JP7798082B2

JP7798082B2 - 保管設備

Info

Publication number: JP7798082B2
Application number: JP2023087219A
Authority: JP
Inventors: 和哉大森
Original assignee: Daifuku Co Ltd
Current assignee: Daifuku Co Ltd
Priority date: 2023-05-26
Filing date: 2023-05-26
Publication date: 2026-01-14
Anticipated expiration: 2043-05-26
Also published as: JP2024170193A; US20240392981A1; TW202513428A; KR20240170421A; CN119018488A

Description

本発明は、保管設備に関する。

従来、半導体や液晶板等の高い清浄度の保持が求められる製品を保管するために、製品を保管する保管棚がクリーンルームに設置されることが知られている。例えば、特許文献１には、クリーンルームの天井から吹き出た風（クリーンエア）が、天井が設けられた保管棚の前後に分かれ、下方に流れた風を保管棚側に導く整流手段が設けられた保管棚が開示されている。

特開２００２－３３８００７号公報

また、クリーンルームでは、天井に設置されたファンフィルターユニットから清浄空気をクリーンルームに供給することで、室内の空気の清浄度を保つ方法がある。このようなクリーンルームでは求められる空気清浄度により、クリーンルームの天井の面積に対してファンフィルターユニットが設置される面積が小さくなる場合がある。その場合、保管棚の上方において、ファンフィルターユニットが配置されている箇所とファンフィルターユニットが配置されていない箇所ができることで、保管棚に対して天井からの清浄空気の流れが均一ではなくなり、保管棚内において空気の淀みが発生しやすくなるという問題がある。

本発明の一態様は、保管設備に対して保管設備の上方からの清浄空気の供給が均一でない場合であっても、保管設備内の清浄度を維持することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る保管設備は、天井に設置されたファンフィルターユニットから清浄空気が供給されることで室内の清浄度を保つクリーンルームに設置される保管設備であって、物品を載置する保管棚を備え、少なくとも、前記保管棚の天井となる位置において、前記ファンフィルターユニットから前記クリーンルーム内に供給される前記清浄空気を前記保管設備の内部に通過させる複数の孔が設けられている。

本発明の一態様によれば、保管設備に対して保管設備の上方からの清浄空気の供給が均一でない場合であっても、保管設備内の清浄度を維持することができる。

本発明の実施形態に係る保管設備の縦断面図である。上記保管設備の横断面図である。上記保管設備の正面図である。上記保管設備の背面図である。上記保管設備が設置されるクリーンルームの天井においてファンフィルターユニットが設置されている位置を示す図である。上記保管設備内の空気の流れを示した図である。上記保管設備のパンチングプレートの配置の一例を示す上面図である。上記保管設備内及び従来の保管設備内の気流解析結果を示す図である。パンチングプレートの開口率を異ならせた場合における上記保管設備内の酸素濃度を測定した結果を示す表である。

以下、本発明の一実施形態について、詳細に説明する。ただし、以下の説明は本発明に係る保管設備１の一例であり、本発明の技術的範囲は図示例に限定されるものではない。なお、説明を簡単にするために、以下において、図１の保管設備１に対して、鉛直方向をＹ軸方向、保管設備１の後面５２から前面５１に向かう方向をＺ軸方向、Ｙ軸及びＺ軸に垂直な方向をＸ軸方向として説明する。

〔保管設備の概略〕
半導体や液晶板等の高い清浄度の保持が求められる製品は、天井１００に設置されたファンフィルターユニット（以降ＦＦＵと記載する）から清浄空気を室内に供給することで室内の空気の清浄度を保つクリーンルームＣＲに設置される保管設備に保管される場合がある。

その場合、保管設備の上方において、ＦＦＵが配置されている箇所とＦＦＵが配置されていない箇所ができると、保管設備の上方からの保管設備に対する清浄空気の流れが均一ではなくなる。そのため、保管設備内に清浄空気が均一な流れで導入されず、保管設備内においても清浄空気が均一に流れないため、保管設備内において空気の淀みが発生しやすくなり、保管設備内の清浄度を維持することが困難となる。

