JP7801550B2 - Decontamination liquid supply device - Google Patents
Decontamination liquid supply deviceInfo
- Publication number
- JP7801550B2 JP7801550B2 JP2021081934A JP2021081934A JP7801550B2 JP 7801550 B2 JP7801550 B2 JP 7801550B2 JP 2021081934 A JP2021081934 A JP 2021081934A JP 2021081934 A JP2021081934 A JP 2021081934A JP 7801550 B2 JP7801550 B2 JP 7801550B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- decontamination
- liquid
- liquid supply
- passage
- decontamination liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
本発明は除染液供給装置に関し、より詳しくは、例えばアイソレータシステムにおいて複数の除染ガス発生装置に正確な量の除染液を供給可能な除染液供給装置に関する。 The present invention relates to a decontamination liquid supply device, and more specifically to a decontamination liquid supply device capable of supplying precise amounts of decontamination liquid to multiple decontamination gas generators, for example, in an isolator system.
従来、アイソレータシステムは、除染ガスを発生させるための除染ガス発生装置（蒸発器）と、この除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置とを備えており、除染ガスとして過酸化水素ガス等を使用してアイソレータ内の除染が行われる。
また、従来、アイソレータシステムとして、各作業室に対応する複数の除染ガス発生装置を備え、この複数の除染ガス発生装置に除染液を供給する除染液供給装置が提案されている（例えば特許文献１）。
Conventionally, an isolator system includes a decontamination gas generator (evaporator) for generating decontamination gas and a decontamination liquid supply device for supplying a decontamination liquid to the decontamination gas generator, and decontamination inside the isolator is performed using hydrogen peroxide gas or the like as the decontamination gas.
Furthermore, conventionally, an isolator system has been proposed that includes a plurality of decontamination gas generators corresponding to each work chamber, and a decontamination liquid supply device that supplies decontamination liquid to the plurality of decontamination gas generators (for example, Patent Document 1).
上記特許文献１の除染液供給装置においては、主供給通路とそれから分岐した複数の分岐通路とを備え、主供給通路に除染液を貯溜する貯溜容器（タンク）が接続されるとともに、各分岐通路の下流側の端部に除染ガス発生装置（蒸発器）が接続されている。そして、各分岐通路に送液機構（ポンプ）が設けられており、該送液機構の稼働や運転速度を制御することによって、上記貯溜容器から各作業室用の除染ガス発生装置に好適な量の除染液を供給するようになっている。
しかしながら、特許文献１の装置においては、各分岐通路に設けられたポンプの稼働台数や組み合わせが変わるとポンプ同士の相互作用も変わってしまい、ポンプの回転数が同じであっても各除染ガス発生装置に対して予定した送液量の除染液を供給できないという問題があった。そのため、同時に稼働させる分岐通路のポンプの台数や組み合わせごとに回転数の調整が必要となり、その調整作業が煩雑で多大な労力を要していた。
The decontamination liquid supply device of Patent Document 1 includes a main supply passage and a plurality of branch passages branching from the main supply passage, a storage container (tank) for storing the decontamination liquid is connected to the main supply passage, and a decontamination gas generator (evaporator) is connected to the downstream end of each branch passage. Each branch passage is provided with a liquid delivery mechanism (pump), and by controlling the operation and operating speed of the liquid delivery mechanism, an appropriate amount of decontamination liquid is supplied from the storage container to the decontamination gas generator for each work chamber.
However, in the apparatus of Patent Document 1, when the number or combination of operating pumps provided in each branch passage changes, the interaction between the pumps also changes, and even if the pump rotation speed is the same, it is not possible to supply the planned amount of decontamination liquid to each decontamination gas generator. Therefore, it is necessary to adjust the rotation speed for each number or combination of pumps in the branch passages that are operated simultaneously, and this adjustment work is complicated and requires a great deal of effort.
上述した事情に鑑み、本発明は、除染液を貯溜する主貯溜容器と、上記主貯溜容器内の除染液を、複数の除染ガスを発生させる除染ガス発生装置に供給するために分岐して設けられた複数の分岐通路と、上記主貯溜容器から除染ガス発生装置へと除染液を供給する送液機構とを備えた除染液供給装置において、
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記各検出機構による検出結果に基づいて上記各副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記各副貯溜容器に供給された所定の設定量の除染液を各除染ガス発生装置に併行して供給可能とすることを特徴とするものである。
In view of the above circumstances, the present invention provides a decontamination liquid supply device comprising: a main storage container for storing a decontamination liquid; a plurality of branch passages provided by branching off from the main storage container for supplying the decontamination liquid in the main storage container to a decontamination gas generator that generates a plurality of decontamination gases; and a liquid sending mechanism for supplying the decontamination liquid from the main storage container to the decontamination gas generator,
a secondary storage container for storing the decontamination liquid sent from the main storage container, and a detection mechanism for detecting the amount of the decontamination liquid stored in the secondary storage container, provided downstream of each branch passage;
The liquid supply mechanism supplies decontamination liquid so that the amount of decontamination liquid stored in each of the auxiliary storage containers reaches a predetermined set amount based on the detection results of each of the detection mechanisms, and is characterized in that it is capable of supplying the predetermined set amount of decontamination liquid supplied to each of the auxiliary storage containers to each decontamination gas generator in parallel .
このような構成によれば、各除染ガス発生装置に併行して所定の設定量の除染液を正確に送液することができる。 With this configuration, a predetermined set amount of decontamination liquid can be accurately fed to each decontamination gas generator in parallel .
以下、図示第１の実施例について本発明を説明すると、図１は細胞の培養を行うアイソレータシステム１の要部を示したものである。このアイソレータシステム１は、図示しない複数の無菌作業室毎に設けられた合計３台の除染ガス発生装置２（蒸発器）と、これらの除染ガス発生装置２に除染液Ｗを供給する除染液供給装置３と、除染液供給装置３の構成要素の作動を制御する制御装置４とを備えている。
除染液供給装置３は、除染液Ｗ（過酸化水素水）を貯溜する主貯溜タンク５と、除染液Ｗを貯溜した主貯溜タンク５の重量を計測する重量計６と、主供給通路７から３つに分岐した分岐通路１１～１３と、分岐通路１１～１３に接続されて除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給するための給液ユニットＵ１～Ｕ３とを備えている。
1 shows the main components of an isolator system 1 for culturing cells. This isolator system 1 includes a total of three decontamination gas generators 2 (evaporators) provided in each of a plurality of sterile work rooms (not shown), a decontamination liquid supply device 3 for supplying a decontamination liquid W to the decontamination gas generators 2, and a control device 4 for controlling the operation of the components of the decontamination liquid supply device 3.
The decontamination liquid supply device 3 includes a main storage tank 5 for storing the decontamination liquid W (hydrogen peroxide solution), a weight scale 6 for measuring the weight of the main storage tank 5 storing the decontamination liquid W, branch passages 11 to 13 branching into three from the main supply passage 7, and liquid supply units U1 to U3 connected to the branch passages 11 to 13 for supplying the decontamination liquid W to the decontamination gas generator 2.
