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JP7801346B2 - 電極コーティング装置及び電極コーティング方法 - Google Patents
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JP7801346B2 - 電極コーティング装置及び電極コーティング方法 - Google Patents

電極コーティング装置及び電極コーティング方法

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Description

本出願は、2021年11月12日付け出願の韓国特許出願第10-2021-0156040号に基づく優先権を主張し、当該出願の明細書及び図面に開示された内容は、すべて本出願に組み込まれる。
本発明は、電極コーティング装置及び電極コーティング方法に関し、より詳細には、スラリーの全体の厚さを均一に揃えることのできる電極コーティング装置及び電極コーティング方法に関する。
最近のモバイル機器に対する技術の開発とニーズの増加には目を見張るものがあり、これに伴い、エネルギー源としての二次電池へのニーズが急激に伸びており、このような二次電池は、発電要素である電極組立体を必須的に含んでいる。
電極組立体は、正極、セパレーター及び負極が少なくとも1回以上積層された形態を有し、電極、すなわち、正極と負極は、それぞれアルミニウム箔と銅箔からなる集電体に正極活物質スラリーと負極活物質スラリー、すなわち、電極スラリーが塗布及び乾燥されて製造される。
図1は、従来の電極コーティング装置によりスラリーが基材に塗布された様子を示す図である。ここで、基材は、集電体である。
図1を参照すると、スラリー2が基材1に塗布される場合、表面張力などによりスラリー2の端部に上側方向に突出部3が形成される。このように、スラリーの端部に突出部3が形成されれば、スラリーの全体の厚さにムラが生じて巻き取り過程において工程性が低下し、出来上がったバッテリーセルの安定性を低下させるという問題がある。
したがって、本発明が解決しようとする技術的課題は、基材に塗布されたスラリーの端部に形成された突出部を除去してスラリーの全体の厚さを均一に揃える電極コーティング装置及び電極コーティング方法を提供することである。
本発明の一実施形態によれば、基材にスラリーを塗布するスロットダイコーターと、前記スラリーと接触して前記スラリーの端部に形成された突出部を整えるように前記スラリーにエッジ調整物質を提供するエッジ調整物質提供手段と、を含む電極コーティング装置が提供される。
また、前記スラリーは、複数で提供され、前記エッジ調整物質は、複数のスラリーの間に提供されてもよい。
さらに、前記エッジ調整物質は、表面張力差により前記スラリーを引っ張るように設けられてもよい。
さらにまた、前記エッジ調整物質は、前記スラリーと同じ溶媒を用い、前記エッジ調整物質の表面張力が前記スラリーの表面張力よりもさらに大きく設けられてもよい。
さらにまた、前記エッジ調整物質は、乾燥後の脱離を防ぐために予め設定された範囲の接着力を有するバインダー系の材料を含んでいてもよい。
さらにまた、前記エッジ調整物質は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE:Polytetrafluoroethylene)系、ポリオレフィン系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリビニリデンフルオリド(PVDF:Polyvinylidenefluoride)系、スチレンブタジエンゴム(SBR:Styrene Butadiene Rubber)系、セラミック系及びシリコン系の物質のうちの少なくとも1種を含んでいてもよい。
さらにまた、前記スロットダイコーターは、少なくとも2つのダイブロックと、前記少なくとも2つのダイブロックの間に配備され吐出口と連通されたスロットを形成するシムプレートと、前記少なくとも2つのダイブロックのうちの少なくとも一方に形成され前記スラリーを収容するマニホールドと、を含み、前記エッジ調整物質提供手段はシムプレートに形成されてもよい。
さらにまた、前記エッジ調整物質提供手段は、シムプレートの少なくとも一方の側に形成された流路として設けられ、前記エッジ調整物質は、前記シムプレートに形成された前記流路を介して前記スラリーに吐き出されてもよい。
さらにまた、前記シムプレートは、歯を含み、前記流路は、前記シムプレートの歯の一方の側に直線状の溝として設けられてもよい。
さらにまた、前記エッジ調整物質提供手段は、前記スロットダイコーターとは別途に設けられて前記スロットダイコーターの上側または下側に配置され、前記基材に向かって前記エッジ調整物質を吐き出すように設けられるエッジ調整物質コーターであってもよい。
