JP7802271B2 - Mist generating device and bathtub device equipped with same - Google Patents
Mist generating device and bathtub device equipped with sameInfo
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Description
本発明は、ミスト発生装置に係り、特に、浴槽装置に用いられるミスト発生装置に関する。 The present invention relates to a mist generator, and in particular to a mist generator used in a bathtub system.
従来、特許文献1に示すように、サウナ浴をするための浴槽サウナ装置が知られており、このような浴槽サウナ装置は、ミストを用いたサウナ空間を形成するために浴槽本体の上部に設けられる浴槽蓋を備えている。 As shown in Patent Document 1, a bathtub sauna device for sauna bathing has been known in the past. This type of bathtub sauna device includes a bathtub lid that is attached to the top of the bathtub body to create a sauna space using mist.
しかしながら、特許文献1に示すような浴槽サウナ装置においては、サウナ空間を形成するために浴槽蓋が必要であることから、使用者の位置が拘束されてしまい快適性が損なわれると共に、使用者の利便性に欠けるという問題があった。 However, bathtub sauna devices such as those shown in Patent Document 1 require a bathtub lid to create the sauna space, which restricts the user's position, reducing comfort and reducing convenience for the user.
これに対し、特許文献2に示すように、超音波霧化ユニットが提案され、上昇気流によって霧が拡散しやすくならないように、霧化槽の水温を上昇させないように制御することが提案されている。 In response to this, as shown in Patent Document 2, an ultrasonic atomization unit has been proposed, which controls the water temperature in the atomization tank so as not to increase, so that the mist does not easily disperse due to rising air currents.
しかしながら、このような超音波霧化ユニットを採用しようとすれば、ミストの温度を高めると霧が拡散してしまう問題が生じてしまい、結局、ミストの拡散を防ごうとすれば特許文献1に示すような浴槽蓋を設ける必要が生じてしまうという問題がある。 However, if such an ultrasonic atomization unit is adopted, the problem arises that the mist will diffuse if the mist temperature is increased, and ultimately, to prevent the mist from diffusing, it becomes necessary to provide a bathtub lid as shown in Patent Document 1.
そこで、本発明は、上述した従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、加熱された状態のミストが、上方が開放された滞留空間内に滞留できるミスト発生装置を提供することを目的としている。 The present invention was made to solve the problems of the prior art mentioned above, and aims to provide a mist generator that allows heated mist to remain in a retention space that is open at the top.
上述した課題を解決するために、本発明の一実施形態は、浴槽本体に用いられるミスト発生装置であって、加熱され水温を制御された水からミストを生成する、又は、水から生成されたミストを加熱することで温度制御されたミストを生成するミスト生成部と、上方が開放された滞留空間を形成する浴槽本体内に、上記ミスト生成部により生成されたミストを供給するミスト供給部と、を備え、上記ミスト生成部及び上記ミスト供給部は、上記ミスト供給部から供給されたミストが上記浴槽本体の上記滞留空間内に滞留されるように構成されることを特徴としている。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記ミスト生成部及び上記ミスト供給部は、上記ミスト供給部から供給されたミストが上記浴槽本体の上記滞留空間内に滞留されるように構成される。よって、加熱された状態のミストが浴槽本体の上方が開放された滞留空間内に滞留できる。これにより、ミストが浴槽本体の蓋が取付けられていない上方が開放された滞留空間内に滞留できるため使用者の蓋を取付ける必要を省いて利便性が向上されると共に、使用者が浴槽本体内で蓋なしでミストにより温まることができるため使用者の快適性も向上される。また、使用者が浴槽本体内でミストにより温まることができるため、使用者が水に浸かる場合と比べて圧迫感を生じずに体の負担を低減した状態でミスト浴ができ、さらに、水に浸かる場合と比べて緩やかに使用者に熱の刺激が伝わるため使用者の体の負担を低減しつつミスト浴ができる。
In order to solve the above-mentioned problems, one embodiment of the present invention is a mist generating device for use in a bathtub body, comprising a mist generating unit that generates mist from heated water whose temperature has been controlled, or that generates temperature-controlled mist by heating mist generated from water, and a mist supply unit that supplies the mist generated by the mist generating unit into the bathtub body, which forms a retention space with an open top, and is characterized in that the mist generating unit and the mist supply unit are configured so that the mist supplied from the mist supply unit is retained in the retention space of the bathtub body.
In one embodiment of the present invention, the mist generator and the mist supply unit are configured so that the mist supplied from the mist supply unit is retained in the retention space of the bathtub body. This allows heated mist to remain in the retention space with an open top. This eliminates the need for a lid on the bathtub body, improving convenience. Furthermore, the user can warm up with the mist inside the bathtub body without a lid, improving user comfort. Furthermore, because the user can warm up with the mist inside the bathtub body, the user can enjoy a mist bath without feeling pressured and with reduced physical strain compared to immersion in water. Furthermore, the heat is transmitted to the user more slowly than when immersed in water, reducing the strain on the user's body.
本発明の一実施形態において、好ましくは、上記ミスト生成部は、水温を検知する水温検知手段を備える。
このように構成された本発明の一実施形態においては、ミスト生成部は、水温を検知する水温検知手段を備えるので、水温を検知してより確実に水温を制御することができる。よって、ミスト生成部及びミスト供給部が、加熱された状態のミストを浴槽本体の滞留空間内により確実に滞留させることができる。
In one embodiment of the present invention, the mist generating section preferably includes a water temperature detecting means for detecting the water temperature.
In one embodiment of the present invention, the mist generator includes a water temperature detector that detects the water temperature, allowing for more accurate water temperature control. This allows the mist generator and mist supply unit to more reliably retain the heated mist within the retention space of the bathtub body.
本発明の一実施形態において、好ましくは、上記ミスト生成部は、60℃以上に加熱された水を温度制御すると共に温度制御された水からミストを生成する、又は、水から生成されたミストを60℃以上に加熱すると共に加熱されたミストを温度制御する。
このように構成された本発明の一実施形態においては、水又はミストを60℃以上に加熱することにより、仮に菌が水中に含まれていた場合でも、少なくとも一部の菌(例えばレジオネラ菌)の影響を抑制できる。
In one embodiment of the present invention, preferably, the mist generating unit controls the temperature of water heated to 60°C or higher and generates mist from the temperature-controlled water, or heats mist generated from water to 60°C or higher and controls the temperature of the heated mist.
In one embodiment of the present invention configured in this manner, by heating the water or mist to 60°C or higher, the effects of at least some bacteria (e.g., Legionella) can be suppressed even if bacteria are contained in the water.
本発明の一実施形態において、好ましくは、滞留されたミストの上部側の滞留境界面は、上記浴槽本体の溢れ面の高さに、上記浴槽本体の深さに相当する高さを加えた高さ位置よりも下方に形成される。
このように構成された本発明の一実施形態においては、滞留されたミストの上部側の滞留境界面は、上記浴槽本体の溢れ面の高さに、上記浴槽本体の深さに相当する高さを加えた高さ位置よりも下方に形成されるので、滞留境界面が高すぎる位置に形成されることを抑制し、使用者の快適性を高めることができる。
In one embodiment of the present invention, the retention boundary surface on the upper side of the retained mist is preferably formed below a height position obtained by adding a height equivalent to the depth of the bathtub body to the height of the overflow surface of the bathtub body.
In one embodiment of the present invention configured in this manner, the retention boundary surface on the upper side of the retained mist is formed below a height position obtained by adding a height equivalent to the depth of the bathtub body to the height of the overflow surface of the bathtub body, thereby preventing the retention boundary surface from being formed at a position that is too high, thereby increasing the comfort of the user.
本発明の一実施形態において、好ましくは、滞留されたミストの上部側の滞留境界面は、上記浴槽本体の溢れ面の高さ位置よりも上方に形成される。
このように構成された本発明の一実施形態においては、滞留されたミストの上部側の滞留境界面は、上記浴槽本体の溢れ面の高さ位置よりも上方に形成されるので、浴槽本体内に座っている使用者の体の上部までミスト入浴がしやすくなると共に、通常の水をはる水位よりも上部まで使用者の体を温めることができ、使用者の快適性をより高めることができる。
In one embodiment of the present invention, the upper boundary surface of the retained mist is preferably formed above the height position of the overflow surface of the bathtub body.
In one embodiment of the present invention configured in this manner, the retention boundary surface on the upper side of the retained mist is formed above the height position of the overflow surface of the bathtub body, making it easier for a user sitting in the bathtub body to take a mist bath up to the upper part of their body, and also making it possible to warm the user's body up to a level higher than the water level at which water is normally poured, thereby further increasing the user's comfort.
本発明において、好ましくは、滞留されたミストの上部側の滞留境界面は、上記浴槽本体の溢れ面の高さに、100mm~200mmの間の数値を加えた高さ位置よりも下方に形成される。
このように構成された本発明の一実施形態においては、滞留されたミストの上部側の滞留境界面は、上記浴槽本体の溢れ面の高さに、100mm~200mmの間の数値を加えた高さ位置よりも下方に形成されるので、滞留境界面が浴槽本体内に座っている使用者の顔の位置より下方に形成されやすくなり、使用者の快適性をさらに高めることができる。
In the present invention, the upper retention boundary surface of the retained mist is preferably formed below a height position obtained by adding a value between 100 mm and 200 mm to the height of the overflow surface of the bathtub body.
In one embodiment of the present invention configured in this manner, the retention boundary surface on the upper side of the retained mist is formed below a height position obtained by adding a value between 100 mm and 200 mm to the height of the overflow surface of the bathtub body, so that the retention boundary surface is more likely to be formed below the position of the face of a user sitting in the bathtub body, further increasing the comfort of the user.
本発明において、好ましくは、上記ミスト供給部は上記浴槽本体内の水の溢れ部より上方に配置される。
このように構成された本発明の一実施形態においては、ミスト供給部は浴槽本体内の水の溢れ部より上方に配置されるので、浴槽本体内の水が汚水の流れとしてミスト供給部から上流側に侵入することを抑制できる。
In the present invention, the mist supply section is preferably disposed above the overflow section of the bathtub main body.
In one embodiment of the present invention configured in this manner, the mist supply section is positioned above the water overflow section within the bathtub body, thereby preventing water within the bathtub body from entering upstream from the mist supply section as a flow of sewage.
本発明において、好ましくは、上記浴槽本体内の水の上記溢れ部は、上記浴槽本体の上記溢れ面である。
このように構成された本発明の一実施形態においては、ミスト供給部は浴槽本体内の水の溢れ面より上方に配置されるので、浴槽本体内の水が汚水としてミスト供給部から上流側に侵入することを抑制できる。
In the present invention, the overflow portion of the water in the bathtub body is preferably the overflow surface of the bathtub body.
In one embodiment of the present invention configured in this manner, the mist supply section is positioned above the water overflow surface in the bathtub body, thereby preventing water in the bathtub body from entering upstream from the mist supply section as sewage.
本発明において、好ましくは、ミスト発生装置は、さらに、上記浴槽本体が配置される浴室内の気温を検知する気温検知手段を備える。
このように構成された本発明の一実施形態においては、ミスト発生装置は、さらに、上記浴槽本体が配置される浴室内の気温を検知する気温検知手段を備えるので、浴槽本体が配置される浴室内の気温に応じて、ミスト生成部は、加熱された状態のミストを生成することができ、ミスト生成部及びミスト供給部が、加熱された状態のミストを浴槽本体の滞留空間内により確実に滞留させることができる。
In the present invention, preferably, the mist generator further includes temperature detection means for detecting the temperature in the bathroom in which the bathtub body is placed.
In one embodiment of the present invention configured in this manner, the mist generating device further includes a temperature detection means for detecting the temperature in the bathroom in which the bathtub body is placed. Therefore, the mist generating unit can generate heated mist according to the temperature in the bathroom in which the bathtub body is placed, and the mist generating unit and the mist supply unit can more reliably retain the heated mist within the retention space of the bathtub body.
本発明において、好ましくは、上記ミスト供給部は、下方向きに開口するミスト供給口部を備える。
このように構成された本発明の一実施形態においては、ミスト供給部は、下方向きに開口するミスト供給口部を備えるので、ミスト供給部のミスト供給口部から供給されたミストが浴槽本体内に到達するまでの移動距離をミスト供給部のミスト供給口部が横向きや上向きに開口する場合と比べて比較的短い移動距離にするように抑制でき、ミストがミスト供給口部から浴槽本体内に到達するまでにミストの温度が低下される等の変化を受け、浴槽本体内に到達されるミストの温度を調整しにくくなることを抑制できる。よって、加熱された状態のミストが浴槽本体の上方が開放された滞留空間内により滞留しやすくできる。また、例えば、ミスト供給部は、下方向きに開口するミスト供給口部を備えるので、浴槽本体内の水が汚水の流れとしてミスト供給部から上流側に侵入することを抑制できる。
In the present invention, the mist supply section preferably includes a mist supply port section that opens downward.
In one embodiment of the present invention, the mist supply unit has a mist supply port that opens downward. This reduces the distance the mist needs to travel to reach the bathtub body compared to when the mist supply port opens sideways or upward. This prevents the mist from experiencing temperature changes, such as a drop in temperature, before reaching the bathtub body, making it difficult to adjust the temperature of the mist that reaches the bathtub body. This allows the heated mist to more easily stagnate in the retention space above the bathtub body. Furthermore, for example, the mist supply unit has a mist supply port that opens downward, which prevents water in the bathtub body from flowing upstream from the mist supply unit as wastewater.
本発明において、好ましくは、浴槽装置であって、上記ミスト発生装置と、上記ミスト発生装置の上記ミスト供給部から供給されるミストを受け入れる上記滞留空間を形成する上記浴槽本体と、を備える。
また、本発明の一実施形態は、浴槽装置であって、本発明の一実施形態のミスト発生装置と、上記ミスト発生装置の上記ミスト供給部から供給されるミストを受け入れる上記滞留空間を形成する上記浴槽本体とを備えることを特徴としている。
In the present invention, preferably, the bathtub apparatus comprises the mist generating device and the bathtub main body that forms the retention space that receives the mist supplied from the mist supply section of the mist generating device.
Furthermore, one embodiment of the present invention is a bathtub apparatus characterized by comprising a mist generating device according to one embodiment of the present invention and the bathtub main body that forms the retention space that receives the mist supplied from the mist supply section of the mist generating device.
本発明において、好ましくは、上記ミスト発生装置の上記ミスト生成部及び上記ミスト供給部は、上記浴槽本体の短辺側に配置される。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記ミスト発生装置の上記ミスト生成部及び上記ミスト供給部は、上記浴槽本体の短辺側に配置されるので、ミスト供給部から供給されるミストが浴槽本体内の滞留空間において短辺側の左右方向において比較的均一に供給され、ミストの滞留が乱れることが抑制される。さらに、ミストが短辺側の左右方向において比較的均一に整ったミストの流れが供給され、このミストが長辺側に沿って進むので、使用者に癒し効果及び高級感を与えるような視覚的な効果を発生させやすくできる。
In the present invention, the mist generating section and the mist supply section of the mist generating device are preferably arranged on the short side of the bathtub main body.
In one embodiment of the present invention, the mist generating unit and mist supply unit of the mist generator are located on the short sides of the bathtub body, so that the mist supplied from the mist supply unit is supplied relatively evenly in the left-right direction of the short sides in the retention space within the bathtub body, preventing disruption of the mist retention. Furthermore, the mist is supplied in a relatively uniform flow in the left-right direction of the short sides, and this mist travels along the long sides, making it easier to create a visual effect that gives the user a soothing effect and a luxurious feel.
本発明のミスト発生装置によれば、加熱された状態のミストが、上方が開放された滞留空間内に滞留できる。 The mist generating device of the present invention allows heated mist to remain in a retention space that is open at the top.
以下では、本明細書に開示する本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。以下の説明から、当業者にとって、本発明の多くの改良や他の実施の形態が明らかである。従って、以下の説明は、例示としてのみ解釈されるべきであり、本発明を実行する最良の態様を当業者に教示する目的で提供されたものである。本発明の精神を逸脱することなく、その構造及び/又は機能の詳細を実質的に変更することができる。 The following describes in detail the embodiments of the present invention disclosed in this specification, with reference to the accompanying drawings. Many improvements and other embodiments of the present invention will be apparent to those skilled in the art from the following description. Therefore, the following description should be construed as merely illustrative, and is provided for the purpose of teaching those skilled in the art the best mode for carrying out the present invention. Details of the structure and/or function thereof may be substantially changed without departing from the spirit of the present invention.
以下、添付図面を参照して本発明の第1実施形態によるミスト発生装置を備えた水回り機器である浴槽装置について説明する。
図1は本発明の第1実施形態によるミスト発生装置を備えた浴槽装置の斜視図であり、図2は本発明の第1実施形態によるミスト発生装置を備えた浴槽装置を側面から見た側面図である。
図1及び図2に示すように、本発明の第1実施形態によるミスト発生装置1を備えた水回り機器である浴槽装置2は、浴室3に設けられる。水回り機器は、浴室、浴室の洗い場床、トイレ、洗面所、キッチン等の水を使うための吐水装置が設けられている機器である。ミスト発生装置1は、水回り機器の浴槽本体、浴室の洗い場床、シャワールーム、手洗いボウル、洗面台ボウル、キッチンシンクに用いられるミスト発生装置である。浴室3は、箱型の空間であり、内部で水を使用するため一定程度密閉された室内空間5を形成している。水には、外気温(常温)より温度の高い水、加熱された水(いわゆる湯)も含む。浴室3内には、ミスト発生装置1を操作する操作部28が設けられている。操作部28は、浴槽装置2への水の貯水操作、温度設定等も行うことができる。操作部28は、供給されるミストの温度を設定できる操作機能、供給されるミストの粒径を設定できる操作機能等を有していてもよい。操作部28は、浴室3外に設けられてもよく、又は、リモコン等の遠隔操作部でもよい。浴槽装置2には、水の供給を行う供給装置7が設けられている。浴槽装置2は、さらに、ミスト発生装置1の後述するミスト供給部から供給されるミストを受け入れる滞留空間4を形成する浴槽本体6を備えている。
A bathtub apparatus, which is a plumbing device equipped with a mist generating device according to a first embodiment of the present invention, will now be described with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a perspective view of a bathtub apparatus equipped with a mist generating device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view of the bathtub apparatus equipped with a mist generating device according to the first embodiment of the present invention.