図１は、本発明の実施形態に係る保管設備１をＹ軸及びＺ軸に平行な平面で切断した際の縦断面図である。図１に示すように、保管設備１は、天井１００に設置されたＦＦＵから清浄空気が供給されることで室内の清浄度を保つクリーンルームＣＲに設置され、容器５０を載置する保管棚２を備えている。また、少なくとも、保管棚２の天井となる位置Ｐにおいて、ＦＦＵからクリーンルームＣＲ内に供給される清浄空気を保管設備１の内部に通過させる複数の孔４が設けられている。

これにより、保管設備１の上方からの保管設備１に対する清浄空気の流れが均一でない場合であっても、保管設備１は保管設備１内に清浄空気を均一な流れで導入することができるため、保管設備１内において均一に清浄空気を流すことができる。その結果、保管設備１内の空気の淀みの発生を抑制し、保管設備１内の清浄度を維持することができる保管設備１を実現することができる。

〔保管設備〕
図２は、保管設備１をＸ軸及びＺ軸に平行な平面で切断した際の横断面図である。図３は、保管設備１の正面図である。図４は、保管設備１の背面図である。図４では理解を容易にするため、保管設備１の収納部１０Ｓも破線で表示している。

図１から図４に示すように、保管設備１は、クリーンルームＣＲに配置されている。クリーンルームＣＲは、天井１００に設置されたＦＦＵから清浄空気を室内に供給することで室内の空気の清浄度を保つ。ＦＦＵはクリーンルームＣＲの天井１００から、クリーンルームＣＲの床面に向けて清浄空気をクリーンルームＣＲ内に供給する。

保管設備１は、保管棚２と、パンチングプレート３と、側部５と、スタッカークレーン２０と、排気部３０と、カバー４０と、を備えている。

（保管棚）
保管棚２は、容器５０（物品）を載置する。保管棚２には、容器５０を収納する収納部１０Ｓが、Ｙ軸方向及びＸ軸方向のそれぞれに並ぶ状態で配置されている。

容器５０は、半導体や液晶板等を収納するために用いられるものであり、例えば、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）である。容器５０の上面には、ホイスト式の搬送車Ｄにより把持されるフランジが形成されている。また、容器５０の底面には、位置決めピンが係合する係合溝が形成され、容器５０が収納部１０Ｓに収納された状態においては、収納部１０Ｓの載置台１０の上面に配置されている位置決めピンによって載置位置が決定されるように構成されている。

また、容器５０には不活性気体としての窒素ガスを注入するための構成が設けられている。図示にはないが、例えば、容器５０には給気口及び排気口が設けられている。給気口には、注入側開閉弁が設けられ、排気口には、排出側開閉弁が設けられる。注入側開閉弁及び排出側開閉弁は、スプリング等の付勢手段によって閉方向に付勢されている。注入側開閉弁は、給気口に供給される窒素ガスの吐出圧力が大気圧よりも高い第１所定圧力以上となると開くように構成され、排出側開閉弁は、容器５０内部の圧力が大気圧よりも高い第２所定圧力以上となったときに開くように構成されている。容器５０としては、例えば、合成樹脂製の気密容器が採用される。

複数の収納部１０Ｓは、容器５０を収納するように構成されている。複数の収納部１０Ｓの夫々は、容器５０を載置支持する板状の載置台１０を備えている。載置台１０の上面には、上述の位置決めピンが設けられている。

収納部１０Ｓには容器５０に窒素ガスを注入する構成が備えられている。図示にはないが、例えば、載置台１０には、窒素ガスを容器５０の内部に供給する吐出ノズルと、容器５０の内部からの気体を排出する排出管が設けられている。吐出ノズルには、所定箇所から窒素ガスが供給される供給配管が接続されている。排出管の容器５０とは反対側の端部は、保管設備１の内部において各収納部１０Ｓ付近で開口されている。これにより、容器５０からの余剰窒素ガスは保管設備１内に排出される。

なお、保管棚２の複数ある収納部１０Ｓのうちの一部が、窒素ガスが注入される構成を有する収納部１０Ｓであってもよい。その場合、窒素ガスを注入するための構成が設けられている容器５０は、容器５０に窒素ガスを注入する構成を有する収納部１０Ｓに載置される。

