JP7803071B2 - Wiring board and method for manufacturing the same - Google Patents
Wiring board and method for manufacturing the sameInfo
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Description
本開示の実施形態は、配線基板および配線基板の製造方法に関する。 Embodiments of the present disclosure relate to wiring boards and methods for manufacturing wiring boards.
現在、スマートフォン、タブレット等の携帯端末機器の高機能、小型化、薄型化および軽量化が進んでいる。これら携帯端末機器は、複数の通信帯域を使用するため、通信帯域に応じた複数のアンテナが必要とされる。例えば、携帯端末機器には、電話用アンテナ、WiFi(Wireless Fidelity)用アンテナ、3G(Generation)用アンテナ、4G(Generation)用アンテナ、LTE(Long Term Evolution)用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC(Near Field Communication)用アンテナ等の複数のアンテナが搭載されている。しかしながら、携帯端末機器の小型化に伴い、アンテナの搭載スペースは限られており、アンテナ設計の自由度は狭まっている。また、限られたスペース内にアンテナを内蔵していることから、電波感度が必ずしも満足できるものではない。 Currently, mobile terminal devices such as smartphones and tablets are becoming more sophisticated, smaller, thinner, and lighter. Because these mobile terminal devices use multiple communication bands, they require multiple antennas corresponding to the communication bands. For example, mobile terminal devices are equipped with multiple antennas, including a telephone antenna, a Wi-Fi (Wireless Fidelity) antenna, a 3G (Generation) antenna, a 4G (Generation) antenna, an LTE (Long Term Evolution) antenna, a Bluetooth (registered trademark) antenna, and an NFC (Near Field Communication) antenna. However, as mobile terminal devices become smaller, the space available for antenna installation is limited, limiting the freedom in antenna design. Furthermore, because antennas are built into a limited space, radio wave sensitivity is not always satisfactory.
このため、携帯端末機器の表示領域に搭載できるフィルムアンテナが開発されている。このフィルムアンテナは、透明基材上にアンテナパターンが形成された透明アンテナにおいて、アンテナパターンが、不透明な導電体層の形成部としての導体部と非形成部としての多数の開口部とによるメッシュ状の導電体メッシュ層によって形成されている。 For this reason, film antennas that can be mounted in the display area of mobile terminal devices have been developed. These film antennas are transparent antennas in which an antenna pattern is formed on a transparent substrate, and the antenna pattern is formed from a mesh-like conductive mesh layer consisting of conductor portions as formed portions of an opaque conductive layer and numerous openings as non-formed portions.
ところで、例えば、従来のフィルムアンテナにおいては、透明基材上に1つ又は複数のメッシュアンテナが搭載されるが、透明基材上にアンテナパターンが形成された領域と、アンテナパターンが形成されない領域との両方が存在する。この場合、アンテナパターンが形成されない領域が存在することにより、アンテナパターンが形成された領域が見え易くなってしまう。このため、アンテナパターン等の配線パターンを視認しづらくすることが求められている。 For example, in conventional film antennas, one or more mesh antennas are mounted on a transparent substrate, and there are both areas on the transparent substrate where an antenna pattern is formed and areas where no antenna pattern is formed. In this case, the presence of areas where no antenna pattern is formed makes the areas where the antenna pattern is formed easily visible. For this reason, there is a demand for making wiring patterns such as antenna patterns less visible.
本実施形態は、配線パターン領域を視認しづらくすることが可能な、配線基板および配線基板の製造方法を提供することを目的の一つとする。 One of the objectives of this embodiment is to provide a wiring board and a method for manufacturing a wiring board that can make the wiring pattern area less visible.
本開示の一実施形態による配線基板は、配線基板であって、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第1ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域の開口率以上であり、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第1ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第1ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第2ダミーパターン領域の開口率は、前記第1ダミーパターン領域の開口率よりも大きい、配線基板である。 A wiring board according to one embodiment of the present disclosure is a wiring board comprising: a substrate; a wiring pattern region disposed on the substrate and including a plurality of wirings; and a plurality of dummy pattern regions disposed around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings, wherein the substrate is transparent; and wherein, of the plurality of dummy pattern regions, a first dummy pattern region adjacent to the wiring pattern region has an aperture ratio equal to or greater than the aperture ratio of the wiring pattern region; and, of the plurality of dummy pattern regions, a second dummy pattern region adjacent to the first dummy pattern region and farther from the wiring pattern region than the first dummy pattern region has an aperture ratio greater than the aperture ratio of the first dummy pattern region.
本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線パターン領域が複数存在してもよく、少なくとも1つの前記ダミーパターン領域が、複数の前記配線パターン領域を取り囲むように設けられていてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, there may be multiple wiring pattern regions, and at least one dummy pattern region may be provided so as to surround multiple wiring pattern regions.
本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線パターン領域および複数の前記ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域から、前記配線パターン領域に遠い前記ダミーパターン領域に向けて段階的に大きくなってもよく、前記第1ダミーパターン領域の開口率と、前記配線パターン領域の開口率との差は、0%以上2%以下であり、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の開口率の差は、それぞれ0.02%以上2%以下であってもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the aperture ratios of the wiring pattern region and the plurality of dummy pattern regions may increase stepwise from the wiring pattern region toward the dummy pattern region farthest from the wiring pattern region, the difference between the aperture ratio of the first dummy pattern region and the aperture ratio of the wiring pattern region may be 0% or more and 2% or less, and the difference between the aperture ratios of adjacent dummy pattern regions may be 0.02% or more and 2% or less.
本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線パターン領域から最も遠い前記ダミーパターン領域の周囲に配置された周囲領域を更に備えていてもよく、前記周囲領域の開口率は100%であってもよい。 A wiring board according to one embodiment of the present disclosure may further include a peripheral region arranged around the dummy pattern region farthest from the wiring pattern region, and the aperture ratio of the peripheral region may be 100%.
本開示の一実施形態による配線基板は、前記配線パターン領域および複数の前記ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域から、前記配線パターン領域に遠い前記ダミーパターン領域に向けて段階的に大きくなってもよく、前記第1ダミーパターン領域の開口率と、前記配線パターン領域の開口率との差、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の開口率の差は、0%以上2%以下であり、前記周囲領域と、前記周囲領域に隣り合う前記ダミーパターン領域との開口率の差は、それぞれ0.02%以上2%以下であってもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the aperture ratios of the wiring pattern region and the multiple dummy pattern regions may increase stepwise from the wiring pattern region toward the dummy pattern region farthest from the wiring pattern region, and the difference between the aperture ratio of the first dummy pattern region and the aperture ratio of the wiring pattern region and the difference between the aperture ratios of adjacent dummy pattern regions may be 0% or more and 2% or less, and the difference between the aperture ratios of the surrounding region and the dummy pattern region adjacent to the surrounding region may be 0.02% or more and 2% or less.
本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第1辺および第2辺を含んでいてもよく、前記第1辺と前記第2辺とが交わる頂点を第1頂点とし、前記第1頂点から延びる、前記第1辺の延長線を第1仮想線とし、前記第1頂点から延びる、前記第2辺の延長線を第2仮想線とした場合、前記第1仮想線と前記第2仮想線とに挟まれた領域において、前記第1ダミーパターン領域の外縁は、前記第1頂点を中心とする円弧形状をもっていてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the outer edge of the wiring pattern region may include a first side and a second side that intersect with each other in a planar view. When the vertex where the first side and the second side intersect is defined as a first vertex, an extension line of the first side extending from the first vertex is defined as a first virtual line, and an extension line of the second side extending from the first vertex is defined as a second virtual line, the outer edge of the first dummy pattern region in the region sandwiched between the first virtual line and the second virtual line may have an arc shape centered at the first vertex.
本開示の一実施形態による配線基板において、前記第1仮想線と前記第2仮想線とに挟まれた領域において、前記第2ダミーパターン領域の外縁は、前記第1頂点を中心とする円弧形状をもっていてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, in the region between the first virtual line and the second virtual line, the outer edge of the second dummy pattern region may have an arc shape centered on the first vertex.
本開示の一実施形態による配線基板は、配線基板であって、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第1ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第1ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第1ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第2ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、前記第1ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第3辺および第4辺を含み、前記第3辺と前記第4辺とが交わる頂点を第2頂点とし、前記第2頂点から延びる、前記第3辺の延長線を第3仮想線とし、前記第2頂点から延びる、前記第4辺の延長線を第4仮想線とした場合、前記第3仮想線と前記第4仮想線とに挟まれた領域において、前記第2ダミーパターン領域の外縁は、前記第2頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板である。 A wiring board according to one embodiment of the present disclosure is a wiring board comprising: a substrate; a wiring pattern region disposed on the substrate and including a plurality of wirings; and a plurality of dummy pattern regions disposed around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings, wherein the substrate is transparent, and a first dummy pattern region adjacent to the wiring pattern region among the plurality of dummy pattern regions has an aperture ratio of 1/2 or less than that of a first dummy pattern region adjacent to the first dummy pattern region among the plurality of dummy pattern regions and having a larger aperture ratio than that of the first dummy pattern region. The opening ratio of the first dummy pattern region is smaller than that of the second dummy pattern region farther from the line region, and the outer edge of the first dummy pattern region includes a third side and a fourth side that intersect with each other in a plan view. When the vertex where the third side and the fourth side intersect is defined as a second vertex, an extension of the third side extending from the second vertex is defined as a third virtual line, and an extension of the fourth side extending from the second vertex is defined as a fourth virtual line, the outer edge of the second dummy pattern region in the region sandwiched between the third virtual line and the fourth virtual line has an arc shape centered at the second vertex.
本開示の一実施形態による配線基板において、複数の前記ダミーパターン領域は、それぞれ前記配線から電気的に独立した複数のダミー配線を含んでいてもよく、複数の前記ダミー配線は、それぞれ第1ダミー配線部分と第2ダミー配線部分とを有していてもよく、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の前記第1ダミー配線部分は、互いに平行に配置されていてもよく、互いに隣り合う前記ダミーパターン領域の前記第2ダミー配線部分は、互いに平行に配置されていてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the multiple dummy pattern regions may each include multiple dummy wirings that are electrically independent from the wiring, and the multiple dummy wirings may each have a first dummy wiring portion and a second dummy wiring portion, and the first dummy wiring portions of adjacent dummy pattern regions may be arranged parallel to each other, and the second dummy wiring portions of adjacent dummy pattern regions may be arranged parallel to each other.
本開示の一実施形態による配線基板において、前記配線パターン領域は、複数の前記配線を連結する複数の連結配線を更に含んでいてもよく、複数の前記ダミーパターン領域は、それぞれ前記配線および前記連結配線から電気的に独立した複数のダミー配線を含んでいてもよく、複数の前記ダミー配線は、それぞれ第1ダミー配線部分と第2ダミー配線部分とを有していてもよく、前記配線と、前記各ダミーパターン領域の前記第1ダミー配線部分とは、互いに平行に配置されていてもよく、前記連結配線と、前記各ダミーパターン領域の前記第2ダミー配線部分とは、互いに平行に配置されていてもよい。 In a wiring board according to one embodiment of the present disclosure, the wiring pattern region may further include a plurality of connecting wires connecting the plurality of wirings, and the plurality of dummy pattern regions may each include a plurality of dummy wires electrically independent from the wirings and the connecting wires, and the plurality of dummy wires may each have a first dummy wire portion and a second dummy wire portion, and the wirings and the first dummy wire portion of each dummy pattern region may be arranged parallel to each other, and the connecting wires and the second dummy wire portion of each dummy pattern region may be arranged parallel to each other.
本開示の一実施形態による配線基板は、配線基板であって、基板と、前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域と、を備え、前記基板は、透明性を有し、前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第1辺および第2辺を含み、前記第1辺と前記第2辺とが交わる頂点を第1頂点とし、前記第1頂点から延びる、前記第1辺の延長線を第1仮想線とし、前記第1頂点から延びる、前記第2辺の延長線を第2仮想線とした場合、前記第1仮想線と前記第2仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第1頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板である。 A wiring board according to one embodiment of the present disclosure is a wiring board comprising: a substrate; a wiring pattern region disposed on the substrate and including a plurality of wirings; and a dummy pattern region disposed around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings, wherein the substrate is transparent, and the outer edge of the wiring pattern region includes a first side and a second side that intersect with each other in a planar view, and where the vertex where the first side and the second side intersect is defined as a first vertex, an extension line of the first side extending from the first vertex is defined as a first virtual line, and an extension line of the second side extending from the first vertex is defined as a second virtual line, the outer edge of the dummy pattern region in the region sandwiched between the first virtual line and the second virtual line has an arc shape centered at the first vertex.
本開示の一実施形態による配線基板は、電波送受信機能を有していてもよい。 A wiring board according to one embodiment of the present disclosure may have radio wave transmission and reception capabilities.
本開示の一実施形態による画像表示装置は、一実施形態による配線基板と、前記配線基板に積層された表示装置と、を備え、前記配線パターン領域は、前記表示装置の隅部に設けられている、画像表示装置である。 An image display device according to one embodiment of the present disclosure includes a wiring substrate according to one embodiment and a display device laminated on the wiring substrate, and the wiring pattern area is provided in a corner of the display device.
本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、配線基板の製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第1ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域の開口率以上であり、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第1ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第1ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第2ダミーパターン領域の開口率は、前記第1ダミーパターン領域の開口率よりも大きい、配線基板の製造方法である。 A method for manufacturing a wiring board according to one embodiment of the present disclosure includes the steps of preparing a substrate and forming, on the substrate, a wiring pattern region including a plurality of wirings, and a plurality of dummy pattern regions arranged around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings, wherein the substrate is transparent, and a first dummy pattern region of the plurality of dummy pattern regions adjacent to the wiring pattern region has an aperture ratio equal to or greater than the aperture ratio of the wiring pattern region, and a second dummy pattern region of the plurality of dummy pattern regions adjacent to the first dummy pattern region and farther from the wiring pattern region than the first dummy pattern region has an aperture ratio greater than the aperture ratio of the first dummy pattern region.
本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、配線基板の製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、前記基板は、透明性を有し、前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第1辺および第2辺を含み、前記第1辺と前記第2辺とが交わる頂点を第1頂点とし、前記第1頂点から延びる、前記第1辺の延長線を第1仮想線とし、前記第1頂点から延びる、前記第2辺の延長線を第2仮想線とした場合、前記第1仮想線と前記第2仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第1頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法である。 A method for manufacturing a wiring board according to one embodiment of the present disclosure includes the steps of: preparing a substrate; and forming, on the substrate, a wiring pattern region including a plurality of wirings; and a dummy pattern region disposed around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings; wherein the substrate is transparent; and the outer edge of the wiring pattern region includes a first side and a second side that intersect with each other in a planar view; where the vertex where the first side and the second side intersect is defined as a first vertex, an extension of the first side extending from the first vertex is defined as a first virtual line, and an extension of the second side extending from the first vertex is defined as a second virtual line, the outer edge of the dummy pattern region in the region sandwiched between the first virtual line and the second virtual line has an arc shape centered at the first vertex.
本開示の一実施形態による配線基板の製造方法は、配線基板の製造方法であって、基板を準備する工程と、前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、前記基板は、透明性を有し、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第1ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第1ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第1ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第2ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、前記第1ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第3辺および第4辺を含み、前記第3辺と前記第4辺とが交わる頂点を第2頂点とし、前記第2頂点から延びる、前記第3辺の延長線を第3仮想線とし、前記第2頂点から延びる、前記第4辺の延長線を第4仮想線とした場合、前記第3仮想線と前記第4仮想線とに挟まれた領域において、前記第2ダミーパターン領域の外縁は、前記第2頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法である。 A method for manufacturing a wiring board according to one embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing a wiring board, comprising the steps of: preparing a substrate; and forming, on the substrate, a wiring pattern region including a plurality of wirings; and a plurality of dummy pattern regions arranged around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings; wherein the substrate is transparent; and a first dummy pattern region adjacent to the wiring pattern region among the plurality of dummy pattern regions has an aperture ratio of 1/2 or less than that of the first dummy pattern region among the plurality of dummy pattern regions, the aperture ratio of the first dummy pattern region being adjacent to the first dummy pattern region among the plurality of dummy pattern regions. This is a method for manufacturing a wiring substrate, wherein the opening ratio of the first dummy pattern region is smaller than that of a second dummy pattern region that is farther from the wiring pattern region, and the outer edge of the first dummy pattern region includes a third side and a fourth side that intersect with each other in a plan view, and when the vertex where the third side and the fourth side intersect is defined as a second vertex, an extension of the third side extending from the second vertex is defined as a third virtual line, and an extension of the fourth side extending from the second vertex is defined as a fourth virtual line, the outer edge of the second dummy pattern region in the region sandwiched between the third virtual line and the fourth virtual line has an arc shape centered at the second vertex.
本開示の実施の形態によると、配線パターン領域を視認しづらくできる。 According to embodiments of the present disclosure, wiring pattern areas can be made less visible.
まず、図1乃至図7により、一実施の形態について説明する。図1乃至図7は本実施の形態を示す図である。 First, one embodiment will be described with reference to Figures 1 to 7. Figures 1 to 7 show this embodiment.
以下に示す各図は、模式的に示した図である。そのため、各部の大きさ、形状は理解を容易にするために、適宜誇張している。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施できる。なお、以下に示す各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。また、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値および材料名は、実施形態としての一例であり、これに限定されることなく、適宜選択して使用できる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行や直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含めて解釈することとする。 The figures shown below are schematic diagrams. Therefore, the size and shape of each part have been appropriately exaggerated to facilitate understanding. Furthermore, appropriate modifications can be made without departing from the technical concept. In the figures shown below, identical parts are given the same reference numerals, and some detailed explanations may be omitted. Furthermore, the numerical values, such as dimensions, and material names of each component described in this specification are examples of an embodiment, and are not limited to these and can be selected and used as appropriate. In this specification, terms specifying shapes or geometric conditions, such as parallel, orthogonal, and perpendicular, are interpreted to include substantially the same state in addition to their strict meaning.
本実施形態において、「X方向」とは、配線パターン領域の長手方向に対して垂直な方向であり、アンテナ配線の周波数帯に対応する長さの方向に対して垂直な方向である。「Y方向」とは、X方向に垂直かつ配線パターン領域の長手方向に対して平行な方向であり、アンテナ配線の周波数帯に対応する長さの方向に対して平行な方向である。「Z方向」とは、X方向およびY方向の両方に垂直かつ配線基板の厚み方向に平行な方向である。また、「表面」とは、Z方向プラス側の面であって、基板に対してアンテナ配線が設けられた面をいう。「裏面」とは、Z方向マイナス側の面であって、基板に対してアンテナ配線が設けられた面と反対側の面をいう。なお、本実施形態において、配線パターン領域20が、電波送受信機能(アンテナとしての機能)を有するアンテナパターン領域20である場合を例にとって説明するが、配線パターン領域20は電波送受信機能(アンテナとしての機能)を有していなくても良い。 In this embodiment, the "X direction" refers to a direction perpendicular to the longitudinal direction of the wiring pattern area and a direction perpendicular to the length direction corresponding to the frequency band of the antenna wiring. The "Y direction" refers to a direction perpendicular to the X direction and parallel to the longitudinal direction of the wiring pattern area and a direction parallel to the length direction corresponding to the frequency band of the antenna wiring. The "Z direction" refers to a direction perpendicular to both the X direction and the Y direction and parallel to the thickness direction of the wiring board. Furthermore, the "front surface" refers to the surface on the positive side of the Z direction, which is the surface on the board on which the antenna wiring is provided. The "back surface" refers to the surface on the negative side of the Z direction, which is the surface opposite to the surface on the board on which the antenna wiring is provided. Note that this embodiment will be described taking as an example a case where the wiring pattern area 20 is an antenna pattern area 20 with radio wave transmission and reception functionality (antenna functionality), but the wiring pattern area 20 does not necessarily have radio wave transmission and reception functionality (antenna functionality).
[配線基板の構成]
図1乃至図5を参照して、本実施形態による配線基板の構成について説明する。図1乃至図5は、本実施形態による配線基板を示す図である。
[Configuration of wiring board]
The configuration of the wiring board according to this embodiment will be described with reference to Figures 1 to 5. Figures 1 to 5 are diagrams showing the wiring board according to this embodiment.
