabilizers include metal soap compounds such as lithium stearate, magnesium stearate, magnesium laurate, calcium ricinoleate, calcium stearate, barium laurate, barium ricinoleate, barium stearate, zinc octoate, zinc laurate, zinc ricinoleate, and zinc stearate, organotin compounds such as dimethyltin bis-2-ethylhexylthioglycolate, dibutyltin maleate, dibutyltin bisbutylmaleate, and dibutyltin dilaurate, and antimony mercaptide compounds. The amount of stabilizer blended per 100 parts by weight of vinyl chloride resin is about 0.1 to 20 parts by weight.

<安定化助剤>
安定化助剤としは、トリフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、トリデシルフォスファイト等のホスファイト系化合物、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン等のベータジケトン化合物、グリセリン、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ポリエチレングリコール等のポリオール化合物、過塩素酸バリウム塩、過塩素酸ナトリウム塩等の過塩素酸塩化合物、ハイドロタルサイト化合物、ゼオライトなどが例示される。又、塩化ビニル樹脂100重量部に対する安定化助剤の配合量は0.1~20重量部程度である。
<Stabilizing aid>
Examples of stabilizing aids include phosphite compounds such as triphenyl phosphite, monooctyldiphenyl phosphite, tridecyl phosphite, etc., beta-diketone compounds such as acetylacetone, benzoylacetone, etc., polyol compounds such as glycerin, sorbitol, pentaerythritol, polyethylene glycol, etc., perchlorate compounds such as barium perchlorate, sodium perchlorate, etc., hydrotalcite compounds, zeolites, etc. The amount of stabilizing aid to be blended per 100 parts by weight of vinyl chloride resin is about 0.1 to 20 parts by weight.

<充填剤>
充填剤としては、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、クレー、タルク、珪藻土、フェライト、などの金属酸化物、ガラス、炭素、金属などの繊維及び粉末、ガラス球、グラファイト、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸カルシウムなどが例示される。又、塩化ビニル樹脂100重量部に対する充填剤の配合量は1~100重量部程度である。
<Filler>
Examples of fillers include calcium carbonate, silica, alumina, clay, talc, diatomaceous earth, metal oxides such as ferrite, fibers and powders of glass, carbon, metals, etc., glass spheres, graphite, aluminum hydroxide, barium sulfate, magnesium oxide, magnesium carbonate, magnesium silicate, calcium silicate, etc. The amount of filler to be blended per 100 parts by weight of vinyl chloride resin is about 1 to 100 parts by weight.

<酸化防止剤>
酸化防止剤としては、2,6-ジ-tert-ブチルフェノール、テトラキス[メチレン-3-(3,5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェノール)プロピオネート]メタン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノンなどのフェノール系化合物、アルキルジスルフィド、チオジプロピオン酸エステル、ベンゾチアゾールなどの硫黄系化合物、トリスノニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイトなどのリン酸系化合物、ジアルキルジチオリン酸亜鉛、ジアリールジチオリン酸亜鉛などの有機金属系化合物などが例示される。又、塩化ビニル樹脂100重量部に対する酸化防止剤の配合量は0.2~20重量部程度である。
<Antioxidants>
Examples of antioxidants include phenolic compounds such as 2,6-di-tert-butylphenol, tetrakis[methylene-3-(3,5-tert-butyl-4-hydroxyphenol)propionate]methane, and 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone; sulfur compounds such as alkyl disulfides, thiodipropionic acid esters, and benzothiazole; phosphoric acid compounds such as trisnonylphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, triphenyl phosphite, and tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite; and organometallic compounds such as zinc dialkyldithiophosphate and zinc diaryldithiophosphate. The amount of antioxidant to be blended per 100 parts by weight of vinyl chloride resin is about 0.2 to 20 parts by weight.

<紫外線吸収剤>
紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、p-tert-ブチルフェニルサリシレートなどのサリシレート系化合物、2-ヒドロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-n-メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾール、1-ジオクチルアミノメチルベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系化合物の他、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物などが例示される。又、塩化ビニル樹脂100重量部に対する紫外線吸収剤の配合量は0.1~10重量部程度である。
<Ultraviolet absorber>
Examples of ultraviolet absorbers include salicylate compounds such as phenyl salicylate and p-tert-butylphenyl salicylate, benzophenone compounds such as 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone and 2-hydroxy-4-n-methoxybenzophenone, benzotriazole compounds such as 5-methyl-1H-benzotriazole and 1-dioctylaminomethylbenzotriazole, as well as cyanoacrylate compounds and triazine compounds. The amount of ultraviolet absorber to be blended per 100 parts by weight of vinyl chloride resin is about 0.1 to 10 parts by weight.

樹脂材料層J(赤外放射層A)には紫外線吸収剤を配合して、樹脂材料層J(赤外放射層A)の290nm以上、330nm以下の波長の光の透過率を0%にすることが望ましい。290nm以上、330nm以下の波長の光が光反射層Bまで透過すると、銀の周辺に存在する隣接側保護層Duにてラジカルが形成され、銀と反応して光反射層Bが着色する原因となる。
図9は、可塑剤として、フタル酸ジイソノニル(DINP)を用いた塩化ビニル樹脂の透過率を示す。
It is desirable to blend an ultraviolet absorber into the resin material layer J (infrared radiation layer A) to set the transmittance of light with a wavelength of 290 nm or more and 330 nm or less through the resin material layer J (infrared radiation layer A) to 0%. When light with a wavelength of 290 nm or more and 330 nm or less is transmitted to the light reflecting layer B, radicals are formed in the adjacent protective layer Du present around the silver, which react with the silver and cause coloration of the light reflecting layer B.
FIG. 9 shows the transmittance of vinyl chloride resin using diisononyl phthalate (DINP) as a plasticizer.

<光安定剤>
光安定剤としては、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)セバケート及びメチル1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート(混合物)、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)[[3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドリキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、デカン二酸ビス(2,2,6,6-テトラメチル-1(オクチルオキシ)-4-ピペリジル)エステル及び1,1-ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジノールと高級脂肪酸のエステル混合物、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)-1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、コハク酸ジメチルと4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジンエタノールの重縮合物、ポリ[{(6-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)アミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジイル){(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)イミノ}}、ジブチルアミン・1,3,5-トリアジン・N,N'-ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル-1,6-ヘキサメチレンジアミンとN-(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、N,N',N'',N'''-テトラキス-(4,6-ビス-(ブチル-(N-メチル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4-イル)アミノ)-トリアジン-2-イル)-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミン等のヒンダードアミン系が例示される。又、塩化ビニル系樹脂100重量部に対する光安定剤の配合量は0.1~10重量部程度である。
<Light stabilizer>
Examples of light stabilizers include bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)sebacate, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)sebacate and methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidylsebacate (mixture), bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)[[3,5-bis(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl]methyl]butylmalonate, bis(2,2,6,6-tetramethyl-1(octyloxy)decanediate), 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol and higher fatty acid ester mixtures, tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butanetetracarboxylate, tetrakis(1,2,2,6,6-penta ... Xylate, polycondensate of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, poly[{(6-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl){(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino}hexamethylene{(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino}}, dibutylamine·1,3,5-triazine·N,N'-bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino Examples of the light stabilizer include a polycondensate of N-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butylamine and a hindered amine such as N,N',N'',N'''-tetrakis-(4,6-bis-(butyl-(N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)amino)-triazin-2-yl)-4,7-diazadecane-1,10-diamine. The amount of the light stabilizer to be blended per 100 parts by weight of the vinyl chloride resin is about 0.1 to 10 parts by weight.

〔放射冷却フィルムの具体構成〕
放射冷却フィルムCP(フィルム体)の具体構成としては、図5に示す如く、樹脂材料層Jと、隣接側保護層Du、光反射層B及び離間側保護層Dsからなる積層部とを接着層Nにて接着する構成である。
接着層Nは、例えば、ウレタン樹脂系接着剤(粘着剤)、アクリルウレタン樹脂系接着剤(粘着剤)、ポリオレフィン樹脂系接着剤(粘着剤)であり、太陽光に対して高い透明性を持つものが望ましい。
[Specific configuration of radiative cooling film]
The specific configuration of the radiative cooling film CP (film body) is as shown in Fig. 5, in which a resin material layer J and a laminated portion consisting of an adjacent-side protective layer Du, a light-reflecting layer B, and a distant-side protective layer Ds are bonded together with an adhesive layer N.
The adhesive layer N is, for example, a urethane resin adhesive (adhesive), an acrylic urethane resin adhesive (adhesive), or a polyolefin resin adhesive (adhesive), and it is desirable that the adhesive layer N has high transparency to sunlight.