一方、本発明の他の態様によれば、基材にスラリーを塗布するステップと、前記スラリーと接触して前記スラリーのエッジに形成された突出部を整えるエッジ調整物質をスラリーに提供するステップと、を含む電極コーティング方法が提供される。
また、前記スラリーは、複数で提供され、前記エッジ調整物質は、複数の前記スラリーの間に提供されるステップを含んでいてもよい。
本発明の実施形態は、基材に塗布されたスラリーにエッジ調整物質を提供してスラリーの端部に形成された突出部を除去してスラリーの全体の厚さを均一に揃えることができるという効果がある。
従来の電極コーティング装置によりスラリーが基材に塗布された様子を示す図である。 本発明の一実施形態による電極コーティング装置または電極コーティング方法によりスラリーの間にエッジ調整物質が提供されてスラリーの端部の突出部が除去され、スラリーの全体の厚さが均一に揃えられる過程を示す図である。 本発明の一実施形態による電極コーティング装置または電極コーティング方法によりスラリーの間にエッジ調整物質が提供されてスラリーの端部の突出部が除去され、スラリーの全体の厚さが均一に揃えられる過程を示す図である。 本発明の一実施形態による電極コーティング装置の断面図である。 本発明の一実施形態による電極コーティング装置の分解斜視図である。 図5のシムプレートの正面図である。 図5のシムプレートの平面図である。 本発明の他の実施形態による電極コーティング装置の断面図である。 本発明のさらに他の実施形態による電極コーティング装置の断面図である。
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態を詳細に説明する。これに先立ち、本明細書及び特許請求の範囲に使われた用語や単語は通常的や辞書的な意味に限定して解釈されてはならず、発明者自らは発明を最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に則して本発明の技術的な思想に応ずる意味及び概念で解釈されねばならない。したがって、本明細書に記載された実施形態及び図面に示された構成は、本発明の最も好ましい一実施形態に過ぎず、本発明の技術的な思想のすべてを代弁するものではないため、本出願の時点においてこれらに代替できる多様な均等物及び変形例があり得ることを理解せねばならない。
図中、各構成要素またはその構成要素をなす特定の部分の大きさは、説明のしやすさ及び明確性のためにやや誇張して表現されたり、省略されたり、概略的に示されたりしている。したがって、各構成要素の大きさは、実際の大きさを全的に反映するものではない。関連する公知の機能もしくは構成についての具体的な説明が本発明の要旨を余計に曖昧にする虞があると認められる場合にはその詳細な説明を省略する。
本明細書において用いられる「結合」または「接続」という用語は、ある一つの部材と他の部材とが直接的に結合されたり直接的に接続されたりする場合だけではなく、ある一つの部材が継ぎ部材を介して他の部材に間接的に結合されたり間接的に接続されたりする場合も含む。
図2及び図3は、本発明の一実施形態による電極コーティング装置または電極コーティング方法によりスラリーの間にエッジ調整物質が提供されてスラリーの端部の突出部が除去され、スラリーの全体の厚さが均一に揃えられる過程を示す図であり、図4は、本発明の一実施形態による電極コーティング装置の断面図であり、図5は、本発明の一実施形態による電極コーティング装置の分解斜視図であり、図6は、図5のシムプレートの正面図であり、図7は、図5のシムプレートの平面図であり、図8は、本発明の他の実施形態による電極コーティング装置の断面図であり、図9は、本発明のさらに他の実施形態による電極コーティング装置の断面図である。
本明細書において、基材300は集電体であり、スラリー400は電極活物質スラリーを意味する。
添付図面を参照すると、本発明の一実施形態による電極コーティング装置は、スロットダイコーター100とエッジ調整物質提供手段200を含む。
スロットダイコーター100は、吐出口150を介してスラリー400を基材300の上に吐き出して塗布するように設けられ、これにより、基材300をコーティングするように設けられる。
図4及び図5を参照すると、スロットダイコーター100は、ダイブロック110、120と、シムプレート(シム板)130と、マニホールド140と、を含む。
ダイブロック110、120は2つ以上であってもよく、図4及び図5でのように、下ダイブロック110と上ダイブロック120の2つで設けられてもよい。