主貯溜タンク５には所要量の除染液Ｗが貯溜されており、除染液Ｗの重量は重量計６によって計測されて、常時制御装置４へ伝達されるようになっている。主供給通路７の上流端７Ａは、主貯溜タンク５内の除染液Ｗに浸漬されており、主供給通路７の下流端７Ｂは、給液ユニットＵ１～Ｕ３に対応して３つの分岐通路１１～１３に分岐している。
主供給通路７の途中に外気通路１４の一端が接続されており、この外気通路１４の他端は大気に解放されている。外気通路１４の途中には大気開放弁Ｖ１が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ１の隣接上流位置に大気中の異物を除去するためのフィルタＦ１が設けられている。大気開放弁Ｖ１の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、除染液Ｗの送液時には閉鎖されて所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ１を開放させると、外気通路１４を介して主供給通路７に浄化された大気を導入することができる。その際には、主供給通路７内に溜まった除染液Ｗが主貯溜タンク５及び後述の副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
各分岐通路１１～１３の途中には、ポンプＰ１が設けられるとともにポンプＰ１よりも上流側の位置に常閉の開閉弁Ｖ２が設けられている。これらポンプＰ１、開閉弁Ｖ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。各分岐通路１１～１３の下流端１１Ａ～１３Ａは、各給液ユニットＵ１～Ｕ３が備える副貯溜タンク１５に接続されている。
所要時に制御装置４が開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させると、主貯溜タンク５内の除染液Ｗが主供給通路７と各分岐通路１１～１３を介して各給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に給液されるようになっている。
A required amount of decontamination liquid W is stored in the main storage tank 5, and the weight of the decontamination liquid W is measured by a weighing scale 6 and constantly transmitted to the control device 4. An upstream end 7A of the main supply passage 7 is immersed in the decontamination liquid W in the main storage tank 5, and a downstream end 7B of the main supply passage 7 branches into three branch passages 11 to 13 corresponding to the liquid supply units U1 to U3.
One end of an outside air passage 14 is connected to the main supply passage 7, and the other end of this outside air passage 14 is open to the atmosphere. An atmosphere release valve V1 is provided in the outside air passage 14, and a filter F1 for removing foreign matter from the atmosphere is provided adjacent to the atmosphere release valve V1 at a position upstream. The operation of the atmosphere release valve V1 is controlled by the control device 4. It is closed when the decontamination solution W is being fed, and when the control device 4 opens the atmosphere release valve V1 as needed, purified air can be introduced into the main supply passage 7 via the outside air passage 14. At that time, the decontamination solution W accumulated in the main supply passage 7 is returned to the main storage tank 5 and a sub-storage tank 15, which will be described later.
A pump P1 is provided in each of the branch passages 11 to 13, and a normally closed on-off valve V2 is provided upstream of the pump P1. The operation of the pump P1 and the on-off valve V2 is controlled by the control device 4. The downstream ends 11A to 13A of the branch passages 11 to 13 are connected to auxiliary storage tanks 15 provided in the respective liquid supply units U1 to U3.
When required, the control device 4 opens the on-off valve V2 and operates the pump P1, so that the decontamination liquid W in the main storage tank 5 is supplied to the secondary storage tanks 15 of each liquid supply unit U1 to U3 via the main supply passage 7 and each branch passage 11 to 13.
第１の給液ユニットＵ１は、主貯溜タンク５から主供給通路７と分岐通路１１を介して給送された除染液Ｗを一時貯溜する副貯溜タンク１５と、この副貯溜タンク１５の重量（貯溜される除染液Ｗの重量）を計測する重量計１６と、副貯溜タンク１５と除染ガス発生装置２とを接続する給液通路１８と、給液通路１８内の除染液Ｗを副貯溜タンク１５に戻すための戻し通路１９を備えている。
制御装置４が、所要時に開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主貯溜タンク５から主供給通路７、分岐通路１１を介して副貯溜タンク１５に除染液Ｗが供給される際には、該副貯溜タンク１５の重量が重量計１６によって計測されて、制御装置４に伝達されるようになっている。それにより、制御装置４は、主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５に供給されて貯溜された除染液Ｗの量を認識できるようになっている。そして、制御装置４は、重量計１６による計測重量を認識することで、作業室に応じて予め設定された除染ガス発生装置２に供給すべき除染液Ｗの液量に応じて、ポンプＰ１の稼働や運転速度を制御するようになっている。これにより、副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗを貯溜させるようになっている。
The first liquid supply unit U1 includes a secondary storage tank 15 for temporarily storing the decontamination liquid W supplied from the main storage tank 5 via the main supply passage 7 and the branch passage 11, a weight meter 16 for measuring the weight of this secondary storage tank 15 (the weight of the stored decontamination liquid W), a liquid supply passage 18 for connecting the secondary storage tank 15 to the decontamination gas generator 2, and a return passage 19 for returning the decontamination liquid W in the liquid supply passage 18 to the secondary storage tank 15.
When the control device 4 opens the on-off valve V2 and operates the pump P1 as required to supply the decontamination liquid W from the main storage tank 5 to the secondary storage tank 15 via the main supply passage 7 and branch passage 11, the weight of the secondary storage tank 15 is measured by the weighing scale 16 and transmitted to the control device 4. This allows the control device 4 to recognize the amount of decontamination liquid W supplied from the main storage tank 5 to the secondary storage tank 15 and stored therein. Then, by recognizing the weight measured by the weighing scale 16, the control device 4 controls the operation and operating speed of the pump P1 in accordance with the amount of decontamination liquid W to be supplied to the decontamination gas generator 2, which is preset in accordance with the work chamber. In this way, a set amount of decontamination liquid W is stored in the secondary storage tank 15.
給液通路１８における上流端１８Ａは、上記副貯溜タンク１５内に挿入されており、給液通路１８の下流端１８Ｂは除染ガス発生装置２内に鉛直下方に向けて挿入されている。
除染ガス発生装置２に近い位置の給液通路１８の途中には三方切換え弁Ｖ３が設けられており、それよりも上流側となる給液通路１８の途中にポンプＰ２が設けられている。三方切換え弁Ｖ３には、戻し通路１９の上流端１９Ｂが接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは副貯溜タンク１５内に鉛直下方に向けて挿入されている。これら三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。
この三方切換え弁Ｖ３は、その前後の給液通路１８を連通させ、かつ給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとの連通を阻止する第１位置と、三方切換え弁Ｖ３の前後の給液通路１８の連通を阻止し、かつ三方切換え弁Ｖ３の隣接上流側の給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂとを連通させる第２位置とに切り換えられるようになっている。最初の状態では、三方切換え弁Ｖ３は第１位置に位置している。
そして、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある状態で制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置に切り換えられた状態で、制御装置４によってポンプＰ２が作動されると、該ポンプＰ２によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが吸引されて給液通路１８を介して三方切換え弁Ｖ３の位置まで給送され、次に該三方切換え弁Ｖ３を流通した後に戻し通路１９に送液されて、さらに、その下流端１９Ａから副貯溜タンク１５内に除染液Ｗが戻されるようになっている。
このように、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある状態でポンプＰ２が作動されると、戻し通路１９、及び三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されるようになっている。この戻し通路１９と、三方切換え弁Ｖ３よりも上流側の給液通路１８とによって循環通路２０が構成されている。
ポンプＰ２の隣接上流側となる給液通路１８には、外気通路２２の一端が接続されており、この外気通路２２の他端は大気に解放されている。外気通路２２の途中には常閉の大気開放弁Ｖ４が設けられるとともに、該大気開放弁Ｖ４の隣接上流位置に大気中の異物を除去するフィルタＦ２が設けられている。大気開放弁Ｖ４の作動は制御装置４によって制御されるようになっており、所要時に制御装置４が大気開放弁Ｖ４を開放させると、外気通路２２を介して給液通路１８に浄化した大気を導入することができる。その際には循環通路２０内に溜まった除染液Ｗが給液通路１８の上流端１８Ａと戻し通路１９の下流端１９Ａから副貯溜タンク１５に戻されるようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３とポンプＰ２の間の給液通路１８には、液検知センサＳ１が設けられており、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８には液漏れセンサＳ２が設けられている。
液検知センサＳ１は、給液通路１８内に除染液Ｗが存在するか否かを検知するようになっており、液検知センサＳ１による検知結果は、制御装置４に入力されるようになっている。また、液漏れセンサＳ２は、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８における除染液Ｗの液漏れの有無を検出できるようになっており、液漏れセンサＳ２による検出結果は制御装置４に入力されるようになっている。
制御装置４は、液検知センサＳ１による検出結果によって給液通路１８内における除染液Ｗの有無を認識することができるとともに、液漏れセンサＳ２による検出結果によって、三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８での除染液Ｗの液漏れの有無を認識できるようになっている。第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。
An upstream end 18A of the liquid supply passage 18 is inserted into the auxiliary storage tank 15, and a downstream end 18B of the liquid supply passage 18 is inserted vertically downward into the decontamination gas generator 2.