放射冷却フィルムCP(フィルム体F)を作製する一例を図6に示す。
先ず、PET等のフィルム状の基材Kの上部に、離型層Gを作成し、離型層Gの上に、離間側保護層Dsを塗布あるいは貼り付けて作成し、離間側保護層Dsの上に、蒸着・スパッタリング・イオンプレーティング・銀鏡反応などによって光反射層Bを作成し、光反射層Bの上に、隣接側保護層Duを塗布あるいは貼り付けて作成する。
つまり、基材Kの上部に、離型層G、離間側保護層Ds、光反射層B、隣接側保護層Duを順次積層して反射層側積層体Pを形成する。
また、樹脂材料層Jをフィルム状に別途形成する。
An example of producing a radiative cooling film CP (film body F) is shown in Figure 6.
First, a release layer G is formed on top of a film-like substrate K such as PET, and then a separation-side protective layer Ds is applied or attached to the release layer G. A light-reflecting layer B is formed on the separation-side protective layer Ds by vapor deposition, sputtering, ion plating, silver mirror reaction, etc., and then an adjacent-side protective layer Du is applied or attached to the light-reflecting layer B.
That is, a release layer G, a spacing-side protective layer Ds, a light-reflecting layer B, and an adjacent-side protective layer Du are sequentially laminated on top of a substrate K to form a reflective layer-side laminate P.
In addition, a resin material layer J is separately formed in the form of a film.

そして、フィルム状に作製された樹脂材料層Jと反射層側積層体Pとを接着層Nにて接着する。
その後、離型層Gを離間側保護層Dsから外して基材Kを分離することになる。
ちなみに、離型層Gは、シリコーン樹脂、フッ素樹脂のいずれかで形成されることになる。
Then, the resin material layer J fabricated in a film form and the reflective layer side laminate P are bonded together with an adhesive layer N.
Thereafter, the release layer G is removed from the separating-side protective layer Ds, and the substrate K is separated.
The release layer G is made of either a silicone resin or a fluorine resin.

<接着層の考察>
伸性の良い樹脂材料としては、下記の樹脂材料等がある。
・軟質塩化ビニル樹脂
・ウレタン樹脂
・アクリル-ウレタン共重合樹脂(アクリルウレタン樹脂)
・ポリオレフィン樹脂
・シリコーン樹脂
これらの樹脂のうちで、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂が接着剤に適している。いずれも伸性が高く、引張強さが小さい。
接着層の厚みは、1μm以上、30μm以下であることが好ましい。
<Considerations on adhesive layer>
Resin materials with good ductility include the following resin materials.
・Soft vinyl chloride resin ・Urethane resin ・Acrylic-urethane copolymer resin (acrylic urethane resin)
Polyolefin resins and silicone resins. Of these resins, urethane resins, acrylic urethane resins, and polyolefin resins are suitable for adhesives. All of them have high elongation but low tensile strength.
The thickness of the adhesive layer is preferably 1 μm or more and 30 μm or less.

ちなみに、アクリル樹脂は、引張強さが48Mpaから73Mpa程度で、破断時伸び(伸びの限界)が2%から7%であり、破断時伸び(伸びの限界)が小さく伸びにくい材料であるのでアクリル樹脂のみでは接着層Nとしては使えない。
これに対して、ウレタン樹脂は、引張強さが1Mpa~69Mpa程度で、破断時伸び(伸びの限界)が100%から10000%であり、伸びの良い材料である。アクリルとウレタンとを共重合させたアクリルウレタン樹脂を用いると、アクリルにウレタンの伸び性が付加されよく伸びるようになる。従って、アクリルウレタン樹脂が望ましい。
Incidentally, acrylic resin has a tensile strength of approximately 48 MPa to 73 MPa and an elongation at break (elongation limit) of 2% to 7%, and since it is a material with a small elongation at break (elongation limit) and is difficult to stretch, acrylic resin alone cannot be used as the adhesive layer N.
In contrast, urethane resin has a tensile strength of approximately 1 MPa to 69 MPa and an elongation at break (elongation limit) of 100% to 10,000%, making it a highly stretchable material. When an acrylic urethane resin, which is a copolymer of acrylic and urethane, is used, the elongation of urethane is added to the acrylic, making it highly stretchable. Therefore, acrylic urethane resin is desirable.

〔保護層の詳細〕
隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsは、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリオレフィン系樹脂のいずれかで、厚さが300nm以上、40μm以下である。
ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン及びポリプロピレンがある。
[Details of the protective layer]
The adjacent-side protective layer Du and the distant-side protective layer Ds are made of any one of urethane resin, acrylic urethane resin, and polyolefin-based resin, and have a thickness of 300 nm or more and 40 μm or less.
Polyolefin resins include polyethylene and polypropylene.

図2には、ポリエチレン(オレフィン系)、塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル樹脂の紫外線の吸収率を示す。尚、図2には、エチレンテレフタラート樹脂(PET)の紫外線の吸収率を参考に示すが、エチレンテレフタラート樹脂(PET)は伸びにくい材料であるため、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)を製作する材料としは使用できないものであり、隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsとしても使用できない。
また、図11に、隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsを形成する合成樹脂として好適なポリエチレンの光透過率を示す。
Figure 2 shows the ultraviolet absorptance of polyethylene (olefin-based), vinylidene chloride resin, and vinyl chloride resin. Note that Figure 2 also shows the ultraviolet absorptance of ethylene terephthalate resin (PET) for reference, but since ethylene terephthalate resin (PET) is a material that is difficult to stretch, it cannot be used as a material for manufacturing the radiative cooling film CP (film body F), and cannot be used for the adjacent-side protective layer Du or the separating-side protective layer Ds.
FIG. 11 shows the light transmittance of polyethylene, which is suitable as a synthetic resin for forming the adjacent-side protective layer Du and the distant-side protective layer Ds.

放射冷却フィルムCP(フィルム体F)は、夜間のみならず、日射環境下にても放射冷却作用を発揮するものであるから、光反射層Bが光反射機能を発揮する状態を維持するには、隣接側保護層Duにて光反射層Bを保護することにより、日射環境下で光反射層Bの銀が変色しないようにする必要がある。 The radiative cooling film CP (film body F) exerts its radiative cooling effect not only at night but also in a solar radiation environment. Therefore, in order for the light-reflecting layer B to maintain its light-reflecting function, it is necessary to protect the light-reflecting layer B with the adjacent-side protective layer Du so that the silver of the light-reflecting layer B does not discolor in a solar radiation environment.

隣接側保護層Duが、ポリオレフィン系樹脂にて厚さが300nm以上で、40μm以下の形態に形成される場合には、ポリオレフィン系樹脂は、波長0.3μmから0.4μmの紫外線の波長域の全域において紫外線の光吸収率が10%以下である合成樹脂であるから、隣接側保護層Duが紫外線の吸収により劣化し難いものとなる。 When the adjacent-side protective layer Du is formed from a polyolefin-based resin with a thickness of 300 nm or more and 40 μm or less, the polyolefin-based resin is a synthetic resin with an ultraviolet light absorption rate of 10% or less over the entire ultraviolet wavelength range of 0.3 μm to 0.4 μm, making the adjacent-side protective layer Du less susceptible to degradation due to ultraviolet absorption.

そして、隣接側保護層Duを形成するポリオレフィン系樹脂の厚さが、300nm以上であるから、樹脂材料層Jにて発生したラジカルが光反射層Bを形成する銀又は銀合金に到達することを遮断し、また、樹脂材料層Jを透過する水分が光反射層Bを形成する銀又は銀合金に到達することを遮断する等の遮断機能を良好に発揮することになり、光反射層Bを形成する銀又は銀合金の変色を抑制できることになる。 Furthermore, because the thickness of the polyolefin resin forming the adjacent-side protective layer Du is 300 nm or more, it effectively exhibits a blocking function, blocking radicals generated in the resin material layer J from reaching the silver or silver alloy forming the light-reflecting layer B and blocking moisture that permeates the resin material layer J from reaching the silver or silver alloy forming the light-reflecting layer B, thereby suppressing discoloration of the silver or silver alloy forming the light-reflecting layer B.

ちなみに、ポリオレフィン系樹脂にて形成される隣接側保護層Duは、紫外線の吸収により、光反射層Bから離れる表面側にラジカルを形成しながら劣化することになるが、厚さが300nm以上であるから、形成したラジカルが光反射層に到達することはなく、また、ラジカルを形成しながら劣化するにしても、紫外線の吸収が低いことにより劣化の進み具合は遅いものであるから、上述の遮断機能を長期に亘って発揮することになる。 Incidentally, the adjacent-side protective layer Du, made of a polyolefin resin, deteriorates as it absorbs ultraviolet light, forming radicals on the surface side away from the light-reflecting layer B. However, because its thickness is 300 nm or more, the formed radicals do not reach the light-reflecting layer. Furthermore, even if it deteriorates as radicals are formed, the rate of deterioration is slow due to its low ultraviolet absorption, so the above-mentioned blocking function can be maintained for a long period of time.

