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JP7804466B2 - Chip Varistor - Google Patents
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JP7804466B2 - Chip Varistor - Google Patents

Chip Varistor

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JP7804466B2 JP2022004128A JP2022004128A JP7804466B2 JP 7804466 B2 JP7804466 B2 JP 7804466B2 JP 2022004128 A JP2022004128 A JP 2022004128A JP 2022004128 A JP2022004128 A JP 2022004128A JP 7804466 B2 JP7804466 B2 JP 7804466B2
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Description

本発明は、チップバリスタに関する。 The present invention relates to a chip varistor.

従来、素体の内部にバリスタ構造が設けられたチップバリスタが知られている。下記の特許文献1および特許文献2には、積層構造を有する素体の内部に設けられた複数の導体と、複数の導体のそれぞれに接続されるように素体の表面に設けられた複数の電極とを備えた積層型チップバリスタが開示されている。 Chip varistors with a varistor structure provided inside the element body are known. The following Patent Documents 1 and 2 disclose multilayer chip varistors that have multiple conductors provided inside an element body with a multilayer structure, and multiple electrodes provided on the surface of the element body so as to be connected to each of the multiple conductors.

国際公開2018/144987号International Publication No. 2018/144987 国際公開2021/095368号International Publication No. 2021/095368

上述したチップバリスタにおいては、積層方向において導体に挟まれた素体領域(機能領域)の寸法を調整することにより、バリスタ特性を調整することができる。発明者らは、バリスタ特性の調整について研究を重ね、バリスタ特性を容易に調整することができる技術を新たに見出した。 In the chip varistor described above, the varistor characteristics can be adjusted by adjusting the dimensions of the element region (functional region) sandwiched between the conductors in the stacking direction. The inventors have conducted extensive research into adjusting varistor characteristics and have discovered a new technology that allows for easy adjustment of varistor characteristics.

本発明は、バリスタ特性を容易に調整することができるチップバリスタを提供することを目的とする。 The objective of the present invention is to provide a chip varistor whose varistor characteristics can be easily adjusted.

本発明の一形態に係るチップバリスタは、積層構造を有し、積層方向に対して平行に延在するとともに互いに対向する第一面および第二面と、積層方向に対して平行に延在して第一面と第二面とを結ぶとともに互いに対向する第三面および第四面とを有する素体と、素体の所定の層内おいて、第一面と第二面との対向方向に沿って第一面から延びる第一導体と、素体の所定の層内において第一面と第二面との対向方向に沿って第二面から延びる第二導体と、第三面から第四面に亘って延び、かつ、第三面と第四面との対向方向に対して交差する方向に延びて第一導体および第二導体のそれぞれと素体の積層方向において重なる重畳部を形成する交差部を有する第三導体と、素体の第一面に設けられ、第一導体に接続された第一電極と、素体の第二面に設けられ、第二導体に接続された第二電極と、素体の第三面および第四面にそれぞれ設けられ、第三導体の端部に接続された一対の第三電極とを備える。 A chip varistor according to one embodiment of the present invention comprises an element body having a laminated structure and having first and second surfaces that extend parallel to the lamination direction and face each other, and third and fourth surfaces that extend parallel to the lamination direction, connect the first and second surfaces, and face each other; a first conductor extending from the first surface in a predetermined layer of the element body along the opposing direction between the first and second surfaces; a second conductor extending from the second surface in a predetermined layer of the element body along the opposing direction between the first and second surfaces; a third conductor extending from the third surface to the fourth surface and extending in a direction intersecting the opposing direction between the third and fourth surfaces, and having an intersection portion that forms an overlapping portion with each of the first conductor and the second conductor in the lamination direction of the element body; a first electrode provided on the first surface of the element body and connected to the first conductor; a second electrode provided on the second surface of the element body and connected to the second conductor; and a pair of third electrodes provided on the third and fourth surfaces of the element body, respectively, and connected to ends of the third conductor.

上記チップバリスタにおいては、第三導体が交差部を有し、第三導体は交差部において第一導体および第二導体とそれぞれ重なる重畳部を形成している。そのため、第三導体の交差部の形状や寸法を調整することで、機能領域の寸法を容易に調整することができ、それにより、バリスタ特性を容易に調整することができる。 In the above chip varistor, the third conductor has an intersection, and the third conductor forms overlapping portions where it overlaps with the first conductor and the second conductor at the intersection. Therefore, by adjusting the shape and dimensions of the intersection of the third conductor, the dimensions of the functional area can be easily adjusted, and thereby the varistor characteristics can be easily adjusted.

他の形態に係るチップバリスタは、第一導体と第一電極との接続箇所から第一導体と第三導体とが重なる重畳部までの距離をL1とし、第三導体と第三電極との接続箇所から、第三導体の形状に沿って、第一導体と第三導体とが重なる重畳部に至るまでの距離L2としたときに、L1/2≦L2≦2L1の関係を満たす。 In another embodiment of the chip varistor, when the distance from the connection point between the first conductor and the first electrode to the overlapping portion where the first conductor and the third conductor overlap is L1, and the distance from the connection point between the third conductor and the third electrode to the overlapping portion where the first conductor and the third conductor overlap, along the shape of the third conductor, is L2, the relationship L1/2≦L2≦2L1 is satisfied.

他の形態に係るチップバリスタは、素体の積層方向から見て、第三導体が、端部から交差部に向かって漸次幅が拡がる拡幅部を有する。 In another embodiment of the chip varistor, the third conductor has a widening portion whose width gradually increases from the end toward the intersection when viewed in the stacking direction of the element body.

他の形態に係るチップバリスタは、第一導体と第二導体とが素体の同一の層内に延在している。 In another embodiment of the chip varistor, the first conductor and the second conductor extend within the same layer of the element body.