As shown in FIGS. 1 and 2 , a bathtub apparatus 2, which is a plumbing device equipped with a mist generating device 1 according to the first embodiment of the present invention, is installed in a bathroom 3. Plumbing devices are devices equipped with a water discharge device for use in bathrooms, bathroom washbasin floors, toilets, washrooms, kitchens, and the like. The mist generating device 1 is used in plumbing devices such as the bathtub itself, the bathroom washbasin floor, the shower room, the hand-washing bowl, the washbasin bowl, and the kitchen sink. The bathroom 3 is a box-shaped space that forms a somewhat sealed interior space 5 for water use. The water includes water at a temperature higher than the outside air temperature (room temperature) and heated water (so-called hot water). An operating unit 28 for operating the mist generating device 1 is installed in the bathroom 3. The operating unit 28 can also be used to store water in the bathtub apparatus 2 and set the temperature. The operating unit 28 may have operating functions for setting the temperature of the mist to be supplied, the particle size of the mist to be supplied, and the like. The operating unit 28 may be installed outside the bathroom 3 or may be a remote operating unit such as a remote control. The bathtub apparatus 2 is equipped with a water supply device 7. The bathtub apparatus 2 also includes a bathtub body 6 that forms a retention space 4 that receives mist supplied from a mist supply unit (described later) of the mist generating device 1.
浴槽本体6は、浴槽装置2の浴槽本体6が配置される室内空間5に向けて上方が開放された滞留空間4を形成する。浴槽本体6は、浴槽(湯船)であり、内側の滞留空間4内に水が貯水できるようになっている。浴槽本体6は、上面視で長方形に形成され、長方形の長辺側に長辺側部分6dが形成され、短辺側に短辺側部分6eが形成されている。短辺側部分6eは、長辺側部分6dに比べて浴槽の幅が短くなっている。
滞留空間4は、浴槽本体6の内側において概ね直方体形状に形成される空間である。図2に示すように使用者Aが入浴する際には、滞留空間4の下部側に34℃乃至45℃の水Bが貯水され、使用者Aが座った状態で入浴することができる。なお、後述するように、図2においては、滞留空間4内の水Bの上方にはミストが滞留した状態(ミストの滞留層Cが形成されている状態)となっている。滞留空間4は、浴槽本体6の上端部6aまで形成され、天面側が開口されている。浴槽本体6は、滞留空間4の天面を覆うような蓋を省略した状態で、後述するようにミストが滞留空間4内に滞留されるようになっている。なお、滞留空間4内に水Bが貯水されずにミストが滞留されていてもよい。浴槽本体6の形状は実施形態のような箱状に限定されず、滞留空間を形成できる形状であればよい。例えば、浴槽本体6が上面視で円形や楕円形に形成され、内側にボウル状の滞留空間が形成されていてもよい。浴槽本体6の底面は使用者が寝浴姿勢や座り姿勢に近い姿勢をとれるように斜めに形成されていてもよく、底面に段部が形成されていてもよく又は形成されていなくてもよい。浴槽本体6の壁部の頂辺部が、一定の高さで水平に形成されている必要はなく高さが変化するように形成されていてもよい。例えば、浴槽本体6の壁部の頂辺部が、側面視で、斜め上方又は下方に延びる形状、一部が下方に凹む弓状に延びる形状や、略直角を形成するような形状とされてもよい。
The bathtub body 6 forms a retention space 4 that is open upward toward the interior space 5 in which the bathtub body 6 of the bathtub device 2 is placed. The bathtub body 6 is a bathtub (hot tub) that can store water in the internal retention space 4. The bathtub body 6 is rectangular when viewed from above, with long side portions 6d formed on the long sides of the rectangle and short side portions 6e formed on the short sides. The short side portions 6e are shorter in width than the long side portions 6d.
The retention space 4 is a space formed in a roughly rectangular parallelepiped shape inside the bathtub body 6. As shown in FIG. 2 , when user A takes a bath, water B at 34°C to 45°C is stored in the lower part of the retention space 4, allowing user A to bathe while seated. As described below, in FIG. 2 , mist is retained above the water B in the retention space 4 (a mist retention layer C is formed). The retention space 4 extends to the upper end 6a of the bathtub body 6 and is open on the top side. The bathtub body 6 does not have a lid covering the top surface of the retention space 4, allowing mist to be retained in the retention space 4, as described below. Note that the retention space 4 may retain mist without storing water B. The shape of the bathtub body 6 is not limited to the box-like shape described in the embodiment, and may be any shape that can form a retention space. For example, the bathtub body 6 may be circular or elliptical in top view, with a bowl-shaped retention space formed inside. The bottom of the bathtub body 6 may be angled to allow the user to assume a posture similar to a lying or sitting position, and may or may not have a step on the bottom. The top of the wall of the bathtub body 6 does not need to be horizontal at a constant height, but may be formed to vary in height. For example, the top of the wall of the bathtub body 6 may be shaped to extend diagonally upward or downward in side view, to have a bow-like shape with a portion concave downward, or to form an approximately right angle.
ミスト発生装置1は、水回り機器である浴槽装置2に用いられる。ミスト発生装置1は、ミストを生成するミスト生成部8と、ミストを浴槽本体6内に供給するミスト供給部10とを備えている。 The mist generator 1 is used in a bathtub unit 2, which is a plumbing device. The mist generator 1 includes a mist generator 8 that generates mist and a mist supply unit 10 that supplies mist into the bathtub main body 6.
ミスト生成部8は、加熱され水温を制御された水からミストを生成する、又は、水から生成されたミストを加熱することで温度制御されたミストを生成する。ミスト生成部8は、浴槽本体6の短辺側の短辺側部分6eに配置されている。短辺側部分6eの上部には、ミスト生成部8を配置する台状の部分が形成されている。 The mist generating unit 8 generates mist from water that has been heated and temperature-controlled, or generates temperature-controlled mist by heating mist generated from water. The mist generating unit 8 is located on the short side portion 6e of the bathtub body 6. A platform-shaped portion is formed at the top of the short side portion 6e on which the mist generating unit 8 is placed.
ミスト生成部8は、内部に水を貯溜するタンク12と、水を給水源からタンク12に給水する給水路14と、水をタンク12から排水管に排水する排水路16と、タンク12の内側の底部に設けられた超音波振動子18と、タンク12の内側の底部に設けられたヒーター20と、タンク12の内側に設けられた水温検知手段である水温計測器22と、タンク12の外側に設けられた気温検知手段である室内温度計測器24と、超音波振動子18及びヒーター20を制御する制御部26と、を備えている。 The mist generating unit 8 includes a tank 12 that stores water therein, a water supply channel 14 that supplies water from a water source to the tank 12, a drainage channel 16 that drains water from the tank 12 to a drain pipe, an ultrasonic vibrator 18 provided at the bottom inside the tank 12, a heater 20 provided at the bottom inside the tank 12, a water temperature gauge 22 that serves as a water temperature detection means provided inside the tank 12, an indoor temperature gauge 24 that serves as an air temperature detection means provided outside the tank 12, and a control unit 26 that controls the ultrasonic vibrator 18 and heater 20.
タンク12は、直方体形状に形成されている。タンク12の下部の側壁に給水路14と排水路16とが接続されている。タンク12の中央近傍の側壁にミスト供給部10が接続されている。給水路14には、給水路14を開閉する給水路開閉弁30が設けられている。排水路16には、排水路16を開閉する排水路開閉弁32が設けられている。 The tank 12 is formed in a rectangular parallelepiped shape. A water supply channel 14 and a drain channel 16 are connected to the side wall at the bottom of the tank 12. A mist supply unit 10 is connected to the side wall near the center of the tank 12. The water supply channel 14 is provided with a water supply channel on-off valve 30 that opens and closes the water supply channel 14. The drain channel 16 is provided with a drain channel on-off valve 32 that opens and closes the drain channel 16.
超音波振動子18は、タンク12内の水に超音波を発振して、液面の水を振動させ、液面から水を微粒子状にさせ、所定の粒径のミスト(霧)を生じさせることができる。超音波振動子18は、制御部26と電気的に接続され、超音波振動子18の超音波の発振出力、周波数等を調整することにより、発生させるミストの粒径を変更できるようになっている。超音波振動子18は、所定の粒径のミストを生じさせる他の装置、例えばスチームによるミスト発生装置、圧力噴霧によるミスト発生装置、アーク放電によるミスト発生装置等に変更されてもよい。また、本実施形態においては超音波振動子18は、タンク12内に1つ設けられているが、タンク12内に複数設けられていてもよい。 The ultrasonic vibrator 18 generates ultrasonic waves in the water in the tank 12, vibrating the water on the surface and breaking it into fine particles from the surface, generating mist (fog) of a predetermined particle size. The ultrasonic vibrator 18 is electrically connected to the control unit 26, and the particle size of the mist generated can be changed by adjusting the ultrasonic oscillation output, frequency, etc. of the ultrasonic vibrator 18. The ultrasonic vibrator 18 may be replaced with another device that generates mist of a predetermined particle size, such as a mist generator using steam, a mist generator using pressure spray, or a mist generator using arc discharge. In addition, although one ultrasonic vibrator 18 is provided in the tank 12 in this embodiment, multiple ultrasonic vibrators 18 may also be provided in the tank 12.
制御部26は、ヒーター20により、タンク12内の水を加熱する機能を有すると共にタンク12内の水の温度を制御する機能を有する。例えば、ヒーター20は、給水温(例えば20℃程度の室温)の水温の水を室温以上の60℃以上まで加熱することができる。また例えば、制御部26は、ヒーター20により、一旦60℃以上に加熱された水を以後、後述する所定の温度差が0℃以上とされるように上昇又は低下させるように温度制御することができる。よって、ミスト生成部8は、60℃以上に加熱された水を温度制御すると共に温度制御された水からミストを生成する。なお、ミスト生成部8は、給湯器において60℃以上に加熱された上でミスト生成部8に供給された水からミストを生成してもよい。ミスト生成部8は、タンク12内の水を室温以上の温度に加熱し、室温以上の温度で上昇気流を生じさせるようなミストを、ミストの粒径等の状態に応じて、ミストの温度を調整しながら滞留しやすいように設定によりコントロールする機能を有する。なお、水を60℃以上に加熱するので、少なくとも一部の菌(例えばレジオネラ菌)の繁殖を抑制する対策も可能となる。なお、ヒーター20が水(又はミスト)を一旦60℃以上に加熱する工程を省略し、この工程の代わりに他の菌抑制手段、例えば、UV光による除菌手段、除菌剤を添加する菌抑制手段等が設けられてもよい。このとき、ヒーター20は水(又はミスト)を60℃未満の温度まで加熱できる。
なお、ヒーター20は、タンク12内の水の水位よりも高い位置に設けられ、水から生成されたミストを加熱してもよい。このとき、ヒーター20は、水から生成されたミストを60℃以上に加熱することができる。また例えば、制御部26は、ヒーター20により、60℃以上に加熱されたミストを以後後述する所定の温度差が0℃以上とされるようにタンク12内のミストの温度を上昇又は低下させるように温度制御することができる。このとき、ミスト生成部8は、水から生成されたミストを60℃以上に加熱すると共に加熱されたミストを温度制御する。
なお、ヒーター20は、ヒーター20がタンク12内の水の水位よりも低い位置に設けられた状態で、水から生成されたミストを加熱してもよい。このとき、タンク12からタンク12内の水の水位よりも低い位置に設けられたヒーター20までミストを通すダクトが設けられ、このダクトを通ってヒーター20に供給されるミストをヒーター20が加熱させる。このダクトの下流側はミスト供給部10又はタンク12に接続され、ヒーター20が加熱したミストが再びミスト供給部10又はタンク12に戻される。
The control unit 26 has a function of heating the water in the tank 12 using the heater 20 and a function of controlling the temperature of the water in the tank 12. For example, the heater 20 can heat water from the supply water temperature (e.g., room temperature, about 20°C) to 60°C or higher, which is above room temperature. Furthermore, for example, the control unit 26 can control the temperature of water once heated to 60°C or higher by the heater 20, thereby raising or lowering the temperature so that a predetermined temperature difference (described below) is 0°C or higher. Thus, the mist generating unit 8 controls the temperature of water heated to 60°C or higher and generates mist from the temperature-controlled water. The mist generating unit 8 may also generate mist from water heated to 60°C or higher in a water heater and then supplied to the mist generating unit 8. The mist generating unit 8 heats the water in the tank 12 to a temperature above room temperature and generates mist that generates an updraft at a temperature above room temperature, adjusting the temperature of the mist according to the mist particle size and other conditions, and controls the mist to easily stagnate. Since the water is heated to 60°C or higher, it is also possible to take measures to suppress the growth of at least some bacteria (e.g., Legionella). Note that the step of the heater 20 temporarily heating the water (or mist) to 60°C or higher may be omitted, and instead of this step, other bacteria suppression means, such as a sterilization means using UV light or a sterilization means adding a sterilizing agent, may be provided. In this case, the heater 20 can heat the water (or mist) to a temperature below 60°C.
The heater 20 may be provided at a position higher than the water level in the tank 12 and heat the mist generated from the water. In this case, the heater 20 can heat the mist generated from the water to 60°C or higher. For example, the control unit 26 can control the temperature by raising or lowering the temperature of the mist in the tank 12 so that the mist heated by the heater 20 to 60°C or higher has a predetermined temperature difference of 0°C or higher, as described below. In this case, the mist generating unit 8 heats the mist generated from the water to 60°C or higher and controls the temperature of the heated mist.
The heater 20 may heat the mist generated from the water in a state where the heater 20 is provided at a position lower than the water level in the tank 12. In this case, a duct is provided to pass the mist from the tank 12 to the heater 20, which is provided at a position lower than the water level in the tank 12, and the mist that is supplied to the heater 20 through this duct is heated by the heater 20. The downstream side of this duct is connected to the mist supply unit 10 or the tank 12, and the mist heated by the heater 20 is returned to the mist supply unit 10 or the tank 12.
水温計測器22は、タンク12内の水の水温を検知する。制御部26は、水温計測器22と電気的に接続され、制御部26がタンク12内の水の水温を認識できる。
室内温度計測器24は、浴槽本体6が配置される室内空間5のタンク12の外側の空気の温度を検知する。制御部26は、室内温度計測器24と電気的に接続され、制御部26が室内空間5の空気の温度を認識できる。なお、ミストの供給開始前(ミスト生成部8が駆動される前)の状態においては、室内空間5の空気の温度と、滞留空間4内の空気の温度とはほぼ等しい又は比較的近い温度であると仮定されるので、制御部26は、室内温度計測器24が測定した室内空間5の空気の温度を、滞留空間4内の空気の温度と推定できる。
The water temperature measuring device 22 detects the temperature of the water in the tank 12. The control unit 26 is electrically connected to the water temperature measuring device 22, and the control unit 26 can recognize the temperature of the water in the tank 12.
The indoor temperature measuring device 24 detects the temperature of the air outside the tank 12 in the indoor space 5 where the bathtub main body 6 is placed. The control unit 26 is electrically connected to the indoor temperature measuring device 24, allowing the control unit 26 to recognize the temperature of the air in the indoor space 5. Note that before mist supply begins (before the mist generating unit 8 is driven), the air temperature in the indoor space 5 and the air temperature in the retention space 4 are assumed to be approximately equal or relatively close to each other, so the control unit 26 can estimate the air temperature in the indoor space 5 measured by the indoor temperature measuring device 24 as the air temperature in the retention space 4.
制御部26は、CPU及びメモリ等を内蔵し、メモリ等に記録された所定の制御プログラムに基づいてミストの発生を実行するように接続された機器を制御する。制御部26は、超音波振動子18、ヒーター20、水温計測器22、室内温度計測器24、操作部28等と電気的に接続されている。制御部26は、さらに、給水路14に設けられた給水路開閉弁30と、排水路に設けられた排水路開閉弁32とも電気的に接続され、これらを制御できる。 The control unit 26 has a built-in CPU, memory, etc., and controls connected devices to generate mist based on a predetermined control program stored in the memory, etc. The control unit 26 is electrically connected to the ultrasonic vibrator 18, heater 20, water temperature measuring device 22, indoor temperature measuring device 24, operation unit 28, etc. The control unit 26 is also electrically connected to the water supply line opening/closing valve 30 provided in the water supply line 14 and the drainage line opening/closing valve 32 provided in the drainage line, and can control these.
ミスト供給部10は、ミスト生成部8により生成されたミストを、浴槽本体6が配置される室内に向けて上方が開放された滞留空間4を形成する滞留部である浴槽本体6内に供給する。ミスト供給部10は、図2に示す流路の断面により示されるように、ミスト生成部8から滞留空間4の一端の上部まで直線的に延びる流路を形成している。ミスト供給部10の開口部は、正面から(滞留空間4側から)見て、浴槽本体6の短辺側部分6eに沿って横長の長方形に形成されている。開口部は、短辺側部分6eのほぼ全体にわたる幅を有するように形成されている。ミスト供給部10は浴槽本体6内の水の溢れ部6cより上方に配置される。本実施形態においては、この溢れ部6cは、浴槽本体6の溢れ面6bである。変形例として溢れ部6cは、浴槽本体6内に設けられたオーバーフロー口でもよい。また、ミスト供給部10は、浴槽本体6の短辺側の短辺側部分6eに配置されている。短辺側部分6eの上部には、ミスト供給部10を配置する台状の部分が形成されている。ミスト供給部10は、体積あたりの供給量を、例えば0.03mL/min・L~1.5mL/min・Lの範囲にしている。ミスト供給部10は、例えば、浴槽本体6の体積330Lの滞留空間4に11mL/minの単位時間あたりの供給量のミストを供給できる。また、例えば、ミスト供給部10は、温度差や粒径の測定の仮想滞留空間や、他の水回り機器等の体積4.32Lの滞留空間4に6mL/minの単位時間あたりの供給量のミストを供給できる。超音波振動子18の個数、出力、超音波を照射する向き、ミスト生成部8内の水位、又は、ミスト生成部8内やミスト供給部10内の流路形状等によりミストの供給量が制御できる。 The mist supply unit 10 supplies mist generated by the mist generation unit 8 into the bathtub body 6, which forms a retention space 4 that opens upward toward the room in which the bathtub body 6 is placed. As shown in the cross-section of the flow path in Figure 2, the mist supply unit 10 forms a flow path that extends linearly from the mist generation unit 8 to the top of one end of the retention space 4. When viewed from the front (from the retention space 4 side), the opening of the mist supply unit 10 is formed as a horizontally elongated rectangle along the short side 6e of the bathtub body 6. The opening is formed to have a width that spans almost the entire short side 6e. The mist supply unit 10 is located above the water overflow area 6c in the bathtub body 6. In this embodiment, this overflow area 6c is the overflow surface 6b of the bathtub body 6. Alternatively, the overflow area 6c may be an overflow port provided in the bathtub body 6. The mist supply unit 10 is also located on the short side 6e of the short side of the bathtub body 6. A platform-shaped portion on which the mist supply unit 10 is positioned is formed at the top of the short side portion 6e. The mist supply unit 10 has a supply rate per volume ranging from 0.03 mL/min·L to 1.5 mL/min·L. For example, the mist supply unit 10 can supply mist at a rate of 11 mL/min per unit time to the 330 L retention space 4 of the bathtub main body 6. Furthermore, the mist supply unit 10 can supply mist at a rate of 6 mL/min per unit time to a 4.32 L retention space 4, such as a virtual retention space for measuring temperature differences and particle sizes, or to other plumbing equipment. The mist supply rate can be controlled by the number, output, and direction of ultrasonic irradiation of the ultrasonic transducers 18, the water level in the mist generation unit 8, or the shape of the flow paths within the mist generation unit 8 and the mist supply unit 10.