下ダイブロック110と上ダイブロック120との間にはシムプレート130が配備され、これにより、スロット132が形成される。すなわち、スロット132は、下ダイブロック110と上ダイブロック120とが互いに対面する個所の間に形成されるが、下ダイブロック110と上ダイブロック120との間にシムプレート130が介在してこれらの間に隙間が設けられ、これにより、スラリー400が流動可能な通路に相当するスロット132が形成されてもよい。
下ダイブロック110は下部に配置され、上ダイブロック120は下ダイブロック110の上側に配置される。下ダイブロック110と上ダイブロック120は、基材300に向かってスラリー400が吐き出されるように吐出口150が基材300を向く方向に配設される。なお、ダイブロック110、120のうちのどちらか一方には、所定の深さを有し、スロット132と連通されるマニホールド140が配備される。
下ダイブロック110と上ダイブロック120の前方には、回転自在に設けられるコーティングロール600が配置されるが、コーティングロール600が回転するとき、基材300がコーティングロール600に沿って走行すると、下ダイブロック110と上ダイブロック120との間の吐出口150を介してスラリー400が基材300に塗布されながら、基材300がコーティングされる。
シムプレート130は、少なくとも2つのダイブロック110、120の間、例えば、下ダイブロック110と上ダイブロック120との間に配備され、吐出口150と連通されたスロット132を形成する。
ここで、スラリー400が外部に吐き出される吐出口150は、下ダイブロック110の先端部である下ダイリップ111と、上ダイブロック120の先端部である上ダイリップ121との間に形成される。吐出口150は、ダイリップ同士が離れて形成されてもよい。
また、シムプレート130は、吐出口150が形成される領域を除いて、下ダイブロック110と上ダイブロック120との間の隙間にスラリー400が漏れ出ないようにするガスケット(gasket)としての機能を兼ねるように密封性を有する材質から作製されてもよい。
ここで、シムプレート130には、後述するエッジ調整物質提供手段200が形成されてもよい。
マニホールド140は、少なくとも2つのダイブロック110、120のうちの少なくとも一方に形成され、スラリー400を収容するように設けられる。すなわち、マニホールド140は、下ダイブロック110に形成されてもよく、または上ダイブロック120に形成されてもよい。
マニホールド140は、外部に配設された供給チャンバー(図示せず)と供給管(図示せず)に連結されてスラリー400を供給される。マニホールド140内にスラリー400がいっぱいに満たされると、スラリー400がスロット132に沿って流れが誘導され、吐出口150を介して外部に吐き出される。
エッジ調整物質提供手段200は、スラリー400と接触してスラリー400の端部に形成された突出部410を整えるようにスラリー400にエッジ調整物質500を提供する。
ここで、エッジ調整物質500は、表面張力差によりスラリー400を引っ張るように設けられる物質を意味する。例えば、エッジ調整物質500は、スラリー400と同じ溶媒を用いる。なお、エッジ調整物質500は、エッジ調整物質500の表面張力がスラリー400の表面張力よりもさらに大きく設けられる各種の物質を含んでいてもよい。
エッジ調整物質500は、乾燥後の脱離を防ぐために予め設定された範囲の接着力を有するバインダー系の材料を含んでいてもよい。
具体例として、エッジ調整物質500は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE:Polytetrafluoroethylene)系、ポリオレフィン系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリビニリデンフルオリド(PVDF:Polyvinylidene fluoride)系、スチレンブタジエンゴム(SBR:Styrene Butadiene Rubber)系、セラミック系及びシリコン系の物質のうちの少なくとも1種を含んでいてもよい。
図2を参照すると、複数のスラリー400の間にエッジ調整物質500が提供され、エッジ調整物質500が複数のスラリー400のそれぞれの端部に接触される。
また、図3を参照すると、エッジ調整物質500の表面張力がスラリー400の表面張力よりもさらに大きいため、エッジ調整物質500とスラリー400との間の表面張力差による力が働いて、エッジ調整物質500がW字状に変わり、スラリー400の両側端部の上側の突出部410は、エッジ調整物質500により引っ張られて除去される。そして、スラリー400の全体の厚さが均一に揃えられる。