図1に示すように、本実施形態による配線基板10は、例えば画像表示装置のディスプレイ上に配置される。このような配線基板10は、透明性を有する基板11と、基板11上に配置されたアンテナパターン領域(配線パターン領域)20と、基板11上でアンテナパターン領域20の周囲に配置された複数のダミーパターン領域30と、を備えている。また、アンテナパターン領域20には、給電部40が電気的に接続されている。 As shown in FIG. 1, a wiring board 10 according to this embodiment is placed on, for example, the display of an image display device. Such wiring board 10 comprises a transparent substrate 11, an antenna pattern area (wiring pattern area) 20 arranged on the substrate 11, and a plurality of dummy pattern areas 30 arranged around the antenna pattern area 20 on the substrate 11. In addition, a power supply section 40 is electrically connected to the antenna pattern area 20.
このうち基板11は、平面視で略長方形状であり、その長手方向がY方向に平行であり、その短手方向がX方向に平行となっている。基板11は、透明性を有するとともに略平板状であり、その厚みは全体として略均一となっている。基板11の長手方向(Y方向)の長さL1は、例えば100mm以上200mm以下の範囲で選択でき、基板11の短手方向(X方向)の長さL2は、例えば50mm以上100mm以下の範囲で選択できる。 The substrate 11 has a substantially rectangular shape in a plan view, with its longitudinal direction parallel to the Y direction and its lateral direction parallel to the X direction. The substrate 11 is transparent and substantially flat, with a substantially uniform thickness overall. The length L1 of the substrate 11 in the longitudinal direction (Y direction) can be selected, for example, from 100 mm to 200 mm, and the length L2 of the substrate 11 in the lateral direction (X direction) can be selected, for example, from 50 mm to 100 mm.
基板11の材料は、可視光線領域での透明性および電気絶縁性を有する材料であればよい。本実施形態において基板11の材料はポリエチレンテレフタレートであるが、これに限定されない。基板11の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、或いは、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂材料等の有機絶縁性材料を用いることが好ましい。あるいは、基板11の材料としては、シクロオレフィンポリマー(例えば日本ゼオン社製ZF-16)、ポリノルボルネンポリマー(住友ベークライト社製)等の有機絶縁性材料を用いても良い。また、基板11の材料としては、用途に応じてガラス、セラミックス等を適宜選択することもできる。なお、基板11は、単一の層によって構成された例を図示したが、これに限定されず、複数の基材又は層が積層された構造であってもよい。また、基板11はフィルム状であっても、板状であってもよい。このため、基板11の厚さは特に制限はなく、用途に応じて適宜選択できるが、一例として、基板11の厚みT1(Z方向の長さ、図3参照)は、例えば10μm以上200μm以下の範囲とすることができる。 The material of the substrate 11 may be any material that is transparent in the visible light range and electrically insulating. In this embodiment, the material of the substrate 11 is polyethylene terephthalate, but is not limited thereto. The substrate 11 is preferably made of an organic insulating material, such as a polyester resin such as polyethylene terephthalate, an acrylic resin such as polymethyl methacrylate, a polycarbonate resin, a polyimide resin, a polyolefin resin such as a cycloolefin polymer, or a cellulose resin such as triacetyl cellulose. Alternatively, the substrate 11 may be made of an organic insulating material such as a cycloolefin polymer (e.g., ZF-16 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) or a polynorbornene polymer (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.). The substrate 11 may also be made of glass, ceramics, or other suitable materials depending on the application. While the substrate 11 is illustrated as being composed of a single layer, the present invention is not limited thereto and may have a structure in which multiple substrates or layers are stacked. The substrate 11 may also be in the form of a film or a plate. Therefore, the thickness of the substrate 11 is not particularly limited and can be selected appropriately depending on the application. As an example, the thickness T 1 of the substrate 11 (length in the Z direction, see FIG. 3) can be set in the range of 10 μm or more and 200 μm or less.
また、基板11の誘電正接は、0.002以下であっても良く、0.001以下であることが好ましい。なお、基板11の誘電正接の下限は特にないが、0超としても良い。基板11の誘電正接が上記範囲であることにより、とりわけアンテナパターン領域20が送受信する電磁波(例えばミリ波)が高周波である場合に、電磁波の送受信に伴う利得(感度)の損失を小さくできる。なお、基板11の誘電正接の下限は、特に限定されない。基板11の比誘電率は、特に制限はないが、2.0以上、10.0以下であっても良い。 The dielectric dissipation factor of the substrate 11 may be 0.002 or less, and preferably 0.001 or less. There is no particular lower limit to the dielectric dissipation factor of the substrate 11, but it may be greater than 0. By having the dielectric dissipation factor of the substrate 11 within the above range, it is possible to reduce the loss of gain (sensitivity) associated with the transmission and reception of electromagnetic waves, particularly when the electromagnetic waves (e.g., millimeter waves) transmitted and received by the antenna pattern region 20 are high frequency. There is no particular limit to the lower limit of the dielectric dissipation factor of the substrate 11. There is no particular limit to the relative permittivity of the substrate 11, but it may be 2.0 or more and 10.0 or less.
基板11の誘電正接は、IEC 62562に準拠して測定できる。具体的には、まず、アンテナパターン領域20が形成されてない部分の基板11を切り出して試験片を準備する。または、アンテナパターン領域20が形成された基板11を切り出し、エッチング等によりアンテナパターン領域20を除去しても良い。試験片の寸法は、幅10mmから20mm、長さ50mmから100mmとする。次に、IEC 62562に準拠し、誘電正接を測定する。基板11の比誘電率と誘電正接は、ASTM D150に準拠して測定することもできる。 The dielectric loss tangent of the substrate 11 can be measured in accordance with IEC 62562. Specifically, first, a test piece is prepared by cutting out a portion of the substrate 11 where the antenna pattern region 20 is not formed. Alternatively, the substrate 11 with the antenna pattern region 20 formed can be cut out, and the antenna pattern region 20 can be removed by etching or the like. The dimensions of the test piece should be 10 mm to 20 mm wide and 50 mm to 100 mm long. Next, the dielectric loss tangent is measured in accordance with IEC 62562. The relative permittivity and dielectric loss tangent of the substrate 11 can also be measured in accordance with ASTM D150.
また、基板11は、透明性を有している。本明細書中、「透明性を有する」とは、可視光線(波長400nm以上700nm以下の光線)の透過率が85%以上であることを意味する。基板11は、可視光線(波長400nm以上700nm以下の光線)の透過率が85%以上であっても良く、90%以上であることが好ましい。なお、基板11の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば100%以下としても良い。基板11の可視光線の透過率を上記範囲とすることにより、配線基板10の透明性を高め、画像表示装置90のディスプレイ91(後述)を視認しやすくできる。なお、可視光線とは、波長が400nm以上700nm以下の光線のことをいう。また、可視光線の透過率が85%以上であるとは、公知の分光光度計(例えば、日本分光株式会社製の分光器:V-670)を用いて基板11に対して吸光度の測定を行った際、400nm以上700nm以下の全波長領域でその透過率が85%以上となることをいう。 The substrate 11 is also transparent. In this specification, "transparent" means that the transmittance of visible light (light with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less) is 85% or more. The substrate 11 may have a transmittance of visible light (light with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less) of 85% or more, preferably 90% or more. There is no particular upper limit to the visible light transmittance of the substrate 11, but it may be, for example, 100% or less. By setting the visible light transmittance of the substrate 11 within the above range, the transparency of the wiring substrate 10 can be increased, making it easier to view the display 91 (described below) of the image display device 90. Visible light refers to light with a wavelength of 400 nm or more and 700 nm or less. Furthermore, a visible light transmittance of 85% or more means that when the absorbance of the substrate 11 is measured using a known spectrophotometer (for example, the V-670 spectrometer manufactured by JASCO Corporation), the transmittance is 85% or more over the entire wavelength range from 400 nm to 700 nm.
図1において、アンテナパターン領域20は、基板11上に複数(3つ)存在しており、それぞれ異なる周波数帯に対応している。すなわち、複数のアンテナパターン領域20は、その長さ(Y方向の長さ)Laが互いに異なっており、それぞれ特定の周波数帯に対応した長さを有している。なお、対応する周波数帯が低周波であるほどアンテナパターン領域20の長さLaが長くなっている。配線基板10が例えば画像表示装置90のディスプレイ91(後述する図7参照)上に配置される場合、各アンテナパターン領域20は、配線基板10が電波送受信機能を有する場合、電話用アンテナ、WiFi用アンテナ、3G用アンテナ、4G用アンテナ、5G用アンテナ、LTE用アンテナ、Bluetooth(登録商標)用アンテナ、NFC用アンテナ等のいずれかに対応していても良い。あるいは、配線基板10が電波送受信機能を有していない場合、各アンテナパターン領域20は、例えばホバリング(使用者がディスプレイに直接触れなくても操作可能となる機能)、指紋認証、ヒーター、ノイズカット(シールド)等の機能を果たしても良い。また、アンテナパターン領域20は、基板11の全面に存在するのではなく、基板11上の一部領域のみに存在していても良い。 In FIG. 1 , there are multiple (three) antenna pattern areas 20 on the substrate 11, each corresponding to a different frequency band. That is, the multiple antenna pattern areas 20 have different lengths (length in the Y direction) La , each corresponding to a specific frequency band. Note that the lower the corresponding frequency band, the longer the length La of the antenna pattern area 20. When the wiring substrate 10 is disposed on, for example, a display 91 of an image display device 90 (see FIG. 7 described later), if the wiring substrate 10 has a radio wave transmission/reception function, each antenna pattern area 20 may correspond to any of a telephone antenna, a Wi-Fi antenna, a 3G antenna, a 4G antenna, a 5G antenna, an LTE antenna, a Bluetooth (registered trademark) antenna, an NFC antenna, etc. Alternatively, if the wiring substrate 10 does not have a radio wave transmission/reception function, each antenna pattern area 20 may perform functions such as hovering (a function that allows the user to operate the display without directly touching it), fingerprint authentication, a heater, noise reduction (shielding), etc. Furthermore, the antenna pattern region 20 does not have to be present over the entire surface of the substrate 11, but may be present in only a partial region on the substrate 11.
各アンテナパターン領域20は、それぞれ、平面視において、四角形状をもつ。本実施の形態では、各アンテナパターン領域20は、それぞれ平面視で略長方形状である。各アンテナパターン領域20は、その長手方向がY方向に平行であり、その短手方向がX方向に平行となっている。各アンテナパターン領域20の長手方向(Y方向)の長さLaは、例えば3mm以上100mm以下の範囲で選択でき、各アンテナパターン領域20の短手方向(X方向)の幅Waは、例えば1mm以上10mm以下の範囲で選択できる。とりわけアンテナパターン領域20は、ミリ波用アンテナとして機能しても良い。アンテナパターン領域20がミリ波用アンテナである場合、アンテナパターン領域20の長さLaは、1mm以上10mm以下、より好ましくは1.5mm以上5mm以下の範囲で選択できる。 Each antenna pattern region 20 has a quadrangular shape in a plan view. In this embodiment, each antenna pattern region 20 has a substantially rectangular shape in a plan view. The longitudinal direction of each antenna pattern region 20 is parallel to the Y direction, and the lateral direction of each antenna pattern region 20 is parallel to the X direction. The length La of each antenna pattern region 20 in the longitudinal direction (Y direction) can be selected, for example, from 3 mm to 100 mm, and the width Wa of each antenna pattern region 20 in the lateral direction (X direction) can be selected, for example, from 1 mm to 10 mm. In particular, the antenna pattern region 20 may function as a millimeter wave antenna. When the antenna pattern region 20 is a millimeter wave antenna, the length La of the antenna pattern region 20 can be selected, for example, from 1 mm to 10 mm, and more preferably, from 1.5 mm to 5 mm.
アンテナパターン領域20は、それぞれ金属線が格子形状または網目形状に形成され、X方向およびY方向に均一な繰り返しパターンを有している。すなわち図2Aおよび図2Bに示すように、アンテナパターン領域20は、X方向に延びる部分(後述するアンテナ連結配線22の一部)とY方向に延びる部分(後述するアンテナ配線21の一部)とから構成されるL字状の単位パターン形状20a(図2Aおよび図2Bの網掛け部分)の繰り返しから構成されている。 In the antenna pattern region 20, metal wires are formed in a lattice or mesh pattern, with a uniform repeat pattern in the X and Y directions. That is, as shown in Figures 2A and 2B, the antenna pattern region 20 is composed of repeated L-shaped unit pattern shapes 20a (shaded areas in Figures 2A and 2B) consisting of a portion extending in the X direction (part of the antenna connecting wiring 22, described below) and a portion extending in the Y direction (part of the antenna wiring 21, described below).
図2Aおよび図2Bに示すように、各アンテナパターン領域20は、アンテナとしての機能をもつ複数のアンテナ配線(配線)21と、複数のアンテナ配線21を連結する複数のアンテナ連結配線(連結配線)22とを含んでいる。具体的には、複数のアンテナ配線21と複数のアンテナ連結配線22とは、全体として一体となって、規則的な格子形状または網目形状を形成している。各アンテナ配線21は、アンテナの周波数帯に対応する方向(Y方向)に延びており、各アンテナ連結配線22は、アンテナ配線21に直交する方向(X方向)に延びている。アンテナ配線21は、所定の周波数帯に対応する長さLa(上述したアンテナパターン領域20の長さ)を有することにより、主としてアンテナとしての機能を発揮する。一方、アンテナ連結配線22は、これらのアンテナ配線21同士を連結することにより、アンテナ配線21が断線したり、アンテナ配線21と給電部40とが電気的に接続しなくなったりする不具合を抑える役割を果たす。 As shown in Figures 2A and 2B, each antenna pattern area 20 includes a plurality of antenna wirings (wirings) 21 that function as antennas and a plurality of antenna connecting wirings (connecting wirings) 22 that connect the plurality of antenna wirings 21. Specifically, the plurality of antenna wirings 21 and the plurality of antenna connecting wirings 22 are integrated as a whole to form a regular lattice or mesh shape. Each antenna wiring 21 extends in a direction corresponding to the antenna's frequency band (Y direction), and each antenna connecting wiring 22 extends in a direction perpendicular to the antenna wiring 21 (X direction). The antenna wiring 21 primarily functions as an antenna by having a length L a (the length of the antenna pattern area 20 described above) that corresponds to a predetermined frequency band. Meanwhile, the antenna connecting wirings 22 connect these antenna wirings 21 together, thereby preventing problems such as breakage of the antenna wirings 21 or loss of electrical connection between the antenna wirings 21 and the power supply section 40.
各アンテナパターン領域20においては、互いに隣接するアンテナ配線21と、互いに隣接するアンテナ連結配線22とに取り囲まれることにより、複数の開口部23が形成されている。また、アンテナ配線21とアンテナ連結配線22とは互いに等間隔に配置されている。すなわち複数のアンテナ配線21は、互いに等間隔に配置され、そのピッチP1(図2A参照)は、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。また、複数のアンテナ連結配線22は、互いに等間隔に配置され、そのピッチP2(図2A参照)は、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。このように、複数のアンテナ配線21と複数のアンテナ連結配線22とがそれぞれ等間隔に配置されていることにより、各アンテナパターン領域20内で開口部23の大きさにばらつきがなくなり、アンテナパターン領域20を肉眼で視認しにくくできる。また、アンテナ配線21のピッチP1は、アンテナ連結配線22のピッチP2と等しい。このため、各開口部23は、それぞれ平面視略正方形状となっており、各開口部23からは、透明性を有する基板11が露出している。このため、各開口部23の面積を広くすることにより、配線基板10全体としての透明性を高めることができる。なお、各開口部23の一辺の長さL3(図2A参照)は、例えば0.01mm以上1mm以下の範囲とすることができる。なお、各アンテナ配線21と各アンテナ連結配線22とは、互いに直交しているが、これに限らず、互いに鋭角または鈍角に交差していてもよい。また、開口部23の形状は、全面で同一形状同一サイズとするのが好ましいが、場所によって変えるなど全面で均一としなくても良い。 In each antenna pattern region 20, a plurality of openings 23 are formed by being surrounded by adjacent antenna wirings 21 and adjacent antenna connecting wirings 22. The antenna wirings 21 and the antenna connecting wirings 22 are arranged at equal intervals. That is, the plurality of antenna wirings 21 are arranged at equal intervals, and the pitch P1 (see FIG. 2A ) therebetween can be, for example, in the range of 0.01 mm to 1 mm. The plurality of antenna connecting wirings 22 are arranged at equal intervals, and the pitch P2 (see FIG. 2A ) therebetween can be, for example, in the range of 0.01 mm to 1 mm. Since the plurality of antenna wirings 21 and the plurality of antenna connecting wirings 22 are arranged at equal intervals, the size of the openings 23 within each antenna pattern region 20 is uniform, making the antenna pattern region 20 less visible to the naked eye. The pitch P1 of the antenna wirings 21 is equal to the pitch P2 of the antenna connecting wirings 22. Therefore, each opening 23 has a substantially square shape in a plan view, and the transparent substrate 11 is exposed through each opening 23. Therefore, by increasing the area of each opening 23, the transparency of the wiring substrate 10 as a whole can be increased. The length L 3 of one side of each opening 23 (see FIG. 2A ) can be, for example, in the range of 0.01 mm or more and 1 mm or less. While the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22 are orthogonal to each other, this is not a limitation and they may intersect at an acute or obtuse angle. The shape of the opening 23 is preferably the same across the entire surface, but it does not have to be uniform across the entire surface; for example, it may vary depending on the location.
図3に示すように、各アンテナ配線21は、その長手方向に垂直な断面(X方向断面)が略長方形形状又は略正方形形状となっている。この場合、アンテナ配線21の断面形状は、アンテナ配線21の長手方向(Y方向)に沿って略均一となっている。また、図4に示すように、各アンテナ連結配線22の長手方向に垂直な断面(Y方向断面)の形状は、略長方形形状又は略正方形形状であり、上述したアンテナ配線21の断面(X方向断面)形状と略同一である。この場合、アンテナ連結配線22の断面形状は、アンテナ連結配線22の長手方向(X方向)に沿って略均一となっている。アンテナ配線21とアンテナ連結配線22の断面形状は、必ずしも略長方形形状又は略正方形形状でなくても良く、例えば表面側(Z方向プラス側)が裏面側(Z方向マイナス側)よりも狭い略台形形状、あるいは、幅方向両側に位置する側面が湾曲した形状であっても良い。 As shown in FIG. 3, each antenna wiring 21 has a substantially rectangular or square cross section (X-direction cross section) perpendicular to its longitudinal direction. In this case, the cross-sectional shape of the antenna wiring 21 is substantially uniform along the longitudinal direction (Y-direction) of the antenna wiring 21. Also, as shown in FIG. 4, the cross-sectional shape of each antenna connecting wiring 22 perpendicular to the longitudinal direction (Y-direction cross section) is substantially rectangular or square, and is substantially the same as the cross-sectional shape (X-direction cross section) of the antenna wiring 21 described above. In this case, the cross-sectional shape of the antenna connecting wiring 22 is substantially uniform along the longitudinal direction (X-direction) of the antenna connecting wiring 22. The cross-sectional shapes of the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22 do not necessarily have to be substantially rectangular or square; for example, they may be substantially trapezoidal, with the front side (positive Z-direction side) narrower than the back side (negative Z-direction side), or may have curved sides on both widthwise sides.
本実施形態において、アンテナ配線21の線幅W1(X方向の長さ、図3参照)およびアンテナ連結配線22の線幅W2(Y方向の長さ、図4参照)は、特に限定されず、用途に応じて適宜選択できる。例えば、アンテナ配線21の線幅W1は0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択でき、アンテナ連結配線22の線幅W2は、0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択できる。また、アンテナ配線21の高さH1(Z方向の長さ、図3参照)およびアンテナ連結配線22の高さH2(Z方向の長さ、図4参照)は特に限定されず、用途に応じて適宜選択でき、例えば0.1μm以上5.0μm以下の範囲で選択できる。 In this embodiment, the line width W 1 of the antenna wiring 21 (length in the X direction, see FIG. 3 ) and the line width W 2 of the antenna connecting wiring 22 (length in the Y direction, see FIG. 4 ) are not particularly limited and can be selected appropriately depending on the application. For example, the line width W 1 of the antenna wiring 21 can be selected in the range of 0.1 μm to 5.0 μm, and the line width W 2 of the antenna connecting wiring 22 can be selected in the range of 0.1 μm to 5.0 μm. Furthermore, the height H 1 of the antenna wiring 21 (length in the Z direction, see FIG. 3 ) and the height H 2 of the antenna connecting wiring 22 (length in the Z direction, see FIG. 4 ) are not particularly limited and can be selected appropriately depending on the application, for example, in the range of 0.1 μm to 5.0 μm.