A three-way selector valve V3 is provided in the liquid supply passage 18 at a position close to the decontamination gas generator 2, and a pump P2 is provided in the liquid supply passage 18 upstream of the three-way selector valve V3. An upstream end 19B of a return passage 19 is connected to the three-way selector valve V3, and a downstream end 19A of the return passage 19 is inserted vertically downward into the auxiliary storage tank 15. The operation of the three-way selector valve V3 and the pump P2 is controlled by the control device 4.
This three-way selector valve V3 can be switched between a first position which allows communication between the liquid supply passages 18 before and after it and blocks communication between the liquid supply passage 18 and the upstream end 19B of the return passage 19, and a second position which blocks communication between the liquid supply passages 18 before and after the three-way selector valve V3 and allows communication between the liquid supply passage 18 adjacent to and upstream of the three-way selector valve V3 and the upstream end 19B of the return passage 19. In the initial state, the three-way selector valve V3 is in the first position.
When the pump P2 is operated by the control device 4 with the three-way switching valve V3 in the first position, the pump P2 sucks the decontamination liquid W from the secondary storage tank 15 and supplies it to the decontamination gas generator 2 via the liquid supply passage 18.
On the other hand, when the three-way switching valve V3 is switched to the second position and the pump P2 is operated by the control device 4, the pump P2 sucks the decontamination liquid W from the secondary storage tank 15 and supplies it to the position of the three-way switching valve V3 through the liquid supply passage 18, and then flows through the three-way switching valve V3 and is sent to the return passage 19, and the decontamination liquid W is returned to the secondary storage tank 15 from its downstream end 19A.
In this way, when the pump P2 is operated with the three-way selector valve V3 in the second position, the decontamination solution W in the secondary storage tank 15 is circulated via the return passage 19 and the liquid supply passage 18 upstream of the three-way selector valve V3. The return passage 19 and the liquid supply passage 18 upstream of the three-way selector valve V3 form a circulation passage 20.
One end of an outside air passage 22 is connected to the liquid supply passage 18 adjacent to and upstream of the pump P2, and the other end of the outside air passage 22 is open to the atmosphere. A normally closed atmosphere release valve V4 is provided midway in the outside air passage 22, and a filter F2 for removing foreign matter from the atmosphere is provided adjacent and upstream of the atmosphere release valve V4. The operation of the atmosphere release valve V4 is controlled by the control device 4, and when the control device 4 opens the atmosphere release valve V4 as needed, purified air can be introduced into the liquid supply passage 18 via the outside air passage 22. At that time, the decontamination solution W accumulated in the circulation passage 20 is returned to the secondary storage tank 15 from the upstream end 18A of the liquid supply passage 18 and the downstream end 19A of the return passage 19.
In addition, a liquid detection sensor S1 is provided in the liquid supply passage 18 between the three-way switching valve V3 and the pump P2, and a liquid leakage sensor S2 is provided in the liquid supply passage 18 between the three-way switching valve V3 and the decontamination gas generator 2.
The liquid detection sensor S1 is configured to detect whether or not the decontamination liquid W is present in the liquid supply passage 18, and the detection result by the liquid detection sensor S1 is input to the control device 4. In addition, the liquid leakage sensor S2 is configured to detect whether or not there is a leakage of the decontamination liquid W in the liquid supply passage 18 between the three-way switching valve V3 and the decontamination gas generator 2, and the detection result by the liquid leakage sensor S2 is input to the control device 4.
The control device 4 can recognize the presence or absence of the decontamination liquid W in the liquid supply passage 18 based on the detection result by the liquid detection sensor S1, and can also recognize the presence or absence of a liquid leakage of the decontamination liquid W in the liquid supply passage 18 between the three-way selector valve V3 and the decontamination gas generator 2 based on the detection result by the liquid leakage sensor S2. The first liquid supply unit U1 is configured as described above.
第２の給液ユニットＵ２及び第３の給液ユニットＵ３の構成は、上記第１の給液ユニットＵ１と同じ構成となっており、これら給液ユニットＵ２、給液ユニットＵ３の構成要素も制御装置４によって作動を制御されるようになっている。そのため、給液ユニットＵ２、給液ユニットＵ３の構成に関する詳細な説明は省略する。給液ユニットＵ２及び給液ユニットＵ３において、上記給液ユニットＵ１と対応する各部材にはそれぞれ同じ部材番号を付している。
各給液ユニットＵ１～Ｕ３によって除染液Ｗを供給される除染ガス発生装置２はヒータとその上面に載置されたヒータプレートとからなり、除染ガス発生装置２が加熱された状態において給液通路１８Ｂの下流端から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されると、除染液Ｗがヒータプレートによって加熱されて蒸発することで除染ガスを発生させるようになっている。
除染液供給装置３とその給液ユニットＵ１～Ｕ３は以上のように構成されている。
The second liquid supply unit U2 and the third liquid supply unit U3 have the same configuration as the first liquid supply unit U1, and the components of these liquid supply units U2 and U3 are also controlled by the control device 4. Therefore, detailed explanations of the configurations of the liquid supply units U2 and U3 will be omitted. In the liquid supply units U2 and U3, the same component numbers are used for the components corresponding to those in the liquid supply unit U1.
The decontamination gas generator 2, to which the decontamination liquid W is supplied by each of the liquid supply units U1 to U3, consists of a heater and a heater plate placed on its upper surface. When the decontamination gas generator 2 is heated and the decontamination liquid W is dripped onto the heater plate from the downstream end of the liquid supply passage 18B, the decontamination liquid W is heated by the heater plate and evaporated, thereby generating decontamination gas.
The decontamination liquid supply device 3 and its liquid supply units U1 to U3 are configured as described above.