ミスト生成部8及びミスト供給部10は、加温された状態のミストを生成すると共に、ミストの温度を制御し、このミストを滞留空間4内に滞留させやすくする。この内容について説明する。
ミスト生成部8及びミスト供給部10は、ミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度とミストの供給開始前の水回り機器が使用される室内の温度との温度差が、0℃以上とされ、ミスト供給部10から供給されたミストが浴槽本体6の滞留空間4内に滞留されるように構成される。また、ミスト発生装置1のミスト生成部8及びミスト供給部10は、温度差によって生じる上昇気流がミストを上昇させようとする力がミスト供給部10から供給されたミストの粒径に応じたミストの重さを超えないような、温度差を生じるように構成される。想定される室内空間5の空気の温度範囲に応じてミスト生成部8に供給される水の温度、ヒーター20による加熱温度、又は超音波振動子18の周波数を予め設定することで、室内温度計測器24を用いず(室内温度計測器24の計測結果に依ることなく)、このようなミスト供給が達成されてもよい。また、供給時の設定の調整によりこのようなミスト供給が達成されてもよい。ミスト生成部8及びミスト供給部10は、温度差が、好ましくは100℃以下、より好ましくは60℃以下、さらに好ましくは45℃以下とされるように構成される。ミスト生成部8及びミスト供給部10は、加温された状態のミストを生成すると共に、ミストの粒径を制御し、このミストを滞留空間4内に滞留させやすくする。
The mist generating unit 8 and the mist supplying unit 10 generate heated mist and control the temperature of the mist, making it easier for the mist to remain in the retention space 4. This will be described below.
The mist generating unit 8 and the mist supply unit 10 are configured so that the temperature difference between the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 and the room temperature where the bathroom appliance is used before mist supply begins is 0°C or more, so that the mist supplied from the mist supply unit 10 is retained in the retention space 4 of the bathtub body 6. Furthermore, the mist generating unit 8 and the mist supply unit 10 of the mist generator 1 are configured to create a temperature difference such that the force of the rising air current caused by the temperature difference to lift the mist does not exceed the weight of the mist supplied from the mist supply unit 10, which corresponds to the particle size of the mist. This type of mist supply may be achieved without using the room temperature measuring device 24 (without relying on the measurement results of the room temperature measuring device 24) by presetting the temperature of the water supplied to the mist generating unit 8, the heating temperature of the heater 20, or the frequency of the ultrasonic vibrator 18 according to the expected temperature range of the air in the room space 5. Alternatively, this type of mist supply may be achieved by adjusting the settings at the time of supply. The mist generating unit 8 and the mist supplying unit 10 are configured so that the temperature difference is preferably 100° C. or less, more preferably 60° C. or less, and even more preferably 45° C. or less. The mist generating unit 8 and the mist supplying unit 10 generate heated mist and control the particle size of the mist, making it easier for the mist to remain in the retention space 4.
次に、図2、図3乃至図8により、上述した本発明の第1実施形態によるミスト発生装置の動作を説明する。
図3乃至図8においては、ミスト発生装置1は、浴槽装置2の浴槽本体6とほぼ一体に見えるように浴槽本体6の上部に組み込まれている。図3乃至図8に示すミスト発生装置1の基本構造は、図2に示すミスト発生装置1の基本構造とほぼ同じであるので、図3乃至図8においても図2と同様の符号を付して説明する。
Next, the operation of the mist generating device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3 to 8. FIG.
3 to 8, the mist generator 1 is incorporated into the upper part of the bathtub main body 6 of the bathtub equipment 2 so as to appear to be nearly one unit with the bathtub main body 6. The basic structure of the mist generator 1 shown in Figures 3 to 8 is nearly the same as the basic structure of the mist generator 1 shown in Figure 2, so the same reference numerals as in Figure 2 will be used in the explanation of Figures 3 to 8.
図2に示すように、ミスト発生装置1の動作の開始前の待機状態において、浴槽本体6の滞留空間4の下半分には約38℃の水が貯溜された状態となっている。浴室3内の室内空間5の空気の温度と滞留空間4内の空気の温度とはほぼ等しい温度となっている。給水路開閉弁30及び排水路開閉弁32は閉弁されている。タンク12内には水が無い状態となっている。超音波振動子18及びヒーター20は停止された状態である。 As shown in Figure 2, in the standby state before the mist generator 1 begins operation, water at approximately 38°C is stored in the lower half of the retention space 4 of the bathtub body 6. The air temperature in the interior space 5 of the bathroom 3 and the air temperature in the retention space 4 are approximately the same temperature. The water supply channel on-off valve 30 and the drain channel on-off valve 32 are closed. There is no water in the tank 12. The ultrasonic vibrator 18 and heater 20 are stopped.
使用者が操作部28を操作しミスト発生装置1のミストの供給制御を開始させる。ミストの供給開始前に、室内温度計測器24は、室内空間5の空気の温度を測定し、制御部26は、室内空間5の空気の温度を認識する。制御部26は、給水路開閉弁30を開弁し、水を給水路14からタンク12内に供給する。排水路開閉弁32は閉弁されたままである。タンク12内に予め決められた水量の水が貯溜されると、給水路開閉弁30は開弁される。次に、制御部26は、ヒーター20を作動させ、水を給水された水の水温から60℃以上まで加熱する。制御部26は、水が60℃以上まで加熱された後、ミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度とミストの供給開始前の浴槽装置2が使用される浴室3内の温度との温度差が、0℃以上とされるように、タンク12内の水の温度をヒーター20の起動及び停止により調整する。次いで、制御部26は、超音波振動子18を作動させ、タンク12内にミストを生じさせる。 The user operates the operating unit 28 to start controlling the mist supply from the mist generator 1. Before mist supply begins, the indoor temperature gauge 24 measures the air temperature in the indoor space 5, and the control unit 26 recognizes the air temperature in the indoor space 5. The control unit 26 opens the water supply line on-off valve 30 to supply water from the water supply line 14 into the tank 12. The drain line on-off valve 32 remains closed. When a predetermined amount of water has accumulated in the tank 12, the water supply line on-off valve 30 opens. Next, the control unit 26 activates the heater 20 to heat the water from the supplied water temperature to 60°C or higher. After the water has been heated to 60°C or higher, the control unit 26 adjusts the temperature of the water in the tank 12 by starting and stopping the heater 20 so that the temperature difference between the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 and the temperature in the bathroom 3 where the bathtub apparatus 2 is used before mist supply begins is 0°C or higher. The control unit 26 then activates the ultrasonic vibrator 18 to generate mist within the tank 12.
図3においては、ミスト供給部10から滞留空間4内へのミストの供給が開始された直後の状態が示される。
タンク12内に生じたミストは、ミスト供給部10から浴槽本体6内の滞留空間4に供給される。ミストは、ミスト供給部10から自然に溢れ出し、矢印F1に示すように、ミストの自重により自由落下しながら滞留空間4内に供給される。このように、ミストが下方への移動速度以外の他の方向への移動速度を持つことが抑制されている。従って、ミストが滞留空間4内において、撹拌、拡散、上昇等の移動をしにくくされている。
FIG. 3 shows a state immediately after the mist supply unit 10 starts supplying mist into the retention space 4 .
The mist generated in the tank 12 is supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 in the bathtub body 6. The mist naturally overflows from the mist supply unit 10 and, as shown by arrow F1, is supplied into the retention space 4 while freely falling due to its own weight. In this way, the mist is prevented from moving in any direction other than downward. Therefore, the mist is prevented from moving, such as by stirring, diffusing, or rising, within the retention space 4.
図4においては、ミストの供給開始から約10秒経過後の状態が示される。
ミスト供給部10から滞留空間4へのミストの供給は継続されている。供給されたミストは、水Bの水面の上方且つ滞留空間4内の低い部分に滞留を開始している。ミストは、ミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度とミストの供給開始前の浴槽装置2が使用される室内空間5の温度との温度差が、0℃以上とされているので、自身の自重に打ち勝つほどの上昇気流をミストの温度により生じさせにくくなっている。よって、ミストは、滞留空間4内の比較的低い部分に滞留する。
FIG. 4 shows the state after about 10 seconds have passed since the start of mist supply.
The supply of mist from the mist supply unit 10 to the retention space 4 continues. The supplied mist begins to stagnate above the surface of the water B and in a lower portion of the retention space 4. Because the temperature difference between the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 and the temperature of the indoor space 5 in which the bathtub apparatus 2 is used before the mist supply began is set to 0°C or more, the temperature of the mist makes it difficult for the mist to generate an updraft strong enough to overcome its own weight. Therefore, the mist stagnates in a relatively low portion of the retention space 4.
図5においては、ミストの供給開始から約30秒経過後の状態が示される。
ミスト供給部10から滞留空間4へのミストの供給は継続されている。滞留空間4内に供給されたミストが、徐々に増加し、ミストが滞留空間4内の徐々に高い部分まで滞留されるようになってきている。
FIG. 5 shows the state after about 30 seconds have passed since the start of mist supply.
The mist continues to be supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4. The mist supplied into the retention space 4 gradually increases, and the mist gradually becomes retained in higher parts of the retention space 4.
図6においては、ミストの供給開始から約1分経過後の状態が示される。
ミスト供給部10から滞留空間4へのミストの供給は継続されている。滞留空間4内に供給されたミストが、徐々に増加し、ミストが滞留空間4内のさらに高い部分まで滞留されるようになってきている。
FIG. 6 shows the state after about one minute has passed since the start of mist supply.
The mist continues to be supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4. The amount of mist supplied into the retention space 4 gradually increases, and the mist begins to accumulate in higher parts of the retention space 4.
図7においては、ミストの供給開始から約1分30秒経過後の状態が示される。
ミスト供給部10から滞留空間4へのミストの供給は継続されている。滞留空間4内に供給されたミストが、さらに増加し、ミストが滞留空間4内の頂部(浴槽本体6の上端部6a)に近い部分まで滞留されている。
FIG. 7 shows the state after about 1 minute and 30 seconds have passed since the start of mist supply.
The mist continues to be supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4. The mist supplied into the retention space 4 further increases, and the mist is retained up to a portion of the retention space 4 close to the top (the upper end 6a of the bathtub body 6).
図8においては、ミストの供給開始から約2分経過後の状態が示される。
ミスト供給部10から滞留空間4へのミストの供給は継続されている。滞留空間4内に供給されたミストが、滞留空間4内の頂部(浴槽本体6の上端部6a)に近い部分まで滞留されている。ミストは、主に滞留空間4内において水Bの水面より上方且つ滞留空間4内の頂部より下方の領域に滞留している。ミストのうち一部は、水Bに落下して吸収され、又は浴槽本体6の壁面に水滴となって付着され、又は浴槽本体6の上端部6aの縁を超えて流出する。このようにミストのうち一部は消失又は拡散されるものの、主なミストは、滞留空間4内に滞留する。すなわち、ミストは滞留空間4内において緩やかに流動しつつも滞留空間4から拡散するには至らず安定的な滞留層Cを形成する。滞留層Cは、水Bの水面より上方において、一定以上の密度のミストが単位空間内に存在することにより形成される。滞留層は、白い雲状に認識される。滞留層は下部側においてミストの密度が比較的高く、上部側においてミストの密度が比較的低くなるように形成されている。滞留層の存在により、滞留空間4の頂部までミストが満たされているように視認される。
FIG. 8 shows the state after about two minutes have passed since the start of mist supply.
The mist continues to be supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4. The mist supplied into the retention space 4 remains near the top of the retention space 4 (the upper end 6a of the bathtub body 6). The mist remains primarily in the retention space 4 in an area above the water surface of the water B and below the top of the retention space 4. Some of the mist falls into the water B and is absorbed, or forms droplets that adhere to the wall of the bathtub body 6, or flows over the edge of the upper end 6a of the bathtub body 6. While some of the mist disappears or diffuses, the majority of the mist remains in the retention space 4. In other words, the mist flows slowly within the retention space 4 but does not diffuse from the retention space 4, forming a stable retention layer C. The retention layer C is formed when mist of a certain density or higher exists within a unit space above the water surface of the water B. The retention layer appears as a white cloud. The retention layer is formed so that the mist density is relatively high at the bottom and relatively low at the top. The presence of the retention layer makes it appear as if the retention space 4 is filled with mist up to the top.
滞留されたミストの上部側の滞留境界面66は、浴槽本体6の溢れ面6bの高さ(高さ位置M0)に、上記浴槽本体6の深さL1に相当する高さを加えた高さ位置M1よりも下方に形成される。滞留境界面66はミストが空気中に一定以上の濃度となっている滞留層Cと、ミストが空気中に一定未満の濃度となっている空気層Jとの間の境界領域を示している。滞留境界面66は、ミストが滞留しながらある程度動いているため、上下方向にやや高さを持った領域で規定されると共に、水平方向に広がる領域として規定される。なお、浴槽本体6の溢れ面6bは、浴槽本体6の側壁のうち最も高さが低い部分、すなわち水が浴槽本体6の上限まで溜まると最初に溢れ出す部分である。 The retention boundary surface 66 on the upper side of the retained mist is formed below height M1, which is the height of the overflow surface 6b of the bathtub body 6 (height position M0) plus the height equivalent to the depth L1 of the bathtub body 6. The retention boundary surface 66 indicates the boundary region between retention layer C, where the mist has a concentration above a certain level in the air, and air layer J, where the mist has a concentration below a certain level in the air. Because the mist moves to some extent while retaining, the retention boundary surface 66 is defined as an area that has some height in the vertical direction and also as an area that spreads horizontally. The overflow surface 6b of the bathtub body 6 is the lowest part of the side wall of the bathtub body 6, i.e., the part that overflows first when water accumulates up to the upper limit of the bathtub body 6.
また、滞留されたミストの上部側の滞留境界面66は、浴槽本体6の溢れ面6bの高さ位置M0よりも上方に形成されている。さらに、滞留されたミストの上部側の滞留境界面66は、浴槽本体6の溢れ面6bの高さ(高さ位置M0)に、100mm~200mmの間の数値を加えた高さ位置(高さ位置M2~高さ位置M3)よりも下方に形成されている。滞留境界面66が浴槽本体6の溢れ面6bの高さよりも高い位置となる場合には、使用者は浴槽を越える位置までのミスト入浴効果、すなわち湯船より高い高さまでの温浴効果を得ることができる。ミスト生成部8を駆動(使用)している間は、ミストが浴槽本体6内に供給されミストの滞留が継続されている。
ミスト生成部8及びミスト供給部10は、滞留境界面66の高さ位置が、上述のような所定の高さ位置になるような、ミストの温度と室内の温度との温度差、ミストの粒径、ミストの供給量等を規定するように構成されている。
Furthermore, the retention boundary surface 66 on the upper side of the retained mist is formed above the height position M0 of the overflow surface 6b of the bathtub main body 6. Furthermore, the retention boundary surface 66 on the upper side of the retained mist is formed below a height position (height position M2 to height position M3) obtained by adding a value between 100 mm and 200 mm to the height (height position M0) of the overflow surface 6b of the bathtub main body 6. If the retention boundary surface 66 is positioned higher than the height of the overflow surface 6b of the bathtub main body 6, the user can enjoy the mist bathing effect up to a height above the bathtub, i.e., the warm bathing effect up to a height higher than the bathtub. While the mist generator 8 is operating (in use), mist is supplied into the bathtub main body 6 and the mist continues to stagnate.
The mist generating unit 8 and the mist supply unit 10 are configured to specify the temperature difference between the mist temperature and the room temperature, the particle size of the mist, the amount of mist supplied, etc., so that the height position of the stagnation boundary surface 66 is at the specified height position as described above.
次に、図9乃至図11を参照して、ミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度、及びミストの供給開始前の浴槽装置2が使用される室内の温度のそれぞれの計測方法について説明する。
ミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度は、想定される水回り機器の形状に対応する箱状装置35により測定できる。箱状装置35は、想定される水回り機器の滞留空間の形状を模擬した仮想滞留空間34と、仮想滞留空間34の中央に配置され且つ温度を測定するK熱電対36とを備えている。
仮想滞留空間34は実際の滞留空間4の形状を模擬しつつもサイズを小さくして形成されている。仮想滞留空間の大きさ及び形状は、想定される水回り機器により決定され、浴槽装置2の場合の浴槽、浴室の洗い場床、シャワールーム、洗面台の場合の洗面シンク、キッチンの場合のキッチンシンク等の大きさ及び形状に対応するように決定される。仮想滞留空間34は、例えば、上面視で、短辺が120mm、長辺が300mmの長方形を形成し、正面視で、高さが120mm、長辺が300mmの直方体を形成する。箱状装置35の仮想滞留空間34は、天井面が省略されて開口されている。このような仮想滞留空間34の中心位置に、K熱電対36の感温部が配置され、仮想滞留空間34内の空気の温度を測定している。K熱電対36は、上面視で、短辺に沿う方向において側壁から内側に60mmの位置、且つ長辺に沿う方向において側壁から内側に150mmの位置、且つ高さ方向において底部から上方に60mmの位置に位置する。例えば、K熱電対の感温部サイズは、φ4.5mm×50mmとされている。K熱電対36は、温度ロガー(図示せず)に電気的に接続される。例えば、K熱電対36(アズワン社製型番L-TN-4-K)の測定データを温度ロガー(キーエンス社製NR-500シリーズNR-TH08)で測定、記録し、温度ロガーの情報をパソコンに記録する。なお、ミストを生じさせるもととなる水は水道水であり、ミストを生じさせるもととなる水の水質は水道水の水質に基づく。さらに、各計測方法(測定方法)が実施される室内においては、室内に空気の流れを生じさせるような空調等の風は供給されない状態である。
Next, referring to Figures 9 to 11, we will explain how to measure the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 and the temperature of the room in which the bathtub apparatus 2 is used before the supply of mist begins.
The temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 can be measured by a box-shaped device 35 that corresponds to the shape of the expected plumbing equipment. The box-shaped device 35 includes a virtual retention space 34 that simulates the shape of the retention space of the expected plumbing equipment, and a K-type thermocouple 36 that is placed in the center of the virtual retention space 34 and measures the temperature.
