JP7806802B2 - フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 - Google Patents
フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品Info
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Description
なお、本発明に関連する従来技術として、上述した文献と共に下記文献が挙げられる。
〔1〕
下記一般式(1)
Uは独立に炭素数6~8のアリーレン基、酸素原子、硫黄原子、ジオルガノシリレン基、2級アミノ基、カルボニル基、エステル基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい3級アミノ基、アミド基、イソシアヌル基又はトリアジン環含有基と炭素数1~20の2価の脂肪族飽和炭化水素基とからなる3価の基であり、Zは独立にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造であり、Yは独立に酸素原子、硫黄原子及び炭素数6~8のアリーレン基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい、炭素数1~20のアルキレン基であり、Rは独立に炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であり、Xは独立に水酸基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数2~10のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~10のアシロキシ基、炭素数2~10のアルケニルオキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる基であり、nは結合するケイ素原子毎に独立に1~3の整数であり、mは2である。]
で表されるシラノール基又は加水分解性シリル基を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
〔2〕
前記式(2)において、pは5~440の整数、qは5~250の整数、rは0~180の整数、sは0~100の整数、tは0~100の整数、uは0~100の整数、vは0~100の整数であり、p+q+r+s+t+u+vは50~450であり、p+qは50~450である〔1〕に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
〔3〕
前記式(2)において、Rfが下記式で表されるものである〔1〕に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
〔4〕
前記式(1)において、Uが下記式のいずれかで表されるものである〔1〕に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
〔5〕
式(1)で表されるポリマーが、下記式のいずれかで表されるものである〔1〕に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
〔6〕
〔1〕~〔5〕のいずれかに記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー及び/又はその部分(加水分解)縮合物を主成分とする表面処理剤。
〔7〕
〔6〕に記載の表面処理剤で表面処理された物品。
〔8〕
レンズ基材である〔7〕に記載の物品。
〔9〕
下記一般式(1)
Uは独立に炭素数6~8のアリーレン基、酸素原子、硫黄原子、水酸基、ジオルガノシリレン基、2級アミノ基、カルボニル基及びエステル基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい炭素数1~20の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、Zは独立にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造であり、Yは独立に酸素原子、硫黄原子及び炭素数6~8のアリーレン基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい、炭素数1~20のアルキレン基であり、Rは独立に炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であり、Xは独立に水酸基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数2~10のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~10のアシロキシ基、炭素数2~10のアルケニルオキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる基であり、nは結合するケイ素原子毎に独立に1~3の整数であり、mは1である。]
で表されるシラノール基又は加水分解性シリル基を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマー及び/又はその部分(加水分解)縮合物を、溶剤を除く総量において80~100質量%含む表面処理剤。
〔10〕
〔9〕に記載の表面処理剤で表面処理された物品。
〔11〕
レンズ基材である〔10〕に記載の物品。
Uは独立に2価又は3価の有機基であり、Zは独立にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造であり、Yは独立に2価の有機基であり、Rは独立に炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であり、Xは独立に水酸基又は加水分解性基であり、nは結合するケイ素原子毎に独立に1~3の整数であり、mは1又は2である。]
上記式(2)において、Wは1以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基であり、例えば、CF2、C2F4、C3F6、C4F8、C5F10、C6F12等の各パーフルオロアルキレン基において、フッ素原子の1個又は2個が水素原子で置換されたもの等が例示できる。
また、p、q、r、s、t、u、vはそれぞれ0~450の整数、好ましくは、pは5~440の整数、qは5~250の整数、rは0~180の整数、sは0~100の整数、tは0~100の整数、uは0~100の整数、vは0~100の整数であり、p+q+r+s+t+u+vは20~450、好ましくは50~200であり、p+qは20~450、特に50~200であることが好ましい。p+q+r+s+t+u+vが上記上限値より小さければ密着性や硬化性が良好であり、上記下限値より大きければフルオロポリエーテル基の特徴を十分に発揮することができるので好ましい。各単位は直鎖状であっても分岐状であってもよい。また、p、q、r、s、t、u、vが付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。
上記式(1)において、Rは独立にメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基である。また、nは結合するケイ素原子毎に独立に1~3の整数、好ましくは2又は3であり、mは1又は2である。
分子鎖両末端にオレフィン部位(アルケニル基)を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマーを、溶剤、例えば1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンなどのフッ素系溶剤に溶解させ、例えば分子中にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造を有し、SiH基とシラノール基又は加水分解性シリル基(ハロゲン化シリル基やアルコキシシリル基等)とを有する有機ケイ素化合物を混合し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸/ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液存在下、40~120℃、好ましくは60~100℃、より好ましくは約80℃の温度で、1~72時間、好ましくは20~36時間、より好ましくは約24時間熟成させる。なお、分子中にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造を有し、SiH基とシラノール基又は加水分解性シリル基とを有する有機ケイ素化合物において、加水分解性シリル基としてハロゲン化シリル基を有する有機ケイ素化合物を用いた場合は、その後、シリル基上の置換基(ハロゲン原子)を、他の加水分解性基として、例えばメトキシ基などのアルコキシ基等に変換してもよい。
この使用量は、分子鎖両末端にオレフィン部位(アルケニル基)を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマーと分子中にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造を有し、SiH基とハロゲン化シリル基とを有する有機ケイ素化合物との付加反応生成物100質量部に対して、10~200質量部、より好ましくは40~100質量部、更に好ましくは65質量部用いることができる。
溶剤の使用量は、分子鎖両末端にオレフィン部位(アルケニル基)を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマー100質量部に対して、10~300質量部、好ましくは50~150質量部、更に好ましくは約100質量部用いることができる。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、分子鎖両末端にオレフィン部位(アルケニル基)を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマーの質量に対して、遷移金属換算(質量)で0.01~100ppm、より好ましくは0.1~50ppmとなる量とすることができる。
「主成分として含有する(主成分とする)」とは、表面処理剤の後述する溶剤を除く総量における一般式(1)で表されるシラノール基又は加水分解性シリル基を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマー及び/又はその部分(加水分解)縮合物の含有量が50~100質量%、好ましくは60~100質量%、より好ましくは80~100質量%であることをいう。
A-Rf-A (5)
(式中、Rfは上記と同じであり、Aは独立にフッ素原子、水素原子、又は末端が-CF3基、-CF2H基もしくは-CH2F基である1価のフッ素含有基である。)
上記式(5)において、Aは独立にフッ素原子、水素原子、又は末端が-CF3基、-CF2H基もしくは-CH2F基である1価のフッ素含有基である。末端が-CF3基、-CF2H基もしくは-CH2F基である1価のフッ素含有基として、具体的には、-CF3基、-CF2CF3基、-CF2CF2CF3基、-CH2CF(CF3)-OC3F7基、-CH2OCF2CFH-OC3F7基等が例示できる。Aとしては、中でも、フッ素原子、-CF3基、-CF2CF3基が好ましい。
加水分解縮合触媒の添加量は触媒量であり、通常、シラノール基又は加水分解性シリル基を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマー及び/又はその部分(加水分解)縮合物100質量部に対して0.01~5質量部、特に0.1~1質量部である。
ここでいうチャッキング性とは、加工対象の基板を接着テープで固定した状態で加工を行ったときの基板が固定される程度をいい、例えば玉摺り加工用のレンズブロッキングテープでレンズを固定した際のレンズブロッキングテープとレンズとの接着の強さ(引張せん断接着強さ)を目安に判断される。接着テープと基板との接着により基板を精度良く加工できる程度に強固に固定できる場合をチャッキング性がよいという。
反応容器に、下記式(A)
反応容器に、下記式(A)
反応容器に、下記式(F)
反応容器に、下記式(I)
反応容器に、下記式(L)
反応容器に、下記式(P)
反応容器に、下記式(V)
反応容器に、下記式(X)
反応容器に、下記式(Z)
反応容器に、下記式(AB)
反応容器に、下記式(AD)
反応容器に、下記式(AF)
反応容器に、下記式(AH)
反応容器に、下記式(AJ)
反応容器に、下記式(AO)
反応容器に、下記式(AQ)
得られた化合物は、1H-NMRにより下記式(AS)で表される構造であることが確認された。
合成例1で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例2で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例3で得た化合物を、濃度20質量%になるようにオプテオンSF10(三井・ケマーズフロロプロダクツ社製、メチルパーフルオロヘプテニルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例4で得た化合物を、濃度20質量%になるようにアサヒクリンAC-6000(AGC社製、トリデカフルオロオクタン)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例6で得た化合物を、濃度20質量%になるようにアサヒクリンAC-6000(AGC社製、トリデカフルオロオクタン)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例7で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例8で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例10で得た化合物を、濃度20質量%になるようにオプテオンSF10(三井・ケマーズフロロプロダクツ社製、メチルパーフルオロヘプテニルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例11で得た化合物を、濃度20質量%になるようにオプテオンSF10(三井・ケマーズフロロプロダクツ社製、メチルパーフルオロヘプテニルエーテル))に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例13で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例14で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例15で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7300(3M社製、メチルパーフルオロヘキシルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
合成例16で得た化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
下記式(AT)
下記式(AU)
下記式(AV)
C6F13-Si(OCH3)3 (AV)
で表される化合物を、濃度20質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて表面処理剤を調製した。
上記実施例の通り、表面処理剤を調製した。最表面にSiO2層を有するAR処理プラスチックレンズ(サイズ:80mmφ)に、各表面処理剤を真空蒸着し(処理条件は、圧力:2.0×10-2Pa、加熱温度:700℃)、25℃、湿度50%の雰囲気下で12時間硬化させて膜厚10nmの硬化被膜を形成した。
[初期撥水性の測定]
上記にて作製した硬化被膜を形成したレンズについて、接触角計Drop Master(協和界面科学社製)を用いて、硬化被膜の水に対する接触角(撥水性)を測定した(液滴:2μl、温度:25℃、湿度:40%)。結果(初期水接触角)を表1に示す。
初期においては、実施例、比較例共に良好な撥水性を示した。
[動摩擦係数の測定]
上記にて作製した硬化被膜を形成したレンズについて、ベンコット(旭化成社製)に対する動摩擦係数を、表面性試験機14FW(新東科学社製)を用いて下記条件で測定した。結果を表1に示す。
接触面積:10mm×30mm
荷重:100g
上記にて作製した硬化被膜を形成したレンズについて、ラビングテスター(新東科学社製)を用いて、下記条件で擦った後の硬化被膜の水に対する接触角(撥水性)を上記と同様にして測定し、耐摩耗性の評価とした。試験環境条件は25℃、湿度40%である。また、初期水接触角からの減少率を算出し、これらの結果(布摩耗後水接触角、水接触角減少率)を表1に示す。
[耐布摩耗性の測定]
布:ベンコット(旭化成社製)
接触面積:1cm2
移動距離(片道):40mm
移動速度:4,800mm/分
荷重:1kg/1cm2
摩耗回数:30,000回
上記にて作製した硬化被膜を形成したレンズにレンズブロッキングテープ(3M社製:LEAP III 1695M)を貼り付け、引張せん断接着強さを測定した。具体的には、硬化被膜を形成したレンズと該レンズに貼り付けたレンズブロッキングテープとをその接着面にせん断応力が作用するように引張り、その接着接合部が破断したときの最大強さを測定した。結果(引張せん断接着強さ)を表1に示す。
[引張せん断接着強さ測定]
接着面積:2.7cm2
引張速度:50mm/分
Claims (11)
- 下記一般式(1)
[式中、Rfは下記一般式(2)で表される2価のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基であり、
(式中、Wは1以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基である。dは単位毎にそれぞれ独立して1~3の整数であり、p、q、r、s、t、u、vはそれぞれ0~450の整数で、p+q+r+s+t+u+v=20~450であり、これら各単位は直鎖状であっても分岐状であってもよい。また、p、q、r、s、t、u、vが付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよく、該ポリマー残基の数平均分子量は6,000~30,000である。)
Uは独立に炭素数6~8のアリーレン基、酸素原子、硫黄原子、ジオルガノシリレン基、2級アミノ基、カルボニル基、エステル基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい3級アミノ基、アミド基、イソシアヌル基又はトリアジン環含有基と炭素数1~20の2価の脂肪族飽和炭化水素基とからなる3価の基であり、Zは独立にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造であり、Yは独立に酸素原子、硫黄原子及び炭素数6~8のアリーレン基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい、炭素数1~20のアルキレン基であり、Rは独立に炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であり、Xは独立に水酸基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数2~10のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~10のアシロキシ基、炭素数2~10のアルケニルオキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる基であり、nは結合するケイ素原子毎に独立に1~3の整数であり、mは2である。]
で表されるシラノール基又は加水分解性シリル基を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマー。 - 前記式(2)において、pは5~440の整数、qは5~250の整数、rは0~180の整数、sは0~100の整数、tは0~100の整数、uは0~100の整数、vは0~100の整数であり、p+q+r+s+t+u+vは50~450であり、p+qは50~450である請求項1に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
- 前記式(2)において、Rfが下記式で表されるものである請求項1に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
(式中、r2’、r3’はそれぞれ1以上の整数であり、r2’とr3’の合計は35~180である。該ポリマー残基の数平均分子量は6,000~30,000である。) - 前記式(1)において、Uが下記式のいずれかで表されるものである請求項1に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
(式中、fは独立に2~4の整数であり、aは1~4の整数である。) - 式(1)で表されるポリマーが、下記式のいずれかで表されるものである請求項1に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー。
(式中、p1は5~440の整数、q1は5~250の整数で、p1+q1は50~450の整数である。r1は35~180の整数であり、r2は1~100の整数、r3は1~100の整数で、r2+r3は35~180の整数である。p2は1~400の整数、q2は1~250の整数、r4は1~100の整数、r5は1~100の整数で、p2+q2+r4+r5は40~403の整数である。p3は5~440の整数、q3は5~250の整数で、p3+q3は50~445の整数である。p1とq1、p2とq2、p3とq3が付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよい。) - 請求項1~5のいずれか1項に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー及び/又はその部分(加水分解)縮合物を主成分とする表面処理剤。
- 請求項6に記載の表面処理剤で表面処理された物品。
- レンズ基材である請求項7に記載の物品。
- 下記一般式(1)
[式中、Rfは下記一般式(2)で表される2価のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基であり、
(式中、Wは1以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基である。dは単位毎にそれぞれ独立して1~3の整数であり、p、q、r、s、t、u、vはそれぞれ0~450の整数で、p+q+r+s+t+u+v=20~450であり、これら各単位は直鎖状であっても分岐状であってもよい。また、p、q、r、s、t、u、vが付された括弧内に示される各繰り返し単位はランダムに結合されていてよく、該ポリマー残基の数平均分子量は6,000~30,000である。)
Uは独立に炭素数6~8のアリーレン基、酸素原子、硫黄原子、水酸基、ジオルガノシリレン基、2級アミノ基、カルボニル基及びエステル基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい炭素数1~20の2価の脂肪族飽和炭化水素基であり、Zは独立にシルアルキレン構造又はシルアリーレン構造であり、Yは独立に酸素原子、硫黄原子及び炭素数6~8のアリーレン基から選ばれる1種又は2種以上の原子又は基を含んでいてもよい、炭素数1~20のアルキレン基であり、Rは独立に炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であり、Xは独立に水酸基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数2~10のアルコキシアルコキシ基、炭素数2~10のアシロキシ基、炭素数2~10のアルケニルオキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる基であり、nは結合するケイ素原子毎に独立に1~3の整数であり、mは1である。]
で表されるシラノール基又は加水分解性シリル基を有するフルオロポリエーテル基含有ポリマー及び/又はその部分(加水分解)縮合物を、溶剤を除く総量において80~100質量%含む表面処理剤。 - 請求項9に記載の表面処理剤で表面処理された物品。
- レンズ基材である請求項10に記載の物品。
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