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JP7809997B2 - Method for manufacturing electronic components and laminate for use in manufacturing electronic components - Google Patents
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JP7809997B2 - Method for manufacturing electronic components and laminate for use in manufacturing electronic components - Google Patents

Method for manufacturing electronic components and laminate for use in manufacturing electronic components

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JP7809997B2 JP2022017737A JP2022017737A JP7809997B2 JP 7809997 B2 JP7809997 B2 JP 7809997B2 JP 2022017737 A JP2022017737 A JP 2022017737A JP 2022017737 A JP2022017737 A JP 2022017737A JP 7809997 B2 JP7809997 B2 JP 7809997B2
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Description

本発明は、封止された電子部品の製造方法であって、更にはそれに用いられる積層体に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing encapsulated electronic components, and also to a laminate used in the method.

従来、半導体集積回路(IC)パッケージとして、デュアルインラインパッケージ(DIP)、スモールアウトラインパッケージ(SOP)及びクアッドフラットパッケージ(QFP)等のパッケージ形態が用いられてきた。一方、最近ではパッケージの小型化・高集積化が進み、ICチップパッケージサイズがチップサイズと同等であるCSP(チップサイズパッケージ)等が適用されてきている。また、ICとパッケージ端子との接合方法も小型化、薄型化の要求により従来金ワイヤーで接続されていたものが、ICのアクティブ面と接続端子を半田ボールや金バンプ等で接続するフリップチップ接続が主流となっている。 Traditionally, semiconductor integrated circuit (IC) packages have come in a variety of package formats, including dual in-line packages (DIPs), small outline packages (SOPs), and quad flat packages (QFPs). However, with the recent trend toward smaller and more highly integrated packages, chip-sized packages (CSPs), in which the IC chip package size is the same as the chip itself, are now being adopted. Furthermore, due to demands for smaller and thinner ICs, the method of connecting the IC and package terminals has shifted from the traditional gold wire method to flip-chip connections, which connect the active surface of the IC to the connection terminals with solder balls or gold bumps.

一方、水晶振動子やSAWフィルターに代表される水晶デバイスは圧電現象を電気回路に応用することで、各種ICの同期基準信号、時計用、通信回路のノイズフィルター等に活用されている。水晶デバイスは電気信号を物理振動、また物理振動を電気信号へ変換するため、電子回路部材のアクティブ面が空間に存在しなければならず、これらの電子回路部材は中空構造、つまり内部空間を持ったパッケージ形態である必要がある。従来は電子回路部材を外部環境から保護するため、電子回路部材をエンボス加工された積層セラミック内に配置し、電子回路部材と電極とをワイヤーボンディングで接続し、金属溶接で蓋をする金属封止が実施されていたが、携帯電話に代表される通信機器の小型化・薄型化に伴い、電子回路部材のアクティブ面とパッケージ基板とをフリップチップ接続し、電子回路部材-バンプ-パッケージ基板により形成された空間部分を維持し、内部空間とした状態で樹脂封止する方法が提案されている。この際、樹脂封止の方法としてシート状の封止材で基板上に電子回路部材を実装することで形成された凹凸部分を充填しつつ電子回路部材-バンプ-パッケージ基板により形成された空間部分を維持する方法や、シート状の材料を電子部品実装により形成された凹凸形状に追従させて電子部品を被覆・保護する方法(特許文献1~3)などが提案されている。 Meanwhile, quartz crystal devices, such as quartz crystal resonators and SAW filters, apply piezoelectric phenomena to electrical circuits, and are used for various IC synchronization reference signals, clocks, and communication circuit noise filters. Because quartz crystal devices convert electrical signals into physical vibrations and vice versa, the active surfaces of the electronic circuit components must exist in space, necessitating a hollow structure, i.e., a package with an internal space. Traditionally, to protect electronic circuit components from the external environment, electronic circuit components were placed inside embossed multilayer ceramic, connected to the electrodes by wire bonding, and sealed with a metal weld. However, with the miniaturization and thinning of communication devices such as mobile phones, a new method has been proposed: flip-chip bonding the active surface of the electronic circuit component to the package substrate, maintaining the space formed by the electronic circuit component, bumps, and package substrate, and then resin-sealing the internal space. Proposed resin sealing methods for this purpose include a method in which a sheet-like sealing material is used to fill the uneven areas formed by mounting electronic circuit components on a substrate while maintaining the space formed by the electronic circuit components, bumps, and package substrate, and a method in which a sheet-like material is used to conform to the uneven shapes formed by mounting the electronic components, covering and protecting the electronic components (Patent Documents 1 to 3).

一方、水晶デバイスの小型化要求は更に進みつつあり、電子回路部材-電子回路部材間の距離は小さくなり、従来500μm~1mm程度であった電子回路部材間の距離が300μm未満となっており従来提案されていた方法での樹脂封止は困難になってきた。 On the other hand, the demand for smaller quartz crystal devices continues to grow, and the distance between electronic circuit components is becoming smaller. The distance between electronic circuit components, which was previously around 500 μm to 1 mm, is now less than 300 μm, making it difficult to seal with resin using previously proposed methods.

具体的には電子回路部材の小型化が進む一方、電子回路部材表面のアクティブ面の面積の小型化には限界があるため、電子回路部材-電子回路部材間の距離は小さくなり、上述のシート状の材料を凹凸形状に追従させる方法では凹部まで十分追従しなかったり、シート状材料が破れてしまったりしてうまく封止できないという問題があった。 Specifically, while electronic circuit components are becoming smaller, there is a limit to how much the area of the active surface of the electronic circuit component can be reduced. This means that the distance between electronic circuit components is becoming smaller, and the method of conforming the sheet-like material to the uneven surface described above has the problem that it does not conform sufficiently to the recesses, or the sheet-like material tears, resulting in an insufficient seal.

更に、近年では従来個別に製造していた電子部品を一体化し、機能性を付与した電子部品モジュールが提案されている。電子部品モジュールは複数の電子回路部材を基板に配置し、これらの電子回路部材を一括してシート状の材料で被覆する方法が提案されている。(特許文献4)
このような電子部品モジュールにおいて実装された電子回路部材の間隔が不均一の場合、電子回路部材-電子回路部材間の距離が小さい部分と電子回路部材-電子回路部材間の距離が大きい部分を同様に凹凸形状に追従させることは困難であり、電子回路部材-電子回路部材間の距離が小さい部分では凹部まで十分追従できず、電子回路部材-電子回路部材間の距離が小さい部分で凸部を追従させようとすると、電子回路部材-電子回路部材間の距離が大きい部分では押し込みが強くなり、シート状の材料が破れてしまい、うまく封止できないという問題があった。
Furthermore, in recent years, electronic component modules have been proposed that integrate electronic components that were previously manufactured individually and provide functionality. A method has been proposed for manufacturing electronic component modules in which multiple electronic circuit components are arranged on a substrate and these electronic circuit components are collectively covered with a sheet-like material (Patent Document 4).
When the spacing between electronic circuit members mounted in such an electronic component module is uneven, it is difficult to make the portions where the distance between electronic circuit members is small and the portions where the distance between electronic circuit members is large to conform to the uneven shape in the same way; in the portions where the distance between electronic circuit members is small, the portions cannot conform to the recesses sufficiently, and when an attempt is made to make the protrusions conform to the portions where the distance between electronic circuit members is small, the pressing force becomes too strong in the portions where the distance between electronic circuit members is large, causing the sheet-like material to tear and preventing successful sealing.

特許第4053483号公報Patent No. 4053483 特許第4730652号公報Patent No. 4730652 特開2003-17979号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-17979 特許第6089567号公報Patent No. 6089567

そこで本発明の目的は、かかる加工工程において生じる問題点を解消し、基板上に複数実装された電子回路部材間の距離が不均一な場合でも、破れや凹凸形状への追従不十分といった問題を解決し、電子部品を歩留まり良く製造可能な電子部品の製造方法、及びそれに用いられる積層体を提供することにある。 The object of the present invention is to provide a method for manufacturing electronic components that can eliminate problems that arise in such processing steps, resolve issues such as tearing and insufficient conformance to uneven shapes even when the distances between multiple electronic circuit components mounted on a substrate are uneven, and enable the production of electronic components with a high yield, as well as a laminate for use in such a method.

上述のような課題を解決する本発明は、以下である。
(1) 基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造方法であって、
以下の工程1から工程4をこの順に有する、電子部品の製造方法。
The present invention, which solves the above-mentioned problems, is as follows.
(1) A method for manufacturing an electronic component having a substrate, a plurality of electronic circuit members mounted on the substrate, and a hardened layer, comprising:
A method for manufacturing an electronic component, comprising the following steps 1 to 4 in this order:

工程1:硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートを、前記基板、前記電子回路部材、前記硬化性シート、前記ポリオレフィンシート、及び前記樹脂シートの順に配置する工程であって、
前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さく、
前記樹脂シートは、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下である、工程。
Step 1: A step of arranging a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet in the following order: the substrate, the electronic circuit member, the curable sheet, the polyolefin sheet, and the resin sheet;
The polyolefin sheet has a breaking elongation at 80°C of more than 1000% and less than 3000%,
The resin sheet has a melt viscosity at 80°C of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less.

工程2:加熱及び加圧することにより、前記硬化性シートを前記電子回路部材に追従させて封止する工程。 Step 2: Heating and pressurizing the curable sheet to conform to the electronic circuit components and seal them.

工程3:前記ポリオレフィンシート、及び前記樹脂シートを、剥離して除去する工程。 Step 3: Peeling and removing the polyolefin sheet and the resin sheet.

工程4:前記硬化性シートを硬化させて硬化層に変換する工程。
(2) 基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造に用いる積層体であって、
硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートをこの順に積層した積層体であって、
前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さく、
前記樹脂シートは、80℃の溶融粘度が10Pa・s上200000Pa・s以下である、積層体。
Step 4: Curing the curable sheet to convert it into a cured layer.
(2) A laminate used in the manufacture of an electronic component having a substrate, a plurality of electronic circuit members mounted on the substrate, and a cured layer,
A laminate in which a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet are laminated in this order,
The polyolefin sheet has a breaking elongation at 80°C of more than 1000% and less than 3000%,
The resin sheet has a melt viscosity at 80°C of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less.

本発明によれば、複数の電子回路部材が配置され、その距離が異なる場合であっても破れや凹凸形状への追従不十分といった問題を解決し、加工工程での歩留まりを向上させ、信頼性に優れた電子部品を得ることができる。 The present invention solves problems such as tearing and insufficient conformance to uneven shapes, even when multiple electronic circuit components are arranged at different distances, improving yield in the processing process and producing highly reliable electronic components.