アンテナ配線21およびアンテナ連結配線22の材料は、導電性を有する金属材料であればよい。本実施形態においてアンテナ配線21およびアンテナ連結配線22の材料は銅であるが、これに限定されない。アンテナ配線21およびアンテナ連結配線22の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄、ニッケルなどの金属材料(含む合金)を用いることができる。 The material of the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22 may be any conductive metal material. In this embodiment, the material of the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22 is copper, but this is not limited to this. The material of the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22 can be, for example, a metal material (including an alloy) such as gold, silver, copper, platinum, tin, aluminum, iron, or nickel.
ところで、上述したように、配線基板10は、複数のダミーパターン領域30を備えている。再度図1を参照すると、各々のダミーパターン領域30は、各アンテナパターン領域20の周囲を取り囲むように設けられており、各アンテナパターン領域20のうち、給電部40側(Y方向マイナス側)を除く周方向全域(X方向プラス側、X方向マイナス側、Y方向プラス側)を取り囲むように形成されている。この場合、ダミーパターン領域30は、基板11上であって、アンテナパターン領域20および給電部40を除く略全域にわたって配置されている。このダミーパターン領域30は、アンテナパターン領域20とは異なり、実質的にアンテナとしての機能を果たすことはない。 As mentioned above, the wiring board 10 has multiple dummy pattern areas 30. Referring again to FIG. 1, each dummy pattern area 30 is provided to surround the periphery of each antenna pattern area 20, and is formed to surround the entire circumferential area (positive X side, negative X side, positive Y side) of each antenna pattern area 20 except for the power supply unit 40 side (negative Y side). In this case, the dummy pattern area 30 is arranged on the board 11 over almost the entire area except for the antenna pattern area 20 and the power supply unit 40. Unlike the antenna pattern area 20, this dummy pattern area 30 does not actually function as an antenna.
図示された例において、配線基板10は、3つのダミーパターン領域30を備えている。すなわち、配線基板10は、アンテナパターン領域20に隣接する第1ダミーパターン領域301と、第1ダミーパターン領域301に隣接する第2ダミーパターン領域302と、第2ダミーパターン領域302に隣接する第3ダミーパターン領域303とを備えている。このうち、第2ダミーパターン領域302は、第1ダミーパターン領域301よりもアンテナパターン領域20から遠くに位置し、第1ダミーパターン領域301を取り囲んでいる。また、第3ダミーパターン領域303は、第2ダミーパターン領域302よりもアンテナパターン領域20から遠くに位置し、第2ダミーパターン領域302を取り囲んでいる。なお、配線基板10が備えるダミーパターン領域30の個数は任意であり、例えば2以上50以下程度であってもよく、2以上10以下程度であってもよい。 In the illustrated example, the wiring board 10 has three dummy pattern regions 30. That is, the wiring board 10 has a first dummy pattern region 301 adjacent to the antenna pattern region 20, a second dummy pattern region 302 adjacent to the first dummy pattern region 301, and a third dummy pattern region 303 adjacent to the second dummy pattern region 302. Of these, the second dummy pattern region 302 is located farther from the antenna pattern region 20 than the first dummy pattern region 301 and surrounds the first dummy pattern region 301. Furthermore, the third dummy pattern region 303 is located farther from the antenna pattern region 20 than the second dummy pattern region 302 and surrounds the second dummy pattern region 302. The number of dummy pattern regions 30 included in the wiring board 10 is arbitrary and may be, for example, between 2 and 50, or between 2 and 10.
第1ダミーパターン領域301は、Y方向に沿って延びる一対の第1部分301Aと、X方向に沿って第1部分301A間に延びる第2部分301Bとを有している。第1部分301Aの短手方向(X方向)の幅Wa1は、例えば0.1mm以上50mm以下の範囲で、好ましくは0.2mm以上10mm以下の範囲で選択でき、第2部分301Bの短手方向(Y方向)の幅Wa2は、例えば0.1mm以上50mm以下の範囲で、好ましくは0.2mm以上10mm以下の範囲で選択できる。 The first dummy pattern region 301 has a pair of first portions 301A extending along the Y direction and a second portion 301B extending along the X direction between the first portions 301A. The width W a1 of the first portions 301A in the short side direction (X direction) can be selected, for example, in the range of 0.1 mm to 50 mm, and preferably in the range of 0.2 mm to 10 mm, and the width W a2 of the second portions 301B in the short side direction (Y direction) can be selected, for example, in the range of 0.1 mm to 50 mm, and preferably in the range of 0.2 mm to 10 mm.
第2ダミーパターン領域302は、Y方向に沿って延びる一対の第1部分302Aと、X方向に沿って第1部分302A間に延びる第2部分302Bとを有している。第1部分302Aの短手方向(X方向)の幅Wa3は、例えば0.1mm以上50mm以下の範囲で、好ましくは0.2mm以上10mm以下の範囲で選択でき、第2部分302Bの短手方向(Y方向)の幅Wa4は、例えば0.1mm以上50mm以下の範囲で、好ましくは0.2mm以上10mm以下の範囲で選択できる。 The second dummy pattern region 302 has a pair of first portions 302A extending along the Y direction and a second portion 302B extending along the X direction between the first portions 302A. The width W a3 of the first portions 302A in the short side direction (X direction) can be selected, for example, from a range of 0.1 mm to 50 mm, and preferably from a range of 0.2 mm to 10 mm, and the width W a4 of the second portions 302B in the short side direction (Y direction) can be selected, for example, from a range of 0.1 mm to 50 mm, and preferably from a range of 0.2 mm to 10 mm.
ここで、第2ダミーパターン領域302の第1部分302Aの幅Wa3は、第1ダミーパターン領域301の第1部分301Aの幅Wa1よりも大きくなっていてもよい。後述するように、本実施の形態では、第2ダミーパターン領域302の開口率A22が、第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも大きくなっている。このため、第2ダミーパターン領域302の第1部分302Aの幅Wa3が、第1ダミーパターン領域301の第1部分301Aの幅Wa1よりも大きくなっていることにより、配線基板10の全体の開口率を高くでき、配線基板10の透明性を高くできる。同様に、第2部分302Bの幅Wa4は、第1ダミーパターン領域301の第2部分301Bの幅Wa2よりも大きくなっていてもよい。これにより、配線基板10の全体の開口率を高くでき、配線基板10の透明性を高くできる。 Here, the width W a3 of the first portion 302A of the second dummy pattern region 302 may be larger than the width W a1 of the first portion 301A of the first dummy pattern region 301. As will be described later, in this embodiment, the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 is larger than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301. Therefore, by making the width W a3 of the first portion 302A of the second dummy pattern region 302 larger than the width W a1 of the first portion 301A of the first dummy pattern region 301, the overall aperture ratio of the wiring substrate 10 can be increased, and the transparency of the wiring substrate 10 can be improved. Similarly, the width W a4 of the second portion 302B may be larger than the width W a2 of the second portion 301B of the first dummy pattern region 301. This allows the overall aperture ratio of the wiring substrate 10 to be increased, and the transparency of the wiring substrate 10 can be improved.
第3ダミーパターン領域303は、複数のアンテナパターン領域20を取り囲むように設けられている。図示された例において、第3ダミーパターン領域303は、全てのアンテナパターン領域20を取り囲むように設けられている。これにより、複数のアンテナパターン領域20を、効果的に視認しにくくできる。この第3ダミーパターン領域303は、基板11上であって、アンテナパターン領域20、第1ダミーパターン領域301、第2ダミーパターン領域302および給電部40を除く略全域にわたって配置されている。 The third dummy pattern region 303 is arranged to surround multiple antenna pattern regions 20. In the illustrated example, the third dummy pattern region 303 is arranged to surround all of the antenna pattern regions 20. This effectively makes the multiple antenna pattern regions 20 less visible. This third dummy pattern region 303 is arranged over almost the entire area of the substrate 11, excluding the antenna pattern regions 20, the first dummy pattern region 301, the second dummy pattern region 302, and the power supply section 40.
図2Aおよび図2Bに示すように、複数のダミーパターン領域301、302、303は、それぞれアンテナ配線21(アンテナ配線21およびアンテナ連結配線22)から電気的に独立した複数のダミー配線301a、302a、303aを含んでいる。具体的には、第1ダミーパターン領域301は、所定の単位パターン形状をもつダミー配線301aの繰り返しから構成され、第2ダミーパターン領域302は、所定の単位パターン形状をもつダミー配線302aの繰り返しから構成され、第3ダミーパターン領域303は、所定の単位パターン形状をもつダミー配線303aの繰り返しから構成されている。すなわち、各々のダミーパターン領域301、302、303は、複数の同一形状のダミー配線301a、302a、303aを含んでおり、各ダミー配線301a、302a、303aは、それぞれアンテナパターン領域20から電気的に独立している。 As shown in Figures 2A and 2B, the multiple dummy pattern regions 301, 302, and 303 each include multiple dummy wirings 301a, 302a, and 303a that are electrically independent of the antenna wiring 21 (antenna wiring 21 and antenna connecting wiring 22). Specifically, the first dummy pattern region 301 is composed of repeated dummy wirings 301a having a predetermined unit pattern shape, the second dummy pattern region 302 is composed of repeated dummy wirings 302a having a predetermined unit pattern shape, and the third dummy pattern region 303 is composed of repeated dummy wirings 303a having a predetermined unit pattern shape. In other words, each dummy pattern region 301, 302, and 303 includes multiple dummy wirings 301a, 302a, and 303a of the same shape, and each dummy wiring 301a, 302a, and 303a is electrically independent from the antenna pattern region 20.
複数のダミー配線301aは、第1ダミーパターン領域301内の全域にわたって規則的に配置され、複数のダミー配線302aは、第2ダミーパターン領域302内の全域にわたって規則的に配置され、複数のダミー配線303aは、第3ダミーパターン領域303内の全域にわたって規則的に配置されている。複数のダミー配線301a、302a、303aは、互いに平面方向に離間するとともに、基板11上に突出して島状に配置されている。すなわち各ダミー配線301a、302a、303aは、アンテナパターン領域20、給電部40および他のダミー配線から電気的に独立している。 The multiple dummy wirings 301a are arranged regularly throughout the first dummy pattern region 301, the multiple dummy wirings 302a are arranged regularly throughout the second dummy pattern region 302, and the multiple dummy wirings 303a are arranged regularly throughout the third dummy pattern region 303. The multiple dummy wirings 301a, 302a, and 303a are spaced apart from one another in the planar direction and are arranged in island shapes protruding above the substrate 11. In other words, each dummy wiring 301a, 302a, and 303a is electrically independent from the antenna pattern region 20, the power supply section 40, and other dummy wirings.
また、複数のダミー配線301a、302a、303aは、それぞれ第1ダミー配線部分311、312、313と第2ダミー配線部分321、322、323とを有している。そして、図2Aに示すように、互いに隣り合うダミーパターン領域301、302、303の第1ダミー配線部分311、312、313は、互いに平行に配置されている。例えば、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311と、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312とが、互いに平行に配置されている。これにより、Y方向において、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との相違が目視で視認しにくくなっている。また、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312と、第3ダミーパターン領域303の第1ダミー配線部分313とが、互いに平行に配置されている。これにより、Y方向において、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との相違が目視で視認しにくくなっている。 Furthermore, the multiple dummy wirings 301a, 302a, and 303a each have first dummy wiring portions 311, 312, and 313 and second dummy wiring portions 321, 322, and 323. As shown in FIG. 2A, the first dummy wiring portions 311, 312, and 313 of adjacent dummy pattern regions 301, 302, and 303 are arranged parallel to each other. For example, the first dummy wiring portion 311 of the first dummy pattern region 301 and the first dummy wiring portion 312 of the second dummy pattern region 302 are arranged parallel to each other. This makes it difficult to visually recognize the difference between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 in the Y direction. Furthermore, the first dummy wiring portion 312 of the second dummy pattern region 302 and the first dummy wiring portion 313 of the third dummy pattern region 303 are arranged parallel to each other. This makes it difficult to visually recognize the difference between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 in the Y direction.
また、図2Aに示すように、アンテナパターン領域20のアンテナ配線21と、各ダミーパターン領域301、302、303の第1ダミー配線部分311、312、313とは、互いに平行に配置されている。これにより、Y方向において、アンテナパターン領域20と各ダミーパターン領域301、302、303との相違が目視で視認しにくくなっている。 Furthermore, as shown in FIG. 2A, the antenna wiring 21 in the antenna pattern region 20 and the first dummy wiring portions 311, 312, and 313 in each of the dummy pattern regions 301, 302, and 303 are arranged parallel to one another. This makes it difficult to visually recognize the difference between the antenna pattern region 20 and each of the dummy pattern regions 301, 302, and 303 in the Y direction.
また、図2Bに示すように、互いに隣り合うダミーパターン領域301、302、303の第2ダミー配線部分321、322、323は、互いに平行に配置されている。例えば、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321と、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322とが、互いに平行に配置されている。これにより、X方向において、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との相違が目視で視認しにくくなっている。また、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322と、第3ダミーパターン領域303の第2ダミー配線部分323とが、互いに平行に配置されている。これにより、X方向において、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との相違が目視で視認しにくくなっている。 Also, as shown in FIG. 2B, the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 of adjacent dummy pattern regions 301, 302, and 303 are arranged parallel to each other. For example, the second dummy wiring portion 321 of the first dummy pattern region 301 and the second dummy wiring portion 322 of the second dummy pattern region 302 are arranged parallel to each other. This makes it difficult to visually recognize the difference between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 in the X direction. Furthermore, the second dummy wiring portion 322 of the second dummy pattern region 302 and the second dummy wiring portion 323 of the third dummy pattern region 303 are arranged parallel to each other. This makes it difficult to visually recognize the difference between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 in the X direction.
また、図2Bに示すように、アンテナパターン領域20のアンテナ連結配線22と、各ダミーパターン領域301、302、303の第2ダミー配線部分321、322、323とは、互いに平行に配置されている。これにより、X方向において、アンテナパターン領域20と各ダミーパターン領域301、302、303との相違が目視で視認しにくくなっている。 Furthermore, as shown in FIG. 2B, the antenna connecting wiring 22 in the antenna pattern region 20 and the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 in each of the dummy pattern regions 301, 302, and 303 are arranged parallel to one another. This makes it difficult to visually recognize the difference between the antenna pattern region 20 and each of the dummy pattern regions 301, 302, and 303 in the X direction.
次に、ダミー配線301a、302a、303aについてより詳細に説明する。ここでは、まず、第1ダミーパターン領域301のダミー配線301aについて説明する。 Next, we will explain the dummy wirings 301a, 302a, and 303a in more detail. Here, we will first explain the dummy wiring 301a in the first dummy pattern region 301.
(第1ダミーパターン領域のダミー配線)
図2Aおよび図2Bに示すように、ダミー配線301aは、それぞれ平面視略L字状であり、Y方向に延びる第1ダミー配線部分311と、X方向に延びる第2ダミー配線部分321とを有している。このうち第1ダミー配線部分311は、所定の長さL4(Y方向の長さ、図2A参照)を有し、第2ダミー配線部分321は、所定の長さL5(X方向の長さ、図2A参照)を有し、これらは互いに等しい(L4=L5)。
(Dummy wiring in the first dummy pattern region)
2A and 2B, the dummy wirings 301a are each approximately L-shaped in a plan view, and have a first dummy wiring portion 311 extending in the Y direction and a second dummy wiring portion 321 extending in the X direction. Of these, the first dummy wiring portion 311 has a predetermined length L4 (length in the Y direction, see FIG. 2A), and the second dummy wiring portion 321 has a predetermined length L5 (length in the X direction, see FIG. 2A), which are equal to each other ( L4 = L5 ).
また、第1ダミーパターン領域301において、X方向に互いに隣接するダミー配線301a同士の間には空隙部331a(図2Aおよび図2Bの網掛け部分)が形成され、Y方向に互いに隣接するダミー配線301a同士の間には空隙部331b(図2Aおよび図2Bの網掛け部分)が形成されている。この場合、ダミー配線301a同士は互いに等間隔に配置されている。すなわちX方向に互いに隣接するダミー配線301a同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップG1は、例えば1μm以上20μm以下の範囲とすることができる。同様に、Y方向に互いに隣接するダミー配線301a同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップG2は、例えば1μm以上20μm以下の範囲とすることができる。なお、ギャップG1、G2の最大値は、それぞれ上述したピッチP1、P2の0.8倍以下としてもよい。この場合、ダミー配線301aのX方向のギャップG1は、ダミー配線301aのY方向のギャップG2と等しい(G1=G2)。 Furthermore, in the first dummy pattern region 301, gaps 331a (shaded portions in FIGS. 2A and 2B) are formed between dummy wirings 301a adjacent to each other in the X direction, and gaps 331b (shaded portions in FIGS. 2A and 2B) are formed between dummy wirings 301a adjacent to each other in the Y direction. In this case, the dummy wirings 301a are arranged at equal intervals. That is, the dummy wirings 301a adjacent to each other in the X direction are arranged at equal intervals, and the gap G1 therebetween can be, for example, in the range of 1 μm to 20 μm. Similarly, the dummy wirings 301a adjacent to each other in the Y direction are arranged at equal intervals, and the gap G2 therebetween can be, for example, in the range of 1 μm to 20 μm. The maximum values of the gaps G1 and G2 may be 0.8 times or less the pitches P1 and P2 described above, respectively. In this case, the gap G1 of the dummy wiring 301a in the X direction is equal to the gap G2 of the dummy wiring 301a in the Y direction ( G1 = G2 ).
本実施形態において、ダミー配線301aは、上述したアンテナパターン領域20の単位パターン形状20aの一部が欠落した形状をもつ。すなわち、ダミー配線301aの形状は、アンテナパターン領域20のL字状の単位パターン形状20aから、上述した空隙部331a、331bを除いた形状となる。すなわち、第1ダミーパターン領域301の複数のダミー配線301aと複数の空隙部331a、331bとを併合した形状が、アンテナパターン領域20を形成する格子形状または網目形状に相当する。このように、第1ダミーパターン領域301のダミー配線301aが、アンテナパターン領域20の単位パターン形状20aの一部が欠落した形状であることにより、アンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との相違を目視で認識しにくくでき、基板11上に配置されたアンテナパターン領域20を見えにくくできる。 In this embodiment, the dummy wiring 301a has a shape in which a portion of the unit pattern shape 20a of the antenna pattern region 20 described above is missing. That is, the shape of the dummy wiring 301a is the L-shaped unit pattern shape 20a of the antenna pattern region 20 minus the above-mentioned voids 331a and 331b. In other words, the shape of the multiple dummy wirings 301a and multiple voids 331a and 331b of the first dummy pattern region 301 combined corresponds to the lattice or mesh shape that forms the antenna pattern region 20. In this way, because the dummy wiring 301a of the first dummy pattern region 301 has a shape in which a portion of the unit pattern shape 20a of the antenna pattern region 20 is missing, the difference between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301 is difficult to visually recognize, and the antenna pattern region 20 arranged on the substrate 11 is less visible.
図2Aにおいて、Y方向にアンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301とが隣接している。このアンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との境界近傍において、第1ダミー配線部分311がアンテナ配線21の延長上に形成されている。このため、Y方向において、アンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との相違が目視で視認しにくくなっている。 In FIG. 2A, the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301 are adjacent to each other in the Y direction. Near the boundary between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301, the first dummy wiring portion 311 is formed on an extension of the antenna wiring 21. For this reason, the difference between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301 is difficult to visually recognize in the Y direction.
また、図2Bにおいて、X方向にアンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301とが隣接している。このアンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との境界近傍において、第2ダミー配線部分321がアンテナ連結配線22の延長上に形成されている。このため、X方向において、アンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との相違が目視で視認しにくくなっている。 In addition, in FIG. 2B, the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301 are adjacent to each other in the X direction. Near the boundary between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301, the second dummy wiring portion 321 is formed on an extension of the antenna connecting wiring 22. For this reason, the difference between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301 is difficult to visually recognize in the X direction.