以上の構成において、本実施例においては、先ず、第１の給液ユニットＵ１によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給され、次に第２の給液ユニットＵ２によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給され、次に第３の給液ユニットＵ３によって主貯溜タンク５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。具体的な処理工程は以下のとおりである。
すなわち、図２に示すように、第１の分岐通路１１の開閉弁Ｖ２を開放させるとともにポンプＰ１を作動させて、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１給液ユニットＵ１の重量計１６が予め設定された設定値となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
ここで第１給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が予め設定された設定値よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１及び開閉弁Ｖ２の作動を停止させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定重量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。
In the above-described configuration, in this embodiment, first, the first liquid supply unit U1 supplies the decontamination liquid W in the main storage tank 5 to the decontamination gas generator 2, then the second liquid supply unit U2 supplies the decontamination liquid W in the main storage tank 5 to the decontamination gas generator 2, and then the third liquid supply unit U3 supplies the decontamination liquid W in the main storage tank 5 to the decontamination gas generator 2. The specific processing steps are as follows:
That is, as shown in Figure 2, the on-off valve V2 of the first branch passage 11 is opened and the pump P1 is operated to supply the decontamination liquid W from the main storage tank 5 to the sub-storage tank 15 via the main supply passage 7 and the branch passage 11 until the weight meter 16 of the first liquid supply unit U1 reaches a preset value.
When the decontamination liquid W starts to be supplied to the auxiliary storage tank 15 of the first liquid supply unit U1, the weight of the decontamination liquid W in the auxiliary storage tank 15 is measured by the weight scale 16 and input to the control device 4. This allows the control device 4 to recognize the amount of decontamination liquid W stored in the auxiliary storage tank 15, and when the stored amount reaches a predetermined weight that is smaller than a preset value, the control device 4 opens the atmosphere release valve V1 to replace the main supply passage 7 and the branch passage 11 with purified air, and then stops the operation of the pump P1 and the on-off valve V2. As a result, a predetermined amount of decontamination liquid W in the main supply passage 7 and the branch passage 11 is sent to the auxiliary storage tank 15, and the set weight of decontamination liquid W is accurately stored in the auxiliary storage tank 15 of the liquid supply unit U1 (this is the first step).
次に、図３に示すように、給液ユニットＵ１のポンプＰ２を作動させるとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置に切り換えると、給液通路１８と戻し通路１９とからなる循環通路２０を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環される。これにより、循環通路２０の液漏れ検査が行われる。
つまり、ポンプＰ２よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測値を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ２よりも下流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを循環通路２０で循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出できるようになっている（以上、第２工程）。
3, when the pump P2 of the liquid supply unit U1 is operated and the three-way selector valve V3 is switched to the second position, the decontamination liquid W in the secondary storage tank 15 is circulated through the circulation passage 20 consisting of the liquid supply passage 18 and the return passage 19. This allows a liquid leakage check of the circulation passage 20.
In other words, if there is a leak in the circulation passage 20 upstream of the pump P2, air will continue to be sucked from the leaking part, so the amount of decontamination liquid W in the secondary storage tank 15 will not change, and the measurement value by the weigh meter 16 will not change. In this case, the control device 4 can recognize the leak based on the weight measurement value by the weigh meter 16. Also, if there is a leak in the circulation passage 20 downstream of the pump P2, the amount of decontamination liquid W that has leaked from the leaking part will not return to the secondary storage tank 15, so the measurement value measured by the weigh meter 16 will gradually decrease. This allows the control device 4 to recognize the leak in the circulation passage 20.
In this way, by circulating the decontamination liquid W in the sub-storage tank 15 through the circulation passage 20, it becomes possible to detect liquid leakage in the circulation passage 20 (second step).
次に、図４に示すように、前述した循環通路２０の液漏れ検査が終了したら、外気通路２２の大気開放弁Ｖ４を開放させた後にポンプＰ２を作動させる。これにより、給液通路１８、戻し通路１９からなる循環通路２０内の除染液Ｗが副貯溜タンク１５内に戻されるようになっている（以上、第３工程）。 Next, as shown in FIG. 4, once the aforementioned leak check of the circulation passage 20 is completed, the atmosphere release valve V4 of the outside air passage 22 is opened and then the pump P2 is operated. This causes the decontamination liquid W in the circulation passage 20, which is made up of the liquid supply passage 18 and the return passage 19, to be returned to the secondary storage tank 15 (the third step).
次に、図５に示すように、この後、大気開放弁Ｖ４を閉鎖するとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置から第１位置に切り換えると、ポンプＰ２の作動によって給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
なお、除染ガスを発生させる際には、除染ガス発生装置２のヒータ及びヒータプレートは予め所定温度まで加熱されるようになっており、給液通路１８を介しての除染液Ｗの給送時間を短縮するために、ヒータ及びヒータプレートを加熱している間に三方切換え弁Ｖ３の隣接上流位置の給液通路１８内に除染液Ｗが給送されており、該除染液Ｗは液検知センサＳ１で検出されて制御装置４に検出信号が入力されるようになっている。
そして、給液通路１８から除染液Ｗがヒータプレート上に滴下されて供給されると、除染液Ｗが蒸発して除染ガスが発生するようになっている（以上、第４工程）。
以上のようにして、第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に主貯溜タンク５から設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されるようになっている。
この後、前述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同じ処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらにその後、前述した第１の給液ユニットＵ１と同じ処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって設定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。
なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程を同時併行処理させることも可能であり、その場合においては、上述した作動工程よりも短時間で各除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給することができる。
Next, as shown in Figure 5, when the atmospheric release valve V4 is closed and the three-way switching valve V3 is switched from the second position to the first position, the pump P2 is operated to supply the decontamination liquid W in the secondary storage tank 15 to the decontamination gas generator 2 via the liquid supply passage 18.
When generating decontamination gas, the heater and heater plate of the decontamination gas generator 2 are heated to a predetermined temperature in advance, and in order to shorten the time required to supply the decontamination liquid W through the liquid supply passage 18, the decontamination liquid W is supplied into the liquid supply passage 18 at a position adjacent to and upstream of the three-way switching valve V3 while the heater and heater plate are being heated, and the decontamination liquid W is detected by the liquid detection sensor S1, and a detection signal is input to the control device 4.
When the decontamination liquid W is supplied dropwise onto the heater plate from the liquid supply passage 18, the decontamination liquid W evaporates to generate decontamination gas (fourth step).
In this manner, a set amount of decontamination liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the secondary storage tank 15 of the first liquid supply unit U1, and then the set amount of decontamination liquid W is supplied from the secondary storage tank 15 to the decontamination gas generator 2.
Thereafter, by the same processing steps as in the case of the first liquid supply unit U1 described above, the second liquid supply unit U2 supplies a set amount of decontamination liquid W to the decontamination gas generator 2. Further thereafter, by the same processing steps as in the case of the first liquid supply unit U1 described above, the third liquid supply unit U3 supplies a set amount of decontamination liquid W to the decontamination gas generator 2.
It is also possible to simultaneously carry out the processing steps using the liquid supply units U1 to U3, in which case the set amount of decontamination liquid W can be supplied to each decontamination gas generator 2 in a shorter time than the above-mentioned operating steps.
