JP7813627B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Description

本開示は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

特許文献１は、基板を保持する保持部と、保持部の周囲に配置された飛散防止カップと、保持部に保持された基板に処理液を供給する処理液供給ノズルと、処理液供給ノズル及び飛散防止カップの上方に配置され且つ処理液供給ノズルと基板面との間における処理液の供給経路を撮像する撮像手段と、撮像手段によって撮像された処理液の供給状態が異常である場合に、予め決められた動作を行う制御手段とを備える基板処理装置を開示している。

特開平１１－３２９９３６号公報

本開示は、ノズルの状態を精度よく取得することが可能な基板処理装置及び基板処理方法を説明する。

基板処理装置の一例は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、基板又は検査用基板を保持するように構成された保持部と、保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、保持部に保持された基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、制御部とを備える。制御部は、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、ノズルに対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、第１の処理の後に、撮像部を制御して、第１の撮像位置においてノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されている。

本開示に係る基板処理装置及び基板処理方法によれば、ノズルの状態を精度よく取得することが可能となる。

図１は、基板処理システムの一例を模式的に示す平面図である。 図２は、液処理ユニットの一例を模式的に示す側面図である。 図３は、基板処理システムの主要部の一例を示すブロック図である。 図４は、コントローラのハードウェア構成の一例を示す概略図である。 図５は、ノズルの状態を検査する手順の一例を説明するためのフローチャートである。 図６は、撮像位置の調整の一例を説明するための、検査用基板の上面図である。 図７は、ノズルの高さの算出方法を説明するための撮像画像の一例を示す図である。 図８は、ノズルの先端部の中心位置の算出方法を説明するための図であり、図８（ａ）は、撮像位置が０°のときの撮像画像の一例を示しており、図８（ｂ）は、図８（ａ）の撮像画像の所定位置における水平方向での輝度値の変化を示すグラフであり、図８（ｃ）は、撮像位置が９０°のときの撮像画像の一例を示しており、図８（ｄ）は、図８（ｃ）の撮像画像の所定位置における水平方向での輝度値の変化を示すグラフである。 図９は、ノズルの先端部の中心位置の算出方法を説明するための図であり、図９（ａ）は、撮像位置が１８０°のときの撮像画像の一例を示しており、図９（ｂ）は、図９（ａ）の撮像画像の所定位置における水平方向での輝度値の変化を示すグラフであり、図９（ｃ）は、撮像位置が２７０°のときの撮像画像の一例を示しており、図９（ｄ）は、図９（ｃ）の撮像画像の所定位置における水平方向での輝度値の変化を示すグラフである。 図１０は、ノズルの傾きの算出方法を説明するための図であり、図１０（ａ）は、撮像位置が０°のときの撮像画像の一例を示しており、図１０（ｂ）は、撮像位置が９０°のときの撮像画像の一例を示しており、図１０（ｃ）は、撮像位置が１８０°のときの撮像画像の一例を示しており、図１０（ｄ）は、撮像位置が２７０°のときの撮像画像の一例を示す。 図１１は、ノズルの傾斜ベクトルの算出方法を説明するための図である。 図１２は、ノズルの表面における異常の算出方法を説明するための図であり、ノズルの外周面が略全周にわたって撮像された撮像画像を平面に展開した画像の一例を示す。 図１３は、検査用基板の他の例を示す側面図である。 図１４は、検査用基板の他の例を示す側面図である。 図１５は、検査用基板の他の例を示す側面図である。

以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。なお、本明細書において、図の上、下、右、左というときは、図中の符号の向きを基準とすることとする。

［基板処理システム］
まず、図１を参照して、基板Ｗを処理するように構成された基板処理システム１（基板処理装置）について説明する。基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３と、コントローラＣｔｒ（制御部）とを備える。搬入出ステーション２及び処理ステーション３は、例えば水平方向に一列に並んでいてもよい。

基板Ｗは、円板状を呈してもよいし、多角形など円形以外の板状を呈していてもよい。基板Ｗは、一部が切り欠かれた切欠部を有していてもよい。切欠部は、例えば、ノッチ（Ｕ字形、Ｖ字形等の溝）であってもよいし、直線状に延びる直線部（いわゆる、オリエンテーション・フラット）であってもよい。基板Ｗは、例えば、半導体基板（シリコンウエハ）、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。基板Ｗの直径は、例えば２００ｍｍ～４５０ｍｍ程度であってもよい。

搬入出ステーション２は、載置部４と、搬入搬出部５と、棚ユニット６（収容チャンバ）とを含む。載置部４は、幅方向（図１の上下方向）において並ぶ複数の載置台（図示せず）を含んでいる。各載置台は、キャリア７を載置可能に構成されている。キャリア７は、少なくとも一つの基板Ｗを密封状態で収容するように構成されている。キャリア７は、基板Ｗを出し入れするための開閉扉（図示せず）を含む。

搬入搬出部５は、搬入出ステーション２及び処理ステーション３が並ぶ方向（図１の左右方向）において、載置部４に隣接して配置されている。搬入搬出部５は、載置部４に対して設けられた開閉扉（図示せず）を含む。載置部４上にキャリア７が載置された状態で、キャリア７の開閉扉と搬入搬出部５の開閉扉とが共に開放されることで、搬入搬出部５内とキャリア７内とが連通する。

搬入搬出部５は、搬送アームＡ１及び棚ユニット６を内蔵している。搬送アームＡ１は、搬入搬出部５の幅方向における水平移動と、鉛直方向における上下動と、鉛直軸周りにおける旋回動作とが可能に構成されている。搬送アームＡ１は、キャリア７から基板Ｗを取り出して棚ユニット６に渡し、また、棚ユニット６から基板Ｗを受け取ってキャリア７内に戻すように構成されている。棚ユニット６は、処理ステーション３の近傍に位置しており、基板Ｗ及び検査用基板Ｊ（詳しくは後述する）を収容するように構成されている。

処理ステーション３は、搬送部８と、複数の液処理ユニットＵとを含む。搬送部８は、例えば、搬入出ステーション２及び処理ステーション３が並ぶ方向（図１の左右方向）において水平に延びている。搬送部８は、搬送アームＡ２（搬送部）を内蔵している。搬送アームＡ２は、搬送部８の長手方向における水平移動と、鉛直方向における上下動と、鉛直軸周りにおける旋回動作とが可能に構成されている。搬送アームＡ２は、棚ユニット６から基板Ｗ又は検査用基板Ｊを取り出して液処理ユニットＵに渡し、また、液処理ユニットＵから基板Ｗ又は検査用基板Ｊを受け取って棚ユニット６内に戻すように構成されている。

［液処理ユニット］
続いて、図２を参照して、液処理ユニットＵについて詳しく説明する。液処理ユニットＵは、基板Ｗに所定の液処理（例えば、汚れや異物の除去処理、エッチング処理など）を行うように構成されている。液処理ユニットＵは、例えば、スピン洗浄により基板Ｗを１枚ずつ洗浄する枚葉式の洗浄装置であってもよい。

液処理ユニットＵは、チャンバ１０（処理チャンバ）と、送風部２０と、回転保持部３０と、供給部４０（処理液供給部、洗浄液供給部）と、カップ部材５０とを含む。

チャンバ１０は、その内部に基板Ｗ又は検査用基板Ｊを搬入出することが可能に構成された筐体である。チャンバ１０の側壁には、図示しない搬入搬出口が形成されている。基板Ｗ又は検査用基板Ｊは、搬送アームＡ２により、当該搬入搬出口を通じて、チャンバ１０の内部に搬送され、また、チャンバ１０から外部に搬出される。

送風部２０は、チャンバ１０の天壁に取り付けられている。送風部２０は、コントローラＣｔｒからの信号に基づいて、下方に向かう下降流をチャンバ１０内に形成するように構成されている。

回転保持部３０は、駆動部３１と、シャフト３２と、保持部３３とを含む。駆動部３１は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、シャフト３２を回転させるように構成されている。駆動部３１は、例えば電動モータ等の動力源であってもよい。

保持部３３は、シャフト３２の先端部に設けられている。保持部３３は、例えば吸着等により、基板Ｗ又は検査用基板Ｊの裏面を吸着保持するように構成されている。すなわち、回転保持部３０は、基板Ｗ又は検査用基板Ｊの姿勢が略水平の状態で、基板Ｗ又は検査用基板Ｊの表面に対して垂直な回転中心軸Ａｘ周りで基板Ｗ又は検査用基板Ｊを回転させるように構成されていてもよい。

供給部４０は、種類の異なる複数の処理液をノズルＮから基板Ｗの表面に供給するように構成されている。供給部４０は、液源４１，４２と、バルブ４３，４４と、配管４５～４７と、ノズルＮと、アームＡｒと、駆動部４８（ノズル駆動部）とを含む。