なお、ポリオレフィン系樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂にて隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsを形成する場合において、その厚さの上限を定める理由は、隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsが放射冷却に寄与しない断熱性を奏することを回避するためである。つまり、隣接側保護層Du及び離間側保護層Dsは、厚さが厚くなるほど放射冷却に寄与しない断熱性を奏することになるから、光反射層Bを保護する機能を発揮させながらも、放射冷却に寄与しない断熱性を奏することを回避するために、厚さの上限が定められることになる。 When the adjacent-side protective layer Du and the separating-side protective layer Ds are formed from polyolefin resin, urethane resin, or acrylic urethane resin, the reason for setting an upper limit on their thickness is to prevent the adjacent-side protective layer Du and the separating-side protective layer Ds from exhibiting insulating properties that do not contribute to radiative cooling. In other words, the thicker the adjacent-side protective layer Du and the separating-side protective layer Ds, the less insulating properties they exhibit that do not contribute to radiative cooling. Therefore, an upper limit on the thickness is set to prevent the adjacent-side protective layer Du and the separating-side protective layer Ds from exhibiting insulating properties that do not contribute to radiative cooling while still functioning as a protective layer for the light-reflecting layer B.

ところで、図5に示すように、樹脂材料層Jと隣接側保護層Duとの間に接着層Nが位置する場合には、接着層Nからもラジカルが発生することになるが、隣接側保護層Duを形成するポリオレフィン系樹脂の厚さが300nm以上であるので、接着層Nにて発生したラジカルが光反射層Bに到達することを、長期に亘って抑制できる。 As shown in Figure 5, when an adhesive layer N is located between the resin material layer J and the adjacent-side protective layer Du, radicals will also be generated from the adhesive layer N. However, because the thickness of the polyolefin resin forming the adjacent-side protective layer Du is 300 nm or more, the radicals generated in the adhesive layer N can be prevented from reaching the light-reflecting layer B for a long period of time.

ちなみに、上述の如く、隣接側保護層Duが厚くなると、光反射層Bの銀(銀合金)の着色を防ぐうえでのデメリットは生じないが、放射冷却するうえでの問題が発生する。つまり、厚くすると放射冷却材料の断熱性を上げることになる。
例えば、隣接側保護層Duを形成する合成樹脂として優れている主成分がポリエチレンの樹脂は、図15に示すように、大気の窓における輻射率が小さいため、厚く形成しても放射冷却に寄与しない。それどころか、厚くすると放射冷却材料の断熱性を上げることになる。次に、厚くなると主鎖の振動に由来する近赤外域の吸収が増加し、太陽光吸収が増える効果が増加する。
これら要因により、隣接側保護層Duが厚いことは、放射冷却にとって不利である。このような観点から、ポリオレフィン系樹脂にて形成される隣接側保護層Duの厚さは、5μm以下であることが好ましく、さらには、1μm以下であることが一層好ましい。
As mentioned above, if the adjacent-side protective layer Du is thick, there is no disadvantage in terms of preventing coloration of the silver (silver alloy) of the light-reflecting layer B, but it causes problems in terms of radiative cooling. In other words, if the thickness is increased, the heat insulating properties of the radiative cooling material will increase.
For example, a resin whose main component is polyethylene, which is an excellent synthetic resin for forming the adjacent-side protective layer Du, has a low emissivity at the atmospheric window, as shown in Figure 15, so even if it is formed thick, it does not contribute to radiative cooling. On the contrary, increasing the thickness of the resin actually increases the thermal insulation properties of the radiative cooling material. Next, as the thickness increases, absorption in the near-infrared region due to the vibration of the main chain increases, and the effect of increasing solar absorption increases.
Due to these factors, a thick adjacent-side protective layer Du is disadvantageous for radiative cooling. From this viewpoint, the thickness of the adjacent-side protective layer Du made of a polyolefin resin is preferably 5 μm or less, and more preferably 1 μm or less.

〔保護層の考察〕
隣接側保護層Duによる銀の着色のされ方の違いを検討するために、図12に示すような、赤外放射層Aとしての樹脂材料層Jを備えない隣接側保護層Duを露出させたサンプルを作製し、模擬太陽光が照射された後の銀の着色を調べた。
つまり、隣接側保護層Duとして、紫外線を吸収する一般的なアクリル系樹脂(例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が混入するメタクリル酸メチル樹脂)とポリエチレンとの二種類を、バーコーターで、光反射層Bとして銀を備えるフィルム層U(基材に相当)上に塗布したサンプルを形成し、隣接側保護層Duとしての機能を検討した。塗布した隣接側保護層Duの厚みは、それぞれ10μmと1μmである。
尚、フィルム層U(基材に相当)は、PET(エチレンテレフタラート樹脂)等にてフィルム状に形成されたものである。
[Considerations on the protective layer]
In order to examine the difference in the way silver is colored by the adjacent-side protective layer Du, a sample was prepared in which the adjacent-side protective layer Du was exposed and did not have the resin material layer J as the infrared radiation layer A, as shown in Figure 12, and the coloring of silver after irradiation with simulated sunlight was examined.
Specifically, samples were prepared by applying two types of adjacent-side protective layer Du, namely, a general acrylic resin that absorbs ultraviolet light (for example, methyl methacrylate resin mixed with a benzotriazole-based ultraviolet absorber) and polyethylene, using a bar coater, onto a film layer U (corresponding to the substrate) that includes silver as the light-reflecting layer B, and the function of the adjacent-side protective layer Du was examined. The thicknesses of the applied adjacent-side protective layers Du were 10 μm and 1 μm, respectively.
The film layer U (corresponding to the substrate) is formed into a film shape using PET (ethylene terephthalate resin) or the like.

図14に示すように、隣接側保護層Duが紫外線を良く吸収するアクリル系樹脂の場合、隣接側保護層Duが紫外線で分解されラジカルを形成し、直ぐに銀が黄化して、放射冷却フィルムCPとして機能しなくなる(太陽光を吸収し、一般の材料のように日射が当たると温度上昇する)。
尚、図中の600hの線は、JIS規格5600-7-7の条件でキセノンウエザー試験(紫外光エネルギーは60W/m)を600h(時間)行った後の反射率スペクトルである。また、0hの線は、キセノンウエザー試験を行う前の反射率スペクトルである。
As shown in Figure 14, if the adjacent-side protective layer Du is made of an acrylic resin that absorbs UV rays well, the adjacent-side protective layer Du is decomposed by UV rays to form radicals, and the silver immediately turns yellow and no longer functions as a radiative cooling film CP (it absorbs sunlight and, like general materials, its temperature rises when exposed to solar radiation).
The 600h line in the figure is the reflectance spectrum after 600 hours of xenon weather testing (ultraviolet light energy 60 W/ m2 ) under the conditions of JIS standard 5600-7-7, and the 0h line is the reflectance spectrum before the xenon weather testing.

図13に示すように、隣接側保護層Duが紫外線の光吸収率が低いポリエチレンの場合には、近赤外域から可視域での反射率の低下がみられないことがわかる。つまり、主成分がポリエチレンの樹脂(オレフィン系樹脂)は、地上に届く太陽光が持つ紫外線を殆ど吸収しないため、太陽光が当たってもラジカルを形成し難いので、日射が当たっても、光反射層Bとしての銀の着色が発生しない。
尚、図中の600hの線は、JIS規格5600-7-7の条件でキセノンウエザー試験(紫外光エネルギーは60W/m)を600h(時間)行った後の反射率スペクトルである。また、0hの線は、キセノンウエザー試験を行う前の反射率スペクトルである。
13, when the adjacent-side protective layer Du is made of polyethylene, which has a low ultraviolet light absorption rate, no decrease in reflectance is observed from the near-infrared region to the visible region. In other words, a resin whose main component is polyethylene (olefin-based resin) hardly absorbs the ultraviolet light contained in sunlight that reaches the ground, and therefore is unlikely to form radicals even when exposed to sunlight, so that the silver serving as the light-reflecting layer B does not become discolored even when exposed to sunlight.
The 600h line in the figure is the reflectance spectrum after 600 hours of xenon weather testing (ultraviolet light energy 60 W/ m2 ) under the conditions of JIS standard 5600-7-7, and the 0h line is the reflectance spectrum before the xenon weather testing.