図２に示すように、保管棚２は、互いに対向する一対の保管棚２Ａ及び保管棚２Ｂを有する。保管棚２Ａ・２Ｂは、スタッカークレーン２０と容器５０の受け渡しを行う方向を内側として、Ｘ軸方向に略平行に所定間隔を隔てて向い合せで配置されている。保管棚２Ａと保管棚２Ｂとの間には後述するスタッカークレーン２０が配置されている。

側部５は、保管棚２Ａ・２Ｂ及びスタッカークレーン２０が設置されている領域の周囲を囲う。側部５は、前面５１、前面５１に対向する後面５２、及び、前面５１のＸ軸方向の両端において前面５１と後面５２との間をつなぐ一対の側面５３を有している。図２に示されているように、後面５２及び一対の側面５３には開口はないが、図３に示すように、前面５１には、開口５１１・５１２・５１３・５１４・５１５が形成されている。保管設備１は、後面５２がクリーンルームＣＲの壁に沿うように設置されている。

開口５１１・５１２・５１３はいずれも、保管設備１の外部から内部へ、または、保管設備１の内部から外部へ容器５０を搬送する際に容器５０が通過する開口である。開口５１１の保管設備１の内側には容器５０の受け渡し用の荷受け台１１が設置されている。例えば、スタッカークレーン２０によって収納部１０Ｓから搬送された容器５０が荷受け台１１に載置され、当該容器５０が搬送車Ｄにより取り上げられて、所定の場所に搬送される。

開口５１２には、開口５１２を貫通するようにコンベヤＣＶが設置されている。例えば、搬送車Ｄによって搬送された容器５０がコンベヤＣＶに載置され、当該容器５０がコンベヤＣＶにより保管設備１の外部から内部に搬送された後、スタッカークレーン２０によって複数の収納部１０Ｓのいずれかに搬送される。

開口５１３の保管設備１の内側には容器５０の受け渡し用の荷受け台（図示無し）が設置されている。例えば、例えば、スタッカークレーン２０によって収納部１０Ｓから搬送された容器５０が荷受け台に載置され、人が当該容器５０を取り上げて所定の場所に搬送する。開口５１３では人が作業を行うため、開口５１３には開口５１３に対して開閉可能な開閉部が設置されている。

開口５１４は、保管設備１のメンテナンス時等に作業員が出入りするための開口である。開口５１４にも開口５１４に対して開閉可能な開閉部が設置されている。開口５１５は、前面５１の下端にＸ軸方向に沿って形成されている。開口５１５は、後述する排気部３０の排気口として機能する。

（スタッカークレーン）
スタッカークレーン２０（図１・図２参照）は、複数の収納部１０Ｓ及び開口５１１・５１２・５１３に対して容器５０を搬送可能なように構成されている。スタッカークレーン２０は、図１に示すように、保管棚２Ａと保管棚２Ｂとの間の床部に設けられた走行レール（図示無し）に沿って走行移動自在な走行台車２１と、その走行台車２１に立設されたマスト２２と、マスト２２に沿って昇降移動する昇降台２４とを備えている。

なお、図示にはないが、昇降台２４には、収納部１０Ｓ等に対して容器５０を移載する移載装置が装備されている。移載装置は、容器５０を載置支持する板状の載置支持体を備えている。載置支持体は、収納部１０Ｓの内部に突出する突出位置と、昇降台２４側に後退した後退位置との間を移動する。載置支持体の移動及び昇降台２４の昇降作動により、載置支持体に載置されている容器５０は収納部１０Ｓに収容され、収納部１０Ｓに収容されている容器５０は載置支持体に取り出される。また、載置支持体は、開口５１１及び開口５１３の荷受け台及び開口５１２を貫通するコンベヤＣＶに対しても突出可能に構成されている。

（排気部）
図３に示すように、排気部３０は、前面５１の下部に設けられ、保管設備１内の空気を外部に排出する。排気部３０により、孔４から導入されたＦＦＵからの清浄空気を効率よく保管設備１の上部から下部に流すことができるので、好適に保管設備１内に均一に清浄空気を流すことができる。また、排気部３０を設置することで、開口５１１・５１２・５１３・５１４より、保管設備１内部の空気が流れ出ることを抑制することができる。なお、本実施形態では、図３に示すように、１７台の排気部３０が設置されているが上記に限らない。排気部３０の台数及び風量は、保管設備１の大きさにより適宜設定される。

