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JP7807619B2 - Coaxial epi-illumination device for image processing inspection - Google Patents
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JP7807619B2 - Coaxial epi-illumination device for image processing inspection - Google Patents

Coaxial epi-illumination device for image processing inspection

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JP7807619B2 JP2022066758A JP2022066758A JP7807619B2 JP 7807619 B2 JP7807619 B2 JP 7807619B2 JP 2022066758 A JP2022066758 A JP 2022066758A JP 2022066758 A JP2022066758 A JP 2022066758A JP 7807619 B2 JP7807619 B2 JP 7807619B2
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Description

本発明は、画像処理検査において対象物を照明するために用いられる画像処理検査用同軸落射照明装置に関する。 The present invention relates to a coaxial epi-illumination device for image processing inspection, which is used to illuminate an object during image processing inspection.

従来より、半導体等の工業製品の品質や商品パッケージに施される印字等を製造ライン上で検査する際に、CCDカメラ等による撮像を利用した画像処理検査が行われている。このような画像処理検査で用いる照明装置の一つとして、同軸落射照明装置が提案されている。同軸落射照明装置は、光源から発せられた光を拡散板で拡散させた後にハーフミラーで反射して照射面上の対象物に照射し、対象物からの反射光がハーフミラーを介してCCDカメラ等に到達するように構成されており、光源は面状に配置された複数個のLEDにより構成されている(例えば、特許文献1参照)。 Image processing inspections using images captured by CCD cameras and other devices have traditionally been performed on production lines to inspect the quality of industrial products such as semiconductors and the printing on product packaging. One type of lighting device used in such image processing inspections is the coaxial epi-illumination device. Coaxial epi-illumination devices are configured so that light emitted from a light source is diffused by a diffuser plate, reflected by a half mirror, and irradiated onto an object on the illumination surface. The light reflected from the object then travels via the half mirror to a CCD camera or other device. The light source is composed of multiple LEDs arranged in a planar pattern (see, for example, Patent Document 1).

特開2013-140032号公報JP 2013-140032 A

図3に従来の同軸落射照明装置の一例を示す。図3(a)を参照して、ハーフミラー106で反射された光は筐体102に設けられた照射開口部(照射孔)121aを介して射出されるが、従来の同軸落射照明装置においては、図3(b)に示すように照射面T上の照射領域における光の照度にバラツキが生じることに加え、照射開口部121aの中心と照射領域における光の照度ピーク位置にズレが生じていた。これは、拡散板8で拡散された光の一部はハーフミラー106で反射されることなく照射面Tに直接到達することに起因するものであり、照度ピーク位置は照射開口部121aの中心よりも光源103から離れた位置となっている。 Figure 3 shows an example of a conventional coaxial epi-illumination device. Referring to Figure 3(a), light reflected by the half mirror 106 is emitted through an irradiation opening (irradiation hole) 121a provided in the housing 102. However, in conventional coaxial epi-illumination devices, as shown in Figure 3(b), not only does the illuminance of the light vary in the irradiation area on the irradiation surface T, but there is also a discrepancy between the center of the irradiation opening 121a and the peak illuminance position of the light in the irradiation area. This is because some of the light diffused by the diffuser 8 reaches the irradiation surface T directly without being reflected by the half mirror 106, and the peak illuminance position is farther from the light source 103 than the center of the irradiation opening 121a.

また、従来の同軸落射照明装置においては、ワークディスタンスやワークサイズ(対象物の寸法)に応じて照射面上における照射領域を調整することはできなかった。 Furthermore, with conventional coaxial epi-illumination devices, it was not possible to adjust the illumination area on the illumination surface according to the work distance or work size (object dimensions).

本発明は、より均一な照度の光を照射できる画像処理検査用同軸落射照明装置の提供を目的とする。 The objective of the present invention is to provide a coaxial epi-illumination device for image processing inspection that can emit light with more uniform illuminance.

また、本発明は、ワークディスタンスやワークサイズに応じて照射領域を設定可能な画像処理検査用同軸落射照明装置の提供を他の目的とする。 Another object of the present invention is to provide a coaxial epi-illumination device for image processing inspection that allows the illumination area to be set according to the work distance and work size.