なお、この波長帯域の反射率スペクトルが波打つ理由は、ポリエチレン層のファブリペロー共振である。キセノンウエザー試験の熱などによってポリエチレン層の厚みが変化したことによる原因で、この共振位置が0hの線と600hの線とで多少変わっていることがわかるが、銀の黄化に由来する紫外-可視域における大きな反射率の低下は観測されない。 The reason the reflectance spectrum in this wavelength range fluctuates is due to the Fabry-Perot resonance of the polyethylene layer. It can be seen that the resonance position varies slightly between the 0h line and the 600h line due to changes in the thickness of the polyethylene layer caused by heat during the xenon weather test, but no significant decrease in reflectance in the ultraviolet-visible range due to yellowing of the silver is observed.

尚、フッ素樹脂系も紫外線吸収の観点からは隣接側保護層Duを形成する材料に適用できるが、実際に隣接側保護層Duとして形成すると、形成段階で着色し、劣化するため、隣接側保護層Duを形成する材料としては用いることができない。
また、シリコーン樹脂も紫外線吸収の観点からは隣接側保護層Duを形成する材料に適用できるが、銀(銀合金)との密着性が極めて悪く、隣接側保護層Duを形成する材料としては用いることができない。
Furthermore, from the viewpoint of ultraviolet absorption, fluororesin-based materials can also be used to form the adjacent-side protective layer Du, but when actually formed as the adjacent-side protective layer Du, they become discolored and deteriorate during the formation stage, and therefore cannot be used as materials to form the adjacent-side protective layer Du.
Furthermore, silicone resin can also be used as a material for forming the adjacent-side protective layer Du from the viewpoint of ultraviolet absorption, but it has extremely poor adhesion to silver (silver alloy) and cannot be used as a material for forming the adjacent-side protective layer Du.

〔可塑剤の考察〕
以下、塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤について考察する。
(塩化ビニル系樹脂の劣化について)
塩化ビニル系樹脂(フィルム)の太陽光による劣化は、可塑剤の紫外線による劣化が大きく関与している。
通常屋外で長期使用される塩化ビニル系樹脂(可塑剤が混入されている)は、着色や添加剤によって太陽光に含まれる紫外線から守られている。例えば黒等の色に着色され、紫外線の影響を受けづらい状態となっていることが多い。一方、放射冷却フィルムCPの場合、放射冷却性能を得るために太陽光の吸収を最小限に抑える必要がある。そのため可塑剤を守るための添加物や染料・顔料を十分に入れることができない。
[Considerations on plasticizers]
The plasticizers mixed into vinyl chloride resins will be considered below.
(Deterioration of vinyl chloride resin)
The deterioration of vinyl chloride resin (film) due to sunlight is largely due to the deterioration of plasticizers caused by ultraviolet rays.
PVC resins (mixed with plasticizers) that are normally used outdoors for long periods are protected from the ultraviolet rays contained in sunlight by coloring and additives. For example, they are often colored black or other colors to make them less susceptible to the effects of ultraviolet rays. On the other hand, in the case of radiative cooling film CP, it is necessary to minimize the absorption of sunlight in order to achieve radiative cooling performance. Therefore, it is not possible to add enough additives, dyes, or pigments to protect the plasticizer.

放射冷却フィルムCP(フィルム体F)は、例えば、図5に例示する如く、塩化ビニル樹脂にて形成される樹脂材料層Jの下に接着層N、隣接側保護層Duがあり、その下に銀を備えた光反射層Bがある。この光反射層Bの影響で樹脂材料層Jは太陽光の影響を更に受けやすくなる。つまり、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)に一度入射した太陽光は、光反射層Bで反射されることにより、樹脂材料層Jを2度透過する。つまり、太陽光の劣化への影響が通常の約2倍となる。 As shown in Figure 5, the radiative cooling film CP (film body F) has an adhesive layer N and an adjacent-side protective layer Du underneath a resin material layer J made of vinyl chloride resin, and underneath that is a light-reflecting layer B containing silver. The light-reflecting layer B makes the resin material layer J even more susceptible to the effects of sunlight. In other words, sunlight that has entered the radiative cooling film CP (film body F) once is reflected by the light-reflecting layer B and passes through the resin material layer J twice. This means that the degradation effect of sunlight is approximately twice as great as usual.

また、銀を備えた光反射層Bの上に形成された樹脂材料層Jと、反射率が低いアルミや鉄、セラミクス上に形成された樹脂材料層Jとを比較すると、銀を備えた光反射層Bの上に形成された樹脂材料層Jを備える放射冷却フィルムCPは太陽光の影響をより多く受けることになる。
これらのことは、銀を備えた光反射層Bの上に樹脂材料層Jを備える放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の塩化ビニル系樹脂は、一般用途の塩化ビニル系樹脂よりも太陽光に含まれる紫外線に敏感であることを示唆している。
Furthermore, when comparing the resin material layer J formed on the light reflecting layer B containing silver with the resin material layer J formed on aluminum, iron or ceramics, which have low reflectivity, the radiative cooling film CP having the resin material layer J formed on the light reflecting layer B containing silver is more affected by sunlight.
These facts suggest that the vinyl chloride resin of the radiative cooling film CP (film body F), which comprises the resin material layer J on the light-reflecting layer B containing silver, is more sensitive to ultraviolet rays contained in sunlight than vinyl chloride resins for general use.

エステル系可塑剤の紫外線による劣化は、主に紫外線エネルギーを可塑剤が吸収することによって生じる。
紫外線吸収は、主に可塑剤のエステル結合の結合エネルギーを超える電子遷移が生じることによって生じる。紫外線による活性エネルギーの付与と水分子により、塩化ビニル系樹脂に混入された可塑剤の加水分解が進む。
可塑剤の結合が切れると、切れた結合が周囲の塩化ビニル系樹脂を攻撃し、脱塩素等生じて着色する。また、このことにより機械強度も低下する。
塩化ビニル系樹脂が着色すると、太陽光を放射冷却フィルムCP(フィルム体F)が吸収するために日中では冷却できなくなる。
Degradation of ester-based plasticizers due to ultraviolet light occurs mainly due to the plasticizer absorbing ultraviolet energy.
UV absorption occurs mainly due to electron transitions that exceed the bond energy of the ester bond in the plasticizer. The activation energy provided by UV light and water molecules accelerates the hydrolysis of the plasticizer mixed into the vinyl chloride resin.
When the plasticizer bonds break, the broken bonds attack the surrounding vinyl chloride resin, causing dechlorination and discoloration, which also reduces the mechanical strength.
If the vinyl chloride resin becomes colored, the radiative cooling film CP (film body F) will absorb sunlight and will no longer be able to cool during the day.

故に、図16の実験結果で示した通り、他用途では直射日光に晒される屋外用途で用いられる可塑剤(トリメリット酸エステル、エポキシ化脂肪酸エステル)を、放射冷却フィルムCPでは用いることができず、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の可塑剤として、フタル酸エステル類、脂肪族二塩基酸エステル類、リン酸トリエステル類、芳香族リン酸エステル類を用いることができる。 Therefore, as shown in the experimental results in Figure 16, plasticizers (trimellitic acid esters, epoxidized fatty acid esters) used in outdoor applications where the film is exposed to direct sunlight cannot be used in the radiative cooling film CP. Instead, phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, phosphate triesters, and aromatic phosphate esters can be used as plasticizers for the radiative cooling film CP (film body F).

(紫外線吸収剤の樹脂材料層の保護性について)
実験に用いた放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の樹脂材料層Jを形成する塩化ビニル系樹脂には、紫外線吸収剤を混ぜており、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の製作当初の反射率が、波長295nm以上で、350nm以下の範囲で10%以下となるよう調整している(図16参照)。
この紫外線吸収剤は、樹脂材料層Jの下にある接着層N、隣接側保護層Du、銀を備えた光反射層Bを守るために存在しており、樹脂材料層Jを紫外線から守る効果は限定的である。
(Protective properties of the resin material layer with ultraviolet absorbers)
The vinyl chloride resin forming the resin material layer J of the radiative cooling film CP (film body F) used in the experiment was mixed with an ultraviolet absorber, and the reflectance of the radiative cooling film CP (film body F) at the time of production was adjusted to be 10% or less in the wavelength range of 295 nm or more and 350 nm or less (see Fig. 16).
This ultraviolet absorber is present to protect the adhesive layer N, adjacent side protective layer Du, and light-reflecting layer B containing silver that are located below the resin material layer J, and its effect in protecting the resin material layer J from ultraviolet rays is limited.