The virtual retention space 34 is formed to mimic the shape of the actual retention space 4 but at a smaller size. The size and shape of the virtual retention space are determined based on the anticipated plumbing equipment, such as a bathtub in the case of a bathtub apparatus 2, a bathroom wash area floor, a shower room, a washbasin in the case of a washbasin, or a kitchen sink in the case of a kitchen. For example, the virtual retention space 34 forms a rectangle with short sides of 120 mm and long sides of 300 mm when viewed from above, and a rectangular parallelepiped with a height of 120 mm and long sides of 300 mm when viewed from the front. The virtual retention space 34 of the box-shaped apparatus 35 is open, with its ceiling omitted. A temperature sensor of a K-type thermocouple 36 is positioned at the center of the virtual retention space 34 to measure the air temperature within the virtual retention space 34. The K thermocouple 36 is located 60 mm inward from the sidewall along the short side, 150 mm inward from the sidewall along the long side, and 60 mm above the bottom in the height direction, as viewed from above. For example, the temperature-sensing part of the K thermocouple measures 4.5 mm in diameter and 50 mm in length. The K thermocouple 36 is electrically connected to a temperature logger (not shown). For example, measurement data from the K thermocouple 36 (model L-TN-4-K, manufactured by AS ONE Corporation) is measured and recorded using a temperature logger (NR-TH08, manufactured by Keyence Corporation, NR-500 series), and the temperature logger information is recorded on a computer. The water used to generate the mist is tap water, and the quality of the water used to generate the mist is based on that of tap water. Furthermore, in the room where each measurement method is performed, no air conditioning or other ventilation that would create airflow within the room is supplied.
図12に示すように、ミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度は、本実施形態のミスト供給部10から箱状装置35内の仮想滞留空間34に対し、ミスト供給を開始した後、十分に時間が経過(例えば2500[s]経過)し、温度上昇がほぼ止まった際の最高温度であるミスト雰囲気温度T1(例えば43℃)により規定されている。
図12においては、縦軸は仮想滞留空間34内のK熱電対36が計測した温度(ミスト雰囲気温度)[℃]であり、横軸は計測開始からの経過時間[s]である。図12において、ミスト雰囲気温度の計測例が示されている。この計測例においては、開始時の室内の温度T0=-5℃、ミスト生成部8において生成された当初のミスト温度が60℃である。ミスト供給部10から滞留空間に供給されたミストの温度はやや低下された温度となっており、この温度をミスト雰囲気温度により測定する。ミスト供給が開始された後、時間経過とともに、仮想滞留空間34内の温度が上昇し、温度上昇がほぼ一定の値T1に収束される。ミスト供給部10からのミストの供給が継続している場合、仮想滞留空間34内のミストの温度が収束する値は、ミスト供給部10から仮想滞留空間34に供給されたミストの温度となる。よって、実際にミスト供給部10から滞留空間4に供給されるミストの温度は仮想滞留空間34において得られたミストの温度(ミスト雰囲気温度)となると想定される。
As shown in Figure 12, the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 is determined by the mist ambient temperature T1 (e.g., 43°C), which is the maximum temperature when the temperature rise has almost stopped after a sufficient amount of time (e.g., 2500 seconds) has passed since the mist supply unit 10 of this embodiment started to supply mist to the virtual retention space 34 in the box-shaped device 35.
In FIG. 12 , the vertical axis represents the temperature (mist ambient temperature) [°C] measured by the K thermocouple 36 in the virtual retention space 34, and the horizontal axis represents the elapsed time [s] from the start of measurement. FIG. 12 shows an example of a measurement of the mist ambient temperature. In this measurement example, the room temperature at the start is T0 = −5°C, and the initial mist temperature generated by the mist generation unit 8 is 60°C. The temperature of the mist supplied to the retention space from the mist supply unit 10 is slightly lowered, and this temperature is measured as the mist ambient temperature. After mist supply begins, the temperature in the virtual retention space 34 rises over time, and the temperature rise converges to a substantially constant value T1. If mist supply from the mist supply unit 10 continues, the value to which the temperature of the mist in the virtual retention space 34 converges is the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the virtual retention space 34. Therefore, it is assumed that the temperature of the mist actually supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 will be the temperature of the mist obtained in the virtual retention space 34 (mist ambient temperature).
次に、ミストの供給開始前の水回り機器が使用される室内の温度の計測方法について説明する。ミストの供給開始前の水回り機器が使用される室内の温度は、水回り機器が使用される室内のうち仮想滞留空間34の外側に配置された室温用K熱電対50により測定される。仮想滞留空間34の外側の室温用K熱電対50は、箱状装置35と同じ室内空間内に配置され、室内温度計測器24を模擬している。よって、室温用K熱電対50により測定された温度が室内温度計測器24が測定した室内の温度に対応する。仮想滞留空間等を用いたシミュレーション等においてはこの室温用K熱電対50により測定された温度を室内の温度として使用する。室温用K熱電対50は、仮想滞留空間34の頂部の高さに配置され、上面視で、短辺に沿う方向において側壁から外側に60mm離れた位置、且つ長辺に沿う方向において仮想滞留空間34の一端の側壁から内側方向に150mmの位置に位置する。室温用K熱電対50は、仮想滞留空間34の外側に延びる支持部38により仮想滞留空間34の外部で固定されている。水回り機器が使用される室内の温度は、ミスト供給が仮想滞留空間34に開始される前に、室温用K熱電対50により測定される。室温用K熱電対は、仮想滞留空間内のK熱電対36と同じK熱電対を使用している。室温用K熱電対50は、このような場所に限られず、ミスト生成部8の外側且つ近傍の位置に配置できる。また、室温用K熱電対50は、ミストの供給開始前の水回り機器が使用される室内の温度を測定できればよいので、仮想滞留空間34内に配置されたK熱電対36によりミストの供給開始前の仮想滞留空間34内の空気の温度を計測してもよい。 Next, we will explain how to measure the temperature in a room where a plumbing device is used before mist supply begins. The temperature in the room where the plumbing device is used before mist supply begins is measured by a room temperature K thermocouple 50 located outside the virtual retention space 34 within the room where the plumbing device is used. The room temperature K thermocouple 50 outside the virtual retention space 34 is located in the same indoor space as the box-shaped device 35 and simulates the indoor temperature measuring device 24. Therefore, the temperature measured by the room temperature K thermocouple 50 corresponds to the indoor temperature measured by the indoor temperature measuring device 24. In simulations using a virtual retention space, the temperature measured by this room temperature K thermocouple 50 is used as the indoor temperature. The room temperature K thermocouple 50 is located at the height of the top of the virtual retention space 34, 60 mm outward from the sidewall in the direction along the short side and 150 mm inward from the sidewall at one end of the virtual retention space 34 in the direction along the long side, when viewed from above. The room temperature K thermocouple 50 is fixed outside the virtual retention space 34 by a support portion 38 that extends outside the virtual retention space 34. The temperature of the room where the plumbing equipment is used is measured by the room temperature K thermocouple 50 before mist supply to the virtual retention space 34 begins. The room temperature K thermocouple is the same K thermocouple as the K thermocouple 36 inside the virtual retention space. The room temperature K thermocouple 50 is not limited to this location and can be placed in a position outside and near the mist generation unit 8. Furthermore, since the room temperature K thermocouple 50 only needs to measure the temperature of the room where the plumbing equipment is used before mist supply begins, the K thermocouple 36 placed inside the virtual retention space 34 may measure the air temperature inside the virtual retention space 34 before mist supply begins.
次に、図13を参照して、ミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度とミストの供給開始前の水回り機器が使用される室内の温度との温度差の範囲(図13中の点が付された領域により示す)について説明する。
上述のようにしてミスト供給部10から滞留空間4に供給されたミストの温度とミストの供給開始前の水回り機器が使用される室内の温度とが規定できる。よって、これらのミストの温度と室内の温度との温度差が規定できる。この温度差が0℃以上とされることにより、加熱後に調整されるミストの温度がミストの供給開始前の室温と同じ温度かより高い温度に設定される。
図13においては、縦軸においてミストの温度[℃]を示し、横軸において室内の温度[℃]を示している。さらに、ミストの温度と室内の温度との温度差が0℃となる線C1が示される。よって、温度差が0℃以上とされる範囲が線C1より上方に示される。また、図13には、ミストの温度と室内の温度との温度差が100℃となる線C2が示される。ミスト発生装置1のミスト生成部8及びミスト供給部10は、温度差が、0℃以上且つ100℃以下とされるように構成される。温度差が100℃までとなる比較的高温のミストの温度を設定できることにより、水回り機器の浴槽本体6の洗浄にミストを使用する時に、ミストの洗浄性や汚れを落としやすくする能力を向上させることができる。例えば、水が沸騰する温度に近い高温のミストを利用して比較的高い洗浄性能を奏することができる。なお、ミストは沸騰温度(例えば100℃)になると、水蒸気の態様に変化してミストの霧の粒が消失するので、ミスト供給部10から供給されたミスト温度は100℃以下とされる(線C5以下の領域により示す)。
Next, referring to Figure 13, we will explain the range of temperature difference (shown by the dotted area in Figure 13) between the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 and the temperature in the room where the plumbing equipment is used before the mist supply begins.
As described above, the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 to the retention space 4 and the room temperature where the plumbing equipment is used before the mist supply begins can be determined. Therefore, the temperature difference between these mist temperatures and the room temperature can be determined. By setting this temperature difference to 0°C or more, the temperature of the mist adjusted after heating can be set to the same temperature as or higher than the room temperature before the mist supply begins.
In Figure 13, the vertical axis represents the mist temperature (°C), and the horizontal axis represents the room temperature (°C). Furthermore, line C1 is shown where the temperature difference between the mist temperature and the room temperature is 0°C. Therefore, the range where the temperature difference is 0°C or more is shown above line C1. Figure 13 also shows line C2 where the temperature difference between the mist temperature and the room temperature is 100°C. The mist generation unit 8 and mist supply unit 10 of the mist generator 1 are configured to achieve a temperature difference between 0°C and 100°C. By being able to set a relatively high mist temperature, with a temperature difference of up to 100°C, the cleaning properties and dirt removal ability of the mist can be improved when using mist to clean the bathtub body 6 of a bathroom fixture. For example, relatively high cleaning performance can be achieved by using high-temperature mist close to the boiling point of water. Furthermore, when the mist reaches its boiling temperature (e.g., 100°C), it changes into water vapor and the mist droplets disappear, so the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 10 is kept below 100°C (shown by the area below line C5).
また、ミスト発生装置1のミスト生成部8及びミスト供給部10は、上記温度差が、0℃以上且つ60℃以下とされるように構成される。ミストの温度と室内の温度との温度差が60℃となる線C3が示される。温度差が60℃までとなるような比較的高温のミストの使用を抑制することにより、水回り機器の浴槽本体6の洗浄にミストを使用する時に、火傷する可能性をより低減しつつもミストの洗浄性を向上させることができる。 Furthermore, the mist generation unit 8 and mist supply unit 10 of the mist generator 1 are configured so that the temperature difference is between 0°C and 60°C. Line C3 is shown where the temperature difference between the mist temperature and the room temperature is 60°C. By limiting the use of relatively high-temperature mist that results in a temperature difference of up to 60°C, the cleaning properties of the mist can be improved while further reducing the risk of burns when using mist to clean the bathtub body 6 of a plumbing appliance.
また、ミスト発生装置1のミスト生成部8及びミスト供給部10は、上記温度差が、0℃以上且つ45℃以下とされるように構成される。ミストの温度と室内の温度との温度差が45℃となる線C4が示される。温度差が45℃までに比較的低温のミストを使用することにより、水回り機器の使用者がミストにより火傷する可能性をほぼなくすことができる。 Furthermore, the mist generation unit 8 and mist supply unit 10 of the mist generator 1 are configured so that the temperature difference is between 0°C and 45°C. Line C4 is shown, where the temperature difference between the mist temperature and the room temperature is 45°C. By using a relatively low-temperature mist with a temperature difference of up to 45°C, the possibility of users of plumbing equipment being burned by the mist can be virtually eliminated.
また、図13において、ミストの温度が、35度以上(線D1により示す)且つ45度以下(線D2により示す)に設定されれば、使用者の体温程度又は体温より温かい温度に設定しつつ、使用者がミストにより火傷する可能性をほぼなくすことができる。 Furthermore, in Figure 13, if the mist temperature is set to 35 degrees or higher (indicated by line D1) and 45 degrees or lower (indicated by line D2), the temperature can be set to about the user's body temperature or warmer, while almost eliminating the possibility of the user being burned by the mist.
次に、図14を参照して、ミスト供給部10から供給されるミストの粒径の計測装置及び計測方法について説明する。
ミストの粒径の計測装置37は、前述と同じ大きさ及び形状の仮想滞留空間34を設定する箱状装置39と、粒子径分布測定装置53とを備えている。この箱状装置39の側壁、すなわち仮想滞留空間34の側方の壁の中央近傍に、20mm×20mmの正方形の開口52を形成し、この開口52に蓋55が取り付けられている。
Next, a device and a method for measuring the particle size of the mist supplied from the mist supply unit 10 will be described with reference to FIG.
The mist particle size measuring device 37 includes a box-shaped device 39 that sets up a virtual retention space 34 of the same size and shape as described above, and a particle size distribution measuring device 53. A square opening 52 measuring 20 mm x 20 mm is formed in the side wall of this box-shaped device 39, i.e., near the center of the side wall of the virtual retention space 34, and a lid 55 is attached to this opening 52.
図15に示すように、粒子径分布測定装置53は、開口52の近傍且つ正面に粒径計測レーザーの計測領域Eが位置するように配置された粒径計測レーザー54を備えている。上面視で、粒径計測レーザー54のレーザー光が仮想滞留空間34の長辺と平行になるように粒径計測レーザー54が配置されている。粒径計測レーザー54から発信されるレーザー光が通過する計測領域Eが開口52の正面に位置している。計測領域Eは、開口52から150mmの距離に位置する。粒子径分布測定装置53は、さらに、このレーザー光の回折・散乱光を検出するように計測レンズ56を備えている。 As shown in FIG. 15, the particle size distribution measuring device 53 is equipped with a particle size measuring laser 54 arranged so that the measurement region E of the particle size measuring laser is located near and in front of the opening 52. When viewed from above, the particle size measuring laser 54 is arranged so that the laser light from the particle size measuring laser 54 is parallel to the long side of the virtual retention space 34. The measurement region E, through which the laser light emitted from the particle size measuring laser 54 passes, is located in front of the opening 52. The measurement region E is located 150 mm from the opening 52. The particle size distribution measuring device 53 further includes a measurement lens 56 to detect the diffracted and scattered light of this laser light.
この開口に蓋55を取付けた状態で、仮想滞留空間34内にミストの供給を開始する。ミスト供給部10からのミストの供給口は図示を省略している。ミストの供給開始から1分後に蓋55を開放し、ミストを粒径計測レーザー54の計測領域Eに向けて漏出させる。粒径計測レーザー54の透過率60%~90%の状態で計測レンズ56により散乱光分布を計測する。例えば、粒径計測レーザー54及び計測レンズ56は、マイクロトラック・ベル株式会社製のスプレー粒子径分布測定装置のエアロトラック LDSA-SPRシリーズのLDSA-SPR1500Aを使用する。粒子径分布データを10回測定し、この粒子径分布データをPCに記録する。PCにおいて10回の粒子径分布データを平均化する。図16には、粒子径分布測定装置53により測定された粒子径分布データの一例を示す。図16においては、左側縦軸において頻度[%]を示し、右側縦軸において累積[%]を示し、横軸において粒径[μm]を示している。例えば、PCは、このように得られた粒子径分布データを分析し、この粒子径分布データの20%タイル値粒径G、ザウター平均粒径Hを粒径データとして取得する。ザウター平均粒径は、全粒子の全表面積に対する全粒子の全体積と同じ表面積対体積率を有する粒径を示す。ザウター平均粒径により平均粒径をもとめることにより少ない数の大粒径を有する粒子による測定値への影響を抑制できる。 With the lid 55 attached to this opening, mist begins to be supplied into the virtual retention space 34. The mist supply port from the mist supply unit 10 is not shown. One minute after the mist supply begins, the lid 55 is opened, allowing the mist to leak toward the measurement area E of the particle size measurement laser 54. The scattered light distribution is measured using the measurement lens 56 with the particle size measurement laser 54 having a transmittance of 60% to 90%. For example, the particle size measurement laser 54 and measurement lens 56 are the LDSA-SPR1500A, an Aerotrac LDSA-SPR series spray particle size distribution measurement device manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd. Particle size distribution data is measured 10 times and recorded on a PC. The 10 particle size distribution data are averaged on the PC. Figure 16 shows an example of particle size distribution data measured by the particle size distribution measurement device 53. In Figure 16, the left vertical axis represents frequency [%], the right vertical axis represents cumulative [%], and the horizontal axis represents particle size [μm]. For example, the PC analyzes the particle size distribution data obtained in this way and obtains the 20th percentile particle size G and Sauter mean particle size H of this particle size distribution data as particle size data. The Sauter mean particle size indicates the particle size having the same surface area to volume ratio as the total volume of all particles relative to the total surface area of all particles. By determining the average particle size using the Sauter mean particle size, the influence of a small number of large particle sizes on the measurement value can be suppressed.
ミスト供給部10から供給されるミストの大部分の粒径は、3.1μm以上且つ40μm以下となるように、ミスト生成部8等が構成される。この範囲の上限及び下限において、少ない数の大粒径の粒子や小粒径の粒子の測定に与える影響等を受けにくくするため、ミストのザウター平均粒径が、40μm以下であると共に、ミストのザウター平均粒径が、3.1μm以上とされる、このような条件を満たすようにミストの粒径を規定している。
ミスト供給部10から供給されるミストの大部分の粒径は、3.6μm以上且つ20μm以下となるように、ミスト生成部8等が構成される。この範囲の上限及び下限において、少ない数の大粒径の粒子や小粒径の粒子の測定に与える影響等を受けにくくするため、ミストのザウター平均粒径とザウター平均粒径との平均値が、3.6μm以上であると共に、ミスト供給部から供給されるミストのザウター平均粒径が、20μm以下とされる、このような条件を満たすようにミストの粒径を規定している。
ミスト供給部10から供給されるミストの大部分の粒径は、4.1μm以上且つ10μm以下となるように、ミスト生成部8等が構成される。この範囲の上限及び下限において、少ない数の大粒径の粒子や小粒径の粒子の影響等を受けにくくするため、ミストのザウター平均粒径が、4.1μm以上であり且つ10μm以下とされる、このような条件を満たすようにミストの粒径を規定している。
The mist generating unit 8 and other components are configured so that the particle size of the majority of the mist supplied from the mist supply unit 10 is 3.1 μm or more and 40 μm or less. To minimize the effects on measurement of a small number of large particles and small particles at the upper and lower limits of this range, the particle size of the mist is specified to satisfy the conditions that the Sauter mean particle size of the mist is 40 μm or less and the Sauter mean particle size of the mist is 3.1 μm or more.