他の形態に係るチップバリスタは、第一導体および第二導体の幅が、第三導体の交差部の幅と同じである。 In another embodiment of the chip varistor, the width of the first conductor and the second conductor is the same as the width of the intersection of the third conductor.

他の形態に係るチップバリスタは、第一導体および第二導体の幅が、第三導体の交差部の幅と異なる。 In another embodiment of the chip varistor, the widths of the first and second conductors are different from the width of the intersection of the third conductor.

本発明によれば、バリスタ特性を容易に調整することができるチップバリスタを提供することができる。 The present invention provides a chip varistor whose varistor characteristics can be easily adjusted.

一実施形態に係るチップバリスタを示す概略斜視図である。1 is a schematic perspective view showing a chip varistor according to an embodiment. 図1に示した素体の内部の各導体を示した斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing each conductor inside the element body shown in FIG. 1 . 図1に示した素体の内部の各導体を示した断面図である。2 is a cross-sectional view showing each conductor inside the element body shown in FIG. 1. 各導体の位置関係を示した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the positional relationship of each conductor. 各導体の位置関係を示した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the positional relationship of each conductor. 異なる態様のチップバリスタを示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a chip varistor according to a different embodiment. 異なる態様のチップバリスタを示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a chip varistor according to a different embodiment. 異なる態様のチップバリスタを示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a chip varistor according to a different embodiment. 異なる態様のチップバリスタを示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a chip varistor according to a different embodiment. 異なる態様のチップバリスタを示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a chip varistor according to a different embodiment. 異なる態様のチップバリスタを示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a chip varistor according to a different embodiment. 異なる態様のチップバリスタを示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a chip varistor according to a different embodiment.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. Note that, in the description, identical elements or elements with identical functions will be designated by the same reference numerals, and duplicate descriptions will be omitted.

まず、図1~図3を参照して、実施形態に係るチップバリスタ1の構成について説明する。 First, the configuration of the chip varistor 1 according to the embodiment will be described with reference to Figures 1 to 3.

チップバリスタ1は、多端子型の積層チップバリスタであり、素体10と4つの端子電極20A~20Dとを備えて構成されている。チップバリスタ1は、略直方体形状の外形を有し、いわゆる1608サイズ(長手方向長さが1.6mm、短手方向長さが0.8mm、高さが0.8mm)である。 The chip varistor 1 is a multi-terminal multilayer chip varistor, and is composed of an element body 10 and four terminal electrodes 20A to 20D. The chip varistor 1 has a roughly rectangular parallelepiped outer shape, and is the so-called 1608 size (longitudinal length: 1.6 mm, lateral length: 0.8 mm, height: 0.8 mm).

素体10は、略直方体形状の外形を有する積層構造体である。素体10は、長手方向において互いに対向する長方形状の端面10a、10bと、端面10a、10bに直交する長方形状の4つの側面10c~10fとを有する。4つの側面10c~10fは、端面10a,10b間を連結するように延びている。端面10a、10bは、素体10の積層方向に対して平行に延在している。4つの側面10c~10fのうちの側面10c、10dは、素体10の積層方向に対して平行に延在しており、互いに対向している。4つの側面10c~10fのうちの側面10e、10fは、素体10の積層方向に対して直交するように延在しており、素体10の積層方向において互いに対向している。 Element body 10 is a laminated structure with a roughly rectangular parallelepiped outer shape. Element body 10 has rectangular end faces 10a and 10b that face each other in the longitudinal direction, and four rectangular side faces 10c to 10f that are perpendicular to end faces 10a and 10b. The four side faces 10c to 10f extend to connect end faces 10a and 10b. End faces 10a and 10b extend parallel to the stacking direction of element body 10. Of the four side faces 10c to 10f, side faces 10c and 10d extend parallel to the stacking direction of element body 10 and face each other. Of the four side faces 10c to 10f, side faces 10e and 10f extend perpendicular to the stacking direction of element body 10 and face each other in the stacking direction of element body 10.

素体10は、バリスタ特性を発現する焼結体(半導体セラミック)からなる。素体10は、バリスタ特性を発現する焼結体からなる複数の層からなる積層構造体である。実際の素体10では、構成する各層は、その間の境界が視認できない程度に一体化されている。素体10は、ZnO(酸化亜鉛)を主成分として含むと共に、副成分としてCo、希土類金属元素、IIIb族元素(B、Al、Ga、In)、Si、Cr、Mo、アルカリ金属元素(K、Rb、Cs)及びアルカリ土類金属元素(Mg、Ca、Sr、Ba)などの金属単体やこれらの酸化物を含む。本実施形態において、素体10は、副成分としてCo、Pr、Cr、Ca、K、及びAlを含んでいる。素体10におけるZnOの含有量は、特に限定されないが、素体10を構成する全体の材料を100質量%とした場合に、通常、99.8~69.0質量%である。希土類金属元素(たとえば、Pr)は、バリスタ特性を発現させる物質として作用する。素体10における希土類金属元素の含有量は、たとえば0.01~10原子%程度に設定される。 The element body 10 is made of a sintered body (semiconductor ceramic) that exhibits varistor characteristics. The element body 10 is a laminated structure consisting of multiple layers of sintered bodies that exhibit varistor characteristics. In an actual element body 10, the constituent layers are integrated to the extent that the boundaries between them are not visible. The element body 10 contains ZnO (zinc oxide) as its primary component, and also contains metals and oxides thereof as secondary components, such as Co, rare earth metal elements, Group IIIb elements (B, Al, Ga, In), Si, Cr, Mo, alkali metal elements (K, Rb, Cs), and alkaline earth metal elements (Mg, Ca, Sr, Ba). In this embodiment, the element body 10 contains Co, Pr, Cr, Ca, K, and Al as secondary components. The ZnO content in the element body 10 is not particularly limited, but is typically 99.8 to 69.0% by mass, assuming that the total material constituting the element body 10 is 100% by mass. Rare earth metal elements (e.g., Pr) act as substances that exhibit varistor characteristics. The content of rare earth metal elements in the element body 10 is set to, for example, approximately 0.01 to 10 atomic percent.