本発明の一実施形態にかかる製造方法における工程0及び工程1を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。1A and 1B are explanatory views showing a cross section of an electronic circuit member or an electronic component, illustrating steps 0 and 1 of a manufacturing method according to one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態にかかる製造方法における工程2を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。1 is an explanatory diagram showing a cross section of an electronic circuit member or electronic component, illustrating step 2 of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention. FIG. 本発明の一実施形態にかかる製造方法における工程3を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。3 is an explanatory diagram showing a cross section of an electronic circuit member or electronic component, illustrating step 3 of the manufacturing method according to one embodiment of the present invention. FIG. 本発明の一実施形態にかかる製造方法における工程3を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。3 is an explanatory diagram showing a cross section of an electronic circuit member or electronic component, illustrating step 3 of the manufacturing method according to one embodiment of the present invention. FIG. 本発明の一実施形態にかかる製造方法における工程4を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating step 4 of the manufacturing method according to one embodiment of the present invention, using a cross section of an electronic circuit member or electronic component. 本発明の一実施形態にかかる製造方法における硬化性シートのパターン形成工程を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating a cross section of an electronic circuit member or electronic component, illustrating a pattern formation step of a curable sheet in a manufacturing method according to one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態にかかる製造方法における電子回路部材の実装工程を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。1A to 1C are explanatory views showing a cross section of an electronic circuit member or an electronic component, illustrating a mounting step of an electronic circuit member in a manufacturing method according to one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態にかかる製造方法における硬化性材料による封止工程を、電子回路部材あるいは電子部品の断面により模式的に示す説明図である。1A to 1C are explanatory views showing a cross section of an electronic circuit member or an electronic component, illustrating a sealing step using a curable material in a manufacturing method according to one embodiment of the present invention.

本発明の電子部品の製造方法は、基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造方法であって、以下の工程1から工程4をこの順に有する、電子部品の製造方法である。 The method for manufacturing an electronic component of the present invention is a method for manufacturing an electronic component having a substrate, multiple electronic circuit components mounted on the substrate, and a hardened layer, and comprises the following steps 1 to 4 in this order.

工程1:硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートを、前記基板、前記電子回路部材、前記硬化性シート、前記ポリオレフィンシート、及び前記樹脂シートの順に配置する工程であって、前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さく、前記樹脂シートは、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下である、工程。 Step 1: A step of arranging a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet in the following order: the substrate, the electronic circuit member, the curable sheet, the polyolefin sheet, and the resin sheet, wherein the polyolefin sheet has a breaking elongation at 80°C of more than 1000% and less than 3000%, and the resin sheet has a melt viscosity at 80°C of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less.

工程2:加熱及び加圧することにより、前記硬化性シートを前記電子回路部材に追従させて封止する工程。 Step 2: Heating and pressurizing the curable sheet to conform to the electronic circuit components and seal them.

工程3:前記ポリオレフィンシート、及び前記樹脂シートを、剥離して除去する工程。 Step 3: Peeling and removing the polyolefin sheet and the resin sheet.

工程4:前記硬化性シートを硬化させて硬化層に変換する工程。 Step 4: Curing the curable sheet to convert it into a cured layer.

本発明の製造方法によれば、前記ポリオレフィンシート、及び前記樹脂シートの惰性変形により、前記硬化性シートが破断することなく、複数の電子回路部材の凹凸形状に追従し、被覆させることができる。 According to the manufacturing method of the present invention, the inertial deformation of the polyolefin sheet and the resin sheet allows the curable sheet to conform to and cover the uneven shapes of multiple electronic circuit components without breaking.

また工程1に先立って、硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートを積層し積層体とする工程(工程0)を行ってもよい。 In addition, prior to step 1, a step (step 0) may be carried out in which a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet are laminated to form a laminate.

また工程3と工程4の間で、電子回路部材に封止された硬化性シートに、所望のパターンを有するマスクを形成し、このマスクを通して硬化性シートに光を照射し、この硬化性シートをパターン状に露光後、未露光部を現像液により除去し、パターンを形成してもよく、現像により硬化性シートを除去した基板上に新たに複数の電子回路部材を実装してもよい。 Alternatively, between steps 3 and 4, a mask having a desired pattern may be formed on the curable sheet sealed to the electronic circuit component, and the curable sheet may be irradiated with light through this mask to expose the curable sheet in a pattern, after which the unexposed areas may be removed with a developer to form a pattern, or multiple new electronic circuit components may be mounted on the substrate from which the curable sheet has been removed by development.

工程4の後、またはパターン形成で硬化性シートを除去した基板上に新たに複数の電子回路部材を実装し、工程4を実施した後、別の材料(硬化性材料)で再度封止加工を行い、硬化温度に加熱して、硬化層に変換させてもよい。 After step 4, or after pattern formation, multiple new electronic circuit components can be mounted on the substrate from which the curable sheet has been removed, and after step 4 has been performed, the sealing process can be carried out again with a different material (curable material), and the material can be heated to the curing temperature to convert it into a cured layer.

本発明の他の局面には、上記の製造方法により製造される電子部品も包含される。 Another aspect of the present invention includes electronic components manufactured using the above manufacturing method.

さらに本発明の積層体は、基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造に用いる積層体であって、硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートをこの順に積層した積層体であって、前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さく、前記樹脂シートは、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下である。 Furthermore, the laminate of the present invention is a laminate used in the manufacture of a substrate, multiple electronic circuit components mounted on the substrate, and an electronic component having a cured layer, and is a laminate comprising a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet laminated in this order, wherein the polyolefin sheet has a breaking elongation at 80°C of more than 1000% and less than 3000%, and the resin sheet has a melt viscosity at 80°C of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less.

このような本発明の製造方法と本発明の積層体について、以下、図面を参照しながら詳細に説明する。 The manufacturing method and laminate of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.


<<本発明の製造方法>>
<積層体作製工程(工程0)>
本発明の製造方法は、工程1の前に、以下の工程0を有してもよい。

<<Production Method of the Present Invention>>
<Laminate manufacturing process (process 0)>
The production method of the present invention may include the following step 0 before step 1.

工程0:硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートをこの順に積層して積層体とする工程。 Step 0: Laminating a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet in this order to form a laminate.

工程0は、硬化性シート4、ポリオレフィンシート5、及び樹脂シート6の順にそれぞれを工程1の前に重ねて積層体7とする工程である。積層体7の作製方法は、特に限定されず、例えば硬化性シート4、ポリオレフィンシート5、樹脂シート6を別途作製した後、積層することにより作製してもよい。各シートは実装部材上で重ねてもよく、予め重ね合わせて実装部材上に配置してもよい。 Step 0 is a step in which the curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6 are stacked in this order before step 1 to form laminate 7. The method for producing laminate 7 is not particularly limited, and it may be produced, for example, by separately producing the curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6 and then stacking them. The sheets may be stacked on the mounting member, or they may be stacked in advance and placed on the mounting member.

<配置工程(工程1)>
工程1は、硬化性シート4、ポリオレフィンシート5、及び樹脂シート6を、基板1、電子回路部材2、前記硬化性シート4、前記ポリオレフィンシート5、及び前記樹脂シート6の順に配置する工程である。
<Placement process (process 1)>
Step 1 is a step of arranging a curable sheet 4, a polyolefin sheet 5, and a resin sheet 6 in the following order: substrate 1, electronic circuit member 2, curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6.

ここでポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さいシートである。さらに樹脂シートは、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下のシートである。 Here, the polyolefin sheet is a sheet having a breaking elongation at 80°C of more than 1000% and less than 3000%. Furthermore, the resin sheet is a sheet having a melt viscosity at 80°C of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less.

図1で示した例では、硬化性シート4、ポリオレフィンシート5、及び樹脂シート6が一体化された積層体を用いる場合を示すが(つまり工程0を経た態様を示すが)、この場合に限らず、硬化性シート4、ポリオレフィンシート5、及び樹脂シート6をそれぞれ別に準備してもよい。この場合でも、硬化性シート4、ポリオレフィンシート5、及び樹脂シート6が一体化していないだけ(つまり積層体となっていないだけ)で、各シートの構成、及び電子部品の製造方法の各工程の手順や条件は、一体化されたシート(積層体)の場合と同様である。またそれぞれを積層する場合、硬化性シート4、ポリオレフィンシート5、及び樹脂シート6全てをまとめて積層、つまり工程0により積層体としてもよく、いずれか2つだけを積層して用いてもよい。 The example shown in Figure 1 shows a case where a laminate in which the curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6 are integrated is used (i.e., it shows an embodiment after step 0), but this is not limited to this case; the curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6 may each be prepared separately. Even in this case, the curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6 are simply not integrated (i.e., not formed into a laminate), and the configuration of each sheet and the procedures and conditions for each step in the manufacturing method for electronic components are the same as for integrated sheets (laminates). Furthermore, when laminating each, the curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6 may all be laminated together, i.e., formed into a laminate by step 0, or just two of them may be laminated.


<硬化性シート>
本発明に用いる硬化性シートは、電子回路部材間を埋め込むのに十分な伸度を持ち、熱及び/または光により硬化層に変換される、つまりバインダーポリマー及び硬化性樹脂を含む樹脂組成物からなるシートであり、硬化性シートは特に耐熱性、信頼性に優れることが好ましい。

<Curable sheet>
The curable sheet used in the present invention has sufficient elongation to fill spaces between electronic circuit components and is converted into a cured layer by heat and/or light, that is, it is a sheet made of a resin composition containing a binder polymer and a curable resin, and it is preferable that the curable sheet has excellent heat resistance and reliability in particular.

硬化性シート4の組成は、バインダーポリマー及び硬化性樹脂を含みさえすれば特に限定されないが、硬化性シートはバインダーポリマー及び硬化性樹脂として熱硬化性樹脂を含有することが好ましく、熱硬化性樹脂を2成分含むことがより好ましい。中でも硬化性シート4中の熱硬化性樹脂の含有率は、耐熱性、信頼性を向上させるため、硬化性シート全体を100質量%とした場合に、5質量%以上40質量%以下であることが好ましい。また硬化性シート4中のバインダーポリマーの含有率は、硬化性シートの伸び率を良くし、電子回路部材間の埋まりこみ性を良くするため、硬化性シート全体を100質量%とした場合に、バインダーポリマーの含有率が30質量%以上85質量%以下であることが好ましい。 The composition of the curable sheet 4 is not particularly limited as long as it contains a binder polymer and a curable resin. However, the curable sheet preferably contains a thermosetting resin as both the binder polymer and the curable resin, and more preferably contains two thermosetting resin components. In particular, the content of the thermosetting resin in the curable sheet 4 is preferably 5% by mass or more and 40% by mass or less, based on the entire curable sheet being 100% by mass, in order to improve heat resistance and reliability. Furthermore, the content of the binder polymer in the curable sheet 4 is preferably 30% by mass or more and 85% by mass or less, based on the entire curable sheet being 100% by mass, in order to improve the elongation of the curable sheet and its ability to embed between electronic circuit components.

硬化性シート中のバインダーポリマーとしては、特に限定されないが、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体(NBR)、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS)、ポリブタジエン、スチレン-ブタジエン-エチレン樹脂(SEBS)、アクリル系共重合体、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン等が挙げられる。この中でもアクリル系共重合体が耐熱性、電子部品の信頼性の観点から好ましい。 The binder polymer in the curable sheet is not particularly limited, but examples include acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR), acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS), polybutadiene, styrene-butadiene-ethylene resin (SEBS), acrylic copolymer, polyvinyl butyral, polyamide, polyester, polyimide, polyamideimide, polyurethane, etc. Among these, acrylic copolymer is preferred from the standpoint of heat resistance and reliability of electronic components.

硬化性シート中の熱硬化性樹脂は特に限定されないが、硬化性シート4が含有するのに好適な熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、フラン樹脂、及びシアン酸エステル樹脂等公知の熱硬化性樹脂が例示され、特に絶縁性の点でエポキシ樹脂及びフェノール樹脂が好適である。 The thermosetting resin in the curable sheet is not particularly limited. However, examples of suitable thermosetting resins for use in the curable sheet 4 include well-known thermosetting resins such as epoxy resin, phenol resin, melamine resin, xylene resin, furan resin, and cyanate ester resin, with epoxy resin and phenol resin being particularly suitable in terms of their insulating properties.