The mist generating unit 8 and other components are configured so that the particle size of the majority of the mist supplied from the mist supply unit 10 is 3.6 μm or more and 20 μm or less. To minimize the effects on measurement of a small number of large-diameter particles and small-diameter particles at the upper and lower limits of this range, the particle size of the mist is specified to satisfy the conditions that the average of the Sauter mean particle size and the Sauter mean particle size of the mist is 3.6 μm or more and the Sauter mean particle size of the mist supplied from the mist supply unit is 20 μm or less.
The mist generating unit 8 and other components are configured so that the particle size of the majority of the mist supplied from the mist supply unit 10 is 4.1 μm or more and 10 μm or less. To reduce the influence of a small number of large-diameter particles or small-diameter particles at the upper and lower limits of this range, the particle size of the mist is specified to satisfy the condition that the Sauter mean particle size of the mist is 4.1 μm or more and 10 μm or less.
次に、図17を参照して、温度差と粒径との関係を説明する。
図17においては、縦軸において粒径[μm]を示し、横軸において温度差ΔT[℃]を示している。これらの粒径と温度差ΔTとの好ましい範囲を図17において点状の領域により示している。ミスト生成部8及びミスト供給部10により、ミストの温度と室内の温度との温度差が0℃以上且つ100℃以下となる範囲において所定の温度差が設定できる。上述同様に、温度差は0℃以上且つ60℃以下、0℃以上且つ45℃以下等に変更可能である。
Next, the relationship between the temperature difference and the particle size will be described with reference to FIG.
In Figure 17, the vertical axis represents particle size [µm], and the horizontal axis represents temperature difference ΔT [°C]. The preferred ranges for particle size and temperature difference ΔT are indicated by dotted areas in Figure 17. The mist generation unit 8 and mist supply unit 10 can set a predetermined temperature difference between the mist temperature and the room temperature in a range of 0°C or more and 100°C or less. As described above, the temperature difference can be changed to 0°C or more and 60°C or less, 0°C or more and 45°C or less, etc.
ミストのザウター平均粒径が、40μm以下となるように、ミスト生成部8及びミスト供給部10が構成されている。よってミストの大部分の粒径が40μm以下となっている。
なお、仮にミストの粒径が40μmである場合には、終端速度vは45.3mm/sと求められる。水滴の終端速度vの算定方法については、次のように表すことができる。空気の分子粘性係数をμ、水滴の半径(ミストの粒径の半分)をrとすると、ρ=103kg/m-3、g=9.8m/s2、μ=1.8X10-5N・sec/m2(15℃)より、
となり、終端速度v(∞)は水滴の半径の2乗に比例する。なお、この式が適用できる範囲は、Re<1、すなわちr<0.1mmの範囲である。
ミストの粒径が40μmであることによりミストの終端速度が45.3mm/sとなる場合、供給されたミストはおよそ10秒で滞留空間の底部に到達(例えばミスト供給部10から滞留空間4の底部まで45cmとする)し、ミストが消失すると仮定される。すなわちミストの供給から消失まで少なくとも10秒前後ミストが滞留することになる。このように10秒前後ミストが滞留すれば、この間にさらに新しくミストが供給でき、ミストの滞留層Cが維持しやすくなる。図17において、ザウター平均粒径が40μmよりも大きくなる場合には、ミストの消失までの平均時間がより短くなるため、ミストの消失によりミストの滞留層が形成されにくくなる。
The mist generating unit 8 and the mist supplying unit 10 are configured so that the Sauter mean particle size of the mist is 40 μm or less. Therefore, the particle size of most of the mist is 40 μm or less.
If the mist particle size is 40 μm, the terminal velocity v is calculated as 45.3 mm/s. The method for calculating the terminal velocity v of the water droplets can be expressed as follows. If the molecular viscosity coefficient of air is μ and the radius of the water droplet (half the mist particle size) is r, then ρ = 103 kg/m -3 , g = 9.8 m/s 2 , μ = 1.8X10 -5 N・sec/m 2 (15°C),
The terminal velocity v(∞) is proportional to the square of the radius of the water droplet. Note that this formula is applicable to the range Re<1, i.e., r<0.1 mm.
If the mist particle size is 40 μm and the terminal velocity of the mist is 45.3 mm/s, it is assumed that the supplied mist reaches the bottom of the retention space in approximately 10 seconds (for example, the distance from the mist supply unit 10 to the bottom of the retention space 4 is 45 cm) and disappears. In other words, the mist will remain for at least 10 seconds from the time of supply until it disappears. If the mist remains for approximately 10 seconds in this manner, new mist can be supplied during this time, making it easier to maintain the mist retention layer C. In Figure 17, when the Sauter mean particle size is greater than 40 μm, the average time until the mist disappears becomes shorter, making it more difficult for a mist retention layer to form due to the disappearance of the mist.
ミストのザウター平均粒径が、20μm以下となるように、ミスト生成部8及びミスト供給部10が構成されてもよい。このときミストの大部分の粒径が20μm以下となっている。仮にミストの粒径が20μmである場合には、終端速度vは11.3mm/sと求められ、供給されたミストが滞留空間の底部に到達するまでに少なくともおよそ40秒を要することになり、滞留空間4の底へ比較的早期に落下するミストの割合をより減少できる。 The mist generation unit 8 and mist supply unit 10 may be configured so that the Sauter mean particle size of the mist is 20 μm or less. In this case, the particle size of the majority of the mist is 20 μm or less. If the mist particle size is 20 μm, the terminal velocity v is calculated to be 11.3 mm/s, and it will take at least approximately 40 seconds for the supplied mist to reach the bottom of the retention space 4, further reducing the proportion of mist that falls to the bottom of the retention space 4 relatively quickly.
ミストのザウター平均粒径が、10μm以下となるように、ミスト生成部8及びミスト供給部10が構成されてもよい。このときミストの大部分の粒径が10μm以下となっている。仮にミストの粒径が10μmである場合には、終端速度vは2.8mm/sと求められ、供給されたミストが滞留空間4の底部に到達するまでに少なくともおよそ160秒を要することになり、滞留空間4内に滞留されるミストの継続時間をより長くでき、滞留空間4の底へ比較的早期に落下するミストの割合をさらに減少できる。 The mist generation unit 8 and mist supply unit 10 may be configured so that the Sauter mean particle size of the mist is 10 μm or less. In this case, the particle size of the majority of the mist is 10 μm or less. If the mist particle size is 10 μm, the terminal velocity v is calculated to be 2.8 mm/s, and it will take at least approximately 160 seconds for the supplied mist to reach the bottom of the retention space 4. This allows the mist to remain in the retention space 4 for a longer period of time, and further reduces the proportion of mist that falls to the bottom of the retention space 4 relatively quickly.
ミストのザウター平均粒径が、3.1μm以上となるように、ミスト生成部8及びミスト供給部10が構成されてもよい。このときミストの大部分の粒径が3.1μm以上となっている。ミスト供給部10から供給されたミストの内、滞留空間4内に滞留されずに滞留空間4外へ拡散するミストの割合を減少できるとともにミストが滞留空間4内に滞留される割合を増加させ、ミストが滞留空間4内に効率的に滞留される。 The mist generation unit 8 and the mist supply unit 10 may be configured so that the Sauter mean particle size of the mist is 3.1 μm or more. In this case, the particle size of the majority of the mist is 3.1 μm or more. This reduces the proportion of mist supplied from the mist supply unit 10 that diffuses outside the retention space 4 without being retained within the retention space 4, while increasing the proportion of mist that is retained within the retention space 4, allowing the mist to be retained efficiently within the retention space 4.
ミストのザウター平均粒径が、3.6μm以上となるように、ミスト生成部8及びミスト供給部10が構成されてもよい。このときミストの大部分の粒径が3.6μm以上となっている。ミスト供給部10から供給されたミストの内、滞留空間4内に滞留されずに滞留空間4外へ拡散するミストの割合をより減少できるとともにミストが滞留空間4内に滞留される割合をより増加させ、ミストが滞留空間4内により効率的に滞留される。 The mist generation unit 8 and the mist supply unit 10 may be configured so that the Sauter mean particle size of the mist is 3.6 μm or more. In this case, the particle size of the majority of the mist is 3.6 μm or more. This further reduces the proportion of mist supplied from the mist supply unit 10 that is not retained within the retention space 4 and diffuses outside the retention space 4, while further increasing the proportion of mist that is retained within the retention space 4, allowing the mist to be retained more efficiently within the retention space 4.
ミストのザウター平均粒径が、4.1μm以上となるように、ミスト生成部8及びミスト供給部10が構成されてもよい。このときミストの大部分の粒径が4.1μm以上となっている。ミスト供給部10から供給されたミストの内、滞留空間4内に滞留されずに滞留空間4外へ拡散するミストの割合をさらに減少できるとともにミストが滞留空間4内に滞留される割合をさらに増加させ、ミストが滞留空間4内にさらに効率的に滞留される。 The mist generation unit 8 and the mist supply unit 10 may be configured so that the Sauter mean particle size of the mist is 4.1 μm or more. In this case, the particle size of the majority of the mist is 4.1 μm or more. This further reduces the proportion of mist supplied from the mist supply unit 10 that diffuses outside the retention space 4 without being retained within the retention space 4, and further increases the proportion of mist that is retained within the retention space 4, allowing the mist to be retained more efficiently within the retention space 4.
次に、図18及び図19を参照して、温度差と、粒径と、仮想滞留空間58内のミストの状態との関係を、さらに説明する。図18は、仮想滞留空間内の状態を観察する箱状観察装置を示している。図19においては、温度差と、ザウター平均粒径との9通りの組み合わせについて、仮想滞留空間58内のミストの状態を、比較して示している。 Next, the relationship between temperature difference, particle size, and the state of mist within the virtual retention space 58 will be further explained with reference to Figures 18 and 19. Figure 18 shows a box-shaped observation device for observing the state within the virtual retention space. Figure 19 compares the state of mist within the virtual retention space 58 for nine combinations of temperature difference and Sauter mean particle size.
図19に示すように、仮想滞留空間58内のミストの状態は、想定される水回り機器の形状に対応する箱状観察装置55により測定できる。箱状観察装置55は、想定される水回り機器の滞留空間の形状を模擬した仮想滞留空間58と、仮想滞留空間58内のミストの様子を観察、記録するカメラ62とを備えている。図18に示すように、箱状観察装置55の仮想滞留空間58は、斜視図で、短辺が120mm、長辺が300mm、高さが240mmの直方体を形成する。仮想滞留空間58は、天井面が省略されて上方に開口されている。箱状観察装置55の仮想滞留空間58の1つの側壁は透明板60により形成され、箱状観察装置55の斜め上方に配置されたカメラ62により仮想滞留空間58の内部を観察、記録できるようになっている。箱状観察装置55の仮想滞留空間58の短辺側の側壁の高さ120mmの位置に横幅70mm、高さ40mmの供給口64が形成されている。この供給口64がミスト供給部10に接続されている。 As shown in Figure 19, the state of mist within a virtual retention space 58 can be measured using a box-shaped observation device 55 that corresponds to the shape of the expected plumbing equipment. The box-shaped observation device 55 is equipped with a virtual retention space 58 that simulates the shape of the retention space of the expected plumbing equipment, and a camera 62 that observes and records the state of the mist within the virtual retention space 58. As shown in Figure 18, the virtual retention space 58 of the box-shaped observation device 55 forms a rectangular parallelepiped with short sides of 120 mm, long sides of 300 mm, and a height of 240 mm in a perspective view. The virtual retention space 58 is open upward, with no ceiling surface. One side wall of the virtual retention space 58 of the box-shaped observation device 55 is formed by a transparent plate 60, and the interior of the virtual retention space 58 can be observed and recorded using a camera 62 positioned diagonally above the box-shaped observation device 55. A supply port 64 measuring 70 mm in width and 40 mm in height is formed at a position 120 mm high on the side wall on the short side of the virtual retention space 58 of the box-shaped observation device 55. This supply port 64 is connected to the mist supply unit 10.
図19においては、ミスト供給部10から所定の粒径及び温度差を生じるミストを供給し、滞留状態をカメラ62により撮影した写真を9つのパターンで比較して示している。各パターンの写真図において、参考として滞留境界面が生じると想定される位置を、点線により示している。
図19においては、縦軸にミスト供給部10から供給されるミストのザウター平均粒径を示し、横軸に、ミストの温度と室内の温度との温度差ΔTを示している。
図19のパターン例Aにおいては、ミストのザウター平均粒径が50μm~60μm、且つ温度差5℃(ミストの温度20℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において比較的早く底部に向けて落下し、消失するため、ミストが仮想滞留空間58内に滞留していない状態となっている。この写真の撮影のタイミングはミストの供給開始後2分を経過した時刻である。よって、仮想滞留空間58内において上面に滞留境界面66を形成するようなミストの滞留層Cは形成されていない。
19, mist with a predetermined particle size and temperature difference is supplied from the mist supply unit 10, and photographs of the stagnation state taken by the camera 62 are shown for comparison in nine patterns. In the photographs of each pattern, the position where the stagnation boundary surface is expected to occur is indicated by a dotted line for reference.
In FIG. 19, the vertical axis indicates the Sauter mean particle diameter of the mist supplied from the mist supply unit 10, and the horizontal axis indicates the temperature difference ΔT between the temperature of the mist and the temperature inside the room.
In pattern example A of Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 50 μm to 60 μm and the temperature difference is 5°C (mist temperature 20°C and room temperature before mist supply begins 15°C), the mist supplied from mist supply unit 10 falls relatively quickly to the bottom within virtual retention space 58 and disappears, resulting in no mist remaining within virtual retention space 58. This photograph was taken two minutes after mist supply began. Therefore, no mist retention layer C has been formed within virtual retention space 58, forming retention boundary surface 66 on its upper surface.
図19のパターン例Bにおいては、ミストのザウター平均粒径が50μm~60μm、且つ温度差25℃(ミストの温度40℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において比較的早く底部に向けて落下し、消失するため、ミストが仮想滞留空間58内に滞留していない状態となっている。
図19のパターン例Cにおいても、ミストのザウター平均粒径が50μm~60μm、且つ温度差45℃(ミストの温度60℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において比較的早く底部に向けて落下し、消失するため、ミストが仮想滞留空間58内に滞留していない状態となっている。
In pattern example B of Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 50 μm to 60 μm and the temperature difference is 25°C (mist temperature 40°C and room temperature before mist supply starts 15°C), the mist supplied from the mist supply unit 10 falls relatively quickly to the bottom within the virtual retention space 58 and disappears, so the mist does not remain within the virtual retention space 58.
In pattern example C of Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 50 μm to 60 μm and the temperature difference is 45°C (mist temperature 60°C and room temperature before mist supply starts 15°C), the mist supplied from the mist supply unit 10 falls relatively quickly to the bottom within the virtual retention space 58 and disappears, so the mist does not remain within the virtual retention space 58.
図19のパターン例Dにおいては、ミストのザウター平均粒径が4μm~8μm、且つ温度差5℃(ミストの温度20℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において濃度はやや薄いながらも滞留層Cを形成している状態となっている。ミストの粒径が比較的小さいため、終端速度も比較的小さく、落下速度は遅くなっている。一方で、温度差により生じる上昇気流も小さい。これにより、ミストが滞留しながら、仮想滞留空間58内において上面に滞留境界面66を形成するようなミストの滞留層が形成されている。 In pattern example D in Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 4 μm to 8 μm and the temperature difference is 5°C (mist temperature 20°C and room temperature before mist supply begins 15°C), the mist supplied from the mist supply unit 10 forms a stagnation layer C in the virtual retention space 58, although the concentration is somewhat low. Because the mist particle size is relatively small, the terminal velocity is also relatively small and the falling speed is slow. Meanwhile, the updraft caused by the temperature difference is also small. As a result, the mist stagnates and forms a stagnation layer in the virtual retention space 58, forming a stagnation boundary surface 66 on its upper surface.
図19のパターン例Eにおいては、ミストのザウター平均粒径が4μm~8μm、且つ温度差25℃(ミストの温度40℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において濃度の高い滞留層Cを形成している状態となっている。ミストの粒径が比較的小さいため、終端速度も比較的小さく、落下速度は遅くなっている。温度差により生じる上昇気流も若干生じている。ここで、温度差によって生じる上昇気流がミストを上昇させようとする力がミストの重さを超えないようにしつつも、ミストの落下を抑制してミストの滞留が比較的長く生じている。よって、仮想滞留空間58内において上面に滞留境界面66を形成するようなミストの滞留層Cが形成されている。 In pattern example E in Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 4 μm to 8 μm and the temperature difference is 25°C (mist temperature 40°C and room temperature before mist supply begins 15°C), the mist supplied from the mist supply unit 10 forms a highly concentrated stagnation layer C within the virtual retention space 58. Because the mist particle size is relatively small, the terminal velocity is also relatively low and the fall speed is slow. A slight updraft is also generated due to the temperature difference. Here, the force of the updraft caused by the temperature difference to lift the mist does not exceed the weight of the mist, while suppressing the fall of the mist and causing the mist to remain stagnate for a relatively long time. Therefore, a stagnation layer C of mist is formed within the virtual retention space 58, forming a stagnation boundary surface 66 on its upper surface.
図19のパターン例Fにおいては、ミストのザウター平均粒径が4μm~8μm、且つ温度差45℃(ミストの温度60℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部から供給されたミストが仮想滞留空間58内において濃度の高い滞留層Cを形成している状態となっている。ミストの粒径が比較的小さいため、終端速度も比較的小さく、落下速度は遅くなっている。さらに、温度差により生じる上昇気流が温度差25℃の場合と比べてやや強まっている。しかしながら、依然として、温度差によって生じる上昇気流がミストを上昇させようとする力がミストの重さを超えないようになっており、ミストの落下を抑制してミストの滞留が比較的長く生じている。上昇気流がやや強くなっているため、局所的にミストが滞留層Cから浮き上がるような状態となっている部分があるが、全体としてはミストの滞留層Cが引き続き維持されている。よって、仮想滞留空間58内において上面に滞留境界面66を形成するようなミストの滞留層が形成されている。局所的にミストが上昇している部分があったとしても仮想滞留空間58の半分以上の領域において滞留境界面66が維持されている場合には、滞留境界面66が形成されているとする。 In pattern example F in Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 4 μm to 8 μm and the temperature difference is 45°C (mist temperature 60°C and room temperature before mist supply begins 15°C), the mist supplied from the mist supply unit forms a highly concentrated stagnation layer C within the virtual retention space 58. Because the mist particle size is relatively small, the terminal velocity is also relatively small, and the fall speed is slow. Furthermore, the updraft caused by the temperature difference is slightly stronger than when the temperature difference is 25°C. However, the force of the updraft caused by the temperature difference to lift the mist still does not exceed the weight of the mist, suppressing the fall of the mist and causing the mist to remain stagnant for a relatively long time. Because the updraft is somewhat stronger, there are areas where the mist appears to float up from the stagnation layer C, but overall the stagnation layer C of mist continues to be maintained. Therefore, a stagnation layer of mist is formed within the virtual retention space 58, forming a stagnation boundary surface 66 on its upper surface. Even if there are areas where the mist is rising locally, if the retention boundary surface 66 is maintained over more than half of the virtual retention space 58, it is considered that the retention boundary surface 66 is formed.