（パンチングプレート）
パンチングプレート３は、少なくとも、保管棚２の天井となる位置Ｐに設置される。パンチングプレート３には、ＦＦＵからクリーンルームＣＲ内に供給される清浄空気を保管設備１の内部に通過させる複数の孔４が設けられている。

保管棚２の天井となる位置Ｐは、保管設備１内における保管棚２の上部の位置を示し、保管棚２の天井となる位置Ｐは保管設備１の天井となる位置と一致してもよい。例えば、パンチングプレート３は、図１に示すように、前面５１の上辺から後面５２の上辺までを覆うように設置されてもよい。言い換えると、パンチングプレート３は、保管設備１の天井となる位置の全体に設置されていてもよい。パンチングプレート３は、上記に限らず、少なくとも、保管棚２の天井となる位置Ｐに設置されていればよく、その範囲は適宜設定できる。

図５は保管設備１が設置されるクリーンルームＣＲの天井においてＦＦＵが設置されている位置を示す図である。理解を容易にするために、図５にはクリーンルームＣＲにおける保管設備１の配置位置を破線で図示している。図５に示すように、保管設備１はクリーンルームＣＲの壁１０１に沿って配置されている。図６は、保管設備１・２００内の空気の流れを示した図であり、図６の６００１は、従来の天井のない保管設備２００内の空気の流れを示し、図６の６００２は、保管設備１内の空気の流れを示す。

クリーンルームＣＲに設置されるＦＦＵの数は求められる清浄度により決定されるため、図５に示すように、保管設備１（保管設備２００）の上方の天井１００において、ＦＦＵが配置されている箇所とＦＦＵが配置されていない箇所とが生じる場合がある。その場合、保管設備２００の上方から保管設備２００に対する清浄空気の流れが均一ではなくなり、保管設備２００では、流れが均一ではない状態で清浄空気が保管設備２００内に導入される可能性がある。

ここで、「保管設備２００の上方から保管設備２００に対する清浄空気の流れが均一でない」とは、保管設備２００を平面視した際の保管設備２００の面積に相当する領域（以降、保管設備２００の設備フットプリントと称する）内において、清浄空気が保管設備２００に到達した際の清浄空気の流速が均一でないことを示す。

また、「流れが均一ではない状態で清浄空気が保管設備２００内に導入される」とは、保管設備２００を平面視した際の保管設備１の設備フットプリント内において、清浄空気が保管設備２００の天井となる位置を通過する際の清浄空気の流速が均一でないことを示す。

流れが均一ではない状態で清浄空気が保管設備２００内に導入されると、図６の６００１に示すように、保管設備２００内の一部において、上に向かって空気が流れる場合がある。これにより、例えば、スタッカークレーン２０から発生したパーティクルを保管設備２００内の上部に巻き上げてしまい、保管設備２００内の清浄度が下がってしまうおそれがある。

それに対して、保管設備１には少なくとも保管棚２の天井となる位置Ｐにパンチングプレート３が設けられているため、ＦＦＵからクリーンルームＣＲ内に供給された清浄空気が保管設備１に到達した際、清浄空気は孔４から保管設備１内に導入される。そのため、保管設備１に対して流れが均一ではない清浄空気が天井１００から供給された場合であっても、パンチングプレート３が清浄空気を整流し、保管設備１内において流れが均一になるように保管設備１内に清浄空気を導入することができる。これにより、図６の６００２に示すように、保管設備１内の清浄空気の流れが均一になるため、保管設備１内の空気の淀みの発生を抑えることができる。

ここで、「保管設備１内において流れが均一になるように保管設備１内に清浄空気を導入することができる。」とは、保管設備１を平面視した際の保管設備１の設備フットプリント内において、パンチングプレート３を通過する際の清浄空気の流速がほぼ均一となるように、清浄空気が保管設備１に導入されることを示す。また、「保管設備１内の流れが均一になる」とは、保管設備１の各高さにおける保管設備１の設備フットプリント内において、清浄空気の流速がほぼ均一となることを示す。