以上のように、除染液供給装置３が備える各給液ユニットＵ１～Ｕ３は副貯溜タンク１５と重量計１６を備えており、主貯溜タンク５から各給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に除染液Ｗを供給する際には、各重量計１６によって正確に除染液Ｗの重量を計測することができる。したがって、正確に計測された所定重量の除染液Ｗを各除染ガス発生装置２に供給できるので予定した量の除染ガスを確実に発生させることができる。
また、本実施例によれば、副貯溜タンク１５に供給される除染液Ｗの重量が重量計１６によって検出されるので、除染液供給装置３が備える複数のポンプＰ１、Ｐ２の運転速度の調整作業を従来よりも簡略化できる。そのため、前述した従来の除染液供給装置と比較してポンプの運転速度の調整時間を短縮することができる。
As described above, each of the liquid supply units U1 to U3 provided in the decontamination liquid supply apparatus 3 is provided with the auxiliary storage tank 15 and the weighing scale 16, and when the decontamination liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the auxiliary storage tank 15 of each of the liquid supply units U1 to U3, the weight of the decontamination liquid W can be accurately measured by each weighing scale 16. Therefore, a predetermined weight of the decontamination liquid W that has been accurately measured can be supplied to each decontamination gas generator 2, so that the planned amount of decontamination gas can be reliably generated.
Furthermore, according to this embodiment, the weight of the decontamination liquid W supplied to the sub-storage tank 15 is detected by the weight meter 16, so the adjustment work of the operation speeds of the multiple pumps P1, P2 provided in the decontamination liquid supply apparatus 3 can be simplified compared to the conventional case. Therefore, the time required to adjust the operation speed of the pumps can be shortened compared to the conventional decontamination liquid supply apparatus described above.
次に、図６は本発明の第２実施例を示したものである。この第２実施例は、上述した第１の実施例における各分岐通路１１～１３毎に設けていたポンプＰ１を省略し、その代わりに主供給通路７にポンプＰ１を１台だけ設けたものである。その他の構成は、前述した第１の実施例と同じであり、この第２実施例においては、上記第１の実施例と対応する各構成要素に第１の実施例と同じ部材番号を付している。
この第２実施例における作動は、前述した第１の実施例の作動と同様であり、先ず、主供給通路７と分岐通路１１を介して第１の給液ユニットＵ１によって設定量の除染液Ｗを除染ガス発生装置２に供給する。次に、第２の給液ユニットＵ２によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給し、最後に、第３の給液ユニットＵ３によって除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗを供給するようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による第２工程以降の処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第２実施例によれば、正確に計測された所定重量の除染液Ｗを各除染ガス発生装置２に供給することができる。
また、上記第１実施例と比較してポンプＰ１を２台、減少させることができるので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。しかも、上記第１の実施例と比較して複数のポンプＰ１を作動させた際の相互作用による干渉が生じないので、ポンプ同士の相互作用の調整が容易である。
Next, Figure 6 shows a second embodiment of the present invention. In this second embodiment, the pump P1 provided for each of the branch passages 11 to 13 in the first embodiment is omitted, and instead only one pump P1 is provided in the main supply passage 7. The rest of the configuration is the same as in the first embodiment, and in this second embodiment, the same component numbers as in the first embodiment are used to designate components corresponding to those in the first embodiment.
The operation of this second embodiment is similar to that of the first embodiment described above, in that a set amount of decontamination liquid W is first supplied to the decontamination gas generator 2 by the first liquid supply unit U1 via the main supply passage 7 and the branch passage 11. Next, a set amount of decontamination liquid W is supplied to the decontamination gas generator 2 by the second liquid supply unit U2, and finally, a set amount of decontamination liquid W is supplied to the decontamination gas generator 2 by the third liquid supply unit U3. Note that the second and subsequent processing steps by the liquid supply units U1 to U3 can also be performed simultaneously in parallel.
According to the second embodiment, a predetermined weight of the decontamination liquid W that has been accurately measured can be supplied to each decontamination gas generator 2 .
Furthermore, the number of pumps P1 can be reduced by two compared to the first embodiment, which can reduce the manufacturing cost of the decontamination liquid supplying apparatus 3. Moreover, compared to the first embodiment, there is no interference caused by mutual interaction when a plurality of pumps P1 are operated, which makes it easy to adjust the mutual interaction between the pumps.
次に、図７は本発明の第３実施例を示したものであり、この第３実施例は、前述した図１の第１の実施例において、各給液ユニットＵ１～Ｕ３にポンプＰ１を１台だけ設ける構成としたものである。各給液ユニットＵ１～Ｕ３の構成そのものは同じであり、１台のポンプＰ１によって主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５への除染液Ｗの給液と、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２への給液を行うようになっている。
以下、先ず、第１の給液ユニットＵ１の構成について説明すると、分岐通路１１の下流端１１Ａは副貯溜タンク１５内に挿入されており、分岐通路１１の上流端は主供給通路７に接続されている。
分岐通路１１の途中にポンプＰ１が設けられており、このポンプＰ１よりも上流側となる分岐通路１１に三方切換え弁Ｖ５が設けられるとともに、ポンプＰ１の下流側に三方切換え弁Ｖ６が設けられている。三方切換え弁Ｖ５よりも上流側に開閉弁Ｖ２が設けられている。
上流側の三方切換え弁Ｖ５には、給液通路２４の下流端２４Ａが接続されており、この給液通路２４の上流端２４Ｂは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
ポンプＰ１及び三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６と開閉弁Ｖ２の作動は、制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ５が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ５が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止される一方、三方切換え弁Ｖ５より下流の分岐通路１１と給液通路２４の下流端２４Ａが連通するようになっている。
給液通路１８の上流端１８Ａは三方切換え弁Ｖ６に接続されており、給液通路１８の下流端１８Ｂは、除染ガス発生装置２内に挿入されている。給液通路１８の除染ガス発生装置２に近い位置に三方切換え弁Ｖ３が設けられており、その前後に液検知センサＳ１と液漏れセンサＳ２が設けられている。戻し通路１９の上流端１９Ｂが三方切換え弁Ｖ３に接続されており、戻し通路１９の下流端１９Ａは、副貯溜タンク１５内に挿入されている。
三方切換え弁Ｖ６，Ｖ３の作動は制御装置４によって制御されるようになっている。三方切換え弁Ｖ６が第１位置にある時には、その前後の分岐通路１１が連通する一方、分岐通路１１と給液通路１８の上流端１８Ａとの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ６が第２位置にある時には、その前後の分岐通路１１の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ６の上流となる分岐通路１１と給液通路１８が連通するようになっている。
また、三方切換え弁Ｖ３が第１位置にある時には、その前後の給液通路１８が連通するともに給液通路１８と戻し通路１９の上流端１９Ｂの連通が阻止される。他方、三方切換え弁Ｖ３が第２位置にある時には、その前後の給液通路１８の連通が阻止されるとともに三方切換え弁Ｖ３の上流側となる給液通路１８と戻し通路１９が連通するようになっている。
この第３実施例においては、戻し通路１９と、給液通路２４と、三方切換え弁Ｖ５とＶ６との間の分岐通路１１、及び三方切換え弁Ｖ６とＶ３との間の給液通路１８によって循環通路２０が形成されている。
ポンプＰ１と三方切換え弁Ｖ５の間の分岐通路１１には、外気通路２２が接続されており、この外気通路に大気開放弁Ｖ４とフィルタＦ２が設けられている。所要時に外気開放弁Ｖ４が開放されると、循環通路２０内の除染液Ｗを副貯溜タンク１５に戻すことができるようになっている。この第３実施例における第１の給液ユニットＵ１は以上のように構成されている。
また、この第３実施例における第２の給液ユニットＵ２及び第３の給液ユニットＵ３の構成は、上記第１の給液ユニットＵ１と同じなので、構成に関する詳細な説明は省略する。また、これらの給液ユニットＵ２及び給液ユニットＵ３の構成要素には、給液ユニットＵ１の構成要素と対応する部材に同じ部材番号を付している。
Next, Fig. 7 shows a third embodiment of the present invention, which is configured such that only one pump P1 is provided in each of the liquid supply units U1 to U3 in the first embodiment of Fig. 1. The liquid supply units U1 to U3 have the same configuration, and the single pump P1 supplies the decontamination liquid W from the main storage tank 5 to the secondary storage tank 15, and also supplies the liquid from the secondary storage tank 15 to the decontamination gas generator 2.