紫外線吸収剤の吸収率(A)は、下記の式(2)で表すことができる。
A=1-exp(-αt)---(2)尚、αは吸収係数、tは膜厚である。
この式から、光は、樹脂材料層J(塩化ビニル系樹脂)を移動するに伴って徐々に樹脂材料層Jに吸収されることがわかる。つまり、特に、樹脂材料層J(塩化ビニル系樹脂)の太陽光入射側は、紫外線吸収剤による紫外線保護効果は期待できない。
つまり、実験の結果、可塑剤をトリメリット酸とした場合には、放射冷却フィルムCPが、太陽光照射面(放射面H)からえぐれるようにして劣化が進むことが分かった。
The absorbance (A) of the ultraviolet absorber can be expressed by the following formula (2).
A=1-exp(-αt) (2) where α is the absorption coefficient and t is the film thickness.
From this equation, it can be seen that as light travels through the resin material layer J (vinyl chloride resin), it is gradually absorbed by the resin material layer J. In other words, the ultraviolet protection effect of the ultraviolet absorber cannot be expected, particularly on the sunlight incident side of the resin material layer J (vinyl chloride resin).
That is, the experimental results showed that when trimellitic acid was used as the plasticizer, the radiative cooling film CP deteriorated as it was gouged out from the sunlight irradiated surface (radiation surface H).

(好適な可塑剤と不適な可塑剤に関して)
塩化ビニル系樹脂に混入する好適な可塑剤は、上述の如く、フタル酸エステル、脂肪族二塩基酸エステル、リン酸トリエステル、芳香族リン酸エステルである。
脂肪族二塩基酸エステルは、脂肪族二塩基酸と飽和脂肪族アルコール2分子とがエステル結合したものであることが好ましく、フタル酸エステルは、フタル酸と飽和脂肪族アルコール2分子とがエステル結合したものであることが好ましい。
また、フタル酸エステル、脂肪族二塩基酸エステル、リン酸トリエステルの夫々については、エステルの炭化水素基がアルキル基であることが望ましい。
(Regarding suitable and unsuitable plasticizers)
Suitable plasticizers to be mixed into the vinyl chloride resin are, as mentioned above, phthalates, aliphatic dibasic acid esters, phosphate triesters, and aromatic phosphate esters.
The aliphatic dibasic acid ester is preferably an ester bond between an aliphatic dibasic acid and two molecules of a saturated aliphatic alcohol, and the phthalic acid ester is preferably an ester bond between phthalic acid and two molecules of a saturated aliphatic alcohol.
In addition, for each of the phthalic acid ester, aliphatic dibasic acid ester, and phosphate triester, it is desirable that the hydrocarbon group of the ester is an alkyl group.

不適な可塑剤は、上述の如く、トリメリット酸エステル、エポキシ化脂肪酸エステルである。
また、フタル酸エステル、脂肪族二塩基酸エステル、リン酸トリエステルの炭化水素基が、不飽和炭化水素基である可塑剤も不適である。つまり、フタル酸エステル、脂肪族二塩基酸エステル、リン酸トリエステルの炭化水素基が、飽和炭化水素基であることが望ましい。
つまり、炭化水素基が不飽和炭化水素基であると、その不飽和結合が着色の原因となり太陽光をよく吸収し、放射冷却特性を下げる。併せて、その不飽和結合が太陽光を吸収して開裂し、周辺のオリゴマー及び塩化ビニルとの反応を進め、このことにより、放射冷却フィルムCPの樹脂材料層Jが脆化、着色する。
要するに、可塑剤の適・不適の違いは、可塑剤の紫外線の吸収し易さに起因する。
As mentioned above, unsuitable plasticizers are trimellitic esters and epoxidized fatty acid esters.
Furthermore, plasticizers in which the hydrocarbon group of the phthalate ester, aliphatic dibasic acid ester, or phosphate triester is an unsaturated hydrocarbon group are also unsuitable. In other words, it is desirable that the hydrocarbon group of the phthalate ester, aliphatic dibasic acid ester, or phosphate triester is a saturated hydrocarbon group.
That is, if the hydrocarbon group is an unsaturated hydrocarbon group, the unsaturated bond causes coloration, absorbs sunlight well, and reduces the radiative cooling performance. In addition, the unsaturated bond absorbs sunlight and cleaves, promoting reactions with the surrounding oligomers and vinyl chloride, which causes embrittlement and coloration of the resin material layer J of the radiative cooling film CP.
In short, the suitability of a plasticizer depends on how easily the plasticizer absorbs ultraviolet light.

(フタル酸エステルについて)
先ずは、芳香族カルボン酸エステルである、フタル酸エステルについて、トリメリット酸エステルと比較する。フタル酸エステルの例としては、DOP(フタル酸ジ-2-エチルヘキシル)があり、トリメリット酸エステルの例としては、TOTM(トリメリット酸トリ-2-エチルヘキシル)がある。
紫外線が照射される屋外での分解はエステル結合の加水分解によって生じる。紫外線がその反応の活性化エネルギーとなる。トリメリット酸エステルのエステル結合の結合エネルギーはフタル酸と比較して弱い。この違いは紫外線吸収の違いに現れる。
(About phthalates)
First, we will compare phthalates, which are aromatic carboxylic acid esters, with trimellitic acid esters. An example of a phthalate ester is DOP (di-2-ethylhexyl phthalate), and an example of a trimellitic acid ester is TOTM (tri-2-ethylhexyl trimellitate).
Decomposition outdoors under ultraviolet light occurs through hydrolysis of the ester bond. UV light provides the activation energy for this reaction. The bond energy of the ester bond in trimellitic esters is weaker than that of phthalic acid. This difference is reflected in the difference in UV absorption.

下記の式(3)は、吸収波長(λA)と結合エネルギー(E)との関係を表す。
λ=1240/E---(3)
この式は、結合エネルギー(E)が小さくなると、結合の電子移動を活性化する紫外線吸収波長が長波にシフトすることを示している。図17にその一例を示す。
図17の中で、DEHP、DINCHがフタル酸エステル、TOTMがトリメリット酸エステルである。尚、DEHPは、DOPと同じである。
The following formula (3) represents the relationship between the absorption wavelength (λ A) and the binding energy (E):
λ A =1240/E---(3)
This equation shows that as the bond energy (E) decreases, the ultraviolet absorption wavelength that activates the bond electron transfer shifts to longer wavelengths. An example is shown in Figure 17.
In Figure 17, DEHP and DINCH are phthalate esters, and TOTM is trimellitate ester. Note that DEHP is the same as DOP.

地上の太陽光は295nmより長波に存在するが、TOTMは、295nmより長波の紫外線をよく吸収する。この吸収はエステル結合に由来しており、紫外線が周囲の水と反応する加水分解の活性化エネルギーとなる。
ちなみに、トリメリット酸エステルは直射日光に晒される軟質塩ビ製電線等にも用いられる可塑剤であるが、同じ屋外用途でも放射冷却フィルムCPの樹脂材料層Jを形成する塩化ビニルに用いることはできない。一般的な屋外用途において、塩化ビニル層は黒等の色に十分に着色され、紫外線の影響を受けづらい状態となっていることが多く、紫外線による劣化は生じにくい。
Terrestrial sunlight exists in the wavelength range longer than 295 nm, but TOTM effectively absorbs ultraviolet light in the wavelength range longer than 295 nm. This absorption comes from the ester bond, and becomes the activation energy for hydrolysis, in which ultraviolet light reacts with surrounding water.
Incidentally, trimellitic acid ester is a plasticizer that is also used in soft PVC electric wires exposed to direct sunlight, but it cannot be used for the vinyl chloride that forms the resin material layer J of the radiative cooling film CP, even though it is also for outdoor use. In general outdoor use, the vinyl chloride layer is often sufficiently colored, such as black, to be less susceptible to the effects of UV rays, and is therefore less susceptible to deterioration due to UV rays.

一方、放射冷却フィルムCPの場合、放射冷却性能を得るために太陽光の吸収を最小限に抑える必要があり、可塑剤を守るための添加物や染料・顔料を十分には入れられない。故に、他用途では直射日光に晒される屋外用途で用いられる可塑剤が本用途では用いることができないものとなる。
トリメリット酸エステル類としては、トリメリット酸トリ-2-エチルヘキシル(TOTM)、トリメリット酸トリイソノニル(TINTM)、トリメリット酸トリイソデシル(TIDTM)等があるが、いずれも不適である。
On the other hand, in the case of radiative cooling film CP, it is necessary to minimize the absorption of sunlight in order to achieve radiative cooling performance, and therefore additives, dyes, and pigments to protect the plasticizer cannot be added sufficiently. Therefore, plasticizers that are used for outdoor applications exposed to direct sunlight cannot be used in this application.
Trimellitic acid esters include tri-2-ethylhexyl trimellitate (TOTM), triisononyl trimellitate (TINTM), triisodecyl trimellitate (TIDTM), etc., but all of them are unsuitable.

図18に、他のフタル酸エステルとして、DOP(フタル酸ジ-2-エチルヘキシル)、DBP(フタル酸ジブチル)の吸光度を示すが、295nmより長波に殆ど吸収を持たないことがわかる。 Figure 18 shows the absorbance of other phthalate esters, DOP (di-2-ethylhexyl phthalate) and DBP (dibutyl phthalate), and shows that they have almost no absorption at wavelengths longer than 295 nm.