図5に示すように、各ダミー配線301aの第1ダミー配線部分311は、その長手方向(Y方向)に垂直な断面(X方向断面)が略長方形形状又は略正方形形状となっている。また、図4に示すように、各ダミー配線301aの第2ダミー配線部分321は、その長手方向(X方向)に垂直な断面(Y方向断面)が略長方形形状又は略正方形形状となっている。この場合、第1ダミー配線部分311の断面形状はアンテナ配線21の断面形状と略同一であり、第2ダミー配線部分321の断面形状はアンテナ連結配線22の断面形状と略同一である。 As shown in FIG. 5, the first dummy wiring portion 311 of each dummy wiring 301a has a cross section (X-direction cross section) perpendicular to its longitudinal direction (Y-direction) that is approximately rectangular or square. Also, as shown in FIG. 4, the second dummy wiring portion 321 of each dummy wiring 301a has a cross section (Y-direction cross section) perpendicular to its longitudinal direction (X-direction) that is approximately rectangular or square. In this case, the cross-sectional shape of the first dummy wiring portion 311 is approximately the same as the cross-sectional shape of the antenna wiring 21, and the cross-sectional shape of the second dummy wiring portion 321 is approximately the same as the cross-sectional shape of the antenna connecting wiring 22.
本実施形態において、第1ダミー配線部分311の線幅W3(X方向の長さ、図5参照)は、アンテナ配線21の線幅W1と略同一であり、第2ダミー配線部分321の線幅W4(Y方向の長さ、図4参照)は、アンテナ連結配線22の線幅W2と略同一となっている。また、第1ダミー配線部分311の高さH3(Z方向の長さ、図5参照)および第2ダミー配線部分321の高さH4(Z方向の長さ、図4参照)についても、それぞれアンテナ配線21の高さH1およびアンテナ連結配線22の高さH2と略同一となっている。 In this embodiment, the line width W3 (length in the X direction, see FIG. 5) of the first dummy wiring portion 311 is approximately the same as the line width W1 of the antenna wiring 21, and the line width W4 (length in the Y direction, see FIG. 4) of the second dummy wiring portion 321 is approximately the same as the line width W2 of the antenna connecting wiring 22. In addition, the height H3 (length in the Z direction, see FIG. 5) of the first dummy wiring portion 311 and the height H4 (length in the Z direction, see FIG. 4) of the second dummy wiring portion 321 are also approximately the same as the height H1 of the antenna wiring 21 and the height H2 of the antenna connecting wiring 22, respectively.
次に、第2ダミーパターン領域302のダミー配線302aについて説明する。 Next, we will explain the dummy wiring 302a in the second dummy pattern region 302.
(第2ダミーパターン領域のダミー配線)
図2Aおよび図2Bに示すように、ダミー配線302aは、それぞれ平面視略L字状であり、Y方向に延びる第1ダミー配線部分312と、X方向に延びる第2ダミー配線部分322とを有している。このうち第1ダミー配線部分312は、所定の長さL6(Y方向の長さ、図2A参照)を有し、第2ダミー配線部分322は、所定の長さL7(X方向の長さ、図2A参照)を有し、これらは互いに等しい(L6=L7)。
(Dummy wiring in the second dummy pattern region)
2A and 2B, the dummy wirings 302a are each approximately L-shaped in a plan view, and have a first dummy wiring portion 312 extending in the Y direction and a second dummy wiring portion 322 extending in the X direction. Of these, the first dummy wiring portion 312 has a predetermined length L6 (length in the Y direction, see FIG. 2A), and the second dummy wiring portion 322 has a predetermined length L7 (length in the X direction, see FIG. 2A), which are equal to each other ( L6 = L7 ).
また、第2ダミーパターン領域302において、X方向に互いに隣接するダミー配線302a同士の間には空隙部332a(図2Aおよび図2Bの網掛け部分)が形成され、Y方向に互いに隣接するダミー配線302a同士の間には空隙部332b(図2Aおよび図2Bの網掛け部分)が形成されている。この場合、ダミー配線302a同士は互いに等間隔に配置されている。すなわちX方向に互いに隣接するダミー配線302a同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップG3は、例えば2μm以上40μm以下の範囲とすることができる。同様に、Y方向に互いに隣接するダミー配線302a同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップG4は、例えば2μm以上40μm以下の範囲とすることができる。なお、ギャップG3、G4の最大値は、それぞれ上述したピッチP1、P2の0.64倍以下としてもよい。この場合、ダミー配線302aのX方向のギャップG3は、ダミー配線302aのY方向のギャップG4と等しい(G3=G4)。 Furthermore, in the second dummy pattern region 302, gaps 332a (shaded portions in FIGS. 2A and 2B) are formed between dummy wirings 302a adjacent to each other in the X direction, and gaps 332b (shaded portions in FIGS. 2A and 2B) are formed between dummy wirings 302a adjacent to each other in the Y direction. In this case, the dummy wirings 302a are arranged at equal intervals. That is, the dummy wirings 302a adjacent to each other in the X direction are arranged at equal intervals, and the gap G3 therebetween can be, for example, in the range of 2 μm to 40 μm. Similarly, the dummy wirings 302a adjacent to each other in the Y direction are arranged at equal intervals, and the gap G4 therebetween can be, for example, in the range of 2 μm to 40 μm. The maximum values of the gaps G3 and G4 may be 0.64 times or less the pitches P1 and P2 described above, respectively. In this case, the gap G3 of the dummy wiring 302a in the X direction is equal to the gap G4 of the dummy wiring 302a in the Y direction ( G3 = G4 ).
本実施形態において、ダミー配線302aは、上述したダミー配線301aの一部が欠落した形状をもつ。すなわち、ダミー配線302aは、アンテナパターン領域20の単位パターン形状20aの一部が欠落した形状をもつ。この場合、ダミー配線302aの形状は、アンテナパターン領域20のL字状の単位パターン形状20aから、上述した空隙部332a、332bを除いた形状となる。すなわち、第2ダミーパターン領域302の複数のダミー配線302aと複数の空隙部332a、332bとを併合した形状が、アンテナパターン領域20を形成する格子形状または網目形状に相当する。このように、第2ダミーパターン領域302のダミー配線302aが、第1ダミーパターン領域301のダミー配線301aの一部が欠落した形状であることにより、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との相違を目視で認識しにくくでき、基板11上に配置された第1ダミーパターン領域301および第2ダミーパターン領域302を見えにくくできる。 In this embodiment, the dummy wiring 302a has a shape in which a portion of the above-mentioned dummy wiring 301a is missing. In other words, the dummy wiring 302a has a shape in which a portion of the unit pattern shape 20a in the antenna pattern region 20 is missing. In this case, the shape of the dummy wiring 302a is the L-shaped unit pattern shape 20a in the antenna pattern region 20 minus the above-mentioned voids 332a and 332b. In other words, the shape formed by combining the multiple dummy wirings 302a and the multiple voids 332a and 332b in the second dummy pattern region 302 corresponds to the lattice or mesh shape that forms the antenna pattern region 20. In this way, the dummy wiring 302a in the second dummy pattern region 302 has a shape in which a portion of the dummy wiring 301a in the first dummy pattern region 301 is missing, making it difficult to visually recognize the difference between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302, and making it difficult to see the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 arranged on the substrate 11.
図2Aにおいて、Y方向に第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302とが隣接している。この第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界近傍において、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312が、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311の延長上に形成されている。このため、Y方向において、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界線B1に隣接する第1ダミー配線部分311と、境界線B1に隣接する第1ダミー配線部分312とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線B1に隣接する第1ダミー配線部分311と、境界線B1に隣接する第1ダミー配線部分312とが繋がっていてもよい。 In Figure 2A, the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 are adjacent to each other in the Y direction. Near the boundary between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302, the first dummy wiring portion 312 of the second dummy pattern region 302 is formed on an extension of the first dummy wiring portion 311 of the first dummy pattern region 301. As a result, the difference between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 is difficult to visually recognize in the Y direction. Note that in the illustrated example, the first dummy wiring portion 311 adjacent to the boundary line B1 between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 and the first dummy wiring portion 312 adjacent to the boundary line B1 are spaced apart from each other, but this is not limited to this. For example, although not shown, the first dummy wiring portion 311 adjacent to the boundary line B1 and the first dummy wiring portion 312 adjacent to the boundary line B1 may be connected.
また、図2Bにおいて、X方向に第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302とが隣接している。この第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界近傍において、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322が、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321の延長上に形成されている。このため、X方向において、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界線B1に隣接する第2ダミー配線部分321と、境界線B1に隣接する第2ダミー配線部分322とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線B1に隣接する第2ダミー配線部分321と、境界線B1に隣接する第2ダミー配線部分322とが繋がっていてもよい。 In addition, in Figure 2B, the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 are adjacent to each other in the X direction. Near the boundary between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302, the second dummy wiring portion 322 of the second dummy pattern region 302 is formed on an extension of the second dummy wiring portion 321 of the first dummy pattern region 301. As a result, the difference between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 is difficult to visually recognize in the X direction. Note that in the illustrated example, the second dummy wiring portion 321 adjacent to the boundary line B1 between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 and the second dummy wiring portion 322 adjacent to the boundary line B1 are spaced apart from each other, but this is not limited to this. For example, although not shown, the second dummy wiring portion 321 adjacent to the boundary line B1 and the second dummy wiring portion 322 adjacent to the boundary line B1 may be connected.
なお、本実施形態において、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312のその他の形状(X方向断面における断面形状、線幅および高さ)は、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。また、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322のその他の形状(Y方向断面における断面形状、線幅および高さ)は、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。 In this embodiment, the other shapes (cross-sectional shape in the X-direction cross section, line width, and height) of the first dummy wiring portion 312 of the second dummy pattern region 302 are substantially the same as the shape of the first dummy wiring portion 311 of the first dummy pattern region 301, so a detailed description will be omitted here. Furthermore, the other shapes (cross-sectional shape in the Y-direction cross section, line width, and height) of the second dummy wiring portion 322 of the second dummy pattern region 302 are substantially the same as the shape of the second dummy wiring portion 321 of the first dummy pattern region 301, so a detailed description will be omitted here.
次に、第3ダミーパターン領域303のダミー配線303aについて説明する。 Next, we will explain the dummy wiring 303a in the third dummy pattern region 303.
(第3ダミーパターン領域のダミー配線)
図2Aおよび図2Bに示すようにダミー配線303aは、それぞれ平面視略L字状であり、Y方向に延びる第1ダミー配線部分313と、X方向に延びる第2ダミー配線部分323とを有している。このうち第1ダミー配線部分313は、所定の長さL8(Y方向の長さ、図2A参照)を有し、第2ダミー配線部分323は、所定の長さL9(X方向の長さ、図2A参照)を有し、これらは互いに等しい(L8=L9)。
(Dummy wiring in the third dummy pattern area)
2A and 2B, the dummy wirings 303a are each approximately L-shaped in plan view, and have a first dummy wiring portion 313 extending in the Y direction and a second dummy wiring portion 323 extending in the X direction. Of these, the first dummy wiring portion 313 has a predetermined length L8 (length in the Y direction, see FIG. 2A), and the second dummy wiring portion 323 has a predetermined length L9 (length in the X direction, see FIG. 2A), which are equal to each other ( L8 = L9 ).
また、第3ダミーパターン領域303において、X方向に互いに隣接するダミー配線303a同士の間には空隙部333a(図2Aおよび図2Bの網掛け部分)が形成され、Y方向に互いに隣接するダミー配線303a同士の間には空隙部333b(図2Aおよび図2Bの網掛け部分)が形成されている。この場合、ダミー配線303a同士は互いに等間隔に配置されている。すなわちX方向に互いに隣接するダミー配線303a同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップG5は、例えば6μm以上60μm以下の範囲とすることができる。同様に、Y方向に互いに隣接するダミー配線303a同士は、互いに等間隔に配置され、そのギャップG6は、例えば6μm以上60μm以下の範囲とすることができる。なお、ギャップG5、G6の最大値は、それぞれ上述したピッチP1、P2の0.51倍以下としてもよい。この場合、ダミー配線303aのX方向のギャップG5は、ダミー配線303aのY方向のギャップG6と等しい(G5=G6)。 Furthermore, in the third dummy pattern region 303, gaps 333a (shaded portions in FIGS. 2A and 2B) are formed between dummy wirings 303a adjacent to each other in the X direction, and gaps 333b (shaded portions in FIGS. 2A and 2B) are formed between dummy wirings 303a adjacent to each other in the Y direction. In this case, the dummy wirings 303a are arranged at equal intervals. That is, the dummy wirings 303a adjacent to each other in the X direction are arranged at equal intervals, and the gap G5 between them can be, for example, in the range of 6 μm to 60 μm. Similarly, the dummy wirings 303a adjacent to each other in the Y direction are arranged at equal intervals, and the gap G6 between them can be, for example, in the range of 6 μm to 60 μm. The maximum values of the gaps G5 and G6 may be 0.51 times or less the pitches P1 and P2 described above, respectively. In this case, the gap G5 of the dummy wiring 303a in the X direction is equal to the gap G6 of the dummy wiring 303a in the Y direction ( G5 = G6 ).
本実施形態において、ダミー配線303aは、上述したダミー配線302aの一部が欠落した形状をもつ。すなわち、ダミー配線303aは、アンテナパターン領域20の単位パターン形状20aの一部が欠落した形状をもつ。この場合、ダミー配線303aの形状は、アンテナパターン領域20のL字状の単位パターン形状20aから、上述した空隙部333a、333bを除いた形状となる。すなわち、第3ダミーパターン領域303の複数のダミー配線303aと複数の空隙部333a、333bとを併合した形状が、アンテナパターン領域20を形成する格子形状または網目形状に相当する。このように、第3ダミーパターン領域303のダミー配線303aが、第2ダミーパターン領域302のダミー配線302aの一部が欠落した形状であることにより、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との相違を目視で認識しにくくでき、基板11上に配置された第2ダミーパターン領域302および第3ダミーパターン領域303を見えにくくできる。 In this embodiment, the dummy wiring 303a has a shape in which a portion of the above-mentioned dummy wiring 302a is missing. In other words, the dummy wiring 303a has a shape in which a portion of the unit pattern shape 20a in the antenna pattern region 20 is missing. In this case, the shape of the dummy wiring 303a is the L-shaped unit pattern shape 20a in the antenna pattern region 20 minus the above-mentioned voids 333a and 333b. In other words, the shape formed by combining the multiple dummy wirings 303a and the multiple voids 333a and 333b in the third dummy pattern region 303 corresponds to the lattice or mesh shape that forms the antenna pattern region 20. In this way, the dummy wiring 303a in the third dummy pattern region 303 has a shape in which a portion of the dummy wiring 302a in the second dummy pattern region 302 is missing, making it difficult to visually recognize the difference between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303, and making it difficult to see the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 arranged on the substrate 11.
図2Aにおいて、Y方向に第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303とが隣接している。この第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との境界近傍において、第3ダミーパターン領域303の第1ダミー配線部分313が、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312の延長上に形成されている。このため、Y方向において、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との境界線B2に隣接する第1ダミー配線部分312と、境界線B2に隣接する第1ダミー配線部分313とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線B2に隣接する第1ダミー配線部分312と、境界線B2に隣接する第1ダミー配線部分313とが繋がっていてもよい。 In Figure 2A, the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 are adjacent to each other in the Y direction. Near the boundary between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303, the first dummy wiring portion 313 of the third dummy pattern region 303 is formed on an extension of the first dummy wiring portion 312 of the second dummy pattern region 302. As a result, the difference between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 is difficult to visually recognize in the Y direction. Note that in the illustrated example, the first dummy wiring portion 312 adjacent to the boundary line B2 between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 and the first dummy wiring portion 313 adjacent to the boundary line B2 are spaced apart from each other, but this is not limited to this. For example, although not shown, the first dummy wiring portion 312 adjacent to the boundary line B2 and the first dummy wiring portion 313 adjacent to the boundary line B2 may be connected.
また、図2Bにおいて、X方向に第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303とが隣接している。この第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との境界近傍において、第3ダミーパターン領域303の第2ダミー配線部分323が、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322の延長上に形成されている。このため、X方向において、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との相違が目視で視認しにくくなっている。なお、図示された例において、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との境界線B2に隣接する第2ダミー配線部分322と、境界線B2に隣接する第2ダミー配線部分323とが互いに離間しているが、これに限られない。例えば、図示はしないが、境界線B2に隣接する第2ダミー配線部分322と、境界線B1に隣接する第2ダミー配線部分323とが繋がっていてもよい。 In addition, in Figure 2B, the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 are adjacent to each other in the X direction. Near the boundary between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303, the second dummy wiring portion 323 of the third dummy pattern region 303 is formed on an extension of the second dummy wiring portion 322 of the second dummy pattern region 302. As a result, the difference between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 is difficult to visually recognize in the X direction. Note that in the illustrated example, the second dummy wiring portion 322 adjacent to the boundary line B2 between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 and the second dummy wiring portion 323 adjacent to the boundary line B2 are spaced apart from each other, but this is not limited to this. For example, although not shown, the second dummy wiring portion 322 adjacent to the boundary line B2 and the second dummy wiring portion 323 adjacent to the boundary line B1 may be connected.
なお、本実施形態において、第3ダミーパターン領域303の第1ダミー配線部分313のその他の形状(X方向断面における断面形状、線幅および高さ)は、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。また、第3ダミーパターン領域303の第2ダミー配線部分323のその他の形状(Y方向断面における断面形状、線幅および高さ)は、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321の形状と略同一であるため、ここでは、詳細な説明は省略する。 In this embodiment, the other shapes (cross-sectional shape in the X-direction cross section, line width, and height) of the first dummy wiring portion 313 of the third dummy pattern region 303 are substantially the same as the shape of the first dummy wiring portion 311 of the first dummy pattern region 301, so a detailed description will be omitted here. Furthermore, the other shapes (cross-sectional shape in the Y-direction cross section, line width, and height) of the second dummy wiring portion 323 of the third dummy pattern region 303 are substantially the same as the shape of the second dummy wiring portion 321 of the first dummy pattern region 301, so a detailed description will be omitted here.
上述したダミー配線301a、302a、303aの材料は、アンテナ配線21の材料およびアンテナ連結配線22の材料と同一の金属材料を用いることができる。 The material for the above-mentioned dummy wiring 301a, 302a, and 303a can be the same metal material as the material for the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22.
ところで、本実施形態において、アンテナパターン領域20、第1ダミーパターン領域301、第2ダミーパターン領域302および第3ダミーパターン領域303は、それぞれ所定の開口率A1、A21、A22、A23を有する。この場合、第1ダミーパターン領域301の開口率A21は、アンテナパターン領域20の開口率A1以上であり、第2ダミーパターン領域302の開口率A22は、第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも大きくなっている。このように、本実施の形態では、アンテナパターン領域20および複数のダミーパターン領域30の開口率A1、A21、A22、A23は、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくなる。すなわち、第1ダミーパターン領域301の開口率A21は、アンテナパターン領域20の開口率A1以上であり、第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも、第2ダミーパターン領域302の開口率A22の方が大きく、第2ダミーパターン領域302の開口率A22よりも第3ダミーパターン領域303の開口率A23の方が大きい(A23>A22>A21≧A1)。これにより、配線基板10の透明性を確保できるようになっている。 In this embodiment, the antenna pattern region 20, the first dummy pattern region 301, the second dummy pattern region 302, and the third dummy pattern region 303 each have a predetermined aperture ratio A1, A21, A22, and A23. In this case, the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to or greater than the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20, and the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 is greater than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301. Thus, in this embodiment, the aperture ratios A1, A21, A22, and A23 of the antenna pattern region 20 and the multiple dummy pattern regions 30 increase stepwise from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farthest from the antenna pattern region 20. That is, the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to or greater than the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20, the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 is greater than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301, and the aperture ratio A23 of the third dummy pattern region 303 is greater than the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 (A23 > A22 > A21 ≧ A1). This ensures the transparency of the wiring substrate 10.