図19のパターン例Gにおいては、ミストのザウター平均粒径が1.2μm、且つ温度差5℃(ミストの温度20℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において浮き上がるように拡散している状態となっている。温度差により生じる上昇気流は比較的小さい。しかしながら、ミストの粒径がさらに小さいため、終端速度がさらに小さく、落下速度はさらに遅くなっている。よって、ミストの重さが軽く、わずかな上昇気流により拡散している。よって、仮想滞留空間58内において上面に滞留境界面66を形成するようなミストの滞留層Cは形成されていない。
図19のパターン例Hにおいては、ミストのザウター平均粒径が1.2μm、且つ温度差25℃(ミストの温度40℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において浮き上がるように拡散している状態となっている。ミストの粒径がさらに小さいため、終端速度もさらに小さく、落下速度はさらに遅くなっている。その上、温度差により生じる上昇気流がさらに強くなっている。よって、ミストの重さが軽く、より強い上昇気流により拡散している。よって、仮想滞留空間58内において上面に滞留境界面66を形成するようなミストの滞留層Cは形成されていない。
図19のパターン例Iにおいては、ミストのザウター平均粒径が1.2μm、且つ温度差45℃(ミストの温度60℃且つミストの供給開始前の室内の温度15℃)のとき、ミスト供給部10から供給されたミストが仮想滞留空間58内において浮き上がるように拡散している状態となっている。ミストの粒径がさらに小さいため、終端速度もさらに小さく、落下速度はさらに遅くなっている。その上、温度差により生じる上昇気流がさらに強くなっている。よって、ミストの重さが軽く、さらに強い上昇気流により拡散している。よって、仮想滞留空間58内において上面に滞留境界面を形成するようなミストの滞留層Cは形成されていない。
In pattern example G of Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 1.2 μm and the temperature difference is 5°C (mist temperature 20°C and room temperature before mist supply begins 15°C), the mist supplied from the mist supply unit 10 diffuses and floats up within the virtual retention space 58. The updraft caused by the temperature difference is relatively small. However, because the mist particle size is even smaller, the terminal velocity is even smaller and the falling speed is even slower. Therefore, the mist is light in weight and diffuses with a slight updraft. Therefore, no mist stagnation layer C is formed within the virtual retention space 58, forming a retention boundary surface 66 on its upper surface.
In pattern example H of Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 1.2 μm and the temperature difference is 25°C (mist temperature 40°C and room temperature before mist supply begins 15°C), the mist supplied from the mist supply unit 10 diffuses and floats up within the virtual retention space 58. Because the mist particle size is even smaller, the terminal velocity is also smaller and the falling speed is even slower. Furthermore, the updraft caused by the temperature difference is even stronger. Therefore, the mist is lighter and is diffused by the stronger updraft. Therefore, a mist stagnation layer C that forms a retention boundary surface 66 on the upper surface is not formed within the virtual retention space 58.
In pattern example I of Figure 19, when the Sauter mean particle size of the mist is 1.2 µm and the temperature difference is 45°C (mist temperature 60°C and room temperature before mist supply begins 15°C), the mist supplied from the mist supply unit 10 diffuses and floats up within the virtual retention space 58. Because the mist particle size is even smaller, the terminal velocity is even smaller and the falling speed is even slower. Furthermore, the updraft caused by the temperature difference is even stronger. Therefore, the mist is lighter and is diffused by the even stronger updraft. Therefore, a mist stagnation layer C that forms a retention boundary surface on the upper surface is not formed within the virtual retention space 58.
次に、図20を参照して、浴槽本体6内の滞留空間4(又は仮想滞留空間等)において、ミストが滞留状態となっているか(上面に滞留境界面66を形成するようなミストの滞留層Cを形成しているか)否かの判定装置及びその判定方法について説明する。
図20に示すように、透過率の測定装置68を用いて浴槽本体6内の滞留空間4内部において測定された内部透過率と、滞留空間4外部において測定された外部透過率と、を比較し、外部透過率よりも内部透過率が低い場合に、滞留空間4内部にミストが滞留していると判定できる。より具体的には、内部透過率/外部透過率<1となることにより滞留空間4内部にミストが滞留していると判定される。
Next, referring to Figure 20, we will explain a device and method for determining whether mist is in a stagnant state (whether a mist stagnant layer C has formed on the upper surface that forms a stagnant boundary surface 66) in the stagnant space 4 (or virtual stagnant space, etc.) within the bathtub body 6.
20, the internal transmittance measured inside the retention space 4 in the bathtub body 6 using a transmittance measuring device 68 is compared with the external transmittance measured outside the retention space 4. If the internal transmittance is lower than the external transmittance, it can be determined that mist is accumulating inside the retention space 4. More specifically, if the internal transmittance/external transmittance is less than 1, it can be determined that mist is accumulating inside the retention space 4.
例えば、図19のパターン例Eに示すように、滞留空間4内部にミストが滞留している状態では、内部透過率が低下する。一方で、ミストは主に滞留空間4内部に留まっており、滞留境界面66より上方において測定される外部透過率は、比較的高い値となっている。よって、内部透過率/外部透過率<1となり、滞留空間4内部にミストが滞留していると判定される。
図19のパターン例Aに示すように、滞留空間4内部にミストが滞留せず、ミストが主に落下して消失している状態では、内部透過率及び外部透過率は、いずれも比較的高い値のままである。よって、内部透過率/外部透過率=1となり、滞留空間4内部にミストが滞留していると判定されない。
図19のパターン例Iに示すように、滞留空間4内部から外部にミストが拡散していく状態では、内部透過率及び外部透過率は、いずれも透過率がやや低い同様の値となると考えられる。よって、内部透過率/外部透過率=1となり、滞留空間4内部にミストが滞留していると判定されない。
For example, as shown in pattern example E in Fig. 19, when mist is retained inside the retention space 4, the internal transmittance decreases. On the other hand, the mist mainly remains inside the retention space 4, and the external transmittance measured above the retention boundary surface 66 is relatively high. Therefore, the internal transmittance/external transmittance is less than 1, and it is determined that mist is retained inside the retention space 4.
19, when the mist does not remain inside the retention space 4 and the mist mainly falls and disappears, both the internal transmittance and the external transmittance remain relatively high. Therefore, the internal transmittance/external transmittance = 1, and it is not determined that the mist is remaining inside the retention space 4.
19, when mist diffuses from the inside of the retention space 4 to the outside, the internal transmittance and external transmittance are both considered to be similar values with slightly low transmittance. Therefore, the internal transmittance/external transmittance ratio is 1, and it is not determined that mist is retained inside the retention space 4.
次に、図20を参照して、透過率の測定装置68について説明する。
透過率の測定装置68は、滞留空間4内部に配置された第1レーザー装置70と、レーザーを受ける第1透過率計測装置72とを備えている。第1レーザー装置70と、第1透過率計測装置72とは、滞留空間4の上端より下方側に150mmの位置(例えば滞留空間4の深さに対して3割程度の深さ位置)において水平方向に150mm離れて配置されている。第1レーザー装置70と、第1透過率計測装置72とは、上面視で滞留空間4の中央近傍に配置される。第1レーザー装置70から発振されるレーザー光の強度に対し、第1透過率計測装置72で測定したレーザー光の強度を測定し、透過率を測定する。
透過率の測定装置68は、さらに、滞留空間4外部に配置された第2レーザー装置74と、レーザーを受ける第2透過率計測装置76とを備えている。第2レーザー装置74と、第2透過率計測装置76とは、滞留空間4の上端より上方側に150mmの位置(例えば滞留空間4の上端に対して。第1レーザー装置70及び第1透過率計測装置72と対称の位置)において水平方向に150mm離れて配置されている。第1レーザー装置70と、第1透過率計測装置72とは、上面視で滞留空間4の中央近傍に配置される。第2レーザー装置74から発振されるレーザー光の強度に対し、第2透過率計測装置76で測定したレーザー光の強度を測定し、透過率を測定する。なお、透過率の測定装置68は、滞留空間4内部に第1レーザー装置70と、第1透過率計測装置72とを配置しているが、滞留空間4に代えて上述のような仮想滞留空間内にこれらの装置を配置して仮想的に透過率の予想測定を行ってもよい。このときには、仮想滞留空間の外部に第2レーザー装置74と第2透過率計測装置76とが配置される。
より具体的な装置構成としては、キーエンス社製デジタルファイバアンプFS-N11MNから発せられたレーザー光を同社製FU-77TZ(第1レーザー装置70又は第2レーザー装置74)を通して発振し、同社製FU-77TZ(第1透過率計測装置72又は第2透過率計測装置76)にて受光する。受光した光はファイバアンプFS-N11MNへと返され、光量に応じて例えば1-5Vの電圧出力を行う。出力された電圧は、同社製NR-500シリーズNR-HA08にて計測し、PC上で0~100%の値にスケーリングする。透過率のデータは例えばサンプリング周期100msにて計測される。例えば、ミストをほぼ定量で供給開始してから15分以内において、最初に定常状態と判断できる30秒間の透過率のデータを平均して算出する。
Next, the transmittance measuring device 68 will be described with reference to FIG.
The transmittance measuring device 68 includes a first laser device 70 disposed inside the retention space 4 and a first transmittance measuring device 72 that receives a laser. The first laser device 70 and the first transmittance measuring device 72 are disposed 150 mm apart in the horizontal direction at a position 150 mm below the upper end of the retention space 4 (for example, a depth position that is about 30% of the depth of the retention space 4). The first laser device 70 and the first transmittance measuring device 72 are disposed near the center of the retention space 4 when viewed from above. The intensity of the laser light measured by the first transmittance measuring device 72 is measured relative to the intensity of the laser light emitted from the first laser device 70, and the transmittance is measured.
The transmittance measuring device 68 further includes a second laser device 74 disposed outside the retention space 4 and a second transmittance measuring device 76 that receives the laser. The second laser device 74 and the second transmittance measuring device 76 are disposed 150 mm above the upper end of the retention space 4 (e.g., relative to the upper end of the retention space 4, symmetrical to the first laser device 70 and the first transmittance measuring device 72), and are spaced 150 mm apart horizontally. The first laser device 70 and the first transmittance measuring device 72 are disposed near the center of the retention space 4 in a top view. The intensity of the laser light measured by the second transmittance measuring device 76 is measured relative to the intensity of the laser light emitted from the second laser device 74, and the transmittance is measured. Note that the transmittance measuring device 68 has the first laser device 70 and the first transmittance measuring device 72 disposed inside the retention space 4. However, these devices may be disposed in a virtual retention space such as that described above instead of the retention space 4 to virtually measure the transmittance. In this case, a second laser device 74 and a second transmittance measuring device 76 are placed outside the virtual retention space.
More specifically, the device configuration involves laser light emitted from a Keyence digital fiber amplifier FS-N11MN, passing through a Keyence FU-77TZ (first laser device 70 or second laser device 74) and received by a Keyence FU-77TZ (first transmittance measuring device 72 or second transmittance measuring device 76). The received light is returned to the fiber amplifier FS-N11MN, which outputs a voltage of, for example, 1-5 V depending on the light intensity. The output voltage is measured using a Keyence NR-500 series NR-HA08 and scaled to a value between 0 and 100% on a PC. Transmittance data is measured, for example, at a sampling period of 100 ms. For example, within 15 minutes of starting to supply mist at a nearly constant rate, transmittance data is averaged over the first 30 seconds that can be determined to be in a steady state.
次に、図21及び図22を参照して、ミスト入浴と通常の湯船浴との使用者への熱の伝わり方の違いについて説明する。
図21においては、浴槽装置2の浴槽本体6内に使用者が座って入浴している状態において、40℃の水を通常の入浴水位(入浴した際に使用者の脇の上かつ肩の下になる水位で、例えば、入浴した際に450mmとなる) まではって湯船浴の入浴をした場合の水から使用者に伝わる熱流束と、40℃のミストを同じ浴槽本体6内に満たした状態(ミスト雰囲気状態)でミスト入浴をした場合の使用者に伝わる熱流束と、43℃のミストを同じ浴槽本体6内に満たした状態(ミスト雰囲気状態)でミスト入浴をした場合の使用者に伝わる熱流束と、45℃のミストを同じ浴槽本体6内に満たした状態(ミスト雰囲気状態)でミスト入浴をした場合の使用者に伝わる熱流束と、の時間経過を示している。縦軸は、熱流束[W/m2]を示し、横軸は入浴開始からの時間[s]を示している。熱流束[W/m2]は、平均的な体形の使用者の背中の中央部に計測部を配置し、使用者に伝わる熱流束を計測する。ミスト雰囲気状態は、浴槽本体6内に十分にミストが満たされている状態を示している。
時間0[S]から40℃の水で使用者が湯船浴をした場合には、熱流束が初期に急激に上昇する。よって、入浴開始時に使用者に与える熱の刺激が大きいことが分かる。一方で、ミスト入浴をした場合には、熱流束の初期の上昇は比較的抑えられ、緩やかに上昇する。よって、入浴開始時に使用者に与える熱の刺激が湯船浴に比べて小さいことが分かる。
また、40℃の水で使用者が湯船浴をした場合と、40℃のミストで使用者がミスト入浴をした場合とでは、40℃のミストの方が熱流束が低く、使用者の温度の体感が低くなる。40℃のミストのミスト入浴によれば、低い刺激でゆるやかに使用者の体を温めることができる。
Next, the difference in how heat is transferred to the user during mist bathing and normal bathing will be described with reference to Figures 21 and 22.
Figure 21 shows the heat flux transmitted over time from the water to a user sitting in the bathtub body 6 of bathtub equipment 2 when the user takes a bath by crawling into a bathtub filled with 40°C water up to the normal bathing level (the water level that is above the user's armpits and below the user's shoulders when bathing, for example, 450 mm when bathing), the heat flux transmitted to the user when the same bathtub body 6 is filled with 40°C mist (mist atmosphere state), the heat flux transmitted to the user when the same bathtub body 6 is filled with 43°C mist (mist atmosphere state), and the heat flux transmitted to the user when the same bathtub body 6 is filled with 45°C mist (mist atmosphere state). The vertical axis represents heat flux [W/ m2 ], and the horizontal axis represents time [s] from the start of bathing. The heat flux [W/ m2 ] is measured by placing a measuring device at the center of the back of an average-sized user and measuring the heat flux transmitted to the user. The mist atmosphere state indicates a state in which the bathtub body 6 is sufficiently filled with mist.
When a user bathes in 40°C water from time 0 [S], the heat flux rises sharply at the beginning. This shows that the thermal stimulus given to the user at the start of bathing is large. On the other hand, when a mist bath is taken, the initial rise in heat flux is relatively suppressed and rises gradually. This shows that the thermal stimulus given to the user at the start of bathing is smaller than when taking a bath in a bath.
Furthermore, when a user bathes in water at 40°C and when they take a mist bath using mist at 40°C, the heat flux is lower with the mist at 40°C, and the user feels a lower temperature. Bathing in mist at 40°C can warm the user's body gently with low stimulation.
また、図21に示すように、40℃の水で使用者が湯船浴をした場合と、43℃のミストで使用者がミスト入浴をした場合とでは、使用者に作用する熱流束が同程度となる。図22においては、10分間湯船入浴又はミスト入浴をした後に使用者の皮膚温を測定した結果が示されている。40℃の水で使用者が湯船浴をした場合と、43℃のミストで使用者がミスト入浴をした場合とでは、使用者にほぼ同等の温まりを生じていることが分かる。このようにミスト入浴によれば、入浴開始時の加温された水による刺激を抑制し、体に優しい入浴を可能にする。例えば、使用者が43℃の水の中に入浴する場合は非常に熱く感じるため短時間しか入浴できないが、使用者が43℃のミストの中に入ってミスト入浴する場合には、やや低い温度に感じるため同じ温度の水と比べて長時間浸かることが可能になる。また、水と比べてミストは、やや低い温度の体感を使用者に与えるので、ゆるやかに使用者の体をやや遅い速度で温めることができ、温めによる使用者への体の負担も少ない。また、ミスト入浴によれば、使用者への水圧の負担が少なく、水によるような体への水圧の圧迫がないため、長時間のミスト入浴を可能にする。さらに、ミスト入浴によれば、水の表面がミストで覆われるような露天風呂のような視覚効果を使用者に与えることができ、贅沢さや癒し効果を使用者に与えることもできる。 Furthermore, as shown in Figure 21, the heat flux acting on a user is comparable when bathing in 40°C water and when mist bathing with 43°C mist. Figure 22 shows the results of measuring the user's skin temperature after 10 minutes of bathing or mist bathing. It can be seen that users experience approximately the same warmth when bathing in 40°C water and when mist bathing with 43°C mist. Thus, mist bathing reduces the irritation caused by heated water at the start of bathing, allowing for a gentler bathing experience. For example, a user bathing in 43°C water feels very hot and can only bathe for a short time, whereas a user bathing in 43°C mist feels slightly cooler and can therefore remain immersed for a longer period of time compared to water of the same temperature. Furthermore, compared to water, mist gives the user a slightly lower temperature sensation, allowing the user's body to warm up gradually at a slightly slower rate, with less strain on the user's body due to the warming. Mist bathing also puts less strain on the user's body due to the water pressure, and as there is no pressure on the body like with water, it is possible to enjoy mist bathing for long periods of time. Furthermore, mist bathing gives the user the visual effect of an open-air bath, with the surface of the water covered in mist, providing a sense of luxury and healing to the user.
次に、本実施形態の構成による効果を説明する。
このように構成された本発明の第1実施形態においては、ミスト生成部8及びミスト供給部10は、ミスト供給部10から供給されたミストが浴槽本体6の滞留空間4内に滞留されるように構成される。よって、加熱された状態のミストが浴槽本体6の上方が開放された滞留空間4内に滞留できる。これにより、ミストが浴槽本体6の蓋が取付けられていない上方が開放された滞留空間4内に滞留できるため使用者の蓋を取付ける必要を省いて利便性が向上されると共に、使用者が浴槽本体6内で蓋なしでミストにより温まることができるため使用者の快適性も向上される。また、使用者が浴槽本体6内でミストにより温まることができるため、使用者が水に浸かる場合と比べて圧迫感を生じずに体の負担を低減した状態でミスト浴ができ、さらに、水に浸かる場合と比べて緩やかに使用者に熱の刺激が伝わるため使用者の体の負担を低減しつつミスト浴ができる。
Next, the effects of the configuration of this embodiment will be described.