液源４１は、処理液の供給源として構成されていてもよい。処理液は、例えば、酸系処理液であってもよいし、アルカリ系処理液であってもよい。酸系処理液は、例えば、ＳＣ－２液（塩酸、過酸化水素及び純水の混合液）、ＳＰＭ（硫酸及び過酸化水素水の混合液）、ＨＦ液（フッ酸）、ＤＨＦ液（希フッ酸）、ＨＮＯ_３＋ＨＦ液（硝酸及びフッ酸の混合液）などを含んでいてもよい。アルカリ系処理液は、例えば、ＳＣ－１液（アンモニア、過酸化水素及び純水の混合液）、過酸化水素水などを含んでいてもよい。液源４１は、配管４５，４７を介してノズルＮに接続されている。

液源４２は、洗浄液の供給源として構成されていてもよい。洗浄液は、例えば、有機系洗浄液であってもよいし、リンス液であってもよい。有機系洗浄液は、例えば、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などを含んでいてもよい。リンス液は、例えば、純水（ＤＩＷ：deionized water）、オゾン水、炭酸水（ＣＯ_２水）、アンモニア水などを含んでいてもよい。液源４１は、配管４６，４７を介してノズルＮに接続されている。

バルブ４３，４４はそれぞれ、配管４５，４６に設けられている。バルブ４３，４４はそれぞれ、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて開閉するように構成されている。

ノズルＮは、アームＡｒによって保持されている。アームＡｒには、駆動部４８が接続されている。駆動部４８は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、アームＡｒを水平移動又は上下動させるように構成されている。そのため、ノズルＮは、基板Ｗの上方において水平移動又は上下動するように構成されている。駆動部４８は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、鉛直軸に対するアームＡｒの角度を変化させるように構成されていてもよい。この場合、鉛直軸に対するアームＡｒの角度の変化に伴い、ノズルＮの角度も変化する。すなわち、駆動部４８によるアームＡｒの駆動により、ノズルＮの姿勢（水平位置、上下位置又は角度）が調節されてもよい。

ノズルＮから基板Ｗの表面に処理液又は洗浄液が吐出される際には、ノズルＮは、その吐出口が基板Ｗの表面に向かうように基板Ｗの上方に配置されていていもよい。また、後述するノズルＮの状態の検査が行われる際には、ノズルＮは、その吐出口が検査用基板Ｊの表面に向かうように検査用基板Ｊの上方に配置されていていもよい。

カップ部材５０は、保持部３３の周囲を取り囲むように設けられている。カップ部材５０は、回転保持部３０によって基板Ｗが保持及び回転されることで、基板Ｗの外周縁から周囲に飛散する処理液を捕集するように構成されている。カップ部材５０の底部には、排液口５１と、排気口５２とが設けられている。

排液口５１は、カップ部材５０によって捕集された処理液又は洗浄液を液処理ユニットＵの外部に排出するように構成されている。排気口５２は、送風部２０によって基板Ｗの周囲に形成された下降流を液処理ユニットＵの外部に排出するように構成されている。当該下降流には、基板Ｗが処理液によって処理されることに伴って基板Ｗの周囲に発生するガスが随伴される。

［検査用基板］
検査用基板Ｊは、ノズルＮの状態を検査するように構成されている。検査用基板Ｊは、図２に例示されるように、ベース部Ｊ１と、撮像部Ｊ２と、照明部Ｊ３と、バッテリＪ４と、通信部Ｊ５とを含む。ベース部Ｊ１は、基板Ｗと同様に、円板状を呈してもよいし、多角形など円形以外の板状を呈していてもよい。ベース部Ｊ１は、撮像部Ｊ２、照明部Ｊ３、バッテリＪ４及び通信部Ｊ５を保持している。

撮像部Ｊ２は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、ノズルＮの外観を撮像するように構成されている。撮像部Ｊ２は、例えば、ＣＣＤカメラ、ＣＯＭＳカメラなどであってもよい。撮像部Ｊ２は、ベース部Ｊ１上に配置されている。撮像部Ｊ２は、ノズルＮの撮像時において、ノズルＮよりもベース部Ｊ１の外周縁側に位置するように、ベース部Ｊ１上に配置されていてもよい。撮像部Ｊ２は、図示しない駆動部によってその仰角が変更可能に構成されていてもよい。当該仰角は、例えば、０°～９０°であってもよい。

照明部Ｊ３は、コントローラＣｔｒからの動作信号に基づいて動作し、撮像部Ｊ２によるノズルＮの撮像時に、ノズルＮに対して光を照射するように構成されている。照明部Ｊ３は、ベース部Ｊ１上に配置されている。照明部Ｊ３は、撮像部Ｊ２の近傍に配置されていてもよい。

バッテリＪ４は、検査用基板Ｊに設けられている電子機器に電力を供給するように構成されている。バッテリＪ４の充電のために、例えば棚ユニット６に充電ポートが設けられていてもよい。この場合、検査用基板Ｊが棚ユニット６に退避して棚ユニット６において保持されている状態で、バッテリＪ４が充電ポートを介して充電される。バッテリＪ４の充電方式は、充電ポートの金属端子と接触して充電が行われる接触式充電であってもよいし、金属端子等を介さずに電力を伝送する非接触式充電であってもよい。

通信部Ｊ５は、コントローラＣｔｒ（例えば、後述する処理部Ｍ３）と通信可能に構成されている。通信部Ｊ５は、撮像部Ｊ２及び照明部Ｊ３を動作させるための動作信号をコントローラＣｔｒから受信可能である。通信部Ｊ５は、撮像部Ｊ２が撮像した撮像画像のデータをコントローラＣｔｒに送信可能である。通信部Ｊ５とコントローラＣｔｒとの通信方式は特に限定されず、例えば、無線通信であってもよいし、有線（通信ケーブル）による通信であってもよい。無線通信の例として、ＬＴＥ（Long Term Evolution）、ＬＴＥ－Ａ（LTE-Advanced）、ＳＵＰＥＲ３Ｇ、ＩＭＴ－Ａｄｖａｎｃｅｄ、４Ｇ、５Ｇ、ＦＲＡ（Future Radio Access）、Ｗ－ＣＤＭＡ（登録商標）、ＧＳＭ（登録商標）、ＣＤＭＡ２０００、ＵＭＢ（Ultra Mobile Broadband）、ＩＥＥＥ ８０２．１１（Ｗｉ－Ｆｉ）、ＩＥＥＥ ８０２．１６（ＷｉＭＡＸ）、ＩＥＥＥ ８０２．２０、ＵＷＢ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、その他の通信方式が用いられてもよい。

［コントローラの詳細］
コントローラＣｔｒは、基板処理システム１を部分的又は全体的に制御するように構成されている。コントローラＣｔｒは、図３に例示されるように、機能モジュールとして、読取部Ｍ１と、記憶部Ｍ２と、処理部Ｍ３と、指示部Ｍ４と、通信部Ｍ５とを有する。これらの機能モジュールは、コントローラＣｔｒの機能を便宜上複数のモジュールに区切ったものに過ぎず、コントローラＣｔｒを構成するハードウェアがこのようなモジュールに分かれていることを必ずしも意味するものではない。各機能モジュールは、プログラムの実行により実現されるものに限られず、専用の電気回路（例えば論理回路）、又は、これを集積した集積回路（ＡＳＩＣ：Application Specific Integrated Circuit）により実現されるものであってもよい。

読取部Ｍ１は、コンピュータ読み取り可能な記録媒体ＲＭからプログラムを読み取るように構成されている。記録媒体ＲＭは、基板処理システム１の各部を動作させるためのプログラムを記録している。記録媒体ＲＭは、例えば、半導体メモリ、光記録ディスク、磁気記録ディスク、光磁気記録ディスクであってもよい。なお、以下では、基板処理システム１の各部は、送風部２０、回転保持部３０、供給部４０、撮像部Ｊ２、照明部Ｊ３及び通信部Ｊ５の各部を含みうる。

記憶部Ｍ２は、種々のデータを記憶するように構成されている。記憶部Ｍ２は、例えば、読取部Ｍ１において記録媒体ＲＭから読み出したプログラム、外部入力装置（図示せず）を介してオペレータから入力された設定データなどを記憶してもよい。記憶部Ｍ２は、例えば、基板Ｗの処理のための処理条件（処理レシピ）のデータを記憶してもよい。記憶部Ｍ２は、例えば、通信部Ｊ５，Ｍ５を介して送信された撮像部Ｊ２の撮像画像のデータを記憶してもよい。

処理部Ｍ３は、各種データを処理するように構成されている。処理部Ｍ３は、例えば、記憶部Ｍ２に記憶されている各種データに基づいて、基板処理システム１の各部を動作させるための信号を生成してもよい。処理部Ｍ３は、例えば、撮像開始又は撮像停止を撮像部Ｊ２に実行させるための動作信号を生成してもよい。処理部Ｍ３は、例えば、撮像部Ｊ２の仰角やピントを調整するための動作信号を生成してもよい。処理部Ｍ３は、例えば、光の照射開始又は照射停止を照明部Ｊ３に実行させるための動作信号を生成してもよい。