一方、容器５０に窒素ガスの注入が行われる場合、局所的に酸素濃度が低下した空気が開口５１１・５１２・５１３・５１４より保管設備１の外部に流出すると、保管設備１の周囲に存在する作業員等が酸素濃度の低下した空気を吸う危険性があり、好ましくない。

それに対し、保管設備１内において流れが均一になるように保管設備１内に清浄空気が導入されることで、保管設備１内において局所的に酸素濃度が大幅に低下することを抑えることができる。そのため、開口５１１等から大幅に酸素濃度が低下した空気が保管設備１の外部に排出されることを抑えることができる。

パンチングプレート３の孔４の孔径、ピッチ及び開口率は特に限定されないが、孔径は３φ以上５φ以下とすることが好ましく、特に５φとすることが好ましい。孔４のピッチは、４ｍｍ以上１０ｍｍ以下とすることが好ましく、特に８ｍｍ以上１０ｍｍ以下とすることが好ましい。開口率は、２０％以上４０％以下の範囲で設定されることが好ましく、特に２２％以上３６％以下とすることが好ましい。

また、図７は保管設備１のパンチングプレート３の配置の一例を示す上面図である。図７の７００１は、図４において、保管設備１が設置される領域のみを切り取った図である。図７の７００２は、保管設備１のパンチングプレート３の配置例を示す上面図である。図７の７００２において、同じハッチングで図示される領域は、複数の孔４の開口率が同じ領域であることを示す。図７に示すように、保管設備１の天井となる位置Ｐにおいて複数の孔４が設けられている領域Ｒは、少なくとも第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２とを含む。第１領域Ｒ１は、複数の孔４の開口率が第１開口率に設定されている。第２領域Ｒ２は、複数の孔４の開口率が第１開口率よりも高い第２開口率に設定されている。

図７の７００１及び図７の７００２に示すように、保管設備１では、保管設備１の天井となる位置全体が領域Ｒとなり、保管設備１の天井となる位置全体に孔４が設けられている。また、天井１００にＦＦＵが配置されている箇所に対応する領域では、開口率が第１開口率となる第１領域Ｒ１が配置され、天井１００にＦＦＵが配置されていない箇所に対応する領域では、開口率が第２開口率となる第２領域Ｒ２が配置されている。つまり、ＦＦＵからの距離が近い領域Ｒでは第１領域Ｒ１が配置され、ＦＦＵからの距離が第１領域より遠い領域Ｒでは、第２領域Ｒ２が配置されている。言い換えると、領域ＲにおいてＦＦＵからの距離が第１領域Ｒ１よりも遠くなる領域では、パンチングプレート３の開口率は、第１開口率よりも高い第２開口率に設定されている。

これにより、ＦＦＵからの距離が遠い第２領域Ｒ２では第１領域Ｒ１よりも清浄空気を保管設備１の内部に通過させやすくなるため、より好適に保管設備１内に均一に清浄空気を導入することができる。

（カバー）
さらに、図１に示すように、保管設備１には、ＦＦＵからクリーンルームＣＲに供給される清浄空気を保管設備１の天井となる位置まで導くカバー４０が設けられていてもよい。カバー４０は、保管設備１の上端部の周辺において、保管設備１からクリーンルームＣＲの天井１００まで少なくとも延伸し、ＦＦＵを囲う。

カバー４０がない場合、例えば、クリーンルームＣＲ内において、ＦＦＵからの清浄空気が、パンチングプレート３が設置されていない領域に流れ、保管設備１内に導入される清浄空気の量が少なくなる可能性がある。保管設備１に流れる清浄空気の量が少なくなると保管設備１内の空気の淀みが発生しやすくなる。

それに対して、カバー４０によりＦＦＵの清浄空気の供給口の少なくとも一部と保管設備１とをつなぐことで、カバー４０に囲われたＦＦＵからの清浄空気を確実に保管設備１内に導くことができる。なお、カバー４０は上記に限らず、床面からクリーンルームＣＲの天井１００まで延伸し、保管設備１及びＦＦＵを囲うものであってもよい。