また、アンテナパターン領域20に隣接する第1ダミーパターン領域301の開口率A21と、アンテナパターン領域20の開口率A1との差は、0%以上2%以下であることが好ましく、0.02%以上1%以下であることがより好ましく、0.08%以上0.5%以下であることが更に好ましい。開口率A21と開口率A1との差が0%以上であることにより、配線基板10の透明性を高くできる。また、開口率A21と開口率A1との差が2%以下であることにより、開口率A21と開口率A1との差を小さくでき、アンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との境界を見えづらくできる。このため、アンテナパターン領域20の存在を肉眼で認識しにくくできる。なお、アンテナパターン領域20の開口率A1との差は、0.1%以上3%以下であってもよい。 Furthermore, the difference between the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 adjacent to the antenna pattern region 20 and the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20 is preferably 0% to 2%, more preferably 0.02% to 1%, and even more preferably 0.08% to 0.5%. Having a difference between the aperture ratio A21 and the aperture ratio A1 of 0% or more increases the transparency of the wiring substrate 10. Furthermore, having a difference between the aperture ratio A21 and the aperture ratio A1 of 2% or less reduces the difference between the aperture ratios A21 and A1, making the boundary between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301 less visible. This makes it difficult to recognize the presence of the antenna pattern region 20 with the naked eye. The difference from the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20 may be 0.1% to 3%.
さらに、互いに隣り合うダミーパターン領域30の開口率A21、A22、A23の差(例えば、開口率A21と開口率A22との差)は、0.02%以上2%以下であることが好ましく、0.04%以上1%以下がより好ましく、0.08%以上0.5%以下が更に好ましい。開口率A21、A22、A23の差が0.02%以上であることにより、配線基板10の透明性を高くできる。また、開口率A21、A22、A23の差が2%以下であることにより、例えば、開口率A21と開口率A22との差を小さくでき、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界を見えづらくできる。このように、各ダミーパターン領域30の境界を見えづらくできるため、各ダミーパターン領域30の存在を肉眼で認識しにくくできる。なお、互いに隣り合うダミーパターン領域30の開口率A21、A22、A23の差は、0.1%以上3%以下であってもよい。 Furthermore, the difference between the aperture ratios A21, A22, and A23 of adjacent dummy pattern regions 30 (e.g., the difference between aperture ratio A21 and aperture ratio A22) is preferably 0.02% or more and 2% or less, more preferably 0.04% or more and 1% or less, and even more preferably 0.08% or more and 0.5% or less. Having the difference between aperture ratios A21, A22, and A23 be 0.02% or more increases the transparency of the wiring substrate 10. Furthermore, having the difference between aperture ratios A21, A22, and A23 be 2% or less reduces the difference between aperture ratios A21 and A22, for example, making the boundary between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 less visible. In this way, the boundary between each dummy pattern region 30 can be made less visible, making the presence of each dummy pattern region 30 less noticeable to the naked eye. The difference in aperture ratios A21, A22, and A23 between adjacent dummy pattern regions 30 may be 0.1% or more and 3% or less.
上述したアンテナパターン領域20の開口率A1は、例えば85%以上99.9%以下の範囲とすることができる。また、第1ダミーパターン領域301の開口率A21は、例えば85%以上100%未満の範囲とすることができる。また、第2ダミーパターン領域302の開口率A22は、例えば86%以上100%未満の範囲とすることができる。さらに、第3ダミーパターン領域303の開口率A23は、例えば86.5%以上100%未満の範囲とすることができる。 The aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20 described above can be, for example, in the range of 85% to 99.9%. The aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 can be, for example, in the range of 85% to less than 100%. The aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 can be, for example, in the range of 86% to less than 100%. The aperture ratio A23 of the third dummy pattern region 303 can be, for example, in the range of 86.5% to less than 100%.
また、アンテナパターン領域20および各々ダミーパターン領域30を合わせた領域の開口率(すなわち、配線基板10の全体の開口率)A3は、例えば87%以上100%未満の範囲とすることができる。開口率A3をこの範囲とすることにより、配線基板10の導電性と透明性を確保できる。 Furthermore, the aperture ratio A3 of the combined antenna pattern region 20 and each dummy pattern region 30 (i.e., the overall aperture ratio of the wiring substrate 10) can be set, for example, in the range of 87% or more and less than 100%. By setting the aperture ratio A3 in this range, the conductivity and transparency of the wiring substrate 10 can be ensured.
なお、開口率とは、所定の領域(アンテナパターン領域20、ダミーパターン領域30、または、アンテナパターン領域20およびダミーパターン領域30)の単位面積に占める、開口領域(アンテナ配線21、アンテナ連結配線22、ダミー配線301a、302a、303a等の金属部分が存在せず、基板11が露出する領域)の面積の割合(%)をいう。 The aperture ratio refers to the percentage of the area of the opening area (the area where no metal parts such as the antenna wiring 21, antenna connecting wiring 22, dummy wiring 301a, 302a, 303a, etc. are present and where the substrate 11 is exposed) in a unit area of a specified area (the antenna pattern area 20, the dummy pattern area 30, or the antenna pattern area 20 and the dummy pattern area 30).
再度図1を参照すると、給電部40は、アンテナパターン領域20に電気的に接続されている。この給電部40は、略長方形状の導電性の薄板状部材からなる。給電部40の長手方向はX方向に平行であり、給電部40の短手方向はY方向に平行である。また、給電部40は、基板11の長手方向端部(Y方向マイナス側端部)に配置されている。給電部40の材料は、例えば、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄、ニッケルなどの金属材料(含む合金)を用いることができる。この給電部40は、配線基板10が画像表示装置90(図7参照)に組み込まれた際、画像表示装置90の無線通信用回路92と電気的に接続される。なお、給電部40は、基板11の表面に設けられているが、これに限らず、給電部40の一部又は全部が基板11の周縁よりも外側に位置していても良い。 Referring again to FIG. 1 , the power supply unit 40 is electrically connected to the antenna pattern area 20. This power supply unit 40 is made of a conductive, thin, rectangular member. The longitudinal direction of the power supply unit 40 is parallel to the X direction, and the lateral direction of the power supply unit 40 is parallel to the Y direction. The power supply unit 40 is located at the longitudinal end (the negative end in the Y direction) of the substrate 11. The power supply unit 40 can be made of, for example, a metal material (including an alloy) such as gold, silver, copper, platinum, tin, aluminum, iron, or nickel. When the wiring board 10 is incorporated into the image display device 90 (see FIG. 7 ), this power supply unit 40 is electrically connected to the wireless communication circuit 92 of the image display device 90. While the power supply unit 40 is provided on the surface of the substrate 11, this is not a limitation, and part or all of the power supply unit 40 may be located outside the periphery of the substrate 11.
[配線基板の製造方法]
次に、図6A乃至図6Fを参照して、本実施形態による配線基板の製造方法について説明する。図6A乃至図6Fは、本実施形態による配線基板の製造方法を示す断面図である。
[Method of manufacturing a wiring board]
Next, a method for manufacturing a wiring board according to this embodiment will be described with reference to Figures 6A to 6F, which are cross-sectional views illustrating the method for manufacturing a wiring board according to this embodiment.
まず、図6Aに示すように、透明性を有する基板11を準備する。 First, as shown in Figure 6A, a transparent substrate 11 is prepared.
次に、基板11上に、複数のアンテナ配線21を含むアンテナパターン領域20と、アンテナパターン領域20の周囲に配置され、アンテナ配線21から電気的に独立した複数のダミーパターン領域30とを形成する。この際、まず、基板11の表面の略全域に導電層51を形成する。本実施形態において導電層51の厚さは、200nmである。しかしながらこれに限定されず、導電層51の厚さは10nm以上1000nm以下の範囲で適宜選択できる。本実施形態において導電層51は、銅を用いてスパッタリング法によって形成する。導電層51を形成する方法としては、プラズマCVD法を用いても良い。 Next, an antenna pattern region 20 including multiple antenna wirings 21 and multiple dummy pattern regions 30 arranged around the antenna pattern region 20 and electrically independent from the antenna wirings 21 are formed on the substrate 11. At this time, a conductive layer 51 is first formed over substantially the entire surface of the substrate 11. In this embodiment, the thickness of the conductive layer 51 is 200 nm. However, this is not limited to this, and the thickness of the conductive layer 51 can be appropriately selected within the range of 10 nm to 1000 nm. In this embodiment, the conductive layer 51 is formed by sputtering using copper. Plasma CVD may also be used to form the conductive layer 51.
次に、図6Bに示すように、基板11の表面の略全域に光硬化性絶縁レジスト52を供給する。この光硬化性絶縁レジスト52としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ系樹脂等の有機樹脂を挙げることができる。 Next, as shown in FIG. 6B, a photo-curable insulating resist 52 is applied to substantially the entire surface of the substrate 11. Examples of the photo-curable insulating resist 52 include organic resins such as acrylic resins and epoxy resins.
続いて、図6Cに示すように、絶縁層54をフォトリソグラフィ法により形成する。この場合、フォトリソグラフィ法により光硬化性絶縁レジスト52をパターニングし、トレンチ54aが形成された絶縁層54(レジストパターン)を形成する。トレンチ54aは、アンテナ配線21、アンテナ連結配線22およびダミー配線301a、302a、303aに対応する平面形状パターンを有する。また、この際、アンテナ配線21、アンテナ連結配線22およびダミー配線301a、302a、303aに対応する導電層51が露出するように、絶縁層54を形成する。 Next, as shown in FIG. 6C, an insulating layer 54 is formed by photolithography. In this case, the photo-curable insulating resist 52 is patterned by photolithography to form an insulating layer 54 (resist pattern) in which trenches 54a are formed. The trenches 54a have a planar shape pattern corresponding to the antenna wiring 21, antenna connecting wiring 22, and dummy wiring 301a, 302a, and 303a. Furthermore, at this time, the insulating layer 54 is formed so that the conductive layer 51 corresponding to the antenna wiring 21, antenna connecting wiring 22, and dummy wiring 301a, 302a, and 303a is exposed.
なお、これに限らず、絶縁層54の表面に、インプリント法によってトレンチ54aを形成できる。この場合、トレンチ54aに対応した凸部を有する透明なインプリント用のモールドを準備し、このモールドと基板11とを近接させて、モールドと基板11との間に光硬化性絶縁レジスト52を展開する。次に、モールド側から光照射を行い、光硬化性絶縁レジスト52を硬化させることにより、絶縁層54を形成する。これにより、絶縁層54の表面に、凸部が転写された形状をもつトレンチ54aが形成される。その後モールドを絶縁層54から剥離することで、図6Cに示す断面構造の絶縁層54を得ることができる。ここで、図示はしないが、絶縁層54のトレンチ54aの底部には、絶縁材料の残渣が残ることがある。このため過マンガン酸塩溶液やN-メチル-2-ピロリドンを用いたウェット処理や、酸素プラズマを用いたドライ処理を行うことによって、絶縁材料の残渣を除去する。このように、絶縁材料の残渣を除去することによって、図6Cに示すように導電層51を露出したトレンチ54aを形成できる。 However, the trenches 54a can also be formed in the surface of the insulating layer 54 by imprinting. In this case, a transparent imprinting mold with protrusions corresponding to the trenches 54a is prepared, the mold is brought close to the substrate 11, and a photo-curable insulating resist 52 is spread between the mold and the substrate 11. Next, light is irradiated from the mold side to harden the photo-curable insulating resist 52, thereby forming the insulating layer 54. As a result, trenches 54a with the shape of the transferred protrusions are formed in the surface of the insulating layer 54. The mold is then peeled off from the insulating layer 54, resulting in the insulating layer 54 having the cross-sectional structure shown in Figure 6C. While not shown, residual insulating material may remain at the bottom of the trenches 54a in the insulating layer 54. Therefore, the residual insulating material is removed by wet processing using a permanganate solution or N-methyl-2-pyrrolidone, or dry processing using oxygen plasma. By removing the residual insulating material in this way, trenches 54a that expose the conductive layer 51 can be formed, as shown in Figure 6C.
次に、図6Dに示すように、絶縁層54のトレンチ54aを、導電体55で充填する。本実施形態において、導電層51をシード層として、電解メッキ法を用いて絶縁層54のトレンチ54aを銅で充填する。 Next, as shown in FIG. 6D, the trenches 54a in the insulating layer 54 are filled with a conductor 55. In this embodiment, the trenches 54a in the insulating layer 54 are filled with copper using electroplating, using the conductive layer 51 as a seed layer.
続いて、図6Eに示すように、絶縁層54を除去する。この場合、過マンガン酸塩溶液やN-メチル-2-ピロリドン、酸またはアルカリ溶液等を用いたウェット処理や、酸素プラズマを用いたドライ処理を行うことによって、基板11上の絶縁層54を除去する。 Next, as shown in Figure 6E, the insulating layer 54 is removed. In this case, the insulating layer 54 on the substrate 11 is removed by wet processing using a permanganate solution, N-methyl-2-pyrrolidone, an acid or alkaline solution, or by dry processing using oxygen plasma.
その後、図6Fに示すように、基板11の表面上の導電層51を除去する。この際、過酸化水素水を用いたウェット処理を行うことによって、基板11の表面が露出するように導電層51をエッチングする。このようにして、基板11と、基板11上に配置されたアンテナパターン領域20およびダミーパターン領域30と、を有する配線基板10が得られる。この場合、第1ダミーパターン領域301の開口率A21は、アンテナパターン領域20の開口率A1以上になり、第2ダミーパターン領域302の開口率A22は、第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも大きくなる。また、第3ダミーパターン領域303の開口率A23は、第2ダミーパターン領域302の開口率A22よりも大きくなる。また、アンテナパターン領域20は、アンテナ配線21およびアンテナ連結配線22を含み、ダミーパターン領域30は、ダミー配線301a、302a、303aを含む。上述した導電体55は、アンテナ配線21と、アンテナ連結配線22と、ダミー配線301a、302a、303aとを含んでいる。 Then, as shown in FIG. 6F, the conductive layer 51 on the surface of the substrate 11 is removed. At this time, a wet process using hydrogen peroxide is performed to etch the conductive layer 51 so that the surface of the substrate 11 is exposed. In this manner, a wiring substrate 10 is obtained, which includes the substrate 11 and the antenna pattern region 20 and dummy pattern region 30 arranged on the substrate 11. In this case, the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to or greater than the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20, and the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 is greater than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301. Furthermore, the aperture ratio A23 of the third dummy pattern region 303 is greater than the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302. Furthermore, the antenna pattern region 20 includes the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22, and the dummy pattern region 30 includes dummy wirings 301a, 302a, and 303a. The above-mentioned conductor 55 includes the antenna wiring 21, the antenna connecting wiring 22, and dummy wiring 301a, 302a, and 303a.
[本実施形態の作用]
次に、このような構成からなる配線基板の作用について述べる。
[Operation of this embodiment]
Next, the operation of the wiring board having such a configuration will be described.
図7に示すように、配線基板10は、ディスプレイ(表示装置)91を有する画像表示装置90に組み込まれる。画像表示装置90は、配線基板10と、配線基板10に積層されたディスプレイ91と、を備えている。配線基板10は、ディスプレイ91上に配置される。このような画像表示装置90としては、例えばスマートフォン、タブレット等の携帯端末機器を挙げることができる。配線基板10のアンテナパターン領域20は、給電部40を介して画像表示装置90の無線通信用回路92に電気的に接続される。このようにして、アンテナパターン領域20を介して、所定の周波数の電波を送受信でき、画像表示装置90を用いて通信を行うことができる。なお、各ダミーパターン領域30は、それぞれアンテナパターン領域20から離間し、電気的に独立しているので、各ダミーパターン領域30が設けられていることによって電波の送受信に影響が生じるおそれはない。 As shown in FIG. 7 , the wiring board 10 is incorporated into an image display device 90 having a display (display device) 91. The image display device 90 includes the wiring board 10 and a display 91 laminated on the wiring board 10. The wiring board 10 is disposed on the display 91. Examples of such image display devices 90 include mobile terminal devices such as smartphones and tablets. The antenna pattern region 20 of the wiring board 10 is electrically connected to the wireless communication circuit 92 of the image display device 90 via the power supply section 40. In this way, radio waves of a predetermined frequency can be transmitted and received via the antenna pattern region 20, enabling communication using the image display device 90. Note that each dummy pattern region 30 is separated from the antenna pattern region 20 and is electrically independent, so there is no risk that the presence of each dummy pattern region 30 will affect the transmission and reception of radio waves.
本実施形態によれば、配線基板10が、透明性を有する基板11と、基板11上に配置され、複数のアンテナ配線21を含むアンテナパターン領域20を有するので、配線基板10の透明性が確保されている。これにより、配線基板10がディスプレイ91上に配置されたとき、アンテナパターン領域20の開口部23からディスプレイ91を視認できるので、ディスプレイ91の視認性が妨げられることがない。 In this embodiment, the wiring board 10 has a transparent substrate 11 and an antenna pattern area 20 disposed on the substrate 11 and including multiple antenna wirings 21, ensuring the transparency of the wiring board 10. As a result, when the wiring board 10 is placed on a display 91, the display 91 can be seen through the openings 23 in the antenna pattern area 20, and the visibility of the display 91 is not obstructed.
また、アンテナパターン領域20の周囲に、アンテナ配線21から電気的に独立した複数のダミーパターン領域30が配置されている。そして、アンテナパターン領域20に隣接する第1ダミーパターン領域301の開口率A21が、アンテナパターン領域20の開口率A1以上である。また、第1ダミーパターン領域301に隣接するとともに、第1ダミーパターン領域301よりも配線パターン領域20から遠い第2ダミーパターン領域302の開口率A22が、第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも大きくなっている。これにより、アンテナパターン領域20、第1ダミーパターン領域301および第2ダミーパターン領域302の境界を不明瞭にできる。このため、ディスプレイ91の表面上でアンテナパターン領域20、第1ダミーパターン領域301および第2ダミーパターン領域302を見えにくくでき、画像表示装置90の使用者がアンテナパターン領域20、第1ダミーパターン領域301および第2ダミーパターン領域302を肉眼で認識しにくくできる。また、第1ダミーパターン領域301の開口率A21がアンテナパターン領域20の開口率A1以上であり、第2ダミーパターン領域302の開口率A22が第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも大きくなっていることにより、アンテナパターン領域20、第1ダミーパターン領域301および第2ダミーパターン領域302の境界を不明瞭にした場合であっても、配線基板10の全体の開口率A3を高くできる。このため、配線基板10の導電性と透明性を確保できる。 A plurality of dummy pattern regions 30 electrically independent from the antenna wiring 21 are arranged around the antenna pattern region 20. The aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 adjacent to the antenna pattern region 20 is equal to or greater than the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20. The aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 adjacent to the first dummy pattern region 301 and farther from the wiring pattern region 20 than the first dummy pattern region 301 is greater than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301. This makes it possible to make the boundaries between the antenna pattern region 20, the first dummy pattern region 301, and the second dummy pattern region 302 unclear. This makes it possible to make the antenna pattern region 20, the first dummy pattern region 301, and the second dummy pattern region 302 less visible on the surface of the display 91, making it more difficult for a user of the image display device 90 to recognize the antenna pattern region 20, the first dummy pattern region 301, and the second dummy pattern region 302 with the naked eye. Furthermore, because the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to or greater than the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20, and the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 is greater than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301, the overall aperture ratio A3 of the wiring substrate 10 can be increased even when the boundaries between the antenna pattern region 20, the first dummy pattern region 301, and the second dummy pattern region 302 are made unclear. This ensures the conductivity and transparency of the wiring substrate 10.