処理部Ｍ３は、例えば、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像のデータに基づいて、ノズルＮの状態を算出してもよい。ノズルＮの状態としては、例えば、ノズルの姿勢（ノズルＮの高さ、ノズルＮの先端部の中心位置、ノズルＮの傾きなど）や、ノズルＮの表面における異常などを含んでいてもよい。処理部Ｍ３は、算出したノズルＮの姿勢に基づいて、ノズルＮから吐出される処理液の基板Ｗの表面への着液予想位置を算出してもよい。処理部Ｍ３は、算出した着液予想位置と、回転保持部３０の回転中心軸Ａｘとの偏差を算出してもよい。処理部Ｍ３は、算出した偏差が所定範囲外であるときや、ノズルＮの表面に異常があるときに、図示しない報知部から警報を報知するようにしてもよい（例えば、ディスプレイに警報を表示してもよいし、スピーカから警報音や警報案内を発してもよい）。

指示部Ｍ４は、処理部Ｍ３において生成された動作信号を、基板処理システム１の各部に送信するように構成されている。通信部Ｍ５は、上述したように、通信部Ｊ５と通信可能に構成されている。通信部Ｍ５が通信部Ｊ５と無線通信を行う場合、通信部Ｍ５は、通信部Ｊ５と同様に構成されていてもよい。

コントローラＣｔｒのハードウェアは、例えば一つ又は複数の制御用のコンピュータにより構成されていてもよい。コントローラＣｔｒは、図４に例示されるように、ハードウェア上の構成として回路Ｃ１を含んでいてもよい。回路Ｃ１は、電気回路要素（circuitry）で構成されていてもよい。回路Ｃ１は、例えば、プロセッサＣ２と、メモリＣ３と、ストレージＣ４と、ドライバＣ５と、入出力ポートＣ６とを含んでいてもよい。

プロセッサＣ２は、メモリＣ３及びストレージＣ４の少なくとも一方と協働してプログラムを実行し、入出力ポートＣ６を介した信号の入出力を実行することで、上述した各機能モジュールを実現するように構成されていてもよい。メモリＣ３及びストレージＣ４は、記憶部Ｍ２として機能してもよい。ドライバＣ５は、基板処理システム１の各部をそれぞれ駆動するように構成された回路であってもよい。入出力ポートＣ６は、ドライバＣ５と基板処理システム１の各部との間で、信号の入出力を仲介するように構成されていてもよい。

基板処理システム１は、一つのコントローラＣｔｒを備えていてもよいし、複数のコントローラＣｔｒで構成されるコントローラ群（制御部）を備えていてもよい。基板処理システム１がコントローラ群を備えている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコントローラＣｔｒによって実現されていてもよいし、２個以上のコントローラＣｔｒの組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒが複数のコンピュータ（回路Ｃ１）で構成されている場合には、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのコンピュータ（回路Ｃ１）によって実現されていてもよいし、２つ以上のコンピュータ（回路Ｃ１）の組み合わせによって実現されていてもよい。コントローラＣｔｒは、複数のプロセッサＣ２を有していてもよい。この場合、上記の機能モジュールがそれぞれ、一つのプロセッサＣ２によって実現されていてもよいし、２つ以上のプロセッサＣ２の組み合わせによって実現されていてもよい。

［ノズルの状態を検査する方法］
続いて、図５～図１１を参照して、ノズルＮの状態を検査する方法の例について説明する。なお、以下では、検査用基板Ｊが棚ユニット６に配置されている状態で検査が開始される例について説明する。また、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像は、グレースケール画像であってもよいし、カラー画像であってもよい。

まず、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ２を制御して、検査用基板Ｊを棚ユニット６から液処理ユニットＵに搬送する。次に、検査用基板Ｊを液処理ユニットＵの回転保持部３０に保持させる（図５のステップＳ１参照）。次に、コントローラＣｔｒがノズルＮの駆動部を制御して、ノズルＮが原点に位置するようにノズルＮを移動させる。

なお、原点に位置されたノズルＮから処理液又は洗浄液が基板Ｗの表面に吐出されたときに、着液位置が回転中心軸Ａｘ（基板Ｗの中心）と略一致するように、原点が設定される。しかしながら、ノズルＮの傾きやアームＡｒの位置ずれなどの影響により、ノズルＮを原点に位置させても、着液位置が回転中心軸Ａｘからずれることがありうる。また、アームＡｒの傾きなどの影響により、ノズルＮを原点に位置させたときのノズルＮ先端の高さ位置が、所定の設定位置よりからずれることがありうる。

次に、コントローラＣｔｒが回転保持部３０を制御して、ノズルＮに対する撮像部Ｊ２が所定の撮像位置Ｐ１（図６参照）に位置するように、回転保持部３０を介して検査用基板Ｊを回転させる（図５のステップＳ２参照）。なお、検査用基板Ｊが搬送アームＡ２から回転保持部３０に保持された時点で撮像部Ｊ２が当該撮像位置に位置していた場合には、ステップＳ２の処理が実行されなくてもよい。

次に、コントローラＣｔｒが通信部Ｍ５，Ｊ５を介して撮像部Ｊ２及び照明部Ｊ３を制御して、照明部Ｊ３によってノズルＮに光を照射しつつ、撮像部Ｊ２によってノズルＮを撮像する（図５のステップＳ３参照）。撮像された撮像画像のデータは、通信部Ｍ５，Ｊ５を介してコントローラＣｔｒに送信される。なお、ノズルＮの撮像前に、コントローラＣｔｒが通信部Ｍ５，Ｊ５を介して撮像部Ｊ２を制御して、撮像部Ｊ２の仰角やピントを調整してもよい。

検査の必要に応じてステップＳ２，Ｓ３を繰り返して、撮像位置を変更しながらノズルＮを異なる方向から撮像部Ｊ２によって撮像してもよい。例えば、図６に例示されるように、略９０°ごとに異なる撮像位置Ｐ１～Ｐ４からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像してもよい。この場合、撮像位置Ｐ１～Ｐ４からそれぞれ撮像した４枚の撮像画像が得られる。あるいは、図示していないが、略１５°ごとに異なる撮像位置からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像してもよい。この場合、各撮像位置からそれぞれ撮像した２４枚の撮像画像が得られる。あるいは、図示していないが、検査用基板Ｊを回転させつつ、連続的に撮像部Ｊ２でノズルＮを撮像してもよい。この場合、ノズルＮの全周についての撮像画像（いわゆるパノラマ画像）が得られる。なお、撮像位置を変更しながらノズルＮを異なる方向から撮像する場合、これらの複数の撮像位置は、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい（すなわち、所定角度ごとに離隔していてもよい）し、離隔間隔が等しくなくてもよい。

次に、撮像部Ｊ２によって撮像された少なくとも１枚の撮像画像のデータをコントローラＣｔｒが処理することにより、ノズルＮの姿勢を算出する（図５のステップＳ４参照）。ここでは、ノズルＮの姿勢として、（Ａ）ノズルＮの高さ、（Ｂ）ノズルＮの先端部の中心位置、及び、（Ｃ）ノズルＮの傾き算出する例を説明する。

（Ａ）ノズルＮの高さ
まず、撮像画像のうちノズルＮの最下端（図７参照）を特定する。ノズルＮの最下端の特定方法としては、例えば、作業者が撮像画像を観察してノズルＮの最下端を指定する方法や、コントローラＣｔｒが、公知のエッジ検出技術を用いて撮像画像を処理し、処理後画像に基づいてノズルＮの最下端を検出する方法が挙げられる。

次に、ノズルＮの最下端とベース部Ｊ１の表面との直線距離を算出し、ノズルＮの高さを得る。具体的には、コントローラＣｔｒが、ノズルＮの最下端とベース部Ｊ１の表面とのピクセル数を求め、予め取得した１ピクセルあたりの長さ（ｍｍ／ｐｉｘｅｌ）を乗算して、ノズルＮの高さ（ｍｍ）を算出してもよい。あるいは、図７に例示されるように、ノズルＮと同時にスケールＳＣを撮像した撮像画像を用いて、ノズルＮの最下端の高さを作業者がスケールＳＣを用いて読み取ることで、ノズルＮの高さを取得してもよい。なお、スケールＳＣは、ノズルＮの近傍に位置するように、ベース部Ｊ１の表面から上方に向けてベース部Ｊ１に設けられていてもよいし、撮像部Ｊ２のレンズの前面に設けられていてもよい。

（Ｂ）ノズルＮの先端部の中心位置
以下では、図６に例示されるように、略９０°ごとに異なる撮像位置Ｐ１～Ｐ４からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた４枚の撮像画像に基づいて、ノズルＮの先端部の中心位置を算出する例について説明する。