〔気流解析〕
図８は保管設備１内及び従来の保管設備２００内の気流解析結果を示す図である。図８の８００１は、パンチングプレート３が設置されていない従来の保管設備２００内の気流解析結果を示し、図８の８００２はパンチングプレート３が設置されている保管設備１内の気流解析結果を示す。なお、保管設備１の大きさは、幅１４８３５ｍｍ、高さ８３７０ｍｍ、奥行き１４３０ｍｍとし、ＦＦＵの配置は図５の配置とする。また、保管設備１に設置されているパンチングプレート３は、保管設備１の上面全面に設置され均一の開口率を有するものとする。

図８の８００１及び図８の８００２に示すように、保管設備２００では、保管設備２００内の空気の流速にばらつきがみられるのに対し、保管設備１では、保管設備１内の空気の流速にばらつきがみられない。このように、保管棚２の天井となる位置にパンチングプレート３を設置することで、保管設備１内において空気の流れが均一になる。これにより、保管設備１内の空気の淀みの発生を抑えることができていることが理解できる。

〔酸素濃度〕
図９は、パンチングプレート３の開口率を異ならせた場合における保管設備１内の酸素濃度の最小値を測定した結果を示す表である。図９の測定では、保管設備１の大きさ、ＦＦＵの配置等を上述の気流解析と同じとし、排気部３０の個数を１３とした。また、窒素ガスの注入を行う収納部１０Ｓを、保管棚２Ａ・２Ｂのうち図４で示す範囲Ｔに位置する２００個とし、開口５１３をＯｐｅｎにした状態およびＣｌｏｓｅにした状態において、異なる開口率のパンチングプレート３を設置した場合のそれぞれについて、排気部３０から排出される空気の酸素濃度の最小値を測定した。濃度判定では、酸素濃度の最小値が１９．５％より大きい場合をＯＫとし、１９．５％以下である場合をＮＧとした。なお、図９の測定において、保管設備１は、開口５１１、開口５１２及び開口５１５は開口した状態であり、開口５１４は閉鎖した状態とした。

Ｐｌａｎ１からＰｌａｎ４では、開口５１３をＯｐｅｎにした状態において、開口率が２０％、２５％、３０％のパンチングプレート３を保管設備１の上面全体に配置した場合のそれぞれと、パンチングプレート３を設置していない場合とでの酸素濃度の最小値を測定した。Ｐｌａｎ１からＰｌａｎ４の結果では、開口率が２０％のパンチングプレート３を設置した場合のみが濃度判定においてＯＫとなった。

Ｐｌａｎ５からＰｌａｎ８では、開口５１３をＣｌｏｓｅにした状態において、開口率が２０％、２５％、３０％のパンチングプレート３を保管設備１の上面全体に配置した場合のそれぞれと、パンチングプレート３を設置していない場合とでの酸素濃度を測定した。Ｐｌａｎ５からＰｌａｎ８の結果では、開口率が２０％、２５％、３０％のパンチングプレート３を設置した場合が濃度判定においてＯＫとなった。

図９に示す結果により、パンチングプレート３を設置することにより、開口５１３をＣｌｏｓｅにした状態において、酸素濃度の低下を抑えることができることが分かった。また開口５１３をＯｐｅｎにした状態においても、パンチングプレート３を設置し、開口率を２０％とすることで、酸素濃度の低下を抑えることができることが分かった。

〔まとめ〕
本発明の態様１に係る保管設備（１）は、天井（１００）に設置されたファンフィルターユニット（ＦＦＵ）から清浄空気が供給されることで室内の清浄度を保つクリーンルーム（ＣＲ）に設置される保管設備（１）であって、物品（容器５０）を載置する保管棚（２）を備え、少なくとも、保管棚（２）の天井となる位置（Ｐ）において、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からクリーンルーム（ＣＲ）内に供給される清浄空気を保管設備（１）の内部に通過させる複数の孔（４）が設けられている。

上記の構成によれば、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からクリーンルーム（ＣＲ）内に供給された清浄空気が保管設備（１）に到達した際、清浄空気は保管棚（２）の天井となる位置に設けられた孔（４）より保管設備（１）内に導入される。これにより、例えば、孔（４）を設ける位置を適宜設定することで、保管設備（１）内において均一な流れで清浄空気を流すことができるので、保管設備（１）内の空気の淀みの発生を抑えることができる。その結果、保管設備（１）内の清浄度を維持できる。