エポキシ樹脂は、1分子内に2個以上のエポキシ基を有するものであれば特に限定されないが、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、レゾルシノール、ジヒドロキシナフタレン、ジシクロペンタジエンジフェノール等のジグリシジルエーテル、エポキシ化フェノールノボラック(フェノールノボラック型エポキシ樹脂)、エポキシ化クレゾールノボラック(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、エポキシ化トリスフェニロールメタン、エポキシ化テトラフェニロールエタン、エポキシ化メタキシレンジアミン及びシクロヘキサンジエポキサイド等の脂環式エポキシ等が挙げられる。さらに難燃性付与のために、ハロゲン化エポキシ樹脂、特に臭素化エポキシ樹脂を用いてもよい。 Epoxy resins are not particularly limited as long as they contain two or more epoxy groups per molecule. Examples include diglycidyl ethers of bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, resorcinol, dihydroxynaphthalene, dicyclopentadiene diphenol, etc.; epoxidized phenol novolac (phenol novolac type epoxy resin), epoxidized cresol novolac (cresol novolac type epoxy resin); alicyclic epoxies such as epoxidized trisphenylolmethane, epoxidized tetraphenylolethane, epoxidized metaxylenediamine, and cyclohexane diepoxide. Furthermore, halogenated epoxy resins, particularly brominated epoxy resins, may be used to impart flame retardancy.

フェノール樹脂としては、ノボラック型フェノール樹脂やレゾール型フェノール樹脂等の公知のフェノール樹脂がいずれも使用することができる。例えば、フェノール、クレゾール、p-t-ブチルフェノール、ノニルフェノール及びp-フェニルフェノール等のアルキル置換フェノール、テルペン及びジシクロペンタジエン等の環状アルキル変性フェノール、ニトロ基、ハロゲン基、シアノ基及びアミノ基等のヘテロ原子を含む官能基を有するもの、ナフタレンやアントラセン等の骨格を有するもの、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、レゾルシノール及びピロガロール等の多官能性フェノールからなる樹脂が挙げられる。 As phenolic resins, any of the known phenolic resins, such as novolac-type phenolic resins and resol-type phenolic resins, can be used. Examples include alkyl-substituted phenols such as phenol, cresol, p-t-butylphenol, nonylphenol, and p-phenylphenol; cyclic alkyl-modified phenols such as terpene and dicyclopentadiene; resins containing functional groups containing heteroatoms such as nitro groups, halogen groups, cyano groups, and amino groups; resins with skeletons such as naphthalene and anthracene; and resins made from polyfunctional phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, resorcinol, and pyrogallol.

硬化性シート4は、上記以外の成分(つまりバインダーポリマーと硬化性樹脂以外の成分)を含んでもよい。例えば、無機フィラー、硬化剤、硬化促進剤、重合開始剤、重合性化合物、イオンキャッチャー、難燃剤、顔料、シランカップリング剤、チキソ性付与剤などが挙げられる。 The curable sheet 4 may contain components other than those mentioned above (i.e., components other than the binder polymer and curable resin). Examples include inorganic fillers, curing agents, curing accelerators, polymerization initiators, polymerizable compounds, ion catchers, flame retardants, pigments, silane coupling agents, and thixotropic agents.

無機フィラーとしては、例えば、結晶シリカ粉末、溶融シリカ粉末、アルミナ、水酸化アルミニウム、窒化珪素、水酸化マグネシウム、カルシウム・アルミネート水和物、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化チタン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化クロム、タルク、アルミニウム、金、銀、ニッケル、鉄、クレー及びマイカなどが挙げられる。中でも分散性点から、水酸化アルミニウム、アルミナ及びシリカが好ましい。これらの中でもリフロー耐熱性の観点から、TGA(加熱重量減少測定)による5%重量減少温度(熱分解温度)が350℃以上であるシリカ、好ましくは球状シリカ粉末、さらに好ましくは溶融球状シリカが好ましく用いられる。 Examples of inorganic fillers include crystalline silica powder, fused silica powder, alumina, aluminum hydroxide, silicon nitride, magnesium hydroxide, calcium aluminate hydrate, zirconium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, antimony pentoxide, titanium oxide, iron oxide, cobalt oxide, chromium oxide, talc, aluminum, gold, silver, nickel, iron, clay, and mica. Among these, aluminum hydroxide, alumina, and silica are preferred from the viewpoint of dispersibility. Among these, silica, preferably spherical silica powder, and more preferably fused spherical silica, having a 5% weight loss temperature (thermal decomposition temperature) of 350°C or higher as measured by TGA (thermal weight loss measurement), is preferred from the viewpoint of reflow heat resistance.

硬化性シート中の硬化剤としては、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’,5,5’-テトラエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジクロロ-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2’,3,3’-テトラクロロ-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、3,4,4’-トリアミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミン、三フッ化ホウ素トリエチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシアンジアミド、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどのノボラック樹脂、ビスフェノールAなどのビスフェノール化合物等が使用できる。この中でも耐熱性に優れることからフェノール系の硬化剤が好ましい。これらを単独または2種以上用いても良い。エポキシ基と架橋反応する硬化剤を含有することで硬化後の接着力が向上する。 The curing agents in the curable sheet include 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3',5,5'-tetraethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2',3,3'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diamino Examples of curing agents that can be used include aromatic polyamines such as benzophenone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, and 3,4,4'-triaminodiphenyl sulfone; boron trifluoride amine complexes such as boron trifluoride triethylamine complex; dicyandiamide; novolac resins such as phenol novolac and cresol novolac; and bisphenol compounds such as bisphenol A. Among these, phenol-based curing agents are preferred due to their excellent heat resistance. These may be used alone or in combination. The inclusion of a curing agent that undergoes a crosslinking reaction with epoxy groups improves adhesive strength after curing.

エポキシ基と架橋反応する硬化剤を用いる場合、硬化剤中の活性水素の総モル数Hとエポキシ樹脂中のエポキシ基の総モル数Eの比H/Eが0.4~1.0の範囲であることが好ましい。 When using a curing agent that undergoes a crosslinking reaction with epoxy groups, it is preferable that the ratio H/E, where H is the total number of moles of active hydrogen in the curing agent and E is the total number of moles of epoxy groups in the epoxy resin, be in the range of 0.4 to 1.0.

硬化促進剤としては、三フッ化ホウ素トリエチルアミン錯体等の三フッ化ホウ素のアミン錯体、2-アルキル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、ジシアンジアミド、トリフェニルフォスフィン、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムo,o-ジエチルフォスフォロジチオネート、スルフォニウム塩誘導体等公知のものが挙げられる。これらを単独または2種以上用いても良い。硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂100重量部に対し0.3~3.0重量部の範囲にあることが好ましい。 Examples of curing accelerators include well-known compounds such as boron trifluoride amine complexes such as boron trifluoride triethylamine complex, imidazole compounds such as 2-alkyl-4-methylimidazole, dicyandiamide, triphenylphosphine, tetra-n-butylphosphonium o,o-diethylphosphorodithionate, and sulfonium salt derivatives. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of curing accelerator is preferably in the range of 0.3 to 3.0 parts by weight per 100 parts by weight of epoxy resin.

重合開始剤としては、光照射及び/または加熱により、ラジカルを生成するラジカル発生剤、酸を生成する酸発生剤、塩基を生成する塩基発生剤などが挙げられる。具体的には、ベンゾフェノン類、グリシン類、メルカプト類、オキシム類、アシルフォスフィン類、α-アミノアルキルフェノン類、キノンジアジド類、ジアゾジスルホン類、トリフェニルスルホニウム類、ジフェニルヨードニウム類などを用いることができる。 Polymerization initiators include radical generators that generate radicals upon irradiation with light and/or heat, acid generators that generate acids, and base generators that generate bases. Specific examples that can be used include benzophenones, glycines, mercaptos, oximes, acylphosphines, α-aminoalkylphenones, quinone diazides, diazodisulfones, triphenylsulfoniums, and diphenyliodoniums.

重合性化合物としては、2つ以上の重合性基を有する重合性化合物として好適な(メタ)アクリル基を有する重合性化合物、2つ以上の重合性基を有する重合性化合物として好適な、エポキシ基を二つ以上有する化合物が挙げられ、これらを単独または2種以上の組み合わせで用いてもよい。 Examples of polymerizable compounds include polymerizable compounds having (meth)acrylic groups, which are suitable as polymerizable compounds having two or more polymerizable groups, and compounds having two or more epoxy groups, which are suitable as polymerizable compounds having two or more polymerizable groups. These may be used alone or in combination of two or more.

硬化性シート4の厚みは特に限定されないが、10~200μmであることが好ましく、さらに好ましくは10~50μmである。 The thickness of the curable sheet 4 is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 μm, and more preferably 10 to 50 μm.

硬化性シート4は、80℃での破断伸度が400%以上3000%以下であることが好ましい。80℃での破断伸度が400%~3000%であることで、複数の電子回路部材2の凹凸形状への追従がより高まり好ましい。80℃の破断伸度が400%未満の場合、電子回路部材2間の間隔が300μm未満に狭くなった場合に電子回路部材2の凹凸形状を追従し、被覆する際に破れることがある。また、80℃の破断伸度が3000%を超える場合、電子回路部材2の凹凸形状を追従し、被覆する際に局所的に硬化性シート4が伸びてしまい、硬化性シート4が電子回路部材2-バンプ3-基板1により形成された内部空間Sへ入り込んでしまう場合がある。 The breaking elongation of the curable sheet 4 at 80°C is preferably 400% or more and 3000% or less. A breaking elongation of 400% to 3000% at 80°C is preferable because it better conforms to the uneven shapes of multiple electronic circuit members 2. If the breaking elongation at 80°C is less than 400%, the curable sheet 4 may break when it conforms to the uneven shapes of the electronic circuit members 2 and covers them when the spacing between the electronic circuit members 2 is narrowed to less than 300 μm. Furthermore, if the breaking elongation at 80°C exceeds 3000%, the curable sheet 4 may stretch locally when it conforms to the uneven shapes of the electronic circuit members 2 and covers them, and the curable sheet 4 may enter the internal space S formed by the electronic circuit members 2, bumps 3, and substrate 1.

硬化性シートの80℃の破断伸度を400%以上3000%以下とするためには、硬化性シート100質量%中のバインダーポリマーの含有率を30質量%以上85%質量%以下と制御する方法をあげることができる。 One method for achieving a breaking elongation of the curable sheet at 80°C of 400% or more and 3000% or less is to control the binder polymer content to 30% or more and 85% or less by mass per 100% by mass of the curable sheet.

硬化性シート4は一層構造であってもよく、二層以上の多層構造であってもよい。硬化性シートが多層構造の場合、少なくとも隣接する二層は組成が異なるものであってもよい。 The curable sheet 4 may have a single layer structure or a multi-layer structure of two or more layers. If the curable sheet has a multi-layer structure, at least two adjacent layers may have different compositions.


<ポリオレフィンシート>
本発明で用いるポリオレフィンシート5はポリオレフィンを含み、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さいシートである。

<Polyolefin sheet>
The polyolefin sheet 5 used in the present invention is a sheet containing polyolefin and having a breaking elongation at 80° C. of more than 1000% and less than 3000%.

ポリオレフィンシートのその他の組成は特に限定されないが、例えば、ポリオレフィンとしては、炭素数2~30のオレフィン重合体等が挙げられる。ポリオレフィンは、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。 The other components of the polyolefin sheet are not particularly limited, but examples of polyolefins include olefin polymers having 2 to 30 carbon atoms. One type of polyolefin may be used alone, or two or more types may be used in combination.