ここで、アンテナ性能を向上させるためには、アンテナ配線21の導電性を高くすることが求められるが、アンテナ配線21の導電性を高めるために、例えばアンテナ配線21の線幅W1を太くした場合、アンテナパターン領域20の開口率A1が低くなる。この場合、アンテナパターン領域20を見えにくくするために、アンテナパターン領域20の周囲にダミーパターン領域を設けることが考えられる。一方、アンテナパターン領域20の周囲に単一のダミーパターン領域を設けた場合(例えば、基板11上であって、アンテナパターン領域20を除く略全域にわたって、単一のダミーパターン領域を設けた場合)、アンテナパターン領域20の開口率A1が低くなると、アンテナパターン領域20と当該ダミーパターン領域との境界を不明瞭にするためには、当該ダミーパターン領域の開口率も低くすることが求められる。一方、当該ダミーパターン領域の開口率を低くした場合、配線基板10の全体の開口率A3が低くなってしまい、配線基板10が全体的に暗くなってしまう可能性がある。これに対して本実施の形態によれば、配線基板10が、複数のダミーパターン領域30を備え、第1ダミーパターン領域301の開口率A21がアンテナパターン領域20の開口率A1以上であり、第2ダミーパターン領域302の開口率A22が第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも大きくなっている。これにより、アンテナパターン領域20の開口率A1を低くした場合であっても、アンテナパターン領域20、第1ダミーパターン領域301および第2ダミーパターン領域302の境界を不明瞭にしつつ、配線基板10の全体の開口率A3を高くできる。このため、配線基板10の導電性と透明性を確保できる。 Here, in order to improve antenna performance, it is necessary to increase the conductivity of the antenna wiring 21. However, if the line width W1 of the antenna wiring 21 is increased to increase the conductivity of the antenna wiring 21, for example, the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20 will decrease. In this case, it is possible to provide a dummy pattern region around the antenna pattern region 20 to make the antenna pattern region 20 less visible. On the other hand, if a single dummy pattern region is provided around the antenna pattern region 20 (for example, if a single dummy pattern region is provided over substantially the entire area of the substrate 11 except for the antenna pattern region 20), the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20 will decrease. In order to obscure the boundary between the antenna pattern region 20 and the dummy pattern region, the aperture ratio of the dummy pattern region will also need to be reduced. On the other hand, if the aperture ratio of the dummy pattern region is reduced, the overall aperture ratio A3 of the wiring board 10 will decrease, which may result in the wiring board 10 appearing dark overall. In contrast, according to the present embodiment, the wiring board 10 includes a plurality of dummy pattern regions 30, the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to or greater than the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20, and the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 is greater than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301. As a result, even if the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20 is reduced, the boundaries between the antenna pattern region 20, the first dummy pattern region 301, and the second dummy pattern region 302 are obscured, while the overall aperture ratio A3 of the wiring board 10 can be increased. This ensures the conductivity and transparency of the wiring board 10.
また、本実施の形態によれば、第3ダミーパターン領域303が、複数のアンテナパターン領域20を取り囲むように設けられている。これにより、複数のアンテナパターン領域20を、効果的に視認しにくくできる。 Furthermore, according to this embodiment, the third dummy pattern region 303 is provided so as to surround the multiple antenna pattern regions 20. This effectively makes the multiple antenna pattern regions 20 less visible.
また、本実施の形態によれば、複数のダミーパターン領域301、302、303が、それぞれアンテナ配線21から電気的に独立した複数のダミー配線301a、302a、303aを含んでいる。また、複数のダミー配線301a、302a、303aが、それぞれ第1ダミー配線部分311、312、313と第2ダミー配線部分321、322、323とを有している。そして、互いに隣り合うダミーパターン領域301、302、303の第1ダミー配線部分311、312、313が、互いに平行に配置されている。これにより、Y方向において、互いに隣り合うダミーパターン領域301、302、303の境界を不明瞭にでき、ディスプレイ91の表面上でダミーパターン領域301、302、303を肉眼で認識しにくくできる。 Furthermore, according to this embodiment, the multiple dummy pattern areas 301, 302, and 303 each include multiple dummy wirings 301a, 302a, and 303a that are electrically independent from the antenna wiring 21. Furthermore, the multiple dummy wirings 301a, 302a, and 303a each have first dummy wiring portions 311, 312, and 313 and second dummy wiring portions 321, 322, and 323. The first dummy wiring portions 311, 312, and 313 of adjacent dummy pattern areas 301, 302, and 303 are arranged parallel to each other. This makes it possible to obscure the boundaries between adjacent dummy pattern areas 301, 302, and 303 in the Y direction, making the dummy pattern areas 301, 302, and 303 difficult to recognize with the naked eye on the surface of the display 91.
また、互いに隣り合うダミーパターン領域301、302、303の第2ダミー配線部分321、322、323が、互いに平行に配置されている。これにより、X方向において、互いに隣り合うダミーパターン領域301、302、303の境界を不明瞭にでき、ディスプレイ91の表面上でダミーパターン領域301、302、303を肉眼で認識しにくくできる。 In addition, the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 of adjacent dummy pattern areas 301, 302, and 303 are arranged parallel to each other. This makes the boundaries between adjacent dummy pattern areas 301, 302, and 303 unclear in the X direction, making the dummy pattern areas 301, 302, and 303 difficult to see with the naked eye on the surface of the display 91.
また、本実施の形態によれば、アンテナパターン領域20が、複数のアンテナ配線21を連結する複数のアンテナ連結配線22を更に含んでいる。また、複数のダミーパターン領域301、302、303が、それぞれアンテナ配線21およびアンテナ連結配線22から電気的に独立した複数のダミー配線301a、302a、303aを含んでいる。また、複数のダミー配線301a、302a、303aが、それぞれ第1ダミー配線部分311、312、313と第2ダミー配線部分321、322、323とを有している。そして、アンテナパターン領域20のアンテナ配線21と、各ダミーパターン領域301、302、303の第1ダミー配線部分311、312、313とが、互いに平行に配置されている。これにより、Y方向において、アンテナパターン領域20と各ダミーパターン領域301、302、303との境界を不明瞭にでき、ディスプレイ91の表面上でアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域301、302、303を肉眼で認識しにくくできる。 Furthermore, according to this embodiment, the antenna pattern region 20 further includes a plurality of antenna connecting wirings 22 that connect the plurality of antenna wirings 21. Furthermore, the plurality of dummy pattern regions 301, 302, and 303 include a plurality of dummy wirings 301a, 302a, and 303a that are electrically independent from the antenna wirings 21 and the antenna connecting wirings 22, respectively. Furthermore, the plurality of dummy wirings 301a, 302a, and 303a each have a first dummy wiring portion 311, 312, and 313 and a second dummy wiring portion 321, 322, and 323. The antenna wirings 21 in the antenna pattern region 20 and the first dummy wiring portions 311, 312, and 313 in each of the dummy pattern regions 301, 302, and 303 are arranged parallel to each other. This makes the boundaries between the antenna pattern area 20 and each of the dummy pattern areas 301, 302, and 303 unclear in the Y direction, making the antenna pattern area 20 and each of the dummy pattern areas 301, 302, and 303 difficult to see with the naked eye on the surface of the display 91.
また、図2Bに示すように、アンテナパターン領域20のアンテナ連結配線22と、各ダミーパターン領域301、302、303の第2ダミー配線部分321、322、323とが、互いに平行に配置されている。これにより、X方向において、アンテナパターン領域20と各ダミーパターン領域301、302、303との境界を不明瞭にでき、ディスプレイ91の表面上でアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域301、302、303を肉眼で認識しにくくできる。 Furthermore, as shown in FIG. 2B, the antenna connecting wiring 22 of the antenna pattern area 20 and the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 of each dummy pattern area 301, 302, and 303 are arranged parallel to one another. This makes the boundary between the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 301, 302, and 303 unclear in the X direction, making the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 301, 302, and 303 difficult to recognize with the naked eye on the surface of the display 91.
(変形例)
次に、図8乃至図24を参照して、配線基板の各種変形例について説明する。図8乃至図24は、配線基板の各種変形例等を示す図である。図8乃至図24に示す各変形例は、アンテナパターン領域20および/またはダミーパターン領域30の構成が異なるものであり、他の構成は上述した実施形態と略同一である。図8乃至図24において、図1乃至図7に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
(Modification)
Next, various modified examples of the wiring board will be described with reference to Figures 8 to 24. Figures 8 to 24 are diagrams showing various modified examples of the wiring board. Each of the modified examples shown in Figures 8 to 24 differs in the configuration of the antenna pattern region 20 and/or the dummy pattern region 30, but the other configurations are substantially the same as those of the above-mentioned embodiment. In Figures 8 to 24, the same parts as those shown in Figures 1 to 7 are given the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
(変形例1)
図8は、変形例1による配線基板10Aを示している。図8において、第2ダミーパターン領域302が、複数のアンテナパターン領域20を取り囲むように設けられている。図示された例において、第2ダミーパターン領域302は、全てのアンテナパターン領域20を取り囲むように設けられている。この場合においても、複数のアンテナパターン領域20を、効果的に視認しにくくできる。
(Variation 1)
8 shows a wiring board 10A according to Modification 1. In Fig. 8, a second dummy pattern region 302 is provided so as to surround a plurality of antenna pattern regions 20. In the illustrated example, the second dummy pattern region 302 is provided so as to surround all of the antenna pattern regions 20. In this case as well, the plurality of antenna pattern regions 20 can be effectively made less visible.
なお、図示はしないが、第1ダミーパターン領域301が、複数のアンテナパターン領域20を取り囲むように設けられていてもよい。この際、第1ダミーパターン領域301は、全てのアンテナパターン領域20を取り囲むように設けられていてもよい。 Although not shown, the first dummy pattern region 301 may be provided so as to surround multiple antenna pattern regions 20. In this case, the first dummy pattern region 301 may be provided so as to surround all of the antenna pattern regions 20.
(変形例2)
図9は、変形例2による配線基板10Bを示している。図9において、配線基板10Bは、アンテナパターン領域20から最も遠いダミーパターン領域30(本変形例では、第2ダミーパターン領域302)の周囲に配置された周囲領域50を更に備えている。そして、周囲領域50の開口率は100%である。すなわち、周囲領域50は、ダミー配線を含んでいない。
(Variation 2)
9 shows a wiring board 10B according to Modification 2. In Fig. 9, the wiring board 10B further includes a surrounding region 50 arranged around the dummy pattern region 30 (in this modification, the second dummy pattern region 302) that is farthest from the antenna pattern region 20. The aperture ratio of the surrounding region 50 is 100%. In other words, the surrounding region 50 does not include dummy wiring.
この場合、互いに隣り合うダミーパターン領域30の開口率の差、および、周囲領域50と、周囲領域50に隣り合うダミーパターン領域30の開口率の差は、それぞれ0.02%以上2%以下であってもよい。上述した差が0.02%以上であることにより、配線基板10の透明性を高くできる。また、上述した差が2%以下であることにより、ダミーパターン領域30と周囲領域50との境界を見えづらくできる。このため、アンテナパターン領域20の存在を肉眼で認識しにくくできる。 In this case, the difference in aperture ratio between adjacent dummy pattern regions 30, and the difference in aperture ratio between the peripheral region 50 and the dummy pattern region 30 adjacent to the peripheral region 50, may each be 0.02% or more and 2% or less. Having the above-mentioned difference of 0.02% or more increases the transparency of the wiring substrate 10. Furthermore, having the above-mentioned difference of 2% or less makes it difficult to see the boundary between the dummy pattern region 30 and the peripheral region 50. This makes it difficult to recognize the presence of the antenna pattern region 20 with the naked eye.
このように、配線基板10Bが、アンテナパターン領域20から最も遠いダミーパターン領域30の周囲に配置された周囲領域50を更に備え、周囲領域50の開口率が100%であることにより、配線基板10Bの全体の開口率A3を高くできる。このため、配線基板10Bの透明性を高くできる。 In this way, the wiring board 10B further includes a peripheral region 50 arranged around the dummy pattern region 30, which is farthest from the antenna pattern region 20, and the aperture ratio of the peripheral region 50 is 100%, thereby increasing the overall aperture ratio A3 of the wiring board 10B. This increases the transparency of the wiring board 10B.
(変形例3)
図10は、変形例3による配線基板10Cを示している。図10において、アンテナ配線21とアンテナ連結配線22とは、斜めに交わっており、各開口部23は、平面視で菱形状に形成されている。アンテナ配線21およびアンテナ連結配線22は、それぞれX方向及びY方向のいずれに対しても非平行となっている。
(Variation 3)
10 shows a wiring board 10C according to Modification 3. In Fig. 10, the antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22 intersect at an angle, and each opening 23 is formed in a diamond shape in a plan view. The antenna wiring 21 and the antenna connecting wiring 22 are non-parallel to both the X direction and the Y direction.
また、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312、および第3ダミーパターン領域303の第1ダミー配線部分313は、それぞれアンテナ配線21と平行に伸びている。同様に、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322、および第3ダミーパターン領域303の第2ダミー配線部分323は、それぞれアンテナ連結配線22と平行に伸びている。 Furthermore, the first dummy wiring portion 311 of the first dummy pattern region 301, the first dummy wiring portion 312 of the second dummy pattern region 302, and the first dummy wiring portion 313 of the third dummy pattern region 303 each extend parallel to the antenna wiring 21. Similarly, the second dummy wiring portion 321 of the first dummy pattern region 301, the second dummy wiring portion 322 of the second dummy pattern region 302, and the second dummy wiring portion 323 of the third dummy pattern region 303 each extend parallel to the antenna connecting wiring 22.
本変形例においても、アンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30の境界を不明瞭にできる。このため、ディスプレイ91の表面上でアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30を見えにくくでき、画像表示装置90の使用者がアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30を肉眼で認識しにくくできる。また、配線基板10Cの導電性と透明性を確保できる。 In this modified example, the boundaries between the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 can also be made unclear. This makes it possible to make the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 less visible on the surface of the display 91, making it difficult for a user of the image display device 90 to recognize the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 with the naked eye. Furthermore, the conductivity and transparency of the wiring board 10C can be ensured.
(変形例4)
図11は、変形例4による配線基板10Dを示している。図11において、アンテナ配線21および第1ダミー配線部分311、312、313の線幅が、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に狭くなっている。すなわち、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311の線幅が、アンテナパターン領域20のアンテナ配線21の線幅よりも狭くなっている。また、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312の線幅が、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311の線幅よりも狭くなっている。さらに、第3ダミーパターン領域303の第1ダミー配線部分313の線幅が、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312の線幅よりも狭くなっている。
(Variation 4)
11 shows a wiring board 10D according to Modification 4. In FIG. 11, the line widths of the antenna wiring 21 and the first dummy wiring portions 311, 312, and 313 gradually narrow from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20. That is, the line width of the first dummy wiring portion 311 in the first dummy pattern region 301 is narrower than the line width of the antenna wiring 21 in the antenna pattern region 20. Furthermore, the line width of the first dummy wiring portion 312 in the second dummy pattern region 302 is narrower than the line width of the first dummy wiring portion 311 in the first dummy pattern region 301. Furthermore, the line width of the first dummy wiring portion 313 in the third dummy pattern region 303 is narrower than the line width of the first dummy wiring portion 312 in the second dummy pattern region 302.
このように、アンテナ配線21および第1ダミー配線部分311、312、313の線幅を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に狭くすることにより、アンテナパターン領域20および複数のダミーパターン領域30の開口率A1、A21、A22、A23を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくできる。 In this way, by gradually narrowing the line width of the antenna wiring 21 and the first dummy wiring portions 311, 312, 313 from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20, the aperture ratios A1, A21, A22, A23 of the antenna pattern region 20 and the multiple dummy pattern regions 30 can be gradually increased from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20.
また、図11において、アンテナ連結配線22および第2ダミー配線部分321、322、323の線幅が、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に狭くなっている。すなわち、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321の線幅が、アンテナパターン領域20のアンテナ連結配線22の線幅よりも狭くなっている。また、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322の線幅が、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321の線幅よりも狭くなっている。さらに、第3ダミーパターン領域303の第2ダミー配線部分323の線幅が、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322の線幅よりも狭くなっている。 In addition, in FIG. 11, the line widths of the antenna connecting wiring 22 and the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 gradually narrow from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20. That is, the line width of the second dummy wiring portion 321 in the first dummy pattern region 301 is narrower than the line width of the antenna connecting wiring 22 in the antenna pattern region 20. Furthermore, the line width of the second dummy wiring portion 322 in the second dummy pattern region 302 is narrower than the line width of the second dummy wiring portion 321 in the first dummy pattern region 301. Furthermore, the line width of the second dummy wiring portion 323 in the third dummy pattern region 303 is narrower than the line width of the second dummy wiring portion 322 in the second dummy pattern region 302.
このように、アンテナ連結配線22および第2ダミー配線部分321、322、323の線幅を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に狭くすることにより、アンテナパターン領域20および複数のダミーパターン領域30の開口率A1、A21、A22、A23を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくできる。 In this way, by gradually narrowing the line width of the antenna connecting wiring 22 and the second dummy wiring portions 321, 322, 323 from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20, the aperture ratios A1, A21, A22, A23 of the antenna pattern region 20 and the multiple dummy pattern regions 30 can be gradually increased from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20.
(変形例5)
図12は、変形例5による配線基板10Eを示している。図12において、アンテナ配線21および第1ダミー配線部分311、312、313のピッチが、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくなっている。すなわち、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311のピッチが、アンテナパターン領域20のアンテナ配線21のピッチよりも大きくなっている。また、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312のピッチが、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311のピッチよりも大きくなっている。さらに、第3ダミーパターン領域303の第1ダミー配線部分313のピッチが、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312のピッチよりも大きくなっている。
(Variation 5)
12 shows a wiring board 10E according to Modification 5. In FIG. 12, the pitch of the antenna wiring 21 and the first dummy wiring portions 311, 312, and 313 gradually increases from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20. That is, the pitch of the first dummy wiring portions 311 in the first dummy pattern region 301 is larger than the pitch of the antenna wiring 21 in the antenna pattern region 20. Furthermore, the pitch of the first dummy wiring portions 312 in the second dummy pattern region 302 is larger than the pitch of the first dummy wiring portions 311 in the first dummy pattern region 301. Furthermore, the pitch of the first dummy wiring portions 313 in the third dummy pattern region 303 is larger than the pitch of the first dummy wiring portions 312 in the second dummy pattern region 302.
なお、図示された例においては、第1ダミー配線部分311、312、313のピッチは、それぞれアンテナ配線21のピッチの整数倍になっている。具体的には、第1ダミー配線部分311のピッチは、アンテナ配線21のピッチの2倍になっており、第1ダミー配線部分312のピッチは、アンテナ配線21のピッチの3倍になっており、第1ダミー配線部分313のピッチは、アンテナ配線21のピッチの4倍になっている。なお、第1ダミー配線部分311、312、313のピッチは、それぞれアンテナ配線21のピッチの整数倍でなくてもよい。 In the illustrated example, the pitch of the first dummy wiring portions 311, 312, and 313 is an integer multiple of the pitch of the antenna wiring 21. Specifically, the pitch of the first dummy wiring portion 311 is twice the pitch of the antenna wiring 21, the pitch of the first dummy wiring portion 312 is three times the pitch of the antenna wiring 21, and the pitch of the first dummy wiring portion 313 is four times the pitch of the antenna wiring 21. Note that the pitch of the first dummy wiring portions 311, 312, and 313 do not have to be an integer multiple of the pitch of the antenna wiring 21.
このように、アンテナ配線21および第1ダミー配線部分311、312、313のピッチを、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくすることにより、アンテナパターン領域20および複数のダミーパターン領域30の開口率A1、A21、A22、A23を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくできる。 In this way, by gradually increasing the pitch of the antenna wiring 21 and the first dummy wiring portions 311, 312, 313 from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20, the aperture ratios A1, A21, A22, A23 of the antenna pattern region 20 and the multiple dummy pattern regions 30 can be gradually increased from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20.
また、図12において、アンテナ連結配線22および第2ダミー配線部分321、322、323のピッチが、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくなっている。すなわち、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321のピッチが、アンテナパターン領域20のアンテナ連結配線22のピッチよりも大きくなっている。また、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322のピッチが、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321のピッチよりも大きくなっている。さらに、第3ダミーパターン領域303の第2ダミー配線部分323のピッチが、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322のピッチよりも大きくなっている。 In addition, in FIG. 12, the pitch of the antenna connecting wiring 22 and the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 gradually increases from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20. That is, the pitch of the second dummy wiring portions 321 in the first dummy pattern region 301 is larger than the pitch of the antenna connecting wiring 22 in the antenna pattern region 20. Furthermore, the pitch of the second dummy wiring portions 322 in the second dummy pattern region 302 is larger than the pitch of the second dummy wiring portions 321 in the first dummy pattern region 301. Furthermore, the pitch of the second dummy wiring portions 323 in the third dummy pattern region 303 is larger than the pitch of the second dummy wiring portions 322 in the second dummy pattern region 302.