まず、撮像位置Ｐ１からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの０°の位置での撮像画像）において、ノズルＮの先端部を通る水平線Ｌを指定する（図８（ａ）参照）。水平線Ｌの指定方法としては、例えば、作業者が撮像画像を観察してノズルＮの先端部を指定する方法や、コントローラＣｔｒが、予め取得しておいたノズルＮの先端部の画像と撮像画像とを公知の画像認識技術によって比較して、撮像画像におけるノズルＮの先端部を自動的に判定する方法が挙げられる。

次に、コントローラＣｔｒは、水平線Ｌにおける輝度値の変化を算出する（図８（ｂ）参照）。図８（ａ）の例では、ノズルＮの輝度値が背景よりも小さいので、輝度値が急激に小さくなる座標がノズルＮの先端部の側縁であると判断できる。図８（ｂ）の例では、輝度が１００である２つの座標をノズルＮの先端部の側縁であると判断しており、これらの２つの座標の距離がノズルＮの先端部の幅として求められると共に、これらの２つの座標の中間の座標がノズルＮの先端部の中心位置として求められる。

次に、コントローラＣｔｒは、撮像画像における回転中心軸Ａｘの座標と、ノズルＮの先端部中心との偏差ΔＸ１を算出する。なお、撮像画像における回転中心軸Ａｘの座標は、図８（ｂ）の例では３００ピクセルであるが、複数の撮像画像におけるノズルＮの先端部中心の座標の平均値によって算出されてもよい。

次に、コントローラＣｔｒは、他の撮像画像に対しても上記と同様の処理を実行する。これにより、撮像位置Ｐ２からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの９０°の位置での撮像画像）（図８（ｃ）参照）に基づいて、ノズルＮの先端部の幅と、ノズルＮの先端部の中心位置と、偏差ΔＹ１とがそれぞれ算出される（図８（ｄ）参照）。

また、撮像位置Ｐ３からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの１８０°の位置での撮像画像）（図９（ａ）参照）に基づいて、ノズルＮの先端部の幅と、ノズルＮの先端部の中心位置と、偏差ΔＸ２とがそれぞれ算出される（図９（ｂ）参照）。さらに、撮像位置Ｐ４からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの２７０°の位置での撮像画像）（図９（ｃ）参照）に基づいて、ノズルＮの先端部の幅と、ノズルＮの先端部の中心位置と、偏差ΔＹ２とがそれぞれ算出される（図９（ｄ）参照）。

次に、コントローラＣｔｒは、算出したΔＸ１，ΔＸ２，ΔＹ１，ΔＹ２に基づいて、ノズルＮの先端の中心位置を算出する。具体的には、上記の例では、９０°ずつ異なる撮像位置から撮像された４枚の撮像画像を用いているので、ΔＸ１，ΔＸ２の平均値（＝（ΔＸ１＋ΔＸ２）／２）により撮像画像におけるＸ方向での座標（ピクセル）が得られ、ΔＹ１，ΔＹ２の平均値（＝（ΔＹ１＋ΔＹ２）／２）により撮像画像におけるＹ方向での座標（ピクセル）が得られる。そして、撮像画像における座標（ピクセル）に、予め取得した１ピクセルあたりの長さ（ｍｍ／ｐｉｘｅｌ）を乗算して、ノズルＮの先端の中心位置に関する実際の座標（ｍｍ）を算出する。

なお、異なる撮像位置から撮像された少なくとも２枚の撮像画像に基づいて、ノズルＮの先端部の中心位置に関する実際の座標（ｍｍ）が算出されてもよい。ただし、異なる撮像位置から撮像された少なくとも３枚の撮像画像を用いると、ベース部Ｊ１の回転に基づく誤差や、撮像部Ｊ２による撮像画像の誤差などが平滑化されるので、ノズルＮの先端部の中心位置に関する実際の座標（ｍｍ）をより精度よく算出できる。

（Ｃ）ノズルＮの傾き
以下では、図６に例示されるように、略９０°ごとに異なる撮像位置Ｐ１～Ｐ４からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた４枚の撮像画像に基づいて、ノズルＮの先端の中心位置を算出する例について説明する。

まず、コントローラＣｔｒは、撮像位置Ｐ１からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの０°の位置での撮像画像）において、ノズルＮの先端を構成する角部Ｑ１１，Ｑ１２（図１０（ａ）参照）を公知の画像認識技術によって特定する。次に、コントローラＣｔｒは、角部Ｑ１１，Ｑ１２の撮像画像における座標（ピクセル）を取得し、角部Ｑ１１，Ｑ１２を結ぶ線分の垂直二等分線Ｈ１（同図参照）を算出する。次に、コントローラＣｔｒは、鉛直線に対する垂直二等分線Ｈ１の角度θ１（同図参照）を算出する。

次に、コントローラＣｔｒは、他の撮像画像に対しても上記と同様の処理を実行する。これにより、撮像位置Ｐ２からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの９０°の位置での撮像画像）に基づいて、角部Ｑ２１，Ｑ２２と、垂直二等分線Ｈ２と、角度θ２とがそれぞれ算出される（図１０（ｂ）参照）。

また、撮像位置Ｐ３からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの１８０°の位置での撮像画像）に基づいて、角部Ｑ３１，Ｑ３２と、垂直二等分線Ｈ３と、角度θ３とがそれぞれ算出される（図１０（ｃ）参照）。さらに、撮像位置Ｐ４からノズルＮを撮像部Ｊ２によって撮像して得られた撮像画像（例えば、回転中心軸Ａｘ周りの２７０°の位置での撮像画像）に基づいて、角部Ｑ４１，Ｑ４２と、垂直二等分線Ｈ４と、角度θ４とがそれぞれ算出される（図１０（ｄ）参照）。

次に、コントローラＣｔｒは、算出したθ１～θ４に基づいて、ノズルＮの傾きを算出する。具体的には、まず、コントローラＣｔｒは、角度θ１～θ４に基づいて、単位高さ（例えば１ｍｍ）あたりの傾斜量、すなわち傾斜ベクトルＩ１～Ｉ４をそれぞれ算出する（図１１参照）。ここで、上記の例では、９０°ずつ異なる撮像位置から撮像された４枚の撮像画像を用いているので、傾斜ベクトルＩ１，Ｉ３のＹ座標を０とすることができ、傾斜ベクトルＩ２，Ｉ４のＸ座標を０とすることができる。したがって、傾斜ベクトルＩ１は（Ｘｉ１，０，１）とおくことができ、傾斜ベクトルＩ２は（０，Ｙｉ２，１）とおくことができ、傾斜ベクトルＩ３は（Ｘｉ３，０，１）とおくことができ、傾斜ベクトルＩ４は（０，Ｙｉ４，１）とおくことができる。そして、三角比を利用することにより、Ｘｉ１はｔａｎθ１で求めることができ、Ｙｉ２はｔａｎθ２で求めることができ、Ｘｉ３はｔａｎθ３で求めることができ、Ｙｉ４はｔａｎθ４で求めることができる（同図参照）。次に、コントローラＣｔｒは、算出した傾斜ベクトルＩ１～Ｉ４を合成して、ノズルＮの単位高さあたりの傾斜量、すなわち、ノズルＮの傾斜ベクトルＩを算出する。

なお、異なる撮像位置から撮像された少なくとも２枚の撮像画像に基づいて、傾斜ベクトルＩが算出されてもよい。ただし、異なる撮像位置から撮像された少なくとも３枚の撮像画像を用いると、ベース部Ｊ１の回転に基づく誤差や、撮像部Ｊ２による撮像画像の誤差などが平滑化されるので、傾斜ベクトルＩをより精度よく算出できる。

次に、コントローラＣｔｒは、ステップＳ４において算出されたノズルＮの姿勢に基づいて、ノズルＮから吐出される処理液の基板Ｗの表面への着液予想位置を算出する（図５のステップＳ５参照）。例えば、コントローラＣｔｒは、ステップＳ４において算出されたノズルＮの高さ、ノズルＮの先端の中心位置に関する実際の座標、及びノズルＮの傾斜ベクトルＩのうちの少なくとも一つを用いて、当該着液予想位置を算出してもよい。

次に、コントローラＣｔｒは、ステップＳ５において算出された着液予想位置と、回転中心軸Ａｘとの偏差を算出する（図５のステップＳ６参照）。次に、コントローラＣｔｒは、当該偏差が、所定の許容範囲内にあるか否かを判断する（図５のステップＳ７参照）。当該許容範囲は、例えば、基板Ｗの処理精度、基板Ｗの処理時の回転速度、処理液の種類、処理液の吐出流量など、種々の条件に基づいて決定されてもよい。