炭素数2~30のオレフィンとしては、炭素数2~30のα-オレフィン及び炭素数4~30のジエン等が挙げられる。 Examples of olefins having 2 to 30 carbon atoms include α-olefins having 2 to 30 carbon atoms and dienes having 4 to 30 carbon atoms.

炭素数2~30のα-オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、4-メチル-1-ペンテン、1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-イコセン及び1-テトラコセン等が挙げられる。 Examples of α-olefins having 2 to 30 carbon atoms include ethylene, propylene, 1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-icosene, and 1-tetracosene.

ポリオレフィンシート5としては、工程2において硬化性シート4に転写されない程度の可塑剤を含有しても良い。可塑剤としては例えば、流動パラフィンやパラフィンワックス等の炭素水素類、フタル酸ジエチルヘキシルやフタル酸ジブチル等のエステル類、オレイルアルコールやステアリルアルコール類等が挙げられる。なおポリオレフィンシートは、可塑剤を含まないことが特に好ましい。 The polyolefin sheet 5 may contain a plasticizer to the extent that it is not transferred to the curable sheet 4 in step 2. Examples of plasticizers include hydrocarbons such as liquid paraffin and paraffin wax, esters such as diethylhexyl phthalate and dibutyl phthalate, oleyl alcohol, and stearyl alcohol. It is particularly preferable that the polyolefin sheet does not contain a plasticizer.

前述のとおりポリオレフィンシート5は、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さい。80℃での破断伸度が1000%より大きく3000%より小さいことで、工程2において、硬化性シート4の電子回路部材2の凹凸形状への追従性がより高まるために重要である。また工程3において、ポリオレフィンシートをスムーズに剥離する観点からも重要である。80℃での破断伸度が1000%以下の場合、工程2において、電子回路部材2の凹凸形状へのポリオレフィンシート5の押し込みが弱くなり、硬化性シート4の電子回路部材2の凹凸形状への追従を妨げ、硬化性シート4の被覆が困難となる。80℃での破断伸度が3000%以上の場合、電子回路部材2の凹凸形状を追従する際にポリオレフィンシート5が過度に押しこまれ、硬化性シート4が電子回路部材2-バンプ3-基板1により形成された内部空間Sへ入り込んでしまう。また80℃での破断伸度が3000%以上の場合、工程3において、ポリオレフィンシート5を剥離する際に破れが生じる。 As mentioned above, the polyolefin sheet 5 has a breaking elongation at 80°C of greater than 1000% and less than 3000%. A breaking elongation at 80°C of greater than 1000% and less than 3000% is important because it improves the ability of the curable sheet 4 to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2 in step 2. It is also important from the perspective of smoothly peeling the polyolefin sheet in step 3. If the breaking elongation at 80°C is 1000% or less, the polyolefin sheet 5 will not be pressed firmly into the uneven shape of the electronic circuit member 2 in step 2, preventing the curable sheet 4 from conforming to the uneven shape of the electronic circuit member 2 and making it difficult to cover the electronic circuit member 2 with the curable sheet 4. If the breaking elongation at 80°C is 3000% or more, the polyolefin sheet 5 will be pressed too hard when conforming to the uneven shape of the electronic circuit member 2, causing the curable sheet 4 to enter the internal space S formed by the electronic circuit member 2, bumps 3, and substrate 1. Furthermore, if the breaking elongation at 80°C is 3000% or more, tearing will occur when the polyolefin sheet 5 is peeled off in step 3.

なお、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さいポリオレフィンシートとしては、例えば、SAPO-1(三陽化成(株)製)、ロメルト(三陽化成(株)製)などが挙げられる。 Examples of polyolefin sheets with a breaking elongation at 80°C of greater than 1000% and less than 3000% include SAPO-1 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) and ROMELT (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.).

ポリオレフィンシート5は、80℃の破断強度が5MPa以上20MPa以下であり、80℃の貯蔵弾性率が15MPa以下であり、かつtanδが0.1より小さいことが好ましい。ポリオレフィンシートの80℃の破断強度、80℃の貯蔵弾性率、及びtanδをこのように制御することで、電子回路部材2間の間隔が300μm未満に狭くなった場合にも、電子回路部材2の凹凸形状を追従することが可能となり好ましい。 The polyolefin sheet 5 preferably has a breaking strength at 80°C of 5 MPa or more and 20 MPa or less, a storage modulus at 80°C of 15 MPa or less, and a tan δ of less than 0.1. By controlling the breaking strength at 80°C, storage modulus at 80°C, and tan δ of the polyolefin sheet in this manner, it is possible to conform to the uneven shape of the electronic circuit members 2 even when the spacing between the electronic circuit members 2 is narrowed to less than 300 μm, which is preferable.

なお、80℃の破断強度が5MPa以上20MPa以下のポリオレフィンシートとしては、例えば、SAPO-1(三陽化成(株)製)、ロメルト(三陽化成(株)製)などが挙げられる。 Examples of polyolefin sheets with a breaking strength at 80°C of 5 MPa or more and 20 MPa or less include SAPO-1 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) and ROMELT (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.).

ポリオレフィンシート5の厚みは10μmから200μmが好ましく、さらに好ましくは10μmから50μmである。 The thickness of the polyolefin sheet 5 is preferably 10 μm to 200 μm, and more preferably 10 μm to 50 μm.


<樹脂シート>
本発明で用いる樹脂シートは樹脂を含むシートであって、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下であるシートである。

<Resin sheet>
The resin sheet used in the present invention is a sheet containing a resin, and has a melt viscosity at 80° C. of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less.

このような樹脂シート6の組成は、特に限定されないが、エチレン酢酸ビニル、ポリオレフィン、ゴム、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル系共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS)、スチレン-ブタジエン-エチレン樹脂(SEBS)、ポリブタジエン、ポリヒドロキシポリエーテル、及びアクリロニトリル-ブタジエン共重合体(NBR)からなる群より選ばれる少なくとも1つを含有することが好ましい。中でも工程3において、樹脂シート6をスムーズに剥離する観点からポリオレフィン、ポリエステル、ポリウレタンが好ましい。 The composition of such resin sheet 6 is not particularly limited, but it preferably contains at least one selected from the group consisting of ethylene vinyl acetate, polyolefin, rubber, polyamide, polyester, polyurethane, acrylic copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS), styrene-butadiene-ethylene resin (SEBS), polybutadiene, polyhydroxypolyether, and acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR). Among these, polyolefin, polyester, and polyurethane are preferred from the viewpoint of smooth peeling of resin sheet 6 in step 3.

前述のとおり樹脂シート6は、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下である。樹脂シート6の80℃の溶融粘度を10Pa・s以上200000Pa・s以下とすることで、工程2において、硬化性シート4を電子回路部材2の凹凸形状へ追従させるための圧力を十分に伝えることができる。溶融粘度が200000Pa・sより大きい場合、工程2において、硬化性シート4を電子回路部材2の凹凸形状へ追従させるための圧力を十分に伝えることができず、硬化性シート4の電子回路部材2の凹凸形状への追従を妨げ、硬化性シート4の被覆が困難となる恐れ。 As mentioned above, the resin sheet 6 has a melt viscosity at 80°C of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less. By setting the melt viscosity at 80°C of the resin sheet 6 to 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less, the pressure required to cause the curable sheet 4 to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2 can be sufficiently transmitted in step 2. If the melt viscosity is greater than 200,000 Pa·s, the pressure required to cause the curable sheet 4 to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2 cannot be sufficiently transmitted in step 2, which may prevent the curable sheet 4 from conforming to the uneven shape of the electronic circuit member 2 and make it difficult to cover the curable sheet 4.

樹脂シート6の80℃の溶融粘度を10Pa・s以上200000Pa・s以下に制御する方法としては、樹脂シート6の構成成分を調整することにより可能である。例えば、樹脂の種類や量、複数の樹脂を用いる場合には各樹脂の比率を変更することにより、溶融粘度を制御することができる。 The melt viscosity of the resin sheet 6 at 80°C can be controlled to between 10 Pa·s and 200,000 Pa·s by adjusting the constituent components of the resin sheet 6. For example, the melt viscosity can be controlled by changing the type and amount of resin, or, if multiple resins are used, the ratio of each resin.

樹脂シート6の厚みは、基板1の面積をA、電子回路部材2の最大高さをHmax、電子回路部材2の総体積をV'、樹脂シート4の体積をVとしたとき、V > A・Hmax-V’を満たす厚みであることが好ましい。具体的には樹脂シート6の厚みは50μmから500μmが好ましい。 The thickness of the resin sheet 6 is preferably such that V > A·Hmax-V', where A is the area of the substrate 1, Hmax is the maximum height of the electronic circuit member 2, V' is the total volume of the electronic circuit member 2, and V is the volume of the resin sheet 4. Specifically, the thickness of the resin sheet 6 is preferably 50 μm to 500 μm.

基板1の面積Aとは、電子回路部材2が実装されておらず、基板1の表面粗さが無いと仮定した際の、電子回路部材2が実装される側の基板1の表面積である。またHmaxとは、基板1に実装される複数の電子回路部材2のうち、基板1との接地点を基準とした際の、電子回路部材2の最大高さである。そして電子回路部材2の総体積V'とは、基板1に実装されている全ての電子回路部材2の内部空間Sも含めた体積の総和である。最後に樹脂シート4の体積Vは、使用する樹脂シート4の面積と厚みから求められる体積である。 The area A of the substrate 1 is the surface area of the substrate 1 on which the electronic circuit members 2 are mounted, assuming that no electronic circuit members 2 are mounted and that the substrate 1 has no surface roughness. Furthermore, Hmax is the maximum height of an electronic circuit member 2, among the multiple electronic circuit members 2 mounted on the substrate 1, when the point of contact with the substrate 1 is used as the reference point. The total volume V' of the electronic circuit members 2 is the sum of the volumes of all electronic circuit members 2 mounted on the substrate 1, including the internal spaces S. Finally, the volume V of the resin sheet 4 is the volume calculated from the area and thickness of the resin sheet 4 used.

A・Hmax-V’は、基板1と電子回路部材2により形成される凹部の体積の総和を表しており、この凹部の体積の総和よりも使用する樹脂シート4の体積が大きいことが好ましい。 A·Hmax-V' represents the total volume of the recess formed by the substrate 1 and electronic circuit member 2, and it is preferable that the volume of the resin sheet 4 used be larger than this total volume of the recess.


<電子部品>
基板1は、例えば、半導体素子、半導体パッケージ、ガラス基板、樹脂基板、セラミック基板及びSi基板よりなる群から選択される少なくとも1種である。これら基板は、その表面に、異方性導電フィルムや異方性導電ペーストのような導電材料層を形成したものであってもよい。樹脂基板は、リジッド樹脂基板でもフレキシブル基板でもよく、例えば、エポキシ樹脂基板(例えば、ガラスエポキシ基板)、ビスマレイミドトリアジン基板、ポリイミド樹脂基板、フッ素樹脂基板などが挙げられる。基板は、内部に半導体チップ等を備える部品内蔵基板であってもよい。

<Electronic Components>
The substrate 1 is, for example, at least one selected from the group consisting of a semiconductor element, a semiconductor package, a glass substrate, a resin substrate, a ceramic substrate, and a Si substrate. These substrates may have a conductive material layer, such as an anisotropic conductive film or an anisotropic conductive paste, formed on their surfaces. The resin substrate may be a rigid resin substrate or a flexible substrate, and examples thereof include an epoxy resin substrate (e.g., a glass epoxy substrate), a bismaleimide triazine substrate, a polyimide resin substrate, and a fluororesin substrate. The substrate may also be a component-embedded substrate that includes a semiconductor chip or the like inside.