First, the configuration of the first liquid supply unit U1 will be explained below. The downstream end 11A of the branch passage 11 is inserted into the secondary storage tank 15, and the upstream end of the branch passage 11 is connected to the main supply passage 7.
A pump P1 is provided in the branch passage 11, and a three-way selector valve V5 is provided in the branch passage 11 upstream of the pump P1, and a three-way selector valve V6 is provided downstream of the pump P1. An on-off valve V2 is provided upstream of the three-way selector valve V5.
The downstream end 24A of a liquid supply passage 24 is connected to the upstream three-way selector valve V5, and the upstream end 24B of this liquid supply passage 24 is inserted into the auxiliary storage tank 15.
The operation of the pump P1, the three-way selector valves V5, V6, and the on-off valve V2 is controlled by the control device 4. When the three-way selector valve V5 is in the first position, the branch passages 11 before and after it communicate with each other, while communication between the branch passage 11 and the downstream end 24A of the liquid supply passage 24 is blocked. On the other hand, when the three-way selector valve V5 is in the second position, communication between the branch passages 11 before and after it is blocked, while communication between the branch passage 11 downstream of the three-way selector valve V5 and the downstream end 24A of the liquid supply passage 24 is established.
An upstream end 18A of the liquid supply passage 18 is connected to the three-way selector valve V6, and a downstream end 18B of the liquid supply passage 18 is inserted into the decontamination gas generator 2. A three-way selector valve V3 is provided in the liquid supply passage 18 at a position close to the decontamination gas generator 2, and a liquid detection sensor S1 and a liquid leakage sensor S2 are provided before and after the three-way selector valve V3. An upstream end 19B of the return passage 19 is connected to the three-way selector valve V3, and a downstream end 19A of the return passage 19 is inserted into the secondary storage tank 15.
The operation of the three-way selector valves V6, V3 is controlled by the control device 4. When the three-way selector valve V6 is in the first position, the branch passages 11 before and after it communicate with each other, while communication between the branch passage 11 and the upstream end 18A of the liquid supply passage 18 is blocked. On the other hand, when the three-way selector valve V6 is in the second position, communication between the branch passages 11 before and after it is blocked, and the branch passage 11 upstream of the three-way selector valve V6 communicates with the liquid supply passage 18.
When the three-way selector valve V3 is in the first position, the liquid supply passages 18 before and after it communicate with each other, and communication between the liquid supply passage 18 and the upstream end 19B of the return passage 19 is blocked. On the other hand, when the three-way selector valve V3 is in the second position, communication between the liquid supply passages 18 before and after it is blocked, and the liquid supply passage 18 on the upstream side of the three-way selector valve V3 communicates with the return passage 19.
In this third embodiment, a circulation passage 20 is formed by the return passage 19, the liquid supply passage 24, the branch passage 11 between the three-way selector valves V5 and V6, and the liquid supply passage 18 between the three-way selector valves V6 and V3.
An outside air passage 22 is connected to the branch passage 11 between the pump P1 and the three-way selector valve V5, and this outside air passage is provided with an atmosphere release valve V4 and a filter F2. When the outside air release valve V4 is opened as required, the decontamination solution W in the circulation passage 20 can be returned to the sub-storage tank 15. The first solution supply unit U1 in this third embodiment is configured as described above.
The second and third liquid supply units U2 and U3 in this third embodiment have the same configuration as the first liquid supply unit U1, and therefore detailed explanations of the configurations will be omitted. The components of the second and third liquid supply units U2 and U3 are designated by the same reference numerals as those of the liquid supply unit U1.
以上の構成において、この第３実施例においては、先ず、第１の給液ユニットＵ１によって主貯溜タンク５から除染ガス発生装置２に除染液Ｗが供給され、次に第２の給液ユニットＵ２によって除染ガス発生装置２に主貯溜タンク５から除染液Ｗが供給され、最後に第３の給液ユニットＵ３によって除染ガス発生装置２に主貯溜タンク５から除染液Ｗが供給されるようになっている。具体的な処理工程は以下のとおりである。
先ず、図８に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２を開放させてポンプＰ１を作動させるとともに、三方切換え弁Ｖ５，Ｖ６を第１位置に位置させる。これにより、主供給通路７と分岐通路１１を介して重量計１６が各作業室に応じて予め設定された設定重量となるまで除染液Ｗを主貯溜タンク５から副貯溜タンク１５まで給液する。
副貯溜タンク１５に除染液Ｗが給液され始めると、重量計１６によって副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの重量が計測されて制御装置４に入力される。それにより、制御装置４は、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの貯溜量を認識することができ、該貯溜量が設定重量よりも小さい所定重量となったら大気開放弁Ｖ１を開放して主供給通路７及び分岐通路１１を浄化された大気で置換した後にポンプＰ１の作動を停止させるとともに開閉弁Ｖ２を閉鎖させる。これにより、主供給通路７及び分岐通路１１内の所定量の除染液Ｗが副貯溜タンク１５に送液されて給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５内に設定量の除染液Ｗが正確に貯溜されたことになる（以上、第１工程）。
次に、図９に示すように、給液ユニットＵ１において、開閉弁Ｖ２の作動を停止させる一方、ポンプＰ１を作動させた状態において、三方切換え弁Ｖ５、Ｖ６、Ｖ３をそれぞれ第２位置に切り換える。これにより、循環通路２０を介して副貯溜タンク１５内の除染液Ｗが循環されて循環通路２０の液漏れ検査が行われる。
ここで、ポンプＰ１よりも上流側となる循環通路２０に液漏れがある場合には、液漏れ部分からエアを吸い続けることになるので、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗの量が変化せず、重量計１６による計測値は変化しない。この場合、制御装置４は、重量計１６による重量の計測を基にして液漏れを認識することができる。また、ポンプＰ１よりも下流側となる循環通路２０で液漏れがある場合には、液漏れ部分から除染液Ｗが漏れた量だけ副貯溜タンク１５には戻らないので、重量計１６で計測される計測値が徐々に減少する。それにより、制御装置４は、循環通路２０での液漏れを認識することができる。
このようにして、副貯溜タンク１５内の除染液Ｗを、循環通路２０を介して循環させることにより、循環通路２０における液漏れを検出することができる（以上、第２工程）。
次に、図１０に示すように、前述した循環通路２０の液漏れ検査が終了したら、外気通路２２の大気開放弁Ｖ４を開放させた後にポンプＰ１を作動させる。これにより、分岐通路１１、給液通路１８、２４、戻し通路１９からなる循環通路２０内の除染液Ｗが副貯溜タンク１５内に戻される（以上、第３工程）。
次に、図１１に示すように、この後、大気開放弁Ｖ４を閉鎖するとともに三方切換え弁Ｖ３を第２位置から第１位置に切り換えると、ポンプＰ１を作動させて給液通路２４、分岐通路１１及び給液通路１８を介して副貯溜タンク１５内の所定重量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。これにより、除染液Ｗが除染ガス発生装置２のヒートプレート上に滴下されて、除染ガスが発生するようになっている。なお、液漏れセンサＳ２によって三方切換え弁Ｖ３と除染ガス発生装置２の間の給液通路１８の液漏れを検出することができる（以上、第４工程）。
以上のようにして、主貯溜タンク５から第１の給液ユニットＵ１の副貯溜タンク１５に設定量の除染液Ｗが供給され、その後、副貯溜タンク１５から除染ガス発生装置２に設定量の除染液Ｗが供給されて除染ガスが発生するようになっている。