チップバリスタ1は、一対の第一導体30A、一対の第二導体30Bおよび第三導体30Cを素体10内に備える。第一導体30A、第二導体30Bおよび第三導体30Cは、導電材を含んでいる。各導体30A、30B、30Cに含まれる導電材としては、特に限定されないが、PdまたはAg-Pd合金からなることが好ましい。各導体30A、30B、30Cの厚み(積層方向長さ)は、たとえば0.1~10μm程度である。 The chip varistor 1 comprises a pair of first conductors 30A, a pair of second conductors 30B, and a third conductor 30C within the element body 10. The first conductors 30A, the second conductors 30B, and the third conductors 30C contain conductive materials. The conductive material contained in each of the conductors 30A, 30B, and 30C is not particularly limited, but is preferably made of Pd or an Ag-Pd alloy. The thickness (length in the stacking direction) of each of the conductors 30A, 30B, and 30C is, for example, approximately 0.1 to 10 μm.

一対の第一導体30Aはいずれも、均一幅を有する帯状の形状を有し、素体10を構成する層内おいて、端面10a、10bの対向方向に沿って延在している。一対の第一導体30Aは、素体10の異なる層内に位置している。各第一導体30Aは、一方の端部30aが端面10a(第一面)に露出するとともに他方の端部30bが素体10内に位置している。一対の第一導体30Aは、素体10の積層方向から見て、寸法および形状が同じであり、完全に一致している。第一導体30Aの幅w1(側面10c、10dの対向方向に関する長さ)は、たとえば0.4mmである。 The pair of first conductors 30A each have a band-like shape with a uniform width, and extend in the opposing direction of the end faces 10a, 10b within the layers that make up the element body 10. The pair of first conductors 30A are located in different layers of the element body 10. One end 30a of each first conductor 30A is exposed at the end face 10a (first surface), and the other end 30b is located within the element body 10. The pair of first conductors 30A have the same dimensions and shape when viewed from the stacking direction of the element body 10, and are completely aligned. The width w1 of the first conductors 30A (the length in the opposing direction of the side faces 10c, 10d) is, for example, 0.4 mm.

一対の第二導体30Bはいずれも、均一幅を有する帯状の形状を有し、第一導体30Aが形成された層と同じ層内おいて、端面10a、10bの対向方向に沿って延在している。第二導体30Bは、一方の端部30aが端面10b(第二面)に露出するとともに他方の端部30bが素体10内に位置している。一対の第二導体30Bは、素体10の積層方向から見て、寸法および形状が同じであり、完全に一致している。第二導体30Bの幅は、第一導体30Aの幅w1と同じになるように設計されており、たとえば0.4mmである。 The pair of second conductors 30B each have a band-like shape with a uniform width, and extend in the same layer as the first conductor 30A, along the opposing direction of the end faces 10a, 10b. One end 30a of the second conductor 30B is exposed at the end face 10b (second surface), and the other end 30b is located within the element body 10. The pair of second conductors 30B have the same dimensions and shape when viewed from the stacking direction of the element body 10, and are completely aligned. The width of the second conductors 30B is designed to be the same as the width w1 of the first conductors 30A, for example, 0.4 mm.

第一導体30Aと第二導体30Bとは、素体10の積層方向から見て互いに位置合わせされており、端面10a、10bの対向方向に沿って互いに近づく向きに延びている。ただし、素体10内に位置する第一導体30Aの端部30bと第二導体30Bの端部30bとは、端面10a、10bの対向方向において離間しており、素体10の積層方向において重なっていない。 The first conductor 30A and the second conductor 30B are aligned with each other when viewed from the stacking direction of the element body 10, and extend toward each other along the opposing direction of the end faces 10a, 10b. However, the end 30b of the first conductor 30A and the end 30b of the second conductor 30B located within the element body 10 are spaced apart in the opposing direction of the end faces 10a, 10b, and do not overlap in the stacking direction of the element body 10.

第三導体30Cは、側面10c、10dの対向方向に沿って延びる形状を有し、側面10c(第三面)から側面10d(第四面)に亘って延びている。図3に示すように、第三導体30Cは、一対の端部31および交差部32を有する。 The third conductor 30C has a shape that extends along the opposing direction of the side surfaces 10c and 10d, and extends from the side surface 10c (third surface) to the side surface 10d (fourth surface). As shown in Figure 3, the third conductor 30C has a pair of end portions 31 and an intersection portion 32.

第三導体30Cの各端部31は、側面10c、10dの近傍に位置しており、側面10c、10dから露出している。各端部31は、均一な幅W1(端面10a、10bの対向方向に関する長さ)を有し、幅W1は一例として0.2mmである。 Each end 31 of the third conductor 30C is located near the side surfaces 10c and 10d and is exposed from the side surfaces 10c and 10d. Each end 31 has a uniform width W1 (the length in the opposing direction of the end surfaces 10a and 10b), which is, for example, 0.2 mm.