電子回路部材2は、基板に実装される部材であり、少なくとも第1部材21、第2部材22のように複数の電子回路部材が用いられる。なお図示した例では、1つの基板に対して2つの電子回路部材を備えているが、この場合に限らず、例えば、3つ以上であってもよい。3つ以上の場合、電子回路部材間の距離Dは異なっていてもよく、同じであってもよい。第1部材21の高さH21と第2部材22の高さH22は図示した例のように異なっていてもよく、同じであってもよい。複数の電子回路部材間の距離が異なる場合、及び/または複数の電子回路部材の高さがそれぞれ異なる場合でも、本発明の構成体であれば、内部空間Sを維持しながら、電子回路部材2の凹凸形状へ硬化性シートを追従させることができ、基板1に実装された複数の電子回路部材を一括で封止加工することが可能である。 The electronic circuit member 2 is a member mounted on the substrate, and multiple electronic circuit members, such as at least a first member 21 and a second member 22, are used. In the illustrated example, two electronic circuit members are provided per substrate, but this is not limited to this case; for example, three or more electronic circuit members may be provided. In the case of three or more electronic circuit members, the distance D between the electronic circuit members may be different or the same. The height H21 of the first member 21 and the height H22 of the second member 22 may be different or the same, as in the illustrated example. Even when the distances between multiple electronic circuit members are different and/or the heights of the multiple electronic circuit members are different, the structure of the present invention allows the curable sheet to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2 while maintaining the internal space S, making it possible to seal multiple electronic circuit members mounted on the substrate 1 all at once.

本発明の製造方法においては、隣接する2つの電子回路部材間の距離をD、その2つの電子回路部材の平均高さをHとしたときに、1<(2H+D)/D<10を満たすことが好ましい。(2H+D)/D≧10の場合、ポリオレフィンシート5が電子回路部材2の凹凸形状に追従するのが困難となることがある。 In the manufacturing method of the present invention, it is preferable that the relationship 1 < (2H + D)/D < 10 be satisfied, where D is the distance between two adjacent electronic circuit members and H is the average height of the two electronic circuit members. If (2H + D)/D ≥ 10, it may be difficult for the polyolefin sheet 5 to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2.

電子回路部材2は、基板1にバンプ3を介して実装され、それらの間には内部空間Sが形成されてもよい。基板1との間に内部空間Sを形成する必要がある電子回路部材2としては、例えば、SAW、RFIC、センサーチップ、圧電振動子チップ、水晶振動子チップ、MEMSデバイスなどが挙げられる。基板1との間に内部空間Sを形成する必要がない電子回路部材2としては、FBAR、BAW、チップ多層LFCフィルター、誘電体フィルター、積層セラミックコンデンサ(MLCC)などが挙げられる。 The electronic circuit component 2 is mounted on the substrate 1 via bumps 3, and an internal space S may be formed between them. Examples of electronic circuit components 2 that require the formation of an internal space S between them and the substrate 1 include SAW, RFIC, sensor chips, piezoelectric resonator chips, quartz resonator chips, and MEMS devices. Examples of electronic circuit components 2 that do not require the formation of an internal space S between them and the substrate 1 include FBAR, BAW, chip multilayer LFC filters, dielectric filters, and multilayer ceramic capacitors (MLCCs).

すなわち、本発明における電子部品は、各種基板1上に電子回路部材2が実装されたチップ・オン・ボード(CoB)構造(チップ・オン・ウエハ(CoW)、チップ・オン・フィルム(CoF)、チップ・オン・グラス(CoG)を含む)、チップ・オン・チップ(CoC)構造、チップ・オン・パッケージ(CoP)構造及びパッケージ・オン・パッケージ(PoP)構造を有することができる。電子部品は、電子回路部材2が実装された基板1に、更に基板1及び/または電子回路部材2を積層したような多層電子部品であってもよい。 In other words, the electronic component of the present invention can have a chip-on-board (CoB) structure (including chip-on-wafer (CoW), chip-on-film (CoF), and chip-on-glass (CoG)) in which electronic circuit members 2 are mounted on various substrates 1, a chip-on-chip (CoC) structure, a chip-on-package (CoP) structure, or a package-on-package (PoP) structure. The electronic component may also be a multilayer electronic component in which a substrate 1 on which electronic circuit members 2 are mounted is further laminated with another substrate 1 and/or electronic circuit members 2.

バンプ3は導電性を有しており、基板1と電子回路部材2とは、バンプ3を介して電気的に接続される。バンプ3の高さは特に限定されないが、例えば、5μm以上150μm以下であってもよい。バンプ3の材料も導電性を有する限りは特に限定されず、例えば、銅、金、半田ボールなどが挙げられる。 The bumps 3 are conductive, and the substrate 1 and the electronic circuit member 2 are electrically connected via the bumps 3. The height of the bumps 3 is not particularly limited, but may be, for example, 5 μm or more and 150 μm or less. The material of the bumps 3 is also not particularly limited as long as it is conductive, and examples include copper, gold, solder balls, etc.

本発明の製造方法により得られる電子部品は、その電子部品中に、電子回路部材と基板とで形成される内部空間を有することが好ましい(図5)。内部空間を維持した状態で封止されることを必要とする電子部品として、SAW、RFIC、センサーチップ、圧電振動子チップ、水晶振動子チップ、MEMSデバイスが挙げられる。 The electronic component obtained by the manufacturing method of the present invention preferably has an internal space formed by the electronic circuit member and the substrate (Figure 5). Electronic components that need to be sealed while maintaining an internal space include SAW, RFIC, sensor chips, piezoelectric resonator chips, quartz resonator chips, and MEMS devices.

<封止工程(工程2)>
工程2では、加熱及び加圧することにより、硬化性シートを電子回路部材に追従させて封止する工程である。なお、工程0の実施に伴い、積層体を用いている場合には、加熱及び加圧によって、積層体7中の硬化性シートを、電子回路部材2の凹凸形状に追従させて封止する(図2)。これにより、内部空間Sを維持しながら、電子回路部材2を封止することができる。このように積層体7で電子回路部材2を封止する際には、ポリオレフィンシート5と樹脂シート6も電子回路部材2に追従して変形する。このポリオレフィンシート5と樹脂シート6の惰性変形により、硬化性シート4も電子回路部材2の凹凸形状に追従させることができる。
<Sealing process (process 2)>
Step 2 is a step of sealing the electronic circuit member by applying heat and pressure to cause the curable sheet to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2. When a laminate is used in carrying out step 0, the curable sheet in the laminate 7 is sealed by applying heat and pressure to cause it to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2 ( FIG. 2 ). This allows the electronic circuit member 2 to be sealed while maintaining the internal space S. When sealing the electronic circuit member 2 with the laminate 7 in this way, the polyolefin sheet 5 and the resin sheet 6 also deform to conform to the electronic circuit member 2. This inertial deformation of the polyolefin sheet 5 and the resin sheet 6 allows the curable sheet 4 to also conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2.

より具体的に説明すると、積層体7を電子回路部材2に対して加熱しながら押圧すると、図2に示すように、樹脂シート6が溶融し、圧力を伝える媒体となり、硬化性シート4とポリオレフィンシート5が伸展し、電子回路部材2の凹凸形状に追従し、樹脂シート6は電子回路部材2間に充填される。ポリオレフィンシート5と樹脂シート6の惰性変形により硬化性シート4を電子回路部材2の凹凸形状に追従加工させることができる。また、硬化性シート4と樹脂シート6の間にポリオレフィンシート5があることにより、硬化性シート4が破れることなく伸展させることができるため、高い封止性を確保することができる。 More specifically, when the laminate 7 is pressed against the electronic circuit member 2 while being heated, as shown in Figure 2, the resin sheet 6 melts and acts as a pressure transmission medium, causing the curable sheet 4 and polyolefin sheet 5 to expand and conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2, with the resin sheet 6 filling the spaces between the electronic circuit member 2. The inertial deformation of the polyolefin sheet 5 and resin sheet 6 allows the curable sheet 4 to conform to the uneven shape of the electronic circuit member 2. Furthermore, the presence of the polyolefin sheet 5 between the curable sheet 4 and the resin sheet 6 allows the curable sheet 4 to expand without tearing, ensuring high sealing performance.

押圧時の加熱の条件は、ポリオレフィンシート5の融点以下であれば特に限定されることはなく、押圧方法やポリオレフィンシート5の種類に応じて適宜設定すればよい。40℃以上100℃以下、もしくは60℃以上80℃以下で行われる。加熱時間は、特に制限されないが、例えば、1秒~600秒である。 The heating conditions during pressing are not particularly limited as long as they are below the melting point of the polyolefin sheet 5, and can be set appropriately depending on the pressing method and the type of polyolefin sheet 5. Heating is performed at a temperature of 40°C or higher and 100°C or lower, or 60°C or higher and 80°C or lower. The heating time is not particularly limited, but is, for example, 1 to 600 seconds.

また、押圧は、加圧雰囲気で行ってもよく、大気圧下で行ってもよいし、減圧雰囲気下(10Pa以上0.1MPa以下)で行ってもよい。 In addition, pressing may be performed in a pressurized atmosphere, at atmospheric pressure, or in a reduced pressure atmosphere (10 Pa or more and 0.1 MPa or less).

押圧は、積層体7を電子回路部材2上に押圧できればよく、公知の方法により行うことができる。押圧は、例えば、プレスにより行ってもよく、ラミネーターなどにより行ってもよい。また、積層体7に基板1とは反対側から加圧しながら、積層体7を電子回路部材2に追従させてもよい。また、積層体7と基板1との間の空間を減圧しながら、積層体7を電子回路部材2に追従させてもよい。 Pressing can be performed by any known method as long as it can press the laminate 7 onto the electronic circuit member 2. Pressing can be performed, for example, using a press or a laminator. Alternatively, the laminate 7 can be made to conform to the electronic circuit member 2 while applying pressure to the laminate 7 from the side opposite the substrate 1. Alternatively, the laminate 7 can be made to conform to the electronic circuit member 2 while reducing the pressure in the space between the laminate 7 and the substrate 1.


<除去工程(工程3)>
工程3は、ポリオレフィンシート及び樹脂シートを、剥離して除去する工程である。より詳細には、本工程では、工程2で電子回路部材2に追従させた硬化性シート4、ポリオレフィンシート5及び樹脂シート6から、ポリオレフィンシート5と樹脂シート6を除去する(図3)。これにより、電子回路部材2が硬化性シート4で封止された電子部品が得られる(図4)。

<Removal process (process 3)>
Step 3 is a step of peeling and removing the polyolefin sheet and the resin sheet. More specifically, in this step, the polyolefin sheet 5 and the resin sheet 6 are removed from the curable sheet 4, polyolefin sheet 5, and resin sheet 6 that were attached to the electronic circuit member 2 in step 2 ( FIG. 3 ). This results in an electronic component in which the electronic circuit member 2 is sealed with the curable sheet 4 ( FIG. 4 ).