なお、図示された例においては、第2ダミー配線部分321、322、323のピッチは、それぞれアンテナ連結配線22のピッチの整数倍になっている。具体的には、第2ダミー配線部分321のピッチは、アンテナ連結配線22のピッチの2倍になっており、第2ダミー配線部分322のピッチは、アンテナ連結配線22のピッチの3倍になっており、第2ダミー配線部分323のピッチは、アンテナ連結配線22のピッチの4倍になっている。なお、第2ダミー配線部分321、322、323のピッチは、それぞれアンテナ連結配線22のピッチの整数倍でなくてもよい。 In the illustrated example, the pitch of the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 is an integer multiple of the pitch of the antenna connecting wiring 22. Specifically, the pitch of the second dummy wiring portion 321 is twice the pitch of the antenna connecting wiring 22, the pitch of the second dummy wiring portion 322 is three times the pitch of the antenna connecting wiring 22, and the pitch of the second dummy wiring portion 323 is four times the pitch of the antenna connecting wiring 22. Note that the pitch of the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 does not have to be an integer multiple of the pitch of the antenna connecting wiring 22.
このように、アンテナ連結配線22および第2ダミー配線部分321、322、323のピッチを、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくすることにより、アンテナパターン領域20および複数のダミーパターン領域30の開口率A1、A21、A22、A23を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくできる。 In this way, by gradually increasing the pitch of the antenna connecting wiring 22 and the second dummy wiring portions 321, 322, 323 from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20, the aperture ratios A1, A21, A22, A23 of the antenna pattern region 20 and the multiple dummy pattern regions 30 can be gradually increased from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20.
(変形例6)
図13は、変形例6による配線基板10Fを示している。図13において、第1ダミー配線部分311、312、313が、破線状に形成されている。また、破線状に形成された第1ダミー配線部分311、312、313の切れ目が、アンテナパターン領域20に隣接するダミーパターン領域30から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に長くなっている。すなわち、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312の切れ目が、第1ダミーパターン領域301の第1ダミー配線部分311の切れ目よりも長くなっている。また、第3ダミーパターン領域303の第1ダミー配線部分313の切れ目が、第2ダミーパターン領域302の第1ダミー配線部分312の切れ目よりも長くなっている。
(Variation 6)
13 shows a wiring board 10F according to Modification 6. In FIG. 13, first dummy wiring portions 311, 312, and 313 are formed in the shape of dashed lines. Furthermore, the gaps between the dashed first dummy wiring portions 311, 312, and 313 gradually increase in length from the dummy pattern region 30 adjacent to the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farthest from the antenna pattern region 20. That is, the gaps between the first dummy wiring portions 312 in the second dummy pattern region 302 are longer than the gaps between the first dummy wiring portions 311 in the first dummy pattern region 301. Furthermore, the gaps between the first dummy wiring portions 313 in the third dummy pattern region 303 are longer than the gaps between the first dummy wiring portions 312 in the second dummy pattern region 302.
このように、第1ダミー配線部分311、312、313を破線状に形成し、破線状に形成された第1ダミー配線部分311、312、313の切れ目を、アンテナパターン領域20に隣接するダミーパターン領域30から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に長くすることにより、アンテナパターン領域20および複数のダミーパターン領域30の開口率A1、A21、A22、A23を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくできる。 In this way, by forming the first dummy wiring portions 311, 312, 313 in a dashed line shape and gradually increasing the length of the gaps between the dashed first dummy wiring portions 311, 312, 313 from the dummy pattern region 30 adjacent to the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20, the aperture ratios A1, A21, A22, A23 of the antenna pattern region 20 and the multiple dummy pattern regions 30 can be gradually increased from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20.
また、図13において、第2ダミー配線部分321、322、323が、破線状に形成されている。また、破線状に形成された第2ダミー配線部分321、322、323の切れ目が、アンテナパターン領域20に隣接するダミーパターン領域30から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に長くなっている。すなわち、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322の切れ目が、第1ダミーパターン領域301の第2ダミー配線部分321の切れ目よりも長くなっている。また、第3ダミーパターン領域303の第2ダミー配線部分323の切れ目が、第2ダミーパターン領域302の第2ダミー配線部分322の切れ目よりも長くなっている。 In addition, in FIG. 13, the second dummy wiring portions 321, 322, and 323 are formed in the shape of dashed lines. Furthermore, the gaps between the dashed-line-formed second dummy wiring portions 321, 322, and 323 gradually become longer from the dummy pattern region 30 adjacent to the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farthest from the antenna pattern region 20. That is, the gap between the second dummy wiring portion 322 in the second dummy pattern region 302 is longer than the gap between the second dummy wiring portion 321 in the first dummy pattern region 301. Furthermore, the gap between the second dummy wiring portion 323 in the third dummy pattern region 303 is longer than the gap between the second dummy wiring portion 322 in the second dummy pattern region 302.
このように、第2ダミー配線部分321、322、323を破線状に形成し、破線状に形成された第2ダミー配線部分321、322、323の切れ目を、アンテナパターン領域20に隣接するダミーパターン領域30から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に長くすることにより、アンテナパターン領域20および複数のダミーパターン領域30の開口率A1、A21、A22、A23を、アンテナパターン領域20から、アンテナパターン領域20に遠いダミーパターン領域30に向けて段階的に大きくできる。 In this way, by forming the second dummy wiring portions 321, 322, 323 in a dashed line shape and gradually increasing the length of the gaps between the dashed second dummy wiring portions 321, 322, 323 from the dummy pattern region 30 adjacent to the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20, the aperture ratios A1, A21, A22, A23 of the antenna pattern region 20 and the multiple dummy pattern regions 30 can be gradually increased from the antenna pattern region 20 toward the dummy pattern region 30 farther from the antenna pattern region 20.
(変形例7)
図14は、変形例7による配線基板10Gを示している。図14において、アンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との境界線B、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界線B1、および第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との境界線B2が、それぞれジグザグに形成されている。
(Variation 7)
Fig. 14 shows a wiring board 10G according to Modification 7. In Fig. 14, the boundary line B between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301, the boundary line B1 between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302, and the boundary line B2 between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 are each formed in a zigzag pattern.
本変形例では、アンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30の境界をより不明瞭にできる。このため、ディスプレイ91の表面上でアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30を見えにくくでき、画像表示装置90の使用者がアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30を肉眼で認識しにくくできる。 In this modified example, the boundaries between the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 can be made less clear. This makes it difficult to see the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 on the surface of the display 91, making it difficult for a user of the image display device 90 to recognize the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 with the naked eye.
(変形例8)
図15は、変形例8による配線基板10Hを示している。図15において、アンテナパターン領域20と第1ダミーパターン領域301との境界線B、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界線B1、および第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との境界線B2が、それぞれ波形状に形成されている。
(Variation 8)
Fig. 15 shows a wiring board 10H according to Modification 8. In Fig. 15, the boundary line B between the antenna pattern region 20 and the first dummy pattern region 301, the boundary line B1 between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302, and the boundary line B2 between the second dummy pattern region 302 and the third dummy pattern region 303 are each formed in a wave shape.
本変形例においても、アンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30の境界をより不明瞭にできる。このため、ディスプレイ91の表面上でアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30を見えにくくでき、画像表示装置90の使用者がアンテナパターン領域20および各ダミーパターン領域30を肉眼で認識しにくくできる。 In this modified example, the boundaries between the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 can also be made less clear. This makes it possible to make the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 less visible on the surface of the display 91, making it more difficult for a user of the image display device 90 to recognize the antenna pattern area 20 and each dummy pattern area 30 with the naked eye.
(変形例9)
図16および図17は、変形例9による配線基板10Iを示している。図16および図17において、第1ダミーパターン領域301の外縁の少なくとも一部が、円弧形状をもっている。
(Variation 9)
16 and 17 show a wiring board 10I according to Modification 9. In Fig. 16 and 17, at least a part of the outer edge of the first dummy pattern region 301 has an arc shape.
上述したように、アンテナパターン領域20は、平面視において、四角形状をもっている。この場合、アンテナパターン領域20の外縁は、平面視において、長手方向(Y方向)に延びる一対の第1辺201と、幅方向(X方向)に延びる一対の第2辺202とを含んでいる。第1辺201および第2辺202は、互いに交わっている。なお、アンテナパターン領域20の外縁の第1辺201上には、アンテナ配線21またはアンテナ連結配線22が、第1辺201に平行になるように重なっていなくてもよい。同様に、アンテナパターン領域20の外縁の第2辺202上には、アンテナ配線21またはアンテナ連結配線22が、第2辺202に平行になるように重なっていなくてもよい。すなわち、アンテナパターン領域20の外縁の第1辺201および第2辺202は、アンテナ配線21またはアンテナ連結配線22のうち、最も外側(アンテナパターン領域20から離れる側)に位置する部分が、その辺上に位置する辺である。 As described above, the antenna pattern region 20 has a rectangular shape in a planar view. In this case, the outer edge of the antenna pattern region 20 includes a pair of first sides 201 extending in the longitudinal direction (Y direction) and a pair of second sides 202 extending in the width direction (X direction) in a planar view. The first sides 201 and second sides 202 intersect with each other. Note that the antenna wiring 21 or the antenna connecting wiring 22 does not have to overlap the first side 201 of the outer edge of the antenna pattern region 20 so as to be parallel to the first side 201. Similarly, the antenna wiring 21 or the antenna connecting wiring 22 does not have to overlap the second side 202 of the outer edge of the antenna pattern region 20 so as to be parallel to the second side 202. In other words, the first side 201 and the second side 202 of the outer edge of the antenna pattern region 20 are the sides on which the outermost portions (the sides farthest from the antenna pattern region 20) of the antenna wiring 21 or the antenna connecting wiring 22 are located.
ここで、図17に示すように、第1辺201と第2辺202とが交わる頂点を第1頂点V1とする。また、第1頂点V1から延びる、第1辺201の延長線を第1仮想線IL1とする。さらに、第1頂点V1から延びる、第2辺202の延長線を第2仮想線IL2とする。この場合、第1仮想線IL1と第2仮想線IL2とに挟まれた領域R1において、第1ダミーパターン領域301の外縁は、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっている。すなわち、第1ダミーパターン領域301と第2ダミーパターン領域302との境界線B1が、領域R1において、第1頂点V1を中心とする円弧状に形成されている。 Here, as shown in FIG. 17, the vertex where the first side 201 and the second side 202 intersect is defined as the first vertex V1. The extension line of the first side 201 extending from the first vertex V1 is defined as the first virtual line IL1. The extension line of the second side 202 extending from the first vertex V1 is defined as the second virtual line IL2. In this case, in the region R1 sandwiched between the first virtual line IL1 and the second virtual line IL2, the outer edge of the first dummy pattern region 301 has an arc shape centered at the first vertex V1. That is, the boundary line B1 between the first dummy pattern region 301 and the second dummy pattern region 302 is formed in the shape of an arc centered at the first vertex V1 in the region R1.
また、第1仮想線IL1と第2仮想線IL2とに挟まれた領域R1において、第2ダミーパターン領域302の外縁は、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっている。すなわち、第2ダミーパターン領域302と第3ダミーパターン領域303との境界線B2が領域R1において、第1頂点V1を中心とする円弧状に形成されている。なお、上述したように、配線基板10(配線基板10I)が備えるダミーパターン領域30の個数は任意であり、例えば、2以上50以下程度であってもよく、2以上10以下程度であってもよい。この場合、各々のダミーパターン領域30の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっていてもよい。 In addition, in region R1 sandwiched between first virtual line IL1 and second virtual line IL2, the outer edge of second dummy pattern region 302 has an arc shape centered at first vertex V1. That is, boundary line B2 between second dummy pattern region 302 and third dummy pattern region 303 is formed in region R1 as an arc shape centered at first vertex V1. As mentioned above, the number of dummy pattern regions 30 provided on wiring board 10 (wiring board 10I) is arbitrary and may be, for example, approximately 2 to 50, or approximately 2 to 10. In this case, the outer edge of each dummy pattern region 30 may have an arc shape centered at first vertex V1.
ここで、アンテナパターン領域20が、平面視において、四角形状をもつ場合、四角形状の角部(例えば、第1頂点V1)の近傍において、アンテナパターン領域20の境界が見えやすくなり得る。また、この場合、可視光の反射等によって、四角形状の角部から、それぞれX方向及びY方向のいずれに対しても非平行となるように外側(アンテナパターン領域20から離れる側)へ延びる光の筋が視認される可能性がある。これに対して本変形例によれば、第1仮想線IL1と第2仮想線IL2とに挟まれた領域R1において、第1ダミーパターン領域301の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっている。これにより、アンテナパターン領域20が、平面視において、四角形状をもつ場合であっても、アンテナパターン領域20および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。 Here, if the antenna pattern region 20 has a rectangular shape in a planar view, the boundary of the antenna pattern region 20 may be easily visible near the corners of the rectangular shape (e.g., the first vertex V1). Furthermore, in this case, due to the reflection of visible light, etc., streaks of light may be visible extending outward (away from the antenna pattern region 20) from the corners of the rectangular shape, non-parallel to both the X and Y directions. In contrast, according to this modified example, in the region R1 between the first virtual line IL1 and the second virtual line IL2, the outer edge of the first dummy pattern region 301 has an arc shape centered at the first vertex V1. This effectively makes the antenna pattern region 20 and the streaks of light less visible, even if the antenna pattern region 20 has a rectangular shape in a planar view.
また、本変形例によれば、第1仮想線IL1と第2仮想線IL2とに挟まれた領域R1において、第2ダミーパターン領域302の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっている。これにより、アンテナパターン領域20および光の筋を、更に効果的に視認しにくくできる。 Furthermore, according to this modified example, in the region R1 sandwiched between the first virtual line IL1 and the second virtual line IL2, the outer edge of the second dummy pattern region 302 has an arc shape centered on the first vertex V1. This makes it even more effective at making the antenna pattern region 20 and the light streaks less visible.
また、本変形例においては、図18に示すように、画像表示装置において、アンテナパターン領域20は、ディスプレイ91の隅部91aに設けられていてもよい。図18は、変形例による画像表示装置90Aを示している。本変形例では、各々のダミーパターン領域30は、アンテナパターン領域20のうち、X方向プラス側およびY方向マイナス側(給電部40側)を除く周方向全域(X方向マイナス側、Y方向プラス側)を取り囲むように形成されている。この場合、上述した光の筋を、更に効果的に視認しにくくできる。 Furthermore, in this modified example, as shown in FIG. 18, the antenna pattern region 20 may be provided in a corner 91a of the display 91 in the image display device. FIG. 18 shows an image display device 90A according to the modified example. In this modified example, each dummy pattern region 30 is formed to surround the entire circumferential area (negative X side and positive Y side) of the antenna pattern region 20 except for the positive X side and negative Y side (the power supply unit 40 side). In this case, the above-mentioned light streaks can be made even less visible.
(変形例10)
図19は、変形例10による配線基板10Jを示している。図19において、配線基板10Jは、単一のダミーパターン領域30を備えている。すなわち、配線基板10Jは、アンテナパターン領域20に隣接する第1ダミーパターン領域301のみを備えている。
(Variation 10)
19 shows a wiring board 10J according to Modification 10. In Fig. 19, the wiring board 10J has a single dummy pattern region 30. That is, the wiring board 10J has only a first dummy pattern region 301 adjacent to the antenna pattern region 20.
本変形例においても、第1仮想線IL1と第2仮想線IL2とに挟まれた領域R1において、第1ダミーパターン領域301の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっていることにより、アンテナパターン領域20が、平面視において、四角形状をもつ場合であっても、アンテナパターン領域20および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。 In this modified example, in the region R1 between the first virtual line IL1 and the second virtual line IL2, the outer edge of the first dummy pattern region 301 has an arc shape centered on the first vertex V1. This effectively makes the antenna pattern region 20 and the light streaks less visible, even if the antenna pattern region 20 has a rectangular shape in a plan view.
(変形例11)
図20は、変形例11による配線基板10Kを示している。図20において、アンテナパターン領域20は、給電部40側の基端側部分203と、基端側部分203に接続された先端側部分204とを有する。基端側部分203と先端側部分204とは、それぞれ平面視で四角形状をもっている。この場合、先端側部分204の長さ(Y方向距離)は基端側部分203の長さ(Y方向距離)よりも長く、先端側部分204の幅(X方向距離)は基端側部分203の幅(X方向距離)よりも広い。この場合においても、アンテナパターン領域20を、効果的に視認しにくくできる。なお、図示された例においては、配線基板10Kが2つのダミーパターン領域30(301、302)を備えているが、これに限られず、配線基板10Kが3つ以上のダミーパターン領域30を備えていても良い。この場合、各々のダミーパターン領域30の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっていてもよい。
(Modification 11)
FIG. 20 shows a wiring board 10K according to Modification 11. In FIG. 20 , the antenna pattern area 20 has a base end portion 203 on the power supply unit 40 side and a tip end portion 204 connected to the base end portion 203. The base end portion 203 and the tip end portion 204 each have a rectangular shape in a plan view. In this case, the length (distance in the Y direction) of the tip end portion 204 is longer than the length (distance in the Y direction) of the base end portion 203, and the width (distance in the X direction) of the tip end portion 204 is wider than the width (distance in the X direction) of the base end portion 203. Even in this case, the antenna pattern area 20 can be effectively made less visible. In the illustrated example, the wiring board 10K includes two dummy pattern areas 30 (301, 302). However, this is not limited to this, and the wiring board 10K may include three or more dummy pattern areas 30. In this case, the outer edge of each dummy pattern region 30 may have an arc shape centered at the first vertex V1.
(変形例12)
図21は、変形例12による配線基板10Lを示している。図21において、第1ダミーパターン領域301の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもっていない。
(Variation 12)
Fig. 21 shows a wiring board 10L according to Modification 12. In Fig. 21, the outer edge of the first dummy pattern region 301 does not have an arc shape centered on the first vertex V1.
この場合、第1ダミーパターン領域301の外縁は、平面視において、長手方向(Y方向)に延びる一対の第3辺3011と、幅方向(X方向)に延びる第4辺3012とを含んでいる。第3辺3011および第4辺3012は、互いに交わっている。なお、第1ダミーパターン領域301の外縁の第3辺3011上には、第1ダミー配線部分311または第2ダミー配線部分321が、第3辺3011に平行になるように重なっていなくてもよい。同様に、第1ダミーパターン領域301の外縁の第4辺3012上には、第1ダミー配線部分311または第2ダミー配線部分321が、第4辺3012に平行になるように重なっていなくてもよい。すなわち、第1ダミーパターン領域301の外縁の第3辺3011および第4辺3012は、第1ダミー配線部分311または第2ダミー配線部分321のうち、最も外側(アンテナパターン領域20から離れる側)に位置する部分が、その辺上に位置する辺である。 In this case, the outer edge of the first dummy pattern region 301 includes, in a plan view, a pair of third sides 3011 extending in the longitudinal direction (Y direction) and a fourth side 3012 extending in the width direction (X direction). The third side 3011 and the fourth side 3012 intersect with each other. Note that the first dummy wiring portion 311 or the second dummy wiring portion 321 does not have to overlap the third side 3011 of the outer edge of the first dummy pattern region 301 so as to be parallel to the third side 3011. Similarly, the first dummy wiring portion 311 or the second dummy wiring portion 321 does not have to overlap the fourth side 3012 of the outer edge of the first dummy pattern region 301 so as to be parallel to the fourth side 3012. That is, the third side 3011 and fourth side 3012 of the outer edge of the first dummy pattern region 301 are the sides on which the outermost (side farthest from the antenna pattern region 20) portion of the first dummy wiring portion 311 or the second dummy wiring portion 321 is located.
ここで、図21に示すように、第3辺3011と第4辺3012とが交わる頂点を第2頂点V2とする。また、第2頂点V2から延びる、第3辺3011の延長線を第3仮想線IL3とする。さらに、第2頂点V2から延びる、第4辺3012の延長線を第4仮想線IL4とする。この場合、第3仮想線IL3と第4仮想線IL4とに挟まれた領域R2において、第2ダミーパターン領域302の外縁は、第2頂点V2を中心とする円弧形状をもっている。なお、上述したように、配線基板10(配線基板10L)が備えるダミーパターン領域30の個数は任意であり、例えば、2以上50以下程度であってもよく、2以上10以下程度であってもよい。この場合、第1ダミーパターン領域301以外の各々のダミーパターン領域30の外縁が、第2頂点V2を中心とする円弧形状をもっていてもよい。 21 , the vertex where the third side 3011 and the fourth side 3012 intersect is defined as the second vertex V2. The extension of the third side 3011 extending from the second vertex V2 is defined as the third virtual line IL3. The extension of the fourth side 3012 extending from the second vertex V2 is defined as the fourth virtual line IL4. In this case, in the region R2 sandwiched between the third virtual line IL3 and the fourth virtual line IL4, the outer edge of the second dummy pattern region 302 has an arc shape centered on the second vertex V2. As described above, the number of dummy pattern regions 30 included in the wiring board 10 (wiring board 10L) is arbitrary and may be, for example, between 2 and 50, or between 2 and 10. In this case, the outer edge of each dummy pattern region 30 other than the first dummy pattern region 301 may have an arc shape centered on the second vertex V2.