第三導体30Cの交差部32は、両端部31の間であって第三導体30Cの中央に位置しており、側面10c、10dの対向方向に対して交差する方向に延びている。本実施形態では、第三導体30Cの交差部32は、側面10c、10dの対向方向に対して直交する方向に延びており、交差部32の幅W2(端面10a、10bの対向方向に関する長さ)は端部31の幅W1より広くなるように設計されている(W2>W1)。交差部32の幅W2は一例として0.6mmである。第三導体30Cは全体として、素体10の積層方向から見て十字状(クロス状)を呈する。本実施形態において、側面10c、10dの対向方向に関する交差部32の長さ(幅)w2は、第一導体30Aおよび第二導体30Bの幅w1と同じになるように設計されている。 The intersection 32 of the third conductor 30C is located at the center of the third conductor 30C between both end portions 31 and extends in a direction intersecting the direction in which the side surfaces 10c, 10d face each other. In this embodiment, the intersection 32 of the third conductor 30C extends in a direction perpendicular to the direction in which the side surfaces 10c, 10d face each other, and the width W2 of the intersection 32 (the length in the direction in which the end faces 10a, 10b face each other) is designed to be wider than the width W1 of the end portion 31 (W2 > W1). The width W2 of the intersection 32 is, for example, 0.6 mm. The third conductor 30C as a whole has a cross shape when viewed in the stacking direction of the element body 10. In this embodiment, the length (width) w2 of the intersection 32 in the direction in which the side surfaces 10c, 10d face each other is designed to be the same as the width w1 of the first conductor 30A and the second conductor 30B.

第三導体30Cの交差部32は、端面10a側に延びた先端部において第一導体30Aの端部30bと重なり、重畳部40Aを形成している。同様に、第三導体30Cの交差部32は、端面10b側に延びた先端部において第二導体30Bの端部30bと重なり、重畳部40Bを形成している。第三導体30Cは、一対の第一導体30Aとは重畳部40Aにおいてのみ重なり、一対の第二導体30Bとも重畳部40Bにおいてのみ重なる。 The intersection 32 of the third conductor 30C overlaps with the end 30b of the first conductor 30A at its tip extending toward the end face 10a, forming an overlapping portion 40A. Similarly, the intersection 32 of the third conductor 30C overlaps with the end 30b of the second conductor 30B at its tip extending toward the end face 10b, forming an overlapping portion 40B. The third conductor 30C overlaps with the pair of first conductors 30A only at the overlapping portion 40A, and with the pair of second conductors 30B only at the overlapping portion 40B.

図4および図5に示すように、第三導体30Cは、一対の第一導体30Aの中間に位置する層内に延在している。そのため、素体10の積層方向に関し、第三導体30Cと一方の第一導体30Aとの離間距離は、第三導体30Cと他方の第一導体30Aとの離間距離と実質的に同一である。交差部32は、一対の第一導体30Aの端部30bそれぞれとの間に第一機能層42を形成する。第一機能層42は、交差部32の先端部32aと第一導体30Aの端部30bとで挟まれた素体部分である。第一機能層42は、たとえば20~50pF程度の静電容量を有する。同様に、素体10の積層方向に関し、第三導体30Cと一方の第二導体30Bとの離間距離は、第三導体30Cと他方の第二導体30Bとの離間距離と実質的に同一である。交差部32は、一対の第二導体30Bの端部30bそれぞれとの間に第二機能層44を形成する。第二機能層44は、交差部32の先端部32bと第二導体30Bの端部30bとで挟まれた素体部分である。第二機能層44は、たとえば20~50pF程度の静電容量を有する。本実施形態では、重畳部40Aと重畳部40Bは同じ重畳面積を有し、そのため、第一機能層42と第二機能層44とは実質的に同じ静電容量を有する。 As shown in Figures 4 and 5, the third conductor 30C extends within a layer located midway between a pair of first conductors 30A. Therefore, in the stacking direction of the element body 10, the distance between the third conductor 30C and one of the first conductors 30A is substantially the same as the distance between the third conductor 30C and the other first conductor 30A. The intersection 32 forms a first functional layer 42 between each of the ends 30b of the pair of first conductors 30A. The first functional layer 42 is a portion of the element body sandwiched between the tip 32a of the intersection 32 and the end 30b of the first conductor 30A. The first functional layer 42 has a capacitance of, for example, approximately 20 to 50 pF. Similarly, in the stacking direction of the element body 10, the distance between the third conductor 30C and one of the second conductors 30B is substantially the same as the distance between the third conductor 30C and the other second conductor 30B. The intersection 32 forms a second functional layer 44 between each of the ends 30b of the pair of second conductors 30B. The second functional layer 44 is an element portion sandwiched between the tip 32b of the intersection 32 and the end 30b of the second conductor 30B. The second functional layer 44 has a capacitance of, for example, approximately 20 to 50 pF. In this embodiment, the overlapping portion 40A and the overlapping portion 40B have the same overlapping area, and therefore the first functional layer 42 and the second functional layer 44 have substantially the same capacitance.

4つの端子電極20A~20Dの一つである第一電極20Aは、素体10の端面10a側に配置されている。第一電極20Aは、端面10aと、4つの側面10c~10fの端面10a寄りの部分と、を覆うように形成されている。第一電極20Aは、素体10の端面10aに露出した一対の第一導体30Aのそれぞれの一方の端部30aを覆うようにも形成されており、第一電極20Aは、一対の第一導体30Aのそれぞれと直接接続されている。 The first electrode 20A, one of the four terminal electrodes 20A-20D, is positioned on the end face 10a side of the element body 10. The first electrode 20A is formed to cover the end face 10a and the portions of the four side faces 10c-10f closer to the end face 10a. The first electrode 20A is also formed to cover one end 30a of each of a pair of first conductors 30A exposed on the end face 10a of the element body 10, and the first electrode 20A is directly connected to each of the pair of first conductors 30A.

第一導体30Aと第一電極20Aとの接続箇所から重畳部40Aまでの距離をL1とし、第三導体30Cと第三電極20C、20Dとの接続箇所から、第三導体30Cの形状(より具体的には、素体10の積層方向から見たときの外形)に沿って重畳部40Aに至るまでの距離L2としたときに、L1/2≦L2≦2L1の関係が満たされるように設計されている。本実施形態において、第二導体30Bと第二電極20Bとの接続箇所から重畳部40Bまでの距離は、第一導体30Aと第一電極20Aとの接続箇所から重畳部40Aまでの距離L1と同じである。また、本実施形態において、第三導体30Cと第三電極20C、20Dとの接続箇所から、第三導体30Cの形状に沿って重畳部40Bに至るまでの距離は、第三導体30Cの形状に沿って重畳部40Bに至るまでの距離L2と同じである。本実施形態において、距離L2は、第三導体30Cの外形に沿ったL字状部分の長さであり、2つの直線の長さの合計として求められる。 The element is designed so that the relationship L1/2≦L2≦2L1 is satisfied, where L1 is the distance from the connection point between the first conductor 30A and the first electrode 20A to the overlapping portion 40A, and L2 is the distance from the connection point between the third conductor 30C and the third electrodes 20C, 20D to the overlapping portion 40A along the shape of the third conductor 30C (more specifically, the outer shape when viewed from the stacking direction of the element body 10). In this embodiment, the distance from the connection point between the second conductor 30B and the second electrode 20B to the overlapping portion 40B is the same as the distance L1 from the connection point between the first conductor 30A and the first electrode 20A to the overlapping portion 40A. Furthermore, in this embodiment, the distance from the connection point between the third conductor 30C and the third electrodes 20C, 20D to the overlapping portion 40B along the shape of the third conductor 30C is the same as the distance L2 to the overlapping portion 40B along the shape of the third conductor 30C. In this embodiment, distance L2 is the length of the L-shaped portion along the outer shape of the third conductor 30C, and is calculated as the sum of the lengths of the two straight lines.

4つの端子電極20A~20Dの一つである第二電極20Bは、素体10の端面10b側に配置されている。第二電極20Bは、端面10bと、4つの側面10c~10fの端面10b寄りの部分と、を覆うように形成されている。第二電極20Bは、素体10の端面10bに露出した一対の第二導体30Bのそれぞれの一方の端部30aを覆うようにも形成されており、第二電極20Bは、一対の第二導体30Bのそれぞれと直接接続されている。 The second electrode 20B, one of the four terminal electrodes 20A-20D, is positioned on the end face 10b side of the element body 10. The second electrode 20B is formed to cover the end face 10b and the portions of the four side faces 10c-10f that are closer to the end face 10b. The second electrode 20B is also formed to cover one end 30a of each of a pair of second conductors 30B exposed on the end face 10b of the element body 10, and the second electrode 20B is directly connected to each of the pair of second conductors 30B.

4つの端子電極20A~20Dのうちの第三電極20C、20Dは、対をなしており、素体10の側面10c側および側面10d側にそれぞれ配置されている。具体的には、第三電極20Cは、長方形状を有する側面10cの長辺の中間位置において積層方向に延びて側面10eと側面10fに回り込んでおり、第三電極20Dは、長方形状を有する側面10dの長辺の中間位置において積層方向に延びて、側面10eと側面10fに回り込んでいる。第三電極20C、20Dは、素体10の側面10c、10dに露出した第三導体30Cの両端部31をそれぞれ覆うようにも形成されており、第三電極20C、20Dは、第三導体30Cと直接接続されている。一対の第三電極20C、20Dと第三導体30Cとは対称的に配置されているため、均一な放電を実現することができる。 Of the four terminal electrodes 20A-20D, third electrodes 20C and 20D form a pair and are arranged on side surfaces 10c and 10d of the element body 10, respectively. Specifically, third electrode 20C extends in the stacking direction at the midpoint of the long side of rectangular side surface 10c and wraps around side surfaces 10e and 10f, while third electrode 20D extends in the stacking direction at the midpoint of the long side of rectangular side surface 10d and wraps around side surfaces 10e and 10f. Third electrodes 20C and 20D are also formed to cover both end portions 31 of third conductor 30C exposed on side surfaces 10c and 10d of the element body 10, respectively, and third electrodes 20C and 20D are directly connected to third conductor 30C. Because the pair of third electrodes 20C and 20D and third conductor 30C are arranged symmetrically, uniform discharge can be achieved.

各端子電極20A~20Dは、単層構造であっても複数層構造であってもよい。各端子電極20A~20Dは、たとえば焼付電極であり、導電性ペーストを素体10の表面に付与して焼き付けることにより形成される。導電性ペーストには、金属(たとえば、Pd、Cu、Ag、又はAg-Pd合金など)からなる粉末に、ガラス成分、有機バインダ、及び有機溶剤を混合したものが用いられている。このような焼付電極上に、めっき層を形成することもできる。めっき層は、Niめっき層と、当該Niめっき層上に形成されたSnめっき層とを含んでいてもよい。 Each of the terminal electrodes 20A-20D may have a single-layer structure or a multi-layer structure. Each of the terminal electrodes 20A-20D is, for example, a fired electrode, formed by applying a conductive paste to the surface of the element body 10 and firing it. The conductive paste is made by mixing a powder made of a metal (for example, Pd, Cu, Ag, or an Ag-Pd alloy) with a glass component, an organic binder, and an organic solvent. A plating layer can also be formed on such a fired electrode. The plating layer may include a Ni plating layer and a Sn plating layer formed on the Ni plating layer.

上述したチップバリスタ1においては、第三導体30Cが交差部32を有し、第三導体30Cは交差部32において第一導体30Aおよび第二導体30Bとそれぞれ重なる重畳部40A、40Bを形成している。そのため、第三導体30Cの交差部32の形状や寸法を調整することで、第一機能層42および第二機能層44の機能領域の寸法を容易に調整することができ、それにより、バリスタ特性を容易に調整することができる。 In the chip varistor 1 described above, the third conductor 30C has an intersection 32, and the third conductor 30C forms overlapping portions 40A and 40B that overlap the first conductor 30A and the second conductor 30B, respectively, at the intersection 32. Therefore, by adjusting the shape and dimensions of the intersection 32 of the third conductor 30C, the dimensions of the functional regions of the first functional layer 42 and the second functional layer 44 can be easily adjusted, and thereby the varistor characteristics can be easily adjusted.

また、チップバリスタ1は、第一導体30Aと第一電極20Aとの接続箇所から重畳部40Aまでの距離L1と、第三導体30Cと第三電極20C、20Dとの接続箇所から、第三導体30Cの形状に沿って重畳部40Aに至るまでの距離L2とが、L1/2≦L2≦2L1の関係を満たすため、バリスタ特性の対称性を高めることができる。さらに、距離L2が、第三導体30Cの外形に沿ったL字状部分の長さであり、2つの直線の長さの合計として求められるため、チップサイズを変えることなく導体設計をおこなうことができる。 In addition, in the chip varistor 1, the distance L1 from the connection point between the first conductor 30A and the first electrode 20A to the overlapping portion 40A and the distance L2 from the connection point between the third conductor 30C and the third electrodes 20C, 20D along the shape of the third conductor 30C to the overlapping portion 40A satisfy the relationship L1/2≦L2≦2L1, thereby improving the symmetry of the varistor characteristics. Furthermore, because the distance L2 is the length of the L-shaped portion that follows the external shape of the third conductor 30C and is calculated as the sum of the lengths of two straight lines, the conductor design can be performed without changing the chip size.

チップバリスタ1の各導体30A~30Cは様々な形状に変更可能であり、たとえば図6~9に示した形状にすることができる。 Each of the conductors 30A to 30C of the chip varistor 1 can be modified into various shapes, such as those shown in Figures 6 to 9.

図6に示した態様は、側面10c、10dの対向方向に関する交差部32の長さw2が、第一導体30Aおよび第二導体30Bの幅w1と異なっており、長さw2が幅w1より狭くなっている点でのみ、上述したチップバリスタ1と異なる。図6に示した態様では、第三導体30Cの交差部32と、側面10c、10dの対向方向における第一導体30Aおよび第二導体30Bとの間に、たとえば導体形成時に相対位置ズレが生じた場合であっても重畳部40A、40Bの重畳面積が変わらない。そのため、チップバリスタの製品ごとの特性ズレを抑制することができる。 The embodiment shown in Figure 6 differs from the chip varistor 1 described above only in that the length w2 of the intersection 32 in the opposing direction of the side surfaces 10c, 10d is different from the width w1 of the first conductor 30A and the second conductor 30B, and the length w2 is narrower than the width w1. In the embodiment shown in Figure 6, even if a relative positional misalignment occurs between the intersection 32 of the third conductor 30C and the first conductor 30A and the second conductor 30B in the opposing direction of the side surfaces 10c, 10d, for example, during conductor formation, the overlapping area of the overlapping portions 40A, 40B does not change. This makes it possible to suppress variations in the characteristics of individual chip varistor products.

図7に示した態様は、側面10c、10dの対向方向に関する交差部32の長さw2が、第一導体30Aおよび第二導体30Bの幅w1と異なっており、長さw2が幅w1より広くなっている点でのみ、上述したチップバリスタ1と異なる。図7に示した態様では、図6に示した態様同様、第三導体30Cの交差部32と、側面10c、10dの対向方向における第一導体30Aおよび第二導体30Bとの間に、たとえば導体形成時に相対位置ズレが生じた場合であっても重畳部40A、40Bの重畳面積が変わらない。そのため、チップバリスタの製品ごとの特性ズレを抑制することができる。 The embodiment shown in Figure 7 differs from the chip varistor 1 described above only in that the length w2 of the intersection 32 in the opposing direction of the side surfaces 10c, 10d is different from the width w1 of the first conductor 30A and the second conductor 30B, and the length w2 is wider than the width w1. In the embodiment shown in Figure 7, as in the embodiment shown in Figure 6, even if a relative positional misalignment occurs between the intersection 32 of the third conductor 30C and the first conductor 30A and the second conductor 30B in the opposing direction of the side surfaces 10c, 10d, for example, during conductor formation, the overlapping area of the overlapping portions 40A, 40B does not change. This makes it possible to suppress variations in the characteristics of individual chip varistor products.

図8に示した態様は、側面10c、10dの対向方向に関する交差部32の長さw2が、交差部32の一方端32aと他方端32bにおいて互いに異なる点でのみ、上述したチップバリスタ1と異なる。図8に示した態様では、第一導体30Aおよび第二導体30Bの寸法および形状を変えることなく、重畳部40A、40Bの重畳面積を変えることができ、それにより、第一導体30Aを経由する経路(チャンネル)と第二導体30Bを経由する経路とでバリスタ特性を異ならせることができる。 The embodiment shown in Figure 8 differs from the chip varistor 1 described above only in that the length w2 of the intersection 32 in the opposing direction of the side surfaces 10c, 10d is different at one end 32a and the other end 32b of the intersection 32. In the embodiment shown in Figure 8, the overlapping area of the overlapping portions 40A, 40B can be changed without changing the dimensions and shapes of the first conductor 30A and the second conductor 30B, thereby making it possible to differentiate the varistor characteristics between the path (channel) passing through the first conductor 30A and the path passing through the second conductor 30B.

図9に示した態様は、第三導体30Cの両端部31と交差部32との間に、端部31から交差部32に向かって漸次幅が拡がる部分である拡幅部33がそれぞれ介在している点でのみ、上述したチップバリスタ1と異なる。図9に示した態様では、第三導体30Cが拡幅部33を有するため、端部31と交差部32との幅が異なる場合であっても、端部31と交差部32との境界における応力集中が抑制され、クラック等の欠陥が生じる事態が抑制される。 The embodiment shown in Figure 9 differs from the chip varistor 1 described above only in that widened portions 33, which are portions whose width gradually widens from the end portions 31 toward the intersection portions 32, are interposed between both end portions 31 and the intersection portions 32 of the third conductor 30C. In the embodiment shown in Figure 9, because the third conductor 30C has widened portions 33, even if the end portions 31 and the intersection portions 32 have different widths, stress concentration at the boundaries between the end portions 31 and the intersection portions 32 is suppressed, and the occurrence of defects such as cracks is suppressed.

チップバリスタ1の各導体30A~30Cの積層構造についても変更可能であり、たとえば図10~12に示した積層構造にすることができる。 The stacked structure of each conductor 30A-30C of the chip varistor 1 can also be changed, for example, to the stacked structures shown in Figures 10-12.

図10に示した態様は、第一導体30Aが一層であり、第二導体30Bも一層であり、かつ、第一導体30Aと第二導体30Bとが同一の層内に延在している。図11に示した態様は、第一導体30Aが一層であり、第二導体30Bも一層であり、かつ、第一導体30Aと第二導体30Bとが異なる層内に延在しており、第三導体30Cは第一導体30Aと第二導体30Bの中間に位置する層内に延在している。図12に示した態様では、第一導体30Aが一層であり、第二導体30Bも一層であり、かつ、第三導体30Cが二層である。二層の第三導体30Cは、素体10の積層方向から見て、寸法および形状が同じであり、完全に一致している。また、第一導体30Aと第二導体30Bとは、二層の第三導体30Cの中間に位置する同一の層内に延在している。 In the embodiment shown in FIG. 10, the first conductor 30A is one layer, the second conductor 30B is also one layer, and the first conductor 30A and the second conductor 30B extend within the same layer. In the embodiment shown in FIG. 11, the first conductor 30A is one layer, the second conductor 30B is also one layer, and the first conductor 30A and the second conductor 30B extend within different layers, and the third conductor 30C extends within a layer located intermediate the first conductor 30A and the second conductor 30B. In the embodiment shown in FIG. 12, the first conductor 30A is one layer, the second conductor 30B is also one layer, and the third conductor 30C is two layers. The two layers of third conductor 30C have the same dimensions and shape when viewed in the stacking direction of the element body 10, and are completely aligned. Furthermore, the first conductor 30A and the second conductor 30B extend within the same layer located intermediate the two layers of third conductor 30C.

図6~図12に示した態様のチップバリスタ1においても、第三導体30Cが交差部32を有し、第三導体30Cは交差部32において第一導体30Aおよび第二導体30Bとそれぞれ重なる重畳部40A、40Bを形成している。そのため、第三導体30Cの交差部32の形状や寸法を調整することで、第一機能層42および第二機能層44の機能領域の寸法を容易に調整することができ、それにより、バリスタ特性を容易に調整することができる。 In the chip varistor 1 of the embodiment shown in Figures 6 to 12, the third conductor 30C also has an intersection 32, and the third conductor 30C forms overlapping portions 40A and 40B that overlap with the first conductor 30A and the second conductor 30B, respectively, at the intersection 32. Therefore, by adjusting the shape and dimensions of the intersection 32 of the third conductor 30C, the dimensions of the functional regions of the first functional layer 42 and the second functional layer 44 can be easily adjusted, and thereby the varistor characteristics can be easily adjusted.

以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。 The above describes a preferred embodiment of the present invention, but the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible without departing from the spirit of the invention.

たとえば、距離L2は、第三導体30Cの形状に沿っていれば、3つ以上の直線の長さの合計であってもよい。第三導体の拡幅部は、斜辺を構成するように幅が漸次拡がっている態様であってもよく、曲線を構成するように幅が漸次拡がっている態様であってもよく、段を構成するように幅が段階的に拡がっている態様であってもよい。チップバリスタの外形寸法、素体の外形寸法等については適宜増減することができる。また、各導体および各端子電極の寸法についても、適宜増減することができる。さらに、素体、各導体および各端子電極を構成する材料は、チップバリスタに適用可能な公知の材料に、適宜変更することができる。 For example, distance L2 may be the sum of the lengths of three or more straight lines, as long as it follows the shape of the third conductor 30C. The widened portion of the third conductor may have a width that gradually increases to form a hypotenuse, a width that gradually increases to form a curve, or a width that gradually increases to form a step. The external dimensions of the chip varistor and the element body may be increased or decreased as appropriate. The dimensions of each conductor and each terminal electrode may also be increased or decreased as appropriate. Furthermore, the materials that make up the element body, each conductor, and each terminal electrode may be changed as appropriate to known materials that are applicable to chip varistors.

1…チップバリスタ、10…素体、20A…第一電極、20B…第二電極、20C、20D…第三電極、30A…第一導体、30B…第二導体、30C…第三導体、31…端部、32…交差部、33…拡幅部、40A、40B…重畳部、42…第一機能層、44…第二機能層。

1...chip varistor, 10...element body, 20A...first electrode, 20B...second electrode, 20C, 20D...third electrode, 30A...first conductor, 30B...second conductor, 30C...third conductor, 31...end, 32...intersection, 33...widened portion, 40A, 40B...overlapped portion, 42...first functional layer, 44...second functional layer.

Claims (7)

積層構造を有し、積層方向に対して平行に延在するとともに互いに対向する第一面および第二面と、積層方向に対して平行に延在して前記第一面と前記第二面とを結ぶとともに互いに対向する第三面および第四面とを有する素体と、
前記素体の所定の層内において、前記第一面と前記第二面との対向方向に沿って前記第一面から延びる第一導体と、
前記素体の所定の層内において前記第一面と前記第二面との対向方向に沿って前記第二面から延びる第二導体と、
前記第三面から前記第四面に亘って延び、かつ、前記第三面と前記第四面との対向方向に対して交差する方向に延びて前記第一導体および前記第二導体のそれぞれと前記素体の積層方向において重なる重畳部を形成する交差部を有する第三導体と、
前記素体の前記第一面に設けられ、前記第一導体に接続された第一電極と、
前記素体の前記第二面に設けられ、前記第二導体に接続された第二電極と、
前記素体の前記第三面および前記第四面にそれぞれ設けられ、前記第三導体の端部に接続された一対の第三電極と
を備え、
前記第一導体と前記第一電極との接続箇所から前記第一導体と前記第三導体とが重なる前記重畳部までの距離をL1とし、前記第一面と前記第二面との対向方向に関する前記交差部の長さをW2としたときに、2L1>W2の関係を満たし、
前記第一導体と前記第一電極との接続箇所から前記第一導体と前記第三導体とが重なる前記重畳部までの距離をL1とし、前記第三導体と前記第三電極との接続箇所から、前記第三導体の形状に沿って、前記第一導体と前記第三導体とが重なる前記重畳部に至るまでの距離L2としたときに、L1/2≦L2≦2L1の関係を満たす、チップバリスタ。
an element body having a laminated structure, the element body having a first surface and a second surface extending parallel to the lamination direction and facing each other, and a third surface and a fourth surface extending parallel to the lamination direction, connecting the first surface and the second surface, and facing each other;
a first conductor extending from the first surface along the opposing direction of the first surface and the second surface in a predetermined layer of the element body;
a second conductor extending from the second surface along the opposing direction of the first surface and the second surface in a predetermined layer of the element body;
a third conductor extending from the third surface to the fourth surface and extending in a direction intersecting the opposing direction of the third surface and the fourth surface, the third conductor having an intersection portion forming an overlapping portion overlapping with each of the first conductor and the second conductor in the stacking direction of the element body;
a first electrode provided on the first surface of the element body and connected to the first conductor;
a second electrode provided on the second surface of the element body and connected to the second conductor;
a pair of third electrodes provided on the third surface and the fourth surface of the element body, respectively, and connected to ends of the third conductor;
Equipped with
a relationship of 2L1>W2 is satisfied, where L1 is a distance from a connection point between the first conductor and the first electrode to the overlapping portion where the first conductor and the third conductor overlap, and W2 is a length of the intersection portion in an opposing direction between the first surface and the second surface,
A chip varistor in which the relationship L1/2≦L2≦2L1 is satisfied, where L1 is the distance from the connection point between the first conductor and the first electrode to the overlapping portion where the first conductor and the third conductor overlap, and L2 is the distance from the connection point between the third conductor and the third electrode to the overlapping portion where the first conductor and the third conductor overlap , along the shape of the third conductor.
前記素体の積層方向から見て、前記第三導体の外形に沿って、前記第三導体と前記第三電極との接続箇所から前記第一導体と前記第三導体とが重なる前記重畳部に至るまでの部分がL字状である、請求項1に記載のチップバリスタ。 2. The chip varistor according to claim 1, wherein, when viewed from the stacking direction of the element body, a portion along the outer shape of the third conductor from a connection point between the third conductor and the third electrode to the overlapping portion where the first conductor and the third conductor overlap is L-shaped. 前記素体の積層方向から見て、前記第三導体が、前記端部から前記交差部に向かって漸次幅が拡がる拡幅部を有する、請求項1に記載のチップバリスタ。 2. The chip varistor according to claim 1 , wherein the third conductor has a widened portion whose width gradually increases from the end portion toward the intersection portion when viewed from the stacking direction of the element body. 前記第一導体と前記第二導体とが前記素体の同一の層内に延在している、請求項1~のいずれか一項に記載のチップバリスタ。 4. The chip varistor according to claim 1 , wherein the first conductor and the second conductor extend within the same layer of the element body. 前記第一導体および前記第二導体の幅が、前記第三導体の前記交差部の幅と同じである、請求項1~のいずれか一項に記載のチップバリスタ。 5. The chip varistor according to claim 1 , wherein the widths of the first conductor and the second conductor are the same as the width of the intersection of the third conductor. 前記第一導体および前記第二導体の幅が、前記第三導体の前記交差部の幅と異なる、請求項1~のいずれか一項に記載のチップバリスタ。 5. The chip varistor according to claim 1 , wherein widths of the first conductor and the second conductor are different from a width of the intersection of the third conductor. 前記第三導体が、前記第三面と前記第四面との対向方向において前記交差部を挟むとともに、前記第三面および前記第四面からそれぞれ露出する一対の前記端部を含み、
前記第一面と前記第二面との対向方向に関し、前記第一導体は、前記第一面側に位置する前記第三導体の前記交差部と前記端部との境の位置より前記第一面側に設けられ、前記第二導体は、前記第二面側に位置する前記第三導体の前記交差部と前記端部との境の位置より前記第二面側に設けられている、請求項1~のいずれか一項に記載のチップバリスタ。
the third conductor includes a pair of ends sandwiching the intersection in an opposing direction of the third surface and the fourth surface and exposed from the third surface and the fourth surface, respectively;
7. The chip varistor according to claim 1, wherein, with respect to an opposing direction between the first surface and the second surface, the first conductor is provided on the first surface side of a boundary position between the intersection and the end of the third conductor located on the first surface side, and the second conductor is provided on the second surface side of a boundary position between the intersection and the end of the third conductor located on the second surface side.
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