コントローラＣｔｒは、偏差が所定の許容範囲内ではない場合（図５のステップＳ７においてＮＯ）、ステップＳ１０に進んで、ノズルＮの調整が必要である旨の警報を報知する。当該警報に基づいて作業者がノズルＮの調整を手動で行ってもよいし、コントローラＣｔｒが液処理ユニットＵの各部（例えば駆動部４８など）を制御して、ノズルＮの調整を自動的に行ってもよい。その後、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ２を制御して、検査用基板Ｊを液処理ユニットＵから搬出し、棚ユニット６へと検査用基板Ｊを搬送する（図５のステップＳ１１参照）。

なお、コントローラＣｔｒは、ステップＳ４において算出されたノズルＮの姿勢（例えば、ノズルＮの高さ、ノズルＮの先端の中心位置に関する実際の座標、ノズルＮの傾斜ベクトルＩなど）が所定の許容範囲内にあるか否かを判断してもよい。この場合も、コントローラＣｔｒは、当該ノズルＮの姿勢が所定の許容範囲内ではない場合に、警報を報知してもよい。あるいは、コントローラＣｔｒは、当該ノズルＮの姿勢が所定の許容範囲内ではない場合に、液処理ユニットＵの各部（例えば駆動部４８など）を制御してノズルＮの調整を自動的に行ってもよい。この場合、ノズルＮのメンテナンスを効率的に実行することが可能となる。

一方、ステップＳ７の判断の結果、偏差が所定の許容範囲内である場合（図５のステップＳ７においてＹＥＳ）、コントローラＣｔｒは、ノズルＮの表面における異常の有無を検出する（図５のステップＳ８参照）。以下では、図１２に例示されるように、ノズルＮの全周についてのパノラマ画像に基づいて、ノズルＮの表面における異常の有無を検出する例について説明する。

まず、予め、異常がないノズルＮのパノラマ画像を基準画像として取得しておく。次に、コントローラＣｔｒは、基準画像と検査対象のパノラマ画像とで対応する座標に位置する画素ごとに輝度値を減算し、補正画像を算出する。次に、コントローラＣｔｒは、公知のエッジ検出技術を用いて当該補正画像を処理し、エッジが強調された領域の大きさを算出する。次に、コントローラＣｔｒは、当該領域の大きさが所定の許容範囲内であるか否かを判断する。当該領域の大きさが所定の許容範囲内ではない場合、コントローラＣｔｒは、ノズルＮに異常Ａｂ（図１２参照）が存在すると判定する。なお、上記の基準画像は、検査対象のパノラマ画像における全画素の輝度値を平均化することにより得られてもよい。また、基準画像を用いず、公知のエッジ検出技術を用いて、検査対象のパノラマ画像を直接処理してもよい。

コントローラＣｔｒは、ノズルＮに異常Ａｂが存在すると判定した場合（図５のステップＳ９においてＮＯ）、ステップＳ１０に進んで、ノズルＮに異常が存在する旨の警報を報知する。なお、警報が報知された場合、作業者がノズルＮを新たなノズルＮに交換してもよい。あるいは、ノズルＮの異常ＡｂがノズルＮの表面に付着した付着物である場合には、コントローラＣｔｒが液処理ユニットＵの各部を制御して、ノズルＮに処理液又は洗浄液を供給し、当該付着物をノズルＮから除去してもよい。

一方、ステップＳ９の判断の結果、ノズルＮに異常Ａｂが存在しない場合（図５のステップＳ９においてＹＥＳ）、ステップＳ１１に進んで、コントローラＣｔｒが搬送アームＡ２を制御して、検査用基板Ｊを液処理ユニットＵから搬出し、棚ユニット６へと検査用基板Ｊを搬送する。以上により、ノズルＮの状態の検査が終了する。

なお、一の液処理ユニットＵのノズルＮの状態の検査が終了したら、検査用基板Ｊを棚ユニット６に戻さずに、他の液処理ユニットＵのノズルＮの状態の検査のために、当該他の液処理ユニットＵに検査用基板Ｊが搬送されてもよい。また、液処理ユニットＵにおいて基板Ｗが所定回数処理されるごとに、定期的に液処理ユニットＵに検査用基板を搬入して、液処理ユニットＵのノズルＮの状態を検査してもよい。この場合、コントローラＣｔｒは、今回のノズルＮの状態のデータと、前回のノズルＮの状態のデータとを比較し、今回のノズルＮの状態が所定の許容範囲内であるか否かを判断してもよい。許容範囲内でない場合には、コントローラＣｔｒは、ステップＳ１０のように警報を報知してもよい。

［作用］
以上の例によれば、検査用基板Ｊが回転保持部３０に保持された状態において、回転保持部３０を回転させることにより、ノズルＮに対する撮像部Ｊ２の位置を所定の撮像位置に調節している。そのため、撮像部Ｊ２と、撮像対象であるノズルＮとの間に遮蔽物が存在せず、適切な位置からノズルＮが撮像される。したがって、ノズルＮの状態を精度よく取得することが可能となる。

以上の例によれば、複数の撮像位置からノズルが撮像される。そのため、ノズルＮの状態をより精度よく取得することが可能となる。

以上の例によれば、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔する複数の撮像位置からノズルＮが撮像されうる。この場合、ノズルＮの外周面が略全周にわたって撮像される。そのため、ノズルＮの状態をさらに精度よく取得することが可能となる。

以上の例によれば、ノズルＮの撮像時において、ノズルＮが撮像部Ｊ２に対して回転保持部３０の回転中心軸Ａｘ側に位置しうる。この場合、検査用基板Ｊを介して撮像部Ｊ２が回転しても、撮像部Ｊ２に対するノズルＮの位置が変化し難くなる。そのため、撮像部Ｊ２の向きなどを調整することなく、撮像部Ｊ２によってノズルＮを継続的に撮像することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、ノズルＮの表面における異常の有無が検出される。そのため、ノズルＮの表面における付着物又は傷の有無、ノズルＮの変形の有無などが検出される。したがって、検出結果に基づいてノズルＮを調整（例えば、交換、清掃など）することにより、ノズルＮの表面における異常による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

以上の例によれば、処理液による基板Ｗの処理が行われる前に撮像部Ｊ２によって撮像されたノズルＮの撮像画像（異常がないノズルＮの撮像画像）と、処理液による基板Ｗの処理が行われた後に撮像部Ｊ２によって撮像されたノズルＮの撮像画像との比較により、ノズルＮの表面における異常の有無が検出される。そのため、２つの撮像画像の比較によって、ノズルＮの表面における異常の箇所がより際立つ。そのため、ノズルＮの表面における異常の有無をより正確に検出することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、ノズルＮの高さと、水平方向におけるノズルＮの先端部の中心位置と、ノズルＮの傾きとの少なくとも一つのノズルＮの姿勢が検出される。そのため、検出結果に基づいて、ノズルＮの姿勢を特定することが可能となる。

以上の例によれば、検出されたノズルＮの姿勢に基づいて、ノズルＮから吐出される処理液の基板Ｗの表面への着液予想位置が算出される。そのため、実際に処理液を基板Ｗに対して吐出することなく、着液予想位置を予め把握することが可能となる。

以上の例によれば、算出された着液予想位置と、回転保持部３０の回転中心軸Ａｘとの偏差が算出される。そのため、当該偏差に基づいてノズルＮを調整することにより、実際に処理液を基板Ｗに対して吐出することなく、ノズルＮからの処理液の着液位置を原点に予め位置合わせすることが可能となる。

以上の例によれば、算出された偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合に警報が報知される。そのため、偏差の存在による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２によるノズルＮの撮像時に、ノズルＮに対して照明部Ｊ３から光を照射される。そのため、ノズルＮをより鮮明に撮像することが可能となる。

以上の例によれば、撮像部Ｊ２とコントローラＣｔｒとは、無線によって互いに通信可能に接続されうる。この場合、検査用基板Ｊに通信ケーブルが接続されている必要がなくなるので、回転保持部３０による検査用基板Ｊの回転が阻害され難くなる。そのため、ノズルＮの撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

以上の例によれば、検査用基板Ｊは、撮像部Ｊ２に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリＪ４を含んでいる。そのため、検査用基板Ｊに電源ケーブルが接続されている必要がなくなるので、回転保持部３０による検査用基板Ｊの回転が阻害され難くなる。そのため、ノズルＮの撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

以上の例によれば、検査用基板Ｊは、搬送アームＡ２によって、液処理ユニットＵと棚ユニット６との間で搬送される。そのため、液処理ユニットＵによる基板処理時に、検査用基板Ｊを棚ユニット６に退避させておくことが可能となる。

［変形例］
本明細書における開示はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。特許請求の範囲及びその要旨を逸脱しない範囲において、以上の例に対して種々の省略、置換、変更などが行われてもよい。