この後、上述した第１の給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第２の給液ユニットＵ２によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給される。さらに、その後、上記給液ユニットＵ１の場合と同様の処理工程により、第３の給液ユニットＵ３によって所定量の除染液Ｗが除染ガス発生装置２に供給されるようになっている。なお、上記給液ユニットＵ１～Ｕ３による処理工程については同時併行処理させることも可能である。
このような第３実施例によれば、各作業室に応じて設定された除染液Ｗを、給液ユニットＵ１～Ｕ３を介して各除染ガス発生装置２に正確に供給することができる。
また、この第３実施例においては、上記第１の実施例及び第２実施例と比較してポンプＰ１の台数が少ないので、その分だけ除染液供給装置３の製造コストを下げることができる。
In the third embodiment of the above configuration, first, the first liquid supply unit U1 supplies the decontamination liquid W from the main storage tank 5 to the decontamination gas generator 2, then the second liquid supply unit U2 supplies the decontamination liquid W from the main storage tank 5 to the decontamination gas generator 2, and finally the third liquid supply unit U3 supplies the decontamination liquid W from the main storage tank 5 to the decontamination gas generator 2. The specific processing steps are as follows:
8, in the liquid supply unit U1, the on-off valve V2 is opened to operate the pump P1, and the three-way selector valves V5 and V6 are set to the first position. As a result, the decontamination liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the sub-storage tank 15 via the main supply passage 7 and the branch passage 11 until the weight scale 16 reaches the preset weight corresponding to each work chamber.
When the supply of the decontamination liquid W to the secondary storage tank 15 begins, the weight of the decontamination liquid W in the secondary storage tank 15 is measured by the weight scale 16 and input to the control device 4. This allows the control device 4 to recognize the amount of decontamination liquid W stored in the secondary storage tank 15, and when the stored amount reaches a predetermined weight that is smaller than a set weight, the control device 4 opens the atmosphere release valve V1 to replace the air in the main supply passage 7 and the branch passage 11 with purified air, and then stops the operation of the pump P1 and closes the on-off valve V2. As a result, a predetermined amount of decontamination liquid W in the main supply passage 7 and the branch passage 11 is sent to the secondary storage tank 15, and the set amount of decontamination liquid W is accurately stored in the secondary storage tank 15 of the liquid supply unit U1 (this is the first step).
9, in the liquid supply unit U1, the operation of the on-off valve V2 is stopped, while the pump P1 is operated, and the three-way selector valves V5, V6, and V3 are switched to their second positions, thereby circulating the decontamination liquid W in the sub-storage tank 15 through the circulation passage 20, and a liquid leak check of the circulation passage 20 is performed.
Here, if there is a leak in the circulation passage 20 upstream of the pump P1, air will continue to be sucked from the leaking part, so the amount of decontamination liquid W in the secondary storage tank 15 will not change, and the measurement value by the weigh meter 16 will not change. In this case, the control device 4 can recognize the leak based on the weight measurement by the weigh meter 16. Also, if there is a leak in the circulation passage 20 downstream of the pump P1, the amount of decontamination liquid W that has leaked from the leaking part will not return to the secondary storage tank 15, so the measurement value measured by the weigh meter 16 will gradually decrease. This allows the control device 4 to recognize the leak in the circulation passage 20.
In this way, by circulating the decontamination liquid W in the secondary storage tank 15 through the circulation passage 20, it is possible to detect liquid leakage in the circulation passage 20 (second step).
10, after the above-mentioned liquid leakage inspection of the circulation passage 20 is completed, the pump P1 is operated after the atmosphere release valve V4 of the outside air passage 22 is opened, whereby the decontamination liquid W in the circulation passage 20 consisting of the branch passage 11, the liquid supply passages 18 and 24, and the return passage 19 is returned into the auxiliary storage tank 15 (the third step).
11, the atmosphere release valve V4 is then closed and the three-way selector valve V3 is switched from the second position to the first position, which operates the pump P1 to supply a predetermined weight of decontamination liquid W from the secondary storage tank 15 to the decontamination gas generator 2 via the liquid supply passage 24, the branch passage 11, and the liquid supply passage 18. This causes the decontamination liquid W to drip onto the heat plate of the decontamination gas generator 2, generating decontamination gas. Note that the liquid leakage sensor S2 can detect liquid leakage in the liquid supply passage 18 between the three-way selector valve V3 and the decontamination gas generator 2 (this is the fourth step).
In this manner, a set amount of decontamination liquid W is supplied from the main storage tank 5 to the secondary storage tank 15 of the first liquid supply unit U1, and then the set amount of decontamination liquid W is supplied from the secondary storage tank 15 to the decontamination gas generator 2 to generate decontamination gas.
Thereafter, through a process similar to that of the first liquid supply unit U1 described above, the second liquid supply unit U2 supplies a predetermined amount of decontamination liquid W to the decontamination gas generator 2. Further, thereafter, through a process similar to that of the liquid supply unit U1, the third liquid supply unit U3 supplies a predetermined amount of decontamination liquid W to the decontamination gas generator 2. The process steps by the liquid supply units U1 to U3 can also be performed simultaneously.
According to the third embodiment, the decontamination liquid W set for each work chamber can be accurately supplied to each decontamination gas generator 2 via the liquid supply units U1 to U3.
Furthermore, in the third embodiment, the number of pumps P1 is smaller than in the first and second embodiments, and therefore the manufacturing cost of the decontamination liquid supply apparatus 3 can be reduced accordingly.