本発明に係る画像処理検査用同軸落射照明装置は、対象物を撮像して検査する画像処理検査において用いられるものであって、第1方向に光軸を有する単一光源と、前記第1方向に対して傾斜するハーフミラーと、前記単一光源から発せられた光の配光角を縮小させる第1レンズと、前記第1レンズからの光を前記ハーフミラーに入射させるための第2レンズと、を備え、前記ハーフミラーは、前記第2レンズからの光を前記第1方向と直交する第2方向に反射させて対象物に照射させると共に、前記対象物からの反射光を透過させ、前記単一光源,前記第1レンズ,前記第2レンズ及び前記ハーフミラーは、前記第1方向に沿って、この順序で配列されている。 The coaxial epi-illumination device for image processing inspection according to the present invention is used in image processing inspections in which an object is imaged and inspected. It comprises a single light source having an optical axis in a first direction, a half mirror tilted with respect to the first direction, a first lens that reduces the light distribution angle of the light emitted from the single light source, and a second lens that causes the light from the first lens to enter the half mirror. The half mirror reflects the light from the second lens in a second direction perpendicular to the first direction to illuminate the object and transmits the light reflected from the object. The single light source, first lens, second lens, and half mirror are arranged in this order along the first direction.

また、前記第2レンズは、前記第1レンズからの光を平行光または集束光に変換して前記ハーフミラーに入射させるのが好ましい。 It is also preferable that the second lens converts the light from the first lens into parallel or convergent light and directs it into the half mirror.

本発明に係る画像処理検査用同軸落射照明装置によれば、単一光源,第1レンズ,第2レンズ及びハーフミラー第1方向に沿ってこの順序で配列されており、単一光源から発せられた光は第1レンズにより配光角が縮小され、第2レンズを介してハーフミラーに入射し、ハーフミラーにより反射された光が対象物を照射する。よって、単一光源からの光がハーフミラーを介さず照射面上の対象物を照射することがなく、これにより対象物をより均一な光量で照射することができる。また、単一光源を備えるので、面状に配置された複数個の光源を備える同軸落射照明装置と比較して、部品点数を減らすことができる。 In the coaxial epi-illumination device for image processing inspection according to the present invention, a single light source, a first lens, a second lens, and a half mirror are arranged in this order along a first direction. The light emitted from the single light source has its light distribution angle reduced by the first lens, and is incident on the half mirror via the second lens. The light reflected by the half mirror then illuminates the object. Therefore, light from the single light source does not illuminate the object on the illumination surface without passing through the half mirror, allowing the object to be illuminated with a more uniform amount of light. Furthermore, because it has a single light source, the number of parts can be reduced compared to coaxial epi-illumination devices with multiple light sources arranged in a plane.

また、第2レンズが第1レンズからの光を平行光に変換してハーフミラーに入射させることにより、ハーフミラーにより反射されて対象物を照射する照射光も平行光となる。よって、ワークディスタンスが変動しても、対象物を均一な光量で照射することができる。 In addition, the second lens converts the light from the first lens into parallel light and makes it incident on the half mirror, so the light reflected by the half mirror and irradiated onto the object also becomes parallel light. Therefore, even if the working distance varies, the object can be irradiated with a uniform amount of light.

或いは、第2レンズが第1レンズからの光を集束光に変換してハーフミラーに入射させることにより、ハーフミラーにより反射されて対象物を照射する照射光も集束光となる。よって、より狭い照射領域を効率的に照射でき、対象物をピンポイントで照明するのに好適に利用できる。また、集束光の集束度合いは、ワークディスタンスやワークサイズに応じて適宜設定することができ、集束光の集束度合いは第1レンズから第2レンズまでの距離を調整することで容易に設定できる。 Alternatively, the second lens converts the light from the first lens into focused light and directs it into the half mirror, so that the light reflected by the half mirror and illuminating the object also becomes focused light. This allows for efficient illumination of a narrower illumination area, making it ideal for pinpoint illumination of an object. Furthermore, the degree of convergence of the focused light can be set appropriately according to the work distance and work size, and can be easily set by adjusting the distance from the first lens to the second lens.

本発明の第1実施形態に係る画像処理検査用同軸落射照明装置を備える画像処理検査システムの全体構成を示す概略図。1 is a schematic diagram showing the overall configuration of an image processing inspection system equipped with a coaxial epi-illumination device for image processing inspection according to a first embodiment of the present invention; 本発明の第2実施形態に係る画像処理検査用同軸落射照明装置を備える画像処理検査システムの全体構成を示す概略図。FIG. 10 is a schematic diagram showing the overall configuration of an image processing inspection system including a coaxial epi-illumination device for image processing inspection according to a second embodiment of the present invention. (a)は、従来の照明装置を備える画像処理検査システムの全体構成を示す概略図、(b)は従来の同軸落射照明装置における照射面上における照度分布を示すグラフ。1A is a schematic diagram showing the overall configuration of an image processing inspection system equipped with a conventional illumination device, and FIG. 1B is a graph showing the illuminance distribution on an illumination surface in a conventional coaxial epi-illumination device.

[第1実施形態]
以下、添付図面を参照して本発明の第1実施形態に係る画像処理検査用同軸落射照明装置を備える画像処理検査システムについて説明する。図1に示す画像処理検査システムSは、照射面T上の対象物Bに光を照射するための画像処理検査用同軸落射照明装置(以下、「照明装置」という。)1と、対象物Bを撮像するための撮像装置Cと、を備える。照明装置1は、筐体2と、筐体2に収容保持された光源3,第1レンズ4,第2レンズ5,及びハーフミラー6を備える。光源3は前後方向(第1方向)D1に光軸を有し、光源3,第1レンズ4,第2レンズ5,及びハーフミラー6は相互に間隔を空けてこの順序で前後方向D1に沿って配列されている。
[First embodiment]
An image processing inspection system including a coaxial epi-illumination device for image processing inspection according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The image processing inspection system S shown in Fig. 1 includes a coaxial epi-illumination device for image processing inspection (hereinafter referred to as the "illumination device") 1 for irradiating light onto an object B on an irradiation surface T, and an imaging device C for imaging the object B. The illumination device 1 includes a housing 2, and a light source 3, a first lens 4, a second lens 5, and a half mirror 6 housed and held in the housing 2. The light source 3 has an optical axis in a front-to-rear direction (first direction) D1, and the light source 3, the first lens 4, the second lens 5, and the half mirror 6 are arranged in this order along the front-to-rear direction D1 at intervals from one another.

筐体2は直方体形状であって、下壁21と、上壁22と、前壁23と、後壁24と、一対の側壁(図示せず)と、を有する。下壁21には照射孔21aが開口され、上壁22には透過窓22aが設けられ、透過窓22aには透過部材22bが嵌め込まれている。光源3はLED素子31を1個のみ有する単一光源であって、LED素子31の光軸が前方に延びるように筐体2の後壁24の内面に配置されている。 The housing 2 is rectangular and has a bottom wall 21, a top wall 22, a front wall 23, a rear wall 24, and a pair of side walls (not shown). The bottom wall 21 has an irradiation hole 21a, and the top wall 22 has a transmission window 22a into which a transmission member 22b is fitted. The light source 3 is a single light source having only one LED element 31, and is arranged on the inner surface of the rear wall 24 of the housing 2 so that the optical axis of the LED element 31 extends forward.

第1レンズ4は光源3から発せられた光の配光角を縮小させる配光制御レンズとして機能する。第2レンズ5は、第1レンズ4を通過した光を光源3の光軸と平行な平行光へ変換してハーフミラー6へ向けて射出するものであり、ここでは第2レンズ5としてフレネルレンズを用いている。第1レンズ4と第2レンズ5の光軸は一致し、前後方向D1に延びている。 The first lens 4 functions as a light distribution control lens that reduces the light distribution angle of the light emitted from the light source 3. The second lens 5 converts the light that passes through the first lens 4 into parallel light parallel to the optical axis of the light source 3 and emits it toward the half mirror 6; here, a Fresnel lens is used as the second lens 5. The optical axes of the first lens 4 and second lens 5 coincide and extend in the front-to-rear direction D1.

ハーフミラー6は、入射する光の半分を反射し、光の半分を透過するミラーであって、前後方向D1に対して45度に傾斜して(図1の例では後上方向に向けて斜めに)配置され、第2レンズ5からの光を対象物B(照射面T)に向かって下向(第2方向)D2に反射させると共に、対象物Bからの反射光を撮像装置Cに向けて上方に透過させる。撮像装置Cは上下方向に光軸を有し、ハーフミラー6を介して対象物Bに対向配置され、対象物Bからの反射光を取り込む。 The half mirror 6 is a mirror that reflects half of the light that enters it and transmits the other half. It is tilted at a 45-degree angle relative to the front-to-back direction D1 (diagonally tilted upward and rearward in the example of Figure 1), and reflects light from the second lens 5 downward (in the second direction) D2 toward the object B (irradiation surface T), while transmitting the light reflected from the object B upward toward the imaging device C. The imaging device C has an optical axis in the vertical direction, is positioned opposite the object B via the half mirror 6, and captures the light reflected from the object B.

かかる構成において、光源3から発せられた光は、第1レンズ4により配光角が縮小され、第2レンズ5により更に配光角が制御されて平行光とされる。第2レンズ5からの平行光はハーフミラー6に入射し、ハーフミラー6によって撮像装置Cの光軸に沿った下方D2に反射される。このように下方D2に反射された光は照射孔21aを介して射出され、対象物Bを照射する。そして、対象物Bにより反射された反射光は、照射孔21aを介して筐体2内に入り、ハーフミラー6及び透過窓22aを透過して撮像装置Cに到達し、撮像装置Cによって撮像される。 In this configuration, the light emitted from the light source 3 has its light distribution angle reduced by the first lens 4, and the light distribution angle is further controlled by the second lens 5 to form parallel light. The parallel light from the second lens 5 is incident on the half mirror 6, which reflects it downward D2 along the optical axis of the imaging device C. The light reflected downward D2 is emitted through the irradiation hole 21a and illuminates the object B. The light reflected by the object B then enters the housing 2 through the irradiation hole 21a, passes through the half mirror 6 and the transmission window 22a, reaches the imaging device C, and is imaged by the imaging device C.

このように、光源3から発せられた光は第2レンズ5により光源3の光軸と平行な平行光とされることから、第2レンズ5からの光が対象物Bを直接照射することはない。よって、照射面T上の照射領域を均一に照射することができる。また、光源3から発せられた光の配光角が第1レンズ4により縮小されるので、光源3からの光を効率良く第2レンズ5へ入射させることができ、光のロスを抑制できる。 In this way, the light emitted from the light source 3 is converted by the second lens 5 into parallel light parallel to the optical axis of the light source 3, so the light from the second lens 5 does not directly illuminate the object B. This allows the illumination area on the illumination surface T to be uniformly illuminated. Furthermore, because the luminous intensity distribution angle of the light emitted from the light source 3 is reduced by the first lens 4, the light from the light source 3 can be efficiently incident on the second lens 5, minimizing light loss.

更に、第2レンズ5からの平行光がハーフミラー6により反射されるので、ハーフミラー6により反射されて対象物Bを照射する照射光は平行光となる。よって、ワークディスタンスWD(即ち、照射孔21aから対象物Bまでの距離)が変動しても、対象物Bを均一な光量で照射することができる。 Furthermore, because the parallel light from the second lens 5 is reflected by the half mirror 6, the light reflected by the half mirror 6 and irradiating the object B becomes parallel light. Therefore, even if the working distance WD (i.e., the distance from the irradiation hole 21a to the object B) varies, the object B can be irradiated with a uniform amount of light.

本実施形態では単一光源を用いるので、複数個の光源を面状に配置させた面状光源と比較して部品点数を減らすことができる。 In this embodiment, a single light source is used, which reduces the number of parts compared to a surface light source in which multiple light sources are arranged in a plane.

なお、本実施形態における対象物Bとしては、ラベルや包装部品等、幅広のものが適している。また、光源3から第1レンズ4までの距離OD、及び第1レンズ4から第2レンズ5までの距離MDについては、まず最初に距離ODを設定し、その後に距離MDを設定する。 In this embodiment, the object B is preferably a wide object such as a label or packaging part. Regarding the distance OD from the light source 3 to the first lens 4 and the distance MD from the first lens 4 to the second lens 5, the distance OD is set first, and then the distance MD is set.

[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係る照明装置(画像処理検査用同軸落射照明装置)について図2を参照して説明する。本実施形態に係る照明装置1Aは、図1に示す照明装置1と実質同一であるが、第1レンズ4から第2レンズ5までの距離MDが図1におけるものよりも広く設定され、これにより第2レンズ5に入射した光は集束光に変換される。そして、第2レンズ5から射出された集束光はハーフミラー6により下方に反射されて対象物Bを照射する。
Second Embodiment
Next, an illumination device (coaxial epi-illumination device for image processing inspection) according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to Fig. 2. The illumination device 1A according to this embodiment is substantially the same as the illumination device 1 shown in Fig. 1, except that the distance MD from the first lens 4 to the second lens 5 is set wider than that shown in Fig. 1, so that light incident on the second lens 5 is converted into focused light. The focused light emitted from the second lens 5 is then reflected downward by the half mirror 6 and illuminates the object B.

本実施形態においても、光源3から発せられた光は第2レンズ5により集束光に変換されてハーフミラー6に入射することから、第2レンズ5からの光が対象物Bを直接照射することがない。よって、照射面T上の照射領域を均一に照射することができる。 In this embodiment, too, the light emitted from the light source 3 is converted into focused light by the second lens 5 and enters the half mirror 6, so the light from the second lens 5 does not directly illuminate the object B. Therefore, the illumination area on the illumination surface T can be uniformly illuminated.

また、第2レンズ5からの集束光がハーフミラー6により反射されるので、ハーフミラー6により反射されて対象物Bを照射する照射光は集束光となる。よって、上述の第1実施形態と比較して、より狭い照射領域を効率的に照射でき、対象物Bをピンポイントで照明するのに好適であり、本実施形態における対象物Bとしては電子部品等の小さな物品が適している。 In addition, because the focused light from the second lens 5 is reflected by the half mirror 6, the light reflected by the half mirror 6 and irradiating the object B becomes focused light. Therefore, compared to the first embodiment described above, a narrower irradiation area can be efficiently irradiated, making it suitable for pinpoint illumination of the object B. In this embodiment, the object B is preferably a small item such as an electronic component.

ここで、第2レンズ5による光の集束度合いは、ワークディスタンスや照射領域の広さ(換言すると、対象物Bの寸法(ワークサイズ))に応じて適宜設定すれば良く、第2レンズ5による光の集束度合いは第1レンズ4から第2レンズ5までの距離MD(即ち、第1及び第2レンズ4,5からなる組み合わせレンズの焦点距離)を調整することで容易に設定できる。 The degree to which light is focused by the second lens 5 can be set appropriately according to the work distance and the size of the irradiation area (in other words, the dimensions of the object B (work size)), and the degree to which light is focused by the second lens 5 can be easily set by adjusting the distance MD from the first lens 4 to the second lens 5 (i.e., the focal length of the combined lens consisting of the first and second lenses 4 and 5).

以上、本発明の実施形態に係る画像処理検査用同軸落射照明装置について添付の図面を参照して説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されず、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形、修正が可能である。 The above describes a coaxial epi-illumination device for image processing inspection according to an embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to such an embodiment, and various modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

例えば、上記第1実施形態と第2実施形態では、第1レンズ4から第2レンズ5までの距離MDのみが異なるが、これに加えて単一光源3から第1レンズ4までの距離ODも異なるものとしても良い。 For example, in the first and second embodiments described above, only the distance MD from the first lens 4 to the second lens 5 is different, but in addition, the distance OD from the single light source 3 to the first lens 4 may also be different.

1、1A 画像処理検査用同軸落射照明装置
3 単一光源
4 第1レンズ
5 第2レンズ
6 ハーフミラー
B 対象物
C 撮像装置
S 画像処理検査システム
1, 1A Coaxial epi-illumination device for image processing inspection 3 Single light source 4 First lens 5 Second lens 6 Half mirror B Object C Imaging device S Image processing inspection system

Claims (2)

対象物を撮像して検査する画像処理検査において用いられる画像処理検査用同軸落射照明装置であって、
第1方向に光軸を有するLED素子を1個のみ有する単一光源と、
前記第1方向に対して傾斜するハーフミラーと、
前記単一光源から発せられた光の配光角を縮小させる第1レンズと、
前記第1レンズからの光を前記ハーフミラーに入射させるための第2レンズと、
前記単一光源と、前記ハーフミラーと、前記第1レンズと、前記第2レンズと、を収容保持する筐体と、を備え、
前記ハーフミラーは、前記第2レンズからの光を前記第1方向と直交する第2方向に反射させて対象物に照射させると共に、前記対象物からの反射光を透過させ、
前記筐体は、前記第2方向に相互に対向する第1の壁と第2の壁を有し、前記第1の壁には前記ハーフミラーにより反射された反射光が通過する照射が設けられ、前記第2の壁には前記反射光を透過させるための透過窓が設けられ、
前記単一光源,前記第1レンズ,前記第2レンズ及び前記ハーフミラーは、前記第1方向に沿って、この順序で配列され、
前記第2レンズは、前記第1及び第2の壁に取り付けられたフレネルレンズであって、前記第1レンズからの光を平行光に変換して前記ハーフミラーに入射させ、
前記対象物に照射される照射光は平行光であり、
前記第1レンズ及び前記第2レンズ以外のレンズを有さず、
拡散板を有しないことを特徴とする画像処理検査用同軸落射照明装置。
A coaxial epi-illumination device for image processing inspection used in image processing inspection for imaging and inspecting an object,
a single light source having only one LED element having an optical axis in a first direction;
a half mirror tilted with respect to the first direction;
a first lens that reduces the light distribution angle of the light emitted from the single light source;
a second lens for causing the light from the first lens to be incident on the half mirror;
a housing that houses and holds the single light source, the half mirror, the first lens, and the second lens,
the half mirror reflects the light from the second lens in a second direction perpendicular to the first direction to irradiate the light onto an object, and transmits the light reflected from the object;
the housing has a first wall and a second wall facing each other in the second direction, the first wall is provided with an irradiation hole through which reflected light reflected by the half mirror passes, and the second wall is provided with a transmission window through which the reflected light passes;
the single light source, the first lens, the second lens, and the half mirror are arranged in this order along the first direction,
the second lens is a Fresnel lens attached to the first and second walls, converting the light from the first lens into parallel light and causing the parallel light to be incident on the half mirror;
the illumination light irradiated onto the object is parallel light,
does not have any lenses other than the first lens and the second lens,
A coaxial epi-illumination device for image processing inspection characterized by not having a diffusion plate.
対象物を撮像して検査する画像処理検査において用いられる画像処理検査用同軸落射照明装置であって、
第1方向に光軸を有するLED素子を1個のみ有する単一光源と、
前記第1方向に対して傾斜するハーフミラーと、
前記単一光源から発せられた光の配光角を縮小させる第1レンズと、
前記第1レンズからの光を前記ハーフミラーに入射させるための第2レンズと、
前記単一光源と、前記ハーフミラーと、前記第1レンズと、前記第2レンズと、を収容保持する筐体と、を備え、
前記ハーフミラーは、前記第2レンズからの光を前記第1方向と直交する第2方向に反射させて対象物に照射させると共に、前記対象物からの反射光を透過させ、
前記筐体は、前記第2方向に相互に対向する第1の壁と第2の壁を有し、前記第1の壁には前記ハーフミラーにより反射された反射光が通過する照射が設けられ、前記第2の壁には記反射光を透過させるための透過窓が設けられ、
前記単一光源,前記第1レンズ,前記第2レンズ及び前記ハーフミラーは、前記第1方向に沿って、この順序で配列され、
前記第2レンズは、前記第1及び第2の壁に取り付けられたフレネルレンズであって、前記第1レンズからの光を集束光に変換して前記ハーフミラーに入射させ、
前記ハーフミラーに入射した前記集束光は、前記ハーフミラーにより反射されて前記対象物に照射され、
前記第1レンズ及び前記第2レンズ以外のレンズを有さず、
拡散板を有しないことを特徴とする画像処理検査用同軸落射照明装置。
A coaxial epi-illumination device for image processing inspection used in image processing inspection for imaging and inspecting an object,
a single light source having only one LED element having an optical axis in a first direction;
a half mirror tilted with respect to the first direction;
a first lens that reduces the light distribution angle of the light emitted from the single light source;
a second lens for causing the light from the first lens to be incident on the half mirror;
a housing that houses and holds the single light source, the half mirror, the first lens, and the second lens,
the half mirror reflects the light from the second lens in a second direction perpendicular to the first direction to irradiate the light onto an object, and transmits the light reflected from the object;
the housing has a first wall and a second wall facing each other in the second direction , the first wall is provided with an irradiation hole through which reflected light reflected by the half mirror passes, and the second wall is provided with a transmission window through which the reflected light passes;
the single light source, the first lens, the second lens, and the half mirror are arranged in this order along the first direction,
the second lens is a Fresnel lens attached to the first and second walls, converting the light from the first lens into focused light and causing it to be incident on the half mirror;
The focused light incident on the half mirror is reflected by the half mirror and irradiated onto the object,
does not have any lenses other than the first lens and the second lens,
A coaxial epi-illumination device for image processing inspection characterized by not having a diffusion plate.
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JP2011076904A (en) 2009-09-30 2011-04-14 Iwasaki Electric Co Ltd Light irradiation device
JP2018115866A (en) 2017-01-16 2018-07-26 株式会社豊田中央研究所 Surface imaging device, surface inspection device, and surface inspection method
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Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009181109A (en) 2008-02-01 2009-08-13 Lasertec Corp Condensing lens system and illumination device
JP2011076904A (en) 2009-09-30 2011-04-14 Iwasaki Electric Co Ltd Light irradiation device
JP2018115866A (en) 2017-01-16 2018-07-26 株式会社豊田中央研究所 Surface imaging device, surface inspection device, and surface inspection method
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