In the first embodiment of the present invention, the mist generator 8 and mist supply unit 10 are configured so that the mist supplied from the mist supply unit 10 is retained in the retention space 4 of the bathtub body 6. This allows the heated mist to remain in the retention space 4, which is open at the top of the bathtub body 6. This eliminates the need for a user lid, improving convenience, and also improves user comfort, as the user can warm up with the mist inside the bathtub body 6 without a lid. Furthermore, because the user can be warmed by the mist inside the bathtub body 6, the user can enjoy a mist bath without feeling any pressure or strain on the body compared to when immersed in water. Furthermore, the heat is transmitted to the user more slowly than when immersed in water, reducing the strain on the body.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、ミスト生成部8は、水温を検知する水温検知手段を備えるので、水温を検知してより確実に水温を制御することができる。よって、ミスト生成部8及びミスト供給部10が、加熱された状態のミストを浴槽本体6の滞留空間4内により確実に滞留させることができる。 In the first embodiment of the present invention configured in this manner, the mist generation unit 8 is equipped with a water temperature detection means for detecting the water temperature, allowing for more reliable control of the water temperature. Therefore, the mist generation unit 8 and the mist supply unit 10 can more reliably retain the heated mist within the retention space 4 of the bathtub body 6.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、水又はミストを60℃以上に加熱することにより、仮に菌が水中に含まれていた場合でも、少なくとも一部の菌(例えばレジオネラ菌)の影響を抑制できる。 In the first embodiment of the present invention configured as described above, by heating the water or mist to 60°C or higher, even if bacteria are present in the water, the effects of at least some of the bacteria (e.g., Legionella) can be suppressed.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、滞留されたミストの上部側の滞留境界面66は、浴槽本体6の溢れ面6bの高さに、浴槽本体6の深さに相当する高さを加えた高さ位置よりも下方に形成されるので、滞留境界面66が高すぎる位置に形成されることを抑制し、使用者の快適性を高めることができる。 In the first embodiment of the present invention configured in this manner, the retention boundary surface 66 on the upper side of the retained mist is formed below the height position obtained by adding the height equivalent to the depth of the bathtub body 6 to the height of the overflow surface 6b of the bathtub body 6, thereby preventing the retention boundary surface 66 from being formed at a position that is too high, thereby increasing user comfort.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、滞留されたミストの上部側の滞留境界面66は、浴槽本体6の溢れ面6bの高さ位置よりも上方に形成されるので、浴槽本体6内に座っている使用者の体の上部までミスト入浴がしやすくなると共に、通常の水をはる水位よりも上部まで使用者の体を温めることができ、使用者の快適性をより高めることができる。 In the first embodiment of the present invention, which is configured in this manner, the retention boundary surface 66 on the upper side of the retained mist is formed above the height position of the overflow surface 6b of the bathtub main body 6, making it easier for a user sitting in the bathtub main body 6 to enjoy mist bathing up to the upper part of their body, and also making it possible to warm the user's body up to a level higher than the water level at which water is normally poured, further increasing the user's comfort.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、滞留されたミストの上部側の滞留境界面66は、浴槽本体6の溢れ面6bの高さに、100mm~200mmの間の数値を加えた高さ位置よりも下方に形成されるので、滞留境界面66が浴槽本体6内に座っている使用者の顔の位置より下方に形成されやすくなり、使用者の快適性をさらに高めることができる。 In the first embodiment of the present invention configured in this manner, the retention boundary surface 66 on the upper side of the retained mist is formed below a height position that is between 100 mm and 200 mm above the height of the overflow surface 6b of the bathtub main body 6. This makes it easier for the retention boundary surface 66 to be formed below the face of a user sitting in the bathtub main body 6, further increasing user comfort.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、ミスト供給部10は浴槽本体6内の水の溢れ部より上方に配置されるので、浴槽本体6内の水が汚水の流れとしてミスト供給部10から上流側に侵入することを抑制できる。 In the first embodiment of the present invention configured in this manner, the mist supply unit 10 is positioned above the water overflow area within the bathtub body 6, preventing the water within the bathtub body 6 from flowing upstream from the mist supply unit 10 as wastewater.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、ミスト供給部10は浴槽本体6内の水の溢れ面6bより上方に配置されるので、浴槽本体6内の水が汚水としてミスト供給部10から上流側に侵入することを抑制できる。 In the first embodiment of the present invention configured in this manner, the mist supply unit 10 is positioned above the water overflow surface 6b within the bathtub body 6, thereby preventing water within the bathtub body 6 from entering upstream from the mist supply unit 10 as sewage.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、ミスト発生装置1は、さらに、浴槽本体6が配置される浴室内の気温を検知する室内温度計測器24を備えるので、浴槽本体6が配置される浴室内の気温に応じて、ミスト生成部8は、加熱された状態のミストを生成することができ、ミスト生成部8及びミスト供給部10が、加熱された状態のミストを浴槽本体6の滞留空間4内により確実に滞留させることができる。 In the first embodiment of the present invention configured in this manner, the mist generator 1 further includes an indoor temperature measuring device 24 that detects the air temperature in the bathroom where the bathtub body 6 is placed. This allows the mist generation unit 8 to generate heated mist according to the air temperature in the bathroom where the bathtub body 6 is placed, and the mist generation unit 8 and mist supply unit 10 can more reliably retain the heated mist within the retention space 4 of the bathtub body 6.
また、本発明の第1実施形態は、浴槽装置であって、本発明の第1実施形態のミスト発生装置と、ミスト発生装置1のミスト供給部10から供給されるミストを受け入れる滞留空間4を形成する浴槽本体6とを備えることを特徴としている。 The first embodiment of the present invention is a bathtub apparatus characterized by comprising the mist generator of the first embodiment of the present invention and a bathtub main body 6 that forms a retention space 4 that receives mist supplied from the mist supply unit 10 of the mist generator 1.
このように構成された本発明の第1実施形態においては、ミスト発生装置1のミスト生成部8及びミスト供給部10は、浴槽本体6の短辺側に配置されるので、ミスト供給部10から供給されるミストが浴槽本体6内の滞留空間4において短辺側の左右方向において比較的均一に供給され、ミストの滞留が乱れることが抑制される。さらに、ミストが短辺側の左右方向において比較的均一に整ったミストの流れが供給され、このミストが長辺側に沿って進むので、使用者に癒し効果及び高級感を与えるような視覚的な効果を発生させやすくできる。 In the first embodiment of the present invention configured as described above, the mist generation unit 8 and mist supply unit 10 of the mist generator 1 are positioned on the short sides of the bathtub body 6, so the mist supplied from the mist supply unit 10 is supplied relatively evenly in the left-right direction of the short sides in the retention space 4 within the bathtub body 6, preventing disruption of the mist retention. Furthermore, a relatively uniform flow of mist is supplied in the left-right direction of the short sides, and this mist travels along the long sides, making it easier to create a visual effect that gives the user a soothing effect and a sense of luxury.
次に、図23及び図24を参照して、本発明の第2実施形態によるミスト発生装置101について説明する。第2実施形態のミスト発生装置101は、ミスト供給部が下方向きのミスト供給口部を備える点が上述した第1実施形態とは異なる。ここでは、本発明の第2実施形態の第1実施形態とは異なる点のみを説明し、同様な部分については図面に同じ参照符号を付して説明を省略する。
図23は、本発明の第2実施形態によるミスト発生装置を備えた浴槽装置の斜視図であり、図24は本発明の第2実施形態によるミスト発生装置を備えた浴槽装置を側面から見た側面図である。
図24においては、第2実施形態における滞留境界面66は、第1実施形態における滞留境界面66と同様に形成されるが、紙面の都合上、滞留境界面66の形成される位置の説明に関する参照符号M0、M1、M2、M3及びL1等を省略している。第2実施形態においても、滞留境界面66の形成される位置の説明に関する参照符号M0、M1、M2、M3及びL1等の説明は、第1実施形態における滞留境界面66に関する説明及び図2等の記載により参照される。
Next, a mist generator 101 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to Figures 23 and 24. The mist generator 101 of the second embodiment differs from the first embodiment described above in that the mist supply unit has a mist supply port facing downward. Here, only the differences between the second embodiment of the present invention and the first embodiment will be described, and similar parts will be designated by the same reference numerals in the drawings and will not be described again.
FIG. 23 is a perspective view of a bathtub apparatus equipped with a mist generating device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 24 is a side view of a bathtub apparatus equipped with a mist generating device according to the second embodiment of the present invention.
24, the retention boundary surface 66 in the second embodiment is formed in the same manner as the retention boundary surface 66 in the first embodiment, but due to space limitations, reference numerals M0, M1, M2, M3, L1, etc., which are used to describe the position where the retention boundary surface 66 is formed, are omitted. In the second embodiment, the reference numerals M0, M1, M2, M3, L1, etc., which are used to describe the position where the retention boundary surface 66 is formed, are also referred to in the description of the retention boundary surface 66 in the first embodiment and in the description of FIG. 2, etc.
図23及び図24に示すように、本発明の第2実施形態によるミスト発生装置101を備えた水回り機器である浴槽装置2は、浴室3に設けられる。水回り機器は、浴室、浴室の洗い場床、トイレ、洗面所、キッチン等の水を使うための吐水装置が設けられている機器である。ミスト発生装置101は、水回り機器の浴槽本体、浴室の洗い場床、シャワールーム、手洗いボウル、洗面台ボウル、キッチンシンクに用いられるミスト発生装置である。 As shown in Figures 23 and 24, a bathtub apparatus 2, which is a plumbing device equipped with a mist generator 101 according to the second embodiment of the present invention, is installed in a bathroom 3. Plumbing devices are devices equipped with a water discharge device for use in bathrooms, bathroom wash area floors, toilets, washrooms, kitchens, etc. The mist generator 101 is a mist generator used in plumbing devices such as the bathtub body, bathroom wash area floor, shower room, hand wash bowl, wash basin bowl, and kitchen sink.
ミスト発生装置101は、水回り機器である浴槽装置2に用いられる。ミスト発生装置101は、ミストを生成するミスト生成部108と、ミストを浴槽本体6内に供給するミスト供給部110とを備えている。 The mist generator 101 is used in a bathtub unit 2, which is a plumbing device. The mist generator 101 includes a mist generator 108 that generates mist and a mist supply unit 110 that supplies mist into the bathtub main body 6.
ミスト生成部108は、浴室3の壁面Wに取付けられ、浴槽本体6の高さよりも上方の高さに取付られている。ミスト生成部108は、浴槽本体6の上縁のうち短辺側の短辺側部分6eの上方に配置されている。ミスト生成部108は、浴槽本体6と離間して設けられている。すなわち、ミスト生成部108は、浴槽本体6に直接取付けられておらず、ミスト生成部108の底面と、短辺側部分6eとの間に隙間の空間部分が形成されている。なお、ミスト生成部108は、浴槽本体6と離間して設けられているが、変形例としてミスト生成部108は、浴槽本体6と接するように又は浴槽本体6に取付けられるように設けられていてもよい。なお、再び第2実施形態におけるミスト生成部108は、第1実施形態におけるミスト生成部8と、配置位置が異なる以外は、第1実施形態におけるミスト生成部8と、基本的に同様の構成要素及び機能を有している。よって、同様な部分については図面に同じ参照符号を付して説明を省略又は簡潔に説明し、主に異なる部分を説明する。 The mist generating unit 108 is attached to the wall W of the bathroom 3, at a height higher than the height of the bathtub main body 6. The mist generating unit 108 is located above the short side portion 6e of the upper edge of the bathtub main body 6. The mist generating unit 108 is spaced apart from the bathtub main body 6. That is, the mist generating unit 108 is not directly attached to the bathtub main body 6, and a gap space is formed between the bottom surface of the mist generating unit 108 and the short side portion 6e. While the mist generating unit 108 is spaced apart from the bathtub main body 6, as a variant, the mist generating unit 108 may be arranged so as to contact or be attached to the bathtub main body 6. Note that the mist generating unit 108 in the second embodiment has essentially the same components and functions as the mist generating unit 8 in the first embodiment, except for its location. Therefore, similar parts will be given the same reference symbols in the drawings, and descriptions will be omitted or given briefly, with the differences being mainly described.
ミスト生成部108は、水を給水源からタンク12に給水する給水路14と、水をタンク12から排水管に排水する排水路16と、タンク12の内側の底部に設けられた超音波振動子18と、タンク12の内側の底部に設けられたヒーター20と、タンク12の内側に設けられた水温検知手段である水温計測器22と、タンク12の外側に設けられた気温検知手段である室内温度計測器24と、超音波振動子18及びヒーター20を制御する制御部26と、を備えている。 The mist generating unit 108 includes a water supply channel 14 that supplies water from a water source to the tank 12, a drainage channel 16 that drains water from the tank 12 to a drain pipe, an ultrasonic vibrator 18 provided at the bottom inside the tank 12, a heater 20 provided at the bottom inside the tank 12, a water temperature gauge 22 that serves as a water temperature detection means provided inside the tank 12, an indoor temperature gauge 24 that serves as an air temperature detection means provided outside the tank 12, and a control unit 26 that controls the ultrasonic vibrator 18 and heater 20.
タンク12は、壁Wの表面側(浴室3の内部側)に取付けられている。タンク12の下部の側壁に給水路14と排水路16とが接続されている。タンク12の中央近傍の側壁にミスト供給部110が接続されている。給水路14は、壁Wの表面側から裏面側(浴室3の外部側)まで延びている。排水路16は、壁Wの表面側から裏面側まで延びている。制御部26は、壁Wの裏面側に設けられている。 The tank 12 is attached to the front side of the wall W (inside the bathroom 3). A water supply channel 14 and a drain channel 16 are connected to the side wall at the bottom of the tank 12. A mist supply unit 110 is connected to the side wall near the center of the tank 12. The water supply channel 14 extends from the front side of the wall W to the back side (outside the bathroom 3). The drain channel 16 extends from the front side of the wall W to the back side. The control unit 26 is provided on the back side of the wall W.
ミスト供給部110は、ミスト生成部108により生成されたミストを、浴槽本体6が配置される室内に向けて上方が開放された滞留空間4を形成する滞留部である浴槽本体6内に供給する。ミスト供給部110は、浴槽本体6の短辺側の短辺側部分6eの上方に配置されている。ミスト供給部110は、図24に示す流路の断面により示されるように、ミスト生成部108から滞留空間4の一端の上部まで横向きに延びるミスト供給流路111と、ミスト供給流路111の下流端と接続され下方向きに開口するミスト供給口部113を備える。 The mist supply unit 110 supplies the mist generated by the mist generation unit 108 into the bathtub body 6, which is a retention section that forms the retention space 4 with an upwardly open opening facing the room in which the bathtub body 6 is placed. The mist supply unit 110 is located above the short side portion 6e of the short side of the bathtub body 6. As shown in the cross section of the flow path in Figure 24, the mist supply unit 110 includes a mist supply flow path 111 that extends laterally from the mist generation unit 108 to the top of one end of the retention space 4, and a mist supply port 113 that is connected to the downstream end of the mist supply flow path 111 and opens downward.
ミスト供給流路111は、タンク12の上下方向の中間部分からほぼ水平に延びる。なお、ミスト供給流路111は、タンク12の上部から延びてもよい。また、ミスト供給流路111は、ミスト生成部108から滞留空間4側に向けて斜め下方に延びていてもよい。さらに、ミスト供給流路111は、下方向きのミスト供給口部113と合わせて横向きから弧状に湾曲して下向きとなる流路を形成していてもよい。ミスト供給流路111は、正面から(滞留空間4側から)見て、横長の長方形の流路(例えば流路断面)を形成している。ミスト供給流路111の底面111aは、浴槽本体6の短辺側部分6eの左右方向(図24の紙面の奥行方向)と平行に且つ平坦に延びると共に、短辺側部分6eの前後方向と平行に且つ平坦に延びている。ミスト供給流路111の滞留空間4側の正面には縦壁111bが形成され、ミスト供給部110中を通るミストが縦壁111bにより下方向きに導かれるようになっている。 The mist supply flow path 111 extends substantially horizontally from the vertical center of the tank 12. Alternatively, the mist supply flow path 111 may extend from the top of the tank 12. Alternatively, the mist supply flow path 111 may extend diagonally downward from the mist generating unit 108 toward the retention space 4. Furthermore, the mist supply flow path 111 may form a flow path that curves from sideways to downward in an arc, in conjunction with the downward-facing mist supply port 113. When viewed from the front (from the retention space 4 side), the mist supply flow path 111 forms a horizontally elongated rectangular flow path (e.g., flow path cross section). The bottom surface 111a of the mist supply flow path 111 extends flat and parallel to the left-right direction of the short side portion 6e of the bathtub body 6 (the depth direction of the paper in Figure 24) and also extends flat and parallel to the front-to-back direction of the short side portion 6e. A vertical wall 111b is formed on the front side of the mist supply flow path 111 on the retention space 4 side, and the mist passing through the mist supply section 110 is guided downward by the vertical wall 111b.
ミスト供給口部113は、ミスト供給流路111の下流端から下方向に延びている。ミスト供給口部113は、下方側に延びるダクト状の流路を形成している。ミスト供給口部113は、下方向きに開口する開口部を形成している。ミスト供給口部113は、その開口部の正面から見た場合(ミスト供給口部113の下方から上方を見た場合)、横長の長方形の流路(例えば流路断面)を形成している。ミスト供給口部113の左右方向(図24の紙面の奥行方向)の幅は、ミスト供給流路111の左右方向(図24の紙面の奥行方向)の幅と同じである。ミスト供給口部113の左右方向の幅は、ミスト供給流路111の左右方向の幅と異なっていてもよい。ミスト供給口部113の左右方向の幅は、短辺側部分6eの左右方向の幅よりも短い。なお、ミスト供給口部113の左右方向の幅は、短辺側部分6eのほぼ全体にわたる幅、例えば短辺側部分6eの滞留空間4の左右方向の幅と同じ幅であってもよい。また、ミスト供給口部113の左右方向の幅は、短辺側部分6eの滞留空間4の左右方向の幅の全体に対し半分程度の大きさの幅であってもよい。 The mist supply port 113 extends downward from the downstream end of the mist supply flow path 111. The mist supply port 113 forms a duct-like flow path extending downward. The mist supply port 113 forms an opening that opens downward. When viewed from the front of the opening (when viewed from below the mist supply port 113 upward), the mist supply port 113 forms a horizontally long rectangular flow path (e.g., flow path cross section). The width of the mist supply port 113 in the left-right direction (depth direction in the plane of FIG. 24) is the same as the width of the mist supply flow path 111 in the left-right direction (depth direction in the plane of FIG. 24). The width of the mist supply port 113 in the left-right direction may be different from the width of the mist supply flow path 111. The width of the mist supply port 113 in the left-right direction is shorter than the width of the short side portion 6e in the left-right direction. The left-right width of the mist supply port 113 may be the same as the width of almost the entire short side portion 6e, for example, the left-right width of the retention space 4 of the short side portion 6e. Alternatively, the left-right width of the mist supply port 113 may be about half the entire left-right width of the retention space 4 of the short side portion 6e.