炭化水素基がアルキル基の場合、エステル結合の強度はカルボン酸の種類に大きく依存しており、カルボン酸の種類が同一であれば紫外線吸収は同様の傾向を示す。炭化水素基がアルキル基である場合、400nm以下の紫外域の最も長波長側の光吸収はエステル結合の結合エネルギーに起因している。
炭化水素基がアルキル基のフタル酸エステルは、地上の太陽光スペクトルに存在する295nmよりも長波の紫外域に吸収を有しておらず、太陽光の紫外エネルギーで加水分解が進まない。
When the hydrocarbon group is an alkyl group, the strength of the ester bond is highly dependent on the type of carboxylic acid, and ultraviolet absorption shows similar trends when the type of carboxylic acid is the same. When the hydrocarbon group is an alkyl group, light absorption at the longest wavelength side of the ultraviolet region of 400 nm or less is due to the bond energy of the ester bond.
Phthalic acid esters, whose hydrocarbon group is an alkyl group, do not absorb light in the ultraviolet region longer than 295 nm that exists in the spectrum of terrestrial sunlight, and are not hydrolyzed by the ultraviolet energy of sunlight.

一方、炭化水素基がアルキル基のトリメリット酸エステルは太陽光の紫外エネルギーをエステル結合が吸収し、そのエネルギーで加水分解が進む。加水分解で生成された酸及びアルコールは紫外線を吸収して周辺のオリゴマー及び塩化ビニルとの反応を進め、このことにより、放射冷却フィルムCPの樹脂材料層Jが脆化、着色する。
つまり、可塑剤として用いられる芳香族カルボン酸エステルには、フタル酸エステルとトリメリット酸エステルが存在するが、フタル酸エステルは放射冷却素材として用いることができるがトリメリット酸エステルは用いることができない。
On the other hand, in trimellitic acid esters whose hydrocarbon group is an alkyl group, the ester bond absorbs the ultraviolet energy of sunlight, and the energy promotes hydrolysis. The acid and alcohol generated by the hydrolysis absorb ultraviolet light and promote reactions with the surrounding oligomers and vinyl chloride, which causes embrittlement and coloration of the resin material layer J of the radiative cooling film CP.
In other words, aromatic carboxylic acid esters used as plasticizers include phthalates and trimellitates, and while phthalates can be used as radiative cooling materials, trimellitates cannot.

(脂肪族二塩基酸エステルについて)
炭化水素基がアルキル基の場合、エステル結合の強度はカルボン酸の種類に大きく依存しており、カルボン酸の種類が同一であれば紫外線吸収は同様の傾向を示すことはフタル酸とトリメリット酸の部分で説明した。
脂肪族二塩基酸エステルの脂肪族二塩基酸がアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、コハク酸のように飽和ジカルボン酸であり、なおかつエステルがこれら酸と飽和グルコースとのエステル結合の場合を考える。なお飽和ジカルボン酸と飽和グルコースとの共重合体も含む。
この場合、紫外域において光学的に特徴のある官能基はエステル結合のみとなり、理論上、紫外域(200nm以上で400nm以下)の吸収スペクトルはいずれの脂肪族二塩基酸エステルも同一となる。
(Aliphatic dibasic acid esters)
When the hydrocarbon group is an alkyl group, the strength of the ester bond is highly dependent on the type of carboxylic acid, and as explained in the sections on phthalic acid and trimellitic acid, if the type of carboxylic acid is the same, the ultraviolet absorption will show similar trends.
Consider the case where the aliphatic dibasic acid of the aliphatic dibasic acid ester is a saturated dicarboxylic acid such as adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, or succinic acid, and the ester is an ester bond between such an acid and saturated glucose. This also includes copolymers of saturated dicarboxylic acids and saturated glucose.
In this case, the only functional group that has optical characteristics in the ultraviolet region is the ester bond, and theoretically, the absorption spectrum in the ultraviolet region (200 nm or more and 400 nm or less) is the same for all aliphatic dibasic acid esters.

脂肪族二塩基酸エステルの代表例としての、DOA(アジピン酸ジ-2-エチルヘキシル)について検討する。図19に、紫外域におけるDOAの吸光度を示すが、295nmより長波に殆ど吸収を持たなかった前述のDOP(フタル酸ジ-2-エチルヘキシル)よりも、さらに太陽光吸収率が低いことがわかる。
図16において、フタル酸エステルも脂肪族二塩基酸エステルもキセノンウエザー試験で2000時間を耐久しているが、光学的には、DOAの方が耐久性は高い。
Let us consider DOA (di-2-ethylhexyl adipate), a typical example of an aliphatic dibasic acid ester. Figure 19 shows the absorbance of DOA in the ultraviolet region, and it can be seen that DOA has an even lower solar absorptivity than the aforementioned DOP (di-2-ethylhexyl phthalate), which has almost no absorption in wavelengths longer than 295 nm.
In FIG. 16, both the phthalate ester and the aliphatic dibasic acid ester endured 2000 hours in the xenon weather test, but optically, DOA had higher durability.

(リン酸エステルについて)
リン酸エステルの可塑剤には、リン酸トリエステルと芳香族リン酸トリエステルが存在する。リン酸エステルの結合エネルギーは大きく、295nmより長波の紫外線で加水分解しない。故に、放射冷却フィルムCPの可塑剤として優れている。なお、リン酸エステルとすると、難燃性となる。
(Regarding phosphate esters)
Phosphate ester plasticizers include phosphate triesters and aromatic phosphate triesters. Phosphate esters have large bond energy and do not hydrolyze under ultraviolet light with wavelengths longer than 295 nm. Therefore, they are excellent plasticizers for radiative cooling films (CPs). Phosphate esters also have flame retardancy.

リン酸トリエステルとしては、上述の如く、トリメチルホスフェート(TMP)、トリエチルホスフェート(TEP)、トリブチルホスフェート(TBP)、トリス(2エチルヘキシル)ホスフェート(TOP)がある。
図20に、トリブチルホスフェート(TBP)の吸光度を示すが、295nmより長波の紫外線を殆ど吸収しないことがわかる。
As mentioned above, the phosphate triester includes trimethyl phosphate (TMP), triethyl phosphate (TEP), tributyl phosphate (TBP), and tris(2-ethylhexyl) phosphate (TOP).
FIG. 20 shows the absorbance of tributyl phosphate (TBP), which shows that it hardly absorbs ultraviolet light with wavelengths longer than 295 nm.

芳香族リン酸エステルとしては、上述の如く、トリフェニルホスフェート(TPP)、トリクレシルホスフェート(TCP)、トリキシレニルホスフェート(TXP)、トレジルジフェニルホスフェート(CDP)、2-エチルヘキシルジフェニルホスフェートがある。
図示は省略するが、芳香族リン酸エステルは、295nmより長波の紫外線を殆ど吸収しない。
As mentioned above, aromatic phosphate esters include triphenyl phosphate (TPP), tricresyl phosphate (TCP), trixylenyl phosphate (TXP), tresyl diphenyl phosphate (CDP), and 2-ethylhexyl diphenyl phosphate.
Although not shown in the figure, aromatic phosphate ester hardly absorbs ultraviolet light with wavelengths longer than 295 nm.

(エポキシ化脂肪酸エステルについて)
エポキシ化脂肪酸エステルは、上述したTOTM(トリメリット酸エステル)と同様に、295nmより長波の紫外線をよく吸収する。
つまり、エポキシ化脂肪酸エステルのエポキシ基は、295nmよりも長波の紫外線を吸収し分解する。微生物によっても分解する。そのため、屋外使用する観点で使えない。
尚、エポキシ化脂肪酸エステル類としては、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油等のエポキシ化エステル類があるが、いずれも放射冷却フィルムCPの塩化ビニル系樹脂に混入する可塑剤としては使えない。
(Regarding Epoxidized Fatty Acid Esters)
Epoxidized fatty acid esters, like the above-mentioned TOTM (trimellitic acid ester), effectively absorb ultraviolet light with wavelengths longer than 295 nm.
In other words, the epoxy groups in epoxidized fatty acid esters absorb and decompose ultraviolet light with wavelengths longer than 295 nm. They are also decomposed by microorganisms. Therefore, they cannot be used outdoors.
As epoxidized fatty acid esters, there are epoxidized esters such as epoxidized soybean oil and epoxidized linseed oil, but none of them can be used as a plasticizer to be mixed into the vinyl chloride resin of the radiative cooling film CP.