本発明の態様２に係る保管設備（１）は、上記態様１において、保管設備（１）の天井となる位置（Ｐ）において複数の孔（４）が設けられている領域（Ｒ）が、複数の孔（４）の開口率が第１開口率に設定されている第１領域（Ｒ１）と、複数の孔（４）の開口率が第１開口率よりも高い第２開口率に設定されている第２領域（Ｒ２）とを少なくとも含み、第２領域（Ｒ２）は第１領域（Ｒ１）よりもファンフィルターユニット（ＦＦＵ）から遠くてもよい。

上記の構成によれば、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からの距離が遠い第２領域（Ｒ２）については、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からの距離が近い第１領域（Ｒ１）よりも、高い開口率で複数の孔（１）が設けられている。これにより、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からの距離が遠い第２領域（Ｒ２）では第１領域（Ｒ１）よりも清浄空気を保管設備（１）の内部に通過させやすくなるため、より好適に均一な流れで保管設備（１）内に清浄空気を導入することができる。

本発明の態様３に係る保管設備（１）は、上記態様１または２において、保管設備（１）の周囲を囲う側部（５）と、側部（５）の下部に設けられ、保管設備（１）内の空気を外部に排出する排気部（３０）と、を備えていてもよい。

上記の構成によれば、排気部（３０）により保管設備（１）内の空気を外部に排出することができる。そのため、孔（４）から導入されたファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からの清浄空気を効率よく保管設備（１）の上部から下部に流すことができるので、より好適に保管設備（１）内において均一な流れで清浄空気を流すことができる。

本発明の態様４に係る保管設備（１）は、上記態様１から３のいずれかにおいて、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からクリーンルーム（ＣＲ）に供給される清浄空気を保管設備（１）の天井となる位置まで導くカバー（４０）をさらに備え、カバー（４０）は、保管設備（１）の上端部の周辺において、保管設備（１）からクリーンルーム（ＣＲ）の天井（１００）まで少なくとも延伸し、ファンフィルターユニット（ＦＦＵ）を囲うものであってもよい。

上記の構成によれば、カバー（４０）によりファンフィルターユニット（ＦＦＵ）の清浄空気の供給口と保管設備（１）の天井となる位置とをつなぐことができる。そのため、カバー（４０）に囲われるファンフィルターユニット（ＦＦＵ）からの清浄空気を確実に保管設備（１）内に供給することができる。

本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、実施形態に開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

１保管設備
２、２Ａ、２Ｂ保管棚
３パンチングプレート
４孔
５側部
３０排気部
４０カバー
５０容器（物品）
１００クリーンルームの天井
ＣＲクリーンルーム
ＦＦＵファンフィルターユニット
Ｒ複数の孔が設けられている領域
Ｒ１第１領域
Ｒ２第２領域

Claims

天井に設置されたファンフィルターユニットから清浄空気が供給されることで室内の清浄度を保つクリーンルームに設置される保管設備であって、
物品を載置する保管棚を備え、
少なくとも、前記保管棚の天井となる位置において、前記ファンフィルターユニットから前記クリーンルーム内に供給される前記清浄空気を前記保管設備の内部に通過させる複数の孔が設けられている、保管設備。
前記保管設備の天井となる位置において複数の孔が設けられている領域が、前記複数の孔の開口率が第１開口率に設定されている第１領域と、前記複数の孔の開口率が前記第１開口率よりも高い第２開口率に設定されている第２領域とを少なくとも含み、
前記第２領域は前記第１領域よりも前記ファンフィルターユニットから遠い、
請求項１に記載の保管設備。
前記保管設備の周囲を囲う側部と、
前記側部の下部に設けられ、前記保管設備内の空気を外部に排出する排気部と、を備えている、請求項１に記載の保管設備。
前記ファンフィルターユニットから前記クリーンルームに供給される清浄空気を前記保管設備の天井となる位置まで導くカバーをさらに備え、
前記カバーは、前記保管設備の上端部の周辺において、前記保管設備から前記クリーンルームの天井まで少なくとも延伸し、前記ファンフィルターユニットを囲うものである、請求項１に記載の保管設備。