ミスト供給口部113の下端113aは、浴槽本体6の短辺側部分6eの左右方向(図24の紙面の奥行方向)と平行に延びている。下端113aは、短辺側部分6eより浴槽本体6の内側の滞留空間4上に位置している。ミスト供給口部113は、滞留空間4の上方に位置する。ミスト供給口部113は、鉛直方向下方に向けて延びている。なお、ミスト供給口部113は、斜め下方に向けて延びていてもよい。ミスト供給口部113の開口方向に沿った仮想線Nは、浴槽本体6の短辺側部分6eより内側の空間内、例えば滞留空間4内に向けて延びる。 The lower end 113a of the mist supply port 113 extends parallel to the left-right direction of the short side portion 6e of the bathtub body 6 (the depth direction of the paper in Figure 24). The lower end 113a is located above the retention space 4, inside the bathtub body 6, from the short side portion 6e. The mist supply port 113 is located above the retention space 4. The mist supply port 113 extends vertically downward. The mist supply port 113 may also extend diagonally downward. An imaginary line N along the opening direction of the mist supply port 113 extends into the space inside the short side portion 6e of the bathtub body 6, for example, into the retention space 4.
ミスト供給口部113の下端113aは、浴槽本体6内の水の溢れ部6cより上方に配置される。よって、浴槽本体6内の水が汚水の流れとしてミスト供給口部113から上流側に侵入することを抑制できる。なお、ミスト供給口部113の下端113aは、滞留境界面66の上端より下方に位置していてもよい。本実施形態においては、この溢れ部6cは、浴槽本体6の溢れ面6bであり、ミスト供給口部113の下端113aは、浴槽本体6の短辺側部分6eより上方に配置されている。変形例として、溢れ部6cは、浴槽本体6内に設けられたオーバーフロー口でもよい。よって、ミスト供給口部113の下端113aは、浴槽本体6内に設けられたオーバーフロー口より上方且つ短辺側部分6eより下方に位置していてもよい。 The lower end 113a of the mist supply port 113 is located above the water overflow portion 6c within the bathtub body 6. This prevents water within the bathtub body 6 from flowing upstream from the mist supply port 113 as sewage. The lower end 113a of the mist supply port 113 may also be located below the upper end of the stagnation boundary surface 66. In this embodiment, this overflow portion 6c is the overflow surface 6b of the bathtub body 6, and the lower end 113a of the mist supply port 113 is located above the short side portion 6e of the bathtub body 6. Alternatively, the overflow portion 6c may be an overflow port provided within the bathtub body 6. Therefore, the lower end 113a of the mist supply port 113 may be located above the overflow port provided within the bathtub body 6 and below the short side portion 6e.
ミスト供給口部113の長さ、例えばミスト供給流路111の下部から下端113aまでの長さは変更可能である。ミスト供給口部113の下端113aは、例えば溢れ部6cから上方に0mmより高い位置に設けられ、また例えば、溢れ部6cから上方に50mm以上高い位置に設けられている。また、下端113aは、例えば短辺側部分6eから上方に400mmの高さ位置より低い位置に設けられ、また例えば短辺側部分6eから上方に100mmの高さ位置以下の位置に設けられる。よって、ミスト供給口部113の下端113aは、例えば溢れ部6cの高さ位置より上方に0mmより高く且つ短辺側部分6eから上方に400mmの高さ位置より低い、範囲内の高さ位置に位置決めされる。より好ましくは、ミスト供給口部113の下端113aは、例えば溢れ部6cの高さ位置より上方に50mm以上且つ短辺側部分6eから上方に100mmの高さ位置以下の、範囲内の高さ位置に位置決めされる。ミスト供給口部113の下端113aが上述のように位置決めされることにより、下端113aから滞留空間4までのミストの移動距離を、比較的短い移動距離にでき、滞留空間4内に供給されるミストの温度等のミストの供給制御をしやすくでき、さらに、ミストが滞留空間4内に供給される前に拡散されることを抑制できる。ミスト供給口部113の下端113aは、上述のように溢れ部6cの高さ位置より上方に0mmより高い高さに位置決めされることにより、例えば溢れ部6cが浴槽本体6の上部の辺よりも低い位置に位置する場合にも、浴槽本体6内の水が溢れ部6cから溢れ出る前に、浴槽本体6内の水が汚水の流れとして下端113aから上流側に侵入することを抑制できる。さらに、ミスト供給口部113の下端113aは、上述のようにより好ましくは溢れ部6cの高さ位置より上方に50mmより高い高さに位置決めされることにより、浴槽本体6内の水が汚水の流れとして下端113aから上流側に侵入することをより抑制することができる。 The length of the mist supply port 113, for example, the length from the bottom of the mist supply flow path 111 to the lower end 113a, is variable. The lower end 113a of the mist supply port 113 is located, for example, at a position higher than 0 mm above the overflow portion 6c, or at a position higher than 50 mm above the overflow portion 6c. The lower end 113a is also located, for example, at a height lower than 400 mm above the short side portion 6e, or at a height lower than 100 mm above the short side portion 6e. Therefore, the lower end 113a of the mist supply port 113 is positioned within a height range, for example, higher than 0 mm above the overflow portion 6c and lower than 400 mm above the short side portion 6e. More preferably, the lower end 113a of the mist supply port 113 is positioned at a height within a range, for example, at least 50 mm above the overflow portion 6c and no more than 100 mm above the short side portion 6e. Positioning the lower end 113a of the mist supply port 113 as described above allows the mist to travel a relatively short distance from the lower end 113a to the retention space 4, making it easier to control the temperature and other aspects of the mist supplied to the retention space 4. Furthermore, it prevents the mist from diffusing before it is supplied to the retention space 4. Positioning the lower end 113a of the mist supply port 113 at a height greater than 0 mm above the overflow portion 6c as described above prevents the water in the bathtub body 6 from entering the upper side as sewage before overflowing from the overflow portion 6c, even when the overflow portion 6c is located lower than the upper edge of the bathtub body 6. Furthermore, as described above, the lower end 113a of the mist supply port 113 is preferably positioned at a height more than 50 mm above the height of the overflow portion 6c, thereby further preventing water from inside the bathtub body 6 from flowing upstream from the lower end 113a as wastewater.
変形例として、ミスト供給口部113はミスト供給流路111の下部側に形成された開口部として形成され、下方向きに開口していてもよい。このような下部側開口のミスト供給口部113はミスト供給流路111から下方側にダクト状の流路として突出せずに開口部を形成している。下部側開口のミスト供給口部113は、その開口部の正面から見た場合(下部側開口のミスト供給口部113の下方から上方を見た場合)に横長の長方形の流路(流路断面)を形成している。下部側開口のミスト供給口部113の左右方向の幅は、ミスト供給流路111の左右方向の幅と同じである。下部側開口のミスト供給口部113の左右方向の幅は、短辺側部分6eの左右方向の幅よりも短い。なお、下部側開口のミスト供給口部113の左右方向の幅は、短辺側部分6eのほぼ全体にわたる幅、例えば短辺側部分6eにおける滞留空間4の左右方向の幅と同じ幅とされてもよい。また、下部側開口のミスト供給口部113の左右方向の幅は、滞留空間4の左右方向の幅の全体に対し半分程度の大きさの幅であってもよい。下部側開口のミスト供給口部113の左右方向の辺は、浴槽本体6の短辺側部分6eの左右方向と平行に延びている。下部側開口のミスト供給口部113は、短辺側部分6eより浴槽本体6の内側の滞留空間4の上方に位置している。下部側開口のミスト供給口部113は、鉛直方向下方に向けて開口しているが、斜め下方の滞留空間4に向けて開口していてもよい。下部側開口のミスト供給口部113は、浴槽本体6内の水の溢れ部6cより上方に配置され、下部側開口のミスト供給口部113は、浴槽本体6の短辺側部分6eより上方に配置されている。 As a variant, the mist supply port 113 may be formed as an opening on the lower side of the mist supply flow path 111, opening downward. Such a lower-side opening mist supply port 113 forms an opening that does not protrude downward from the mist supply flow path 111 as a duct-like flow path. When viewed from the front of the opening (when viewed from below the lower-side opening mist supply port 113 to the top), the lower-side opening mist supply port 113 forms a horizontally elongated rectangular flow path (flow path cross section). The left-right width of the lower-side opening mist supply port 113 is the same as the left-right width of the mist supply flow path 111. The left-right width of the lower-side opening mist supply port 113 is shorter than the left-right width of the short side portion 6e. The left-right width of the mist supply port 113 of the lower opening may be the same as the width of almost the entire short side portion 6e, for example, the left-right width of the retention space 4 at the short side portion 6e. The left-right width of the mist supply port 113 of the lower opening may also be approximately half the overall left-right width of the retention space 4. The left-right edges of the mist supply port 113 of the lower opening extend parallel to the left-right directions of the short side portions 6e of the bathtub body 6. The mist supply port 113 of the lower opening is located higher in the retention space 4 inside the bathtub body 6 than the short side portions 6e. The mist supply port 113 of the lower opening opens vertically downward, but may also open diagonally downward toward the retention space 4. The mist supply port 113 at the lower opening is located above the water overflow portion 6c in the bathtub body 6, and the mist supply port 113 at the lower opening is located above the short side portion 6e of the bathtub body 6.
再び本実施形態において、ミスト供給部110は、体積あたりの供給量を、例えば0.03mL/min・L~1.5mL/min・Lの範囲にしている。ミスト供給部110は、例えば、浴槽本体6の体積330Lの滞留空間4に11mL/minの単位時間あたりの供給量のミストを供給できる。また、例えば、ミスト供給部110は、温度差や粒径の測定の仮想滞留空間や、他の水回り機器等の体積4.32Lの滞留空間4に6mL/minの単位時間あたりの供給量のミストを供給できる。超音波振動子18の個数、出力、超音波を照射する向き、ミスト生成部108内の水位、又は、ミスト生成部108内やミスト供給部110内の流路形状等によりミストの供給量が制御できる。 Again, in this embodiment, the mist supply unit 110 has a supply rate per volume ranging from 0.03 mL/min·L to 1.5 mL/min·L. The mist supply unit 110 can supply mist at a rate of 11 mL/min per unit time to the 330 L retention space 4 of the bathtub main body 6. Furthermore, the mist supply unit 110 can supply mist at a rate of 6 mL/min per unit time to a 4.32 L retention space 4, such as a virtual retention space for measuring temperature differences and particle size, or to other plumbing equipment. The mist supply rate can be controlled by the number of ultrasonic vibrators 18, their output, the direction in which the ultrasonic waves are emitted, the water level in the mist generation unit 108, or the shape of the flow paths in the mist generation unit 108 and the mist supply unit 110.
ミスト生成部108及びミスト供給部110は、加温された状態のミストを生成すると共に、ミストの温度を制御し、このミストを滞留空間4内に滞留させやすくする。この内容について説明する。ミスト生成部108及びミスト供給部110は、ミスト供給部110から滞留空間4に供給されたミストの温度とミストの供給開始前の水回り機器が使用される室内の温度との温度差が、0℃以上とされ、ミスト供給部110から供給されたミストが浴槽本体6の滞留空間4内に滞留されるように構成される。また、ミスト発生装置101のミスト生成部108及びミスト供給部110は、温度差によって生じる上昇気流がミストを上昇させようとする力がミスト供給部110から供給されたミストの粒径に応じたミストの重さを超えないような、温度差を生じるように構成される。想定される室内空間5の空気の温度範囲に応じてミスト生成部108に供給される水の温度、ヒーター20による加熱温度、又は超音波振動子18の周波数を予め設定することで、室内温度計測器24を用いず(室内温度計測器24の計測結果に依ることなく)、このようなミスト供給が達成されてもよい。また、供給時の設定の調整によりこのようなミスト供給が達成されてもよい。ミスト生成部108及びミスト供給部110は、温度差が、好ましくは100℃以下、より好ましくは60℃以下、さらに好ましくは45℃以下とされるように構成される。ミスト生成部108及びミスト供給部110は、加温された状態のミストを生成すると共に、ミストの粒径を制御し、このミストを滞留空間4内に滞留させやすくする。 The mist generation unit 108 and mist supply unit 110 generate heated mist and control the temperature of the mist, making it easier for the mist to remain in the retention space 4. The following explains this. The mist generation unit 108 and mist supply unit 110 are configured so that the temperature difference between the temperature of the mist supplied from the mist supply unit 110 to the retention space 4 and the temperature of the room where the plumbing equipment is used before the mist supply begins is 0°C or more, allowing the mist supplied from the mist supply unit 110 to remain in the retention space 4 of the bathtub body 6. Furthermore, the mist generation unit 108 and mist supply unit 110 of the mist generator 101 are configured to create a temperature difference such that the force of the rising air current caused by the temperature difference, which tends to lift the mist, does not exceed the weight of the mist supplied from the mist supply unit 110, which is determined by the particle size of the mist. This type of mist supply can be achieved without using the indoor temperature gauge 24 (without relying on the measurement results of the indoor temperature gauge 24) by presetting the temperature of the water supplied to the mist generation unit 108, the heating temperature of the heater 20, or the frequency of the ultrasonic vibrator 18 according to the expected temperature range of the air in the indoor space 5. Alternatively, this type of mist supply can be achieved by adjusting the settings at the time of supply. The mist generation unit 108 and the mist supply unit 110 are configured so that the temperature difference is preferably 100°C or less, more preferably 60°C or less, and even more preferably 45°C or less. The mist generation unit 108 and the mist supply unit 110 generate heated mist and control the particle size of the mist, making it easier for the mist to remain in the retention space 4.
第2実施形態のミスト発生装置101の動作、各種計測方法、作用(効果)等は、第1実施形態のミスト発生装置1の動作、各種計測方法、作用(効果)等と基本的に同様であるので第1実施形態の動作、各種計測方法、作用(効果)等と重複する部分については第1実施形態の説明を参照し、第2実施形態においては説明を省略する。 The operation, various measurement methods, actions (effects), etc. of the mist generator 101 of the second embodiment are basically the same as the operation, various measurement methods, actions (effects), etc. of the mist generator 1 of the first embodiment. Therefore, for parts that overlap with the operation, various measurement methods, actions (effects), etc. of the first embodiment, please refer to the explanation of the first embodiment, and explanations of the second embodiment will be omitted.
このように構成された本発明の第2実施形態においては、ミスト供給部110は、下方向きに開口するミスト供給口部113を備えるので、ミスト供給部110のミスト供給口部113から供給されたミストが浴槽本体6内に到達するまでの移動距離をミスト供給部110のミスト供給口部113が横向きや上向きに開口する場合と比べて比較的短い移動距離にするように抑制でき、ミストがミスト供給口部113から浴槽本体6内に到達するまでにミストの温度が低下される等の変化を受け、浴槽本体6内に到達されるミストの温度を調整しにくくなることを抑制できる。よって、加熱された状態のミストが浴槽本体6の上方が開放された滞留空間4内により滞留しやすくできる。また、例えば、ミスト供給部110は、下方向きに開口するミスト供給口部113を備えるので、浴槽本体6内の水が汚水の流れとしてミスト供給部110から上流側に侵入することを抑制できる。 In the second embodiment of the present invention configured as described above, the mist supply unit 110 has a mist supply port 113 that opens downward. This reduces the distance the mist supplied from the mist supply port 113 of the mist supply unit 110 travels to reach the bathtub body 6, making it relatively short compared to when the mist supply port 113 of the mist supply unit 110 opens sideways or upward. This prevents the mist from undergoing changes such as a drop in temperature before reaching the bathtub body 6, making it difficult to adjust the temperature of the mist reaching the bathtub body 6. This makes it easier for heated mist to remain in the retention space 4, which is open above the bathtub body 6. Furthermore, for example, because the mist supply unit 110 has a mist supply port 113 that opens downward, it is possible to prevent water in the bathtub body 6 from flowing upstream from the mist supply unit 110 as sewage.
1 ミスト発生装置
2 浴槽装置
4 滞留空間
6 浴槽本体
6b 溢れ面
6c 溢れ部
8 ミスト生成部
10 ミスト供給部
24 室内温度計測器
101 ミスト発生装置
110 ミスト供給部
113 ミスト供給口部
A 使用者
B 水
C 滞留層
1 Mist generating device 2 Bathtub device 4 Retention space 6 Bathtub body 6b Overflow surface 6c Overflow section 8 Mist generating section 10 Mist supply section 24 Indoor temperature measuring instrument 101 Mist generating device 110 Mist supply section 113 Mist supply port section A User B Water C Retention layer
Claims (13)
ミストを生成するミスト生成部と、
上方が開放された滞留空間を形成する上記浴槽本体内に、上記ミスト生成部により生成されたミストを供給するミスト供給部と、を備え、
上記ミスト生成部及び上記ミスト供給部は、上記ミスト供給部から供給されたミストが上記浴槽本体の上記滞留空間内に滞留されるように構成され、
上記ミスト生成部は、上記ミスト供給部から供給され上記滞留空間内に滞留されるミストが、使用者の体温、又は使用者の体温よりも温かい温度である35℃以上となるミストを生成する、ミスト発生装置。 A mist generator for use in a bathtub body,
a mist generating unit that generates mist;
A mist supply unit supplies the mist generated by the mist generating unit into the bathtub body, which forms a retention space with an open top,
The mist generating unit and the mist supply unit are configured so that the mist supplied from the mist supply unit is retained in the retention space of the bathtub body ,
The mist generating unit generates mist that is supplied from the mist supply unit and retained in the retention space at a temperature equal to or warmer than the user's body temperature, i.e., 35°C or higher .
請求項1乃至11の何れか1項に記載のミスト発生装置と、
上記ミスト発生装置の上記ミスト供給部から供給されるミストを受け入れる上記滞留空間を形成する上記浴槽本体と、を備える浴槽装置。 A bathtub device,
A mist generator according to any one of claims 1 to 11;
A bathtub apparatus comprising: a bathtub body that forms the retention space that receives the mist supplied from the mist supply unit of the mist generating device.
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