ここで、エッジ調整物質500をスラリー400に提供する装置としては、種々のものが採用可能である。例えば、1つの実施形態として、エッジ調整物質提供手段200は、シムプレート130の少なくとも一方の側に形成された流路200a(図5参照)として設けられてもよい。すなわち、基材300にスラリー400を提供するスロットダイコーター100においてエッジ調整物質500もまた一緒に提供するように設けられる。
ここで、エッジ調整物質500は、上ダイブロック120に形成された貫通孔700を介して流路200aに供給されてもよい。
また、エッジ調整物質500は、シムプレート130に形成された流路200aを介してスラリー400に提供されてもよい。すなわち、エッジ調整物質500は、スラリー400に接触するように基材に吐き出されてもよい。
図5から図7を参照すると、シムプレート130は、歯131を含み、流路200aは、シムプレート130の歯131の一方の側に直線状の溝として設けられてもよい。ここで、歯131は、中心部131bと両側端部131a、131cに設けられてもよく、エッジ調整物質500が移動する流路200aは、歯131の中心部131bと歯131の両側端部131a、131cのうちの少なくとも1つに形成されてもよい。
図2及び図3でのように、スラリー400は、複数で提供され、エッジ調整物質500は、複数のスラリー400の間に提供されるように設けられてもよい。例えば、エッジ調整物質500が図5の歯131の中心部131bを介して提供されれば、複数のスラリー400の間に提供されてもよい。
但し、本発明はこれに必ずしも限定されるとは限らず、エッジ調整物質500が図5の歯131の両側端部131a、131cを介して提供されて1つのスラリー400にのみ接触するように設けられてもよい。
前述したように、1つのスロットダイコーター100を介してスラリー400とエッジ調整物質500が提供されてもよく、あるいは、他の実施形態として、スロットダイコーター100とエッジ調整物質500がそれぞれ別々に設けられてスラリー400とエッジ調整物質500がそれぞれ別々に提供されてもよい。
図8を参照すると、エッジ調整物質提供手段200は、エッジ調整物質コーター200bであってもよく、エッジ調整物質コーター200bは、スロットダイコーター100とは別途に設けられてスロットダイコーター100の下側に配置される。ここで、エッジ調整物質500がスラリー400よりも先に基材300に向かって吐き出される。
図9を参照すると、エッジ調整物質提供手段200もまた、エッジ調整物質コーター200bであってもよく、エッジ調整物質コーター200bは、スロットダイコーター100とは別途に設けられてスロットダイコーター100の上側に配置される。ここで、スラリー400が先に基材300に向かって吐き出された後、エッジ調整物質500がスラリー400よりも遅くスラリー400に接触するように基材300に向かって吐き出される。
図8及び図9において、エッジ調整物質コーター200bは、スラリー400を吐き出すスロットダイコーター100とその原理が共通するため、これについての詳しい説明は、スロットダイコーター100の説明に置き換える。
また、スラリー400の間にエッジ調整物質500を提供できる限り、他の色々な装置がさらに含まれ得る。
一方、エッジ調整物質500は、電極を製造する過程において自然に切断されて除去されてもよい。あるいは、エッジ調整物質500に電極を形成する物質が含まれているため、除去しなくても構わない。
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態による電極コーティング装置の作用及び効果について説明する。
図5から図7を参照すると、エッジ調整物質提供手段200は、スロットダイコーター100のシムプレート130に形成された流路200aとして設けられてもよく、シムプレート130に形成された流路200aを介してエッジ調整物質500がスラリー400と接触するように基材300に提供される。
一方、他の実施形態として、図8を参照すると、エッジ調整物質提供手段200がスロットダイコーター100とは別途に設けられてスロットダイコーター100の下側に配置されてエッジ調整物質500が提供され、さらに他の実施形態として、図9を参照すると、エッジ調整物質提供手段200がスロットダイコーター100とは別途に設けられてスロットダイコーター100の上側に配置されてエッジ調整物質500が提供される。
ここで、スラリー400に提供されるエッジ調整物質500は、スラリー400と溶媒は同じであるものの、スラリー400の表面張力よりもさらに大きな表面張力を有するため、スラリー400に接触してスラリー400の引っ張り、これにより、スラリー400の端部に形成された突出部410を除去してスラリー400の全体の厚さを均一に揃える。