上述したように、第1ダミーパターン領域301の開口率A21は、アンテナパターン領域20の開口率A1以上である。ここで、開口率A21が開口率A1と等しくなっている場合、アンテナパターン領域20の角部(例えば、第1頂点V1)の近傍において、アンテナパターン領域20の境界が見えやすくなることを抑制できる。このため、第1仮想線IL1と第2仮想線IL2とに挟まれた領域R1において、第1ダミーパターン領域301の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもたない場合であっても、アンテナパターン領域20および光の筋を視認しにくくできる。 As described above, the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to or greater than the aperture ratio A1 of the antenna pattern region 20. Here, when the aperture ratio A21 is equal to the aperture ratio A1, it is possible to prevent the boundary of the antenna pattern region 20 from becoming easily visible near the corners of the antenna pattern region 20 (e.g., the first vertex V1). Therefore, in the region R1 sandwiched between the first virtual line IL1 and the second virtual line IL2, even if the outer edge of the first dummy pattern region 301 does not have an arc shape centered on the first vertex V1, it is possible to make the antenna pattern region 20 and the light streak less visible.
一方、この場合、第1ダミーパターン領域301の開口率A21は、第2ダミーパターン領域302の開口率A22よりも小さくてもよい。すなわち、配線基板10Lの全体の開口率A3を高くするために、第2ダミーパターン領域302の開口率A22が、第1ダミーパターン領域301の開口率A21よりも大きくてもよい。 On the other hand, in this case, the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 may be smaller than the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302. In other words, in order to increase the overall aperture ratio A3 of the wiring substrate 10L, the aperture ratio A22 of the second dummy pattern region 302 may be larger than the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301.
ここで、第1ダミーパターン領域301の外縁が、平面視において、互いに交わる第3辺3011および第4辺3012を含んでいる場合、第3辺3011と第4辺3012とが交わる第2頂点V2の近傍において、第1ダミーパターン領域301の境界が見えやすくなり得る。また、この場合、可視光の反射等によって、第2頂点V2から、それぞれX方向及びY方向のいずれに対しても非平行となるように外側へ延びる光の筋が視認される可能性がある。これに対して本変形例によれば、第3仮想線IL3と第4仮想線IL4とに挟まれた領域R2において、第2ダミーパターン領域302の外縁が、第2頂点V2を中心とする円弧形状をもっている。これにより、第1ダミーパターン領域301および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。 Here, if the outer edge of the first dummy pattern region 301 includes a third side 3011 and a fourth side 3012 that intersect with each other in a planar view, the boundary of the first dummy pattern region 301 may be easily visible near the second vertex V2 where the third side 3011 and the fourth side 3012 intersect. In this case, due to the reflection of visible light or the like, a streak of light may be visible extending outward from the second vertex V2 so as to be non-parallel to both the X and Y directions. In contrast, according to this modification, in the region R2 between the third virtual line IL3 and the fourth virtual line IL4, the outer edge of the second dummy pattern region 302 has an arc shape centered at the second vertex V2. This effectively makes the first dummy pattern region 301 and the streak of light less visible.
(変形例13)
図22は、変形例13による配線基板10Mを示している。図22において、アンテナパターン領域20は、平面視において、角部が丸められた四角形状をもっている。このため、アンテナパターン領域20は、アンテナパターン領域20の境界が見えやすくなり得る角部を含む形状をもっていない。このため、上述した領域R1(図21等参照)において、第1ダミーパターン領域301の外縁が、第1頂点V1を中心とする円弧形状をもたない場合であっても、アンテナパターン領域20および光の筋を視認しにくくできる。
(Variation 13)
22 shows a wiring board 10M according to Modification 13. In FIG. 22, the antenna pattern region 20 has a rectangular shape with rounded corners in a plan view. Therefore, the antenna pattern region 20 does not have a shape that includes corners that could make the boundary of the antenna pattern region 20 more visible. Therefore, even if the outer edge of the first dummy pattern region 301 does not have an arc shape centered on the first vertex V1 in the above-described region R1 (see FIG. 21, etc.), the antenna pattern region 20 and the light streak can be made less visible.
また、本変形例においても、第3仮想線IL3と第4仮想線IL4とに挟まれた領域R2において、第2ダミーパターン領域302の外縁が、第2頂点V2を中心とする円弧形状をもっていてもよい。これにより、第1ダミーパターン領域301および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。 Also in this modified example, in the region R2 sandwiched between the third virtual line IL3 and the fourth virtual line IL4, the outer edge of the second dummy pattern region 302 may have an arc shape centered on the second vertex V2. This effectively makes the first dummy pattern region 301 and the light streaks less visible.
(変形例14)
図23は、変形例14による配線基板10Nを示している。図23において、アンテナパターン領域20は、給電部40に接続された一対の第1電送部205と、各々の第1電送部205にそれぞれ接続された一対の第2電送部206と、一対の第2電送部206に接続された送受信部207とを有する。一対の第1電送部205は、それぞれ、アンテナパターン領域20の長手方向(Y方向)に延びている。一対の第2電送部206は、それぞれ、Y方向プラス側に向かうにつれて互いに近づくように、Y方向に対して傾斜して延びている。送受信部207は、平面視で、X方向に延びる対角線とY方向に延びる対角線とを含む四角形状をもっている。
(Variation 14)
FIG. 23 shows a wiring board 10N according to Modification 14. In FIG. 23, the antenna pattern area 20 has a pair of first transmitting units 205 connected to the power supply unit 40, a pair of second transmitting units 206 connected to each of the first transmitting units 205, and a transceiver unit 207 connected to the pair of second transmitting units 206. Each of the pair of first transmitting units 205 extends in the longitudinal direction (Y direction) of the antenna pattern area 20. Each of the pair of second transmitting units 206 extends at an angle with respect to the Y direction so as to approach each other toward the positive side of the Y direction. In plan view, the transceiver unit 207 has a rectangular shape including a diagonal extending in the X direction and a diagonal extending in the Y direction.
本変形例においても、第1ダミーパターン領域301の開口率A21が開口率A1と等しくなっている場合、アンテナパターン領域20および光の筋を視認しにくくできる。 In this modified example, if the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to the aperture ratio A1, the antenna pattern region 20 and the light streaks can be made less visible.
また、本変形例においても、第3仮想線IL3と第4仮想線IL4とに挟まれた領域R2において、第2ダミーパターン領域302の外縁が、第2頂点V2を中心とする円弧形状をもっていてもよい。これにより、第1ダミーパターン領域301および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。 Also in this modified example, in the region R2 sandwiched between the third virtual line IL3 and the fourth virtual line IL4, the outer edge of the second dummy pattern region 302 may have an arc shape centered on the second vertex V2. This effectively makes the first dummy pattern region 301 and the light streaks less visible.
(変形例15)
図24は、変形例15による配線基板10Oを示している。図24において、送受信部207は、平面視で、円形状をもっている。
(Variation 15)
Fig. 24 shows a wiring board 10O according to Modification 15. In Fig. 24, a transmitting/receiving section 207 has a circular shape in a plan view.
本変形例においても、第1ダミーパターン領域301の開口率A21が開口率A1と等しくなっている場合、アンテナパターン領域20および光の筋を視認しにくくできる。 In this modified example, if the aperture ratio A21 of the first dummy pattern region 301 is equal to the aperture ratio A1, the antenna pattern region 20 and the light streaks can be made less visible.
また、本変形例においても、第3仮想線IL3と第4仮想線IL4とに挟まれた領域R2において、第2ダミーパターン領域302の外縁が、第2頂点V2を中心とする円弧形状をもっていてもよい。これにより、第1ダミーパターン領域301および光の筋を、効果的に視認しにくくできる。 Also in this modified example, in the region R2 sandwiched between the third virtual line IL3 and the fourth virtual line IL4, the outer edge of the second dummy pattern region 302 may have an arc shape centered on the second vertex V2. This effectively makes the first dummy pattern region 301 and the light streaks less visible.
上記実施形態および各変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記実施形態および各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 The multiple components disclosed in the above embodiment and each modified example may be combined as needed. Alternatively, some components may be omitted from all of the components shown in the above embodiment and each modified example.
10、10A~10O 配線基板
11 基板
20 アンテナパターン領域
30 ダミーパターン領域
50 周囲領域
90、90A 画像表示装置
91 ディスプレイ91
91a 隅部
201 第1辺
202 第2辺
301 第1ダミーパターン領域
301a ダミー配線
302 第2ダミーパターン領域
302a ダミー配線
303 第3ダミーパターン領域
303a ダミー配線
311 第1ダミー配線部分
312 第1ダミー配線部分
313 第1ダミー配線部分
321 第2ダミー配線部分
322 第2ダミー配線部分
323 第2ダミー配線部分
3011 第3辺
3012 第4辺
IL1 第1仮想線
IL2 第2仮想線
IL3 第3仮想線
IL4 第4仮想線
R1 領域
R2 領域
V1 第1頂点
V2 第2頂点
10, 10A to 10O: Wiring board 11: Substrate 20: Antenna pattern area 30: Dummy pattern area 50: Surrounding area 90, 90A: Image display device 91: Display 91
91a Corner 201 First side 202 Second side 301 First dummy pattern area 301a Dummy wiring 302 Second dummy pattern area 302a Dummy wiring 303 Third dummy pattern area 303a Dummy wiring 311 First dummy wiring portion 312 First dummy wiring portion 313 First dummy wiring portion 321 Second dummy wiring portion 322 Second dummy wiring portion 323 Second dummy wiring portion 3011 Third side 3012 Fourth side IL1 First virtual line IL2 Second virtual line IL3 Third virtual line IL4 Fourth virtual line R1 Region R2 Region V1 First vertex V2 Second vertex
Claims (14)
基板と、
前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、
前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、
前記基板は、透明性を有し、
複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第1ダミーパターン領域の開口率は、前記配線パターン領域の開口率以上であり、
複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第1ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第1ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第2ダミーパターン領域の開口率は、前記第1ダミーパターン領域の開口率よりも大きく、
前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第1辺および第2辺を含み、
前記第1辺と前記第2辺とが交わる頂点を第1頂点とし、
前記第1頂点から延びる、前記第1辺の延長線を第1仮想線とし、
前記第1頂点から延びる、前記第2辺の延長線を第2仮想線とした場合、
前記第1仮想線と前記第2仮想線とに挟まれた領域において、前記第1ダミーパターン領域の外縁は、前記第1頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板。 A wiring board,
A substrate;
a wiring pattern area disposed on the substrate and including a plurality of wirings;
a plurality of dummy pattern regions arranged around the wiring pattern region and electrically independent from the wiring;
The substrate is transparent,
an aperture ratio of a first dummy pattern region adjacent to the wiring pattern region among the plurality of dummy pattern regions is equal to or greater than the aperture ratio of the wiring pattern region;
a second dummy pattern region, among the plurality of dummy pattern regions, adjacent to the first dummy pattern region and farther from the wiring pattern region than the first dummy pattern region, has an aperture ratio greater than the aperture ratio of the first dummy pattern region;
the outer edge of the wiring pattern region includes a first side and a second side that intersect with each other in a plan view,
a vertex where the first side and the second side intersect is defined as a first vertex;
an extension line of the first side extending from the first vertex is defined as a first virtual line;
When an extension line of the second side extending from the first vertex is defined as a second virtual line,
In a region sandwiched between the first virtual line and the second virtual line, the outer edge of the first dummy pattern region has an arc shape centered on the first vertex.
基板と、
前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、
前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域と、を備え、
前記基板は、透明性を有し、
複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第1ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第1ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第1ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第2ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、
前記第1ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第3辺および第4辺を含み、
前記第3辺と前記第4辺とが交わる頂点を第2頂点とし、
前記第2頂点から延びる、前記第3辺の延長線を第3仮想線とし、
前記第2頂点から延びる、前記第4辺の延長線を第4仮想線とした場合、
前記第3仮想線と前記第4仮想線とに挟まれた領域において、前記第2ダミーパターン領域の外縁は、前記第2頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板。 A wiring board,
A substrate;
a wiring pattern area disposed on the substrate and including a plurality of wirings;
a plurality of dummy pattern regions arranged around the wiring pattern region and electrically independent from the wiring;
The substrate is transparent,
an aperture ratio of a first dummy pattern region adjacent to the wiring pattern region among the plurality of dummy pattern regions is smaller than an aperture ratio of a second dummy pattern region adjacent to the first dummy pattern region and farther from the wiring pattern region than the first dummy pattern region among the plurality of dummy pattern regions;
an outer edge of the first dummy pattern region includes a third side and a fourth side that intersect with each other in a plan view;
a vertex where the third side and the fourth side intersect is a second vertex;
an extension line of the third side extending from the second vertex is defined as a third virtual line;
When an extension line of the fourth side extending from the second vertex is defined as a fourth virtual line,
In the region sandwiched between the third virtual line and the fourth virtual line, the outer edge of the second dummy pattern region has an arc shape centered on the second vertex.
基板と、
前記基板上に配置され、複数の配線を含む配線パターン領域と、
前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域と、を備え、
前記基板は、透明性を有し、
前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第1辺および第2辺を含み、
前記第1辺と前記第2辺とが交わる頂点を第1頂点とし、
前記第1頂点から延びる、前記第1辺の延長線を第1仮想線とし、
前記第1頂点から延びる、前記第2辺の延長線を第2仮想線とした場合、
前記第1仮想線と前記第2仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第1頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板。 A wiring board,
A substrate;
a wiring pattern area disposed on the substrate and including a plurality of wirings;
a dummy pattern area disposed around the wiring pattern area and electrically independent from the wiring,
The substrate is transparent,
the outer edge of the wiring pattern region includes a first side and a second side that intersect with each other in a plan view,
a vertex where the first side and the second side intersect is defined as a first vertex;
an extension line of the first side extending from the first vertex is defined as a first virtual line;
When an extension line of the second side extending from the first vertex is defined as a second virtual line,
In the region sandwiched between the first virtual line and the second virtual line, the outer edge of the dummy pattern region has an arc shape centered on the first vertex.
前記配線基板に積層された表示装置と、を備え、
前記配線パターン領域は、前記表示装置の隅部に設けられている、画像表示装置。 The wiring substrate according to any one of claims 1 to 11 ,
a display device laminated on the wiring substrate,
The image display device, wherein the wiring pattern area is provided in a corner of the display device.
基板を準備する工程と、
前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立したダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、
前記基板は、透明性を有し、
前記配線パターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第1辺および第2辺を含み、
前記第1辺と前記第2辺とが交わる頂点を第1頂点とし、
前記第1頂点から延びる、前記第1辺の延長線を第1仮想線とし、
前記第1頂点から延びる、前記第2辺の延長線を第2仮想線とした場合、
前記第1仮想線と前記第2仮想線とに挟まれた領域において、前記ダミーパターン領域の外縁は、前記第1頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法。 A method for manufacturing a wiring substrate,
providing a substrate;
forming, on the substrate, a wiring pattern region including a plurality of wirings, and a dummy pattern region disposed around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings;
The substrate is transparent,
the outer edge of the wiring pattern region includes a first side and a second side that intersect with each other in a plan view,
a vertex where the first side and the second side intersect is defined as a first vertex;
an extension line of the first side extending from the first vertex is defined as a first virtual line;
When an extension line of the second side extending from the first vertex is defined as a second virtual line,
In the region sandwiched between the first virtual line and the second virtual line, the outer edge of the dummy pattern region has an arc shape centered on the first vertex.
基板を準備する工程と、
前記基板上に、複数の配線を含む配線パターン領域と、前記配線パターン領域の周囲に配置され、前記配線から電気的に独立した複数のダミーパターン領域とを形成する工程と、を備え、
前記基板は、透明性を有し、
複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記配線パターン領域に隣接する第1ダミーパターン領域の開口率は、複数の前記ダミーパターン領域のうち、前記第1ダミーパターン領域に隣接するとともに、前記第1ダミーパターン領域よりも前記配線パターン領域から遠い第2ダミーパターン領域の開口率よりも小さく、
前記第1ダミーパターン領域の外縁は、平面視において、互いに交わる第3辺および第4辺を含み、
前記第3辺と前記第4辺とが交わる頂点を第2頂点とし、
前記第2頂点から延びる、前記第3辺の延長線を第3仮想線とし、
前記第2頂点から延びる、前記第4辺の延長線を第4仮想線とした場合、
前記第3仮想線と前記第4仮想線とに挟まれた領域において、前記第2ダミーパターン領域の外縁は、前記第2頂点を中心とする円弧形状をもつ、配線基板の製造方法。 A method for manufacturing a wiring substrate,
providing a substrate;
forming, on the substrate, a wiring pattern region including a plurality of wirings, and a plurality of dummy pattern regions arranged around the wiring pattern region and electrically independent from the wirings;
The substrate is transparent,
an aperture ratio of a first dummy pattern region adjacent to the wiring pattern region among the plurality of dummy pattern regions is smaller than an aperture ratio of a second dummy pattern region adjacent to the first dummy pattern region and farther from the wiring pattern region than the first dummy pattern region among the plurality of dummy pattern regions;
an outer edge of the first dummy pattern region includes a third side and a fourth side that intersect with each other in a plan view;
a vertex where the third side and the fourth side intersect is a second vertex;
an extension line of the third side extending from the second vertex is defined as a third virtual line;
When an extension line of the fourth side extending from the second vertex is defined as a fourth virtual line,
In the region sandwiched between the third virtual line and the fourth virtual line, the outer edge of the second dummy pattern region has an arc shape centered on the second vertex.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18/029,970 US20230318203A1 (en) | 2020-10-02 | 2021-10-04 | Wiring board and method of manufacturing wiring board |
| CN202180067541.4A CN116325348A (en) | 2020-10-02 | 2021-10-04 | Wiring board and method of manufacturing wiring board |
| EP21875903.3A EP4224625A4 (en) | 2020-10-02 | 2021-10-04 | Wiring board and method for manufacturing wiring board |
| TW110136889A TWI899342B (en) | 2020-10-02 | 2021-10-04 | Wiring board and method for manufacturing the same |
| PCT/JP2021/036612 WO2022071608A1 (en) | 2020-10-02 | 2021-10-04 | Wiring board and method for manufacturing wiring board |
| KR1020237014226A KR20230074262A (en) | 2020-10-02 | 2021-10-04 | Wiring board and manufacturing method of wiring board |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020167992 | 2020-10-02 | ||
| JP2020167992 | 2020-10-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022060188A JP2022060188A (en) | 2022-04-14 |
| JP7803071B2 true JP7803071B2 (en) | 2026-01-21 |
Family
ID=81124666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021163019A Active JP7803071B2 (en) | 2020-10-02 | 2021-10-01 | Wiring board and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7803071B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7825154B2 (en) * | 2022-06-10 | 2026-03-06 | 大日本印刷株式会社 | Module, laminate for image display device, image display device and method for manufacturing module |
| KR20250160468A (en) * | 2023-03-07 | 2025-11-13 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | Wiring board and head-mounted display |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011091556A (en) | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Panasonic Corp | Antenna device |
| US20160190678A1 (en) | 2014-12-29 | 2016-06-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Antenna Device and Electronic Device Including the Same |
| WO2019107476A1 (en) | 2017-11-29 | 2019-06-06 | 大日本印刷株式会社 | Wiring board and production method for wiring board |
-
2021
- 2021-10-01 JP JP2021163019A patent/JP7803071B2/en active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011091556A (en) | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Panasonic Corp | Antenna device |
| US20160190678A1 (en) | 2014-12-29 | 2016-06-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Antenna Device and Electronic Device Including the Same |
| WO2019107476A1 (en) | 2017-11-29 | 2019-06-06 | 大日本印刷株式会社 | Wiring board and production method for wiring board |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022060188A (en) | 2022-04-14 |
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