より具体的に説明すると、ポリオレフィンシート5と樹脂シート6の剥離は、ポリオレフィンシートの融点以下、例えば、80℃以下、もしくは室温(具体的には23℃以上35℃以下)で行うことが好ましい。このような温度では、ポリオレフィンシート5の弾性が高く、その弾性を利用して、硬化性シート4からポリオレフィンシート5と樹脂シート6を容易に剥離させることができる。 More specifically, the polyolefin sheet 5 and resin sheet 6 are preferably peeled off at a temperature below the melting point of the polyolefin sheet, for example, 80°C or below, or at room temperature (specifically, 23°C to 35°C). At such temperatures, the polyolefin sheet 5 has high elasticity, and this elasticity can be used to easily peel the polyolefin sheet 5 and resin sheet 6 from the curable sheet 4.


<硬化工程(工程4)>
工程4は、硬化性シートを硬化させて硬化層に変換する工程である。つまり、電子回路部材2に封止された硬化性シート4を硬化温度で加熱して、硬化性シートの硬化物41にする(図5)。硬化性シート4の加熱条件は、硬化性シート4に含まれる熱硬化性樹脂、硬化剤、硬化促進剤、重合開始剤、重合性化合物の種類に応じて適宜設定すればよく、硬化性シート4の硬化は、例えば50℃以上230℃以下で行われる。加熱時間は特に制限されないが、例えば1秒から300分である。

<Curing process (process 4)>
Step 4 is a step of curing the curable sheet to convert it into a cured layer. That is, the curable sheet 4 sealed in the electronic circuit member 2 is heated at a curing temperature to form a cured product 41 of the curable sheet ( FIG. 5 ). The heating conditions for the curable sheet 4 may be set appropriately depending on the types of thermosetting resin, curing agent, curing accelerator, polymerization initiator, and polymerizable compound contained in the curable sheet 4, and the curing of the curable sheet 4 is carried out at a temperature of 50° C. or higher and 230° C. or lower, for example. The heating time is not particularly limited, but is, for example, 1 second to 300 minutes.

硬化性シート4の硬化方法は特に限定されず、例えば硬化性シート4の全面/またはパターン状に光を照射し、感光性成分の反応を進行させ硬化させてもよい。照射される光は、水銀灯のi線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)を用いることが好ましいが、特に限定されるものではない。 The method for curing the curable sheet 4 is not particularly limited. For example, the curable sheet 4 may be cured by irradiating the entire surface or a pattern of the sheet with light to promote the reaction of the photosensitive component. The light to be irradiated is preferably the i-line (365 nm), h-line (405 nm), or g-line (436 nm) of a mercury lamp, but is not particularly limited.

電子回路部材2に封止された硬化性シート4上に、所望のパターンを有するマスクを形成し、このマスクを通して硬化性シート4に光を照射し、この硬化性シート4をパターン状に露光後、未露光部を現像液により除去し、パターンを形成してもよい(図6)。この現像液としては、テトラメチルアンモニウムの水溶液、ジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、酢酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。必要に応じて、これらのアルカリ水溶液以外に、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、ジメチルアクリルアミドなどの極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などを用いてもよい。 A mask with the desired pattern may be formed on the curable sheet 4 encapsulated in the electronic circuit component 2, and the curable sheet 4 may be irradiated with light through the mask to expose the curable sheet 4 in a pattern. The unexposed areas may then be removed with a developer to form the pattern (Figure 6). Preferred developers include aqueous solutions of alkaline compounds such as tetramethylammonium, diethanolamine, diethylaminoethanol, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, triethylamine, diethylamine, methylamine, dimethylamine, dimethylaminoethyl acetate, dimethylaminoethanol, dimethylaminoethyl methacrylate, cyclohexylamine, ethylenediamine, and hexamethylenediamine. In addition to these alkaline aqueous solutions, polar solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, and dimethylacrylamide; alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol; esters such as ethyl lactate and propylene glycol monomethyl ether acetate; and ketones such as cyclopentanone, cyclohexanone, isobutyl ketone, and methyl isobutyl ketone may also be used as needed.

パターン形成後、電子回路部材2に封止された硬化性シート4を硬化温度で加熱することにより、硬化層に変換する。硬化性シート4の加熱条件は、硬化性シート4に含まれる熱硬化性樹脂、硬化剤、硬化促進剤、重合開始剤、重合性化合物の種類に応じて適宜設定すればよく、硬化性シート4の硬化は、例えば50℃以上230℃以下で行われる。加熱時間は特に制限されないが、例えば1秒から300分である。 After pattern formation, the curable sheet 4 sealed to the electronic circuit member 2 is heated at a curing temperature to convert it into a cured layer. The heating conditions for the curable sheet 4 can be set appropriately depending on the types of thermosetting resin, curing agent, curing accelerator, polymerization initiator, and polymerizable compound contained in the curable sheet 4. The curing of the curable sheet 4 is carried out, for example, at a temperature of 50°C or higher and 230°C or lower. There are no particular restrictions on the heating time, but it can be, for example, from 1 second to 300 minutes.

現像により硬化性シート4を除去した基板1上に新たに複数の電子回路部材を実装してもよい(図7)。 After the curable sheet 4 has been removed by development, multiple new electronic circuit components may be mounted on the substrate 1 (Figure 7).


<第2封止工程(工程5)>
電子回路部材2に封止された硬化性シート4を硬化温度で加熱後、またはパターン形成で硬化性シート4を除去した基板1上に新たに複数の電子回路部材を実装した後、硬化性シート4とは別の材料(硬化性材料)で再度封止加工を行い、硬化温度に加熱して、硬化層に変換させてもよい(図8)。

<Second sealing process (process 5)>
After the curable sheet 4 sealed to the electronic circuit component 2 is heated at a curing temperature, or after multiple electronic circuit components are newly mounted on the substrate 1 from which the curable sheet 4 has been removed by pattern formation, sealing may be performed again with a material (curable material) different from the curable sheet 4, and the material may be heated to a curing temperature to convert it into a hardened layer (Figure 8).

硬化性材料としては、公知のものが使用でき、光硬化性材料を用いてもよく、熱硬化性材料を用いてもよい。また、硬化性材料は、液状であってもよく、シート状であってもよい。光硬化性材料、及び熱硬化性材料としては、例えば、重合性化合物、硬化剤、熱硬化性樹脂などを含む樹脂組成物が使用される。また、熱硬化性材料は、導電性、放熱性、電磁波遮蔽性、電磁波吸収性などの機能性を有するよう硬化性材料であってもよい。 Known curable materials can be used, including photocurable materials and thermosetting materials. The curable material may be in liquid or sheet form. Examples of photocurable and thermosetting materials include resin compositions containing polymerizable compounds, curing agents, and thermosetting resins. Thermosetting materials may also be curable materials that have functionality such as electrical conductivity, heat dissipation, electromagnetic wave shielding, and electromagnetic wave absorption.


<電子部品>
本発明の製造方法により得られる電子部品は、その電子部品中に、電子回路部材と基板とで形成される中空構造、つまり内部空間を有することが好ましい。前述のように、内部空間を維持した状態で封止されることを必要とする電子部品として、SAW、RFIC、センサーチップ、圧電振動子チップ、水晶振動子チップ、MEMSデバイスが挙げられる。

<Electronic Components>
The electronic component obtained by the manufacturing method of the present invention preferably has a hollow structure, i.e., an internal space, formed by the electronic circuit member and the substrate. As described above, examples of electronic components that need to be sealed while maintaining an internal space include SAW, RFIC, sensor chips, piezoelectric resonator chips, quartz resonator chips, and MEMS devices.

<<本発明の積層体>>
本発明の積層体は、基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造に用いる積層体であって、硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートをこの順に積層した積層体であって、前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さく、前記樹脂シートは、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下である。
<<Laminate of the present invention>>
The laminate of the present invention is a laminate used for producing an electronic component having a substrate, a plurality of electronic circuit members mounted on the substrate, and a cured layer, and is a laminate obtained by laminating a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet in this order, wherein the polyolefin sheet has a breaking elongation at 80°C of more than 1000% and less than 3000%, and the resin sheet has a melt viscosity at 80°C of 10 Pa s or more and 200,000 Pa s or less.

本発明の積層体中の硬化性シート、ポリオレフィンシート、樹脂シートの詳細は、本発明の製造方法の項において説明した通りである。 Details of the curable sheet, polyolefin sheet, and resin sheet in the laminate of the present invention are as described in the section on the manufacturing method of the present invention.

また本発明の積層体中のポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1000%より大きく3000%より小さいが、この点も本発明の製造方法の項において説明した通りである。 Furthermore, the polyolefin sheet in the laminate of the present invention has a breaking elongation at 80°C of more than 1000% and less than 3000%, as explained in the section on the manufacturing method of the present invention.

さらに本発明の積層体中の樹脂シートは、80℃の溶融粘度が10Pa・s以上200000Pa・s以下であるが、この点も本発明の製造方法の項において説明した通りである。 Furthermore, the resin sheet in the laminate of the present invention has a melt viscosity at 80°C of 10 Pa·s or more and 200,000 Pa·s or less, as explained in the section on the manufacturing method of the present invention.

このような本発明の積層体は、基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造に好適に用いることができる。 The laminate of the present invention can be suitably used in the manufacture of substrates, multiple electronic circuit components mounted on the substrate, and electronic components having a cured layer.

さらに本発明の積層体において、硬化性シートは80℃の破断伸度が400%以上3000%以下であることが好ましい。この点は、本発明の製造方法の項において説明した通りである。 Furthermore, in the laminate of the present invention, it is preferable that the curable sheet have a breaking elongation at 80°C of 400% or more and 3000% or less. This point is as explained in the section on the manufacturing method of the present invention.

さらに本発明の積層体中の硬化性シートは、熱硬化性樹脂を含有することが好ましい。この点は、本発明の製造方法の項において説明した通りである。 Furthermore, it is preferable that the curable sheet in the laminate of the present invention contains a thermosetting resin. This point is as explained in the section on the manufacturing method of the present invention.

さらに本発明の積層体中のポリオレフィンシートは、80℃の破断強度が5MPa以上20MPa以下であり、80℃の貯蔵弾性率が15MPa以下であり、かつtanδが0.1より小さいことが好ましい。この点は、本発明の製造方法の項において説明した通りである。 Furthermore, it is preferable that the polyolefin sheet in the laminate of the present invention has a breaking strength at 80°C of 5 MPa or more and 20 MPa or less, a storage modulus at 80°C of 15 MPa or less, and a tan δ of less than 0.1. This is as explained in the section on the manufacturing method of the present invention.

さらに本発明の積層体中の樹脂シートは、エチレン酢酸ビニル、ポリオレフィン、ゴム、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル系共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS)、スチレン-ブタジエン-エチレン樹脂(SEBS)、ポリブタジエン、ポリヒドロキシポリエーテル、及びアクリロニトリル-ブタジエン共重合体(NBR)からなる群より選ばれる少なくとも1つを含有することが好ましい。この点は、本発明の製造方法の項において説明した通りである。 Furthermore, the resin sheet in the laminate of the present invention preferably contains at least one selected from the group consisting of ethylene vinyl acetate, polyolefin, rubber, polyamide, polyester, polyurethane, acrylic copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS), styrene-butadiene-ethylene resin (SEBS), polybutadiene, polyhydroxypolyether, and acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR). This point is as explained in the section on the manufacturing method of the present invention.

以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明の電子部品の製造方法及びそれに用いられる硬化性シート等について詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。 The following examples and comparative examples will explain in detail the method for manufacturing electronic components of the present invention and the curable sheets used therein, but the present invention is not limited in any way by these examples.


<実施例1~13、比較例1>
(1)硬化性シート用塗料溶液の作製
下記バインダーポリマー、硬化性樹脂、重合性化合物、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、その他添加剤をそれぞれ表1に示した組成になる様に配合し、固形分濃度20重量%となる様にDMF/MIBK混合溶媒に40℃で攪拌、溶解して硬化性シート用塗料溶液を作製した。

<Examples 1 to 13, Comparative Example 1>
(1) Preparation of a coating solution for a curable sheet The following binder polymer, curable resin, polymerizable compound, polymerization initiator, curing agent, curing accelerator, and other additives were blended to obtain the compositions shown in Table 1, and the blend was stirred and dissolved in a DMF/MIBK mixed solvent at 40°C to give a solids concentration of 20% by weight to prepare a coating solution for a curable sheet.

なお、無機フィラーを使用した実施例においては、使用した無機フィラーを表に記載したとおりの配合比になる様に秤量し、ミキサー内で2分間混合した後、無機フィラーをさらに攪拌しながら各実施例の配合比になる様にシランカップリング剤を霧吹きで噴霧し、シラン処理を行ったのちにその他原料、溶媒を添加、攪拌、溶解して塗料溶液を作製した。 In the examples where inorganic fillers were used, the inorganic fillers were weighed out to achieve the compounding ratios shown in the table and mixed in a mixer for 2 minutes. While further stirring the inorganic filler, a silane coupling agent was sprayed onto the inorganic filler using a spray bottle to achieve the compounding ratio specified for each example. After silane treatment, the other raw materials and solvent were added, stirred, and dissolved to prepare a coating solution.

<バインダーポリマー>
バインダーポリマー1:SGP-3(ナガセケムテックス(株)製):ブチルアクリレートを主成分とするエポキシ基含有アクリル系共重合体。
<Binder polymer>
Binder polymer 1: SGP-3 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation): an epoxy group-containing acrylic copolymer whose main component is butyl acrylate.

<硬化性樹脂>
硬化性樹脂1:ビスフェノールA型エポキシ(jER1001、エポキシ当量474、三菱化学(株)製、常温で固形)(但し、重合開始剤にカチオン系の物を選択した場合、硬化性樹脂1は重合性化合物としても機能する。つまり、硬化性樹脂1は2つ以上の重合性基を有する重合性化合物に該当する。)
硬化性樹脂2:クレゾールノボラック型エポキシ(EOCN-102S、エポキシ当量217、日本化薬(株)製、常温で固形)(但し、重合開始剤にカチオン系の物を選択した場合、硬化性樹脂2は重合性化合物としても機能する。つまり、硬化性樹脂2は2つ以上の重合性基を有する重合性化合物に該当する。)
硬化性樹脂3:トリスフェノールメタン型エポキシ(EPPN-501H、エポキシ当量166、日本化薬(株)製、常温で固形)(但し、重合開始剤にカチオン系の物を選択した場合、硬化性樹脂3は重合性化合物としても機能する。つまり、硬化性樹脂3は2つ以上の重合性基を有する重合性化合物に該当する。)
硬化性樹脂4:ビスフェノールAノボラック型エポキシ(N-865、エポキシ当量205、DIC製)(但し、重合開始剤にカチオン系の物を選択した場合、硬化性樹脂4は重合性化合物としても機能する。つまり、硬化性樹脂4は2つ以上の重合性基を有する重合性化合物に該当する。)
<重合性化合物>
重合性化合物1:DPE-6A(2つ以上の重合性基を有する重合性化合物、共栄社化学製)
<重合開始剤>
重合開始剤1:Irgacure OXE04(ラジカル系光重合開始剤、BASF製)
重合開始剤2:CPI-310FG(カチオン系光重合開始剤、サンアプロ(株)製)
重合開始剤3:熱カチオン触媒(サンエイドSI-B3、三新化学工業(株)製)
<硬化剤>
硬化剤1:4,4’-ジアミノジフェニルスルホン(セイカキュアS、アミン当量62、和歌山精化工業(株)製)
<硬化促進剤>
硬化促進剤1:イミダゾール触媒(C17Z、四国化成(株)製)
<無機フィラー>
無機フィラー1:球状シリカ(SO-E1、平均粒径0.3μm、(株)アドマテックス製)
<シランカップリング剤>
シランカップリング剤1:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM-403、信越化学工業(株)製)
(2)保護フィルムへの塗工・乾燥
この塗料溶液をバーコーターで、シリコーン離型剤付きの厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(藤森工業(株)製“フィルムバイナ”GT)に各実施例、比較例の乾燥厚さとなるように塗布し、50℃の温度で60秒、次いで150℃の温度で60秒乾燥し、保護フィルムを貼り合わせて、本発明の硬化性シートを作製した。
<Curable resin>
Curable resin 1: bisphenol A-type epoxy (jER1001, epoxy equivalent 474, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, solid at room temperature) (however, if a cationic polymerization initiator is selected, curable resin 1 also functions as a polymerizable compound. In other words, curable resin 1 corresponds to a polymerizable compound having two or more polymerizable groups.)
Curable resin 2: Cresol novolac epoxy (EOCN-102S, epoxy equivalent 217, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., solid at room temperature) (However, if a cationic polymerization initiator is selected, the curable resin 2 also functions as a polymerizable compound. In other words, the curable resin 2 corresponds to a polymerizable compound having two or more polymerizable groups.)
Curable resin 3: Trisphenolmethane epoxy (EPPN-501H, epoxy equivalent 166, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., solid at room temperature) (However, if a cationic polymerization initiator is selected, the curable resin 3 also functions as a polymerizable compound. In other words, the curable resin 3 corresponds to a polymerizable compound having two or more polymerizable groups.)
Curable resin 4: Bisphenol A novolac epoxy (N-865, epoxy equivalent 205, manufactured by DIC) (However, if a cationic polymerization initiator is selected, curable resin 4 also functions as a polymerizable compound. In other words, curable resin 4 corresponds to a polymerizable compound having two or more polymerizable groups.)
<Polymerizable compound>
Polymerizable compound 1: DPE-6A (a polymerizable compound having two or more polymerizable groups, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
<Polymerization initiator>
Polymerization initiator 1: Irgacure OXE04 (radical photopolymerization initiator, manufactured by BASF)
Polymerization initiator 2: CPI-310FG (cationic photopolymerization initiator, manufactured by San-Apro Co., Ltd.)
Polymerization initiator 3: thermal cationic catalyst (Sanaid SI-B3, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
<Curing agent>
Curing agent 1: 4,4'-diaminodiphenyl sulfone (Seikacure S, amine equivalent 62, manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.)
<Curing accelerator>
Curing accelerator 1: Imidazole catalyst (C17Z, manufactured by Shikoku Chemical Industries, Ltd.)
<Inorganic filler>
Inorganic filler 1: spherical silica (SO-E1, average particle size 0.3 μm, manufactured by Admatechs Co., Ltd.)
<Silane coupling agent>
Silane coupling agent 1: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(2) Coating and drying on protective film This coating solution was applied using a bar coater to a 38 μm thick polyethylene terephthalate film with a silicone release agent ("Film Vina" GT, manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) to the dry thickness specified for each example and comparative example, and dried at a temperature of 50° C. for 60 seconds, then at a temperature of 150° C. for 60 seconds. A protective film was then attached to produce a curable sheet of the present invention.

(3)ポリオレフィンシート、樹脂シート
表2に示す特性を有するポリオレフィンシート、樹脂シートを用いた。
(3) Polyolefin Sheet, Resin Sheet Polyolefin sheets and resin sheets having the properties shown in Table 2 were used.

(4)破断伸度及び破断強度
硬化性シート、ポリオレフィンシートをそれぞれチャック間10mm、幅10mmの条件で引張試験器(SHIMADZU製、AG-X20kNX)にて、80℃の条件下で1000mm/minの速度で引張試験を行ない、破断に至るまでの応力ひずみ曲線を記録し、破断伸度、破断強度を求めた。
(4) Breaking elongation and breaking strength A tensile test was carried out on each of the curable sheet and the polyolefin sheet at a speed of 1000 mm/min under conditions of 80°C using a tensile tester (AG-X20kNX, manufactured by Shimadzu) with a chuck distance of 10 mm and a width of 10 mm. The stress-strain curve up to break was recorded, and the breaking elongation and breaking strength were determined.

破断伸度は、試験片が破断したときの試験片の長さL1と初期の試験片の長さL0との差(=L1-L0)のL0に対する比率(=(L1-L0))/L0×100(%)である。複数(例えば、5つ)の試験片について、破断伸度を測定し、平均化することにより平均伸度を求める。 The breaking elongation is the ratio (= (L1 - L0))/L0 x 100 (%) of the difference (= L1 - L0) between the length of the test specimen when it breaks (L1) and the initial length of the test specimen (L0). The breaking elongation is measured for multiple (e.g., five) test specimens and averaged to determine the average elongation.

(5)溶融粘度
樹脂シートを、ラミネートロール温度 80℃、ラミネート圧力0.3MPa、ラミネート速度1m/minの条件で積層し、厚み約800μmのサンプルを作製した。その積層サンプルをφ15mmの円形に切り抜き 、粘弾性測定装置(TAインスツルメンツ製、AR-G2)を用いて、剪断速度50s-1 、歪量1%、昇温速度5℃/分の条件で溶融粘度を測定し、80℃における複素粘度|η*|を読み取った。
(5) Melt Viscosity A resin sheet was laminated under the conditions of a laminating roll temperature of 80°C, a laminating pressure of 0.3 MPa, and a laminating speed of 1 m/min to prepare a sample with a thickness of approximately 800 μm. The laminated sample was cut into a circle with a diameter of 15 mm, and the melt viscosity was measured using a viscoelasticity measuring device (TA Instruments, AR-G2) under the conditions of a shear rate of 50 s-1, a strain of 1%, and a heating rate of 5°C/min, and the complex viscosity |η*| at 80°C was read.

(6)貯蔵弾性率及びtanδ
ポリオレフィンシートの試験片を用いて評価を実施した。試験片としては、幅10mmの物が使用される。評価は、動的粘弾性装置(SII製、DMS6100)を用いて、周波数1Hz、昇温速度5℃/分の条件下で80℃における貯蔵弾性率及びtanδを求めた。tanδは80℃におけるポリオレフィンシートの貯蔵弾性率G’と損失弾性率G”との比:G”/G’である。
(6) Storage modulus and tan δ
Evaluation was carried out using a polyolefin sheet test piece. The test piece used was 10 mm wide. For evaluation, a dynamic viscoelasticity device (manufactured by SII, DMS6100) was used to determine the storage modulus and tan δ at 80°C under conditions of a frequency of 1 Hz and a heating rate of 5°C/min. Tan δ is the ratio of the storage modulus G' to the loss modulus G" of the polyolefin sheet at 80°C: G"/G'.

(7)被覆性評価:
複数の電子回路部材が実装された基板の表面を硬化性シートで被覆する際の被覆性につき、以下の手順で評価した。
(7) Coverage evaluation:
The coverability when covering the surface of a substrate on which a plurality of electronic circuit components were mounted with a curable sheet was evaluated by the following procedure.

複数の電子回路部材が実装された基板として、アルミナ基板上に幅0.9mm×長さ1.1mm×高さ0.2mmの評価用Siチップを、高さ0.04mmの半田バンプを介してフリップチップ実装した基板を用いた。Siチップは、10mm×10mmのアルミナ基板上の中心部分に5行×6列実装され、実装されたSiチップの間隔につき1列目と2列目、3列目と4列目、及び5列目と6列目の間隔を0.5mm、2列目と3列目、4列目と5列目の間隔を0.1mm、各行の間隔を0.5mmとした。 The substrate used, on which multiple electronic circuit components were mounted, was an alumina substrate on which evaluation Si chips measuring 0.9 mm wide x 1.1 mm long x 0.2 mm high were flip-chip mounted via 0.04 mm high solder bumps. The Si chips were mounted in 5 rows x 6 columns in the center of the 10 mm x 10 mm alumina substrate, with the spacing between the mounted Si chips being 0.5 mm between the first and second, third and fourth, and fifth and sixth columns, 0.1 mm between the second and third, and fourth and fifth columns, and 0.5 mm between each row.

上記の基板の面積と同じになるように硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートを裁断し、上記の基板上に実装された複数の電子回路部材に硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートの順に配置し(工程1)、これらを真空ラミネーター(ニッコー・マテリアルズ製、CVP-300T)を用いて、温度80℃、真空引き時間100秒、加圧時間300秒、真空加圧0.8MPaの条件で真空ラミネートを実施した(工程2)。その後、ポリオレフィンシートと樹脂シートを剥離して除去を行い(工程3)、硬化性シートで被覆された電子回路部材をエアオーブン中で150℃、2時間加熱し、硬化層への変換を行った(工程4)。 The curable sheet, polyolefin sheet, and resin sheet were cut to the same area as the above-mentioned substrate, and were placed on multiple electronic circuit components mounted on the above-mentioned substrate in the order of curable sheet, polyolefin sheet, and resin sheet (Step 1). These were then vacuum-laminated using a vacuum laminator (Nikko Materials, CVP-300T) at a temperature of 80°C, a vacuum time of 100 seconds, a pressure time of 300 seconds, and a vacuum pressure of 0.8 MPa (Step 2). The polyolefin sheet and resin sheet were then peeled and removed (Step 3), and the electronic circuit components covered with the curable sheet were heated in an air oven at 150°C for 2 hours to convert them into a cured layer (Step 4).

次に、硬化性シートによる被覆後の外観につき以下の基準で判定を行った。 Next, the appearance after covering with the curable sheet was judged according to the following criteria.

(a)1列目と2列目、3列目と4列目、5列目と6列目、及び各行間の硬化性シート追従性
硬化性シートがアルミナ基板上にSiチップ実装により形成された凹凸に追従しているかを、顕微鏡観察により判定した。硬化性シートが破れず、かつ凹部まで十分に追従しているものを◎と判定し、硬化性シートが破れているものや、凹部まで十分に追従していない箇所が2カ所以上のものは×と判定し、硬化性シートが破れてはおらず、かつ、凹部まで十分に追従していない箇所が1カ所のみのものは○とした。
(a) Curable sheet conformability between the first and second columns, the third and fourth columns, the fifth and sixth columns, and the spaces between each row Whether the curable sheet conformed to the irregularities formed by mounting Si chips on the alumina substrate was judged by microscopic observation. A curable sheet that was not torn and that conformed sufficiently to the recesses was judged as ⊚, a curable sheet that was torn or had two or more locations where it did not conform sufficiently to the recesses was judged as x, and a curable sheet that was not torn and had only one location where it did not conform sufficiently to the recesses was judged as ◯.

(b)2列目と3列目、及び4列目と5列目の硬化性シートの外観
硬化性シートがアルミナ基板上にSiチップ実装により形成された凹凸に追従しているかを、顕微鏡観察により判定した。硬化性シートが破れず、かつ凹部まで十分に追従しているものを◎と判定し、硬化性シートが破れているものや、凹部まで十分に追従していない箇所が2カ所以上のものは×と判定し、硬化性シートが破れてはおらず、かつ、凹部まで十分に追従していない箇所が1カ所のみのものは○とした。
(b) Appearance of the curable sheets in the second and third rows, and the fourth and fifth rows Whether the curable sheets conformed to the irregularities formed by mounting Si chips on the alumina substrate was judged by microscope observation. A curable sheet that was not torn and conformed sufficiently to the recesses was judged as ⊚, a curable sheet that was torn or had two or more locations where it did not conform sufficiently to the recesses was judged as x, and a curable sheet that was not torn and had only one location where it did not conform sufficiently to the recesses was judged as ◯.

硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートの各種物性と被覆性の評価結果を表2にまとめた。 The evaluation results for the various physical properties and coating properties of the curable sheet, polyolefin sheet, and resin sheet are summarized in Table 2.

本発明によれば、複数の電子回路部材が配置され、その距離が異なる場合であっても破れや凹凸形状への追従不十分といった問題を解決し、加工工程での歩留まりを向上させ、信頼性に優れた電子部品を得ることができる。 The present invention solves problems such as tearing and insufficient conformance to uneven shapes, even when multiple electronic circuit components are arranged at different distances, improving yield in the processing process and producing highly reliable electronic components.

10、11:電子部品
1:基板
2:電子回路部材
21:第1部材
22:第2部材
23:第3部材
3:バンプ
4:硬化性シート
41:硬化性シートの硬化物
5:ポリオレフィンシート
6:樹脂シート
7:積層体
S:内部空間
10, 11: Electronic component 1: Substrate 2: Electronic circuit member 21: First member 22: Second member 23: Third member 3: Bump 4: Curable sheet 41: Cured product of curable sheet 5: Polyolefin sheet 6: Resin sheet 7: Laminate S: Internal space

Claims (11)

基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造方法であって、
以下の工程1から工程4をこの順に有する、電子部品の製造方法。
工程1:硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートを、前記基板、前記電子回路部材、前記硬化性シート、前記ポリオレフィンシート、及び前記樹脂シートの順に配置する工程であって、
前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1200%以上1800%以下であり
前記樹脂シートは、80℃の溶融粘度が60Pa・s以上89000Pa・s以下である、工程。
工程2:加熱及び加圧することにより、前記硬化性シートを前記電子回路部材に追従させて封止する工程。
工程3:前記ポリオレフィンシート及び前記樹脂シートを、剥離して除去する工程。
工程4:前記硬化性シートを硬化させて硬化層に変換する工程。
1. A method for manufacturing an electronic component having a substrate, a plurality of electronic circuit members mounted on the substrate, and a hardened layer, comprising:
A method for manufacturing an electronic component, comprising the following steps 1 to 4 in this order:
Step 1: A step of arranging a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet in the following order: the substrate, the electronic circuit member, the curable sheet, the polyolefin sheet, and the resin sheet;
The polyolefin sheet has a breaking elongation at 80°C of 1200% or more and 1800% or less ,
The resin sheet has a melt viscosity at 80°C of 60 Pa·s or more and 89,000 Pa·s or less.
Step 2: A step of applying heat and pressure to make the curable sheet conform to the electronic circuit member and seal it.
Step 3: A step of peeling and removing the polyolefin sheet and the resin sheet.
Step 4: Curing the curable sheet to convert it into a cured layer.
前記工程1の前に、以下の工程0を有する、請求項1に記載の電子部品の製造方法。
工程0:前記硬化性シート、前記ポリオレフィンシート、及び前記樹脂シートをこの順に積層して積層体とする工程。
The method for manufacturing an electronic component according to claim 1 , further comprising the following step 0 before step 1:
Step 0: A step of laminating the curable sheet, the polyolefin sheet, and the resin sheet in this order to form a laminate.
前記基板の面積をA、前記電子回路部材の最大高さをHmax、前記電子回路部材の総体積をV'、前記樹脂シートの体積をVとしたとき、V > A・Hmax-V’を満たす、請求項1~2のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 2, wherein V > A·Hmax-V' is satisfied, where A is the area of the substrate, Hmax is the maximum height of the electronic circuit member, V' is the total volume of the electronic circuit member, and V is the volume of the resin sheet. 2つの電子回路部材間の距離をD、その2つの電子回路部材の平均高さをHとしたときに、1<(2H+D)/D<10を満たす、請求項1~3のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 A method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 3, wherein, where D is the distance between two electronic circuit components and H is the average height of the two electronic circuit components, the relationship 1 < (2H + D)/D < 10 is satisfied. 前記硬化性シートは、熱硬化性樹脂を含有する、請求項1~のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 5. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1 , wherein the curable sheet contains a thermosetting resin. 前記樹脂シートは、エチレン酢酸ビニル、ポリオレフィン、ゴム、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル系共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS)、スチレン-ブタジエン-エチレン樹脂(SEBS)、ポリブタジエン、ポリヒドロキシポリエーテル、及びアクリロニトリル-ブタジエン共重合体(NBR)からなる群より選ばれる少なくとも1つを含有する、請求項1~のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 6. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the resin sheet contains at least one selected from the group consisting of ethylene vinyl acetate, polyolefin, rubber, polyamide, polyester, polyurethane, acrylic copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS), styrene-butadiene-ethylene resin (SEBS), polybutadiene, polyhydroxypolyether, and acrylonitrile- butadiene copolymer (NBR). 前記電子部品中に、前記電子回路部材と前記基板で形成される内部空間を有する、請求項1~のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 7. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the electronic component has an internal space formed by the electronic circuit member and the substrate. 基板、前記基板に実装された複数の電子回路部材、及び硬化層を有する電子部品の製造に用いる積層体であって、
硬化性シート、ポリオレフィンシート、及び樹脂シートをこの順に積層した積層体であって、
前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断伸度が1200%以上1800%以下であり、
前記樹脂シートは、80℃の溶融粘度が60Pa・s上89000Pa・s以下である、積層体。
A laminate used in the manufacture of an electronic component having a substrate, a plurality of electronic circuit members mounted on the substrate, and a cured layer,
A laminate in which a curable sheet, a polyolefin sheet, and a resin sheet are laminated in this order,
The polyolefin sheet has a breaking elongation at 80°C of 1200% or more and 1800% or less ,
The resin sheet has a melt viscosity at 80°C of 60 Pa·s to 89,000 Pa·s.
前記硬化性シートは、熱硬化性樹脂を含有する、請求項に記載の積層体。 The laminate according to claim 8 , wherein the curable sheet contains a thermosetting resin. 前記ポリオレフィンシートは、80℃の破断強度が5MPa以上20MPa以下であり、80℃の貯蔵弾性率が15MPa以下であり、かつtanδが0.1より小さい、請求項8又は9に記載の積層体。 10. The laminate according to claim 8 , wherein the polyolefin sheet has a breaking strength at 80°C of 5 MPa or more and 20 MPa or less, a storage modulus at 80°C of 15 MPa or less, and a tan δ of less than 0.1. 前記樹脂シートは、エチレン酢酸ビニル、ポリオレフィン、ゴム、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル系共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS)、スチレン-ブタジエン-エチレン樹脂(SEBS)、ポリブタジエン、ポリヒドロキシポリエーテル、及びアクリロニトリル-ブタジエン共重合体(NBR)からなる群より選ばれる少なくとも1つを含有する、請求項10のいずれかに記載の積層体。
The laminate according to any one of claims 8 to 10, wherein the resin sheet contains at least one selected from the group consisting of ethylene vinyl acetate, polyolefin, rubber, polyamide, polyester, polyurethane, an acrylic copolymer, an acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS), a styrene-butadiene-ethylene resin (SEBS), polybutadiene , a polyhydroxypolyether, and an acrylonitrile-butadiene copolymer ( NBR ).
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