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態による電極コーティング方法の作用及び効果について説明する。但し、前述した本発明の一実施形態による電極コーティング装置において説明した部分と共通する説明は、前述した説明に置き換える。
また、本発明の一実施形態による電極コーティング方法において説明した内容のうち、前述した本発明の一実施形態による電極コーティング装置においても適用可能な内容は、前述した本発明の一実施形態による電極コーティング装置にも適用される。
エッジ調整物質500をスラリー400に提供する方法としては、種々の方法が採用可能である。装置を用いてもよく、ユーザーが自らエッジ調整物質500をスラリー400に提供してもよい。
電極コーティング方法は、基材300にスラリー400を塗布し、スラリー400と接触してスラリー400のエッジに形成された突出部410を整えるエッジ調整物質500をスラリー400に提供する。ここで、スラリー400とエッジ調整物質500の塗布順序は逆になっても構わない。すなわち、スラリー400を基材300に先に吐き出した後、エッジ調整物質500がスラリー400に接触するようにエッジ調整物質500を基材300に提供してもよく、あるいは、エッジ調整物質500を基材300に先に提供した後、スラリー400がエッジ調整物質500に接触するようにスラリー400を基材300に吐き出してもよく、あるいは、スラリー400とエッジ調整物質500を同時に基材300に吐き出してもよい。
ここで、スラリー400は、複数で提供され、エッジ調整物質500は、複数のスラリー400の間に提供されるように設けられてもよい。
以上、本発明を限定された実施形態と図面によって説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者によって本発明の技術思想と特許請求の範囲の均等範囲内で様々な修正及び変形が可能であることは言うまでもない。
本発明は、二次電池の電極コーティング装置及び電極コーティング方法に関し、特に、二次電池と関わる産業に利用可能である。

Claims (8)

  1. 基材にスラリーを塗布するスロットダイコーターと、
    前記スラリーと接触して前記スラリーの端部に形成された突出部を整えるように前記スラリーにエッジ調整物質を提供するエッジ調整物質提供手段と、
    を含み、
    前記エッジ調整物質の表面張力が前記スラリーの表面張力よりも大きく、前記エッジ調整物質は、表面張力差により前記スラリーを引っ張り、
    前記スラリーが前記基材に先に吐き出された後に前記エッジ調整物質が前記基材に提供される、電極コーティング装置。
  2. 前記スラリーは、複数で提供され、
    前記エッジ調整物質は、複数のスラリーの間に提供される、請求項1に記載の電極コーティング装置。
  3. 前記エッジ調整物質は、前記スラリーと同じ溶媒を用いる、請求項1に記載の電極コーティング装置。
  4. 前記エッジ調整物質は、乾燥後の脱離を防ぐために予め設定された範囲の接着力を有するバインダー系の材料を含む、請求項3に記載の電極コーティング装置。
  5. 前記エッジ調整物質は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)系、ポリオレフィン系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリビニリデンフルオリド(PVDF)系、スチレンブタジエンゴム(SBR)系、セラミック系及びシリコン系の物質のうちの少なくとも1種を含む、請求項4に記載の電極コーティング装置。
  6. 前記エッジ調整物質提供手段は、前記スロットダイコーターとは別途に設けられて前記スロットダイコーターの上側または下側に配置され、前記基材に向かって前記エッジ調整物質を吐き出すエッジ調整物質コーターである、請求項1に記載の電極コーティング装置。
  7. 基材にスラリーを塗布するステップと、
    前記スラリーと接触して前記スラリーのエッジに形成された突出部を整えるエッジ調整物質をスラリーに提供するステップと、
    を含み、
    前記エッジ調整物質の表面張力が前記スラリーの表面張力よりも大きく、前記エッジ調整物質は、表面張力差により前記スラリーを引っ張り、
    前記スラリーが前記基材に先に吐き出された後に前記エッジ調整物質が前記基材に提供される、電極コーティング方法。
  8. 前記スラリーは、複数で提供され、
    前記エッジ調整物質は、複数のスラリーの間に提供される、請求項に記載の電極コーティング方法。
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