〔赤外放射層の別構成〕
図22に示すように、赤外放射層Aを構成する樹脂材料層J(可塑剤が混入された塩化ビニル系樹脂)に、無機材料のフィラーVを混入させて、光散乱構成を備えさせるようにしてもよい。また、図21に示すように、赤外放射層Aを構成する樹脂材料層Jの表裏両面を凹凸状に形成して、光散乱構成を備えさせるようにしてもよい。
このように構成すれば、放射面Hを見たときに、放射面Hのギラツキを抑制できるものとなる。
[Another configuration of the infrared radiation layer]
As shown in Fig. 22, a light scattering structure may be provided by mixing an inorganic filler V into the resin material layer J (vinyl chloride resin mixed with a plasticizer) constituting the infrared radiation layer A. Also, as shown in Fig. 21, both the front and back surfaces of the resin material layer J constituting the infrared radiation layer A may be formed unevenly to provide a light scattering structure.
With this configuration, glare from the radiation surface H can be suppressed when the radiation surface H is viewed.

つまり、上記した樹脂材料層Jは、表裏両面が平坦で、フィラーVが混入しない構成であるが、このような構成の場合には、放射面Hが鏡面状となるため、放射面Hを見たときに、ギラツキを感じるものとなるが、光散乱構成を備えさせるとこのギラツキを抑制できる。
また、樹脂材料層JにフィラーVを混入させた場合において、隣接側保護層Du及び光反射層Bが存在すると、にフィラーVを混入させた樹脂材料層Jのみの場合や光反射層Bのみの場合よりも、光反射率が向上する。
In other words, the above-mentioned resin material layer J is flat on both the front and back sides and is configured so that no filler V is mixed in. In such a configuration, the radiation surface H is mirror-like, so that glare is perceived when looking at the radiation surface H, but this glare can be suppressed by providing a light-scattering configuration.
Furthermore, when filler V is mixed into the resin material layer J, if an adjacent side protective layer Du and a light-reflecting layer B are present, the light reflectivity is improved compared to when only the resin material layer J mixed with filler V is present or when only the light-reflecting layer B is present.

フィラーVを形成する無機材料としては、二酸化ケイ素(SiO酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化マグネシウム(MgO)等を好適に使用できる。尚、樹脂材料層JにフィラーVを混入すると、樹脂材料層Jの表裏両面が凹凸状になる。
また、樹脂材料層Jの表裏両面を凹凸状にするには、エンボス加工や表面に傷を付ける加工等を行うことにより行うことができる。
Silicon dioxide ( SiO2 ) , titanium oxide ( TiO2 ), aluminum oxide ( Al2O3 ), magnesium oxide (MgO), etc. can be suitably used as the inorganic material forming the filler V. When the filler V is mixed into the resin material layer J, both the front and back surfaces of the resin material layer J become uneven.
In addition, the front and back surfaces of the resin material layer J can be made uneven by embossing or scratching the surface.

樹脂材料層Jの裏面が凹凸状になる場合には、図5で説明した構成と同様に、樹脂材料層Jと隣接側保護層Duとの間に接着層Nが位置するようにすることが望ましい。
つまり、樹脂材料層Jの裏面が凹凸状であっても、樹脂材料層Jと隣接側保護層Duとの間に接着層N(接合層)が位置するから、樹脂材料層Jと隣接側保護層Duとを適切に接合することができる。
When the rear surface of the resin material layer J is uneven, it is desirable to position an adhesive layer N between the resin material layer J and the adjacent-side protective layer Du, similar to the configuration described in FIG.
In other words, even if the back surface of the resin material layer J is uneven, the adhesive layer N (bonding layer) is located between the resin material layer J and the adjacent side protective layer Du, so the resin material layer J and the adjacent side protective layer Du can be properly bonded together.

尚、樹脂材料層Jの裏面が凹凸状になる場合において、例えば、プラズマ接合により、樹脂材料層Jと隣接側保護層Duとを直接的に接合するようにしてもよい。尚、プラズマ接合とは、樹脂材料層Jの接合面と隣接側保護層Duの接合面にプラズマの放射によりラジカルを形成し、そのラジカルにより接合する形態である。 In cases where the back surface of the resin material layer J is uneven, the resin material layer J and the adjacent protective layer Du may be directly bonded, for example, by plasma bonding. Plasma bonding is a method of forming radicals by emitting plasma on the bonding surfaces of the resin material layer J and the adjacent protective layer Du, and then bonding is performed using these radicals.

ちなみに、隣接側保護層DuにフィラーVを混入すると、隣接側保護層Duの光反射層Bに接する裏面が凹凸状になり、光反射層Bの表面を凹凸状に変形させる原因になるため、隣接側保護層DuにフィラーVを混入することは避ける必要がある。つまり、光反射層Bの表面が凹凸状に変形すると、光反射を適正通り行えないものとなり、その結果、放射冷却を適正通り行えないものとなる。 Incidentally, if filler V is mixed into the adjacent-side protective layer Du, the back surface of the adjacent-side protective layer Du that contacts the light-reflecting layer B will become uneven, causing the surface of the light-reflecting layer B to deform unevenly. Therefore, it is necessary to avoid mixing filler V into the adjacent-side protective layer Du. In other words, if the surface of the light-reflecting layer B deforms unevenly, it will not be able to reflect light properly, and as a result, radiative cooling will not be able to be performed properly.

図23には、フィラーV(酸化チタン:TiO)及び可塑剤(PE系)を混入させた樹脂材料層J(塩化ビニル樹脂)の引張強さ(N/2.5cm)及び破断時伸び(%)を例示する。ちなみに、可塑剤のPE系は、ポリエステル系(アジピン酸ポリエステル)である。
尚、図23には、フィラーVを混入させることなく可塑剤(PE系)を混入させた樹脂材料層J(塩化ビニル樹脂)の引張強さ(N/2.5cm)及び破断時伸び(%)、並びに、フィラーVを混入させることなく可塑剤(DOP:フタル酸ジ-2-エチルヘキシル)を混入させた樹脂材料層J(塩化ビニル樹脂)の引張強さ(N/2.5cm)及び破断時伸び(%)を例示する。
23 shows an example of the tensile strength (N/2.5 cm) and elongation at break (%) of a resin material layer J (vinyl chloride resin) mixed with filler V (titanium oxide: TiO 2 ) and a plasticizer (PE-based). The PE-based plasticizer is a polyester-based (adipic acid polyester).
In addition, Figure 23 illustrates the tensile strength (N/2.5 cm) and elongation at break (%) of a resin material layer J (vinyl chloride resin) mixed with a plasticizer (PE-based) but not with filler V, as well as the tensile strength (N/2.5 cm) and elongation at break (%) of a resin material layer J (vinyl chloride resin) mixed with a plasticizer (DOP: di-2-ethylhexyl phthalate) but not with filler V.

〔別実施形態〕
以下、別実施形態を列記する。
(1)上記実施形態では、冷却対象物Eとして、放射冷却フィルムCP(フィルム体F)の裏面に密着される物体(例えば、膜材)を例示したが、冷却対象物Eとしては、冷却対象空間等、各種の冷却対象を適用できる。
[Another embodiment]
Other embodiments will be listed below.
(1) In the above embodiment, an object (e.g., a membrane material) that is in close contact with the back surface of the radiative cooling film CP (film body F) is exemplified as the object to be cooled E. However, various types of objects to be cooled, such as a space to be cooled, can be used as the object to be cooled E.

(2)上記実施形態では、樹脂材料層Jの放射面Hをそのまま露出させる形態を例示したが、放射面Hを覆うハードコートを設ける形態で実施してもよい。
ハードコートとしては、UV硬化アクリル系、熱硬化アクリル系、UV硬化シリコーン系、熱硬化シリコーン系、有機無機ハイブリッド系、塩化ビニルが存在し、いずれを用いてもよい。添加材として有機系帯電防止剤を用いてもよい。
UV硬化アクリル系の中でもウレタンアクリレートは特によい。
(2) In the above embodiment, the radiation surface H of the resin material layer J is exposed as is. However, a hard coat may be provided to cover the radiation surface H.
The hard coat may be any of UV-curable acrylic, thermosetting acrylic, UV-curable silicone, thermosetting silicone, organic-inorganic hybrid, and vinyl chloride. An organic antistatic agent may be used as an additive.
Among the UV-curable acrylics, urethane acrylate is particularly good.

ハードコートの成膜方法としては、グラビアコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法などを用いることができる。
ハードコート(塗膜)の厚みは1~50μmであり、特に2~20μmが望ましい。
The hard coat can be formed by a method such as gravure coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, or die coating.
The thickness of the hard coat (coating film) is 1 to 50 μm, and preferably 2 to 20 μm.

(3)フィルム体Fの作成方法としては、上記実施形態に記載の方法に代えて、樹脂材料層Jに接着層Nを形成し、接着層Nに隣接保護層Duを形成し、隣接保護層Duに光反射層Bを直接製膜し、光反射層Bに離間保護層Dsを形成するようにする等、他の形成方法を用いてもよい。 (3) As a method for producing the film body F, instead of the method described in the above embodiment, other formation methods may be used, such as forming an adhesive layer N on the resin material layer J, forming an adjacent protective layer Du on the adhesive layer N, directly depositing a light-reflecting layer B on the adjacent protective layer Du, and forming a separating protective layer Ds on the light-reflecting layer B.

なお、上記実施形態(別実施形態を含む、以下同じ)で開示される構成は、矛盾が生じない限り、他の実施形態で開示される構成と組み合わせて適用することが可能であり、また、本明細書において開示された実施形態は例示であって、本発明の実施形態はこれに限定されず、本発明の目的を逸脱しない範囲内で適宜改変することが可能である。 The configurations disclosed in the above embodiments (including other embodiments, the same applies below) can be applied in combination with configurations disclosed in other embodiments, provided that no contradictions arise. Furthermore, the embodiments disclosed in this specification are merely examples, and the present invention is not limited to these embodiments. They can be modified as appropriate within the scope of the purpose of the present invention.

A 赤外放射層
B 光反射層
Ds 離間側保護層
Du 隣接側保護層
F フィルム体
G 離型層
H 放射面
J 樹脂材料層
N 接着層
P 反射側積層体
A Infrared radiation layer B Light reflection layer Ds Separating side protective layer Du Adjacent side protective layer F Film body G Release layer H Radiation surface J Resin material layer N Adhesive layer P Reflection side laminate

Claims (12)

放射面から赤外光を放射する赤外放射層と、当該赤外放射層における前記放射面の存在側とは反対側に位置させる銀または銀合金で構成された光反射層と、前記光反射層における前記赤外放射層に隣接する側に位置させる隣接側保護層と、前記光反射層における前記赤外放射層から離れる側に位置させる離間側保護層を備えるフィルム体に構成され、
前記赤外放射層が、吸収した太陽光エネルギーよりも大きな熱輻射エネルギーを波長8μmから波長14μmの帯域で放つ厚みに調整されている樹脂材料層である放射冷却フィルムであって、
前記隣接側保護層及び前記離間側保護層を形成する樹脂材料が、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂のいずれかであり、
前記フィルム体は、常温における引張強さが140N/2.5cm以下でかつ破断時伸びが30%以上であり、
前記光反射層の厚みが70nm以上、300nm以下である放射冷却フィルム。
the film body includes an infrared radiation layer that emits infrared light from a radiation surface, a light reflection layer made of silver or a silver alloy and located on the side of the infrared radiation layer opposite to the side on which the radiation surface is present, an adjacent-side protective layer that is located on the side of the light reflection layer that is adjacent to the infrared radiation layer, and a remote-side protective layer that is located on the side of the light reflection layer that is remote from the infrared radiation layer,
The radiative cooling film is a resin material layer whose thickness is adjusted to emit thermal radiation energy greater than absorbed solar light energy in a wavelength band of 8 μm to 14 μm,
the resin material forming the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer is any one of a urethane resin, an acrylic urethane resin, and a polyolefin resin;
The film body has a tensile strength of 140 N/2.5 cm or less at room temperature and an elongation at break of 30% or more,
The radiative cooling film , wherein the thickness of the light reflecting layer is 70 nm or more and 300 nm or less .
前記樹脂材料層の膜厚が、
波長0.4μmから0.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が13%以下であり、波長0.5μmから波長0.8μmの範囲の光吸収率の波長平均が4%以下であり、波長0.8μmから波長1.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が1%以内であり、1.5μmから2.5μmの範囲の光吸収率の波長平均が40%以下となる光吸収特性を備え、且つ、8μmから14μmの範囲の輻射率の波長平均が40%以上となる熱輻射特性を備える状態の厚みに調整され、
前記樹脂材料層は、引張強さが139N/2.5cm以下で、破断時伸びが50%以上であり、かつ、温度上昇により引張強さが低下する請求項1に記載の放射冷却フィルム。
The thickness of the resin material layer is
The thickness is adjusted to have light absorption characteristics in which the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 0.4 μm to 0.5 μm is 13% or less, the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 0.5 μm to 0.8 μm is 4% or less, the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 0.8 μm to 1.5 μm is within 1%, and the wavelength average of the light absorptance in the wavelength range of 1.5 μm to 2.5 μm is 40% or less, and thermal radiation characteristics in which the wavelength average of the emissivity in the wavelength range of 8 μm to 14 μm is 40% or more,
2. The radiative cooling film according to claim 1, wherein the resin material layer has a tensile strength of 139 N/2.5 cm or less, an elongation at break of 50% or more, and the tensile strength decreases with increasing temperature.
前記樹脂材料層を形成する樹脂材料が、可塑剤が混入された塩化ビニル系樹脂であり、前記樹脂材料層の厚みが、14μm以上、330μm以下である請求項1又は2に記載の放射冷却フィルム。 3. The radiative cooling film according to claim 1, wherein the resin material forming the resin material layer is a vinyl chloride resin mixed with a plasticizer, and the thickness of the resin material layer is 14 μm or more and 330 μm or less . 前記樹脂材料層の厚みが、50μm以上、330μm以下である請求項3に記載の放射冷却フィルム。 4. The radiative cooling film according to claim 3, wherein the resin material layer has a thickness of 50 μm or more and 330 μm or less . 前記可塑剤が、フタル酸エステル類、脂肪族二塩基酸エステル類及びリン酸エステル類からなる群より選択される1つ以上の化合物からなる請求項3又は4に記載の放射冷却フィルム。 5. The radiative cooling film according to claim 3, wherein the plasticizer comprises one or more compounds selected from the group consisting of phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, and phosphate esters . 前記可塑剤が、前記塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、7重量部以上、50重量部以下の範囲で混入されている請求項3~5のいずれか1項に記載の放射冷却フィルム。 The radiative cooling film according to any one of claims 3 to 5, wherein the plasticizer is mixed in a range of 7 parts by weight or more and 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the vinyl chloride resin . 前記可塑剤が、前記塩化ビニル系樹脂100重量部に対して、15重量部以上、50重量部以下の範囲で混入されている請求項6に記載の放射冷却フィルム。 7. The radiative cooling film according to claim 6, wherein the plasticizer is mixed in an amount ranging from 15 parts by weight to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the vinyl chloride resin . 前記隣接側保護層及び前記離間側保護層の厚さが300nm以上で、40μm以下である請求項1~7のいずれか1項に記載の放射冷却フィルム。 The radiative cooling film according to any one of claims 1 to 7, wherein the thickness of the adjacent-side protective layer and the distant-side protective layer is 300 nm or more and 40 μm or less . 前記樹脂材料層と前記隣接側保護層とが、接着層にて接着され、
前記接着層が、ウレタン樹脂系接着剤、アクリルウレタン樹脂系接着剤、ポリオレフィン樹脂系接着剤のいずれかで形成されている請求項1~8のいずれか1項に記載の放射冷却フィルム。
the resin material layer and the adjacent-side protective layer are bonded together by an adhesive layer,
The radiative cooling film according to any one of claims 1 to 8, wherein the adhesive layer is formed of any one of a urethane resin-based adhesive, an acrylic urethane resin-based adhesive, and a polyolefin resin-based adhesive .
請求項1~9のいずれか1項に記載の放射冷却フィルムの使用方法であって、A method of using the radiative cooling film according to any one of claims 1 to 9,
前記フィルム体の伸びが40%以内となる状態にて使用する放射冷却フィルムの使用方法。A method for using a radiative cooling film, wherein the film body is used in a state where its elongation is 40% or less.
請求項9に記載の放射冷却フィルムの作成方法であって、10. A method of making a radiative cooling film according to claim 9, comprising:
基材の上部に、離型層、前記離間側保護層、前記光反射層、前記隣接側保護層を順次積層して反射層側積層体を形成し、a release layer, the spacing-side protective layer, the light-reflecting layer, and the adjacent-side protective layer are sequentially laminated on an upper portion of a substrate to form a reflective layer-side laminate;
前記樹脂材料層を別途形成し、The resin material layer is separately formed,
前記樹脂材料層と前記反射層側積層体とを前記接着層にて接着する放射冷却フィルムの作成方法。a method for producing a radiative cooling film, wherein the resin material layer and the reflection layer side laminate are bonded together by the adhesive layer.
前記樹脂材料層と前記反射層側積層体とを前記接着層にて接着した後、前記離型層を前記離間側保護層から分離する請求項11に記載の放射冷却フィルムの作成方法。12. The method for making a radiative cooling film according to claim 11, wherein the resin material layer and the reflection-layer-side laminate are bonded together by the adhesive layer, and then the release layer is separated from the separation-side protective layer.
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