（１）以上の例では、基板処理システム１が基板洗浄装置である例について説明したが、基板処理システム１は塗布・現像装置であってもよい。すなわち、基板Ｗの表面に供給される処理液は、例えば、基板Ｗの表面に成膜するための塗布液であってもよいし、レジスト膜を現像処理するための現像液であってもよい。

（２）検査用基板Ｊは、照明部Ｊ３を含んでいなくてもよい。あるいは、検査用基板Ｊは、複数の照明部Ｊ３を含んでいてもよい。この場合、図１３に例示されるように、複数の照明部Ｊ３は、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい。

（３）検査用基板Ｊは、複数の撮像部Ｊ２を含んでいてもよい。この場合、図１３に例示されるように、複数の撮像部Ｊ２は、検査用基板Ｊの回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい。複数の撮像部Ｊ２によってノズルＮが撮像される場合、ノズルＮに対する複数の撮像部Ｊ２の位置を所定の撮像位置に調節するだけで、ノズルＮの複数箇所を同時に撮像することができる。したがって、ノズルＮの状態を精度よく且つ迅速に取得することが可能となる。

（４）撮像部Ｊ２は、ベース部Ｊ１の表面上に配置されていてもよいし、ベース部Ｊ１に内蔵されていてもよい。

（５）以上の例では、処理液や洗浄液が吐出されるノズルＮの状態を検査していたが、気体（例えば、窒素ガス）が吐出されるノズルが検査対象とされてもよい。

（６）以上の例では、保持部３３は、基板Ｗを吸着保持していたが、機械的に基板Ｗを保持してもよい。

（７）コントローラＣｔｒは、撮像位置を変更しながらノズルＮを異なる方向から撮像部Ｊ２によって撮像して得られた複数の撮像画像を画像処理することにより、ノズルＮの立体形状データを生成してもよい。この場合、生成された立体形状データに基づいて、ノズルＮをより詳しく観察することができる。そのため、ノズルＮの状態をより精度よく取得することが可能となる。なお、撮像部Ｊ２ではなく、非接触式の３Ｄスキャナを用いて、ノズルＮの立体形状データを取得してもよい。

（８）撮像部Ｊ２は、処理液が吐出されている状態のノズルＮを撮像してもよい。この場合、ノズルＮから吐出される実際の処理液の状態を確認できる。そのため、ノズルＮの状態が異常であった場合に、早期に当該異常を把握することが可能となる。このとき、防水機能を有する撮像部Ｊ２が用いられてもよいし、撮像部Ｊ２への処理液への付着を抑制するために、処理液の流れから離れた位置に撮像部Ｊ２が配置されていてもよい。

あるいは、図１４に例示されるように、検査用基板Ｊが、撮像部Ｊ２を覆うようにベース部Ｊ１に配置された透明部材Ｊ６を含んでいてもよい。この場合、透明部材Ｊ６を介して撮像部Ｊ２によってノズルＮが撮像される。そのため、ノズルＮから処理液が落下したり吐出されたりしたとしても、透明部材Ｊ６の存在により、撮像部Ｊ２に処理液が付着し難い。したがって、撮像部Ｊ２を保護しつつ、ノズルＮの状態を精度よく取得することが可能となる。また、ノズルＮから処理液が吐出された状態のまま、撮像部Ｊ２による撮像を行える。そのため、処理液の基板Ｗへの実際の着液位置を把握することが可能となる。なお、透明部材Ｊ６は、処理液に対する耐薬性を有する素材（例えば、石英、樹脂など）で構成されていてもよい。

（９）図１５に例示されるように、ノズルＮを略真下から撮像部Ｊ２によって撮像してもよい。この場合も、ノズルＮの先端部の中心位置や、ノズルＮの先端面における異常の有無を検出することができる。

［他の例］
例１．基板処理装置の一例は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、基板又は検査用基板を保持するように構成された保持部と、保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、保持部に保持された基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、制御部とを備える。制御部は、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、ノズルに対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、第１の処理の後に、撮像部を制御して、第１の撮像位置においてノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されている。ところで、特許文献１に記載の基板処理装置によれば、撮像手段が処理液供給ノズル及び飛散防止カップの上方に配置されている。そのため、ノズルの先端近傍を撮像しようとする場合に、これらが遮蔽物として機能してしまい、撮像対象箇所が遮られたり、撮像対象箇所に光が均一に当たらなかったりして、撮像対象箇所を明瞭に撮像できない可能性がある。また、処理液供給ノズル及び飛散防止カップを避けて撮像する必要があり、また、撮像方向も斜め上からに限られるため、撮像範囲が限定されてしまう可能性がある。しかしながら、例１の装置によれば、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、ノズルに対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節している。そのため、撮像部と、撮像対象であるノズルとの間に遮蔽物が存在せず、適切な位置からノズルが撮像される。したがって、ノズルの状態を精度よく取得することが可能となる。

例２．例１の装置において、制御部は、第２の処理の後に、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、ノズルに対する撮像部の位置を第１の撮像位置とは別の第２の撮像位置に調節する第３の処理と、第３の処理の後に、撮像部を制御して、第２の撮像位置においてノズルを撮像する第４の処理とを実行するように構成されていてもよい。この場合、複数の撮像位置からノズルが撮像される。そのため、ノズルの状態をより精度よく取得することが可能となる。

例３．例２の装置において、制御部は、駆動部を制御して保持部を回転させながら、第１の処理、第２の処理、第３の処理及び第４の処理を連続的に実行するように構成されていてもよい。

例４．例２又は例３の装置において、制御部は、第４の処理の後に、検査用基板が保持部に保持された状態において、駆動部を制御して保持部を回転させることにより、ノズルに対する撮像部の位置を第１の撮像位置及び第２の撮像位置とは別の第３の撮像位置に調節する第５の処理と、第５の処理の後に、撮像部を制御して、第３の撮像位置においてノズルを撮像する第６の処理とを実行するように構成されており、第１の撮像位置と、第２の撮像位置と、第３の撮像位置とは、検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔していてもよい。この場合、検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔する３箇所の撮像位置からノズルが撮像される。すなわち、ノズルの外周面が略全周にわたって撮像される。そのため、ノズルの状態をさらに精度よく取得することが可能となる。

例５．例２～例４の装置において、制御部は、撮像部によって撮像された複数の撮像画像を画像処理することにより、ノズルの立体形状データを生成する第７の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、生成された立体形状データに基づいて、ノズルをより詳しく観察することができる。そのため、ノズルの状態をより精度よく取得することが可能となる。

例６．例１～例５のいずれかの装置において、撮像部は、ノズルを撮像する際に、ノズルよりもベース部の外周縁側に位置していてもよい。この場合、ノズルが撮像部に対して保持部の回転中心軸側に位置する。そのため、検査用基板を介して撮像部が回転しても、撮像部に対するノズルの位置が変化し難くなる。したがって、撮像部の向きなどを調整することなく、撮像部によってノズルを継続的に撮像することが可能となる。

例７．例１～例６のいずれかの装置において、制御部は、撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、ノズルの表面における異常の有無を検出する第８の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、ノズルの表面における付着物又は傷の有無、ノズルの変形の有無などが検出される。そのため、検出結果に基づいてノズルを調整（例えば、交換、清掃など）することにより、ノズルの表面における異常による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

例８．例７の装置において、第８の処理は、処理液による基板の処理が行われる前に撮像部によって撮像された撮像画像と、処理液による基板の処理が行われた後に撮像部によって撮像された撮像画像との比較により、ノズルの表面における異常の有無を検出することを含んでいてもよい。この場合、２つの撮像画像の比較によって、ノズルの表面における異常の箇所がより際立つ。そのため、ノズルの表面における異常の有無をより正確に検出することが可能となる。

例９．例１～例８のいずれかの装置において、制御部は、撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、ノズルの高さと、水平方向におけるノズルの先端部の中心位置と、ノズルの傾きとの少なくとも一つのノズルの姿勢を検出する第９の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、検出結果に基づいて、ノズルの姿勢を特定することが可能となる。

例１０．例９の装置において、制御部は、第９の処理で検出されたノズルの姿勢に基づいて、ノズルから吐出される処理液の基板の表面への着液予想位置を算出する第１０の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、実際に処理液を基板に対して吐出することなく、着液予想位置を予め把握することが可能となる。

例１１．例１０の装置において、制御部は、第１０の処理において算出された着液予想位置と、保持部の回転中心軸との偏差を算出する第１１の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、算出された偏差に基づいてノズルを調整することにより、実際に処理液を基板に対して吐出することなく、ノズルからの処理液の着液位置を原点に予め位置合わせすることが可能となる。

例１２．例１１の装置において、制御部は、第１１の処理において算出された偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合に警報を報知する第１２の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、偏差の存在による基板処理への影響を予め除去することが可能となる。

例１３．例１１又は例１２の装置は、ノズルの姿勢を変更させるように構成されたノズル駆動部をさらに備え、制御部は、第１１の処理において算出された偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合にノズル駆動部を制御して、偏差が許容範囲内となるようにノズルの姿勢を調節する第１３の処理を実行するように構成されていてもよい。この場合、偏差が許容範囲外であるときに、制御部が自動的にノズルの姿勢を制御するので、ノズルのメンテナンスを効率的に実行することが可能となる。

例１４．例１～例１３のいずれかの装置において、第２の処理は、第１の撮像位置において、処理液が吐出されている状態のノズルを撮像することを含んでいてもよい。この場合、ノズルから吐出される実際の処理液の状態を確認できる。そのため、ノズルの状態が異常であった場合に、早期に当該異常を把握することが可能となる。

例１５．例１～例１４のいずれかの装置において、検査用基板は、撮像部を覆うように配置された透明部材を含み、第２の処理は、第１の撮像位置において、透明部材を介してノズルを撮像することを含んでいてもよい。この場合、ノズルから処理液が落下したり吐出されたりしたとしても、透明部材の存在により、撮像部に処理液が付着し難い。そのため、撮像部を保護しつつ、ノズルの状態を精度よく取得することが可能となる。また、ノズルから処理液が吐出された状態のまま、撮像部による撮像を行える。そのため、処理液の基板への実際の着液位置を把握することが可能となる。

例１６．例１～例１５のいずれかの装置において、検査用基板は、ベース部に配置された照明部を含み、照明部は、ノズルを撮像部が撮像する際に、ノズルに対して光を照射するように構成されていてもよい。この場合、ノズルをより鮮明に撮像することが可能となる。

例１７．例１～例１６のいずれかの装置において、検査用基板は、ベース部のうち撮像部とは別の箇所に配置された別の撮像部を含んでいてもよい。この場合、複数の撮像部によってノズルが撮像される。そのため、ノズルに対する複数の撮像部の位置を所定の撮像位置に調節するだけで、ノズルの複数箇所を同時に撮像することができる。したがって、ノズルの状態を精度よく且つ迅速に取得することが可能となる。

例１８．例１～例１７のいずれかの装置において、撮像部と制御部とは、無線によって互いに通信可能に接続されていてもよい。この場合、検査用基板に通信ケーブルが接続されている必要がなくなるので、保持部による検査用基板の回転が阻害され難くなる。そのため、ノズルの撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

例１９．例１～例１８のいずれかの装置において、検査用基板は、撮像部に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリを含んでいてもよい。この場合、検査用基板に電源ケーブルが接続されている必要がなくなるので、保持部による検査用基板の回転が阻害され難くなる。そのため、ノズルの撮像位置の自由度を高めることが可能となる。

例２０．例１～例１９のいずれかの装置は、保持部、駆動部及びノズルを収容するように構成された処理チャンバと、検査用基板を収容するように構成された収容チャンバと、検査用基板を処理チャンバと収容チャンバとの間で搬送するように構成された搬送部とを備えていてもよい。この場合、処理チャンバによる基板処理時に、検査用基板を収容チャンバに退避させておくことが可能となる。

例２１．基板処理方法の一例は、ベース部と、ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、第１の工程の後に、保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、第２の工程の後に、第１の撮像位置においてノズルを撮像する第３の工程と、第３の工程の後に、保持部から検査用基板を搬出する第４の工程と、第４の工程の後に、基板を保持部に保持させる第５の工程と、第５の工程の後に、処理液供給部がノズルを通じて基板に処理液を供給して基板を処理する第６の工程とを含む。この場合、例１の装置と同様の作用効果が得られる。

１…基板処理システム（基板処理装置）、６…棚ユニット（収容チャンバ）、１０…チャンバ（処理チャンバ）、３０…回転保持部、３１…駆動部、３３…保持部、４０…供給部（処理液供給部、洗浄液供給部）、４８…駆動部（ノズル駆動部）、５０…カップ部材、Ａ２…搬送アーム（搬送部）、Ａｘ…回転中心軸、Ｃｔｒ…コントローラ（制御部）、Ｊ…検査用基板、Ｊ１…ベース部、Ｊ２…撮像部、Ｊ３…照明部、Ｊ４…バッテリ、Ｊ５…通信部、Ｊ６…透明部材、Ｎ…ノズル、Ｕ…液処理ユニット、Ｗ…基板。

Claims (46)

1. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
   基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
   前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
   前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
   制御部とを備え、
   前記制御部は、
   前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
   前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理と、
   前記第２の処理の後に、前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を前記第１の撮像位置とは別の第２の撮像位置に調節する第３の処理と、
   前記第３の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第２の撮像位置において前記ノズルを撮像する第４の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
2. 前記制御部は、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させながら、前記第１の処理、前記第２の処理、前記第３の処理及び前記第４の処理を連続的に実行するように構成されている、請求項１に記載の装置。
3. 前記制御部は、
   前記第４の処理の後に、前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を前記第１の撮像位置及び前記第２の撮像位置とは別の第３の撮像位置に調節する第５の処理と、
   前記第５の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第３の撮像位置において前記ノズルを撮像する第６の処理とを実行するように構成されており、
   前記第１の撮像位置と、前記第２の撮像位置と、前記第３の撮像位置とは、前記検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔している、請求項１又は２に記載の装置。
4. 前記制御部は、前記撮像部によって撮像された複数の撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの立体形状データを生成する第７の処理を実行するように構成されている、請求項１～３のいずれか一項に記載の装置。
5. 前記撮像部は、前記ノズルを撮像する際に、前記ノズルよりも前記ベース部の外周縁側に位置している、請求項１～４のいずれか一項に記載の装置。
6. 前記制御部は、前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの表面における異常の有無を検出する第８の処理を実行するように構成されている、請求項１～５のいずれか一項に記載の装置。
7. 前記第８の処理は、処理液による前記基板の処理が行われる前に前記撮像部によって撮像された撮像画像と、処理液による前記基板の処理が行われた後に前記撮像部によって撮像された撮像画像との比較により、前記ノズルの表面における異常の有無を検出することを含む、請求項６に記載の装置。
8. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
   基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
   前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
   前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
   制御部とを備え、
   前記制御部は、
   前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
   前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理と、
   前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの表面における異常の有無を検出する第３の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
9. 前記第３の処理は、処理液による前記基板の処理が行われる前に前記撮像部によって撮像された撮像画像と、処理液による前記基板の処理が行われた後に前記撮像部によって撮像された撮像画像との比較により、前記ノズルの表面における異常の有無を検出することを含む、請求項８に記載の装置。
10. 前記制御部は、前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの高さと、水平方向における前記ノズルの先端部の中心位置と、前記ノズルの傾きとの少なくとも一つのノズルの姿勢を検出する第９の処理を実行するように構成されている、請求項１～９のいずれか一項に記載の装置。
11. 前記制御部は、前記第９の処理で検出された前記ノズルの姿勢に基づいて、前記ノズルから吐出される処理液の前記基板の表面への着液予想位置を算出する第１０の処理を実行するように構成されている、請求項１０に記載の装置。
12. 前記制御部は、前記第１０の処理において算出された前記着液予想位置と、前記保持部の回転中心軸との偏差を算出する第１１の処理を実行するように構成されている、請求項１１に記載の装置。
13. 前記制御部は、前記第１１の処理において算出された前記偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合に警報を報知する第１２の処理を実行するように構成されている、請求項１２に記載の装置。
14. 前記ノズルの姿勢を変更させるように構成されたノズル駆動部をさらに備え、
    前記制御部は、前記第１１の処理において算出された前記偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合に前記ノズル駆動部を制御して、前記偏差が前記許容範囲内となるように前記ノズルの姿勢を調節する第１３の処理を実行するように構成されている、請求項１２又は１３に記載の装置。
15. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
    基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
    前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
    前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
    制御部とを備え、
    前記制御部は、
    前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
    前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理と、
    前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの高さと、水平方向における前記ノズルの先端部の中心位置と、前記ノズルの傾きとの少なくとも一つのノズルの姿勢を検出する第３の処理と、
    前記第３の処理で検出された前記ノズルの姿勢に基づいて、前記ノズルから吐出される処理液の前記基板の表面への着液予想位置を算出する第４の処理と、
    前記第４の処理において算出された前記着液予想位置と、前記保持部の回転中心軸との偏差を算出する第５の処理と、
    前記第５の処理において算出された前記偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合に警報を報知する第６の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
16. 前記第２の処理は、前記第１の撮像位置において、処理液が吐出されている状態の前記ノズルを撮像することを含む、請求項１～１５のいずれか一項に記載の装置。
17. 前記検査用基板は、前記撮像部を覆うように配置された透明部材を含み、
    前記第２の処理は、前記第１の撮像位置において、前記透明部材を介して前記ノズルを撮像することを含む、請求項１～１５のいずれか一項に記載の装置。
18. 前記検査用基板は、前記ベース部のうち前記撮像部とは別の箇所に配置された別の撮像部を含む、請求項１～１７のいずれか一項に記載の装置。
19. 前記撮像部と前記制御部とは、無線によって互いに通信可能に接続されている、請求項１～１８のいずれか一項に記載の装置。
20. 前記検査用基板は、前記撮像部に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリを含む、請求項１～１９のいずれか一項に記載の装置。
21. 前記保持部、前記駆動部及び前記ノズルを収容するように構成された処理チャンバと、
    前記検査用基板を収容するように構成された収容チャンバと、
    前記検査用基板を前記処理チャンバと前記収容チャンバとの間で搬送するように構成された搬送部とを備える、請求項１～２０のいずれか一項に記載の装置。
22. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
    基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
    前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
    前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
    制御部とを備え、
    前記制御部は、
    前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
    前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されており、
    前記第２の処理は、前記第１の撮像位置において、処理液が吐出されている状態の前記ノズルを撮像することを含む、基板処理装置。
23. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
    基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
    前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
    前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
    制御部とを備え、
    前記検査用基板は、前記撮像部を覆うように配置された透明部材を含み、
    前記制御部は、
    前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
    前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されており、
    前記第２の処理は、前記第１の撮像位置において、前記透明部材を介して前記ノズルを撮像することを含む、基板処理装置。
24. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
    基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
    前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
    前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
    制御部とを備え、
    前記検査用基板は、前記ベース部のうち前記撮像部とは別の箇所に配置された別の撮像部を含み、
    前記制御部は、
    前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
    前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
25. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
    基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
    前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
    前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
    制御部とを備え、
    前記撮像部と前記制御部とは、無線によって互いに通信可能に接続されており、
    前記制御部は、
    前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
    前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
26. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
    基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
    前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
    前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
    制御部とを備え、
    前記検査用基板は、前記撮像部に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリを含み、
    前記制御部は、
    前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
    前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
27. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板と、
    基板又は前記検査用基板を保持するように構成された保持部と、
    前記保持部を回転駆動させるように構成された駆動部と、
    前記保持部に保持された前記基板に処理液を吐出するように構成されたノズルを含む処理液供給部と、
    前記保持部、前記駆動部及び前記ノズルを収容するように構成された処理チャンバと、
    前記検査用基板を収容するように構成された収容チャンバと、
    前記検査用基板を前記処理チャンバと前記収容チャンバとの間で搬送するように構成された搬送部と、
    制御部とを備え、
    前記制御部は、
    前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記駆動部を制御して前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第１の処理と、
    前記第１の処理の後に、前記撮像部を制御して、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第２の処理とを実行するように構成されている、基板処理装置。
28. 前記検査用基板は、前記ベース部に配置された照明部を含み、
    前記照明部は、前記ノズルを前記撮像部が撮像する際に、前記ノズルに対して光を照射するように構成されている、請求項１～２７のいずれか一項に記載の装置。
29. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を前記第１の撮像位置とは別の第２の撮像位置に調節する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、前記第２の撮像位置において前記ノズルを撮像する第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第６の工程と、
    前記第６の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第７の工程と、
    前記第７の工程の後に、前記処理液供給部が前記ノズルを通じて前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第８の工程とを含む、基板処理方法。
30. 前記保持部を回転させながら、前記第２の工程、前記第３の工程、前記第４の工程及び前記第５の工程を連続的に実行するように構成されている、請求項２９に記載の方法。
31. 前記第５の工程の後に、前記検査用基板が前記保持部に保持された状態において、前記保持部を回転させることにより、前記ノズルに対する前記撮像部の位置を前記第１の撮像位置及び前記第２の撮像位置とは別の第３の撮像位置に調節する第９の工程と、
    前記第９の工程の後に、前記第３の撮像位置において前記ノズルを撮像する第１０の工程とをさらに含み、
    前記第１の撮像位置と、前記第２の撮像位置と、前記第３の撮像位置とは、前記検査用基板の回転方向において略等間隔をもって互いに離隔している、請求項２９又は３０に記載の方法。
32. 前記撮像部によって撮像された複数の撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの立体形状データを生成する第１１の工程をさらに含む、請求項２９～３１のいずれか一項に記載の方法。
33. 前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの表面における異常の有無を検出する第１２の工程をさらに含む、請求項２９～３１のいずれか一項に記載の方法。
34. 前記第１２の工程は、処理液による前記基板の処理が行われる前に前記撮像部によって撮像された撮像画像と、処理液による前記基板の処理が行われた後に前記撮像部によって撮像された撮像画像との比較により、前記ノズルの表面における異常の有無を検出することを含む、請求項３３に記載の方法。
35. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記処理液供給部が前記ノズルを通じて前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第６の工程と、
    前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの表面における異常の有無を検出する第７の工程とを含む、基板処理方法。
36. 前記第７の工程は、処理液による前記基板の処理が行われる前に前記撮像部によって撮像された撮像画像と、処理液による前記基板の処理が行われた後に前記撮像部によって撮像された撮像画像との比較により、前記ノズルの表面における異常の有無を検出することを含む、請求項３５に記載の方法。
37. 前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの高さと、水平方向における前記ノズルの先端部の中心位置と、前記ノズルの傾きとの少なくとも一つのノズルの姿勢を検出する第１３の工程と、
    前記第１３の工程で検出された前記ノズルの姿勢に基づいて、前記ノズルから吐出される処理液の前記基板の表面への着液予想位置を算出する第１４の工程と、
    前記第１４の工程において算出された前記着液予想位置と、前記保持部の回転中心軸との偏差を算出する第１５の工程と、
    前記第１５の工程において算出された前記偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合に警報を報知する第１６の工程とをさらに含む、請求項２９～３６のいずれか一項に記載の方法。
38. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記処理液供給部が前記ノズルを通じて前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第６の工程と、
    前記撮像部によって撮像された撮像画像を画像処理することにより、前記ノズルの高さと、水平方向における前記ノズルの先端部の中心位置と、前記ノズルの傾きとの少なくとも一つのノズルの姿勢を検出する第７の工程と、
    前記第７の工程で検出された前記ノズルの姿勢に基づいて、前記ノズルから吐出される処理液の前記基板の表面への着液予想位置を算出する第８の工程と、
    前記第８の工程において算出された前記着液予想位置と、前記保持部の回転中心軸との偏差を算出する第９の工程と、
    前記第９の工程において算出された前記偏差が所定の許容範囲外であると判断した場合に警報を報知する第１０の工程とを含む、基板処理方法。
39. 前記第３の工程は、前記第１の撮像位置において、処理液が吐出されている状態の前記ノズルを撮像することを含む、請求項２９～３８のいずれか一項に記載の方法。
40. 前記検査用基板は、前記撮像部を覆うように配置された透明部材を含み、
    前記第３の工程は、前記第１の撮像位置において、前記透明部材を介して前記ノズルを撮像することを含む、請求項２９～３９のいずれか一項に記載の方法。
41. 前記検査用基板は、前記ベース部のうち前記撮像部とは別の箇所に配置された別の撮像部を含む、請求項２９～４０のいずれか一項に記載の方法。
42. 前記検査用基板は、前記撮像部に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリを含む、請求項２９～４１のいずれか一項に記載の方法。
43. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記処理液供給部が前記ノズルを通じて前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第６の工程とを含み、
    前記第３の工程は、前記第１の撮像位置において、処理液が吐出されている状態の前記ノズルを撮像することを含む、基板処理方法。
44. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記処理液供給部が前記ノズルを通じて前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第６の工程とを含み、
    前記検査用基板は、前記撮像部を覆うように配置された透明部材を含み、
    前記第３の工程は、前記第１の撮像位置において、前記透明部材を介して前記ノズルを撮像することを含む、基板処理方法。
45. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記処理液供給部が前記ノズルを通じて前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第６の工程とを含み、
    前記検査用基板は、前記ベース部のうち前記撮像部とは別の箇所に配置された別の撮像部を含む、基板処理方法。
46. ベース部と、前記ベース部に配置された撮像部とを含む検査用基板を、保持部に保持させる第１の工程と、
    前記第１の工程の後に、前記保持部を回転させることにより、処理液供給部のノズルに対する前記撮像部の位置を所定の第１の撮像位置に調節する第２の工程と、
    前記第２の工程の後に、前記第１の撮像位置において前記ノズルを撮像する第３の工程と、
    前記第３の工程の後に、前記保持部から前記検査用基板を搬出する第４の工程と、
    前記第４の工程の後に、基板を前記保持部に保持させる第５の工程と、
    前記第５の工程の後に、前記処理液供給部が前記ノズルを通じて前記基板に処理液を供給して前記基板を処理する第６の工程とを含み、
    前記検査用基板は、前記撮像部に電力を供給すると共に充電可能に構成されたバッテリを含む、基板処理方法。