なお、上記各実施例においては、給液ユニットＵ１～Ｕ３の副貯溜タンク１５に検出器として重量計１６を設けているが、これに限定されるものではなく、重量計（天秤、スケール、ロードセル）を用いる以外に、除染液Ｗの液量の検出器として例えばレベルセンサなどにより容積を検出するようにしても良い。
また、上記各実施例においては、主貯溜タンク５に貯溜された除染液Ｗを、主供給通路７から３分岐して３つの無菌作業室に対応する３台の除染ガス発生装置２に除染液Ｗを供給しているが、これに限定されるものではなく、２台や４台以上の除染ガス発生装置２に分岐して除染液Ｗを供給するものであっても良い。
また、上記各実施例においては、除染ガス発生装置２として加熱したヒータプレート上に除染液Ｗを滴下して除染ガスを発生させる蒸発器を用いているが、これに限定されるものではなく、他の除染ガス発生装置を用いても良い。
さらに、上記各実施例において、主貯溜タンク５用の重量計６は必ずしも必要とせず、それを省略してもよい。
In each of the above embodiments, a weight meter 16 is provided as a detector in the secondary storage tank 15 of the liquid supply units U1 to U3, but this is not limited to this, and in addition to using a weight meter (balance, scale, load cell), the volume of the decontamination liquid W may also be detected using, for example, a level sensor or the like as a detector for detecting the liquid amount.
Furthermore, in each of the above embodiments, the decontamination liquid W stored in the main storage tank 5 is branched off from the main supply passage 7 into three branches to supply the decontamination liquid W to three decontamination gas generators 2 corresponding to three sterile work rooms, but this is not limited to this, and the decontamination liquid W may be branched off into two or four or more decontamination gas generators 2 to supply the decontamination liquid W.
Furthermore, in each of the above embodiments, an evaporator is used as the decontamination gas generator 2, which generates decontamination gas by dropping the decontamination liquid W onto a heated heater plate, but this is not limited to this, and other decontamination gas generators may also be used.
Furthermore, in each of the above embodiments, the weighing scale 6 for the main storage tank 5 is not necessarily required and may be omitted.
２…除染ガス発生装置 ３…除染液供給装置
５…主貯溜タンク ７…主供給通路
１１～１３…分岐通路 １５…副貯溜タンク
１６…重量計（検出機構） Ｐ１～Ｐ２…ポンプ（送液機構）
Ｕ１～Ｕ３…給液ユニット Ｗ…除染液
2... Decontamination gas generator 3... Decontamination liquid supply device 5... Main storage tank 7... Main supply passage 11 to 13... Branch passages 15... Sub-storage tank 16... Weight scale (detection mechanism) P1 to P2... Pumps (liquid delivery mechanism)
U1 to U3: Liquid supply unit W: Decontamination liquid
Claims (4)
各分岐通路の下流に、上記主貯溜容器から送液された除染液を貯溜する副貯溜容器と、上記副貯溜容器に貯溜される除染液の量を検出する検出機構とを備え、
上記送液機構は、上記各検出機構による検出結果に基づいて上記各副貯溜容器に貯溜される除染液が予め設定された所定の設定量となるように除染液を供給するとともに、上記各副貯溜容器に供給された所定の設定量の除染液を各除染ガス発生装置に併行して供給可能とすることを特徴とする除染液供給装置。 A decontamination liquid supply device comprising: a main storage container for storing a decontamination liquid; a plurality of branch passages provided by branching off from the main storage container for supplying the decontamination liquid in the main storage container to a decontamination gas generator that generates a plurality of decontamination gases; and a liquid supply mechanism for supplying the decontamination liquid from the main storage container to the decontamination gas generator,
a secondary storage container for storing the decontamination liquid sent from the main storage container, and a detection mechanism for detecting the amount of the decontamination liquid stored in the secondary storage container, provided downstream of each branch passage;
The liquid supply mechanism supplies the decontamination liquid so that the amount of the decontamination liquid stored in each of the auxiliary storage containers reaches a predetermined set amount based on the detection results of each of the detection mechanisms, and is capable of supplying the predetermined set amount of the decontamination liquid supplied to each of the auxiliary storage containers to each of the decontamination gas generators in parallel .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021081934A JP7801550B2 (en) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | Decontamination liquid supply device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021081934A JP7801550B2 (en) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | Decontamination liquid supply device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022175514A JP2022175514A (en) | 2022-11-25 |
| JP7801550B2 true JP7801550B2 (en) | 2026-01-19 |
Family
ID=84145649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021081934A Active JP7801550B2 (en) | 2021-05-13 | 2021-05-13 | Decontamination liquid supply device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7801550B2 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018118187A (en) | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 澁谷工業株式会社 | Decontamination liquid supply device |
| JP2019107578A (en) | 2017-12-15 | 2019-07-04 | 東レ株式会社 | Liquid supply device and liquid supply method |
| JP2021065848A (en) | 2019-10-24 | 2021-04-30 | 東レエンジニアリング株式会社 | Chemical synthesis device |
-
2021
- 2021-05-13 JP JP2021081934A patent/JP7801550B2/en active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018118187A (en) | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 澁谷工業株式会社 | Decontamination liquid supply device |
| JP2019107578A (en) | 2017-12-15 | 2019-07-04 | 東レ株式会社 | Liquid supply device and liquid supply method |
| JP2021065848A (en) | 2019-10-24 | 2021-04-30 | 東レエンジニアリング株式会社 | Chemical synthesis device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022175514A (en) | 2022-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1316572C (en) | Substrate processing system and substrate processing method | |
| US9322098B2 (en) | Valve-cell vacuum deposition apparatus including a leak detection device and method for detecting a leak in a vacuum deposition apparatus | |
| CN103245848B (en) | Processor and part check device | |
| KR102043871B1 (en) | Article storage facility and article storage method | |
| JP2004505758A (en) | Automatic replenishment system for ultra-pure or pollution-sensitive chemicals | |
| JP7801550B2 (en) | Decontamination liquid supply device | |
| US20230194174A1 (en) | Gas management assembly for high pressure heat-treatment apparatus | |
| US10345189B2 (en) | Device and method for performing a leak test on fuel rod capsules | |
| WO2020157080A1 (en) | System and method for detecting a possible loss of integrity of a flexible bag for biopharmaceutical product | |
| KR102122786B1 (en) | Storage device, vaporizer, substrate processing device and method for manufacturing semiconductor device | |
| CN109425414B (en) | Method for checking a flow measurement system | |
| US20220028671A1 (en) | Device and method for plasma treatment of containers | |
| JP4996328B2 (en) | Cylinder cabinet | |
| CN107782418B (en) | Flowmeter inspection system and flowmeter inspection method | |
| KR100487387B1 (en) | Device for introducing gas into the primary coolant in a pressurised water reactor | |
| KR20200001531A (en) | Method of manufacturing semiconductor device, method of managing parts, substrate processing apparatus and substrate processing program | |
| JP7032629B2 (en) | Decontamination liquid supply device | |
| JP6658463B2 (en) | Gas tank inspection equipment | |
| JP2000146096A (en) | Introducing mechanism of fine amount of gas to very high vacuum chamber | |
| US20230167555A1 (en) | Source gas supply method, source gas supply mechanism, and film forming system | |
| JP2023530369A (en) | Method for testing at least one sensor in the anode path of a fuel cell system | |
| JP2002113074A (en) | Method of controlling operation of steam sterilizer | |
| JP2016176867A (en) | Leak inspection device and leak inspection method | |
| JP2013167482A (en) | Handler and component inspection apparatus | |
| RU2757342C2 (en) | Pressure retention unit |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240422 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250701 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250818 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20251202 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20251215 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7801550 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |